KR20140087812A - Substrate Alignment Apparatus and Load Lock Chamber with the Same - Google Patents

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KR20140087812A
KR20140087812A KR1020120158490A KR20120158490A KR20140087812A KR 20140087812 A KR20140087812 A KR 20140087812A KR 1020120158490 A KR1020120158490 A KR 1020120158490A KR 20120158490 A KR20120158490 A KR 20120158490A KR 20140087812 A KR20140087812 A KR 20140087812A
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Abstract

The present invention provides a substrate alignment apparatus comprises: a first aligner having two sides of a substrate in the X direction aligned in the X direction; a second aligner having two sides of the substrate in the Y direction aligned in the Y direction, wherein at least one between the first and second aligners is installed to be rotatable on the sides of the substrate; and multiple align pins coming in contact with or spaced apart from the sides of the substrate depending on the rotational direction by a drive unit; and a load lock chamber including the same.

Description

기판 정렬장치 및 이를 포함하는 로드락챔버 {Substrate Alignment Apparatus and Load Lock Chamber with the Same}[0001] The present invention relates to a substrate aligning apparatus and a load lock chamber including the substrate aligning apparatus.

본 발명은 기판 지지수단 위에 놓인 기판을 정렬하는 장치 및 이를 포함하는 로드락챔버(load lock chamber)에 관한 것이다.The present invention relates to a device for aligning a substrate placed on a substrate support means and a load lock chamber comprising the same.

일반적으로, 액정디스플레이(Liquid Crystal Display；LCD), 유기발광다이오드(Organic Light Emitting Diode；OLED) 등 평판디스플레이(Flat Panel Display；FPD)를 제조하는 데 사용되는 장비는, 위에 기판이 놓이는 기판 지지수단, 기판 지지수단에 놓인 기판의 위치를 정렬하는 기판 정렬장치를 포함한다.In general, equipment used for manufacturing a flat panel display (FPD), such as a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting diode (OLED) And a substrate alignment device for aligning the position of the substrate placed on the substrate support means.

여기에서, 기판 정렬장치는 평판디스플레이(FPD)를 제조하는 데 사용되는 대부분의 장비에 모두 동일 또는 유사하게 적용 가능한 것이지만, 이하에서는 이러한 기판 정렬장치에 대하여 로드락챔버에 적용된 것을 중심으로 살펴보기로 한다.Herein, although the substrate alignment apparatus is applicable to most of the equipments used for manufacturing the flat panel display (FPD) in the same or similar manner, the following description will focus on the substrate alignment apparatus applied to the load lock chamber do.

로드락챔버는 공정챔버(process chamber), 반송챔버(transfer chamber)와 함께 평판디스플레이 제조장비를 구성한다. 공정챔버는 고온, 진공 상태에서 기판을 처리하기 위한 공정을 행한다. 로드락챔버는 대기압 상태와 진공 상태를 번갈아 조성하면서 외부로부터 반입되는 미처리 기판을 보관하거나 공정챔버에서 처리된 기판을 외부로 반출한다. 반송챔버는 공정챔버와 로드락챔버 사이에 설치되며 반송로봇에 의하여 미처리 기판을 로드락챔버에서 공정챔버로, 처리된 기판을 공정챔버에서 로드락챔버로 운반한다.The load lock chamber together with a process chamber and a transfer chamber constitute the flat panel display manufacturing equipment. The process chamber performs a process for processing the substrate in a high-temperature, vacuum state. The load lock chamber alternately forms an atmospheric pressure state and a vacuum state, and stores untreated substrates carried from the outside, or takes out substrates processed in the process chamber to the outside. The transfer chamber is installed between the process chamber and the load lock chamber and transports the unprocessed substrate from the load lock chamber to the process chamber by the transfer robot and transfers the processed substrate from the process chamber to the load lock chamber.

도 1은 일반적인 로드락챔버를 위에서 내려다 본 구성도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 is a schematic view of a typical load lock chamber from above.

도 1에 도시된 바와 같이, 평판디스플레이 제조장비의 로드락챔버는, 내부에 기판 보관공간이 마련된 챔버 바디(20), 기판 보관공간의 바닥에 세워져 기판 보관공간에 반입된 기판(10)(이하, 도면부호의 병기는 생략한다.)을 하측에서 지지하는 복수의 지지핀으로 구성된 기판 지지수단, 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 위치를 정렬하는 기판 정렬장치(도면부호 40, 50 참조)를 포함한다.1, the load lock chamber of the flat panel display manufacturing equipment includes a chamber body 20 provided with a substrate storage space therein, a substrate 10 mounted on the bottom of the substrate storage space and loaded into the substrate storage space (Refer to reference numeral 40 and 50) for aligning the position of the substrate placed on the substrate supporting means, and a substrate holding means for holding the substrate held by the substrate holding means .

기판 정렬장치는 사각형의 구조를 갖는 기판의 서로 대향하는 X축방향 두 변(12)을 X축방향으로, 기판의 서로 대향하는 Y축방향 두 변(14)을 Y축방향으로 각각 정렬하는 제1얼라이너(first aligner)(40), 제2얼라이너(second aligner)(50)로 구성된다.The substrate aligning apparatus includes a substrate aligning unit 12 for aligning two opposing sides 12 in the X axis direction of the substrate having a rectangular structure in the X axis direction and two sides 14 in the Y axis direction of the substrate facing each other in the Y axis direction A first aligner 40, and a second aligner 50. The first aligner 40 and the second aligner 50 are the same.

제1얼라이너(40)는, X축방향 두 변(12) 측에 각각 단수 또는 복수 개씩 배치되고 챔버 바디(20)의 양쪽 측벽에 각각 Y축방향으로 이동 가능하게 장착되어 이동방향에 따라 X축방향 두 변(12)에 접촉되거나 이격되면서 기판을 정렬하는 제1얼라인블록(41), 제1얼라인블록(41)을 각각 이동시키는 제1구동유닛(42)을 포함한다.The first aligner 40 is mounted on the side walls of the chamber body 20 so as to be movable in the Y axis direction and is disposed in the X axis direction on either side of the two sides 12, And a first driving unit 42 for moving the first alignment block 41 and the first alignment block 41, respectively, which align the substrates while being in contact with or spaced from the two axially opposite sides 12.

제2얼라이너(50)는, Y축방향 두 변(14) 측에 각각 단수 또는 복수 개씩 배치되며 챔버 바디(20)의 양쪽 측벽에 각각 X축방향으로 이동 가능하게 장착되어 이동방향에 따라 Y축방향 두 변(14)에 접촉되거나 이격되면서 기판을 정렬하는 제2얼라인블록(51), 제2얼라인블록(51)을 각각 이동시키는 제2구동유닛(52)을 포함한다.The second aligner 50 is disposed on each of the two sides 14 in the Y-axis direction and is mounted on both side walls of the chamber body 20 so as to be movable in the X-axis direction, And a second drive unit 52 for moving the second alignment block 51 and the second alignment block 51, respectively, which align the substrate while being in contact with or spaced from the axially opposite sides 14.

이와 같은 기판 정렬장치는 각 얼라인블록(41, 51)이 구동유닛(42, 52)에 의하여 개별적으로 구동되므로 구조가 복잡하고 그만큼 제조원가가 높다. 점차적으로 기판이 대면적화됨에 따라 기판을 정렬하는 데 보다 많은 수량의 얼라이너(40, 50)가 요구되고 있다는 점, 구동유닛(42, 52)이 챔버 바디(20)의 외부에서 얼라인블록(41, 51)과 연결되므로 챔버 바디(20)와 얼라이너(40, 50) 사이에 기판 보관공간을 진공 상태로 유지하는 벨로우즈(bellows)를 구비하여야 한다는 점 등을 고려할 때, 기판 정렬장치는 구조가 더욱 복잡해지고 제조원가가 더욱 상승될 수밖에 없다.In such a substrate aligning apparatus, since each of the alignment blocks 41 and 51 is individually driven by the drive units 42 and 52, the structure is complicated and the manufacturing cost is accordingly high. A greater number of aligners 40 and 50 are required to align the substrate as the substrate is progressively larger and the drive units 42 and 52 are moved from the outside of the chamber body 20 to the alignment block The substrate aligning device may include a bellows for holding the substrate storage space in a vacuum state between the chamber body 20 and the aligners 40 and 50. [ And the manufacturing cost is further increased.

기판 정렬장치의 구조 단순화, 제조원가 절감을 위하여, 얼라인블록(41, 51)을 링크(link)에 의하여 축방향별로 연동시켜서 축방향별로 동시에 구동시킬 수 있다. 제2얼라이너(50)의 경우, Y축방향 두 변(14) 중 어느 한쪽 변 측에 배치된 제2얼라인블록(51)들을 링크로 서로 연결하고, Y축방향 두 변(14) 중 다른 쪽 변 측에 배치된 제2얼라인블록(51)들을 링크로 서로 연결함으로써, 연동되는 제2얼라인블록(51)을 각각 하나의 구동유닛(52)으로 구동시킬 수 있다.In order to simplify the structure of the substrate aligning apparatus and to reduce the manufacturing cost, the alignment blocks 41 and 51 can be driven in the axial direction simultaneously by linking them in the axial direction. In the case of the second aligner 50, the second alignment blocks 51 disposed on either one of the two sides 14 in the Y-axis direction are connected to each other by a link, and two of the two sides 14 in the Y- The second alignment blocks 51 that are interlocked with each other can be driven by one drive unit 52 by connecting the second alignment blocks 51 arranged on the other side with the links.

이와 같은 연동구조를 이용하면 구비하여야 하는 구동유닛(42, 52)의 개수를 줄일 수가 있다. 그러나, 제2얼라이너(50)와 같이 연동시켜야 하는 얼라인블록들이 기판을 사이에 두고 양쪽에 배치된 경우에는 양쪽 얼라인블록 중 어느 하나에 구동유닛을 연결시켜야 하기 때문에, 구동유닛의 동력이 구동유닛에 연결된 얼라인블록에 더 집중되기 마련되고, 이에 따라 양쪽 얼라인블록의 이동거리에 편차가 발생되거나 이동과정에서 출렁거림이 발생될 소지가 크다는 문제가 있다.By using such an interlocking structure, the number of drive units 42, 52 to be provided can be reduced. However, in the case where the alignment blocks to be interlocked with the second aligner 50 are disposed on both sides with the substrate interposed therebetween, since the drive units must be connected to either one of the two alignment blocks, There is a problem in that the movement distance of the two alignment blocks is varied or the swinging motion is likely to occur in the movement process.

본 발명의 목적은 기판 정렬구조를 단순화할 수 있으며 한층 안정감 있고 향상된 작동성을 기대할 수 있는 기판 정렬장치 및 이를 포함하는 로드락챔버를 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to provide a substrate alignment apparatus and a load lock chamber including the substrate alignment apparatus which can simplify the substrate alignment structure and can achieve a more stable and improved operability.

본 발명이 해결하려는 과제는 위 과제에 제한되지 않고, 언급되지 않은 기타 과제들은 통상의 기술자(본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자)라면 아래의 기재로부터 명확하게 이해할 수 있을 것이다.The problems to be solved by the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other matters not mentioned can be clearly understood from the following description if they are common knowledge (those skilled in the art to which the present invention belongs).

본 발명의 실시예에 따르면, 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 대향하는 X축방향 두 변에 각각 접촉, 이격되면서 상기 기판을 X축방향으로 정렬하는 제1얼라이너와; 상기 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 대향하는 Y축방향 두 변에 각각 접촉, 이격되면서 상기 기판을 Y축방향으로 정렬하여 상기 제1얼라이너와 함께 상기 기판의 위치를 정렬하는 제2얼라이너를 포함하고, 상기 제1과 상기 제2의 두 얼라이너 중 적어도 어느 하나는, 상기 기판의 정렬 시 접촉하는 해당 두 변 측에 각각 회전 가능하게 설치되며 회전방향에 따라 상기 해당 두 변에 접촉되거나 이격되는 복수의 얼라인핀을 갖춘 얼라인블록과; 상기 얼라인블록을 회전시키는 구동유닛을 포함하는 기판 정렬장치가 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a liquid crystal display comprising: a first aligner for aligning the substrate in the X-axis direction while being in contact with two opposing sides in the X-axis direction of the substrate placed on the substrate holding means; And a second aligner for aligning the substrate with the first aligner by aligning the substrate in the Y-axis direction while being in contact with and separating from the opposite sides of the substrate placed on the substrate support means, Wherein at least one of the first and second aligners is rotatably provided on respective two sides of the substrate in contact with each other when the substrate is aligned, An alignment block having an alignment pin; There is provided a substrate alignment apparatus including a drive unit for rotating the alignment block.

상기 얼라인블록은, 상기 해당 두 변 측에 각각 상기 기판의 정렬 시 정렬하는 해당 축방향과 나란하도록 배치된 회전축과; 상기 회전축의 둘레로부터 돌출되고 상기 회전축의 길이방향을 따라 일렬로 서로 이격되도록 배치되어 상기 회전축의 회전방향에 따라 상기 해당 두 변에 접촉되거나 이격되는 상기 복수의 얼라인핀을 포함할 수 있다.Wherein the alignment block includes: a rotation axis disposed parallel to the corresponding two sides of the substrate; And a plurality of the alignment pins protruding from the periphery of the rotation axis and spaced from each other in a row along the longitudinal direction of the rotation axis and contacting or spacing from the two sides along the rotation direction of the rotation axis.

상기 얼라인핀은 상기 해당 두 변과 접촉 시 구름운동 가능한 접촉롤러를 포함할 수 있다.The alignment pin may include a contact roller capable of rolling upon contact with the two sides.

상기 기판 지지수단은 챔버를 구성하는 챔버 바디의 내부에 구비되고, 상기 회전축은 상기 챔버 바디의 내부에서 상기 챔버 바디의 측벽에 양단 부분이 축 지지부재에 의하여 회전 가능하게 장착되며, 상기 구동유닛은 상기 챔버 바디의 외부에서 상기 회전축에 연결되어 동력을 제공할 수 있다.Wherein the substrate supporting means is provided inside a chamber body constituting a chamber, both ends of which are rotatably mounted on a side wall of the chamber body inside the chamber body by a shaft supporting member, And is connected to the rotation shaft at the outside of the chamber body to provide power.

상기 축 지지부재는 상기 회전축과 상기 챔버 바디 사이에 개재되어 상기 회전축과 상기 챔버 바디 사이의 기밀을 유지하는 립 씰(lip seal) 또는 자성유체 씰(magnetic fluid seal)로 구성될 수 있다.The shaft support member may be a lip seal or a magnetic fluid seal interposed between the rotation shaft and the chamber body to maintain airtightness between the rotation axis and the chamber body.

본 발명의 실시예에 따르면, 내부에 기판을 보관하기 위한 기판 보관공간이 마련된 챔버 바디와; 상기 기판 보관공간에 구비되며 위에 기판이 놓이는 기판 지지수단과; 상기 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 대향하는 X축방향 두 변에 각각 접촉, 이격되면서 상기 기판을 X축방향으로 정렬하는 제1얼라이너와; 상기 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 대향하는 Y축방향 두 변에 각각 접촉, 이격되면서 상기 기판을 Y축방향으로 정렬하여 상기 제1얼라이너와 함께 상기 기판의 위치를 정렬하는 제2얼라이너를 포함하고, 상기 제2얼라이너는, 상기 Y축방향 두 변 측에 각각 회전 가능하게 설치되어 회전되는 방향에 따라 상기 Y축방향 두 변에 접촉되거나 이격되는 제2얼라인블록과; 상기 제2얼라인블록을 회전시키는 제2구동유닛을 포함하는 로드락챔버가 제공된다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus comprising: a chamber body having a substrate storage space for storing a substrate therein; A substrate holding unit provided in the substrate storage space and on which the substrate is placed; A first aligner for aligning the substrate in the X-axis direction while being in contact with two opposing sides in the X-axis direction of the substrate placed on the substrate holding means; And a second aligner for aligning the substrate with the first aligner by aligning the substrate in the Y-axis direction while being in contact with and separating from the opposite sides of the substrate placed on the substrate support means, The second aligner may include a second aligning block which is rotatably installed on two sides of the Y-axis direction and is in contact with or spaced from the two sides in the Y-axis direction according to a rotating direction; And a second drive unit for rotating the second alignment block.

여기에서, 상기 챔버 바디는 Y축방향 양쪽 측벽에 기판 출입구가 각각 마련되고, 상기 제1얼라이너는, 상기 X축방향 두 변에 각각 접촉, 이격 가능하도록 상기 챔버 바디의 X축방향 양쪽 측벽에 Y축방향으로 이동 가능하게 장착된 제1얼라인블록과; 상기 제1얼라인블록을 이동시키는 제1구동유닛을 포함하며, 상기 제2얼라인블록은, 상기 Y축방향 두 변 측에 각각 Y축방향과 나란하도록 배치되고 상기 챔버 바디의 X축방향 양쪽 측벽에 양단 부분이 축 지지부재에 회전 가능하게 장착된 회전축과; 상기 회전축의 둘레로부터 돌출되어 상기 회전축의 회전방향에 따라 상기 Y축방향 두 변에 접촉되거나 이격되는 제2얼라인핀을 포함할 수 있다.Here, the chamber body is provided with a substrate entrance port on both side walls in the Y axis direction, and the first aligner is provided with Y (Y) on both side walls in the X axis direction of the chamber body, A first aligning block movably mounted in an axial direction; Axis direction of the chamber body, and a first driving unit for moving the first alignment block, wherein the second alignment block is disposed on both sides of the Y-axis direction in parallel with the Y- A rotating shaft on both side walls of which both end portions are rotatably mounted on the shaft supporting member; And a second aligning pin protruding from the periphery of the rotation axis and contacting or spacing the two sides in the Y-axis direction along the rotation direction of the rotation axis.

위 같은 본 발명의 주요한 과제의 해결 수단은 이하에서 설명하는 실시예(발명을 실시하기 위한 구체적인 내용)나 도면 등을 통하여 보다 구체적이고 명확하게 될 것이고, 나아가서는 위 같은 본 발명의 주요한 과제의 해결 수단 이외에도 다양한 과제의 해결 수단이 이하에서 추가로 제시될 것이다.The above and other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of the present invention when taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: Means for solving various problems besides the means will be further presented below.

본 발명에 따르면, 기판 정렬을 위한 작동에 상대적으로 적은 수량의 구동유닛이 요구됨에 따라 기판 정렬구조를 단순화할 수 있고 제조원가를 절감할 수 있다는 이점이 있다.According to the present invention, there is an advantage that a substrate alignment structure can be simplified and manufacturing cost can be reduced as a relatively small number of driving units are required for operation for substrate alignment.

또한, 기판 정렬을 위한 작동이 정확하고 부드럽게 이루어지는 등 작동에 전반적으로 안정감이 있기 때문에, 기판 정렬의 신뢰성을 대폭 향상시킬 수 있다.In addition, since the operation for substrate alignment is accurate and smooth, and the operation is generally stable, the reliability of substrate alignment can be greatly improved.

도 1은 일반적인 로드락챔버를 위에서 내려다 본 상태를 나타낸 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 기판 정렬장치가 적용된 로드락챔버를 위에서 내려다 본 상태를 나타낸 구성도이다.
도 3은 도 2에 도시된 제2얼라이너를 앞에서 본 상태를 나타낸 구성도이다.1 is a schematic view showing a general load lock chamber viewed from above.
FIG. 2 is a view illustrating a load lock chamber to which the substrate aligning apparatus according to the present invention is applied.
FIG. 3 is a configuration diagram showing the second aligner shown in FIG. 2 from the front.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다. 참고로, 본 발명을 설명하는 데 참조하는 도면에 도시된 구성요소의 크기, 선의 두께 등은 이해의 편의상 다소 과장되게 표현되어 있을 수 있다. 또, 본 발명의 설명에 사용되는 용어는 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의한 것이므로 사용자, 운용자 의도, 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 이 용어에 대한 정의는 본 명세서의 전반에 걸친 내용을 토대로 내리는 것이 마땅하겠다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. For the sake of convenience, the size, line thickness, and the like of the components shown in the drawings referenced in the description of the present invention may be exaggerated somewhat. The terms used in the description of the present invention are defined in consideration of the functions of the present invention, and thus may vary depending on the user, the intention of the operator, customs, and the like. Therefore, the definition of this term should be based on the contents of this specification as a whole.

본 발명에 따른 기판 정렬장치는 평판디스플레이(FPD)를 제조하는 데 있어서 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 위치 정렬을 필요로 하는 각종의 장비, 챔버 등에 모두 적용될 수 있다. 본 발명의 실시예에서는 기판 정렬장치가 로드락챔버에 적용된 것을 중심으로 살펴본다.The substrate alignment apparatus according to the present invention can be applied to various kinds of equipment, chambers, and the like that require the alignment of the substrate placed on the substrate holding means in manufacturing a flat panel display (FPD). In the embodiment of the present invention, the substrate alignment apparatus is applied to the load lock chamber.

도 2는 본 발명에 따른 기판 정렬장치가 적용된 로드락챔버를 위에서 내려다 본 상태를 나타낸 구성도이다.FIG. 2 is a view illustrating a load lock chamber to which the substrate aligning apparatus according to the present invention is applied.

도 2에 도시된 로드락챔버는 외부으로부터 반입되는 미처리 기판을 보관하거나 반송챔버를 매개로 연결된 공정챔버로부터의 기판(공정챔버에서 처리된 기판)을 외부로 반출하는 역할을 한다. 도시되지 않았으나, 이러한 로드락챔버에는 둘 이상의 공정챔버가 연결됨으로써, 이들을 포함하는 평판디스플레이 제조장비는 클러스터(cluster) 타입일 수 있다. 그러므로, 로드락챔버는 그 챔버 바디(200)의 내부가 상하 또는 좌우 두 공간 이상으로 구획되어 기판 보관공간(201)을 둘 이상 가질 수 있다.The load lock chamber shown in FIG. 2 serves to store an unprocessed substrate transferred from the outside or to take the substrate (the substrate processed in the process chamber) from the process chamber connected via the transfer chamber to the outside. Although not shown, more than two process chambers may be connected to such a load lock chamber so that the flat panel display manufacturing equipment comprising them may be of the cluster type. Therefore, the load lock chamber can have more than two substrate storage spaces 201 by dividing the inside of the chamber body 200 into two spaces above and below or right and left.

도 2에 도시된 바와 같이, 로드락챔버는 내부공간을 기판(100)(이하, 도면부호의 병기는 생략한다.)이 보관되는 기판 보관공간(201)으로 하는 챔버 바디(200)를 포함하고, 챔버 바디(200)는 서로 대향하는 Y축방향 양쪽 측벽에 기판을 반입하고 반출하기 위한 기판 출입구인 게이트 슬릿(gate slit)(202, 203)이 각각 마련되며, 양쪽 게이트 슬릿(202, 203)은 개폐기구인 게이트 밸브(204, 205)에 의하여 각각 개폐된다. 참고로, 양쪽 게이트 슬릿(202, 203) 중, 어느 하나는 대기압 영역인 외부와 연통되고, 다른 하나는 진공 영역인 반송챔버와 연결된다.2, the load lock chamber includes a chamber body 200 having a substrate storage space 201 in which an inner space is stored for a substrate 100 The chamber body 200 is provided with gate slits 202 and 203 serving as substrate entrance and exit ports for carrying in and out substrates to and from both side walls in the Y axis direction opposite to each other. The gate slits 202 and 203, Are opened and closed by gate valves 204 and 205, respectively, which are open / close mechanisms. For reference, one of the gate slits 202 and 203 is connected to the outside, which is an atmospheric pressure region, and the other is connected to a transfer chamber which is a vacuum region.

로드락챔버의 챔버 바디(200)에는 외부로부터의 미처리 기판이 양쪽 게이트 슬릿(202, 203) 중 대기압 영역과 연통된 쪽을 통하여 반입되고, 이렇게 반입되어 기판 보관공간(201)에 보관된 미처리 기판은 양쪽 게이트 슬릿(202, 203) 중 진공 영역(반송챔버)과 연결된 쪽을 통하여 반출된 후 반송챔버를 경유하여 공정챔버에 반입된다. 물론, 공정챔버에서 처리된 기판은 이와 반대과정을 거쳐서 외부로 반출된다.The unprocessed substrate from the outside is carried into the chamber body 200 of the load lock chamber through the side of the gate slits 202 and 203 communicating with the atmospheric pressure region, Is carried out through the side of the gate slits 202 and 203 connected to the vacuum region (transfer chamber), and then is transferred to the process chamber via the transfer chamber. Of course, the substrate processed in the process chamber is transported to the outside through the reverse process.

기판 보관공간(201)의 바닥에는 기판 지지수단(도 3의 도면부호 300)을 구성하는 복수의 지지핀이 서로 이격되도록 간격을 두고 세워져, 기판 보관공간(201)에 반입된 기판(미처리 기판이나 처리된 기판)은 기판 지지수단(300) 위에 놓인다.A plurality of support pins constituting the substrate holding means (reference numeral 300 in FIG. 3) are set up at intervals on the bottom of the substrate storage space 201 so as to be spaced apart from each other, Processed substrate) is placed on the substrate support means 300.

기판 지지수단(300) 위에 놓인 기판은 그 위치가 기판 정렬장치에 의하여 정렬된다.The substrate overlying the substrate support means 300 is aligned in position by the substrate alignment device.

기판 정렬장치는, 사각형의 구조를 갖는 기판의 네 변 중 서로 대향하는 X축방향 두 변(102)을 X축방향으로 정렬하는 제1얼라이너(400), 기판의 네 변 중 서로 대향하는 Y축방향 두 변(104)을 Y축방향으로 정렬하여 제1얼라이너(400)와 함께 기판의 위치를 정렬하는 제2얼라이너(500)를 포함한다.The substrate aligning apparatus includes a first aligner 400 for aligning two X-axis direction opposite sides 102 of the four sides of a substrate having a rectangular structure in the X-axis direction, a Y- And a second aligner 500 for aligning the positions of the substrate together with the first aligner 400 by aligning the two axial sides 104 in the Y-axis direction.

제1얼라이너(400)는, X축방향 두 변(102) 측에 각각 적어도 하나씩 위치되고 챔버 바디(200)의 양쪽 측벽에 각각 Y축방향으로 왕복이동 가능하게 장착되어 이동방향에 따라 X축방향 두 변(102)에 접촉되거나 이격되면서 기판을 정렬하는 제1얼라인블록(410), 제1얼라인블록(410)을 각각 이동시키는 제1구동유닛(420)을 포함한다. 제1얼라인블록(410)은 챔버 바디(200)의 양쪽 측벽에 각각 관통되고, 제1구동유닛(420)은 챔버 바디(200)의 외부에서 제1얼라인블록(410)과 연결되며 이렇게 연결된 상태로 챔버 바디(200)에 장착된다. 제1구동유닛(420)으로는 공압식이나 유압식 실런더 등의 리니어 액추에이터(linear actuator)가 적용될 수 있다.The first aligner 400 is located at least one of the two sides 102 in the X axis direction and is mounted to both side walls of the chamber body 200 so as to be reciprocally movable in the Y axis direction, And a first driving unit 420 for moving the first aligning block 410 and the first aligning block 410, respectively, which align the substrate while being in contact with or spaced from the two sides 102 of the direction. The first alignment block 410 is passed through both side walls of the chamber body 200 and the first driving unit 420 is connected to the first alignment block 410 outside the chamber body 200 And is mounted on the chamber body 200 in a connected state. As the first drive unit 420, a linear actuator such as a pneumatic type or a hydraulic type sealer may be applied.

제2얼라이너(500)는, Y축방향 두 변(104) 측에 각각 Y축방향의 축선을 기준으로 회전 가능하도록 설치되어 회전방향에 따라 Y축방향 두 변(104)에 접촉되거나 이격되면서 기판을 정렬하는 제2얼라인블록(도면부호 510 및 520 참조), 제2얼라인블록을 각각 회전시키는 제2구동유닛(540)을 포함한다.The second aligner 500 is provided so as to be rotatable about the axis in the Y axis direction on the two sides 104 in the Y axis direction and is contacted or spaced from the two sides 104 in the Y axis direction along the rotation direction A second aligning block (see reference numerals 510 and 520) for aligning the substrate, and a second driving unit 540 for rotating the second aligning block, respectively.

도 3은 제2얼라이너(500)를 앞에서 본 상태를 나타낸 구성도이다.Fig. 3 is a configuration diagram showing a state in which the second aligner 500 is viewed from the front.

도 2, 도 3을 참조하면, 각각의 제2얼라인블록은 Y축방향과 나란하도록 배치된 회전축(510), 회전축(510)의 외주면으로부터 돌출된 복수 개의 얼라인핀(520)을 포함한다.2 and 3, each of the second alignment blocks includes a rotation axis 510 arranged to be parallel to the Y axis direction, and a plurality of alignment pins 520 protruding from the outer peripheral surface of the rotation axis 510 .

여기에서, 복수 개의 얼라인핀(520)은 회전축(510) 상에 회전축(510)의 길이방향을 따라 한 줄로 서로 이격되도록 일정한 간격을 두고 배치되어 회전축(510)의 회전방향에 따라 Y축방향 변(104)에 함께 접촉되거나 이격된다.The plurality of alignment pins 520 are arranged on the rotation axis 510 at regular intervals so as to be spaced apart from each other in a line along the longitudinal direction of the rotation axis 510, The side 104 is contacted or spaced together.

얼라인핀(520)은, 회전축(510)에 연결된 핀 본체(521), 핀 본체(521)에 기판 정렬과정에서 Y축방향 변(104)과 접촉되고 이렇게 접촉 시 구름운동 가능하도록 장착된 접촉롤러(522)를 포함한다.The alignment pin 520 includes a pin body 521 connected to the rotation axis 510 and a contact member 523 which is brought into contact with the Y axis direction side 104 in the substrate alignment process to the pin body 521, And a roller 522.

기판 지지수단(300) 위에 놓인 기판의 위치를 정렬하기 위하여, 제2얼라인블록을 각각 회전시켜 Y축방향 두 변(104)에 얼라인핀(520)의 접촉롤러(522)를 접촉시키면, 기판은 이동되면서 Y축방향 두 변(104)이 Y축방향으로 정렬된다. 이 상태를 유지하고, 제1얼라인블록(410)을 각각 이동시켜 X축방향 두 변(102)에 접촉시키면, 기판은 이동되면서 X축방향 두 변(102)이 X축방향으로 정렬된다. 이 때, 제1얼라인블록(410)의 작용으로 이동되는 기판은 Y축방향 두 변(104)이 제2얼라인블록의 얼라인핀(520)과 마찰되지만 접촉롤러(522)가 마찰에 의하여 핀 본체(521)를 중심으로 회전되므로, 기판과 얼라인핀(520) 간의 마찰은 현저히 감소된다. 즉, 기판을 정렬하는 과정에서 마찰에 따른 기판의 손상을 방지할 수 있는 것이다.When the second aligning block is rotated to contact the contact roller 522 of the aligning pin 520 on both sides 104 in the Y axis direction in order to align the position of the substrate placed on the substrate supporting means 300, As the substrate moves, the two sides 104 in the Y-axis direction are aligned in the Y-axis direction. When the first alignment block 410 is moved and brought into contact with the two sides 102 in the X-axis direction while maintaining this state, the two sides 102 in the X-axis direction are aligned in the X-axis direction while the substrate is being moved. At this time, the substrate moved by the action of the first aligning block 410 has the two sides 104 in the Y-axis direction rubbing against the alignment pins 520 of the second aligning block, but the contact roller 522 The friction between the substrate and the alignment pins 520 is significantly reduced. That is, it is possible to prevent damage of the substrate due to friction in the process of aligning the substrate.

제2얼라인블록의 회전축(510)은 챔버 바디(200)의 양쪽 측벽에 각각 관통되고 이렇게 관통된 상태로 양단 부분이 축 지지부재(530)에 의하여 회전 가능하도록 지지된다. 제2구동유닛(540)은 챔버 바디(200)의 외부에서 회전축(510)의 어느 한쪽 끝 부분에 연결되며 이렇게 연결된 상태로 챔버 바디(200)에 장착된다. 제2구동유닛(54)으로는 모터 등 회전축(510)을 양방향으로 회전시킬 수 있는 구동원이 적용될 수 있다.The rotation axis 510 of the second alignment block passes through both side walls of the chamber body 200 and is supported so that both end portions of the rotation axis 510 are rotatable by the shaft supporting member 530 in such a state that they pass through. The second driving unit 540 is connected to one end of the rotary shaft 510 from the outside of the chamber body 200 and is mounted on the chamber body 200 in such a state. As the second driving unit 54, a driving source capable of rotating the rotating shaft 510 in both directions, such as a motor, may be applied.

이에 따르면, 본 발명은 양쪽 제2얼라인블록을 각각 하나의 제2구동유닛(54)으로 구동시킬 수 있으므로 구성을 단순화할 수 있고 제조원가를 절감할 수 있다.According to the present invention, since the two second alignment blocks can be driven by one second drive unit 54, it is possible to simplify the configuration and reduce the manufacturing cost.

축 지지부재(530)는 챔버 바디(200)와 회전축(510) 사이인 관통구멍에 개재되어 회전축(510)을 회전 가능하도록 지지하는 것과 동시에 기밀을 유지할 수 있는 립 씰(lip seal) 또는 자성유체 씰(magnetic fluid seal)로 구성될 수 있다. 립 씰이나 자성유체 씰 대신, 메카니컬 씰(mechanical seal)로 구성할 수도 있다.The shaft support member 530 is interposed in the through hole between the chamber body 200 and the rotation shaft 510 to support the rotation shaft 510 in a rotatable manner and at the same time a lip seal or a magnetic fluid A magnetic fluid seal. Instead of a lip seal or a magnetic fluid seal, a mechanical seal may be used.

이에 따르면, 이전과 달리, 본 발명은 벨로우즈를 이용하지 않고 상대적으로 구조가 간단한 밀봉수단(립 씰, 자성유체 씰, 메카니컬 씰)에 의하여 기판 보관공간(201)을 진공 상태로 유지할 수 있다.According to this, unlike before, the present invention can maintain the substrate storage space 201 in a vacuum state by means of relatively simple structure sealing means (lip seal, magnetic fluid seal, mechanical seal) without using a bellows.

이상, 본 발명을 설명하였으나, 본 발명은 이 명세서에 개시된 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 한정되지 않으며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 이내에서 통상의 기술자에 의하여 다양하게 변형될 수 있다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be the most practical and preferred embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and equivalent arrangements included within the spirit and scope of the invention.

예를 들면, 제1얼라이너(400)도 기판 정렬과정에서 X축방향 변(102)과 접촉 시 구름운동 가능하도록 구성된 접촉롤러를 포함할 수 있다.For example, the first aligner 400 may also include a contact roller configured to be capable of rolling upon contact with the X-axis direction side 102 in the substrate alignment process.

또한, 챔버 바디(200)와 제1얼라이너(400) 사이인 관통구멍에 대한 밀봉수단으로는 벨로우즈가 적용될 수도 있고, 벨로우즈 대신, 립 씰 또는 자성유체 씰 또는 메카니컬 씰이 적용될 수도 있다.As the sealing means for the through hole between the chamber body 200 and the first aligner 400, a bellows may be applied, and a lip seal, a magnetic fluid seal, or a mechanical seal may be applied instead of the bellows.

100 : 기판
102, 104 : 기판의 대향하는 두 변
200 : 챔버 바디
201 : 기판 보관공간
300 : 기판 지지수단
400 : 제1얼라이너
500 : 제2얼라이너
510 : 회전축
520 : 얼라인핀
522 : 접촉롤러
530 : 축 지지부재(자성유체 씰 등)
540 : 제2구동유닛100: substrate
102, 104: two opposing sides of the substrate
200: chamber body
201: Substrate storage space
300: substrate holding means
400: 1st aligner
500: 2nd aligner
510:
520: Aligned pin
522: contact roller
530: Shaft support member (magnetic fluid seal, etc.)
540: second drive unit

Claims (7)

기판 지지수단 위에 놓인 기판의 대향하는 X축방향 두 변에 각각 접촉, 이격되면서 상기 기판을 X축방향으로 정렬하는 제1얼라이너와;
상기 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 대향하는 Y축방향 두 변에 각각 접촉, 이격되면서 상기 기판을 Y축방향으로 정렬하여 상기 제1얼라이너와 함께 상기 기판의 위치를 정렬하는 제2얼라이너를 포함하고,
상기 제1과 상기 제2의 두 얼라이너 중 적어도 어느 하나는, 상기 기판의 정렬 시 접촉하는 해당 두 변 측에 각각 회전 가능하게 설치되며 회전방향에 따라 상기 해당 두 변에 접촉되거나 이격되는 복수의 얼라인핀을 갖춘 얼라인블록과; 상기 얼라인블록을 회전시키는 구동유닛을 포함하는 기판 정렬장치.A first aligner for aligning the substrate in the X-axis direction while being in contact with two opposing sides in the X-axis direction of the substrate placed on the substrate holding means;
And a second aligner for aligning the substrate with the first aligner by aligning the substrate in the Y-axis direction while being in contact with and separating from the opposite sides of the substrate placed on the substrate support means,
Wherein at least one of the first and second aligners is rotatably provided on respective two sides of the substrate in contact with each other when the substrate is aligned, An alignment block having an alignment pin; And a drive unit for rotating the alignment block. 청구항 1에 있어서, 상기 얼라인블록은,
상기 해당 두 변 측에 각각 상기 기판의 정렬 시 정렬하는 해당 축방향과 나란하도록 배치된 회전축과;
상기 회전축의 둘레로부터 돌출되고 상기 회전축의 길이방향을 따라 일렬로 서로 이격되도록 배치되어 상기 회전축의 회전방향에 따라 상기 해당 두 변에 접촉되거나 이격되는 상기 복수의 얼라인핀을 포함하는 기판 정렬장치.[2] The apparatus of claim 1,
A rotation axis disposed parallel to the corresponding axial direction of the substrate when the substrates are aligned;
And the plurality of alignment pins protruding from the periphery of the rotation axis and arranged to be spaced apart from each other in a line along the longitudinal direction of the rotation axis and being in contact with or spaced from the two sides along the rotation direction of the rotation axis. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 얼라인핀은 상기 해당 두 변과 접촉 시 구름운동 가능한 접촉롤러를 포함하는 기판 정렬장치.The method according to claim 1 or 2,
Wherein the alignment pins comprise contact rollers capable of rolling upon contact with the two sides. 청구항 2에 있어서,
상기 기판 지지수단은 챔버를 구성하는 챔버 바디의 내부에 구비되고,
상기 회전축은 상기 챔버 바디의 내부에서 상기 챔버 바디의 측벽에 양단 부분이 축 지지부재에 의하여 회전 가능하게 장착되며,
상기 구동유닛은 상기 챔버 바디의 외부에서 상기 회전축에 연결되어 동력을 제공하는 기판 정렬장치.The method of claim 2,
The substrate holding means is provided inside the chamber body constituting the chamber,
Wherein the rotation shaft is rotatably mounted on the side wall of the chamber body in the chamber body at both end portions thereof by a shaft supporting member,
Wherein the drive unit is connected to the rotational axis outside the chamber body to provide power. 청구항 4에 있어서,
상기 축 지지부재는 상기 회전축과 상기 챔버 바디 사이에 개재되어 상기 회전축과 상기 챔버 바디 사이의 기밀을 유지하는 립 씰(lip seal) 또는 자성유체 씰(magnetic fluid seal)로 구성된 기판 정렬장치.The method of claim 4,
Wherein the shaft support member comprises a lip seal or a magnetic fluid seal interposed between the rotation shaft and the chamber body to maintain airtightness between the rotation axis and the chamber body. 내부에 기판을 보관하기 위한 기판 보관공간이 마련된 챔버 바디와;
상기 기판 보관공간에 구비되며 위에 기판이 놓이는 기판 지지수단과;
상기 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 대향하는 X축방향 두 변에 각각 접촉, 이격되면서 상기 기판을 X축방향으로 정렬하는 제1얼라이너와;
상기 기판 지지수단 위에 놓인 기판의 대향하는 Y축방향 두 변에 각각 접촉, 이격되면서 상기 기판을 Y축방향으로 정렬하여 상기 제1얼라이너와 함께 상기 기판의 위치를 정렬하는 제2얼라이너를 포함하고,
상기 제2얼라이너는, 상기 Y축방향 두 변 측에 각각 회전 가능하게 설치되어 회전되는 방향에 따라 상기 Y축방향 두 변에 접촉되거나 이격되는 제2얼라인블록과; 상기 제2얼라인블록을 회전시키는 제2구동유닛을 포함하는 로드락챔버.A chamber body having a substrate storage space for storing a substrate therein;
A substrate holding unit provided in the substrate storage space and on which the substrate is placed;
A first aligner for aligning the substrate in the X-axis direction while being in contact with two opposing sides in the X-axis direction of the substrate placed on the substrate holding means;
And a second aligner for aligning the substrate with the first aligner by aligning the substrate in the Y-axis direction while being in contact with and separating from the opposite sides of the substrate placed on the substrate support means,
The second aligner may include a second aligning block which is rotatably installed on two sides of the Y-axis direction and contacts or is spaced apart from the two sides in the Y-axis direction according to a rotating direction; And a second drive unit for rotating the second alignment block. 청구항 6에 있어서,
상기 챔버 바디는 Y축방향 양쪽 측벽에 기판 출입구가 각각 마련되고,
상기 제1얼라이너는, 상기 X축방향 두 변에 각각 접촉, 이격 가능하도록 상기 챔버 바디의 X축방향 양쪽 측벽에 Y축방향으로 이동 가능하게 장착된 제1얼라인블록과; 상기 제1얼라인블록을 이동시키는 제1구동유닛을 포함하며,
상기 제2얼라인블록은, 상기 Y축방향 두 변 측에 각각 Y축방향과 나란하도록 배치되고 상기 챔버 바디의 X축방향 양쪽 측벽에 양단 부분이 축 지지부재에 회전 가능하게 장착된 회전축과; 상기 회전축의 둘레로부터 돌출되어 상기 회전축의 회전방향에 따라 상기 Y축방향 두 변에 접촉되거나 이격되는 제2얼라인핀을 포함하는 로드락챔버.The method of claim 6,
The chamber body is provided with substrate entry / exit ports on both side walls in the Y axis direction,
The first aligner includes a first alignment block mounted on both side walls of the chamber body in the X-axis direction so as to be movable in the Y-axis direction so as to be able to contact and separate from the two sides in the X-axis direction; And a first driving unit for moving the first alignment block,
Wherein the second alignment block includes: a rotation axis disposed on both sides of the Y axis in parallel to the Y axis direction and having opposite end portions rotatably mounted on both side walls of the chamber body in the X axis direction; And a second alignment pin protruding from the periphery of the rotation axis and contacting or spacing the two sides in the Y-axis direction along the rotation direction of the rotation axis.
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