KR20070017001A - Low Color Polyimide Compositions Useful in Optical Type Applications and Methods and Compositions Relating Thereto - Google Patents

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크리스토퍼 데니스 시몬
브라이언 씨. 오만
피터 프란시스 카르시아
리차드 알란 웨셀
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이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
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Abstract

3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BDPA) 및 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB) 단량체를 접촉하여 유래된 중합체 반복 단위를 적어도 50 몰 퍼센트로 포함하는 과불소화 폴리이미드 (및 공폴리이미드) 조성물, 특히 필름에 관한 것이다. 본원 발명의 상기 과불소화 폴리이미드 (및 공폴리이미드) 필름은 (75-미크론 두께 필름 기준으로) 평면내 열팽창계수 (CTE)가 -5 내지 +20 ppm/℃이고 평균 광투과도율이 약 65.0 내지 약 99.0이다. 본원 발명의 필름은 전형적으로 채용되는 열적 전환 과정 대신에 화학 전환 방법을 사용하여 폴리이미드를 전환하기 때문에 바람직한 특성들을 제공할 수 있다. 본원 발명의 필름은 광학 디스플레이 장치에서의 기판으로 탁월하고, 강성 유리 기판을 대체하여 사용할 수 있다. 또한, 본원 발명의 폴리이미드 필름은 가요성 디스플레이 장치 (예를 들어 핸드폰, 개인 휴대 단말기, 휴대용 비디오 게임기, 랩탑 등)을 제조하는 데에 사용할 수도 있다.Polymer repeat units derived by contacting 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BDPA) and 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) monomers are at least Perfluorinated polyimide (and copolyimide) compositions, in particular films, comprising 50 mole percent. The perfluorinated polyimide (and copolyimide) films of the present invention have an in-plane coefficient of thermal expansion (CTE) of -5 to +20 ppm / ° C (based on 75-micron thick films) and an average light transmittance of about 65.0 to About 99.0. Films of the present invention may provide desirable properties because they convert polyimides using chemical conversion methods instead of the thermal conversion processes typically employed. The film of the present invention is excellent as a substrate in an optical display device, and can be used in place of a rigid glass substrate. The polyimide film of the present invention may also be used to manufacture flexible display devices (eg, mobile phones, personal digital assistants, portable video game consoles, laptops, etc.).

3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BDPA), 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB) 단량체, 과불소화 폴리이미드, 광투과도, 화학 전환 방법, 광학 디스플레이 장치. 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BDPA), 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) monomer, perfluorinated polyimide, light transmittance, chemical Switching method, optical display device.

Description

광학 타입 분야에 유용한 저색상 폴리이미드 조성물 및 이와 관련된 방법 및 조성물 {Low Color Polyimide Compositions Useful in Optical Type Applications and Methods and Compositions Relating Thereto}Low Color Polyimide Compositions Useful in Optical Type Applications and Methods and Compositions Relating Thereto}

본원 발명은 일반적으로 양호한 광투과도 및 낮은 평면내(in-plane) CTE (열팽창계수)를 갖는 상대적으로 투명한 (저색상) 폴리이미드-기재 필름에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본원 발명의 조성물은 유리타입의 분야, 특히 전자 디스플레이의 분야에서 유용한 과불소화된(perfluoronated) 폴리이미드에 관한 것이다.The present invention generally relates to relatively transparent (low color) polyimide-based films having good light transmittance and low in-plane CTE (coefficient of thermal expansion). More specifically, the compositions of the present invention relate to perfluoronated polyimides useful in the field of glass type, in particular in the field of electronic displays.

미국특허 5,071,997호는 저색상 필름 분야에 유용한 폴리이미드의 부류에 대하여 개시하였다. 그러나, 이들 폴리이미드는 상대적으로 높은 열팽창계수 (CTE), 및 상대적으로 낮은 유리 전이 온도(Tg)를 가져, 일반적으로 유리에 대한 높은성능을 가는 대체물로서는 부족하여 좋은 선택은 아니었다. 미국 특허 5,071,997; 5,344,916 및 5,480,964 (및 WO/91-01340)에서는 크레졸 용매에서 가용성인 BPDA 및 TFMB 단량체로부터 유도된 폴리이미드 부류에 대하여 개시하였다.U.S. Patent 5,071,997 discloses a class of polyimides useful in the field of low color films. However, these polyimides have a relatively high coefficient of thermal expansion (CTE), and a relatively low glass transition temperature (Tg), which is generally not a good choice as a substitute for high performance glass. U.S. Patent 5,071,997; 5,344,916 and 5,480,964 (and WO / 91-01340) describe polyimide classes derived from BPDA and TFMB monomers that are soluble in cresol solvents.

<발명의 요약>Summary of the Invention

본원 발명은 투명이며 저색상 분야에 유용한 퍼플루오로폴리이미드 조성물에 관하 것이다. 본원 발명의 조성물은 제1 디안히드라이드 성분을 제1 디아민 성분과 접촉시켜 하기식으로 표현되는 폴리이미드 생성물을 제공함으로써 적어도 부분적으로 생성할 수 있다. The present invention is directed to perfluoropolyimide compositions that are transparent and useful in the field of low color. The composition of the present invention may be at least partially produced by contacting a first dianhydride component with a first diamine component to provide a polyimide product represented by the following formula.

Figure 112006055724823-PAT00001
Figure 112006055724823-PAT00001

한 태양으로, 상기 폴리이미드 생성물은 필리아미드 필름의 대부분 성분 (몰기준으로)이며, 여기서 폴리이미드 필름의 평면내 열팽창계수 (CTE)가 다음의 수 중 임의의 두 수치 사이의 범위에 있고 그 수치를 포함한: -5, -2, 0, 2, 5, 7, 10, 12, 15, 18 및 20 ppm/℃, 이 때, 상기 필름의 두께는 약 5 내지 200 미크론이고, 평균 광 투광도율이 필름이 약 380 내지 770 나노미터의 광에 노출될 때 다음의 65.0, 70.0, 75.0, 80.0, 85.0, 90.0, 95.0 및 99.0 중의 임의의 두 수치 사이에 있고 그 수치를 포함한다. In one embodiment, the polyimide product is a majority component (on a molar basis) of the filiamide film, wherein the in-plane coefficient of thermal expansion (CTE) of the polyimide film is in the range between any two of the following numbers Including: -5, -2, 0, 2, 5, 7, 10, 12, 15, 18 and 20 ppm / ℃, wherein the thickness of the film is about 5 to 200 microns, the average light transmittance The film is between and includes any of the following 65.0, 70.0, 75.0, 80.0, 85.0, 90.0, 95.0 and 99.0 when exposed to light of about 380-770 nanometers.

<발명의 바람직한 양태의 상세한 설명>DETAILED DESCRIPTION OF PREFERRED EMBODIMENTS

한 태양으로, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BDPA) 및 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB) 단량체로부터 유래된 "중합체 반복 단위"가 (총 폴리이미드 중) 적어도 50 몰 퍼센트로 유래된 새로운 부류의 폴리이미드 (및 코폴리이미드) 필름이 제공된다. 이러한 필름은 평면내 열팽창계수 (CTE) 의 계수가 -5 내지 +20 ppm/℃이고, 또한 평균 광투과도율이 65.0 내지 약 99.0 (약 380 내지 770 나노미터의 파장 범위의 광에 노출시)이다. 상기 중합체 반복 단위는 하기 화학식으로 표현될 수 있다.In one embodiment, "polymer repeats" derived from 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BDPA) and 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) monomers A new class of polyimide (and copolyimide) films are provided wherein the units are derived from at least 50 mole percent (in total polyimide). Such films have a coefficient of in-plane coefficient of thermal expansion (CTE) of -5 to +20 ppm / ° C and an average light transmittance of 65.0 to about 99.0 (when exposed to light in the wavelength range of about 380 to 770 nanometers). . The polymer repeating unit may be represented by the following formula.

Figure 112006055724823-PAT00002
Figure 112006055724823-PAT00002

본원 발명의 폴리이미드 필름은 전형적으로 디아민과 디안히드라이드 성분의 반응과 관계된 다축합 반응(polycondensation reaction)에 의하여 합성된다. 일반적으로, 폴리이미드는 상기 단량체를 용매와 배합하여 폴리아믹산 용액 (폴리아미드 용액 또는 폴리이미드 전구체 물질로도 불림)을 형성함으로써 제조될 수 있다. 디안히드라이드 및 디아민 성분은 전형적으로 방향족 디안히드라이드 성분 대 방향족 디아민 성분의 몰비가 약 0.90 내지 1.10, 또는 약 0.98 내지 1.02로 배합한다. 디안히드라이드 및 디아민의 몰비를 조절함으로써 분자량을 조절할 수 있다. 이와 같이 하여, 'n'은 10 내지 100,000 사이의 임의의 수 또는 약 100 내지 1000 이내의 수일 수 있다. The polyimide films of the present invention are typically synthesized by polycondensation reactions involving the reaction of diamines with dianhydride components. In general, polyimides can be prepared by combining the monomers with a solvent to form a polyamic acid solution (also called a polyamide solution or a polyimide precursor material). The dianhydride and diamine components typically combine a molar ratio of aromatic dianhydride component to aromatic diamine component of about 0.90 to 1.10, or about 0.98 to 1.02. The molecular weight can be controlled by controlling the molar ratio of dianhydride and diamine. As such, 'n' may be any number between 10 and 100,000, or a number within about 100 and 1000.

본원 발명의 한 태양으로, 폴리아믹산 용액 (및(또는) 폴리아믹산 성형 용액)을 유기 용매 내에 제조할 수 있다. 폴리아믹산 농도는 5, 10, 12, 15, 20, 25, 27, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70, 75, 80, 85, 또는 90 중량 퍼센트에서 선택된 임의의 두 수치 사이의 범위(두 수치를 포함함)일 수 있다.In one aspect of the invention, a polyamic acid solution (and / or polyamic acid molding solution) can be prepared in an organic solvent. The polyamic acid concentration is any selected from 5, 10, 12, 15, 20, 25, 27, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70, 75, 80, 85, or 90 weight percent It can be a range between two numbers (including two numbers).

본원 발명의 폴리이미드의 합성을 위한 유용한 유기 용매는 폴리이미드 전구 체 물질 (예를 들어, 단량체)를 용해할 수 있는 것이 바람직하다. 이러한 용매는 또한, 상대적으로 낮은 비등점, 예컨대 225℃ 미만이어서, 폴리이미드가 알맞은 온도에서 (즉, 더 편리하게 덜 비싸게) 건조될 수 있다. 전형적으로, 210, 205, 200, 195, 190, 또는 180℃ 미만의 비점이 일반적으로 바람직하다. 일반적으로, 본원 발명의 폴리이미드는 크레졸 용매 또는 이하 언급될 통상의 유기 용매에 불용성이다. 본원발명의 저 CTE(열팽창계수) 필름은 판매 부분으로 이용되기 전에 화학적으로 폴리아믹산 상태에서 폴리이미드로 화학적으로 전환된다. Useful organic solvents for the synthesis of the polyimide of the present invention are preferably capable of dissolving the polyimide precursor material (eg monomer). Such solvents also have a relatively low boiling point, such as below 225 ° C., so that the polyimide can be dried at a suitable temperature (ie, more conveniently less expensive). Typically, boiling points below 210, 205, 200, 195, 190, or 180 ° C. are generally preferred. In general, the polyimide of the present invention is insoluble in cresol solvents or conventional organic solvents to be mentioned below. Low CTE (Coefficient of Thermal Expansion) films of the present invention are chemically converted from polyamic acid to polyimide before being used as a marketing part.

본원 발명의 폴리이미드를 제조하는 데에 유용한 용매 (즉, 이들의 폴리아믹산 전구체를 용해하는 데에 유용한 용매)는 단독으로 또는 기타 용매와 함께 (즉, 공용매와 함께) 사용할 수 있다. 유용한 유기 용매로 : N-메틸피롤리돈 (NMP), 디메틸아세트아미드 (DMAc), N,N'-디메틸-포름아미드 (DMF), 디메틸 술폭시드 (DMSO), 테트라메틸 우레아 (TMU), N,N'-디메틸-N,N'-프로필렌 우레아 (DMPU), 및 감마-부티로락톤을 포함한다. 한 실시형태로, 바람직한 용매는 N-메틸피롤리돈 (NMP) 및 디메틸아세트아미드 (DMAc)를 포함한다.Solvents useful in preparing the polyimides of the present invention (ie, solvents useful for dissolving their polyamic acid precursors) can be used alone or in combination with other solvents (ie with cosolvents). Useful organic solvents include: N-methylpyrrolidone (NMP), dimethylacetamide (DMAc), N, N'-dimethyl-formamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), tetramethyl urea (TMU), N , N'-dimethyl-N, N'-propylene urea (DMPU), and gamma-butyrolactone. In one embodiment, preferred solvents include N-methylpyrrolidone (NMP) and dimethylacetamide (DMAc).

또한, 공용매는 총 용매의 약 5 내지 50 중량 퍼센트로 사용될 수 있다. 유용한 공용매는 크실렌, 톨루엔, 벤젠, 디에틸렌글리콜 디에틸 에테르, 1,2-디메톡시에탄 (모노글라임), 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르 (디글라임), 1,2-비스-(2-메톡시에톡시)에탄 (트리글라임), 비스 [2-(2-메톡시에톡시) 에틸)] 에테르 (테트라글라임), 비스-(2-메톡시에틸) 에테르, 테트라히드로푸란, 부틸 셀로솔브, 부틸 셀로솔브 아세테이트, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 및 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트를 포함한다.Cosolvents may also be used in about 5 to 50 weight percent of the total solvent. Useful cosolvents include xylene, toluene, benzene, diethylene glycol diethyl ether, 1,2-dimethoxyethane (monoglyme), diethylene glycol dimethyl ether (diglyme), 1,2-bis- (2-methoxy Ethoxy) ethane (triglyme), bis [2- (2-methoxyethoxy) ethyl)] ether (tetraglyme), bis- (2-methoxyethyl) ether, tetrahydrofuran, butyl cellosolve Butyl cellosolve acetate, propylene glycol methyl ether and propylene glycol methyl ether acetate.

본원 발명에서 유용한 것으로 생각되는 디안히드라이드 성분은 총 디안히드라이드 성분의 적어도 50 몰 퍼센트의 3,3',4,4'-비페닐 테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BPDA)를 포함한다. BPDA 단량체는 단독으로 사용할 수 있고 (다시 말해, 총 디안히드라이드 성분의 100%의 몰비로 사용할 수 있고) 또는 본원에서 개시된 군에서 선택된 다른 디안히드라이드 중의 하나 또는 그 이상과 함께 사용될 수 있다. 이들 부가적인 디안히드라이드는 단독으로 사용되거나 함께 사용하여도, 총 디안히드라이드 성분의 50 몰 퍼센트를 넘을 수 없다. 부가적인 디안히드라이드는 4,4'-옥시디프탈릭 안히드라이드 (ODPA); 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시) 비스(프탈릭 안히드라이드) (BPADA); 2,3,3',4'-비페닐 테트라카르복실릭 디안히드라이드; 2,2',3,3'-비페닐 테트라카르복실릭 디안히드라이드; 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴) 디프탈릭 안히드라이드 (6FDA); 디페닐술폰테트라카르복실릭 디안히드라이드 (DSDA); 4,4'-비스페놀 A 디안히드라이드; 1,2,3,4 -시클로부탄테트라카르복실릭산 디안히드라이드; (-)-[1S*,5R*,6S*]-3-옥사비시클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온-6-스피로-3-(테트라히드로푸란-2,5-디온) [즉, JSR Corp에서 제조된 (-)-DAN,] 및 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실릭디안히드라이드 및 시클로지방족 디안히드라이드로 이루어진 군에서 선택될 수 있다Dianehydride components contemplated as useful herein include at least 50 mole percent of 3,3 ', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride (BPDA) of the total dianhydride component. The BPDA monomers can be used alone (ie, at a molar ratio of 100% of the total dianhydride component) or can be used with one or more of the other dianhydrides selected from the group disclosed herein. These additional dianhydrides, when used alone or in combination, cannot exceed 50 mole percent of the total dianhydride component. Additional dianhydrides include 4,4'-oxydiphthalic anhydride (ODPA); 4,4 '-(4,4'-isopropylidenediphenoxy) bis (phthalic anhydride) (BPADA); 2,3,3 ', 4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride; 2,2 ', 3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride; 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA); Diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride (DSDA); 4,4'-bisphenol A dianhydride; 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride; (-)-[1S *, 5R *, 6S *]-3-oxabicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione-6-spiro-3- (tetrahydrofuran-2,5-dione) [Ie, (-)-DAN, manufactured by JSR Corp., and bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and cycloaliphatic dianhydride Can be selected from the group consisting of

다른 유용한 디안히드라이드는 9,9-이치환 크산텐을 포함한다. 이들 디안히드라이드의 비제한적으로 들자면, 9,9-비스-(트리플루오로메틸)크산텐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (6FCDA); 9-페닐-9-(트리플루오로메틸)크산텐테트라카르복실 릭 디안히드라이드 (3FCDA); 9,9-디페닐-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (PPXDA); 9,9-디페닐-2,3,6,7-테트라메틸크산텐 (TMPPX); 9,9-디페닐-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 비스(p-아니시딜이미드); 9,9-디페닐-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 비스(부틸이미드); 9,9-디페닐-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 비스(p-톨릴이미드); 9-페닐-9-메틸-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (MPXDA); 9-페닐-9-메틸-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 비스(프로필이미드); 9-페닐-9-메틸-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 비스(p-톨릴이미드); 9,9-디메틸-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (MMXDA); 9,9-디메틸-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 비스(프로필이미드); 9,9-디메틸-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 비스(톨릴이미드); 9-에틸-9-메틸-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (EMXDA); ); 9,9-디에틸-2,3,6,7-크산텐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (EEXDA); 등 (예를 들어, 본원에 참고로 혼입된 문헌 [Polyimides Based on 9,9-Disubstituted Xanthene Dianhydrides, Trofimenko and Auman, Macromolecules, 1994, vol. 27, p. 1136-1146]에 기재되어 있는 것들)을 포함한다. (설령 전부가 아니라도) 상기 언급된 디안히드라이드의 다수는 '테트라산(tetraacid) 형태'로서(또는 테트라산의 모노, 디, 트리, 또는 테트라 에스테르로서), 또는 이들의 디에스테르 산 할라이드(클로라이드)의 형태로 사용될 수 있다. 그러나, 본원 발명의 일부 실시태양으로, 산 또는 에스테르보다 일반적으로 더 반응성이기 때문에 디안히드라이드 형태가 바람직하다. Other useful dianhydrides include 9,9-disubstituted xanthenes. Non-limiting examples of these dianhydrides include 9,9-bis- (trifluoromethyl) xanthenetetracarboxylic dianhydride (6FCDA); 9-phenyl-9- (trifluoromethyl) xanthenetetracarboxylic dianhydride (3FCDA); 9,9-diphenyl-2,3,6,7-xanthatetetracarboxylic dianhydride (PPXDA); 9,9-diphenyl-2,3,6,7-tetramethylxanthene (TMPPX); 9,9-diphenyl-2,3,6,7-xanthenetetracarboxylic bis (p-anisidylimide); 9,9-diphenyl-2,3,6,7-xanthatetetracarboxylic bis (butylimide); 9,9-diphenyl-2,3,6,7-xanthenetetracarboxylic bis (p-tolylimide); 9-phenyl-9-methyl-2,3,6,7-xanthatetetracarboxylic dianhydride (MPXDA); 9-phenyl-9-methyl-2,3,6,7-xanthatetetracarboxylic bis (propylimide); 9-phenyl-9-methyl-2,3,6,7-xanthenetetracarboxylic bis (p-tolylimide); 9,9-dimethyl-2,3,6,7-xanthatetetracarboxylic dianhydride (MMXDA); 9,9-dimethyl-2,3,6,7-xanthenetetracarboxylic bis (propylimide); 9,9-dimethyl-2,3,6,7-xanthenetetracarboxylic bis (tolylimide); 9-ethyl-9-methyl-2,3,6,7-xanthatetetracarboxylic dianhydride (EMXDA); ); 9,9-diethyl-2,3,6,7-xanthatetetracarboxylic dianhydride (EEXDA); Et al. (See, eg, those described in Polyimides Based on 9,9-Disubstituted Xanthene Dianhydrides, Trofimenko and Auman, Macromolecules, 1994, vol. 27, p. 1136-1146). Include. Many (but not all) of the aforementioned dianhydrides are in 'tetraacid form' (or as mono, di, tri, or tetra esters of tetraacids), or their diester acid halides ( Chloride). However, in some embodiments of the present invention, dianhydride forms are preferred because they are generally more reactive than acids or esters.

본원 발명에서 유용한 것으로 생각되는 디아민 성분은 적어도 50 몰 퍼센트 의 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB)을 포함한다. 게다가, TFMB 디아민 단량체는 단독으로 (즉, 총 디아민 성분의 몰비의 100 몰%로) 또는 본원에서 나열된 군에서의 하나 이상의 디아민과 함께 사용할 수 있다. 이들 추가적인 디아민은, 단독으로 사용되거나 또는 함께 사용되어도, 총 디아민 성분의 50 몰 퍼센트를 초과해서는 안된다. 이들 디아민은 트랜스-1,4-디아미노시클로헥산 (CHDA); 디아미노시클로옥탄; 테트라메틸렌디아민; 헥사메틸렌디아민; 옥타메틸렌디아민; 도데카메틸렌-디아민; 아미노메틸시클로옥틸메탄아민; 아미노메틸시클로도데실메탄아민; 아미노메틸시클로헥실메탄아민; 3,5-디아미노벤조트리플루오리드; 2-(트리플루오로메틸)-1,4-페닐렌디아민; 5-(트리플루오로메틸)-1,3-페닐렌디아민; 1,3-디아미노-2,4,5,6-테트라플루오로벤젠; 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로프로판 (BDAF); 2,2-비스(3-아미노페닐) 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판; 2,2'-비스-(4-아미노페닐)-헥사플루오로프로판 (6F 디아민); 3,4'-옥시디아닐린 (3,4'-ODA), m-페닐렌 디아민 (MPD), 4,4-비스(트리플루오로메톡시)벤지딘, 3,3'-디아미노-5,5'-트리플루오로메틸 비페닐, 3,3'-디아미노-6,6'-트리플루오로메틸 비페닐, 3,3'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘; 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판 (4-BDAF), 4,4'-디아미노디페닐 술피드 (4,4'-DDS); 3,3'-디아미노디페닐 술폰 (3,3'-DDS); 4,4'-디아미노디페닐 술폰; 및 4,4'-트리플루오로메틸-2,2'-디아미노비페닐로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.Diamine components that are considered useful in the present invention include at least 50 mole percent of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB). In addition, TFMB diamine monomers may be used alone (ie, at 100 mole percent of the molar ratio of the total diamine component) or in combination with one or more diamines in the groups listed herein. These additional diamines, when used alone or in combination, should not exceed 50 mole percent of the total diamine component. These diamines include trans-1,4-diaminocyclohexane (CHDA); Diaminocyclooctane; Tetramethylenediamine; Hexamethylenediamine; Octamethylenediamine; Dodecamethylene-diamine; Aminomethylcyclooctylmethanamine; Aminomethylcyclododecylmethanamine; Aminomethylcyclohexylmethanamine; 3,5-diaminobenzotrifluoride; 2- (trifluoromethyl) -1,4-phenylenediamine; 5- (trifluoromethyl) -1,3-phenylenediamine; 1,3-diamino-2,4,5,6-tetrafluorobenzene; 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -hexafluoropropane (BDAF); 2,2-bis (3-aminophenyl) 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane; 2,2'-bis- (4-aminophenyl) -hexafluoropropane (6F diamine); 3,4'-oxydianiline (3,4'-ODA), m-phenylene diamine (MPD), 4,4-bis (trifluoromethoxy) benzidine, 3,3'-diamino-5,5 '-Trifluoromethyl biphenyl, 3,3'-diamino-6,6'-trifluoromethyl biphenyl, 3,3'-bis (trifluoromethyl) benzidine; 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane (4-BDAF), 4,4'-diaminodiphenyl sulfide (4,4'-DDS); 3,3'-diaminodiphenyl sulfone (3,3'-DDS); 4,4'-diaminodiphenyl sulfone; And 4,4'-trifluoromethyl-2,2'-diaminobiphenyl.

본원 발명의 실시형태에서, 폴리이미드 필름은 일반적으로 폴리이미드의 골격에 50 mole % BPDA-TFMB (즉, 3,3',4,4'-비페닐 테트라카르복실릭 디안히드라이 드 (BPDA)//2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘) 초과로 함유하고, 폴리이미드 필름이 특성상 완전한 열적 전환과정(즉, 완전히 열적 전환 방법은 폴리아믹산 전구체 상태로부터 폴리이미드를 경화하기 위하여 열로만 사용하는 것이다)이 아닌 방법을 사용하여 제조하는 것이 바람직하다. 한 실시형태에서, 전부는 아니라도, CTE를 적당히 하기 용이한 화학적 전환 방법에 의하여, 폴리이미드 필름을 일차적으로 생성함으로써, 열 전환에서와 같은 부당하게 높은 CTE를 막을 수 있다. In an embodiment of the invention, the polyimide film generally has 50 mole% BPDA-TFMB (ie, 3,3 ', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride (BPDA) / in the backbone of the polyimide. / 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine), and the polyimide film is characterized by a complete thermal conversion process (i.e., a completely thermal conversion method) only by heat to cure the polyimide from the polyamic acid precursor state. It is preferable to manufacture using a method other than). In one embodiment, the polyimide film is produced primarily by chemical conversion methods that are not all, but easy to moderate CTE, thereby preventing unreasonably high CTE as in thermal conversion.

한 실시형태로, 본원 발명의 필름은 폴리이미드 화학적 전환 방법에 의하여 폴리이미드로의 전환이 행해지고, 폴리이미드 골격 내에 50 mole % 초과의 BPDA-TFMB (3,3',4,4'-비페닐 테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BPDA) // 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘) 반응 생성물을 포함한다. 얻어진 필름은 일반적으로 낮은 CTE (즉, 약 20 ppm/℃ 미만) 및 양호한 광투과도 (즉, 3-mil (75-micron) 필름을 기준으로 하여 약 65% 초과)를 가질 것이다.In one embodiment, the film of the present invention is converted to polyimide by a polyimide chemical conversion method, wherein greater than 50 mole% BPDA-TFMB (3,3 ', 4,4'-biphenyl) in the polyimide backbone. Tetracarboxylic dianhydride (BPDA) // 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine) reaction product. The film obtained will generally have a low CTE (ie less than about 20 ppm / ° C.) and good light transmittance (ie greater than about 65% based on 3-mil (75-micron) film).

본원 발명의 한 실시형태로서, 본원에서의 폴리이미드를 형성하기 위하여 사용되는 디안히드라이드 (또는 디아민)는 임의로 반응성 말단기(들)을 포함할 수 있다. 이들 반응성 말단기의 일부는 나딕(nadic), 아세틸렌, n-프로파길, 시클로헥센, 말레익, n-스티레닐, 페닐에티닐일 수 있다. 이들 반응성 말단기는 폴리이미드의 최종 CTE를 감소하기 위하여 더 저분자량 중합체를 형성하거나 중합체의 가교를 도와주기 위하여 사용하여 중합체의 말단을 캡핑할 수 있다. 중합체의 추가 가교를 하면 최종 폴리이미드의 Tg 및 기계적 모듈러스를 증가시킬 수 있다. 일부 사례에서, 저분자량 중합체(즉 올리고머)가 형성될 경우 상기 중합체는 상대적으로 높은 정도로 가교하여 용매의 공격에 예외적인 저항도를 갖는 폴리이미드를 형성할 수 있다.As an embodiment of the invention, the dianhydride (or diamine) used to form the polyimide herein may optionally include reactive end group (s). Some of these reactive end groups may be nadic, acetylene, n-propargyl, cyclohexene, maleic, n-styrenyl, phenylethynyl. These reactive end groups can be used to form lower molecular weight polymers to help reduce the final CTE of the polyimide or to help crosslink the polymers to cap the ends of the polymers. Further crosslinking of the polymer can increase the Tg and mechanical modulus of the final polyimide. In some instances, when low molecular weight polymers (ie oligomers) are formed, the polymers can be crosslinked to a relatively high degree to form polyimides having exceptional resistance to attack of solvents.

화학 전환 방법을 사용하여 폴리이미드 필름을 형성하기 위한 유용한 방법은 (즉, 본원 발명에 따른 방법)은 본 명세서에 참고로 혼입되어 있고 그 문헌 속 모두가 교시되어 있는 효과를 갖는 미국 특허 5,166,308 및 5,298,331호에서 찾을 수 있다. Useful methods for forming polyimide films using chemical conversion methods (ie, methods according to the present invention) are described in US Pat. Nos. 5,166,308 and 5,298,331, which have the effect of being incorporated herein by reference and all of which are taught herein. It can be found in the arc.

본원 발명의 폴리이미드는 어떻게 성분들 (즉, 단량체 및 용매)이 서로 도입되어 있는가에 관한 다양한 상이한 방법들을 사용하여 제조할 수 있다. 폴리아믹산 용액을 제조하는 다양한 방법은 하기를 포함한다: The polyimide of the present invention can be prepared using a variety of different methods of how the components (ie, monomer and solvent) are introduced into each other. Various methods of preparing polyamic acid solutions include the following:

(a) 디아민 성분 및 디안히드라이드 성분을 예비적으로 서로 혼합하고 그 다음 그 혼합물을 교반하면서 용매에 부분으로 첨가하는 방법.(a) A method in which the diamine component and the dianhydride component are preliminarily mixed with each other and then the mixture is added in portions to the solvent with stirring.

(b) (상기 (a)의 방법과 달리) 용매를 디아민 및 디안히드라이드 성분의 교반하고 있는 혼합물에 첨가하는 방법. (b) A method of adding a solvent (unlike the method of (a) above) to a stirring mixture of diamine and dianhydride components.

(c) 디아민이 용매에 배제적으로 용해되고 다음에 디안히드라이드 성분을 반응 속도를 조절할 수 있는 비율로써 첨가하는 방법. (c) a method in which the diamine is exclusively dissolved in a solvent, and then the dianhydride component is added at a rate capable of controlling the reaction rate.

(d) 디안히드라이드 성분을 용매에 배제적으로 용해되고, 다음에 아민 성분을 반응 속도를 조절할 수 있는 비율로써 첨가하는 방법. (d) A method in which the dianhydride component is exclusively dissolved in a solvent, and then the amine component is added in a ratio capable of controlling the reaction rate.

(e) 디아민 성분 및 디안히드라이드 성분을 용매에 별개로 용해시키고, 다음에 이들 용액을 반응기 내에 혼합하는 방법. (e) A method of dissolving the diamine component and dianhydride component separately in a solvent, and then mixing these solutions into the reactor.

(f) 과량의 아민 성분을 갖는 폴리아믹산과 과량의 디안히드라이드 성분을 갖는 다른 폴리아믹산을 예비적으로 형성하고 다음에, 특히 랜덤이 아닌 또는 블록 공중합체를 생성하는 방식으로, 반응기 내에 서로 반응시키는 방법.(f) reacting with each other in the reactor in such a way as to preliminarily form a polyamic acid with excess amine component and another polyamic acid with excess dianhydride component and then produce a particularly random or block copolymer. How to let.

(g) 아민 성분 및 디안히드라이드 성분의 특정 부분을 먼저 반응시키고, 다음에 나머지 디아민 성분을 반응시키는 방법, 또는 그 반대 순서인 방법.(g) A method in which a specific portion of the amine component and the dianhydride component is reacted first, followed by the remaining diamine component, or vice versa.

(h) 성분을 부분으로 또는 한꺼번에 용매의 일부 또는 전부에 임의의 순서로 첨가하고, 또한 임의의 성분의 부분 또는 일부를 용매의 부분 또는 전부에 용액으로서 첨가할 수 있는 방법. (h) A method in which the components can be added in part or in part to all or part of the solvent in any order, and also any part or part of any of the components as part or all of the solvent as a solution.

(i) 처음에 디안히드라이드 성분의 한가지를 디아민 성분의 한가지와 반응시켜 제1 폴리아믹산을 얻고, 다음에 다른 디안히드라이드 성분을 다른 아민 성분과 반응시켜 제2 폴리아믹산을 얻고, 다음에, 필름 형성 이전에 다양한 방법 중 어느 하나를 채택하여 상기 폴리아믹산을 결합하는 방법.(i) first reacting one of the dianhydride components with one of the diamine components to obtain a first polyamic acid, and then reacting the other dianhydride component with another amine component to obtain a second polyamic acid, A method of combining the polyamic acid by employing any of a variety of methods prior to film formation.

일반적으로 설명하면, 폴리아믹산 성형용액을 상기 개시된 폴리아믹산 용액 제조 방법의 임의의 것으로부터 도출해낼 수 있다.Generally speaking, the polyamic acid molding solution can be derived from any of the polyamic acid solution preparation methods disclosed above.

본원 발명의 폴리아믹산 성형용액은 일정량의 전환 화합물과 결합할 수 있다. 본원 발명에서 유용하다고 생각되는 전환 화합물의 비제한적인 예를 들자면, (i) 하나 이상의 탈수제, 예컨대 지방족 산 안히드라이드 (아세틱 안히드라이드, 등) 및 방향족 산 안히드라이드; 및 (ii) 하나 이상의 촉매, 예컨대, 지방족 사차 아민 (트리에틸아민, 등), 방향족 사차 아민 (디메틸아닐린, 등) 및 헤테로시클릭 사차 아민 (피리딘, 피콜린, 이소퀴놀린, 등)을 포함한다. 안히드라이드 탈수 물질은 전형적으로 폴리아믹산 용액에 존재하는 아미드 산 기의 양보다 약간 과량의 몰로 사용된다. 사용되는 아세틱 안히드라이드의 양은 전형적으로 폴리아믹산의 당량 당 약 2.0-3.0 몰이다. 일반적으로, 사차 아민 촉매의 상당량이 사용된다. 놀랍게도, 본원에서는 화학 전환 방법이 사용되면, (즉, 더 통상적인 열적 방법 대신에), 동일한 조성을 갖는 열적 방법을 사용하여 전환된 필름보다 더 바람직한 (i) 평면내 CTE, (ii) 유리 전이 온도, 및 (iii) 광투과도 계수를 갖는 필름이 형성된다. 본원에 개시된 실시예, 비교예 및 데이타 표는 이 현상을 세부적으로 설명해준다. The polyamic acid molding solution of the present invention can be combined with a certain amount of the conversion compound. Non-limiting examples of conversion compounds deemed useful in the present invention include (i) at least one dehydrating agent such as aliphatic acid anhydrides (acetic anhydrides, etc.) and aromatic acid anhydrides; And (ii) one or more catalysts such as aliphatic quaternary amines (triethylamine, etc.), aromatic quaternary amines (dimethylaniline, etc.) and heterocyclic quaternary amines (pyridine, picoline, isoquinoline, etc.). . Anhydride dehydration materials are typically used in moles in excess of the amount of amide acid groups present in the polyamic acid solution. The amount of acetic anhydride used is typically about 2.0-3.0 mmol, per equivalent of polyamic acid. Generally, a significant amount of quaternary amine catalyst is used. Surprisingly, when chemical conversion methods are used herein (ie, instead of more conventional thermal methods), (i) in-plane CTE, (ii) glass transition temperatures are more preferred than films converted using thermal methods having the same composition. And (iii) a film having a light transmittance coefficient. The examples, comparative examples and data tables disclosed herein explain this phenomenon in detail.

본원에서 사용되는, "열적 전환 방법"이란 폴리아믹산 성형 용액을 폴리이미드로 전환하기 위한 전환 화합물(즉, 화학적 촉매)이 사용되지 않은 (즉, 이로써 필름을 가열하기 위하여 단지 열에너지를 사용하여 용매 필름을 건조하고 이미드화 반응을 수행하는) 방법을 의미하고자 함이다. As used herein, the term “thermal conversion method” refers to a solvent film that does not use a conversion compound (ie, a chemical catalyst) for converting a polyamic acid molding solution into a polyimide (ie, only uses thermal energy to heat the film thereby). To dry and carry out the imidization reaction.

본원 발명의 폴리아믹산 용액 (및(또는) 성형용액)은 임의로 다수의 첨가제 중 임의의 하나 이상을 추가로 포함할 수 있다. 이러한 첨가제는 가공보조제(예를 들어 올리고머), 항산화제, 광안정제, 광 소멸계수 조절제, 난연 첨가제, 대전방지제, 열안정제, 자외선 흡수제, 무기 충전재 또는 다양한 강화제를 포함한다. The polyamic acid solution (and / or molding solution) of the present invention may optionally further comprise any one or more of a number of additives. Such additives include processing aids (eg oligomers), antioxidants, light stabilizers, light extinction coefficient modifiers, flame retardant additives, antistatic agents, heat stabilizers, ultraviolet absorbers, inorganic fillers or various reinforcing agents.

본원 발명에 따르면, 추가 단량체를 사용하여 폴리이미드 필름을 형성할 수 있고, 이들을 특이적으로 선택하여 필름에 중요한 물리적 속성을 부여할 수 있다. 통상 요구되는 유리한 특성을 비제한적으로 들자면, 높은 또는 낮은 모듈러스, 양호한 기계적 신도, 낮은 평면 내 열 평창 계수(CTE), 낮은 습식 팽창 계수 (CHE), 및 특수한 유리 전이 온도 (Tg)를 포함한다.According to the present invention, additional monomers may be used to form polyimide films, and these may be specifically selected to impart important physical properties to the film. Commonly desired advantageous properties include, but are not limited to, high or low modulus, good mechanical elongation, low in-plane thermal flatness coefficient (CTE), low wet expansion coefficient (CHE), and special glass transition temperature (Tg).

일반적으로, 용매화된 혼합물 (즉, 상기 언급된 전환 화합물을 포함하는 폴리아믹산 성형용액)을 지지체 (예컨대 무한 벨트 또는 회전 드럼) 상에 성형 또는 적용하여 필름을 얻는다. 다음으로, 용매를 포함하는 필름(겔 필름)을 적당한 온도에서 경화(즉, 화학적 경화)함으로써 자체-지지성 폴리이미드 필름으로 전환되어 건조 필름을 생성할 수 있다. 다음에 완전한 건조 이전에 상기 필름을 지지체로부터 분리하고, 텐터링 오븐을 경유시켜 추가 경화로써 분자적으로 배향시킬 수 있다. 본원 발명의 목적상, 경화된 폴리이미드 필름은 아믹-산 잔기의 적어도 90, 92, 94, 96, 98, 99 또는 99.9퍼센트가 아미드 잔기로 전환된 폴리이미드를 의미한다. 본원에서 사용되는 건조 필름은 폴리이미드 필름 복합체 내에 남아있는 휘발물질 (예를 들어 용매)의 양이 2, 1.5, 1.0, 0.5, 0.1, 0.05, 및 0.01 중량 퍼센트 미만으로 있는 필름을 정의한다. In general, the solvated mixture (ie, polyamic acid molding solution comprising the above-mentioned conversion compound) is molded or applied onto a support (such as an endless belt or a rotating drum) to obtain a film. Next, the solvent-containing film (gel film) can be cured (ie chemically cured) at a suitable temperature to be converted to a self-supporting polyimide film to produce a dry film. The film can then be separated from the support prior to complete drying and molecularly oriented with further curing via a tenting oven. For the purposes of the present invention, a cured polyimide film means a polyimide in which at least 90, 92, 94, 96, 98, 99 or 99.9 percent of the amic-acid residues are converted to amide residues. As used herein, a dry film defines a film in which the amount of volatiles (eg, solvent) remaining in the polyimide film composite is less than 2, 1.5, 1.0, 0.5, 0.1, 0.05, and 0.01 weight percent.

본원 발명의 하나의 실시형태에서, 두께가 5, 7, 8, 9, 10, 12, 14, 16, 18, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70, 75, 80, 85, 90, 95, 100, 125, 150, 175 및 200 미크론 중에 선택된 임의의 두 수치 사이인(두 수치를 포함함) 폴리이미드 필름이 만들어진다.In one embodiment of the invention, the thickness is 5, 7, 8, 9, 10, 12, 14, 16, 18, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 50, 55, 60, 65, 70 A polyimide film is made that is between any two values selected from among 75, 80, 85, 90, 95, 100, 125, 150, 175 and 200 microns (including both values).

본원 발명의 하나의 실시형태로, 특정 범위에 있는 유리 전이 온도(Tg)를 갖는 폴리이미드 필름이 만들어진다. 본원 발명의 폴리이미드 필름의 유리 전이 온도값은 TA 인스트루먼츠 2980 다이나믹 메카니칼 애널라이저(TA Instruments 2980 dynamic mechanical analyzer)를 사용하여 측정된다. Tg 측정법은 채집 주파수를 약 1.0 Hz (파장 약 10.0 ㎛) 및 사전 부하 중량을 약 0.01N을 사용하였다. 약 5 ℃ min-1의 온도 상승 속도를 사용하였다. Tg를 tan δ 응답의 피크로 측정하였다. 본원 발명의 필름의 유리 전이 온도가 250, 275, 300, 325, 350, 375, 400, 425, 450, 475 및 500℃ 중에 선택되는 임의의 두 수치 사이 (두 수치를 포함함)에 있는 것을 발견하였다.In one embodiment of the present invention, a polyimide film having a glass transition temperature (Tg) in a specific range is made. The glass transition temperature value of the polyimide film of the present invention is measured using a TA Instruments 2980 dynamic mechanical analyzer. Tg measurement used a collection frequency of about 1.0 Hz (wavelength of about 10.0 μm) and a preload weight of about 0.01 N. A rate of temperature rise of about 5 ° C. min −1 was used. Tg was measured as the peak of tan δ response. Found that the glass transition temperature of the film of the present invention is between any two values (including two values) selected among 250, 275, 300, 325, 350, 375, 400, 425, 450, 475 and 500 ° C It was.

본원 발명의 하나의 실시형태로, 평면내 열팽창계수 (CTE) 수의 특정 범위를 갖는 폴리이미드 필름을 만들 수 있다. 본원 발명의 폴리이미드 필름의 평면내 CTE를 TA 인스트루먼츠 TMA 2940 써멀 메카니칼 애널라이져(thermal mechanical analyzer)를 사용하여 측정하였다. 필름의 팽창도는 약 50℃ 내지 약 250℃에서 두번째 통과시에 측정하였다. 다음에 팽창도를 온도 차이 (및 샘플 길이)로 나누어 ppm ℃-1 단위의 CTE를 얻었다. 첫번째 통과를 사용하여 동일한 온도 범위에 걸쳐 샘플로부터의 수축을 제거하고 샘플을 (흡수된 물로부터) 건조시킨다. 이렇게 하여, 다음에 두번째 통과시에 필름의 고유한 특성인 CTE 값 (물의 흡수도 및 물이 필름의 CTE에 줄 수 있는 영향을 제거한 것)을 제공한다. 이 방법은 0.05 N 부하력을 채용하고, 상기 언급된 온도 범위 내에서 약 10℃ min-1라는 상승 온도로 작동된다. 본원 발명에 유용한 폴리이미드 필름의 평면내 CTE 값은 -5, 0, 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18 및 20 ppm/℃ 중에 선택된 어느 두 수치 사이(두 수치를 포함함)인 것을 발견하였다.In one embodiment of the present invention, a polyimide film having a specific range of in-plane coefficient of thermal expansion (CTE) can be made. In-plane CTE of the polyimide film of the present invention was measured using a TA Instruments TMA 2940 thermal mechanical analyzer. The swelling degree of the film was measured at about 50 ° C. to about 250 ° C. on the second pass. The degree of expansion was then divided by the temperature difference (and sample length) to give a CTE in ppm ° C- 1 units. The first pass is used to remove shrinkage from the sample over the same temperature range and to dry the sample (from absorbed water). This provides a CTE value (which eliminates water absorption and the effect that water can have on the CTE of the film), which is the inherent property of the film on the next pass. This method employs 0.05 N loading force and operates at an elevated temperature of about 10 ° C. min −1 within the above-mentioned temperature range. The in-plane CTE values of the polyimide films useful in the present invention are between any two values selected from -5, 0, 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18 and 20 ppm / ° C. Inclusive).

하나의 실시형태로서, 폴리이미드가 적당한 광투과 성질을 갖는다는 조건하에서 본원 발명의 폴리이미드 필름은 전자 디스플레이 장치에서 유리의 대체물로서 적합할 수 있다. (휴렛 패커드 (Hewlett Packard) 8452A 스펙트로포토미터(Spectrophotometer)를 사용하여 약 2 나노미터의 간격으로) 약 380 나노미터 내지 약 770 나노미터 사이의 범위(두 수치를 포함함)에 걸쳐 본원 발명의 폴리이미드 필름의 광투과도를 측정하였다. 본원 발명의 폴리이미드에서 사용되는 평균 광투과도는 필름을 380 내지 770 나노미터의 파장의 광으로 노출시, 65.0, 70.0, 75.0, 80.0, 85.0, 90.0, 95.0 및 99.0에서 선택된 임의의 두 수치 사이의 광투과도인 것을 발견하였다. As one embodiment, the polyimide film of the present invention may be suitable as an alternative to glass in electronic display devices under the conditions that the polyimide has suitable light transmitting properties. The poly of the present invention over a range of from about 380 nanometers to about 770 nanometers (including two values) (at intervals of about 2 nanometers using a Hewlett Packard 8452A Spectrophotometer) The light transmittance of the mid film was measured. The average light transmittance used in the polyimide of the present invention is between any two values selected from 65.0, 70.0, 75.0, 80.0, 85.0, 90.0, 95.0 and 99.0 when the film is exposed to light with a wavelength of 380-770 nanometers. It was found to be light transmissive.

본원 발명의 하나의 실시형태로, 본원에서 개시된 폴리이미드 필름은 액정 디스플레이(LCD)에서 일성분으로 사용될 수 있다. 일반적으로, 액정 디스플레이 (LCD) 장치는 매우 낮은 전력 소비를 요구한다. 또한 이들 장치들은 화면 표면에 대하여 평면(플랫) 구조의 경량을 요구할 수 있다. 이들 속성은 LCD가 손목시계, 휴대용 계산기 및 개인용 컴퓨터, PDA, 비행기 계기판 디스플레이 및 다른 많은 분야와 같은 디스플레이 장치에 사용되게 한다. In one embodiment of the present invention, the polyimide film disclosed herein may be used as one component in liquid crystal displays (LCDs). In general, liquid crystal display (LCD) devices require very low power consumption. These devices may also require a lightweight (flat) structure with respect to the screen surface. These properties allow LCDs to be used in display devices such as wristwatches, portable calculators and personal computers, PDAs, airplane dashboard displays, and many other fields.

가장 단순한 형태로, 액정 디스플레이 장치는 전형적으로 두개의 대향면을 갖는 액정층, 상기 액정층의 면 중의 하나에 있는 전극 세트 및 전극 및 액정층의 각 세트 사이에 있는 정렬층으로 이루어진다. 정렬층을 포함하는 전극은 전형적으로 유리 또는 플라스틱으로 구성된 기판에 의하여 지지된다. 액정 분자의 정렬은 내부의 두개의 기판(예를 들어, 유리판, 유리 시트, 수정판 또는 전극을 지지하는 다른 정렬층)의 면에 대하여 특정 각도로 생긴다 (표면 틸트 각 또는 간단히 '틸트 각'으로 지칭됨). 정렬층 (즉, 이들 기판)은 전형적으로 인듐-틴 옥시드 (ITO)로 만들어진 피복(투명 전극 또는 전기 전도체의 세트들)을 가질 수 있다. 이들 전극 세트들을 패터닝하여 (예를 들어 에칭으로써) LCD에 의하여 표시되는 정보와 일치할 수 있다. TN 또는 STN 효과를 사용한 디스플레이는 전형적으로 디스플레이 모드를 바꾸면서 액정을 스위칭하는 데에 요구될 수 있는 주로 수직 전기장을 얻기 위하여 액정층의 대향면에 있는 전극을 사용한다. 이 TN 효과는 소위 "능동 매트릭스 TN 디스플레이", 즉 각 픽셀 내에 전자 능동 스위칭 요소(예를 들어 TFT 또는 다이오드)를 특징으로 하는 디스플레이에서 광범위하게 활용될 수 있다. TN-디스플레이는 이미 예를 들어 탁상형 컴퓨터에 대한 모니터에서 광범위하게 사용되고 있다. In its simplest form, a liquid crystal display device typically consists of a liquid crystal layer having two opposing faces, an electrode set on one of the faces of the liquid crystal layer and an alignment layer between each set of electrodes and liquid crystal layers. Electrodes comprising an alignment layer are typically supported by a substrate made of glass or plastic. The alignment of the liquid crystal molecules occurs at a certain angle with respect to the surface of the two substrates inside (eg, glass plate, glass sheet, quartz plate or other alignment layer supporting the electrode) (surface tilt angle or simply referred to as 'tilt angle'). being). The alignment layer (ie, these substrates) may have a coating (sets of transparent electrodes or electrical conductors) typically made of indium-tin oxide (ITO). These electrode sets can be patterned to match the information displayed by the LCD (eg by etching). Displays using the TN or STN effect typically use electrodes on opposite sides of the liquid crystal layer to obtain primarily vertical electric fields that may be required to switch the liquid crystals while changing the display mode. This TN effect can be widely used in so-called "active matrix TN displays", ie displays which feature electronically active switching elements (eg TFTs or diodes) within each pixel. TN-displays are already widely used, for example, in monitors for desktop computers.

LCD에서의 다른 디스플레이 모드는 평면내-스위칭 (IPS) 모드일 수 있다. 여기서, 하나의 픽셀의 전극은 액정층의 동일면에 있고, 스위칭이 본질적으로 수평 전기장 (즉, 액정층과 본질적으로 평행할 수 있는 전기장)에 의하여 얻어진다. IPS 디스플레이는 능동 요소(전형적으로 TFT)의 매트릭스에 관하여 종종 언급된다. Another display mode in the LCD may be in-plane switching (IPS) mode. Here, the electrodes of one pixel are on the same side of the liquid crystal layer, and switching is obtained by essentially a horizontal electric field (ie an electric field which can be essentially parallel to the liquid crystal layer). IPS displays are often mentioned in terms of a matrix of active elements (typically TFTs).

본원 발명의 하나의 실시형태로, 개시된 폴리이미드를 디스플레이 장치의 정렬층으로 사용할 수 있다. 용액-성형 단계 (예를 들어 스핀 코팅, 롤러 코팅, 침지, 스프레잉, 프린팅 및(또는) 닥터 블래이딩)을 통하여 중합체를 기판(예를 들어 유리 또는 실리콘) 상에 도포함으로써, 유기물 기초 (예를 들어, 폴리이미드) 정렬층을 성립하는 과정을 손쉽게 수행할 수 있다. 용매의 제거 및(또는) 중합체를 경화한 후에, 상기 중합체 기판을 천으로 한 방향으로 비비거나 문질러줌으로써 한 방향의 광학 방향으로 성립할 수 있다. 일부 태양으로, 기판의 대향면에 배리어 패시베이션 층을 가질 수 있다. 기판을 비빈 후에, 다른 중합체 기판에 대하여 0 내지 360도로 회전시킬 수 있다. 다른 경우로, 유기 부착제를 사용하여 이들 층을 다른 층과 부착할 수 있다. 종종, 스페이서를 사용하여, 기판 사이의 일정한 두께 간격을 유지한다. 다른 경우로, 이들 기판을 액정 물질의 다양한 혼합물로 충전할 수 있다. 또한, 편향화 필름 및(또는) 보상 필름을 라미네이션 방법에 의하여 기판의 외부 표면에 부착할 수 있다. 끝으로, 전기 및 디스플레이 설계와 맞는 방식으로 전기 연결부를 양 기판에 만들 수 있다. 현재, 문지른 중합체 필름 (즉, 정렬 방향 및 틸트 각 조절 필름)은 모든 부류의 액정 디스플레이의 생산에 사용되는 공지된 공정 기술에 지배적으로 사용된다. 이러하므로, 폴리이미드 기재 필름을 가요성, 저가, 신뢰성 좋은 정렬 필름으로서 사용할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the disclosed polyimide can be used as an alignment layer of a display device. By applying the polymer onto a substrate (eg glass or silicon) via a solution-forming step (eg spin coating, roller coating, dipping, spraying, printing and / or doctor blading), the organic base (eg For example, the process of establishing a polyimide) alignment layer can be easily performed. After removal of the solvent and / or curing of the polymer, the polymer substrate can be established in one direction of optical direction by rubbing or rubbing the polymer substrate in one direction with a cloth. In some aspects, it may have a barrier passivation layer on the opposite side of the substrate. After the substrate is empty, it can be rotated from 0 to 360 degrees relative to the other polymer substrate. In other cases, organic adhesives may be used to attach these layers to other layers. Often, spacers are used to maintain a constant thickness gap between the substrates. In other cases, these substrates may be filled with various mixtures of liquid crystal materials. In addition, the deflection film and / or compensation film may be attached to the outer surface of the substrate by a lamination method. Finally, electrical connections can be made to both substrates in a manner consistent with electrical and display designs. Currently, rubbed polymer films (ie alignment direction and tilt angle control films) are predominantly used in known process techniques used in the production of all classes of liquid crystal displays. For this reason, a polyimide base film can be used as a flexible, low cost, reliable alignment film.

본원 발명의 또다른 실시형태로, 본원에서 개시된 폴리이미드 필름은 유기 발광 다이오드(OLED)를 갖는 유기 전자 장치에서의 일성분으로서 사용될 수 있다. 유기 전자 장치는 산업에서 중요한 역할을 한다. 예를 들어, 유기 발광 다이오드(OLED)는 높은 전력 변환 효율 및 상대적으로 낮은 가공비 때문에 유망하다. 이러한 디스플레이는 휴대폰, 개인 휴대 단말기(PDA), 휴대용 컴퓨터, 및 DVD 플레이어를 비롯한 전지 충전, 휴대용 전자 장치에 대하여 특히 유망하다. 이들 분야는 낮은 전력 소비와 더불어 높은 정보 내용, 풀 컬러, 고속, 비디오 응답 시간을 갖는 디스플레이를 요구한다. In another embodiment of the present invention, the polyimide film disclosed herein may be used as one component in organic electronic devices having organic light emitting diodes (OLEDs). Organic electronic devices play an important role in the industry. For example, organic light emitting diodes (OLEDs) are promising because of their high power conversion efficiency and relatively low processing cost. Such displays are particularly promising for battery charging, portable electronic devices, including cell phones, personal digital assistants (PDAs), portable computers, and DVD players. These fields require displays with high information content, full color, high speed, and video response time with low power consumption.

본원에서 용어 "유기 전자 장치" 또는 가끔 "전자 장치"는 하나 이상의 반도체층 또는 물질을 포함하는 장치를 의미한다. 유기 전자 장치의 비제한적인 예를 들자면, (1) 전기 에너지를 복사로 전환하는 장치 (예를 들어, 발광 다이오드, 발광 다이오드 디스플레이, 다이오드 레이저 또는 발광 패널), (2) 전자공학적 과정을 이용한 신호를 검출하는 장치 (예를 들어, 광검출기, 광전도 셀, 포토레지스터, 광스위치, 광트랜지스터, 광튜브, 적외선(IR) 검출기, 또는 바이오센서), (3) 복사를 전기 에너지로 전환하는 장치 (예를 들어, 광기전력 장치(photovoltaic device) 또는 태양전지), (4) 하나 이상의 유기 반도체층을 포함하는 하나 이상의 전자 부품을 포함하는 부품 장치(예를 들어 트랜지스터 또는 다이오드) 또는 항목 (1) 내지 (4)의 장치의 임의의 조합을 포함한다.As used herein, the term "organic electronic device" or sometimes "electronic device" means a device comprising one or more semiconductor layers or materials. Non-limiting examples of organic electronic devices include (1) devices that convert electrical energy into radiation (for example, light emitting diodes, light emitting diode displays, diode lasers, or light emitting panels), and (2) signals using electrotechnical processes. (Eg) photodetectors, photoconductive cells, photoresistors, optical switches, phototransistors, optical tubes, infrared (IR) detectors, or biosensors), (3) devices that convert radiation into electrical energy (Eg, photovoltaic device or solar cell), (4) a component device (eg transistor or diode) comprising one or more electronic components comprising one or more organic semiconductor layers or item (1) And any combination of the devices of (4).

OLED는 애노드와 캐쏘드 사이에 유기 전장 발광(EL) 물질층을 전형적으로 포함한다. 다른 유기 전자 장치와 마찬가지로, OLED는 완충층 및 전하 수송층과 같은 활성 물질을 포함할 수 있다. EL 물질은 형광 염료 및 유기금속 복합체와 같이 작은 분자 물질일 수 있거나, 공액화된 중합체 및 올리고머와 같은 더 큰 분자 물질일 수 있다. 각각의 EL 또는 능동 물질층은 디스플레이의 전체의 성능에 기여한다. OLEDs typically include an organic field-emitting (EL) material layer between the anode and the cathode. Like other organic electronic devices, OLEDs may include active materials such as buffer layers and charge transport layers. The EL material may be a small molecular material, such as fluorescent dyes and organometallic complexes, or may be a larger molecular material, such as conjugated polymers and oligomers. Each EL or active material layer contributes to the overall performance of the display.

OLED 소자를 구성하는 층은 일반적으로 기판 상에서 형성된다. 용어 "기판"은 강성 또는 가요성일 수 있고, 하나 이상의 물질로 만들어진 하나 이상의 층을 포함할 수 있는 기재 물질을 의미한다. 이들 물질의 비제한적인 예를 들자면, 유리, 중합체, 금속 또는 세라믹 물질 또는 이들의 조합을 포함한다. 기판은 전자 부품, 회로 또는 전도성 부재를 포함할 수도 포함하지 않을 수도 있다. The layers constituting the OLED device are generally formed on a substrate. The term "substrate" means a base material that can be rigid or flexible and can include one or more layers made of one or more materials. Non-limiting examples of these materials include glass, polymer, metal or ceramic materials or combinations thereof. The substrate may or may not include electronic components, circuits, or conductive members.

이러한 용도에 사용되는 중합체 필름은 전형적으로, 무색을 유지하면서 높은 열 안정성을 보일 것이 요구된다. 가끔, 디스플레이 장치는 투과되거나 또는 반사되는 스펙트럼에서 풀 칼러를 지지하도록 설계될 수 있다. 그러므로, 이들 중합체 필름의 저색상 특성은 필수적이다. 게다가, 신규의 가요성 디스플레이 분야는 가요성의 박막 트랜지스터 (TFT) 후면(backplane)이 요구된다. 따라서, 통상적인 유리 기판 (TFT 후면에 사용됨)은 가요성, 투명 유기 필름으로 대체되어야 한다. 이들 분야에서 중합체 필름을 사용할 때 일반적으로 생기는 문제는 무정형 실리콘 박막 트랜지스터 (디스플레이 분야에서 유리상에서)는 전형적으로 300℃ 내지 350℃에서 가공된다는 것이다. 이러한 가공 온도는 일반적으로 폴리(에틸렌 테레프탈레이트) 및 폴리(에틸렌 나프탈레이트) (전형적으로 Tg가 각각 70℃-100℃와 약 120℃인 플라스틱)를 비롯한 많은 플라스틱에는 너무 높다. 게다가, 누설 (디스플레이 시간 경과시 픽셀 커패시터 상에 데이타를 저장하는 것을 불가능하게 만들 수 있는 전류의 손실)을 억제하고, TFT의 유동도를 증가시키기 위하여 더 높은 가공 온도 (약 250℃ 내지 275℃의 범위)가 요구될 수 있다. 낮은 유동도는 전형적으로 OLED의 휘도를 제한할 수 있다. 이러하므로, 무색 폴리이미드 필름은 이상적인 기판 (즉, Tg ≥ 280℃인 물질)일 수 있다. 능동 TFT 유형을 가공하기 위한 온도가 약 250℃ 내지 275℃의 범위일 수 있다는 점에서 LCD 디스플레이를 제조하는 데에도 상기와 유사하게 적용될 수 있다. Polymer films used for such applications typically require high thermal stability while maintaining colorlessness. Occasionally, the display device may be designed to support full color in the transmitted or reflected spectrum. Therefore, the low color properties of these polymer films are essential. In addition, new flexible display applications require flexible thin film transistor (TFT) backplanes. Therefore, conventional glass substrates (used on the TFT backside) must be replaced with flexible, transparent organic films. A common problem when using polymer films in these applications is that amorphous silicon thin film transistors (on glass in the display field) are typically processed at 300 ° C to 350 ° C. Such processing temperatures are generally too high for many plastics, including poly (ethylene terephthalate) and poly (ethylene naphthalate) (typically plastics having Tg of 70 ° C.-100 ° C. and about 120 ° C., respectively). In addition, to suppress leakage (loss of current which may make it impossible to store data on the pixel capacitor over display time) and to increase the flow of the TFT, higher processing temperatures (about 250 ° C to 275 ° C) Range) may be required. Low flow rates can typically limit the brightness of an OLED. As such, the colorless polyimide film may be an ideal substrate (ie, a material with Tg ≧ 280 ° C.). The same can be applied to the manufacture of LCD displays in that the temperature for processing the active TFT type can range from about 250 ° C to 275 ° C.

많은 광학전자 장치에서 투명 전도체는 필수적 성분이다. 이들 장치의 비제한적인 예를 들자면, 디스플레이, 터치 스크린 및 광기전력 장치 (예를 들어, 태양 전지)를 포함한다. 이들 유형 장치에서 인듐 주석 산화물 (ITO)을 전도체로서 사 용할 수 있다. 전도성 중합체, 임의로 카본 나노튜브를 전기 전도 매개로 포함하는 필름 복합물을 금속 산화물의 대체물로서 사용할 수 있다. 이와 같이, 이들 유형의 필름 복합물은 가요성 디스플레이의 사용에 적합할 수 있다. 산화아연 및 도핑된 산화아연 필름을 ITO 필름의 대체물로서 사용할 수 있는데, 이는 산화아연이 일반적으로 비독성이고, 염가이기 때문이다. 끝으로, 본원 발명의 필름을 카메라의 투명 보호 필터로서 사용할 수 있다. In many optoelectronic devices, transparent conductors are an essential component. Non-limiting examples of these devices include displays, touch screens, and photovoltaic devices (eg, solar cells). In these devices, indium tin oxide (ITO) can be used as a conductor. Film composites comprising conductive polymers, optionally carbon nanotubes, as an electrically conductive medium can be used as substitutes for metal oxides. As such, these types of film composites may be suitable for use in flexible displays. Zinc oxide and doped zinc oxide films can be used as replacements for ITO films because zinc oxide is generally nontoxic and inexpensive. Finally, the film of the present invention can be used as a transparent protective filter of a camera.

[실시예]EXAMPLE

본원 발명의 이점을 다음의 비제한적인 실시예에서 설명한다. 폴리이미드 필름의 제조 및 시험에 사용된 가공 및 시험 과정을 이하 설명한다. 각 실시예 및 비교예에서 두께 약 75 미크론 (~3.0 mils)의 것을 제조하였다. 만일 두께 25-미크론의 샘플을 제조하면, 본원 발명에 따르면, 광투과도는 90.0을 초과할 수 있다. 폴리아믹산 전구체 물질 (폴리이미드 필름을 제조하기 위한 전구체)을 최종 점도를 얻도록 평형화시킨다. The advantages of the present invention are illustrated in the following non-limiting examples. The processing and testing procedures used in the preparation and testing of the polyimide film are described below. In each of the Examples and Comparative Examples, about 75 microns (~ 3.0 mils) thick. If a sample of thickness 25-micron is prepared, according to the present invention, the light transmittance may exceed 90.0. The polyamic acid precursor material (precursor for making the polyimide film) is equilibrated to obtain the final viscosity.

본원 발명의 필름의 다른 필름 성질 및 상응하는 전구체 물질의 성질을 다음과 같이 측정하였다. 본원 발명의 폴리아믹산의 용액 점도를 약 20rpm의 속도로 작동하는 #5 스핀들을 장착한 브룩필드 HADV-II+ 비스코미터(Viscometer)로 측정하였다. 영 모듈러스, 인장 강도, 및 필름 신도를 인스트론 모델 1122 시리즈 IX 오토메이티드 머티리알즈 테스팅 시스템 (Automated Materials Testing System) 버젼 8.10.00을 사용하여 측정하였다. 100.0 lbf 부하 셀을 사용하여 크로스헤드 속력을 약 1.0 inch/min으로 설정하였다. 폴리이미드 필름의 치수는 각 테스트 스트립 에 대하여 두께 약 3.0 mil (약 150 미크론) 폭 0.5" (약 12.7 mm) 였다. 상기 장치는 1.0" 조 개구를 사용하였다. 시험 조건은 약 73℃ 및 약 50% 상대 습도에서 수행하였다. The other film properties of the films of the invention and the properties of the corresponding precursor materials were measured as follows. The solution viscosity of the polyamic acid of the present invention was measured with a Brookfield HADV-II + Viscometer equipped with a # 5 spindle operating at a speed of about 20 rpm. Young's modulus, tensile strength, and film elongation were measured using an Instron Model 1122 Series IX Automated Materials Testing System version 8.10.00. The crosshead speed was set to about 1.0 inch / min using a 100.0 lbf load cell. The dimensions of the polyimide film were about 3.0 mil (about 150 microns) thick 0.5 "(about 12.7 mm) thick for each test strip. The apparatus used a 1.0" jaw opening. Test conditions were performed at about 73 ° C. and about 50% relative humidity.

실시예 1Example 1

질소 유입, 기계식 교반기 및 온도계를 장착한 건조된 500 밀리리터 삼구 둥근 바닥 플라스크 내로, 38.43 g (0.12 moles)의 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB) 및 334 밀리리터의 N,N-디메틸아세트아미드 (DMAc)를 넣었다. 38.43 g (0.12 moles) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 334 milliliters of N, N into a dried 500 milliliter three-neck round bottom flask equipped with nitrogen inlet, mechanical stirrer and thermometer Dimethylacetamide (DMAc) was added.

이 혼합물을 가열하고 45℃에서 수분간 교반하여 상기 디아민이 완전히 용해하여 담황색 용액을 얻었다. 다음으로, 26.47 g (0.09 moles)의 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BPDA) 및 13.326 (0.03 moles)의 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈릭 안히드라이드 (6FDA)를 디아민 용액 (반응 용기 내)에 첨가하였다. 모든 고체가 용해될 때까지 교반을 계속하여 폴리아믹산 용액을 형성하였다. 이 용액을 따라붓고, 0℃에서 저장하여 필름 성형시에 사용하였다.The mixture was heated and stirred at 45 ° C. for several minutes to completely dissolve the diamine to give a pale yellow solution. Next, 26.47 g (0.09 moles) of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 13.326 (0.03 moles) of 4,4'-(hexafluoroisopropyl) Liden) diphthalic anhydride (6FDA) was added to the diamine solution (in the reaction vessel). Stirring was continued until all solids were dissolved to form a polyamic acid solution. The solution was poured and stored at 0 ° C. for use in film molding.

상기 폴리아믹산 (BPDA/6FDA//TFMB)으로부터 유래된 폴리이미드 필름을 촉매 용액의 사용함으로써 화학적으로 이미드화하였다. 상기 중합체를 듀퐁 마이라(DuPont MYLAR)®필름을 성형함으로써 상기 화학적으로 이미드화한 필름을 제조하였다. 상기 중합체 (및 지지체 시트)를 아세틱 안히드라이드 대 β-피콜린을 1:1 비로 포함하는 촉매 용액으로 침지하였다. 수분 이내에 (부분적 이미드화시), 겔 필름이 형성되었다. 이 겔 필름을 지지체 시트로부터 박리하고, 재신장 프레임 (restraining frame (핀 프레임))으로 옮겼다. The polyimide film derived from the polyamic acid (BPDA / 6FDA // TFMB) was chemically imidized by the use of a catalyst solution. The chemically imidized film was made by molding the polymer into a DuPont MYLAR® film. The polymer (and support sheet) was immersed in a catalyst solution comprising acetic anhydride to β-picolin in a 1: 1 ratio. Within minutes (when partially imidized), gel films formed. This gel film was peeled from the support sheet and transferred to a restraining frame (pin frame).

다음에, 강제식 공기 오븐을 사용하여 필름을 가열하여 추가로 중합체를 이미드화하고 용매를 제거하였다. 필름을 약 1/2 시간 동안 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃로 노출시켰다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 데이타를 표1에 나타냈다.The film was then heated using a forced air oven to further imidize the polymer and remove the solvent. The film was exposed to 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The data is shown in Table 1.

실시예 2Example 2

폴리아믹산을 실시예 1에 따라 제조하였다. 그러나, 일부로서 6FDA 안히드라이드를 사용하는 대신, 중합체는 단지 두개의 단량체, 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB) 및 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BPDA)로부터 유래된 것이다.Polyamic acid was prepared according to Example 1. However, instead of using 6FDA anhydride as part, the polymer only contains two monomers, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetra Derived from carboxylic dianhydride (BPDA).

질소 유입, 기계식 교반기, 및 온도계를 갖춘 건조된 500 밀리리터 둥근바닥 플라스크에, 16.181 g (0.055 moles)의 BPDA 및 17.163 g (0.055 moles)의 TFMB를 넣었다. 이 두 단량체를 131.68 밀리리터의 DMAc에 녹였다. 화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹산 용액을 형성하였다. 용액을 따라붓고, 0℃에서 저장하다가 필름 성형때 사용하였다.In a dried 500 milliliter round bottom flask equipped with nitrogen inlet, mechanical stirrer, and thermometer, 16.181 g (0.055 moles) of BPDA and 17.163 g (0.055 moles) of TFMB were added. Both monomers were dissolved in 131.68 milliliters of DMAc. A chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. The solution was poured, stored at 0 ° C. and used for film molding.

상기 제조된 폴리아믹산 (BPDA//TFMB)으로부터 유래된 폴리이미드 필름을 촉매 용액을 사용함으로써 화학적으로 이미드화하였다. 상기 중합체를 듀퐁 마이라 필름을 성형함으로써 상기 화학적으로 이미드화한 필름을 제조하였다. 상기 중합체 (및 지지체 시트)를 아세틱 안히드라이드 대 β-피콜린을 1:1 비로 포함하는 촉매 용액으로 침지하였다. 수분 이내에 (부분적 이미드화시), 겔 필름이 형성되었 다. 이 겔 필름을 지지체 시트로부터 박리하고, 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. The polyimide film derived from the polyamic acid (BPDA // TFMB) prepared above was chemically imidized by using a catalyst solution. The above chemically imidized film was prepared by molding the polymer in a DuPont Myra film. The polymer (and support sheet) was immersed in a catalyst solution comprising acetic anhydride to β-picolin in a 1: 1 ratio. Within minutes (partially imidized), a gel film formed. This gel film was peeled off from the support sheet and transferred to the re-extension frame (pin frame).

다음에, 강제식 공기 오븐을 사용하여 필름을 가열하여 추가로 중합체를 이미드화하고 용매를 제거하였다. 필름을 약 1/2 시간 동안 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃로 노출시켰다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 데이타를 표1에 나타냈다. The film was then heated using a forced air oven to further imidize the polymer and remove the solvent. The film was exposed to 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The data is shown in Table 1.

실시예 3Example 3

폴리아믹산을 실시예 1에 따라 제조하였다. 그러나, 일부로서 6FDA 안히드라이드를 사용하는 것 대신, 중합체는 세가지의 단량체, 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB), 3,5-디아미노벤조트리플루오리드 (DABTF) 및 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BPDA)로부터 유래된 것이다.Polyamic acid was prepared according to Example 1. However, instead of using 6FDA anhydride as part, the polymer may contain three monomers: 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB), 3,5-diaminobenzotrifluoride (DABTF) And 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA).

질소 유입, 기계식 교반기, 및 온도계를 갖춘 건조된 500 밀리리터 둥근바닥 플라스크에, 24.658 g (0.077 mole)의 TFMB 및 5.911 g (0.033 mole)의 3,5-디아미노벤조트리플루오리드 (DABTF)를 넣었다. 두 단량체를 252.6 밀리리터의 DMAc에 녹였다. 다음으로, 32.362g(0.11 mole)의 BPDA를 넣고 녹였다. 화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹산 용액을 형성하였다. 용액을 따라붓고, 0℃에서 저장하다가 필름 성형때 사용하였다.In a dried 500 milliliter round bottom flask equipped with nitrogen inlet, mechanical stirrer, and thermometer, 24.658 g (0.077 mole) of TFMB and 5.911 g (0.033 mole) of 3,5-diaminobenzotrifluoride (DABTF) were charged. . Both monomers were dissolved in 252.6 milliliters of DMAc. Next, 32.362 g (0.11 mole) of BPDA was added and dissolved. A chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. The solution was poured, stored at 0 ° C. and used for film molding.

상기 제조된 폴리아믹산 (BPDA//TFMB/DABTF)으로부터 유래된 폴리이미드 필름을 촉매 용액을 사용함으로써 화학적으로 이미드화하였다. 상기 중합체를 듀퐁 마이라 필름을 성형함으로써 상기 화학적으로 이미드화한 필름을 제조하였다. 상 기 중합체 (및 지지체 시트)를 아세틱 안히드라이드 대 β-피콜린을 1:1 비로 포함하는 촉매 용액으로 침지하였다. 수분 이내에 (부분적 이미드화시), 겔 필름이 형성되었다. 이 겔 필름을 지지체 시트로부터 박리하고, 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. The polyimide film derived from the polyamic acid (BPDA // TFMB / DABTF) prepared above was chemically imidized by using a catalyst solution. The above chemically imidized film was prepared by molding the polymer in a DuPont Myra film. The polymer (and support sheet) was immersed in a catalyst solution comprising acetic anhydride to β-picolin in a 1: 1 ratio. Within minutes (when partially imidized), gel films formed. This gel film was peeled off from the support sheet and transferred to the re-extension frame (pin frame).

다음에, 강제식 공기 오븐을 사용하여 필름을 가열하여 추가로 중합체를 이미드화하고 용매를 제거하였다. 필름을 약 1/2 시간 동안 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃로 노출시켰다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 데이타를 표1에 나타냈다. The film was then heated using a forced air oven to further imidize the polymer and remove the solvent. The film was exposed to 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The data is shown in Table 1.

실시예 4Example 4

폴리아믹산을 실시예 1에 따라 제조하였다. 그러나, 중합체는 세가지의 단량체, 세가지 단량체, 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB), 트랜스-1,4-디아미노시클로헥산 (CHDA), 및 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BPDA)로부터 유래된 것이다.Polyamic acid was prepared according to Example 1. However, the polymers include three monomers, three monomers, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB), trans-1,4-diaminocyclohexane (CHDA), and 3,3 ', 4, Derived from 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA).

질소 유입, 기계식 교반기, 및 온도계를 갖춘 건조된 500 밀리리터 둥근바닥 플라스크에, 12.52 g (0.04 mole)의 TFMB 및 0.79 g (0.007 mole)의 트랜스-1,4-디아미노시클로헥산 (CHDA)를 넣었다. 두 단량체를 DMAc 114밀리리터에 녹였다. 다음으로, 13.5 g (0.046 mole) BPDA를 넣고 녹였다. 화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹산 용액을 형성하였다. 용액을 따라붓고, 0℃에서 저장하다가 필름 성형때 사용하였다.In a dried 500 milliliter round bottom flask equipped with nitrogen inlet, mechanical stirrer, and thermometer, 12.52 g (0.04 mole) of TFMB and 0.79 g (0.007 mole) of trans-1,4-diaminocyclohexane (CHDA) were added. . Both monomers were dissolved in 114 milliliters of DMAc. Next, 13.5 g (0.046 mole) BPDA was added and dissolved. A chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. The solution was poured, stored at 0 ° C. and used for film molding.

상기 제조된 폴리아믹산 (BPDA//TFMB/CHDA)으로부터 유래된 폴리이미드 필름 을 촉매 용액을 사용함으로써 화학적으로 이미드화하였다. 상기 중합체를 듀퐁 마이라 필름을 성형함으로써 상기 화학적으로 이미드화한 필름을 제조하였다. 상기 중합체 (및 지지체 시트)를 아세틱 안히드라이드 대 β-피콜린을 1:1 비로 포함하는 촉매 용액으로 침지하였다. 수분 이내에 (부분적 이미드화시), 겔 필름이 형성되었다. 이 겔 필름을 지지체 시트로부터 박리하고, 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. The polyimide film derived from the polyamic acid (BPDA // TFMB / CHDA) prepared above was chemically imidized by using a catalyst solution. The above chemically imidized film was prepared by molding the polymer in a DuPont Myra film. The polymer (and support sheet) was immersed in a catalyst solution comprising acetic anhydride to β-picolin in a 1: 1 ratio. Within minutes (when partially imidized), gel films formed. This gel film was peeled off from the support sheet and transferred to the re-extension frame (pin frame).

다음에, 강제식 공기 오븐을 사용하여 필름을 가열하여 추가로 중합체를 이미드화하고 용매를 제거하였다. 필름을 약 1/2 시간 동안 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃로 노출시켰다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 데이타를 표1에 나타냈다. The film was then heated using a forced air oven to further imidize the polymer and remove the solvent. The film was exposed to 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The data is shown in Table 1.

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1에 따라 2,000-포아즈 점도의 폴리아믹산을 제조하였다. 상기 중합체를 열적 방법(즉, 촉매 화합물을 사용하지 않고)을 사용하여 성형하여 폴리이미드 필름으로 전환하였다. A polyamic acid of 2,000-poise viscosity was prepared according to Example 1. The polymer was molded using a thermal method (ie, without using a catalyst compound) to convert to a polyimide film.

폴리아믹산 용액을 316 스테인레스 스틸 판에 성형함으로써 폴리이미드필름을 제조하였다. 간극을 갖는 알루미늄 블레이드를 이용하여 폴리아믹산 용액을 펼쳤다. 최종 두께가 약 ~3.0 mil가 되도록 간극을 설정하였다. A polyimide film was prepared by molding a polyamic acid solution on a 316 stainless steel plate. The polyamic acid solution was spread using an aluminum blade with a gap. The gap was set so that the final thickness was about ˜3.0 mil.

다음에 습식 필름과 함께 스테인레스 스틸 판을 핫 플레이트 위에 두고 필름이 끈적함이 없을 때까지 또는 약 80℃까지 가열하였다. 다음에 건조된 필름을 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. 핀 프레임위에 둔 동안, 100℃, 150℃, 200 ℃ 및 300℃ 각각에 약 1/2 시간 동안 강제식 고온 공기를 사용하여 필름을 폴리이미드로 열적으로 전환하였다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 결과를 표 1에 나타냈다. A stainless steel plate was then placed along with the wet film on the hot plate and heated until the film was not sticky or to about 80 ° C. The dried film was then transferred to a re-extension frame (pin frame). While placed on the fin frame, the film was thermally converted to polyimide using forced hot air for about 1/2 hour at 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C., respectively. The film was removed from the pin frame and analyzed. The results are shown in Table 1.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 2 (BPDA//TFMB)에 따라 3,100-포아즈 점도의 폴리아믹산을 제조하였다. 상기 중합체를 열적 방법(즉, 촉매 화합물을 사용하지 않고)을 사용하여 성형하여 폴리이미드 필름으로 전환하였다. A polyamic acid of 3,100-poise viscosity was prepared according to Example 2 (BPDA // TFMB). The polymer was molded using a thermal method (ie, without using a catalyst compound) to convert to a polyimide film.

폴리아믹산 용액을 316 스테인레스 스틸 판에 성형함으로써 폴리이미드필름을 제조하였다. 간극을 갖는 알루미늄 블레이드를 이용하여 폴리아믹산 용액을 펼쳤다. 최종 두께가 약 ~3.0 mil가 되도록 간극을 설정하였다. A polyimide film was prepared by molding a polyamic acid solution on a 316 stainless steel plate. The polyamic acid solution was spread using an aluminum blade with a gap. The gap was set so that the final thickness was about ˜3.0 mil.

다음에 습식 필름과 함께 스테인레스 스틸 판을 핫 플레이트 위에 두고 필름이 끈적함이 없을 때까지 또는 약 80℃까지 가열하였다. 다음에 건조된 필름을 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. 핀 프레임위에 둔 동안, 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃ 각각에 약 1/2 시간 동안 강제식 고온 공기를 사용하여 필름을 폴리이미드로 열적으로 전환하였다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 결과를 표 1에 나타냈다. A stainless steel plate was then placed along with the wet film on the hot plate and heated until the film was not sticky or to about 80 ° C. The dried film was then transferred to a re-extension frame (pin frame). While placed on the fin frame, the film was thermally converted to polyimide using forced hot air at 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The results are shown in Table 1.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 2 (BPDA//TFMB/DABTF)에 따라 2,300-포아즈 점도의 폴리아믹산을 제조하였다. 상기 중합체를 열적 방법(즉, 촉매 화합물을 사용하지 않고)을 사용하여 성형하여 폴리이미드 필름으로 전환하였다. Polyamic acid of 2,300-poise viscosity was prepared according to Example 2 (BPDA // TFMB / DABTF). The polymer was molded using a thermal method (ie, without using a catalyst compound) to convert to a polyimide film.

폴리아믹산 용액을 316 스테인레스 스틸 판에 성형함으로써 폴리이미드필름을 제조하였다. 간극을 갖는 알루미늄 블레이드를 이용하여 폴리아믹산 용액을 펼쳤다. 최종 두께가 약 ~3.0 mil가 되도록 간극을 설정하였다. A polyimide film was prepared by molding a polyamic acid solution on a 316 stainless steel plate. The polyamic acid solution was spread using an aluminum blade with a gap. The gap was set so that the final thickness was about ˜3.0 mil.

다음에 습식 필름과 함께 스테인레스 스틸 판을 핫 플레이트 위에 두고 필름이 끈적함이 없을 때까지 또는 약 80℃까지 가열하였다. 다음에 건조된 필름을 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. 핀 프레임위에 둔 동안, 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃ 각각에 약 1/2 시간 동안 강제식 고온 공기를 사용하여 필름을 폴리이미드로 열적으로 전환하였다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 결과를 표 1에 나타냈다. A stainless steel plate was then placed along with the wet film on the hot plate and heated until the film was not sticky or to about 80 ° C. The dried film was then transferred to a re-extension frame (pin frame). While placed on the fin frame, the film was thermally converted to polyimide using forced hot air at 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The results are shown in Table 1.

비교예 4Comparative Example 4

폴리아믹산을 실시예 1에 따라 제조하였다. 그러나, 일부로 BPDA 안히드라이드를 사용하는 대신, 단지 6FDA를 사용하였다. 채용된 디아민은 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘 (TFMB)였다. Polyamic acid was prepared according to Example 1. However, instead of using BPDA anhydride as part, only 6FDA was used. The diamine employed was 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB).

질소 유입, 기계식 교반기, 및 온도계를 갖춘 건조된 500 밀리리터 둥근바닥 플라스크에, 16.012 g (0.05 moles)의 TFMB (이를 녹게 함) 및 22.21 g (0.05 mole)의 6FDA를 넣었다. 사용된 DMAc의 양은 148.93 밀리리터였다. 화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹산 용액을 형성하였다. 용액을 따라붓고, 0℃에서 저장하다가 필름 성형때 사용하였다. 화학 전환 화합물은 전혀 첨가하지 않았다.In a dried 500 milliliter round bottom flask equipped with nitrogen inlet, mechanical stirrer, and thermometer, 16.012 g (0.05 moles) of TFMB (to melt it) and 22.21 g (0.05 mole) of 6FDA were added. The amount of DMAc used was 148.93 milliliters. A chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. The solution was poured, stored at 0 ° C. and used for film molding. No chemical conversion compound was added.

폴리아믹산 용액을 316 스테인레스 스틸 판에 성형함으로써 폴리이미드필름을 제조하였다. 간극을 갖는 알루미늄 블레이드를 이용하여 폴리아믹산 용액을 펼 쳤다. 최종 두께가 약 ~3.0 mil가 되도록 간극을 설정하였다. A polyimide film was prepared by molding a polyamic acid solution on a 316 stainless steel plate. The polyamic acid solution was spread using an aluminum blade with a gap. The gap was set so that the final thickness was about ˜3.0 mil.

다음에 습식 필름과 함께 스테인레스 스틸 판을 핫 플레이트 위에 두고 필름이 끈적함이 없을 때까지 또는 약 80℃까지 가열하였다. 다음에 건조된 필름을 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. 핀 프레임위에 둔 동안, 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃ 각각에 약 1/2 시간 동안 강제식 고온 공기를 사용하여 필름을 폴리이미드로 열적으로 전환하였다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 결과를 표 1에 나타냈다. A stainless steel plate was then placed along with the wet film on the hot plate and heated until the film was not sticky or to about 80 ° C. The dried film was then transferred to a re-extension frame (pin frame). While placed on the fin frame, the film was thermally converted to polyimide using forced hot air at 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The results are shown in Table 1.

비교예 5Comparative Example 5

본원 발명의 비교예 4에서 기술된 동일한 방법과 조건으로, 22.065 g (0.075 mole) BPDA를 148.93 밀리리터 DMAc에 이미 녹인 3,3'-디아미노디페닐 술폰 18.622 g (0.075 mole)에 첨가하였다. 화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹산 용액을 형성하였다. 용액을 따라붓고, 0℃에서 저장하다가 필름 성형때 사용하였다. 화학 전환 화합물은 전혀 첨가하지 않았다.By the same methods and conditions described in Comparative Example 4 of the present invention, 22.065 g (0.075 mole) BPDA was added to 18.622 g (0.075 mole) of 3,3'-diaminodiphenyl sulfone already dissolved in 148.93 milliliters DMAc. A chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. The solution was poured, stored at 0 ° C. and used for film molding. No chemical conversion compound was added.

폴리아믹산 용액을 316 스테인레스 스틸 판에 성형함으로써 폴리이미드필름을 제조하였다. 간극을 갖는 알루미늄 블레이드를 이용하여 폴리아믹산 용액을 펼쳤다. 최종 두께가 약 ~3.0 mil가 되도록 간극을 설정하였다. A polyimide film was prepared by molding a polyamic acid solution on a 316 stainless steel plate. The polyamic acid solution was spread using an aluminum blade with a gap. The gap was set so that the final thickness was about ˜3.0 mil.

다음에 습식 필름과 함께 스테인레스 스틸 판을 핫 플레이트 위에 두고 필름이 끈적함이 없을 때까지 또는 약 80℃까지 가열하였다. 다음에 건조된 필름을 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. 핀 프레임위에 둔 동안, 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃ 각각에 약 1/2 시간 동안 강제식 고온 공기를 사용하여 필름을 폴리이 미드로 열적으로 전환하였다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 결과를 표 1에 나타냈다. A stainless steel plate was then placed along with the wet film on the hot plate and heated until the film was not sticky or to about 80 ° C. The dried film was then transferred to a re-extension frame (pin frame). While placed on the fin frame, the film was thermally converted to polyimide using forced hot air for about 1/2 hour at 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C., respectively. The film was removed from the pin frame and analyzed. The results are shown in Table 1.

비교예 6Comparative Example 6

본원 발명의 비교예 4에서 기술된 동일한 방법과 조건으로, 22.065 g (0.075 mole) BPDA를 148.93 밀리리터 DMAc에 이미 녹인 3,3'-디아미노디페닐 술폰 18.622 g (0.075 mole)에 첨가하였다. 화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹산 용액을 형성하였다. 용액을 따라붓고, 0℃에서 저장하다가 필름 성형때 사용하였다. 화학 전환 화합물은 전혀 첨가하지 않았다.By the same methods and conditions described in Comparative Example 4 of the present invention, 22.065 g (0.075 mole) BPDA was added to 18.622 g (0.075 mole) of 3,3'-diaminodiphenyl sulfone already dissolved in 148.93 milliliters DMAc. A chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. The solution was poured, stored at 0 ° C. and used for film molding. No chemical conversion compound was added.

폴리아믹산 용액을 316 스테인레스 스틸 판에 성형함으로써 폴리이미드필름을 제조하였다. 간극을 갖는 알루미늄 블레이드를 이용하여 폴리아믹산 용액을 펼쳤다. 최종 두께가 약 ~3.0 mil가 되도록 간극을 설정하였다. A polyimide film was prepared by molding a polyamic acid solution on a 316 stainless steel plate. The polyamic acid solution was spread using an aluminum blade with a gap. The gap was set so that the final thickness was about ˜3.0 mil.

다음에 습식 필름과 함께 스테인레스 스틸 판을 핫 플레이트 위에 두고 필름이 끈적함이 없을 때까지 또는 약 80℃까지 가열하였다. 다음에 건조된 필름을 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. 핀 프레임위에 둔 동안, 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃ 각각에 약 1/2 시간 동안 강제식 고온 공기를 사용하여 필름을 폴리이미드로 열적으로 전환하였다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 결과를 표 1에 나타냈다. A stainless steel plate was then placed along with the wet film on the hot plate and heated until the film was not sticky or to about 80 ° C. The dried film was then transferred to a re-extension frame (pin frame). While placed on the fin frame, the film was thermally converted to polyimide using forced hot air at 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The results are shown in Table 1.

비교예 7Comparative Example 7

실시예 1에 따라 (즉, 화학 전환 방법을 사용하여 필름을 이미드화함), 폴리이미드 필름을 제조하였다. 그러나 대신, 상기 중합체는 4가지 단량체, 2,2'-비스 (트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB), 3,4-옥시디아닐린 (3,4-ODA), 피로멜리틱 디안히드라이드 (PMDA) 및 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BPDA)로부터 유래된 것이다.According to Example 1 (ie, imidating the film using chemical conversion method), a polyimide film was prepared. Instead, however, the polymer contains four monomers, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB), 3,4-oxydianiline (3,4-ODA), pyromellitic dianhydride (PMDA). ) And 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA).

질소 유입, 기계식 교반기, 및 온도계를 갖춘 건조된 500 밀리리터 둥근바닥 플라스크에, 12.8 g (0.04 mole)의 TFMB 및 8.0 g (0.04 mole)의 3,4-옥시디아닐린 (3,4-ODA)를 넣었다. 이 두 단량체를 169 밀리리터의 DMAc에 녹였다. 다음으로, 14.0 g (0.046 mole)의 PMDA와 4.7g (0.16mole)의 BPDA를 첨가하고 녹였다. In a dried 500 milliliter round bottom flask equipped with nitrogen inlet, mechanical stirrer, and thermometer, 12.8 g (0.04 mole) of TFMB and 8.0 g (0.04 mole) of 3,4-oxydianiline (3,4-ODA) Put in. Both monomers were dissolved in 169 milliliters of DMAc. Next, 14.0 g (0.046 mole) of PMDA and 4.7 g (0.16 mole) of BPDA were added and dissolved.

화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹 산 용액을 형성하였다. 용액의 점도가 약 2,400 포아즈에 도달할 때까지, DMAc 중의 피로멜리틱 디안히드라이드 용액의 6.0 중량%의 소량을 폴리아믹산 용액에 첨가하였다. 용액을 따라붓고 필름 성형을 위하여 사용할 때까지 0℃에서 보관하였다. A chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. A small amount of 6.0% by weight of pyromellitic dianhydride solution in DMAc was added to the polyamic acid solution until the viscosity of the solution reached about 2,400 poise. The solution was poured and stored at 0 ° C. until used for film molding.

상기 제조된 폴리아믹산 (PMDA/BPDA/TFMB/3,4-ODA)으로부터 유래된 폴리이미드 필름을 촉매 용액을 사용함으로써 화학적으로 이미드화하였다. 상기 중합체를 듀퐁 마이라 필름을 성형함으로써 상기 화학적으로 이미드화한 필름을 제조하였다. 상기 중합체 (및 지지체 시트)를 아세틱 안히드라이드 대 β-피콜린을 1:1 비로 포함하는 촉매 용액으로 침지하였다. 수분 이내에 (부분적 이미드화시), 겔 필름이 형성되었다. 이 겔 필름을 지지체 시트로부터 박리하고, 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. The polyimide film derived from the polyamic acid (PMDA / BPDA / TFMB / 3,4-ODA) prepared above was chemically imidized by using a catalyst solution. The above chemically imidized film was prepared by molding the polymer in a DuPont Myra film. The polymer (and support sheet) was immersed in a catalyst solution comprising acetic anhydride to β-picolin in a 1: 1 ratio. Within minutes (when partially imidized), gel films formed. This gel film was peeled off from the support sheet and transferred to the re-extension frame (pin frame).

다음에, 강제식 공기 오븐을 사용하여 필름을 가열하여 추가로 중합체를 이미드화하고 용매를 제거하였다. 필름을 약 1/2 시간 동안 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃로 노출시켰다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 데이타를 표1에 나타냈다. The film was then heated using a forced air oven to further imidize the polymer and remove the solvent. The film was exposed to 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The data is shown in Table 1.

비교예 8Comparative Example 8

실시예 1에 따라 (즉, 화학 전환 방법을 사용하여 필름을 이미드화함), 폴리이미드 필름을 제조하였다. 그러나 대신, 상기 중합체는 4가지 단량체, 4,4-옥시디아닐린 (4,4-ODA), p-페닐렌 디아민 (PPD), 피로멜리틱 디안히드라이드 (PMDA) 및 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실릭 디안히드라이드 (BPDA)로부터 유래된 것이다.According to Example 1 (ie, imidating the film using chemical conversion method), a polyimide film was prepared. Instead, however, the polymer contains four monomers, 4,4-oxydianiline (4,4-ODA), p-phenylene diamine (PPD), pyromellitic dianhydride (PMDA) and 3,3 ', 4 Derived from, 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA).

질소 유입, 기계식 교반기, 및 온도계를 갖춘 건조된 500 밀리리터 둥근바닥 플라스크에, 38.4 g (0.192 mole)의 4,4-옥시디아닐린 (4,4-ODA) 및 31.1 g (0.288 mole)의 p-페닐렌 디아민 (PPD)를 넣었다. 이 두 단량체를 168 밀리리터의 DMAc에 녹였다. 다음으로, 60.0 g (0.275 mole) PMDA 및 56.5g (0.192 mole) BPDA 를 첨가하고 녹였다. In a dried 500 milliliter round bottom flask with nitrogen inlet, mechanical stirrer, and thermometer, 38.4 g (0.192 mole) of 4,4-oxydianiline (4,4-ODA) and 31.1 g (0.288 mole) of p- Phenylene diamine (PPD) was added. Both monomers were dissolved in 168 milliliters of DMAc. Next, 60.0 g (0.275 mole) PMDA and 56.5 g (0.192 mole) BPDA were added and dissolved.

화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹 산 용액을 형성하였다. 용액의 점도가 약 2,200 포아즈에 도달할 때까지, DMAc 중의 피로멜리틱 디안히드라이드 용액의 6.0 중량%의 소량을 폴리아믹산 용액에 첨가하였다. 용액을 따라붓고 필름 성형을 위하여 사용할 때까지 0℃에서 보관하였다. A chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. A small amount of 6.0% by weight of pyromellitic dianhydride solution in DMAc was added to the polyamic acid solution until the viscosity of the solution reached about 2,200 poise. The solution was poured and stored at 0 ° C. until used for film molding.

상기 제조된 폴리아믹산 (PMDA/BPDA//4,4-ODA/PPD)으로부터 유래된 폴리이미드 필름을 촉매 용액을 사용함으로써 화학적으로 이미드화하였다. 상기 중합체를 듀퐁 마이라 필름을 성형함으로써 상기 화학적으로 이미드화한 필름을 제조하였다. 상기 중합체 (및 지지체 시트)를 아세틱 안히드라이드 대 β-피콜린을 1:1 비로 포함하는 촉매 용액으로 침지하였다. 수분 이내에 (부분적 이미드화시), 겔 필름이 형성되었다. 이 겔 필름을 지지체 시트로부터 박리하고, 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. The polyimide film derived from the polyamic acid (PMDA / BPDA // 4,4-ODA / PPD) prepared above was chemically imidized by using a catalyst solution. The above chemically imidized film was prepared by molding the polymer in a DuPont Myra film. The polymer (and support sheet) was immersed in a catalyst solution comprising acetic anhydride to β-picolin in a 1: 1 ratio. Within minutes (when partially imidized), gel films formed. This gel film was peeled off from the support sheet and transferred to the re-extension frame (pin frame).

다음에, 강제식 공기 오븐을 사용하여 필름을 가열하여 추가로 중합체를 이미드화하고 용매를 제거하였다. 필름을 약 1/2 시간 동안 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃로 노출시켰다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 데이타를 표1에 나타냈다. The film was then heated using a forced air oven to further imidize the polymer and remove the solvent. The film was exposed to 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The data is shown in Table 1.

비교예 9Comparative Example 9

본원 발명의 비교예 4에서 기술된 동일한 방법과 조건으로(열적 전환), 22.8 (0.90 mole)의 2,2'-비스(트리플루오로메틸) 벤지딘 (TFMB)를 267 밀리리터 DMAc에 녹였다. 30.0g (0.675 mole) 6FDA 및 6.6g (0.0225mole) BPDA를 첨가하고, 화학 반응을 일어나게 하여 폴리아믹산 용액을 형성하였다. 용액을 따라붓고, 0℃에서 저장하다가 필름 성형때 사용하였다. By the same methods and conditions described in Comparative Example 4 of the present invention (thermal conversion), 22.8 (0.90 mole) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) was dissolved in 267 milliliters of DMAc. 30.0 g (0.675 mole) 6FDA and 6.6 g (0.0225 mole) BPDA were added and a chemical reaction occurred to form a polyamic acid solution. The solution was poured, stored at 0 ° C. and used for film molding.

폴리아믹산 용액을 316 스테인레스 스틸 판에 성형함으로써 폴리이미드필름을 제조하였다. 간극을 갖는 알루미늄 블레이드를 이용하여 폴리아믹산 용액을 펼쳤다. 최종 두께가 약 ~3.0 mil가 되도록 간극을 설정하였다. A polyimide film was prepared by molding a polyamic acid solution on a 316 stainless steel plate. The polyamic acid solution was spread using an aluminum blade with a gap. The gap was set so that the final thickness was about ˜3.0 mil.

다음에 습식 필름과 함께 스테인레스 스틸 판을 핫 플레이트 위에 두고 필름 이 끈적함이 없을 때까지 또는 약 80℃까지 가열하였다. 다음에 건조된 필름을 재신장 프레임(핀 프레임)으로 옮겼다. 핀 프레임위에 둔 동안, 100℃, 150℃, 200℃ 및 300℃ 각각에 약 1/2 시간 동안 강제식 고온 공기를 사용하여 필름을 폴리이미드로 열적으로 전환하였다. 필름을 핀 프레임으로부터 제거하고 분석하였다. 결과를 표 1에 나타냈다. The stainless steel plate was then placed together with the wet film on a hot plate and heated until the film was not sticky or to about 80 ° C. The dried film was then transferred to a re-extension frame (pin frame). While placed on the fin frame, the film was thermally converted to polyimide using forced hot air at 100 ° C., 150 ° C., 200 ° C. and 300 ° C. for about 1/2 hour. The film was removed from the pin frame and analyzed. The results are shown in Table 1.

Figure 112006055724823-PAT00003
Figure 112006055724823-PAT00003

본원에서와 같은 화학 전환 방법을 사용하면, (즉, 더 통상적인 열적 방법 대신에), 동일한 조성을 갖는 열적 방법을 사용하여 전환된 필름보다 더 바람직한 (i) 평면내 CTE, (ii) 유리 전이 온도, 및 (iii) 광투과도 계수를 갖는 필름이 형 성된다. 중합체 필름은 전형적으로, 무색을 유지하면서 높은 열 안정성을 보이기 때문에 가요성 디스플레이 등의 사용에 적합하다. Using chemical conversion methods such as herein (i.e., instead of more conventional thermal methods), (i) in-plane CTE, (ii) glass transition temperatures are more desirable than films converted using thermal methods having the same composition. , And (iii) a film having a light transmittance coefficient is formed. Polymeric films are typically suitable for use in flexible displays and the like because they exhibit high thermal stability while maintaining colorlessness.

Claims (13)

제1 디안히드라이드 성분 및 제1 디아민 성분을 접촉시킴으로써 얻어지는 하기 화학식으로 표현된 퍼플루오로-이미드 잔기(moiety)를 포함하는 폴리이미드를 포함하는 필름으로서,A film comprising a polyimide comprising a perfluoro-imide moiety represented by the following formula obtained by contacting a first dianhydride component and a first diamine component, 폴리이미드 필름의 평면내(in-plane) 열팽창계수 (CTE)는 -5, 0, 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18 및 20 ppm/℃에서 선택된 임의의 두 수치 사이의 열팽창계수이고(그 두 수치를 포함함),The in-plane coefficient of thermal expansion (CTE) of the polyimide film is any two values selected from -5, 0, 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18 and 20 ppm / ° C. Coefficient of thermal expansion between (including those two values), 상기 필름의 두께는 5, 10, 15, 20, 25, 50, 75, 100, 125, 150, 175 및 200 미크론에서 선택된 임의의 두 수치 사이의 두께이고 (그 두 수치를 포함함), The thickness of the film is the thickness between any two values selected from 5, 10, 15, 20, 25, 50, 75, 100, 125, 150, 175 and 200 microns (including those two values), 필름의 평균 광투과도율은, 필름을 380 내지 770 나노미터의 파장의 광으로 노출시, 65.0, 70.0, 75.0, 80.0, 85.0, 90.0, 95.0 및 99.0에서 선택된 임의의 두 수치 사이(그 두 수치를 포함함)의 광투과도율인 필름. The average light transmittance of the film is between any two values selected from 65.0, 70.0, 75.0, 80.0, 85.0, 90.0, 95.0 and 99.0 when the film is exposed to light at a wavelength of 380 to 770 nanometers (the two values being Film).
Figure 112006055724823-PAT00004
Figure 112006055724823-PAT00004
여기서, n은 반복되는 퍼플루오로-이미드 잔기의 수로서, n은 10 내지 100,000의 정수이고,Where n is the number of repeating perfluoro-imide residues, n is an integer from 10 to 100,000, 퍼플루오로-이미드 잔기는, 폴리이미드 필름 내의 이미드 잔기의 총 몰 기준으로, 100, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55 및 50 몰 퍼센트 중 선택된 어느 두 수치의 사이(그 두 수치를 포함함)의 몰 퍼센트로 존재한다.The perfluoro-imide moiety is any two selected values of 100, 95, 90, 85, 80, 75, 70, 65, 60, 55 and 50 mole percent based on the total moles of imide residues in the polyimide film. It is present in mole percent between (including those two values).
제1항에 있어서, 폴리이미드의 유리 전이 온도 (Tg)가 250, 275, 300, 325, 350, 375, 400, 425, 450, 475 및 500 ℃ 중에서 선택된 임의의 두 수치 사이의 온도(그 두 수치를 포함함)인 것인 필름.The method according to claim 1, wherein the glass transition temperature (Tg) of the polyimide is a temperature between any two values selected from 250, 275, 300, 325, 350, 375, 400, 425, 450, 475 and 500 ° C. Including numerical values). 제1항에 있어서, 상기 폴리이미드가 제2 디아민 성분으로부터 유래되고, 상기 제1 디아민 성분 및 제2 디아민 성분이 총 디아민 성분을 포함하고, 여기서 제2 디아민 성분이 폴리이미드와 반응되는 총 디아민 성분의 1, 3, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 및 50 몰 퍼센트 중에서 선택된 임의의 두 수치 사이(그 두 수치를 포함함)의 몰 퍼센트 값으로 폴리이미드와 반응되고, The total diamine component of claim 1, wherein the polyimide is derived from a second diamine component, wherein the first diamine component and the second diamine component comprise a total diamine component, wherein the second diamine component is reacted with the polyimide. Polyimide and mole percent value between any two values selected from among 1, 3, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, and 50 mole percent of Reacted, 제2 디아민 성분이 트랜스-1,4-디아미노시클로헥산; 디아미노시클로옥탄; 테트라메틸렌디아민; 헥사메틸렌디아민; 옥타메틸렌디아민; 도데카메틸렌-디아민; 아미노메틸시클로옥틸메탄아민; 아미노메틸시클로도데실메탄아민; 아미노메틸시클로헥실메탄아민; 3,5-디아미노벤조트리플루오리드; 2-(트리플루오로메틸)-1,4-페닐렌디아민; 5-(트리플루오로메틸)-1,3-페닐렌디아민; 1,3-디아미노-2,4,5,6-테트라플루오로벤젠; 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-헥사플루오로프로판; 2,2-비스(3-아미노페닐) 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판; 2,2'-비스-(4-아미노페닐)-헥사플루오로프로판 (6F 디아민); 3,3'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘; 4,4'-디아미노디페닐 술피드 (4,4'-DDS); 3,3'-디아미노디페닐 술폰 (3,3'-DDS); 4,4'-디아미노디페 닐 술폰; 및 4,4'-트리플루오로메틸-2,2'-디아미노비페닐로 이루어진 군에서 선택된 것인 필름.The second diamine component is trans-1,4-diaminocyclohexane; Diaminocyclooctane; Tetramethylenediamine; Hexamethylenediamine; Octamethylenediamine; Dodecamethylene-diamine; Aminomethylcyclooctylmethanamine; Aminomethylcyclododecylmethanamine; Aminomethylcyclohexylmethanamine; 3,5-diaminobenzotrifluoride; 2- (trifluoromethyl) -1,4-phenylenediamine; 5- (trifluoromethyl) -1,3-phenylenediamine; 1,3-diamino-2,4,5,6-tetrafluorobenzene; 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -hexafluoropropane; 2,2-bis (3-aminophenyl) 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane; 2,2'-bis- (4-aminophenyl) -hexafluoropropane (6F diamine); 3,3'-bis (trifluoromethyl) benzidine; 4,4'-diaminodiphenyl sulfide (4,4'-DDS); 3,3'-diaminodiphenyl sulfone (3,3'-DDS); 4,4'-diaminodiphenyl sulfone; And 4,4'-trifluoromethyl-2,2'-diaminobiphenyl. 제1항에 있어서, 폴리이미드가 또한 제2 디안히드라이드 성분으로부터 유래되고, 상기 제1 디안히드라이드 성분 및 제2 디안히드라이드 성분이 총 디안히드라이드 성분을 포함하고, 제2 디안히드라이드 성분이 총 디안히드라이드 성분의 1, 3, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, 및 50 몰 퍼센트 중에 선택된 임의의 두 수치 사이의 몰 퍼센트(두 수치를 포함함)로 폴리이미드 내로 혼입되고, The method of claim 1, wherein the polyimide is also derived from a second dianhydride component, wherein the first dianhydride component and the second dianhydride component comprise a total dianhydride component and a second dianhydride component. The molar percentage between any two values selected from among 1, 3, 5, 10, 15, 20, 25, 30, 35, 40, 45, and 50 mole percent of this total dianhydride component, including both values. Into the polyimide, 상기 제2 디안히드라이드 성분이 4,4'-옥시디프탈릭 안히드라이드 (ODPA); 4,4'-(4,4'-이소프로필리덴디페녹시)비스(프탈릭 안히드라이드) (BPADA); 2,3,3',4'-비페닐 테트라카르복실릭 디안히드라이드; 2,2',3,3'-비페닐 테트라카르복실릭 디안히드라이드; 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴) 디프탈릭 안히드라이드 (6FDA); 디페닐술폰테트라카르복실릭 디안히드라이드 (DSDA); 4,4'-비스페놀 A 디안히드라이드; 1,2,3,4 -시클로부탄테트라카르복실릭산 디안히드라이드; (-)-[1S*,5R*,6S*]-3-옥사비시클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온-6-스피로-3-(테트라히드로푸란-2,5-디온); 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실릭디안히드라이드; 및 9,9-이치환 크산텐 디안히드라이드로 이루어진 군에서 선택된 것인 필름.The second dianhydride component is 4,4′-oxydiphthalic anhydride (ODPA); 4,4 '-(4,4'-isopropylidenediphenoxy) bis (phthalic anhydride) (BPADA); 2,3,3 ', 4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride; 2,2 ', 3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride; 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA); Diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride (DSDA); 4,4'-bisphenol A dianhydride; 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride; (-)-[1S * , 5R * , 6S * ]-3-oxabicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione-6-spiro-3- (tetrahydrofuran-2,5-dione) ; Bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride; And 9,9-disubstituted xanthene dianhydride. 제1항에 있어서, 디칼슘 포스페이트, 이산화실리콘, 알루미나, 및 이산화티 타늄으로 이루어진 군에서 선택되는 충전재를 추가로 포함하는 것인 중합체 필름.The polymer film of claim 1, further comprising a filler selected from the group consisting of dicalcium phosphate, silicon dioxide, alumina, and titanium dioxide. 제1항에 기재된 필름 및 인듐 주석 산화물 층이 인접한, 제1항에 기재된 필름 및 인듐 주석 산화물 층을 포함하는 라미네이트. A laminate comprising the film of claim 1 and an indium tin oxide layer, wherein the film of claim 1 and the indium tin oxide layer are adjacent. 제6항에 있어서, 상기 라미네이트가 인듐 주석 산화물 침착 과정을 이용하여 형성되는 것인 라미네이트.7. The laminate of claim 6, wherein the laminate is formed using an indium tin oxide deposition process. 제1항에 기재된 필름 및 패시베이션 배리어 층을 포함하는 라미네이트로서, 제1항에 기재된 필름 및 패시베이션 배리어층이 인접하고 패시베이션 배리어층이 필름의 편면 또는 양면에 존재하는 것인 라미네이트. A laminate comprising the film of claim 1 and a passivation barrier layer, wherein the film of claim 1 and the passivation barrier layer are adjacent and the passivation barrier layer is present on one or both sides of the film. 제8항에 있어서, 상기 패시베이션 배리어층이 산소 패시베이션 층, 증기 패시베이션 배리어층 또는 이들 양자 모두인 것인 라미네이트.The laminate of claim 8, wherein the passivation barrier layer is an oxygen passivation layer, a vapor passivation barrier layer, or both. 제8항에 있어서, 상기 패시베이션 배리어층이 화학식 SiOx 또는 SiNx (X가 2, 3 또는 4 중의 하나임)을 갖는 물질을 포함하는 것인 라미네이트.The laminate of claim 8, wherein the passivation barrier layer comprises a material having the formula SiO x or SiN x (where X is one of 2, 3 or 4). 제8항에 있어서, 상기 패시베이션 배리어층이 Al2O3 를 임의적으로 SiOx 또는 SiNx (X가 2, 3 또는 4 중의 하나임)과 함께 포함하는 것인 라미네이트.The laminate of claim 8, wherein the passivation barrier layer optionally comprises Al 2 O 3 together with SiO x or SiN x (where X is one of 2, 3 or 4). 제8항에 있어서, 상기 패시베이션 배리어층이 원자 증착 과정을 이용하여 필름에 도포되는 것인 라미네이트.The laminate of claim 8, wherein the passivation barrier layer is applied to the film using an atomic deposition process. 제1항에 기재된 필름 및 전도체층을 포함하는 라미네이트로서, 상기 전도체층이 전기적으로 도전성인 입자가 속에 분산된 중합체를 포함하고, 상기 전기 도전성 입자가 탄소 나노튜브, 탄소 분말, 인듐 주석 산화물 및 아연-기판 산화물을 포함하는 군에서 선택되는 것인 라미네이트.A laminate comprising the film of claim 1 and a conductor layer, wherein the conductor layer comprises a polymer in which electrically conductive particles are dispersed, wherein the electrically conductive particles are carbon nanotubes, carbon powder, indium tin oxide and zinc. A laminate selected from the group comprising substrate oxides.
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