KR20140085994A - Display Device With Integrated Touch Screen and Method for Manufacturing The Same - Google Patents

Display Device With Integrated Touch Screen and Method for Manufacturing The Same Download PDF

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KR20140085994A
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Abstract

A method of manufacturing a display device integrated with a touch screen according to an aspect of the present invention forming a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode on a substrate; forming a first protective layer and a second protective layer on the thin film transistor; patterning the first protective layer and the second protective layer to form a contact hole exposing the drain electrode; forming a common electrode layer on the second protective layer; forming a third protective layer on the common electrode layer; patterning the third protective layer to form, a contact hole exposing the common electrode layer, on a location corresponding to the source electrode; forming an interconnect layer on a contact hole exposing the common electrode layer; and forming, a pixel electrode layer connected to the drain electrode through a contact hole exposing the drain electrode, on the third protective layer.

Description

터치 스크린 일체형 표시장치 및 그 제조 방법{Display Device With Integrated Touch Screen and Method for Manufacturing The Same}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a touch screen integrated type display device and a manufacturing method thereof,

본 발명은 표시장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 터치 스크린 일체형 표시장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device, and more particularly, to a touch screen integrated display device.

터치 스크린는 액정 표시장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display, FED), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 전계발광 표시장치(Electroluminescence Device, EL), 전기영동 표시장치 등과 같은 화상표시장치에 설치되어 사용자가 화상표시장치를 보면서 터치스크린 내의 터치 센서를 가압하여(누르거나 터치하여) 미리 정해진 정보를 입력하는 입력장치의 한 종류이다.The touch screen includes a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence device (EL) And is an input device provided in the same image display device and for inputting predetermined information by pressing (pressing or touching) the touch sensor in the touch screen while the user views the image display device.

특히, 최근에는 스마트폰, 태블릿 PC 등과 같은 휴대용 단말기의 슬림화를 위해 표시장치의 내부에 터치 스크린을 구성하는 소자들을 내장하는 인셀 타입(In-cell type) 터치 스크린 일체형 표시장치에 대한 수요가 증가하고 있다.In particular, in recent years, in order to reduce the size of a portable terminal such as a smart phone, a tablet PC, and the like, there has been an increasing demand for an in-cell type touch screen integrated display device in which elements constituting a touch screen are built in a display device have.

이하에서는 일반적인 인셀 타입 터치 스크린 일체형 표시장치에 대해서 설명하기로 한다.Hereinafter, a general in-cell type touch screen integrated display device will be described.

일반적인 터치 스크린 일체형 표시장치는 기판, 박막 트랜지스터, 픽셀 전극, 공통 전극을 포함하고 있다.A typical touch screen integrated display device includes a substrate, a thin film transistor, a pixel electrode, and a common electrode.

여기서, 공통 전극층은 픽셀 전극층 보다 상부 층에 형성되며, 디스플레이 구동 모드 시 픽셀 전극과 함께 전계를 형성하여 디스플레이 구동을 위한 전극으로 사용되고, 터치 구동 모드 시 터치 센싱을 위한 터치 전극으로 사용된다.
Here, the common electrode layer is formed on the upper layer than the pixel electrode layer, and forms an electric field together with the pixel electrode in the display driving mode to be used as an electrode for driving the display, and as a touch electrode for touch sensing in the touch driving mode.

본 발명은 픽셀 전극층이 공통 전극층 보다 상부층에 형성될 수 있는 터치 스크린 일체형 표시 장치를 제공하는 것을 그 기술적 과제로 한다.
The present invention provides a touch screen integrated type display device in which a pixel electrode layer can be formed on an upper layer than a common electrode layer.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조방법은 기판 상에 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계; 상기 박막 트랜지스터 상에 제1 보호층 및 제2 보호층을 형성하는 단계; 상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층을 패터닝하여 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계; 상기 제2 보호층 상에 공통 전극층을 형성하는 단계; 상기 공통 전극층 상에 제3 보호층을 형성하는 단계; 상기 제3 보호층을 패터닝하여 상기 소스 전극과 대응되는 위치에 상기 공통 전극층을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계; 상기 공통 전극층을 노출시키는 콘택홀 상에 연결 배선층을 형성하는 단계; 상기 제3 보호층 상에 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결되는 픽셀 전극층 형성하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch screen integrated type display device including forming a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode on a substrate; Forming a first protective layer and a second protective layer on the thin film transistor; Patterning the first passivation layer and the second passivation layer to form a contact hole exposing the drain electrode; Forming a common electrode layer on the second passivation layer; Forming a third protective layer on the common electrode layer; Patterning the third passivation layer to form a contact hole exposing the common electrode layer at a position corresponding to the source electrode; Forming a connection wiring layer on the contact hole exposing the common electrode layer; And forming a pixel electrode layer connected to the drain electrode through a contact hole exposing the drain electrode on the third passivation layer.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따른 터치 스크린 일체형 표시장치는, 기판 상에 형성되는 게이트 전극, 소스 전극 및 데이터 전극을 포함하는 박막 트랜지스터; 상기 박막 트랜지스터 상에 형성되는 제1 보호층; 상기 제1 보호층 상에 형성되는 제2 보호층; 상기 제2 보호층 상에 형성되는 공통 전극층; 상기 공통 전극층 상에 형성되는 제3 보호층; 상기 제3 보호층 상에 상기 소스 전극과 대응되는 영역에 형성되며, 상기 공통 전극층을 노출시키는 콘택홀을 통해 상기 공통 전극층과 연결되는 연결 배선층; 및 상기 제3 보호층 상에 형성되며, 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결되는 픽셀 전극층을 포함한다.
According to an aspect of the present invention, there is provided a touch screen integrated display device including: a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode, and a data electrode formed on a substrate; A first passivation layer formed on the thin film transistor; A second passivation layer formed on the first passivation layer; A common electrode layer formed on the second passivation layer; A third protective layer formed on the common electrode layer; A connection wiring layer formed on the third passivation layer in a region corresponding to the source electrode and connected to the common electrode layer through a contact hole exposing the common electrode layer; And a pixel electrode layer formed on the third passivation layer and connected to the drain electrode through a contact hole exposing the drain electrode.

본 발명에 따르면, 터치 스크린 일체형 표시장치에서 픽셀 전극층을 공통 전극층보다 상부 층에 형성하여 픽셀 전극 사이즈가 기존 구조 대비 증가할 수 있으므로, 기존 구조 대비 투과율이 증가될 수 있다.According to the present invention, in the touch screen integrated type display device, since the pixel electrode layer is formed on the upper layer than the common electrode layer, the pixel electrode size can be increased compared to the existing structure, and thus the transmittance of the conventional structure can be increased.

그리고, 본 발명에 따르면, 공통 전극층을 포토아크릴 데미지 보호막으로 활용할 수 있다.
According to the present invention, the common electrode layer can be utilized as a photoacoustic damage protection film.

도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조방법을 보여주는 단면도.1 to 6 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch screen integrated type display device according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부되는 도면들을 참고하여 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예를 설명함에 있어서 어떤 구조물이 다른 구조물의 ?璨? 또는 ?틔×?형성된다고 기재된 경우, 이러한 기재는 이 구조물들이 서로 접촉되어 있는 경우는 물론이고 이들 구조물들 사이에 제 3의 구조물이 개재되어 있는 경우까지 포함하는 것으로 해석되어야 한다.In describing an embodiment of the present invention, It is to be construed that such a substrate is included not only when these structures are in contact with each other but also when a third structure is interposed between these structures.

이하에서는 도 1 내지 도 6를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 일체형 표시장치의 제조 방법에 대해 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch screen integrated type display device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 6. FIG.

도 1 내지 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 일체형 표시장치의 제조방법을 보여주는 단면도이다.1 to 6 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a touch screen integrated type display device according to an embodiment of the present invention.

먼저, 도 1에 도시된 바와 같이, 기판(200) 상에 게이트 전극(210), 소스 전극(251) 및 드레인 전극(252)을 포함하는 박막 트랜지스터를 형성한다. 여기서 박막 트랜지스터는 게이트 절연막(220) 및 액티브층(230)을 포함하며 형성될 수 있다.First, as shown in FIG. 1, a thin film transistor including a gate electrode 210, a source electrode 251, and a drain electrode 252 is formed on a substrate 200. Here, the thin film transistor may include a gate insulating layer 220 and an active layer 230.

또한, 박막 트랜지스터는 액티브층(230)이 게이트 전극(210)상에 적층된 구조지만, 게이트 전극(210)이 액티브층(230) 상에 적층되어 형성될 수 있으며, 액티브층(230) 상에 추가적으로 에치 스토퍼(240)가 형성 될 수 있다.The thin film transistor may have a structure in which the active layer 230 is stacked on the gate electrode 210 but the gate electrode 210 may be formed on the active layer 230 and may be formed on the active layer 230 In addition, an etch stopper 240 may be formed.

다음으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 박막 트랜지스터 상에 제1 보호층(260) 및 제2 보호층(240)을 형성한다. 제1 보호층(260)은 박막 트랜지스터 상에 형성되어 박막 트랜지스터를 보호하는 기능을 하며, 패시베이션층으로 형성될 수 있다. 제2 보호층은 포토 아크릴층 일 수 있으며, 포토 아크릴층은 증착, 패터닝, 현상의 공정을 통해 패터닝 된 형태로 제1 보호층 상에 형성될 수 있다.Next, as shown in FIG. 2, a first passivation layer 260 and a second passivation layer 240 are formed on the thin film transistor. The first passivation layer 260 is formed on the thin film transistor to protect the thin film transistor, and may be formed as a passivation layer. The second passivation layer may be a photoacrylic layer, and the photoacrylic layer may be formed on the first passivation layer in a patterned pattern through a process of deposition, patterning, and development.

다음으로, 제2 보호층(270)을 마스크로 하여 제1 보호층(260)을 패터닝하여 드레인 전극(252)을 노출시키는 콘택홀을 형성한다.Next, the first passivation layer 260 is patterned using the second passivation layer 270 as a mask to form a contact hole exposing the drain electrode 252.

하지만, 제2 보호층(270) 상에 포토레지스터층을 증착하고, 증착된 포토레지스터층을 이용하여 현상, 노광, 에치, 스트립 공정으로 제1 보호층(260)을 패터닝하여 드레인 전극(252)을 노출시키는 콘택홀을 형성할 수도 있다. 이때 사용된 포토레지스터층은 드레인 전극(252)을 노출시키는 콘택홀을 형성한 후 제거한다.However, the photoresist layer is deposited on the second passivation layer 270, and the first passivation layer 260 is patterned by the development, exposure, etch, and strip processes using the deposited photoresist layer to form the drain electrode 252, A contact hole may be formed. At this time, the used photoresist layer is removed after forming a contact hole exposing the drain electrode 252.

다음으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 제2 보호층(270) 상에 공통 전극층(280)을 형성한다.Next, a common electrode layer 280 is formed on the second passivation layer 270, as shown in FIG.

여기서, 공통 전극층은 드레인 전극(252)을 노출시키는 콘택홀 영역을 제외한 제2 보호층(270) 상에 형성되어, 터치스크린 일체형 표시장치의 구동모드가 디스플레이 구동모드이면, 각 픽셀에 형성되어 있는 픽셀 전극층(310)과 함께 전계를 형성하여 액정을 구동하는 디스플레이 구동을 위한 전극으로 동작하며 터치스크린 일체형 표시장치의 구동모드가 터치 구동모드이면, 터치 센싱을 위한 터치 전극으로 동작한다. 또한, 공통 전극층은 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 도전체로 형성된 투명 전극일 수 있으며 내부에 슬릿이 형성될 수 있다. 공통 전극층(280)과 픽셀 전극층(310)은 슬릿을 통해 프린지 필드(fringe field)를 형성하고, 이와 같은 프린지 필드에 의해서 액정이 구동될 수 있다.Here, the common electrode layer is formed on the second passivation layer 270 excluding the contact hole region for exposing the drain electrode 252, and if the driving mode of the touch screen integrated display device is the display driving mode, When the driving mode of the touch screen integrated type display device is the touch driving mode, the touch electrode is operated as a touch electrode for touch sensing by driving the liquid crystal by forming an electric field together with the pixel electrode layer 310. In addition, the common electrode layer may be a transparent electrode formed of a transparent conductor such as ITO (Indium Tin Oxide), and a slit may be formed therein. The common electrode layer 280 and the pixel electrode layer 310 form a fringe field through the slit, and the liquid crystal can be driven by such a fringe field.

다음으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 공통 전극층(280)층에 제 3 보호층(290)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 4, a third passivation layer 290 is formed on the common electrode layer 280.

여기서, 제3 보호층(290)은 공통 전극층(280) 상에 형성되며, 공통 전극층(280)을 보호하는 기능을 하며, 공통 전극층(280)과 픽셀 전극층(310)을 전기적으로 절연시키는 역할을 한다. 제3 보호층(290)은 패시베이션층으로 형성될 수 있다.The third passivation layer 290 is formed on the common electrode layer 280 and functions to protect the common electrode layer 280 and electrically insulates the common electrode layer 280 from the pixel electrode layer 310 do. The third passivation layer 290 may be formed of a passivation layer.

다음으로, 도 5에 도시된 바와 같이, 제3 보호층(290)을 패터닝하여 소스 전극(251)과 대응되는 위치에 공통 전극층(280)을 노출시키는 콘택홀을 형성한 후, 공통 전극층을 노출시키는 콘택홀 상에 연결 배선층(300)을 형성한다.5, the third passivation layer 290 is patterned to form a contact hole exposing the common electrode layer 280 at a position corresponding to the source electrode 251. Then, the common electrode layer is exposed The connection wiring layer 300 is formed on the contact hole.

여기서, 연결 배선층(300)은 제3 보호층(290) 상에 소스 전극(251)과 대응되는 영역에 형성되며, 공통 전극층(280)을 노출시키는 콘택홀을 통해 공통 전극층(280)과 연결되어, 공통 전극층(280)으로 공통 전압 및 터치 스캔 신호를 전달하는 역할을 한다. 다시 말해, 디스플레이 구동 모드 시 디스플레이 구동을 위한 공통 전압을 공통 전극층으로 전달하고, 터치 구동 모드 시 터치 구동을 위한 터치 스캔 신호를 공통 전극층으로 전달하는 역할을 한다.The connection wiring layer 300 is formed on the third protective layer 290 in a region corresponding to the source electrode 251 and is connected to the common electrode layer 280 through a contact hole exposing the common electrode layer 280 And the common electrode layer 280 to transmit the common voltage and the touch scan signal. In other words, a common voltage for driving the display in the display driving mode is transferred to the common electrode layer, and a touch scan signal for touch driving is transmitted to the common electrode layer in the touch driving mode.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 일체형 표시장치의 제조 방법에서,도 5에 도시된 바와 같이, 연결 배선층(300)을 공통 전극층(280) 상에 형성함으로써, 제2 보호층(270)과 연결 배선층(300)의 직접 접촉으로 연결 배선층에서 발생할 수 있는 포토아크릴 데미지로부터 안전할 수 있다.5, the connection wiring layer 300 may be formed on the common electrode layer 280 to form the second protection layer 270 and the second protection layer 270. In this case, The direct contact of the interconnecting wiring layer 300 can be safeguarded from the photoacoustic damage that may occur in the interconnecting wiring layer.

다음으로, 도 6에 도시된 바와 같이 제3 보호층(290) 상에 드레인 전극(252)을 노출시키는 콘택홀을 통해 드레인 전극(252)과 연결되는 픽셀 전극층(310) 형성한다.Next, as shown in FIG. 6, a pixel electrode layer 310 is formed on the third passivation layer 290 and connected to the drain electrode 252 through a contact hole exposing the drain electrode 252.

여기서, 픽셀 전극층(310)은 디스플레이 구동을 위한 전극으로 사용되며, ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 도전체로 형성된 투명 전극일 수 있다.Here, the pixel electrode layer 310 is used as an electrode for driving a display, and may be a transparent electrode formed of a transparent conductor such as ITO (Indium Tin Oxide).

이상에서 설명한 바와 같이, 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조 방법에서 픽셀 전극층이 공통 전극층보다 상부에 위치되어 있는 픽셀 탑 구조를 형성할 수 있으며, 공통 전극층을 연결 배선층 하부에 형성할 수 있다.As described above, in the method of manufacturing a touch screen integrated type display device, a pixel top structure in which a pixel electrode layer is positioned above a common electrode layer can be formed, and a common electrode layer can be formed under the connection wiring layer.

따라서, 공통 전극층이 포토아크릴 데미지 보호막과 공통 전극으로의 두 가지 역할을 함에 따라 픽셀 전극층은 픽셀 전극의 역할만하면 되므로, 픽셀 전극의 크기가 일반적인 공통 전극 탑 구조 대비하여 증가하며 이에 따라 투과율도 증가한다.Accordingly, since the common electrode layer serves both as a photoacoustic damage protection layer and as a common electrode, the pixel electrode layer serves only as a pixel electrode, so that the size of the pixel electrode increases as compared with a general common electrode structure, .

본 명세서에서는 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조 방법에 있어서 공통 전극층 및 픽셀 전극층을 형성하는 공정까지만 설명하였으나, 본 발명의 사상은 이에 제한되지 아니하며, 픽셀 전극층 형성 공정 후 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조를 위한 추가적인 공정을 더 수행할 수도 있다.In this specification, only the process of forming the common electrode layer and the pixel electrode layer in the manufacturing method of the touch screen integrated type display device has been described. However, the present invention is not limited thereto, Additional processing may be performed.

이하에서는 도 6을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예에 따른 터치스크린 일체형 표시장치에 대해 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the touch screen integrated display device according to various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIG.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 일체형 표시장치의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a touch screen integrated type display device according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 터치스크린 일체형 표시장치는 도 6에 도시된 바와 같이 기판(200), 박막 트랜지스터, 제1 보호층(260), 제2 보호층(270), 공통 전극층(280), 제 3 보호층(290), 연결 배선(300), 픽셀 전극층(310)을 포함한다.6, a touch screen integrated display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a substrate 200, a thin film transistor, a first passivation layer 260, a second passivation layer 270, a common electrode layer 280, A third protective layer 290, a connection wiring 300, and a pixel electrode layer 310.

박막 트랜지스터는 기판(200) 상의 픽셀 영역에서 스위칭 소자로써 형성되어 있으며, 게이트 전극(210), 게이트 절연막(220), 액티브층(230), 식각 방지층(240), 소스 전극(251) 및 드레인 전극(252)을 포함한다. 여기서. 기판은 유리 또는 투명한 플라스틱으로 이루어 질 수 있다.The thin film transistor is formed as a switching element in a pixel region on the substrate 200 and includes a gate electrode 210, a gate insulating film 220, an active layer 230, an etching prevention layer 240, a source electrode 251, (252). here. The substrate may be made of glass or transparent plastic.

본 발명의 박막 트랜지스터는 도 6에 도시된 바와 같이, 게이트 전극(210)이 액티브층(230) 아래로 형성된 바텀 게이트 구조이지만, 게이트 전극(210)이 액티브층(230) 상에 위치에 있는 탑 게이트 구조로 이루어질 수 있다. 또한 에칭 공정 시 액티브층을 보호하는 역할을 하는 식각 방지층(240)를 액티브층(230) 상에 추가로 형성할 수 있다.The thin film transistor of the present invention is a bottom gate structure in which a gate electrode 210 is formed below an active layer 230 as shown in FIG. 6, but a top gate structure in which a gate electrode 210 is located on an active layer 230 Gate structure. An etch stop layer 240 may also be formed on the active layer 230 to protect the active layer during the etching process.

제1 보호층(260)은 박막 트랜지스터 상에 드레인 전극(252)을 노출시키는 형태로형성되어 박막 트랜지스터를 보호하는 기능을 하며, 패시베이션층으로 형성될 수 있다. 제2 보호층(270)은 제1 보호층 상에 드레인 전극(252)을 노출시키는 형태로 형성되어 있으며, 포토 아크릴(PAC)로 형성될 수 있다. 여기서, 포토 아크릴층은 증착, 패터닝, 현상의 공정을 통해 패터닝 된 형태로 제1 보호층 상에 형성될 수 있다.The first passivation layer 260 is formed to expose the drain electrode 252 on the thin film transistor to protect the thin film transistor and may be formed as a passivation layer. The second passivation layer 270 is formed to expose the drain electrode 252 on the first passivation layer and may be formed of a photoacid generator (PAC). Here, the photoacrylic layer may be formed on the first protective layer in a patterned pattern through a process of deposition, patterning, and development.

공통 전극층(280)은 제2 보호층(270) 상에 형성되며, 터치스크린 일체형 표시장치의 구동모드가 디스플레이 구동모드이면, 각 픽셀에 형성되어 있는 픽셀 전극층(310)과 함께 전계를 형성하여 액정을 구동하는 디스플레이 구동을 위한 전극으로 동작하며 터치스크린 일체형 표시장치의 구동모드가 터치 구동모드이면, 터치 센싱을 위한 터치 전극으로 동작한다. 또한, 공통 전극층은 ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 도전체로 형성된 투명 전극일 수 있으며 내부에 슬릿이 형성될 수 있다. 공통 전극층(280)과 픽셀 전극층(310)은 슬릿을 통해 프린지 필드(fringe field)를 형성하고, 이와 같은 프린지 필드에 의해서 액정이 구동될 수 있다.The common electrode layer 280 is formed on the second passivation layer 270. When the driving mode of the touch screen integrated type display device is the display driving mode, the common electrode layer 280 forms an electric field together with the pixel electrode layer 310 formed in each pixel, And operates as a touch electrode for touch sensing if the driving mode of the touch screen integrated type display device is the touch driving mode. In addition, the common electrode layer may be a transparent electrode formed of a transparent conductor such as ITO (Indium Tin Oxide), and a slit may be formed therein. The common electrode layer 280 and the pixel electrode layer 310 form a fringe field through the slit, and the liquid crystal can be driven by such a fringe field.

제3 보호층(290)은 공통 전극층(280) 상에 형성되며, 공통 전극층(280)을 보호하는 기능을 하며, 공통 전극층(280)과 픽셀 전극층(310)을 전기적으로 절연시키는 역할을 한다. 제3 보호층(290)은 패시베이션층으로 형성될 수 있다.The third passivation layer 290 is formed on the common electrode layer 280 and protects the common electrode layer 280 and electrically insulates the common electrode layer 280 from the pixel electrode layer 310. The third passivation layer 290 may be formed of a passivation layer.

연결 배선층(300)은 제3 보호층(290) 상에 소스 전극(251)과 대응되는 영역에 형성되며, 공통 전극층(280)을 노출시키는 콘택홀을 통해 공통 전극층(280)과 연결된다. 연결 배선층은 공통 전극층(280)으로 공통 전압 및 터치 스캔 신호를 전달하는 역할을 한다. 다시 말해, 디스플레이 구동 모드 시 디스플레이 구동을 위한 공통 전압을 공통 전극층으로 전달하고, 터치 구동 모드 시 터치 구동을 위한 터치 스캔 신호를 공통 전극층으로 전달하는 역할을 한다.The connection wiring layer 300 is formed on the third protective layer 290 in a region corresponding to the source electrode 251 and is connected to the common electrode layer 280 through a contact hole exposing the common electrode layer 280. The connection wiring layer serves to transmit the common voltage and the touch scan signal to the common electrode layer 280. In other words, a common voltage for driving the display in the display driving mode is transferred to the common electrode layer, and a touch scan signal for touch driving is transmitted to the common electrode layer in the touch driving mode.

도 6에 도시된 바와 같이 연결 배선층(300)을 공통 전극층(280) 상에 형성함으로써, 제2 보호층(270)과 연결 배선층(300)의 직접 접촉으로 연결 배선층에서 발생할 수 있는 포토아크릴 데미지로부터 안전할 수 있다.6, the connection wiring layer 300 is formed on the common electrode layer 280, so that the direct contact between the second protection layer 270 and the connection wiring layer 300 prevents the photo- It can be safe.

픽셀 전극층(310)은 제3 보호층(290) 상에 형성되며, 드레인 전극(252)을 노출시키는 콘택홀을 통해 드레인 전극(252)과 연결된다. 여기서, 픽셀 전극층(310)은 디스플레이 구동을 위한 전극으로 사용되며, ITO(Indium Tin Oxide)와 같은 투명 도전체로 형성된 투명 전극일 수 있다.The pixel electrode layer 310 is formed on the third passivation layer 290 and is connected to the drain electrode 252 through a contact hole exposing the drain electrode 252. Here, the pixel electrode layer 310 is used as an electrode for driving a display, and may be a transparent electrode formed of a transparent conductor such as ITO (Indium Tin Oxide).

이상에서 설명한 바와 같이, 터치 스크린 일체형 표시장치에서 픽셀 전극층이 공통 전극층보다 상부에 위치되어 있는 픽셀 탑 구조를 형성할 수 있으며, 공통 전극층을 연결 배선층 하부에 형성할 수 있다.As described above, in the touch screen integrated type display device, the pixel top structure in which the pixel electrode layer is located above the common electrode layer can be formed, and the common electrode layer can be formed under the connection wiring layer.

따라서, 공통 전극층이 포토아크릴 데미지 보호막과 공통 전극으로의 두 가지 역할을 함에 따라 픽셀 전극층은 픽셀 전극의 역할만하면 되므로, 픽셀 전극의 크기가 일반적인 공통 전극 탑 구조 대비하여 증가하며 이에 따라 투과율도 증가한다.Accordingly, since the common electrode layer serves both as a photoacoustic damage protection layer and as a common electrode, the pixel electrode layer serves only as a pixel electrode, so that the size of the pixel electrode increases as compared with a general common electrode structure, .

본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 상술한 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof.

그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

200 : 기판 210 : 게이트 전극
220 : 게이트 절연막 230 : 액티브층
240 : 식각 방지층 251 : 소스 전극
252 : 드레인 전극 260 : 제1 보호층
270 : 제2 보호층 280 : 공통 전극층
290 : 제3 보호층 300 : 연결 배선층
310 : 픽셀 전극층200: substrate 210: gate electrode
220: gate insulating film 230: active layer
240: etching prevention layer 251: source electrode
252: drain electrode 260: first protective layer
270: second protection layer 280: common electrode layer
290: third protection layer 300: connection wiring layer
310: pixel electrode layer

Claims (10)

기판 상에 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터를 형성하는 단계;
상기 박막 트랜지스터 상에 제1 보호층 및 제2 보호층을 형성하는 단계;
상기 제1 보호층 및 상기 제2 보호층을 패터닝하여 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계;
상기 제2 보호층 상에 공통 전극층을 형성하는 단계;
상기 공통 전극층 상에 제3 보호층을 형성하는 단계;
상기 제3 보호층을 패터닝하여 상기 소스 전극과 대응되는 위치에 상기 공통 전극층을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계;
상기 공통 전극층을 노출시키는 콘택홀 상에 연결 배선층을 형성하는 단계;
상기 제3 보호층 상에 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결되는 픽셀 전극층 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조방법.
Forming a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode on a substrate;
Forming a first protective layer and a second protective layer on the thin film transistor;
Patterning the first passivation layer and the second passivation layer to form a contact hole exposing the drain electrode;
Forming a common electrode layer on the second passivation layer;
Forming a third protective layer on the common electrode layer;
Patterning the third passivation layer to form a contact hole exposing the common electrode layer at a position corresponding to the source electrode;
Forming a connection wiring layer on the contact hole exposing the common electrode layer;
And forming a pixel electrode layer connected to the drain electrode through a contact hole exposing the drain electrode on the third passivation layer.
제 1 항에 있어서,
상기 공통 전극층은,
상기 픽셀 전극층과 함께 전계를 형성하여 디스플레이 구동을 위한 전극으로 사용되거나, 터치 센싱을 위한 터치 전극으로 사용되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
The common electrode layer
Wherein the pixel electrode layer is used as an electrode for driving a display by forming an electric field together with the pixel electrode layer, or is used as a touch electrode for touch sensing.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 및 제3 보호층은 패시베이션층인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the first and third passivation layers are passivation layers.
제 1 항에 있어서,
상기 제2 보호층은 포토 아크릴(PAC)로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 일체형 표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the second protective layer is formed of a photoacid generator (PAC).
제 1 항에 있어서,
상기 공통 전극층은 투명 전극인 것을 특징으로 하는 터치스크린 일체형 표시장치의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the common electrode layer is a transparent electrode.
기판 상에 형성되는 게이트 전극, 소스 전극 및 데이터 전극을 포함하는 박막 트랜지스터;
상기 박막 트랜지스터 상에 형성되는 제1 보호층;
상기 제1 보호층 상에 형성되는 제2 보호층;
상기 제2 보호층 상에 형성되는 공통 전극층;
상기 공통 전극층 상에 형성되는 제3 보호층;
상기 제3 보호층 상에 상기 소스 전극과 대응되는 영역에 형성되며, 상기 공통 전극층을 노출시키는 콘택홀을 통해 상기 공통 전극층과 연결되는 연결 배선층; 및
상기 제3 보호층 상에 형성되며, 상기 드레인 전극을 노출시키는 콘택홀을 통해 상기 드레인 전극과 연결되는 픽셀 전극층을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 일체형 표시장치.
A thin film transistor including a gate electrode, a source electrode, and a data electrode formed on a substrate;
A first passivation layer formed on the thin film transistor;
A second passivation layer formed on the first passivation layer;
A common electrode layer formed on the second passivation layer;
A third protective layer formed on the common electrode layer;
A connection wiring layer formed on the third passivation layer in a region corresponding to the source electrode and connected to the common electrode layer through a contact hole exposing the common electrode layer; And
And a pixel electrode layer formed on the third passivation layer and connected to the drain electrode through a contact hole exposing the drain electrode.
제 6 항에 있어서,
상기 공통 전극층은,
상기 픽셀 전극층과 함께 전계를 형성하여 디스플레이 구동을 위한 전극으로 사용되거나, 터치 센싱을 위한 터치 전극으로 사용되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 일체형 표시장치.
The method according to claim 6,
The common electrode layer
Wherein the touch panel is used as an electrode for driving a display by forming an electric field together with the pixel electrode layer, or as a touch electrode for touch sensing.
제 6 항에 있어서,
상기 제1 및 제3 보호층은 패시베이션층인 것을 특징으로 하는 터치 스크린 일체형 표시장치.
The method according to claim 6,
Wherein the first and third passivation layers are passivation layers.
제 6 항에 있어서,
상기 제2 보호층은 포토 아크릴(PAC)로 형성되는 것을 특징으로 하는 터치 스크린 일체형 표시장치.
The method according to claim 6,
And the second passivation layer is formed of a photoacid (PAC).
제 6 항에 있어서,
상기 공통 전극층은 투명 전극인 것을 특징으로 하는 터치스크린 일체형 표시장치.The method according to claim 6,
Wherein the common electrode layer is a transparent electrode.
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