KR20140105540A - Phthalocyanine nano-size structures, and electronic elements using said nano-size structures - Google Patents
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Abstract
저비용의 웨트 프로세스에 의해, 전자 소자를 제조하는 것이 가능한 유기 반도체 재료의 제공을 도모하는 것이다. 또한, 깨지기 어렵고 경량, 저렴, 및 고특성의 유기 반도체 전자 소자를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명에 의해 프탈로시아닌 나노사이즈 구조체를 구성하는, 프탈로시아닌 유도체를 최적화함으로써, 성능이 향상한 웨트 프로세스에 호적한 유기 반도체 재료를 제공할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 또한, 당해 유기 반도체 재료를 전자 소자 활성부(반도체층)에 사용하는 것에 의해, 내구성이 뛰어나고, 또한, 깨지기 어렵고 경량, 저렴, 및 고특성의 전자 소자를 제공할 수 있다.And to provide an organic semiconductor material capable of producing an electronic device by a low-cost wet process. It is also an object of the present invention to provide an organic semiconductor electronic device which is difficult to break, lightweight, inexpensive, and high in characteristics.
It has been found by the present invention that an organic semiconducting material favorable to a wet process having improved performance can be provided by optimizing a phthalocyanine derivative constituting the phthalocyanine nano-sized structure, thereby completing the present invention. Further, by using the organic semiconductor material for the electronic device active portion (semiconductor layer), it is possible to provide an electronic device excellent in durability, hard to break, light in weight, inexpensive, and high in characteristics.
Description
본 발명은, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물, 당해 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 잉크 조성물, 당해 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 전자 소자, 당해 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 채널부에 함유하는 트랜지스터, 및 양극과 음극 사이에 당해 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 광전변환 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an electronic device comprising a phthalocyanine nano size structure, an ink composition containing the phthalocyanine nano size structure, an electronic device containing the phthalocyanine nano size structure, a transistor containing the phthalocyanine nano size structure in the channel portion, And a photoelectric conversion element containing the phthalocyanine nano size structure.
최근, 누구나 어떠한 장소에 있어서도 사용할 수 있는 「깨지기 어렵고 경량이며 저렴한 정보 단말」이 요구되고 있다. 이 실현에는, 정보 단말의 키디바이스(최중요 소자)인 트랜지스터에, 비용 메리트가 있는 소프트한 재료의 사용이 요구된다. 그러나, 종래 사용되고 있는 실리콘 등의 무기 재료는, 이러한 요망에 충분히 부응할 수 없다.In recent years, there has been a demand for a " fragile, lightweight and inexpensive information terminal " that anyone can use at any place. In this realization, it is required to use a soft material having a cost merit in the transistor which is the key device (the most important element) of the information terminal. However, conventionally used inorganic materials such as silicon can not sufficiently meet such demands.
이러한 상황에 의해, 트랜지스터의 활성부(반도체층)에 반도체 특성을 갖는 유기 화합물(유기 반도체)을 사용한 「유기 트랜지스터(OFET)」가 주목을 모으고 있다(비특허문헌 1 참조). 이러한 유기 반도체는, 유연하게 저온 처리가 가능하며, 또한, 일반적으로 용매와의 친화성이 높다. 이 때문에, 플렉서블한 플라스틱 기판 상에, 도포나 인쇄 등의 웨트 프로세스를 사용하여 저가격으로 반도체층을 제조(제막)할 수 있다는 메리트가 있어, 「깨지기 어렵고 경량이며 저렴한 정보 단말」의 실현에는 빠뜨릴 수 없는 차세대 전자 소자용 재료로서 기대되고 있다.In this situation, "organic transistor (OFET)" which uses an organic compound (organic semiconductor) having a semiconductor characteristic for an active portion (semiconductor layer) of a transistor is attracting attention (see Non-Patent Document 1). Such organic semiconductors are capable of being subjected to low-temperature treatment flexibly and also have high affinity with solvents in general. Therefore, there is merit that a semiconductor layer can be manufactured (film-formed) at a low cost by using a wet process such as coating or printing on a flexible plastic substrate, which is indispensable for realization of "a fragile, lightweight and inexpensive information terminal" Is expected as a material for next-generation electronic devices.
프탈로시아닌류는 대표적인 유기 반도체의 하나이며, 고차 구조, 즉, 분자의 배열이나 집합 상태를 제어함으로써 양호한 트랜지스터 특성을 나타내는 것이 알려져 있다(비특허문헌 2 참조). 그러나, 프탈로시아닌류는, 용매 용해성이 낮기 때문에, 웨트 프로세스에 의한 소자 제작이 곤란하며, 전자 소자에 제공할 때에는, 일반적으로, 진공 증착이나 스퍼터링 등의 드라이 프로세스가 사용되고 있다. 이러한 드라이 프로세스는 번잡·고가인 프로세스이므로, 유기 반도체의 특징의 하나인 저가격 전자 소자의 제공이 곤란해진다.Phthalocyanines are one of typical organic semiconductors and it is known that phthalocyanines exhibit good transistor characteristics by controlling a higher order structure, that is, the arrangement and aggregation state of molecules (see Non-Patent Document 2). However, since phthalocyanine derivatives have low solubility in solvents, it is difficult to manufacture devices by a wet process, and dry processes such as vacuum evaporation and sputtering are generally used when they are provided to electronic devices. Since such a dry process is a complicated and expensive process, it becomes difficult to provide a low-cost electronic device, which is one of the characteristics of organic semiconductors.
이 문제를 해결하기 위해서, 프탈로시아닌류에 가용성 치환기를 도입하고, 용매 용해성을 높임으로써, 웨트 프로세스에 의한 트랜지스터 제작을 행하는 기술도 개시되어 있다(특허문헌 1 참조). 그러나, 이 방법에서는, 프탈로시아닌류의 각 분자는 충분히 배열하지 않고, 고차 구조를 제어할 수 없기 때문에, 드라이 프로세스에 따른 것과 비교하면 트랜지스터 특성이 뒤떨어진다. 양호한 반도체 특성을 나타내기 위해서는, 각 분자가, 일정 방향으로 배열한 차원성이 있는 결정 구조를 갖고 있는 것이 중요하며, 따라서, 와이어 또는 로드상의 1차원 결정성 구조물(장경(장축)과 단경(단축)을 갖는 결정성 구조물)에 기대가 모아지고 있다.To solve this problem, there is disclosed a technique of manufacturing a transistor by a wet process by introducing a soluble substituent into the phthalocyanines and increasing solvent solubility (see Patent Document 1). However, in this method, since each molecule of the phthalocyanine species is not sufficiently arranged and the higher order structure can not be controlled, the transistor characteristics are inferior to those according to the dry process. In order to exhibit good semiconductor properties, it is important that each molecule has a crystal structure having dimensionality arranged in a certain direction. Therefore, it is important that a one-dimensional crystalline structure (long axis and long axis) ) Have come to expect.
한편, 웨트 프로세스를 상정한 전자 소자에 보다 호적하게 전개하기 위해서는, 당해 1차원 결정성 구조물은, 단경이 500㎚ 이하의 1차원 결정성 구조물(이하, 나노사이즈 1차원 구조물로 표기함)인 것이 바람직하다.On the other hand, in order to develop more favorably on an electronic device assuming a wet process, the one-dimensional crystalline structure is a one-dimensional crystalline structure having a short diameter of 500 nm or less (hereinafter referred to as a nano-sized one-dimensional structure) desirable.
프탈로시아닌류는, 인쇄 잉크의 도료용 착색제로서 널리 사용되고 있어, 그 결정 사이즈나 형상을 제어하는 기술도 많이 알려져 있다. 예를 들면, 금속 프탈로시아닌에 무기염과 유기 용매를 섞어서 마쇄 장치에 의해 안료를 미세하게 부수어서 미립자화하는 솔벤트솔트밀링법(예를 들면, 특허문헌 2 참조)이나, 당해 금속 프탈로시아닌을 황산에 용해시킨 후에 대량의 수중에서 침전시키는 정석법(예를 들면, 특허문헌 3 참조) 등이다. 그러나, 이들의 방법을 사용해도, 프탈로시아닌류로 이루어지는, 상기한 바와 같은 나노사이즈 구조물을 얻을 수는 없었다.Phthalocyanines are widely used as colorants for paints of printing inks, and many techniques for controlling their crystal sizes and shapes are well known. For example, there are a solvent salt milling method (see, for example, Patent Document 2) in which an inorganic salt and an organic solvent are mixed with a metal phthalocyanine to finely break the pigment into fine particles by a crusher (see, for example, Patent Document 2), and a method of dissolving the metal phthalocyanine in sulfuric acid And then precipitating in a large amount of water (see, for example, Patent Document 3). However, even using these methods, it was impossible to obtain a nano-sized structure comprising the phthalocyanine species as described above.
한편 이미, 본 발명자들은, 무치환 프탈로시아닌과 치환기를 갖는 프탈로시아닌을 사용하여 프탈로시아닌 나노와이어를 제조하고, 당해 프탈로시아닌 나노와이어를 사용한 웨트 프로세스에 의한 소자 제조 기술을 개시하고 있다(특허문헌 4, 5 및 6 참조). 그러나, 당해 프탈로시아닌 나노와이어는 성능면에서, 완전히 최적화되어 있다고는 말하기 어렵다.On the other hand, the present inventors have already disclosed a technology for producing a device by a wet process using a phthalocyanine nanowire using an unsubstituted phthalocyanine and a substituent-containing phthalocyanine (
본 발명은 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 저비용의 웨트 프로세스에 의해, 전자 소자를 제조하는 것이 가능한 유기 반도체 재료의 제공을 도모하는 것이다. 또한, 깨지기 어렵고 경량, 저렴, 및 고특성의 유기 반도체 전자 소자의 제공을 도모하는 것이다.The present invention has been made in view of the above problems and aims to provide an organic semiconductor material capable of producing an electronic device by a low-cost wet process. In addition, it is intended to provide an organic semiconductor electronic device which is difficult to break, lightweight, inexpensive, and high in characteristics.
본 발명자는 상기 목적을 달성하기 위해, 예의 검토한 결과, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조체를 구성하는, 프탈로시아닌 유도체를 최적화함으로써, 성능이 향상한 웨트 프로세스에 호적한 유기 반도체 재료를 제공할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 또한, 당해 유기 반도체 재료를 전자 소자 활성부(반도체층)에 사용하는 것에 의해, 내구성이 뛰어나고, 또한, 깨지기 어렵고 경량, 저렴, 및 고특성의 전자 소자를 제공할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.In order to achieve the above object, the inventors of the present invention have conducted intensive studies and found out that by optimizing a phthalocyanine derivative constituting a phthalocyanine nano-size structure, an organic semiconductor material favorable to a wet process having improved performance can be provided, The present invention has been completed. Further, by using the organic semiconductor material for an electronic device active portion (semiconductor layer), it has been found that an electronic device excellent in durability, less fragile, light in weight, inexpensive, and high in characteristics can be provided, .
즉, 본 발명은,That is,
무치환 프탈로시아닌 및 치환기를 갖는 프탈로시아닌을 함유하는 나노사이즈 구조물이며,A nano-sized structure containing an unsubstituted phthalocyanine and a phthalocyanine having a substituent,
구조물의 형상이, 장경과 단경을 갖고, 그 단경이 500㎚ 이하이며,The shape of the structure has a long diameter and a short diameter, a short diameter is 500 nm or less,
무치환 프탈로시아닌이, 일반식(1) 또는 (2)로 표시되는 것이며,Wherein the unsubstituted phthalocyanine is represented by the general formula (1) or (2)
(단, 식 중, X는, 구리 원자, 아연 원자, 코발트 원자, 니켈 원자, 주석 원자, 납 원자, 마그네슘 원자, 철 원자, 팔라듐 원자, 칼슘 원자, GeO, TiO, VO 및 AlCl로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나이다)X is a group selected from the group consisting of a copper atom, a zinc atom, a cobalt atom, a nickel atom, a tin atom, a lead atom, a magnesium atom, an iron atom, a palladium atom, a calcium atom, GeO, TiO, VO, and AlCl Which is selected)
치환기를 갖는 프탈로시아닌이, 일반식(3) 또는 (4)로 표시되는 것인 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물.A phthalocyanine nano-sized structure wherein the phthalocyanine having a substituent is represented by the general formula (3) or (4).
(단, 식 중, X는, 구리 원자, 아연 원자, 코발트 원자, 니켈 원자, 주석 원자, 납 원자, 마그네슘 원자, 철 원자, 팔라듐 원자, 칼슘 원자, GeO, TiO, VO 및 AlCl로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나이며,X is a group selected from the group consisting of a copper atom, a zinc atom, a cobalt atom, a nickel atom, a tin atom, a lead atom, a magnesium atom, an iron atom, a palladium atom, a calcium atom, GeO, TiO, VO, and AlCl Which is selected,
프탈로시아닌 골격의 벤젠환에 있는 각 수소 원자는 불소, 염소, 브롬으로 치환되어 있어도 되며, Z1∼Z8은, 각각 독립으로, 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼30의 비환상 탄화수소기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼30의 환상 탄화수소기, 치환기를 가져도 되는 헤테로아릴기이며, a, b, c, 및 d는 각각 독립으로 0∼4의 정수를 나타내지만 적어도 1개는 0이 아니며, Z1∼Z8이 일반식(5), 또는 (6)인 경우, 및 모두 수소 원자인 경우를 제외한다.Each hydrogen atom in the benzene ring of the phthalocyanine skeleton may be substituted with fluorine, chlorine, bromine, and Z 1 to Z 8 each independently represent a hydrogen atom, a noncyclic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent , A, b, c, and d each independently represent an integer of 0 to 4, provided that at least one of them is a divalent linking group selected from the group consisting of 0 , And when Z 1 to Z 8 are the general formula (5) or (6), and both are hydrogen atoms.
(여기에서, q는 4∼100의 정수이며, Q는 각각 독립으로 수소 원자 또는 메틸기이며, Q'는 탄소수 1∼30의 비환상 탄화수소기이다))(Wherein q is an integer of 4 to 100, each Q is independently a hydrogen atom or a methyl group, and Q 'is a non-cyclic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms)
(여기에서, m은 1∼20의 정수이며, R 및 R'는, 각각 독립으로 탄소수 1∼20의 알킬기이다))(Wherein m is an integer of 1 to 20, and R and R 'each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms)
을 제공하는 것이다..
본 발명에 의하면, 본 발명에 의한 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물은, 내구성이 풍부한 프탈로시아닌류로 구성되기 때문에, 고수명의 전자 소자를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물은, 공지의 프탈로시아닌 안료 미립자보다 용매 분산성이 뛰어나기 때문에, 잉크 조성물을 형성하는 것이 용이해지고, 따라서 플렉서블한 플라스틱 기판 상 등에 인쇄 제법으로 반도체층을 형성하는 것이 가능해지고, 깨지기 어렵고 경량이며 저렴한 전자 소자를 제공할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물은, 공지의 프탈로시아닌 안료 미립자보다도, 구조물 전체에 걸쳐서의 프탈로시아닌 분자의 배열 제어성이 높기 때문에, 반도체 특성의 향상이 도모된다. 또한, 본 발명에 의한 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물은, [특허문헌 4], [특허문헌 5] 및 [특허문헌 6]에 기재된 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물(나노와이어)보다, 나노사이즈 구조물을 구성하고 있는 프탈로시아닌 유도체가 최적화되어 있기 때문에, 반도체 특성이 향상하고, 그 결과, 전하 이동도(이하, 단순히 이동도로 표기)가 향상한 전자 소자를 제공할 수 있다.According to the present invention, since the phthalocyanine nano-sized structure according to the present invention is composed of phthalocyanine species rich in durability, a high number of electronic devices can be provided. Further, since the phthalocyanine nano-sized structure according to the present invention has better solvent dispersibility than the known phthalocyanine pigment microparticles, it is easy to form an ink composition, and thus a semiconductor layer is formed on a flexible plastic substrate by printing And it is possible to provide an electronic device that is difficult to break, lightweight, and inexpensive. In addition, the phthalocyanine nano-sized structure according to the present invention has higher controllability of the arrangement of phthalocyanine molecules throughout the structure than that of known phthalocyanine pigment microparticles, so that the semiconductor characteristics can be improved. The phthalocyanine nano-sized structure according to the present invention is a phthalocyanine nano-sized structure (nanowire) described in [Patent Document 4], [Patent Document 5] and [Patent Document 6] It is possible to provide an electronic device in which the semiconductor characteristics are improved and, as a result, the charge mobility (hereinafter simply referred to as a moving road mark) is improved.
도 1은 본 발명에 의한 광전변환 소자의 모식 단면도.
도 2는 본 발명에 의한 광전변환 소자의 모식 단면도.
도 3은 본 발명에 의한 트랜지스터의 모식 단면도.
도 4는 본 발명에 의한 트랜지스터를 포함하는 트랜지스터 어레이의 개략 평면 등가회로도.
도 5는 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(1) 중 고형분의 투과형 전자현미경상.
도 6은 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(2) 중 고형분의 투과형 전자현미경상.
도 7은 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(3) 중 고형분의 투과형 전자현미경상.
도 8은 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(4) 중 고형분의 투과형 전자현미경상.1 is a schematic cross-sectional view of a photoelectric conversion element according to the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a photoelectric conversion element according to the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of a transistor according to the present invention.
4 is a schematic plan view equivalent circuit diagram of a transistor array including a transistor according to the present invention.
5 is a graph showing the transmission electron microscopic image of the solid content in the dispersion (1) of the phthalocyanine nano size structure.
6 is a graph showing the transmission electron microscopic image of the solid content in the dispersion (2) of the phthalocyanine nano size structure.
FIG. 7 shows the transmission electron microscope image of the solid content in the dispersion (3) of the phthalocyanine nano size structure.
8 is a graph showing the transmission electron microscopic image of the solid content in the dispersion liquid (4) of the phthalocyanine nano size structure.
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물>≪ Phthalocyanine nano size structure >
이하, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물에 대하여 설명한다.Hereinafter, the phthalocyanine nano size structure of the present invention will be described.
본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물은, 장경(장축)과 단경(단축)을 갖는 1차원성(와이어상, 파이버상, 실상, 침상, 로드상 등의 선상) 구조물이며, 그 단경은 500㎚ 이하, 더 바람직하게는 300㎚ 이하, 가장 바람직하게는 100㎚ 이하이며, 무치환 프탈로시아닌과 치환기를 갖는 프탈로시아닌(프탈로시아닌 유도체)을 구조물 구성 재료로서 포함하는 것이다. 또, 장경에 대해서는, (장경/단경)>1이면(장경/단경이 1보다 크면), 특히 제한은 없다. 또한, 무치환 프탈로시아닌과 치환기를 갖는 프탈로시아닌의 혼합비는, 치환기를 갖는 프탈로시아닌의 무치환 프탈로시아닌에 대한 혼합비([치환기를 갖는 프탈로시아닌의 질량×100]/[무치환 프탈로시아닌의 질량])가 1∼200질량%의 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는 1∼120질량%이다(후기).The phthalocyanine nano-sized structure of the present invention is a one-dimensional structure (wire-like, fiber-like, real, needle-like, rod-like or the like) structure having a long diameter and a short diameter (short axis) More preferably 300 nm or less, and most preferably 100 nm or less, and contains a phthalocyanine (phthalocyanine derivative) having an unsubstituted phthalocyanine and a substituent as structural constituent materials. As for the long diameter, there is no particular limitation if (long diameter / short diameter)> 1 (long diameter / short diameter is larger than 1). The mixing ratio of the unsubstituted phthalocyanine to the phthalocyanine having a substituent is preferably from 1 to 200 mass% (mass of phthalocyanine having a substituent x 100 / mass of unsubstituted phthalocyanine) relative to an unsubstituted phthalocyanine having a substituent %, More preferably from 1 to 120% by mass (later).
본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 구성하는 무치환 프탈로시아닌으로서는, 일반식(1)으로 표시되는 프탈로시아닌, 및 식(2)으로 표시되는 무금속 프탈로시아닌을 들 수 있다.Examples of the unsubstituted phthalocyanine constituting the phthalocyanine nano size structure of the present invention include the phthalocyanine represented by the general formula (1) and the nonmetal phthalocyanine represented by the general formula (2).
일반식(1)에 있어서, X로서는, 프탈로시아닌을 구성하는 것이면 제한은 없지만, 구리 원자, 아연 원자, 코발트 원자, 니켈 원자, 주석 원자, 납 원자, 마그네슘 원자, 철 원자, 팔라듐 원자, 칼슘 원자 등의 금속 원자, 또한, GeO, TiO(티타닐), VO(바나딜), AlCl(염화알루미늄) 등의 금속 산화물이나 금속 할로겐화물을 들 수 있고, 그 중에서도 구리 원자, 아연 원자, 철 원자가 특히 바람직하다.In the general formula (1), X is not particularly limited as long as it forms phthalocyanine, and examples thereof include copper, zinc, cobalt, nickel, tin, lead, magnesium, iron, palladium, Metal oxides and metal halides such as GeO, TiO (titanyl), VO (vanadyl), and AlCl (aluminum chloride), among which copper atoms, zinc atoms and iron atoms are particularly preferable Do.
본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 특징은, 치환기를 갖는 프탈로시아닌에, 하기 일반식(3) 또는 (4)로 표시되는, 프탈로시아닌 골격의 수소 원자가 설파모일기(-SO2NZZ')로 치환된 프탈로시아닌 유도체(설파모일기 치환 프탈로시아닌)를 사용하는 것에 있다.A feature of the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention is that the phthalocyanine having a substituent is a phthalocyanine represented by the following general formula (3) or (4) wherein the hydrogen atom of the phthalocyanine skeleton is substituted with a sulfamoyl group (-SO 2 NZZ ' Derivative (sulfamoyl group substituted phthalocyanine).
단, 일반식(3) 또는 (4)에 있어서, 식 중, X는, 구리 원자, 아연 원자, 코발트 원자, 니켈 원자, 주석 원자, 납 원자, 마그네슘 원자, 철 원자, 팔라듐 원자, 칼슘 원자, GeO, TiO, VO 및 AlCl로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나이며,In the formula (3) or (4), X is at least one element selected from the group consisting of copper atom, zinc atom, cobalt atom, nickel atom, tin atom, lead atom, magnesium atom, iron atom, GeO, TiO, VO, and AlCl,
프탈로시아닌 골격의 벤젠환에 있는 각 수소 원자는 불소, 염소, 브롬으로 치환되어 있어도 되며, Z1∼Z8은, 각각 독립으로, 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼30의 비환상 탄화수소기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼30의 환상 탄화수소기, 치환기를 가져도 되는 헤테로아릴기이며, a, b, c, 및 d는 각각 독립으로 0∼4의 정수를 나타내지만 적어도 1개는 0이 아니며, Z1∼Z8이 일반식(5), 또는 (6)인 경우, 및 모두 수소 원자인 경우를 제외한다.Each hydrogen atom in the benzene ring of the phthalocyanine skeleton may be substituted with fluorine, chlorine, bromine, and Z 1 to Z 8 each independently represent a hydrogen atom, a noncyclic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent , A, b, c, and d each independently represent an integer of 0 to 4, provided that at least one of them is a divalent linking group selected from the group consisting of 0 , And when Z 1 to Z 8 are the general formula (5) or (6), and both are hydrogen atoms.
(여기에서, q는 4∼100의 정수이며, Q는 각각 독립으로 수소 원자 또는 메틸기이며, Q'는 탄소수 1∼30의 비환상 탄화수소기이다)(Wherein q is an integer of 4 to 100, each Q is independently a hydrogen atom or a methyl group, and Q 'is a non-cyclic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms)
(여기에서, m은 1∼20의 정수이며, R 및 R'는, 각각 독립으로 탄소수 1∼20의 알킬기이다)(Wherein m is an integer of 1 to 20, and R and R 'are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms)
상기 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼30의 비환상 탄화수소기로서는, 직쇄상 탄화수소기여도 분기상 탄화수소기여도 어느 쪽이어도 되며, 탄화수소기는, 포화 탄화수소기여도 불포화 탄화수소기의 어느 쪽이어도 된다. 이러한 비환상 탄화수소기로서, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 1-펜틸기, 2-펜틸기, 3-펜틸기, 1-(2-메틸)-부틸기, 2-(2-메틸)-부틸기, 1-(3-메틸)-부틸기, 2-(3-메틸)-부틸기, (2,2-디메틸)-프로필기(별명 : 네오펜틸기), 헥실기, n-헥실기, 헵틸기, n-헵틸기, 옥틸기, n-옥틸기, 2-에틸-헥실기, 노닐기, 데실기, n-데실기, 운데실기, 도데실기, n-도데실기, 트리데실기, n-트리데실기, 테트라데실기, n-테트라데실기, 펜타데실기, n-펜타데실기, 헥사데실기, n-헥사데실기, 헵타데실기, n-헵타데실기, 옥타데실기, 스테아릴기(n-옥타데실기), 노나데실기, n-노나데실기, n-테트라코실기, n-트리아콘틸기 등의 직쇄상 또는 분기상 포화 탄화수소기를 들 수 있고, 탄화수소기 중의 임의의 수소 원자가, 탄화수소기로 치환이 가능한 공지의 치환기(후기)로 치환되어 있어도 된다. 이들 중에서, 반도체 특성의 관점에서, 탄소수 25 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 탄소수 22 이하인 것이다.The non-cyclic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent may be either a linear hydrocarbon-derived or partially hydrocarbon-based hydrocarbon group, and the hydrocarbon group may be either a saturated hydrocarbon-containing or unsaturated hydrocarbon group. Examples of the noncyclic hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec- Butyl group, 1- (3-methyl) -butyl group, 2- (3-methyl) -butyl group, Ethylhexyl group, a 2-ethylhexyl group, a (2,2-dimethyl) -propyl group (also known as neopentyl group), a hexyl group, a n-hexyl group, a heptyl group, N-heptyl group, n-octadecyl group, n-octadecyl group, n-heptadecyl group, n-heptadecyl group, N-heptadecyl, n-heptadecyl, octadecyl, stearyl (n-octadecyl), nonadecyl, n-nonadecyl, n-hexadecyl, A tetracosyl group, a tetracosyl group, and a n-triacontyl group, and any hydrogen atom in the hydrocarbon group may be substituted with a hydrocarbon group Is optionally substituted is substituted with a substituent (late) of the possible known. Of these, from the viewpoint of semiconductor characteristics, the number of carbon atoms is preferably 25 or less, more preferably 22 or less.
또한, 예를 들면, 비닐기, 1-프로페닐기, 알릴기, 이소프로페닐기, 부테닐기, 펜테닐기, 이소프렌기, 헥세닐기, 헵테닐기, 옥테닐기, 데세닐기, 게라닐기, 에티닐기, 2-프로피닐기 등의 직쇄상 또는 분기상 불포화 탄화수소기를 들 수 있고, 탄화수소기 중의 임의의 수소 원자가, 탄화수소기로 치환이 가능한 공지의 치환기(후기)로 치환되어 있어도 된다. 이들 중에서, 반도체 특성의 관점에서, 탄소수 25 이하인 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 탄소수 22 이하인 것이다.Examples of the substituent include vinyl, 1-propenyl, allyl, isopropenyl, butenyl, pentenyl, isoprene, hexenyl, heptenyl, A 2-propinyl group, and the like, and any hydrogen atom in the hydrocarbon group may be substituted with a known substituent (later) capable of being substituted with a hydrocarbon group. Of these, from the viewpoint of semiconductor characteristics, the number of carbon atoms is preferably 25 or less, more preferably 22 or less.
상기 탄소수 1∼30의 비환상 탄화수소기로 치환이 가능한 공지의 치환기의 구체예로서는, -F, -Cl, -Br, 알콕시기, 티오알콕시기, 아미노기, -SO2NHY1(Y1은 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -COOY2(Y2는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -N3, -CN, -NC, -NO2, -NY3 3 +A-(Y3은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타내고, A-는 1가의 음이온종을 나타낸다), -OH, -O-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SH, -S-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SO2H, -SO2 -L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SO3H, -SO3 -L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -CHO, -COOH, -COO-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -B(OY4)3(Y4는 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -SiY5 3(Y5는 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -Si(OY6)3(Y6은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -P(=O)(OY7)2(Y7은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -CONY9Y10(Y9, Y10은 각각 독립으로, 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다) 등을 들 수 있고, 바람직하게는, -F, -Cl, 아미노기, 수산기, -P(=O)(OH)2, -SO2NHY1(Y1은 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), 알콕시기이다.Specific examples of a known capable substituted with an acyclic hydrocarbon group of 1 to 30 carbon atoms wherein the substituent, -F, -Cl, -Br, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an amino group, -SO 2 NHY 1 (Y 1 is a substituent -COOY 2 (Y 2 represents an alkyl group which may have a substituent), -N 3 , -CN, -NC, -NO 2 , -NY 3 3 + A - (Y 3 represents hydrogen Or an alkyl group which may have a substituent and A - represents a monovalent anionic species), -OH, -O - L + (L + represents a monovalent cation species such as Li + , Na + , K + represents a), -SH, -S - L + (L + is, Li +, Na +, K +, a monovalent cation species, such as an ammonium salt), -SO 2 H, -SO 2 - L + (L is +, Li +, Na +, K +, a monovalent cation species, such as an ammonium salt), -SO 3 H, -SO 3 - L + (L + is, Li +, Na +, K +, ammonium salt, etc. -CHO, -COOH, -COO - L + (L + represents Li + , Na + , K + , ammonium salts, and the like) (Y 4 represents hydrogen or an alkyl group which may have a substituent), -SiY 5 3 (Y 5 represents hydrogen or an alkyl group which may have a substituent), -B (OY 4 ) 3 , -Si (OY 6) 3 (
치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼30의 환상 탄화수소기로서는, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있고, 환상 탄화수소기 중의 임의의 수소 원자가, 환상 탄화수소기로 치환이 가능한 공지의 치환기(후기)로 치환되어 있어도 된다.Examples of the cyclic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group, a naphthyl group and the like, and any known hydrogen atoms in the cyclic hydrocarbon group may be substituted with a cyclic hydrocarbon group May be substituted with a substituent (latter group).
상기 환상 탄화수소기로 치환이 가능한 공지의 치환기의 구체예로서는, -F, -Cl, -Br, 알콕시기, 티오알콕시기, 아미노기, -SO2NHY1(Y1은 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -COOY2(Y2는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -N3, -CN, -NC, -NO2, -NY3 3 +A-(Y3은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타내고, A-는 1가의 음이온종을 나타낸다), -OH, -O-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SH, -S-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SO2H, -SO2 -L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SO3H, -SO3 -L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -CHO, -COOH, -COO-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -B(OY4)3(Y4는 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -SiY5 3(Y5는 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -Si(OY6)3(Y6은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -P(=O)(OY7)2(Y7은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -CONY9Y10(Y9, Y10은 각각 독립으로, 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), 알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, -N=N-Y8(Y8은 치환기를 가져도 되는 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기를 나타낸다) 등을 들 수 있고, 바람직하게는, -F, -Cl, -CN, 아미노기, 수산기, -P(=O)(OH)2, -SO2NHY1(Y1은 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), 알콕시기, 알킬기, 아릴기이다.Specific examples of the known substituent which can be substituted with the cyclic hydrocarbon group include -F, -Cl, -Br, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an amino group, -SO 2 NHY 1 (Y 1 represents an alkyl group which may have a substituent) , -COOY 2 (Y 2 represents an alkyl group which may have a substituent), -N 3 , -CN, -NC, -NO 2 , -NY 3 3 + A - (wherein Y 3 represents hydrogen or a represents an alkyl group, a - is a monovalent anion species), -OH, -O - L + (L + is, Li +, Na +, K +, a monovalent cation species, such as an ammonium salt), -SH , -S - L + (L + is, Li +, Na +, K +, a monovalent cation species, such as an ammonium salt), -SO 2 H, -SO 2 - L + (L + is, Li +, Na +, K +, a monovalent cation species, such as an ammonium salt), -SO 3 H, -SO 3 - L + (L + is, Li +, Na +, a monovalent cation species, such as K +, ammonium salt shows), -CHO, -COOH, -COO - L + (L + is, Li +, Na +, 1-valent cationic species, such as K +, ammonium salt Shows), -B (OY 4) 3 (Y 4 represents an alkyl group which may have a hydrogen atom or a substituent group), -SiY 5 3 (Y 5 represents an alkyl group which may have a hydrogen or a substituent), -Si (OY 6 ) 3 (wherein Y 6 represents hydrogen or an alkyl group which may have a substituent), -P (= O) (OY 7 ) 2 (Y 7 represents hydrogen or an alkyl group which may have a substituent), -CONY 9 Y 10 (Y 9, Y 10 represents an alkyl group which may have a hydrogen or a substituent, each independently), an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -N = NY 8 (Y 8 is an alkyl group or a substituent which may have a substituent a represents an aryl group which may have) and the like, preferably, -F, -Cl, -CN, amino group, hydroxyl group, -P (= O) (OH ) 2, -SO 2 NHY 1 (Y 1 Represents an alkyl group which may have a substituent), an alkoxy group, an alkyl group or an aryl group.
상기 치환기를 가져도 되는 헤테로아릴기로서는, 피롤릴기, 티에닐기(2-티에닐기, 3-티에닐기), 피라졸일기, 티아졸일기, 벤조티아졸일기, 벤조이소티아졸일기, 이미다졸일기, 벤조트리아졸일기를 들 수 있고, 치환기로서는, 헤테로아릴기로 치환이 가능한 공지의 치환기(후기)를 들 수 있다.Examples of the heteroaryl group which may have a substituent include pyrrolyl, thienyl (2-thienyl, 3-thienyl), pyrazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, , And a benzotriazolyl group. Examples of the substituent include a known substituent (latter group) that can be substituted with a heteroaryl group.
상기 헤테로아릴기로 치환이 가능한 통상 공지의 치환기의 구체예로서는, -F, -Cl, -Br, 알콕시기, 티오알콕시기, 아미노기, -SO2NHY1(Y1은 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -COOY2(Y2는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -N3, -CN, -NC, -NO2, -NY3 3 +A-(Y3은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타내고, A-는 1가의 음이온종을 나타낸다), -OH, -O-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SH, -S-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SO2H, -SO2 -L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -SO3H, -SO3 -L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -CHO, -COOH, -COO-L+(L+는, Li+, Na+, K+, 암모늄염 등의 1가의 양이온종을 나타낸다), -B(OY4)3(Y4는 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -SiY5 3(Y5는 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -Si(OY6)3(Y6은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -P(=O)(OY7)2(Y7은 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), -CONY9Y10(Y9, Y10은 각각 독립으로, 수소 또는 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), 알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기, -N=N-Y8(Y8은 치환기를 가져도 되는 알킬기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴기를 나타낸다) 등을 들 수 있고, 바람직하게는, -F, -Cl, -CN, 아미노기, 수산기, -P(=O)(OH)2, -SO2NHY1(Y1은 치환기를 가져도 되는 알킬기를 나타낸다), 알콕시기, 알킬기, 아릴기이다.Specific examples of the commonly known substituents which can be substituted with the heteroaryl group include -F, -Cl, -Br, an alkoxy group, a thioalkoxy group, an amino group, -SO 2 NHY 1 (Y 1 represents an alkyl group which may have a substituent -COOY 2 wherein Y 2 represents an alkyl group which may have a substituent, -N 3 , -CN, -NC, -NO 2 , -NY 3 3 + A - (wherein Y 3 represents hydrogen or a substituent represents an alkyl group, a - is a monovalent anion species), -OH, -O-L + (L + is, Li +, Na +, K +, a monovalent cationic species such as ammonium salts), - SH, -S - L + (L + is, Li +, Na +, K +, a monovalent cation species, such as an ammonium salt), -SO 2 H, -SO 2 - L + (L + is, Li + , Na + , K + , and ammonium salts), -SO 3 H, -SO 3 - L + (L + represents a monovalent cation species such as Li + , Na + , K + represents a), -CHO, -COOH, -COO - L + (L + is, Li +, Na +, K +, 1 -valent cations such as ammonium salt It represents a), -B (OY 4) 3 (Y 4 represents an alkyl group which may have a hydrogen atom or a substituent group), -SiY 5 3 (Y 5 represents an alkyl group which may have a hydrogen or a substituent), -Si ( OY 6 ) 3 wherein Y 6 represents hydrogen or an alkyl group which may have a substituent, -P (= O) (OY 7 ) 2 (Y 7 represents hydrogen or an alkyl group which may have a substituent), -CONY 9 Y 10 (Y 9, Y 10 are each independently, an alkyl group which may have a hydrogen atom or a substituent group), an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -N = NY 8 (Y 8 is an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent) and the like, preferably, -F, -Cl, -CN, amino group, hydroxyl group, -P (= O) (OH ) 2, -SO 2 NHY 1 (Y 1 represents an alkyl group which may have a substituent), an alkoxy group, an alkyl group or an aryl group.
일반식(3) 또는 (4)로 표시되는 치환기를 갖는 프탈로시아닌은, 프탈로시아닌 골격의 적어도 1개 이상의 수소가 설파모일기(-SO2NZZ')로 치환된 화합물이다(설파모일기 치환 프탈로시아닌). 일반식(3) 또는 (4)의 a, b, c, 및 d는 당해 설파모일기의 도입 치환기수를 나타내고, 각각 독립으로 0∼4의 정수를 나타내지만 적어도 1개는 0이 아니다. 즉, 도입되는 설파모일기는, 적어도 1개면 되며, 바람직하게는 4개 이하, 더 바람직하게는 2개 이하, 가장 바람직하게는 1개이다. 또, 치환되는 위치에, 특히 한정은 없다.The phthalocyanine having a substituent represented by the general formula (3) or (4) is a compound in which at least one hydrogen of the phthalocyanine skeleton is substituted with a sulfamoyl group (-SO 2 NZZ ') (sulfamoyl group substituted phthalocyanine). A, b, c, and d in the general formula (3) or (4) represent the number of introduced substituent groups of the sulfamoyl group and independently represent an integer of 0 to 4, but at least one thereof is not zero. That is, the number of the sulfamoyl groups introduced is at least one, preferably at most four, more preferably at most two, and most preferably at most one. The substitution position is not particularly limited.
일반식(3) 또는 (4)로 표시되는 치환기를 갖는 프탈로시아닌의 치환기(설파모일기 : -SO2NZZ')의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물에 사용되는 치환기를 갖는 프탈로시아닌의 치환기는 이들에 한정되는 것은 아니다.Formula (3) or a substituent of a phthalocyanine having a substituent represented by the formula (4) (a sulfamoyl group: -SO 2 NZZ ') Specific examples below, the substituents used in the nano-sized phthalocyanine structure of the present invention Is not limited to these.
-SO2NH-CH3 -SO 2 NH-CH 3
-SO2NH-CH2CH3 -SO 2 NH-CH 2 CH 3
-SO2NH-CH2CH2CH3 -SO 2 NH-CH 2 CH 2
-SO2NH-CH(CH3)2 -SO 2 NH-CH (CH 3 ) 2
-SO2NH-CH2CH2CH2CH3 -SO 2 NH-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3
-SO2NH-CH(CH3)(CH2CH3) -SO 2 NH-CH (CH 3 ) (
-SO2NH-CH2-CH(CH3)2 -SO 2 NH-CH 2 -CH ( CH 3) 2
-SO2NH-C(CH3)3 -SO 2 NH-C (CH 3 ) 3
-SO2NH-(CH2)4CH3 -SO 2 NH- (CH 2) 4
-SO2NH-(CH2)5CH3 -SO 2 NH- (CH 2) 5
-SO2NH-(CH2)7CH3 -SO 2 NH- (CH 2) 7
-SO2NH-(CH2)11CH3 -SO 2 NH- (CH 2) 11
-SO2NH-(CH2)17CH3 -SO 2 NH- (CH 2) 17
-SO2NH-(CH2)21CH3 -SO 2 NH- (CH 2) 21
-SO2NH-Cy-SO 2 NH-Cy
(Cy는 시클로헥실기를 나타낸다)(Cy represents a cyclohexyl group)
-SO2NH-Ph-SO 2 NH-Ph
-SO2NH-Th-SO 2 NH-Th
(Th는 티에닐기를 나타낸다)(Th represents thienyl group)
-SO2N(CH3)2 -SO 2 N (CH 3) 2
-SO2N(CH2CH2CH3)2 -SO 2 N (CH 2 CH 2 CH 3 ) 2
일반식(3) 또는 (4)로 표시되는 치환기를 갖는 프탈로시아닌은, 공지 관용의 방법을 조합하는 것에 의해 얻을 수 있다. 예를 들면, 구리프탈로시아닌설포닐클로라이드와 하기 식 [화 10]으로 표시되는 아민을 반응시키면 된다.The phthalocyanine having a substituent represented by the general formula (3) or (4) can be obtained by combining known publicly known methods. For example, copper phthalocyanine sulfonyl chloride may be reacted with an amine represented by the following formula [10].
[화 10][10]
원료가 되는 구리프탈로시아닌설포닐클로라이드는, 구리프탈로시아닌과 클로로설폰산 또는 염화티오닐과의 반응에 의해 얻을 수 있다. 다른 쪽의 원료인 [화 10]으로 표시되는 아민은, 공지 관용의 방법으로 얻을 수 있다. 예를 들면, 알코올의 수산기를 니켈/구리/크롬 촉매를 사용하여 환원적으로 아미노화하는 것에 의해 얻을 수 있고, 당해 수산기를 미츠노부 반응(Mitsunobu reaction)(참고 문헌 : 신더시스(Synthesis) 1981년, P.1)에 의해 이미드화한 후, 히드라진 환원에 의해 아미노화(참고 문헌 : 케미컬 커뮤니케이션즈(Chemical Co㎜unications), 2003년, P.2062)하는 것에 의해 얻을 수 있다. 또한, 많은 아민은 시판품으로서도 제공되고 있다.Copper phthalocyanine sulfonyl chloride as a raw material can be obtained by the reaction of copper phthalocyanine with chlorosulfonic acid or thionyl chloride. The amine represented by the formula [10] as the other raw material can be obtained by a known method. For example, it can be obtained by reductive amination of a hydroxyl group of an alcohol using a nickel / copper / chromium catalyst, and the hydroxyl group is converted into a hydroxyl group by a Mitsunobu reaction (reference: Synthesis 1981 , P.1), followed by amination by hydrazine reduction (References: Chemical Communications, 2003, P.2062). In addition, many amines are also available as commercial products.
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 제조법><Production method of phthalocyanine nano-sized structure>
본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 제조 방법은, 예를 들면, WO2010/122921호 공보, 일본국 특개2009-280531호 공보, WO2011/065133호 공보에 기재된 방법을 사용할 수 있다. 또한, 이들의 공보에 기재되어 있는 방법으로 얻어진 나노사이즈 구조물의, 장경/단경비(어스펙트비)를 조정하여, 나노사이즈 구조물의 어스펙트비를 내리는 방법도, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 제조 방법에 사용할 수 있다. 이하에 구체예를 나타낸다.As a method of producing the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention, for example, the methods described in WO2010 / 122921, Nos. 2009-280531 and WO2011 / 065133 can be used. The method of reducing the aspect ratio of the nano-sized structure by adjusting the long-diameter / short-width ratio (aspect ratio) of the nano-sized structure obtained by the method described in these publications is also the same as that of the phthalocyanine nano- Can be used in the production method. Specific examples are shown below.
본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 제조 방법의 일례는,One example of the method for producing the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention is a method for producing a nano-
(a) 상기 무치환 프탈로시아닌과 상기 치환기를 갖는 프탈로시아닌을 양용매(良溶媒)에 용해시킨 후에, 빈용매(貧溶媒)에 석출시켜서 복합체를 얻는 공정(a)과,(a) a step of dissolving said unsubstituted phthalocyanine and said substituent-containing phthalocyanine in a good solvent (good solvent) and then precipitating in a poor solvent (poor solvent) to obtain a complex;
(b) 상기 복합체를 미립자화하여, 미립자화 복합체를 얻는 공정(b)과,(b) a step (b) of forming the composite into fine particles to obtain an atomized composite, and
(c) 상기 미립자화 복합체를 유기 용매 중에서 1차원 결정 성장(한방향으로 결정 성장)시켜, 나노사이즈의 1차원 구조물(나노와이어 또는 나노로드)화하는 공정(c)(c) a step (c) of forming the nano-sized one-dimensional structure (nanowire or nanorod) by one-dimensional crystal growth (crystal growth in one direction)
을 갖는 것이다..
(공정(a))(Step (a))
일반적으로 프탈로시아닌류는 황산 등의 산용매에 가용인 것이 알려져 있으며, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 제조 방법에 있어서도, 우선 상기 무치환 프탈로시아닌과 상기 치환기를 갖는 프탈로시아닌(설파모일기 치환 프탈로시아닌)을 황산, 클로로황산, 메탄설폰산, 트리플루오로아세트산 등의 산용매에 용해시킨다. 그 후에 물 등의 빈용매에 투입하여 당해 무치환 프탈로시아닌과 당해 치환기를 갖는 프탈로시아닌의 복합체를 석출시킨다.In general, it is known that phthalocyanines are soluble in acid solvents such as sulfuric acid. In the method for producing the phthalocyanine nano-sized structures of the present invention, first, the phthalocyanine (sulfamoyl group substituted phthalocyanine) having the above- , Chlorosulfuric acid, methanesulfonic acid, trifluoroacetic acid and the like. Thereafter, the mixture is poured into a poor solvent such as water to precipitate the complex of the unsubstituted phthalocyanine and the phthalocyanine having the substituent.
여기에서, 당해 치환기를 갖는 프탈로시아닌(설파모일기 치환 프탈로시아닌)의 당해 무치환 프탈로시아닌에 대한 혼합비는 1∼200질량%의 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는 1∼120질량%이다. 혼합비가 1질량% 이상인 경우에는, 당해 치환기를 갖는 프탈로시아닌이 갖는 치환기의 작용에 의해, 후술하는 공정을 거쳐서 한방향으로 결정 성장하여 양호하게 1차원 구조물화하고, 한편, 200질량% 이하의 범위에 있으면 당해 관능기가 결정 성장을 저해할 정도로 많지 않기 때문에, 양호하게 한방향 결정 성장을 거쳐서 1차원 구조물화하여, 아모퍼스 상태 혹은 등방성 구조물이 되는 경우는 없다.Here, the mixing ratio of the phthalocyanine (sulfamoyl group-substituted phthalocyanine) having the substituent to the unsubstituted phthalocyanine is preferably in the range of 1 to 200 mass%, more preferably 1 to 120 mass%. When the mixing ratio is 1% by mass or more, it is favorably crystallized in one direction through a process described later by the action of the substituent of the phthalocyanine having the substituent to be favorably a one-dimensional structure, while if it is in the range of 200% Since the functional group is not so large as to inhibit crystal growth, it is preferably a one-dimensional structure through one-directional crystal growth and does not become an amorphous state or an isotropic structure.
당해 무치환 프탈로시아닌과 당해 치환기를 갖는 프탈로시아닌의 산용매에 대한 첨가량은, 미용해분이 없고, 완전히 용해할 수 있는 농도이면 특히 제한은 없지만, 당해 용액이 충분한 유동성을 갖고 있을 정도의 점성을 유지하는 범위로서, 20질량% 이하가 바람직하다.The amount of the unsubstituted phthalocyanine to be added to the acid solvent of the substituted phthalocyanine is not particularly limited as long as it is free of unheated components and can be completely dissolved. However, the range of maintaining the viscosity to such an extent that the solution has sufficient fluidity , Preferably 20 mass% or less.
당해 무치환 프탈로시아닌과 당해 치환기를 갖는 프탈로시아닌을 용해시킨 용액을 물 등의 빈용매에 투입하여 당해 무치환 프탈로시아닌과 당해 치환기를 갖는 프탈로시아닌의 복합체를 석출시킬 때, 당해 용액은, 빈용매에 대하여, 0.01∼50질량%의 범위가 바람직하다. 0.01질량% 이상이면, 석출하는 당해 복합체의 농도도 충분히 높으므로, 고형분 회수가 용이하며, 50질량% 이하이면, 모든 당해 무치환 프탈로시아닌과 당해 치환기를 갖는 프탈로시아닌이 석출하여 고체상의 복합체가 되어, 용해 성분이 없고, 회수가 용이해진다.When a solution of the unsubstituted phthalocyanine and the phthalocyanine having the substituent is dissolved in a poor solvent such as water to precipitate a complex of the unsubstituted phthalocyanine with the phthalocyanine having the substituent, By mass to 50% by mass. When the concentration is 0.01 mass% or more, the concentration of the complex to be precipitated is sufficiently high, so that the solid content can be easily recovered. When the content is 50 mass% or less, all the unsubstituted phthalocyanine and the phthalocyanine having the substituent are precipitated to form a solid- There is no component, and recovery is easy.
상기의 빈용매로서는, 무치환 프탈로시아닌 및 치환기를 갖는 프탈로시아닌이 불용 혹은 난용성의 액체이면 특히 제한은 없지만, 석출하는 복합체의 균질성을 높게 유지할 수 있고, 또한, 후술하는 미세화 공정에 호적하며, 환경 부하가 적은 물 혹은 물을 주성분으로 하는 수용액을 가장 바람직한 빈용매로서 들 수 있다.The poor solvent is not particularly limited as long as the unsubstituted phthalocyanine and the substituent-containing phthalocyanine are insoluble or poorly soluble. However, the homogeneity of the precipitated complex can be maintained at a high level, Water or an aqueous solution containing water as a main component is the most preferable poor solvent.
당해 복합체는 여과지 및 뷔흐너 깔때기를 사용하여 여과하고, 산성수를 제거함과 함께, 여과액이 중성이 될 때까지 수세하여, 함수한 당해 복합체를 회수할 수 있다. 회수한 복합체는, 탈수·건조하여 수분을 제거하거나, 또는 다음 공정(b)에 있어서, 물과 친화성이 있는 분산 용매를 사용한 습식법으로 미립자화하는 경우에는, 함수 상태 그대로여도 된다.The complex is filtered using a filter paper and a Buchner funnel to remove the acidic water and washed with water until the filtrate becomes neutral to recover the hydrolyzed complex. The recovered composite may be dehydrated and dried to remove water, or may be left in a functional state in the case of making fine particles by a wet process using a dispersion solvent having affinity for water in the next step (b).
본 공정(a)에서 얻어진 무치환 프탈로시아닌과 치환기를 갖는 프탈로시아닌의 복합체는, 투과형 전자현미경에 의한 관찰 결과로부터, 결정입계가 없고 등방성 형상의 구조물인 것이 확인되었다.The composite of the unsubstituted phthalocyanine and the phthalocyanine having a substituent obtained in the present step (a) was confirmed to be a structure having an isotropic shape without a crystal grain boundary, as a result of observation by a transmission electron microscope.
(공정(b))(Step (b))
공정(b)은, 상기 공정(a)을 거쳐서 얻어진 복합체를 미립자화할 수 있으면, 그 방법은 특히 한정되는 것은 아니다. 복합체의 미립자화 방법에는 건식법과 습식법(분산 용매 중에서 미립자화를 행하는 방법)이 있지만, 공정(c)에 있어서 용매 중에서 미립자화 복합체를 한방향으로 결정 성장시켜 1차원 나노사이즈 구조물화를 행하는 것을 고려하면, 습식법으로 상기 복합체를 미립자화하는 것이 바람직하다.The step (b) is not particularly limited as long as the composite obtained through the step (a) can be made into fine particles. Although there are a dry method and a wet method (a method of carrying out microparticulation in a dispersion solvent), there is a method of making the composite into fine particles. In consideration of the one-dimensional nano-sized structure by carrying out crystal growth in one direction in the solvent in the step (c) , It is preferable that the composite is made into fine particles by a wet process.
습식법으로서는, 공정(a)에서 얻어진 복합체를 분산 용매와 함께, 비드밀, 페인트 컨디셔너 등의 미소(微小) 비드를 사용한 미디어 분산기로 처리하는 방법, 프라이믹스사제의 T.K.필믹스로 대표되는 유화 분산기를 사용하여 처리하는 방법, 요시다기카이고교제의 나노마이저로 대표되는 제트밀을 사용하여 처리하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 초음파 호모지나이저를 사용하여, 고출력의 초음파 조사에 의한 처리도 적응 가능하며, 이들의 방법을 1종 또는 복수종 조합하여 행할 수 있다.Examples of the wet method include a method in which the complex obtained in the step (a) is treated with a dispersing solvent and a media dispersing machine using fine beads such as a bead mill and a paint conditioner, and an emulsifying dispersing machine typified by a TK fill mix manufactured by Freimix And a method of using a jet mill represented by a nanometer of Yoshida Kikai Co., Ltd., and the like. In addition, by using an ultrasonic homogenizer, treatment by ultrasonic irradiation with high power can also be adapted, and these methods can be performed by one or a plurality of methods.
여기에서, 습식법에 사용하는 상기 분산 용매로서는, 물, 유기 용매, 함수 유기 용매 등을 들 수 있다. 유기 용매로서는, 후술하는 공정(c)에서 사용하는 유기 용매(후기)에 더해, 에탄올 등의 알코올류, 글리콜류, 글리콜에스테르류를 들 수 있고, 이들의 분산 용매를 1종 또는 복수종 조합하여 행할 수도 있지만, 결정 성장이나 결정 전이의 억제의 점에서 보다 바람직하게는, 물, 에탄올, 메탄올, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, N-메틸-2-피롤리돈, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트이다.Examples of the dispersion solvent used in the wet method include water, an organic solvent, and a hydrous organic solvent. Examples of the organic solvent include alcohols such as ethanol and the like, glycols and glycol esters in addition to the organic solvent (latter stage) to be used in the step (c) described later, and one or more kinds of these dispersion solvents may be used But is preferably water, ethanol, methanol, chlorobenzene, dichlorobenzene, N-methyl-2-pyrrolidone or propylene glycol monomethyl ether acetate in view of crystal growth and inhibition of crystal transition.
습식법에 의한 미립자화를 실시하기에 있어서, 당해 복합체의 분산 용매에 대한 질량비에 관해서는 특히 제한은 없지만, 분산 효율의 관점에서, 고형분 농도를 1∼30질량%의 범위에서 처리하는 것이 바람직하다. 당해 처리에 지르코니아 비드 등의 미소 미디어를 사용하는 경우에는, 당해 복합체의 분산화의 정도를 감안하여, 그 비드경은 0.01∼2㎜의 범위가 바람직하다. 또한, 미소 미디어의 사용량은 미립자화의 효율과 회수 효율의 관점에서, 당해 복합체의 분산액에 대하여, 100∼1000질량%의 범위가 가장 호적하다.There is no particular limitation on the mass ratio of the complex to the dispersion solvent in carrying out the atomization by the wet process, but from the viewpoint of dispersion efficiency, it is preferable to treat the solid concentration in the range of 1 to 30 mass%. In the case of using micro media such as zirconia beads for the treatment, the bead diameter is preferably in the range of 0.01 to 2 mm in consideration of the degree of dispersion of the composite. The amount of the micro media to be used is most preferably in the range of 100 to 1000 mass% with respect to the dispersion of the composite in terms of the efficiency of fine particle formation and the recovery efficiency.
또, 수중에서 미립자화를 실시했을 경우, 얻어진 미립자화 복합체의 수분산액을 탈수, 건조하여 수분을 제거하는 것이 바람직하다. 탈수, 건조의 방법에 대해서는 특히 제한은 없지만, 여과나 원심분리, 로터리 이베이퍼레이터 등에 의한 증발을 들 수 있다. 탈수 후, 추가로 진공건조기 등을 사용하여 수분을 완전히 제거할 때까지 건조해도 된다.In addition, in the case of carrying out microparticulation in water, it is preferable to remove water by dehydrating and drying the obtained aqueous dispersion of the microparticulated composite. The method of dewatering and drying is not particularly limited, but may include evaporation by filtration, centrifugation, rotary evaporator and the like. After dewatering, it may be dried by using a vacuum dryer or the like until the water is completely removed.
본 공정(b)에 있어서, 미립자화의 정도는, 공정(a)에서 얻어진 복합체가, 입경 1㎛ 미만이 되는 것이 바람직하고, 후술하는 공정(c)에 있어서, 미립자화 복합체를 한방향으로 결정 성장시켜 나노사이즈로 1차원 구조물화를 촉진시킨다는 관점에서, 500㎚ 미만이 되는 것이 바람직하고, 또한, 300㎚ 미만이 되는 것이 바람직하다(입경은 동적 광산란에 따른다).In the present step (b), it is preferable that the degree of microparticulation is such that the composite obtained in the step (a) has a particle diameter of less than 1 m, and in the step (c) described below, Is preferably less than 500 nm, more preferably less than 300 nm (particle diameter is in accordance with dynamic light scattering), from the viewpoint of promoting the formation of a one-dimensional structure at the nano-size.
(공정(c))(Step (c))
공정(c)은, 상기 공정(b)을 거쳐서 얻어진 미립자화 복합체를, 한방향으로 결정 성장(1차원 결정 성장)시킴으로써 나노사이즈 1차원 구조물화하는 공정이다. 나노사이즈 1차원 구조물화의 정도는, 얻어지는 나노사이즈 1차원 구조물의 형상이, 폭(단경)이 500㎚ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 300㎚ 이하이며, 가장 바람직하게는 100㎚ 이하이다. 나노사이즈 1차원 구조물화의 방법은, 당해 미립자화 복합체를 나노사이즈 1차원 구조물화할 수 있으면, 그 방법은 특히 한정되는 것은 아니지만, 당해 미립자화 복합체를 유기 용매 중(액상 중)에서 나노사이즈 1차원 구조물화하는 방법을 들 수 있다. 구체적으로는, 당해 미립자화 복합체를, 유기 용매 중(액상 중)에서, 교반 또는 정치함으로써, 당해 복합체를 나노사이즈 1차원 구조물화시킬 수 있다. 또, 교반 또는 정치에 있어서는, 소정의 온도하로 제어된 상태에서 행하는 것이, 나노사이즈 1차원 구조물의 형상을 제어한다는 관점에서 바람직하다.The step (c) is a step of making the nano-sized one-dimensional structure by causing the fine particle hybrid composite obtained through the step (b) to undergo crystal growth (one-dimensional crystal growth) in one direction. The degree of nano-sized one-dimensional structure is preferably such that the shape of the resulting nano-sized one-dimensional structure has a width (short diameter) of 500 nm or less, more preferably 300 nm or less, and most preferably 100 nm or less. The method of forming the nano-sized one-dimensional structure is not particularly limited as far as the nano-sized one-dimensional structure of the nano-sized composite can be obtained. However, the method is not limited to the one in which the nano- And a method of making a structure. Specifically, the composite can be converted into a nano-sized one-dimensional structure by stirring or standing the particulate composite in an organic solvent (in a liquid phase). In stirring or standing, it is preferable that the stirring is performed in a controlled state at a predetermined temperature from the viewpoint of controlling the shape of the nano-sized one-dimensional structure.
당해 미립자화 복합체를 유기 용매 중(액상 중)에서 나노사이즈 1차원 구조물화하는 경우, 사용하는 용매는, 프탈로시아닌류와의 친화성이 낮은 것이 아니면 특히 제한은 없지만, 예를 들면, 프탈로시아닌류와의 친화성이 높은 아미드계 유기 용매, 방향족계 유기 용매, 할로겐계 유기 용매, 글리콜에스테르계 용매, 글리콜에테르계 용매 등이 바람직하고, 구체적으로는,When the microparticle-forming complex is converted into a nano-sized one-dimensional structure in an organic solvent (in a liquid phase), the solvent to be used is not particularly limited so long as it has low affinity with the phthalocyanine species. An amide organic solvent having high affinity, an aromatic organic solvent, a halogen organic solvent, a glycol ester solvent, a glycol ether solvent and the like are preferable. Specifically,
아미드계 용매로서, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈,As the amide solvent, there are N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone,
방향족계 유기 용매로서, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠,As the aromatic organic solvent, toluene, xylene, ethylbenzene,
할로겐계 유기 용매로서, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 클로로포름, 염화메틸렌, 디클로로에탄,As the halogen-based organic solvent, chlorobenzene, dichlorobenzene, chloroform, methylene chloride, dichloroethane,
글리콜에스테르계 용매로서, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트,Examples of the glycol ester solvent include ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate,
글리콜에테르계 용매로서, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸에테르, 디에틸렌글리콜부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르를 가장 호적한 유기 용매로서 들 수 있다. 상기 유기 용매는 단독으로 사용할 수도 있지만, 임의의 비율로 혼합하여 사용할 수도 있고, 또한 다른 유기 용매와 병용하여 사용할 수도 있다.Examples of the glycol ether solvent include ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol butyl ether, diethylene glycol ethyl ether, diethylene glycol butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether , Propylene glycol tert-butyl ether and dipropylene glycol monomethyl ether are the most favorable organic solvents. The organic solvent may be used alone, or may be mixed at an arbitrary ratio, or may be used in combination with other organic solvents.
당해 미립자화 복합체에 대한 유기 용매의 첨가량에 관해서는, 적당한 유동성을 갖고, 또한, 응집 방지의 관점에서, 당해 복합체의 당해 유기 용매에 대한 고형분 농도가 0.1∼20%의 범위에 있는 것이 바람직하고, 더 바람직하게는 1∼10%이다.With respect to the amount of the organic solvent added to the particulate composite, it is preferable that the solid content concentration of the complex in the organic solvent is in the range of 0.1 to 20% from the viewpoint of preventing the aggregation, More preferably 1 to 10%.
당해 복합체를 나노사이즈 1차원 구조물화하는 경우의 교반 또는 정치 시의 온도는, 5∼300℃의 범위가 바람직하고, 더 바람직하게는 20∼250℃이다. 온도가 5℃ 이상이면, 충분히 프탈로시아닌류의 결정 성장을 유발할 수 있고, 목적으로 하는 1차원 결정 성장에 의해, 1차원 구조물에의 성장이 가능하며, 또한, 250℃ 이하이면 생성한 1차원 구조물의 응집, 융착이 거의 보이지 않고, 또한, 단경(폭) 방향으로 결정 성장하여 조대(등방성 구조물)화하는 경우도 없다.When the complex is converted into a one-dimensional nano-sized structure, the temperature during stirring or standing is preferably in the range of 5 to 300 캜, more preferably 20 to 250 캜. If the temperature is 5 占 폚 or higher, it is possible to sufficiently induce crystal growth of the phthalocyanine species, and it is possible to grow the one-dimensional structure by the intended one-dimensional crystal growth. Aggregation and fusion are hardly observed, and crystal growth in the direction of the short axis (width) does not lead to coarse (isotropic structure).
1차원 구조물화를 위한 교반 시간 또는 정치 시간에는 특히 한정은 없지만, 나노사이즈 1차원 구조물의 길이가 100㎚ 이상으로 성장할 때까지, 적어도 10분 이상 교반 또는 정치하는 것이 바람직하다.There is no particular limitation on the agitation time or the settling time for the one-dimensional structure, but it is preferable to stir or stand for at least 10 minutes or so until the length of the nano-sized one-dimensional structure grows to 100 nm or more.
여기에서, 본 공정(c)에서 사용하는 용매가, 상기 공정(b)에 있어서의 습식 미립자화 처리에 사용하는 용매와 달라도 상관없다. 그때, 공정(b)을 실시한 후, 습식 미립자화 처리에 사용한 용매를 제거하고, 이와 같이 하여 얻어진 미립자화 복합체를, 본 공정(c)에서 사용하는 용매에 재분산시킨다. 상기 공정(b)에 사용한 용매를 제거하는 방법으로서는 특히 제한은 없지만, 여과, 원심분리, 로터리 이베이퍼레이터 등에 의한 증발 처리 등을 들 수 있다. 이들 후, 또한, 진공건조기 등을 사용하여 용매분을 완전히 제거할 때까지 건조해도 된다. 공정(c)에서 사용하는 용매에 재분산시키는 방법은 특히 한정되는 것은 아니지만, 공지 관용의, 가열 처리, 교반 처리, 분산 교반 처리, 분산 균일 처리, 초음파 조사 처리, 초음파 교반 처리, 초음파 균일 처리, 초음파 분산 처리 등의 방법을 1종 또는 복수종 조합하여 행할 수 있다.Here, the solvent used in the present step (c) may be different from the solvent used in the wet microparticulation treatment in the step (b). At this time, after the step (b) is carried out, the solvent used for the wet microparticulation treatment is removed, and the thus obtained microparticulated composite is redispersed in the solvent used in the present step (c). The method for removing the solvent used in the step (b) is not particularly limited, and examples thereof include filtration, centrifugation, and evaporation treatment using a rotary evaporator. After that, it may be dried by using a vacuum drier or the like until the solvent content is completely removed. The method of re-dispersing in the solvent used in the step (c) is not particularly limited. However, it is possible to use a known method such as heat treatment, stirring treatment, dispersion stirring treatment, dispersion uniform treatment, ultrasonic wave irradiation treatment, Ultrasonic dispersion treatment, and the like can be carried out by combining one kind or a plurality of kinds.
상기 방법으로, 공정(b)에서 얻어진 미립자화 복합체를 1차원 결정 성장시킨, 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물을 얻을 수 있다. 한편, 이와 같이 하여 얻어진 나노사이즈 1차원 구조물의 장경/단경비(어스펙트비)를 내리고, 적정한 어스펙트비를 갖는 1차원 구조물로 할 수도 있다. 구체적인 방법은, 상기 방법에 의해 얻어진 나노사이즈 1차원 구조물을 유기 용매 중에서, 교반 처리, 분산 교반 처리, 분산 균일 처리, 초음파 조사 처리, 초음파 교반 처리, 초음파 균일 처리, 초음파 분산 처리, 레이저 조사 처리 등의 방법을 1종 또는 복수종 조합한 처리에 제공한다. 이들 처리에 의해, 나노사이즈 1차원 구조물의 어스펙트비를 적정한 사이즈까지 내릴 수 있다.In this way, a phthalocyanine nano-sized one-dimensional structure obtained by one-dimensional crystal growth of the microparticulated composite obtained in the step (b) can be obtained. On the other hand, it is also possible to reduce the long diameter / short width ratio (aspect ratio) of the thus obtained nano-sized one-dimensional structure to obtain a one-dimensional structure having an appropriate aspect ratio. Specifically, the nano-sized one-dimensional structure obtained by the above-described method is subjected to a treatment such as stirring treatment, dispersion stirring treatment, dispersion uniform treatment, ultrasonic irradiation treatment, ultrasonic stirring treatment, ultrasonic homogenization treatment, ultrasonic dispersion treatment, Are provided for the treatment of one kind or a combination of plural kinds. By these processes, the aspect ratio of the nano-sized one-dimensional structure can be reduced to an appropriate size.
<잉크 조성물>≪ Ink composition &
본 발명의 잉크 조성물은, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 유기 용매를 필수 성분으로서 함유한다. 이들의 잉크 조성물은, 웨트 프로세스(인쇄 또는 도포)에 의해 전자 소자의 활성부(반도체층)를 형성하는 전구체 재료로서 호적한 것이다.The ink composition of the present invention contains the phthalocyanine nano size structure of the present invention and an organic solvent as essential components. These ink compositions are well-known as precursor materials for forming active portions (semiconductor layers) of electronic devices by a wet process (printing or coating).
본 발명의 잉크 조성물은, 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물을, 유기 용매에 분산시키는 것에 의해 제조된다. 또는, 상기 공정(c)에서 얻어진 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물의 분산액을 본 발명의 잉크 조성물로서 사용할 수도 있다.The ink composition of the present invention is produced by dispersing the phthalocyanine nano-size one-dimensional structure in an organic solvent. Alternatively, the dispersion of the phthalocyanine nano-sized one-dimensional structure obtained in the step (c) may be used as the ink composition of the present invention.
당해 유기 용매의 종류는, 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물을 안정 분산시키는 것이면 특히 한정되는 것은 아니며, 단독의 유기 용매여도, 2종 이상을 혼합한 유기 용매를 사용해도 되지만, 양호하며 안정하게 분산시킬 수 있는 점에서는, 예를 들면, 프탈로시아닌류와의 친화성이 높은 아미드계 유기 용매, 방향족계 유기 용매, 할로겐계 유기 용매, 글리콜에스테르계 용매, 글리콜에테르계 용매 등이 바람직하고, 구체적으로는,The kind of the organic solvent is not particularly limited as far as it can stably disperse the phthalocyanine nano-sized one-dimensional structure. It may be an organic solvent or an organic solvent in which two or more kinds thereof are mixed, There is preferably used, for example, an amide organic solvent, an aromatic organic solvent, a halogen organic solvent, a glycol ester solvent, a glycol ether solvent and the like which have high affinity with phthalocyanines,
아미드계 용매로서, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈,As the amide solvent, there are N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone,
방향족계 유기 용매로서, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠,As the aromatic organic solvent, toluene, xylene, ethylbenzene,
할로겐계 유기 용매로서, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 클로로포름, 염화메틸렌, 디클로로에탄,As the halogen-based organic solvent, chlorobenzene, dichlorobenzene, chloroform, methylene chloride, dichloroethane,
글리콜에스테르계 용매로서, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트,Examples of the glycol ester solvent include ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate,
글리콜에테르계 용매로서, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸에테르, 디에틸렌글리콜부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르를 가장 호적한 분산용 유기 용매로서 들 수 있다.Examples of the glycol ether solvent include ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol butyl ether, diethylene glycol ethyl ether, diethylene glycol butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether , Propylene glycol tert-butyl ether and dipropylene glycol monomethyl ether are the most favorable organic solvents for dispersion.
본 발명의 잉크 조성물에 있어서, 웨트 프로세스(인쇄 또는 도포) 적성 및 조막성(인쇄 또는 도포 후의 막 질성) 부여를 위해서는, 조성물 중의 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물의 함유율을, 0.05∼20질량%로 하는 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10질량%로 하는 것이 바람직하다.In the ink composition of the present invention, in order to impart a wet process (printing or coating) suitability and film-forming property (film quality after printing or coating), the content of the phthalocyanine nano-size one- , More preferably from 0.1 to 10% by mass.
본 발명의 잉크 조성물은, 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물 이외에, 다른 전자 공여성 재료나 정공 수송성 재료를 포함해도 된다. 그러한 재료로서는, 예를 들면, 반도체적 성질을 나타내는 π공역계 폴리머, 반도체적 성질을 나타내는 비π공역계 폴리머, 저분자계 유기 반도체 화합물 등을 들 수 있다. 여기에서, 반도체적 성질을 나타내는 π공역계 폴리머로서는, 폴리티오펜, 폴리(3-헥실티오펜-2,5-디일)(P3HT), P3HT 레지오레귤러 타입, 폴리폴리-p-페닐렌비닐렌류, 폴리-p-페닐렌류, 폴리플루오렌류, 폴리피롤류, 폴리아닐린류, 폴리아세틸렌류, 폴리티에닐렌비닐렌류 등이, 반도체적 성질을 나타내는 비π공역계 폴리머로서는 폴리비닐카르바졸이, 저분자계 유기 반도체 화합물로서는, 가용성 또는 용매 분산성의 프탈로시아닌 유도체, 가용성 또는 용매 분산성의 포르피린 유도체, 6,13-비스(트리이소프로필실릴에티닐)펜타센(TIPS-펜타센) 등을 들 수 있다. 이들 중, 폴리머계 재료에는, 후술하는 바와 같이, 잉크 조성물에 웨트 프로세스(인쇄 또는 도포) 적성 및 조막성(인쇄 또는 도포 후의 막 질성)을 부여하는 효과도 있다.The ink composition of the present invention may contain other electron-donating materials or hole-transporting materials in addition to the phthalocyanine nano-size one-dimensional structure. As such a material, for example, a? -Conjugated polymer showing semiconductor properties, a? -Conjugated polymer showing semiconductor properties, a low molecular weight organic semiconductor compound and the like can be given. Here, examples of the? -Conjugate polymer showing semiconducting properties include polythiophene, poly (3-hexylthiophene-2,5-diyl) (P3HT), P3HT regio- , Poly-p-phenylenes, polyfluorenes, polypyrroles, polyanilines, polyacetylenes and polythienylenevinylenes. Examples of the non-conjugated polymer showing semiconducting properties include polyvinylcarbazole, Examples of the organic semiconductor compound include soluble or solvent-dispersible phthalocyanine derivatives, soluble or solvent-dispersible porphyrin derivatives, and 6,13-bis (triisopropylsilylethynyl) pentacene (TIPS-pentacene). Among these, polymeric materials have the effect of imparting a wet process (printing or coating) suitability and film-forming property (film quality after printing or coating) to the ink composition as described later.
본 발명의 잉크 조성물은, 풀러렌류로 대표되는 전자 수용성 재료를 포함해도 된다. 이에 따라, 광전변환 소자에 제공할 때에 1회의 제막으로 활성부(광전변환층)의 형성이 가능해진다. 본 발명에서 사용할 수 있는 전자 수용성 재료로서는, 예를 들면 나프탈렌 유도체, 페릴렌 유도체, 옥사졸 유도체, 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, 포스핀옥사이드 유도체, 풀러렌류, 카본 나노 튜브(CNT), 그라펜, 폴리-p-페닐렌비닐렌에 시아노기를 도입한 유도체(CN-PPV), Boramer(상품명, TDA Research제), CF3기 또는 F기를 도입한 공지 관용의 저분자 유기 반도체 재료 또는 고분자 유기 반도체 재료 등을 들 수 있다. 여기에서, 나프탈렌 유도체로서는, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭디이미드(NTCDI), N,N'-디알킬-1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭디이미드(NTCDI-R)(알킬이란 탄소수 C1∼C18의 알킬기를 나타낸다), 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실릭디언하이드라이드(NTCDA) 등, 페릴렌 유도체로서는, 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실릭디언하이드라이드(PTCDA), 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실릭비스벤즈이미다졸(PTCBI), 3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실릭디이미드(PTCDI), N,N'-디메틸-3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실릭디이미드(PTCDI-C1), N,N'-디펜틸-3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실릭디이미드(PTCDI-C5), N,N'-디옥틸-3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실릭디이미드(PTCDI-C8), N,N'-디페닐-3,4,9,10-페릴렌테트라카르복실릭디이미드(PTCDI-Ph) 등, 옥사졸 유도체로서는, 2-(4-비페닐릴)-5-(4-t-부틸페닐)-1,3,4-옥사디아졸(PBD), 2,5-디(1-나프틸)-1,3,4-옥사디아졸(BND) 등, 트리아졸 유도체로서는, 3-(4-비페닐릴)-4-페닐-5-(4-t-부틸페닐)-1,2,4-트리아졸(TAZ) 등, 페난트롤린 유도체로서는, 바소큐프로인(BCP), 바소페난트롤린(Bphen) 등, 풀러렌류로서는, C60, C70, C76, C78, C82, C84, C90, C94 등의 무치환인 것과, [6,6]-페닐 C61 부티르산메틸에스테르(별명 : PCBM 또는 [60]PCBM), [6,6]-페닐 C61 부티르산부틸에스테르(별명 : PCBB), [6,6]-페닐 C61 부티르산헥실에스테르([6,6]-PCBH), [6,6]-페닐 C61 부티르산옥틸에스테르(별명 : PCB-C8), [6,6]-페닐 C61 부티르산도데실에스테르([6,6]-PCBD), [60]ThPCBM, (6,6)-페닐 C71 부티르산메틸에스테르(별명 : PC70BM 또는 [70]PCBM), (6,6)-페닐 C85 부티르산메틸에스테르(별명 : PC84BM 또는 [84]PCBM) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 풀러렌류는 전하 분리 속도와 전자 이동 속도가 빠르므로, 바람직하게 사용된다. 풀러렌류 중에서도, PCBM이나 C70 유도체(상기 PC70BM 등)가 전하 분리 속도와 전자 이동 속도가 특히 뛰어나며, 보다 높은 광전변환 효율이 얻어지므로, 보다 바람직하다.The ink composition of the present invention may contain an electron-accepting material typified by fullerene. As a result, it is possible to form the active portion (photoelectric conversion layer) by forming the film once in the case of providing the photoelectric conversion element. Examples of the electron-accepting material usable in the present invention include naphthalene derivatives, perylene derivatives, oxazole derivatives, triazole derivatives, phenanthroline derivatives, phosphine oxide derivatives, fullerenes, carbon nanotubes (CN-PPV), Boramer (trade name, manufactured by TDA Research), a CF 3 group or a F group-introduced low molecular weight organic semiconductor material or a polymer organic material Semiconductor materials and the like. Examples of the naphthalene derivative include 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic diimide (NTCDI), N, N'-dialkyl-1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic diimide NTCDI-R (alkyl is an alkyl group having from 1 to 18 carbon atoms), 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride (NTCDA), and the like, Perylene tetracarboxylic dianhydride (PTCDA), 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic bisbenzimidazole (PTCBI), 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic (PTCDI), N, N'-dimethyl-3,4,9,10-perylene tetracarboxylic diimide (PTCDI-C1), N, N'-dipentyl- Perylene tetracarboxylic diimide (PTCDI-C5), N, N'-dioctyl-3,4,9,10-perylene tetracarboxylic diimide (PTCDI-C8) 4,4,9,10-perylene tetracarboxylic diimide (PTCDI-Ph); oxazole derivatives such as 2- (4-biphenylyl) -5- (4-t-butylphenyl) ) -1,3,4-oxadiazole ( (4-biphenylyl) -4-phenyl-5- (4-methoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole (BND) (4-t-butylphenyl) -1,2,4-triazole (TAZ). Examples of the phenanthroline derivatives include basocuproin (BCP) and bazophenanthroline , 6,6] -phenyl C61 butyric acid methyl ester (aka PCBM or [60] PCBM), [6,6] -phenyl C61 PCB-C8 butyric acid butyl ester (aka PCBB), [6,6] -phenyl C61 butyric acid hexyl ester ([6,6] -PCBH), [6,6] -phenyl C61 butyric
또한, 상기 전자 수용성 재료 중에서, 폴리-p-페닐렌비닐렌에 시아노기를 도입한 유도체(CN-PPV), Boramer(상품명, TDA Research제) 등의 폴리머계 재료(전자 수용성 폴리머)는, 전하 분리나 전자 이동과 같은 반도체적 기능 이외에, 당해 잉크 조성물(또는 광전변환 소자용 재료)에, 웨트 프로세스(인쇄 또는 도포) 적성 및 조막성(인쇄 또는 도포 후의 막 질성)을 부여하는 효과가 있으므로 바람직하다.Among the above electron-accepting materials, a polymer material (an electron-accepting polymer) such as a derivative (CN-PPV) into which a poly-p-phenylenevinylene cyanogen group is introduced and Boramer (trade name, a product of TDA Research) (Printing or coating) suitability and film formability (film quality after printing or coating) to the ink composition (or the material for photoelectric conversion elements) in addition to the semiconductor function such as separation and electron transfer Do.
본 발명의 잉크 조성물의 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물 및 전자 수용성 재료와의 혼합비에 관해서는, 후술하는 광전변환 소자에 있어서, 광전변환 특성이 얻어지는 범위에서 임의로 선택할 수 있지만, 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물/전자 수용성 재료=1/99∼99/1의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1/9∼9/1의 범위이며, 더 바람직하게는 2/8∼8/2의 범위이다.With regard to the mixing ratio of the ink composition of the present invention with the phthalocyanine nano-sized nano-sized one-dimensional structure and the electron-accepting material, the photoelectric conversion element described later can be arbitrarily selected within the range in which the photoelectric conversion property can be obtained, but the phthalocyanine nano- The electron accepting material is preferably in the range of 1/99 to 99/1, more preferably in the range of 1/9 to 9/1, and still more preferably in the range of 2/8 to 8/2.
본 발명의 잉크 조성물에서, 전자 수용성 재료를 첨가했을 경우에는, 당해 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물과 전자 수용성 재료 합계량의 함유율이 용매에 대하여 0.05∼20질량%로 하는 것이 바람직하고, 특히, 0.1∼10질량%로 하는 것이 바람직하다.In the ink composition of the present invention, when an electron-accepting material is added, the content of the total amount of the phthalocyanine nano-sized one-dimensional structure and the total amount of the electron-accepting material is preferably from 0.05 to 20 mass%, more preferably from 0.1 to 10 mass% By mass.
본 발명의 잉크 조성물에는, 웨트 프로세스(인쇄 또는 도포) 적성 및 조막성(인쇄 또는 도포 후의 막 질성)을 부여하기 위해서, 수지 성분을, 레올로지 조정이나 바인더 성분으로서 첨가할 수 있다. 수지로서는, 공지 관용의 것이면 특히 한정되는 것은 아니며, 단독의 수지여도, 2종 이상의 수지를 병용해도 상관없지만, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리카보네이트 등이 바람직하다.To the ink composition of the present invention, a resin component may be added as a rheology adjustment or a binder component in order to impart a wet process (printing or coating) suitability and film-forming property (film quality after printing or coating). The resin is not particularly limited as long as it is a known resin, and may be used alone or in combination of two or more resins, but polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate and the like are preferable.
이들의 수지의 함유율이 너무 많으면, 점도가 과도하게 상승하여, 인쇄나 도포에 의한 제막성에 영향을 주고, 또한, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리카보네이트 등은, 전기적으로 불활성이기 때문에, 그 함유율이 너무 많으면 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 농도가 상대적으로 엷어지므로 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물에 따라 발현하는 반도체 특성이 저감하게 된다. 따라서, 잉크 조성물 중의 수지의 함유율로서는 20질량% 이하로 하는 것이 바람직하고, 10질량% 이하로 하는 것이 더 바람직하다.If the content of these resins is too large, the viscosity excessively increases, which affects the film-forming property by printing or coating, and polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, etc. are electrically inactive, The concentration of the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention is relatively reduced, so that the semiconductor characteristics exhibited by the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention are reduced. Therefore, the content of the resin in the ink composition is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less.
본 발명의 잉크 조성물에는, 웨트 프로세스(인쇄 또는 도포) 적성 및 조막성(인쇄 또는 도포 후의 막 질성)의 향상을 주된 목적으로서, 체질 성분이나 각종 계면 활성제 등을 필요에 따라 첨가하여 사용할 수 있다.In the ink composition of the present invention, sieving components, various surfactants, and the like can be added as needed for the main purpose of improving the wet process (printing or coating) aptitude and film formability (film quality after printing or coating).
체질 성분으로서는, 반도체 특성을 유지할 수 있는 것이면 공지 관용의, 미립자 분말 단체, 이들 미립자 분말 단체를 미리 분산제 또는 유기 용매에 분산시킨 분산액을 사용할 수 있고, 이들을 단독 또는 2종 이상을 병용하여 사용해도 상관없다. 구체적으로는, 에어로질 시리즈(상품명, 에보닉제), 사일리시아, 사일로포빅, 사일로퓨트, 사일로페이지, 사일로퓨어, 사이로스페어, 사일로마스크, 실웰, 후지벌룬(이상, 상품명, 후지실리시아제), PMA-ST, IPA-ST(이상, 상품명, 닛산가가쿠제), NANOBIC3600 시리즈, NANOBIC3800 시리즈(이상, 상품명, 빅케미제) 등이 있지만, 특히 한정하는 것은 아니다. 또한, 이들은 단독 또는 2종 이상을 병용해도 된다. 또한, 광전변환 소자는, 막두께 방향으로 전하를 수송하기 때문에, 당해 막의 표면 평활성이 요구된다. 이 때문에, 잉크에 첨가하는 체질 성분의 평균 입경은 1∼150㎚인 것이 바람직하고, 5∼50㎚이면 더 바람직하고, 미립자 실리카나 알루미나 분산액인 PMA-ST, IPA-ST(상품명, 닛산가가쿠제), NANOBIC3600 시리즈(상품명, 빅케미제)가 바람직하다. 평균 입경은 예를 들면 동적 광산란법에 의해 용이하게 측정할 수 있다. 또한, 이들 체질 성분은 전기적으로 불활성이므로, 그 함유율이 너무 많으면 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 농도가 상대적으로 엷어지므로 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물에 따라 발현하는 반도체 특성이 저감하게 된다. 따라서, 잉크 조성물 중의 체질 성분의 함유율로서는 전 고형분 중 90질량% 이하, 바람직하게는 70질량% 이하이다.As the sieving component, there may be used a known fine particle powder for a known purpose and a dispersion in which these fine particle powders are dispersed in advance in a dispersing agent or an organic solvent, so long as they can maintain the semiconductor characteristics, and they may be used singly or in combination none. Specific examples thereof include a silicone oil such as Aerosil series (trade name, Ebonic), Silicia, Silo Fobic, Silopus, Silo page, Silo Pure, Cyrospear, Silo mask, Silwell, Fuji balloon PMA-ST, IPA-ST (trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), NANOBIC3600 series, NANOBIC3800 series (above, trade name, manufactured by Big Chemie), and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Further, since the photoelectric conversion element transports the charge in the film thickness direction, the surface smoothness of the film is required. For this reason, the average particle size of the sieving components to be added to the ink is preferably 1 to 150 nm, more preferably 5 to 50 nm, more preferably PMA-ST, IPA-ST (trade name, available from Nissan Chemical Industries, ), And NANOBIC3600 series (trade name, manufactured by Big Chemie). The average particle diameter can be easily measured by, for example, a dynamic light scattering method. In addition, since these constituents are electrically inactive, if the content is too high, the concentration of the phthalocyanine nano size structure of the present invention becomes relatively thin, so that semiconductor characteristics expressed by the phthalocyanine nano size structure of the present invention are reduced. Therefore, the sieving component content in the ink composition is 90% by mass or less, preferably 70% by mass or less, of the total solid content.
계면 활성제로서는, 탄화수소계, 실리콘계, 불소계를 들 수 있고, 이들을 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 그 중에서도 바람직한 불소계 계면 활성제는, 직쇄상의 퍼플루오로알킬기를 갖고, 쇄길이가 C6 이상, 더 바람직하게는 C8 이상의 비이온계의 불소계 계면 활성제이다. 구체적인 것으로서는 예를 들면, 메가팍 F-482, 메가팍 F-470(R-08), 메가팍 F-472SF, 메가팍R-30, 메가팍 F-484, 메가팍 F-486, 메가팍 F-172D, 메가팍 F178RM(이상, 상품명, DIC제) 등이 있지만, 특히 한정하는 것은 아니다. 또한, 이들은 단독 또는 2종 이상을 병용해도 된다. 이들 계면 활성제는 잉크 조성물 중, 유효 성분에서 5.0질량% 이하, 바람직하게는 유효 성분에서 1.0질량% 이하 함유된다.Examples of the surfactant include hydrocarbon-based, silicone-based, and fluorine-based surfactants, and these surfactants may be used alone or in combination of two or more. Among them, the preferred fluorine-based surfactant is a nonionic fluorine-based surfactant having a straight chain perfluoroalkyl group and a chain length of C6 or more, more preferably C8 or more. Specific examples thereof include Megapack F-482, Megapack F-470 (R-08), Megapack F-472SF, Megapack R-30, Megapack F-484, Megapack F- F-172D, Megafac F178RM (trade name, manufactured by DIC), and the like. These may be used alone or in combination of two or more. These surfactants are contained in the ink composition in an amount of 5.0% by mass or less based on the active ingredient, preferably 1.0% by mass or less based on the active ingredient.
본 발명의 잉크 조성물에 있어서는, 상기 기재의 재료를 혼합하여 사용한다. 혼합 방법으로서는 특히 한정되는 것은 아니지만, 소망의 비율로 상기 기재의 재료를 용매에 첨가한 후, 공지 관용의 방법, 즉, 가열 처리, 교반 처리, 분산 교반 처리, 분산 균일화 처리, 초음파 조사 처리, 초음파 교반 처리, 초음파 균일화, 초음파 분산 처리, 레이저 조사 처리 등의 방법을 1종 또는 복수종 조합하여 용매 중에 분산 혼합시키는 방법을 들 수 있다.In the ink composition of the present invention, the materials described above are mixed and used. The mixing method is not particularly limited, but the material of the base material may be added to the solvent at a desired ratio, and then the mixture may be subjected to known methods such as heat treatment, stirring treatment, dispersion stirring treatment, dispersion equalization treatment, Stirring method, ultrasonic homogenization, ultrasonic dispersion treatment, laser irradiation treatment, and the like may be combined and dispersed in a solvent.
<전자 소자><Electronic device>
다음으로, 본 발명의 전자 소자에 대하여 설명한다. 본 발명의 전자 소자는, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물을, 활성층부(반도체층)에 함유하는 전자 소자이다. 전자 소자의 구체예로서, 태양 전지나 수광 소자 등의 광전변환 소자, 전계 효과형 트랜지스터나 정전유도형 트랜지스터나 바이폴러 트랜지스터 등의 트랜지스터, 전계발광 소자, 온도 센서, 가스 센서, 습도 센서, 방사선 센서 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.Next, the electronic device of the present invention will be described. The electronic device of the present invention is an electronic device containing the phthalocyanine nano-sized one-dimensional structure of the present invention in the active layer portion (semiconductor layer). Specific examples of the electronic device include a photoelectric conversion element such as a solar cell or a light receiving element, a transistor such as a field effect transistor, an electrostatic induction transistor or a bipolar transistor, an electroluminescent element, a temperature sensor, a gas sensor, a humidity sensor, But the present invention is not limited thereto.
<광전변환 소자><Photoelectric Conversion Element>
다음으로, 본 발명의 광전변환 소자에 대하여 설명한다. 본 발명의 광전변환 소자는, 적어도 한 쌍의 전극, 즉 양극과 음극을 갖고, 이들 전극 간에 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 포함한다. 도 1은 본 발명의 광전변환 소자의 일례를 나타내는 모식도이다. 도 1에 있어서 부호 1은 기판, 부호 2는 전극a, 부호 3은 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 포함하는 광전변환층(유기 반도체층), 부호 4는 전극b이다.Next, the photoelectric conversion element of the present invention will be described. The photoelectric conversion element of the present invention has at least one pair of electrodes, that is, an anode and a cathode, and includes the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention between these electrodes. 1 is a schematic diagram showing an example of a photoelectric conversion element of the present invention. In Fig. 1,
유기 반도체층(3)은, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물을 포함하는 막이다. 또한, 유기 반도체층(3)은, 본 발명의 잉크 조성물로 형성되는 막이다.The
유기 반도체층(3)이 전자 수용성 재료를 포함하는 경우, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 전자 수용성 재료는 혼합되어 있어도 적층되어 있어도 된다. 적층되어 있는 경우의 일례를 도 2에 나타낸다. 전자 공여성 재료인 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 갖는 층이 양극 측, 전자 수용성 재료를 갖는 층이 음극 측인 것이 바람직하다. 따라서, 도 2의 부호 5가 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물을 갖는 층, 부호 6이 전자 수용성 재료를 포함하는 층이었을 경우, 부호 2의 전극a가 양극, 부호 4의 전극b가 음극이 된다. 또, 적층 구조의 경우, 「상기 기재의 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물 이외의 그 외의 전자 공여성 재료」가 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 포함하는 층(부호 5)에 함유되어 있어도 되며, 또는, 전자 수용성 재료를 포함하는 층(부호 6)에 함유되어 있어도 된다.When the
유기 반도체층(도 1에서는 부호 3, 도 2에서는 부호 5와 6)의 두께는 충분히 광흡수할 수 있는 두께이며, 또한, 전하의 실활이 생기지 않는 두께이면 특히 제한은 없지만, 5∼1000㎚의 두께가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10∼500㎚, 더 바람직하게는 20∼300㎚의 범위이다. 적층되어 있는 경우에는, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 갖는 층은 상기 두께 중 1∼500㎚의 두께를 갖고 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5∼300㎚이다.The thickness of the organic semiconductor layer (3 in Fig. 1, 5 and 6 in Fig. 2) is a thickness capable of sufficiently absorbing light and is not particularly limited as long as it does not cause deactivation of charge. More preferably 10 to 500 nm, and more preferably 20 to 300 nm. When laminated, the layer having the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention preferably has a thickness of 1 to 500 nm, more preferably 5 to 300 nm, of the thickness.
유기 반도체층은, 본 발명의 잉크 조성물을 웨트 프로세스(인쇄 또는 도포)에 의해 제막하고, 이것을 건조시키는 것에 의해 얻을 수 있다. 본 발명의 잉크 조성물의 제막 방법으로서는, 특히 제한 없고 공지 관용의 방식을 채용할 수 있고, 구체적으로는, 잉크젯법, 그라비아 인쇄법, 그라비아 오프셋 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 볼록판 인쇄법, 볼록판 반전 인쇄법, 스크린 인쇄법, 마이크로 컨택트 인쇄법, 리버스 코터법, 에어닥터 코터법, 블레이드 코터법, 에어나이프 코터법, 롤 코터법, 스퀴즈 코터법, 함침 코터법, 트랜스퍼롤 코터법, 키스 코터법, 캐스트 코터법, 스프레이 코터법, 정전 코터법, 초음파 스프레이 코터법, 다이 코터법, 스핀 코터법, 바 코터법, 슬릿 코터법, 드롭 캐스트법 등을 들 수 있다.The organic semiconductor layer can be obtained by forming the ink composition of the present invention by a wet process (printing or coating) and drying it. The method of forming the ink composition of the present invention is not particularly limited and a publicly known method can be employed. Specifically, the ink-jet method, the gravure printing method, the gravure offset printing method, the offset printing method, the relief printing method, A roll coater method, a squeeze coater method, an impregnation coater method, a transfer roll coater method, a kiss coater method, an air knife coater method, an air knife coater method, A cast coater method, a spray coater method, an electrostatic coater method, an ultrasonic spray coater method, a die coater method, a spin coater method, a bar coater method, a slit coater method and a drop cast method.
유기 반도체층을 도 2와 같이 적층하는 경우, 상기 기재의 방법으로 프탈로시아닌 나노사이즈 1차원 구조물을 포함하는 본 발명의 잉크 조성물을 제막한 후에, 전자 수용성 재료를, 후술하는 버퍼층의 제막과 같은 공지 관용의 방식으로 적층하면 된다. 또, 특필할 것으로서, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물은 제막 후에 내용매성이 오르기 때문에, 전자 수용성 재료를 웨트 프로세스로 적층하는 것이 가능하다.When the organic semiconductor layer is laminated as shown in Fig. 2, the ink composition of the present invention including the phthalocyanine nano-size one-dimensional structure is formed by the above-described method, and then the electron- . ≪ / RTI > It is to be noted that since the phthalocyanine nano-size structure of the present invention has a high solvent resistance after film formation, it is possible to laminate an electron-accepting material with a wet process.
기판(1)에는, 실리콘, 유리, 각종 수지 재료 등을 사용할 수 있다. 각종 수지 재료로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리에테르이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리페닐렌설피드, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스트리아세테이트(TAC), 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트(CAP), 아크릴 수지 등을 들 수 있다. 이러한 수지성 재료를 사용함으로써, 유리를 사용하는 경우에 비하여 경량화를 도모할 수 있고, 가반성(可搬性)을 높일 수 있음과 함께, 충격에 대한 내성을 향상할 수 있다.As the
한편, 기판 측으로부터 광을 입사하여 사용하는 경우에는, 광투과성의 양호한 재료가 바람직하고, 이러한 재료로서, 유리, PET, PC, 폴리이미드, PES, 아크릴 수지 등을 들 수 있다.On the other hand, when light is incident from the substrate side, a material having good light transmittance is preferable. Examples of such materials include glass, PET, PC, polyimide, PES and acrylic resin.
전극a, b용의 재료로서는, 한쪽의 전극에는 일함수가 큰 도전성 재료, 다른 한쪽의 전극에는 일함수가 작은 도전성 재료를 사용하는 것이 바람직하다. 일함수가 큰 도전성 재료를 사용한 전극은 양극이 된다. 이 일함수가 큰 도전성 재료로서는, 금, 백금, 크롬, 니켈 등의 금속 외에, 투명성을 갖는 인듐, 주석 등의 금속 산화물, 복합 금속 산화물(인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO), 불소 도프 산화주석(FTO)), (적층)그라펜, (적층)수식 그라펜, 도핑으로 도전율을 향상시킨 통상 공지의 도전성 폴리머(도전성 폴리아닐린, 도전성 폴리피롤, 도전성 폴리티오펜, 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDOT))가 바람직하게 사용된다. 여기에서, 양극에 사용되는 도전성 재료는, 유기 반도체층(3)과 오믹 접합하는 것이 바람직하다. 또한, 후술하는 버퍼층(1)을 사용했을 경우에 있어서는, 양극에 사용되는 도전성 재료는 버퍼층(1)과 오믹 접합하는 것이 바람직하다.As the material for the electrodes a and b, it is preferable to use a conductive material having a large work function for one of the electrodes and a conductive material having a small work function for the other electrode. An electrode using a conductive material having a large work function becomes an anode. In addition to metals such as gold, platinum, chromium and nickel, metal oxides such as indium and tin, complex metal oxides (indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO) A conductive polyaniline, a conductive polypyrrole, a conductive polythiophene, and a polyethylene dioxythiophene (hereinafter, referred to as " conductive polyaniline " PEDOT)) is preferably used. Here, it is preferable that the conductive material used for the anode is ohmic-bonded to the
일함수가 작은 도전성 재료를 사용한 전극은 음극이 되지만, 이 일함수가 작은 도전성 재료로서는, 알칼리 금속이나 알칼리 토류 금속, 구체적으로는 리튬, 마그네슘, 칼슘 등이 사용된다. 또한, 주석, 은, 알루미늄 등도 바람직하게 사용된다. 또한, 상기 금속으로 이루어지는 합금이나 상기의 금속의 적층체로 이루어지는 전극도 바람직하게 사용된다. 여기에서, 음극에 사용되는 도전성 재료는, 유기 반도체층(3)과 오믹 접합하는 것이 바람직하다. 또한, 후술하는 버퍼층(2)을 사용했을 경우에 있어서는, 음극에 사용되는 도전성 재료는 버퍼층(2)과 오믹 접합하는 것이 바람직하다.An electrode using a conductive material having a small work function becomes a cathode. As the conductive material having a small work function, an alkali metal or an alkaline earth metal, specifically, lithium, magnesium, calcium or the like is used. Further, tin, silver, aluminum and the like are also preferably used. Further, an electrode comprising an alloy made of the above metal or a laminate of the above metals is also preferably used. Here, the conductive material used for the cathode is preferably ohmic-bonded to the
본 발명의 광전변환 소자에 있어서는, 전극a 또는 전극b 중 어느 하나에 광투과성을 갖는 것이 바람직하다. 전극의 광투과성은, 유기 반도체층(3)에 입사광이 도달하여 기전력이 발생하는 정도이면, 특히 한정되는 것은 아니다. 이러한 도전성 재료로서, 예를 들면, 상기 도전성 재료 중, ITO(산화인듐-산화주석 복합체), FTO(불소 도프 산화주석), (적층)그라펜, (적층)수식 그라펜, 도핑으로 도전율을 향상시킨 통상 공지의 도전성 폴리머(도전성 폴리아닐린, 도전성 폴리피롤, 도전성 폴리티오펜, 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDOT) 등)가 호적하게 사용된다. 또한, 이들의 재료를 도전성이 높은 금속 재료를 메쉬상으로 한 것과 조합하여 사용할 수도 있다.In the photoelectric conversion element of the present invention, it is preferable that either the electrode a or the electrode b has light transmittance. The light transmittance of the electrode is not particularly limited as long as the incident light reaches the
전극의 두께는 광투과성과 도전성을 갖는 범위이면 되며, 전극 재료에 따라 다르지만 5∼10000㎚, 바람직하게는 10∼5000㎚, 더 바람직하게는 20∼300㎚가 바람직하다. 또, 다른 한쪽의 전극은 도전성이 있으면 반드시 광투과성은 필요하지 않고, 두께도 특히 한정되지 않는다.The thickness of the electrode is not particularly limited as long as it has optical transparency and conductivity, and it is preferably from 5 to 10,000 nm, more preferably from 10 to 5,000 nm, and still more preferably from 20 to 300 nm, depending on the electrode material. When the other electrode is conductive, light transmittance is not necessarily required, and the thickness is not particularly limited.
전극의 형성 방법으로서는, 상기 재료를 원료로서, 진공 증착법, 분자선 에피택셜 성장법, 이온 클러스터빔법, 저에너지 이온빔법, 이온 플레이팅법, CVD법, 스퍼터링법, 대기압 플라스마법 등의 드라이 프로세스나, 잉크젯법, 그라비아 인쇄법, 그라비아 오프셋 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 볼록판 인쇄법, 볼록판 반전 인쇄법, 스크린 인쇄법, 마이크로 컨택트 인쇄법, 리버스 코터법, 에어닥터 코터법, 블레이드 코터법, 에어나이프 코터법, 롤 코터법, 스퀴즈 코터법, 함침 코터법, 트랜스퍼롤 코터법, 키스 코터법, 캐스트 코터법, 스프레이 코터법, 정전 코터법, 초음파 스프레이 코터법, 다이 코터법, 스핀 코터법, 바 코터법, 슬릿 코터법, 드롭 캐스트법의 웨트 프로세스를 들 수 있고, 재료에 따라 적의(適宜) 사용할 수 있다. 보다 상세하게는, 증착이나 스퍼터링 등의 드라이 프로세스를 사용하여 패턴 마스크 등을 거쳐서 전극 형성하는 방법, 증착이나 스퍼터링 등의 드라이 프로세스로 형성한 도전성 솔리드막을, 공지 관용의 포토리소그래프법-에칭법으로 전극 형성하는 방법, 증착이나 스퍼터링 등의 드라이 프로세스와 포토리소그래프법-리프트 오프법을 조합하여 전극 형성하는 방법, 증착이나 스퍼터링 등의 드라이 프로세스를 사용하여 형성한 도전성 솔리드막을, 잉크젯 등에 의한 레지스트를 사용하여 에칭하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 도전성 미립자 분산액 또는 도전성 폴리머 용액 혹은 분산액을, 직접, 잉크젯법, 스크린 인쇄법, 그라비아 오프셋 인쇄법, 볼록판 반전 인쇄법, 마이크로 컨택트 인쇄법 등의 웨트 프로세스에 의해 패터닝해도 되며, 도포제막으로 솔리드막을 형성한 후, 공지 관용의 포토리소그래프-에칭법이나 레이저 어블레이션법 등에 의해 패터닝해도 되며, 또한, 웨트 프로세스와 포토리소그래프법-리프트 오프법을 조합하여 패터닝해도 된다.The electrode may be formed by a dry process such as a vacuum evaporation method, a molecular beam epitaxial growth method, an ion cluster beam method, a low energy ion beam method, an ion plating method, a CVD method, a sputtering method or an atmospheric pressure plasma method, , A gravure printing method, a gravure offset printing method, an offset printing method, a convex printing method, a convex printing method, a screen printing method, a microcontact printing method, a reverse coater method, an air doctor coater method, a blade coater method, A roll coater method, a squeeze coater method, an impregnation coater method, a transfer roll coater method, a kiss coater method, a cast coater method, a spray coater method, an electrostatic coater method, an ultrasonic spray coater method, a die coater method, A slit coater method, and a wet casting method of a drop casting method, and can be appropriately used depending on the material. More specifically, a conductive solid film formed by a dry process such as vapor deposition or sputtering, a method of forming an electrode through a pattern mask or the like by using a dry process such as vapor deposition or sputtering, or the like by photolithography- A method of forming an electrode, a method of forming an electrode by a combination of a dry process such as vapor deposition or sputtering and a photolithography method and a lift-off method, a method of forming a conductive solid film using a dry process such as vapor deposition or sputtering, And a method of etching by use. The conductive fine particle dispersion or the conductive polymer solution or dispersion may be directly patterned by a wet process such as an inkjet method, a screen printing method, a gravure offset printing method, a convex plate reverse printing method, a micro contact printing method, etc., After the film is formed, it may be patterned by a photolithography-etching method or a laser ablation method for publicly known techniques, or may be patterned by a combination of a wet process and a photolithographic method and a lift-off method.
본 발명의 광전변환 소자에서는, 양극과 유기 반도체층 사이에 버퍼층(1)을 마련해도 된다. 버퍼층(1)은, 효율적인 전하의 취출을 가능하게 하기 위해서 필요에 따라 사용된다. 버퍼층(1)을 형성하는 재료로서는, 산화그라펜, 수식 그라펜, 폴리티오펜류, 폴리아닐린류, 폴리-p-페닐렌비닐렌류, 폴리플루오렌류, 폴리비닐카르바졸류, 프탈로시아닌 유도체(H2Pc, CuPc, ZnPc 등), 포르피린 유도체 등이 바람직하게 사용된다. 이들의 재료는, 도핑에 의해 도전성(정공 수송성)을 높인 것이어도 된다. 특히, 폴리티오펜류인 폴리에틸렌디옥시티오펜(PEDOT)이나 PEDOT에 폴리스티렌설포네이트(PSS)를 도프한 PEDOT:PSS가 바람직하게 사용된다. 버퍼층(1)의 두께는, 5∼600㎚의 두께가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10∼200㎚이다.In the photoelectric conversion element of the present invention, the
또한 본 발명의 광전변환 소자에서는, 유기 반도체층과 음극 사이에 버퍼층(2)을 마련해도 된다. 버퍼층(2)은, 효율적인 전하의 취출을 가능하게 하기 위해서 필요에 따라 사용된다. 버퍼층(2)을 형성하는 재료로서, 상기한 전자 수용성 재료(나프탈렌 유도체, 페릴렌 유도체, 옥사졸 유도체, 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, 포스핀옥사이드 유도체, 풀러렌류, 카본 나노 튜브(CNT)류, 수식 그라펜류, 폴리-p-페닐렌비닐렌에 시아노기를 도입한 유도체(CN-PPV), Boramer(상품명, TDA Research사제), CF3기 또는 F기를 도입한 공지 관용의 저분자 유기 반도체 재료 또는 고분자 유기 반도체 재료 등)에 더해, 옥타아자포르피린, 퍼플루오로펜타센이나 퍼플루오로프탈로시아닌 등의 퍼플루오로 화합물, 테트라티오풀발렌이나 테트라메틸페닐렌디아민 등의 전자 공여성 화합물과 테트라시아노퀴노디메탄이나 테트라시아노에틸렌 등의 전자 수용성 화합물로 이루어지는 전하 이동착체, 산화티타늄, 산화아연, 산화갈륨 등의 n형 무기 산화물 반도체, 불화리튬, 불화나트륨, 불화세슘 등의 알칼리 금속 화합물 등을 사용할 수 있다. 버퍼층(2)의 두께는, 0.5∼600㎚의 두께가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼200㎚이다.In the photoelectric conversion element of the present invention, the
버퍼층의 형성 방법으로서는, 진공 증착법, 분자선 에피택셜 성장법, 이온 클러스터빔법, 저에너지 이온빔법, 이온 플레이팅법, CVD법, 스퍼터링법, 대기압 플라스마법 등의 드라이 프로세스나, 잉크젯법, 그라비아 인쇄법, 그라비아 오프셋 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 볼록판 인쇄법, 볼록판 반전 인쇄법, 스크린 인쇄법, 마이크로 컨택트 인쇄법, 리버스 코터법, 에어닥터 코터법, 블레이드 코터법, 에어나이프 코터법, 롤 코터법, 스퀴즈 코터법, 함침 코터법, 트랜스퍼롤 코터법, 키스 코터법, 캐스트 코터법, 스프레이 코터법, 정전 코터법, 초음파 스프레이 코터법, 다이 코터법, 스핀 코터법, 바 코터법, 슬릿 코터법, 드롭 캐스트법의 웨트 프로세스를 들 수 있고, 재료에 따라 적의 사용할 수 있다.Examples of the method for forming the buffer layer include a dry process such as a vacuum evaporation method, a molecular beam epitaxial growth method, an ion cluster beam method, a low energy ion beam method, an ion plating method, a CVD method, a sputtering method, an atmospheric pressure plasma method, an ink jet method, a gravure printing method, A roll coater method, a squeeze coater method, an offset printing method, an offset printing method, a convex printing method, a convex inversion printing method, a screen printing method, a microcontact printing method, a reverse coater method, an air doctor coater method, A roll coater method, a cast coater method, a spray coater method, an electrostatic coater method, an ultrasonic spray coater method, a die coater method, a spin coater method, a bar coater method, a slit coater method, Wet process, and can be used depending on the material.
또한, 버퍼층에 무기 산화물을 사용하는 경우, 웨트 프로세스로서, 무기 산화물의 미립자를, 임의의 유기 용매 또는 물에 필요에 따라 계면 활성제 등의 분산 보조제를 사용하여 분산한 액을 도포, 건조하는 방법이나, 산화물 전구체, 예를 들면 알콕시드체의 용액을 도포, 건조하는, 소위 졸겔법을 사용할 수 있다.In the case of using an inorganic oxide as the buffer layer, a method in which fine particles of inorganic oxide are dispersed in an optional organic solvent or water, using a dispersion auxiliary such as a surfactant, is applied and dried, , A so-called sol-gel method in which a solution of an oxide precursor, for example, an alkoxide, is applied and dried can be used.
이들 버퍼층은, 단층이어도 되며, 또한, 다른 재료를 적층한 것이어도 된다.These buffer layers may be a single layer or may be formed by stacking other materials.
본 발명에 의한 광전변환 소자는, 집적에 의해 태양 전지 모듈을 구성할 수 있다. 그때, 본 발명의 광전변환 소자는, 보호 시트나 접착성 밀봉재에 의해 상기의 광전변환 소자를, 수분을 포함하는 외기로부터 차단하는 구조로 할 수도 있다. 태양 전지 모듈로서는, 본 발명에 의한 광전변환 소자의 전극a와, 그에 인접하는 다른 본 발명에 의한 광전변환 소자의 전극b를 접촉시키는 것에 의해, 본 발명에 의한 광전변환 소자를 직렬 접속시켜서 집적화시킨 것을 특징으로 하는 태양 전지 모듈을 들 수 있다.The photoelectric conversion element according to the present invention can constitute a solar cell module by integration. At this time, the photoelectric conversion element of the present invention may be structured such that the above-described photoelectric conversion element is shielded from the external air including moisture by a protective sheet or an adhesive sealing material. As the solar cell module, by bringing the electrode a of the photoelectric conversion element according to the present invention into contact with the electrode b of the photoelectric conversion element according to another aspect of the present invention, the photoelectric conversion element according to the present invention is connected in series and integrated And the like.
또한, 인접하는 본 발명에 의한 광전변환 소자의 전극a끼리를 접촉시키고, 또한, 인접하는 본 발명에 의한 광전변환 소자의 전극b끼리를 접촉시키는 것에 의해, 본 발명에 의한 광전변환 소자를 병렬 접속시켜서 집적화시킨 것을 특징으로 하는 태양 전지 모듈이어도 된다.Further, the electrodes a of the adjacent photoelectric conversion elements according to the present invention are brought into contact with each other, and the electrodes b of the adjacent photoelectric conversion elements according to the present invention are brought into contact with each other, whereby the photoelectric conversion elements according to the present invention are connected in parallel And then integrating the solar cell module.
(트랜지스터)(transistor)
다음으로, 본 발명의 트랜지스터에 대하여 설명한다. 본 발명의 트랜지스터는, 활성부(트랜지스터에서는 채널부(반도체층)라고 함)에 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 트랜지스터이다.Next, the transistor of the present invention will be described. The transistor of the present invention is a transistor containing the phthalocyanine nano-size structure of the present invention in an active portion (in a transistor, referred to as a channel portion (semiconductor layer)).
이러한 트랜지스터로서는, 기판 상에 본 발명에 의한 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 포함하는 막과 이것에 연결하는 소스 전극과 드레인 전극을 형성하고, 그 위에 게이트 절연막을 거쳐서 게이트 전극을 형성한 탑게이트형을 들 수 있다.Examples of such a transistor include a top gate type in which a film including a phthalocyanine nano-sized structure according to the present invention, a source electrode and a drain electrode connected to the film, and a gate electrode are formed thereon via a gate insulating film, have.
또한, 기판 상에 우선 게이트 전극을 형성하고, 게이트 절연막을 거쳐서 본 발명에 의한 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 포함하는 막과 이것에 연결하는 소스 전극과 드레인 전극을 형성한 보톰게이트형으로 할 수도 있다.Alternatively, a bottom gate type in which a film including a phthalocyanine nano-sized structure according to the present invention and a source electrode and a drain electrode connected to the film are formed via a gate insulating film by forming a priority gate electrode on a substrate may also be used.
도 3에는, 본 발명에 의한 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 막(12)을 갖는 트랜지스터로서, 보톰게이트 보톰컨택트형으로 구성한 트랜지스터의 모식도를 나타내고 있다. 여기에서, 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 막(12)의 두께로서는 적의 설정할 수 있고, 예를 들면, 50∼10000㎚로 할 수 있다.Fig. 3 is a schematic diagram showing a transistor having a
기판(7)으로서는, 실리콘, 유리, 플렉서블한 수지제 시트(플라스틱 필름) 등이 사용된다. 상기 플라스틱 필름으로서는, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르설폰(PES), 폴리에테르이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리페닐렌설피드, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스트리아세테이트(TAC), 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트(CAP) 등으로 이루어지는 필름 등을 들 수 있다. 이와 같이, 플라스틱 필름을 사용함으로써, 유리 기판을 사용하는 경우에 비하여 경량화를 도모할 수 있고, 가반성을 높일 수 있음과 함께, 충격에 대한 내성을 향상할 수 있다.As the
소스 전극(10), 드레인 전극(11) 및 게이트 전극(8)을 형성하는 재료는 도전성 재료이면 특히 한정되지 않고, 백금, 금, 은, 니켈, 크롬, 구리, 철, 주석, 안티몬납, 탄탈륨, 인듐, 팔라듐, 텔루륨, 레늄, 이리듐, 알루미늄, 루테늄, 게르마늄, 몰리브덴, 텅스텐, 산화주석·안티몬, 산화인듐·주석(ITO), 불소 도프 산화아연, 아연, 탄소, 그라파이트, 글래시카본(glassy carbon), 은 페이스트 및 카본 페이스트, 리튬, 베릴륨, 나트륨, 마그네슘, 칼륨, 칼슘, 스칸듐, 티타늄, 망간, 지르코늄, 갈륨, 니오븀, 나트륨-칼륨 합금, 마그네슘/구리 혼합물, 마그네슘/은 혼합물, 마그네슘/알루미늄 혼합물, 마그네슘/인듐 혼합물, 알루미늄/산화알루미늄 혼합물, 리튬/알루미늄 혼합물 등을 사용할 수 있지만, 특히, 백금, 금, 은, 구리, 알루미늄, 인듐, ITO 및 탄소가 바람직하다. 또한, 도핑 등으로 도전율을 향상시킨 통상 공지의 도전성 폴리머, 예를 들면 도전성 폴리아닐린, 도전성 폴리피롤, 도전성 폴리티오펜, 폴리에틸렌디옥시티오펜과 폴리스티렌설폰산의 착체 등도 호적하게 사용된다. 그 중에서도 반도체층과의 접촉면에 있어서 전기 저항이 적은, 금, 은, 백금, 구리, 도전성 폴리머, ITO가 바람직하다.The material for forming the
전극의 형성 방법으로서는, 상기 광전변환 소자의 전극과 같은 방법을 사용할 수 있다.As a method of forming the electrode, a method similar to that of the electrode of the photoelectric conversion element can be used.
게이트 절연층(9)으로서는 각종의 절연막을 사용할 수 있다. 비용 메리트를 고려하면, 폴리머계 유기 재료를 사용하는 것이 바람직하고, 고특성을 얻기 위해서는, 비유전율이 높은 무기 산화물의 사용이 바람직하다. 폴리머계 유기 재료로서는, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트, 광라디칼 중합계, 광양이온 중합계의 광경화성 수지, 혹은 아크릴로니트릴 성분을 함유하는 공중합체, 폴리비닐페놀, 폴리비닐알코올, 노볼락 수지, 에폭시 수지 및 시아노에틸풀루란 등, 공지 관용의 폴리머를 사용할 수 있다. 무기 산화물로서는, 산화규소, 산화알루미늄, 산화탄탈륨, 산화티타늄, 산화주석, 산화바나듐, 티탄산바륨스트론튬, 지르코늄산티탄산바륨, 지르코늄산티탄산납, 티탄산납란탄, 티탄산스트론튬, 티탄산바륨, 불화바륨마그네슘, 티탄산비스무트, 티탄산스트론튬비스무트, 탄탈산스트론튬비스무트, 탄탈산니오브산비스무트, 트리옥사이드이트륨 등을 들 수 있다. 그들 중 바람직한 것은, 산화규소, 산화알루미늄, 산화탄탈륨, 산화티타늄이다. 질화규소, 질화알루미늄 등의 무기 질화물도 호적하게 사용할 수 있다.As the
상기 절연막의 형성 방법으로서는, 진공 증착법, 분자선 에피택셜 성장법, 이온 클러스터빔법, 저에너지 이온빔법, 이온 플레이팅법, CVD법, 스퍼터링법, 대기압 플라스마법 등의 드라이 프로세스나, 잉크젯법, 그라비아 인쇄법, 그라비아 오프셋 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 볼록판 인쇄법, 볼록판 반전 인쇄법, 스크린 인쇄법, 마이크로 컨택트 인쇄법, 리버스 코터법, 에어닥터 코터법, 블레이드 코터법, 에어나이프 코터법, 롤 코터법, 스퀴즈 코터법, 함침 코터법, 트랜스퍼롤 코터법, 키스 코터법, 캐스트 코터법, 스프레이 코터법, 정전 코터법, 초음파 스프레이 코터법, 다이 코터법, 스핀 코터법, 바 코터법, 슬릿 코터법, 드롭 캐스트법 등의 웨트 프로세스를 들 수 있지만, 정밀한 패터닝이 필요할 때에는, 잉크젯법, 볼록판 반전 인쇄법, 마이크로 컨택트 인쇄법 등의 웨트 프로세스가 호적하게 사용되며, 재료에 따라 적의 사용할 수 있다.Examples of the method for forming the insulating film include dry processes such as a vacuum evaporation method, a molecular beam epitaxial growth method, an ion cluster beam method, a low energy ion beam method, an ion plating method, a CVD method, a sputtering method and an atmospheric pressure plasma method; an inkjet method, Such as a gravure offset printing method, an offset printing method, a convex printing method, a convex inversion printing method, a screen printing method, a microcontact printing method, a reverse coater method, an air doctor coater method, an air knife coater method, There can be used various methods such as a coater method, an impregnation coater method, a transfer roll coater method, a kiss coater method, a cast coater method, a spray coater method, an electrostatic coater method, an ultrasonic spray coater method, a die coater method, a spin coater method, Cast method, and the like. When precise patterning is required, an ink jet method, a convex plate reverse printing method, a micro contact Using the wet process, such as a family register, and swaebeop, may, depending on the material used enemy.
이 외에, 무기 산화물의 웨트 프로세스에는, 무기 산화물의 미립자를, 임의의 유기 용매 혹은 물에 필요에 따라 계면 활성제 등의 분산 보조제를 사용하여 분산한 액을 도포, 건조하는 방법이나, 산화물 전구체, 예를 들면 알콕시드체의 용액을 도포, 건조하는, 소위 졸겔법을 사용할 수 있다.In addition, the wet process of the inorganic oxide may be carried out by a method of applying and drying a solution prepared by dispersing fine particles of inorganic oxide in an optional organic solvent or water, using a dispersion auxiliary such as a surfactant if necessary, and a method of applying an oxide precursor, For example, a so-called sol-gel method in which a solution of an alkoxide is applied and dried can be used.
이들의 절연막의 건조 막두께로서는 0.1∼2㎛, 바람직하게는 0.3∼1㎛이다.The dried film thickness of these insulating films is 0.1 to 2 占 퐉, preferably 0.3 to 1 占 퐉.
본 발명에 의한 전자 소자인 트랜지스터는, 집적에 의해 전자 부품 모듈을 구성할 수 있다. 전자 부품 모듈로서는, 디스플레이 등의 배면 기판인 트랜지스터 어레이(도 4 참조), RFID의 로직 회로인 인버터나 링 오실레이터 등을 들 수 있다.The transistor, which is an electronic element according to the present invention, can constitute an electronic component module by integration. Examples of the electronic component module include a transistor array (see Fig. 4) which is a rear substrate such as a display, an inverter and a ring oscillator which are logic circuits of RFID, and the like.
[실시예][Example]
이하, 본 발명을 실시예에 의거하여 더 구체적으로 설명한다. 또, 본 발명은 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples. The present invention is not limited to the following examples.
(합성예1)(Synthesis Example 1)
구리프탈로시아닌 설폰산(DIC(주)제 EXT-795 평균 설폰화도=0.95) 50질량부와 DMF 1,000질량부의 혼합 용액을 5℃로 냉각 후, 염화티오닐 50질량부를 적하하여, 실온에서 1시간, 70℃에서 5시간 반응했다. 반응액을 빙수 5,000질량부에 붓고, 얻어진 침전물을 회수, 건조하여 구리프탈로시아닌 설폰산과 구리프탈로시아닌설포닐클로리드의 혼합물을 얻었다.50 parts by mass of copper phthalocyanine sulfonic acid (EXT-795 average degree of sulfonation = 0.95, manufactured by DIC Corporation) and 1,000 parts by mass of DMF were cooled to 5 占 폚, and then 50 parts by mass of thionyl chloride was added dropwise. And reacted at 70 ° C for 5 hours. The reaction solution was poured into 5,000 parts by mass of ice water, and the resulting precipitate was recovered and dried to obtain a mixture of copper phthalocyanine sulfonic acid and copper phthalocyanine sulfonyl chloride.
다음으로, 메틸모노아민 40% 수용액(도쿄가세이(주)제) 23질량부와 탄산나트륨 20질량부와 물 800질량부의 혼합물에, 상기에서 얻어진 혼합물 20질량부를 천천히 투입하여, 실온에서 6시간 반응시켰다. 반응액에 THF 2,000질량부를 가하고, 5㎝의 실리카겔 칼럼을 통과시켜서 여과하여, 여과액을 농축했다. 잔사를 실리카겔 칼럼에 따라, 클로로포름으로 용출한 획분(畵分)을 회수, 농축하여 하기 [화 11]로 표시되는 화합물을 얻었다.Subsequently, 20 parts by mass of the mixture obtained above was slowly added to a mixture of 23 parts by mass of a 40% aqueous solution of methylmonoamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 20 parts by mass of sodium carbonate and 800 parts by mass of water, . 2,000 parts by mass of THF was added to the reaction solution, and the mixture was filtered through a 5 cm silica gel column, and the filtrate was concentrated. The residue was purified by silica gel column, eluted with chloroform, collected and concentrated to give the compound represented by the following formula [11].
[화 11][Figure 11]
(평균 치환기 도입수 n=1.1)(Average substituent introduced number n = 1.1)
(합성예2)(Synthesis Example 2)
합성예1에 있어서, 메틸모노아민 40% 수용액 23질량부 대신에 n-프로필모노아민(도쿄가세이(주)제) 17.5질량부를 사용한 이외에는 합성예1과 같은 조작을 행하여, 하기 [화 12]로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 1 except that 17.5 parts by mass of n-propyl monoamine (manufactured by TOKYO KASEI K.K.) was used instead of 23 parts by mass of a 40% aqueous solution of methylmonoamine, Was obtained.
[화 12][Figure 12]
(평균 치환기 도입수 n=1.1)(Average substituent introduced number n = 1.1)
(합성예3)(Synthesis Example 3)
합성예1에 있어서, 메틸모노아민 40% 수용액 23질량부 대신에 헥실모노아민(도쿄가세이(주)제) 30질량부를 사용한 이외에는 합성예1과 같은 조작을 행하여, 하기 [화 13]으로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 1 except that 30 parts by mass of hexyl monoamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 23 parts by mass of the 40% aqueous solution of methyl monoamine, ≪ / RTI >
[화 13][Figure 13]
(평균 치환기 도입수 n=1.1)(Average substituent introduced number n = 1.1)
(합성예4)(Synthesis Example 4)
합성예1에 있어서, 메틸모노아민 40% 수용액 23질량부 대신에 도데실모노아민(도쿄가세이(주)제) 55질량부를 사용한 이외에는 합성예1과 같은 조작을 행하여, 하기 [화 14]로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 1 except that 55 parts by mass of dodecylmonoamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 23 parts by mass of a 40% aqueous solution of methylmonoamine, To obtain the indicated compound.
[화 14][14]
(평균 치환기 도입수 n=1.1)(Average substituent introduced number n = 1.1)
(합성예5)(Synthesis Example 5)
합성예1에 있어서, 메틸모노아민 40% 수용액 23질량부 대신에 스테아릴모노아민(도쿄가세이(주)제) 80질량부를 사용한 이외에는 합성예1과 같은 조작을 행하여, 하기 [화 15]로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 1 except that 80 parts by mass of stearyl monoamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 23 parts by mass of the 40% aqueous solution of methylmonoamine, To obtain the indicated compound.
[화 15][Figure 15]
(평균 치환기 도입수 n=1.1)(Average substituent introduced number n = 1.1)
(합성예6)(Synthesis Example 6)
합성예1에 있어서, 메틸모노아민 40% 수용액 23질량부 대신에 시클로헥실모노아민(도쿄가세이(주)제) 29.4질량부를 사용한 이외에는 합성예1과 같은 조작을 행하여, 하기 [화 16]으로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 1 except that 29.4 parts by mass of cyclohexyl monoamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 23 parts by mass of a 40% aqueous solution of methyl monoamine, To obtain the indicated compound.
[화 16][16]
(평균 치환기 도입수 n=1.1)(Average substituent introduced number n = 1.1)
(합성예7)(Synthesis Example 7)
합성예1에 있어서, 메틸모노아민 40% 수용액 23질량부 대신에 페닐모노아민(도쿄가세이(주)제) 27.6질량부를 사용한 이외에는 합성예1과 같은 조작을 행하여, 하기 [화 17]로 표시되는 화합물을 얻었다.In the same manner as in Synthesis Example 1 except that 27.6 parts by mass of phenyl monoamine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of 23 parts by mass of a 40% aqueous solution of methyl monoamine, ≪ / RTI >
[화 17][Figure 17]
(평균 치환기 도입수 n=1.1)(Average substituent introduced number n = 1.1)
(합성예8)(Synthesis Example 8)
합성예1에 있어서, 메틸모노아민 40% 수용액 23질량부 대신에 3-티에닐모노아민 29.4질량부를 사용한 이외에는 합성예1과 같은 조작을 행하여, 하기 [화 18]로 표시되는 화합물을 얻었다.The same procedures as in Synthesis Example 1 were carried out except that 29.4 parts by mass of 3-thienyl monoamine was used instead of 23 parts by mass of the 40% aqueous solution of methylmonoamine in Synthesis Example 1 to obtain the compound represented by the following formula [18].
[화 18][Figure 18]
(평균 치환기 도입수 n=1.1)(Average substituent introduced number n = 1.1)
(실시예1)(Example 1)
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액의 제조>≪ Preparation of dispersion of phthalocyanine nano size structure and phthalocyanine nano size structure >
무치환 프탈로시아닌으로서 구리프탈로시아닌(Fastogen Blue 5380E(상품명, DIC제)) 1.6g과, 치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 합성예1에서 얻어진 [화 11]로 표시되는 프탈로시아닌 유도체 1.2g을 진한 황산(간토가가쿠제) 81g에 투입하여 완전히 용해시켜, 진한 황산 용액을 조제했다. 이어서, 증류수 730g을 1000mL의 비커에 투입하고, 이것을 빙수로 충분히 냉각한 후, 당해 증류수를 교반하면서, 먼저 조제한 진한 황산 용액을 투입하여, 무치환 구리프탈로시아닌과 [화 11]로 표시되는 구리프탈로시아닌 유도체로 이루어지는 복합체를 석출시켰다.1.6 g of copper phthalocyanine (Fastogen Blue 5380E (trade name, manufactured by DIC)) as an unsubstituted phthalocyanine and 1.2 g of a phthalocyanine derivative represented by the formula [11] obtained in Synthesis Example 1 as a substituent-containing phthalocyanine were dissolved in concentrated sulfuric acid ) To completely dissolve it to prepare a concentrated sulfuric acid solution. Subsequently, 730 g of distilled water was poured into 1000 mL of beaker. After sufficiently cooling with ice water, the concentrated sulfuric acid solution prepared beforehand was added while stirring the distilled water, to obtain a copper phthalocyanine derivative represented by the following formula Was precipitated.
이어서 얻어진 당해 복합체를, 여과지를 사용하여 여과하고, 증류수를 사용하여 충분히 세정하고, 그 후, 진공건조기로 탈수 처리를 했다.Subsequently, the complex thus obtained was filtered using a filter paper, sufficiently washed with distilled water, and then dehydrated by a vacuum dryer.
상기, 무치환 구리프탈로시아닌과 [화 11]로 표시되는 구리프탈로시아닌 유도체로 이루어지는 복합체 12g을 용량 50mL의 폴리프로필렌제 용기에 투입하고, 추가로 디클로로벤젠을 가해서, 당해 복합체(고형분)의 디클로로벤젠에 대한 중량비를 10%(고형분 농도 10%)로 하고, 이어서 φ0.5㎜의 지르코니아 비드 60g을 가하고, 페인트쉐이커를 사용하여 2시간 처리했다(복합체의 미립자화). 이어서 미립자화한 복합체의 분산액을 지르코니아 비드로부터 분리 회수하고, 추가로 디클로로벤젠을 가해서 고형분 농도를 2%까지 엷게 했다(미립자화 복합체의 디클로로벤젠 2% 분산액의 조정).12 g of the composite of the above-mentioned unsubstituted copper phthalocyanine and the copper phthalocyanine derivative represented by [Chemical Formula 11] was placed in a polypropylene container having a capacity of 50 mL, and further dichlorobenzene was added thereto to obtain a solution of the complex (solid content) 60 g of zirconia beads having a diameter of 0.5 mm was added to the resulting mixture at a weight ratio of 10% (solid content concentration of 10%), and the mixture was treated with a paint shaker for 2 hours. The dispersion of the microparticulated complex was then separated and recovered from the zirconia beads and further added with dichlorobenzene to reduce the solids concentration to 2% (adjustment of the 2% dispersion of dichlorobenzene in the particulate composite).
다음으로, 상기 미립자화 복합체의 디클로로벤젠 2% 분산액 10g을 내압용기에 분취하고, 90분 걸쳐서 200℃까지 승온했다. 200℃에 도달 후, 그대로의 온도에서 30분간 가열을 더 계속하고, 그 후 냉각했다. 이에 따라, 프탈로시아닌이 나노사이즈로 1차원 결정 성장한 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을, 고형분 농도 2%로 디클로로벤젠에 분산한 상태에서 얻었다(프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(1)).Next, 10 g of a 2% dispersion of dichlorobenzene in the above-mentioned particulate composite was put in a pressure-resistant container, and the temperature was raised to 200 DEG C over 90 minutes. After reaching 200 캜, heating was further continued for 30 minutes at the same temperature, and then cooling was carried out. Thus, a phthalocyanine nano-size structure in which phthalocyanine was one-dimensionally crystallized and grown in nano-size was obtained in a state of being dispersed in dichlorobenzene at a solid concentration of 2% (phthalocyanine nano-size structure dispersion (1)).
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물의 확인은, 당해 분산액의 고형분의 형상을 투과형 전자현미경으로 관찰하고, 또한 당해 고형분막의 결정 구조를 X선 회절(XRD) 측정으로 관찰함으로써 행했다. 도 5에 투과형 전자현미경상을 나타냈다. 도면으로부터, 상기 분산액(1) 중의 고형분의 형상이, 장경과 단경을 갖고, 그 단경이 100㎚ 이하인 나노사이즈 구조물인 것이 확인되었다. 또한, 당해 고형분막은, XRD 측정에 의해, 2θ=6.9, 10.2, 15.7에 피크를 나타내고, 프탈로시아닌 α결정 유래의 결정 구조를 가지고 있는 것이 확인되었다. 이상으로부터, 본 제조법으로 얻어진 고형분이, 장경과 단경을 갖고, 그 단경이 100㎚ 이하인 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물인 것이 확인되었다.The phthalocyanine nano size structure was confirmed by observing the shape of the solid content of the dispersion by a transmission electron microscope and observing the crystal structure of the solid film by X-ray diffraction (XRD) measurement. FIG. 5 shows a transmission electron microscope image. From the figure, it was confirmed that the shape of the solid content in the dispersion (1) is a nano-sized structure having a long diameter and a short diameter and a short diameter of 100 nm or less. Further, it was confirmed by XRD measurement that the solid film exhibited peaks at 2? = 6.9, 10.2, and 15.7, and had a crystal structure derived from phthalocyanine? Crystal. From the above, it was confirmed that the solid content obtained by the present production method is a phthalocyanine nano size structure having a long diameter and a short diameter and a short diameter of 100 nm or less.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
n형의 실리콘 기판을 준비하여 이것을 게이트 전극으로 하고, 이 표면층을 열산화 처리하여 산화실리콘으로 이루어지는 게이트 절연막을 형성했다. 여기에, 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(1)을 스핀 코팅하고, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물로 이루어지는 반도체막(채널부)을 형성했다. 다음으로, 증착 성막에 의해, 금박막으로 이루어지는 소스·드레인 전극을 패턴 형성하여, 트랜지스터(1)를 제조했다. 또, 채널 길이L(소스 전극-드레인 전극 간격)을 75㎛, 채널폭W를 5.0㎜로 했다.An n-type silicon substrate was prepared and used as a gate electrode, and this surface layer was subjected to thermal oxidation treatment to form a gate insulating film made of silicon oxide. The above-mentioned dispersion (1) of the phthalocyanine nano size structure was spin-coated to form a semiconductor film (channel portion) comprising a phthalocyanine nano size structure. Next, a source / drain electrode made of a gold thin film was pattern-formed by a vapor deposition film to form a
상기 트랜지스터(1)에 대해서, 트랜지스터 특성을 평가했다. 트랜지스터 특성의 평가는, 디지털 멀티미터(SMU237, 키슬리제)를 사용하여, 게이트 전극에 0∼-80V 전압(Vg)을 스위프 인가하고, -80V 인가한 소스·드레인 전극 간의 전류(Id)를 측정함으로써 행했다. 결과는, 이동도가 5×10-3, ON/OFF비가 104였다. 또, 이동도는 √Id-Vg의 기울기로부터, 주지의 방법에 의해 구했다. 단위는 ㎠/V·s이다. 또한, ON/OFF비는 (Id의 절대값의 최대값)/(Id의 절대값의 최소값)으로 구했다.For the
<광전변환 소자의 제조와 광전변환 특성의 평가>≪ Production of photoelectric conversion element and evaluation of photoelectric conversion characteristic >
상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(1) 150㎎과 PCBM(프론티어카본제) 45㎎과 오르토디클로로벤젠 200㎎을 샘플병 중에 투입하고, 초음파 세정기(47㎑) 중에서 30분간 초음파 조사하는 것에 의해 광전변환 소자용 재료(1)를 얻었다.150 mg of the dispersion of the phthalocyanine nano-sized structure (1), 45 mg of PCBM (manufactured by Frontier Carbon Co., Ltd.) and 200 mg of orthodichlorobenzene were charged into a sample bottle and ultrasonically irradiated for 30 minutes in an ultrasonic cleaner (47 kHz) (1) was obtained.
유리 기판에 스퍼터링법에 의해 양극이 되는 ITO 투명 도전층을 100㎚ 퇴적시켜, 이것을 포토리소그래피-에칭법에 의해 2㎜폭의 스트립(strip)상으로 패터닝했다. 얻어진 패턴 ITO 부착 유리 기판을, 중성 세제, 증류수, 아세톤, 에탄올의 순으로 각각에 대해서 15분간 초음파 세정을 3회 실시한 후, 30분간 UV/오존 처리하고, 이 위에 PEDOT:PSS 수분산액(AI4083(상품명, HCStarck제))을 스핀 코팅함으로써, PEDOT:PSS로 이루어지는 버퍼층(1)을 60㎚의 두께로 ITO 투명 전극층 상에 형성했다. 이것을 100℃로 가열한 핫플레이트상에서 5분간 건조한 후, 당해 PEDOT:PSS층 상에 상기 광전변환층용 재료(1)를 스핀 코팅하고, 막두께 100㎚의 광전변환층용 재료(1) 유래의 유기 반도체층을 형성했다. 그 후, 상기 「유기 반도체층이 형성된 기판」과 증착용 메탈 마스크(2㎜폭의 직사각형 패턴 형성용)를 진공 증착 장치 내에 설치하여, 장치 내의 진공도를 5×10-4㎩까지 높인 후, 저항 가열법에 의해, 음극이 되는 알루미늄을 2㎜폭의 직사각형 패턴이 되도록 증착 퇴적했다(막두께 : 80㎚). 이상과 같이 하여, 면적이 2㎜×2㎜(스트립상의 ITO층과 알루미늄층이 교차하는 부분)인 광전변환 소자(1)를 제조했다.An ITO transparent conductive layer serving as an anode was deposited on the glass substrate by sputtering to a thickness of 100 nm, and the ITO transparent conductive layer was patterned on a strip of 2 mm width by photolithography-etching. The resulting patterned ITO glass substrate was subjected to ultrasonic cleaning three times for 15 minutes each in the order of a neutral detergent, distilled water, acetone and ethanol, followed by UV / ozone treatment for 30 minutes. A PEDOT: PSS aqueous dispersion (AI4083 Manufactured by HCS Tarck) was spin-coated to form a
상기 광전변환 소자(1)의 양극과 음극을 디지털 멀티미터(6241A, 제품명(ADC제))에 접속하여, 스펙트럼 형상 : AM1.5, 조사 강도 : 100㎽/㎠의 유사 태양광(간이형 솔라 시뮬레이터 XES151S(제품명, 산에이덴키 세이사쿠쇼제))의 조사하(ITO층 측으로부터 조사), 대기 중에서 전압을 -0.1V∼+0.8V까지 소인(掃引)하고, 전류값을 측정했다. 이때의 단락 전류 밀도(인가 전압이 0V일 때의 전류 밀도의 값. 이하, Jsc)는 4.93㎃/㎠, 개방단 전압(전류 밀도가 0이 될 때의 인가 전압의 값. 이하, Voc)은 0.56V, 필 팩터(FF)는 0.37이며, 이들의 값으로부터 산출한 광전변환 효율(PCE)은 1.01%였다. 또, FF와 PCE는 다음 식에 의해 산출했다.The positive and negative electrodes of the
FF=JVmax/(Jsc×Voc)FF = JV max / (J sc x V oc )
(여기에서, JVmax는, 인가 전압이 0V로부터 개방단 전압값 사이에서 전류 밀도와 인가 전압의 곱이 최대가 되는 점에 있어서의 전류 밀도와 인가 전압의 곱의 값이다)(Where JV max is a product of the current density and the applied voltage at a point where the product of the current density and the applied voltage becomes maximum between the applied voltage of 0 V and the open-ended voltage value)
PCE=[(Jsc×Voc×FF)/유사 태양광 강도(100㎽/㎠)]×100(%)PCE = [(J sc x V oc x FF) / similar solar light intensity (100 mW / cm 2)] x 100 (%)
(실시예2)(Example 2)
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액의 제조>≪ Preparation of dispersion of phthalocyanine nano size structure and phthalocyanine nano size structure >
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 합성예(2)에서 얻은 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(2)을 얻었다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (2) was obtained in the same manner as in Example (1), except that the sulfamoyl group substituted phthalocyanine obtained in Synthesis Example (2) was used as the phthalocyanine having a substituent.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(2)을 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(2)를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다.A transistor (2) was obtained as the embodiment (1) except that the above-mentioned phthalocyanine nano-size structure dispersion (2) was used in the dispersion of the phthalocyanine nano size structure. The evaluation results of the characteristics are summarized in Table 1.
(실시예3)(Example 3)
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액의 제조>≪ Preparation of dispersion of phthalocyanine nano size structure and phthalocyanine nano size structure >
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 합성예(3)에서 얻은 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(3)을 얻었다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (3) was obtained in the same manner as in Example (1), except that the sulfamoyl group substituted phthalocyanine obtained in Synthesis Example (3) was used as the phthalocyanine having a substituent.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(3)을 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(3)를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다.A transistor (3) was obtained as the embodiment (1) except that the above-mentioned phthalocyanine nano size structure dispersion (3) was used in the dispersion of the phthalocyanine nano size structure. The evaluation results of the characteristics are summarized in Table 1.
(실시예4)(Example 4)
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액의 제조>≪ Preparation of dispersion of phthalocyanine nano size structure and phthalocyanine nano size structure >
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 합성예(4)에서 얻은 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(4)을 얻었다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (4) was obtained in the same manner as in Example (1), except that the sulfamoyl group substituted phthalocyanine obtained in Synthesis Example (4) was used as a phthalocyanine having a substituent.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(4)을 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(4)를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다.A transistor (4) was obtained as the example (1) except that the above-mentioned phthalocyanine nano-size structure dispersion (4) was used in the dispersion of the phthalocyanine nano size structure. The evaluation results of the characteristics are summarized in Table 1.
(실시예5)(Example 5)
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액의 제조>≪ Preparation of dispersion of phthalocyanine nano size structure and phthalocyanine nano size structure >
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 합성예(5)에서 얻은 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(5)을 얻었다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (5) was obtained in the same manner as in Example (1), except that the sulfamoyl group substituted phthalocyanine obtained in Synthesis Example (5) was used as the phthalocyanine having a substituent.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(5)을 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(5)를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다.A transistor (5) was obtained as the embodiment (1) except that the phthalocyanine nano size structure dispersion (5) was used for the dispersion of the phthalocyanine nano size structure. The evaluation results of the characteristics are summarized in Table 1.
(실시예6)(Example 6)
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액의 제조>≪ Preparation of dispersion of phthalocyanine nano size structure and phthalocyanine nano size structure >
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 합성예(6)에서 얻은 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(6)을 얻었다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (6) was obtained in the same manner as in Example (1), except that the sulfamoyl group substituted phthalocyanine obtained in Synthesis Example (6) was used as the phthalocyanine having a substituent.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(6)을 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(6)를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다.A
(실시예7)(Example 7)
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액의 제조>≪ Preparation of dispersion of phthalocyanine nano size structure and phthalocyanine nano size structure >
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 합성예(7)에서 얻은 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(7)을 얻었다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (7) was obtained in the same manner as in Example (1), except that the sulfamoyl group substituted phthalocyanine obtained in Synthesis Example (7) was used as the phthalocyanine having a substituent.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(7)을 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(7)를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다Transistor (7) was obtained as Example (1) except that the above-mentioned phthalocyanine nano size structure dispersion (7) was used in the dispersion of the phthalocyanine nano size structure. The evaluation results of the characteristics are summarized in Table 1
(실시예8)(Example 8)
<프탈로시아닌 나노사이즈 구조물과 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액의 제조>≪ Preparation of dispersion of phthalocyanine nano size structure and phthalocyanine nano size structure >
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 합성예(8)에서 얻은 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(8)을 얻었다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (8) was obtained in the same manner as in Example (1), except that the sulfamoyl group substituted phthalocyanine obtained in Synthesis Example (8) was used as the phthalocyanine having a substituent.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(8)을 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(8)를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다.A transistor 8 was obtained as the embodiment (1) except that the phthalocyanine nano size structure dispersion (8) was used for the dispersion of the phthalocyanine nano size structure. The evaluation results of the characteristics are summarized in Table 1.
(비교예1)(Comparative Example 1)
WO2010/122921호 공보에 기재된 방법으로 [화 19]의 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 합성했다.The sulfamoyl group-substituted phthalocyanine of [Chemical Formula 19] was synthesized by the method described in WO2010 / 122921.
[화 19][19]
상기 화합물에 있어서, Q는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, 프로필렌옥사이드/에틸렌옥사이드=29/6(몰비), n의 평균값=35, m의 평균값=1.2이다.In the above compound, Q represents a hydrogen atom or a methyl group, and has an average value of propylene oxide / ethylene oxide = 29/6 (molar ratio), n = 35, and an average value of m = 1.2.
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 [화 19]로 표시되는 설파모일기 치환 프탈로시아닌을 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(1)'를 얻었다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (1) 'was obtained in the same manner as in Example (1) except that the sulfamoyl group substituted phthalocyanine represented by [Chemical Formula 19] was used as a phthalocyanine having a substituent.
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(1)'를 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(1)'를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다.Transistor (1) 'was obtained as Example (1) except that the above-mentioned phthalocyanine nano size structure dispersion (1) was used in the dispersion of the phthalocyanine nano size structure. The evaluation results of the characteristics are summarized in Table 1.
(비교예2)(Comparative Example 2)
치환기를 갖는 프탈로시아닌으로서 [화 20]로 표시되는 프탈로시아닌 유도체를 사용하는 이외에는 실시예(1)와 같게 하여, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(2)'를 얻었다. 분산액의 조정에 대해서는 WO2010/122921호 공보에 기재된 방법에 따랐다.A phthalocyanine nano size structure dispersion (2) 'was obtained in the same manner as in Example (1), except that the phthalocyanine derivative represented by the formula [20] was used as the phthalocyanine having a substituent. Regarding the adjustment of the dispersion, the method described in WO2010 / 122921 was followed.
[화 20][20]
<트랜지스터의 제조와 트랜지스터 특성(이동도)의 평가>≪ Evaluation of transistor fabrication and transistor characteristics (mobility)
프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액에 상기 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물 분산액(2)'를 사용하는 이외에는 실시예(1)로서 트랜지스터(2)'를 얻었다. 특성의 평가 결과를 표 1에 정리했다.A transistor (2) 'was obtained as the example (1) except that the phthalocyanine nano size structure dispersion (2)' was used in the dispersion of the phthalocyanine nano size structure. The evaluation results of the characteristics are summarized in Table 1.
[표 1][Table 1]
본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물에 의하면, 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 구성하는 재료에, 최적화된 구조의 프탈로시아닌 유도체를 사용하기 위해, 특성이 향상한 전자 소자(트랜지스터 등)을 구축하는 것이 가능해진다.According to the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention, it is possible to construct an electronic device (transistor or the like) having improved characteristics in order to use a phthalocyanine derivative having an optimized structure in the material constituting the phthalocyanine nano-sized structure.
1…기판
2…전극a
3…광전변환층
4…전극b
5…본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 층(전극a가 양극의 경우), 또는 전자 수용성 재료를 함유하는 층(전극a가 음극의 경우)
6…전자 수용성 재료를 함유하는 층(전극b가 음극의 경우), 또는 본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 층(전극b가 양극의 경우)
7…기판
8…게이트 전극
9…게이트 절연막
10…소스 전극
11…드레인 전극
12…본 발명의 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 함유하는 반도체층One… Board
2… Electrode a
3 ... Photoelectric conversion layer
4… Electrode b
5 ... The layer containing the phthalocyanine nano-sized structure of the present invention (in the case of the electrode a being the anode) or the layer containing the electron-accepting material (in the case of the electrode a being the cathode)
6 ... A layer containing an electron-accepting material (when the electrode b is a cathode) or a layer containing the phthalocyanine nano-size structure of the present invention (when the electrode b is an anode)
7 ... Board
8… Gate electrode
9 ... Gate insulating film
10 ... Source electrode
11 ... Drain electrode
12 ... The semiconductor layer containing the phthalocyanine nano size structure of the present invention
Claims (9)
구조물의 형상이, 장경과 단경을 갖고, 그 단경이 500㎚ 이하이며,
무치환 프탈로시아닌이, 일반식(1) 또는 (2)로 표시되는 것이며,
(단, 식 중, X는, 구리 원자, 아연 원자, 코발트 원자, 니켈 원자, 주석 원자, 납 원자, 마그네슘 원자, 철 원자, 팔라듐 원자, 칼슘 원자, GeO, TiO, VO 및 AlCl로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나이다)
치환기를 갖는 프탈로시아닌이, 일반식(3) 또는 (4)로 표시되는 것인 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물.
(단, 식 중, X는, 구리 원자, 아연 원자, 코발트 원자, 니켈 원자, 주석 원자, 납 원자, 마그네슘 원자, 철 원자, 팔라듐 원자, 칼슘 원자, GeO, TiO, VO 및 AlCl로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나이며,
프탈로시아닌 골격의 벤젠환에 있는 각 수소 원자는 불소, 염소, 브롬으로 치환되어 있어도 되며, Z1∼Z8은, 각각 독립으로, 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼30의 비환상 탄화수소기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1∼30의 환상 탄화수소기, 치환기를 가져도 되는 헤테로아릴기이며, a, b, c, 및 d는 각각 독립으로 0∼4의 정수를 나타내지만 적어도 1개는 0이 아니며, Z1∼Z8이 일반식(5), 또는 (6)인 경우, 및 모두 수소 원자인 경우를 제외한다.
(여기에서, q는 4∼100의 정수이며, Q는 각각 독립으로 수소 원자 또는 메틸기이며, Q'는 탄소수 1∼30의 비환상 탄화수소기이다)
(여기에서, m은 1∼20의 정수이며, R 및 R'는, 각각 독립으로 탄소수 1∼20의 알킬기이다))A nano-sized structure containing an unsubstituted phthalocyanine and a phthalocyanine having a substituent,
The shape of the structure has a long diameter and a short diameter, a short diameter is 500 nm or less,
Wherein the unsubstituted phthalocyanine is represented by the general formula (1) or (2)
X is a group selected from the group consisting of a copper atom, a zinc atom, a cobalt atom, a nickel atom, a tin atom, a lead atom, a magnesium atom, an iron atom, a palladium atom, a calcium atom, GeO, TiO, VO, and AlCl Which is selected)
A phthalocyanine nano-sized structure wherein the phthalocyanine having a substituent is represented by the general formula (3) or (4).
X is a group selected from the group consisting of a copper atom, a zinc atom, a cobalt atom, a nickel atom, a tin atom, a lead atom, a magnesium atom, an iron atom, a palladium atom, a calcium atom, GeO, TiO, VO, and AlCl Which is selected,
Each hydrogen atom in the benzene ring of the phthalocyanine skeleton may be substituted with fluorine, chlorine, bromine, and Z 1 to Z 8 each independently represent a hydrogen atom, a noncyclic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent , A, b, c, and d each independently represent an integer of 0 to 4, provided that at least one of them is a divalent linking group selected from the group consisting of 0 , And when Z 1 to Z 8 are the general formula (5) or (6), and both are hydrogen atoms.
(Wherein q is an integer of 4 to 100, each Q is independently a hydrogen atom or a methyl group, and Q 'is a non-cyclic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms)
(Wherein m is an integer of 1 to 20, and R and R 'each independently represent an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms)
Z1∼Z8이, 탄소수 1∼22의 비환상 혹은 환상 알킬기, 페닐기, 티에닐기, 및 하기 (7)∼(12)로 이루어지는 군에서 선택되는 기인 나노사이즈 구조물.
(식 중, R1 및 R2는, 탄소수 1∼4의 알킬기를 나타낸다)The method according to claim 1,
Z 1 to Z 8 are a group selected from the group consisting of a non-cyclic or cyclic alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, a phenyl group, a thienyl group, and the following groups (7) to (12).
(Wherein R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms)
탄소수 1∼22의 비환상 혹은 환상 알킬기가, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, 1-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-노나데실기, n-도코실기, 시클로헥실기인 나노사이즈 구조물.3. The method of claim 2,
The non-cyclic or cyclic alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec- N-heptyl group, n-heptyl group, n-heptyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-docosyl group and cyclohexyl group.
양극과 음극 사이에 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 프탈로시아닌 나노사이즈 구조물을 포함하는 막을 갖는 것을 특징으로 하는 광전변환 소자.A photoelectric conversion element having at least an anode and a cathode,
A photoelectric conversion element comprising a film containing a phthalocyanine nano-sized structure according to any one of claims 1 to 3 between an anode and a cathode.
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CN104086555B (en) * | 2014-06-20 | 2016-08-17 | 昆明学院 | New crystal structure Cobalt Phthalocyanine (J-CoPc) nano wire and preparation method thereof |
CN104377305A (en) * | 2014-11-13 | 2015-02-25 | 无锡中洁能源技术有限公司 | Degradable photoelectric material and preparing method for degradable photoelectric material |
CN104766802B (en) * | 2015-03-26 | 2019-05-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | The manufacturing method of liquid crystal display panel, array substrate and its thin film transistor (TFT) |
CN104868055B (en) * | 2015-04-09 | 2017-07-14 | 中国科学院化学研究所 | Organic heterojunction thin film photoresistor and the photosensitive divider based on organic conjugated molecule |
KR20170114799A (en) * | 2016-04-06 | 2017-10-16 | 현대자동차주식회사 | A hole transporting material having high heat-resisting property, a perovskite solar cell comprising the same and a method of manufacturing the perovskite solar cell |
CN106117983A (en) * | 2016-07-25 | 2016-11-16 | 广西南宁胜祺安科技开发有限公司 | A kind of novel solar battery degradable environment-friendly type photoelectric material |
CN106084673A (en) * | 2016-07-25 | 2016-11-09 | 广西南宁胜祺安科技开发有限公司 | A kind of degradable photoelectric material |
JP2018064037A (en) * | 2016-10-13 | 2018-04-19 | 国立大学法人島根大学 | Light absorption layer formation method using carbon onion and bulk hetero junction structure |
CN109935663B (en) * | 2017-12-15 | 2021-06-22 | Tcl科技集团股份有限公司 | Preparation method of composite material film and QLED device |
CN109103335A (en) * | 2018-07-19 | 2018-12-28 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | A kind of phthalocyanines photodetector and preparation method thereof |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002121420A (en) | 2000-08-07 | 2002-04-23 | Dainippon Ink & Chem Inc | Copper phthalocyanine pigment and method for producing the same |
JP2004091560A (en) | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Japan Science & Technology Corp | New method for producing pigment nanoparticle |
JP2008303383A (en) | 2007-05-10 | 2008-12-18 | Fujifilm Corp | Organic semiconductor containing phthalocyanine compound |
JP2009280531A (en) | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Dic Corp | Metal phthalocyanine nanowire and method for producing the same |
WO2010122921A1 (en) | 2009-04-23 | 2010-10-28 | Dic株式会社 | Phthalocyanine nanowires, ink composition and electronic element each containing same, and method for producing phthalocyanine nanowires |
WO2011065133A1 (en) | 2009-11-26 | 2011-06-03 | Dic株式会社 | Material for photoelectric conversion element, and photoelectric conversion element |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61104601A (en) * | 1984-10-29 | 1986-05-22 | Dainippon Ink & Chem Inc | Coated magnetic powder and manufacture thereof |
JP2001131453A (en) * | 1999-11-05 | 2001-05-15 | Mitsui Chemicals Inc | Phthalocyanine compound containing ink |
CA2437007C (en) | 2001-01-31 | 2008-07-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Phthalocyanine compound, ink, inkjet recording ink, inkjet recording method and method for improving ozone gas resistance of color image material |
JP4486810B2 (en) | 2003-01-08 | 2010-06-23 | 富士フイルム株式会社 | Coloring composition and inkjet recording method |
JP2009227692A (en) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Fujifilm Corp | Method of manufacturing pigment dispersion, pigment dispersion, inkjet recording ink, and ink set |
JP4666115B1 (en) * | 2009-09-04 | 2011-04-06 | Dic株式会社 | Phthalocyanine nanowire, ink composition and electronic device containing the same, and method for producing phthalocyanine nanowire |
TWI413662B (en) * | 2011-05-19 | 2013-11-01 | Dainippon Ink & Chemicals | Phthalocyanin nanorod and photoelectric conversion element |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002121420A (en) | 2000-08-07 | 2002-04-23 | Dainippon Ink & Chem Inc | Copper phthalocyanine pigment and method for producing the same |
JP2004091560A (en) | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Japan Science & Technology Corp | New method for producing pigment nanoparticle |
JP2008303383A (en) | 2007-05-10 | 2008-12-18 | Fujifilm Corp | Organic semiconductor containing phthalocyanine compound |
JP2009280531A (en) | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Dic Corp | Metal phthalocyanine nanowire and method for producing the same |
WO2010122921A1 (en) | 2009-04-23 | 2010-10-28 | Dic株式会社 | Phthalocyanine nanowires, ink composition and electronic element each containing same, and method for producing phthalocyanine nanowires |
KR20110049824A (en) * | 2009-04-23 | 2011-05-12 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | Phthalocyanine nanowires, ink composition and electronic element each containing same, and method for producing phthalocyanine nanowires |
EP2423264A1 (en) * | 2009-04-23 | 2012-02-29 | DIC Corporation | Phthalocyanine nanowires, ink composition and electronic element each containing same, and method for producing phthalocyanine nanowires |
WO2011065133A1 (en) | 2009-11-26 | 2011-06-03 | Dic株式会社 | Material for photoelectric conversion element, and photoelectric conversion element |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
어드밴스드 머티리얼즈(Advanced Materials) 2002년, 제14호, P.99 |
어플라이드 피직스 레터스(Applied Physics Letters) 2005년, 제86호, P.22103 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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