KR20140082696A - Adhesive composition, adhesive film, adhesive sheet, circuitry connector, method for connecting circuitry member, use of adhesive composition, use of adhesive film, and use of adhesive sheet - Google Patents

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다이조우 야마무라
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Abstract

제1 회로 기판의 주면 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판의 주면 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 제1 회로 전극과 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위한 접착제 조성물이며, 제1 회로 기판 및 제 2의 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판이고, 코어층과 상기 코어층을 피복하도록 설치된 쉘층을 갖는 코어쉘형 실리콘 미립자를 함유하는 접착제 조성물.A first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of the first circuit substrate and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a main surface of the second circuit substrate, Wherein at least one of the first circuit substrate and the second circuit substrate is a substrate including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower and is formed so as to cover the core layer and the core layer Shell-type silicon microparticles having an installed shell layer.

Description

접착제 조성물, 필름상 접착제, 접착 시트, 회로 접속체, 회로 부재의 접속 방법, 접착제 조성물의 용도, 필름상 접착제의 용도 및 접착 시트의 용도{ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE FILM, ADHESIVE SHEET, CIRCUITRY CONNECTOR, METHOD FOR CONNECTING CIRCUITRY MEMBER, USE OF ADHESIVE COMPOSITION, USE OF ADHESIVE FILM, AND USE OF ADHESIVE SHEET}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an adhesive composition, a film-like adhesive, an adhesive sheet, a circuit connector, a circuit member connection method, a use of an adhesive composition, CONNECTING CIRCUITRY MEMBER, USE OF ADHESIVE COMPOSITION, USE OF ADHESIVE FILM, AND USE OF ADHESIVE SHEET}

본 발명은 접착제 조성물, 필름상 접착제, 접착 시트, 회로 접속체, 회로 부재의 접속 방법, 접착제 조성물의 용도, 필름상 접착제의 용도 및 접착 시트의 용도에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive composition, a film-like adhesive, an adhesive sheet, a circuit connecting member, a circuit member connecting method, a use of an adhesive composition, a use of a film-like adhesive, and use of an adhesive sheet.

반도체 소자나 액정 표시 소자에 있어서, 소자 중의 다양한 부재를 결합시키는 목적에서, 종래부터 다양한 접착제 조성물이 사용되고 있다. 상기 접착제 조성물은, 예를 들면 액정 표시 소자와 TCP(Tape Carrier Package) 또는 COF(Chip On Film)와의 접속, TCP 또는 COF와 프린트 배선판과의 접속, FPC(Flexible Printed Circuit)와 프린트 배선판과의 접속이나, 반도체 소자의 기판에의 실장 등에 사용되고 있다.BACKGROUND ART In semiconductor devices and liquid crystal display devices, various adhesive compositions have conventionally been used for the purpose of bonding various members in a device. For example, the adhesive composition can be used for connection of a liquid crystal display element with TCP (Tape Carrier Package) or COF (Chip On Film), connection between TCP or COF and a printed wiring board, connection between FPC (Flexible Printed Circuit) Or a semiconductor element is mounted on a substrate or the like.

종래, 반도체 소자나 액정 표시 소자용의 접착제 조성물로서는, 고접착성 및 고신뢰성을 나타내는 에폭시 수지를 포함하는 열경화성 수지가 사용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 상기 열경화성 수지의 구성 성분으로서는, 에폭시 수지, 에폭시 수지에 대한 반응성을 갖는 페놀 수지 등의 경화제 및 에폭시 수지와 경화제의 반응을 촉진하는 열 잠재성 촉매가 일반적으로 사용된다. 열 잠재성 촉매는, 실온 등의 저장 온도에서는 반응하지 않고, 가열했을 때에 높은 반응성을 나타내는 물질이다. 또한 경화 온도 및 경화 속도를 결정하는 중요한 인자가 되고 있어, 접착제 조성물의 실온에서의 저장 안정성과 가열시의 경화 속도의 관점에서 여러 가지 화합물이 사용되고 있다. 실제의 공정에서는, 170℃ 내지 250℃의 온도에서 1 내지 3시간 경화시키는 경화 조건에 의해 원하는 접착성을 얻고 있다.BACKGROUND ART Conventionally, as an adhesive composition for a semiconductor element or a liquid crystal display element, a thermosetting resin including an epoxy resin exhibiting high adhesiveness and high reliability has been used (see, for example, Patent Document 1). As the constituent components of the thermosetting resin, a curing agent such as an epoxy resin, a phenol resin having reactivity with the epoxy resin, and a thermal latent catalyst for promoting the reaction between the epoxy resin and the curing agent are generally used. The thermal latent catalyst is a substance which does not react at a storage temperature such as room temperature and exhibits high reactivity when heated. In addition, various compounds have been used in view of the storage stability at room temperature of the adhesive composition and the curing rate at the time of heating since they are important factors for determining the curing temperature and curing rate. In the actual process, a desired adhesion property is obtained by curing conditions of 1 to 3 hours at a temperature of 170 ° C to 250 ° C.

한편, 최근의 반도체 소자의 고집적화, 액정 표시의 고정밀화에 수반하여, 소자간 및 배선간 피치가 협소화하고, 경화시의 가열이 주변 부재에 악영향을 미치는 경향이 나왔기 때문에, 저온에서 접착제 조성물을 경화시키는 것이 요구되고 있다. 또한, 저비용화를 위해서는 스루풋을 향상시킬 필요가 있기 때문에, 단시간에 접착제 조성물을 경화시키는 것도 요구되고 있다.On the other hand, along with recent high integration of semiconductor devices and high definition of liquid crystal displays, there has been a tendency that the inter-device pitch and inter-wiring pitch are narrowed and the heating at the time of curing tends to adversely affect peripheral members. Therefore, . Further, since it is necessary to improve the throughput in order to lower the cost, it is also required to cure the adhesive composition in a short time.

그러나, 종래의 에폭시 수지를 포함하는 열경화성 수지에 있어서, 저온으로 단시간에의 경화(저온 속경화성)를 달성하기 위해서는, 활성화 에너지가 낮은 열잠재성 촉매를 사용할 필요가 있고, 그 경우, 접착제 조성물의 실온에서의 저장 안정성이 저하되는 문제가 있다.However, in a conventional thermosetting resin containing an epoxy resin, it is necessary to use a thermal latent catalyst having a low activation energy in order to achieve curing at a low temperature in a short time (low temperature curability). In this case, There is a problem that the storage stability at room temperature is lowered.

대신, 저온 속경화성을 갖는 접착제 조성물로서, (메트)아크릴레이트 유도체 등의 라디칼 중합성 화합물과 라디칼 중합 개시제인 과산화물을 병용한 라디칼 경화형 접착제 조성물이 주목받고 있다(예를 들면, 특허문헌 2 참조). 라디칼 경화에 의하면, 반응 활성종인 라디칼이 반응성이 많기 때문에, 저온으로 단시간에의 경화가 가능하다.As an adhesive composition having a low-temperature curing property, a radical-curing adhesive composition using a radical polymerizing compound such as a (meth) acrylate derivative and a peroxide as a radical polymerization initiator has attracted attention (see, for example, Patent Document 2) . According to the radical curing, since radicals which are reaction active species are highly reactive, curing at a low temperature in a short time is possible.

그러나, 라디칼 경화를 사용한 접착제 조성물은, 경화시의 경화 수축이 크기 때문에, 에폭시 수지를 사용한 경우와 비교하여 접착 강도가 떨어지고, 특히 무기 재질이나 금속 재질의 기재에 대한 접착 강도가 저하하는 경향이 있다.However, since the adhesive composition using radical curing has a large curing shrinkage at the time of curing, the adhesive strength is lowered as compared with the case of using an epoxy resin, and the adhesive strength to a substrate made of an inorganic material or a metal material tends to be lowered .

또한, 유리 기판 등을 사용한 반도체 소자나 액정 표시 소자 또는 FR4 기재 등을 사용한 프린트 기판과, 폴리이미드나 폴리에스테르 등의 고분자 필름을 기재로 하는 플렉시블 배선판(FPC)을 접속하는 경우, 열 팽창률 차에 기초하는 내부 응력이 커지고, 접착제 조성물의 박리나 접속 신뢰성의 저하가 발생하는 것이 문제가 되고 있다.In the case of connecting a flexible printed circuit board (FPC) made of a semiconductor element, a liquid crystal display element or a FR4 substrate using a glass substrate or the like and a polymer film such as polyimide or polyester to a substrate, There is a problem that the underlying internal stress is increased and separation of the adhesive composition and deterioration of the connection reliability occur.

접착 강도의 개선 방법으로서는, 실란 커플링제로 대표되는 접착 보조제를 사용하는 방법(예를 들면, 특허문헌 3 참조), 에테르 결합에 의해 경화물의 가요성을 부여하여 접착 강도를 개선하는 방법(예를 들면, 특허문헌 4 참조), 접착제 조성물 중에 고무계의 탄성 재료를 포함하는 응력 흡수 입자를 분산시킴으로써 접착 강도를 개선하는 방법(특허문헌 5, 6, 7 등 참조) 등이 제안되어 있다.As a method of improving the bonding strength, there have been proposed a method of using an adhesion assisting agent typified by a silane coupling agent (see, for example, Patent Document 3), a method of imparting flexibility of a cured product by ether bonding to improve the bonding strength (See Patent Document 4); and a method of improving the adhesive strength by dispersing stress-absorbing particles containing rubber-based elastic material in the adhesive composition (see Patent Documents 5, 6, 7, etc.).

일본 특허 공개 평 1-113480호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 1-113480 국제 공개 제98/044067호 팸플릿WO 98/044067 Pamphlet 일본 특허 제3344886호Japanese Patent No. 3344886 일본 특허 제3503740호 공보Japanese Patent No. 3503740 일본 특허 제3477367호 공보Japanese Patent No. 3477367 국제 공개 제09/020005호 팸플릿International Publication No. 09/020005 pamphlet 국제 공개 제09/051067호 팸플릿International Publication No. 09/051067 pamphlet

요즘, 터치 패널, 전자 페이퍼 등의 박형화, 경량화, 플렉시블화 등을 목적으로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카르보네이트(PC), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 시클로올레핀 중합체(COP) 등을 포함하는 회로 부재의 적용이 검토되고 있다. 그러나, PET, PC, PEN, COP 등의 내열성이 낮은 유기 기재를 사용하는 경우에는, 경화시의 가열이 유기 기재 및 주변 부재에 악영향을 미치는 경향이 높아지기 때문에, 보다 저온에서 접착제 조성물을 경화시키는 것이 요구된다. 또한, PET, PC, PEN, COP 등의 표면은 평활하기 때문에, 물리적인 투묘 효과(앵커 효과)에 의한 접착 효과가 작다.(PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), cycloolefin polymer (COP), and the like for the purpose of thinning, light weight, and flexibility of touch panels and electronic papers The application of the circuit member including the circuit board is being studied. However, in the case of using an organic substrate having low heat resistance such as PET, PC, PEN, or COP, heating at the time of curing tends to adversely affect the organic substrate and peripheral members, Is required. In addition, since the surfaces of PET, PC, PEN, COP and the like are smooth, the adhesive effect by physical anchoring effect (anchor effect) is small.

따라서, 저온 경화성을 갖는 라디칼 경화형의 접착제 조성물에 있어서, 접착 강도를 개선하는 것이 요망되지만, 열가소성 수지인 PET, PC, PEN, COP 등의 유기 기재는, 벤젠환 등에 의한 분자간 상호 작용에 의해 결정 부분을 형성하기 쉽기 때문에, 실란 커플링제와 공유 결합을 형성하는 것은 곤란하다. 따라서, 이들의 유기 기재를 사용하는 경우에는, 특허문헌 3에 기재된 방법에서는 충분한 접착 강도 개선 효과를 얻지 못한다.Therefore, it is desirable to improve the adhesive strength of the radical-curable adhesive composition having low-temperature curing properties. However, organic substrates such as PET, PC, PEN and COP, which are thermoplastic resins, It is difficult to form a covalent bond with the silane coupling agent. Therefore, when these organic substrates are used, the method described in Patent Document 3 fails to obtain a sufficient adhesive strength improving effect.

또한, PET, PC, PEN, COP 등의 유기 기재는, 유리 기판보다 열 팽창 계수가 크고, 표면 에너지도 상이하다. 그로 인해, 피착체에 대한 습윤성 향상이나 내부 응력 저감을 위해서, 접착제 조성물에 충분한 가요성을 부여할 필요가 있지만, 특허문헌 4에 기재된 방법에서는, 충분한 가요성을 부여할 수는 없고, 추가적인 접착 강도의 향상이 요망된다.In addition, organic substrates such as PET, PC, PEN, COP and the like have a larger thermal expansion coefficient than the glass substrate and have different surface energies. Therefore, it is necessary to impart sufficient flexibility to the adhesive composition in order to improve the wettability of the adherend and reduce the internal stress. However, in the method described in Patent Document 4, sufficient flexibility can not be imparted, Is desired.

특허문헌 5에 기재된 방법에 의해서도, 응력 흡수 입자의 유리 전이 온도가 80℃ 내지 120℃로 높기 때문에, 충분한 응력 완화 효과가 얻어지지 않고, 고온 고습 시험 후의 접착 강도나 접속 저항 등의 성능이 충분히 얻어지지 않는 문제가 있다. 특허문헌 6에 기재된 응력 흡수 입자를 분산시키는 방법에 의해서도, PET, PC, PEN, COP 등의 유기 기재에 대한 충분한 접착 강도 향상 효과는 얻어지지 않는다. 또한, 특허문헌 5, 6 및 7에 기재된 방법에서는, 에폭시 수지를 접착제 조성물의 경화 성분으로서 사용하고 있기 때문에, 충분한 접착력을 얻기 위해서는 비교적 고온에서의 가열이 요구되고, 내열성이 낮은 PET, PC, PEN, COP 등의 유기 기재에의 악영향이 걱정된다.Even in the method described in Patent Document 5, since the glass transition temperature of the stress-absorbing particles is as high as 80 占 폚 to 120 占 폚, sufficient stress relaxation effect can not be obtained and sufficient performance such as adhesion strength and connection resistance after high- There is a problem that does not support. Even in the method of dispersing the stress absorbing particles described in Patent Document 6, a sufficient adhesive strength improving effect on organic substrates such as PET, PC, PEN, COP and the like can not be obtained. In the methods described in Patent Documents 5, 6, and 7, since an epoxy resin is used as a curing component of an adhesive composition, heating at a relatively high temperature is required in order to obtain a sufficient adhesive force. PET, PC, and PEN , An adverse effect on an organic substrate such as COP is worried.

따라서, 본 발명은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카르보네이트(PC), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 시클로올레핀 중합체(COP) 등의 내열성이 낮은 유기 기재에 대하여 저온에서 경화시킨 경우에도, 우수한 접착 강도를 얻을 수 있고, 장시간의 신뢰성 시험(고온 고습 시험) 후에서도 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 유지할 수 있는 접착제 조성물 및 그것을 사용한 필름상 접착제, 접착 시트, 회로 접속체, 회로 부재의 접속 방법, 접착제 조성물의 용도, 필름상 접착제의 용도 및 접착 시트의 용도를 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, the present invention is also applicable to an organic substrate having low heat resistance such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN) and cycloolefin polymer (COP) (Adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long time reliability test (high temperature and high humidity test), a film-like adhesive using the adhesive composition, an adhesive sheet, a circuit connecting member, A method of bonding, a use of an adhesive composition, a use of a film-like adhesive, and an application of an adhesive sheet.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 내열성이 낮은 열가소성 수지인 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카르보네이트(PC), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 시클로올레핀 중합체(COP) 등의 유기 기재와, 반도체 소자나 액정 표시 소자와의 접속에 있어서 접착 강도가 낮은 것은, 내부 응력의 완화가 불충분한 것이 원인인 것을 발견하였다. 이들을 해결하기 위하여 추가로 검토한 결과, 특정한 구조를 갖는 실리콘 미립자를 사용함으로써 우수한 접착 강도를 얻을 수 있고, 장시간의 신뢰성 시험(고온 고습 시험) 후에서도 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 유지할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명의 완성에 이르렀다.The inventors of the present invention have made intensive investigations to solve the above problems and found that a thermoplastic resin such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), cycloolefin polymer It has been found that a low bonding strength in connection between an organic substrate and a semiconductor element or a liquid crystal display element is caused by insufficient relaxation of internal stress. As a result of further studies to solve these problems, it has been found that excellent adhesion strength can be obtained by using silicon fine particles having a specific structure, and stable performance (adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long time reliability test And the present invention has been accomplished.

즉, 본 발명은, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 제1 회로 전극과 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위한 접착제 조성물이며, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판이며, 코어층과 상기 코어층을 피복하도록 설치된 쉘층을 갖는 코어쉘형 실리콘 미립자를 함유하는, 접착제 조성물을 제공한다.That is, the present invention is a circuit board comprising: a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board; and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board, Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board comprises a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower, wherein the core layer and the core layer Shell-type silicon fine particles having a shell layer provided so as to cover at least one of the core-shell type silicon fine particles.

상기 접착제 조성물은, 상기 특정한 구조를 갖는 실리콘 미립자를 함유함으로써, 실리콘 미립자간 상호 작용이 완화되어, 구조 점성(비뉴턴 점성)이 낮아지기 때문에, 실리콘 미립자의 수지 중에의 분산성이 향상하고, 효과적으로 내부 응력을 충분히 완화할 수 있다고 생각된다. 이에 의해, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기재(예를 들면 PET, PC, PEN, COP 등)에 대한 접착 강도를 향상시켜, 회로 부재간의 접착 강도를 향상시킬 수 있다. 또한, 장시간의 신뢰성 시험 후에도 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 유지할 수 있다.Since the adhesive composition contains the silicon fine particles having the specific structure, the interaction between the silicon fine particles is relaxed and the structural viscosity (non-Newtonian viscosity) is lowered. Therefore, the dispersibility of the silicone fine particles in the resin is improved, It is considered that the stress can be sufficiently relaxed. This improves the bonding strength to a substrate (for example, PET, PC, PEN, COP, etc.) containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 占 폚 or less, and can improve the bonding strength between circuit members. In addition, stable performance (adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long-term reliability test.

본 명세서에 있어서, 「유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판」이란, 열가소성 수지로서 중합체 핸드북(고분자 학회편: 고분자 데이터 핸드북, 기초편, p.525, 바이후깐(1986)) 등에 기재되는 유리 전이 온도가 200℃ 이하의 값으로 나타나는 열가소성 수지를 포함하는 기판이다. 여기서, 열가소성 수지는, 열가소성을 갖는 수지이고, 통상은 가교 구조를 갖지 않은 것이지만, 열가소성을 갖고 있으면 약간의 가교 구조를 갖는 것도 포함하는 것으로 한다. 열가소성 수지의 유리 전이 온도는 후술하는 측정 방법에 의해 구할 수 있다.As used herein, the term " substrate comprising a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower " refers to a thermoplastic resin as a polymer handbook (Polymer Society Handbook: Polymer Data Handbook, Fundamentals, p.525, Baifukan, 1986) And a thermoplastic resin exhibiting a glass transition temperature of 200 DEG C or lower. Here, the thermoplastic resin is a resin having thermoplasticity, and usually does not have a crosslinked structure, but it also includes a thermoplastic resin having a slight crosslinking structure if it has thermoplasticity. The glass transition temperature of the thermoplastic resin can be determined by a measuring method described later.

본 발명은 또한, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위한 접착제 조성물이며, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판이고, 코어층과 상기 코어층을 피복하도록 설치된 쉘층을 갖는 코어쉘형 실리콘 미립자를 함유하는, 접착제 조성물을 제공한다.The present invention is also characterized in that a first circuit member on which a first circuit electrode is formed on a first circuit board and a second circuit member on which a second circuit electrode is formed on a second circuit board are connected to the first circuit electrode, Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is made of a material selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer Shell type silicon fine particles having a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer, wherein the substrate comprises at least one selected from the group consisting of the core-shell type silicon fine particles and the core layer.

상기 접착제 조성물은, 상기 특정한 구조를 갖는 실리콘 미립자를 함유함으로써, 실리콘 미립자간 상호 작용이 완화되고, 구조 점성(비뉴턴 점성)이 낮아지기 때문에, 실리콘 미립자의 수지 중에의 분산성이 향상하고, 효과적으로 내부 응력을 충분히 완화할 수 있다고 생각된다. 이에 의해, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기재에 대한 접착 강도를 향상시켜, 회로 부재간의 접착 강도를 향상시킬 수 있다. 또한, 장시간의 신뢰성 시험 후에도 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 유지할 수 있다.Since the adhesive composition contains silicon fine particles having the specific structure, the interaction between the silicon fine particles is relaxed and the structural viscosity (non-Newtonian viscosity) is lowered. Therefore, the dispersibility of the silicone fine particles in the resin is improved, It is considered that the stress can be sufficiently relaxed. Thereby, the adhesive strength to a substrate comprising at least one kind selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer can be improved, and the bonding strength between circuit members can be improved . In addition, stable performance (adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long-term reliability test.

상기 실리콘 미립자의 코어층의 유리 전이 온도는 -130℃ 이상 -20℃ 이하인 것이 바람직하고, -125℃ 이상 -40℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 특히 바람직하게는 -120℃ 이상 -50℃ 이하이다. 이에 의해, 내부 응력을 충분히 완화할 수 있기 때문에, 회로 부재간의 접착 강도를 향상시킬 수 있다. 또한, 장시간의 신뢰성 시험 후에도 안정된 성능을 유지할 수 있다. 상기 유리 전이 온도가 -20℃보다 높은 경우, 내부 응력을 충분히 완화할 수 없기 때문에 충분한 접착 강도 향상 효과를 얻어지지 않는 경향이 있고, -130℃보다 낮은 경우, 충분한 응집력이 얻어지지 않기 때문에 접착 강도가 저하되는 경향이 있다.The glass transition temperature of the core layer of the silicon microparticles is preferably -130 ° C to -20 ° C, more preferably -125 ° C to -40 ° C, and particularly preferably -120 ° C to -50 ° C. Thereby, since the internal stress can be sufficiently relaxed, the bonding strength between the circuit members can be improved. In addition, stable performance can be maintained even after a long-term reliability test. When the glass transition temperature is higher than -20 占 폚, it is impossible to sufficiently mitigate the internal stress, so that a sufficient adhesive strength improving effect tends not to be obtained. When the glass transition temperature is lower than -130 占 폚, sufficient cohesive strength can not be obtained, Is lowered.

본 발명에 따른 접착제 조성물은, 라디칼 중합성 화합물을 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 보다 저온 경화에서의 접착이 가능하게 된다.The adhesive composition according to the present invention preferably further contains a radically polymerizable compound. As a result, adhesion at a lower temperature can be achieved.

상기 접착제 조성물은, 도전 입자를 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 도전 입자를 함유함으로써, 접착제 조성물에 양호한 도전성 또는 이방 도전성이 부여되기 때문에, 회로 전극(접속 단자)을 갖는 회로 부재끼리의 접착 용도 등에, 보다 적합하게 사용된다. 또한, 도전 입자를 함유하는 접착제 조성물을 개재하여 회로 부재간을 전기적으로 접속함으로써, 접속 저항을 보다 저감할 수 있다.It is preferable that the adhesive composition further contains conductive particles. By containing the conductive particles, good conductivity or anisotropic conductivity is imparted to the adhesive composition, so that it is more suitably used for bonding between circuit members having circuit electrodes (connection terminals). Further, by electrically connecting the circuit members through the adhesive composition containing the conductive particles, the connection resistance can be further reduced.

본 발명은 상기 접착제 조성물을 필름상으로 성형함으로써 얻어지는, 필름상 접착제를 제공한다. 또한, 본 발명은 기재와, 상기 기재 상에 형성된 상기 필름상 접착제를 포함하는 접착제층을 구비하는 접착 시트를 제공한다.The present invention provides a film-like adhesive obtained by molding the above adhesive composition into a film. The present invention also provides an adhesive sheet comprising an adhesive layer comprising a substrate and the film-like adhesive formed on the substrate.

본 발명은 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와, 상기 제1 회로 부재의 상기 제1 회로 전극이 형성된 면과 상기 제2 회로 부재의 상기 제2 회로 전극이 형성된 면과의 사이에 개재하고, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극을 전기적으로 접속하는 접속부를 구비하는 회로 접속체이며, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판이고, 상기 접속부가, 상기 본 발명에 따른 접착제 조성물이 경화물을 포함하는 회로 접속체를 제공한다.The present invention provides a circuit board comprising a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board, And a connecting portion which is interposed between a surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed and a surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed and electrically connects the first circuit electrode and the second circuit electrode, Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a substrate comprising a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower and the connecting part is a circuit board having a circuit connection Provide sieve.

본 발명에 따른 회로 접속체에 있어서는, 접속부가 본 발명에 따른 접착제 조성물이 경화물를 포함함으로써, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판을 사용한 경우에도, 우수한 접착 강도 및 장기 신뢰성 시험 후의 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 얻을 수 있다.In the circuit connecting member according to the present invention, even when a substrate comprising a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower is used, the adhesive portion according to the present invention includes a cured product, A stable performance (adhesive strength or connection resistance) can be obtained.

상기 열가소성 수지는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 회로 기판과 접착제 조성물과의 습윤성이 향상하여 접착 강도가 보다 향상하고, 우수한 접속 신뢰성을 얻을 수 있다.It is preferable that the thermoplastic resin includes at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer. Thereby, the wettability between the circuit board and the adhesive composition is improved, the bonding strength is further improved, and excellent connection reliability can be obtained.

또한, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중, 한쪽의 회로 기판이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고, 다른 한쪽의 회로 기판이 폴리이미드 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 회로 기판과 접착제 조성물과의 습윤성 및 접착 강도가 보다 향상하고, 우수한 접속 신뢰성을 얻을 수 있다.It is preferable that one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, It is preferable that the other circuit board includes at least one member selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer. Thereby, wettability and adhesive strength between the circuit board and the adhesive composition are further improved, and excellent connection reliability can be obtained.

본 발명은 또한, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와, 상기 제1 회로 부재의 상기 제1 회로 전극이 형성된 면과 상기 제2 회로 부재의 상기 제2 회로 전극이 형성된 면과의 사이에 개재하고, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극을 전기적으로 접속하는 접속부를 구비하는 회로 접속체이며, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판, 상기 접속부가 상기 본 발명에 따른 접착제 조성물이 경화물을 포함하는, 회로 접속체를 제공한다.The present invention is also characterized in that it comprises a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board, And a connecting portion which is interposed between a surface of the second circuit member on which the circuit electrode is formed and a surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed and which electrically connects the first circuit electrode and the second circuit electrode, Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, The adhesive composition according to the present invention comprises a cured product.

상기 회로 접속체에 있어서는, 접속부가 본 발명에 따른 접착제 조성물이 경화물를 포함함으로써, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판을 사용한 경우에도, 우수한 접착 강도 및 장기 신뢰성 시험 후의 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 얻을 수 있다.In the circuit connecting member, the connecting portion includes a cured product, and the adhesive composition according to the present invention includes a cured product, thereby forming a circuit board comprising at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer It is possible to obtain excellent adhesive strength and stable performance (bonding strength and connection resistance) after long-term reliability test.

상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중, 한쪽의 회로 기판이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고, 다른 한쪽의 회로 기판이 폴리이미드 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 회로 기판과 접착제 조성물과의 습윤성 및 접착 강도가 보다 향상하고, 우수한 접속 신뢰성을 얻을 수 있다.Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, It is preferable that the circuit board of the circuit board includes at least one member selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer. Thereby, wettability and adhesive strength between the circuit board and the adhesive composition are further improved, and excellent connection reliability can be obtained.

본 발명은 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와의 사이에, 본 발명에 따른 접착제 조성물을 개재시켜 경화시킴으로써, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 상기 제1 회로 부재와 상기 제2 회로 부재를 접착하는 회로 부재의 접속 방법이며, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판인, 회로 부재의 접속 방법을 제공한다.The present invention is characterized in that an adhesive composition according to the present invention is interposed between a first circuit member on which a first circuit electrode is formed on a first circuit board and a second circuit member on which a second circuit electrode is formed on a second circuit substrate And the first circuit member and the second circuit member are bonded to each other so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other by curing the first circuit member and the second circuit member, Wherein at least one of the circuit boards comprises a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower.

본 발명에 따른 회로 부재의 접속 방법에 의하면, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판에 적합한 저온 경화를 행한 경우에도, 충분한 접착 강도 및 장기 신뢰성 시험 후의 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 갖는 회로 접속체가 얻어진다.According to the connection method of a circuit member according to the present invention, even when low-temperature curing is suitably applied to a substrate including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower, sufficient bonding strength and stable performance after long- ) Is obtained.

본 발명은 또한, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와의 사이에, 본 발명에 따른 접착제 조성물을 개재시켜 경화시킴으로써, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 상기 제1 회로 부재와 상기 제2 회로 부재를 접착하는, 회로 부재의 접속 방법이며, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판인, 회로 부재의 접속 방법을 제공한다.The present invention also provides an adhesive composition according to the present invention between a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit substrate and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit substrate, Wherein the first circuit member and the second circuit member are bonded to each other such that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other by curing the first circuit member and the second circuit member, Wherein at least one of the second circuit substrates is a substrate comprising at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer.

상기의 회로 부재의 접속 방법이 의하면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판에 적합한 저온 경화를 행한 경우에도, 충분한 접착 강도 및 장기 신뢰성 시험 후의 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 갖는 회로 접속체가 얻어진다.According to the circuit member connecting method described above, even when the low temperature curing is suitably applied to the substrate comprising at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, A circuit connector having a strength (bonding strength and connection resistance) after the strength and long-term reliability test can be obtained.

본 발명은 상기 본 발명의 접착제 조성물의 용도이며, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판인, 상기 접착제 조성물의 용도를 제공한다.The present invention relates to the use of the adhesive composition of the present invention, which comprises a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit substrate, Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is used to adhere the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to electrically connect them and the thermosetting resin is a substrate comprising a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower , And the use of the adhesive composition.

본 발명은 또한, 상기 본 발명의 접착제 조성물의 용도이며, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판인, 상기 접착제 조성물의 용도를 제공한다.The present invention further relates to a use of the adhesive composition of the present invention, which comprises a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is made of at least one material selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate And at least one member selected from the group consisting of a cycloolefin polymer, and the use of the adhesive composition.

본 발명은 상기 본 발명의 필름상 접착제의 용도이며, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판인, 상기 필름상 접착제의 용도를 제공한다.The present invention relates to the use of the film-based adhesive of the present invention, which comprises a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board, Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is used for bonding the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected to each other, ≪ / RTI > the use of an adhesive on the film.

본 발명은 또한, 상기 본 발명의 필름상 접착제의 용도이며, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판인, 상기 필름상 접착제의 용도를 제공한다.The present invention also relates to the use of the film-based adhesive of the present invention, which comprises a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit substrate, a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit substrate, Wherein at least one of the first circuit substrate and the second circuit substrate is made of a material selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene terephthalate, Wherein the substrate is a substrate comprising at least one selected from the group consisting of phthalates and cycloolefin polymers.

본 발명은 상기 본 발명의 접착 시트의 용도이며, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판인, 상기 접착 시트의 용도를 제공한다.The present invention relates to the use of the adhesive sheet of the present invention, wherein a first circuit member on which a first circuit electrode is formed on a first circuit board, and a second circuit member on which a second circuit electrode is formed on a second circuit board, Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is used to adhere the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to electrically connect them and the thermosetting resin is a substrate comprising a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower , And the use of the adhesive sheet.

본 발명은 또한, 상기 본 발명의 접착 시트의 용도이며, 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판인, 상기 접착 시트의 용도를 제공한다.The present invention further relates to a use of the adhesive sheet of the present invention, wherein a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is made of at least one material selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate And at least one member selected from the group consisting of a cycloolefin polymer, and the use of the adhesive sheet.

본 발명에 따르면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카르보네이트(PC), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 시클로올레핀 중합체(COP) 등의 내열성이 낮은 유기 기재에 대하여 저온에서 경화시킨 경우에도, 우수한 접착 강도를 얻을 수 있고, 장시간의 신뢰성 시험(고온 고습 시험) 후에서도 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 유지할 수 있는 접착제 조성물 및 그것을 사용한 필름상 접착제, 접착 시트, 회로 접속체, 회로 부재의 접속 방법, 접착재 조성물의 용도, 필름상 접착제의 용도 및 접착 시트의 용도를 제공할 수 있다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, even when an organic base material having low heat resistance such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN) or cycloolefin polymer (COP) (Adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long time reliability test (high temperature and high humidity test), a film-like adhesive using the adhesive composition, an adhesive sheet, a circuit connecting member, A connection method, use of an adhesive composition, use of a film-like adhesive, and use of an adhesive sheet.

도 1은 본 발명의 접착 시트의 일 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실리콘 미립자의 일 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 회로 접속체의 일 실시 형태를 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing an embodiment of an adhesive sheet of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing one embodiment of the silicon microparticle of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing an embodiment of a circuit connector of the present invention.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용에 대하여 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시 형태로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」이란 아크릴산 또는 거기에 대응하는 메타크릴산을 나타내고, 「(메트)아크릴레이트」이란 아크릴레이트 또는 거기에 대응하는 메타크릴레이트를 의미하고, 「(메트)아크릴로일기」란 아크릴로일기 또는 거기에 대응하는 메타크릴로일기를 의미한다.In the present specification, "(meth) acrylic acid" means acrylic acid or methacrylic acid corresponding thereto, "(meth) acrylate" means acrylate or methacrylate corresponding thereto, Acryloyl group " means an acryloyl group or a corresponding methacryloyl group.

열가소성 수지 또는 회로 기판의 「유리 전이 온도(Tg)」란, 티·에이·인스트루먼트사 제조 점탄성 애널라이저 「RSA-3」(상품명)을 사용하여, 승온 속도 5℃/min, 주파수 10Hz, 측정 온도 -150℃ 내지 300℃의 조건에서 측정한, tanδ 피크 온도의 값을 말한다. 또한, 회로 기판의 유리 전이 온도의 측정에 있어서, 열가소성 수지 기판 상에 유리층 등의 바탕(下地)층, 아크릴 수지층 등의 하드 코트층, 가스 배리어층 등이 형성되어 있는 경우에는, 그것들도 포함한 회로 기판의 유리 전이 온도를 측정한다.The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin or the circuit board was measured using a viscoelasticity analyzer "RSA-3" (trade name) manufactured by T.A. Refers to the value of tan? Peak temperature measured at 150 占 폚 to 300 占 폚. When the glass transition temperature of the circuit board is measured, if a base layer such as a glass layer, a hard coat layer such as an acrylic resin layer, a gas barrier layer, or the like is formed on the thermoplastic resin substrate, Measure the glass transition temperature of the circuit board including.

미립자의 「유리 전이 온도(Tg)」란, Tg가 기지의 열가소성 수지 중에 미립자를 분산시켜, 제작한 필름을 티·에이·인스트루먼트사 제조 점탄성 애널라이저 「RSA-3」(상품명)을 사용하여, 승온 속도 5℃/min, 주파수 10Hz, 측정 온도 -150℃ 내지 300℃의 조건에서 측정한, tanδ 피크 온도의 값을 말한다.The term "glass transition temperature (Tg)" of the fine particles refers to a value obtained by dispersing fine particles in a known thermoplastic resin having a Tg and using the produced film as a viscoelasticity analyzer "RSA-3" (trade name) manufactured by T.A. Refers to the value of tan? Peak temperature measured at a rate of 5 占 폚 / min, a frequency of 10Hz, and a measurement temperature of -150 占 폚 to 300 占 폚.

미립자의 「평균 입경」이란, 미립자를 메틸에틸케톤으로 0.1wt%(질량%)로 희석한 후, Zetasizer Nano-S(Malvern Instruments Ltd.제조, 상품명)를 사용하여 측정한 평균 입자 직경(Z-average값)을 말한다. 또한, 상기 측정 장치에서 정확한 측정을 할 수 없는 크기의 입경을 갖는 미립자에 대해서는, 시마즈 레이저 회절식 입도 분포 측정 장치 SALD-2200((주)시마즈 세이사꾸쇼 제조, 상품명)을 사용하여 측정한 평균 입경을 사용할 수도 있다.The "average particle diameter" of fine particles refers to the average particle diameter (Z-value) measured by using Zetasizer Nano-S (manufactured by Malvern Instruments Ltd.) after diluting the fine particles with methyl ethyl ketone to 0.1 wt% average value). The fine particles having a particle diameter of a size that can not be accurately measured by the above measuring apparatus were measured using an average value measured by a Shimadzu laser diffraction particle size distribution analyzer SALD-2200 (trade name, manufactured by Shimadzu Corporation) The particle size can also be used.

본 발명에 따른 접착제 조성물은, 코어쉘형의 구조를 갖는 실리콘 미립자를 함유하는 것을 특징으로 한다. 코어쉐형의 구조로서는, 코어층과 코어층을 피복하도록 설치된 쉘층을 갖는 구조를 들 수 있고, 핵재(코어층) 표면의 유리 전이 온도 또는 탄성률보다 높은 유리 전이 온도 또는 탄성률을 갖는 표면층(쉘층)을 형성한 것, 핵재(코어층)의 외부에 그래프트층(쉘층)을 갖는 것 등이 있고, 코어층과 쉘층에서 조성이 동일하거나 또는 상이한 실리콘 미립자를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 실리콘 고무 구상 미립자의 수 분산액에, 알칼리성 물질 또는 알칼리성 수용액과 오르가노트리알콕시실란을 첨가하고, 가수분해, 축합 반응한 코어쉘형 실리콘 미립자(예를 들면, 특허 제2832143호 공보 참조), 국제 공개 제2009/051067호 팸플릿에 기재되는 것과 같은 코어쉘형 실리콘 미립을 사용할 수도 있다. 또한, 분자 말단 또는 분자 내 측쇄에 수산기나 에폭시기, 케티민, 카르복실기, 머캅토기 등의 관능기를 함유한 실리콘 미립을 사용할 수 있다. 이러한 실리콘 미립자는 필름 형성 성분이나 라디칼 중합성 물질에의 분산성이 향상하기 때문에 바람직하다. 또한, 상기의 코어층과 쉘층은 반드시 명료한 경계선을 갖고 있지 않아도 된다.The adhesive composition according to the present invention is characterized by containing silicon fine particles having a core-shell structure. As the core shoe type structure, there is a structure having a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer, and a surface layer (shell layer) having a glass transition temperature or elastic modulus higher than the glass transition temperature or elastic modulus of the surface of the core material And a graft layer (shell layer) provided outside the core material (core layer). Silicon microparticles having the same or different composition in the core layer and the shell layer can be used. Concretely, core-shell type silicon fine particles (for example, see Japanese Patent No. 2832143) obtained by adding an alkaline substance or alkaline aqueous solution and organotrialkoxysilane to an aqueous dispersion of spherical fine particles of silicone rubber and performing hydrolysis and condensation reaction, , Core-shell type silicon fine particles such as those described in WO 2009/051067 can also be used. In addition, a silicon fine particle containing a hydroxyl group, a functional group such as an epoxy group, a ketimine, a carboxyl group and a mercapto group in a molecular end or an intramolecular side chain can be used. Such silicone fine particles are preferred because they improve the dispersibility of the film-forming component or the radical polymerizable substance. In addition, the core layer and the shell layer need not necessarily have a clear boundary line.

또한, 상기 코어쉘형 실리콘 미립자를 구성하는 코어층은, 응력 완화 효과의 관점에서, 실리콘, 실리콘 고무가 바람직하고, 쉘층은 코어층의 동종의 중합체 또는 다른 종류의 중합체를 사용할 수 있지만, 코어층보다 쉘층의 물성(유리 전이 온도, 탄성률 등)이 높은 것이 바람직하다. 이에 의해, 코어층의 구조 및 형상을 안정화할 수 있고, 효과적으로 그 성능이 발휘된다. 특히, 실리콘, 실리콘 고무 등을 코어층으로 했을 때, 용제, 또는 접착제 조성물의 구성 재료에 의해 실리콘, 실리콘 고무가 팽윤하고, 그들 미립자끼리가 접착하여, 응집체를 형성하기 쉽다. 쉘층을 형성함으로써, 상기 응집체의 형성을 억제할 수 있다.The core layer constituting the core-shell type silicon fine particles is preferably silicon or silicone rubber from the viewpoint of the stress relaxation effect, and the shell layer can use the same kind of polymer as the core layer or another type of polymer. However, It is preferable that the physical properties (glass transition temperature, elastic modulus, etc.) of the shell layer are high. Thereby, the structure and shape of the core layer can be stabilized, and the performance thereof is effectively exhibited. Particularly, when silicone or silicone rubber is used as the core layer, the silicon or silicone rubber swells due to the constituent material of the solvent or the adhesive composition, and the fine particles are adhered to each other to form aggregates. By forming the shell layer, formation of the aggregate can be suppressed.

상기 실리콘 미립자의 코어층의 유리 전이 온도는, -130℃ 이상 -20℃ 이하인 것이 바람직하고, -125℃ 이상 -40℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 특히 바람직하게는 -120℃ 이상 -50℃ 이하이다. 이러한 실리콘 미립자는 접착제 조성물의 내부 응력을 충분히 완화할 수 있다.The glass transition temperature of the core layer of the silicon microparticles is preferably -130 DEG C to -20 DEG C, more preferably -125 DEG C to -40 DEG C, and particularly preferably -120 DEG C to -50 DEG C . Such silicon fine particles can sufficiently relax the internal stress of the adhesive composition.

또한, 내부 응력의 완화의 관점에서, 실리콘 미립자의 코어층의 중량 평균 분자량은 150만 이하인 것이 바람직하고, 150만 이하 50만 이상이 보다 바람직하고, 140만 이하 80만 이상이 특히 바람직하다.From the viewpoint of alleviating the internal stress, the weight average molecular weight of the core layer of the silicon fine particles is preferably 1.5 million or less, more preferably 1.5 million or more and 500,000 or more, and particularly preferably 1.4 million or more and 800,000 or more.

또한, 본 실시 형태에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 분석에 의해 하기 조건에서 측정하고, 표준 폴리스티렌의 검량선을 사용하여 환산함으로써 구해지는 것이다.The weight average molecular weight in the present embodiment is determined by gel permeation chromatography (GPC) analysis under the following conditions and converted by using a standard polystyrene calibration curve.

GPC 조건은 이하와 같다.The GPC conditions are as follows.

사용 기기: 히타치 L-6000형((주)히타치 세이사꾸쇼 제조, 상품명)Equipment: Hitachi L-6000 type (trade name, manufactured by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.)

검출기: L-3300RI((주)히타치 세이사꾸쇼 제조, 상품명)Detector: L-3300RI (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.)

칼럼: 겔 팩 GL-R420+겔 팩 GL-R430+겔 팩 GL-R440(계 3개)(히타치 가세이 고교(주) 제조, 상품명)Column: Gel pack GL-R420 + Gel pack GL-R430 + Gel pack GL-R440 (three in total) (trade name, manufactured by Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd.)

용리액: 테트라히드로푸란Eluent: tetrahydrofuran

측정 온도: 40℃Measuring temperature: 40 ° C

유량: 1.75ml/minFlow rate: 1.75 ml / min

또한, 상기 코어쉘형 실리콘 미립자에 있어서의 쉘층에 대해서는, 코어층의 구조 안정화, 형상 유지, 고기능화를 달성하기 위해서, 가교 구조를 갖고 있는 것이 바람직하고, 3차원 그물코 구조를 갖는 가교 구조인 것이 보다 바람직하고, 쉘층이 3차원 그물코 구조를 갖는 가교 구조인 것이 특히 바람직하다. 또한, 더욱 바람직하게는, 폴리메타크릴산메틸 공중합체 등의 유기 화합물, 또는 실리콘, 실리카, 실세스퀴옥산 등의 무기 화합물인 것이 좋다. 이에 의해, 실리콘에 의한 내부 응력의 완화가 효과적으로 발휘된다.The shell layer in the core-shell type silicon fine particles preferably has a crosslinked structure in order to attain structural stability, shape retention and high functionality of the core layer, more preferably a crosslinked structure having a three-dimensional network structure And the shell layer is a crosslinked structure having a three-dimensional network structure. Further, more preferably, it is an organic compound such as polymethyl methacrylate copolymer or an inorganic compound such as silicon, silica, silsesquioxane and the like. This effectively alleviates internal stress caused by silicon.

상기 실리콘 미립자, 코어쉘형 실리콘 미립자의 구조를 확인하는 방법으로서는, 상기 코어쉘형 실리콘 미립자의 단면을 표면 관찰 및 표면의 조성 분석을 함으로써 확인할 수 있다. 구체적인 방법으로서는, 투과형 전자 현미경(Transmission Electron Microscope; TEM)에 의한 구조 해석을 하기에 나타내는 조건에서 행함으로써 확인할 수 있다.As a method for confirming the structures of the silicon fine particles and the core-shell type silicon fine particles, it is possible to confirm the cross-section of the core-shell type silicon fine particles by observing the surface and analyzing the composition of the surface. As a specific method, it can be confirmed by carrying out a structural analysis by a transmission electron microscope (TEM) under the conditions shown below.

수지 주조: 에폭시 수지(리파인테크 가부시끼가이샤 제조 에포마운트 주제 및 경화제)Resin casting: Epoxy resin (epo-mount base and curing agent manufactured by Refine Tech Co., Ltd.)

중금속 염색: OsO4(사산화오스뮴)을 2질량% 수용액 제조하고, 그 중에서 24시간, 주조한 시료의 벌크 염색을 행한다.Heavy metal dyeing: A 2 mass% aqueous solution of OsO 4 (osmium tetraoxide) is prepared, and the cast sample is bulk dyed for 24 hours.

전처리: 크라이오 울트라마이크로톰(Cryo Ultramicrotome)에서 -120℃로 냉각하면서, 다이아몬드 나이프로 날 속도 0.6mm/초로 전처리하여, 박막을 제작한다.Pretreatment: Cryo Ultramicrotome is pre-treated with a diamond knife at a blade speed of 0.6 mm / sec while cooling to -120 캜 to prepare a thin film.

TEM 관찰: 히타치 하이테크놀러지즈사 제조 STEM/EDX 장치; HD-2700을 사용하여, 화상 또는 EDX 맵핑으로부터 코어층, 쉘층의 종류, 구성을 확인한다.TEM observation: STEM / EDX device manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation; Using the HD-2700, the core layer, the type of shell layer, and the configuration are confirmed from the image or EDX mapping.

또한, 다른 방법으로서는, 원자간력 현미경(Atomic Force Microscope; AFM)에 의한 구조 해석을 하기에 나타내는 조건으로 행할 수 있다.As another method, structural analysis by an atomic force microscope (AFM) can be performed under the conditions described below.

수지 주조: 에폭시 수지(리파인테크 가부시끼가이샤 제조 에포마운트 주제 및 경화제)Resin casting: Epoxy resin (epo-mount base and curing agent manufactured by Refine Tech Co., Ltd.)

전처리: 크라이오 울트라마이크로톰에서 -120℃로 냉각하면서, 다이아몬드 나이프로 날 속도 0.6mm/초로 전처리하여, 박막을 제작한다.Pretreatment: Cryo ultra-microtome is pre-treated with a diamond knife at a blade speed of 0.6 mm / sec while cooling to -120 캜 to prepare a thin film.

관찰: SII·나노 테크놀로지사 제조의 원자간력 현미경 AFM을 사용하여, 단면을 관찰하고, DFM 모드에서, 형상상과 위상상을 측정하여, 위상상으로 코어쉘 구조를 확인한다.Observation: The cross-section was observed using an atomic force microscope AFM manufactured by SII Nanotechnology Inc., and the shape of the core and the phase were measured in the DFM mode to confirm the core shell structure on the image.

상기 실리콘 미립자의 평균 입경은 0.05㎛ 이상 25㎛ 이하가 바람직하고, 0.1㎛ 이상 20㎛ 이하가 보다 바람직하고, 0.6㎛ 이상 10㎛ 이하가 특히 바람직하다. 상기 실리콘 미립자의 평균 입경을 상기 범위 내로 함으로써, 접착제 조성물의 유동성과 내부 응력의 완화와의 양립이 용이하게 된다.The average particle diameter of the silicon fine particles is preferably 0.05 탆 or more and 25 탆 or less, more preferably 0.1 탆 or more and 20 탆 or less, and particularly preferably 0.6 탆 or more and 10 탆 or less. When the average particle diameter of the silicon fine particles is within the above range, compatibility between the fluidity of the adhesive composition and the relaxation of internal stress becomes easy.

상기 실리콘 미립자의 배합량은, 접착제 성분(도전 입자를 제외한 접착제 조성물)의 질량을 기준으로서, 1질량% 이상 50질량% 이하인 것이 바람직하고, 3질량% 이상 30질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 5질량% 이상 30질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 실리콘 미립자의 배합량을 상기 범위 내로 함으로써, 내부 응력의 완화, 및 접착제 조성물의 가요성(탄성률, 신장) 및 접착 강도를 충분히 얻을 수 있다.The blending amount of the silicon fine particles is preferably 1% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 3% by mass or more and 30% by mass or less based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles) % Or more and 30 mass% or less. By making the blending amount of the silicon fine particles fall within the above range, the internal stress can be alleviated and the flexibility (elastic modulus, elongation) and adhesive strength of the adhesive composition can be sufficiently obtained.

코어쉘형 실리콘 미립자는 단독으로 사용하는 것 이외에, 2종 이상을 병용할 수도 있다. 또한, 본원 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위이면, 다른 실리콘 미립자와 병용할 수도 있다.The core-shell type silicon fine particles may be used alone or in combination of two or more. Insofar as the effect of the present invention is not impaired, other silicon fine particles may be used in combination.

다른 실리콘 미립자는, 분산성 및 내부 응력의 완화의 관점에서, 실리콘 미립자의 중량 평균 분자량은 150만 이하인 것이 바람직하고, 150만 이하 50만 이상이 보다 바람직하고, 140만 이하 80만 이상이 특히 바람직하다. 또한, 다른 실리콘 미립자는, 삼차원 가교 구조를 갖는 것이 바람직하다. 「삼차원 가교 구조를 갖다」란, 중합체쇄가 삼차원 그물코 구조를 갖고 있는 것을 나타낸다. 삼차원 가교 구조를 갖는 실리콘 미립자는, 수지에 대한 분산성이 높고, 경화 후의 응력 완화성이 한층 우수하다. 100만 이상의 중량 평균 분자량 및/또는 삼차원 가교 구조를 갖는 실리콘 미립자는, 열가소성 수지 등의 중합체, 단량체, 용매 등에의 용해성이 낮기 때문에, 분산성 및 응력 완화 효과를 한층 현저하게 얻을 수 있다.From the viewpoint of dispersibility and alleviation of internal stress, the other silicon fine particles preferably have a weight average molecular weight of not more than 1.5 million, more preferably not less than 1.5 million, and more preferably not less than 1.4 million but not less than 800,000 Do. Further, the other silicon fine particles preferably have a three-dimensional crosslinked structure. "Having a three-dimensional crosslinked structure" means that the polymer chain has a three-dimensional network structure. The silicone fine particles having a three-dimensional crosslinked structure have high dispersibility to a resin and further excellent stress relaxation after curing. Silicone fine particles having a weight average molecular weight of not less than 1,000,000 and / or a three-dimensional crosslinked structure are less soluble in a polymer such as a thermoplastic resin, a monomer, a solvent, etc., so that the dispersibility and the stress relaxation effect can be obtained more remarkably.

다른 실리콘 미립자로서는, 고무 탄성을 갖는 폴리오르가노실세스퀴옥산 수지의 미립자를 들 수 있고, 구상 및 부정형의 실리콘 미립자가 사용된다. 구체적으로는, 비닐기를 적어도 2개 함유하는 오르가노폴리실록산과 규소 원자에 결합한 수소 원자를 적어도 2개 갖는 오르가노하이드로젠폴리실록산과 백금계 촉매와의 반응에 의해 얻어지는 실리콘 미립자(예를 들면, 일본 특허 공개 소 62-257939호 공보 참조), 알케닐기를 갖는 오르가노폴리실록산, 히드로실릴기를 갖는 오르가노폴리실록산 및 백금계 촉매를 사용하여 얻어지는 실리콘 미립자(예를 들면 일본 특허 공개 소 63-77942호 공보 참조)나 디오르가노실록산, 모노오르가노실세스퀴옥산, 트리오르가노실록산 및 백금계 촉매를 사용하여 얻어지는 실리콘 미립자(예를 들면, 일본 특허 공개 소 62-270660호 공보 참조), 메틸실란트리올 및/또는 그의 부분 축합물의 물/알코올 용액을 알칼리 수용액에 적하하고 중축합 반응을 행하게 하여 얻어지는 실리콘 미립자(예를 들면, 특허 제3970453호 공보 참조) 등을 사용할 수 있다. 또한, 분산성이나 기판과의 밀착성을 향상시키기 위해서, 에폭시 화합물을 첨가 또는 공중합시킨 실리콘 미립자(예를 들면, 일본 특허 공개 평 3-167228호 공보 참조), 아크릴산 에스테르 화합물을 첨가 또는 공중합시킨 실리콘 미립자 등을 사용할 수도 있다.Examples of other silicon fine particles include fine particles of polyorganosilsesquioxane resin having rubber elasticity, and spherical and amorphous silicon fine particles are used. Concretely, silicon fine particles obtained by reacting an organopolysiloxane containing at least two vinyl groups and an organohydrogenpolysiloxane having at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms with a platinum-based catalyst (for example, Open No. 62-257939), organopolysiloxanes having an alkenyl group, organopolysiloxanes having a hydrosilyl group, and silicon fine particles obtained by using a platinum catalyst (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-77942) (For example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-270660), methylsilanetriol and / or methylsilanetriol obtained by using a diorganosiloxane, a monoorganosilsesquioxane, a triorganosiloxane and a platinum- The water / alcohol solution of the partial condensate is added dropwise to the aqueous alkaline solution, and a polycondensation reaction is carried out. Cone particles and the like can be used (for example, see JP Patent No. 3970453). In addition, in order to improve the dispersibility and the adhesion with the substrate, it is also possible to use silicon fine particles (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-167228) or epoxy fine particles obtained by adding or copolymerizing an acrylic acid ester compound Etc. may be used.

접착제 조성물에 함유되는 라디칼 중합성 화합물은, 라디칼 중합 개시제의 작용에서 라디칼 중합을 발생하는 화합물을 말하는데, 광이나 열 등의 활성화 에너지를 부여함으로써 그 자체 라디칼을 발생하는 화합물일 수도 있다. 라디칼 중합성 화합물로서는, 예를 들면 비닐기, (메트)아크릴로일기, 아릴기, 말레이미드기 등의 활성 라디칼에 의해 중합하는 관능기를 갖는 화합물을 적절하게 사용할 수 있다.The radical polymerizable compound contained in the adhesive composition refers to a compound that generates radical polymerization under the action of a radical polymerization initiator and may be a compound that generates its own radical by imparting activation energy such as light or heat. As the radical polymerizing compound, for example, a compound having a functional group polymerizable by an active radical such as a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an aryl group or a maleimide group can be suitably used.

라디칼 중합성 화합물로서 구체적으로는, 에폭시(메트)아크릴레이트 올리고머, 우레탄(메트)아크릴레이트 올리고머, 폴리에테르(메트)아크릴레이트 올리고머, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트 올리고머 등의 올리고머, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 변성 2관능 (메트)아크릴레이트, 이소시아누르산 변성 3관능 (메트)아크릴레이트, 비스페녹시에탄올플루오렌아크릴레이트, 비스페놀플루오렌디글리시딜에테르의 글리시딜기에 (메트)아크릴산을 부가시킨 에폭시(메트)아크릴레이트, 비스페녹시에탄올플루오렌아크릴레이트, 비스페놀플루오렌디글리시딜에테르의 글리시딜기에 (메트)아크릴산을 부가시킨 에폭시(메트)아크릴레이트, 비스페놀플루오렌디글리시딜에테르의 글리시딜기에 에틸렌글리콜이나 프로필렌글리콜을 부가시킨 화합물에 (메트)아크릴로일옥시기를 도입한 화합물, 하기 화학식 (A) 또는 (B)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of the radical polymerizable compound include oligomers such as epoxy (meth) acrylate oligomer, urethane (meth) acrylate oligomer, polyether (meth) acrylate oligomer and polyester (meth) acrylate oligomer, trimethylolpropane tri (Meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, isocyanuric acid-modified trifunctional (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, isocyanuric acid-modified bifunctional (meth) (Meth) acrylic acid having a (meth) acrylic acid added to the glycidyl group of bisphenol fluorene diglycidyl ether, Epoxy (meth) acrylate in which (meth) acrylic acid is added to the glycidyl group of bisphenol fluorene diglycidyl ether, glycidyl ether of bisphenol fluorenediglycidyl ether (Meth) acryloyloxy group is introduced into a compound obtained by adding ethylene glycol or propylene glycol to a silyl group, a compound represented by the following formula (A) or (B), and the like.

Figure pct00001
Figure pct00001

상기 화학식 (A) 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, a 및 b는 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수를 나타낸다.In the above formula (A), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each independently represent an integer of 1 to 8.

Figure pct00002
Figure pct00002

상기 화학식 (B) 중, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, c 및 d는 각각 독립적으로 0 내지 8의 정수를 나타낸다.In the formula (B), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and c and d each independently represent an integer of 0 to 8.

또한, 라디칼 중합성 화합물로서는, 단독으로 30℃로 정치한 경우에 왁스상, 납상, 결정상, 유리상, 분상 등의 유동성이 없고 고체 상태를 나타내는 것이어도, 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 이러한 라디칼 중합성 화합물로서 구체적으로는 N,N'-메틸렌비스아크릴아미드, 다이아세톤아크릴아미드, N-메틸올아크릴아미드, N-페닐메타크릴아미드, 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, 트리스(2-아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, N-페닐말레이미드, N-(o-메틸페닐)말레이미드, N-(m-메틸페닐)말레이미드, N-(p-메틸페닐)-말레이미드, N-(o-메톡시페닐)말레이미드, N-(m-메톡시페닐)말레이미드, N-(p-메톡시페닐)-말레이미드, N-메틸말레이미드, N-에틸말레이미드, N-옥틸말레이미드, 4,4'-디페닐메탄비스말레이미드, m-페닐렌비스말레이미드, 3,3'-디메틸-5,5'-디에틸-4,4'-디페닐메탄비스말레이미드, 4-메틸-1,3-페닐렌비스말레이미드, N-메타크릴록시말레이미드, N-아크릴옥시말레이미드, 1,6-비스말레이미드-(2,2,4-트리메틸)헥산, N-메타크릴로일옥시숙신산이미드, N-아크릴로일옥시숙신산이미드, 2-나프틸메타크릴레이트, 2-나프틸아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디비닐에틸렌요소, 디비닐프로필렌요소, 2-폴리스티릴에틸메타크릴레이트, N-페닐-N'-(3-메타크릴로일옥시-2-히드록시프로필)-p-페닐렌디아민, N-페닐-N'-(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로필)-p-페닐렌디아민, 테트라메틸피페리딜메타크릴레이트, 테트라메틸피페리딜아크릴레이트, 펜타메틸피페리딜메타크릴레이트, 펜타메틸피페리딜아크릴레이트, 옥타데실아크릴레이트, N-t-부틸아크릴아미드, 디아세톤아크릴아미드, N-(히드록시메틸)아크릴아미드, 하기 화학식 (C) 내지 (L) 중 어느 하나로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.The radical polymerizing compound may be used without particular limitation, even if it exhibits a solid state without any fluidity such as a wax phase, a lead phase, a crystalline phase, a glass phase, and a powder phase when it is left alone at 30 캜. Specific examples of such radically polymerizable compounds include N, N'-methylenebisacrylamide, diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide, N-phenylmethacrylamide, 2-acrylamide- N-phenylmaleimide, N- (o-methylphenyl) maleimide, N- (m-methylphenyl) maleimide, N- (p-methylphenyl) -maleimide , N- (m-methoxyphenyl) maleimide, N- (p-methoxyphenyl) -maleimide, N- methylmaleimide, N- ethylmaleimide, Octylmaleimide, 4,4'-diphenylmethane bismaleimide, m-phenylene bismaleimide, 3,3'-dimethyl-5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethane bis Maleic anhydride, maleimide, 4-methyl-1,3-phenylene bismaleimide, N-methacryloxy maleimide, N-acryloxymaleimide, 1,6-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) , N-methacryloyloxysuccinic acid imide , N-acryloyloxysuccinimide, 2-naphthyl methacrylate, 2-naphthyl acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, divinylethylene element, divinylpropylene element, 2- polystyrylethyl methacrylate (3-methacryloyloxy-2-hydroxypropyl) -p-phenylenediamine, N-phenyl-N ' Propyl) -p-phenylenediamine, tetramethylpiperidyl methacrylate, tetramethylpiperidyl acrylate, pentamethylpiperidyl methacrylate, pentamethylpiperidyl acrylate, octadecyl acrylate, Nt- Butyl acrylamide, diacetone acrylamide, N- (hydroxymethyl) acrylamide, and compounds represented by any of the following formulas (C) to (L).

Figure pct00003
Figure pct00003

상기 화학식 (C) 중, e는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.In the above formula (C), e represents an integer of 1 to 10.

Figure pct00004
Figure pct00004

Figure pct00005
Figure pct00005

상기 화학식 (E) 중, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, f는 15 내지 30의 정수를 나타낸다.In the formula (E), R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and f represents an integer of 15 to 30.

Figure pct00006
Figure pct00006

상기 화학식 (F) 중, R7 및 R8은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, g는 15 내지 30의 정수를 나타낸다.In the above formula (F), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and g represents an integer of 15 to 30.

Figure pct00007
Figure pct00007

상기 화학식 (G) 중, R9는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula (G), R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure pct00008
Figure pct00008

상기 화학식 (H) 중, R10은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, h는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.In the above formula (H), R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group, and h represents an integer of 1 to 10.

Figure pct00009
Figure pct00009

상기 화학식 (I) 중, R11은 수소 원자 또는 하기 화학식 (i) 또는 (ii)로 표시되는 유기기를 나타내고, i는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.In the above formula (I), R 11 represents a hydrogen atom or an organic group represented by the following formula (i) or (ii), and i represents an integer of 1 to 10.

Figure pct00010
Figure pct00010

Figure pct00011
Figure pct00011

Figure pct00012
Figure pct00012

상기 화학식 (J) 중, R12는 수소 원자 또는 하기 화학식 (iii) 또는 (iv)로 표시되는 유기기를 나타내고, j는 1 내지 10의 정수를 나타낸다. 또한, R12는 각각 동일하거나 상이할 수도 있다.In the above formula (J), R 12 represents a hydrogen atom or an organic group represented by the following formula (iii) or (iv), and j represents an integer of 1 to 10. Each of R 12 may be the same or different.

Figure pct00013
Figure pct00013

Figure pct00014
Figure pct00014

Figure pct00015
Figure pct00015

상기 화학식 (K) 중, R13은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula (K), R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure pct00016
Figure pct00016

상기 화학식 (L) 중, R14는 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다.In the above formula (L), R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group.

또한, 라디칼 중합성 화합물로서, 우레탄(메트)아크릴레이트를, 단독으로 또는 다른 라디칼 중합성 화합물과 함께 사용할 수 있다. 우레탄(메트)아크릴레이트를 사용함으로써 가요성이 향상하고, PET, PC, PEN, COP 등의 유기 기재에 대한 접착 강도를 향상시킬 수 있다.As the radical polymerizable compound, urethane (meth) acrylate can be used alone or in combination with other radical polymerizable compounds. The use of urethane (meth) acrylate improves flexibility and improves the adhesion strength to organic substrates such as PET, PC, PEN, and COP.

우레탄(메트)아크릴레이트로서는 특별히 제한은 없지만, 하기 화학식 (M)으로 표시되는 우레탄(메트)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 여기서, 하기 화학식 (M)으로 표시되는 우레탄(메트)아크릴레이트는 지방족 또는 지환식계 디이소시아네이트와, 적어도 1종 이상의 지방족 또는 지환식 에스테르계 디올 또는 지방족 또는 지환식 카르보네이트계 디올과의 축합 반응에 의해 얻을 수 있다.The urethane (meth) acrylate is not particularly limited, but it is preferable to use urethane (meth) acrylate represented by the following formula (M). Here, the urethane (meth) acrylate represented by the following formula (M) is a condensation reaction between an aliphatic or alicyclic diisocyanate and at least one aliphatic or alicyclic ester diol or an aliphatic or alicyclic carbonate diol Lt; / RTI >

Figure pct00017
Figure pct00017

상기 화학식 (M) 중, R15 및 R16은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R17은 에틸렌기 또는 프로필렌기, R18은 포화 지방족기 또는 포화 지환식기를 나타내고, R19는 에스테르기를 함유하는 포화 지방족기 또는 포화 지환식기, 카르보네이트기를 함유하는 포화 지방족기 또는 포화 지환식기를 나타내고, k는 1 내지 40의 정수를 나타낸다. 또한, 식 중, R17끼리, R18끼리, R19끼리는 각각 동일해도 상이할 수도 있다.In the formula (M), R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 17 represents an ethylene group or a propylene group, R 18 represents a saturated aliphatic group or a saturated alicyclic group, and R 19 represents an ester group And a saturated aliphatic group or a saturated alicyclic group containing a saturated alicyclic group or a carbonate group, and k represents an integer of 1 to 40, In the formula, R 17 , R 18 and R 19 may be the same or different.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트를 구성하는 지방족계 디이소시아네이트는 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트, 2-메틸펜탄-1,5-디이소시아네이트, 3-메틸펜탄-1,5-디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌-1,6-디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌-1,6-디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 시클로헥실디이소시아네이트, 수소 첨가 크실렌디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 트리메틸크실렌디이소시아네이트 등으로부터 선택된다.The aliphatic diisocyanate constituting the urethane (meth) acrylate is at least one selected from the group consisting of tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, Diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene-1,6-diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene-1,6-diisocyanate, isophorone diisocyanate, cyclohexyldiisocyanate, hydrogenated xylene Diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated trimethyl xylylene diisocyanate, and the like.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트를 구성하는 지방족 에스테르계 디올은, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,2-펜탄디올, 1,4-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2,4-디메틸-2,4-펜탄디올, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 1,2-헥산디올, 1,5-헥산디올, 1,6-헥산디올, 2,5-헥산디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 2,5-디메틸-2,5-헥산디올, 1,2-옥탄디올, 1,8-옥탄디올, 1,7-헵탄디올, 1,9-노난디올, 1,2-데칸디올, 1,10-데칸디올, 1,12-데칸디올, 도데칸디올, 피나콜, 1,4-부틴디올, 트리에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 시클로헥산디메탄올, 1,4-시클로헥산디메탄올 등의 포화의 저분자 글리콜류, 및 아디프산, 3-메틸아디프산, 2,2,5,5-테트라메틸아디프산, 말레산, 푸마르산, 숙신산, 2,2-디메틸숙신산, 2-에틸-2-메틸숙신산, 2,3-디메틸숙신산, 옥살산, 말론산, 메틸말론산, 에틸 말론산, 부틸말론산, 디메틸말론산, 글루타르산, 2-메틸글루타르산, 3-메틸글루타르산, 2,2-디메틸글루타르산, 3,3-디메틸글루타르산, 2,4-디메틸글루타르산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세박산 등의 이염기산 또는 이들에 대응하는 산 무수물을 탈수 축합시켜 얻어지는 폴리에스테르디올류나 ε-카프로락톤 등의 환상 에스테르 화합물을 개환 중합하여 얻어지는 폴리에스테르디올 등으로부터 선택된다. 상기 디올류 및 디카르복실산으로부터 얻어지는 폴리에스테르디올류는 단독으로 사용하는 것 이외에, 2종 이상의 폴리에스테르디올류를 혼합하여 사용할 수 있다.The aliphatic ester diol constituting the urethane (meth) acrylate is at least one selected from the group consisting of ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, Glycol, 1,2-pentanediol, 1,4-pentanediol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2-methyl- Pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,2-hexanediol, 1,5-hexanediol, 1,6-hexanediol, 2,5- 1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,2-octanediol, 1,8-octanediol, 1,7-heptanediol, , 2-decanediol, 1,10-decanediol, 1,12-decanediol, dodecanediol, pinacol, 1,4-butynediol, triethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, cyclohexanedimethanol , And 1,4-cyclohexane dimethanol, and saturated low molecular glycols such as adipic acid, 3-methyladipic acid, 2,2,5,5-tetramethyladipic acid, maleic acid, fumaric acid, 2-methylsuccinic acid, 2,3-dimethylsuccinic acid, oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, butylmalonic acid, dimethylmalonic acid, glutaric acid, 2 -Methylglutaric acid, 3-methylglutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, 3,3-dimethylglutaric acid, 2,4-dimethylglutaric acid, pimelic acid, A polyester diol obtained by dehydration condensation of a dibasic acid such as sebacic acid or a corresponding acid anhydride thereof, a polyester diol obtained by ring-opening polymerization of a cyclic ester compound such as? -Caprolactone, and the like. The polyester diols obtained from the diols and dicarboxylic acids may be used alone or in combination with two or more kinds of polyester diols.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트를 구성하는 폴리카르보네이트계 디올은, 적어도 1종 이상의 상기 글리콜류와 포스겐과의 반응에 의해 얻어지는 폴리카르보네이트 디올류로부터 선택된다. 상기 글리콜류와 포스겐과의 반응에 의해 얻어지는 폴리카르보네이트 디올류는 단독으로 사용하는 것 이외에, 2종 이상의 폴리카르보네이트계 디올을 혼합하여 사용할 수도 있다.The polycarbonate diol constituting the urethane (meth) acrylate is selected from polycarbonate diols obtained by reaction of at least one of the above-mentioned glycols with phosgene. The polycarbonate diol obtained by the reaction of the glycols and phosgene may be used alone or in combination with two or more polycarbonate diols.

상기 우레탄(메트)아크릴레이트의 중량 평균 분자량은 PET, PC, PEN, COP 등의 기재에 대한 접착 강도 향상의 관점에서, 5000 이상 30000 미만의 범위 내에서 자유롭게 조정하고, 적절하게 사용할 수 있다. 상기 우레탄(메트)아크릴레이트의 중량 평균 분자량이 상기 범위 내이면, 유연성과 응집력의 양쪽을 얻을 수 있고, PET, PC, PEN, COP 등의 유기 기재와의 접착 강도가 향상하고, 우수한 접속 신뢰성을 얻을 수 있다. 또한, 상기 우레탄(메트)아크릴레이트의 중량 평균 분자량이 상기 범위 내이면, 접착제 조성물이 충분한 가요성과 유동성을 양립시키는 것이 용이하게 된다. 또한, 이러한 효과를 보다 충분히 얻는 관점에서, 상기 우레탄(메트)아크릴레이트의 중량 평균 분자량은, 80000 이상 25000 미만인 것이 보다 바람직하고, 10000 이상 20000 미만이 특히 바람직하다.The weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate can be freely adjusted within a range of from 5000 to less than 30000 from the viewpoint of improvement of adhesion strength to a base material such as PET, PC, PEN, COP and the like. When the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is within the above range, both flexibility and cohesive force can be obtained, adhesion strength with organic substrates such as PET, PC, PEN, and COP is improved, Can be obtained. When the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is within the above range, it is easy for the adhesive composition to have both sufficient flexibility and fluidity. From the viewpoint of more fully obtaining such effects, the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is more preferably from 80,000 to less than 25,000, and particularly preferably from 10000 to less than 20,000.

또한, 본 실시 형태에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 분석에 의해 하기 조건으로 측정하고, 표준 폴리스티렌의 검량선을 사용하여 환산함으로써 구해지는 것이다.The weight average molecular weight in the present embodiment is determined by gel permeation chromatography (GPC) analysis under the following conditions and converted by using a standard polystyrene calibration curve.

GPC 조건은, 이하와 같다.The GPC conditions are as follows.

사용 기기: 히타치 L-6000형((주)히타치 세이사꾸쇼 제조, 상품명)Equipment: Hitachi L-6000 type (trade name, manufactured by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.)

검출기: L-3300RI((주)히타치 세이사꾸쇼 제조, 상품명)Detector: L-3300RI (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.)

칼럼: 겔 팩 GL-R420+겔 팩 GL-R430+겔 팩 GL-R440(계 3개)(히타치 가세이 고교(주) 제조, 상품명)Column: Gel pack GL-R420 + Gel pack GL-R430 + Gel pack GL-R440 (three in total) (trade name, manufactured by Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd.)

용리액: 테트라히드로푸란Eluent: tetrahydrofuran

측정 온도: 40℃Measuring temperature: 40 ° C

유량: 1.75ml/minFlow rate: 1.75 ml / min

상기 우레탄(메트)아크릴레이트의 배합량은, 접착제 성분(도전 입자를 제외한 접착제 조성물)의 질량을 기준으로서, 5질량% 이상 95질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이상 80질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 15질량% 이상 70질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 우레탄(메트)아크릴레이트의 배합량이 상기 범위 내이면, 경화 후에 충분한 내열성이 얻어짐과 함께, 필름상 접착제로서 사용하는 경우에, 양호한 필름 형성성을 얻는 것이 용이하게 된다.The blending amount of the urethane (meth) acrylate is preferably 5% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles) By mass, and particularly preferably from 15% by mass to 70% by mass. When the blending amount of the urethane (meth) acrylate is within the above range, sufficient heat resistance is obtained after curing, and when used as a film-like adhesive, it becomes easy to obtain good film formability.

또한, 라디칼 중합성 화합물에 속하는 화합물인, 인산기를 갖는 비닐 화합물(인산기 함유 비닐 화합물)이나, N-비닐 화합물 및 N,N-디알킬 비닐 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 N-비닐계 화합물을, 이들 이외의 라디칼 중합성 화합물과 병용할 수 있다. 인산기 함유 비닐 화합물의 병용에 의해, 접착제 조성물의 금속 기재에의 접착성을 향상시키는 것이 가능하게 된다. 또한, N-비닐계 화합물의 병용에 의해, 접착제 조성물의 가교율을 향상시킬 수 있다.Further, it is also possible to use an N-vinyl compound selected from the group consisting of a vinyl compound having a phosphoric acid group (a vinyl compound containing a phosphoric acid group), an N-vinyl compound and an N, N- And can be used in combination with other radical polymerizing compounds. By using the phosphoric acid group-containing vinyl compound in combination, it becomes possible to improve the adhesiveness of the adhesive composition to the metal substrate. Further, by using the N-vinyl compound in combination, the crosslinking ratio of the adhesive composition can be improved.

인산기 함유 비닐 화합물로서는, 인산기 및 비닐기를 갖는 화합물이면 특별히 제한은 없지만, 하기 화학식 (N) 내지 (P)로 표시되는 화합물이 바람직하다.The phosphoric acid group-containing vinyl compound is not particularly limited as long as it is a compound having a phosphoric acid group and a vinylic group, but a compound represented by the following formulas (N) to (P) is preferable.

Figure pct00018
Figure pct00018

상기 화학식 (N) 중, R20은 (메트)아크릴로일옥시기를 나타내고, R21은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, l 및 m은 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수를 나타낸다. 또한, 식 중, R20끼리, R21끼리, l끼리 및 m끼리는 각각 동일하거나 상이할 수도 있다.In the formula (N), R 20 represents a (meth) acryloyloxy group, R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group, and l and m each independently represent an integer of 1 to 8. In the formula, R 20 , R 21 , l and m may be the same or different from each other.

Figure pct00019
Figure pct00019

상기 화학식 (O) 중, R22는 (메트)아크릴로일옥시기를 나타내고, n, o 및 p는 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수를 나타낸다. 또한, 식 중, R22끼리, n끼리, o끼리 및 p끼리는 각각 동일하거나 상이할 수도 있다.In the formula (O), R 22 represents a (meth) acryloyloxy group, and n, o and p each independently represent an integer of 1 to 8. In the formula, R 22 may be the same or different from each other, and n, o and p may be the same or different.

Figure pct00020
Figure pct00020

상기 화학식 (P) 중, R23은 (메트)아크릴로일옥시기를 나타내고, R24는 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, q 및 r은 각각 독립적으로 1 내지 8의 정수를 나타낸다. 또한, 식 중, R23끼리, R24끼리, q끼리 및 r끼리는 각각 동일하거나 상이할 수도 있다.In the above formula (P), R 23 represents a (meth) acryloyloxy group, R 24 represents a hydrogen atom or a methyl group, q and r each independently represent an integer of 1 to 8. In the formula, R 23 , R 24 , q and r may be the same or different from each other.

인산기 함유 비닐 화합물로서 구체적으로는, 애시드 포스포옥시에틸메타크릴레이트, 애시드 포스포옥시에틸아크릴레이트, 애시드 포스포옥시프로필메타크릴레이트, 애시드 포스포옥시폴리옥시에틸렌글리콜모노메타크릴레이트, 애시드 포스포옥시폴리옥시프로필렌글리콜모노메타크릴레이트, 2,2'-디(메트)아크릴로일옥시디에틸포스페이트, EO 변성 인산 디메타크릴레이트, 인산 변성 에폭시아크릴레이트, 인산 비닐 등을 들 수 있다.Specific examples of the phosphoric acid group-containing vinyl compound include acid phosphoxyethyl methacrylate, acid phosphoxyethyl acrylate, acid phosphoxypropyl methacrylate, acid phosphoxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, Polyoxypropylene glycol monomethacrylate, 2,2'-di (meth) acryloyloxydiethyl phosphate, EO-modified phosphoric acid dimethacrylate, phosphoric acid-modified epoxy acrylate, and vinyl phosphate.

한편, N-비닐계 화합물로서, 구체적으로는 N-비닐이미다졸, N-비닐피리딘, N-비닐피롤리돈, N-비닐포름아미드, N-비닐카프로락탐, 4,4'-비닐리덴비스(N,N-디메틸아닐린), N-비닐아세트아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드 등을 들 수 있다.Specific examples of the N-vinyl compound include N-vinylimidazole, N-vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, 4,4'- Bis (N, N-dimethylaniline), N-vinylacetamide, N, N-dimethylacrylamide and N, N-diethylacrylamide.

인산기 함유 비닐 화합물 및 N-비닐계 화합물의 배합량은, 인산기 함유 비닐 화합물 이외의 라디칼 중합성 화합물의 배합량과는 독립적으로, 접착제 성분(도전 입자를 제외한 접착제 조성물)의 질량을 기준으로서, 0.2질량% 이상 15질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.3질량% 이상 10질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.5질량% 이상 5질량% 이하가 특히 바람직하다. 인산기 함유 비닐 화합물 및 N-비닐계 화합물의 배합량이 상기 범위 내이면, 접착제 조성물이 높은 접착 강도와, 접착제 조성물의 경화 후의 물성을 양립시키는 것이 용이하게 되고, 신뢰성을 확보하기 쉬워진다.The compounding amount of the phosphoric acid group-containing vinyl compound and the N-vinyl compound is preferably 0.2% by mass or less based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles), independently of the compounding amount of the radically polymerizable compound other than the phosphoric acid group- Or more and 15 mass% or less, more preferably 0.3 mass% or more and 10 mass% or less, and particularly preferably 0.5 mass% or more and 5 mass% or less. When the blending amount of the phosphoric acid group-containing vinyl compound and the N-vinyl compound is within the above range, it becomes easy to make both the adhesive strength of the adhesive composition and the physical properties after curing of the adhesive composition easy to assure reliability.

상기 인산기 함유 비닐 화합물 및 N-비닐 화합물을 제외한 라디칼 중합성 화합물의 배합량은, 접착제 성분(도전 입자를 제외한 접착제 조성물)의 질량을 기준으로서, 5질량% 이상 95질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이상 80질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 15질량% 이상 70질량% 이하가 특히 바람직하다. 상기 라디칼 중합성 화합물의 배합량이 상기 범위 내이면, 경화 후에 충분한 내열성이 얻어짐과 함께, 필름상 접착제로서 사용하는 경우에, 양호한 필름 형성성을 얻는 것이 용이하게 된다.The compounding amount of the radical polymerizing compound other than the phosphoric acid group-containing vinyl compound and the N-vinyl compound is preferably 5% by mass or more and 95% by mass or less based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles) More preferably not less than 80% by mass, and particularly preferably not less than 15% by mass and not more than 70% by mass. When the compounding amount of the radical polymerizing compound is within the above range, sufficient heat resistance can be obtained after curing, and when used as a film-like adhesive, it becomes easy to obtain good film formability.

접착제 조성물에 함유되는 라디칼 중합 개시제로서는, 종래부터 알려져 있는 유기 과산화물이나 아조 화합물 등, 외부로부터의 에너지의 부여에 의해 라디칼을 발생하는 화합물을 사용할 수 있다. 라디칼 중합 개시제로서는 안정성, 반응성, 상용성의 관점에서, 1분간 반감기 온도가 90℃ 이상 175℃ 이하이고, 또한 분자량이 180 이상 1000 이하의 유기 과산화물이 바람직하다. 1분간 반감기 온도가 이 범위에 있음으로써, 저장 안정성이 우수하고, 라디칼 중합성도 충분히 높고, 단시간에 경화할 수 있다.As the radical polymerization initiator contained in the adhesive composition, conventionally known compounds such as organic peroxides and azo compounds capable of generating radicals by the application of external energy can be used. The radical polymerization initiator is preferably an organic peroxide having a half-life temperature for one minute of 90 占 폚 or more and 175 占 폚 or less and a molecular weight of 180 or more and 1,000 or less from the viewpoints of stability, reactivity and compatibility. When the one-minute half-life temperature is within this range, the storage stability is excellent, the radical polymerization is sufficiently high, and curing can be performed in a short time.

라디칼 중합 개시제로서는, 구체적으로는 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시네오데카노에이트, 디라우로일퍼옥시드, 1-시클로헥실-1-메틸에틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(2-에틸헥사노일퍼옥시)헥산, t-헥실퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시네오헵타노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디-t-부틸퍼옥시헥사히드로테레프탈레이트, t-아밀퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, 3-히드록시-1,1- 디메틸 부틸퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-아밀퍼옥시네오데카노에이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(3-메틸벤조일)퍼옥시드, 디벤조일퍼옥시드, 디(4-메틸벤조일)퍼옥시드, t-헥실퍼옥시이소프로필모노카르보네이트, t-부틸퍼옥시말레산, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시라우레이트, 2,5-디메틸-2,5-디(3-메틸벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥실모노카르보네이트, t-헥실퍼옥시벤조에이트, 2,5-디메틸-2,5-디(벤조일퍼옥시)헥산, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 디부틸퍼옥시트리메틸아디페이트, t-아밀퍼옥시노르말옥토에이트, t-아밀퍼옥시이소노나노에이트, t-아밀퍼옥시벤조에이트 등의 유기 과산화물, 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐 에탄), 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산), 1,1'-아조비스(1-시클로헥산카르보니트릴) 등의 아조 화합물 등을 들 수 있다. 이들 화합물은, 단독으로 사용하는 것 이외에, 2종 이상의 화합물을 혼합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the radical polymerization initiator include 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyneodecanoate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di (2-ethylhexyl) Oxydicarbonate, cumyl peroxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxyneodecanoate, dilauryl peroxide, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxyneo Decanoate, t-hexyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexa (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate , t-butylperoxyneoheptanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethylhexa Nonoate, 3-hydroxy-1,1-di Methyl butyl peroxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethyl butyl peroxy-2-ethyl hexanoate, t-amyl peroxyneodecanoate, t-amyl peroxy-2-ethylhexa T-butyl peroxymaleic acid, t-butyl peroxymaleic acid, t-butyl peroxymaleic acid, t-butyl peroxymaleic acid, t-butyl peroxymaleic acid, Butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butyl peroxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (3-methylbenzoylperoxy) hexane, 2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl peroxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoyl peroxy) hexane, t-butyl peroxybenzoate, dibutyl peroxytrimethyl adipate , t-amyl peroxynormal octoate, t-amyl peroxyisonanoate and t-amyl peroxybenzoate, organic peroxides such as 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 1 ' -azobis (1-acetoxy-1-phenyl) Azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), dimethyl-2,2'-azobisisobutyronitrile, 4,4'- Azo compounds such as azobis (4-cyanovaleric acid) and 1,1'-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile). These compounds may be used alone or in combination of two or more.

또한, 라디칼 중합 개시제로서는, 150nm 이상 750nm 이하의 광 조사에 의해 라디칼을 발생하는 화합물을 사용할 수 있다. 이러한 화합물로서는, 예를 들면 문헌{Photoinitiation, Photopolymerization, and Photocuring, J.-P. Fouassier, Hanser Publishers(1995년, p17 내지 p35)}에 기재되어 있는 α-아세토아미노페논 유도체나 포스핀옥시드 유도체가 광 조사에 대한 감도가 높기 때문에 보다 바람직하다. 이들 화합물은 단독으로 사용하는 것 이외에, 상기 유기 과산화물이나 아조 화합물과 혼합하여 사용할 수도 있다.As the radical polymerization initiator, a compound capable of generating a radical by light irradiation at 150 nm or more and 750 nm or less can be used. As such a compound, for example, photoinitiation, Photopolymerization, and Photocuring, J.-P. Acetaminophenone derivatives or phosphine oxide derivatives described in Fouassier, Hanser Publishers (1995, p17 to p35)} are more preferable because of their high sensitivity to light irradiation. These compounds may be used alone or in combination with the organic peroxide or azo compound.

라디칼 중합 개시제의 배합량은, 접착제 성분(도전 입자를 제외한 접착제 조성물)의 질량을 기준으로서, 0.5질량% 이상 40질량% 이하인 것이 바람직하고, 1질량% 이상 30질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 2질량% 이상 20질량% 이하가 특히 바람직하다. 라디칼 중합 개시제의 배합량이 상기 범위 내이면, 접착제 조성물의 경화성과 저장 안정성을 양립시키는 것이 용이하게 된다.The blending amount of the radical polymerization initiator is preferably 0.5% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles) % Or more and 20 mass% or less. When the blending amount of the radical polymerization initiator is within the above range, it becomes easy to make both the curing property and the storage stability of the adhesive composition compatible.

접착제 조성물에 함유되는 열가소성 수지는, 가열에 의해 점도가 높은 액체 상태가 되어 외력에 의해 자유롭게 변형되고, 냉각하여 외력을 제거하면 그의 형상을 유지한 채로 단단해져, 이 과정을 반복하여 행할 수 있는 성질을 갖는 수지(고분자)를 적절하게 사용할 수 있다. 또한, 상기의 성질을 갖는 반응성 관능기를 갖는 수지(고분자)도 포함한다. 열가소성 수지의 Tg는, -30℃ 이상 190℃ 이하가 바람직하고, -25℃ 이상 170℃ 이하가 보다 바람직하고, -20℃ 이상 150℃ 이하가 특히 바람직하다.The thermoplastic resin contained in the adhesive composition becomes a liquid state having a high viscosity by heating and is freely deformed by an external force. When the external force is removed by cooling, the thermoplastic resin becomes hard while maintaining its shape, (Polymer) can be suitably used. It also includes a resin (polymer) having a reactive functional group having the above properties. The Tg of the thermoplastic resin is preferably from -30 占 폚 to 190 占 폚, more preferably from -25 占 폚 to 170 占 폚, and particularly preferably from -20 占 폚 to 150 占 폚.

이러한 열가소성 수지로서는, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 페녹시 수지, (메트)아크릴 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르우레탄 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 아세트산 비닐 공중합체 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 또한, 이것들 열가소성 수지 중에는 실록산 결합이나 불소 치환기가 포함되어 있을 수도 있다. 이들은, 혼합하는 수지끼리가 완전히 상용하거나, 또는 마이크로 상분리가 발생하여 백탁되는 상태이면 적절하게 사용할 수 있다.As such thermoplastic resin, polyimide resin, polyamide resin, phenoxy resin, (meth) acrylic resin, urethane resin, polyester urethane resin, polyvinyl butyral resin, vinyl acetate copolymer and the like can be used. These may be used alone or in combination of two or more. These thermoplastic resins may contain siloxane bonds or fluorine-substituted groups. These can be suitably used as long as the resins to be mixed are completely compatible with each other or in a state where they are opaque due to micro-phase separation.

접착제 조성물을 필름상으로 성형하여 필름상 접착제로서 이용하는 경우, 상기 열가소성 수지의 분자량이 클수록, 양호한 필름 형성성이 용이하게 얻어지고, 또한 필름상 접착제로서의 유동성에 영향을 미치는 용융 점도를 광범위하게 설정할 수 있다. 열가소성 수지의 중량 평균 분자량으로서는 5000 이상 150000 이하가 바람직하고, 7000 이상 100000 이하가 보다 바람직하고, 10000 이상 80000 이하가 특히 바람직하다. 열가소성 수지의 중량 평균 분자량이 상기 범위 내이면, 양호한 필름 형성성과, 다른 성분과의 양호한 상용성을 양립시키는 것이 용이하게 된다.When the adhesive composition is formed into a film and used as a film-like adhesive, the larger the molecular weight of the thermoplastic resin, the better the film formability can be easily obtained and the melt viscosity affecting the flowability as a film- have. The weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 5,000 to 150,000, more preferably 7,000 to 100,000, and particularly preferably 10000 to 80,000. When the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is within the above range, it becomes easy to achieve both good film formation and good compatibility with other components.

또한, 본 실시 형태에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC) 분석에 의해 하기 조건으로 측정하고, 표준 폴리스티렌의 검량선을 사용하여 환산함으로써 구해지는 것이다.The weight average molecular weight in the present embodiment is determined by gel permeation chromatography (GPC) analysis under the following conditions and converted by using a standard polystyrene calibration curve.

GPC 조건은, 이하와 같다.The GPC conditions are as follows.

사용 기기: 히타치 L-6000형((주) 히타치 세이사꾸쇼 제조, 상품명)Equipment: Hitachi L-6000 type (trade name, manufactured by Hitachi Seisakusho Co., Ltd.)

검출기: L-3300RI((주)히타치 세이사꾸쇼 제조, 상품명)Detector: L-3300RI (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.)

칼럼: 겔 팩GL-R420+겔 팩GL-R430+겔 팩GL-R440(계 3개)(히타치 가세이 고교(주) 제조, 상품명)Column: Gel pack GL-R420 + Gel pack GL-R430 + Gel pack GL-R440 (three in total) (trade name, manufactured by Hitachi Kasei Kogyo Co., Ltd.)

용리액: 테트라히드로푸란Eluent: tetrahydrofuran

측정 온도: 40℃Measuring temperature: 40 ° C

유량: 1.75ml/minFlow rate: 1.75 ml / min

열가소성 수지의 함유량은, 접착제 성분(도전 입자를 제외한 접착제 조성물)의 질량을 기준으로서, 5질량% 이상 80질량% 이하인 것이 바람직하고, 15질량% 이상 70질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 열가소성 수지의 함유량이 상기 범위 내이면, 접착제 조성물을 필름상으로서 이용하는 경우에, 양호한 필름 형성성과, 필름상 접착제가 양호한 유동성을 양립시키는 것이 용이하게 된다.The content of the thermoplastic resin is preferably 5 mass% or more and 80 mass% or less, more preferably 15 mass% or more and 70 mass% or less, based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles). When the content of the thermoplastic resin is within the above range, when the adhesive composition is used as a film, it becomes easy to achieve good film formability and good flowability of the film-form adhesive.

접착제 조성물에 함유되는 도전 입자는, 그의 전체 또는 적어도 표면에 도전성을 갖는 입자인 것이 바람직하고, 접속 단자(회로 전극)를 갖는 회로 부재의 접속에 사용하는 경우에는, 접속 단자간 거리보다 평균 입경이 작은 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the conductive particles contained in the adhesive composition are particles having conductivity on the whole or at least the surface thereof. When used for connection of circuit members having connection terminals (circuit electrodes), the average particle diameter Small is more preferable.

도전 입자로서는 Au, Ag, Ni, Cu, Pd, 땜납 등의 금속 입자나 카본 등을 들 수 있다. 또한, 비도전성의 유리, 세라믹, 플라스틱 등을 핵으로 하고, 이 핵에 상기 금속, 금속 입자나 카본을 피복한 것일 수도 있다. 도전 입자가 플라스틱을 핵으로 하고, 이 핵에 상기 금속, 금속 입자나 카본을 피복한 것이나 열 용융 금속 입자의 경우, 가열 가압에 의해 변형성을 가지므로 접속시에 전극과의 접촉 면적이 증가하여 신뢰성이 향상하므로 바람직하다. 또한, 도전 입자는, 예를 들면 구리를 포함하는 금속 입자에 은을 피복한 입자일 수도 있다. 또한, 도전 입자는 일본 특허 공개 제2005-116291호 공보에 기재되는 것과 같은, 미세한 금속 입자가 다수, 쇄상으로 연결된 형상을 갖는 금속 분말을 사용할 수도 있다.Examples of the conductive particles include metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, Pd, and solder, and carbon. It is also possible to use a non-conductive glass, ceramic, plastic, or the like as a nucleus and coating the nucleus with the metal, metal particles, or carbon. In the case of the conductive particles coated with the metal, the metal particles or the carbon, or the hot molten metal particles with the plastic as a nucleus, since the conductive particles have deformability by heating and pressing, the contact area with the electrodes increases during connection, Is improved. The conductive particles may be, for example, particles in which silver is coated on metal particles containing copper. As the conductive particles, a metal powder having a shape in which a plurality of fine metal particles are connected in a chain, such as that described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-116291, may be used.

또한, 이들의 도전 입자의 표면을, 추가로 절연성 입자에 의해 피복한 미립자, 또는 하이브리다이제이션 등의 방법에 의해 상기 도전 입자의 표면에 절연성 물질을 포함하는 절연층이 설치된 미립자는, 도전 입자의 배합량을 증가한 경우의 입자끼리의 접촉에 의한 단락을 억제하고, 전극 회로간의 절연성을 향상할 수 있는 점에서, 적절히 이것을 단독으로 또는 다른 도전 입자와 혼합하여 사용할 수도 있다.The fine particles in which the surfaces of these conductive particles are further coated with insulating particles or the insulating layer containing an insulating material is provided on the surfaces of the conductive particles by a method such as hybridization, It may be suitably used alone or in combination with other conductive particles since it is possible to suppress a short circuit due to contact between particles in the case of increasing the blending amount and to improve the insulating property between the electrode circuits.

도전 입자의 평균 입경은, 분산성, 도전성의 점으로부터 1㎛ 이상 18 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 이러한 도전 입자를 함유하는 경우, 접착제 조성물은 이방 도전성 접착제로서, 적절하게 사용할 수 있다.The average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 占 퐉 or more and 18 占 퐉 or less from the viewpoints of dispersibility and conductivity. When such conductive particles are contained, the adhesive composition can be suitably used as an anisotropic conductive adhesive.

도전 입자의 사용량은, 특별히 제한은 받지 않지만, 접착제 조성물 전체 부피에 대하여 0.1부피% 이상 30부피% 이하로 하는 것이 바람직하고, 0.1부피% 이상 10부피% 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 도전 입자의 사용량이 상기 범위 내이면, 충분한 도전성이 얻어지면서도 회로의 단락은 충분히 억제할 수 있다. 또한, 부피%는 23℃의 경화 전의 각 성분의 부피를 바탕으로 결정되지만, 각 성분의 부피는, 비중을 이용하여 중량으로부터 부피로 환산할 수 있다. 또한, 메스실린더 등에 그 성분을 용해하거나 팽윤시키거나 하지 않고, 그 성분을 잘 적시는 적당한 용매(물, 알코올 등)를 넣음으로써, 그 성분을 투입하여 증가한 부피를 그 성분의 부피로서 구할 수도 있다.The amount of the conductive particles to be used is not particularly limited, but is preferably 0.1% by volume or more and 30% by volume or less based on the total volume of the adhesive composition, more preferably 0.1% by volume or more and 10% by volume or less. When the amount of the conductive particles used is within the above range, sufficient conductivity can be obtained, and short circuit of the circuit can be sufficiently suppressed. The volume% is determined based on the volume of each component before curing at 23 ° C, but the volume of each component can be converted from weight to volume using the specific gravity. Further, by adding a suitable solvent (water, alcohol, or the like) which does not dissolve or swell the components thereof in a graduated cylinder or the like, the increased volume of the component can be obtained as the volume of the component .

또한, 접착제 조성물에는, 경화 속도의 제어나 저장 안정성의 부여를 위해서, 안정화제를 첨가할 수 있다. 이러한 안정화제로서는, 특별히 제한 없이 공지된 화합물을 사용할 수 있지만, 벤조퀴논이나 히드로퀴논 등의 퀴논 유도체, 4-메톡시페놀이나 4-t-부틸카테콜 등의 페놀 유도체, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실이나 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실 등의 아미녹실 유도체, 테트라메틸피페리딜메타크릴레이트 등의 힌더드 아민 유도체 등이 바람직하다.In addition, a stabilizer may be added to the adhesive composition in order to control the curing rate and impart storage stability. As such a stabilizer, known compounds can be used without particular limitation, but quinone derivatives such as benzoquinone and hydroquinone, phenol derivatives such as 4-methoxyphenol and 4-t-butylcatechol, 2,2,6,6,6 Aminoxyl derivatives such as tetramethylpiperidine-1-oxyl and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, hexamers such as tetramethylpiperidyl methacrylate A dodamine derivative and the like are preferable.

안정화제의 배합량은, 접착제 성분(도전 입자를 제외한 접착제 조성물)의 질량을 기준으로서, 0.005질량% 이상 10질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.01질량% 이상 8질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.02질량% 이상 5질량% 이하가 특히 바람직하다. 안정화제의 배합량이 상기 범위 내이면, 다른 성분과의 상용성에 악영향을 미칠 일이 없고, 경화 속도의 제어나 저장 안정성의 부여가 가능하게 된다.The blending amount of the stabilizer is preferably 0.005 mass% or more and 10 mass% or less, more preferably 0.01 mass% or more and 8 mass% or less, more preferably 0.02 mass% or less, based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles) By mass or more and 5% by mass or less. When the blending amount of the stabilizer is within the above range, compatibility with other components is not adversely affected, and control of the curing rate and storage stability can be imparted.

또한, 접착제 조성물에는, 알콕시실란 유도체나 시라잔 유도체로 대표되는 커플링제, 밀착 향상제 및 레벨링제 등의 접착 보조제를 적절히 첨가할 수도 있다. 커플링제로서 구체적으로는, 하기 화학식 (Q)로 표시되는 화합물이 바람직하고, 단독으로 사용하는 것 이외에, 2종 이상의 화합물을 혼합하여 사용할 수도 있다.Adhesion aids such as coupling agents, adhesion improving agents and leveling agents typified by alkoxysilane derivatives and silazane derivatives may be suitably added to the adhesive composition. As the coupling agent, specifically, a compound represented by the following formula (Q) is preferable, and in addition to being used alone, two or more compounds may be mixed and used.

Figure pct00021
Figure pct00021

상기 화학식 (Q) 중, R25, R26 및 R27은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1 내지 5의 알킬기, 탄소 원자수 1 내지 5의 알콕시기, 탄소 원자수 1 내지 5의 알콕시카르보닐기 또는 아릴기를 나타내고, R28은 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 이소시아네이트기, 이미다졸기, 머캅토기, 아미노기, 메틸아미노기, 디메틸아미노기, 벤질아미노기, 페닐아미노기, 시클로헥실아미노기, 모르폴리노기, 피페라지노기, 우레이도기 또는 글리시딜기를 나타내고, s는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.In the above formula (Q), R 25 , R 26 and R 27 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms Or an aryl group, and R 28 represents a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an isocyanate group, an imidazole group, a mercapto group, an amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, a benzylamino group, a phenylamino group, a cyclohexylamino group, A piperazino group, an ureido group or a glycidyl group, and s represents an integer of 1 to 10.

접착제 조성물은 접착성 향상을 목적으로, 고무 성분을 병용할 수도 있다. 고무 성분이란, 그대로의 상태에서 고무 탄성(JIS K6200)을 나타내는 성분 또는 반응에 의해 고무 탄성을 나타내는 성분을 말한다. 고무 성분은, 실온(25℃)에서 고형이거나 액상일 수도 있지만, 유동성 향상의 관점에서 액상인 것이 바람직하다. 고무 성분으로서는, 폴리부타디엔 골격을 갖는 화합물이 바람직하다. 고무 성분은 시아노기, 카르복실기, 수산기, (메트)아크릴로일기 또는 모르폴린기를 가질 수도 있다. 또한, 접착성 향상의 관점에서, 고극성기인 시아노기, 카르복실기를 측쇄 또는 말단에 포함하는 고무 성분이 바람직하다. 또한, 폴리부타디엔 골격을 갖고 있어도, 열가소성을 나타내는 경우에는 열가소성 수지로 분류하고, 라디칼 중합성을 나타내는 경우에는 라디칼 중합성 화합물로 분류한다.The adhesive composition may be used in combination with a rubber component for the purpose of improving the adhesiveness. The rubber component refers to a component exhibiting rubber elasticity (JIS K6200) or a component exhibiting rubber elasticity by reaction under the same condition. The rubber component may be solid at room temperature (25 占 폚) or may be liquid, but it is preferably liquid in view of improvement of flowability. As the rubber component, a compound having a polybutadiene skeleton is preferable. The rubber component may have a cyano group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a (meth) acryloyl group or a morpholine group. From the viewpoint of improvement in adhesion, a rubber component containing a cyano group or a carboxyl group having a high polar group at the side chain or terminal is preferable. Even if the polybutadiene skeleton is present, it is classified as a thermoplastic resin when it exhibits thermoplasticity, and is classified as a radical polymerizable compound when it exhibits radical polymerization.

고무 성분으로서 구체적으로는 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 카르복실기 말단 폴리부타디엔, 수산기 말단 폴리부타디엔, 1,2-폴리부타디엔, 카르복실기 말단 1,2-폴리부타디엔, 수산기 말단 1,2-폴리부타디엔, 아크릴 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 수산기 말단 스티렌-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 카르복실기, 수산기, (메트)아크릴로일기 또는 모르폴린기를 중합체 말단에 함유하는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 카르복실화 니트릴 고무, 수산기 말단 폴리(옥시프로필렌), 알콕시 실릴기 말단 폴리(옥시프로필렌), 폴리(옥시 테트라메틸렌)글리콜, 폴리올레핀글리콜 등을 들 수 있다.Specific examples of the rubber component include polyisoprene, polybutadiene, carboxyl terminated polybutadiene, hydroxyl terminated polybutadiene, 1,2-polybutadiene, carboxyl terminated 1,2-polybutadiene, hydroxyl terminated 1,2-polybutadiene, Butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, carboxyl group, hydroxyl group, acrylonitrile-butadiene rubber containing a (meth) acryloyl group or a morpholine group at the polymer terminal, a carboxylated nitrile rubber , Hydroxyl-terminated poly (oxypropylene), alkoxysilyl-terminated poly (oxypropylene), poly (oxytetramethylene) glycol, polyolefin glycol and the like.

또한, 상기 고극성기를 갖고, 실온에서 액상인 고무 성분으로서는, 구체적으로는 액상 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 카르복실기, 수산기, (메트)아크릴로일기 또는 모르폴린기를 중합체 말단에 함유하는 액상 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 액상 카르보키실화 니트릴 고무 등을 들 수 있고, 극성기인 아크릴로니트릴 함유량은 10질량% 이상 60질량% 이하가 바람직하다.Specific examples of the rubber component having a high polar group and being liquid at room temperature include liquid acrylonitrile-butadiene rubber, liquid acrylonitrile containing carboxyl group, hydroxyl group, (meth) acryloyl group or morpholine group at the end of the polymer -Butadiene rubber, and liquid carboxyxylated nitrile rubber. The content of acrylonitrile as a polar group is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less.

이들 화합물은 단독으로 사용하는 것 이외에, 2종 이상의 화합물을 혼합하여 사용해도 된다.These compounds may be used alone or in combination of two or more.

접착제 조성물은 응력 완화 및 접착성 향상을 목적으로, 본 발명에 따른 코어쉘형 실리콘 미립자 이외의 유기 미립자를 첨가할 수도 있다. 유기 미립자의 평균 입경은 0.05㎛ 이상 1.0㎛ 이하가 바람직하다. 또한, 유기 미립자가 상술한 고무 성분을 포함하는 경우에는, 유기 미립자가 아닌 고무 성분으로 분류하고, 유기 미립자가 상술한 열가소성 수지를 포함하는 경우에는, 유기 미립자가 아닌 열가소성 수지로 분류한다.The adhesive composition may also contain organic fine particles other than the core-shell type silicon fine particles according to the present invention for the purpose of improving stress relaxation and adhesion. The average particle diameter of the organic fine particles is preferably 0.05 탆 or more and 1.0 탆 or less. When the organic fine particles include the above-mentioned rubber component, they are classified into a rubber component other than the organic fine particles. When the organic fine particles include the above-mentioned thermoplastic resin, they are classified as thermoplastic resins that are not organic fine particles.

유기 미립자로서 구체적으로는, 폴리이소프렌, 폴리부타디엔, 카르복실기 말단 폴리부타디엔, 수산기 말단 폴리부타디엔, 1,2-폴리부타디엔, 카르복실기 말단 1,2-폴리부타디엔, 아크릴 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 카르복실기, 수산기, (메트)아크릴로일기 또는 모르폴린기를 중합체 말단에 함유하는 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 카르보키실화 니트릴 고무, 수산기 말단 폴리(옥시프로필렌), 알콕시 실릴기 말단 폴리(옥시프로필렌), 폴리(옥시 테트라메틸렌)글리콜, 폴리올레핀글리콜(메트)아크릴산 알킬-부타디엔-스티렌 공중합체, (메트)아크릴산알킬-실리콘 공중합체 또는 실리콘(메트)-아크릴 공중합체 또는 복합체를 포함하는 유기 미립자를 들 수 있다.Specific examples of the organic fine particles include polyisoprene, polybutadiene, carboxyl terminated polybutadiene, hydroxyl terminated polybutadiene, 1,2-polybutadiene, carboxyl terminated 1,2-polybutadiene, acrylic rubber, styrene-butadiene rubber, acrylonitrile Acrylonitrile-butadiene rubber, carboxyxylated nitrile rubber, hydroxyl-terminated poly (oxypropylene), alkoxysilyl-terminated poly (meth) acrylate containing a butadiene rubber, carboxyl group, hydroxyl group, (meth) acryloyl group or morpholine group at the polymer terminal Styrene copolymers, alkyl (meth) acrylate-silicone copolymers, or silicone (meth) -acrylic copolymers or complexes, such as poly (oxypropylene), poly (oxytetramethylene) glycol, polyolefin glycol Fine particles.

접착제 조성물은, 상온에서 액상인 경우에는 페이스트상으로 사용할 수 있다. 실온에서 고체인 경우에는, 가열하여 사용하는 것 이외에, 용매를 사용하여 페이스트화할 수도 있다. 사용할 수 있는 용매로서는, 접착제 조성물 및 첨가제와 반응성이 없고, 또한 충분한 용해성을 나타내는 것이 바람직하고, 상압에서의 비점이 50℃ 이상 150℃ 이하인 것이 바람직하다. 용매의 비점이 상기 범위 내이면, 실온에서 방치해도 휘발하기 어렵고 개방계에서의 사용이 용이함과 함께, 접착 후의 신뢰성을 충분히 확보하기 위하여 용매를 충분히 휘발시킬 수 있다.The adhesive composition can be used in the form of a paste when it is liquid at room temperature. In the case of a solid at room temperature, in addition to being used by heating, a paste may be formed using a solvent. As the solvent which can be used, it is preferable that it has no reactivity with the adhesive composition and the additive and exhibits sufficient solubility, and it is preferable that the solvent has a boiling point of 50 캜 or more and 150 캜 or less at normal pressure. When the boiling point of the solvent is within the above range, it is difficult to volatilize even if left at room temperature, easy to use in an open system, and the solvent can be sufficiently volatilized to secure sufficient reliability after bonding.

또한, 본 발명의 접착제 조성물은, 필름상으로 성형하여 필름상 접착제로서 사용할 수도 있다. 접착제 조성물에 필요에 따라 용매 등을 첨가하는 등 한 용액을, 불소 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 이형지 등의 박리성 기재 상에 도포하거나, 또는 부직포 등의 기재에 상기 용액을 함침시켜 박리성 기재 상에 적치하고, 용매 등을 제거하여 필름상 접착제로서 사용할 수 있다. 필름의 형상으로 사용하면 취급성 등의 점에서 한층 편리하다.The adhesive composition of the present invention may be molded into a film and used as an adhesive on a film. A solution such as a solvent or the like is added to the adhesive composition if necessary, or the solution is applied to a releasable substrate such as a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film, or a release paper, or the substrate is impregnated with a solution such as a non- And the solvent or the like may be removed and used as an adhesive on a film. When used in the form of a film, it is more convenient in view of handleability and the like.

본 발명의 접착제 조성물은, 가열 및 가압을 병용하여 접착시킬 수 있다. 가열 온도는 100℃ 이상 200℃ 이하의 온도가 바람직하다. 압력은, 피착체에 손상을 끼치지 않는 범위가 바람직하고, 일반적으로는 0.1MPa 이상 10MPa 이하가 바람직하다. 이들의 가열 및 가압은, 0.5초 이상 120초 이하의 범위에서 행하는 것이 바람직하고, 110℃ 이상 190℃ 이하, 3MPa, 10초의 가열에서도 접착시키는 것이 가능하다.The adhesive composition of the present invention can be bonded together by heating and pressurization. The heating temperature is preferably 100 deg. C or higher and 200 deg. C or lower. The pressure is preferably within a range that does not cause damage to the adherend, and is generally preferably 0.1 MPa or more and 10 MPa or less. The heating and pressing are preferably performed in a range of 0.5 second or more and 120 seconds or less, and it is possible to perform bonding even at a heating temperature of 110 DEG C or more and 190 DEG C or less at 3 MPa for 10 seconds.

본 발명의 접착제 조성물은, 열 팽창 계수가 다른 이종의 피착체의 접착제 조성물로서 사용할 수 있다. 구체적으로는 이방 도전 접착제, 은 페이스트, 은 필름 등으로 대표되는 회로 접속 재료로서 사용할 수 있다.The adhesive composition of the present invention can be used as an adhesive composition of a different adherend having a different thermal expansion coefficient. Specifically, it can be used as a circuit connecting material represented by an anisotropic conductive adhesive, a silver paste, a silver film and the like.

본 발명의 접착제 조성물을 사용하여 회로 부재를 접속하는 경우에는, 예를 들면 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와의 사이에, 본 발명의 접착제 조성물을 개재시켜 경화시킴으로써, 제1 회로 전극과 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 제1 회로 부재와 제2 회로 부재를 접착하는 방법에 의해, 회로 부재끼리를 접속하여, 회로 접속체를 얻을 수 있다.When the circuit member is connected using the adhesive composition of the present invention, for example, a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit substrate and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit substrate The first circuit member and the second circuit member are bonded to each other so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other with the adhesive composition of the present invention interposed therebetween, The members are connected to each other to obtain a circuit connecting body.

상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽은, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트 및 폴리에틸렌나프탈레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 열가소성 수지를 포함함으로써, 본 발명의 접착제 조성물과의 습윤성이 향상하여 접착 강도 및 접속 신뢰성이 향상된다.Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate as a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 캜 or lower . By including such a thermoplastic resin, the wettability with the adhesive composition of the present invention is improved, and the bonding strength and the connection reliability are improved.

또한, 제1 회로 기판 및 제 2의 회로 기판 중, 한쪽의 회로 기판이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트 및 폴리에틸렌나프탈레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고, 다른 한쪽의 회로 기판이, 폴리이미드 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 회로 기판을 사용함으로써, 본 발명의 접착제 조성물과의 습윤성이 보다 향상하고 접착 강도 및 접속 신뢰성이 보다 향상된다.It is preferable that one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate, and the other circuit board And at least one member selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer. By using such a circuit board, the wettability with the adhesive composition of the present invention is further improved, and the bonding strength and the connection reliability are further improved.

회로 기판으로서는 그 밖에도, 반도체, 유리, 세라믹 등의 무기 기판, 유기 기판 등을 조합하여 사용할 수 있다.As the circuit substrate, an inorganic substrate such as semiconductor, glass, or ceramic, an organic substrate, or the like may be used in combination.

또한, 본 발명의 접착제 조성물은, 완전 경화(소정 경화 조건에서 달성할 수 있는 최고도의 경화)에 도달하고 있을 필요는 없고, 상기 특성을 발생하는 한에 있어서 부분 경화의 상태일 수도 있다.In addition, the adhesive composition of the present invention does not need to reach full curing (maximum curing that can be achieved under predetermined curing conditions), and may be in a partially cured state as long as the above properties are generated.

실시예Example

이하, 실시예를 들어 본 발명에 대하여 보다 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

[도전 입자의 제작][Production of conductive particles]

폴리스티렌을 핵으로 하는 입자의 표면에, 두께 0.2㎛의 니켈층을 설치하고, 이 니켈층의 외측에, 두께 0.02㎛의 금층을 설치하여, 평균 입경 10㎛, 비중 2.5의 도전 입자를 제작하였다.A nickel layer having a thickness of 0.2 占 퐉 was provided on the surface of particles made of polystyrene as nuclei and a gold layer having a thickness of 0.02 占 퐉 was provided on the outer side of the nickel layer to prepare conductive particles having an average particle diameter of 10 占 퐉 and a specific gravity of 2.5.

[접착제 조성물의 제조][Preparation of adhesive composition]

표 1에 나타내는 각 성분을 표 1에 나타내는 고형 질량비로 배합하고, 또한 상기 도전 입자를 1.5부피%씩 배합 분산시켜, 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 11의 접착제 조성물을 제조하였다. 이하, 표 1에 나타내는 각 성분에 대하여 상세하게 설명한다.The adhesive compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 11 were prepared by blending each component shown in Table 1 at a solid mass ratio shown in Table 1 and further mixing and dispersing 1.5% by volume of the conductive particles. Each component shown in Table 1 will be described in detail below.

<열가소성 수지>&Lt; Thermoplastic resin &

(폴리에스테르우레탄 수지 A)(Polyester urethane resin A)

디카르복실산에 테레프탈산(Aldrich사 제조), 이소프탈산(Aldrich사 제조), 디올에 네오펜틸글리콜(Aldrich사 제조)을 사용하고 이소시아네이트에 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트(Aldrich사 제조)를 사용하여, 테레프탈산/이소프탈산/네오펜틸글리콜/4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트의 몰비가 0.34/0.66/1.1/0.33이 되는 폴리에스테르우레탄 수지 A를 제조하였다. 얻어진 폴리에스테르우레탄 수지 A의 수 평균 분자량은 25000이었다. 얻어진 폴리에스테르우레탄 수지 A(PEU-A)를 메틸에틸케톤과 톨루엔의 1:1에 고형분 40질량%가 되도록 용해하였다.4,4'-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Aldrich) was added to the isocyanate using terephthalic acid (manufactured by Aldrich), isophthalic acid (manufactured by Aldrich), and neopentyl glycol (manufactured by Aldrich) , A polyester urethane resin A in which the molar ratio of terephthalic acid / isophthalic acid / neopentyl glycol / 4,4'-diphenylmethane diisocyanate was 0.34 / 0.66 / 1.1 / 0.33 was prepared. The number average molecular weight of the obtained polyester urethane resin A was 25,000. The resultant polyester urethane resin A (PEU-A) was dissolved in a ratio of 1: 1 of methyl ethyl ketone and toluene to a solid content of 40% by mass.

(YP-50: 페녹시 수지)(YP-50: phenoxy resin)

도토 가세이(주) 제조의 페녹시 수지(상품명: YP-50)를, 메틸에틸케톤에 용해하고, 고형분 40질량%의 용액으로서 사용하였다.A phenoxy resin (trade name: YP-50) manufactured by Tokto Kasei Co., Ltd. was dissolved in methyl ethyl ketone and used as a solution having a solid content of 40 mass%.

(EV40W: 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체)(EV40W: ethylene-vinyl acetate copolymer)

에틸렌-아세트산 비닐 공중합체의 톨루엔 용해품(고형분 30질량%)(미쯔이·듀퐁 폴리케미컬(주) 제조, EV40W(상품명))을 사용하였다.(Solids content 30% by mass) (EV40W (trade name), manufactured by Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd.) of ethylene-vinyl acetate copolymer was used.

<라디칼 중합성 화합물><Radical Polymerizable Compound>

(UA1: 우레탄(메트)아크릴레이트 1)(UA1: urethane (meth) acrylate 1)

교반기, 온도계, 염화칼슘 건조관이 첨부된 환류 냉각관 및 질소 가스 도입관을 구비한 반응 용기에, 수 평균 분자량 1000의 폴리(1,6-헥산디올카르보네이트)(상품명: 듈라놀 T5652, 아사히 가세이 케미컬즈(주) 제조) 2500질량부(2.50몰)와, 이소포론디이소시아네이트(시그마 알드리치사 제조) 666질량부(3.00몰)를 3시간에 걸쳐 균일하게 적하하고, 충분히 질소 가스를 도입한 후, 70 내지 75℃에서 가열하여, 반응시켰다.(1,6-hexanediol carbonate) having a number average molecular weight of 1000 (trade name: Dulanol T5652, manufactured by Asahi Kasei Corporation) was charged in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser equipped with a calcium chloride drying tube, 2500 parts by mass (2.50 moles) of isophorone diisocyanate (manufactured by Sigma Chemical Co., Ltd.) and 666 parts by mass (3.00 moles) of isophorone diisocyanate (Sigma Aldrich) were uniformly added dropwise over 3 hours, Thereafter, the mixture was heated at 70 to 75 ° C for reaction.

계속해서, 히드로퀴논모노메틸에테르(시그마 알드리치사 제조) 0.53질량부와, 디부틸주석디라우레이트(시그마 알드리치사 제조) 5.53질량부를 첨가하고, 이어서 2-히드록시에틸아크릴레이트(시그마 알드리치사 제조) 238질량부(2.05몰)를 첨가하여, 공기 분위기하 70℃에서 6시간 반응시켜, 우레탄(메트)아크릴레이트 1(UA1)을 얻었다.Subsequently, 0.53 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether (Sigma Aldrich) and 5.53 parts by mass of dibutyltin dilaurate (Sigma Aldrich) were added, and then 2-hydroxyethyl acrylate (Sigma Aldrich) 238 parts by mass (2.05 mol) were added and the mixture was allowed to react at 70 캜 for 6 hours in an air atmosphere to obtain urethane (meth) acrylate 1 (UA1).

(UA2: 우레탄(메트)아크릴레이트 2)(UA2: urethane (meth) acrylate 2)

교반기, 온도계, 염화칼슘 건조관이 첨부된 환류 냉각관 및 질소 가스 도입관을 구비한 반응 용기에, 메틸에틸케톤 1000질량부, 수 평균 분자량 1000의 폴리카프로락톤디올(상품명: 플락셀 210N, 다이셀 가가꾸 고교(주) 제조) 2500질량부(2.50몰), 및 이소포론디이소시아네이트(시그마 알드리치사 제조) 666질량부(3.00몰)를 3시간에 걸쳐 균일하게 적하하고, 충분히 질소 가스를 도입한 후, 70 내지 75℃에서 가열하여, 반응시켰다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser equipped with a calcium chloride drying tube, and a nitrogen gas introducing tube, 1000 parts by mass of methyl ethyl ketone, 100 parts by mass of polycaprolactone diol having a number average molecular weight of 1,000 (trade name: , 2,500 parts by mass (2.50 mol) of isophorone diisocyanate (manufactured by Sigma Chemical Co., Ltd.) and 666 parts by mass (3.00 mol) of isophorone diisocyanate (Sigma Aldrich) were uniformly added dropwise over 3 hours, Thereafter, the mixture was heated at 70 to 75 ° C for reaction.

계속해서, 히드로퀴논모노메틸에테르(시그마 알드리치사 제조) 0.53질량부와, 디부틸주석디라우레이트(시그마 알드리치사 제조) 5.53질량부를 첨가하고, 이어서 2-히드록시에틸아크릴레이트(시그마 알드리치사 제조) 238질량부(2.05몰)를 첨가하여, 공기 분위기하 70℃에서 6시간 반응시켜, 우레탄(메트)아크릴레이트 2(UA2)를 얻었다.Subsequently, 0.53 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether (Sigma Aldrich) and 5.53 parts by mass of dibutyltin dilaurate (Sigma Aldrich) were added, and then 2-hydroxyethyl acrylate (Sigma Aldrich) 238 parts by mass (2.05 mol) were added, and the mixture was reacted at 70 캜 for 6 hours under an air atmosphere to obtain urethane (meth) acrylate 2 (UA2).

<유기 미립자>&Lt; Organic fine particles &

(KMP-600)(KMP-600)

신에쯔 가가꾸 고교(주) 제조의 코어쉘형 실리콘 미립자(상품명: KMP-600, 평균 입경: 5㎛)를 사용하였다. 이 실리콘 미립자의 코어층의 유리 전이 온도는 -110℃였다.Core-shell type silicon fine particles (trade name: KMP-600, manufactured by Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd., average particle size: 5 μm) were used. The glass transition temperature of the core layer of the silicon fine particles was -110 deg.

(BR: 가교 폴리부타디엔 미립자)(BR: crosslinked polybutadiene fine particles)

스테인리스제 오토클레이브에 순수를 넣고, 현탁제로서 폴리비닐알코올(간토 가가꾸(주) 제조)을 첨가하여 용해시켰다. 이 중에 부타디엔(시그마 알드리치사 제조)을 넣고, 교반하여 분산시켰다. 이어서, 라디칼 중합 개시제로서 벤조일퍼옥시드(상품명: 카독스 CH-50L, 가야쿠 아쿠조(주) 제조)를 용해시켜, 교반하였다. 계속하여 오토클레이브를 60 내지 65℃로 승온시켜, 교반하에서 45분간 중합하였다. 미반응된 단량체를 방출 후, 생성한 가교 폴리부타디엔 입자를 여과, 물 세정, 에탄올 세정하고, 얻어진 가교 폴리부타디엔 입자를 진공하에서 건조하여, 가교 폴리부타디엔 미립자(BR)를 얻었다. 얻어진 가교 폴리부타디엔 미립자를 메틸에틸케톤에 분산시켜, 입자의 평균 입경을 Zetasizer Nano-S(Malvern Instruments Ltd.제조)를 사용하여 측정한 바 평균 입자 직경 0.5㎛였다.Pure water was added to a stainless steel autoclave, and polyvinyl alcohol (manufactured by KANTO CHEMICAL Co., Ltd.) as a suspending agent was added and dissolved. Among them, butadiene (manufactured by Sigma Aldrich) was added and dispersed by stirring. Subsequently, benzoyl peroxide (trade name: CARDOS CH-50L, manufactured by Kayaku Co., Ltd.) was dissolved as a radical polymerization initiator and stirred. Subsequently, the temperature of the autoclave was raised to 60 to 65 占 폚 and polymerization was carried out for 45 minutes under stirring. After releasing unreacted monomers, the resultant crosslinked polybutadiene particles were filtered, washed with water, and washed with ethanol, and the obtained crosslinked polybutadiene particles were dried under vacuum to obtain crosslinked polybutadiene fine particles (BR). The obtained crosslinked polybutadiene fine particles were dispersed in methyl ethyl ketone, and the average particle diameter of the particles was measured using a Zetasizer Nano-S (manufactured by Malvern Instruments Ltd.). The average particle diameter was 0.5 탆.

(KMP594: 실리콘 고무 미립자)(KMP594: silicone rubber fine particles)

신에쯔 가가꾸 고교(주) 제조 실리콘 고무 미립자(상품명: KMP594, 평균 입경 5㎛, 유리 전이 온도: -70℃)를 사용하였다.(Trade name: KMP594, average particle diameter 5 占 퐉, glass transition temperature: -70 占 폚) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was used.

(W-5500)(W-5500)

미쯔비시 레이온(주) 제조의 코어쉘형 아크릴 미립자(상품명: 메타블렌 W-5500, 평균 입경: 0.6㎛)를 사용하였다.Core-shell type acrylic fine particles (trade name: Metablen W-5500, average particle diameter: 0.6 mu m) manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. were used.

(BTA-712)(BTA-712)

롬·앤드·하스사 제조의 코어쉘형 아크릴산알킬에스테르-부타디엔-스티렌 공중합체 미립자(상품명: 파랄로이드 BTA-712)를 사용하였다.Core-shell acrylic acid alkyl ester-butadiene-styrene copolymer microparticles (trade name: Paraloid BTA-712) manufactured by Rohm and Haas Co. was used.

<인산기를 갖는 비닐 화합물>&Lt; Vinyl compound having phosphoric acid group >

(P-2M)(P-2M)

교에샤 가가꾸(주) 제조의 2-(메트)아크릴로일옥시에틸포스페이트(상품명: 라이트 에스테르 P-2M)를 사용하였다.2- (meth) acryloyloxyethylphosphate (trade name: Liteester P-2M) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. was used.

<라디칼 중합 개시제>&Lt; Radical polymerization initiator &

(나이퍼 BW)(Knife BW)

니찌유(주) 제조의 디벤조일퍼옥시드(상품명: 나이퍼 BW)를 사용하였다.Dibenzoyl peroxide (trade name: Knife BW) manufactured by Nichiyu Corporation was used.

Figure pct00022
Figure pct00022

[필름상 접착제의 제작][Production of film-like adhesive]

실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 14의 접착제 조성물을, 두께 80㎛의 불소 수지 필름(기재) 상에 도포 시공 장치를 사용하여 도포하고, 70℃에서 10분간 열풍 건조시킴으로써, 기재 상에 두께 20㎛의 접착제층이 형성된 접착 시트를 얻었다. 상기 접착 시트로부터 기재를 박리한 것을, 실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 11의 필름상 접착제로 한다. 그러나, 비교예 4, 8, 12의 필름상 접착제에 있어서는, 사용한 KMP594의 응집체에 의해, 접착제층의 표면에 요철이 발생하고, 특성의 평가를 행하는 것을 할 수 없는 것을 알 수 있었다.The adhesive compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 14 were applied to a fluorine resin film (substrate) having a thickness of 80 占 퐉 using a coating apparatus and dried by hot air at 70 占 폚 for 10 minutes, An adhesive sheet having an adhesive layer of 20 mu m was obtained. The film-like adhesives of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 11 were used in which the substrate was peeled from the adhesive sheet. However, in the case of the film-like adhesives of Comparative Examples 4, 8 and 12, it was found that the agglomerates of the KMP594 used produced irregularities on the surface of the adhesive layer, and the evaluation of the properties could not be performed.

[접속 저항, 접착 강도의 측정][Measurement of connection resistance and adhesive strength]

(참고예 1 내지 9)(Reference Examples 1 to 9)

실시예 1, 2, 5 및 비교예 3, 5 내지 7, 9, 10의 필름상 접착제를, 폴리이미드 필름(Tg 350℃) 상에 라인 폭 25㎛, 피치 50㎛, 두께 18㎛의 구리 회로를 500개 갖는 플렉시블 회로판(FPC)과, 0.2㎛의 ITO의 박층을 형성한 유리(두께 1.1mm, 표면 저항 20Ω/□) 사이에 개재시켰다. 이것을, 열 압착 장치(가열 방식: 콘스탄트히트형, 도레 엔지니어링사 제조)를 사용하여, 150℃, 2MPa로 10초간 가열 가압하고 폭 2mm에 걸쳐 접착하여, 회로 접속체를 제작하였다.A film-like adhesive of Examples 1, 2, 5 and Comparative Examples 3, 5 to 7, 9 and 10 was laminated on a polyimide film (Tg 350 DEG C) with a copper wire having a line width of 25 mu m, a pitch of 50 mu m, (Having a thickness of 1.1 mm and a surface resistance of 20? /?) On which a thin film of ITO of 0.2 占 퐉 was formed. This was heated and pressed at 150 DEG C and 2 MPa for 10 seconds using a thermocompression bonding apparatus (heating system: Constant heat type, manufactured by Dore Engineering Co., Ltd.) and bonded over a width of 2 mm to prepare a circuit connector.

상기 회로 접속체의 인접 회로간의 저항값을, 접착 직후와, 85℃, 85% RH의 고온 고습조 중에 240시간 유지한 후(시험 후)에 멀티미터로 측정하였다. 저항값은 인접 회로간의 저항 37점의 평균으로 나타냈다.The resistance value between the adjacent circuits of the circuit connecting body was measured by a multimeter immediately after bonding and after holding for 240 hours in a high temperature and high humidity bath at 85 캜 and 85% RH (after the test). The resistance value was expressed as an average of 37 points of resistance between adjacent circuits.

또한, 상기 접속체의 접착 강도를 JIS-Z0237에 준하여 90도 박리법으로 측정하여, 평가하였다. 접착 강도의 측정 장치로서는, 도요 볼드윈(주) 제조 「텐실론 UTM-4」(상품명)(박리 속도 50mm/min, 25℃)을 사용하였다. 측정 결과를 표 2에 나타내었다.Further, the adhesive strength of the connector was measured by a 90 degree peeling method according to JIS-Z0237, and evaluated. As a bonding strength measuring device, "Tensilon UTM-4" (trade name) (peeling speed: 50 mm / min, 25 ° C) manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. was used. The measurement results are shown in Table 2.

Figure pct00023
Figure pct00023

표 2에 나타낸 바와 같이, 참고예 1 내지 9의 회로 접속체는, 가열 온도 150℃의 조건하에서, 접착 직후 및 시험 후의 어떠한 경우에서도, 4.0Ω 이하의 양호한 접속 저항 및 560N/m 이상의 양호한 접착 강도를 나타냈다. 즉, 폴리이미드 필름을 포함하는 플렉시블 회로판과 ITO 박막을 형성한 유리와의 접착에 있어서는, 유기 미립자의 종류의 차이가 접속 저항이나 접착 강도에 큰 영향을 주지 않는 것이 확인되었다.As shown in Table 2, the circuit connecting bodies of Reference Examples 1 to 9 exhibited good connection resistance of 4.0 Ω or less and good bonding strength of 560 N / m or more, both at the heating temperature of 150 ° C. immediately after bonding and after the test, Respectively. That is, it was confirmed that the difference in the kind of the organic fine particles did not greatly affect the connection resistance and the bonding strength in the adhesion between the flexible circuit board including the polyimide film and the glass on which the ITO thin film was formed.

(실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 14)(Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 14)

실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 14의 필름상 접착제를, 폴리이미드 필름(Tg 350℃) 상에 라인 폭 150㎛, 피치 300㎛, 두께 8㎛의 구리 회로를 80개 갖는 플렉시블 회로판(FPC)과, 두께 5㎛의 Ag 페이스트의 박층을 형성한 PET 기판(두께 0.1㎛) 사이에 개재시켰다. 계속해서, 열 압착 장치(가열 방식: 콘스탄트히트형, 도레 엔지니어링사 제조)를 사용하여, 150℃, 2MPa로 20초간 가열 가압하여 폭 2mm에 걸쳐 접착하고, 회로 접속체를 제작하였다.The film-like adhesives of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 14 were laminated on a polyimide film (Tg 350 ° C) with a flexible circuit board (FPC (polytetrafluoroethylene)) having 80 copper circuits with a line width of 150 μm, a pitch of 300 μm and a thickness of 8 μm ) And a PET substrate (thickness: 0.1 mu m) on which a thin layer of Ag paste with a thickness of 5 mu m was formed. Subsequently, the laminate was heated and pressed at 150 DEG C and 2 MPa for 20 seconds using a thermocompression bonding apparatus (heating method: Constant heat type, manufactured by Dore Engineering Co., Ltd.) and bonded over a width of 2 mm.

상기 회로 접속체의 인접 회로간의 저항값을 접착 직후와, 85℃, 85% RH의 고온 고습조 중에 240시간 유지한 후(시험 후)에 멀티미터로 측정하였다. 저항값은 인접 회로간의 저항 37점의 평균으로 나타냈다. 측정 결과를 표 3에 나타내었다.The resistance value between the adjacent circuits of the circuit connecting member was measured by a multimeter immediately after bonding and after holding for 240 hours in a high temperature and high humidity bath at 85 캜 and 85% RH (after the test). The resistance value was expressed as an average of 37 points of resistance between adjacent circuits. The measurement results are shown in Table 3.

또한, 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 14의 필름상 접착제를, 두께 0.1㎛의 PET, PC 또는 PEN 필름 상에 라인 폭 150㎛, 피치 300㎛, 두께 10㎛의 Ag 페이스트 회로를 형성한 기판과, 상기 FPC 사이에 개재시켰다. 계속해서, 상기 열 압착 장치를 사용하여, 150℃, 2MPa로 20초간 가열 가압하여 폭 2mm에 걸쳐 접착하고, 회로 접속체를 제작하였다.Further, the film-like adhesives of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 14 were formed by forming an Ag paste circuit having a line width of 150 mu m, a pitch of 300 mu m, and a thickness of 10 mu m on a PET, PC or PEN film having a thickness of 0.1 mu m The substrate and the FPC. Subsequently, the laminate was heated and pressed at 150 DEG C and 2 MPa for 20 seconds by using the thermocompression bonding apparatus, and bonded over a width of 2 mm to prepare a circuit connecting body.

상기 회로 접속체의 접착 강도를 JIS-Z0237에 준하여 90도 박리법으로 측정하고, 평가하였다. 접착 강도의 측정 장치로서는, 도요 볼드윈(주) 제조 「텐실론 UTM-4」(상품명)(박리 속도 50mm/min, 25℃)을 사용하였다. 측정 결과를 표 3에 나타내었다.The bonding strength of the circuit connecting member was measured by a 90 degree peeling method according to JIS-Z0237 and evaluated. As a bonding strength measuring device, "Tensilon UTM-4" (trade name) (peeling speed: 50 mm / min, 25 ° C) manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. was used. The measurement results are shown in Table 3.

Figure pct00024
Figure pct00024

실시예 1 내지 5의 필름상 접착제를 사용하여 제작한 회로 접속체는, 가열 온도 150℃의 조건하에서, 접착 직후 및 시험 후의 어떠한 경우에서도, 약 2.6Ω 이하의 양호한 접속 저항 및 약 600N/m 이상의 양호한 접착 강도를 나타냈다.The circuit connecting material manufactured using the film-like adhesive of Examples 1 to 5 had a good connection resistance of about 2.6 Ω or less and a tensile strength of about 600 N / m or more And a good adhesive strength was exhibited.

이에 비해, 실리콘 미립자를 함유하지 않은 비교예 1 내지 14(비교예 4, 8, 12는 제외함)의 필름상 접착제를 사용하여 제작한 회로 접속체는, 양호한 접속 저항을 나타내지만, 접착 직후의 접착 강도는 590N/m 이하로 낮은 값을 나타내고, 시험 후의 접착 강도는 510N/m 이하로 더욱 낮은 값을 나타냈다.On the other hand, the circuit connecting material produced using the film-like adhesive of Comparative Examples 1 to 14 (excluding Comparative Examples 4, 8 and 12) containing no silicon fine particles exhibited good connection resistance, The adhesive strength was as low as 590 N / m or less, and the adhesive strength after the test was lower than 510 N / m.

이상의 결과로부터, 적어도 한쪽의 회로 기판이 유리 전이 온도가 200℃ 이하의 열가소성 수지를 포함하는 한 쌍의 회로 부재를 접착하는 경우, 본 발명에 따른 실리콘 미립자를 함유하는 접착제 조성물을 사용함으로써, 저온의 경화 조건에서도 우수한 접착 강도를 얻을 수 있고, 장시간의 신뢰성 시험(고온 고습 시험) 후에서도 안정된 성능(접착 강도나 접속 저항)을 유지 가능한 것이 명확해졌다.From the above results, it was found that when a pair of circuit members including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower is adhered to at least one of the circuit boards, by using the adhesive composition containing the silicon fine particles according to the present invention, Excellent adhesion strength can be obtained even under curing conditions, and it has become clear that stable performance (adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long time reliability test (high temperature and high humidity test).

<산업상 이용 가능성>&Lt; Industrial applicability >

본 발명에 따른 접착제 조성물은, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 회로 기판에 대하여 저온에서 경화된 경우에서도 우수한 접착 강도를 얻을 수 있기 때문에, PRT, PC, PEN, COP 등의 내열성이 낮은 유기 기재를 사용한 반도체 소자와 FPC와의 접착 등에서 적절하게 사용된다.The adhesive composition according to the present invention has excellent heat resistance such as PRT, PC, PEN and COP because it can obtain excellent adhesive strength even when cured at a low temperature on a circuit board containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower It is suitably used in adhesion between a semiconductor element using a low organic substrate and an FPC.

5…접착 시트, 6…기재, 8…접착제층(접착제 조성물), 9…접착제 성분, 10…실리콘 미립자, 10a…코어쉘형 실리콘 미립자, 11…코어층, 12…쉐어층, 20…도전 입자, 30…제1 회로 부재, 31…제1 회로 기판, 31a…제1 회로 기판의 주면, 32…제1 회로 전극, 40…제2 회로 부재, 41…제2 회로 기판, 41a…제2 회로 기판의 주면, 42…제2 회로 전극, 50…접속부, 100…회로 접속체.5 ... Adhesive sheet, 6 ... Equipment, 8 ... Adhesive layer (adhesive composition), 9 ... Adhesive component, 10 ... Silicon fine particles, 10a ... Core shell type silicon fine particles, 11 ... Core layer, 12 ... Share Floor, 20 ... Conductive particles, 30 ... The first circuit member, 31 ... The first circuit board 31a, The main surface of the first circuit board, 32 ... The first circuit electrode, 40 ... A second circuit member, 41 ... The second circuit board, 41a ... The main surface of the second circuit board, 42 ... The second circuit electrode, 50 ... Connection, 100 ... Circuit connections.

Claims (20)

제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위한 접착제 조성물이며,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판이고,
코어층과 상기 코어층을 피복하도록 설치된 쉘층을 갖는 코어쉘형 실리콘 미립자를 함유하는, 접착제 조성물.
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board are arranged such that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically The adhesive composition comprising:
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board comprises a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower,
Shell type silicon fine particles having a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer.
제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위한 접착제 조성물이며,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판이고,
코어층과 상기 코어층을 피복하도록 설치된 쉘층을 갖는 코어쉘형 실리콘 미립자를 함유하는, 접착제 조성물.
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board are arranged such that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically The adhesive composition comprising:
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer,
Shell type silicon fine particles having a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 실리콘 미립자의 코어층의 유리 전이 온도가 -130℃ 이상 -20℃ 이하인, 접착제 조성물.The adhesive composition according to claim 1 or 2, wherein the core layer of the silicone fine particles has a glass transition temperature of -130 캜 or higher and -20 캜 or lower. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 라디칼 중합성 화합물을 추가로 함유하는, 접착제 조성물.The adhesive composition according to any one of claims 1 to 3, further comprising a radically polymerizable compound. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 도전 입자를 추가로 함유하는, 접착제 조성물.The adhesive composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising conductive particles. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물을 필름상으로 성형함으로써 얻어지는, 필름상 접착제.A film-like adhesive obtained by molding the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 into a film. 기재와, 상기 기재 상에 형성된 제6항에 기재된 필름상 접착제를 포함하는 접착제층을 구비하는 접착 시트.An adhesive sheet comprising: a base material; and an adhesive layer comprising the film-like adhesive material according to claim 6 formed on the base material. 제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와,
제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와,
상기 제1 회로 부재의 상기 제1 회로 전극이 형성된 면과 상기 제2 회로 부재의 상기 제2 회로 전극이 형성된 면과의 사이에 개재하고, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극을 전기적으로 접속하는 접속부를 구비하는 회로 접속체이며,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판이고,
상기 접속부가 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물의 경화물을 포함하는, 회로 접속체.
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board,
A second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are interposed between a surface of the first circuit member on which the first circuit electrode is formed and a surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed, A circuit connecting body having a connecting portion to be connected,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board comprises a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower,
Wherein the connecting portion comprises a cured product of the adhesive composition as claimed in any one of claims 1 to 5.
제8항에 있어서, 상기 열가소성 수지가 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는, 회로 접속체.The circuit connector according to claim 8, wherein the thermoplastic resin comprises at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. 제8항에 있어서, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중, 한쪽의 회로 기판이 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고,
다른 한쪽의 회로 기판이 폴리이미드 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는, 회로 접속체.
9. The circuit board according to claim 8, wherein one of the first circuit board and the second circuit board comprises at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer Including,
And the other circuit board comprises at least one member selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer.
제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와,
제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와,
상기 제1 회로 부재의 상기 제1 회로 전극이 형성된 면과 상기 제2 회로 부재의 상기 제2 회로 전극이 형성된 면과의 사이에 개재하고, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극을 전기적으로 접속하는 접속부를 구비하는 회로 접속체이며,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판이고,
상기 접속부가 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물의 경화물을 포함하는, 회로 접속체.
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board,
A second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are interposed between a surface of the first circuit member on which the first circuit electrode is formed and a surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed, A circuit connecting body having a connecting portion to be connected,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer,
Wherein the connecting portion comprises a cured product of the adhesive composition as claimed in any one of claims 1 to 5.
제11항에 있어서, 상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중, 한쪽의 회로 기판이 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고,
다른 한쪽의 회로 기판이 폴리이미드 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는, 회로 접속체.
12. The circuit board according to claim 11, wherein one of the first circuit board and the second circuit board comprises at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer Including,
And the other circuit board comprises at least one member selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer.
제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와,
제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와의 사이에, 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물을 개재시켜 경화시킴으로써, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 상기 제1 회로 부재와 상기 제2 회로 부재를 접착하는, 회로 부재의 접속 방법이며,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판인, 회로 부재의 접속 방법.
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board,
And the second circuit member having the second circuit electrode formed on the second circuit substrate are cured by interposing the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5, The first circuit member and the second circuit member are bonded to each other so that the two circuit electrodes are electrically connected to each other,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a substrate including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 占 폚 or less.
제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와,
제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재와의 사이에, 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물을 개재시켜 경화시킴으로써, 상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 상기 제1 회로 부재와 상기 제2 회로 부재를 접착하는, 회로 부재의 접속 방법이며,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판인, 회로 부재의 접속 방법.
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board,
And the second circuit member having the second circuit electrode formed on the second circuit substrate are cured by interposing the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5, The first circuit member and the second circuit member are bonded to each other so that the two circuit electrodes are electrically connected to each other,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a substrate including at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer Connection method.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물의 용도이며,
제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를
상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판인, 상기 접착제 조성물의 용도.
A use of the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5,
A first circuit member on which a first circuit electrode is formed on a first circuit board and a second circuit member on which a second circuit electrode is formed on a second circuit board,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other,
Wherein at least one of the first circuit substrate and the second circuit substrate is a substrate comprising a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 접착제 조성물의 용도이며,
제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를
상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판인, 상기 접착제 조성물의 용도.
A use of the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5,
A first circuit member on which a first circuit electrode is formed on a first circuit board and a second circuit member on which a second circuit electrode is formed on a second circuit board,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a substrate comprising at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, Use of.
제6항에 기재된 필름상 접착제의 용도이며,
제1 회로 기판의 주면 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판의 주면 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를
상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판인, 상기 필름상 접착제의 용도.
The use of the film-like adhesive according to claim 6,
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of the first circuit substrate and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a main surface of the second circuit substrate,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a substrate comprising a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower.
제6항에 기재된 필름상 접착제의 용도이며,
제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를
상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판인, 상기 필름상 접착제의 용도.
The use of the film-like adhesive according to claim 6,
A first circuit member on which a first circuit electrode is formed on a first circuit board and a second circuit member on which a second circuit electrode is formed on a second circuit board,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a substrate comprising at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, Uses of adhesives.
제7항에 기재된 접착 시트의 용도이며,
제1 회로 기판의 주면 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판의 주면 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를
상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 유리 전이 온도가 200℃ 이하인 열가소성 수지를 포함하는 기판인, 상기 접착 시트의 용도.
A use of the adhesive sheet according to claim 7,
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a main surface of the first circuit substrate and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a main surface of the second circuit substrate,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a substrate comprising a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 DEG C or lower.
제7항에 기재된 접착 시트의 용도이며,
제1 회로 기판 상에 제1 회로 전극이 형성된 제1 회로 부재와, 제2 회로 기판 상에 제2 회로 전극이 형성된 제2 회로 부재를
상기 제1 회로 전극과 상기 제2 회로 전극이 전기적으로 접속하도록 접착하기 위하여 사용되고,
상기 제1 회로 기판 및 상기 제2 회로 기판 중 적어도 한쪽이, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리카르보네이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 및 시클로올레핀 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 기판인, 상기 접착 시트의 용도.
A use of the adhesive sheet according to claim 7,
A first circuit member on which a first circuit electrode is formed on a first circuit board and a second circuit member on which a second circuit electrode is formed on a second circuit board,
The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other,
Wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a substrate including at least one member selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, Use of.
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