KR20140095004A - Liquid crystal aligning agent for psa mode liquid crystal display device, liquid crystal alignment film for psa mode liquid crystal display device, and the psa mode liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

Provided is a liquid crystal display device in a PSA mode with fast response speed capable of showing a proper pretilt angle with small optical irradiation amount and maintaining a high voltage maintenance ratio after optical irradiation. A liquid crystal alignment agent for forming a liquid crystal alignment film in the liquid crystal display device in the PSA mode comprises: a compound (A) having a structure (a) capable of performing one or more functions among a radical generation function which generates radical by the optical irradiation and an optical increase function which shows an increase action by the optical irradiation.

Description

PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제, PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향막, 그리고 PSA 모드 액정 표시 소자 및 그의 제조 방법 {LIQUID CRYSTAL ALIGNING AGENT FOR PSA MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT FILM FOR PSA MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND THE PSA MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a liquid crystal alignment agent for a liquid crystal display element, a liquid crystal alignment layer for a liquid crystal display element, a liquid crystal alignment element for a liquid crystal display element, and a method of manufacturing the liquid crystal display element. CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND THE PSA MODE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}

본 발명은, PSA 모드 액정 표시 소자용의 액정 배향제 및 액정 배향막, 그리고 PSA 모드 액정 표시 소자 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 상세하게는, PSA 처리시의 광조사량을 적게 하기 위한 기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal aligning agent and a liquid crystal alignment film for a PSA mode liquid crystal display element, a PSA mode liquid crystal display element and a manufacturing method thereof, and more particularly to a technique for reducing a light irradiation amount during PSA processing .

종래, 액정 표시 소자로서는, 전극 구조나 사용하는 액정 분자의 물성 등이 상이한 여러 가지의 구동 방식이 개발되고 있다. 예를 들면, 수직 배향 모드로서 종래 알려져 있는 MVA(Multi-Domain Vertical Alignment)형 패널은, 액정 패널 중에 형성된 돌기물에 의해 액정 분자의 기울어짐 방향을 규제함으로써 시야각의 확대를 도모하고 있다. 그러나, 이 방식에 의하면, 돌기물에 유래하는 투과율 및 콘트라스트의 부족이 불가피하고, 또한 액정 분자의 응답 속도가 늦은 경향이 있다.BACKGROUND ART [0002] Conventionally, various driving methods have been developed as liquid crystal display elements, which have different electrode structures and physical properties of liquid crystal molecules to be used. For example, an MVA (Multi-Domain Vertical Alignment) type panel conventionally known as a vertical alignment mode is intended to enlarge the viewing angle by regulating the tilting direction of the liquid crystal molecules by protrusions formed in the liquid crystal panel. However, according to this method, insufficient transmittance and contrast derived from projections are inevitable, and the response speed of liquid crystal molecules tends to be slow.

최근, MVA형 패널의 문제점을 해결하기 위해, 액정 분자의 배향을 제어하기 위한 새로운 구동 모드로서 PSA(Polymer Sustained Alignment) 모드가 제안되고 있다. PSA 모드는, 광중합성 모노머를 액정 재료 중에 혼입해 두고, 액정 셀을 조립한 후, 액정층을 사이에 끼우는 한 쌍의 전극 간에 전압을 인가한 상태에서 액정 셀에 광조사함으로써, 광중합성 모노머를 중합하여 액정 분자의 분자 배향을 제어하는 기술이다. 이 기술에 의하면, 시야각의 확대나 고속 응답화를 도모할 수 있다는 이점이 있다. 또한 최근에는, PSA형 액정 패널의 더 한층의 고속 응답화가 검토되고 있으며, 이러한 기술로서, 알케닐기 및 플루오로알케닐기 중 어느 하나를 갖는 단관능성의 액정성 화합물(이하, 「알케닐계 액정」이라고도 함)을 액정층에 도입하는 시도가 이루어지고 있다(예를 들면, 특허문헌 1∼3 참조).Recently, in order to solve the problems of the MVA type panel, a PSA (Polymer Sustained Alignment) mode has been proposed as a new driving mode for controlling the orientation of liquid crystal molecules. In the PSA mode, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between a pair of electrodes sandwiching the liquid crystal layer, the photopolymerizable monomer is incorporated into the liquid crystal material, And controlling the molecular orientation of the liquid crystal molecules by polymerization. According to this technique, there is an advantage that the viewing angle can be enlarged and high-speed response can be achieved. In recent years, further rapid response of PSA type liquid crystal panels has been studied. As a technique, a monofunctional liquid crystal compound having any one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group (hereinafter also referred to as " alkenyl liquid crystal " (See, for example, Patent Documents 1 to 3).

일본공개특허공보 2010-285499호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-285499 일본공개특허공보 평9-104644호Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-104644 일본공개특허공보 평6-108053호Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-108053

PSA 모드에 의하면, 시야각의 확대나 고속 응답화를 도모할 수 있는 반면, 광중합성 모노머의 중합 반응에 다량의 자외선 조사가 필요하고, 그 자외선 조사에 기인하여 패널의 표시 품위가 저하된다는 문제가 있다. 또한, 광조사량이 부족한 경우에는, 미반응의 광중합성 모노머가 액정층 중에 잔존하게 되어, 미반응 모노머에 기인하여 화상의 번인(burn-in; 잔상)이 발생하기 쉬워진다. 이러한 점에서, PSA 모드에서는, 가능한 한 적은 광조사량으로 광중합성 모노머를 중합할 수 있고, 게다가 미반응 모노머를 가능한 한 적게 할 필요가 있다.According to the PSA mode, it is possible to enlarge the viewing angle and to achieve a high-speed response. On the other hand, a large amount of ultraviolet irradiation is required for the polymerization reaction of the photopolymerizable monomer, and the display quality of the panel is deteriorated due to the ultraviolet irradiation . In addition, when the light irradiation amount is insufficient, unreacted photopolymerizable monomer remains in the liquid crystal layer, and burn-in (after-image) of the image is liable to occur due to the unreacted monomer. In this regard, in the PSA mode, the photopolymerizable monomer can be polymerized with as little light irradiation as possible, and furthermore, unreacted monomers must be reduced as much as possible.

또한, 알케닐계 액정을 이용한 액정 표시 소자에서는, 응답 속도의 고속화를 도모할 수 있는 반면, 광중합성 모노머의 중합을 위한 광조사에 의해, 알케닐계 액정을 액정층에 포함하지 않는 액정 셀에 비하여 전압 보전율의 저하가 커진다는 것이 분명해져 있다. 액정 표시 소자의 표시 품위를 더욱 개선하는 관점에서 보면, 광중합성 모노머의 중합을 위한 광조사 후에 있어서 높은 전압 보전율을 보전할 필요가 있다.In addition, in the liquid crystal display device using the alkenyl-based liquid crystal, the response speed can be increased. On the other hand, the light irradiation for the polymerization of the photopolymerizable monomer causes the voltage It is clear that the lowering of the maintenance rate becomes larger. From the viewpoint of further improving the display quality of the liquid crystal display element, it is necessary to maintain a high voltage holding ratio after the light irradiation for polymerization of the photopolymerizable monomer.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 적은 광조사량으로 적정한 프리틸트각을 나타냄과 함께, 광조사 후에 있어서 높은 전압 보전율을 유지할 수 있고, 응답 속도가 빠른 PSA 모드 액정 표시 소자를 얻을 수 있는 PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제를 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a PSA mode liquid crystal display device capable of maintaining an appropriate pretilt angle at a low light irradiation amount and maintaining a high voltage holding ratio after light irradiation, And a liquid crystal aligning agent for a mode liquid crystal display element.

본 발명자들은, 상기와 같은 종래 기술의 과제를 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 특정의 화합물을 포함하는 액정 배향제를 이용하여 액정 배향막을 형성함으로써, 상기 과제를 해결 가능한 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 구체적으로는, 본 발명에 의해 이하의 PSA 모드 액정 표시 소자용의 액정 배향제, 액정 배향막, 그리고 액정 표시 소자 및 그의 제조 방법이 제공된다.DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have intensively studied in order to achieve the above-mentioned problems of the prior art, and as a result, they found that the above problems can be solved by forming a liquid crystal alignment film using a liquid crystal aligning agent containing a specific compound, I have come to completion. Specifically, a liquid crystal aligning agent, a liquid crystal alignment film, a liquid crystal display element, and a manufacturing method thereof for PSA mode liquid crystal display elements described below are provided by the present invention.

본 발명은 하나의 측면에 있어서, 광조사에 의해 라디칼을 발생하는 라디칼 발생 기능 및 광조사에 의해 증감(增感) 작용을 나타내는 광증감 기능 중 적어도 어느 기능을 발현 가능한 구조 (a)를 갖는 화합물 (A)를 함유하는 PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제를 제공한다.In one aspect of the present invention, there is provided a compound (a) having a structure (a) capable of expressing at least any one of a radical generating function of generating radicals by light irradiation and a photosensitizing function of exhibiting an increase sensitization by light irradiation (A) for a PSA mode liquid crystal display device.

본 발명은 다른 하나의 측면에 있어서, 본 발명의 액정 배향제를, 도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에 각각 도포하고, 이어서 이것을 가열하여 도막을 형성하는 제1 공정과, 당해 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정성 화합물을 포함하는 액정층을 개재하여 상기 도막이 상대하도록 대향 배치하여 액정 셀을 구축하는 제2 공정과, 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 액정 셀에 광조사하는 제3 공정을 포함하는 액정 표시 소자의 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising a first step of coating a liquid crystal aligning agent of the present invention on a conductive film of a pair of substrates each having a conductive film and then heating the same to form a coated film, A second step of arranging a pair of substrates provided with a pair of substrates facing each other through a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound so as to face each other so as to construct a liquid crystal cell; And a third step of irradiating the liquid crystal cell with light in a state where the liquid crystal cell is irradiated with light.

본 발명은, 다른 하나의 측면에 있어서, 본 발명의 액정 배향제를 이용하여 형성된 PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향막 및, 그 액정 배향막을 구비하는 PSA 모드 액정 표시 소자를 제공한다.In another aspect, the present invention provides a liquid crystal alignment film for a PSA mode liquid crystal display element formed using the liquid crystal aligning agent of the present invention, and a PSA mode liquid crystal display element comprising the liquid crystal alignment film.

본 발명의 액정 배향제를 이용하여 제조한 PSA 모드형의 액정 표시 소자는, 액정 배향막 중에 화합물 (A)를 포함함으로써, 적은 광조사량으로 적정한 프리틸트각을 나타낼 수 있다. 또한, 높은 전압 보전율 및 빠른 응답 속도를 갖는 액정 표시 소자를 얻을 수 있다.The PSA mode liquid crystal display device manufactured using the liquid crystal aligning agent of the present invention can display an appropriate pretilt angle at a small light irradiation amount by containing the compound (A) in the liquid crystal alignment film. Further, a liquid crystal display element having a high voltage holding ratio and a fast response speed can be obtained.

특히, 알케닐계 액정을 포함하는 액정층을 구비하는 액정 표시 소자의 액정 배향막을, 본 발명의 액정 배향제를 이용하여 형성함으로써, 액정 표시 소자에 있어서 응답 속도의 고속화를 도모하면서, 알케닐계 액정의 첨가에 기인하는, 광조사에 수반하는 전압 보전율의 저하를 적합하게 억제할 수 있다.Particularly, by forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element having a liquid crystal layer containing an alkenyl-based liquid crystal using the liquid crystal aligning agent of the present invention, it is possible to improve the response speed of the liquid crystal display element, It is possible to appropriately suppress the decrease of the voltage holding ratio accompanying the light irradiation due to the addition.

도 1은 실시예 및 비교예에서 사용한 투명 전극막의 전극 패턴을 나타내는 도면이다.
도 2는 실시예 및 비교예에서 사용한 투명 전극막의 전극 패턴을 나타내는 도면이다.
도 3은 실시예 및 비교예에서 사용한 투명 전극막의 전극 패턴을 나타내는 도면이다.
1 is a view showing electrode patterns of a transparent electrode film used in Examples and Comparative Examples.
2 is a view showing an electrode pattern of a transparent electrode film used in Examples and Comparative Examples.
3 is a view showing an electrode pattern of a transparent electrode film used in Examples and Comparative Examples.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Mode for carrying out the invention)

이하에, 본 발명의 PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제(이하, 단순히 액정 배향제라고도 함)에 포함되는 각 성분 및, 필요에 따라서 임의로 배합되는 그 외의 성분에 대해서 설명한다.Hereinafter, each component contained in the liquid crystal aligning agent for PSA mode liquid crystal display element of the present invention (hereinafter simply referred to as a liquid crystal aligning agent), and other components arbitrarily blended as necessary, will be described.

<화합물 (A)>&Lt; Compound (A) >

본 발명의 액정 배향제는, 화합물 (A)로서, 광조사에 의해 라디칼을 발생하는 라디칼 발생 기능 및 광조사에 의해 증감 작용을 나타내는 광증감 기능 중 적어도 어느 기능을 발현 가능한 구조 (a)(이하, 「특정 구조」라고도 함)를 갖는 화합물을 함유한다. 여기에서, 「광증감 기능」이란, 빛의 조사에 의해 일중항 여기 상태가 된 후, 신속하게 항간 교차를 일으켜 삼중항 여기 상태로 전이하는 기능을 말한다. 이 삼중항 여기 상태에서 다른 분자와 충돌하면, 상대를 여기 상태로 바꾸고, 스스로는 기저 상태로 되돌아오게 된다. 이 광증감 기능은, 광조사에 의해 라디칼을 발생하는 라디칼 발생 기능과 병존하고 있어도 좋다.The liquid crystal aligning agent of the present invention is preferably a compound (A) capable of exhibiting at least any one of a radical generating function of generating radicals by light irradiation and a photosensitizing function of exhibiting a depressing action by light irradiation , &Quot; specific structure &quot;). Here, the &quot; photo-sensitization function &quot; refers to a function of quickly causing an inter-crossover transition to a triplet excited state after becoming a singlet excited state by irradiation of light. When it collides with another molecule in this triplet excited state, it changes its partner into an excited state and returns to its base state by itself. This photo-sensitization function may coexist with a radical generating function of generating a radical by light irradiation.

화합물 (A)가 갖는 상기 특정 구조로서는, 적어도 광증감 기능을 발현 가능한 구조, 즉, 광증감 기능만을 발현 가능한 구조이거나, 또는 광증감 기능과 라디칼 발생 기능을 발현 가능한 구조인 것이 바람직하다.The specific structure of the compound (A) is preferably a structure capable of exhibiting at least a photosensitivity function, that is, a structure capable of expressing only a photosensitization function or a structure capable of exhibiting a photosensitivity function and a radical generation function.

상기 화합물 (A)는, 반복 단위를 갖지 않는 비교적 저분자의 화합물이라도 좋고, 중합체라도 좋다. 또한, 화합물 (A)는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.The compound (A) may be a relatively low molecular weight compound having no repeating unit, or may be a polymer. The compound (A) may be used alone or in combination of two or more.

저분자 화합물로서의 화합물 (A)는, 분자량 1,000 이하인 것이 바람직하고, 800 이하인 것이 보다 바람직하다. 화합물 (A)가 저분자 화합물인 경우의 구체예로서는, 예를 들면, 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 3-메틸아세토페논 등의 아세토페논 구조를 갖는 화합물;The compound (A) as a low molecular compound preferably has a molecular weight of 1,000 or less, more preferably 800 or less. Specific examples of the compound (A) in the case of a low molecular weight compound include compounds having an acetophenone structure such as acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, compound;

벤조페논, 4-디에틸아미노-2-하이드록시벤조페논, 2-하이드록시벤조페논, 4-메틸벤조페논, 3,4-디메틸벤조페논, 3-(4-벤조일-페녹시)프로필, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(미힐러 케톤) 등의 벤조페논 구조를 갖는 화합물;Hydroxybenzophenone, 4-methylbenzophenone, 3,4-dimethylbenzophenone, 3- (4-benzoyl-phenoxy) propyl, 4 A compound having a benzophenone structure such as chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, and 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone ;

3,5-디니트로벤젠, 4-메틸-3,5-디니트로벤젠, 3-(3,5-디니트로페녹시)프로필, 2-메틸-3,5-디니트로벤젠 등의 니트로아릴 구조를 갖는 화합물; 외에,A nitroaryl structure such as 3,5-dinitrobenzene, 4-methyl-3,5-dinitrobenzene, 3- (3,5-dinitrophenoxy) &Lt; / RTI &gt; In addition to,

9,10-디옥소디하이드로안트라센, 3-(9,10-디옥소-9,10-디하이드로안트라센-2-일)프로필, 3-(4,5-디메톡시-3,6-디옥소사이클로헥사-1,4-디에닐)프로필, 1-하이드록시사이클로헥실페닐케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온-1, 잔톤, 플루오레논, 벤즈알데하이드, 플루오렌, 안트라퀴논, 트리페닐아민, 카르바졸, 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 티오잔톤, 디에틸티오잔톤, 2-이소프로필티오잔톤, 2-클로로티오잔톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드 등을 들 수 있다.(9,10-dioxo-9,10-dihydroanthracene-2-yl) propyl, 3- (4,5-dimethoxy-3,6-dioxo Cyclohexa-1,4-dienyl) propyl, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) Benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2- chlorothioxanthone, 2- 2, 4-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2, 4,4-trimethylpentylphosphine oxide, and the like.

중합체로서의 화합물 (A)는, 상기 특정 구조를 중합체의 주쇄 및 측쇄 중 어느 것에 갖고 있어도 좋지만, 도입량의 컨트롤이 용이한 점이나, 프리틸트각 특성, 전압 보전율 및 응답 속도를 보다 개선할 수 있는 점에 있어서, 중합체의 측쇄에 갖는 것이 바람직하다.The compound (A) as the polymer may have any of the above-described specific structures in the main chain and side chain of the polymer. However, it can be easily controlled in the amount of introduction, and the point , It is preferable that the polymer has a side chain of the polymer.

상기 특정 구조를 갖는 중합체(이하, 「중합체 (A)」라고도 함)의 주(主)골격으로서는, 예를 들면 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리오르가노실록산, 셀룰로오스 유도체, 폴리아세탈 유도체, 폴리스티렌 유도체, 폴리(스티렌-페닐말레이미드) 유도체, 폴리(메타)아크릴레이트 유도체 등으로 이루어지는 골격을 들 수 있다. 상기 중합체 (A)로서는, 이들 중으로부터 선택되는 골격을 갖는 중합체의 1종 이상을, 액정 표시 소자의 용도 등에 따라서 적절하게 선택하여 이용할 수 있다. 또한, (메타)아크릴레이트는, 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 포함하는 것을 의미한다.Examples of the main skeleton of the polymer having the specific structure (hereinafter also referred to as "polymer (A)") include polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyester, polyamide, polyorganosiloxane, A skeleton composed of a cellulose derivative, a polyacetal derivative, a polystyrene derivative, a poly (styrene-phenylmaleimide) derivative, and a poly (meth) acrylate derivative. As the polymer (A), at least one polymer having a skeleton selected therefrom can be suitably selected and used according to the use of the liquid crystal display element and the like. Further, (meth) acrylate means that it includes acrylate and methacrylate.

중합체 (A)로서는, 상기 중에서도, 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르, 폴리오르가노실록산 및 폴리(메타)아크릴레이트로부터 선택되는 골격을 갖는 것이 바람직하고, 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르 및 폴리오르가노실록산으로부터 선택되는 골격을 갖는 것이 보다 바람직하다.As the polymer (A), those having a skeleton selected from polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyorganosiloxane and poly (meth) acrylate are preferable, and polyamic acid, polyimide, It is more preferable to have a skeleton selected from polyorganosiloxane.

상기 중합체 (A)에 있어서의 상기 특정 구조로서는, 당해 특정 구조를 주쇄에 갖는 경우, 벤조페논 구조인 것이 바람직하다.As the specific structure of the polymer (A), when having the specific structure in the main chain, it is preferably a benzophenone structure.

또한, 상기 특정 구조를 측쇄에 갖는 경우에 있어서, 당해 특정 구조의 구체예로서는, 라디칼 발생 기능을 발현 가능한 구조로서, 예를 들면 아세토페논 구조, 벤조페논 구조, 잔톤 구조, 플루오레논 구조, 벤즈알데하이드 구조, 플루오렌 구조, 안트라퀴논 구조, 트리페닐아민 구조, 카르바졸 구조, 알킬페논 구조, 벤조인 구조, 티오잔톤 구조, 아실포스핀옥사이드 구조 등을;In the case of having the specific structure in the side chain, specific examples of the specific structure include a structure capable of exhibiting a radical generating function, for example, an acetophenone structure, a benzophenone structure, a quanthone structure, a fluorenone structure, a benzaldehyde structure , A fluorene structure, an anthraquinone structure, a triphenylamine structure, a carbazole structure, an alkylphenone structure, a benzoin structure, a thioxanthone structure, and an acylphosphine oxide structure;

광증감 기능을 발현 가능한 구조로서, 예를 들면 아세토페논 구조, 벤조페논 구조, 안트라퀴논 구조, 비페닐 구조, 카르바졸 구조, 니트로아릴 구조(니트로벤젠 구조, 1,3-디니트로벤젠 구조 등), 나프탈렌 구조, 플루오렌 구조, 안트라센 구조, 아크리딘 구조, 인돌 구조, 1,4-디옥소사이클로헥사-2,5-디엔 구조 등을 들 수 있다. 또한, 이들 각 구조는, 아세토페논, 벤조페논, 잔톤, 플루오레논, 벤즈알데하이드, 플루오렌, 안트라퀴논, 트리페닐아민, 카르바졸, 알킬페논, 벤조인, 티오잔톤, 아실포스핀옥사이드, 비페닐, 니트로벤젠, 1,3-디니트로벤젠, 나프탈렌, 안트라센, 아크리딘, 인돌, 1,4-디옥소사이클로헥사-2,5-디엔으로부터 1∼4개의 수소 원자를 제거하여 얻어지는 기로 이루어지는 구조이다.Examples of the structure capable of exhibiting a photosensitizing function include an acetophenone structure, a benzophenone structure, an anthraquinone structure, a biphenyl structure, a carbazole structure, a nitroaryl structure (nitrobenzene structure, 1,3-dinitrobenzene structure, etc.) , A naphthalene structure, a fluorene structure, an anthracene structure, an acridine structure, an indole structure, and a 1,4-dioxocyclohexa-2,5-diene structure. Each of these structures may be substituted with one or more substituents selected from the group consisting of acetophenone, benzophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, alkylphenone, benzoin, thioxanthone, acylphosphine oxide, , A structure formed by removing one to four hydrogen atoms from nitrobenzene, 1,3-dinitrobenzene, naphthalene, anthracene, acridine, indole, and 1,4-dioxocyclohexa-2,5-diene to be.

상기 특정 구조를 측쇄에 갖는 경우에 있어서, 당해 특정 구조로서는, 그 중에서도, 아세토페논 구조, 벤조페논 구조, 안트라퀴논 구조, 비페닐 구조, 카르바졸 구조, 니트로아릴 구조 및 나프탈렌 구조로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 아세토페논 구조, 벤조페논 구조 및 니트로아릴 구조로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다.In the case of having the specific structure in the side chain, the specific structure is preferably selected from the group consisting of an acetophenone structure, a benzophenone structure, an anthraquinone structure, a biphenyl structure, a carbazole structure, a nitroaryl structure and a naphthalene structure , And more preferably at least one selected from the group consisting of an acetophenone structure, a benzophenone structure, and a nitroaryl structure.

[중합체 (A): 폴리암산][Polymer (A): polyamic acid]

본 발명에 있어서, 중합체 (A)로서의 폴리암산(이하, 「폴리암산 (A)」라고도 함)은, 예를 들면 테트라카본산 2무수물과, 상기 특정 구조를 갖는 디아민을 반응시킴으로써 얻을 수 있다.In the present invention, a polyamic acid (hereinafter also referred to as &quot; polyamic acid (A) &quot;) as the polymer (A) can be obtained by reacting, for example, tetracarboxylic acid dianhydride with a diamine having the above specific structure.

[테트라카본산 2무수물][Tetracarboxylic acid dianhydride]

본 발명에 있어서의 폴리암산 (A)를 합성하는 데에 이용하는 테트라카본산 2무수물로서는, 예를 들면, 지방족 테트라카본산 2무수물, 지환식 테트라카본산 2무수물, 방향족 테트라카본산 2무수물 등을 들 수 있다. 이들 구체예로서는, 지방족 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 1,2,3,4-부탄테트라카본산 2무수물 등을;Examples of the tetracarboxylic acid dianhydride used for synthesizing the polyamic acid (A) in the present invention include aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride, alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, aromatic tetracarboxylic dianhydride, and the like. . Specific examples thereof include aliphatic tetracarboxylic acid dianhydrides such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;

지환식 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-8-메틸-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 3-옥사바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온-6-스피로-3'-(테트라하이드로푸란-2',5'-디온), 5-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카본산 무수물, 3,5,6-트리카복시-2-카복시메틸노르보르난 2:3,5:6-2무수물, 2,4,6,8-테트라카복시바이사이클로[3.3.0]옥탄-2:4,6:8-2무수물, 4,9-디옥소트리사이클로[5.3.1.02,6]운데칸-3,5,8,10-테트라온, 사이클로헥산테트라카본산 2무수물 등을;As the alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, for example, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4, 5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2- c] furan-1,3-dione, , 5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [ (Tetrahydrofuran-2 ', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3 ' 3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornane 2: 3,5: 6-2 anhydride, 2 , 4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2: 4,6,8-2 anhydride, 4,9-dioxotricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane- 5,8,10-tetraone, cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and the like;

방향족 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 피로멜리트산 2무수물 등을;As the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride, for example, pyromellitic dianhydride and the like;

각각 들 수 있는 것 외에, 일본공개특허공보 2010-97188호에 기재된 테트라카본산 2무수물 등을 이용할 수 있다. 또한, 상기 테트라카본산 2무수물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Tetracarboxylic acid dianhydride described in JP-A-2010-97188, and the like can be used. The tetracarboxylic acid dianhydride may be used singly or in combination of two or more.

폴리암산 (A)를 합성하기 위해 이용하는 테트라카본산 2무수물로서는, 지환식 테트라카본산 2무수물을 포함하는 것이 바람직하고, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물 및 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것이 보다 바람직하고, 특히, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 폴리암산 (A)를 합성하기 위해 이용하는 테트라카본산 2무수물로서는, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물 및 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물의 함유량(합계량)이, 합성에 사용하는 테트라카본산 2무수물의 전체량에 대하여, 60몰% 이상인 것이 바람직하고, 80몰% 이상인 것이 보다 바람직하다.The tetracarboxylic acid dianhydride used for synthesizing the polyamic acid (A) preferably contains an alicyclic tetracarboxylic acid dianhydride, and 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride and 1,2,3 , And 4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, and more preferably 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride. As the tetracarboxylic acid dianhydride used for synthesizing the polyamic acid (A), the content of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride (Total amount) is preferably 60 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, based on the total amount of the tetracarboxylic acid dianhydride used in the synthesis.

[디아민][Diamine]

본 발명에 있어서의 폴리암산을 합성하기 위해 이용하는 디아민으로서는, 상기 특정 구조를 가짐으로써, 중합체에 대하여 라디칼 발생 기능 및 광증감 기능 중 적어도 어느 기능을 부여 가능한 디아민(이하, 「특정 디아민」이라고도 함)을 들 수 있다. 이러한 특정 디아민의 구체예로서는, 예를 들면 4,4'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논, {4-[2-(3,5-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-에탄온, 3,4-디아미노벤조페논, {4-[2-(3,5-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-페닐-메탄온, {4-[2-(2,4-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-페닐-메탄온, {4-[2-(2,4-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-p-톨루일-메탄온, {4-[2-(2,4-디아미노페녹시)-에톡시]-페닐}-o-톨루일-메탄온, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌 등을 들 수 있다. 상기 특정 디아민은, 이들 중으로부터 선택되는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the diamine used for synthesizing the polyamic acid in the present invention, a diamine (hereinafter also referred to as &quot; specific diamine &quot;) capable of imparting at least any of a radical generating function and a photosensitizing function to the polymer, . Specific examples of such specific diamines include 4,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminobenzophenone, {4- [2- (3,5-diaminophenoxy) -ethoxy] -Phenyl-methanone, {4- [2 (3,5-diaminophenoxy) -ethoxy] -phenyl} -Phenyl-methanone, {4- [2- (2,4-diaminophenoxy) -ethoxy] -phenyl} -p- (4-aminophenyl) -ethoxy] -phenyl} -octolyl-methanone, 9,9-bis Oren and the like. The above-mentioned specific diamine can be used singly or in combination of two or more kinds selected from these.

본 발명에 있어서의 폴리암산 (A)를 합성하기 위한 디아민으로서는, 상기 특정 디아민을 단독으로 사용해도 좋지만, 상기 특정 디아민과 함께, 상기 특정 디아민 이외의 디아민(이하, 「그 외의 디아민」이라고도 함)을 사용해도 좋다.As the diamine for synthesizing the polyamic acid (A) in the present invention, the above-mentioned specific diamine may be used singly, but a diamine other than the specific diamine (hereinafter also referred to as &quot; other diamine &quot; May be used.

여기에서, 상기 그 외의 디아민으로서는, 예를 들면 지방족 디아민, 지환식 디아민, 방향족 디아민, 디아미노오르가노실록산 등을 들 수 있다. 이들 구체예로서는, 지방족 디아민으로서, 예를 들면 메타자일릴렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민 등을; 지환식 디아민으로서, 예를 들면 1,4-디아미노사이클로헥산, 4,4'-메틸렌비스(사이클로헥실아민), 1,3-비스(아미노메틸)사이클로헥산 등을;Examples of the other diamines include aliphatic diamines, alicyclic diamines, aromatic diamines, diaminoorganosiloxanes, and the like. Specific examples thereof include aliphatic diamines such as meta-xylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine and the like; As the alicyclic diamine, for example, 1,4-diaminocyclohexane, 4,4'-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane and the like;

방향족 디아민으로서, 예를 들면 p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 2,7-디아미노플루오렌, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 4,4'-(p-페닐렌디이소프로필리덴)비스아닐린, 4,4'-(m-페닐렌디이소프로필리덴)비스아닐린, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 2,6-디아미노피리딘, 3,4-디아미노피리딘, 2,4-디아미노피리미딘, 3,6-디아미노아크리딘, 3,6-디아미노카르바졸, N-메틸-3,6-디아미노카르바졸,As aromatic diamines, for example, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2'-dimethyl Diaminobiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,7-diaminofluorene, 4,4'-diamino Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 '- (p-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 4,4' - (m- phenylenediisopropylidene) bisaniline, (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6- diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine, 2,4- 3,6-diamino acridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole,

N-에틸-3,6-디아미노카르바졸, N-페닐-3,6-디아미노카르바졸, N,N'-비스(4-아미노페닐)-벤지딘, N,N'-비스(4-아미노페닐)-N,N'-디메틸벤지딘, 1,4-비스-(4-아미노페닐)-피페라진, 3,5-디아미노벤조산, 도데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 테트라데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 펜타데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 헥사데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 도데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 테트라데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 펜타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 헥사데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 콜레스타닐옥시-3,5-디아미노벤젠, 콜레스테닐옥시-3,5-디아미노벤젠, 콜레스타닐옥시-2,4-디아미노벤젠, 콜레스테닐옥시-2,4-디아미노벤젠, 3,5-디아미노벤조산 콜레스타닐, 3,5-디아미노벤조산 콜레스테닐, 3,5-디아미노벤조산 라노스타닐, 3,6-비스(4-아미노벤조일옥시)콜레스탄, 3,6-비스(4-아미노페녹시)콜레스탄, 4-(4'-트리플루오로메톡시벤조일옥시)사이클로헥실-3,5-디아미노벤조에이트, 4-(4'-트리플루오로메틸벤조일옥시)사이클로헥실-3,5-디아미노벤조에이트, 1,1-비스(4-((아미노페닐)메틸)페닐)-4-부틸사이클로헥산, 1,1-비스(4-((아미노페닐)메틸)페닐)-4-헵틸사이클로헥산, 1,1-비스(4-((아미노페녹시)메틸)페닐)-4-헵틸사이클로헥산, 1,1-비스(4-((아미노페닐)메틸)페닐)-4-(4-헵틸사이클로헥실)사이클로헥산, 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-5-아민, 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-6-아민, 3-(3,5-디아미노벤조일옥시)콜레스탄 및, 하기식 (D-1):N, N'-bis (4-aminophenyl) benzidine, N, N'- Aminophenyl) -N, N'-dimethylbenzidine, 1,4-bis- (4-aminophenyl) -piperazine, 3,5- diaminobenzoic acid, dodecaneoxy- Oxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,4-diaminobenzene, hexadecaneoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy- 2,5-diaminobenzene, pentadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, hexadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, octadecanoxy-2, 5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestenyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestenyloxy- 2,4-diaminobenzene, 3,5-diaminobenzoic acid cholestanyl, 3,5-diaminobenzoic acid cholestenyl, 3,5-diaminobenzoic acid ranostanyl, (4-aminobenzoyloxy) cholestane, 3,6-bis (4-aminophenoxy) cholestane, 4- (4'-trifluoromethoxybenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, Bis (4 - ((aminophenyl) methyl) phenyl) -4-butylcyclohexane, 1 (4'-trifluoromethylbenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, Heptylcyclohexane, 1,1-bis (4 - ((aminophenoxy) methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1-bis (4 - ((aminophenyl) methyl) phenyl) -4- (4-heptylcyclohexyl) cyclohexane, 1- Aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-inden-6-amine, 3- (3,5- Minobenzoyloxy) cholestane represented by the following formula (D-1):

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 (D-1) 중, X 및 X는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -COO- 또는 -OCO-이고, R은, 탄소수 1∼3의 알칸디일기이고, a는 0 또는 1이고, b는 0∼2의 정수이고, c는 1∼20의 정수이고, n은 0 또는 1이고; 단, a 및 b가 동시에 0이 되지는 않음) Wherein X I and X II each independently represents a single bond, -O-, -COO- or -OCO-, R I is an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, a is 0 or 1, b is an integer of 0 to 2, c is an integer of 1 to 20, and n is 0 or 1, provided that a and b are not 0 at the same time.

로 나타나는 화합물 등을;And the like;

디아미노오르가노실록산으로서, 예를 들면, 1,3-비스(3-아미노프로필)-테트라메틸디실록산 등을, 각각 들 수 있는 것 외에, 일본공개특허공보 2010-97188호에 기재된 디아민을 이용할 수 있다.Examples of the diaminoorganosiloxane include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane and the like, and diamines described in JP-A-2010-97188 can be used .

상기식 (D-1)에 있어서의 「-X-(R-X)n-」으로 나타나는 2가의 기로서는, 탄소수 1∼3의 알칸디일기, *-O-, *-COO- 또는 *-O-C2H4-O-(단, 「*」를 붙인 결합손이 디아미노페닐기와 결합함)인 것이 바람직하다.Examples of the divalent group represented by "-X I - (R I -X II ) n -" in the above formula (D-1) include an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, * -O-, * -COO- Or * -OC 2 H 4 -O- (provided that a bonding hand having "*" attached thereto is bonded to a diaminophenyl group).

기 「-CcH2c +1」의 구체예로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-노나데실기, n-에이코실기 등을 들 수 있다. 디아미노페닐기에 있어서의 2개의 아미노기는, 다른 기에 대하여 2,4-위치 또는 3,5-위치에 있는 것이 바람직하다.Specific examples of the group "-C c H 2c +1 " include a methyl group, an ethyl group, a n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, n-heptadecyl, n-heptadecyl, n-octadecyl, n-hexadecyl, n-hexadecyl, An n-nonadecyl group, and an n-eicosyl group. The two amino groups in the diaminophenyl group are preferably in the 2,4-position or the 3,5-position with respect to the other groups.

상기식 (D-1)로 나타나는 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 하기식 (D-1-1)∼(D-1-4)의 각각으로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the compound represented by the formula (D-1) include compounds represented by the following formulas (D-1-1) to (D-1-4).

Figure pat00002
Figure pat00002

또한, 그 외의 디아민으로서는, 이들 화합물의 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As other diamines, these compounds may be used singly or in combination of two or more.

상기 폴리암산 (A)의 합성시에 있어서, 상기 특정 디아민의 사용량은, 합성에 사용하는 디아민의 전체량에 대하여, 0.1∼80몰%로 하는 것이 바람직하고, 1∼60몰%로 하는 것이 보다 바람직하고, 5∼50몰%로 하는 것이 더욱 바람직하다.In the synthesis of the polyamic acid (A), the amount of the specific diamine to be used is preferably 0.1 to 80 mol%, more preferably 1 to 60 mol%, based on the total amount of the diamine used in the synthesis , More preferably from 5 to 50 mol%.

<폴리암산의 합성><Synthesis of polyamic acid>

본 발명에 있어서의 폴리암산의 합성 반응에 제공되는 테트라카본산 2무수물과 디아민의 사용 비율은, 디아민의 아미노기 1당량에 대하여, 테트라카본산 2무수물의 산 무수물기가 0.2∼2당량이 되는 비율이 바람직하고, 0.3∼1.2당량이 되는 비율이 보다 바람직하다. 또한, 폴리암산의 합성 반응은, 바람직하게는 유기 용매 중에 있어서 행해진다. 이때의 반응 온도는, -20℃∼150℃가 바람직하고, 0∼100℃가 보다 바람직하다. 또한, 반응 시간은, 0.5∼24시간이 바람직하고, 2∼10시간으로 하는 것이 보다 바람직하다.The ratio of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine to be used in the synthesis reaction of the polyamic acid in the present invention is such that the ratio of the acid anhydride group of the tetracarboxylic acid dianhydride to the equivalent of one equivalent of the amino group of the diamine is 0.2 to 2 equivalents , More preferably from 0.3 to 1.2 equivalents. The synthesis reaction of the polyamic acid is preferably carried out in an organic solvent. The reaction temperature at this time is preferably -20 캜 to 150 캜, more preferably 0 to 100 캜. The reaction time is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 2 to 10 hours.

여기에서, 반응에 사용하는 유기 용매로서는, 합성되는 폴리암산을 용해 가능하면 좋고, 구체적으로는, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, γ-부티로락톤, 테트라메틸우레아, 헥사메틸포스포르트리아미드 등의 비(非)프로톤성 극성 용매; m-크레졸, 자일레놀, 페놀, 할로겐화 페놀 등의 페놀계 용매; 등을 들 수 있다. 또한, 이들 유기 용매는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The organic solvent to be used in the reaction is not particularly limited as long as it can dissolve the polyamic acid to be synthesized. Specific examples thereof include N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl- Such as N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone,? -Butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphoric triamide, (Non) protonic polar solvent; phenol-based solvents such as m-cresol, xylenol, phenol, and halogenated phenol; And the like. These organic solvents may be used singly or in combination of two or more.

또한, 반응에 사용하는 유기 용매로서는, 합성되는 폴리암산이 석출되지 않는 범위 내에서, 당해 폴리암산의 빈(貧)용매를 병용해도 좋다. 이러한 빈용매로서는, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 사이클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥산온 등의 케톤; 락트산 에틸, 락트산 부틸, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 메틸메톡시프로피오네이트, 옥살산 디에틸, 이소아밀프로피오네이트 등의 에스테르; 디에틸에테르, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜프로필에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디이소펜틸에테르 등의 에테르; 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 1,4-디클로로부탄, 트리클로로에탄 등의 할로겐화 탄화수소; 헥산, 헵탄, 옥탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 등의 탄화수소 등을 들 수 있다. 또한, 이들 빈용매는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.As the organic solvent to be used in the reaction, a poor solvent of the polyamic acid may be used in combination within a range in which the synthesized polyamic acid is not precipitated. Examples of such a poor solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, and ethylene glycol monomethyl ether; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Esters such as ethyl lactate, butyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, diethyl oxalate, and isoamyl propionate; Ethers such as diethyl ether, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol propyl ether, ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran and diisopentyl ether; Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,4-dichlorobutane, and trichloroethane; And hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, benzene, toluene and xylene. These poor solvents may be used singly or in combination of two or more.

반응에 사용하는 유기 용매로서 상기 폴리암산의 빈용매를 사용하는 경우, 그 사용 비율은, 합성에 사용하는 유기 용매의 전체량에 대하여, 바람직하게는 50중량% 이하이고, 보다 바람직하게는 40중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 30중량% 이하이다.When a poor solvent of the polyamic acid is used as the organic solvent used in the reaction, the use ratio thereof is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight or less based on the total amount of the organic solvent used in the synthesis % Or less, and more preferably 30 wt% or less.

유기 용매의 사용량 (x)는, 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 합계량 (y)가, 반응 용액의 전체량 (x+y)에 대하여 0.1∼50중량%가 되도록 하는 양으로 하는 것이 바람직하고, 5∼30중량%가 되도록 하는 양으로 하는 것이 보다 바람직하다.The amount (x) of the organic solvent used is preferably such that the total amount (y) of the tetracarboxylic acid dianhydride and the diamine is 0.1 to 50 wt% with respect to the total amount (x + y) By weight to 30% by weight.

이상과 같이 하여, 폴리암산 (A)를 용해하여 이루어지는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은, 그대로 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산 (A)를 단리한 후에 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리암산 (A)를 정제한 후에 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋다. 또한, 폴리암산 (A)를 탈수 폐환하여 폴리이미드로 하는 경우에는, 상기 반응 용액을 그대로 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산 (A)를 단리한 후에 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리암산 (A)를 정제한 후에 탈수 폐환 반응에 제공해도 좋다. 폴리암산 (A)의 단리 및 정제는 공지의 방법에 따라 행할 수 있다.As described above, a reaction solution obtained by dissolving the polyamic acid (A) is obtained. The reaction solution may be provided as it is in the preparation of a liquid crystal aligning agent. Alternatively, the polyamic acid (A) contained in the reaction solution may be isolated and then supplied to the preparation of a liquid crystal aligning agent, or the polyamic acid (A) Or may be provided for the preparation of a liquid crystal aligning agent. When the polyamic acid (A) is subjected to dehydration ring closure to form polyimide, the reaction solution may be directly supplied to the dehydration ring-closing reaction. Alternatively, the polyamic acid (A) contained in the reaction solution may be isolated, , Or may be subjected to a dehydration ring-closing reaction after the isolated polyamic acid (A) is purified. The polyamic acid (A) can be isolated and purified by a known method.

<중합체 (A): 폴리이미드>&Lt; Polymer (A): polyimide >

본 발명에 있어서, 중합체 (A)로서의 폴리이미드(이하, 「폴리이미드 (A)」라고도 함)는, 예를 들면 상기와 같이 하여 합성된 폴리암산 (A)를 탈수 폐환하여 이미드화함으로써 얻을 수 있다.In the present invention, the polyimide (hereinafter also referred to as &quot; polyimide (A) &quot;) as the polymer (A) can be obtained by, for example, imidizing the polyamic acid (A) have.

상기 폴리이미드 (A)는, 그 전구체인 폴리암산 (A)가 갖고 있었던 암산 구조의 전부를 탈수 폐환한 완전 이미드화물이라도 좋고, 암산 구조의 일부만을 탈수 폐환하여, 암산 구조와 이미드환 구조가 병존하는 부분 이미드화물이라도 좋다. 본 발명에 있어서의 폴리이미드 (A)는, 그 이미드화율이 40% 이상인 것이 바람직하고, 50∼99%인 것이 보다 바람직하다. 이 이미드화율은, 폴리이미드의 암산 구조의 수와 이미드환 구조의 수와의 합계에 대한 이미드환 구조의 수가 차지하는 비율을 백분율로 나타낸 것이다. 또한, 이미드환의 일부가 이소이미드환이라도 좋다.The polyimide (A) may be a complete imide cargo which is subjected to dehydration ring closure of all of the arboric acid structure of the polyamic acid (A) which is a precursor thereof, and the dehydration ring closure of only a part of the arboric acid structure, It may be a partially imide cargo. The polyimide (A) in the present invention preferably has an imidization ratio of 40% or more, more preferably 50 to 99%. The imidization rate is a percentage of the ratio of the number of imide ring structures to the sum of the number of amide structure and the number of imide ring structure of polyimide. A part of the imide ring may be an isoimide ring.

폴리암산 (A)의 탈수 폐환은, (i) 폴리암산 (A)를 가열하는 방법에 의해, 또는 (ⅱ) 폴리암산 (A)를 유기 용매에 용해하고, 이 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하여 필요에 따라서 가열하는 방법에 의해 행할 수 있다.The dehydration ring-closure of the polyamic acid (A) can be carried out by a method comprising the steps of (i) heating the polyamic acid (A) or (ii) dissolving the polyamic acid (A) in an organic solvent, and adding a dehydrating agent and a dehydrating ring- And then heating it as necessary.

상기 (i)의 방법에 있어서, 반응 온도는, 바람직하게는 50∼200℃이고, 보다 바람직하게는 60∼170℃이다. 반응 온도가 50℃ 미만이면 탈수 폐환 반응이 충분히 진행되지 않고, 반응 온도가 200℃를 초과하면, 얻어지는 폴리이미드 (A)의 분자량이 저하되는 경우가 있다. 반응 시간은, 바람직하게는 0.5∼48시간이고, 보다 바람직하게는 2∼20시간이다.In the above method (i), the reaction temperature is preferably 50 to 200 캜, and more preferably 60 to 170 캜. If the reaction temperature is less than 50 ° C, the dehydration ring-closure reaction does not proceed sufficiently, and if the reaction temperature exceeds 200 ° C, the molecular weight of the obtained polyimide (A) may be lowered. The reaction time is preferably 0.5 to 48 hours, more preferably 2 to 20 hours.

한편, 상기 (ⅱ)의 방법에 있어서, 탈수제로서는, 예를 들면 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 트리플루오로아세트산 등의 산 무수물을 이용할 수 있다. 탈수제의 사용량은, 암산 구조 단위의 1몰에 대하여 0.01∼20몰로 하는 것이 바람직하다. 또한, 탈수 폐환 촉매로서는, 예를 들면 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 트리에틸아민, N-메틸피페리딘 등의 3급 아민을 이용할 수 있다. 탈수 폐환 촉매의 사용량은, 사용하는 탈수제 1몰에 대하여 0.01∼10몰로 하는 것이 바람직하다. 탈수 폐환 반응에 이용되는 유기 용매로서는, 폴리암산 (A)의 합성에 이용되는 유기 용매로서 예시한 용매를 들 수 있다. 탈수 폐환 반응의 반응 온도는, 바람직하게는 0∼180℃이고, 보다 바람직하게는 10∼150℃이다. 반응 시간은, 바람직하게는 0.5∼20시간이고, 보다 바람직하게는 1∼8시간이다.On the other hand, in the method (ii), examples of the dehydrating agent include acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and trifluoroacetic anhydride. The amount of the dehydrating agent to be used is preferably 0.01 to 20 mol based on 1 mol of the acid structural unit. As the dehydration cyclization catalyst, for example, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine, triethylamine and N-methylpiperidine can be used. The amount of the dehydration ring-closing catalyst to be used is preferably 0.01 to 10 mol based on 1 mol of the dehydrating agent to be used. As the organic solvent used in the dehydration ring-closure reaction, a solvent exemplified as an organic solvent used for the synthesis of the polyamic acid (A) can be mentioned. The reaction temperature of the dehydration cyclization reaction is preferably 0 to 180 캜, more preferably 10 to 150 캜. The reaction time is preferably 0.5 to 20 hours, more preferably 1 to 8 hours.

상기 방법 (i)에 의해 얻어지는 폴리이미드 (A)는, 이것을 그대로 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋고, 혹은 얻어지는 폴리이미드 (A)를 정제한 후에 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋다. 한편, 상기 방법 (ⅱ)에 있어서는, 폴리이미드 (A)를 함유하는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은, 이것을 그대로 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋고, 예를 들면 용매 치환 등의 방법에 의해 반응 용액으로부터 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 제거한 후에 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋고, 폴리이미드 (A)를 단리한 후에 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋고, 또는 단리한 폴리이미드 (A)를 정제한 후에 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋다. 폴리이미드 (A)의 단리 및 정제 조작은 공지의 방법에 따라 행할 수 있다.The polyimide (A) obtained by the above method (i) may be directly supplied to the preparation of the liquid crystal aligning agent, or may be provided in the preparation of the liquid crystal aligning agent after the obtained polyimide (A) is purified. On the other hand, in the above method (ii), a reaction solution containing the polyimide (A) is obtained. This reaction solution may be supplied directly to the preparation of a liquid crystal aligning agent or may be provided in the preparation of a liquid crystal aligning agent after removal of the dehydrating agent and the dehydration ring-closing catalyst from the reaction solution, for example, by solvent substitution, (A) may be isolated and then supplied to the preparation of the liquid crystal aligning agent, or the polyimide (A) which has been isolated may be purified and then provided in the preparation of the liquid crystal aligning agent. The polyimide (A) can be isolated and purified by a known method.

<중합체 (A): 폴리암산 에스테르>&Lt; Polymer (A): polyamic acid ester &

본 발명에 있어서의 중합체 (A)로서의 폴리암산 에스테르(이하, 「폴리암산 에스테르 (A)」라고도 함)는, 예를 들면, 상기 폴리암산 (A)의 합성에 사용하는 화합물로서 예시한 테트라카본산 2무수물과 그 외의 디아민을 반응시켜 폴리암산을 얻은 후, 그 얻어진 폴리암산과, 상기 특정 구조 및 에폭시기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 합성할 수 있다. 또한, 폴리암산 에스테르 (A)는, 암산 에스테르 구조만을 갖고 있어도 좋고, 암산 구조와 암산 에스테르 구조가 병존하는 부분 에스테르화물이라도 좋다.The polyamic acid ester (hereinafter also referred to as &quot; polyamic acid ester (A) &quot;) as the polymer (A) in the present invention can be obtained, for example, Reacting an acid dianhydride with another diamine to obtain a polyamic acid, and then reacting the obtained polyamic acid with a compound having the specific structure and an epoxy group. The polyamic acid ester (A) may have only an amide ester structure, or may be a partial esterified product in which an amide structure and an amide ester structure coexist.

이상과 같이 하여 얻어지는 폴리암산 (A), 폴리암산 에스테르 (A) 및 폴리이미드 (A)는, 이것을 농도 10중량%의 용액으로 했을 때에, 10∼800mPa·s의 용액 점도를 갖는 것이 바람직하고, 15∼500mPa·s의 용액 점도를 갖는 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 중합체의 용액 점도(mPa·s)는, 그들 중합체의 양(良)용매(예를 들면 γ-부티로락톤, N-메틸-2-피롤리돈 등)를 이용하여 조제한 농도 10중량%의 중합체 용액에 대해, E형 회전 점도계를 이용하여 25℃에서 측정한 값이다. 또한, 상기 폴리암산 (A), 폴리암산 에스테르 (A) 및 폴리이미드 (A)는, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이, 500∼300,000인 것이 바람직하고, 1,000∼200,000인 것이 보다 바람직하다.The polyamic acid (A), the polyamic acid ester (A) and the polyimide (A) obtained as described above preferably have a solution viscosity of 10 to 800 mPa · s when the solution is a 10 wt% And more preferably a solution viscosity of 15 to 500 mPa · s. The solution viscosity (mPa 占 퐏) of the polymer was determined by using a solution of these polymers (for example,? -Butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone and the like) % Of the polymer solution at 25 占 폚 using an E-type rotational viscometer. The polyamic acid (A), the polyamic acid ester (A) and the polyimide (A) preferably have a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of 500 to 300,000, More preferably 1,000 to 200,000.

[중합체 (A): 폴리오르가노실록산][Polymer (A): polyorganosiloxane]

상기 중합체 (A)로서의 폴리오르가노실록산(이하, 「폴리오르가노실록산 (A)」이라고도 함)은, 유기 화학의 정법을 적절하게 조합함으로써 합성할 수 있다. 그 일례로서는, 예를 들면, 에폭시기를 갖는 가수분해성의 실란 화합물 (s1), 또는 당해 실란 화합물 (s1)과 그 외의 실란 화합물과의 혼합물을 가수분해 축합함으로써 중합체(이하, 「에폭시기 함유 폴리오르가노실록산」이라고도 함)를 합성한 후, 그 얻어진 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산과, 상기 특정 구조를 갖는 카본산 (c1)을 반응시키는 방법 등을 들 수 있다.The polyorganosiloxane (hereinafter also referred to as &quot; polyorganosiloxane (A) &quot;) as the polymer (A) can be synthesized by suitably combining organic chemical methods. As an example thereof, there can be mentioned, for example, a polymer (hereinafter referred to as &quot; an epoxy group-containing polyorganosiloxane &quot;) obtained by hydrolysis and condensation of a hydrolyzable silane compound (s1) having an epoxy group or a mixture of the silane compound Siloxane "), and then reacting the obtained epoxy group-containing polyorganosiloxane with the carbonic acid (c1) having the specific structure.

상기 실란 화합물 (s1)은, 에폭시기를 갖는 가수분해성의 실란 화합물이면 특별히 한정하지 않는다. 그 구체예로서는, 예를 들면 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필디메틸메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필디메틸에톡시실란, 2-글리시딜옥시에틸트리메톡시실란, 2-글리시딜옥시에틸트리에톡시실란, 2-글리시딜옥시에틸메틸디메톡시실란, 2-글리시딜옥시에틸메틸디에톡시실란, 2-글리시딜옥시에틸디메틸메톡시실란, 2-글리시딜옥시에틸디메틸에톡시실란, 4-글리시딜옥시부틸트리메톡시실란, 4-글리시딜옥시부틸트리에톡시실란, 4-글리시딜옥시부틸메틸디메톡시실란, 4-글리시딜옥시부틸메틸디에톡시실란, 4-글리시딜옥시부틸디메틸메톡시실란, 4-글리시딜옥시부틸디메틸에톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란, 3-(3,4-에폭시사이클로헥실)프로필트리메톡시실란, 3-(3,4-에폭시사이클로헥실)프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 실란 화합물 (s1)로서는, 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The silane compound (s1) is not particularly limited as long as it is a hydrolyzable silane compound having an epoxy group. Specific examples thereof include, for example, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyl 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2-glycidyloxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidyloxyethyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2-glycidyloxyethylmethyldimethoxysilane, 2-glycidyloxyethylmethyldiethoxysilane, 2-glycidyloxyethyldimethylmethoxysilane, 2-glycidyloxyethyldimethylethoxysilane , 4-glycidyloxybutyltrimethoxysilane, 4-glycidyloxybutyltriethoxysilane, 4-glycidyloxybutylmethyldimethoxysilane, 4-glycidyloxybutylmethyldiethoxysilane, 4 -Glycidyloxybutyldimethylmethoxysilane, 4-glycidyloxybutyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, 3- (3,4-epoxy Cyclohexyl) propyltriethoxysilane and the like. As the silane compound (s1), one kind or a mixture of two or more kinds of them can be used.

에폭시기 함유 폴리오르가노실록산의 합성시에 있어서, 필요에 따라서 사용할 수 있는 그 외의 실란 화합물로서는, 예를 들면 메틸트리클로로실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 페닐트리클로로실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 메틸디클로로실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디페닐디클로로실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 클로로디메틸실란, 메톡시디메틸실란, 에톡시디메틸실란, 클로로트리메틸실란, 브로모트리메틸실란, 요오도트리메틸실란, 메톡시트리메틸실란, 에톡시트리메틸실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 옥타데실트리클로로실란, 옥타데실트리메톡시실란, 옥타데실트리에톡시실란, 3-(메타)아크릴옥시프로필트리클로로실란, 3-(메타)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메타)아크릴옥시프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 그 외의 실란 화합물로서는, 이들 중 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴옥시」는, 아크릴옥시 및 메타크릴옥시를 포함하는 뜻이다.Examples of other silane compounds that can be optionally used in the synthesis of the epoxy group-containing polyorganosiloxane include methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyl But are not limited to, trimethoxysilane, trimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, methyldichlorosilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, But are not limited to, diphenyldiethoxysilane, chlorodymethylsilane, methoxydimethylsilane, ethoxydimethylsilane, chlorotrimethylsilane, bromotrimethylsilane, iodotrimethylsilane, methoxytrimethylsilane, ethoxytrimethylsilane, tetramethoxysilane, tetra Ethoxysilane, octadecyltrichlorosilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxy A ropil trichlorosilane, 3- (meth) acryloxy propyl trimethoxy silane, 3- (meth) acryloxy-propyltriethoxysilane, and the like silane. As the other silane compounds, one kind or a mixture of two or more kinds of them may be used. Further, in the present specification, "(meth) acryloxy" means acryloxy and methacryloxy.

폴리오르가노실록산 (A)의 합성시에 있어서 사용하는 실란 화합물은, 상기 실란 화합물 (s1)을, 실란 화합물의 전체량에 대하여 10∼100몰% 포함하는 것이 바람직하고, 20∼100몰% 포함하는 것이 보다 바람직하다. 상기 그 외의 실란 화합물을 사용하는 경우, 그 함유 비율은, 합성에 사용하는 실란 화합물의 전체량에 대하여, 30몰% 이하인 것이 바람직하고, 10몰% 이하인 것이 보다 바람직하다.The silane compound used in the synthesis of the polyorganosiloxane (A) preferably contains the silane compound (s1) in an amount of 10 to 100 mol%, more preferably 20 to 100 mol%, based on the total amount of the silane compound . When the other silane compound is used, the content thereof is preferably 30 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, based on the total amount of the silane compound used in the synthesis.

상기에 있어서의 실란 화합물의 가수분해·축합 반응은, 상기와 같은 실란 화합물의 1종 또는 2종 이상과 물을, 바람직하게는 적당한 촉매 및 유기 용매의 존재하에서 반응시킴으로써 행할 수 있다. 가수분해·축합 반응시에 있어서, 물의 사용 비율은, 실란 화합물(합계량) 1몰에 대하여, 바람직하게는 0.5∼100몰이고, 보다 바람직하게는 1∼30몰이다.The hydrolysis / condensation reaction of the silane compound in the above can be carried out by reacting one or more silane compounds as described above with water, preferably in the presence of a suitable catalyst and an organic solvent. In the hydrolysis-condensation reaction, the use ratio of water is preferably 0.5 to 100 moles, more preferably 1 to 30 moles, per 1 mole of the silane compound (total amount).

가수분해·축합 반응시에 사용할 수 있는 촉매로서는, 예를 들면 산, 알칼리 금속 화합물, 유기 염기, 티탄 화합물, 지르코늄 화합물 등을 들 수 있다. 이들 촉매의 구체예로서는, 산으로서, 예를 들면 염산, 황산, 질산, 포름산, 옥살산, 아세트산, 트리플루오로아세트산, 트리플루오로메탄술폰산, 인산 등을; 알칼리 금속 화합물로서, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 나트륨메톡사이드, 칼륨메톡사이드, 나트륨에톡사이드, 칼륨에톡사이드 등을; 유기 염기로서, 예를 들면 에틸아민, 디에틸아민, 피페라진, 피페리딘, 피롤리딘, 피롤과 같은 1∼2급 유기 아민: 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 디아자바이사이클로운데센과 같은 3급의 유기 아민: 테트라메틸암모늄하이드록사이드와 같은 4급의 유기 아민 등을; 각각 들 수 있다.Examples of the catalyst that can be used in the hydrolysis / condensation reaction include an acid, an alkali metal compound, an organic base, a titanium compound, and a zirconium compound. Specific examples of these catalysts include acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, formic acid, oxalic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, phosphoric acid and the like as acids; As the alkali metal compound, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide and the like; Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine and pyrrole: triethylamine, tri-n-propylamine, tri- Tertiary organic amines such as butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene, and quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide; Respectively.

상기 촉매로서는, 에폭시기의 개환 등의 부(副)반응을 억제할 수 있는 점이나, 가수분해 축합 속도를 빠르게 할 수 있는 점, 보존 안정성이 우수한 점 등에 있어서, 이들 중에서도 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기가 바람직하고, 특히 유기 염기가 바람직하다. 또한, 유기 염기로서는, 3급의 유기 아민 또는 4급의 유기 아민이 바람직하다.As the catalyst, an alkali metal compound or an organic base is preferred among the above-mentioned catalysts in that it is possible to suppress a side reaction such as ring-opening of an epoxy group, a point at which the rate of hydrolysis and condensation can be increased, Preferred are organic bases. The organic base is preferably a tertiary organic amine or a quaternary organic amine.

유기 염기의 사용량은, 유기 염기의 종류, 온도 등의 반응 조건 등에 따라 상이하고, 적절하게 설정되어야 하지만, 예를 들면 전체 실란 화합물에 대하여, 바람직하게는 0.01∼3배몰이고, 보다 바람직하게는 0.05∼1배몰이다.The amount of the organic base to be used differs depending on the kind of the organic base, the reaction conditions such as the temperature, and the like, and is appropriately set. For example, it is preferably 0.01 to 3 moles per mole of the total silane compound, more preferably 0.05 It is ~ 1 baud.

상기의 가수분해·축합 반응시에 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 탄화수소, 케톤, 에스테르, 에테르, 알코올 등을 들 수 있다. 그들 구체예로서는, 탄화수소로서, 예를 들면 톨루엔, 자일렌 등을; 케톤으로서, 예를 들면 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸 n-아밀케톤, 디에틸케톤, 사이클로헥산온 등을; 에스테르로서, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-아밀, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 락트산 에틸 등을; 에테르로서, 예를 들면 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산 등을; 알코올로서, 예를 들면 1-헥산올, 4-메틸-2-펜탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르 등을; 각각 들 수 있다. 이들 중 비수용성의 유기 용매를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 이들 유기 용매는, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the organic solvent that can be used in the above hydrolysis-condensation reaction include hydrocarbons, ketones, esters, ethers, and alcohols. Specific examples thereof include, for example, toluene, xylene and the like as hydrocarbons; As the ketone, for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl n-amyl ketone, diethyl ketone, cyclohexanone and the like; As the ester, for example, ethyl acetate, n-butyl acetate, i-amyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethyl lactate and the like; As the ether, for example, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like; As the alcohol, for example, 1-hexanol, 4-methyl-2-pentanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n- Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether and the like; Respectively. Of these, it is preferable to use a water-insoluble organic solvent. These organic solvents may be used singly or in combination of two or more.

가수분해 축합 반응에 있어서의 유기 용매의 사용 비율은, 반응에 사용하는 전체 실란 화합물 100중량부에 대하여, 바람직하게는 10∼10,000중량부이고, 보다 바람직하게는 50∼1,000중량부이다.The use ratio of the organic solvent in the hydrolysis and condensation reaction is preferably 10 to 10,000 parts by weight, more preferably 50 to 1,000 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total silane compound used in the reaction.

상기의 가수분해·축합 반응은, 상기와 같은 실란 화합물을 유기 용매에 용해하고, 이 용액을 유기 염기 및 물과 혼합하고, 예를 들면 유욕(油浴) 등에 의해 가열하여 실시하는 것이 바람직하다. 가수분해·축합 반응시에는, 가열 온도를 130℃ 이하로 하는 것이 바람직하고, 40∼100℃로 하는 것이 보다 바람직하다. 가열 시간은, 0.5∼12시간으로 하는 것이 바람직하고, 1∼8시간으로 하는 것이 보다 바람직하다. 가열 중은, 혼합액을 교반해도 좋고, 환류하에 두어도 좋다. 또한, 반응 종료 후에 있어서, 반응액으로부터 분취한 유기 용매층을 물로 세정하는 것이 바람직하다. 이 세정시에 있어서는, 소량의 염을 포함하는 물(예를 들면, 0.2중량% 정도의 질산 암모늄 수용액 등)을 이용하여 세정함으로써, 세정 조작이 용이해지는 점에서 바람직하다. 세정은, 세정 후의 수층이 중성이 될 때까지 행하고, 그 후, 유기 용매층을, 필요에 따라서 무수 황산 칼슘, 분자체 등의 건조제로 건조한 후, 용매를 제거함으로써, 목적으로 하는 폴리오르가노실록산(에폭시기 함유 폴리오르가노실록산)을 얻을 수 있다.The hydrolysis-condensation reaction is preferably carried out by dissolving the silane compound as described above in an organic solvent, mixing the solution with an organic base and water, and heating the mixture with, for example, an oil bath. In the hydrolysis-condensation reaction, the heating temperature is preferably 130 ° C or lower, more preferably 40 to 100 ° C. The heating time is preferably 0.5 to 12 hours, more preferably 1 to 8 hours. During the heating, the mixed solution may be stirred or refluxed. After completion of the reaction, it is preferable to wash the organic solvent layer collected from the reaction solution with water. At the time of this cleaning, cleaning is preferably performed by using water containing a small amount of a salt (for example, an aqueous solution of ammonium nitrate of about 0.2 wt%) from the standpoint of facilitating the cleaning operation. The washing is carried out until the water layer after the washing becomes neutral. Thereafter, the organic solvent layer is dried with a desiccant such as anhydrous calcium sulfate and molecular sieves, if necessary, and then the solvent is removed to obtain the objective polyorganosiloxane (Epoxy group-containing polyorganosiloxane) can be obtained.

이어서, 상기 가수분해·축합 반응에 의해 얻어진 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산을, 상기 특정 구조를 갖는 카본산 (c1)과 반응시킨다. 이에 따라, 상기 특정 구조를 측쇄에 갖는 폴리오르가노실록산 (A)를 얻을 수 있다. 이 반응시에 있어서 사용하는 카본산은, 카본산 (c1) 단독이라도 좋고, 카본산 (c1)과 함께, 액정 분자를 배향시키는 기능을 갖는 기(이하, 「액정 배향성기」라고도 함)를 갖는 카본산 (c2) 및 그 외의 카본산 (c3) 중 적어도 어느 하나를 사용해도 좋다.Next, the epoxy group-containing polyorganosiloxane obtained by the hydrolysis-condensation reaction is reacted with the carboxylic acid (c1) having the specific structure. Thereby, the polyorganosiloxane (A) having the specific structure in the side chain can be obtained. The carbonic acid to be used in this reaction may be carbonic acid (c1) alone, or may contain carbonic acid (c1) together with carbon having a group having a function of aligning liquid crystal molecules (hereinafter also referred to as "liquid crystal aligning group" At least one of the acid (c2) and the other carbon acid (c3) may be used.

여기에서, 카본산 (c1)은, 상기 특정 구조와 카복실기를 갖는 한, 그 나머지의 구조는 특별히 한정하지 않는다. 구체적으로는, 3-벤조일벤조산, 4-벤조일벤조산, 3-(4-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산, 4-(2-하이드록시벤조일)벤조산, 3-(2-하이드록시벤조일)벤조산, 2-(2-하이드록시벤조일)벤조산, 4-(4-메틸벤조일)벤조산, 4-(3,4-디메틸벤조일)벤조산, 3-(4-벤조일-페녹시)프로피온산, 9,10-디옥소디하이드로안트라센-2-카본산(안트라퀴논-2-카본산), 3-(9,10-디옥소-9,10-디하이드로안트라센-2-일)프로피온산, [3-(4,5-디메톡시-3,6-디옥소사이클로헥사-1,4-디에닐)프로폭시]아세틸산, 3,5-디니트로벤조산, 4-메틸-3,5-디니트로벤조산, 3-(3,5-디니트로페녹시)프로피온산, 2-메틸-3,5-디니트로벤조산, 4-페닐벤조산, 11-((4'-니트로-[1,1'-비페닐]-4-일)옥시)운데칸산 등을 들 수 있다.Here, the remaining structure of the carboxylic acid (c1) is not particularly limited as long as it has the specific structure and the carboxyl group. Specific examples thereof include 3-benzoylbenzoic acid, 4-benzoylbenzoic acid, 3- (4-diethylamino-2-hydroxybenzoyl) benzoic acid, 4- (2-hydroxybenzoyl) Benzoyl-phenoxy) benzoic acid, 4- (4-methylbenzoyl) benzoic acid, 4- (3,4-dimethylbenzoyl) 3- (9,10-dioxo-9,10-dihydroanthracen-2-yl) propionic acid, 3- [ 4-dienyl) propoxy] -acetic acid, 3,5-dinitrobenzoic acid, 4-methyl-3,5-dinitrobenzoic acid, 3 Methyl-3,5-dinitrobenzoic acid, 4-phenylbenzoic acid, 11 - ((4'-nitro- [1,1'-biphenyl] -4 -Yl) oxy) undecanoic acid, and the like.

상기 카본산 (c2)은, 액정 배향성기와 카복실기를 갖는 한, 그 나머지의 구조는 특별히 한정하지 않는다. 액정 배향성기로서는, 예를 들면 탄소수 4∼20의 알킬기, 알콕시기 또는 플루오로알킬기, 탄소수 17∼51의 스테로이드 골격을 갖는 기, 다환 구조를 갖는 기 등을 들 수 있다.The remaining structure of the carboxylic acid (c2) is not particularly limited as long as it has a liquid crystal aligning group and a carboxyl group. Examples of the liquid crystal aligning group include an alkyl group having 4 to 20 carbon atoms, an alkoxy group or a fluoroalkyl group, a group having a steroid skeleton having 17 to 51 carbon atoms, a group having a polycyclic structure, and the like.

이러한 카본산 (c2)의 구체예로서는, 예를 들면 4-부틸옥시벤조산, 4-펜틸옥시벤조산, 4-헥실옥시벤조산, 4-헵틸옥시벤조산, 4-옥틸옥시벤조산, 4-노닐옥시벤조산, 4-데실옥시벤조산, 4-운데실옥시벤조산, 4-도데실옥시벤조산, 4-트리데실옥시벤조산, 4-테트라데실옥시벤조산, 4-펜타데실옥시벤조산, 4-헥사데실옥시벤조산, 4-헵타데실옥시벤조산, 4-옥타데실옥시벤조산, 4-노나데실옥시벤조산, 4-에이코실옥시벤조산, 4-(4-프로필사이클로헥실)벤조산, 4-(4-부틸사이클로헥실)벤조산, 4-(4-펜틸사이클로헥실)벤조산, 4-(4-헥실사이클로헥실)벤조산, 4-(4-헵틸사이클로헥실)벤조산, 4-(4-옥틸사이클로헥실)벤조산, 4-(4'-프로필바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 4-(4'-부틸바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 4-(4'-펜틸바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 4-(4'-헥실바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 4-(4'-헵틸바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 4-(4'-옥틸바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 숙신산=5ξ-콜레스탄-3-일, 11-(4-(4-펜틸사이클로헥실)페녹시)운데칸산 등을 들 수 있다.Specific examples of such a carboxylic acid (c2) include 4-butyloxybenzoic acid, 4-pentyloxybenzoic acid, 4-hexyloxybenzoic acid, 4-heptyloxybenzoic acid, 4-octyloxybenzoic acid, 4-undecyloxybenzoic acid, 4-undecyloxybenzoic acid, 4-tridecyloxybenzoic acid, 4-tetradecyloxybenzoic acid, 4-pentadecyloxybenzoic acid, 4-hexadecyloxybenzoic acid, 4- 4-octadecyloxybenzoic acid, 4-octadecyloxybenzoic acid, 4- (4-propylcyclohexyl) benzoic acid, 4- (4-butylcyclohexyl) benzoic acid, 4- Benzoic acid, 4- (4-heptylcyclohexyl) benzoic acid, 4- (4'-propylcyclohexyl) benzoic acid, 4- (4'-butylbicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4'-butylbicyclohexyl- Cyclohexyl-4-yl (4'-heptylbicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4- (4-pentylcyclohexyl) phenoxy) undecanoic acid and the like.

상기 카본산 (c3)은, 상기 카본산 (c1) 및 (c2) 이외의 카본산이다. 그 구체예로서는, 예를 들면 포름산, 아세트산, 프로피온산, 벤조산, 메틸벤조산 등을 들 수 있다.The carbonic acid (c3) is a carbonic acid other than the carbonic acid (c1) and the carbonic acid (c2). Specific examples thereof include formic acid, acetic acid, propionic acid, benzoic acid, and methylbenzoic acid.

카본산 (c1)의 사용 비율은, 반응에 사용하는 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산의 에폭시기 1몰에 대하여, 0.02∼0.5몰로 하는 것이 바람직하고, 0.05∼0.4몰로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.05∼0.3몰로 하는 것이 더욱 바람직하다. 또한, 카본산 (c2)의 사용 비율은, 반응에 사용하는 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산의 에폭시기 1몰에 대하여, 0.7몰 이하로 하는 것이 바람직하고, 0.2∼0.6몰로 하는 것이 보다 바람직하다. 카본산 (c3)의 사용 비율은, 반응에 사용하는 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산의 에폭시기 1몰에 대하여, 0.3몰 이하로 하는 것이 바람직하고, 0.2몰 이하로 하는 것이 보다 바람직하다.The use ratio of the carboxylic acid (c1) is preferably 0.02 to 0.5 mole, more preferably 0.05 to 0.4 mole, and more preferably 0.05 to 0.3 mole per mole of the epoxy group of the epoxy group-containing polyorganosiloxane used in the reaction . The use ratio of the carboxylic acid (c2) is preferably 0.7 mol or less, more preferably 0.2 to 0.6 mol, per 1 mol of the epoxy group of the epoxy group-containing polyorganosiloxane used in the reaction. The use ratio of the carboxylic acid (c3) is preferably 0.3 mol or less, more preferably 0.2 mol or less, per 1 mol of the epoxy group of the epoxy group-containing polyorganosiloxane used in the reaction.

본 발명에 있어서의 폴리오르가노실록산 (A)는, 그 에폭시 당량이 5,000g/몰 이하인 것이 바람직하고, 500∼3,000g/몰인 것이 보다 바람직하다. 따라서, 상기 카본산 (c1), (c2) 및 (c3)의 합계의 사용 비율에 대해서는, 폴리오르가노실록산 (A)의 에폭시 당량이 상기 범위가 되도록 적절히 조정하는 것이 바람직하다.The polyorganosiloxane (A) in the present invention preferably has an epoxy equivalent of 5,000 g / mol or less, and more preferably 500 to 3,000 g / mol. Therefore, as to the use ratio of the total of the carbonic acid (c1), (c2) and (c3), it is preferable to appropriately adjust the epoxy equivalent of the polyorganosiloxane (A) to fall within the above range.

에폭시기 함유 폴리오르가노실록산이 갖는 에폭시기와 카본산과의 반응은, 바람직하게는 촉매 및 유기 용매의 존재하에서 행할 수 있다. 여기에서, 반응에 사용하는 촉매로서는, 예를 들면 유기 염기, 에폭시 화합물의 반응을 촉진하는 소위 경화촉진제로서 공지의 화합물 등을 이용할 수 있다.The reaction of the epoxy group of the epoxy group-containing polyorganosiloxane with the carboxylic acid can be preferably carried out in the presence of a catalyst and an organic solvent. As the catalyst used in the reaction, for example, known compounds such as so-called curing accelerators for promoting the reaction of organic bases and epoxy compounds can be used.

상기 유기 염기로서는, 예를 들면 에틸아민, 디에틸아민, 피페라진, 피페리딘, 피롤리딘, 피롤과 같은 1∼2급 유기 아민; 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 디아자바이사이클로운데센과 같은 3급 유기 아민; 테트라메틸암모늄하이드록사이드와 같은 4급 유기 아민; 등을 들 수 있다. 유기 염기로서는, 이들 중, 3급 유기 아민 또는 4급 유기 아민이 바람직하다.The organic base includes, for example, primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine and pyrrole; Tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine and diazabicycloundecene; Quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide; And the like. As the organic base, a tertiary organic amine or a quaternary organic amine is preferable.

또한, 상기 경화촉진제로서는, 예를 들면 3급 아민, 이미다졸 화합물, 유기 인 화합물, 4급 포스포늄염, 디아자바이사이클로알켄, 유기 금속 화합물, 4급 암모늄염, 붕소 화합물, 금속 할로겐 화합물 등을 들 수 있는 것 외에, 잠재성 경화촉진제로서 공지의 것을 사용할 수 있다.Examples of the curing accelerator include tertiary amines, imidazole compounds, organic phosphorus compounds, quaternary phosphonium salts, diazabicycloalkenes, organometallic compounds, quaternary ammonium salts, boron compounds and metal halide compounds. A known one as a latent curing accelerator may be used.

상기 촉매는, 카본산과 반응시키는 폴리오르가노실록산 100중량부에 대하여, 바람직하게는 100중량부 이하, 보다 바람직하게는 0.01∼100중량부, 더욱 바람직하게는 0.1∼20중량부의 비율로 사용할 수 있다.The catalyst may be used in an amount of preferably 100 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 100 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyorganosiloxane to be reacted with the carboxylic acid .

폴리오르가노실록산과 카본산과의 반응에 있어서 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 탄화수소, 에테르, 에스테르, 케톤, 아미드, 알코올 등을 들 수 있다. 이들 중, 원료 및 생성물의 용해성 그리고 생성물의 정제의 용이함의 관점에서, 에테르, 에스테르, 케톤이 바람직하다. 당해 유기 용매는, 고형분 농도(반응 용액 중의 용매 이외의 성분의 합계 중량이, 용액의 전체 중량에 대하여 차지하는 비율)가, 바람직하게는 0.1중량% 이상, 보다 바람직하게는 5∼50중량%가 되는 비율로 사용된다.Examples of the organic solvent that can be used in the reaction between the polyorganosiloxane and the carboxylic acid include hydrocarbon, ether, ester, ketone, amide, alcohol and the like. Of these, ethers, esters and ketones are preferred from the viewpoints of solubility of the raw materials and products and ease of purification of the products. The organic solvent preferably has a solid content concentration (a ratio of the total weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) of preferably 0.1 wt% or more, more preferably 5 to 50 wt% Ratio.

반응 온도는, 바람직하게는 0∼200℃이고, 보다 바람직하게는 50∼150℃이다. 반응 시간은, 바람직하게는 0.1∼50시간이고, 보다 바람직하게는 0.5∼20시간이다. 또한, 반응 종료 후에 있어서는, 반응액으로부터 분취한 유기 용매층을 물로 세정하는 것이 바람직하다. 물세정 후, 유기 용매층을, 필요에 따라서 적당한 건조제로 건조한 후, 용매를 제거함으로써, 목적으로 하는 폴리오르가노실록산을 얻을 수 있다. 또한, 폴리오르가노실록산 (A)의 단리 조작을 행하지 않고, 반응 용액에 용해한 상태의 폴리오르가노실록산 (A)를, 그대로 다음 액정 배향제의 조제에 제공해도 좋다.The reaction temperature is preferably 0 to 200 캜, more preferably 50 to 150 캜. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours. Further, after completion of the reaction, it is preferable to wash the organic solvent layer collected from the reaction solution with water. After washing with water, the organic solvent layer is dried, if necessary, with a suitable drying agent, and then the solvent is removed to obtain the objective polyorganosiloxane. Further, the polyorganosiloxane (A) in a state in which it is dissolved in the reaction solution without isolating the polyorganosiloxane (A) may be directly supplied to the preparation of the next liquid crystal aligning agent.

본 발명의 액정 배향제에 함유시키는 폴리오르가노실록산 (A)는, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이, 500∼100,000인 것이 바람직하고, 1,000∼30,000인 것이 보다 바람직하다.The polyorganosiloxane (A) contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention preferably has a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of 500 to 100,000, preferably 1,000 to 30,000 More preferable.

또한, 본 발명에 있어서의 중합체 (A)가 폴리(메타)아크릴레이트 유도체를 주골격으로 하는 경우, 예를 들면 다음과 같이 하여 합성할 수 있다. 우선, 에폭시기를 갖는 모노머를 포함하는 모노머 원료를 중합하고, 에폭시기를 갖는 폴리(메타)아크릴레이트 유도체를 합성하고, 이어서 당해 유도체와, 상기 특정 구조 및 카복실기를 갖는 화합물(예를 들면 상기 카본산 (c1))을 반응시킨다. 이에 따라, 상기 특정 구조를 측쇄에 갖는 폴리(메타)아크릴레이트 유도체를 얻을 수 있다.When the polymer (A) in the present invention is a main skeleton of a poly (meth) acrylate derivative, it can be synthesized, for example, as follows. First, a monomer material containing an epoxy group-containing monomer is polymerized to synthesize a poly (meth) acrylate derivative having an epoxy group, and then the derivative and a compound having the specific structure and a carboxyl group (for example, c1). Thus, a poly (meth) acrylate derivative having the specific structure in the side chain can be obtained.

본 발명의 액정 배향제에 함유되는 상기 화합물 (A)는, 상기 저분자 화합물 및 중합체 (A)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 액정 배향막의 막 표면 상의 액정 배향을 적합하게 제어하고, PSA 처리시의 광조사에 의한 전압 보전율의 저하를 보다 적게 할 수 있는 점에 있어서, 본 발명의 액정 배향제는, 상기 화합물 (A)로서 적어도 중합체 (A)를 포함하는 것이 바람직하고, 상기 화합물 (A)가 중합체 (A)인 것이 보다 바람직하고, 상기 특정 구조를 측쇄에 갖는 중합체 (A)인 것이 특히 바람직하다.The compound (A) contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention may be used alone or in combination of two or more species selected from the group consisting of the low-molecular compound and the polymer (A). The liquid crystal aligning agent of the present invention is a liquid crystal aligning agent which can appropriately control the liquid crystal alignment on the film surface of the liquid crystal alignment film and reduce the decrease in the voltage holding ratio due to the light irradiation during the PSA treatment, It is preferable to include at least the polymer (A), the compound (A) is more preferably the polymer (A), and the polymer (A) having the specific structure in the side chain is particularly preferable.

<중합체 (B)>&Lt; Polymer (B) >

본 발명의 액정 배향제가 상기 화합물 (A)로서 저분자 화합물만을 함유하는 경우, 당해 액정 배향제는, 상기 화합물 (A)와 함께, 중합체 성분으로서, 상기 특정 구조를 갖지 않는 중합체 (B)를 함유한다. 당해 중합체 (B)로서는, 주골격으로서 예를 들면 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리오르가노실록산, 셀룰로오스 유도체, 폴리아세탈 유도체, 폴리스티렌 유도체, 폴리(스티렌-페닐말레이미드)유도체, 폴리(메타)아크릴레이트 유도체 등으로 이루어지는 골격을 갖는 중합체를 들 수 있다. 중합체 (B)는, 이들 중으로부터 선택되는 골격을 갖는 중합체의 1종 이상을 적절히 선택하여 이용할 수 있다.When the liquid crystal aligning agent of the present invention contains only a low molecular compound as the compound (A), the liquid crystal aligning agent contains the polymer (B) having no specific structure as the polymer component together with the compound (A) . Examples of the polymer (B) that can be used as the main skeleton include polyamic acids, polyimides, polyamic acid esters, polyesters, polyamides, polyorganosiloxanes, cellulose derivatives, polyacetal derivatives, polystyrene derivatives, (Meth) acrylate derivatives, and the like. As the polymer (B), one or more kinds of polymers having a skeleton selected therefrom can be suitably selected and used.

중합체 (B)로서는, 이들 중에서도, 폴리암산, 폴리암산 에스테르, 폴리이미드 및 폴리오르가노실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하고, 폴리암산, 폴리이미드 및 폴리오르가노실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하다.The polymer (B) is preferably at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide and polyorganosiloxane, and is preferably at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyimide and polyorganosiloxane More preferably at least one selected.

상기 중합체 (B)는, 유기 화학의 정법을 적절히 조합함으로써 합성할 수 있다. 예를 들면, 중합체 (B)로서의 폴리암산은, 상기 폴리암산 (A)의 합성에 사용하는 화합물로서 예시한 테트라카본산 2무수물과, 그 외의 디아민을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 중합체 (B)로서의 폴리이미드는, 상기 중합체 (B)로서의 폴리암산을 탈수 폐환함으로써 얻을 수 있고, 폴리암산 에스테르는, 당해 폴리암산을 에스테르화함으로써 얻을 수 있다. 또한, 폴리오르가노실록산은, 상기 실란 화합물 (s1) 및 상기 그 외의 실란 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 가수분해 축합함으로써 얻을 수 있다. 또한, 각 중합체의 반응 조건에 대해서는, 상기 중합체 (A)의 설명을 적용할 수 있다.The polymer (B) can be synthesized by appropriately combining the methods of organic chemistry. For example, a polyamic acid as the polymer (B) can be obtained by reacting a tetracarboxylic acid dianhydride exemplified as a compound used in the synthesis of the polyamic acid (A) with another diamine. The polyimide as the polymer (B) can be obtained by subjecting the polyamic acid as the polymer (B) to dehydration ring closure, and the polyamic acid ester can be obtained by esterifying the polyamic acid. Further, the polyorganosiloxane can be obtained by hydrolysis and condensation of at least one member selected from the group consisting of the silane compound (s1) and the other silane compounds. As for the reaction conditions of the respective polymers, the description of the polymer (A) can be applied.

본 발명의 액정 배향제에 함유되는 상기 화합물 (A)가 저분자 화합물인 경우, 상기 화합물 (A)의 함유 비율은, 본 발명의 효과를 충분히 얻는 관점에서, 액정 배향제 중에 포함되는 중합체 100중량부에 대하여, 0.1∼20중량부인 것이 바람직하고, 0.5∼15중량부인 것이 보다 바람직하다.When the compound (A) contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention is a low molecular compound, the content of the compound (A) is preferably from 100 parts by weight of the polymer contained in the liquid crystal aligning agent Preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.5 to 15 parts by weight.

또한, 본 발명의 액정 배향제가 상기 화합물 (A)로서 중합체 (A)를 포함하는 경우에 있어서, 용액 특성이나 전기 특성의 개선을 위해, 액정 배향제의 중합체 성분으로서, 중합체 (A)와 함께 상기 중합체 (B)를 이용해도 좋다. 이러한 경우, 중합체 (A)의 함유 비율은, 액정 배향제 중에 포함되는 중합체의 전체량에 대하여, 1중량% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 5∼50중량%로 하는 것이 보다 바람직하다.In the case where the liquid crystal aligning agent of the present invention contains the polymer (A) as the compound (A), in order to improve the solution characteristics and electric characteristics, the polymer (A) Polymer (B) may also be used. In this case, the content of the polymer (A) is preferably 1% by weight or more, more preferably 5 to 50% by weight based on the total amount of the polymer contained in the liquid crystal aligning agent.

본 발명의 액정 배향제에 있어서의 바람직한 태양(態樣)으로서는, 중합체 성분으로서, (Ⅰ) 폴리오르가노실록산 (A)만으로 이루어지는 태양; (Ⅱ) 폴리암산 (A) 및 폴리이미드 (A)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종만으로 이루어지는 태양; (Ⅲ) 폴리오르가노실록산 (A)와, 폴리암산 (A) 및 폴리이미드 (A)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종으로 이루어지는 태양; (Ⅳ) 폴리오르가노실록산 (A)와 그 외의 중합체 (B)로 이루어지고, 또한 그 외의 중합체 (B)가, 상기 특정 구조를 갖지 않는 폴리암산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 태양; (V) 폴리암산 (A) 및 폴리이미드 (A)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종과, 그 외의 중합체 (B)로 이루어지고, 또한 그 외의 중합체 (B)가, 상기 특정 구조를 갖지 않는 폴리오르가노실록산, 폴리암산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 태양; 등을 들 수 있다. 또한, 각 태양에 있어서의 폴리오르가노실록산, 폴리암산 및 폴리이미드의 배합 비율은, 적용하는 액정 표시 소자의 용도 등에 따라서 임의로 설정할 수 있다.As preferred embodiments of the liquid crystal aligning agent of the present invention, the polymer component includes (I) a polyorganosiloxane (A) alone; (II) an embodiment comprising at least one member selected from the group consisting of a polyamic acid (A) and a polyimide (A); (III) an embodiment comprising at least one member selected from the group consisting of a polyorganosiloxane (A), a polyamic acid (A) and a polyimide (A); (B) is at least one selected from the group consisting of a polyamic acid and a polyimide which does not have the specific structure (IV), and the polyorganosiloxane (A) and the other polymer (B) Sun; (B) is at least one selected from the group consisting of (V) a polyamic acid (A) and a polyimide (A), and the other polymer (B) At least one member selected from the group consisting of polyorganosiloxane, polyamic acid and polyimide; And the like. The blending ratios of the polyorganosiloxane, the polyamic acid and the polyimide in each mode can be arbitrarily set according to the application of the liquid crystal display element to be applied.

이들 중에서도, 기계적 강도나 전기적 특성, 액정과의 친화성 등의 점에 있어서, 폴리암산 및 폴리이미드 중 적어도 어느 하나를 포함하는 태양이 바람직하고, 상기 (Ⅱ) 및 (Ⅳ)의 태양이 보다 바람직하고, 상기 (Ⅳ)의 태양이 특히 바람직하다.Among them, an aspect containing at least one of polyamic acid and polyimide is preferable in terms of mechanical strength, electrical characteristics, affinity with liquid crystal, etc., and the aspects of (II) and (IV) , And the embodiment of (IV) is particularly preferable.

상기 (Ⅳ)의 태양에 있어서의 폴리오르가노실록산 (A)와, 폴리암산 및 폴리이미드(합계)와의 사용 비율은, 폴리오르가노실록산 (A), 폴리암산 및 폴리이미드의 합계량 100중량부에 대하여, 폴리오르가노실록산 (A)를 1∼50중량부 포함하는 것이 바람직하고, 2∼40중량부 포함하는 것이 보다 바람직하고, 3∼30중량부 포함하는 것이 더욱 바람직하다.The ratio of the polyorganosiloxane (A) to the polyamic acid and the polyimide (total) in the embodiment of the above (IV) is preferably 100 parts by weight or more based on the total amount of the polyorganosiloxane (A), the polyamic acid and the polyimide It is preferable that the polyorganosiloxane (A) is contained in an amount of 1 to 50 parts by weight, more preferably 2 to 40 parts by weight, and still more preferably 3 to 30 parts by weight.

중합체 (A)는, 액정 배향제 중의 중합체 성분의 전체에 대하여, 상기 특정 구조를 0.5∼5밀리몰/g 포함하는 것이 바람직하고, 1∼4밀리몰/g 포함하는 것이 보다 바람직하다.The polymer (A) preferably contains 0.5 to 5 mmol / g, more preferably 1 to 4 mmol / g, of the specific structure as a whole of the polymer component in the liquid crystal aligning agent.

또한, 본 발명에서는, 화합물 (A)를 포함하는 액정 배향제를 이용하여 액정 배향막을 형성함으로써, PSA 처리시의 광조사시에, 액정층 중에 함유되는 광중합성 화합물(광중합성 모노머)의 반응을 액정 배향막측으로부터 도울 수 있을 것이라고 추론된다. 이에 따라, 적은 광조사량으로도 충분한 프리틸트각을 부여할 수 있음과 함께, 광조사에 의한 전압 보전율의 저하 및 응답 속도의 저하를 억제할 수 있을 것이라고 추론된다.Further, in the present invention, by forming a liquid crystal alignment film using the liquid crystal aligning agent containing the compound (A), the reaction of the photopolymerizable compound (photopolymerizable monomer) contained in the liquid crystal layer during the light irradiation during the PSA treatment It can be deduced that it can help from the liquid crystal alignment film side. Thus, it can be deduced that a sufficient pretilt angle can be given even with a small light irradiation amount, and a decrease in the voltage holding ratio and a decrease in the response speed due to light irradiation can be suppressed.

<그 외의 성분><Other components>

본 발명의 액정 배향제는, 필요에 따라서 그 외의 성분을 함유하고 있어도 좋다. 이러한 그 외의 성분으로서는, 예를 들면 분자 내에 적어도 하나의 에폭시기를 갖는 화합물(이하, 「에폭시기 함유 화합물」이라고 함), 관능성 실란 화합물 등을 들 수 있다.The liquid crystal aligning agent of the present invention may contain other components as required. Such other components include, for example, a compound having at least one epoxy group in the molecule (hereinafter referred to as an &quot; epoxy group-containing compound &quot;) and a functional silane compound.

[에폭시 화합물][Epoxy Compound]

에폭시 화합물은, 액정 배향막에 있어서의 기판 표면과의 접착성이나 전기 특성을 향상시키기 위해 사용할 수 있다. 여기에서, 에폭시 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 2,2-디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)사이클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N-디글리시딜-벤질아민, N,N-디글리시딜-아미노메틸사이클로헥산, N,N-디글리시딜-사이클로헥실아민 등을 바람직한 것으로 들 수 있다. 이들 에폭시 화합물을 액정 배향제에 첨가하는 경우, 그 배합 비율은, 액정 배향제 중에 포함되는 중합체의 합계 100중량부에 대하여, 40중량부 이하가 바람직하고, 0.1∼30중량부가 보다 바람직하다.The epoxy compound can be used to improve the adhesion to the substrate surface and electric characteristics in the liquid crystal alignment film. Examples of the epoxy compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl Ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, N, N-diglycidyl-benzylamine, N, N-diglycidylaminomethylcyclohexane, N, N -Diglycidyl-cyclohexylamine, and the like. When these epoxy compounds are added to the liquid crystal aligning agent, the blending ratio thereof is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 0.1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the polymers contained in the liquid crystal aligning agent.

[관능성 실란 화합물][Functional silane compound]

관능성 실란 화합물은, 액정 배향제의 인쇄성의 향상을 목적으로 하여 사용할 수 있다. 이러한 관능성 실란 화합물로서는, 예를 들면 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, N-에톡시카보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노난산 메틸, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 글리시독시메틸트리메톡시실란, 2-글리시독시에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.The functional silane compound can be used for the purpose of improving the printability of a liquid crystal aligning agent. Examples of such a functional silane compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2 -Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxy Silane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-triethoxysilylpropyl triethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-tri Methoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, methyl 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonanoate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, Trimethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and the like, Can.

이들 관능성 실란 화합물을 액정 배향제에 첨가하는 경우, 그 배합 비율은, 중합체의 합계 100중량부에 대하여, 2중량부 이하가 바람직하고, 0.02∼0.2중량부가 보다 바람직하다.When these functional silane compounds are added to the liquid crystal aligning agent, the blending ratio thereof is preferably 2 parts by weight or less, more preferably 0.02 to 0.2 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of the polymers.

또한, 상기 그 외의 성분으로서는, 상기에서 예시한 화합물 외에, 분자 내에 적어도 하나의 옥세타닐기를 갖는 화합물, 산화 방지제 등을 사용할 수 있다.In addition to the above-exemplified compounds, compounds having at least one oxetanyl group in the molecule, an antioxidant, and the like may be used as the other components.

<용매><Solvent>

본 발명의 액정 배향제는, 중합체 성분이나, 필요에 따라서 임의로 배합되는 그 외의 성분이, 바람직하게는 유기 용매 중에 용해되어 구성된다.The liquid crystal aligning agent of the present invention is constituted by dissolving a polymer component and optionally other optional components, if necessary, in an organic solvent.

여기에서, 본 발명의 액정 배향제의 조제에 사용되는 용매로서는, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, γ-부티로락톤, γ-부티로락탐, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 락트산 부틸, 아세트산 부틸, 메틸메톡시프로피오네이트, 에틸에톡시프로피오네이트, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜-i-프로필에테르, 에틸렌글리콜-n-부틸에테르(부틸셀로솔브), 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르(DPM), 디이소부틸케톤, 이소아밀프로피오네이트, 이소아밀이소부티레이트, 디이소펜틸에테르, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the solvent used in the preparation of the liquid crystal aligning agent of the present invention include N-methyl-2-pyrrolidone,? -Butyrolactone,? -Butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, Propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol diisopropyl ether, diethylene glycol diisopropyl ether, Ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether There may be mentioned the lactate, dipropylene glycol monomethyl ether (DPM), di-isobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, di-isopentyl ether, ethylene carbonate, propylene carbonate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 액정 배향제에 있어서의 고형분 농도(액정 배향제의 용매 이외의 성분의 합계 중량이 액정 배향제의 전체 중량에 차지하는 비율)는, 점성, 휘발성 등을 고려하여 적절하게 선택되지만, 바람직하게는 1∼10중량%의 범위이다. 즉, 본 발명의 액정 배향제는, 후술하는 바와 같이 기판 표면에 도포되고, 바람직하게는 가열됨으로써, 액정 배향막인 도막 또는 액정 배향막이 되는 도막이 형성된다. 이때, 고형분 농도가 1중량% 미만인 경우에는, 이 도막의 막두께가 과소하게 되어 양호한 액정 배향막을 얻기 어렵다. 한편, 고형분 농도가 10중량%를 초과하는 경우에는, 도막의 막두께가 과대하게 되어 양호한 액정 배향막을 얻기 어렵고, 또한, 액정 배향제의 점성이 증대하여 도포 특성이 뒤떨어지게 된다.The solid concentration of the liquid crystal aligning agent of the present invention (the ratio of the total weight of components other than the solvent of the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, etc., Is in the range of 1 to 10% by weight. That is, the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied to the surface of the substrate as described later, and preferably is heated to form a coating film which becomes a liquid crystal alignment film or a liquid crystal alignment film. At this time, when the solid concentration is less than 1% by weight, the film thickness of the coating film becomes too small to obtain a good liquid crystal alignment film. On the other hand, when the solid concentration exceeds 10% by weight, the film thickness of the coating film becomes excessively large, and it becomes difficult to obtain a good liquid crystal alignment film, and the viscosity of the liquid crystal aligning agent is increased and the coating property is poor.

특히 바람직한 고형분 농도의 범위는, 기판에 액정 배향제를 도포하는 방법에 따라 상이하다. 예를 들면 스피너법에 의한 경우에는, 고형분 농도를 1.5∼4.5중량%의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다. 인쇄법에 의한 경우에는, 고형분 농도를 3∼9중량%의 범위로 하고, 그에 따라 용액 점도를 12∼50mPa·s의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다. 잉크젯법에 의한 경우에는, 고형분 농도를 1∼5중량%의 범위로 하고, 그에 따라, 용액 점도를 3∼15mPa·s의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다. 본 발명의 액정 배향제를 조제할 때의 온도는, 바람직하게는 10∼50℃이고, 보다 바람직하게는 20∼30℃이다.Particularly preferable range of the solid concentration varies depending on the method of applying the liquid crystal aligning agent to the substrate. For example, in the case of the spinner method, it is particularly preferable that the solid concentration is in the range of 1.5 to 4.5% by weight. In the case of the printing method, it is particularly preferable to set the solid concentration in the range of 3 to 9% by weight and the solution viscosity in the range of 12 to 50 mPa · s accordingly. In the case of the inkjet method, it is particularly preferable that the solid concentration is in the range of 1 to 5 wt%, and the solution viscosity is in the range of 3 to 15 mPa · s. The temperature for preparing the liquid crystal aligning agent of the present invention is preferably 10 to 50 占 폚, more preferably 20 to 30 占 폚.

<액정 배향막 및 액정 표시 소자><Liquid Crystal Alignment Film and Liquid Crystal Display Device>

본 발명의 액정 배향막은, 상기와 같이 조제된 액정 배향제에 의해 형성된 것이며, PSA 모드 액정 표시 소자의 액정 배향막으로서 이용된다. 또한, 본 발명의 PSA 모드 액정 표시 소자는, 당해 액정 배향막을 구비하는 것이다. 당해 액정 표시 소자의 제조 방법은, 이하의 (i)∼(ⅲ);The liquid crystal alignment film of the present invention is formed by the liquid crystal aligning agent prepared as described above and is used as a liquid crystal alignment film of a PSA mode liquid crystal display device. Further, the PSA mode liquid crystal display element of the present invention comprises the liquid crystal alignment film. (I) to (iii) below;

(i) 본 발명의 액정 배향제를, 도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에 각각 도포하고, 이어서 이것을 가열하여 도막을 형성하는 제1 공정,(i) a first step of applying the liquid crystal aligning agent of the present invention onto a conductive film of a pair of substrates each having a conductive film, and then heating the liquid crystal aligning agent to form a coated film,

(ⅱ) 당해 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정성 화합물을 포함하는 액정층을 개재하여 도막이 상대하도록 대향 배치하고 액정 셀을 구축하는 제2 공정,(Ii) a second step of arranging a pair of substrates on which the coating film is formed, with the coating film facing each other via a liquid crystal layer containing a liquid crystalline compound,

(ⅲ) 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 액정 셀에 광조사하는 제3 공정을 포함한다. 이하, 이들 각 공정에 대해서 상세하게 설명한다.(Iii) a third step of irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between the conductive films of the pair of substrates. Hereinafter, each of these steps will be described in detail.

[제1 공정: 도막의 형성][First Step: Formation of Coating Film]

상기 기판으로서는, 예를 들면 플로트 유리, 소다 유리 등의 유리; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트, 폴리(지환식 올레핀) 등의 플라스틱으로 이루어지는 투명 기판을 이용할 수 있다. 상기 도전막으로서는, 투명 도전막을 이용하는 것이 바람직하고, 예를 들면 산화 주석(SnO2)으로 이루어지는 NESA막(미국 PPG사 등록상표), 산화 인듐-산화 주석(In2O3-SnO2)으로 이루어지는 ITO막 등을 이용할 수 있다. 이 도전막은, 복수의 영역에 구획된 패턴 형상 도전막인 것이 바람직하다. 이러한 도전막으로 하면, 도전막 간에 전압을 인가할 때에, 각 영역에서 상이한 전압을 인가함으로써 영역마다에 액정 분자의 프리틸트각의 방향을 바꿀 수 있고, 이에 따라 시야각 특성을 보다 넓게 하는 것이 가능해진다.Examples of the substrate include glass such as float glass and soda glass; A transparent substrate made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, and poly (alicyclic olefin) can be used. As the conductive film, is preferable to use a transparent conductive film is, for example, tin oxide (SnO 2) made of a NESA film (US PPG Company registered trademark), indium oxide-tin oxide consisting of (In 2 O 3 -SnO 2) ITO film or the like can be used. The conductive film is preferably a patterned conductive film divided into a plurality of regions. With such a conductive film, it is possible to change the pretilt angle direction of the liquid crystal molecules for each region by applying a different voltage in each region when a voltage is applied between the conductive films, thereby making it possible to widen the viewing angle characteristic .

한 쌍의 기판에 있어서의 투명 도전막의 형성면 상에 본 발명의 액정 배향제를 도포하는 방법으로서는, 바람직하게는 오프셋 인쇄법, 스핀 코팅법, 롤 코팅법 또는 잉크젯 인쇄법에 의해 행할 수 있다. 액정 배향제의 도포시에 있어서는, 기판 표면 및 투명 도전막과 도막과의 접착성을 더욱 양호하게 하기 위해, 기판 표면 중 도막을 형성해야 하는 면에, 관능성 실란 화합물, 관능성 티탄 화합물 등을 미리 도포하는 전(前) 처리를 시행해 두어도 좋다.The method of applying the liquid crystal aligning agent of the present invention on the surface of the pair of substrates on which the transparent conductive film is formed can be preferably performed by an offset printing method, a spin coating method, a roll coating method, or an inkjet printing method. When applying the liquid crystal aligning agent, a functional silane compound, a functional titanium compound or the like is preferably added to the surface of the substrate on which the coating film should be formed in order to further improve the adhesion between the substrate surface and the transparent conductive film and the coating film The pre-treatment for pre-coating may be carried out.

액정 배향제를 기판에 도포한 후, 도포한 액정 배향제의 액 흐름 방지 등의 목적으로, 바람직하게는 예비 가열(프리베이킹)이 실시된다. 프리베이킹 온도는, 바람직하게는 30∼200℃이고, 보다 바람직하게는 40∼150℃이고, 특히 바람직하게는 40∼100℃이다. 프리베이킹 시간은, 바람직하게는 0.25∼10분이고, 보다 바람직하게는 0.5∼5분이다. 그 후, 용매를 완전하게 제거하고, 필요에 따라서 중합체에 존재하는 암산 구조를 열이미드화하는 것을 목적으로 하여 소성(포스트베이킹) 공정이 실시된다. 포스트베이킹 온도는, 바람직하게는 80∼300℃이고, 보다 바람직하게는 120∼250℃이다. 포스트베이킹 시간은, 바람직하게는 5∼200분이고, 보다 바람직하게는 10∼100분이다. 이와 같이 하여, 형성되는 막의 막두께는, 바람직하게는 0.001∼1㎛이고, 보다 바람직하게는 0.005∼0.5㎛이다.After the liquid crystal aligning agent is applied to the substrate, preheating (prebaking) is preferably performed for the purpose of preventing the liquid flow of the applied liquid crystal aligning agent and the like. The prebaking temperature is preferably 30 to 200 캜, more preferably 40 to 150 캜, particularly preferably 40 to 100 캜. The prebaking time is preferably 0.25 to 10 minutes, more preferably 0.5 to 5 minutes. Thereafter, the solvent is completely removed, and a firing (post-baking) process is carried out in order to thermally modify the structure of the acid in the polymer as required. The post-baking temperature is preferably 80 to 300 占 폚, and more preferably 120 to 250 占 폚. The post baking time is preferably 5 to 200 minutes, more preferably 10 to 100 minutes. The film thickness of the film thus formed is preferably 0.001 to 1 占 퐉, and more preferably 0.005 to 0.5 占 퐉.

액정 배향제를 도포한 후의 가열에 의해 유기 용매를 제거함으로써, 배향막이 되는 도막이 형성된다. 이때, 본 발명의 액정 배향제에 함유되는 중합체가, 폴리암산이거나, 폴리암산 에스테르이거나, 또는 이미드환 구조와 암산 구조를 갖는 이미드화 중합체인 경우에는, 도막 형성 후에 더욱 가열함으로써 탈수 폐환 반응을 진행시켜, 보다 이미드화된 도막으로 해도 좋다.After the application of the liquid crystal aligning agent, the organic solvent is removed by heating, whereby a coating film to be an alignment film is formed. At this time, when the polymer contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention is a polyamic acid, a polyamic acid ester, or an imidized polymer having an imidazole ring structure and an arboric acid structure, the dehydration ring- , Or a more imaged coating film may be used.

이와 같이 하여 형성된 도막은, 이것을 그대로 이하의 제2 공정에 제공해도 좋고, 필요에 따라서 도막면에 대한 러빙 처리를 행한 후에 제2 공정에 제공해도 좋다. 이 러빙 처리는, 도막면에 대하여, 예를 들면 나일론, 레이온, 코튼 등의 섬유로 이루어지는 천을 감은 롤로 일정 방향으로 문지름으로써 행할 수 있다.The coating film thus formed may be provided to the second step as it is, or may be provided to the second step after rubbing treatment on the coating film surface as necessary. This rubbing treatment can be performed by rubbing the coating film surface in a predetermined direction with a roll of cloth made of fibers such as nylon, rayon, and cotton.

[제2 공정: 액정 셀의 구축][Second Step: Construction of Liquid Crystal Cell]

상기와 같이 하여 액정 배향막이 형성된 기판을 2매 준비하고, 대향 배치한 2매의 기판 간에, 액정성 화합물 및 광중합성 화합물을 포함하는 액정층을 배치함으로써 액정 셀을 제조한다. 액정 셀을 제조하려면, 예를 들면 이하의 2개의 방법을 들 수 있다. 제1 방법은, 종래부터 알려져 있는 방법(진공 주입 방식)이다. 우선, 각각의 액정 배향막이 대향하도록 간극(셀 갭)을 개재하여 2매의 기판을 대향 배치하고, 2매의 기판의 주변부를 시일제를 이용하여 접합하고, 기판 표면 및 시일제에 의해 구획된 셀 갭 내에 액정성 화합물 및 광중합성 화합물을 주입하고 충전한 후, 주입구를 봉지함으로써, 액정 셀을 제조한다. 제2 방법은, ODF(One Drop Fill) 방식으로 불리는 수법이다. 액정 배향막을 형성한 2매의 기판 중 한 쪽의 기판 상의 소정의 장소에, 예를 들면 자외광 경화성의 시일제를 도포하고, 추가로 액정 배향막면 상의 소정의 수개소에, 액정성 화합물과 광중합성 화합물과의 혼합물을 적하한 후, 액정 배향막이 대향하도록 다른 한쪽의 기판을 접합함과 함께, 액정성 화합물을 기판의 전체면에 펴바르고, 이어서 기판의 전체면에 자외광을 조사하여 시일제를 경화함으로써, 액정 셀을 제조한다.Two liquid crystal alignment layers are formed as described above, and a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photopolymerizable compound is disposed between two substrates arranged opposite to each other to produce a liquid crystal cell. To produce a liquid crystal cell, for example, the following two methods can be used. The first method is a conventionally known method (vacuum injection method). First, two substrates are opposed to each other with a gap (cell gap) interposed therebetween so that the respective liquid crystal alignment films face each other. The peripheral portions of the two substrates are bonded together using a sealant, A liquid crystal compound and a photopolymerizable compound are injected and filled into the cell gap, and then the injection port is sealed to manufacture a liquid crystal cell. The second method is a method called ODF (One Drop Fill) method. For example, an ultraviolet curable sealant is applied to a predetermined position on one of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed, and further a liquid crystal compound and light After the mixture with the synthetic compound is dropped, the other substrate is bonded so that the liquid crystal alignment film faces the liquid crystal compound, and the liquid crystalline compound is spread over the entire surface of the substrate. Subsequently, ultraviolet light is irradiated to the entire surface of the substrate, To thereby produce a liquid crystal cell.

어느 방법에 의한 경우라도, 상기와 같이 하여 제조한 액정 셀에 대해, 추가로, 이용한 액정성 화합물이 등방상을 취하는 온도까지 가열한 후, 실온까지 서서히 냉각함으로써, 액정 충전시의 유동 배향을 제거해도 좋다.Regardless of the method, the liquid crystal cell produced as described above is further heated to a temperature at which the liquid crystalline compound used takes an isotropic phase, and then gradually cooled to room temperature to remove the flow orientation at the time of filling the liquid crystal It is also good.

시일제로서는, 예를 들면 경화제 및 스페이서로서의 산화 알루미늄구(球)를 함유하는 에폭시 수지 등을 이용할 수 있다.As the sealing agent, for example, an epoxy resin containing an aluminum oxide sphere as a curing agent and a spacer can be used.

액정성 화합물로서는, 부(負)의 유전이방성을 갖는 네마틱 액정을 바람직하게 이용할 수 있고, 예를 들면 디시아노벤젠계 액정, 피리다진계 액정, 시프베이스계 액정, 아족시계 액정, 비페닐계 액정, 페닐사이클로헥산계 액정, 테르페닐계 액정 등을 이용할 수 있다. 또한, 액정성 화합물로서는, PSA 모드 액정 표시 소자의 응답 속도를 보다 빠르게 할 수 있는 점에 있어서, 알케닐기 및 플루오로알케닐기 중 어느 하나를 갖는 단관능성의 액정성 화합물인 알케닐계 액정을 병용하는 것이 바람직하다. 이러한 알케닐계 액정으로서는, 종래 공지의 것을 사용할 수 있고, 예를 들면 하기식 (L1-1)∼식 (L1-9)의 각각으로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다.As the liquid crystalline compound, a nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy can be preferably used. For example, a dicyanobenzene-based liquid crystal, a pyridazine-based liquid crystal, a hepta base-based liquid crystal, Liquid crystal, phenylcyclohexane-based liquid crystal, terphenyl-based liquid crystal, and the like. As a liquid crystal compound, an alkenyl-based liquid crystal which is a monofunctional liquid crystal compound having any one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group is used in combination with a point that a response speed of a PSA mode liquid crystal display element can be made faster . As such alkenyl-based liquid crystals, conventionally known ones can be used, and examples thereof include compounds represented by the following formulas (L1-1) to (L1-9).

Figure pat00003
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광중합성 화합물로서는, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기 등과 같은 라디칼 중합이 가능한 관능기를 갖는 화합물을 이용할 수 있다. 반응성의 관점에서는, 그 중에서도 아크릴로일기 및 메타크릴로일기 중 적어도 어느 2개 이상을 갖는 다관능성의 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 액정 분자의 배향성을 안정적으로 유지하는 관점에서, 광중합성 화합물로서는, 액정 골격으로서, 사이클로헥산환 및 벤젠환 중 적어도 어느 1종의 환을 합계 2개 이상 갖는 화합물을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 이러한 광중합성 화합물로서는, 종래 공지의 것을 사용할 수 있다. 광중합성 화합물의 배합 비율은, 사용하는 액정성 화합물의 전체량에 대하여 0.1∼0.5중량%로 하는 것이 바람직하다. 액정층의 두께는, 1∼5㎛로 하는 것이 바람직하다.As the photopolymerizable compound, a compound having a functional group capable of radical polymerization such as acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group and the like can be used. From the viewpoint of reactivity, it is preferable to use a polyfunctional compound having at least two or more of acryloyl group and methacryloyl group among them. From the standpoint of stably maintaining the orientation properties of the liquid crystal molecules, it is preferable to use, as the liquid crystal skeleton, a compound having at least one ring of at least any one of cyclohexane ring and benzene ring in total. As the photopolymerizable compound, conventionally known ones can be used. The compounding ratio of the photopolymerizable compound is preferably 0.1 to 0.5 wt% with respect to the total amount of the liquid crystalline compound to be used. The thickness of the liquid crystal layer is preferably 1 to 5 mu m.

[제3 공정: 광조사 공정][Third step: light irradiation step]

액정 셀의 구축 후, 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 액정 셀에 광조사한다. 여기에서 인가하는 전압은, 예를 들면 5∼50V의 직류 또는 교류로 할 수 있다. 또한, 조사하는 빛으로서는, 예를 들면 150∼800㎚의 파장의 빛을 포함하는 자외선 및 가시광선을 이용할 수 있지만, 300∼400㎚의 파장의 빛을 포함하는 자외선이 바람직하다. 조사광의 광원으로서는, 예를 들면 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 중수소 램프, 메탈 할라이드 램프, 아르곤 공명 램프, 제논 램프, 엑시머 레이저 등을 사용할 수 있다. 또한, 상기의 바람직한 파장 영역의 자외선은, 광원을, 예를 들면 필터 회절 격자 등과 병용하는 수단 등에 의해 얻을 수 있다. 빛의 조사량으로서는, 바람직하게는 1,000J/㎡ 이상 200,000J/㎡ 미만이고, 보다 바람직하게는 1,000∼100,000J/㎡이다.After the formation of the liquid crystal cell, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates. The voltage to be applied here may be DC or AC of 5 to 50 V, for example. As the light to be irradiated, for example, ultraviolet rays and visible rays including light having a wavelength of 150 to 800 nm can be used, but ultraviolet rays including light having a wavelength of 300 to 400 nm are preferable. As the light source of the irradiation light, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp and an excimer laser can be used. The ultraviolet ray in the above-mentioned preferable wavelength range can be obtained by a means for using the light source together with, for example, a filter diffraction grating or the like. The irradiation dose of light is preferably 1,000 J / m 2 or more and less than 200,000 J / m 2, and more preferably 1,000 to 100,000 J / m 2.

또한, 종래 알려져 있는 PSA 모드 액정 표시 소자의 제조시에 있어서는, 100,000J/㎡ 정도의 빛을 조사하는 것이 필요했지만, 본 발명의 방법에 의하면, 광조사량을 50,000J/㎡ 이하, 또한 10,000J/㎡ 이하로 한 경우라도 소망하는 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. 따라서, 액정 표시 소자의 제조 비용의 삭감에 이바지하는 것 외에, 강한 빛의 조사에 기인하는 전압 보전율의 저하, 액정의 응답 속도의 저하를 회피할 수 있다.It is also necessary to irradiate light of about 100,000 J / m 2 at the time of manufacturing a conventionally known PSA mode liquid crystal display device. However, according to the method of the present invention, the light irradiation amount is 50,000 J / M &lt; 2 &gt; or less, a desired liquid crystal display element can be obtained. Therefore, in addition to contributing to the reduction of the manufacturing cost of the liquid crystal display element, it is possible to avoid a decrease in the voltage holding ratio and a decrease in the response speed of the liquid crystal due to the strong light irradiation.

그리고, 광조사 후의 액정 셀의 외측 표면에 편광판을 접합함으로써, PSA 모드 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. 여기에서 사용하는 편광판으로서는, 폴리비닐알코올을 연신 배향시키면서 요오드를 흡수시킨 「H막」이라고 칭해지는 편광막을 아세트산 셀룰로오스 보호막으로 사이에 끼운 편광판 또는 H막 그 자체로 이루어지는 편광판을 들 수 있다.Then, the PSA mode liquid crystal display device can be obtained by bonding the polarizing plate to the outer surface of the liquid crystal cell after light irradiation. Examples of the polarizing plate used herein include a polarizing plate in which a polarizing film called "H film" in which iodine is absorbed while polyvinyl alcohol is oriented in a stretched state, a polarizing plate sandwiched by a cellulose acetate protective film, or a polarizing plate made of H film itself.

본 발명의 PSA 모드 액정 표시 소자는, 여러 가지의 장치에 유효하게 적용할 수 있고, 예를 들면, 시계, 휴대형 게임, 워드프로세서, 노트형 PC, 카 내비게이션 시스템, 캠코더, PDA, 디지털 카메라, 휴대 전화, 스마트폰, 각종 모니터, 액정 텔레비전, 인포메이션 디스플레이 등의 각종 표시 장치에 이용할 수 있다.The PSA mode liquid crystal display device of the present invention can be effectively applied to various apparatuses and can be applied to various devices such as a clock, a portable game, a word processor, a notebook PC, a car navigation system, a camcorder, a PDA, A telephone, a smart phone, various monitors, a liquid crystal television, and an information display.

[실시예][Example]

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples, but the present invention is not limited to these examples.

각 합성예에 있어서의 각 중합체의 중량 평균 분자량, 에폭시 당량, 각 중합체 용액의 용액 점도 및, 폴리이미드의 이미드화율은, 이하의 방법에 의해 측정했다.The weight average molecular weight, the epoxy equivalent, the solution viscosity of each polymer solution, and the imidation rate of polyimide of each polymer in each synthesis example were measured by the following methods.

[중합체의 중량 평균 분자량][Weight average molecular weight of polymer]

중합체의 중량 평균 분자량 Mw는, 이하의 조건에 있어서의 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정한 폴리스티렌 환산값이다.The weight average molecular weight Mw of the polymer is a polystyrene reduced value measured by gel permeation chromatography under the following conditions.

컬럼: 토소(주) 제조, TSKgelGRCXLⅡColumn: TSKgelGRCXLII, manufactured by Tosoh Corporation

용매: 테트라하이드로푸란Solvent: tetrahydrofuran

온도: 40℃Temperature: 40 ° C

압력: 68kgf/㎠Pressure: 68kgf / ㎠

[에폭시 당량][Epoxy equivalent]

에폭시 당량은, JIS C2105의 「염산-메틸에틸케톤법」에 준하여 측정한 값이다.The epoxy equivalent is a value measured in accordance with the "hydrochloric acid-methyl ethyl ketone method" of JIS C2105.

[중합체 용액의 용액 점도][Solution viscosity of polymer solution]

중합체 용액의 용액 점도[mPa·s]는, 소정의 용매를 이용하여, 중합체 농도 10중량%로 조제한 용액에 대해서, E형 회전 점도계를 이용하여 25℃에서 측정했다.The solution viscosity [mPa 占 퐏] of the polymer solution was measured at 25 占 폚 using an E-type rotational viscometer for a solution prepared by using a predetermined solvent at a polymer concentration of 10% by weight.

[폴리이미드의 이미드화율][Imidization Rate of Polyimide]

폴리이미드의 용액을 순수에 투입하고, 얻어진 침전을 실온에서 충분히 감압 건조한 후, 중수소화 디메틸술폭사이드에 용해하고, 테트라메틸실란을 기준 물질로 하여 실온에서 1H-NMR를 측정했다. 얻어진 1H-NMR 스펙트럼으로부터, 하기 수식 (1)로 나타나는 식에 의해 이미드화율[%]을 구했다:The polyimide solution was poured into pure water, and the obtained precipitate was sufficiently dried under reduced pressure at room temperature. The precipitate was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide, and 1 H-NMR was measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference material. From the obtained 1 H-NMR spectrum, the imidization ratio [%] was obtained from the formula shown in the following formula (1): &lt; EMI ID =

이미드화율[%]={(1-A1)/(A2×α)}×100   …(1)Imidization rate [%] = {(1-A 1 ) / (A 2 x?)} 100 ... (One)

(수식 (1) 중, A1은 화학 시프트 10ppm 부근에 나타나는 NH기의 프로톤 유래의 피크 면적이고, A2는 그 외의 프로톤 유래의 피크 면적이고, α는 중합체의 전구체(폴리암산)에 있어서의 NH기의 프로톤 1개에 대한 그 외의 프로톤의 개수 비율임).(In the formula (1), A 1 is the peak area derived from the proton of the NH group near the chemical shift of 10 ppm, A 2 is the peak area derived from the other proton, and α is the peak area derived from the proton The ratio of the number of other protons to one proton in the NH group).

<중합체의 합성>&Lt; Synthesis of Polymer &

[합성예 P1: 폴리이미드 (A)의 합성(측쇄 도입형)][Synthesis Example P1: Synthesis of polyimide (A) (side chain introduction type)]

테트라카본산 2무수물로서 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물(TCA) 112g(0.50몰), 그리고 디아민으로서 콜레스타닐옥시-2,4-디아미노벤젠 49g(0.10몰), 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌 52g(0.15몰), 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-6-아민 67g(0.25몰)을 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 750g에 용해하고, 60℃에서 6시간 반응을 행하여, 폴리암산을 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리암산 용액을 소량 분취하고, NMP를 더하여 폴리암산 농도 10중량%의 용액으로서 측정한 용액 점도는 900mPa·s였다.112 g (0.50 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride (TCA) as tetracarboxylic acid dianhydride and 49 g (0.10 mol) of cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene as diamine, 9 (0.15 mol) of 9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 67 g of 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl- (0.25 mol) were dissolved in 750 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), and the reaction was carried out at 60 DEG C for 6 hours to obtain a solution containing polyamic acid. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected and NMP was added to the solution to measure a solution viscosity of 10 wt% of polyamic acid. The viscosity of the solution was 900 mPa · s.

이어서, 얻어진 폴리암산 용액에 NMP 63g을 추가하고, N-메틸피페리딘 3.8g 및 무수 아세트산 10.6g을 첨가하여 80℃에서 8시간 탈수 폐환 반응을 행했다. 이어서, 반응 혼합물을 대과잉의 메탄올 중에 부어, 반응 생성물을 침전시켰다. 회수한 침전물을 메탄올로 세정한 후, 감압하 40℃에서 15시간 건조함으로써, 중합체 (A)로서, 이미드화율 약 50%의 폴리이미드 (P-1)을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 (P-1)을 NMP에서 10중량%가 되도록 조제했다. 이 용액의 점도를 측정한 결과 330mPa·s였다.Subsequently, 63 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 3.8 g of N-methylpiperidine and 10.6 g of acetic anhydride were added, and the dehydration ring-closure reaction was carried out at 80 DEG C for 8 hours. The reaction mixture was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The recovered precipitate was washed with methanol and dried at 40 ° C under reduced pressure for 15 hours to obtain a polyimide (P-1) having an imidization rate of about 50% as the polymer (A). The obtained polyimide (P-1) was adjusted to 10 wt% in NMP. The viscosity of this solution was measured and found to be 330 mPa · s.

[합성예 P2: 폴리이미드 (A)의 합성(주쇄 도입형)][Synthesis Example P2: Synthesis of polyimide (A) (main chain introduction type)]

9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌을 대신하여 4,4'-디아미노벤조페논 32g(0.15몰)을 사용한 이외는 합성예 P1과 동일한 조작을 행하여, 폴리암산을 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리암산 용액을 소량 분취하고, NMP를 더하여 폴리암산 농도 10중량%의 용액으로서 측정한 용액 점도는 1,050mPa·s였다. 또한, 얻어진 폴리암산 용액을 이용하여 합성예 P1과 동일한 조작을 행함으로써, 중합체 (A)로서, 이미드화율 약 50%의 폴리이미드 (P-2)를 얻었다. 얻어진 폴리이미드 (P-2)를 NMP에서 10중량%가 되도록 조제했다. 이 용액의 점도를 측정한 결과 420mPa·s였다.The procedure of Synthesis Example P1 was repeated except that 32 g (0.15 mol) of 4,4'-diaminobenzophenone was used instead of 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene to give a solution containing polyamic acid . A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected and NMP was added to the solution to measure a solution viscosity of 10 wt% of polyamic acid. The viscosity of the solution was 1,050 mPa · s. The obtained polyamic acid solution was used in the same manner as in Synthesis Example P1 to obtain a polyimide (P-2) having an imidization rate of about 50% as the polymer (A). The obtained polyimide (P-2) was adjusted to 10 wt% in NMP. The viscosity of this solution was measured and found to be 420 mPa · s.

[합성예 P3: 중합체 (B)의 합성(폴리이미드의 합성)][Synthesis Example P3: Synthesis of Polymer (B) (Synthesis of polyimide)

9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌을 대신하여 3,5-디아미노벤조산 23g(0.15몰)을 사용한 이외는 합성예 P1과 동일한 조작을 행하여, 폴리암산을 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리암산 용액을 소량 분취하고, NMP를 더하여 폴리암산 농도 10중량%의 용액으로서 측정한 용액 점도는 2,400mPa·s였다.The procedure of Synthesis Example P1 was repeated except that 23 g (0.15 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid was used instead of 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene to obtain a solution containing polyamic acid. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, and NMP was added thereto. The solution viscosity was measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10 wt%, and the solution viscosity was 2,400 mPa · s.

이어서, 얻어진 폴리암산 용액에 NMP 330g을 추가하고, N-메틸피페리딘 25g 및 무수 아세트산 25.5g을 첨가하여 80℃에서 8시간 탈수 폐환 반응을 행했다. 이어서, 반응 혼합물을 대과잉의 메탄올 중에 부어, 반응 생성물을 침전시켰다. 회수한 침전물을 메탄올로 세정한 후, 감압하 40℃에서 15시간 건조함으로써, 중합체 (B)로서, 이미드화율 약 50%의 폴리이미드 (P-3)을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 (P-3)을 NMP에서 10중량%가 되도록 조제했다. 이 용액의 점도를 측정한 결과 340mPa·s였다.Subsequently, 330 g of NMP was added to the resulting polyamic acid solution, and 25 g of N-methylpiperidine and 25.5 g of acetic anhydride were added, followed by dehydration ring-closure reaction at 80 DEG C for 8 hours. The reaction mixture was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The recovered precipitate was washed with methanol and then dried under reduced pressure at 40 占 폚 for 15 hours to obtain a polyimide (P-3) having an imidization rate of about 50% as the polymer (B). The obtained polyimide (P-3) was adjusted to 10 wt% in NMP. The viscosity of this solution was measured and found to be 340 mPa · s.

[합성예 S1: 폴리오르가노실록산 (A)의 합성]Synthesis Example S1: Synthesis of polyorganosiloxane (A)

교반기, 온도계, 적하 깔때기 및 환류 냉각관을 구비한 반응 용기에, 가수분해성 실란 화합물로서 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란(ECETS) 246g, 용매로서 메틸이소부틸케톤 500g 및, 촉매로서 트리에틸아민 10.0g을 넣고, 실온에서 혼합했다. 이어서, 탈이온수 100g을 적하 깔때기로부터 30분 걸쳐 적하한 후, 교반하면서, 환류하, 80℃에서 6시간 반응을 행했다. 반응 종료 후, 유기층을 취출하고, 0.2중량% 질산 암모늄 수용액에 의해 세정 후의 물이 중성이 될 때까지 세정한 후, 감압하에서 용매 및 물을 증류 제거함으로써, 에폭시기를 갖는 가수분해 축합물(PECETS)을 점조한 투명 액체로서 얻었다. 이 가수분해 축합물에 대해서, 1H-NMR 분석을 행한 결과, 화학 시프트(δ)=3.2ppm 부근에 에폭시기에 귀속되는 피크가 이론 강도대로 얻어지고, 반응 중에 에폭시기의 부반응이 일어나지 않는 것이 확인되었다.246 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (ECETS) as a hydrolyzable silane compound and 500 g of methyl isobutyl ketone as a solvent were charged in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser tube, And 10.0 g of triethylamine as a catalyst were added and mixed at room temperature. Subsequently, 100 g of deionized water was added dropwise from the dropping funnel over 30 minutes, and the mixture was reacted under reflux at 80 DEG C for 6 hours while stirring. After completion of the reaction, the organic layer was taken out, washed with a 0.2 wt% aqueous ammonium nitrate solution until the washed water became neutral, and then the solvent and water were distilled off under reduced pressure to obtain a hydrolyzed condensate (PECETS) As a viscous transparent liquid. As a result of 1 H-NMR analysis of this hydrolysis-condensation product, it was confirmed that a peak attributed to the epoxy group was obtained in the vicinity of the chemical shift (?) = 3.2 ppm in accordance with the theoretical intensity, and no side reaction of the epoxy group occurred during the reaction .

이어서, 200mL의 3구 플라스크에, 상기에서 얻은 에폭시기를 갖는 가수분해 축합물(PECETS), 용매로서 메틸이소부틸케톤 30.0g, 카본산으로서 4-옥틸옥시벤조산 25.0g(원료로서 이용한 가수분해성 실란 화합물에 대하여 20몰%에 상당함) 및 11-((4'-니트로-[1,1'-비페닐]-4-일)옥시)운데칸산 19.9g(원료로서 이용한 가수분해성 실란 화합물에 대하여 10몰%에 상당함), 그리고 촉매로서 테트라부틸암모늄브로마이드(TBAB, 에폭시 화합물의 경화촉진제임) 0.10g을 넣고, 100℃에서 2시간 교반하에 반응을 행했다. 반응 종료 후, 반응 혼합물에 아세트산 에틸을 더하여 얻은 유기층을 5회 물세정하고, 황산 마그네슘을 이용하여 건조한 후, 용매를 증류 제거함으로써, 중합체 (A)인 폴리오르가노실록산 (S-1)을 251.2g 얻었다. 이 폴리오르가노실록산 (S-1)에 대해, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw는 7,200이었다.Subsequently, in the 200 mL three-necked flask, the above-obtained hydrolyzed condensate (PECETS) having an epoxy group, 30.0 g of methyl isobutyl ketone as a solvent, and 25.0 g of 4-octyloxybenzoic acid as a carbonic acid ) And 19.9 g of 11 - ((4'-nitro- [1,1'-biphenyl] -4-yl) oxy) undecanoic acid (corresponding to 20 mol% based on the hydrolyzable silane compound used as the raw material) And 0.10 g of tetrabutylammonium bromide (TBAB, which is a curing accelerator of an epoxy compound) as a catalyst, and the reaction was carried out at 100 ° C for 2 hours with stirring. After completion of the reaction, ethyl acetate was added to the reaction mixture, and the resulting organic layer was washed with water five times, dried over magnesium sulfate and then the solvent was distilled off to obtain 251.2 g of a polyorganosiloxane (S-1) . The weight average molecular weight Mw of the polyorganosiloxane (S-1) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) was 7,200.

[합성예 S2: 폴리오르가노실록산 (A)의 합성]Synthesis Example S2: Synthesis of polyorganosiloxane (A)

사용하는 카본산을, 11-(4-(4-펜틸사이클로헥실)페녹시)운데칸산(원료로서 이용한 가수분해성 실란 화합물에 대하여 20몰%에 상당함) 및 4-페닐벤조산(원료로서 이용한 가수분해성 실란 화합물에 대하여 10몰%에 상당함)으로 변경한 이외는 합성예 S1과 동일한 조작을 행함으로써, 중합체 (A)인 폴리오르가노실록산 (S-2)를 얻었다. 이 폴리오르가노실록산 (S-2)에 대해 GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw는 7,500이었다.The carbonic acid used was changed to 11- (4- (4-pentylcyclohexyl) phenoxy) undecanoic acid (corresponding to 20 mol% based on the hydrolyzable silane compound used as the raw material) and 4-phenylbenzoic acid (S-2), which is a polymer (A), was obtained in the same manner as in Synthesis Example S1 except that the amount of the polyorganosiloxane was changed to 10 mol% based on the decomposable silane compound. The weight average molecular weight Mw of the polyorganosiloxane (S-2) in terms of polystyrene as measured by GPC was 7,500.

중합체의 합성에 이용한 화합물의 배합량(몰비)을 하기 표 1에 나타낸다. 또한, 폴리이미드에 대해서는, 합성에 사용한 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 합계의 몰수에 대한 각 화합물의 비율을 나타낸다. 폴리오르가노실록산에 대해서는, 에폭시기 함유 폴리오르가노실록산의 합성에 사용한 가수분해성 실란 화합물의 합계에 대한 각 화합물의 사용 비율(몰비)을 나타낸다.The compounding amount (molar ratio) of the compound used in the synthesis of the polymer is shown in Table 1 below. The polyimide represents the ratio of each compound to the total number of moles of the tetracarboxylic acid dianhydride and diamine used in the synthesis. As for the polyorganosiloxane, the use ratio (molar ratio) of each compound to the sum of the hydrolyzable silane compounds used in the synthesis of the epoxy group-containing polyorganosiloxane is shown.

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 표 1에 있어서의 각 화합물의 약칭은 각각 이하의 의미이다.The abbreviations of the respective compounds in Table 1 are as follows.

(디아민)(Diamine)

d-1; 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌d-1; 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene

d-2; 4,4'-디아미노벤조페논d-2; 4,4'-diaminobenzophenone

d-3; 콜레스타닐옥시-2,4-디아미노벤젠d-3; Cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene

d-4; 1-(4-아미노페닐)-2,3-디하이드로-1,3,3-트리메틸-1H-인덴-6-아민d-4; 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-inden-

d-5; 3,5-디아미노벤조산d-5; 3,5-diaminobenzoic acid

(카본산)(Carbonic acid)

CA-1; 4-옥틸옥시벤조산CA-1; 4-octyloxybenzoic acid

CA-2; 11-((4'-니트로-[1,1'-비페닐]-4-일)옥시)운데칸산CA-2; 11 - ((4'-Nitro- [1,1'-biphenyl] -4-yl) oxy) undecanoic acid

CA-3; 11-(4-(4-펜틸사이클로헥실)페녹시)운데칸산CA-3; 11- (4- (4-pentylcyclohexyl) phenoxy) undecanoic acid

CA-4; 4-페닐벤조산CA-4; 4-phenylbenzoic acid

<액정 조성물의 조제>&Lt; Preparation of liquid crystal composition &

[액정 조성물 LC1의 조제][Preparation of liquid crystal composition LC1]

네마틱 액정(메르크사 제조, MLC-6608) 10g에 대하여, 상기식 (L1-1)로 나타나는 액정성 화합물을 5중량% 및, 하기식 (L2-1)로 나타나는 광중합성 화합물을 0.3중량%를 첨가하여 혼합함으로써 액정 조성물 LC1을 얻었다.5 wt% of the liquid crystalline compound represented by the formula (L1-1) and 0.3 wt% of the photopolymerizable compound represented by the following formula (L2-1) were added to 10 g of a nematic liquid crystal (MLC-6608, Were added and mixed to obtain a liquid crystal composition LC1.

Figure pat00005
Figure pat00005

[실시예 1][Example 1]

<액정 배향제의 조제>&Lt; Preparation of liquid crystal aligning agent &

화합물 (A)로서 상기 합성예 P1에서 얻은 폴리이미드 (P-1)을 함유하는 용액에, 유기 용매로서 NMP 및 부틸셀로솔브(BC)를 더하여, 용매 조성이 NMP:BC=50:50(중량비), 고형분 농도 6.0중량%의 용액으로 했다. 이 용액을 공경(孔徑) 1㎛의 필터를 이용하여 여과함으로써 액정 배향제를 조제했다.NMP and butyl cellosolve (BC) were added as an organic solvent to a solution containing the polyimide (P-1) obtained in the above Synthesis Example P1 as the compound (A), and the solvent composition was NMP: BC = 50:50 Weight ratio) and a solid concentration of 6.0 wt%. This solution was filtered using a filter having a pore diameter of 1 mu m to prepare a liquid crystal aligning agent.

<인쇄성의 평가>&Lt; Evaluation of printability >

상기에서 조제한 액정 배향제의 인쇄성을 평가했다. 우선, 상기의 액정 배향제에 대해, 오프셋형의 액정 배향막 인쇄기(닛폰 샤신인사츠(주) 제조)를 이용하여, ITO막으로 이루어지는 투명 전극 부착 유리 기판의 투명 전극면에 도포하고, 80℃의 핫 플레이트 상에서 1분간 가열(프리베이킹)하여 용매를 제거한 후, 200℃의 핫 플레이트 상에서 10분간 가열(포스트베이킹)하여, 촉침식 막후계(KLA 텐코르사 제조)로 측정한 평균 막두께가 600Å인 도막을 형성했다. 이 도막을 배율 20배의 현미경으로 관찰하여 인쇄 얼룩 및 핀홀의 유무를 조사했다. 평가는, 인쇄 얼룩 및 핀홀이 관찰되지 않은 경우를 인쇄성 「양호」, 인쇄 얼룩 및 핀홀 중 적어도 어느 하나가 관찰된 경우를 인쇄성 「불량」으로 하여 행했다. 그 결과, 상기에서 조제한 액정 배향제를 이용하여 형성한 도막에는 인쇄 얼룩 및 핀홀 모두 관찰되지 않으며, 인쇄성이 「양호」였다.The printability of the liquid crystal aligning agent prepared above was evaluated. First, the aforementioned liquid crystal aligning agent was applied to the transparent electrode surface of a glass substrate with a transparent electrode formed of an ITO film using an offset type liquid crystal alignment film printing machine (manufactured by Nippon Sha Shingen Co., Ltd.) (Post-baking) on a hot plate at 200 ° C for 10 minutes to measure an average film thickness of 600 Å as measured with a contact-type film gauge (manufactured by KLA Tencor Corporation) for 1 minute on a hot plate To form a coating film. This coating film was observed under a microscope with a magnification of 20 times to examine the presence of printing unevenness and pinholes. The evaluation was made with printability &quot; good &quot; when print unevenness and pinholes were not observed, and printability &quot; poor &quot; when at least one of print unevenness and pinholes were observed. As a result, no printing unevenness or pinholes were observed in the coating film formed using the liquid crystal aligning agent prepared above, and the printability was "good".

<막두께 균일성의 평가>&Lt; Evaluation of Film Thickness Uniformity &

상기에서 형성한 도막에 대해, 촉침식 막후계(KLA 텐코르사 제조)를 이용하여, 기판의 중앙부에 있어서의 막두께와, 기판의 외측단으로부터 15㎜ 중앙에 치우친 위치에 있어서의 막두께를 각각 측정했다. 양자의 막두께 차가 20Å 이하인 경우를 막두께 균일성 「양호」, 막두께 차 20Å를 초과한 경우를 막두께 균일성 「불량」으로 하여 평가했다. 그 결과, 상기 액정 배향제를 이용하여 형성한 도막에서는, 중앙부와 단부와의 막두께 차가 작고, 막두께 균일성이 「양호」였다.With respect to the coating film formed above, the film thickness at the central portion of the substrate and the film thickness at the position shifted from the outer edge of the substrate by 15 mm at the center were measured using a contact type film thickness gauge (manufactured by KLA Tencor Corporation) Respectively. The film thickness uniformity was evaluated as &quot; good &quot; when the film thickness difference was 20 angstrom or less, and the film thickness uniformity was &quot; defective &quot; when the film thickness difference was more than 20 angstrom. As a result, in the coating film formed using the liquid crystal aligning agent, the difference in film thickness between the center and the end was small and the film thickness uniformity was "good".

<액정 셀의 제조 및 평가>&Lt; Production and evaluation of liquid crystal cell &

상기에서 조제한 액정 배향제를 이용하여, 투명 전극의 패턴(2종류) 및 자외선 조사량(3수준)을 변경하여, 합계 6개의 액정 표시 소자를 제조했다. 또한, 그들 제조한 액정 셀에 대해서 각종 평가를 행했다.Using the liquid crystal aligning agent prepared above, the patterns (two kinds) of transparent electrodes and the ultraviolet ray irradiation amount (three levels) were changed to produce a total of six liquid crystal display elements. Various evaluations were made on the liquid crystal cells produced.

[패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조][Production of liquid crystal cell having transparent electrode without pattern]

상기 액정 배향제를, 액정 배향막 인쇄기(닛폰 샤신인사츠(주) 제조)를 이용하여 ITO막으로 이루어지는 투명 전극을 갖는 유리 기판의 투명 전극면 상에 도포하고, 80℃의 핫 플레이트 상에서 1분간 가열(프리베이킹)하여 용매를 제거한 후, 150℃의 핫 플레이트 상에서 10분간 가열(포스트베이킹)하여, 평균 막두께 600Å의 도막을 형성했다. 이 도막에 대하여, 레이온천을 감은 롤을 갖는 러빙 머신에 의해, 롤 회전수 400rpm, 스테이지 이동 속도 3㎝/초, 모족(毛足) 압입 길이 0.1㎜로 러빙 처리를 행했다. 그 후, 초순수 중에서 1분간 초음파 세정을 행하고, 이어서 100℃ 클린 오븐 중에서 10분간 건조함으로써, 액정 배향막을 갖는 기판을 얻었다. 이 조작을 반복하여, 액정 배향막을 갖는 기판을 한 쌍(2매) 얻었다. 또한 상기 러빙 처리는, 액정의 기울어짐을 제어하고, 배향 분할을 간단하고 용이한 방법으로 행할 목적으로 행한 약한 러빙 처리이다.The above liquid crystal aligning agent was coated on the transparent electrode surface of a glass substrate having a transparent electrode made of an ITO film using a liquid crystal alignment film printing machine (manufactured by Nippon Sha Sein Insights Co., Ltd.), and heated on a hot plate at 80 캜 for 1 minute (Prebaked) to remove the solvent, and then heated on a hot plate at 150 ° C for 10 minutes (post baking) to form a coating film having an average film thickness of 600 Å. The coating film was subjected to a rubbing treatment with a rubbing machine having a roll covered with a rayon hot spring at a roll rotation speed of 400 rpm, a stage moving speed of 3 cm / sec, and a hair pressing indentation length of 0.1 mm. Thereafter, ultrasonic cleaning was performed for 1 minute in ultrapure water, and then the substrate was dried in a 100 占 폚 clean oven for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated to obtain a pair of substrates (two substrates) each having a liquid crystal alignment film. The rubbing treatment is a weak rubbing treatment performed for the purpose of controlling the inclination of the liquid crystal and performing the orientation division by a simple and easy method.

다음으로, 상기 한 쌍의 기판 중 1매에 대해, 액정 배향막을 갖는 면의 외연(外緣)에 직경 5.5㎛의 산화 알루미늄구 함유 에폭시 수지 접착제를 도포한 후, 한 쌍의 기판을 액정 배향막면이 상대하도록 겹쳐 맞추고 압착하여, 접착제를 경화시켰다. 이어서, 액정 주입구로부터 한 쌍의 기판 간에, 상기에서 조제한 액정 조성물 LC1을 충전한 후, 아크릴계 광경화 접착제로 액정 주입구를 봉지함으로써, 액정 셀을 제조했다.Next, one of the pair of substrates was coated with an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 mu m on the outer edge of the surface having the liquid crystal alignment film, and then a pair of substrates was laminated on the liquid crystal alignment film surface And the adhesive was cured by pressing. Subsequently, the liquid crystal composition LC1 prepared above was charged between a pair of substrates from the liquid crystal injection port, and then a liquid crystal injection hole was sealed with an acrylic photo-curable adhesive to produce a liquid crystal cell.

상기의 조작을 반복하여 행하여, 패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀을 3개 제조했다. 그 중의 1개는 그대로 후술의 프리틸트각의 평가에 제공했다. 나머지 2개의 액정 셀에 대해서는, 각각 전극 간에 주파수 60㎐의 교류 10V를 인가하고, 액정이 구동하고 있는 상태에서, 광원에 메탈 할라이드 램프를 사용한 자외선 조사 장치를 이용하여, 10,000J/㎡ 또는 100,000J/㎡의 조사량으로 자외선을 조사하고, 그 후, 프리틸트각 및 전압 보전율의 평가에 제공했다. 또한, 이 조사량은, 파장 365㎚ 기준으로 계측되는 광량계를 이용하여 계측한 값이다.The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells each having a pattern-free transparent electrode. One of them was provided for evaluation of the pretilt angle described later. For the remaining two liquid crystal cells, 10 V of alternating current of 60 Hz was applied between the electrodes, and in the state where the liquid crystal was driven, the light source was irradiated with ultraviolet rays using a metal halide lamp at 10,000 J / / M &lt; 2 &gt; and then provided for the evaluation of pretilt angle and voltage maintenance rate. This irradiation dose is a value measured using a photometer which is measured based on a wavelength of 365 nm.

[프리틸트각의 평가][Evaluation of Pretilt Angle]

상기에서 제조한 액정 셀을 이용하여, 문헌 「T. J. Scheffer 등, J. Appl. Phys. vo. 19, p. 2013(1980)」에 기재된 방법에 준거하여 He-Ne 레이저광을 이용하는 결정 회전법에 의해 측정한 액정 분자의 기판면으로부터의 경사각의 값을 프리틸트각으로 했다. 광미조사의 액정 셀, 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및, 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀의 각각의 프리틸트각을 하기 표 2에 나타낸다.Using the liquid crystal cell manufactured as described above, the method described in T. J. Scheffer et al., J. Appl. Phys. vo. 19, p. 2013 (1980) ", the value of the inclination angle of the liquid crystal molecules measured from the substrate surface by the crystal rotation method using the He-Ne laser light was taken as the pretilt angle. Table 2 shows the pretilt angles of the liquid crystal cell of the tail lamp, the liquid crystal cell of the dose of 10,000 J / m 2, and the liquid crystal cell of the dose of 100,000 J / m 2.

[전압 보전율의 평가][Evaluation of Voltage Conservation Rate]

상기에서 제조한 각 액정 셀에 대하여, 23℃에서 5V의 전압을 60마이크로초의 인가 시간, 167밀리초의 스팬으로 인가한 후, 인가 해제로부터 167밀리초 후의 전압 보전율을 측정했다. 측정 장치로서는 (주)토요테크니카 제조, VHR-1을 사용했다.For each of the liquid crystal cells prepared above, a voltage of 5 V was applied at 23 DEG C for an application time of 60 microseconds and a span of 167 milliseconds, and the voltage maintenance ratio after 167 milliseconds from the application of the release voltage was measured. As the measuring device, VHR-1 manufactured by Toyotecnica Co., Ltd. was used.

조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀의 각각의 전압 보전율을 하기 표 2에 나타낸다.Table 2 shows the voltage holding ratios of the liquid crystal cell having a dose of 10,000 J / m 2 and the liquid crystal cell having a dose of 100,000 J / m 2.

Figure pat00006
Figure pat00006

[패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조][Production of liquid crystal cell having patterned transparent electrode]

상기에서 조제한 액정 배향제를, 도 1에 나타낸 바와 같은 슬릿 형상으로 패터닝되고, 복수의 영역에 구획된 ITO 전극을 각각 갖는 유리 기판 2매의 각 전극면 상에 액정 배향막 인쇄기(닛폰 샤신인사츠(주) 제조)를 이용하여 도포하고, 80℃의 핫 플레이트 상에서 1분간 가열(프리베이킹)하여 용매를 제거했다. 이어서, 150℃의 핫 플레이트 상에서 10분간 가열(포스트베이킹)하여, 평균 막두께 600Å의 도막을 형성했다. 이 도막에 대해, 초순수 중에서 1분간 초음파 세정을 행한 후, 100℃의 클린 오븐 중에서 10분간 건조함으로써, 액정 배향막을 갖는 기판을 얻었다. 이 조작을 반복하여, 액정 배향막을 갖는 기판을 한 쌍(2매) 얻었다.The liquid crystal aligning agent prepared in the above was patterned in a slit shape as shown in Fig. 1, and on each electrode surface of two glass substrates each having ITO electrodes partitioned into a plurality of regions, a liquid crystal alignment film printing machine (Nippon Sha Shin Insetsu Ltd.) and heated on a hot plate at 80 ° C for 1 minute (prebaking) to remove the solvent. Subsequently, the film was heated (post baking) on a hot plate at 150 DEG C for 10 minutes to form a coating film having an average film thickness of 600 ANGSTROM. This coating film was ultrasonically cleaned in ultrapure water for 1 minute and then dried in a 100 ° C clean oven for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated to obtain a pair of substrates (two substrates) each having a liquid crystal alignment film.

이어서, 상기 한 쌍의 기판 중 1매의 기판에 대해, 액정 배향막을 갖는 면의 외연에 직경 5.5㎛의 산화 알루미늄구 함유 에폭시 수지 접착제를 도포한 후, 한 쌍의 기판을 액정 배향막면이 상대하도록 겹쳐 맞추고 압착하여, 접착제를 경화했다. 이어서, 액정 주입구로부터 한 쌍의 기판 간에, 상기에서 조제한 액정 조성물 LC1을 충전한 후, 아크릴계 광경화 접착제로 액정 주입구를 봉지함으로써, 액정 셀을 제조했다.Subsequently, with respect to one of the pair of substrates, an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 mu m was applied to the outer edge of the surface having the liquid crystal alignment film, and then the liquid crystal alignment film surface was opposed to the pair of substrates They were superimposed and pressed to cure the adhesive. Subsequently, the liquid crystal composition LC1 prepared above was charged between a pair of substrates from the liquid crystal injection port, and then a liquid crystal injection hole was sealed with an acrylic photo-curable adhesive to produce a liquid crystal cell.

상기의 조작을 반복하여 행하여, 패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀을 3개 제조했다. 그 중의 1개는 그대로 후술의 응답 속도의 평가에 제공했다. 나머지 2개의 액정 셀에 대해서는, 상기 패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조에 있어서의 것과 동일한 방법에 의해, 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 10,000J/㎡ 또는 100,000J/㎡의 조사량으로 광조사한 후에 응답 속도의 평가에 제공했다. 또한, 여기에서 이용한 전극의 패턴은, PSA 모드에 있어서의 전극 패턴과 동종의 패턴이다.The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having patterned transparent electrodes. One of them provided the evaluation of the response speed as described below. The remaining two liquid crystal cells were irradiated with light at an irradiation dose of 10,000 J / m &lt; 2 &gt; or 100,000 J / m &lt; 2 &gt; under a voltage applied between the conductive films by the same method as in the production of the liquid crystal cell having the patternless transparent electrode. After the investigation, it was provided to the evaluation of the response speed. The electrode pattern used here is a pattern similar to the electrode pattern in the PSA mode.

[응답 속도의 평가][Evaluation of response speed]

상기에서 제조한 각 액정 셀을 크로스 니콜 상태로 배치한 2매의 편광판으로 협지한 후에, 우선 전압을 인가하지 않고 가시광 램프를 조사하여 액정 셀을 투과한 빛의 휘도를 포토 멀티 미터로 측정하고, 이 값을 상대 투과율 0%로 했다. 다음으로, 액정 셀의 전극 간에 교류 10V를 5초간 인가했을 때의 투과율을 상기와 동일하게 하여 측정하고, 이 값을 상대 투과율 100%로 했다. 각 액정 셀에 대하여 교류 10V를 인가했을 때에, 상대 투과율이 10%에서 90%로 이행할 때까지의 시간을 측정하고, 이 시간을 응답 속도라고 정의하여 평가했다. 광미조사의 액정 셀, 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀의 각각의 응답 속도를 상기 표 2에 나타낸다.After sandwiching each of the liquid crystal cells prepared above with two polarizing plates arranged in a cross-Nicol state, a visible light lamp was irradiated without applying a voltage first, and the luminance of light transmitted through the liquid crystal cell was measured by a photomulti meter, This value was regarded as 0% relative transmittance. Next, the transmittance when an AC voltage of 10 V was applied for 5 seconds between the electrodes of the liquid crystal cell was measured in the same manner as described above, and the relative transmittance was 100%. When 10 V of AC was applied to each liquid crystal cell, the time from when the relative transmittance was changed from 10% to 90% was measured, and this time was defined as a response speed. Table 2 shows the response speeds of the liquid crystal cell of the tail lamp, the liquid crystal cell of the dose of 10,000 J / m 2 and the liquid crystal cell of the dose of 100,000 J / m 2.

[실시예 2][Example 2]

화합물 (A)로서 상기 합성예 P2에서 얻은 폴리이미드 (P-2)를 이용한 점 이외는 실시예 1과 동일한 조작을 행함으로써 액정 배향제를 조제했다. 또한, 이 액정 배향제를 이용하여 실시예 1과 동일하게 하여 각종 평가를 행했다. 평가 결과를 상기표 2에 나타낸다.A liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Example 1 except that the polyimide (P-2) obtained in Synthesis Example P2 was used as the compound (A). Various evaluations were made in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.

[실시예 3][Example 3]

상기 합성예 P3에서 얻은 폴리이미드 (P-3)을 함유하는 용액에, 유기 용매로서 NMP 및 BC를 더하고, 추가로 화합물 (A)로서 벤조페논을, 폴리이미드 (P-3) 80중량부에 대하여 5중량부(폴리이미드 (P-3) 100중량부에 대하여 6.25중량부) 더하여, 용매 조성이 NMP:BC=50:50(중량비), 고형분 농도 6.0중량%의 용액으로 했다. 이 용액을 공경 1㎛의 필터를 이용하여 여과함으로써, 액정 배향제를 조제했다. 또한, 이 액정 배향제를 이용하여, 실시예 1과 동일하게 하여 각종 평가를 행했다. 평가 결과를 상기 표 2에 나타낸다.NMP and BC as organic solvents were added to a solution containing polyimide (P-3) obtained in Synthesis Example P3 and benzophenone was further added as a compound (A) to 80 weight parts of polyimide (P-3) (6.25 parts by weight based on 100 parts by weight of polyimide (P-3)) was added to the solution, to obtain a solution having a solvent composition of NMP: BC = 50:50 (weight ratio) and a solid concentration of 6.0% by weight. This solution was filtered using a filter having a pore size of 1 탆 to prepare a liquid crystal aligning agent. Various evaluations were made in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.

[실시예 4][Example 4]

상기 합성예 P3에서 얻은 폴리이미드 (P-3)을 함유하는 용액에, 유기 용매로서 NMP 및 BC를 더하고, 추가로 화합물 (A)로서 상기 합성예 S1에서 얻은 폴리오르가노실록산 (S-1)을, 폴리이미드 (P-3) 95중량부에 대하여 5중량부 더하여, 용매 조성이 NMP:BC=50:50(중량비), 고형분 농도 6.0중량%의 용액으로 했다. 이 용액을 공경 1㎛의 필터를 이용하여 여과함으로써 액정 배향제를 조제했다. 또한, 이 액정 배향제를 이용하여, 실시예 1과 동일하게 하여 각종 평가를 행했다. 평가 결과를 상기 표 2에 나타낸다.NMP and BC were added as organic solvents to the solution containing polyimide (P-3) obtained in Synthesis Example P3 and the polyorganosiloxane (S-1) obtained in Synthesis Example S1 as Compound (A) 5 parts by weight based on 95 parts by weight of the polyimide (P-3) were added to prepare a solution having a solvent composition of NMP: BC = 50: 50 (weight ratio) and a solid concentration of 6.0% by weight. This solution was filtered using a filter having a pore size of 1 탆 to prepare a liquid crystal aligning agent. Various evaluations were made in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.

[실시예 5][Example 5]

상기 실시예 4에 있어서, 폴리오르가노실록산 (S-1)을 대신하여 폴리오르가노실록산 (S-2)를 사용한 이외는 실시예 4와 동일한 조작을 행함으로써 액정 배향제를 조제했다. 또한, 이 액정 배향제를 이용하여, 실시예 1과 동일하게 하여 각종 평가를 행했다. 평가 결과를 상기 표 2에 나타낸다.A liquid crystal aligning agent was prepared in the same manner as in Example 4, except that the polyorganosiloxane (S-2) was used instead of the polyorganosiloxane (S-1). Various evaluations were made in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.

[비교예 1][Comparative Example 1]

상기 실시예 1에 있어서, 폴리이미드 (P-1)을 함유하는 용액 대신에 상기 합성예 P3에서 얻은 폴리이미드 (P-3)을 함유하는 용액을 이용한 것 외에는 실시예 1과 동일한 조작을 행함으로써 액정 배향제를 조제했다. 또한, 이 액정 배향제를 이용하여, 실시예 1과 동일하게 하여 각종 평가를 행했다. 평가 결과를 상기 표 2에 나타낸다.The procedure of Example 1 was repeated except that the solution containing polyimide (P-3) obtained in Synthesis Example P3 was used instead of the solution containing polyimide (P-1) To prepare a liquid crystal aligning agent. Various evaluations were made in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.

표 2에 나타내는 바와 같이, 실시예 1∼5에서는, 액정 셀에 대한 자외선 조사 후에 있어서 높은 전압 보전율을 유지하고 있으며, 응답 속도도 양호했다. 또한, 실시예 1∼5에서는, 10,000J/㎡의 광조사량으로 적정한 프리틸트각을 나타냈다. 또한, 적은 광조사량이라도 충분히 빠른 응답 속도가 얻어지고 있으며, 전압 보전율도 양호했다. 특히, 액정으로서 알케닐계 액정을 이용한 경우, 자외선 조사에 의한 전압 보전율의 저하가 커지는 경향에 있지만, 실시예 1∼5에서는, 자외선 조사 후에 있어서도 높은 전압 보전율을 나타냈다. 또한, 액정 배향제의 인쇄성 및 막 균일성도 양호했다. 이들 결과로부터, 본 발명의 액정 배향제에 의하면, PSA 모드의 장점을 적은 광조사량으로 발현할 수 있다고 말할 수 있다. 이에 대하여, 비교예 1에서는, 10,000J/㎡의 광조사량으로는 적정한 프리틸트각을 나타내지 않았다. 또한, 자외선 조사에 의한 전압 보전율의 저하가 현저하게 나타났다.As shown in Table 2, in Examples 1 to 5, a high voltage holding ratio was maintained after ultraviolet irradiation of the liquid crystal cell, and the response speed was also good. In Examples 1 to 5, a suitable pre-tilt angle was shown at a light irradiation dose of 10,000 J / m &lt; 2 &gt;. In addition, a sufficiently fast response speed was obtained even with a small irradiation dose, and the voltage maintenance rate was also good. Particularly, when an alkenyl-based liquid crystal is used as a liquid crystal, a decrease in the voltage holding ratio due to ultraviolet irradiation tends to increase. In Examples 1 to 5, however, a high voltage holding ratio was exhibited even after ultraviolet irradiation. In addition, the printability and film uniformity of the liquid crystal aligning agent were also good. From these results, it can be said that according to the liquid crystal aligning agent of the present invention, the advantage of the PSA mode can be manifested at a light irradiation amount which is small. On the other hand, in Comparative Example 1, a proper pretilt angle was not exhibited at a light irradiation dose of 10,000 J / m 2. Also, the decrease in the voltage holding ratio due to ultraviolet irradiation was remarkable.

실시예 1∼5에서 사용한 액정 배향제의 각각에 대해서, 유리 기판 상의 ITO전극의 패턴을 도 2 및 도 3의 전극 패턴에 각각 변경한 것 외에는 상기 실시예 1과 동일하게 하여 액정 셀을 제조함과 함께 각종 평가를 행했다. 이 경우에도, 실시예 1∼5와 각각 동일한 효과를 나타냈다.A liquid crystal cell was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the pattern of the ITO electrode on the glass substrate was changed to the electrode pattern of Fig. 2 and Fig. 3, respectively, with respect to each of the liquid crystal aligning agents used in Examples 1 to 5 And various evaluations were conducted. Even in this case, the same effects as those of Examples 1 to 5 were obtained.

1 : ITO전극
2 : 슬릿부
3 : 차광막
1: ITO electrode
2:
3:

Claims (9)

광조사에 의해 라디칼을 발생하는 라디칼 발생 기능 및 광조사에 의해 증감 작용을 나타내는 광증감 기능 중 적어도 어느 기능을 발현 가능한 구조 (a)를 갖는 화합물 (A)를 함유하는, PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제.(A) having a structure (a) capable of exhibiting at least any one of a radical generating function of generating a radical by light irradiation and a photosensitizing function exhibiting a depressing action by light irradiation, and a PSA mode liquid crystal display element Liquid crystal aligning agent. 제1항에 있어서,
상기 화합물 (A)가, 상기 구조 (a)를 측쇄에 갖는 중합체인, PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제.
The method according to claim 1,
The liquid crystal aligning agent for a PSA mode liquid crystal display element wherein the compound (A) is a polymer having the structure (a) in the side chain.
제1항에 있어서,
상기 화합물 (A)가, 폴리암산, 폴리이미드, 폴리암산 에스테르 및 폴리오르가노실록산으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체인, PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제.
The method according to claim 1,
Wherein the compound (A) is at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester and polyorganosiloxane.
제1항에 있어서,
상기 화합물 (A)가, 상기 구조 (a)로서, 적어도 상기 광증감 기능을 발현 가능한 구조를 갖는, PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제.
The method according to claim 1,
The liquid crystal aligning agent for a PSA mode liquid crystal display element wherein the compound (A) has, as the structure (a), at least a structure capable of exhibiting the photosensitizing function.
제1항에 있어서,
알케닐기 및 플루오로알케닐기 중 어느 하나를 갖는 단관능성의 액정성 화합물을 액정층에 포함하는 액정 표시 소자의 제조용인, PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향제.
The method according to claim 1,
Wherein the liquid crystal layer contains a monofunctional liquid crystal compound having one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group in the liquid crystal layer.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 액정 배향제를, 도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에 각각 도포하고, 이어서 이것을 가열하여 도막을 형성하는 제1 공정과,
상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판을, 액정성 화합물을 포함하는 액정층을 개재하여 상기 도막이 상대하도록 대향 배치하여 액정 셀을 구축하는 제2 공정과,
상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 간에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사하는 제3 공정
을 포함하는 액정 표시 소자의 제조 방법.
A first step of applying the liquid crystal aligning agent according to any one of claims 1 to 5 onto each of the conductive films of a pair of substrates having a conductive film and then heating them to form a coated film,
A second step of constructing a liquid crystal cell by arranging a pair of substrates on which the coating film is formed so as to face each other with the liquid crystal layer containing a liquid crystal compound interposed therebetween,
A third step of irradiating the liquid crystal cell with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates
Wherein the liquid crystal display element is a liquid crystal display element.
제6항에 있어서,
상기 액정층에, 상기 액정성 화합물로서, 알케닐기 및 플루오로알케닐기 중 어느 하나를 갖는 단관능성의 액정성 화합물을 함유시키는, 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Wherein the liquid crystal layer contains a monofunctional liquid crystal compound having any one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group as the liquid crystal compound.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 액정 배향제를 이용하여 형성된, PSA 모드 액정 표시 소자용 액정 배향막.A liquid crystal alignment film for a PSA mode liquid crystal display element formed using the liquid crystal aligning agent according to any one of claims 1 to 5. 제8항에 기재된 액정 배향막을 갖는, PSA 모드 액정 표시 소자.9. A PSA mode liquid crystal display element having the liquid crystal alignment film according to claim 8.
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