JP2018188646A - Adhesive composition, film-like adhesive, adhesive sheet, circuit connection body, method for connecting circuit member, use of adhesive composition, use of film-like adhesive and use of adhesive sheet - Google Patents

Adhesive composition, film-like adhesive, adhesive sheet, circuit connection body, method for connecting circuit member, use of adhesive composition, use of film-like adhesive and use of adhesive sheet Download PDF

Info

Publication number
JP2018188646A
JP2018188646A JP2018126916A JP2018126916A JP2018188646A JP 2018188646 A JP2018188646 A JP 2018188646A JP 2018126916 A JP2018126916 A JP 2018126916A JP 2018126916 A JP2018126916 A JP 2018126916A JP 2018188646 A JP2018188646 A JP 2018188646A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
circuit board
board
adhesive
adhesive composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2018126916A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
伊澤 弘行
Hiroyuki Izawa
弘行 伊澤
有福 征宏
Masahiro Arifuku
征宏 有福
加藤木 茂樹
Shigeki Katogi
茂樹 加藤木
弘 横田
Hiroshi Yokota
弘 横田
泰三 山村
Taizo Yamamura
泰三 山村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Publication of JP2018188646A publication Critical patent/JP2018188646A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/04Non-macromolecular additives inorganic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/08Macromolecular additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • C09J9/02Electrically-conducting adhesives
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/14Structural association of two or more printed circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/321Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives
    • H05K3/323Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives by applying an anisotropic conductive adhesive layer over an array of pads
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/08Metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/326Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/314Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier the adhesive layer and/or the carrier being conductive
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • C09J2301/408Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components additives as essential feature of the adhesive layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2483/00Presence of polysiloxane
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29199Material of the matrix
    • H01L2224/2929Material of the matrix with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29298Fillers
    • H01L2224/29299Base material
    • H01L2224/2939Base material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29298Fillers
    • H01L2224/29399Coating material
    • H01L2224/294Coating material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • H01L2224/83851Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester being an anisotropic conductive adhesive
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/0781Adhesive characteristics other than chemical being an ohmic electrical conductor
    • H01L2924/07811Extrinsic, i.e. with electrical conductive fillers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/156Material
    • H01L2924/15786Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
    • H01L2924/15788Glasses, e.g. amorphous oxides, nitrides or fluorides
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0212Resin particles
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0221Insulating particles having an electrically conductive coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Combinations Of Printed Boards (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive composition which can provide an excellent adhesive strength even when cured at low temperature and can maintain stable performance even after a long-time reliability test, a film-like adhesive, an adhesive sheet, a circuit connection body, a method for connecting a circuit member, a use of the adhesive composition, a use of the film-like adhesive, and a use of the adhesive sheet.SOLUTION: The adhesive composition is provided for bonding a first circuit member 30 in which a first circuit electrode 32 is formed on a main surface 31a of a first circuit board and a second circuit member 40 in which a second circuit electrode 42 is formed on a main surface 41a of a second circuit board so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other, wherein at least one of the first circuit board 31 and the second circuit board 41 is a substrate including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200°C or lower, and the adhesive composition contains core-shell type silicone fine particles having a core layer and a shell layer provided so as to cover the cover layer.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、接着剤組成物、フィルム状接着剤、接着シート、回路接続体、回路部材の接続方法、接着剤組成物の使用、フィルム状接着剤の使用及び接着シートの使用に関する。   The present invention relates to an adhesive composition, a film adhesive, an adhesive sheet, a circuit connector, a method for connecting circuit members, use of an adhesive composition, use of a film adhesive, and use of an adhesive sheet.

半導体素子や液晶表示素子において、素子中の種々の部材を結合させる目的で、従来から種々の接着剤組成物が使用されている。上記接着剤組成物は、例えば、液晶表示素子とTCP(Tape Carrier Package)又はCOF(Chip On Film)との接続、TCP又はCOFとプリント配線板との接続、FPC(Flexible Printed Circuit)とプリント配線板との接続や、半導体素子の基板への実装等に使用されている。   2. Description of the Related Art Various adhesive compositions have been conventionally used in semiconductor elements and liquid crystal display elements for the purpose of bonding various members in the element. The adhesive composition includes, for example, a connection between a liquid crystal display element and TCP (Tape Carrier Package) or COF (Chip On Film), a connection between TCP or COF and a printed wiring board, FPC (Flexible Printed Circuit) and printed wiring. It is used for connecting to a board, mounting a semiconductor element on a substrate, and the like.

従来、半導体素子や液晶表示素子用の接着剤組成物としては、高接着性及び高信頼性を示すエポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂が用いられている(例えば、特許文献1参照)。上記熱硬化性樹脂の構成成分としては、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂に対する反応性を有するフェノール樹脂等の硬化剤、及びエポキシ樹脂と硬化剤の反応を促進する熱潜在性触媒が一般に用いられる。熱潜在性触媒は、室温等の貯蔵温度では反応せず、加熱した際に高い反応性を示す物質である。また硬化温度及び硬化速度を決定する重要な因子となっており、接着剤組成物の室温での貯蔵安定性と加熱時の硬化速度の観点から種々の化合物が用いられている。実際の工程では、170℃〜250℃の温度で1〜3時間硬化させる硬化条件により、所望の接着性を得ている。   Conventionally, as an adhesive composition for a semiconductor element or a liquid crystal display element, a thermosetting resin containing an epoxy resin exhibiting high adhesiveness and high reliability has been used (for example, see Patent Document 1). As a constituent component of the thermosetting resin, a curing agent such as an epoxy resin, a phenol resin having reactivity with the epoxy resin, and a thermal latent catalyst for promoting the reaction between the epoxy resin and the curing agent are generally used. A thermal latent catalyst is a substance that does not react at a storage temperature such as room temperature and exhibits high reactivity when heated. Further, it is an important factor for determining the curing temperature and the curing rate, and various compounds are used from the viewpoint of the storage stability of the adhesive composition at room temperature and the curing rate during heating. In an actual process, desired adhesiveness is obtained by curing conditions for curing at a temperature of 170 ° C. to 250 ° C. for 1 to 3 hours.

一方、最近の半導体素子の高集積化、液晶表示の高精細化に伴い、素子間及び配線間ピッチが狭小化し、硬化時の加熱が周辺部材に悪影響を及ぼす傾向が出てきたため、低温で接着剤組成物を硬化させることが要求されている。また、低コスト化のためにはスループットを向上させる必要があるため、短時間で接着剤組成物を硬化させることも要求されている。   On the other hand, with the recent high integration of semiconductor elements and high definition of liquid crystal displays, the pitch between elements and wirings has become narrower, and heating at the time of curing tends to adversely affect peripheral members. It is required to cure the agent composition. Moreover, since it is necessary to improve the throughput in order to reduce the cost, it is also required to cure the adhesive composition in a short time.

しかし、従来のエポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂において、低温且つ短時間での硬化(低温速硬化性)を達成するためには、活性化エネルギーの低い熱潜在性触媒を使用する必要があり、その場合、接着剤組成物の室温での貯蔵安定性が低下する問題がある。   However, in thermosetting resins including conventional epoxy resins, it is necessary to use a thermal latent catalyst with low activation energy in order to achieve curing at a low temperature in a short time (low temperature fast curing), In that case, there is a problem that the storage stability of the adhesive composition at room temperature decreases.

代わりに、低温速硬化性を有する接着剤組成物として、(メタ)アクリレート誘導体等のラジカル重合性化合物とラジカル重合開始剤である過酸化物とを併用したラジカル硬化型接着剤組成物が注目されている(例えば、特許文献2参照)。ラジカル硬化によれば、反応活性種であるラジカルが反応性に富むため、低温且つ短時間での硬化が可能である。   Instead, a radical curable adhesive composition using a radical polymerizable compound such as a (meth) acrylate derivative and a peroxide as a radical polymerization initiator as an adhesive composition having a low temperature fast curing property has attracted attention. (For example, refer to Patent Document 2). According to radical curing, radicals that are reactive species are rich in reactivity, so that curing at a low temperature and in a short time is possible.

しかし、ラジカル硬化を用いた接着剤組成物は、硬化時の硬化収縮が大きいため、エポキシ樹脂を用いた場合と比較して接着強度に劣り、特に無機材質や金属材質の基材に対する接着強度が低下する傾向がある。   However, since the adhesive composition using radical curing has a large cure shrinkage at the time of curing, it is inferior in adhesive strength compared to the case of using an epoxy resin. There is a tendency to decrease.

また、ガラス基板等を用いた半導体素子や液晶表示素子又はFR4基材等を用いたプリント基板と、ポリイミドやポリエステルなどの高分子フィルムを基材とするフレキシブル配線板(FPC)とを接続する場合、熱膨張率差に基づく内部応力が大きくなり、接着剤組成物の剥離や接続信頼性の低下が生じることが問題となっている。   In addition, when a semiconductor element using a glass substrate or the like, a liquid crystal display element or a printed circuit board using an FR4 base material, and a flexible wiring board (FPC) using a polymer film such as polyimide or polyester as a base material are connected. In addition, the internal stress based on the difference in thermal expansion coefficient is increased, which causes a problem that peeling of the adhesive composition and a decrease in connection reliability occur.

接着強度の改善方法としては、シランカップリング剤に代表される接着助剤を使用する方法(例えば、特許文献3参照)、エーテル結合によって硬化物の可とう性を付与し接着強度を改善する方法(例えば、特許文献4参照)、接着剤組成物中にゴム系の弾性材料からなる応力吸収粒子を分散させることにより接着強度を改善する方法(特許文献5、6、7等参照)などが提案されている。   As a method for improving the adhesive strength, a method using an adhesion assistant typified by a silane coupling agent (for example, see Patent Document 3), a method for improving the adhesive strength by imparting the flexibility of a cured product by an ether bond. (For example, see Patent Document 4), a method of improving adhesive strength by dispersing stress-absorbing particles made of a rubber-based elastic material in an adhesive composition (see Patent Documents 5, 6, 7, etc.) Has been.

特開平1−113480号公報Japanese Patent Laid-Open No. 1-113480 国際公開第98/044067号パンフレットInternational Publication No. 98/044067 Pamphlet 特許第3344886号Japanese Patent No. 3344886 特許第3503740号公報Japanese Patent No. 3503740 特許第3477367号公報Japanese Patent No. 3477367 国際公開第09/020005号パンフレットInternational Publication No. 09/020005 pamphlet 国際公開第09/051067号パンフレットWO09 / 051067 pamphlet

昨今、タッチパネル、電子ペーパー等の薄型化、軽量化、フレキシブル化等を目的として、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シクロオレフィンポリマー(COP)等を含む回路部材の適用が検討されている。しかしながら、PET、PC、PEN、COP等の耐熱性の低い有機基材を用いる場合には、硬化時の加熱が有機基材及び周辺部材に悪影響を及ぼす傾向が高まるため、より低温で接着剤組成物を硬化させることが要求される。また、PET、PC、PEN、COP等の表面は平滑であるため、物理的な投錨効果(アンカー効果)による接着効果が小さい。   Recently, circuit members containing polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), cycloolefin polymer (COP), etc. for the purpose of thinning, lightening, and flexibility of touch panels, electronic paper, etc. The application of is being considered. However, when using an organic base material with low heat resistance such as PET, PC, PEN, COP, etc., since the heat during curing tends to adversely affect the organic base material and peripheral members, the adhesive composition at a lower temperature. It is required to cure the object. Moreover, since the surfaces of PET, PC, PEN, COP, etc. are smooth, the adhesion effect due to the physical anchoring effect (anchor effect) is small.

そこで、低温硬化性を有するラジカル硬化型の接着剤組成物において、接着強度を改善することが望まれるが、熱可塑性樹脂であるPET、PC、PEN、COP等の有機基材は、ベンゼン環等による分子間相互作用によって結晶部分を形成しやすいため、シランカップリング剤と共有結合を形成することは困難である。したがって、これらの有機基材を用いる場合には、特許文献3に記載の方法では充分な接着強度改善効果が得られない。   Therefore, it is desired to improve adhesive strength in a radical curable adhesive composition having low temperature curability, but organic substrates such as PET, PC, PEN, COP which are thermoplastic resins are benzene rings, etc. It is difficult to form a covalent bond with the silane coupling agent because a crystal part is easily formed by intermolecular interaction due to. Therefore, when these organic substrates are used, the method described in Patent Document 3 cannot provide a sufficient effect of improving the adhesive strength.

また、PET、PC、PEN、COP等の有機基材は、ガラス基板より熱膨張係数が大きく、表面エネルギーも異なる。そのため、被着体に対する濡れ性向上や内部応力低減のために、接着剤組成物に充分な可とう性を付与する必要があるが、特許文献4に記載の方法では、充分な可とう性を付与することはできず、更なる接着強度の向上が望まれる。   Moreover, organic base materials, such as PET, PC, PEN, and COP, have a larger thermal expansion coefficient and different surface energy than glass substrates. Therefore, in order to improve wettability to the adherend and reduce internal stress, it is necessary to impart sufficient flexibility to the adhesive composition. However, the method described in Patent Document 4 provides sufficient flexibility. It cannot be imparted, and further improvement in adhesive strength is desired.

特許文献5に記載の方法によっても、応力吸収粒子のガラス転移温度が80℃〜120℃と高いため、充分な応力緩和効果が得られず、高温高湿試験後の接着強度や接続抵抗などの性能が充分に得られない問題がある。特許文献6に記載の応力吸収粒子を分散させる方法によっても、PET、PC、PEN、COP等の有機基材に対する充分な接着強度向上効果は得られない。また、特許文献5、6及び7に記載の方法では、エポキシ樹脂を接着剤組成物の硬化成分として使用しているため、充分な接着力を得るためには比較的高温での加熱が求められ、耐熱性の低いPET、PC、PEN、COP等の有機基材への悪影響が懸念される。   Even by the method described in Patent Document 5, since the glass transition temperature of the stress-absorbing particles is as high as 80 ° C. to 120 ° C., a sufficient stress relaxation effect cannot be obtained, such as the adhesive strength and connection resistance after the high temperature and high humidity test. There is a problem that sufficient performance cannot be obtained. Even by the method of dispersing the stress-absorbing particles described in Patent Document 6, it is not possible to obtain a sufficient effect of improving the adhesive strength to organic substrates such as PET, PC, PEN, and COP. Further, in the methods described in Patent Documents 5, 6 and 7, since an epoxy resin is used as a curing component of the adhesive composition, heating at a relatively high temperature is required in order to obtain a sufficient adhesive force. There is concern about adverse effects on organic base materials such as PET, PC, PEN, and COP having low heat resistance.

そこで、本発明は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シクロオレフィンポリマー(COP)等の耐熱性の低い有機基材に対して、低温で硬化させた場合でも、優れた接着強度を得ることができ、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度や接続抵抗)を維持することができる接着剤組成物並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、回路接続体、回路部材の接続方法、接着剤組成物の使用、フィルム状接着剤の使用及び接着シートの使用を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention can be applied to an organic substrate having low heat resistance such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), and cycloolefin polymer (COP) even when cured at a low temperature. Adhesive composition that can obtain excellent adhesive strength and can maintain stable performance (adhesive strength and connection resistance) even after long-term reliability test (high temperature and high humidity test), and use thereof It is an object of the present invention to provide a film-like adhesive, an adhesive sheet, a circuit connector, a method for connecting circuit members, use of an adhesive composition, use of a film-like adhesive, and use of an adhesive sheet.

本発明者らは上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、耐熱性の低い熱可塑性樹脂であるポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シクロオレフィンポリマー(COP)等の有機基材と、半導体素子や液晶表示素子との接続において接着強度が低いのは、内部応力の緩和が不充分であることが原因であることを見出した。これらを解決するために更に検討した結果、特定の構造を有するシリコーン微粒子を用いることで優れた接着強度を得ることができ、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度や接続抵抗)を維持することができることを見出し、本発明の完成に至った   As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have found that polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), cycloolefin polymer (COP), etc., which are thermoplastic resins having low heat resistance. It has been found that the low adhesive strength in the connection between the organic substrate and the semiconductor element or the liquid crystal display element is due to insufficient relaxation of internal stress. As a result of further studies to solve these problems, it was possible to obtain excellent adhesive strength by using silicone fine particles with a specific structure, and stable performance even after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test). It was found that (adhesive strength and connection resistance) can be maintained, and the present invention was completed.

すなわち、本発明は、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、第一の回路電極と第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するための接着剤組成物であって、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板であり、コア層と該コア層を被覆するように設けられたシェル層とを有するコアシェル型シリコーン微粒子を含有する、接着剤組成物を提供する。   That is, the present invention provides a first circuit member in which a first circuit electrode is formed on a first circuit board, and a second circuit member in which a second circuit electrode is formed on a second circuit board. An adhesive composition for electrically connecting the first circuit electrode and the second circuit electrode, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board. One is a substrate containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or less, and contains a core-shell type silicone fine particle having a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer. Offer things.

上記接着剤組成物は、上記特定の構造を有するシリコーン微粒子を含有することで、シリコーン微粒子間相互作用が緩和され、構造粘性(非ニュートン粘性)が低くなるため、シリコーン微粒子の樹脂中への分散性が向上し、効果的に内部応力を充分に緩和することができると考えられる。これにより、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基材(例えばPET、PC、PEN、COP等)に対する接着強度を向上させ、回路部材間の接着強度を向上させることができる。また、長時間の信頼性試験後にも安定した性能(接着強度や接続抵抗)を維持することができる。   Since the adhesive composition contains the silicone fine particles having the specific structure described above, the interaction between the silicone fine particles is alleviated and the structural viscosity (non-Newtonian viscosity) is lowered, so that the silicone fine particles are dispersed in the resin. Therefore, it is considered that the internal stress can be sufficiently relaxed effectively. Thereby, the adhesive strength with respect to the base material (for example, PET, PC, PEN, COP etc.) containing the thermoplastic resin whose glass transition temperature is 200 degrees C or less can be improved, and the adhesive strength between circuit members can be improved. In addition, stable performance (adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long-term reliability test.

本明細書において、「ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板」とは、熱可塑性樹脂としてポリマーハンドブック(高分子学会編:高分子データハンドブック、基礎編、p.525、培風館(1986))等に記載されるガラス転移温度が200℃以下の値で示される熱可塑性樹脂を含む基板である。ここで、熱可塑性樹脂は、熱可塑性を有する樹脂であり、通常は架橋構造を有さないものであるが、熱可塑性を有していれば若干の架橋構造を有するものも含むものとする。熱可塑性樹脂のガラス転移温度は後述する測定方法によって求めることができる。   In this specification, “a substrate containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower” means a polymer handbook (edited by the Society of Polymer Science: Polymer Data Handbook, Basics, p. 525, Baifukan ( 1986)) etc., and a glass substrate containing a thermoplastic resin having a value of 200 ° C. or less. Here, the thermoplastic resin is a resin having thermoplasticity, and usually does not have a crosslinked structure, but if it has thermoplasticity, it also includes those having a slight crosslinked structure. The glass transition temperature of a thermoplastic resin can be calculated | required with the measuring method mentioned later.

本発明はまた、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するための接着剤組成物であって、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板であり、コア層と該コア層を被覆するように設けられたシェル層とを有するコアシェル型シリコーン微粒子を含有する、接着剤組成物を提供する。   The present invention also provides a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board. An adhesive composition for electrically connecting the first circuit electrode and the second circuit electrode, wherein the first circuit board and the second circuit board At least one is a substrate containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, and has a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer An adhesive composition containing core-shell type silicone fine particles is provided.

上記接着剤組成物は、上記特定の構造を有するシリコーン微粒子を含有することで、シリコーン微粒子間相互作用が緩和され、構造粘性(非ニュートン粘性)が低くなるため、シリコーン微粒子の樹脂中への分散性が向上し、効果的に内部応力を充分に緩和することができると考えられる。これにより、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基材に対する接着強度を向上させ、回路部材間の接着強度を向上させることができる。また、長時間の信頼性試験後にも安定した性能(接着強度や接続抵抗)を維持することができる。   Since the adhesive composition contains the silicone fine particles having the specific structure described above, the interaction between the silicone fine particles is alleviated and the structural viscosity (non-Newtonian viscosity) is lowered, so that the silicone fine particles are dispersed in the resin. Therefore, it is considered that the internal stress can be sufficiently relaxed effectively. Thereby, the adhesive strength with respect to the base material containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a polyethylene terephthalate, a polycarbonate, a polyethylene naphthalate, and a cycloolefin polymer can be improved, and the adhesive strength between circuit members can be improved. In addition, stable performance (adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long-term reliability test.

上記シリコーン微粒子のコア層のガラス転移温度は、−130℃以上−20℃以下であることが好ましく、−125℃以上−40℃以下であることがより好ましく、特に好ましくは、−120℃以上−50℃以下である。これにより、内部応力を充分に緩和することができるため、回路部材間の接着強度を向上させることができる。また、長時間の信頼性試験後にも安定した性能を維持することができる。上記ガラス転移温度が−20℃より高い場合、内部応力を充分に緩和できないため充分な接着強度向上効果が得られない傾向があり、−130℃より低い場合、充分な凝集力が得られないため接着強度が低下する傾向がある。   The glass transition temperature of the core layer of the silicone fine particles is preferably −130 ° C. or higher and −20 ° C. or lower, more preferably −125 ° C. or higher and −40 ° C. or lower, and particularly preferably −120 ° C. or higher − It is 50 degrees C or less. Thereby, since internal stress can fully be relieved, the adhesive strength between circuit members can be improved. In addition, stable performance can be maintained even after a long-term reliability test. When the glass transition temperature is higher than −20 ° C., the internal stress cannot be sufficiently relaxed, and thus there is a tendency that a sufficient effect of improving the adhesive strength cannot be obtained. When the glass transition temperature is lower than −130 ° C., sufficient cohesive force cannot be obtained. There exists a tendency for adhesive strength to fall.

本発明に係る接着剤組成物は、ラジカル重合性化合物を更に含有することが好ましい。これにより、より低温硬化での接着が可能となる。   The adhesive composition according to the present invention preferably further contains a radical polymerizable compound. Thereby, adhesion by lower temperature hardening is attained.

上記接着剤組成物は、導電粒子を更に含有することが好ましい。導電粒子を含有することにより、接着剤組成物に良好な導電性又は異方導電性が付与されるため、回路電極(接続端子)を有する回路部材同士の接着用途等に、より好適に用いられる。また、導電粒子を含有する接着剤組成物を介して回路部材間を電気的に接続することにより、接続抵抗をより低減することができる。   The adhesive composition preferably further contains conductive particles. By containing the conductive particles, good conductivity or anisotropic conductivity is imparted to the adhesive composition, and therefore, it is more suitably used for bonding applications between circuit members having circuit electrodes (connection terminals). . Further, the connection resistance can be further reduced by electrically connecting the circuit members via the adhesive composition containing conductive particles.

本発明は、上記接着剤組成物をフィルム状に成形することにより得られる、フィルム状接着剤を提供する。また、本発明は、基材と、該基材上に形成された上記フィルム状接着剤からなる接着剤層と、を備える接着シートを提供する。   This invention provides the film adhesive obtained by shape | molding the said adhesive composition in a film form. Moreover, this invention provides an adhesive sheet provided with a base material and the adhesive bond layer which consists of the said film adhesive formed on this base material.

本発明は、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、上記第一の回路部材の上記第一の回路電極が形成された面と上記第二の回路部材の上記第二の回路電極が形成された面との間に介在し、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とを電気的に接続する接続部と、を備える回路接続体であって、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板であり、上記接続部が、上記本発明に係る接着剤組成物の硬化物からなる、回路接続体を提供する。   The present invention includes a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board, The first circuit electrode is interposed between the surface of the first circuit member on which the first circuit electrode is formed and the surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed. And a connection part for electrically connecting the second circuit electrode, and at least one of the first circuit board and the second circuit board has a glass transition temperature of 200. Provided is a circuit connection body, which is a substrate containing a thermoplastic resin at a temperature of 0 ° C. or lower, and wherein the connection portion is made of a cured product of the adhesive composition according to the present invention.

本発明に係る回路接続体においては、接続部が本発明に係る接着剤組成物の硬化物からなることにより、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板を用いた場合でも、優れた接着強度及び長期信頼性試験後の安定した性能(接着強度や接続抵抗)を得ることができる。   In the circuit connector according to the present invention, the connection portion is made of a cured product of the adhesive composition according to the present invention, so that even when a substrate containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower is used, it is excellent. In addition, stable performance (adhesive strength and connection resistance) after a long-term reliability test can be obtained.

上記熱可塑性樹脂は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。これにより、回路基板と接着剤組成物との濡れ性が向上して接着強度がより向上し、優れた接続信頼性を得ることができる。   The thermoplastic resin preferably contains at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. Thereby, the wettability between the circuit board and the adhesive composition is improved, the adhesive strength is further improved, and excellent connection reliability can be obtained.

さらに、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板のうち、一方の回路基板が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含み、もう一方の回路基板が、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。これにより、回路基板と接着剤組成物との濡れ性及び接着強度がより向上し、優れた接続信頼性を得ることができる。   Further, one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer, and the other circuit board. The circuit board preferably contains at least one selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. Thereby, the wettability and adhesive strength of a circuit board and an adhesive composition improve more, and the outstanding connection reliability can be acquired.

本発明はまた、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、上記第一の回路部材の上記第一の回路電極が形成された面と上記第二の回路部材の上記第二の回路電極が形成された面との間に介在し、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とを電気的に接続する接続部と、を備える回路接続体であって、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板、上記接続部が、上記本発明に係る接着剤組成物の硬化物からなる、回路接続体を提供する。   The present invention also provides a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board. The first circuit member is interposed between the surface of the first circuit member on which the first circuit electrode is formed and the surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed. A connection part for electrically connecting the electrode and the second circuit electrode, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is made of polyethylene terephthalate or polycarbonate There is provided a circuit connection body, wherein the substrate comprising at least one selected from the group consisting of polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer, and the connection part is made of a cured product of the adhesive composition according to the present invention.

上記回路接続体においては、接続部が本発明に係る接着剤組成物の硬化物からなることにより、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板を用いた場合でも、優れた接着強度及び長期信頼性試験後の安定した性能(接着強度や接続抵抗)を得ることができる。   In the above circuit connector, the connection part is a substrate containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer, by being made of a cured product of the adhesive composition according to the present invention. Even in the case of using, it is possible to obtain excellent adhesive strength and stable performance after long-term reliability test (adhesive strength and connection resistance).

上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板のうち、一方の回路基板が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含み、もう一方の回路基板が、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。これにより、回路基板と接着剤組成物との濡れ性及び接着強度がより向上し、優れた接続信頼性を得ることができる。   Of the first circuit board and the second circuit board, one circuit board includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer, and the other circuit. It is preferable that the substrate contains at least one selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. Thereby, the wettability and adhesive strength of a circuit board and an adhesive composition improve more, and the outstanding connection reliability can be acquired.

本発明は、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に、本発明に係る接着剤組成物を介在させ硬化させることにより、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように上記第一の回路部材と上記第二の回路部材とを接着する、回路部材の接続方法であって、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板である、回路部材の接続方法を提供する。   The present invention includes a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board. By interposing and curing the adhesive composition according to the present invention, the first circuit member and the second circuit electrode are electrically connected to each other so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected. A circuit member connecting method for bonding a second circuit member, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board includes a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower. A circuit member connecting method is provided.

本発明に係る回路部材の接続方法によれば、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板に適した低温硬化を行った場合にも、充分な接着強度及び長期信頼性試験後の安定した性能(接着強度や接続抵抗)を有する回路接続体が得られる。   According to the method for connecting circuit members according to the present invention, even when low-temperature curing suitable for a substrate containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower is performed, sufficient adhesive strength and long-term reliability test are performed. A circuit connector having stable performance (adhesive strength and connection resistance) can be obtained.

本発明はまた、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に、本発明に係る接着剤組成物を介在させ硬化させることにより、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように上記第一の回路部材と上記第二の回路部材とを接着する、回路部材の接続方法であって、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板である、回路部材の接続方法を提供する。   The present invention also provides a first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board. Between the first circuit member and the second circuit electrode so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected by interposing and curing the adhesive composition according to the present invention between A circuit member connection method for bonding a second circuit member, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is made of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. Provided is a circuit member connection method which is a substrate including at least one selected from the group consisting of:

上記の回路部材の接続方法によれば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板に適した低温硬化を行った場合にも、充分な接着強度及び長期信頼性試験後の安定した性能(接着強度や接続抵抗)を有する回路接続体が得られる。   According to the above circuit member connection method, sufficient adhesion can be obtained even when low-temperature curing suitable for a substrate containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer is performed. A circuit connector having stable performance (adhesive strength and connection resistance) after the strength and long-term reliability test can be obtained.

本発明は、上記本発明の接着剤組成物の使用であって、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板である、上記接着剤組成物の使用を提供する。   The present invention is the use of the adhesive composition of the present invention, wherein the first circuit member has the first circuit electrode formed on the first circuit board, and the second circuit board has the second circuit board. The first circuit board is used for bonding the second circuit member on which the circuit electrode is formed so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other. And use of the said adhesive composition whose at least one of said 2nd circuit board is a board | substrate containing the thermoplastic resin whose glass transition temperature is 200 degrees C or less is provided.

本発明はまた、上記本発明の接着剤組成物の使用であって、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板である、上記接着剤組成物の使用を提供する。   The present invention is also the use of the adhesive composition of the present invention, wherein the first circuit member has the first circuit electrode formed on the first circuit board, and the second circuit board has the first circuit member. A second circuit member on which two circuit electrodes are formed, and is used to bond the first circuit electrode and the second circuit electrode so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other; Provided is the use of the adhesive composition, wherein at least one of the substrate and the second circuit substrate is a substrate comprising at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. .

本発明は、上記本発明のフィルム状接着剤の使用であって、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板である、上記フィルム状接着剤の使用を提供する。   The present invention is the use of the above-described film-like adhesive of the present invention, wherein the first circuit member having the first circuit electrode formed on the first circuit board and the second circuit board on the second circuit board are used. The first circuit board is used for bonding the second circuit member on which the circuit electrode is formed so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other. And at least one of said 2nd circuit board provides use of the said film adhesive which is a board | substrate containing the thermoplastic resin whose glass transition temperature is 200 degrees C or less.

本発明はまた、上記本発明のフィルム状接着剤の使用であって、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板である、上記フィルム状接着剤の使用を提供する。   The present invention is also the use of the film-like adhesive of the present invention, wherein the first circuit member having the first circuit electrode formed on the first circuit board and the second circuit board on the second circuit board are used. A second circuit member on which two circuit electrodes are formed, and is used to bond the first circuit electrode and the second circuit electrode so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other; Provided is the use of the film adhesive, wherein at least one of the substrate and the second circuit substrate is a substrate containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. .

本発明は、上記本発明の接着シートの使用であって、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板である、上記接着シートの使用を提供する。   The present invention is the use of the above adhesive sheet of the present invention, wherein the first circuit member having the first circuit electrode formed on the first circuit board and the second circuit on the second circuit board are provided. The second circuit member on which the electrode is formed is used for bonding so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other. There is provided use of the above adhesive sheet, wherein at least one of the second circuit boards is a board containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower.

本発明はまた、上記本発明の接着シートの使用であって、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板である、上記接着シートの使用を提供する。   The present invention is also the use of the above adhesive sheet of the present invention, wherein the first circuit member has the first circuit electrode formed on the first circuit board, and the second circuit board has the second circuit board. Used to bond the second circuit member on which the circuit electrode is formed so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected, and the first circuit board and There is provided use of the above adhesive sheet, wherein at least one of the second circuit boards is a board containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer.

本発明によれば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、シクロオレフィンポリマー(COP)等の耐熱性の低い有機基材に対して、低温で硬化させた場合でも、優れた接着強度を得ることができ、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度や接続抵抗)を維持することができる接着剤組成物並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、回路接続体、回路部材の接続方法、接着材組成物の使用、フィルム状接着剤の使用及び接着シートの使用を提供することができる。   According to the present invention, even when cured at a low temperature on an organic substrate having low heat resistance such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), and cycloolefin polymer (COP). Adhesive composition that can obtain excellent adhesive strength and can maintain stable performance (adhesive strength and connection resistance) even after long-term reliability test (high temperature and high humidity test), and use thereof Film adhesives, adhesive sheets, circuit connectors, circuit member connection methods, use of adhesive compositions, use of film adhesives and use of adhesive sheets can be provided.

本発明の接着シートの一実施形態を示す端面図である。It is an end view which shows one Embodiment of the adhesive sheet of this invention. 本発明のシリコーン微粒子の一実施形態を示す端面図である。It is an end view which shows one Embodiment of the silicone fine particle of this invention. 本発明の回路接続体の一実施形態を示す端面図である。It is an end view which shows one Embodiment of the circuit connection body of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments.

本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とはアクリル酸又はそれに対応するメタクリル酸を示し、「(メタ)アクリレート」とはアクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、「(メタ)アクリロイル基」とはアクリロイル基又はそれに対応するメタクリロイル基を意味する。   In the present specification, “(meth) acrylic acid” means acrylic acid or methacrylic acid corresponding to it, “(meth) acrylate” means acrylate or the corresponding methacrylate, and “(meth) acryloyl group” Means an acryloyl group or a corresponding methacryloyl group.

熱可塑性樹脂又は回路基板の「ガラス転移温度(Tg)」とは、ティー・エイ・インスツルメント社製粘弾性アナライザー「RSA−3」(商品名)を用いて、昇温速度5℃/min、周波数10Hz、測定温度−150℃〜300℃の条件で測定した、tanδピーク温度の値をいう。なお、回路基板のガラス転移温度の測定において、熱可塑性樹脂基板上にガラス層等の下地層、アクリル樹脂層等のハードコート層、ガスバリア層などが形成されている場合には、それらも含んだ回路基板のガラス転移温度を測定する。   “Glass transition temperature (Tg)” of a thermoplastic resin or a circuit board is a temperature rise rate of 5 ° C./min using a viscoelasticity analyzer “RSA-3” (trade name) manufactured by TA Instruments. Tan δ peak temperature measured under the conditions of a frequency of 10 Hz and a measurement temperature of −150 ° C. to 300 ° C. In the measurement of the glass transition temperature of the circuit board, when a base layer such as a glass layer, a hard coat layer such as an acrylic resin layer, a gas barrier layer, or the like is formed on the thermoplastic resin substrate, these are also included. Measure the glass transition temperature of the circuit board.

微粒子の「ガラス転移温度(Tg)」とは、Tgが既知の熱可塑性樹脂中に微粒子を分散させ、作製したフィルムをティー・エイ・インスツルメント社製粘弾性アナライザー「RSA−3」(商品名)を用いて、昇温速度5℃/min、周波数10Hz、測定温度−150℃〜300℃の条件で測定した、tanδピーク温度の値をいう。   “Glass transition temperature (Tg)” of fine particles means that the fine particles are dispersed in a thermoplastic resin having a known Tg, and the produced film is a viscoelasticity analyzer “RSA-3” (product of TA Instruments) Name), and the value of tan δ peak temperature measured under conditions of a temperature rising rate of 5 ° C./min, a frequency of 10 Hz, and a measurement temperature of −150 ° C. to 300 ° C.

微粒子の「平均粒径」とは、微粒子をメチルエチルケトンで0.1wt%(質量%)に希釈した後、Zetasizer Nano−S(Malvern Instruments Ltd.製、商品名)を用いて測定した平均粒子直径(Z−average値)をいう。また、上記測定装置で正確な測定ができない大きさの粒径を有する微粒子については、島津レーザ回折式粒度分布測定装置SALD−2200((株)島津製作所製、商品名)を用いて測定した平均粒径を用いることもできる。   The “average particle diameter” of the fine particles refers to an average particle diameter (measured using a product manufactured by Malvern Instruments Ltd., trade name) after diluting the fine particles to 0.1 wt% (mass%) with methyl ethyl ketone. Z-average value). In addition, for the fine particles having a particle size that cannot be accurately measured by the measuring device, an average measured using a Shimadzu laser diffraction particle size distribution measuring device SALD-2200 (trade name, manufactured by Shimadzu Corporation). The particle size can also be used.

本発明に係る接着剤組成物は、コアシェル型の構造を有するシリコーン微粒子を含有することを特徴とする。コアシェル型の構造としては、コア層とコア層を被覆するように設けられたシェル層とを有する構造が挙げられ、核材(コア層)表面のガラス転移温度又は弾性率より高いガラス転移温度又は弾性率を有する表面層(シェル層)を形成したもの、核材(コア層)の外部にグラフト層(シェル層)を有するものなどがあり、コア層とシェル層で組成が同一又は異なるシリコーン微粒子を用いることができる。具体的には、シリコーンゴム球状微粒子の水分散液に、アルカリ性物質又はアルカリ性水溶液とオルガノトリアルコキシシランを添加し、加水分解、縮合反応したコアシェル型シリコーン微粒子(例えば、特許第2832143号公報参照)、国際公開第2009/051067号パンフレットに記載されるようなコアシェル型シリコーン微粒を用いることもできる。また、分子末端若しくは分子内側鎖に水酸基やエポキシ基、ケチミン、カルボキシル基、メルカプト基などの官能基を含有したシリコーン微粒を用いることができる。このようなシリコーン微粒子はフィルム形成成分やラジカル重合性物質への分散性が向上するため好ましい。なお、上記のコア層とシェル層は必ずしも明瞭な境界線を有していなくてもよい。   The adhesive composition according to the present invention includes silicone fine particles having a core-shell structure. Examples of the core-shell type structure include a structure having a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer, and a glass transition temperature higher than the glass transition temperature or elastic modulus of the surface of the core material (core layer) or Silicone fine particles that have a surface layer (shell layer) having an elastic modulus and those that have a graft layer (shell layer) outside the core material (core layer), and the core layer and shell layer have the same or different composition Can be used. Specifically, core-shell type silicone fine particles obtained by adding an alkaline substance or an alkaline aqueous solution and an organotrialkoxysilane to an aqueous dispersion of silicone rubber spherical fine particles, followed by hydrolysis and condensation reaction (see, for example, Japanese Patent No. 2832143), Core-shell type silicone fine particles as described in International Publication No. 2009/051067 pamphlet can also be used. Further, silicone fine particles containing a functional group such as a hydroxyl group, an epoxy group, a ketimine, a carboxyl group, or a mercapto group at the molecular terminal or inner molecular chain can be used. Such silicone fine particles are preferable because dispersibility in film-forming components and radical polymerizable substances is improved. The core layer and the shell layer do not necessarily have a clear boundary line.

また、上記コアシェル型シリコーン微粒子を構成するコア層は、応力緩和効果の観点から、シリコーン、シリコーンゴムが好ましく、シェル層はコア層の同種のポリマ又は他の種類のポリマを用いることができるが、コア層よりシェル層の物性(ガラス転移温度、弾性率等)が高いことが好ましい。これにより、コア層の構造及び形状を安定化することができ、効果的にその性能が発揮される。特に、シリコーン、シリコーンゴム等をコア層としたとき、溶剤、又は接着剤組成物の構成材料によってシリコーン、シリコーンゴムが膨潤し、それら微粒子同士が接着して、凝集体を形成しやすい。シェル層を形成することにより、前記凝集体の形成を抑制することができる。   Further, the core layer constituting the core-shell type silicone fine particles is preferably silicone and silicone rubber from the viewpoint of stress relaxation effect, and the shell layer can use the same kind of polymer of the core layer or other kinds of polymers. It is preferable that the physical properties (glass transition temperature, elastic modulus, etc.) of the shell layer are higher than those of the core layer. Thereby, the structure and shape of a core layer can be stabilized and the performance is exhibited effectively. In particular, when silicone, silicone rubber, or the like is used as the core layer, the silicone or silicone rubber swells due to the solvent or the constituent material of the adhesive composition, and these fine particles adhere to each other and form an aggregate. By forming the shell layer, the formation of the aggregate can be suppressed.

上記シリコーン微粒子のコア層のガラス転移温度は、−130℃以上−20℃以下であることが好ましく、−125℃以上−40℃以下であることがより好ましく、特に好ましくは、−120℃以上−50℃以下である。このようなシリコーン微粒子は接着剤組成物の内部応力を充分に緩和することができる。   The glass transition temperature of the core layer of the silicone fine particles is preferably −130 ° C. or higher and −20 ° C. or lower, more preferably −125 ° C. or higher and −40 ° C. or lower, and particularly preferably −120 ° C. or higher − It is 50 degrees C or less. Such silicone fine particles can sufficiently relieve the internal stress of the adhesive composition.

また、内部応力の緩和の観点から、シリコーン微粒子のコア層の重量平均分子量は150万以下であることが好ましく、150万以下50万以上がより好ましく、140万以下80万以上が特に好ましい。   From the viewpoint of relaxation of internal stress, the weight average molecular weight of the core layer of the silicone fine particles is preferably 1.5 million or less, more preferably 1.5 million or less and 500,000 or more, and particularly preferably 1.4 million or less and 800,000 or more.

なお、本実施形態における重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)分析により下記条件で測定し、標準ポリスチレンの検量線を使用して換算することにより求められるものである。
GPC条件は、以下のとおりである。
使用機器:日立L−6000型((株)日立製作所製、商品名)
検出器:L−3300RI((株)日立製作所製、商品名)
カラム:ゲルパックGL−R420+ゲルパックGL−R430+ゲルパックGL−R440(計3本)(日立化成工業(株)製、商品名)
溶離液:テトラヒドロフラン
測定温度:40℃
流量:1.75ml/min
The weight average molecular weight in the present embodiment is determined by gel permeation chromatography (GPC) analysis under the following conditions and converted using a standard polystyrene calibration curve.
The GPC conditions are as follows.
Equipment used: Hitachi L-6000 type (manufactured by Hitachi, Ltd., trade name)
Detector: L-3300RI (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.)
Column: Gel pack GL-R420 + Gel pack GL-R430 + Gel pack GL-R440 (3 in total) (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Eluent: Tetrahydrofuran Measurement temperature: 40 ° C
Flow rate: 1.75 ml / min

また、上記コアシェル型シリコーン微粒子におけるシェル層については、コア層の構造安定化、形状維持、高機能化を達成するために、架橋構造を有していることが好ましく、3次元網目構造を有する架橋構造であることがより好ましく、シェル層が3次元網目構造を有する架橋構造であることが特に好ましい。また、更に好ましくは、ポリメタクリル酸メチル共重合体等の有機化合物、又は、シリコーン、シリカ、シルセスキオキサン等の無機化合物であることがよい。これにより、シリコーンによる内部応力の緩和が、効果的に発揮される。   Further, the shell layer in the core-shell type silicone fine particles preferably has a crosslinked structure in order to achieve stabilization of the core layer structure, maintenance of shape, and high functionality, and a crosslinked structure having a three-dimensional network structure. The structure is more preferable, and the shell layer is particularly preferably a crosslinked structure having a three-dimensional network structure. Further, an organic compound such as a polymethyl methacrylate copolymer or an inorganic compound such as silicone, silica, or silsesquioxane is more preferable. Thereby, relaxation of the internal stress by silicone is exhibited effectively.

上記シリコーン微粒子、コアシェル型シリコーン微粒子の構造を確認する手法としては、上記コアシェル型シリコーン微粒子の断面を表面観察及び表面の組成分析を行うことで確認することができる。具体的な手法としては、透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope;TEM)による構造解析を下記に示す条件で行うことで確認することができる。
樹脂注型:エポキシ樹脂(リファインテック株式会社製 エポマウント主剤及び硬化剤)
重金属染色:OsO(四酸化オスミウム)を2質量%水溶液調整し、その中で24時間、注型した試料のバルク染色を行う。
前処理:クライオウルトラミクロトームで−120℃に冷却しながら、ダイアモンドナイフで刃速度0.6mm/秒で前処理し、薄膜を作成する。
TEM観察:日立ハイテクノロジーズ社製STEM/EDX装置;HD−2700を用いて、画像又はEDXマッピングからコア層、シェル層の種類、構成を確認する。
As a method for confirming the structure of the silicone fine particles and the core-shell type silicone fine particles, the cross section of the core-shell type silicone fine particles can be confirmed by surface observation and surface composition analysis. As a specific method, it can be confirmed by conducting a structural analysis with a transmission electron microscope (TEM) under the following conditions.
Resin casting: Epoxy resin (Epomount main agent and curing agent by Refine Tech Co., Ltd.)
Heavy metal dyeing: A 2% by weight aqueous solution of OsO 4 (osmium tetroxide) is prepared, and the cast sample is bulk dyed therein for 24 hours.
Pretreatment: While cooling to −120 ° C. with a cryoultramicrotome, pretreatment is performed with a diamond knife at a blade speed of 0.6 mm / second to form a thin film.
TEM observation: STEM / EDX apparatus manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation; using HD-2700, the type and configuration of the core layer and shell layer are confirmed from the image or EDX mapping.

また、他の手法としては、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope;AFM)による構造解析を下記に示す条件で行うことができる。
樹脂注型:エポキシ樹脂(リファインテック株式会社製 エポマウント主剤及び硬化剤)
前処理:クライオウルトラミクロトームで−120℃に冷却しながら、ダイアモンドナイフで刃速度0.6mm/秒で前処理し、薄膜を作成する。
観察:SII・ナノテクノロジー社製の原子間力顕微鏡AFMを用いて、断面を観察し、DFMモードにて、形状像と位相像を測定して、位相像でコアシェル構造を確認する。
As another method, structural analysis by an atomic force microscope (AFM) can be performed under the following conditions.
Resin casting: Epoxy resin (Epomount main agent and curing agent by Refine Tech Co., Ltd.)
Pretreatment: While cooling to −120 ° C. with a cryoultramicrotome, pretreatment is performed with a diamond knife at a blade speed of 0.6 mm / second to form a thin film.
Observation: A cross section is observed using an atomic force microscope AFM manufactured by SII Nanotechnology, and a shape image and a phase image are measured in a DFM mode, and a core-shell structure is confirmed by the phase image.

上記シリコーン微粒子の平均粒径は0.05μm以上25μm以下が好ましく、0.1μm以上20μm以下がより好ましく、0.6μm以上10μm以下が特に好ましい。上記シリコーン微粒子の平均粒径を上記範囲内とすることにより、接着剤組成物の流動性と内部応力の緩和との両立が容易となる。   The average particle size of the silicone fine particles is preferably 0.05 μm or more and 25 μm or less, more preferably 0.1 μm or more and 20 μm or less, and particularly preferably 0.6 μm or more and 10 μm or less. By making the average particle diameter of the silicone fine particles within the above range, it becomes easy to achieve both the fluidity of the adhesive composition and the relaxation of the internal stress.

上記シリコーン微粒子の配合量は、接着剤成分(導電粒子を除く接着剤組成物)の質量を基準として、1質量%以上50質量%以下であることが好ましく、3質量%以上30質量%以下であることがより好ましく、5質量%以上30質量%以下が特に好ましい。上記シリコーン微粒子の配合量を上記範囲内とすることにより、内部応力の緩和、並びに、接着剤組成物の可とう性(弾性率、伸び)及び接着強度を十分に得ることができる。   The blending amount of the silicone fine particles is preferably 1% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 3% by mass or more and 30% by mass or less based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles). More preferably, it is 5 mass% or more and 30 mass% or less. By making the compounding quantity of the said silicone fine particle in the said range, relaxation of an internal stress and the flexibility (elastic modulus, elongation) and adhesive strength of an adhesive composition can fully be obtained.

コアシェル型シリコーン微粒子は単独で用いる他に、2種以上を併用してもよい。更に、本願発明の効果を損なわない範囲であれば、他のシリコーン微粒子と併用してもよい。   The core-shell type silicone fine particles may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, other silicone fine particles may be used in combination as long as the effects of the present invention are not impaired.

他のシリコーン微粒子は、分散性及び内部応力の緩和の観点から、シリコーン微粒子の重量平均分子量は150万以下であることが好ましく、150万以下50万以上がより好ましく、140万以下80万以上が特に好ましい。また、他のシリコーン微粒子は、三次元架橋構造を有することが好ましい。「三次元架橋構造を有する」とは、ポリマー鎖が三次元網目構造を有していることを示す。三次元架橋構造を有するシリコーン微粒子は、樹脂に対する分散性が高く、硬化後の応力緩和性に一層優れる。100万以上の重量平均分子量及び/又は三次元架橋構造を有するシリコーン微粒子は、熱可塑性樹脂等のポリマー、モノマー、溶媒等への溶解性が低いため、分散性及び応力緩和効果を一層顕著に得ることができる。   From the viewpoint of dispersibility and relaxation of internal stress, the silicone fine particles preferably have a weight average molecular weight of 1.5 million or less, more preferably 1.5 million or less and 500,000 or more, and 1.4 million or less and 800,000 or more. Particularly preferred. Further, the other silicone fine particles preferably have a three-dimensional crosslinked structure. “Having a three-dimensional crosslinked structure” means that the polymer chain has a three-dimensional network structure. Silicone fine particles having a three-dimensional crosslinked structure have high dispersibility in the resin and are further excellent in stress relaxation after curing. Silicone fine particles having a weight average molecular weight of 1 million or more and / or a three-dimensional cross-linked structure have low solubility in polymers such as thermoplastic resins, monomers, solvents, etc., so that the dispersibility and the stress relaxation effect are more remarkably obtained. be able to.

他のシリコーン微粒子としては、ゴム弾性を有するポリオルガノシルセスキオキサン樹脂の微粒子が挙げられ、球状及び不定形のシリコーン微粒子が用いられる。具体的には、ビニル基を少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサンとケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサンと白金系触媒との反応によって得られるシリコーン微粒子(例えば、特開昭62−257939号公報参照)、アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、ヒドロシリル基を有するオルガノポリシロキサン及び白金系触媒を用いて得られるシリコーン微粒子(例えば特開昭63−77942号公報参照)やジオルガノシロキサン、モノオルガノシルセスキオキサン、トリオルガノシロキサン及び白金系触媒を用いて得られるシリコーン微粒子(例えば、特開昭62−270660号公報参照)、メチルシラントリオール及び/又はその部分縮合物の水/アルコール溶液をアルカリ水溶液に滴下し重縮合反応を行わせて得られるシリコーン微粒子(例えば、特許第3970453号公報参照)等を用いることができる。また、分散性や基板との密着性を向上させるために、エポキシ化合物を添加又は共重合させたシリコーン微粒子(例えば、特開平3−167228号公報参照)、アクリル酸エステル化合物を添加又は共重合させたシリコーン微粒子等を用いることもできる。   Other silicone fine particles include fine particles of polyorganosilsesquioxane resin having rubber elasticity, and spherical and amorphous silicone fine particles are used. Specifically, silicone fine particles obtained by reaction of an organopolysiloxane containing at least two vinyl groups and an organohydropolyene polysiloxane having at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms and a platinum-based catalyst (for example, No. 62-257939), organopolysiloxane having an alkenyl group, organopolysiloxane having a hydrosilyl group, and a silicone fine particle obtained using a platinum-based catalyst (see, for example, JP-A-63-77742) and di Silicon fine particles obtained using organosiloxane, monoorganosilsesquioxane, triorganosiloxane, and platinum-based catalyst (for example, see JP-A-62-270660), water of methylsilane triol and / or partial condensate thereof / Alcohol soluble The silicone particles obtained by performing the dropped polycondensation reaction in an aqueous alkaline solution (for example, see Patent JP No. 3970453), or the like can be used. Further, in order to improve dispersibility and adhesion to the substrate, silicone fine particles to which an epoxy compound is added or copolymerized (for example, see JP-A-3-167228), an acrylate compound is added or copolymerized. Silicone fine particles can also be used.

接着剤組成物に含有されるラジカル重合性化合物は、ラジカル重合開始剤の作用でラジカル重合を生じる化合物をいうが、光や熱等の活性化エネルギーを付与することでそれ自体ラジカルを生じる化合物であってもよい。ラジカル重合性化合物としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリール基、マレイミド基等の活性ラジカルによって重合する官能基を有する化合物を好適に用いることができる。   The radically polymerizable compound contained in the adhesive composition is a compound that generates radical polymerization by the action of a radical polymerization initiator, and is a compound that itself generates radicals by applying activation energy such as light and heat. There may be. As the radically polymerizable compound, for example, a compound having a functional group that is polymerized by an active radical such as a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an aryl group, or a maleimide group can be preferably used.

ラジカル重合性化合物として具体的には、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー等のオリゴマー、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性2官能(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性3官能(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンアクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基に(メタ)アクリル酸を付加させたエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンアクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基に(メタ)アクリル酸を付加させたエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基にエチレングリコールやプロピレングリコールを付加させた化合物に(メタ)アクリロイルオキシ基を導入した化合物、下記一般式(A)又は(B)で表される化合物等が挙げられる。   Specific examples of the radical polymerizable compound include epoxy (meth) acrylate oligomers, urethane (meth) acrylate oligomers, polyether (meth) acrylate oligomers, polyester (meth) acrylate oligomers, and trimethylolpropane tri (meth) acrylate. , Polyethylene glycol di (meth) acrylate, polyalkylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, isocyanuric acid modified bifunctional (meth) acrylate, isocyanuric acid modified trifunctional (meth) acrylate, bisphenoxyethanol (Meth) acrylic acid was added to the glycidyl group of epoxy (meth) acrylate, bisphenoxyethanol fluorene acrylate, or bisphenol fluorenediglycidyl ether with (meth) acrylic acid added to the glycidyl group of olene acrylate or bisphenol fluorenediglycidyl ether Epoxy (meth) acrylate, a compound in which ethylene glycol or propylene glycol is added to a glycidyl group of bisphenol fluorenediglycidyl ether, a compound in which a (meth) acryloyloxy group is introduced, represented by the following general formula (A) or (B) And the like.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(A)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、a及びbはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。 In the general formula (A), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each independently represent an integer of 1 to 8.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(B)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、c及びdはそれぞれ独立に0〜8の整数を示す。 In the general formula (B), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and c and d each independently represent an integer of 0 to 8.

また、ラジカル重合性化合物としては、単独で30℃に静置した場合にワックス状、ろう状、結晶状、ガラス状、粉状等の流動性が無く固体状態を示すものであっても、特に制限することなく使用することができる。このようなラジカル重合性化合物として具体的には、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、N−フェニルマレイミド、N−(o−メチルフェニル)マレイミド、N−(m−メチルフェニル)マレイミド、N−(p−メチルフェニル)−マレイミド、N−(o−メトキシフェニル)マレイミド、N−(m−メトキシフェニル)マレイミド、N−(p−メトキシフェニル)−マレイミド、N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−オクチルマレイミド、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、N−メタクリロキシマレイミド、N−アクリロキシマレイミド、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン、N−メタクリロイルオキシコハク酸イミド、N−アクリロイルオキシコハク酸イミド、2−ナフチルメタクリレート、2−ナフチルアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジビニルエチレン尿素、ジビニルプロピレン尿素、2−ポリスチリルエチルメタクリレート、N−フェニル−N’−(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)−p−フェニレンジアミン、テトラメチルピペリジルメタクリレート、テトラメチルピペリジルアクリレート、ペンタメチルピペリジルメタクリレート、ペンタメチルピペリジルアクリレート、オクタデシルアクリレート、N−t−ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−(ヒドロシキメチル)アクリルアミド、下記一般式(C)〜(L)のいずれかで表される化合物等が挙げられる。   In addition, as a radically polymerizable compound, even when it is left alone at 30 ° C., it has no fluidity such as wax, wax, crystal, glass, powder, etc. Can be used without limitation. Specific examples of such radically polymerizable compounds include N, N′-methylenebisacrylamide, diacetone acrylamide, N-methylolacrylamide, N-phenylmethacrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, tris ( 2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, N-phenylmaleimide, N- (o-methylphenyl) maleimide, N- (m-methylphenyl) maleimide, N- (p-methylphenyl) -maleimide, N- (o- Methoxyphenyl) maleimide, N- (m-methoxyphenyl) maleimide, N- (p-methoxyphenyl) -maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-octylmaleimide, 4,4′-diphenylmethane bismaleimide, m-phenylene Sumerimide, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, N-methacryloxymaleimide, N-acryloxymaleimide, 1 , 6-Bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane, N-methacryloyloxysuccinimide, N-acryloyloxysuccinimide, 2-naphthyl methacrylate, 2-naphthyl acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, divinylethylene Urea, divinylpropylene urea, 2-polystyrylethyl methacrylate, N-phenyl-N ′-(3-methacryloyloxy-2-hydroxypropyl) -p-phenylenediamine, N-phenyl-N ′-(3-acryloyloxy- 2- (Droxypropyl) -p-phenylenediamine, tetramethylpiperidyl methacrylate, tetramethylpiperidyl acrylate, pentamethylpiperidyl methacrylate, pentamethylpiperidyl acrylate, octadecyl acrylate, Nt-butylacrylamide, diacetone acrylamide, N- (hydroxymethyl) ) Acrylamide, compounds represented by any of the following general formulas (C) to (L), and the like.

Figure 2018188646

上記一般式(C)中、eは1〜10の整数を示す。
Figure 2018188646

In the general formula (C), e represents an integer of 1 to 10.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(E)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、fは15〜30の整数を示す。 In the general formula (E), R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and f represents an integer of 15 to 30.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(F)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、gは15〜30の整数を示す。 In the general formula (F), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and g represents an integer of 15 to 30.

Figure 2018188646

上記一般式(G)中、Rは水素原子又はメチル基を示す。
Figure 2018188646

In the general formula (G), R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure 2018188646

上記一般式(H)中、R10は水素原子又はメチル基を示し、hは1〜10の整数を示す。
Figure 2018188646

In the general formula (H), R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group, and h represents an integer of 1 to 10.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(I)中、R11は水素原子又は下記一般式(i)若しくは(ii)で表される有機基を示し、iは1〜10の整数を示す。 In the general formula (I), R 11 represents a hydrogen atom or an organic group represented by the following general formula (i) or (ii), and i represents an integer of 1 to 10.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

Figure 2018188646
Figure 2018188646

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(J)中、R12は水素原子又は下記一般式(iii)若しくは(iv)で表される有機基を示し、jは1〜10の整数を示す。また、R12はそれぞれ同一でも異なってもよい。 In the general formula (J), R 12 represents a hydrogen atom or an organic group represented by the following general formula (iii) or (iv), and j represents an integer of 1 to 10. R 12 may be the same or different.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

Figure 2018188646
Figure 2018188646

Figure 2018188646

上記一般式(K)中、R13は水素原子又はメチル基を示す。
Figure 2018188646

In the general formula (K), R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure 2018188646

上記一般式(L)中、R14は水素原子又はメチル基を示す。
Figure 2018188646

In the general formula (L), R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group.

また、ラジカル重合性化合物として、ウレタン(メタ)アクリレートを、単独で又は他のラジカル重合性化合物と共に用いることができる。ウレタン(メタ)アクリレートを用いることで、可とう性が向上し、PET、PC、PEN、COP等の有機基材に対する接着強度を向上させることができる。   Moreover, urethane (meth) acrylate can be used individually or with another radically polymerizable compound as a radically polymerizable compound. By using urethane (meth) acrylate, flexibility is improved and adhesion strength to organic base materials such as PET, PC, PEN and COP can be improved.

ウレタン(メタ)アクリレートとしては、特に制限はないが、下記一般式(M)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。ここで、下記一般式(M)で表されるウレタン(メタ)アクリレートは、脂肪族又は脂環式系ジイソシアネートと、少なくとも1種類以上の脂肪族若しくは脂環式エステル系ジオール又は脂肪族若しくは脂環式カーボネート系ジオールとの縮合反応により得ることができる。   Although there is no restriction | limiting in particular as urethane (meth) acrylate, It is preferable to use the urethane (meth) acrylate represented by the following general formula (M). Here, the urethane (meth) acrylate represented by the following general formula (M) is an aliphatic or alicyclic diisocyanate and at least one aliphatic or alicyclic ester diol or aliphatic or alicyclic. It can be obtained by a condensation reaction with a carbonate type diol.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(M)中、R15及びR16はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、R17はエチレン基又はプロピレン基、R18は飽和脂肪族基又は飽和脂環式基を示し、R19はエステル基を含有する飽和脂肪族基又は飽和脂環式基、カーボネート基を含有する飽和脂肪族基又は飽和脂環式基を示し、kは1〜40の整数を示す。なお、式中、R17同士、R18同士、R19同士はそれぞれ同一でも異なってもよい。 In the general formula (M), R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 17 represents an ethylene group or a propylene group, R 18 represents a saturated aliphatic group or a saturated alicyclic group, R 19 represents a saturated aliphatic group or saturated alicyclic group containing an ester group, a saturated aliphatic group or saturated alicyclic group containing a carbonate group, and k represents an integer of 1 to 40. In the formula, R 17 s , R 18 s , and R 19 s may be the same or different.

上記ウレタン(メタ)アクリレートを構成する脂肪族系ジイソシアネートは、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、3−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン−1,6−ジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレン−1,6−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリメチルキシリレンジイソシアネート等から選択される。   The aliphatic diisocyanate constituting the urethane (meth) acrylate is tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, 3-methylpentane-1,5-diisocyanate, 2, 2,4-trimethylhexamethylene-1,6-diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene-1,6-diisocyanate, isophorone diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated trimethyl It is selected from xylylene diisocyanate and the like.

上記ウレタン(メタ)アクリレートを構成する脂肪族エステル系ジオールは、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1、2−ペンタンジオール、1、4−ペンタンジオール、1、5−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2、4−ジメチル−2,4−ペンタンジオール、2、2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,5−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2、5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、1,2−オクタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,2−デカンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−デカンジオール、ドデカンジオール、ピナコール、1,4−ブチンジオール、トリエチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等、の飽和の低分子グリコール類、ならびにアジピン酸、3−メチルアジピン酸、2,2,5,5−テトラメチルアジピン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、2,2−ジメチルコハク酸、2−エチル−2−メチルコハク酸、2,3−ジメチルコハク酸、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ブチルマロン酸、ジメチルマロン酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の二塩基酸若しくはこれらに対応する酸無水物を脱水縮合させて得られるポリエステルジオール類やε−カプロラクトン等の環状エステル化合物を開環重合して得られるポリエステルジオールなどから選択される。上記ジオール類及びジカルボン酸から得られるポリエステルジオール類は単独で用いる他に、2種以上のポリエステルジオール類を混合して用いてもよい。   The aliphatic ester diol constituting the urethane (meth) acrylate is ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, Neopentyl glycol, 1,2-pentanediol, 1,4-pentanediol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,4-dimethyl-2 , 4-pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,2-hexanediol, 1,5-hexanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 2, -Ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,2- Kutandiol, 1,8-octanediol, 1,7-heptanediol, 1,9-nonanediol, 1,2-decanediol, 1,10-decanediol, 1,12-decanediol, dodecanediol, pinacol, 1 , 4-butynediol, triethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and the like, as well as adipic acid, 3-methyladipic acid, 2,2 , 5,5-tetramethyladipic acid, maleic acid, fumaric acid, succinic acid, 2,2-dimethylsuccinic acid, 2-ethyl-2-methylsuccinic acid, 2,3-dimethylsuccinic acid, oxalic acid, malonic acid, Methylmalonic acid, ethylmalonic acid, butylmalonic acid, dimethylmalo Acid, glutaric acid, 2-methylglutaric acid, 3-methylglutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, 3,3-dimethylglutaric acid, 2,4-dimethylglutaric acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, It is selected from polyester diols obtained by ring-opening polymerization of polyester diols obtained by dehydrating condensation of dibasic acids such as sebacic acid or acid anhydrides corresponding thereto, and ε-caprolactone, and the like. The polyester diols obtained from the diols and dicarboxylic acids may be used alone or in combination of two or more polyester diols.

上記ウレタン(メタ)アクリレートを構成するポリカーボネート系ジオールは、少なくとも1種類以上の上記グリコール類とホスゲンとの反応によって得られるポリカーボネートジオール類から選択される。上記グリコール類とホスゲンとの反応によって得られるポリカーボネートジオール類は単独で用いるほかに、2種類以上のポリカーボネート系ジオールを混合して用いてもよい。   The polycarbonate-based diol constituting the urethane (meth) acrylate is selected from polycarbonate diols obtained by reaction of at least one kind of the glycols with phosgene. The polycarbonate diols obtained by the reaction of the glycols and phosgene may be used alone or in combination of two or more polycarbonate diols.

上記ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、PET、PC、PEN、COP等の基材に対する接着強度向上の観点から、5000以上30000未満の範囲内で自由に調整し、好適に使用することができる。上記ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量が上記範囲内であれば、柔軟性と凝集力の双方を得ることができ、PET、PC、PEN、COP等の有機基材との接着強度が向上し、優れた接続信頼性を得ることができる。更に、上記ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量が上記範囲内であれば、接着剤組成物の充分な可とう性と流動性とを両立させることが容易となる。また、このような効果をより充分に得る観点から、上記ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、80000以上25000未満であることがより好ましく、10000以上20000未満が特に好ましい。   The weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate can be freely adjusted within the range of 5000 or more and less than 30000 from the viewpoint of improving the adhesive strength to a substrate such as PET, PC, PEN, COP, etc. it can. If the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is within the above range, both flexibility and cohesion can be obtained, and the adhesive strength with organic base materials such as PET, PC, PEN, and COP is improved. Excellent connection reliability can be obtained. Furthermore, when the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is within the above range, it becomes easy to achieve both sufficient flexibility and fluidity of the adhesive composition. Further, from the viewpoint of obtaining such effects more sufficiently, the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is more preferably 80000 or more and less than 25000, and particularly preferably 10,000 or more and less than 20000.

なお、本実施形態における重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)分析により下記条件で測定し、標準ポリスチレンの検量線を使用して換算することにより求められるものである。
GPC条件は、以下のとおりである。
使用機器:日立L−6000型((株)日立製作所製、商品名)
検出器:L−3300RI((株)日立製作所製、商品名)
カラム:ゲルパックGL−R420+ゲルパックGL−R430+ゲルパックGL−R440(計3本)(日立化成工業(株)製、商品名)
溶離液:テトラヒドロフラン
測定温度:40℃
流量:1.75ml/min
The weight average molecular weight in the present embodiment is determined by gel permeation chromatography (GPC) analysis under the following conditions and converted using a standard polystyrene calibration curve.
The GPC conditions are as follows.
Equipment used: Hitachi L-6000 type (manufactured by Hitachi, Ltd., trade name)
Detector: L-3300RI (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.)
Column: Gel pack GL-R420 + Gel pack GL-R430 + Gel pack GL-R440 (3 in total) (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Eluent: Tetrahydrofuran Measurement temperature: 40 ° C
Flow rate: 1.75 ml / min

上記ウレタン(メタ)アクリレートの配合量は、接着剤成分(導電粒子を除く接着剤組成物)の質量を基準として、5質量%以上95質量%以下であることが好ましく、10質量%以上80質量%以下であることがより好ましく、15質量%以上70質量%以下が特に好ましい。上記ウレタン(メタ)アクリレートの配合量が上記範囲内であると、硬化後に充分な耐熱性が得られるとともに、フィルム状接着剤として使用する場合に、良好なフィルム形成性を得ることが容易となる。   The blending amount of the urethane (meth) acrylate is preferably 5% by mass or more and 95% by mass or less, preferably 10% by mass or more and 80% by mass based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles). % Or less, more preferably 15% by mass or more and 70% by mass or less. When the blending amount of the urethane (meth) acrylate is within the above range, sufficient heat resistance is obtained after curing, and it is easy to obtain good film formability when used as a film adhesive. .

また、ラジカル重合性化合物に属する化合物である、リン酸基を有するビニル化合物(リン酸基含有ビニル化合物)や、N−ビニル化合物及びN,N−ジアルキルビニル化合物からなる群より選ばれるN−ビニル系化合物を、これら以外のラジカル重合性化合物と併用することができる。リン酸基含有ビニル化合物の併用により、接着剤組成物の金属基材への接着性を向上させることが可能になる。また、N−ビニル系化合物の併用により、接着剤組成物の橋かけ率を向上させることができる。   Further, a vinyl compound having a phosphate group (phosphate group-containing vinyl compound), an N-vinyl selected from the group consisting of an N-vinyl compound and an N, N-dialkylvinyl compound, which is a compound belonging to a radical polymerizable compound. System compounds can be used in combination with radically polymerizable compounds other than these. The combined use of the phosphoric acid group-containing vinyl compound makes it possible to improve the adhesion of the adhesive composition to the metal substrate. Moreover, the crosslinking rate of an adhesive composition can be improved by combined use of a N-vinyl type compound.

リン酸基含有ビニル化合物としては、リン酸基及ビニル基を有する化合物であれば特に制限はないが、下記一般式(N)〜(P)で表される化合物が好ましい。   The phosphate group-containing vinyl compound is not particularly limited as long as it is a compound having a phosphate group and a vinyl group, but compounds represented by the following general formulas (N) to (P) are preferable.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(N)中、R20は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、R21は水素原子又はメチル基を示し、l及びmはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。なお、式中、R20同士、R21同士、l同士及びm同士はそれぞれ同一でも異なってもよい。 In the general formula (N), R 20 represents a (meth) acryloyloxy group, R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group, l and m each independently represent an 1-8 integer. In the formula, R 20 s , R 21 s , l s, and m s may be the same or different.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(O)中、R22は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、n、o及びpはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。なお、式中、R22同士、n同士、o同士及びp同士はそれぞれ同一でも異なってもよい。 In said general formula (O), R < 22 > shows a (meth) acryloyloxy group, n, o, and p show the integer of 1-8 each independently. In the formula, R 22 s , n s, o s, and p s may be the same or different.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(P)中、R23は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、R24は水素原子又はメチル基を示し、q及びrはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。なお、式中、R23同士、R24同士、q同士及びr同士はそれぞれ同一でも異なってもよい。 In the general formula (P), R 23 represents a (meth) acryloyloxy group, R 24 represents a hydrogen atom or a methyl group, q and r each independently represent an 1-8 integer. In the formula, R 23 s , R 24 s , q s, and r s may be the same or different.

リン酸基含有ビニル化合物として具体的には、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート、アシッドホスホオキシエチルアクリレート、アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレート、2,2’−ジ(メタ)アクリロイロキシジエチルホスフェート、EO変性リン酸ジメタクリレート、リン酸変性エポキシアクリレート、リン酸ビニル等が挙げられる。   Specific examples of the phosphoric acid group-containing vinyl compound include acid phosphooxyethyl methacrylate, acid phosphooxyethyl acrylate, acid phosphooxypropyl methacrylate, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, acid phosphooxypolyoxypropylene glycol monomethacrylate, Examples include 2,2′-di (meth) acryloyloxydiethyl phosphate, EO-modified phosphate dimethacrylate, phosphate-modified epoxy acrylate, and vinyl phosphate.

一方、N−ビニル系化合物として、具体的には、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカプロラクタム、4,4’−ビニリデンビス(N,N−ジメチルアニリン)、N−ビニルアセトアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド等が挙げられる。   On the other hand, specific examples of N-vinyl compounds include N-vinylimidazole, N-vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, 4,4′-vinylidenebis (N, N -Dimethylaniline), N-vinylacetamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide and the like.

リン酸基含有ビニル化合物およびN−ビニル系化合物の配合量は、リン酸基含有ビニル化合物以外のラジカル重合性化合物の配合量とは独立に、接着剤成分(導電粒子を除く接着剤組成物)の質量を基準として、0.2質量%以上15質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以上10量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以上5質量%以下が特に好ましい。リン酸基含有ビニル化合物およびN−ビニル系化合物の配合量が上記範囲内であると、接着剤組成物の高い接着強度と、接着剤組成物の硬化後の物性とを両立させることが容易となり、信頼性を確保しやすくなる。   The blending amount of the phosphoric acid group-containing vinyl compound and the N-vinyl compound is independent of the blending amount of the radical polymerizable compound other than the phosphoric acid group-containing vinyl compound, and is an adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles). Is preferably 0.2% by mass or more and 15% by mass or less, more preferably 0.3% by mass or more and 10% by mass or less, and 0.5% by mass or more and 5% by mass or less. Particularly preferred. When the blending amount of the phosphate group-containing vinyl compound and the N-vinyl compound is within the above range, it becomes easy to achieve both high adhesive strength of the adhesive composition and physical properties after curing of the adhesive composition. , Making it easier to ensure reliability.

上記リン酸基含有ビニル化合物及びN−ビニル化合物を除いたラジカル重合性化合物の配合量は、接着剤成分(導電粒子を除く接着剤組成物)の質量を基準として、5質量%以上95質量%以下であることが好ましく、10質量%以上80質量%以下であることがより好ましく、15質量%以上70質量%以下が特に好ましい。上記ラジカル重合性化合物の配合量が上記範囲内であると、硬化後に充分な耐熱性が得られるとともに、フィルム状接着剤として使用する場合に、良好なフィルム形成性を得ることが容易となる。   The blending amount of the radical polymerizable compound excluding the phosphate group-containing vinyl compound and the N-vinyl compound is 5% by mass or more and 95% by mass based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles). It is preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 15% by mass or more and 70% by mass or less. When the blending amount of the radical polymerizable compound is within the above range, sufficient heat resistance is obtained after curing, and it is easy to obtain good film formability when used as a film adhesive.

接着剤組成物に含有されるラジカル重合開始剤としては、従来から知られている有機過酸化物やアゾ化合物等、外部からのエネルギーの付与によりラジカルを発生する化合物を用いることができる。ラジカル重合開始剤としては、安定性、反応性、相溶性の観点から、1分間半減期温度が90℃以上175℃以下で、かつ分子量が180以上1000以下の有機過酸化物が好ましい。1分間半減期温度がこの範囲にあることで、貯蔵安定性に優れ、ラジカル重合性も充分に高く、短時間で硬化できる。   As the radical polymerization initiator contained in the adhesive composition, conventionally known compounds such as organic peroxides and azo compounds that generate radicals by external energy application can be used. The radical polymerization initiator is preferably an organic peroxide having a 1 minute half-life temperature of 90 ° C. or more and 175 ° C. or less and a molecular weight of 180 or more and 1000 or less from the viewpoints of stability, reactivity, and compatibility. When the 1-minute half-life temperature is within this range, the storage stability is excellent, the radical polymerizability is sufficiently high, and the composition can be cured in a short time.

ラジカル重合開始剤としては、具体的には、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ジラウロイルパーオキサイド、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−アミルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、3−ヒドロキシ−1,1−ジメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルパーオキシネオデカノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(3−メチルベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジブチルパーオキシトリメチルアジペート、t−アミルパーオキシノルマルオクトエート、t−アミルパーオキシイソノナノエート、t−アミルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリン酸)、1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)等のアゾ化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独で用いる他に、2種以上の化合物を混合して用いてもよい。   Specific examples of the radical polymerization initiator include 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and di (2-ethylhexyl). Peroxydicarbonate, cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, dilauroyl peroxide, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanoate T-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-hex Peroxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyneoheptanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butyl Peroxyhexahydroterephthalate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, 3-hydroxy-1,1-dimethylbutylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethyl Butyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxyneodecanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di (3-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, di (4-Methylbenzoyl) peroxide, t-hexylperoxyisopropyl monocar Nate, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (3-methyl Benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxybenzoate, Organic peroxides such as dibutyl peroxytrimethyl adipate, t-amyl peroxy normal octoate, t-amyl peroxy isononanoate, t-amyl peroxybenzoate, 2,2′-azobis-2,4-dimethylvalero Nitrile, 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenyl ester) Tan), 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), dimethyl-2,2′-azobisisobutyronitrile, 4,4′-azobis And azo compounds such as (4-cyanovaleric acid) and 1,1′-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile). These compounds may be used alone or in admixture of two or more compounds.

また、ラジカル重合開始剤としては、150nm以上750nm以下の光照射によってラジカルを発生する化合物を用いることができる。このような化合物としては、例えば、Photoinitiation,Photopolymerization,and Photocuring,J.−P. Fouassier,Hanser Publishers(1995年、p17〜p35)に記載されているα−アセトアミノフェノン誘導体やホスフィンオキサイド誘導体が光照射に対する感度が高いためより好ましい。これらの化合物は、単独で用いる他に、上記有機過酸化物やアゾ化合物と混合して用いてもよい。   Moreover, as a radical polymerization initiator, the compound which generate | occur | produces a radical by light irradiation 150-750 nm can be used. Such compounds include, for example, Photoinitiation, Photopolymerization, and Photocuring, J. Mol. -P. The α-acetaminophenone derivative and the phosphine oxide derivative described in Fouassier, Hanser Publishers (1995, p17-p35) are more preferable because of their high sensitivity to light irradiation. These compounds may be used alone or in combination with the above organic peroxides or azo compounds.

ラジカル重合開始剤の配合量は、接着剤成分(導電粒子を除く接着剤組成物)の質量を基準として、0.5質量%以上40質量%以下であることが好ましく、1質量%以上30質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上20質量%以下が特に好ましい。ラジカル重合開始剤の配合量が上記範囲内であると、接着剤組成物の硬化性と貯蔵安定性とを両立させることが容易となる。   The blending amount of the radical polymerization initiator is preferably 0.5% by mass or more and 40% by mass or less, preferably 1% by mass or more and 30% by mass based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles). % Or less is more preferable, and 2% by mass or more and 20% by mass or less is particularly preferable. When the blending amount of the radical polymerization initiator is within the above range, it becomes easy to achieve both curability and storage stability of the adhesive composition.

接着剤組成物に含有される熱可塑性樹脂は、加熱により粘度の高い液体状態になって外力により自由に変形し、冷却し外力を取り除くとその形状を保ったままで硬くなり、この過程を繰り返して行える性質を持つ樹脂(高分子)が好適に使用できる。また、上記の性質を有する反応性官能基を有する樹脂(高分子)も含む。熱可塑性樹脂のTgは、−30℃以上190℃以下が好ましく、−25℃以上170℃以下がより好ましく、−20℃以上150℃以下が特に好ましい。   The thermoplastic resin contained in the adhesive composition becomes a high-viscosity liquid state by heating and deforms freely by external force, and when cooled and removed, the shape becomes hard while maintaining its shape, and this process is repeated. Resins (polymer) having properties that can be used can be suitably used. In addition, a resin (polymer) having a reactive functional group having the above properties is also included. Tg of the thermoplastic resin is preferably −30 ° C. or higher and 190 ° C. or lower, more preferably −25 ° C. or higher and 170 ° C. or lower, and particularly preferably −20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.

このような熱可塑性樹脂としては、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、フェノキシ樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、酢酸ビニル共重合体等を用いることができる。これらは単独あるいは2種類以上を混合して用いることができる。更に、これら熱可塑性樹脂中にはシロキサン結合やフッ素置換基が含まれていてもよい。これらは、混合する樹脂同士が完全に相溶するか、若しくはミクロ相分離が生じて白濁する状態であれば好適に用いることができる。   As such a thermoplastic resin, polyimide resin, polyamide resin, phenoxy resin, (meth) acrylic resin, urethane resin, polyester urethane resin, polyvinyl butyral resin, vinyl acetate copolymer and the like can be used. These can be used alone or in admixture of two or more. Further, these thermoplastic resins may contain a siloxane bond or a fluorine substituent. These can be suitably used as long as the resins to be mixed are completely compatible with each other or microphase separation occurs and becomes cloudy.

接着剤組成物をフィルム状に成形してフィルム状接着剤として利用する場合、上記熱可塑性樹脂の分子量が大きいほど、良好なフィルム形成性が容易に得られ、またフィルム状接着剤としての流動性に影響する溶融粘度を広範囲に設定できる。熱可塑性樹脂の重量平均分子量としては5000以上150000以下が好ましく、7000以上100000以下がより好ましく、10000以上80000以下が特に好ましい。熱可塑性樹脂の重量平均分子量が上記範囲内であると、良好なフィルム形成性と、他の成分との良好な相溶性とを両立させることが容易となる。   When the adhesive composition is formed into a film and used as a film adhesive, the higher the molecular weight of the thermoplastic resin, the easier it is to obtain good film formability and the fluidity as a film adhesive. The melt viscosity that affects the viscosity can be set in a wide range. The weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably from 5,000 to 150,000, more preferably from 7,000 to 100,000, and particularly preferably from 10,000 to 80,000. When the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is within the above range, it becomes easy to achieve both good film formability and good compatibility with other components.

なお、本実施形態における重量平均分子量は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)分析により下記条件で測定し、標準ポリスチレンの検量線を使用して換算することにより求められるものである。
GPC条件は、以下のとおりである。
使用機器:日立L−6000型((株)日立製作所製、商品名)
検出器:L−3300RI((株)日立製作所製、商品名)
カラム:ゲルパックGL−R420+ゲルパックGL−R430+ゲルパックGL−R440(計3本)(日立化成工業(株)製、商品名)
溶離液:テトラヒドロフラン
測定温度:40℃
流量:1.75ml/min
The weight average molecular weight in the present embodiment is determined by gel permeation chromatography (GPC) analysis under the following conditions and converted using a standard polystyrene calibration curve.
The GPC conditions are as follows.
Equipment used: Hitachi L-6000 type (manufactured by Hitachi, Ltd., trade name)
Detector: L-3300RI (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.)
Column: Gel pack GL-R420 + Gel pack GL-R430 + Gel pack GL-R440 (3 in total) (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
Eluent: Tetrahydrofuran Measurement temperature: 40 ° C
Flow rate: 1.75 ml / min

熱可塑性樹脂の含有量は、接着剤成分(導電粒子を除く接着剤組成物)の質量を基準として、5質量%以上80質量%以下であることが好ましく、15質量%以上70質量%以下であることがより好ましい。熱可塑性樹脂の含有量が上記範囲内であると、接着剤組成物をフィルム状にして利用する場合に、良好なフィルム形成性と、フィルム状接着剤の良好な流動性とを両立させることが容易となる。   The content of the thermoplastic resin is preferably 5% by mass or more and 80% by mass or less, and preferably 15% by mass or more and 70% by mass or less, based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding conductive particles). More preferably. When the content of the thermoplastic resin is within the above range, when the adhesive composition is used in the form of a film, it is possible to achieve both good film formability and good fluidity of the film adhesive. It becomes easy.

接着剤組成物に含有される導電粒子は、その全体又は少なくとも表面に導電性を有する粒子であることが好ましく、接続端子(回路電極)を有する回路部材の接続に使用する場合は、接続端子間距離より平均粒径が小さいことがより好ましい。   The conductive particles contained in the adhesive composition are preferably particles having conductivity on the whole or at least on the surface, and when used for connecting circuit members having connection terminals (circuit electrodes), between the connection terminals More preferably, the average particle size is smaller than the distance.

導電粒子としては、Au、Ag、Ni、Cu、Pd、はんだ等の金属粒子やカーボンなどが挙げられる。また、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等を核とし、この核に上記金属、金属粒子やカーボンを被覆したものでもよい。導電粒子が、プラスチックを核とし、この核に上記金属、金属粒子やカーボンを被覆したものや熱溶融金属粒子の場合、加熱加圧により変形性を有するので接続時に電極との接触面積が増加し信頼性が向上するので好ましい。また、導電粒子は、例えば、銅からなる金属粒子に銀を被覆した粒子であってもよい。更に、導電粒子は、特開2005−116291号公報に記載されるような、微細な金属粒子が多数、鎖状に繋がった形状を有する金属粉末を用いることもできる。   Examples of the conductive particles include metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, Pd, and solder, and carbon. Further, non-conductive glass, ceramic, plastic or the like may be used as a core, and the core may be coated with the metal, metal particles, or carbon. In the case where the conductive particles are made of plastic as a core and the core is coated with the above metal, metal particles or carbon, or hot-melt metal particles, the contact area with the electrode is increased during connection because it is deformable by heating and pressing. This is preferable because reliability is improved. Further, the conductive particles may be, for example, particles obtained by coating silver on copper metal particles. Further, as the conductive particles, a metal powder having a shape in which a large number of fine metal particles are connected in a chain shape as described in JP-A-2005-116291 can be used.

また、これらの導電粒子の表面を、更に絶縁性粒子により被覆した微粒子、又は、ハイブリダイゼーション等の方法により上記導電粒子の表面に絶縁性物質からなる絶縁層が設けられた微粒子は、導電粒子の配合量を増加した場合の粒子同士の接触による短絡を抑制し、電極回路間の絶縁性が向上できることから、適宜これを単独であるいは他の導電粒子と混合して用いてもよい。   In addition, fine particles in which the surface of these conductive particles is further coated with insulating particles, or fine particles in which an insulating layer made of an insulating material is provided on the surface of the conductive particles by a method such as hybridization, Since short-circuiting due to contact between particles when the blending amount is increased can be suppressed and insulation between the electrode circuits can be improved, this may be used alone or mixed with other conductive particles as appropriate.

導電粒子の平均粒径は、分散性、導電性の点から1μm以上18μm以下であることが好ましい。このような導電粒子を含有する場合、接着剤組成物は異方導電性接着剤として、好適に用いることができる。   The average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 μm or more and 18 μm or less from the viewpoint of dispersibility and conductivity. When such conductive particles are contained, the adhesive composition can be suitably used as an anisotropic conductive adhesive.

導電粒子の使用量は、特に制限は受けないが、接着剤組成物全体積に対して0.1体積%以上30体積%以下とすることが好ましく、0.1体積%以上10体積%以下とすることがより好ましい。導電粒子の使用量が上記範囲内であると、十分な導電性が得られながらも回路の短絡は十分抑制することができる。なお、体積%は23℃の硬化前の各成分の体積をもとに決定されるが、各成分の体積は、比重を利用して重量から体積に換算することができる。また、メスシリンダー等にその成分を溶解したり膨潤させたりせず、その成分をよくぬらす適当な溶媒(水、アルコール等)を入れたものに、その成分を投入し増加した体積をその成分の体積として求めることもできる。   The amount of conductive particles used is not particularly limited, but is preferably 0.1% by volume or more and 30% by volume or less, and 0.1% by volume or more and 10% by volume or less with respect to the total volume of the adhesive composition. More preferably. When the amount of the conductive particles used is within the above range, a short circuit can be sufficiently suppressed while sufficient conductivity is obtained. In addition, although volume% is determined based on the volume of each component before 23 degreeC hardening, the volume of each component can be converted into a volume from a weight using specific gravity. In addition, do not dissolve or swell the component in a graduated cylinder, etc., and put the component in a suitable solvent (water, alcohol, etc.) that wets the component well. It can also be determined as a volume.

また、接着剤組成物には、硬化速度の制御や貯蔵安定性の付与のために、安定化剤を添加することできる。このような安定化剤としては、特に制限なく公知の化合物を使用することができるが、ベンゾキノンやハイドロキノン等のキノン誘導体、4−メトキシフェノールや4−t−ブチルカテコール等のフェノール誘導体、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシルや4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル等のアミノキシル誘導体、テトラメチルピペリジルメタクリレート等のヒンダードアミン誘導体などが好ましい。   In addition, a stabilizer can be added to the adhesive composition in order to control the curing rate and impart storage stability. As such a stabilizer, known compounds can be used without particular limitation, but quinone derivatives such as benzoquinone and hydroquinone, phenol derivatives such as 4-methoxyphenol and 4-t-butylcatechol, 2,2 Preferred are aminoxyl derivatives such as 1,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl and 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, and hindered amine derivatives such as tetramethylpiperidyl methacrylate.

安定化剤の配合量は、接着剤成分(導電粒子を除く接着剤組成物)の質量を基準として、0.005質量%以上10質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以上8質量%以下であることがより好ましく、0.02質量%以上5質量%以下が特に好ましい。安定化剤の配合量が上記範囲内であると、他の成分との相溶性に悪影響を及ぼすことなく、硬化速度の制御や貯蔵安定性の付与が可能となる。   The blending amount of the stabilizer is preferably 0.005% by mass or more and 10% by mass or less based on the mass of the adhesive component (adhesive composition excluding the conductive particles), and 0.01% by mass or more and 8% by mass or less. More preferably, it is 0.02 mass% or less and 5 mass% or less is especially preferable. When the blending amount of the stabilizer is within the above range, the curing rate can be controlled and storage stability can be imparted without adversely affecting the compatibility with other components.

また、接着剤組成物には、アルコキシシラン誘導体やシラザン誘導体に代表されるカップリング剤、密着向上剤及びレベリング剤などの接着助剤を適宜添加してもよい。カップリング剤として具体的には、下記一般式(Q)で表される化合物が好ましく、単独で用いる他に、2種以上の化合物を混合して用いてもよい。   Moreover, you may add suitably adhesion assistants, such as a coupling agent represented by the alkoxysilane derivative and the silazane derivative, an adhesion improving agent, and a leveling agent, to an adhesive composition. Specifically, the compound represented by the following general formula (Q) is preferable as the coupling agent, and two or more compounds may be mixed and used in addition to the compound used alone.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

上記一般式(Q)中、R25、R26及びR27はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のアルコキシ基、炭素原子数1〜5のアルコキシカルボニル基又はアリール基を示し、R28は(メタ)アクリロイル基、ビニル基、イソシアナート基、イミダゾール基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、フェニルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基、ウレイド基又はグリシジル基を示し、sは1〜10の整数を示す。 In the general formula (Q), R 25 , R 26 and R 27 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms. R 28 represents a (meth) acryloyl group, a vinyl group, an isocyanate group, an imidazole group, a mercapto group, an amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, a benzylamino group, or a phenylamino group. , A cyclohexylamino group, a morpholino group, a piperazino group, a ureido group or a glycidyl group, and s represents an integer of 1 to 10.

接着剤組成物は、接着性向上を目的に、ゴム成分を併用してもよい。ゴム成分とは、そのままの状態でゴム弾性(JIS K6200)を示す成分又は反応によりゴム弾性を示す成分をいう。ゴム成分は、室温(25℃)で固形でも液状でもよいが、流動性向上の観点から液状であることが好ましい。ゴム成分としては、ポリブタジエン骨格を有する化合物が好ましい。ゴム成分は、シアノ基、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基又はモルホリン基を有していてもよい。また、接着性向上の観点から、高極性基であるシアノ基、カルボキシル基を側鎖あるいは末端に含むゴム成分が好ましい。なお、ポリブタジエン骨格を有していても、熱可塑性を示す場合は熱可塑性樹脂に分類し、ラジカル重合性を示す場合はラジカル重合性化合物に分類する。   The adhesive composition may use a rubber component in combination for the purpose of improving adhesiveness. The rubber component refers to a component that exhibits rubber elasticity (JIS K6200) as it is or a component that exhibits rubber elasticity by reaction. The rubber component may be solid or liquid at room temperature (25 ° C.), but is preferably liquid from the viewpoint of improving fluidity. As the rubber component, a compound having a polybutadiene skeleton is preferable. The rubber component may have a cyano group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a (meth) acryloyl group, or a morpholine group. From the viewpoint of improving adhesiveness, a rubber component containing a cyano group or a carboxyl group, which is a highly polar group, in the side chain or terminal is preferable. In addition, even if it has a polybutadiene skeleton, if it exhibits thermoplasticity, it is classified as a thermoplastic resin, and if it exhibits radical polymerizability, it is classified as a radical polymerizable compound.

ゴム成分として具体的には、ポリイソプレン、ポリブタジエン、カルボキシル基末端ポリブタジエン、水酸基末端ポリブタジエン、1,2−ポリブタジエン、カルボキシル基末端1,2−ポリブタジエン、水酸基末端1,2−ポリブタジエン、アクリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、水酸基末端スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基又はモルホリン基をポリマー末端に含有するアクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、水酸基末端ポリ(オキシプロピレン)、アルコキシシリル基末端ポリ(オキシプロピレン)、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコール、ポリオレフィングリコール等が挙げられる。   Specific examples of the rubber component include polyisoprene, polybutadiene, carboxyl-terminated polybutadiene, hydroxyl-terminated polybutadiene, 1,2-polybutadiene, carboxyl-terminated 1,2-polybutadiene, hydroxyl-terminated 1,2-polybutadiene, acrylic rubber, styrene- Butadiene rubber, hydroxyl-terminated styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, carboxyl group, hydroxyl group, (meth) acryloyl group or morpholine group-containing acrylonitrile-butadiene rubber, carboxylated nitrile rubber, hydroxyl-terminated poly (oxypropylene) ), Alkoxysilyl group-terminated poly (oxypropylene), poly (oxytetramethylene) glycol, polyolefin glycol, and the like.

また、上記高極性基を有し、室温で液状であるゴム成分としては、具体的には、液状アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基又はモルホリン基をポリマー末端に含有する液状アクリロニトリル−ブタジエンゴム、液状カルボキシル化ニトリルゴム等が挙げられ、極性基であるアクリロニトリル含有量は10質量%以上60質量%以下が好ましい。   In addition, the rubber component having a high polar group and being liquid at room temperature specifically includes a liquid acrylonitrile-butadiene rubber, a carboxyl group, a hydroxyl group, a (meth) acryloyl group or a morpholine group at the polymer end. Examples thereof include liquid acrylonitrile-butadiene rubber and liquid carboxylated nitrile rubber, and the content of acrylonitrile as a polar group is preferably 10% by mass or more and 60% by mass or less.

これらの化合物は単独で用いる他に、2種以上の化合物を混合して用いてもよい。   These compounds may be used alone or in admixture of two or more compounds.

接着剤組成物は、応力緩和及び接着性向上を目的に、本発明に係るコアシェル型シリコーン微粒子以外の有機微粒子を添加してもよい。有機微粒子の平均粒径は0.05μm以上1.0μm以下が好ましい。なお、有機微粒子が上述のゴム成分からなる場合は、有機微粒子ではなくゴム成分に分類し、有機微粒子が上述の熱可塑性樹脂からなる場合は、有機微粒子ではなく熱可塑性樹脂に分類する。   The adhesive composition may contain organic fine particles other than the core-shell type silicone fine particles according to the present invention for the purpose of stress relaxation and adhesion improvement. The average particle size of the organic fine particles is preferably 0.05 μm or more and 1.0 μm or less. In addition, when organic fine particles consist of the above-mentioned rubber component, it classifies into a rubber component instead of organic fine particles, and when organic fine particles consist of the above-mentioned thermoplastic resin, it classifies into a thermoplastic resin instead of organic fine particles.

有機微粒子として具体的には、ポリイソプレン、ポリブタジエン、カルボキシル基末端ポリブタジエン、水酸基末端ポリブタジエン、1,2−ポリブタジエン、カルボキシル基末端1,2−ポリブタジエン、アクリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基又はモルホリン基をポリマー末端に含有するアクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、水酸基末端ポリ(オキシプロピレン)、アルコキシシリル基末端ポリ(オキシプロピレン)、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコール、ポリオレフィングリコール(メタ)アクリル酸アルキル−ブタジエン−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸アルキル−シリコーン共重合体又はシリコーン(メタ)−アクリル共重合体若しくは複合体からなる有機微粒子が挙げられる。   Specific examples of organic fine particles include polyisoprene, polybutadiene, carboxyl group-terminated polybutadiene, hydroxyl group-terminated polybutadiene, 1,2-polybutadiene, carboxyl group-terminated 1,2-polybutadiene, acrylic rubber, styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, Acrylonitrile-butadiene rubber, carboxylated nitrile rubber, hydroxyl-terminated poly (oxypropylene), alkoxysilyl-terminated poly (oxypropylene), poly (oxypropylene) containing carboxyl group, hydroxyl group, (meth) acryloyl group or morpholine group at the polymer end Tetramethylene) glycol, polyolefin glycol (meth) acrylic acid alkyl-butadiene-styrene copolymer, (meth) acrylic acid alkyl-silicone copolymer or silicone Corn (meth) - include organic fine particles of acrylic copolymer or complex.

接着剤組成物は、常温で液状である場合にはペースト状で使用することができる。室温で固体の場合には、加熱して使用する他、溶媒を使用してペースト化してもよい。使用できる溶媒としては、接着剤組成物及び添加剤と反応性がなく、かつ充分な溶解性を示すものが好ましく、常圧での沸点が50℃以上150℃以下であるものが好ましい。溶媒の沸点が上記範囲内であると、室温で放置しても揮発しにくく開放系での使用が容易であるとともに、接着後の信頼性を十分確保するために溶媒を十分揮発させることができる。   The adhesive composition can be used in the form of a paste when it is liquid at room temperature. In the case of a solid at room temperature, it may be used by heating, or may be pasted using a solvent. Solvents that can be used are preferably those that are not reactive with the adhesive composition and additives and that exhibit sufficient solubility, and those having a boiling point of 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower at normal pressure. When the boiling point of the solvent is within the above range, it is difficult to volatilize even if it is left at room temperature, it is easy to use in an open system, and the solvent can be sufficiently volatilized to ensure sufficient reliability after bonding. .

また、本発明の接着剤組成物は、フィルム状に成形してフィルム状接着剤として用いることもできる。接着剤組成物に必要により溶媒等を加えるなどした溶液を、フッ素樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、離型紙等の剥離性基材上に塗布し、あるいは不織布等の基材に上記溶液を含浸させて剥離性基材上に載置し、溶媒等を除去してフィルム状接着剤として使用することができる。フィルムの形状で使用すると取扱性等の点から一層便利である。   Moreover, the adhesive composition of the present invention can be formed into a film and used as a film adhesive. A solution in which a solvent or the like is added to the adhesive composition as necessary is applied onto a peelable substrate such as a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film or a release paper, or a substrate such as a nonwoven fabric is impregnated with the above solution. It can be used as a film adhesive by placing on a peelable substrate and removing the solvent. Use in the form of a film is more convenient from the viewpoint of handleability.

本発明の接着剤組成物は、加熱及び加圧を併用して接着させることができる。加熱温度は、100℃以上200℃以下の温度が好ましい。圧力は、被着体に損傷を与えない範囲が好ましく、一般的には0.1MPa以上10MPa以下が好ましい。これらの加熱及び加圧は、0.5秒以上120秒以下の範囲で行うことが好ましく、110℃以上190℃以下、3MPa、10秒の加熱でも接着させることが可能である。   The adhesive composition of the present invention can be bonded using heating and pressurization together. The heating temperature is preferably 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The pressure is preferably in a range that does not damage the adherend, and is generally from 0.1 MPa to 10 MPa. These heating and pressurization are preferably performed in the range of 0.5 second or more and 120 seconds or less, and can be bonded by heating at 110 ° C. or more and 190 ° C. or less, 3 MPa, or 10 seconds.

本発明の接着剤組成物は、熱膨張係数の異なる異種の被着体の接着剤組成物として使用することができる。具体的には、異方導電接着剤、銀ペースト、銀フィルム等に代表される回路接続材料として使用することができる。   The adhesive composition of the present invention can be used as an adhesive composition for different types of adherends having different thermal expansion coefficients. Specifically, it can be used as a circuit connection material typified by anisotropic conductive adhesive, silver paste, silver film and the like.

本発明の接着剤組成物を用いて回路部材を接続する場合には、例えば、第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に、本発明の接着剤組成物を介在させ硬化させることにより、第一の回路電極と第二の回路電極とが電気的に接続するように第一の回路部材と第二の回路部材とを接着する方法によって、回路部材同士を接続し、回路接続体を得ることができる。   When connecting circuit members using the adhesive composition of the present invention, for example, a first circuit member in which a first circuit electrode is formed on a first circuit board, and a second circuit board. The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected by being cured by interposing the adhesive composition of the present invention between the second circuit member on which the second circuit electrode is formed. By connecting the first circuit member and the second circuit member so as to be connected to each other, the circuit members can be connected to obtain a circuit connection body.

上記第一の回路基板及び上記第二の回路基板のうち少なくとも一方は、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂として、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。このような熱可塑性樹脂を含むことによって、本発明の接着剤組成物との濡れ性が向上して接着強度及び接続信頼性が向上する。   At least one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate as a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower. It is preferable to include. By including such a thermoplastic resin, wettability with the adhesive composition of the present invention is improved, and adhesive strength and connection reliability are improved.

更に、第一の回路基板及び第二の回路基板のうち、一方の回路基板が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含み、もう一方の回路基板が、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことが好ましい。このような回路基板を用いることによって、本発明の接着剤組成物との濡れ性がより向上して接着強度及び接続信頼性がより向上する。   Furthermore, one of the first circuit board and the second circuit board includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate, and the other circuit board is polyimide. It is preferable to include at least one selected from the group consisting of a resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. By using such a circuit board, wettability with the adhesive composition of the present invention is further improved, and adhesive strength and connection reliability are further improved.

回路基板としては他にも、半導体、ガラス、セラミック等の無機基板、有機基板などを組み合わせて用いることができる。   In addition to the above, an inorganic substrate such as a semiconductor, glass, or ceramic, an organic substrate, or the like can be used in combination.

なお、本発明の接着剤組成物は、完全硬化(所定硬化条件で達成できる最高度の硬化)に達している必要はなく、上記特性を生じる限りにおいて部分硬化の状態であってもよい。   The adhesive composition of the present invention does not need to reach full curing (the highest degree of curing that can be achieved under predetermined curing conditions), and may be in a partially cured state as long as the above characteristics are produced.

以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

[導電粒子の作製]
ポリスチレンを核とする粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を設け、このニッケル層の外側に、厚み0.02μmの金層を設け、平均粒径10μm、比重2.5の導電粒子を作製した。
[Preparation of conductive particles]
A nickel layer having a thickness of 0.2 μm is provided on the surface of particles having polystyrene as a core, and a gold layer having a thickness of 0.02 μm is provided outside the nickel layer, and conductive particles having an average particle diameter of 10 μm and a specific gravity of 2.5 are provided. Produced.

[接着剤組成物の調製]
表1に示す各成分を表1に示す固形質量比にて配合し、更に、上記導電粒子を1.5体積%ずつ配合分散させて、実施例1〜5及び比較例1〜11の接着剤組成物を調製した。以下、表1に示す各成分について詳細に説明する。
[Preparation of adhesive composition]
Each component shown in Table 1 is blended at a solid mass ratio shown in Table 1, and further, the conductive particles are blended and dispersed by 1.5% by volume, and the adhesives of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 11 are used. A composition was prepared. Hereinafter, each component shown in Table 1 will be described in detail.

<熱可塑性樹脂>
(ポリエステルウレタン樹脂A)
ジガルボン酸にテレフタル酸(Aldrich社製)、イソフタル酸(Aldrich社製)、ジオールにネオペンチルグリコール(Aldrich社製)を用いイソシアネートに4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(Aldrich社製)を用い、テレフタル酸/イソルタル酸/ネオペンチルグリコール/4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのモル比が0.34/0.66/1.1/0.33となるポリエステルウレタン樹脂Aを調整した。得られたポリエステルウレタン樹脂Aの数平均分子量は25000であった。得られたポリエステルウレタン樹脂A(PEU―A)をメチルエチルケトンとトルエンの1:1に固形分40質量%となるように溶解した。
<Thermoplastic resin>
(Polyester urethane resin A)
Terephthalic acid (manufactured by Aldrich), isophthalic acid (manufactured by Aldrich) as digalbonic acid, neopentyl glycol (manufactured by Aldrich) as diol, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Aldrich) as isocyanate, terephthalic acid A polyester urethane resin A having a molar ratio of / isolutaric acid / neopentyl glycol / 4,4′-diphenylmethane diisocyanate of 0.34 / 0.66 / 1.1 / 0.33 was prepared. The number average molecular weight of the obtained polyester urethane resin A was 25000. The obtained polyester urethane resin A (PEU-A) was dissolved in 1: 1 of methyl ethyl ketone and toluene so as to have a solid content of 40% by mass.

(YP−50:フェノキシ樹脂)
東都化成(株)製のフェノキシ樹脂(商品名:YP−50)を、メチルエチルケトンに溶解して、固形分40質量%の溶液として用いた。
(YP-50: Phenoxy resin)
A phenoxy resin (trade name: YP-50) manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. was dissolved in methyl ethyl ketone and used as a solution having a solid content of 40% by mass.

(EV40W:エチレン−酢酸ビニル共重合体)
エチレン−酢酸ビニル共重合体のトルエン溶解品(固形分30質量%)(三井・デュポンポリケミカル(株)製、EV40W(商品名))を用いた。
(EV40W: ethylene-vinyl acetate copolymer)
Ethylene-vinyl acetate copolymer dissolved in toluene (solid content 30% by mass) (Mitsui / DuPont Polychemical Co., Ltd., EV40W (trade name)) was used.

<ラジカル重合性化合物>
(UA1:ウレタン(メタ)アクリレート1)
撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管付き還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、数平均分子量1000のポリ(1,6−ヘキサンジオールカーボネート)(商品名:デュラノール T5652、旭化成ケミカルズ(株)製)2500質量部(2.50モル)と、イソホロンジイソシアネート(シグマ アルドリッチ社製)666質量部(3.00モル)を、3時間かけて均一に滴下し、充分に窒素ガスを導入した後、70〜75℃に加熱し、反応させた。
<Radically polymerizable compound>
(UA1: Urethane (meth) acrylate 1)
Poly (1,6-hexanediol carbonate) with a number average molecular weight of 1000 (trade name: DURANOL T5652, Asahi Kasei) in a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser with calcium chloride drying tube, and nitrogen gas introduction tube Chemicals Co., Ltd.) 2500 parts by mass (2.50 mol) and isophorone diisocyanate (Sigma Aldrich) 666 parts by mass (3.00 mol) are uniformly added dropwise over 3 hours, and nitrogen gas is sufficiently added. After the introduction, the reaction was performed by heating to 70 to 75 ° C.

次いで、ハイドロキノンモノメチルエーテル(シグマ アルドリッチ社製)0.53質量部と、ジブチルスズジラウレート(シグマ アルドリッチ社製)5.53質量部を添加し、更に、2−ヒドロキシエチルアクリレート(シグマ アルドリッチ社製)238質量部(2.05モル)を加え、空気雰囲気下70℃で6時間反応させ、ウレタン(メタ)アクリレート1(UA1)を得た。   Subsequently, 0.53 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether (manufactured by Sigma Aldrich) and 5.53 parts by mass of dibutyltin dilaurate (manufactured by Sigma Aldrich) were added, and further 238 masses of 2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Sigma Aldrich). Part (2.05 mol) was added and reacted at 70 ° C. in an air atmosphere for 6 hours to obtain urethane (meth) acrylate 1 (UA1).

(UA2:ウレタン(メタ)アクリレート2)
撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管付き還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、メチルエチルケトン1000質量部、数平均分子量1000のポリカプロラクトンジオール(商品名:プラクセル210N、ダイセル化学工業(株)製)2500質量部(2.50モル)、及びイソホロンジイソシアネート(シグマ アルドリッチ社製)666質量部(3.00モル)を3時間かけて均一に滴下し、充分に窒素ガスを導入した後、70〜75℃に加熱し、反応させた。
(UA2: Urethane (meth) acrylate 2)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser with calcium chloride drying tube, and nitrogen gas introduction tube, 1000 parts by mass of methyl ethyl ketone and polycaprolactone diol having a number average molecular weight of 1000 (trade name: Plaxel 210N, Daicel Chemical Industries) Co., Ltd.) 2500 parts by mass (2.50 mol) and isophorone diisocyanate (Sigma Aldrich) 666 parts by mass (3.00 mol) were uniformly added dropwise over 3 hours, and nitrogen gas was sufficiently introduced. Then, it heated to 70-75 degreeC and made it react.

次いで、ハイドロキノンモノメチルエーテル(シグマ アルドリッチ社製)0.53質量部と、ジブチルスズジラウレート(シグマ アルドリッチ社製)5.53質量部を添加し、更に、2−ヒドロキシエチルアクリレート(シグマ アルドリッチ社製)238質量部(2.05モル)を加え、空気雰囲気下70℃で6時間反応させ、ウレタン(メタ)アクリレート2(UA2)を得た。   Subsequently, 0.53 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether (manufactured by Sigma Aldrich) and 5.53 parts by mass of dibutyltin dilaurate (manufactured by Sigma Aldrich) were added, and further 238 masses of 2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Sigma Aldrich). Part (2.05 mol) was added and reacted at 70 ° C. in an air atmosphere for 6 hours to obtain urethane (meth) acrylate 2 (UA2).

<有機微粒子>
(KMP−600)
信越化学工業(株)製のコアシェル型シリコーン微粒子(商品名:KMP−600、平均粒径:5μm)を用いた。このシリコーン微粒子のコア層のガラス転移温度は−110℃であった。
<Organic fine particles>
(KMP-600)
Core-shell type silicone fine particles (trade name: KMP-600, average particle size: 5 μm) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. were used. The glass transition temperature of the core layer of the silicone fine particles was −110 ° C.

(BR:架橋ポリブタジエン微粒子)
ステンレス製オートクレーブに純水を入れ、懸濁剤としてポリビニルアルコール(関東化学(株)製)を添加し溶解させた。この中にブタジエン(シグマ アルドリッチ社製)を入れ、撹拌して分散させた。更に、ラジカル重合開始剤としてベンゾイルパーオキシド(商品名:カドックス CH−50L、化薬アクゾ(株)製)を溶解させ、撹拌した。次いでオートクレーブを60〜65℃に昇温させ、撹拌下で45分間重合した。未反応のモノマーを放出後、生成した架橋ポリブタジエン粒子をろ過、水洗浄、エタノ−ル洗浄し、得られた架橋ポリブタジエン粒子を真空下で乾燥して、架橋ポリブタジエン微粒子(BR)を得た。得られた架橋ポリブタジエン微粒子をメチルエチルケトンに分散させ、粒子の平均粒径をZetasizer Nano−S(Malvern Instruments Ltd.製)を用いて測定したところ平均粒子径0.5μmであった。
(BR: crosslinked polybutadiene fine particles)
Pure water was put into a stainless steel autoclave, and polyvinyl alcohol (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was added and dissolved as a suspending agent. Butadiene (manufactured by Sigma Aldrich) was put into this and dispersed by stirring. Furthermore, benzoyl peroxide (trade name: Cadox CH-50L, manufactured by Kayaku Akzo Co., Ltd.) was dissolved as a radical polymerization initiator and stirred. The autoclave was then heated to 60-65 ° C. and polymerized for 45 minutes with stirring. After releasing unreacted monomers, the produced crosslinked polybutadiene particles were filtered, washed with water, and washed with ethanol, and the obtained crosslinked polybutadiene particles were dried under vacuum to obtain crosslinked polybutadiene fine particles (BR). The obtained crosslinked polybutadiene fine particles were dispersed in methyl ethyl ketone, and the average particle size of the particles was measured using Zetasizer Nano-S (manufactured by Malvern Instruments Ltd.). The average particle size was 0.5 μm.

(KMP594:シリコーンゴム微粒子)
信越化学工業(株)製シリコーンゴム微粒子(商品名:KMP594、平均粒径5μm、ガラス転移温度:−70℃)を用いた。
(KMP594: silicone rubber fine particles)
Silicone rubber fine particles (trade name: KMP594, average particle size 5 μm, glass transition temperature: −70 ° C.) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. were used.

(W−5500)
三菱レイヨン(株)製のコアシェル型アクリル微粒子(商品名:メタブレン W−5500、平均粒径:0.6μm)を用いた。
(W-5500)
Core-shell type acrylic fine particles (trade name: Methabrene W-5500, average particle size: 0.6 μm) manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. were used.

(BTA−712)
ローム・アンド・ハース社製のコアシェル型アクリル酸アルキルエステル−ブタジエン−スチレン共重合体微粒子(商品名:パラロイド BTA−712)を用いた。
(BTA-712)
Core-shell type alkyl acrylate-butadiene-styrene copolymer fine particles (trade name: Paraloid BTA-712) manufactured by Rohm & Haas were used.

<リン酸基を有するビニル化合物>
(P−2M)
共栄社化学(株)製の2−(メタ)アクリロイロキシエチルホスフェート(商品名:ライトエステル P−2M)を用いた。
<Vinyl compound having a phosphate group>
(P-2M)
2- (Meth) acryloyloxyethyl phosphate (trade name: Light Ester P-2M) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. was used.

<ラジカル重合開始剤>
(ナイパーBW)
日油(株)製のジベンゾイルパーオキサイド(商品名:ナイパーBW)を用いた。
<Radical polymerization initiator>
(Nyper BW)
Dibenzoyl peroxide (trade name: Nyper BW) manufactured by NOF Corporation was used.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

[フィルム状接着剤の作製]
実施例1〜5及び比較例1〜14の接着剤組成物を、厚み80μmのフッ素樹脂フィルム(基材)上に塗工装置を用いて塗布し、70℃で10分間熱風乾燥することによって、基材上に厚み20μmの接着剤層が形成された接着シートを得た。上記接着シートから基材を剥離したものを、実施例1〜10及び比較例1〜11のフィルム状接着剤とする。しかしながら、比較例4、8、12のフィルム状接着剤においては、用いたKMP594の凝集体によって、接着剤層の表面に凹凸が発生し、特性の評価を行うことができないことが分かった。
[Production of film adhesive]
By applying the adhesive compositions of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 14 on a fluororesin film (base material) having a thickness of 80 μm using a coating apparatus and drying with hot air at 70 ° C. for 10 minutes, An adhesive sheet in which an adhesive layer having a thickness of 20 μm was formed on the substrate was obtained. What peeled the base material from the said adhesive sheet is made into the film adhesive of Examples 1-10 and Comparative Examples 1-11. However, in the film-like adhesives of Comparative Examples 4, 8, and 12, it was found that the KMP594 aggregate used produced irregularities on the surface of the adhesive layer, and the characteristics could not be evaluated.

[接続抵抗、接着強度の測定]
(参考例1〜9)
実施例1、2、5及び比較例3、5〜7、9、10のフィルム状接着剤を、ポリイミドフィルム(Tg350℃)上にライン幅25μm、ピッチ50μm、厚み18μmの銅回路を500本有するフレキシブル回路板(FPC)と、0.2μmのITOの薄層を形成したガラス(厚み1.1mm、表面抵抗20Ω/□)との間に介在させた。これを、熱圧着装置(加熱方式:コンスタントヒート型、東レエンジニアリング社製)を用いて、150℃、2MPaで10秒間加熱加圧して幅2mmにわたり接着し、回路接続体を作製した。
[Measurement of connection resistance and adhesive strength]
(Reference Examples 1-9)
The film adhesives of Examples 1, 2, 5 and Comparative Examples 3, 5-7, 9, 10 have 500 copper circuits having a line width of 25 μm, a pitch of 50 μm, and a thickness of 18 μm on a polyimide film (Tg 350 ° C.). It was interposed between a flexible circuit board (FPC) and glass (thickness 1.1 mm, surface resistance 20Ω / □) on which a thin layer of 0.2 μm ITO was formed. This was heat-pressed at 150 ° C. and 2 MPa for 10 seconds using a thermocompression bonding apparatus (heating method: constant heat type, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.) and bonded over a width of 2 mm to produce a circuit connection body.

上記回路接続体の隣接回路間の抵抗値を、接着直後と、85℃、85%RHの高温高湿槽中に240時間保持した後(試験後)にマルチメータで測定した。抵抗値は隣接回路間の抵抗37点の平均で示した。   The resistance value between adjacent circuits of the circuit connection body was measured with a multimeter immediately after bonding and after being held in a high-temperature and high-humidity tank at 85 ° C. and 85% RH for 240 hours (after the test). The resistance value was shown as an average of 37 resistances between adjacent circuits.

また、上記接続体の接着強度をJIS−Z0237に準じて90度剥離法で測定し、評価した。接着強度の測定装置としては、東洋ボールドウィン(株)製「テンシロンUTM−4」(商品名)(剥離速度50mm/min、25℃)を使用した。測定結果を表2に示す。   Moreover, the adhesive strength of the connection body was measured and evaluated by a 90-degree peeling method according to JIS-Z0237. As a measuring device for adhesive strength, “Tensilon UTM-4” (trade name) (peeling speed 50 mm / min, 25 ° C.) manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. was used. The measurement results are shown in Table 2.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

表2に示すように、参考例1〜9の回路接続体は、加熱温度150℃の条件下で、接着直後及び試験後のいずれにおいても、4.0Ω以下の良好な接続抵抗及び560N/m以上の良好な接着強度を示した。すなわち、ポリイミドフィルムからなるフレキシブル回路板とITO薄膜を形成したガラスとの接着においては、有機微粒子の種類の違いが接続抵抗や接着強度に大きな影響を与えないことが確認された。   As shown in Table 2, the circuit connection bodies of Reference Examples 1 to 9 had a good connection resistance of 4.0Ω or less and 560 N / m immediately after bonding and after the test under the condition of a heating temperature of 150 ° C. The above good adhesive strength was exhibited. That is, it was confirmed that the difference in the type of organic fine particles does not significantly affect the connection resistance and the adhesive strength in the adhesion between the flexible circuit board made of polyimide film and the glass on which the ITO thin film is formed.

(実施例1〜5及び比較例1〜14)
実施例1〜5及び比較例1〜14のフィルム状接着剤を、ポリイミドフィルム(Tg350℃)上にライン幅150μm、ピッチ300μm、厚み8μmの銅回路を80本有するフレキシブル回路板(FPC)と、厚み5μmのAgペーストの薄層を形成したPET基板(厚み0.1μm)との間に介在させた。次いで、熱圧着装置(加熱方式:コンスタントヒート型、東レエンジニアリング社製)を用いて、150℃、2MPaで20秒間加熱加圧して幅2mmにわたり接着し、回路接続体を作製した。
(Examples 1-5 and Comparative Examples 1-14)
A flexible circuit board (FPC) having 80 copper circuits having a line width of 150 μm, a pitch of 300 μm, and a thickness of 8 μm on the polyimide film (Tg 350 ° C.) of the film adhesives of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 14; It was interposed between a PET substrate (thickness 0.1 μm) on which a thin layer of 5 μm thick Ag paste was formed. Subsequently, using a thermocompression bonding apparatus (heating method: constant heat type, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.), the film was bonded by heating and pressing at 150 ° C. and 2 MPa for 20 seconds over a width of 2 mm to prepare a circuit connection body.

上記回路接続体の隣接回路間の抵抗値を、接着直後と、85℃、85%RHの高温高湿槽中に240時間保持した後(試験後)にマルチメータで測定した。抵抗値は隣接回路間の抵抗37点の平均で示した。測定結果を表3に示す。   The resistance value between adjacent circuits of the circuit connection body was measured with a multimeter immediately after bonding and after being held in a high-temperature and high-humidity tank at 85 ° C. and 85% RH for 240 hours (after the test). The resistance value was shown as an average of 37 resistances between adjacent circuits. Table 3 shows the measurement results.

また、実施例1〜5及び比較例1〜14のフィルム状接着剤を、厚み0.1μmのPET、PC又はPENフィルム上にライン幅150μm、ピッチ300μm、厚み10μmのAgペースト回路を形成した基板と、上記FPCとの間に介在させた。次いで、上記熱圧着装置を用いて、150℃、2MPaで20秒間加熱加圧して幅2mmにわたり接着し、回路接続体を作製した。   Moreover, the board | substrate which formed the Ag paste circuit of the line width 150 micrometers, the pitch 300 micrometers, and the thickness 10 micrometers on the 0.1-micrometer-thick PET, PC, or PEN film about the film-form adhesive of Examples 1-5 and Comparative Examples 1-14. And the FPC. Subsequently, using the said thermocompression bonding apparatus, it heat-pressed for 20 second at 150 degreeC and 2 Mpa, it adhere | attached over width 2mm, and the circuit connection body was produced.

上記回路接続体の接着強度をJIS−Z0237に準じて90度剥離法で測定し、評価した。接着強度の測定装置としては、東洋ボールドウィン(株)製「テンシロンUTM−4」(商品名)(剥離速度50mm/min、25℃)を使用した。測定結果を表3に示す。   The adhesive strength of the circuit connector was measured and evaluated by a 90-degree peeling method according to JIS-Z0237. As a measuring device for adhesive strength, “Tensilon UTM-4” (trade name) (peeling speed 50 mm / min, 25 ° C.) manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. was used. Table 3 shows the measurement results.

Figure 2018188646
Figure 2018188646

実施例1〜5のフィルム状接着剤を用いて作製した回路接続体は、加熱温度150℃の条件下で、接着直後及び試験後のいずれにおいても、約2.6Ω以下の良好な接続抵抗及び約600N/m以上の良好な接着強度を示した。   The circuit connection body produced using the film adhesives of Examples 1 to 5 had a good connection resistance of about 2.6Ω or less immediately after bonding and after the test under the condition of a heating temperature of 150 ° C. Good adhesive strength of about 600 N / m or more was exhibited.

これに対して、シリコーン微粒子を含有しない比較例1〜14(比較例4、8、12は除く)のフィルム状接着剤を用いて作成した回路接続体は、良好な接続抵抗を示すものの、接着直後の接着強度は590N/m以下と低い値を示し、試験後の接着強度は510N/m以下と更に低い値を示した。   On the other hand, although the circuit connection body produced using the film adhesives of Comparative Examples 1 to 14 (excluding Comparative Examples 4, 8, and 12) not containing silicone fine particles exhibits good connection resistance, Immediately after, the adhesive strength was as low as 590 N / m or less, and the adhesive strength after the test was as low as 510 N / m or less.

以上の結果から、少なくとも一方の回路基板がガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む一対の回路部材を接着する場合、本発明に係るシリコーン微粒子を含有する接着剤組成物を用いることで、低温の硬化条件においても優れた接着強度を得ることができ、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度や接続抵抗)を維持可能であることが明らかとなった。   From the above results, when at least one circuit board adheres a pair of circuit members containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or less, the adhesive composition containing the silicone fine particles according to the present invention is used. It is clear that excellent adhesive strength can be obtained even under low temperature curing conditions, and that stable performance (adhesive strength and connection resistance) can be maintained even after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test). It became.

本発明に係る接着剤組成物は、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む回路基板に対して、低温で硬化した場合でも優れた接着強度を得ることができるため、PRT、PC、PEN、COP等の耐熱性の低い有機基材を用いた半導体素子とFPCとの接着等において、好適に用いられる。   The adhesive composition according to the present invention can obtain excellent adhesive strength even when cured at a low temperature for a circuit board containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower. It is suitably used for adhesion between a semiconductor element and an FPC using an organic substrate having low heat resistance such as PEN and COP.

5…接着シート、6…基材、8…接着剤層(接着剤組成物)、9…接着剤成分、10…シリコーン微粒子、10a…コアシェル型シリコーン微粒子、11…コア層、12…シェア層、20…導電粒子、30…第一の回路部材、31…第一の回路基板、31a…第一の回路基板の主面、32…第一の回路電極、40…第二の回路部材、41…第二の回路基板、41a…第二の回路基板の主面、42…第二の回路電極、50…接続部、100…回路接続体。

DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 ... Adhesive sheet, 6 ... Base material, 8 ... Adhesive layer (adhesive composition), 9 ... Adhesive component, 10 ... Silicone fine particle, 10a ... Core-shell type silicone fine particle, 11 ... Core layer, 12 ... Share layer, 20 ... conductive particles, 30 ... first circuit member, 31 ... first circuit board, 31a ... main surface of the first circuit board, 32 ... first circuit electrode, 40 ... second circuit member, 41 ... 2nd circuit board, 41a ... main surface of 2nd circuit board, 42 ... 2nd circuit electrode, 50 ... connection part, 100 ... circuit connection body.

Claims (20)

第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するための接着剤組成物であって、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板であり、
コア層と前記コア層を被覆するように設けられたシェル層とを有するコアシェル型シリコーン微粒子を含有する、接着剤組成物。
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board; and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board. An adhesive composition for adhering the circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected,
At least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or less,
An adhesive composition comprising core-shell type silicone fine particles having a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer.
第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するための接着剤組成物であって、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板であり、
コア層と前記コア層を被覆するように設けられたシェル層とを有するコアシェル型シリコーン微粒子を含有する、接着剤組成物。
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board; and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board. An adhesive composition for adhering the circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected,
At least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer,
An adhesive composition comprising core-shell type silicone fine particles having a core layer and a shell layer provided so as to cover the core layer.
前記シリコーン微粒子のコア層のガラス転移温度が、−130℃以上−20℃以下である、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。   The adhesive composition according to claim 1 or 2, wherein a glass transition temperature of the core layer of the silicone fine particles is -130 ° C or higher and -20 ° C or lower. ラジカル重合性化合物を更に含有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の接着剤組成物。   The adhesive composition according to any one of claims 1 to 3, further comprising a radical polymerizable compound. 導電粒子を更に含有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の接着剤組成物。   The adhesive composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising conductive particles. 請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤組成物をフィルム状に成形することにより得られる、フィルム状接着剤。   The film adhesive obtained by shape | molding the adhesive composition as described in any one of Claims 1-5 in a film form. 基材と、該基材上に形成された請求項6に記載のフィルム状接着剤からなる接着剤層と、を備える接着シート。   An adhesive sheet provided with a base material and the adhesive bond layer which consists of a film adhesive of Claim 6 formed on this base material. 第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、
第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、
前記第一の回路部材の前記第一の回路電極が形成された面と前記第二の回路部材の前記第二の回路電極が形成された面との間に介在し、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とを電気的に接続する接続部と、を備える回路接続体であって、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板であり、
前記接続部が、請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤組成物の硬化物からなる、回路接続体。
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board;
A second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board;
The first circuit electrode is interposed between the surface of the first circuit member on which the first circuit electrode is formed and the surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed. And a connection part for electrically connecting the second circuit electrode, and a circuit connection body comprising:
At least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or less,
The circuit connection body which the said connection part consists of the hardened | cured material of the adhesive composition as described in any one of Claims 1-5.
前記熱可塑性樹脂が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、請求項8に記載の回路接続体。   The circuit connector according to claim 8, wherein the thermoplastic resin includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. 前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板のうち、一方の回路基板が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含み、
もう一方の回路基板が、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、請求項8に記載の回路接続体。
Of the first circuit board and the second circuit board, one circuit board contains at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer,
The circuit connection body according to claim 8, wherein the other circuit board includes at least one selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer.
第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、
第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材と、
前記第一の回路部材の前記第一の回路電極が形成された面と前記第二の回路部材の前記第二の回路電極が形成された面との間に介在し、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とを電気的に接続する接続部と、を備える回路接続体であって、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板であり、
前記接続部が、請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤組成物の硬化物からなる、回路接続体。
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board;
A second circuit member having a second circuit electrode formed on the second circuit board;
The first circuit electrode is interposed between the surface of the first circuit member on which the first circuit electrode is formed and the surface of the second circuit member on which the second circuit electrode is formed. And a connection part for electrically connecting the second circuit electrode, and a circuit connection body comprising:
At least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer,
The circuit connection body which the said connection part consists of the hardened | cured material of the adhesive composition as described in any one of Claims 1-5.
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板のうち、一方の回路基板が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含み、
もう一方の回路基板が、ポリイミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、請求項11に記載の回路接続体。
Of the first circuit board and the second circuit board, one circuit board contains at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate and cycloolefin polymer,
The circuit connector according to claim 11, wherein the other circuit board includes at least one selected from the group consisting of polyimide resin, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer.
第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、
第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に、請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤組成物を介在させ硬化させることにより、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように前記第一の回路部材と前記第二の回路部材とを接着する、回路部材の接続方法であって、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板である、回路部材の接続方法。
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board;
By interposing and curing the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 between the second circuit member having the second circuit electrode formed on the second circuit board. A circuit member connection method for bonding the first circuit member and the second circuit member so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected,
A method for connecting circuit members, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower.
第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、
第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材との間に、請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤組成物を介在させ硬化させることにより、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように前記第一の回路部材と前記第二の回路部材とを接着する、回路部材の接続方法であって、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板である、回路部材の接続方法。
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board;
By interposing and curing the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 between the second circuit member having the second circuit electrode formed on the second circuit board. A circuit member connection method for bonding the first circuit member and the second circuit member so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected,
A circuit member connection method, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. .
請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤組成物の使用であって、
第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、
前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板である、前記接着剤組成物の使用。
Use of the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5,
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board; and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board.
Used to bond the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected;
Use of the said adhesive composition whose at least one of said 1st circuit board and said 2nd circuit board is a board | substrate containing the thermoplastic resin whose glass transition temperature is 200 degrees C or less.
請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤組成物の使用であって、
第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、
前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板である、前記接着剤組成物の使用。
Use of the adhesive composition according to any one of claims 1 to 5,
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board; and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board.
Used to bond the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected;
The adhesive composition, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. Use of.
請求項6に記載のフィルム状接着剤の使用であって、
第一の回路基板の主面上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、
前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板である、前記フィルム状接着剤の使用。
Use of the film adhesive according to claim 6,
A first circuit member having a first circuit electrode formed on the main surface of the first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the main surface of the second circuit board And
Used to bond the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected;
Use of the said film adhesive whose at least one of said 1st circuit board and said 2nd circuit board is a board | substrate containing the thermoplastic resin whose glass transition temperature is 200 degrees C or less.
請求項6に記載のフィルム状接着剤の使用であって、
第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、
前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板である、前記フィルム状接着剤の使用。
Use of the film adhesive according to claim 6,
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board; and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board.
Used to bond the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected;
The film adhesive, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. Use of.
請求項7に記載の接着シートの使用であって、
第一の回路基板の主面上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板の主面上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、
前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基板である、前記接着シートの使用。
Use of the adhesive sheet according to claim 7,
A first circuit member having a first circuit electrode formed on the main surface of the first circuit board, and a second circuit member having a second circuit electrode formed on the main surface of the second circuit board And
Used to bond the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected;
Use of the said adhesive sheet whose at least one of said 1st circuit board and said 2nd circuit board is a board | substrate containing the thermoplastic resin whose glass transition temperature is 200 degrees C or less.
請求項7に記載の接着シートの使用であって、
第一の回路基板上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の回路基板上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、
前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続するように接着するために用いられ、
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート及びシクロオレフィンポリマーからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基板である、前記接着シートの使用。

Use of the adhesive sheet according to claim 7,
A first circuit member having a first circuit electrode formed on a first circuit board; and a second circuit member having a second circuit electrode formed on a second circuit board.
Used to bond the first circuit electrode and the second circuit electrode so as to be electrically connected;
Use of the adhesive sheet, wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is a board containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene naphthalate, and cycloolefin polymer. .

JP2018126916A 2011-09-20 2018-07-03 Adhesive composition, film-like adhesive, adhesive sheet, circuit connection body, method for connecting circuit member, use of adhesive composition, use of film-like adhesive and use of adhesive sheet Pending JP2018188646A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2011/071388 WO2013042203A1 (en) 2011-09-20 2011-09-20 Adhesive composition, film adhesive, adhesive sheet, circuit connector and circuit member connection method
JPPCT/JP2011/071388 2011-09-20

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016197363A Division JP6532850B2 (en) 2011-09-20 2016-10-05 Adhesive composition, film adhesive, adhesive sheet, circuit connector, method of connecting circuit members, use of adhesive composition, use of film adhesive, and use of adhesive sheet

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2018188646A true JP2018188646A (en) 2018-11-29

Family

ID=47914016

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013534742A Active JP6366936B2 (en) 2011-09-20 2012-09-20 Adhesive composition, film adhesive, adhesive sheet, circuit connector, circuit member connection method, use of adhesive composition, use of film adhesive and use of adhesive sheet
JP2016197363A Active JP6532850B2 (en) 2011-09-20 2016-10-05 Adhesive composition, film adhesive, adhesive sheet, circuit connector, method of connecting circuit members, use of adhesive composition, use of film adhesive, and use of adhesive sheet
JP2018126916A Pending JP2018188646A (en) 2011-09-20 2018-07-03 Adhesive composition, film-like adhesive, adhesive sheet, circuit connection body, method for connecting circuit member, use of adhesive composition, use of film-like adhesive and use of adhesive sheet

Family Applications Before (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013534742A Active JP6366936B2 (en) 2011-09-20 2012-09-20 Adhesive composition, film adhesive, adhesive sheet, circuit connector, circuit member connection method, use of adhesive composition, use of film adhesive and use of adhesive sheet
JP2016197363A Active JP6532850B2 (en) 2011-09-20 2016-10-05 Adhesive composition, film adhesive, adhesive sheet, circuit connector, method of connecting circuit members, use of adhesive composition, use of film adhesive, and use of adhesive sheet

Country Status (5)

Country Link
JP (3) JP6366936B2 (en)
KR (1) KR102193517B1 (en)
CN (1) CN103814100B (en)
TW (1) TWI587761B (en)
WO (2) WO2013042203A1 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6432174B2 (en) * 2014-06-18 2018-12-05 セメダイン株式会社 Conductive adhesive
TWI663608B (en) * 2015-01-22 2019-06-21 日商京瓷股份有限公司 Conductive resin composition and semiconductor device
JP6750197B2 (en) * 2015-07-13 2020-09-02 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film and connection structure
KR20210076005A (en) 2018-10-19 2021-06-23 후지쿠라 가세이 가부시키가이샤 conductive paste
JP7082082B2 (en) * 2019-04-03 2022-06-07 信越化学工業株式会社 Bioelectrode composition, bioelectrode, and method for manufacturing bioelectrode

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS503740A (en) 1973-05-16 1975-01-16
JP2610900B2 (en) 1987-10-27 1997-05-14 ソニーケミカル 株式会社 Thermosetting anisotropic conductive adhesive sheet and method for producing the same
JP3344886B2 (en) 1995-12-20 2002-11-18 住友ベークライト株式会社 Anisotropic conductive film
JP3587859B2 (en) 1997-03-31 2004-11-10 日立化成工業株式会社 Circuit connection material, circuit terminal connection structure and connection method
JP3477367B2 (en) 1998-05-12 2003-12-10 ソニーケミカル株式会社 Anisotropic conductive adhesive film
JP2000169722A (en) * 1998-12-02 2000-06-20 Asahi Chem Ind Co Ltd Light-diffusing thermoplastic resin composition and its molded article
US6395124B1 (en) * 1999-07-30 2002-05-28 3M Innovative Properties Company Method of producing a laminated structure
JP2003064331A (en) * 2001-08-30 2003-03-05 Hitachi Chem Co Ltd Thermally cross-linking type circuit-connecting material and method for producing circuit board by using the same
JP4357211B2 (en) * 2003-05-26 2009-11-04 帝国通信工業株式会社 Flexible substrate
JP4673116B2 (en) * 2004-11-01 2011-04-20 タツタ電線株式会社 Anisotropic conductive adhesive and electronic device formed using the same
JP4650456B2 (en) * 2006-08-25 2011-03-16 日立化成工業株式会社 Circuit connection material, circuit member connection structure using the same, and manufacturing method thereof
JP2008247936A (en) * 2007-03-29 2008-10-16 Lintec Corp Sticky adhesive composition, sticky adhesive sheet and method for producing semiconductor device
JP2008308618A (en) * 2007-06-15 2008-12-25 Shin Etsu Chem Co Ltd Adhesive composition and adhesive film
WO2008156175A1 (en) * 2007-06-20 2008-12-24 Bridgestone Corporation Information display panel
US7674859B2 (en) * 2007-06-28 2010-03-09 Lintec Corporation Adhesive composition and adhesive sheet
US20120048606A1 (en) 2007-08-08 2012-03-01 Hitachi Chemical Company, Ltd. Adhesive composition, film-like adhesive, and connection structure for circuit member
EP2237650A4 (en) * 2007-10-15 2011-02-02 Hitachi Chemical Co Ltd Circuit connecting adhesive film and circuit connecting structure
KR101183317B1 (en) 2007-10-18 2012-09-14 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Adhesive composition, circuit connecting material using the adhesive composition, method for connecting circuit member, and circuit connecting body
JP4918908B2 (en) * 2007-10-29 2012-04-18 住友電気工業株式会社 Anisotropic conductive film
JP5067355B2 (en) * 2007-12-17 2012-11-07 日立化成工業株式会社 Circuit connection material and circuit member connection structure
JP5176139B2 (en) * 2008-05-12 2013-04-03 日立化成株式会社 Circuit connection material and circuit member connection structure using the same
JP5089560B2 (en) * 2008-11-28 2012-12-05 リンテック株式会社 Semiconductor chip laminate and adhesive composition for semiconductor chip lamination
KR101605221B1 (en) * 2008-12-26 2016-03-21 도요보 가부시키가이샤 Resin composition for adhesive, adhesive comprising same, adhesive sheet, and printed wiring board including same as adhesive layer
JP5168736B2 (en) * 2009-02-06 2013-03-27 信越化学工業株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet and dicing die attach film
JP2010265338A (en) * 2009-05-12 2010-11-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Adhesive composition, adhesive sheet, and dicing die attach film
JP5833809B2 (en) * 2010-02-01 2015-12-16 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film, joined body and connection method
JP5556488B2 (en) * 2010-08-06 2014-07-23 デクセリアルズ株式会社 Adhesive for connecting counter electrode

Also Published As

Publication number Publication date
JP6366936B2 (en) 2018-08-01
CN103814100B (en) 2017-08-25
JP2017052956A (en) 2017-03-16
JPWO2013042724A1 (en) 2015-03-26
CN103814100A (en) 2014-05-21
WO2013042724A1 (en) 2013-03-28
WO2013042203A1 (en) 2013-03-28
KR102193517B1 (en) 2020-12-21
KR20140082696A (en) 2014-07-02
TW201318487A (en) 2013-05-01
TWI587761B (en) 2017-06-11
JP6532850B2 (en) 2019-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5855459B2 (en) Circuit member connection structure
JP5454578B2 (en) Adhesive composition, connection structure, method for producing connection structure, and application of adhesive composition
KR102152474B1 (en) Adhesive composition, film-like adhesive, adhesive sheet, connection structure and method for producing connection structure
JP2018188646A (en) Adhesive composition, film-like adhesive, adhesive sheet, circuit connection body, method for connecting circuit member, use of adhesive composition, use of film-like adhesive and use of adhesive sheet
JP5594359B2 (en) Adhesive composition and use thereof, circuit member connection structure, and manufacturing method thereof
JP6065407B2 (en) Circuit connection material, film-like circuit connection material, circuit connection sheet, circuit connection body and circuit member connection method
JP5527394B2 (en) Adhesive composition, adhesive sheet, and connection structure
JP5338753B2 (en) Adhesive composition and connection structure
JP6024261B2 (en) Adhesive for circuit connection, connection structure for circuit member and solar cell module
JP2008195852A (en) Film adhesive composition and joined structure in circuit terminal using the same composition
KR102490406B1 (en) Adhesive composition and bonded structure
US20130140083A1 (en) Adhesive composition, film-like adhesive, adhesive sheet, circuit connection structure, method for connecting circuit members, use of adhesive composition, use of film-like adhesive and use of adhesive sheet
JP6051662B2 (en) Adhesive composition for circuit connection, adhesive sheet, adhesive reel and circuit member connection structure
JP5418399B2 (en) Adhesive composition and circuit member connection structure using the adhesive composition
CN105385362B (en) Adhesive composition and connection structure
JP2020111760A (en) Adhesive composition and connection structure
JP2019026851A (en) Adhesive composition and connection structure

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180731

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190917

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20191115

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20200317