KR20140098159A - Method for exfoliating coating layer of electrode for electrolysis - Google Patents

Method for exfoliating coating layer of electrode for electrolysis Download PDF

Info

Publication number
KR20140098159A
KR20140098159A KR1020147016932A KR20147016932A KR20140098159A KR 20140098159 A KR20140098159 A KR 20140098159A KR 1020147016932 A KR1020147016932 A KR 1020147016932A KR 20147016932 A KR20147016932 A KR 20147016932A KR 20140098159 A KR20140098159 A KR 20140098159A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
alkali
mass
coating layer
titanium
Prior art date
Application number
KR1020147016932A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101583176B1 (en
Inventor
노부유키 가와구치
겐이치 우에노
다모츠 하야시
미호 가가미
Original Assignee
페르메렉덴꾜꾸가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 페르메렉덴꾜꾸가부시끼가이샤 filed Critical 페르메렉덴꾜꾸가부시끼가이샤
Publication of KR20140098159A publication Critical patent/KR20140098159A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101583176B1 publication Critical patent/KR101583176B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B11/00Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/14Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/02Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with acid solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B15/00Operating or servicing cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C7/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
    • C25C7/06Operating or servicing

Abstract

본 발명은, 티탄 및 탄탈과 같은 밸브 메탈(valve metals) 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체(電極基體; electrode substrate)의 표면 위에 귀금속 및/또는 그의 금속 산화물을 포함하는 전극 물질을 함유하는 피복층을 갖는 불용성 금속 전극을 포함하는 전해(電解)용의 사용된 전극의 티탄 또는 티탄 합금 기재(基材; substrate material)을 포함하는 도전성 기체(基體)의 표면으로부터 피복층을 효과적으로 박리하고, 이어서 상기 귀금속 및/또는 티탄 또는 티탄 합금 기재의 도전성 기체를 회수하여 재사용하기 위한 방법에 관한 것이다. 상기 박리방법은 피복층을 갖는 불용성 금속 전극을, 가성 알칼리 수용액을 사용한 알칼리 처리공정, 가열 및 소성 공정 및 산 처리 공정으로 순차적으로 처리하는 단계들을 포함하되, 상기 알칼리 처리 공정은 가성 알칼리 수용액에 증점제를 첨가하여 제조된 알칼리 처리액을 사용함으로써 수행된다.The present invention relates to a coating layer containing an electrode material containing a noble metal and / or a metal oxide on the surface of an electrode substrate (electrode substrate) including valve metals or valve metal alloys such as titanium and tantalum And the titanium alloy or the substrate material of the electrode used for electrolysis containing an insoluble metal electrode having an insoluble metal electrode having an insoluble metal electrode having a specific surface area And / or a method for recovering and reusing a conductive substrate of a titanium or titanium alloy base. The removing method includes sequentially treating an insoluble metal electrode having a coating layer with an alkaline treatment process using a pseudo alkali aqueous solution, a heating and a firing process, and an acid treatment process, wherein the alkali treatment process comprises adding a thickener to the caustic alkali aqueous solution By using an alkali treatment liquid prepared by adding the alkali treatment liquid.

Description

전해용 전극의 피복층의 박리방법{METHOD FOR EXFOLIATING COATING LAYER OF ELECTRODE FOR ELECTROLYSIS}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a method of separating a coating layer of an electrolytic electrode,

본 발명은, 티탄 및 탄탈과 같은 밸브 메탈(valve metals) 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체(電極基體; electrode substrate)의 표면 위에 귀금속 및/또는 그의 금속 산화물을 포함하는 전극 물질을 함유하는 피복층을 갖는 불용성 금속 전극을 포함하는 전해(電解)용의 사용된 전극의 티탄 또는 티탄 합금 기재(基材; substrate material)을 포함하는 도전성 기체(基體)의 표면으로부터 피복층을 효과적으로 박리하고, 이어서 상기 귀금속 및/또는 티탄 또는 티탄 합금 기재의 도전성 기체를 회수하여 재사용하기 위한 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a coating layer containing an electrode material containing a noble metal and / or a metal oxide on the surface of an electrode substrate (electrode substrate) including valve metals or valve metal alloys such as titanium and tantalum And the titanium alloy or the substrate material of the electrode used for electrolysis containing an insoluble metal electrode having an insoluble metal electrode having an insoluble metal electrode having a specific surface area And / or a method for recovering and reusing a conductive substrate of a titanium or titanium alloy base.

그러나, 이러한 종류의 전해용 전극은, 일정 기간 이상 사용하면, 티탄 및 탄탈과 같은 밸브 메탈 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체와 귀금속 및/또는 그의 귀금속 산화물을 포함하는 전극 물질을 포함한 피복층 사이의 계면에 부식이 발생하게 되고, 이것이 기체의 표면 위에 부동태층(不動態層; passive layer)을 형성하여 재활성화 처리를 곤란하게 한다. 결과적으로, 새로운 표면이 나올 때까지 기체 표면을 깎거나, 또는 전극이 새로운 전극 기재로부터 제작되어야만 한다. However, when used for a certain period of time or more, this type of electrolytic electrode can not be used for a long period of time between electrode gasses including a valve metal such as titanium and tantalum or a valve metal alloy and a coating layer containing an electrode material containing noble metal and / Corrosion occurs at the interface, which forms a passive layer on the surface of the gas, which makes the reactivation process difficult. As a result, the surface of the substrate must be shaved until a new surface appears, or the electrode must be fabricated from a new electrode substrate.

또한, 전해용 전극 중에서도 산소 발생용 전극의 경우, 티탄 및 탄탈과 같은 밸브 메탈 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체의 표면 위에, 이온 플레이팅(ion plating)을 포함한, 진공 스패터링(vacuum spattering)에 의해서 형성된 탄탈 및 니오븀과 같은 금속들을 포함하는 0.5 내지 3㎛의 박막, 및 상기 박막의 표면 위에 피복된 이리듐 산화물을 함유하는 전극 피복층을 갖는 전해용 전극이 사용될 때 전극 기재와 피복층 사이에 계면 부식이 발생하지 않는다(예를 들어 특허문헌 1 참조). Among the electrolytic electrodes, in the case of an electrode for generating oxygen, vacuum spattering is performed on the surface of an electrode base including a valve metal such as titanium and tantalum or a valve metal alloy, including ion plating, When an electrolytic electrode having an electrode coating layer containing iridium oxide coated on the surface of the thin film and a thin film of 0.5 to 3 占 퐉 containing metals such as tantalum and niobium formed by the electrode substrate and the coating layer is used, (For example, see Patent Document 1).

그러나, 이러한 산소 발생용 전극이 전해 반응에 적용되어 동박(copper foil)을 생성하는 경우, 전해적으로는, 전해용 전극의 표면 위에 상기 동박 제조용 전해액 중에 납 및 안티몬을 함유하는 화학 화합물이 부착된다. 전해 반응에서 전해액 중의 납은 양호한 도전체인 산화 납으로서 부착되지만, 안티몬은 불량한 도전체인 산화 안티몬으로서 부착된다. 한편, 도전성인 산화 납은 전해의 정지시에는 부도체인 황산납으로 변한다. 더욱이, 전극의 표면 위에 부착된 납 및 안티몬은 전해 반응의 개시 및 정지 그리고 전해 반응의 도중에 전해용 전극의 표면으로부터 떨어져 나간다. 결과적으로, 상기 산소 발생용 전극은 전류 분포가 불균일하여 동박 두께의 불량한 품질을 야기하고, 전해용 전극으로서의 장기간 계속해서 사용할 수 없는 결함을 안고 있다. However, when such an oxygen generating electrode is applied to an electrolytic reaction to produce a copper foil, a chemical compound containing lead and antimony is attached to the surface of the electrolytic electrode as electrolytic electrolyte . In the electrolytic reaction, lead in the electrolytic solution adheres as lead oxide which is a good conductor, but antimony is adhered as a poor conductor, antimony oxide. On the other hand, conductive oxidized lead turns into non-conductive lead sulfate when electrolysis is stopped. Moreover, lead and antimony adhered on the surface of the electrode are separated from the surface of the electrolytic electrode during the start and stop of the electrolytic reaction and during the electrolytic reaction. As a result, the oxygen generating electrode has a non-uniform current distribution, resulting in poor quality of the copper foil thickness, and has a defect that can not be used continuously for a long time as an electrolytic electrode.

상기 경우에 있어서, 납 및 안티몬을 포함한 전극 표면 상의 부착물은 전해용 전극의 재활성화를 위해서 스미토모 3M 리미티드(Sumitomo 3M Limited)사에 의해서 제조된 연마제인 스카치 브라이트(Scotch-Brite)(등록상표)와의 전해 반응에 사용된 산소 발생용 전극의 표면으로부터 제거된다(scrapped off). 그러나, 상기 산소 발생용 전극은 연속해서 3개월 사용하는 경우 상기 연마제에 의한 전해용 전극의 재활성화가 곤란하였다. In this case, the deposits on the surface of the electrode including lead and antimony were removed with Scotch-Brite (registered trademark), an abrasive produced by Sumitomo 3M Limited, for reactivation of the electrode for electrolysis. Is scrapped off from the surface of the oxygen generating electrode used in the electrolytic reaction. However, when the oxygen generating electrode is continuously used for three months, it is difficult to reactivate the electrolytic electrode by the abrasive.

도전성 티탄 기체의 표면 위에 산화 루테늄 또는 산화 이리듐의 피복물을 갖는 불용성 금속 전극은 염소-알칼리(chlor-alkali) 전해에 의해서 대표되는 공업적 전해에서 널리 사용되는 것이 잘 알려져 있다. 이러한 전극의 수명은 극히 길고, 그대로 10년 이상 계속해서 사용되는 일이 종종 있다. 그러나, 전극 물질의 열화가 없는 경우에도 비교적 짧은 기간내에 시스템 문제 또는 비도전성 형태 때문에 열화된 전극 물질만이 피복층과 기체 티탄(substrate titanium) 사이에 형성되어 산소 발생용 전극의 경우에서와 유사한 전극으로서의 고장을 유도한다.It is well known that an insoluble metal electrode having a coating of ruthenium oxide or iridium oxide on the surface of a conductive titanium substrate is widely used in industrial electrolysis typified by chlor-alkali electrolysis. The life span of these electrodes is extremely long, and they are often used for over 10 years. However, even if there is no deterioration of the electrode material, only deteriorated electrode material is formed between the coating layer and the substrate titanium due to the system problem or the non-conductive form within a relatively short period of time, Thereby inducing a failure.

이에 대처하기 위한 다양한 전극 재활성화 방법이 제안되어 있다. 전극 기체가 충분히 두껍고 판 형상인 경우 기계 가공으로 깎거나, 블러스트(blast) 등으로 표면 부착물을 제거한 후, 기계 가공으로 잔류물을 제거하거나, 산 세정 또는 알칼리 처리에 의해서 표면을 마모시켜서 표면 잔류물을 제거하는 등의 방법이 단독으로 또는 그들의 조합으로 이용되어 왔다. 이러한 가공을 행하는 경우, 기체인 티탄 또는 티탄 합금은 재사용할 수 있는 가능성이 있지만, 고가의 전극 물질을 함유하는 피복층은 그 양이 적고, 기계 가공이나 블러스트 처리 등의 가공에 의한 가공 자재나 부산물(副生材)의 양이 훨씬 많기 때문에 실질적으로는 회수를 할 수 없었다. 즉 전극 물질 및/또는 전극 기재 회수의 시도가 행해지고, 그 가능성은 발견되었지만, 대부분의 경우 회수 비용이 비싸서 경제적인 이유로 실질적으로는 행해지고 있지 않았다. 또한 화학적으로 알칼리 용융염 중에 침지하는 것이 행해지고 있었으나, 동일하게 기체 티탄 또는 티탄 합금은 회수할 수 있지만, 전극 물질을 포함하는 피복층은 과잉의 용융염에 용해되어 버려서, 기술적으로는 회수할 수 있지만, 경제적인 이유로 행해지지 않고 있다는 것이 현재의 상태이다. Various electrode reactivation methods have been proposed to cope with this. When the electrode body is sufficiently thick and has a plate shape, the surface is worn by machining, removing the surface adherends with a blast or the like, removing the residue by machining, acid cleaning or alkali treatment, Water, and the like have been used alone or in combination thereof. When such processing is performed, titanium or titanium alloy, which is a gaseous substance, is likely to be reusable. However, the coating layer containing an expensive electrode material is small in amount, and processing materials such as machining or blasting, (By-products), the amount of the by-products can not be substantially recovered. In other words, attempts have been made to recover the electrode material and / or the electrode base material, and the possibility has been found, but in most cases, the recovery cost is high and it has not been practically done for economic reasons. In addition, although the gaseous titanium or the titanium alloy can be recovered in the same manner as in the case of chemically immersing in the alkali molten salt, the coating layer containing the electrode material is dissolved in the excessive molten salt and technically recovered, It is the current state that it is not done for economic reasons.

전극 물질을 함유하는 피복층만의 회수하는 것이 고려되는 경우, 상기 방법으로는 기계적으로 박리를 촉진시키는 압연 처리(rolling treatment) 후의 화학적 박리방법, 또는 고온 가열 후에 급냉하는 방법이 제안되어 있다. 이들 방법에 의해서 전극 물질이 회수될 수 있지만, 티탄을 그대로 기체로서 사용할 수는 없으며, 원료로서 재사용하기 위해서는 기체가 재용해(redissolving)되어야 한다.When it is considered that only the coating layer containing the electrode material is to be recovered, there is proposed a chemical peeling method after rolling treatment in which the mechanical peeling is promoted, or a method of quenching after heating at high temperature. Although the electrode material can be recovered by these methods, titanium can not be used as the gas as it is, and the gas must be redissolving to be reused as a raw material.

최근, 티탄의 가격 상승, 공급 부족으로 인하여 티탄 또는 티탄 합금 기체의 입수가 곤란하게 되었고, 그대로 재사용하기 위해서 그로부터의 회수가 요구되고 있다. 또한, 전극 물질을 갖는 피복층에 함유되어 있는 백금족 금속은 극히 고가인 희소 금속이며, 함께 회수되는 것이 기대되고 있지만 약간의 기대가 있는 종래 방법으로는 그의 회수가 불가능하였다. 예를 들어 기체가 충분히 두꺼운 경우에는 회수를 위해 표면 연삭이 적용될 수 있으나, 두께가 1mm 이하인 경우에는 연삭이 실질적으로 불가능하다. 그것이 달성될 수 있을지라도 기체가 만족스러운 통전을 위해서는 얇게 되고 랩핑될 수 있으며, 기체로서의 재사용이 극히 제한된다. 많은 상기 회수 기술들이 제안되어 있다. 하기 특허문헌들이 대표적인 공지 기술들이다. In recent years, due to an increase in the price of titanium and a shortage of supply of titanium, it has become difficult to obtain titanium or titanium alloy gas, and recovery from the titanium or titanium alloy gas is required for reuse. Further, the platinum group metal contained in the coating layer having the electrode material is a rare metal which is extremely expensive, and it is expected that the platinum group metal may be recovered together. However, in the conventional method with slight expectation, its recovery is impossible. For example, when the gas is sufficiently thick, surface grinding can be applied for recovery, but grinding is practically impossible when the thickness is 1 mm or less. Although it can be achieved, the gas can be thinned and lapped for satisfactory energization, and reuse as gas is extremely limited. Many recovery techniques have been proposed. The following patent documents are representative known technologies.

특허문헌 1은 전극 물질을 함유하는 피복층의 박리 방법으로서 전극 기체 표면을 부식성 산으로 용해시켜서 피복물을 분리하여 상기 피복물 및 기체를 회수하는 것을 개시한다. 그러나, 전극 기체와 피복물 사이에 안정되고 강고한 산화물이 존재하고 상기 전극 물질을 함유하는 피복층과 기체 금속 사이에서 화학 결합이 발생하는 것이 종종 일어나기 때문에 현실적으로는 피복물의 박리가 용이하지 않다. Patent Document 1 discloses a method for peeling a coating layer containing an electrode material by dissolving a surface of an electrode base with a corrosive acid to separate the coating and recovering the coating and the gas. However, since a stable and strong oxide is present between the electrode substrate and the coating, and chemical bonds often occur between the coating layer containing the electrode material and the gaseous metal, it is practically not easy to peel the coating.

또한, 특허문헌 2는, 고도로 농축된 알칼리 수용액을 전극 표면에 피복한 다음, 가열하여 전극 물질을 함유하는 피복층을 알칼리 수용액 중에 용해시키는 방식으로 기체 및 피복물을 회수하는 방법을 나타낸다. 그러나 상기 방법은 알칼리 수용액 중에서 티탄 기체의 상당한 마모가 동시에 일어나고 피복물이 알칼리성 매트릭스 중에 용해하며, 이것이 회수를 곤란하게 하는 문제점들은 안고 있다.Patent Document 2 shows a method of recovering a gas and a coating in such a manner that a highly concentrated alkali aqueous solution is coated on an electrode surface and then heated to dissolve a coating layer containing an electrode material in an aqueous alkaline solution. However, this method has problems such that considerable abrasion of titanium gas occurs simultaneously in the aqueous alkaline solution and the coating dissolves in the alkaline matrix, which makes recovery difficult.

특허문헌 3 및 특허문헌 4는 또한 전극 물질을 포함하는 피복층을 물리적, 화학적으로 박리한 후 전극 물질을 함유하는 피복층을 회수하는 방법을 개시한다. 박리 방법으로서, 특허문헌 3 및 4는 기체의 산 부식 또는 연마를 언급하고 있지만, 이들 방법은 기체를 재사용하기 위해서 과도한 마모정도를 초래할 수 있는 기체의 소모를 통해서 피복물을 회수한다. Patent Document 3 and Patent Document 4 also disclose a method of physically and chemically peeling a coating layer containing an electrode material and then recovering a coating layer containing the electrode material. As a peeling method, Patent Documents 3 and 4 refer to acid etching or polishing of the gas, but these methods recover the coating through exhaustion of gas which may cause excessive wear to reuse the gas.

또한 특허문헌 5는 사용된 전극에 대해 압연 처리를 행함으로써, 전극 물질을 함유하는 피복층과 티탄 사이의 부착성을 물리적으로 약화시킨 후 산 처리에 의한 티탄 표면의 부식을 통한 전극 물질의 박리방법을 개시한다. 상기 방법은 또한 티탄 기체, 및 전극 물질을 함유하는 피복층을 동시에 회수하는데 효과적이지만, 여전히 티탄이 회수를 위한 재용해에 필요한 그대로 회수될 수는 없다. Patent Document 5 discloses a method of peeling the electrode material by corrosion of the titanium surface by acid treatment after physically weakening the adhesion between the coating layer containing the electrode material and titanium by performing rolling treatment on the used electrode . The method is also effective in simultaneously recovering the titanium gas and the coating layer containing the electrode material, but still titanium can not be recovered as needed for redissolution for recovery.

특허문헌 6은 전극을 파편으로 절삭하고, 배럴 연마(barrel polishing)시켜서 피복물 및 기체 티탄을 분리 및 회수하는 방법을 개시한다. 상기 방법은 비교적 간단하고 효과적이지만, 기체가 그대로 회수될 수는 없다. Patent Document 6 discloses a method of separating and recovering a coating and gaseous titanium by cutting an electrode into pieces and barrel polishing. Although the process is relatively simple and effective, the gas can not be recovered as it is.

또한, 특허문헌 7은 (1) 전처리로서 전극 표면 위에 가성 알칼리 수용액을 피복하는 공정, (2) 그것을 반응을 위해 350℃ 내지 450℃에서 10분 내지 60분동안 유지시키는 공정, 및 (3) 그것을 염산, 황산, 및 질산, 또는 그들의 혼합물에 침지시키는 공정과 같은 공정들을 제안한다. 이러한 방법에 의해서조차, 가성 알칼리 용액의 유지의 관점에서, 피복 물질이 전극 기체로부터 분리될 수 없으며 전극 기체는 재사용에 그대로 사용될 수 없다. 전술한 바와 같이, 상기 종래 방법들은 전극 물질을 함유하는 피복층 및 기체 금속을 동시에 회수하는 방법을 제공하지 않는다. 따라서, 전극 기체의 티탄 또는 티탄 합금, 및 전극 물질을 함유하는 피복층을 동시에 회수하는 것은 실질적으로 실시되지 않고 있다. Patent Document 7 discloses a process of (1) a step of covering a surface of an electrode with a caustic alkali aqueous solution as a pretreatment, (2) a step of maintaining it at 350 ° C to 450 ° C for 10 minutes to 60 minutes for reaction, and Hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid, or a mixture thereof. Even by this method, in view of the maintenance of the caustic alkali solution, the coating material can not be separated from the electrode substrate, and the electrode substrate can not be used for reuse. As described above, these conventional methods do not provide a method of simultaneously recovering the coating layer containing the electrode material and the gaseous metal. Therefore, it is practically not carried out simultaneously to recover the titanium or titanium alloy of the electrode base and the coating layer containing the electrode material.

일본공개특허공보 소59-123730호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-123730 일본공개특허공보 2002-88494호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-88494 일본공개특허공보 2002-212650호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-212650 일본공개특허공보 2002-194581호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-194581 일본공개특허공보 2001-294948호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-294948 일본공개특허공보 2001-303141호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-303141 일본공개특허공보 2008-81837호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-81837

본 발명은, 티탄 및 탄탈을 포함한 밸브 메탈 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체의 표면으로부터 그 표면 위에 피복된 귀금속 및/또는 그 귀금속 산화물을 포함하는 전극 물질을 함유하는 피복층을 분리하여, 티탄 및 탄탈을 포함한 밸브 메탈 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체를 재사용 가능한 상태로 회수하고 전극 물질을 효과적으로 회수하는 방법을 제공하고자 하는 것이다. The present invention relates to a method for manufacturing a thin film magnetic head comprising separating a coating layer containing a noble metal coated on its surface and / or an electrode material containing the noble metal oxide from a surface of an electrode base including a valve metal or a valve metal alloy including titanium and tantalum, The present invention is to provide a method of effectively recovering an electrode material by recovering an electrode gas including a valve metal or a valve metal alloy containing tantalum in a reusable state.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위한 제 1 해결 수단으로서, 티탄 및 탄탈을 포함한 밸브 메탈(valve metals) 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체(電極基體; electrode substrate)의 표면 위에 귀금속 및/또는 그의 금속 산화물을 포함하는 전극 물질을 함유하는 피복층을 갖는 불용성 금속 전극 표면을, 가성 알칼리 수용액(caustic alkali aqueous solution)을 사용한 알칼리 처리 공정(alkali treatment process), 가열 소성 공정 및 산 처리 공정으로 순차적으로 처리하되, 상기 알칼리 처리 공정이 상기 가성 알칼리 수용액에 증점제(thickener)를 첨가함으로써 제조된 알칼리 처리액을 사용함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는, 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법을 제공한다. The present invention provides, as a first solution to the above problem, to provide a method of manufacturing a semiconductor device, which comprises depositing a noble metal and / or a noble metal on the surface of an electrode substrate including valve metals or valve metal alloys including titanium and tantalum, The surface of the insoluble metal electrode having the coating layer containing the electrode material including the metal oxide thereof is subjected to an alkali treatment process using a caustic alkali aqueous solution, Wherein the alkali treatment step is carried out by using an alkali treatment liquid prepared by adding a thickener to the aqueous alkali solution.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위한 제 2 해결 수단으로서, 천연계 폴리사카라이드 증점제를 포함하는 증점제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법을 제공한다. The present invention provides, as a second solution to solve the above problem, a method for peeling a coating layer from the surface of an electrode base, which comprises using a thickener containing a natural polysaccharide thickener.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위한 제 3 해결 수단으로서, 상기 천연계 폴리사카라이드 증점제로서 바이오검(bio gum) 또는 구아검(guar gum) 유도체 또는 셀룰로오스 유도체를 포함하는 증점제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법을 제공한다. The present invention, as a third solution to solve the above problem, is characterized by using a thickener comprising bio gum, guar gum derivative or cellulose derivative as the natural polysaccharide thickener A method for peeling a coating layer from an electrode base surface is provided.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위한 제 4 해결 수단으로서, 증점제로서 카복시메틸 셀룰로오스를 포함하는 증점제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법을 제공한다. The present invention provides, as a fourth solution for solving the above problems, a method for peeling a coating layer from the surface of an electrode base, characterized by using a thickening agent containing carboxymethyl cellulose as a thickening agent.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위한 제 5 해결 수단으로서, 증점제로서 잔탄검(xanthan gum)을 포함하는 증점제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법을 제공한다. The present invention provides, as a fifth solution to solve the above problems, a method for peeling a coating layer from a surface of an electrode base, wherein a thickening agent containing xanthan gum is used as a thickening agent.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위한 제 6 해결 수단으로서, 상기 알칼리 처리액 중의 상기 증점제의 첨가 비율이 0.2 질량% 이상 1 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법을 제공한다. The present invention provides, as a sixth solution to solve the above problem, a method for peeling a coating layer from the surface of an electrode base, characterized in that an addition ratio of the thickening agent in the alkaline processing solution is 0.2 mass% or more and 1 mass% or less do.

본 발명은, 상기 과제를 해결하기 위한 제 7 해결 수단으로서, 상기 알칼리 처리액 중의 상기 증점제의 첨가 비율이 0.4 질량% 이상 1 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법을 제공한다. According to a seventh solving means for solving the above problems, the present invention provides a method for peeling a coating layer from the surface of an electrode base, characterized in that an addition ratio of the thickening agent in the alkaline processing solution is 0.4 mass% to 1 mass% do.

본 발명에 따르면, 전극 물질은 전극 기체로부터 효과적으로 그리고 고수율로 분리될 수 있다. 이 때 전극 기체는 그 자신을 보호하는데 필요한 것 이상 소비되지 않으며 안정화된 전극 물질은 비교적 낮은 온도 조건에서의 용융 염 처리에 의해서는 용출하지 않으며 전극 물질의 파편 또는 분말로서 분리 회수될 수 있다. 또한, 주로 티탄을 포함하는 기체 금속(substrate metal) 또는 전극 물질은 산(acid)으로 거의 용출하지 않기 때문에 잔류 알칼리의 중화용으로만 사용되는 산의 소모가 최소로 될 수 있다. 본 발명은 산소 발생용 전극으로 제한됨이 없이 각종 전해용 전극에 적용될 수 있다. According to the present invention, the electrode material can be effectively and efficiently separated from the electrode substrate. At this time, the electrode gas is not consumed more than necessary to protect itself, and the stabilized electrode material is not eluted by the molten salt treatment at the relatively low temperature condition and can be separated and recovered as a fragment or powder of the electrode material. In addition, the substrate metal or electrode material, which mainly contains titanium, hardly dissolves in acid, so consumption of acid used only for neutralization of the residual alkali can be minimized. The present invention is not limited to the electrode for generating oxygen, but can be applied to various electrolytic electrodes.

도 1은 본 발명의 실시예들 중의 하나의 박리정도를 나타낸 사진이다.
도 2는 본 발명의 실시예들 중의 하나의 박리정도를 나타낸 사진이다.
도 3은 본 발명의 실시예들 중의 하나의 박리정도를 나타낸 사진이다.
도 4는 본 발명의 실시예들 중의 하나의 박리정도를 나타낸 사진이다.
도 5는 본 발명의 실시예들 중의 하나의 박리정도를 나타낸 사진이다.
도 6은 본 발명의 실시예들 중의 하나의 박리정도를 나타낸 사진이다.
1 is a photograph showing the degree of peeling of one of the embodiments of the present invention.
2 is a photograph showing the degree of peeling of one of the embodiments of the present invention.
3 is a photograph showing the degree of peeling of one of the embodiments of the present invention.
4 is a photograph showing the degree of peeling of one of the embodiments of the present invention.
5 is a photograph showing the degree of peeling of one of the embodiments of the present invention.
6 is a photograph showing the degree of peeling of one of the embodiments of the present invention.

본 발명은, 티탄 및 탄탈을 포함한 밸브 메탈 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체의 표면으로부터 귀금속 및 또는 그 귀금속 산화물을 포함하는 전극 물질을 함유하는 피복층을 효과적으로 박리하고, 이어서 상기 전극 기체 및/또는 전극 물질을 회수하는 전극 기체 및 전극 물질의 분리 회수 방법에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명은, The present invention relates to a method for effectively peeling a noble metal and / or a coating layer containing an electrode material containing the noble metal oxide from a surface of an electrode base including a valve metal or a valve metal alloy including titanium and tantalum, The present invention relates to a method for separating and recovering an electrode material and an electrode material for recovering an electrode material. More particularly,

(1) 표면을 청정화하는 공정,(1) a step of cleaning the surface,

(2) 적어도 가성 알칼리 수용액을 포함하는 알칼리 처리액으로 전극 피복 표면을 처리하는 알칼리 처리 공정,(2) an alkali treatment step of treating the electrode coated surface with an alkali treatment liquid containing at least a pseudo alkali aqueous solution,

(3) 상기 가성 알칼리를 융점 부근에서 유지시키면서 반응을 촉진시키는 가열 소성 공정, 및(3) a heating and firing step of promoting the reaction while maintaining the above-mentioned caustic alkali at a temperature near the melting point, and

(4) 산 중에 침지시키는 산 처리 공정(4) Acid treatment process immersed in acid

으로 이루어진 불용성 전극을 위한 회수방법에 관한 것이다.To an insoluble electrode.

표면 위의 부착물 또는 불순물이 제거되는 전극에 대해서 상기 공정을 수행함으로써 기체 금속과 전극 물질 사이에서 기체 물질 및 전극 물질의 부식을 최소화하여 그 계면을 선택적으로 부식시켜서 상기 기체를 분리 회수하고, 그와 동시에 상기 전극물질을 고체 분말로서 안정적으로 분리 회수할 수 있다. The above process is performed on the electrode on which the deposit or impurity on the surface is removed to minimize the corrosion of the gaseous material and the electrode material between the gaseous metal and the electrode material so that the interface is selectively corroded to separate and recover the gas, At the same time, the electrode material can be stably separated and recovered as a solid powder.

보다 특히, 제 1 단계는 부착물에 따라 적절히 적용될 수 있는 방법에 의해서 표면을 세정하는 것이다. 예를 들어 이온 교환 멤브레인 공정(ion exchange membrane process)에 의한 염소 알칼리 전해에 사용된 전극의 경우, 보통 부착물이 거의 없으며, 따라서 표면을 물로 세척하거나 또는 산 청정화용 묽은 염산 용액 속에 침지시킨다. 동박 제조용으로 사용된 전극에 있어서, 표면이 종종 황산납 및 산화 안티몬과 같은 중금속의 화합물로 오염되어 산 청정화가 수행된다. 필요에 따라, 10 내지 30질량%의 알칼리 염으로 알칼리 세정한 다음, 이를 무기산 용액 속에 침지시킴으로써 상기 화합물들을 제거할 수 있다. 이러한 방법들을 결합시킴으로써 보다 청정한 표면을 얻을 수 있다.More particularly, the first step is to clean the surface by a method that can be suitably applied according to the deposit. For example, in the case of an electrode used for chlorine alkali electrolysis by an ion exchange membrane process, there is usually little adherence, so the surface is washed with water or immersed in a dilute hydrochloric acid solution for acid refinement. In the electrode used for manufacturing copper foil, the surface is frequently contaminated with a heavy metal compound such as lead sulfate and antimony oxide to perform acid refining. If necessary, these compounds can be removed by alkali washing with 10 to 30 mass% of an alkali salt, and then immersing them in a mineral acid solution. By combining these methods, a cleaner surface can be obtained.

이어서, 가성 알칼리 수용액의 알칼리 처리액으로 알칼리 처리 공정을 수행한다. 상기 알칼리 처리 공정에서는, 적어도 전극 피복 표면 위에 알칼리 처리액을 도포한다. 알칼리 처리액용으로 사용된 가성 알칼리는 특별히 제한되지는 않지만, 고 반응성 및 입수 용이성의 측면에서 가성 소다가 가장 바람직하다. 가성 소다와 가성 칼륨의 혼합물 또한 사용될 수 있다. 전극 표면 상의 알칼리 처리액의 도포에 있어서의 실제의 반응은 용융염 반응에 가깝고, 고농도로 부착하는 것이 바람직하다. 전극 표면 위에 알칼리 처리액이 도포되는 경우, 알칼리 처리액의 점도가 낮고 비교적 용이하게 유동하기 때문에, 도포된 알칼리 처리액을 전극 표면에 안정적으로 부착시키는 것이 용이하지 않다. 이러한 이유로, 알칼리 처리 공정에서는, 알칼리 처리액을 전극 표면에 안정적으로 머무르게 하는 것이 필요하다. 이 도포는 예를 들어 50질량% 내지 60질량%의 가성 소다 수용액으로 전극 물질이 존재하는 영역에 대해 행한다. 또한 같은 목적으로, 그 표면이 알칼리에 적응하도록 유사한 정의의 농도의 알칼리 처리액 중에서 적어도 전극 피복 표면을 침지시키는 것도 가능하다. 이러한 도포는 전극의 전체 표면에 걸쳐서 커버되어야 하며, 충분히 스며들게 한다. 통상 전극 표면은 가성에 대해서는 발수성이다. 전극 표면은 그 표면이 적당히 습윤되거나 일정 기간 동안 그 용액 중에 침지될 때까지 블러싱(brushing)된다. 그러나, 가성 알칼리만이 적용되는 경우 가성 알칼리가 피처리 전극의 표면에 충분히 부착하지 않기 때문에 기대되는 알칼리 처리를 달성하는 것이 어렵다.Then, an alkali treatment step is carried out with an alkaline treatment solution of a caustic alkali aqueous solution. In the alkali treatment step, an alkali treatment liquid is applied onto at least the electrode coating surface. The caustic alkali used for the alkali treatment liquid is not particularly limited, but caustic soda is most preferable in terms of high reactivity and availability. Mixtures of caustic soda and caustic potassium may also be used. The actual reaction in the application of the alkali treatment liquid on the electrode surface is close to the molten salt reaction, and it is preferable to adhere at a high concentration. When the alkali treatment liquid is applied onto the surface of the electrode, since the viscosity of the alkali treatment liquid is low and flows relatively easily, it is not easy to stably adhere the applied alkali treatment liquid to the electrode surface. For this reason, in the alkali treatment step, it is necessary to stably maintain the alkali treatment liquid on the electrode surface. This application is performed, for example, in a region where the electrode material is present in a caustic soda aqueous solution of 50% by mass to 60% by mass. Further, for the same purpose, it is also possible to immerse at least the electrode coating surface in the alkaline processing solution having a similar definite concentration so that the surface thereof can adapt to the alkali. This application must be covered over the entire surface of the electrode and sufficiently imbibed. Generally, the electrode surface is water-repellent with respect to tentleness. The electrode surface is then blushed until its surface is adequately wetted or immersed in the solution for a period of time. However, in the case where only caustic alkali is applied, since the caustic alkali does not sufficiently adhere to the surface of the electrode to be treated, it is difficult to achieve the expected alkali treatment.

따라서, 본 발명에 있어서, 상기 가성 알칼리 수용액에 증점제를 첨가하여 알칼리 처리액을 제조한다. 상기 증점제로는 CMC 또는 XAG를 함유하는 증점제가 사용된다. Therefore, in the present invention, a thickening agent is added to the above-mentioned caustic alkali aqueous solution to prepare an alkali treatment liquid. As the thickener, a thickener containing CMC or XAG is used.

본 발명에 있어서, 상기 알칼리 처리 공정은 상기 가성 알칼리 수용액에 증점제를 첨가하여 제조된 알칼리 처리액을 이용하여 수행된다. 결과적으로, 피복층 상의 가성 알칼리의 부착이 증가하고 박리 효과가 향상된다. 본 발명에 있어서, 상기 증점제의 사용량은 0.2질량% 이상으로 조절하여 피복층 상의 가성 알칼리의 부착을 증가시켜서 증진된 박리 효과를 유도한다. 추가로, 0.4질량% 이상으로 조절된 증점제의 사용량에 의해서 박리 효과가 완전하게 되는 것으로 밝혀졌다. 한편, 상기 증점제의 사용량이 1질량%를 초과하는 경우 가성 알칼리 침지액의 겔화가 진행되어 가성 알칼리 침지액의 취급이 곤란해지므로, 1질량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 더욱이, 상기 증점제의 사용량은 보다 바람직하게는 0.5질량% 이하로 조절되며, 그 때 가성 알칼리 침지액의 겔화가 억제될 수 있으며 그의 취급이 보다 용이해 진다.In the present invention, the alkali treatment step is carried out using an alkali treatment liquid prepared by adding a thickening agent to the above-mentioned caustic alkali aqueous solution. As a result, adhesion of the caustic alkali on the coating layer is increased and the peeling effect is improved. In the present invention, the amount of the thickening agent used is adjusted to 0.2 mass% or more to increase the adhesion of the pseudo alkali on the coating layer, thereby inducing the enhanced peeling effect. In addition, it has been found that the peeling effect is completed by the amount of the thickener adjusted to 0.4 mass% or more. On the other hand, when the amount of the thickener used exceeds 1% by mass, gelation of the pseudo alkali immersion liquid proceeds and it becomes difficult to handle the pseudo alkali immersion liquid, so that the content is preferably 1% by mass or less. Furthermore, the amount of the thickener to be used is more preferably controlled to 0.5% by mass or less, whereby the gelation of the caustic alkali immersion liquid can be suppressed and its handling becomes easier.

또한, 증점제로는, 알칼리 용액 중에서 증점 효과를 나타내는 것이 사용된다. 이러한 종류의 증점제로는, 천연계 폴리사카라이드 증점제를 함유하는 것이 바람직하다. 천연계 폴리사카라이드 증점제로는, 바이오검 또는 구아검 유도체, 셀룰로오스 유도체 등이 사용될 수 있다. 이들 증점제 중에서 이하의 것들이 특히 바람직하다. As the thickening agent, those exhibiting a thickening effect in an alkali solution are used. As this type of thickening agent, it is preferable to contain a natural polysaccharide thickening agent. As natural polysaccharide thickener, bioglass, guar gum derivative, cellulose derivative and the like can be used. Of these thickeners, the following are particularly preferable.

1) 바이오검: XAG1) Bio Sword: XAG

2) 구아검 유도체: 구아검2) guar gum derivative: guar gum

3) 셀룰로오스 유도체: CMC3) Cellulose derivatives: CMC

4) 기타: 카라기난, 펙틴4) Others: carrageenan, pectin

통상은 도포 후 10 내지 30분동안 실온에서 유지한 후 60 내지 200℃의 온도에서 건조한다. 이러한 조작에 의해서 가성 알칼리 중의 수분이 대부분 증발되고, 가성 알칼리 무수물이 표면 위에 석출된다. 건조 시간은 특별히 제한되지는 않지만 10분 내지 30분 정도가 바람직하다. 그러나, 건조 공정은 필수적인 것은 아니다. 알칼리 용액이 전극 표면에 균일하게 유지되는 경우에는 건조 공정이 생략될수 있으며, 그 다음의 가열 처리 공정이 동일한 기능을 수행할 것이다.Normally, it is kept at room temperature for 10 to 30 minutes after application and then dried at a temperature of 60 to 200 ° C. By this operation, most of the water in the caustic alkali is evaporated, and the caustic alkali anhydride is precipitated on the surface. The drying time is not particularly limited, but is preferably about 10 minutes to 30 minutes. However, the drying process is not essential. If the alkali solution is uniformly maintained on the electrode surface, the drying step may be omitted, and the subsequent heat treatment step will perform the same function.

또한, 이것을 가성 알칼리의 융점보다 약간 높은 온도에서 가열 처리를 행한다. 즉 가성 소다에서는 융점이 약 330℃이므로 350 내지 450℃ 정도가 바람직하다. 이 온도에서 반응이 10분 내지 1시간, 통상적으로는 30분동안 수행된다. 상기 반응 메카니즘은 명확하지는 않지만 이후에 산과 반응하여 전극 물질을 분리시킬 수 있다. 이어서, 가성 알칼리 중의 알칼리 이온이 전극 물질, 전극 물질과 기체 사이에 있는 산화물 및 기체 티탄의 표면과 반응하여 알칼리 착염이 되는 것으로 생각된다. 더욱이, 전극 물질 또는 티탄 기체의 용출이 그 부피가 극히 작다는 사실의 견지에서, 전극 물질과 기체 사이에 있는 산화물과의 반응은 선택적으로 일어나는 경향이 있다. 이러한 처리를 행한 후 전극을 방치시켜서 냉각시킨다. 이러한 냉각은 노(爐) 내에서 행할 수 있지만, 효율성의 관점에서는 노 밖의 대기중에서 행하는 것이 바람직하다. 물론 냉각하지 않고 다음의 무기산 침지 처리를 행하는 것도 가능하며, 그 경우 산의 스플래쉬(splash)에 대해 주의할 필요가 있다. Further, this is heat-treated at a temperature slightly higher than the melting point of the caustic alkali. That is, since caustic soda has a melting point of about 330 ° C, it is preferably about 350 to 450 ° C. At this temperature, the reaction is carried out for 10 minutes to 1 hour, usually 30 minutes. Although the reaction mechanism is not clear, it is possible to subsequently separate the electrode material by reacting with the acid. It is then considered that alkali ions in the pseudo alkali react with the electrode material, the oxide between the electrode material and the gas, and the surface of the gaseous titanium to become alkali complex. Moreover, in view of the fact that the elution of the electrode material or titanium gas is very small, the reaction between the electrode material and the oxide between the gases tends to occur selectively. After this treatment, the electrode is left to cool. Such cooling can be performed in a furnace, but from the viewpoint of efficiency, it is preferable to perform cooling in the atmosphere outside the furnace. Of course, it is also possible to carry out the following inorganic acid immersion treatment without cooling, in which case care must be taken for splashing of the acid.

다음에, 이와 같이 알칼리 처리한 전극을 질산, 염산 혹은 황산 등의 무기산에 침지한다. 무기산의 농도는 특별히 제한되지는 않지만 통상적으로는 10 내지 20 질량% 정도의 묽은 산이 바람직하다. 무기산의 온도는 특별히 제한되지는 않지만 반응을 보다 빠르게 하기 위하여 온도를 높여 두는 것이 바람직하고, 40℃ 이상이 바람직하다. 이러한 침지 처리에 의해서 티탄산 알칼리를 상기 산 중에 용해시키고 그와 동시에 티탄 또는 티탄 합금을 포함하는 기체 금속으로부터 전극 물질을 박리하여 분리한다. 이 때 보다 양호한 액체 접촉을 위해서 산 용액의 교반 또는 전극 표면에 대한 브러싱(brushing)을 수행함으로써 박리를 촉진시킬 수 있다. 통상 한 번의 처리 사이클이면 충분히 분리할 수 있지만, 필요에 따라 알칼리 도포로부터 가열 소성까지 2 내지 3회 사이클을 반복함으로써 보다 완전히 분리할 수 있다. 여기서 전극 물질 자체는 가열에 의해 안정화되어 있기 때문에, 거의 산 중에 용해되는 일 없이, 침전으로서 회수할 수 있다. 이것에 의해 기체 금속인 티탄 또는 티탄 합금은 거의 소모하는 일 없으며, 또한 전극 물질은 산화물 고체로서 회수할 수 있다. Next, the alkaline-treated electrode is immersed in an inorganic acid such as nitric acid, hydrochloric acid or sulfuric acid. The concentration of the inorganic acid is not particularly limited, but a dilute acid of about 10 to 20 mass% is usually preferred. The temperature of the inorganic acid is not particularly limited, but it is preferable to raise the temperature to accelerate the reaction, and it is preferably 40 ° C or more. By such an immersion treatment, the alkali metal titanate is dissolved in the acid, and at the same time, the electrode material is separated and separated from the gaseous metal containing titanium or titanium alloy. At this time, peeling can be promoted by stirring the acid solution or brushing the electrode surface for better liquid contact. Normally, it can be sufficiently separated in one treatment cycle, but it can be completely separated by repeating 2 to 3 cycles from alkali application to heating and firing if necessary. Here, since the electrode material itself is stabilized by heating, it can be recovered as a precipitate without being dissolved in almost acid. As a result, the titanium metal or the titanium alloy, which is a gaseous metal, is hardly consumed, and the electrode material can be recovered as an oxide solid.

사용하는 산은 상기와 같은 무기산, 즉 염산, 질산, 황산 또는 그들의 혼합산이 사용될 수 있다. 그러나, 박리 용해물의 용해도의 관점에서는 질산 또는 염산이 바람직하다. 황산의 경우 반복 사용에 의해서 약간씩 용해되는 전극 기체 또는 전극 물질 중의 티탄이 황산 티탄 등으로서 침전을 일으키는 일이 있으므로 주의를 요한다. 그러나, 이것에 의해 특별히 문제가 되는 일은 없다. 그렇지만, 침전을 일으키면 전극 물질과의 분리가 귀찮아지므로 적당히 이러한 침전을 제거하면서 작업을 진행시키는 것이 좋다는 것은 분명하다. The acid used may be an inorganic acid such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid or a mixed acid thereof. However, from the viewpoint of the solubility of the dissolution product, nitric acid or hydrochloric acid is preferable. In the case of sulfuric acid, care must be taken because titanium in the electrode material or electrode material slightly soluble in repeated use may cause precipitation as titanium sulfate. However, this is not a problem in particular. However, it is clear that if precipitation occurs, separation with the electrode material becomes troublesome, so it is preferable to carry out the work while appropriately removing such precipitate.

분리된 전극 물질인 산화물 고체는 통상의 조건에서 회수될 수 있다. 예를 들어 수소 환원에 의해 전극 물질 중의 백금족 금속 성분은 수소 환원에 의해서 환원되며 회수를 위해 금속화된다. 상기 성분이 루테늄인 경우 차아염소산 중에서의 가열 산화에 의해서 RuO4로서 기화되고, 염산 중에 포집되는 방식으로 염화 루테늄산으로서 회수된다. 상기 성분이 이리듐인 경우에는 염화 알칼리와 함께 염소 가스와 염화 이리듐산염으로 변환된 다음, 알칼리가 분리되고 상기 이리듐 성분이 염화 이리듐산 또는 염화 이리듐으로서 회수된다. 기타의 경우에 있어서는, 왕수에 용해시킴으로써 회수할 수도 있다. 또한, 전해적으로 회수하는 것도 가능하다. 이 때 동일한 전극 물질인 산화 티탄이나 산화 탄탈은 수소로 환원되지 않기 때문에, 염소화하는 일도 없고 용해도 하지 않기 때문에, 백금족 금속과는 완전히 분리할 수 있다. 전극 물질의 일부가 산에 용해하는 일이 있지만, 이에 대해서는 사용이 완료된 산에 암모니아를 더하여 중화함으로써 백금족 금속의 암모늄염으로 하여 침전시켜서 이것을 여과 분리하는 것에 의해서 거의 완전히 회수할 수 있다. 이것은 상기 초기의 산화물 침전과는 별도로 회수해도 좋지만, 암모니아 처리를 한 후에 산화물 침전물과 동시에 침전 여과하여 회수를 행해도 좋다. The oxide solids, which are separate electrode materials, can be recovered under normal conditions. For example, by hydrogen reduction, the platinum group metal component in the electrode material is reduced by hydrogen reduction and metallized for recovery. When the component is ruthenium, it is vaporized as RuO 4 by thermal oxidation in hypochlorous acid, and is recovered as ruthenium acid chloride in such a manner that it is captured in hydrochloric acid. When the component is iridium, it is converted into chlorine gas and chlorinated iridium salt together with alkali chloride, and then the alkali is separated and the iridium component is recovered as iridium chloride or iridium chloride. In other cases, it may be recovered by dissolving in aqua regia. It is also possible to recover it by electrolysis. At this time, since titanium oxide or tantalum oxide, which is the same electrode material, is not reduced to hydrogen, it does not chlorinate or dissolve, so it can be completely separated from the platinum group metal. A part of the electrode material may dissolve in the acid. In this case, ammonia is added to the used acid to neutralize it, so that the ammonium salt of the platinum group metal is precipitated and separated by filtration. This may be recovered separately from the initial oxide precipitation, but it may be recovered by precipitation filtration with the oxide precipitate after the ammonia treatment.

이어서, 본 발명은 실시예 및 비교예에 의해 구체적으로 설명되지만, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니다. Next, the present invention will be described concretely with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

실시예Example

티탄판의 표면을 철 조립자(grit)(#120 사이즈)에서 건식 블러스트 처리를 실시하고, 그 다음에, 20 질량% 황산 수용액 중(90℃)에서 10분간 산 세정 처리를 행하여, 전극 기판의 세정 처리를 행하였다. 세정한 전극 기판을 아크 이온 플레이팅 장치에 세팅하고, 순 티탄재의 스패터링 피복을 행하였다. 피복 조건은 다음과 같다. The surface of the titanium plate was subjected to dry blasting treatment with iron grit (# 120 size), and then subjected to an acid cleaning treatment in an aqueous 20 mass% sulfuric acid solution (90 deg. C) for 10 minutes, Was carried out. The cleaned electrode substrate was set in an arc ion plating apparatus, and sputtering coating of a pure titanium material was performed. The coating conditions are as follows.

타겟: 티탄 원판(이면을 수냉)Target: Titanium disc (water-cooled back surface)

진공도: 3.0×10-1Torr(Ar가스 치환 도입)Vacuum degree: 3.0 × 10 -1 Torr (Ar gas substitution introduced)

피복 파워: 25V-150ACloth Power: 25V-150A

기판 온도: 150℃(스패터링시)Substrate temperature: 150 占 폚 (at sputtering)

시간: 35분Time: 35 minutes

코팅 두께: 2마이크로미터Coating thickness: 2 micrometers

스패터링 피복 후, X선 회절을 취하면, 기판 벌크에 귀속하는 예리한 결정성 피크와 스패터링 피복에 귀속하는 브로드(broad)한 패턴을 볼 수 있고, 해당 피복이 비정질인 것을 알 수 있었다. When X-ray diffraction was performed after the sputtering coating, a sharp crystalline peak belonging to the bulk of the substrate and a broad pattern attributable to the sputtering coating were observed, and it was found that the coating was amorphous.

다음에, 사염화 이리듐, 오염화 탄탈을 35 질량% 염산에 용해하여 도포액으로 하고, 상기 스패터링 피복 처리 완료 기판에 브러시 칠 건조 후, 공기 순환식의 전기로 중(550℃, 20분간)에서 열분해 피복을 행하고, 산화 이리듐과 산화 탄탈과의 고용체(solid solution)에 의해 이루어지는 전극 피복층을 형성하였다. 상기 브러시 칠의 1회의 도포 두께는 이리듐 금속으로 환산하여 거의 1.0g/m2가 되도록 상기 도포액의 양을 설정하였다. 이 도포 내지 소성 조작을 12회 반복하였다. 이와 같이 하여 제조한 전해용 전극의 미사용품을 30 mm×30 mm으로 절단하여, 시료(이하 「본 시료」라고 칭한다)를 제작하였다. Next, the iridium tetrachloride and the contaminated tantalum were dissolved in 35 mass% hydrochloric acid to prepare a coating solution. The sputtering-coated substrate was brushed and dried, and then dried in an air circulating electric furnace (550 DEG C for 20 minutes) Followed by pyrolytic coating to form an electrode coating layer made of a solid solution of iridium oxide and tantalum oxide. The coating thickness of the brush coating was set so that the coating thickness of the brush coating was approximately 1.0 g / m 2 in terms of iridium metal. The application and baking operations were repeated 12 times. An empty product of the electrolytic electrode thus produced was cut into a size of 30 mm x 30 mm to prepare a sample (hereinafter referred to as " present sample ").

◇ 증점제 함유 알칼리 처리액의 제조◇ Preparation of alkali treatment liquid containing thickener

증점제로서 XAG 및 CMC를 선택하고, 이것을 각각 순수(純水) 중에 1 질량% 용해시킨 상태를 관찰하여, 바람직한 농도 범위를 관찰하였다. XAG and CMC were selected as thickeners, and a state in which 1 mass% of each of them was dissolved in pure water was observed, and a preferable concentration range was observed.

그 결과, 증점제는, 1.0 질량% 이하에서의 사용이 바람직하다고 판단하였다. 그 이유로서는, 1.0 질량%를 넘으면, XAG는 백탁하고, 방치하면 겔화하여, 교반이 곤란해졌기 때문이고, CMC에 대해서는 무색 투명하고 조금 걸쭉해진 상태를 유지하여, 더 높은 고농도도 가능할 것으로 생각되지만, 양자 모두 1.0 질량% 이하가 최적 농도라고 판단하였다. As a result, it was judged that the use of 1.0 weight% or less of the thickener was preferable. The reason for this is that if it exceeds 1.0% by mass, XAG becomes turbid and becomes gelled when it is left standing, and stirring becomes difficult, and CMC is colorless and transparent and slightly thickened, , Both of which were determined to be the optimum concentration of not more than 1.0% by mass.

순수 중에 상기 증점제를 1.0 질량% 이하의 소정량 용해시킨 후, NaOH-KOH를 50 질량%가 되도록 용해시켰다. 그 후, 하기의 농도가 되도록 조정하여, 증점제 함유 알칼리 처리액을 제작하였다. After a predetermined amount of the above thickener was dissolved in pure water in an amount of 1.0% by mass or less, NaOH-KOH was dissolved to 50% by mass. Thereafter, the concentration was adjusted to the following concentration to prepare an alkali treating solution containing a thickener.

A) 0.2 질량% XAG 첨가 알칼리 처리액A) 0.2% by mass XAG-added alkali treatment liquid

B) 0.5 질량% XAG 첨가 알칼리 처리액B) 0.5% by mass XAG-added alkali treatment liquid

C) 0.1 질량% CMC 첨가 알칼리 처리액C) 0.1% by mass CMC-added alkali treatment liquid

D) 0.2 질량% CMC 첨가 알칼리 처리액D) 0.2 mass% CMC-added alkali treatment liquid

E) 0.4 질량% CMC 첨가 알칼리 처리액E) 0.4% by mass CMC-added alkali treatment liquid

F) 0.5 질량% CMC 첨가 알칼리 처리액F) 0.5% by mass CMC-added alkali treatment liquid

조건 A)의 0.2 질량% XAG 첨가 알칼리 처리액은, 다음과 같은 방법으로 제작하였다. 먼저, 49. 8 g의 물에 0.2 g의 XAG를 용해하여, 0.4 질량% XAG 수용액을 제작하였다. 다음에, 0.4 질량% XAG 수용액에, NaOH, 25 g와 KOH, 25 g를 용해하여, 0.2 질량% XAG 함유 50 질량% NaOH-KOH 수용액 100 g으로 이루어지는 알칼리 처리액을 제작하였다. 조건 B)의 XAG 첨가 알칼리 처리액 및 조건 C), D), E), F)의 CMC 첨가 알칼리 처리액도 이와 같이 하여 제작하였다. The 0.2% by mass XAG-added alkali treatment solution of the condition A) was prepared in the following manner. First, 0.2 g of XAG was dissolved in 49.8 g of water to prepare a 0.4 mass% XAG aqueous solution. Next, 25 g of NaOH and 25 g of KOH were dissolved in 0.4 mass% of XAG aqueous solution to prepare an alkali treatment solution comprising 100 g of a 50 mass% NaOH-KOH aqueous solution containing 0.2 mass% of XAG. The XMC-added alkali treatment solution of the condition B) and the CMC-added alkali treatment solution of the conditions C), D), E) and F) were also prepared in this manner.

◇ 박리 공정◇ Separation process

본 시료를 상기 증점제 함유 알칼리 처리액에 침지한 후, 본 시료의 코팅면을 하방을 향하도록 하여 도가니에 투입하였다. This sample was immersed in the alkali treatment solution containing the thickener, and then put into the crucible with the coated side of the present sample facing downward.

그 후, 360℃로 30분간 소성 후, 본 시료를 염산 처리하여 코팅을 박리하였다. Thereafter, after baking at 360 DEG C for 30 minutes, this sample was treated with hydrochloric acid to peel off the coating.

상기 박리 공정은 2회 행하여, 재현성을 확인하였다. The peeling step was performed twice to confirm the reproducibility.

◇ 박리 결과◇ Separation Result

사용한 알칼리 처리액 상태 및 부착 상태를 표 1에 나타낸다. Table 1 shows the state of the used alkali treatment solution and the adhesion state.

처리액 상태는, The treatment liquid state is,

○: 조정이 용이하고 안정성이 양호함.○: Easy to adjust and stable.

△: 양호하지 않음(△의 이유에 대해서는 코멘트란 참조)&Amp; cir &: Not satisfactory (see comment for the reason of DELTA)

으로 하였다. Respectively.

처리액의 부착량에 대해서는, 증점제를 이용하지 않는 경우를 1로 한 경우의 비로 나타냈다. The adhered amount of the treatment liquid was represented by the ratio when the case where the thickening agent was not used was regarded as 1.

알칼리 처리액의 상태 및 부착조건The condition of the alkali treatment liquid and the attachment condition 증점제의 함량Content of thickener 처리액의 상태The state of the treatment liquid 처리액의 부착조건Conditions for attaching the treatment liquid 코멘트comment A) 0.2 질량% XAGA) 0.2 mass% XAG 1.51.5 B) 0.5 질량% XAGB) 0.5 mass% XAG 33 액은 방치하면 겔화됨The solution is left to gel. C) 0.1 질량% CMCC) 0.1% by mass CMC 1One 약간 걸쭉해짐Slightly thick D) 0.2 질량% CMCD) 0.2 mass% CMC 22 E) 0.4 질량% CMCE) 0.4 mass% CMC 22 F) 0.5 질량% CMCF) 0.5% by mass CMC 33 알칼리 첨가 중에 겔화하는 경우 있음Gelling may occur during alkaline addition G) 증점제 없음G) No thickener 1One

증점제 첨가량이 0.2 질량% 이상에서 침지액의 부착량이, 증점제를 이용하지 않았던 종래 방법보다 향상하고 있고, 증점제의 효과가 확인되었다. 또한, C)의 0.1 질량% CMC의 경우, 처리액의 부착량은 1이며, 부착량의 증가는 볼 수 없었다. When the amount of the thickener added was 0.2 mass% or more, the amount of the immersion liquid adhered was improved compared with the conventional method in which the thickener was not used, and the effect of the thickener was confirmed. Further, in the case of 0.1 mass% CMC of C), the adhered amount of the treatment liquid was 1, and an increase in the adhered amount was not observed.

부착량이 향상한 A, B, D, E, F, 및 증점제를 이용하지 않았던 종래의 알칼리 처리액 G(비교예)에 대해서, 박리 정도의 확인을 행하였다. 그 박리의 정도의 결과는, 표 2에 나타내는 바와 같았다. A, B, D, E, and F, in which the adhesion amount was improved, and the conventional alkali treatment liquid G (Comparative Example) in which the thickening agent was not used, were checked for the degree of peeling. The results of the degree of peeling were as shown in Table 2.

표 2 중의 박리 정도는, The degree of peeling in Table 2,

×: 피복이 박리되지 않고 대부분 잔존함.X: The coating is not peeled off and mostly remains.

○: 소량만 잔존함○: Only a small amount remained

◎: 완전히 박리됨◎: Completely peeled off

으로 평가하였다. Respectively.

박리 정도의 평가 결과Evaluation result of degree of peeling 증점제의 함량Content of thickener 박리 정도Degree of peeling 도면의 사진Photo of drawing A) 0.2 질량% XAGA) 0.2 mass% XAG 도 1 참조1 B) 0.5 질량% XAGB) 0.5 mass% XAG 도 2 참조2 D) 0.2 질량% CMCD) 0.2 mass% CMC 도 3 참조3 E) 0.4 질량%×CMCE) 0.4 mass% x CMC 도 4 참조See FIG. F) 0.5 질량%×CMCF) 0.5 mass% x CMC 도 5 참조5 G) 증점제 없음G) No thickener ×× 도 6 참조6

상기의 결과로부터, 부착량이 향상한 A, B, D, E, 및 F의 모든 시료에서 종래 방법보다 박리 정도가 향상하고 있고, 증점제의 효과가 확인되었다. 이것에 대해서, G)의 증점제를 이용하지 않았던 종래의 알칼리 처리액에서는, 코팅이 박리되지 않고 거의 잔존하고 있었다. From the above results, the degree of peeling was improved in all the samples of A, B, D, E, and F in which the adhesion amount was improved, and the effect of the thickening agent was confirmed. On the other hand, in the conventional alkali treatment solution which did not use the thickener of G), the coating remained substantially without peeling.

특히, B, E, 및 F에서는 코팅이 완전하게 박리되어 있고, 재현성도 볼 수 있었다. E가 최선의 조건이라고 판단하였다. Particularly, in the case of B, E and F, the coating was completely peeled off and reproducibility was observed. E was the best condition.

이상의 결과로부터, 본 발명은 증점제의 사용량을 0.2 질량% 이상으로 하는 것에 의해, 박리 효과를 향상할 수 있고, 나아가 증점제의 사용량을, 0.4 질량% 이상으로 하는 것에 의해, 박리 효과를 완전하게 할 수 있는 것을 발견한 것이다. From the above results, it can be seen that the peeling effect can be improved by setting the amount of the thickening agent to be 0.2 mass% or more, and further, by setting the amount of the thickening agent to 0.4 mass% or more, I have found that there is.

산업상의 이용 가능성Industrial availability

티탄을 주로 하는 전극 기체를 사용한 불용성 금속 전극으로부터 표면 피복층인 고가이며 희소 금속에 속하는 귀금속 및/또는 귀금속 산화물과 전극 기체를 변형하는 일 없이, 회수 재이용할 수 있는 본 발명은, 폭넓은 산업 분야에 있어서 이용할 수 있다. The present invention, which can be recovered and reused without deforming the noble metal and / or the noble metal oxide and the electrode base belonging to the expensive and rare metal surface covering layer from the insoluble metal electrode using the electrode base mainly composed of titanium, .

Claims (7)

티탄 및 탄탈을 포함한 밸브 메탈(valve metals) 또는 밸브 메탈 합금을 포함하는 전극 기체(電極基體; electrode substrate)의 표면 위에 귀금속 및/또는 그의 금속 산화물을 포함하는 전극 물질을 함유하는 피복층을 갖는 불용성 금속 전극 표면을, 가성 알칼리 수용액(caustic alkali aqueous solution)을 사용한 알칼리 처리 공정(alkali treatment process), 가열 소성 공정 및 산 처리 공정으로 순차적으로 처리하되, 상기 알칼리 처리 공정이 상기 가성 알칼리 수용액에 증점제(thickener)를 첨가함으로써 제조된 알칼리 처리액을 사용함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는, 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법.An insoluble metal having a coating layer containing an electrode material containing a noble metal and / or a metal oxide on the surface of an electrode substrate (electrode substrate) including valve metals or valve metal alloys including titanium and tantalum The surface of the electrode is sequentially treated with an alkali treatment process using a caustic alkaline aqueous solution, a heat firing process, and an acid treatment process, wherein the alkali treatment process comprises adding a thickener to the caustic alkali aqueous solution, ). The method for peeling a coating layer from an electrode base surface. 제 1 항에 있어서,
천연계 폴리사카라이드 증점제를 포함하는 증점제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법.
The method according to claim 1,
A method for peeling a coating layer from an electrode base surface characterized by using a thickener containing a natural polysaccharide thickener.
제 2 항에 있어서,
상기 천연계 폴리사카라이드 증점제로서 바이오검(bio gum) 또는 구아검(guar gum) 유도체 또는 셀룰로오스 유도체를 포함하는 증점제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법.
3. The method of claim 2,
Wherein a thickener comprising bio gum, guar gum derivative or cellulose derivative is used as said natural polysaccharide thickening agent.
제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서,
증점제로서 카복시메틸 셀룰로오스를 포함하는 증점제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein a thickening agent comprising carboxymethyl cellulose is used as a thickening agent.
제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서,
증점제로서 잔탄검(xanthan gum)을 포함하는 증점제를 사용하는 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
And a thickening agent containing xanthan gum is used as a thickening agent.
제 1 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 알칼리 처리액 중의 상기 증점제의 첨가 비율이 0.2 질량% 이상 1 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the proportion of the thickening agent in the alkali treatment liquid is 0.2 mass% or more and 1 mass% or less.
제 1 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 알칼리 처리액 중의 상기 증점제의 첨가 비율이 0.4 질량% 이상 1 질량% 이하인 것을 특징으로 하는 전극 기체 표면으로부터의 피복층의 박리방법.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the proportion of the thickening agent in the alkali treatment liquid is 0.4% by mass or more and 1% by mass or less.
KR1020147016932A 2011-11-21 2012-11-20 Method for exfoliating coating layer of electrode for electrolysis KR101583176B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2011-253772 2011-11-21
JP2011253772 2011-11-21
PCT/JP2012/080526 WO2013077454A2 (en) 2011-11-21 2012-11-20 Method for exfoliating coating layer of electrode for electrolysis

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140098159A true KR20140098159A (en) 2014-08-07
KR101583176B1 KR101583176B1 (en) 2016-01-07

Family

ID=47430002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147016932A KR101583176B1 (en) 2011-11-21 2012-11-20 Method for exfoliating coating layer of electrode for electrolysis

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20140305468A1 (en)
EP (1) EP2783025B1 (en)
JP (1) JP5651252B2 (en)
KR (1) KR101583176B1 (en)
CN (1) CN103946424A (en)
MY (1) MY165960A (en)
PL (1) PL2783025T3 (en)
TR (1) TR201904606T4 (en)
WO (1) WO2013077454A2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200143209A (en) * 2019-06-14 2020-12-23 차이니즈 리서치 아카데미 오브 인바이런먼탈 사이언시스 Intelligent source reduction package technology method of high lead sludge heavy metal contaminants

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7284938B2 (en) 2018-11-21 2023-06-01 株式会社大阪ソーダ Method for removing electrode surface deposits containing lead compounds from electrodes for electrolysis to which lead compounds are attached
CN110016676B (en) * 2019-04-15 2021-11-02 广州鸿葳科技股份有限公司 Regenerated titanium anode and preparation method thereof
CN112680749B (en) * 2020-12-21 2021-09-28 江苏时代华宜电子科技有限公司 Noble metal recovery process based on vacuum sputtering chamber

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3573100A (en) * 1968-02-28 1971-03-30 Henri Bernard Beer Reconstitution of electrodes
JPS59123730A (en) 1982-12-28 1984-07-17 Permelec Electrode Ltd Method for recovering iridium from metallic electrode
JPH0258589A (en) * 1988-06-08 1990-02-27 Unilever Nv Thickening system
JP2001294948A (en) 2000-04-13 2001-10-26 Furuya Kinzoku:Kk Method for recovering noble metal from metallic electrode
JP2001303141A (en) 2000-04-20 2001-10-31 Furuya Kinzoku:Kk Treating method for recovering precious metal from metal electrode
JP2002088494A (en) 2000-09-13 2002-03-27 Furuya Kinzoku:Kk Method for recovering platinum group metal from metallic electrode
JP2002194581A (en) 2000-12-27 2002-07-10 Furuya Kinzoku:Kk Method for recovering platinum group metal from metal electrode
JP2002212650A (en) 2001-01-12 2002-07-31 Furuya Kinzoku:Kk Method for recovering platinum group metals from metallic electrode
US20060089281A1 (en) * 2004-09-01 2006-04-27 Gibson Gregory L Methods and compositions for paint removal
JP2008081837A (en) 2006-09-28 2008-04-10 Cs Gijutsu Kenkyusho:Kk Recovering method of insoluble electrode
JP2011021268A (en) * 2009-07-14 2011-02-03 Cs Gijutsu Kenkyusho:Kk Method for recovering insoluble metal electrode

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ZA662524B (en) * 1965-12-28
US6337366B1 (en) * 1999-03-25 2002-01-08 Rohm And Haas Method of improving viscosity stability of aqueous compositions

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3573100A (en) * 1968-02-28 1971-03-30 Henri Bernard Beer Reconstitution of electrodes
JPS59123730A (en) 1982-12-28 1984-07-17 Permelec Electrode Ltd Method for recovering iridium from metallic electrode
JPH0258589A (en) * 1988-06-08 1990-02-27 Unilever Nv Thickening system
JP2001294948A (en) 2000-04-13 2001-10-26 Furuya Kinzoku:Kk Method for recovering noble metal from metallic electrode
JP2001303141A (en) 2000-04-20 2001-10-31 Furuya Kinzoku:Kk Treating method for recovering precious metal from metal electrode
JP2002088494A (en) 2000-09-13 2002-03-27 Furuya Kinzoku:Kk Method for recovering platinum group metal from metallic electrode
JP2002194581A (en) 2000-12-27 2002-07-10 Furuya Kinzoku:Kk Method for recovering platinum group metal from metal electrode
JP2002212650A (en) 2001-01-12 2002-07-31 Furuya Kinzoku:Kk Method for recovering platinum group metals from metallic electrode
US20060089281A1 (en) * 2004-09-01 2006-04-27 Gibson Gregory L Methods and compositions for paint removal
JP2008081837A (en) 2006-09-28 2008-04-10 Cs Gijutsu Kenkyusho:Kk Recovering method of insoluble electrode
JP2011021268A (en) * 2009-07-14 2011-02-03 Cs Gijutsu Kenkyusho:Kk Method for recovering insoluble metal electrode

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200143209A (en) * 2019-06-14 2020-12-23 차이니즈 리서치 아카데미 오브 인바이런먼탈 사이언시스 Intelligent source reduction package technology method of high lead sludge heavy metal contaminants

Also Published As

Publication number Publication date
CN103946424A (en) 2014-07-23
TR201904606T4 (en) 2019-04-22
WO2013077454A2 (en) 2013-05-30
MY165960A (en) 2018-05-18
KR101583176B1 (en) 2016-01-07
WO2013077454A3 (en) 2013-07-18
JP5651252B2 (en) 2015-01-07
PL2783025T3 (en) 2019-08-30
EP2783025A2 (en) 2014-10-01
JP2014509347A (en) 2014-04-17
US20140305468A1 (en) 2014-10-16
EP2783025B1 (en) 2019-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI406954B (en) Method for recovering valuable metals from IZO waste
TWI432609B (en) Method for recovering valuable metal from indium - zinc oxide waste
US20210246527A1 (en) Method for the Removal and Recovery of Metals and Precious Metals from Substrates
TWI471422B (en) Method for recovering valuable metals from IZO waste
KR101583176B1 (en) Method for exfoliating coating layer of electrode for electrolysis
US7879219B2 (en) Electrochemical processing of solid materials in fused salt
TW200846503A (en) Methods of recovering valuable metal from scrap containing electrically conductive oxide
JP4465685B2 (en) Insoluble electrode recovery method
TWI583798B (en) Process for the recovery of indium-tin alloy from ITO target waste, manufacture of indium oxide-tin oxide powder, and manufacturing method of ITO target
JP4356519B2 (en) Method for recycling valuable metals
CN111349961B (en) Method for cleaning waste titanium anode plate for foil forming machine and removing and recycling precious metal
JP2599629B2 (en) Electrolysis method and bath for stripping coating from aluminum substrate
TWI464300B (en) A method for producing a water-reactive aluminum film and a constituent member for a film-forming chamber
JPH0321490B2 (en)
JPS6261538B2 (en)
JP4450945B2 (en) Method for recovering precious metals from metal electrodes
JP4700815B2 (en) Method for recovering platinum group metals from metal electrodes
JP2002088494A (en) Method for recovering platinum group metal from metallic electrode
JP6500683B2 (en) Method of surface modification of titanium base material
JPS59145739A (en) Method for recovering ruthenium and iridium from metallic electrode
JPS6254849B2 (en)
KR20220134575A (en) Method for recovering metallic zinc from solid metallurgical waste
JP5115936B2 (en) Method for collecting insoluble metal electrode
JP2001303141A5 (en)
JPS62270735A (en) Recovering method for tin

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181129

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191127

Year of fee payment: 5