KR20140083503A - Evaporation source and Apparatus for deposition having the same - Google Patents

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Abstract

Disclosed are an evaporation source and a deposition apparatus having the same. According to an embodiment of the present invention, an evaporation source capable of forming a thin film on a substrate by heating an evaporating material includes a container-like crucible for accommodating the evaporating material on the inside; a transfer pipe connected to the top end of the crucible on one end; a nozzle unit laterally connected to the top end of the transfer pipe to be funneled to the transfer pipe, while including a dispersion pipe having a jet nozzle formed toward the length direction on the top; a first heating tube risen from the bottom of the crucible to be connected to the inside of the transfer pipe; and a first heating body inserted to the length direction of the first heating tube.

Description

증발원 및 이를 구비한 증착장치{Evaporation source and Apparatus for deposition having the same}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an evaporation source and an evaporation source having the same,

본 발명은 증발원 및 이를 구비한 증착장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 증발물질을 보다 효율적으로 가열하며, 히터의 불순물에 의한 기판 오염을 방지할 수 있는 증발원 및 이를 구비한 증착장치에 관한 것이다.
The present invention relates to an evaporation source and a deposition apparatus having the evaporation source. More particularly, the present invention relates to an evaporation source capable of heating a vapor material more efficiently and preventing contamination of the substrate due to impurities of a heater, and a deposition apparatus having the evaporation source.

유기 전계 발광소자(Organic Light Emitting Diodes: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다.BACKGROUND ART Organic light emitting diodes (OLEDs) are self-light emitting devices that emit light by using an electroluminescent phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound. A backlight for applying light to a non- Therefore, a lightweight thin flat panel display device can be manufactured.

이러한 유기 전계 발광소자를 이용한 평판표시장치는 응답속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시장치로서 대두 되고 있다. 특히, 제조공정이 단순하기 때문에 생산원가를 기존의 액정표시장치 보다 많이 절감할 수 있는 장점이다.A flat panel display device using such an organic electroluminescent device has a fast response speed and a wide viewing angle, and is emerging as a next generation display device. In particular, since the manufacturing process is simple, it is advantageous in that the production cost can be saved more than the conventional liquid crystal display device.

유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열증착방법으로 기판 상에 증착된다.The organic electroluminescent device comprises an organic thin film such as a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer which are the remaining constituent layers except for the anode and the cathode. / RTI >

진공열증착방법은 진공 챔버 내에 기판을 배치하고, 일정 패턴이 형성된 쉐도우 마스크(shadow mask)를 기판에 정렬시킨 후, 증발물질이 담겨 있는 증발원에 열을 가하여 증발원에서 승화되는 증발물질을 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다. In the vacuum thermal deposition method, a substrate is disposed in a vacuum chamber, a shadow mask having a predetermined pattern is aligned on a substrate, heat is applied to an evaporation source containing the evaporation material, Evaporation.

도 1에서와 같이, 종래 기술에 따른 증착 장치의 경우, 진공챔버(10), 기판(12), 기판지지대(14), 증발원(16), 용기(20), 히터(18)으로 구성되었다. 종래 기술에 따른 증착장치의 경우, 증발물질을 증발입자로 가열하기 위한 열공급은 증발원(16) 외부에 히터(18)을 감아서 이루어졌다. 1, in the case of a deposition apparatus according to the prior art, a vacuum chamber 10, a substrate 12, a substrate support 14, an evaporation source 16, a vessel 20, and a heater 18 were formed. In the case of the vapor deposition apparatus according to the related art, the heat supply for heating the evaporation material to the evaporation particles is performed by winding the heater 18 outside the evaporation source 16.

그러나 이러한 방식의 열공급 수단의 경우, 열전달과정에서 열효율이 매우 낮은 문제점이 있었다. However, in this type of heat supply means, there is a problem that the heat efficiency is very low in the heat transfer process.

또한, 히터(18)에 열을 가하는 과정, 히터를 감는 과정 또는 히터를 분리하는 과정에서 히터(18)이 쉽게 절단되어 증착 장치 전체의 교체 등이 이루어지는 등 외부에 히터를 감음으로 인하여 발생하는 문제점이 상당했다. In addition, since the heater 18 is easily cut during the process of applying heat to the heater 18, the process of winding the heater, or the process of separating the heater, the entire deposition apparatus is replaced, This was significant.

또한 히터(18)의 가열과정에서 발생하는 자체소성에 의하여 히터 성분의 불순물이 도출되어, 기판에 오염이 발생하는 등 히터의 배치에 의한 문제가 상당했다.
In addition, a problem arises due to the arrangement of the heater, such as the impurities of the heater component being derived by the self-baking occurring in the heating process of the heater 18, and the contamination occurring in the substrate.

본 발명은 증발물질을 보다 효율적으로 가열하며, 히터의 불순물에 의한 기판 오염을 방지할 수 있는 증발원 및 이를 구비한 증착장치를 제공하는 것이다.
The present invention provides an evaporation source capable of heating the evaporation material more efficiently and preventing substrate contamination due to impurities of the heater, and a deposition apparatus having the evaporation source.

본 발명의 일 측면에 따르면, 증발물질을 가열하여 기판에 박막을 형성하기 위한 증발원으로서, 내부에 증발물질이 수용되는 용기 형상의 도가니와; 일단이 상기 도가니의 상단과 연결되는 이송관과; 상기 이송관과 연통되도록 이송관의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 분사 노즐이 형성되는 확산관을 포함하는 노즐부와; 상기 도가니의 바닥에서 융기되어 상기 이송관의 내부까지 연장되는 제1 히팅튜브; 및 상기 제1 히팅튜브의 길이 방향으로 삽입되는 제1 가열체를 포함하는, 증발원이 제공된다. According to an aspect of the present invention, there is provided an evaporation source for forming a thin film on a substrate by heating an evaporation material, comprising: a container-shaped crucible in which an evaporation material is contained; A conveyance pipe having one end connected to an upper end of the crucible; A nozzle unit including a diffusion tube horizontally coupled to an upper end of the conveyance pipe to communicate with the conveyance pipe and having a spray nozzle formed in a lengthwise direction thereof; A first heating tube protruding from the bottom of the crucible and extending to the inside of the conveyance pipe; And a first heating body inserted in the longitudinal direction of the first heating tube.

상기 증발원은, 상기 확산관의 일단에서 타단으로 관통하며, 상기 확산관의 길이 방향으로 배치되는 제2 히팅튜브; 및 상기 제2 히팅튜브에 길이 방향으로 삽입되는 제2 가열체를 더 포함할 수 있다.The evaporation source includes a second heating tube penetrating from one end of the diffusion tube to the other end and arranged in the longitudinal direction of the diffusion tube; And a second heating body inserted longitudinally into the second heating tube.

상기 증발원의 제1 가열체 및 제2 가열체는, 히터; 및 상기 히터를 피복하는 절연체를 포함할 수 있다.The first heating body and the second heating body of the evaporation source include: a heater; And an insulator covering the heater.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 기판에 증발물질을 증착하여 박막층을 형성하기 위한 증착장치로서, 상기 기판이 내부에 안착되는 진공챔버와; 상기 기판에 대향하여 배치되는 상기 증발원을 포함하는, 증착장치가 제공된다.
According to another aspect of the present invention, there is provided a deposition apparatus for depositing an evaporation material on a substrate to form a thin film layer, the deposition apparatus comprising: a vacuum chamber in which the substrate is placed; And the evaporation source disposed opposite to the substrate.

본 발명의 실시예에 따른 증발원 및 이를 구비한 증착장치는, 증발물질을 보다 효율적으로 가열할 수 있으며, 히터의 불순물에 의한 기판 오염을 방지할 수 있다.The evaporation source and the evaporation apparatus having the evaporation source according to the embodiment of the present invention can more efficiently heat the evaporation material and prevent contamination of the substrate by the impurities of the heater.

도 1은 종래기술에 따른 증발원의 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예의 변형예에 따른 증발원의 단면도.
도 4는 본 발명의 일 실시예의 변형예에 따른 증발원의 사시도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원을 구비한 증착장치의 단면도.1 is a cross-sectional view of an evaporation source according to the prior art;
2 is a sectional view of an evaporation source according to an embodiment of the present invention;
3 is a cross-sectional view of an evaporation source according to a modification of an embodiment of the present invention;
4 is a perspective view of an evaporation source according to a modification of an embodiment of the present invention;
5 is a cross-sectional view of a deposition apparatus having an evaporation source according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

이하, 본 발명에 따른 증발원 및 이를 구비한 증착장치의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Hereinafter, embodiments of an evaporation source and a deposition apparatus having the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, wherein like reference numerals designate like or corresponding components A duplicate description thereof will be omitted.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원의 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예의 변형예에 따른 증발원의 단면도이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예의 변형예에 따른 증발원의 사시도이다. 도 2 내지 도 4에는 진공챔버(10), 기판(12), 기판지지대(14), 증발원(16), 도가니(26), 이송관(32), 분사노즐(22), 확산관(24), 노즐부(21), 제1 히팅튜브(30), 제1 가열체(28), 제2 히팅튜브(40), 제2 가열체, 히터(50, 52), 절연체(56, 58)가 개시된다.2 is a cross-sectional view of an evaporation source according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a cross-sectional view of an evaporation source according to a modification of the embodiment of the present invention, FIG. 4 is a perspective view of an evaporation source according to a modification of the embodiment of the present invention to be. 2 to 4 show a vacuum chamber 10, a substrate 12, a substrate support 14, an evaporation source 16, a crucible 26, a transfer tube 32, an injection nozzle 22, a diffusion tube 24, The first heating body 28, the second heating tube 40, the second heating body, the heaters 50 and 52, and the insulators 56 and 58 are connected to the nozzle unit 21, the first heating tube 30, .

본 발명의 일 측면에 따르면, 증발물질을 가열하여 기판(12)에 박막을 형성하기 위한 증발원(16)으로서, 내부에 증발물질이 수용되는 용기 형상의 도가니(26)와; 일단이 도가니(26)의 상단과 연결되는 이송관과; 이송관과 연통되도록 이송관의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 분사 노즐이 형성되는 확산관(24)을 포함하는 노즐부(21)와; 도가니(26)의 바닥에서 융기되어 이송관의 내부까지 연장되는 제1 히팅튜브(30); 및 제1 히팅튜브(30)의 길이 방향으로 삽입되는 제1 가열체(28)를 포함하는, 증발원(16)이 제공된다. According to an aspect of the present invention, there is provided an evaporation source (16) for heating a vapor material to form a thin film on a substrate (12), comprising: a container-shaped crucible (26) A conveyance pipe connected to the upper end of the crucible 26 once; A nozzle unit 21 including a diffusion tube 24 transversely coupled to an upper end of the transfer pipe so as to communicate with the transfer pipe and having an injection nozzle formed in a lengthwise direction thereof; A first heating tube 30 protruding from the bottom of the crucible 26 and extending to the inside of the conveyance pipe; And a first heating body (28) inserted in the longitudinal direction of the first heating tube (30).

도가니(26)는, 내부에 증발물질이 수용되며, 용기 형상을 갖는다. 도가니(26) 내부에 수용되는 증발물질은 유기물질이며, 도가니(26)의 가열에 의하여 증발물질은 증발입자가 되어 상향 이동하게 된다. 도가니(26) 상단은 개방되어 있으며, 도가니(26)의 하단은 밀봉되어 있다. The crucible 26 contains a vaporized material therein and has a container shape. The evaporation material contained in the crucible 26 is an organic material, and the evaporation material becomes the evaporation particles due to the heating of the crucible 26, thereby moving upward. The upper end of the crucible 26 is open, and the lower end of the crucible 26 is sealed.

이송관(32)은, 일단이 상기 도가니(26)의 상단과 연결될 수 있다. 이송관(32)은 증발물질에서 증발입자로 기화되는 유기물질이 확산관(24)을 거쳐 노즐에서 기판(12) 방향으로 분사될 수 있도록 증발입자를 가이드하는 역할을 한다. 이송관(32)은 상향 연장되는 튜브 형상일 수 있다.One end of the transfer pipe (32) can be connected to the upper end of the crucible (26). The transfer pipe 32 serves to guide the evaporated particles so that the organic material vaporized from the evaporated material into the evaporated particles can be injected in the direction of the substrate 12 from the nozzle through the diffusion tube 24. The transfer tube 32 may be in the form of an upwardly extending tube.

노즐부(21)는, 이송관(32)과 연통되도록 이송관(32)의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 분사노즐(22)이 형성되는 확산관(24)을 포함한다. 확산관(24)은 종방향의 이송관(32)에 횡방향으로 결합하므로, 전체적인 형상이 알파벳 T자 형태일 수 있다. 따라서 이송관(32)에서 상향 이동하는 증발입자를 좌우로 확산시킬 수 있다. The nozzle unit 21 includes a diffusion tube 24 transversely coupled to the upper end of the transfer pipe 32 so as to communicate with the transfer pipe 32 and having an injection nozzle 22 formed in the longitudinal direction on the upper side thereof . Because the diffuser tube 24 is laterally coupled to the longitudinal transfer tube 32, the overall shape may be alphabet T-shaped. Therefore, the evaporation particles moving upward from the transfer pipe (32) can be diffused to the left and right.

노즐부(21)의 확산관(24)에는 복수의 분사노즐(22)이 확산관(24)의 길이방향으로 배치된다. 확산관(24)의 좌우로 확산된 증발입자는 복수의 분사노즐(22)을 통해 기판(12)방향으로 분사된다.A plurality of injection nozzles 22 are arranged in the longitudinal direction of the diffusion tube 24 in the diffusion tube 24 of the nozzle unit 21. The evaporated particles diffused to the right and left of the diffusion tube 24 are injected in the direction of the substrate 12 through the plurality of injection nozzles 22.

제1 히팅튜브(30)는 도가니(26)의 바닥에서 융기되어 이송관(32)의 내부까지 연장될 수 있다. 제1 히팅튜브(30)는 도가니(26)의 하면으로부터 융기된 튜브형상일 수 있다. 제1 히팅튜브(30)는 내부에 중공부가 형성되며, 이송관(32)과 확산관(24)이 만나는 지점까지 연장될 수 있다.The first heating tube 30 can be extended from the bottom of the crucible 26 to the inside of the conveyance pipe 32. The first heating tube 30 may be a tubular shape raised from the lower surface of the crucible 26. The first heating tube 30 may have a hollow portion formed therein and extend to a point where the transfer pipe 32 and the diffusion pipe 24 meet.

도 2를 참조하면, 제1 히팅튜브(30)는, 본 실시예에서 도가니(26)의 바닥에서 융기하게 되며, 이송관(32)까지 솟는 형상이 제시될 수 있다. 제1 히팅튜브(30)에는 증발물질이 전혀 유입되지 않으며, 후술할 제1 가열체(28)가 위치한다.Referring to Fig. 2, the first heating tube 30 is protruded from the bottom of the crucible 26 in the present embodiment, and a shape rising to the conveying pipe 32 can be presented. No evaporation material flows into the first heating tube 30, and a first heating body 28 to be described later is located.

제1 가열체(28)는 제1 히팅튜브(30)의 길이 방향으로 삽입될 수 있다. 제1 히팅튜브(30)는 이송관(32)까지 솟아있는 중공부를 가질 수 있고, 제1 가열체(28)는 제1 히팅튜브(30)의 중공부에 삽입되어 도가니(26)에 수용된 증발물질뿐만 아니라 이미 기화되어 상승 이동하고 있는 증발입자에도 충분한 열을 가열할 수 있다.The first heating body 28 can be inserted in the longitudinal direction of the first heating tube 30. The first heating tube 30 may have a hollow portion rising up to the transfer pipe 32 and the first heating body 28 may be inserted into the hollow portion of the first heating tube 30, As well as the material, it is also possible to heat sufficient heat to evaporate particles already vaporized and moving upward.

증발원(16)은, 확산관(24)의 일단에서 타단으로 관통하며, 확산관(24)의 길이 방향으로 배치되는 제2 히팅튜브(40); 및 제2 히팅튜브(40)에 길이 방향으로 삽입되는 제2 가열체를 더 포함할 수 있다.The evaporation source 16 includes a second heating tube 40 penetrating from one end of the diffusion tube 24 to the other end and disposed in the longitudinal direction of the diffusion tube 24; And a second heating body inserted into the second heating tube 40 in the longitudinal direction.

제2 히팅튜브(40)는 확산관(24)의 일단에서 타단으로 관통하며, 확산관(24)의 길이 방향으로 배치될 수 있다. 제2 히팅튜브(40)는 제1 히팅튜브(30)와 마찬가지로, 증발물질이 내부에 유입되지 않는다. 제2 히팅튜브(40)의 내측에는 후술할 제2 가열체가 위치한다.The second heating tube 40 penetrates from one end to the other end of the diffusion tube 24 and can be disposed in the longitudinal direction of the diffusion tube 24. As with the first heating tube 30, the second heating tube 40 does not have the evaporation material introduced therein. A second heating body to be described later is located inside the second heating tube 40.

제2 가열체는 제2 히팅튜브(40)의 길이방향으로 삽입될 수 있다. 제2 히팅튜브(40)는 확산관(24)을 관통하며, 중공부를 가질 수 있다. 제2 가열체는 제2 히팅튜브(40)의 중공부에 삽입되어, 확산관(24) 내부을 유동하는 증발입자에 열을 가할 수 있다. 종전에는 확산관(24) 내부의 증발입자에 열을 가하기 위하여 확산관(24)을 열선으로 감는 방식을 사용하였으나, 제2 히팅튜브(40)에 배치된 제2 가열체로 열을 공급함으로써, 보다 효율적인 가열 및 열선의 소성에 의한 열선 부산물 금속의 기판증착과 같은 부작용 방지가 가능하게 되었다.The second heating body can be inserted in the longitudinal direction of the second heating tube 40. The second heating tube 40 penetrates the diffusion tube 24 and can have a hollow portion. The second heating body may be inserted into the hollow portion of the second heating tube 40 to apply heat to the evaporation particles flowing in the diffusion tube 24. In the past, the diffusion tube 24 was wound by hot wire in order to apply heat to the evaporation particles in the diffusion tube 24, but by supplying heat to the second heating element disposed in the second heating tube 40, It has become possible to prevent side effects such as efficient heating and sintering of hot wire to deposit a substrate of hot wire by-product metal.

제1 가열체(28) 및 제2 가열체는, 히터(50, 52); 및 히터(50, 52)를 피복하는 절연체(56, 58)를 포함할 수 있다. 제1 가열체는 히터(50) 및 절연체(56)를 포함할 수 있으며, 제2 가열체는 히터(52) 및 절연체(58)를 포함할 수 있다. 히터는 저항 값이 큰 금속재료를 사용할 수 있다. 히터는 열선을 감은 열선 지지봉 형태일 수 있으며, 원기둥 형상의 발열체를 사용할 수 있다. 절연체(56, 58)는 히터(50, 52)의 발열에 의하여 제1 히팅튜브(30) 또는 제2 히팅튜브(40)가 직접 가열되는 것을 방지하기 위하여 배치된다. The first heating body 28 and the second heating body include heaters 50 and 52; And insulators 56, 58 that cover the heaters 50, 52. The first heating body may include a heater 50 and an insulator 56 and the second heating body may include a heater 52 and an insulator 58. The heater can use a metal material having a large resistance value. The heater may be in the form of a heat wire support bar wound with a heating wire, and a cylindrical heating element may be used. The insulators 56 and 58 are arranged to prevent the first heating tube 30 or the second heating tube 40 from being directly heated by the heat generated by the heaters 50 and 52.

히터(50, 52)와 제1 히팅튜브(30) 또는 제2 히팅튜브(40)가 직접 접촉하게 될 경우, 금속간에 흐르는 전류 및 열에 의하여 증착 프로세스가 균일하게 진행지 못할 수 있다. 따라서, 절연체(56, 58)는 열과 전류를 적정하게 조절하는 역할을 하며, 소재는 다양하게 사용될 수 있으나, 본 실시예에서는 세라믹 절연체를 제시한다.
When the heaters 50 and 52 are in direct contact with the first heating tube 30 or the second heating tube 40, the deposition process may not proceed uniformly due to current and heat flowing between the metals. Accordingly, the insulators 56 and 58 serve to appropriately regulate the heat and the current, and the material can be variously used, but the ceramic insulator is shown in this embodiment.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원을 구비한 증착장치의 단면도이다. 도 5에는, 진공챔버(10), 기판(12), 기판(12)지지대, 증발원(16), 도가니(26), 제1 가열체(28)가 도시되어 있다.5 is a cross-sectional view of a deposition apparatus having an evaporation source according to an embodiment of the present invention. 5 shows the vacuum chamber 10, the substrate 12, the support of the substrate 12, the evaporation source 16, the crucible 26, and the first heating body 28.

본 실시예에 따르면, 기판(12)에 증발물질을 증착하여 박막층을 형성하기 위한 증착장치로서, 기판(12)이 내부에 안착되는 진공챔버(10)와; 기판(12)에 대향하여 배치되는 증발원(16)을 포함하는, 증착장치가 제공된다.According to the present embodiment, there is provided a deposition apparatus for forming a thin film layer by depositing an evaporation material on a substrate 12, comprising: a vacuum chamber 10 in which a substrate 12 is placed; And an evaporation source (16) disposed opposite to the substrate (12).

진공챔버(10)는 기판(12)에 유기물을 증착할 수 있도록 일정한 진공도가 유지되며, 클러스터 또는 인라인 생산방식에 포함되는 진공챔버(10)일 수 있다. 기판(12)은 기판(12)지지대에 의하여 지지되며, 하단의 증발원(16)과 대응된다. 증발원(16)에서 기판(12)을 향하여 분사되는 증발입자들은 기판(12)에 증착되어 유기 박막층이 형성된다.The vacuum chamber 10 may be a vacuum chamber 10 maintained at a constant degree of vacuum so as to deposit organic substances on the substrate 12 and included in a cluster or inline production mode. The substrate 12 is supported by the support of the substrate 12 and corresponds to the evaporation source 16 at the bottom. The evaporation particles injected from the evaporation source 16 toward the substrate 12 are deposited on the substrate 12 to form an organic thin film layer.

상기의 증발원(16)은 기판(12)에 대향 배치된다. 본 실시예에서는 증발원(16)의 일부, 제1 가열체(28)의 일부 및 도가니(26)가 진공챔버(10) 외부에 배치된 형태를 제시한다. 따라서, 제1 히팅튜브(30)에 삽입되는 제1 가열체(28)의 교체는 진공챔버(10)의 진공을 해제시키는 작업이 없이도 가능하다.
The evaporation source 16 is disposed opposite to the substrate 12. In this embodiment, a part of the evaporation source 16, a part of the first heating body 28 and a crucible 26 are arranged outside the vacuum chamber 10. Therefore, replacement of the first heating body 28 inserted into the first heating tube 30 is possible without the operation of releasing the vacuum of the vacuum chamber 10. [

상기에서는 본 발명의 특정의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the present invention as set forth in the following claims It will be understood that the invention may be modified and varied without departing from the scope of the invention.

전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.
Many embodiments other than the above-described embodiments are within the scope of the claims of the present invention.

10: 진공챔버 12: 기판
14: 기판지지대 16: 증발원
21: 노즐부 22: 분사노즐
24: 확산관 26: 도가니
28: 제1 가열체 30: 제1 히팅튜브
32: 이송관 40: 제2 히팅튜브
42: 제2 가열체 50, 52: 히터
56, 58: 절연체 10: vacuum chamber 12: substrate
14: substrate support 16: evaporation source
21: nozzle unit 22: injection nozzle
24: diffusion tube 26: crucible
28: first heating element 30: first heating tube
32: transfer tube 40: second heating tube
42: second heating body 50, 52: heater
56, 58: Insulator

Claims (4)

기판에 증발물질을 증착하여 박막층을 형성하기 위한 증발원으로서,
내부에 증발물질이 수용되는 용기 형상의 도가니와;
일단이 상기 도가니의 상단과 연결되는 이송관과;
상기 이송관과 연통되도록 이송관의 상단에 횡방향으로 결합되며, 상측에 길이 방향으로 분사노즐이 형성되는 확산관을 포함하는 노즐부와;
상기 도가니의 바닥에서 융기되어 상기 이송관의 내부까지 연장되는 제1 히팅튜브; 및
상기 제1 히팅튜브의 길이 방향으로 삽입되는 제1 가열체를 포함하는, 증발원.
As an evaporation source for forming a thin film layer by evaporating evaporation material on a substrate,
A container-shaped crucible in which evaporation material is contained;
A conveyance pipe having one end connected to an upper end of the crucible;
A nozzle unit including a diffusion tube horizontally coupled to an upper end of the conveyance pipe to communicate with the conveyance pipe and having a spray nozzle formed in a lengthwise direction thereof;
A first heating tube protruding from the bottom of the crucible and extending to the inside of the conveyance pipe; And
And a first heating body inserted in the longitudinal direction of the first heating tube.
제1항에 있어서,
상기 확산관의 일단에서 타단으로 관통하며, 상기 확산관의 길이 방향으로 배치되는 제2 히팅튜브; 및
상기 제2 히팅튜브에 길이 방향으로 삽입되는 제2 가열체를 더 포함하는, 증발원.
The method according to claim 1,
A second heating tube penetrating from one end of the diffusion tube to the other end and arranged in the longitudinal direction of the diffusion tube; And
And a second heating body inserted longitudinally into the second heating tube.
제2항에 있어서,
상기 제1 가열체 및 상기 제2 가열체는,
히터; 및
상기 히터를 피복하는 절연체를 포함하는, 증발원.
3. The method of claim 2,
Wherein the first heating body and the second heating body are made of a heat-
heater; And
And an insulator covering the heater.
기판에 증발물질을 증착하여 박막층을 형성하기 위한 증착장치로서,
상기 기판이 내부에 안착되는 진공챔버와;
상기 기판에 대향하여 배치되는 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 증발원을 포함하는, 증착장치.
A deposition apparatus for depositing a vapor material on a substrate to form a thin film layer,
A vacuum chamber in which the substrate is seated;
The evaporation apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the evaporation source is disposed opposite to the substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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