KR20140067913A - Photosensitive resin composition - Google Patents

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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

Provided in the present invention is a photosensitive resin composition comprising a binder resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerizable initiator (C), an extender pigment (D), and a solvent (E), wherein the solvent (E) comprises 70-99 wt% of a solvent (E1) having 8.0-9.1 (cal/cm^3)^1/2 of the solubility parameter and 1-30 wt% of a solvent (E2) having 9.2-11.0 (cal/cm^3)^1/2 of the solubility parameter.

Description

감광성 수지 조성물{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION}[0001] PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION [0002]

본 발명은, 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a photosensitive resin composition.

액정 표시 패널, 일렉트로루미네선스 패널, 플라즈마 디스플레이 패널, 전자 페이퍼 등의 표시 장치에 사용되는 컬러 필터 등의 패턴은, 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된다. 구체적으로는, 감광성 수지 조성물을 기판 상에 도포한 후, 건조시켜, 얻어진 건조막을 선택적으로 노광한 후, 현상함으로써, 패턴이 형성된다.A pattern such as a color filter used in a display device such as a liquid crystal display panel, an electroluminescence panel, a plasma display panel, or an electronic paper is manufactured using a photosensitive resin composition. Specifically, a pattern is formed by applying a photosensitive resin composition on a substrate, followed by drying, selectively exposing the obtained dried film, and then developing.

이러한 감광성 수지 조성물로서, 예컨대 일본 특허 공개 제2011-221310호 공보에는, 바인더 수지, 중합성 화합물, 중합 개시제, 체질 안료 및 용제를 포함하는 감광성 수지 조성물이 기재되어 있고, 상기 용제로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 이용하는 예가 기재되어 있다.As such a photosensitive resin composition, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2011-221310 discloses a photosensitive resin composition comprising a binder resin, a polymerizable compound, a polymerization initiator, an extender pigment and a solvent, wherein the solvent is propylene glycol monomethyl An example using ether acetate is described.

상기 종래의 감광성 수지 조성물로부터 얻어지는 건조막은, 그 저점착성(low-tackiness)을 반드시 만족시킬 수 없는 경우가 있고, 또한, 상기 종래의 감광성 수지 조성물로부터 얻어지는 패턴은, 그 경도를 반드시 만족시킬 수 없는 경우가 있었다.The dry film obtained from the conventional photosensitive resin composition can not necessarily satisfy the low tackiness and the pattern obtained from the conventional photosensitive resin composition can not necessarily satisfy its hardness There was a case.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은, 이하의 [1]을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention provides the following [1].

[1] 바인더 수지(A), 중합성 화합물(B), 중합 개시제(C), 체질 안료(D) 및 용제(E)를 포함하는 감광성 수지 조성물로서, 상기 용제(E)는, 용해도 파라미터가 8.0 ~ 9.1(cal/㎤)1/2인 용제(E1)를, 상기 용제(E)에 대하여, 70 ~ 99 질량% 포함하고, 용해도 파라미터가 9.2 ~ 11.0(cal/㎤)1/2인 용제(E2)를, 상기 용제(E)에 대하여, 1 ~ 30 질량% 포함하는 용제인 감광성 수지 조성물.[1] A photosensitive resin composition comprising a binder resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerization initiator (C), an extender pigment (D) and a solvent (E) 8.0 ~ 9.1 (cal / ㎤) 1/2 of the solvent (E1), the solvent (E) with respect to, and including 70 to 99% by weight, the solubility parameter is 9.2 ~ 11.0 (cal / ㎤) 1/2 of the solvent (E2) is contained in an amount of 1 to 30 mass% with respect to the solvent (E).

또한, 본 발명은, 이하의 [2] 내지 [10]을 제공한다.Further, the present invention provides the following [2] to [10].

[2] 상기 중합 개시제(C)가 옥심 화합물인 [1]에 기재된 감광성 수지 조성물.[2] The photosensitive resin composition according to [1], wherein the polymerization initiator (C) is an oxime compound.

[3] 상기 바인더 수지(A)의 산가가 50 ~ 180 mg-KOH/g인 [1] 또는 [2]에 기재된 감광성 수지 조성물.[3] The photosensitive resin composition according to [1] or [2], wherein the acid value of the binder resin (A) is 50 to 180 mg-KOH / g.

[4] 상기 바인더 수지(A)의 함유량이, 상기 바인더 수지(A) 및 상기 중합성 화합물(B)의 합계량 100 질량부에 대하여, 30 ~ 80 질량부인 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.[4] The toner according to any one of [1] to [3], wherein the content of the binder resin (A) is 30 to 80 parts by mass relative to 100 parts by mass of the total amount of the binder resin (A) and the polymerizable compound (B) Wherein the photosensitive resin composition is a photosensitive resin composition.

[5] 상기 체질 안료(D)가 산화규소인 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.[5] The photosensitive resin composition according to any one of [1] to [4], wherein the extender pigment (D) is silicon oxide.

[6] 착색제를 더 포함하는 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물.[6] The photosensitive resin composition according to any one of [1] to [5], further comprising a colorant.

[7] 착색제가 안료를 포함하는 착색제인 [6]에 기재된 감광성 수지 조성물.[7] The photosensitive resin composition according to [6], wherein the colorant is a colorant containing a pigment.

[8] 착색제가 염료를 포함하는 착색제인 [6] 또는 [7]에 기재된 감광성 수지 조성물. [8] The photosensitive resin composition according to [6] or [7], wherein the colorant is a colorant containing a dye.

[9] [1] 내지 [8] 중 어느 하나에 기재된 감광성 수지 조성물에 의해 형성되는 패턴.[9] A pattern formed by the photosensitive resin composition according to any one of [1] to [8].

[10] [9]에 기재된 패턴을 포함하는 표시 장치.[10] A display device comprising a pattern according to [9].

본 발명에 따르면, 만족할 수 있는 저점착성을 갖는 건조막을 부여하고, 또한, 만족할 수 있는 경도를 갖는 패턴을 부여하는 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있게 된다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it becomes possible to provide a photosensitive resin composition which gives a dry film having satisfactory low tackiness and which gives a pattern having satisfactory hardness.

본 발명의 감광성 수지 조성물은, 바인더 수지(A), 중합성 화합물(B), 중합 개시제(C), 체질 안료(D) 및 용제(E)를 함유한다.The photosensitive resin composition of the present invention contains a binder resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerization initiator (C), an extender pigment (D) and a solvent (E).

바인더 수지(A)는, 불포화 카르복실산에 유래하는 구조 단위를 갖는 부가 중합체(a)(이하, 「(a)」라고 하는 경우가 있음)에, 에폭시기를 갖는 불포화 화합물(b)(이하, 「(b)」라고 하는 경우가 있음)를 반응시킨 바인더 수지(Aa)를 포함하는 것이 바람직하다.The binder resin (A) contains an unsaturated compound (b) having an epoxy group (hereinafter also referred to as " unsaturated compound (b) ") in an addition polymer (a) having a structural unit derived from an unsaturated carboxylic acid (B) ") is reacted with the binder resin (A).

(a)로서는, 예컨대 불포화 카르복실산(a1)(이하, 「(a1)」이라고 하는 경우가 있음)과, (a1)과 부가 중합 가능한 불포화 결합을 갖는 단량체(a2)(이하, 「(a2)」라고 하는 경우가 있음)를 부가 중합시켜 얻어지는 부가 중합체를 들 수 있다.(a2) having an unsaturated bond capable of addition-polymerizable addition with (a1) (hereinafter referred to as " (a2) " ) &Quot;) may be mentioned as an addition polymer.

(a1)로서는, (메트)아크릴산, 크로톤산, o-비닐안식향산, m-비닐안식향산, p-비닐안식향산 등의 불포화 모노카르복실산류;(a1) include unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, o-vinylbenzoic acid, m-vinylbenzoic acid and p-vinylbenzoic acid;

말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 3-비닐프탈산, 4-비닐프탈산, 3,4,5,6-테트라히드로프탈산, 1,2,3,6-테트라히드로프탈산, 디메틸테트라히드로프탈산, 1,4-시클로헥센디카르복실산 등의 불포화 디카르복실산류;Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and 1,4-cyclohexene dicarboxylic acid;

메틸-5-노르보넨-2,3-디카르복실산, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등의 카르복시기를 함유하는 비시클로 불포화 화합물류;5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept- 5-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-6-methylbicyclo [2.2.1] hept- [2.2.1] hept-2-ene, and 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene;

호박산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 등의 2가 이상의 다가 카르복실산의 불포화 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르류;(Meth) acryloyloxyalkyl (meth) acrylate of a divalent or higher polyvalent carboxylic acid such as mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] succinate, mono [2- ] Esters;

α-(히드록시메틸)아크릴산 등의, 동일 분자 중에 히드록시기 및 카르복시기를 함유하는 불포화 화합물류 등을 들 수 있다.and unsaturated compounds containing a hydroxyl group and a carboxyl group in the same molecule such as? - (hydroxymethyl) acrylic acid.

이들 중, (메트)아크릴산이 공중합 반응성의 점이나 알칼리 용해성의 점에서 바람직하게 이용된다.Of these, (meth) acrylic acid is preferably used in terms of copolymerization reactivity and alkali solubility.

여기서, 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종을 나타낸다. 「(메트)아크릴로일」 및 「(메트)아크릴레이트」 등의 표기도 동일한 의미를 갖는다.In the present specification, the term "(meth) acrylic acid" means at least one kind selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid. Quot ;, " (meth) acryloyl ", and " (meth) acrylate "

(a2)로서는, 예컨대 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산알킬에스테르류;(meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec- Alkyl acrylate esters;

시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트(해당 기술분야에서는, 관용명으로서, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트라고 불리고 있음), 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산 환상 알킬에스테르류;Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate (referred to in the art as dicyclo (Meth) acrylate cyclic alkyl esters such as dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate;

페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산아릴 또는 아랄킬에스테르류;Aryl (meth) acrylates or aralkyl esters such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate;

말레산디에틸, 푸마르산디에틸, 이타콘산디에틸 등의 디카르복실산디에스테르;Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate, and diethyl itaconate;

2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 히드록시알킬에스테르류;Hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;

비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디히드록시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디(히드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디(2'-히드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-히드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-비스(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔, 5,6-비스(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵트-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물류;2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] hept- 2.2.1] hept-2-ene, 5- (2'-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hept- 2.2.1] hept-2-ene, 5-methoxybicyclo [2.2.1] (2'-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept- Ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hept- 2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hept- 2-ene, 5-tert-butoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept- Cyclohexyl [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-bis 2,6-bis (cyclohexyloxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene and the like such as bis (tert-butoxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept- Cyclo-unsaturated compounds;

N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미드벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미드부틸레이트, N-숙신이미딜-6-말레이미드카프로에이트, N-숙신이미딜-3-말레이미드프로피오네이트, N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체류;N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimide benzoate, N-succinimidyl-4-maleimide butyrate, N- Dicarbonylimide derivatives such as N-succinimidyl-3-maleimidepropionate and N- (9-acridinyl) maleimide;

스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아세트산비닐, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다.And examples thereof include styrene,? -Methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, Vinyl, 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene and the like.

(a2)는, 트리시클로데칸 골격 및 트리시클로데센 골격으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종의 골격과, 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물(a2-1)[이하 「(a2-1)」이라고 하는 경우가 있음]인 것이 바람직하다. (a2)가 (a2-1)인 경우, 현상에 의한 패턴의 막 감소를 억제할 수 있다.(a2) is a compound having at least one skeleton selected from the group consisting of a tricyclodecane skeleton and a tricyclodecene skeleton and a compound (a2-1) having an ethylenically unsaturated bond [hereinafter referred to as "(a2-1)" ). (a2-1), it is possible to suppress film reduction of the pattern due to development.

여기서, 본 명세서 내에 있어서의 「트리시클로데칸 골격」 및 「트리시클로데센 골격」이란, 각각 이하의 구조[각각, 결합수(結合手)는 임의의 개소임]를 말한다.Herein, the terms "tricyclodecane skeleton" and "tricyclodecene skeleton" in the present specification mean the following structures (each of which is an arbitrary position of the bond (bond)).

Figure pat00001
Figure pat00001

(a2-1)로서는, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.(meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, . These may be used alone or in combination of two or more.

(b)로서는, 예컨대 쇄식 올레핀을 에폭시화한 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체(b-1)[이하 「(b-1)」이라고 하는 경우가 있음], 시클로알켄을 에폭시화한 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체(b-2)[이하 「(b-2)」라고 하는 경우가 있음]를 들 수 있다. (b)로서는 반응성의 관점에서 (b-1)이 바람직하다.(b-1) (hereinafter may be referred to as "(b-1)"] having an ethylenic unsaturated bond, a structure obtained by epoxidizing a cycloalkene and a structure obtained by epoxidizing a And a monomer (b-2) having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as "(b-2)"). (b-1) is preferable from the viewpoint of reactivity.

(b-1)로서는, 글리시딜(메트)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메트)아크릴레이트, β-에틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-o-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-m-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-p-비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,5-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,6-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,4-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 3,4,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 일본 특허 공개 평성 제7-248625호 공보에 기재되는 화합물 등을 들 수 있다.(meth) acrylate,? -ethylglycidyl (meth) acrylate, glycidyl vinyl ether, o-vinylbenzyl (meth) acrylate, Vinylbenzyl glycidyl ether,? -Methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether,? -Methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether,? Methyl-p-vinylbenzyl glycidyl ether, 2,3-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,5- Styrenes such as 2,6-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,4-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, Styrene, 2,3,6-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 3,4,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4,6-tris (glycidyloxymethyl) And compounds described in JP-A No. 7-248625.

(b-2)로서는, 비닐시클로헥센모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산[예컨대, 세록사이드 2000; (주)다이셀 제조], 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트[예컨대, 사이클로머 A400; (주)다이셀 제조], 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타아크릴레이트[예컨대, 사이클로머 M100; (주)다이셀 제조], 화학식 (I)로 표시되는 화합물, 화학식 (II)로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.(b-2) include vinylcyclohexene monoxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane [e.g., Sucoxide 2000; (Manufactured by Daicel Co., Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate [e.g., CYRAMER A400; (Manufactured by Daicel Co., Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate [for example, Cyclomer M100; (Manufactured by Daicel Co., Ltd.), a compound represented by the formula (I) and a compound represented by the formula (II).

Figure pat00002
Figure pat00002

[화학식 (I) 및 화학식 (II)에 있어서, R1 및 R2는 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ~ 4의 알킬기를 나타내고, 이 알킬기에 포함되는 수소 원자는 히드록시기로 치환되어 있어도 좋다.In the formulas (I) and (II), R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a hydroxy group.

X1 및 X2는 서로 독립적으로 단결합, -R3-, *-R3-O-, *-R3-S-, *-R3-NH-를 나타낸다.X 1 and X 2 independently represent a single bond, -R 3 -, -R 3 -O-, -R 3 -S- or -R 3 -NH-.

R3은 탄소수 1 ~ 6의 알칸디일기를 나타낸다.R 3 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.

*는 O와의 결합수를 나타낸다.]* Represents the number of bonds with O.]

바인더 수지(Aa)는, 2단계의 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 이 경우, 예컨대, 문헌 「고분자합성의 실험법」[오오츠 타카유키 지음 발행소 (주)카가쿠도진 제1판 제1쇄 1972년 3월 1일 발행]에 기재된 방법 및 일본 특허 공개 제2001-89533호 공보에 기재된 방법 등을 참고로 하여 제조할 수 있다.The binder resin (Aa) can be produced through a two-step process. In this case, for example, a method described in "Experimental Method of Polymer Synthesis" (published by Otsu Takayuki Publishing Co., Ltd., 1st edition, 1st edition, published on Mar. 1, 1972), and Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2001-89533 Can be produced by referring to the method described in the publication.

바인더 수지(Aa)의 제조에 있어서는, 우선, 제1 단계로서, (a1)과 (a2)의 부가 중합체(a)를 얻는다. 구체적으로는, 소정량 (a1) 및 (a2), 중합 개시제 그리고 용제 등을 반응 용기 중에 주입하여 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 탈산소의 분위기 내에서 교반, 가열, 보온하는 방법이 예시된다. 여기서 이용되는 중합 개시제 및 용제 등은, 특별히 한정되지 않고, 해당 분야에서 통상 사용되고 있는 것 모두를 사용할 수 있다. 중합 개시제로서는 예컨대 아조 화합물[2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등]이나 유기 과산화물(벤조일퍼옥사이드 등)을 들 수 있으며, 용제로는 각 단량체를 용해시키는 것이면 되고, 착색 감광성 수지 조성물의 용제로서 후술하는 용제 등을 이용할 수 있다.In the production of the binder resin (Aa), the addition polymer (a) of (a1) and (a2) is first obtained as a first step. Specifically, a method of injecting predetermined amounts (a1) and (a2), a polymerization initiator, a solvent and the like into a reaction vessel and substituting oxygen with nitrogen for stirring, heating, and keeping them in an atmosphere of deoxygenation is exemplified. The polymerization initiator, solvent and the like to be used herein are not particularly limited, and any of those commonly used in the relevant fields can be used. Examples of the polymerization initiator include azo compounds (2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), etc.) and organic peroxides (such as benzoyl peroxide) The solvent may be any one which dissolves the respective monomers, and a solvent to be described later may be used as a solvent of the colored photosensitive resin composition.

또한, 얻어진 부가 중합체는, 반응 후의 용액을 그대로 사용하여도 좋고, 농축 혹은 희석한 용액으로서 사용하여도 좋으며, 재침전 등의 방법에 의해 고체(분체)로서 취출한 것을 사용하여도 좋다.The obtained addition polymer may be used as it is as the solution after the reaction, as a concentrated or diluted solution, or as a solid (powder) obtained by re-precipitation or the like.

(a1) 및 (a2)에 유래하는 구조 단위의 비율이, 부가 중합체(a)를 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰수에 대하여, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.the ratio of the structural units derived from (a1) and (a2) is preferably within the following range with respect to the total number of moles of the total structural units constituting the addition polymer (a).

(a1)에 유래하는 구조 단위; 5 ~ 50 몰%, 보다 바람직하게는 10 ~ 45 몰%a structural unit derived from the structural unit (a1); 5 to 50 mol%, more preferably 10 to 45 mol%

(a2)에 유래하는 구조 단위; 50 ~ 95 몰%, 보다 바람직하게는 55 ~ 90 몰%a structural unit derived from the structural unit (a2); 50 to 95 mol%, more preferably 55 to 90 mol%

다음에, 제2 단계로서, 얻어진 부가 중합체가 갖는 (a1)에 유래하는 구조 단위 중의 카르복실산기의 일부를, (b)와 반응시킨다. 반응성이 높아서 미반응의 (b)가 잔존하기 어렵다는 점에서, (b)로서는 (b-1)이 바람직하다.Next, as a second step, a part of the carboxylic acid groups in the structural unit derived from (a1) of the obtained addition polymer is reacted with (b). (B) is preferably (b-1) in that the reactivity is high and unreacted (b) is hard to remain.

구체적으로는, 상기에 이어서 플라스크 안의 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, (b)를 (a1)의 몰수에 대하여 5 ~ 80 몰%, 반응 촉매[예컨대 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등]를 (a1), (b) 및 (a2)의 합계량에 대하여 0.001 ~ 5 질량%, 그리고 중합 금지제(예컨대 하이드로퀴논 등)를 (a1), (b) 및 (a2)의 합계량에 대하여 0.001 ~ 5 질량%, 플라스크 안에 넣고, 통상 60℃ ~ 130℃에서 1 ~ 10시간 동안 반응시켜 바인더 수지(Aa)를 얻을 수 있다. 또한, 중합 조건과 마찬가지로, 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 주입 방법이나 반응 온도를 적절하게 조정할 수 있다.Specifically, the atmosphere in the flask is substituted with air in the flask, and the reaction catalyst (such as tris (dimethylaminomethyl) phenol, etc.) is added in an amount of 5 to 80 mol% based on the molar amount of (a1) (a1), (b) and (a2) in an amount of 0.001 to 5 mass% relative to the total amount of (a1), (b) and (a2), and a polymerization inhibitor (such as hydroquinone) %, In a flask, and usually at 60 to 130 ° C for 1 to 10 hours to obtain a binder resin (Aa). In addition, as in the case of the polymerization conditions, the injection method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the amount of heat generated by the production facility or polymerization.

또한, 이 경우, (b)의 몰수는 (a1)의 몰수에 대하여 10 ~ 75 몰%로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15 ~ 70 몰%이다. (b)의 몰수를 이 범위로 함으로써, 보존 안정성, 내용제성 및 내열성의 밸런스가 양호해지는 경향이 있다.In this case, the number of moles of (b) is preferably 10 to 75 mol%, and more preferably 15 to 70 mol% based on the number of moles of (a1). When the number of moles of (b) is within this range, balance between storage stability, solvent resistance and heat resistance tends to be improved.

바인더 수지(Aa)로서는, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;Examples of the binder resin (Aa) include a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / benzyl (Meth) acrylic acid / styrene (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / cyclohexyl (meth) acrylate with glycidyl (Meth) acrylate, (meth) acrylic acid / N, N'-dicyclohexyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / - a resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / dicyclopentyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of cyclohexylmaleimide with glycidyl (meth) acrylate;

크로톤산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/크로톤산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylate is reacted with a copolymer of crotonic acid / cyclohexyl (meth) acrylate and a resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / benzyl (meth) acrylate with glycidyl (Meth) acrylate on a copolymer of crotonic acid / styrene, a resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / methyl crotonate with glycidyl (meth) acrylate, a crotonic acid / A resin obtained by reacting a copolymer of N-cyclohexylmaleimide with glycidyl (meth) acrylate;

말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/말레산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylate is added to a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate and a copolymer of maleic acid / benzyl (meth) acrylate with glycidyl (Meth) acrylate is reacted with a copolymer of maleic acid / cyclohexyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate is allowed to react with a copolymer of maleic acid / styrene A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / methyl maleic acid with glycidyl (meth) acrylate, or a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of maleic acid / N-cyclohexylmaleimide ;

(메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl A resin obtained by reacting a copolymer of glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / cyclohexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / methyl (meth) acrylate is copolymerized with a copolymer of a (meth) acrylic acid / maleic anhydride / styrene copolymer and a glycidyl (meth) (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / N-cyclohexylmaleimide; a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / N-cyclohexylmaleimide;

(메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / Epoxy cyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / cyclohexyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / Styrene is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and a copolymer of (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Resin, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / N-cyclohexylmaleimide with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/크로톤산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;Epoxycyclohexylmethyl methacrylate on a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate and a copolymer of crotonic acid / benzyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Cyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of crotonic acid / cyclohexyl (meth) acrylate, and a copolymer of crotonic acid / styrene with 3, 4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of crotonic acid / methyl crotonate and a resin obtained by reacting crotonic acid / N-cyclohexylmaleimide A resin obtained by reacting a copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/말레산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and a copolymer of maleic acid / benzyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclo Maleic acid / cyclohexyl (meth) acrylate is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a copolymer obtained by reacting maleic acid / cyclohexyl (meth) acrylate with 3,4- 4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / methyl maleic acid with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting maleic acid / N-cyclohexylmaleimide A resin obtained by reacting a copolymer with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

(메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지 등을 들 수 있다.(Meth) acrylic acid / maleic anhydride / benzyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / cyclohexyl (meth) acrylate was added to a copolymer of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / (meth) acrylic acid / maleic anhydride / styrene, a resin obtained by reacting a (meth) acrylic acid / maleic anhydride / (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / N-cyclohexylmaleimide was added to a copolymer of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Krill There may be mentioned resins such as by reacting the site.

또한, 바인더 수지(Aa)로서는, (a1)과 (a2-1)과 (a2-1) 이외의 (a2)를 공중합시켜 얻어지는 부가 중합체에, (b)를 반응시켜 얻어지는 수지인 것이 보다 바람직하다. 바인더 수지(Aa)가 상기 구성임으로써, 얻어지는 패턴은 기판과의 밀착성 및 내용제성이 우수한 경향이 있다.The binder resin (Aa) is more preferably a resin obtained by reacting (b) an addition polymer obtained by copolymerizing (a1), (a2-1) and (a2-1) . When the binder resin (Aa) has the above-mentioned constitution, the obtained pattern tends to have excellent adhesion with the substrate and excellent solvent resistance.

부가 중합체(a)가, (a1)과 (a2-1)과 (a2-1) 이외의 (a2)로 이루어지는 경우, (a2-1) 및 (a2-1) 이외의 (a2)에 유래하는 구조 단위의 비율((a2-1)에 유래되는 구조 단위:(a2-1) 이외의 (a2)에 유래되는 구조 단위)은, 10:90 ~ 60:40이 바람직하고, 10:90 ~ 40:60이 보다 바람직하며, 10:90 ~ 30:70이 더욱 바람직하다.When the addition polymer (a1) is composed of (a2) other than (a2-1) and (a2-1) (The structural unit derived from (a2) other than the structural unit derived from (a2-1): the structural unit derived from (a2-1)) is preferably 10:90 to 60:40, : 60, and more preferably 10:90 to 30:70.

(a1)과 (a2-1)과 (a2-1) 이외의 (a2)를 공중합시켜 얻어지는 부가 중합체에, (b)를 반응시켜 얻어지는 수지로서는, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;(meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate (b1) to the addition polymer obtained by copolymerizing (a1) other than the monomer (a1) (Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate copolymerized with a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene, a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / (Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmalei (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting glycidyl (Meth) < RTI ID = 0.0 >Acrylate;

크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/크로톤산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate, a crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (Meth) acrylate is reacted with a copolymer of a crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene copolymer and glycidyl (meth) (Meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonate, a resin obtained by reacting glycidyl (meth) A resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of methyl methacrylate and methyl methacrylate;

말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/말레산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate, maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (Meth) acrylate is reacted with a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene and a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl , A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl maleic acid with glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmale A resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of methyl methacrylate and methyl methacrylate;

(메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylic acid / maleic anhydride / maleic anhydride / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / (Meth) acrylate / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate and cyclohexyl (meth) (Meth) acrylate in a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting glycidyl (Meth) acrylate, a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide;

(메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / dicyclopentanil (Meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate was added to a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate A resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide;

크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/크로톤산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting 3,4- A copolymer obtained by reacting a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene and 3,4-epoxycyclo A resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonate and a resin obtained by reacting crotonic acid / dicyclohexylmethyl methacrylate, A resin obtained by reacting a copolymer of fentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/말레산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting maleic acid / dicyclopentanyl (meth) Cyclohexyl (meth) acrylate is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate is added to a copolymer of maleic acid / Maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / maleic acid methyl ester, maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / maleic acid methyl ester and maleic acid / dicyclohexylmethyl methacrylate; a resin obtained by reacting 3,4- A resin obtained by reacting a copolymer of fentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

(메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지 등을 들 수 있다.A resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a (meth) acrylic acid / maleic (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentyl (meth) acrylate / dicyclohexyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / (meth) acrylate / styrene copolymer, and a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide copolymerized with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate A resin or the like can be given by reacting a 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate.

이들 바인더 수지(A)는, 각각 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다.These binder resins (A) may be used alone or in combination of two or more.

바인더 수지(A)의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은, 바람직하게는 8×103 ~ 100×103이며, 보다 바람직하게는 10×103 ~ 50×103이다. 바인더 수지(A)의 중량 평균 분자량(Mw)이, 상기한 범위에 있으면, 감광성 수지 조성물의 도포성 및 건조막의 저점착성이 보다 양호해지는 경향이 있고, 또한, 현상시에 막 감소가 쉽게 일어나지 않으며, 또한, 현상시에 비화소 부분의 제거성이 양호한 경향이 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the binder resin (A) in terms of polystyrene is preferably 8 × 10 3 to 100 × 10 3 , more preferably 10 × 10 3 to 50 × 10 3 . When the weight average molecular weight (Mw) of the binder resin (A) is within the above-mentioned range, the coating property of the photosensitive resin composition and the low sticking property of the dried film tend to be better. In addition, , And the removability of the non-pixel portion at the time of development tends to be good.

바인더 수지(A)의 산가는, 바람직하게는 30 ~ 200 mg-KOH/g이며, 보다 바람직하게는 40 ~ 190 mg-KOH/g, 더욱 바람직하게는 50 ~ 180 mg-KOH/g이다. 산가는 바인더 수지(A) 1 g을 중화하기 위해서 필요한 수산화칼륨의 양(㎎)으로서 측정되는 값이며, 수산화칼륨 수용액을 이용하여 적정함으로써 구할 수 있다.The acid value of the binder resin (A) is preferably 30 to 200 mg-KOH / g, more preferably 40 to 190 mg-KOH / g, and still more preferably 50 to 180 mg-KOH / g. Acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary for neutralizing 1 g of the binder resin (A), and can be determined by titration using an aqueous potassium hydroxide solution.

바인더 수지(A)는, 전술한 바인더 수지(Aa)만으로 구성되는 것이 바람직하지만, 그 밖의 수지를 포함하여도 좋다. 그러한 수지로서는, 에폭시 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 노볼락 수지, 폴리아민 수지 등을 들 수 있다.The binder resin (A) is preferably composed only of the above-mentioned binder resin (Aa), but other resins may be included. Examples of such a resin include an epoxy resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polyester resin, a polyimide resin, a polyolefin resin, a novolak resin, and a polyamine resin.

바인더 수지(A)가 바인더 수지(Aa) 이외의 수지를 포함하는 경우, 바인더 수지(Aa)의 함유량은, 바인더 수지(A)에 대하여, 20 ~ 99 질량%가 바람직하고, 50 ~ 99 질량%가 보다 바람직하다.When the binder resin (A) contains a resin other than the binder resin (Aa), the content of the binder resin (Aa) is preferably from 20 to 99 mass%, more preferably from 50 to 99 mass% Is more preferable.

중합성 화합물(B)은, 빛 또는 열의 작용에 의해 중합 개시제(C)로부터 발생한 활성 라디칼, 산 등에 의해 중합을 개시할 수 있는 화합물이라면, 특별히 한정되는 것은 아니다. 중합성 화합물(B)로서는, 중합성의 탄소-탄소 불포화 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 단작용 모노머, 2작용 모노머, 3작용 이상의 다작용 모노머가 이용된다. 또한, 중합성 화합물(B)로서는, 산성기를 갖지 않는 화합물이 바람직하게 이용된다.The polymerizable compound (B) is not particularly limited as long as it is a compound capable of initiating polymerization by an active radical, acid, or the like generated from the polymerization initiator (C) by the action of light or heat. As the polymerizable compound (B), a compound having a polymerizable carbon-carbon unsaturated bond can be exemplified, and a monofunctional monomer, a bifunctional monomer, and a multifunctional monomer having three or more functionalities are preferably used. As the polymerizable compound (B), a compound having no acidic group is preferably used.

단작용 모노머로서는, 노닐페닐카르비톨(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈 등을 들 수 있다.Examples of monofunctional monomers include nonylphenylcarbitol (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-ethylhexylcarbitol (meth) acrylate, 2- ) Acrylate, and N-vinylpyrrolidone.

2작용 모노머로서는, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) Bis (acryloyloxyethyl) ether, 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, and tricyclodecanedimethanol di (meth) acrylate.

3작용 이상의 다작용 모노머로서는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물과의 반응물, 디펜타에리스리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물과의 반응물, 오사카유키카가쿠고교(주) 제조의 V#1000, V#802, STAR-501이나 교에이샤카가쿠(주) 제조의 UA-306H, UA-306T, UA-306I, 다이이치고교세이야쿠(주) 제조의 뉴프론티어 R-1150 등의 우레탄아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 2작용 모노머, 3작용 이상의 다작용 모노머가 바람직하게 이용된다.Examples of the multifunctional monomer having three or more functional groups include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, a reaction product of pentaerythritol tri (meth) acrylate and an acid anhydride, a reaction product of dipentaerythritol penta (meth) acrylate and an acid anhydride, V # 1000 manufactured by Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., UA-306H, UA-306T, UA-306I, and New Frontier R-1150 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., And the like. Among them, a bifunctional monomer and a multifunctional monomer having three or more functional groups are preferably used.

또한, 중합성 화합물(B)로서는, 하기 중합성 화합물을 사용하여도 좋다.As the polymerizable compound (B), the following polymerizable compounds may be used.

Figure pat00003
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이들 중합성 화합물(B)은, 각각 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다.These polymerizable compounds (B) may be used alone or in combination of two or more.

중합성 화합물(B)의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 1 ~ 50 질량%가 바람직하고, 5 ~ 30 질량%가 보다 바람직하다. 또한, 바인더 수지(A)의 함유량은, 바인더 수지(A) 및 중합성 화합물(B)의 합계량 100 질량부에 대하여 30 ~ 80 질량부인 것이 바람직하다.The content of the polymerizable compound (B) is preferably from 1 to 50 mass%, more preferably from 5 to 30 mass%, based on the solid content of the photosensitive resin composition. The content of the binder resin (A) is preferably 30 to 80 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the binder resin (A) and the polymerizable compound (B).

여기서, 고형분이란, 감광성 수지 조성물에 포함되는 용제를 제외한 모든 성분을 말한다.Here, the solid content refers to all components except for the solvent contained in the photosensitive resin composition.

바인더 수지(A)의 함유량이 상기한 범위에 있으면, 건조막의 점착성이 보다 억제되고, 색 얼룩이 없는 컬러 필터를 얻을 수 있는 경향이 있기 때문에 바람직하다.When the content of the binder resin (A) is in the above-mentioned range, it is preferable because the tackiness of the dried film is further suppressed and a color filter free from color unevenness tends to be obtained.

중합 개시제(C)는, 중합성 화합물(B)의 중합을 개시시키기 위한 활성 라디칼, 산 등을 발생시키는 화합물로서, 빛의 작용에 의해 활성 라디칼, 산 등을 발생시키는 광중합 개시제여도 좋고, 열의 작용에 의해 활성 라디칼, 산 등을 발생시키는 열중합 개시제여도 좋지만, 광중합 개시제인 것이 바람직하며, 빛의 작용에 의해 활성 라디칼을 발생시키는 광 라디칼 중합 개시제인 것이 보다 바람직하다.The polymerization initiator (C) may be a photopolymerization initiator that generates an active radical, an acid, or the like by the action of light, which generates an active radical or acid for initiating polymerization of the polymerizable compound (B) May be a thermal polymerization initiator that generates an active radical or an acid by the action of a photo polymerization initiator. However, it is preferably a photopolymerization initiator and more preferably a photo radical polymerization initiator that generates an active radical by the action of light.

중합 개시제(C)는, 옥심 화합물인 것이 바람직하다. 이러한 중합 개시제를 이용함으로써, 감광성 수지 조성물은 고감도가 되며, 또한, 이것을 이용하여 형성하는 막은 해상도 및 내용제성이 우수하여 패턴이 양호해진다. 또한, 중합 개시 조제(C-1)를 병용함으로써, 얻어지는 감광성 수지 조성물은 더욱 고감도가 되며, 이것을 이용하여 컬러 필터를 형성할 때의 생산성이 향상되기 때문에, 바람직하다.The polymerization initiator (C) is preferably an oxime compound. By using such a polymerization initiator, the photosensitive resin composition becomes highly sensitive, and the film formed by using the polymerization initiator is excellent in resolution and solvent resistance, so that the pattern becomes good. In addition, it is preferable to use the polymerization initiator (C-1) in combination, because the resultant photosensitive resin composition has a higher sensitivity and productivity when a color filter is formed using the same.

옥심 화합물로서는, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민 등을 들 수 있다. 이르가큐어(등록상표) OXE-01, OXE-02[이상, BASF 재팬(주) 제조], N-1919[(주)ADEKA 제조] 등의 시판품을 이용하여도 좋다. 그 중에서도 N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민(하기 화학식)이 바람직하다.Examples of the oxime compounds include N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butan-1-one-2-imine, N-acetoxy- 1- [ 3-yl] ethan-1-imine, N-acetoxy-1- [ Fentanylmethyloxy) benzoyl} -9H-carbazol-3-yl] ethan-1-imine. Commercially available products such as Irgacure (registered trademark) OXE-01, OXE-02 (manufactured by BASF Japan) and N-1919 (manufactured by ADEKA) may be used. Among them, N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-one-2-imine (the following formula) is preferred.

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또한, 옥심 화합물 이외의 중합 개시제로서는, 비이미다졸 화합물, 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the polymerization initiator other than the oxime compound include a nonimidazole compound, an alkylphenone compound, a triazine compound, and an acylphosphine oxide compound.

비이미다졸 화합물로서는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸(예컨대, 일본 특허 공개 평성 제6-75372호 공보, 일본 특허 공개 평성 제6-75373호 공보 등 참조.), 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸(예컨대, 일본 특허 공고 소화 제48-38403호 공보, 일본 특허 공개 소화 제62-174204호 공보 등 참조.), 4,4',5,5'-위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물(예컨대, 일본 특허 공개 평성 제7-10913호 공보 등 참조.) 등을 들 수 있다. 바람직하게는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸을 들 수 있다.Examples of the imidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3- 4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (see, for example, JP-A 6-75372, JP-A 6-75373, etc.), 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) ) Diimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (dialkoxyphenyl) 4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) bimidazole (see, for example, Japanese Patent Publication No. 48-38403, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-174204, , Imidazole compounds in which the phenyl group at the 4 ', 5, 5'-position is substituted by a carboalkoxy group (for example, see Japanese Patent Application Laid-open No. 7-10913). Preferred are 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole.

알킬페논 화합물로서는, 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-(4-이소프로페닐페닐)프로판-1-온의 올리고머 등을 들 수 있고, 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 등을 들 수 있다. 이르가큐어(등록상표) 369, 907[이상, BASF 재팬(주) 제조] 등의 시판품을 이용하여도 좋다.Examples of the alkylphenone compound include diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan- (2-hydroxy-2-methyl-benzothiazol-2-yl) 2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone and oligomers of 2-hydroxy-2-methyl-1- (4-isopropenylphenyl) propane-1-one and the like, (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one, 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutan-1-one. Commercially available products such as Irgacure (registered trademark) 369, 907 (manufactured by BASF Japan Ltd.) may be used.

트리아진 화합물로서는, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (Methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4- Methyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- 2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4,6-trichloromethyl- Bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- - [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

아실포스핀옥사이드 화합물로서는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 이르가큐어(등록상표) 819[BASF 재팬(주) 제조] 등의 시판품을 이용하여도 좋다.Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like. A commercially available product such as Irgacure (registered trademark) 819 (manufactured by BASF Japan Ltd.) may be used.

또한, 옥심 화합물, 비이미다졸 화합물, 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물 및 아실포스핀옥사이드 화합물 이외의 중합 개시제(C)로서는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 화합물; 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물; 9,10-페난트렌퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 캄파퀴논 등의 퀴논 화합물; 10-부틸-2-클로로아크리돈, 벤질, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the polymerization initiator (C) other than oxime compounds, imidazole compounds, alkylphenone compounds, triazine compounds and acylphosphine oxide compounds include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether , Benzoin isobutyl ether; Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert- butylperoxycarbonyl) benzophenone Benzophenone compounds such as 2,4,6-trimethylbenzophenone; Quinone compounds such as 9,10-phenanthrenequinone, 2-ethyl anthraquinone, and campquinone; Butyl-2-chloroacridone, benzyl, methyl phenylglyoxylate, and titanocene compounds.

이들 중합 개시제(C)는, 각각 단독으로 이용하여도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용하여도 좋다.These polymerization initiators (C) may be used alone, or two or more of them may be used in combination.

중합 개시제(C)의 함유량은, 수지(A) 및 중합성 화합물(B)의 합계량 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ~ 80 질량부, 보다 바람직하게는 1 ~ 60 질량부이다. 중합 개시제의 합계량이 이 범위에 있으면, 고감도로 패턴을 형성할 수 있어, 패턴의 내약품성, 기계 강도, 표면 평활성이 양호해지는 경향이 있다.The content of the polymerization initiator (C) is preferably 0.1 to 80 parts by mass, and more preferably 1 to 60 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the resin (A) and the polymerizable compound (B). When the total amount of the polymerization initiator is within this range, a pattern can be formed with a high sensitivity, and the chemical resistance, mechanical strength and surface smoothness of the pattern tend to be improved.

중합 개시제(C)는, 중합 개시 조제(C-1)(특히 아민류)와 조합하여 이용하는 것이 바람직하다. 중합 개시 조제(C-1)는, 중합 개시제(C)에 의해 중합이 개시된 중합성 화합물의 중합을 촉진시키기 위해서 이용되는 화합물, 혹은 증감제이다.The polymerization initiator (C) is preferably used in combination with the polymerization initiator (C-1) (particularly amines). The polymerization initiator (C-1) is a compound or a sensitizer used for promoting polymerization of the polymerizable compound initiated by the polymerization initiator (C).

중합 개시 조제(C-1)로서는, 아민 화합물, 티아졸린 화합물, 알콕시안트라센 화합물, 티오크산톤 화합물, 카르복실산 화합물, 티올 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the polymerization initiator (C-1) include an amine compound, a thiazoline compound, an alkoxyanthracene compound, a thioxanthone compound, a carboxylic acid compound, and a thiol compound.

아민 화합물로서는, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노안식향산메틸, 4-디메틸아미노안식향산에틸, 4-디메틸아미노안식향산이소아밀, 안식향산2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노안식향산2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 그 중에서도 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. EAB-F[호도가야카가쿠고교(주) 제조] 등의 시판품을 이용하여도 좋다.Examples of the amine compound include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethyl paratoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, '-Bis (ethylmethylamino) benzophenone, among which 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is preferable. EAB-F (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.) and the like may be used.

티아졸린 화합물로서는 화학식 (III-1) 내지 화학식 (III-3)으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the thiazoline compound include compounds represented by the formulas (III-1) to (III-3).

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알콕시안트라센 화합물로서는, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxyanthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, Ethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dibutoxyanthracene, and the like.

티오크산톤 화합물로서는, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1- Oakstone, and the like.

카르복실산 화합물로서는 페닐술파닐아세트산, 메틸페닐술파닐아세트산, 에틸페닐술파닐아세트산, 메틸에틸페닐술파닐아세트산, 디메틸페닐술파닐아세트산, 메톡시페닐술파닐아세트산, 디메톡시페닐술파닐아세트산, 클로로페닐술파닐아세트산, 디클로로페닐술파닐아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.Examples of the carboxylic acid compound include phenylsulfanylacetic acid, methylphenylsulfanylacetic acid, ethylphenylsulfanylacetic acid, methylethylphenylsulfanylacetic acid, dimethylphenylsulfanylacetic acid, methoxyphenylsulfanylacetic acid, dimethoxyphenylsulfanylacetic acid, Diphenylacetic acid, dichlorophenylsulfanylacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

티올 화합물로서는, 2-술파닐옥사졸, 2-술파닐티아졸, 2-술파닐벤즈이미다졸, 2-술파닐벤조티아졸, 2-술파닐벤조옥사졸, 2-술파닐니코틴산, 2-술파닐피리딘, 2-술파닐피리딘-3-올, 2-술파닐피리딘-N-옥사이드, 4-아미노-6-히드록시-2-술파닐피리미딘, 4-아미노-6-히드록시-2-술파닐피리미딘, 4-아미노-2-술파닐피리미딘, 6-아미노-5-니트르소-2-티오우라실, 4,5-디아미노-6-히드록시-2-술파닐피리미딘, 4,6-디아미노-2-술파닐피리미딘, 2,4-디아미노-6-술파닐피리미딘, 4,6-디히드록시-2-술파닐피리미딘, 4,6-디메틸-2-술파닐피리미딘, 4-히드록시-2-술파닐-6-메틸피리미딘, 4-히드록시-2-술파닐-6-프로필피리미딘, 2-술파닐-4-메틸피리미딘, 2-술파닐피리미딘, 2-티오우라실, 3,4,5,6-테트라히드로피리미딘-2-티올, 4,5-디페닐이미다졸-2-티올, 2-술파닐이미다졸, 2-술파닐-1-메틸이미다졸, 4-아미노-3-히드라지노-5-술파닐-1,2,4-트리아졸, 3-아미노-5-술파닐-1,2,4-트리아졸, 2-메틸-4H-1,2,4-트리아졸-3-티올, 4-메틸-4H-1,2,4-트리아졸-3-티올, 3-술파닐-1H-1,2,4-트리아졸-3-티올, 2-아미노-5-술파닐-1,3,4-티아디아졸, 5-아미노-1,3,4-티아디아졸-2-티올, 2,5-디술파닐-1,3,4-티아디아졸, (푸란-2-일)메탄티올, 2-술파닐-5-티아졸리돈, 2-술파닐티아졸린, 2-술파닐-4(3H)-퀴나졸리논, 1-페닐-1H-테트라졸-5-티올, 2-퀴놀린티올, 2-술파닐-5-메틸벤즈이미다졸, 2-술파닐-5-니트로벤즈이미다졸, 6-아미노-2-술파닐벤조티아졸, 5-클로로-2-술파닐벤조티아졸, 6-에톡시-2-술파닐벤조티아졸, 6-니트로-2-술파닐벤조티아졸, 2-술파닐나프토이미다졸, 2-술파닐나프토옥사졸, 3-술파닐-1,2,4-트리아졸, 4-아미노-6-술파닐피라졸로[2,4-d]피리딘, 2-아미노-6-퓨린티올, 6-술파닐퓨린, 4-술파닐-1H-피라졸로[2,4-d]피리미딘, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-비스(메틸술파닐)벤젠, 부탄디올비스(3-술파닐프로피오네이트), 부탄디올비스(3-술파닐아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-술파닐아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-술파닐아세테이트), 부탄디올비스(3-술파닐프로피오네이트), 트리 메틸올프로판트리스(3-술파닐프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(3-술파닐아세테이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-술파닐프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-술파닐아세테이트), 트리스히드록시에틸트리스(3-술파닐프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-술파닐부틸레이트), 1,4-비스(3-술파닐부틸옥시)부탄 등을 들 수 있다.Examples of the thiol compound include 2-sulfanyloxazole, 2-sulfanylthiazole, 2-sulfanylbenzimidazole, 2-sulfanylbenzothiazole, 2-sulfanylbenzoxazole, Sulfanylpyridine-N-oxide, 4-amino-6-hydroxy-2-sulfanylpyrimidine, 4-amino-6-hydroxy- Amino-2-sulfanylpyrimidine, 6-amino-5-nitroso-2-thiouracil, 4,5-diamino-6-hydroxy- 2-sulfanylpyrimidine, 2,4-diamino-6-sulfanylpyrimidine, 4,6-dihydroxy-2-sulfanylpyrimidine, 4,6-dimethyl- Sulfanyl-6-methylpyrimidine, 4-hydroxy-2-sulfanyl-6-propylpyrimidine, 2-sulfanyl-4-methylpyrimidine, 2 -Sulfanylimidazole, 2-thiouracil, 3,4,5,6-tetrahydropyrimidine-2-thiol, 4,5-diphenylimidazole- 2-sulfanyl-1-methylimidazole Amino-3-hydrazino-5-sulfanyl-1,2,4-triazole, 3-amino-5-sulfanyl-1,2,4-triazole, 2- Triazole-3-thiol, 4-methyl-4H-1,2,4-triazole-3-thiol, 3-sulfanyl-1H- Amino-5-sulfanyl-1,3,4-thiadiazole, 5-amino-1,3,4-thiadiazole-2-thiol, 2,5-disulfanyl- Thienylidene, 2-sulfanylthiazoline, 2-sulfanyl-4 (3H) -quinazolinone, 1-phenyl 2-sulfanyl-5-methylbenzimidazole, 2-sulfanyl-5-nitrobenzimidazole, 6-amino-2-sulfanylbenzothiazole 2-sulfanyl benzothiazole, 2-sulfanyl benzothiazole, 2-sulfanyl naphthoimidazole, 2- 2,4-d] pyridine, 2-amino-6-purin thiol, 6-sulfanyl-1,2,4-triazole, Panyl purine, 4-sulfanyl-1H- (Methylsulfanyl) benzene, butanediol bis (3-sulfanyl propionate), butanediol bis (3-sulfanyl) Acetate), ethylene glycol bis (3-sulfanyl acetate), trimethylolpropane tris (3-sulfanyl acetate), butanediol bis (3-sulfanylpropionate), trimethylolpropane tris (3-sulfanyl acetate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanyl propionate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanyl acetate), trishydroxyethyl tris (3-sulfanylbutyl) butane, 1,4-bis (3-sulfanylbutyloxy) butane, and the like.

중합 개시 조제(C-1)를 이용하는 경우, 그 함유량은, 수지(A) 및 중합성 화합물(B)의 합계량 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 ~ 50 질량부, 보다 바람직하게는 0.1 ~ 40 질량부이다. 또한, 중합 개시제(C) 1 몰당, 바람직하게는 0.01 ~ 10 몰, 보다 바람직하게는 0.01 ~ 5 몰이다. 중합 개시 조제(C-1)의 함유량이 이 범위에 있으면, 더욱 고감도로 패턴을 형성할 수 있어, 패턴의 생산성이 향상되는 경향이 있다.When the polymerization initiator (C-1) is used, the content thereof is preferably 0.01 to 50 parts by mass, more preferably 0.1 to 50 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the resin (A) and the polymerizable compound (B) 40 parts by mass. It is preferably 0.01 to 10 moles, more preferably 0.01 to 5 moles, per 1 mole of the polymerization initiator (C). When the content of the polymerization initiator (C-1) is within this range, it is possible to form a pattern with higher sensitivity, and the productivity of the pattern tends to be improved.

체질 안료(D)는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 산화규소, 황산바륨, 산화티탄, 산화아연, 산화알루미늄, 산화마그네슘 및 탄산칼슘으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종을 이용할 수 있다. 또한, 투명성의 점에서, 체질 안료의 평균 입자경이 500 ㎚ 이하인 것이 바람직하다. 그 중에서도 신뢰성과 건조막의 저점착성의 관점에서 산화규소가 바람직하다.The extender pigment (D) is not particularly limited, but at least one selected from the group consisting of silicon oxide, barium sulfate, titanium oxide, zinc oxide, aluminum oxide, magnesium oxide and calcium carbonate can be used. From the viewpoint of transparency, it is preferable that the extender pigment has an average particle diameter of 500 nm or less. Among them, silicon oxide is preferable from the viewpoints of reliability and low stickiness of the dried film.

체질 안료(D)의 함유량은, 수지(A) 및 중합성 화합물(B)의 합계량 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ~ 80 질량부, 보다 바람직하게는 1 ~ 30 질량부이다. 체질 안료의 함유량이 이 범위에 있으면, 건조막의 저점착성 및 내용제성이 양호해지는 경향이 있다.The content of the extender pigment (D) is preferably 0.1 to 80 parts by mass, more preferably 1 to 30 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the resin (A) and the polymerizable compound (B). When the content of the extender pigment is in this range, there is a tendency that the low stickiness and the solvent resistance of the dried film become good.

본 발명의 감광성 수지 조성물은, 용해도 파라미터가 8.0 ~ 9.1(cal/㎤)1/2인 용제(E1)와, 용해도 파라미터가 9.2 ~ 11.0(cal/㎤)1/2인 용제(E2)를 포함한다. 이러한 소정의 용제를 포함하는 감광성 조성물을 이용함으로써, 만족할 수 있는 저점착성을 갖는 건조막을 얻을 수 있고, 또한, 만족할 수 있는 경도를 갖는 패턴을 얻을 수 있다.The photosensitive resin composition of the present invention, the solubility parameter is 8.0 ~ 9.1 (cal / ㎤) 1/2 of the solvent (E1) and the solubility parameter is 9.2 ~ 11.0 (cal / ㎤) 1/2 include solvents (E2) do. By using the photosensitive composition containing such a predetermined solvent, a dried film having satisfactory low tackiness can be obtained, and a pattern having satisfactory hardness can be obtained.

용해도 파라미터가 8.0 ~ 9.1(cal/㎤)1/2인 용제(E1)로서는, 그 용해도 파라미터((cal/㎤)1/2)를 괄호를 붙여 예를 들면, 에틸렌글리콜모노i-부틸에테르(8.9), 디에틸렌글리콜모노 2-에틸헥실에테르(8.4), 디프로필렌글리콜모노n-프로필에테르(8.8), 디프로필렌글리콜모노n-부틸에테르(8.5), 트리프로필렌글리콜모노n-프로필에테르(8.5), 트리프로필렌글리콜모노n-부틸에테르(8.2), 에틸렌글리콜디메틸에테르(8.6), 디에틸렌글리콜디메틸에테르(8.6), 디에틸렌글리콜디에틸에테르(8.6), 디에틸렌글리콜디n-부틸에테르(8.3), 트리에틸렌글리콜디메틸에테르(8.4), 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르(8.6), 디에틸렌글리콜모노n-부틸에테르아세테이트(9.0), 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(9.0), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(8.1), 에틸-3-에톡시프로피오네이트(9.1), 아세트산n프로필(8.6), 프로피온산n프로필(8.6), 프로피온산n부틸(8.3), 프로피온산n펜틸(8.4), 아세트산에틸(9.1), 아세트산부틸(8.3) 등을 들 수 있다. 이 중에서도 용해성의 관점에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와 같은 디올의 모노에테르의 아실레이트가 바람직하고, 알킬렌글리콜, 디알킬렌글리콜 또는 트리알킬렌글리콜의 모노알킬에테르의 알카노에이트가 보다 바람직하다.As the solvent (E1) having a solubility parameter of 8.0 to 9.1 (cal / cm3) 1/2 , its solubility parameter (cal / cm3) 1/2 is appended with parentheses, for example, ethylene glycol mono-i-butyl ether Propyl ether (8.8), dipropylene glycol mono n-butyl ether (8.5), tripropylene glycol mono n-propyl ether (8.5), diethylene glycol mono ), Tripropylene glycol mono n-butyl ether (8.2), ethylene glycol dimethyl ether (8.6), diethylene glycol dimethyl ether (8.6), diethylene glycol diethyl ether (8.6), diethylene glycol di- 8.3), triethylene glycol dimethyl ether (8.4), diethylene glycol ethyl methyl ether (8.6), diethylene glycol mono n-butyl ether acetate (9.0), propylene glycol monomethyl ether acetate (9.0), dipropylene glycol monomethyl Ether acetate (8.1), ethyl-3-ethoxypropionate (9.1), n-propyl acetate (8.6), n-propyl propionate (8.6), n-butyl propionate (8.3), n-pentyl propionate (8.4), ethyl acetate (9.1) and butyl acetate (8.3). Of these, acylates of monoethers of diols such as propylene glycol monomethyl ether acetate are preferable from the viewpoint of solubility, and alkaneates of alkylene glycol, dialkylene glycol or monoalkyl ether of trialkylene glycol are more preferable .

용해도 파라미터가 9.2 ~ 11.0(cal/㎤)1/2인 용제(E2)로서는, 그 용해도 파라미터((cal/㎤)1/2)를 괄호를 붙여 예를 들면, 에틸렌글리콜모노프로필에테르(10.6), 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르(9.2), 에틸렌글리콜모노n-부틸에테르(10.2), 에틸렌글리콜모노헥실에테르(9.4), 에틸렌글리콜모노페닐에테르(10.9), 에틸렌글리콜모노벤질에테르(10.8), 에틸렌글리콜모노알릴에테르(9.8), 디에틸렌글리콜모노메틸에테르(10.7), 디에틸렌글리콜모노n-부틸에테르(10.0), 디에틸렌글리콜모노헥실에테르(9.7), 디에틸렌글리콜모노2-에틸헥실에테르(9.2), 디에틸렌글리콜모노벤질에테르(9.6), 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르(10.2), 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르(9.9), 트리에틸렌글리콜모노n-부틸에테르(9.3), 폴리에틸렌글리콜모노메틸에테르(9.2), 프로필렌글리콜모노메틸에테르(10.7), 프로필렌글리콜모노n-프로필에테르(9.7), 프로필렌글리콜모노n-부틸에테르(9.3), 프로필렌글리콜모노t-부틸에테르(9.7), 프로필렌글리콜모노페닐에테르(11.0), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르(9.6), 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르(9.4), 에틸렌글리콜모노n-부틸에테르아세테이트(10.3), 프로필렌글리콜디아세테이트(9.6), 메틸-3-메톡시프로피오네이트(9.5), 젖산메틸(10.7), 젖산부틸(9.8), 시클로헥사논(9.9), 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논(별칭 다이아세톤알코올)(10.2), 1-부탄올(11.4), 디옥산(10.0), 클로로포름(9.3), 아세톤(9.9), 1,1,2,2-테트라클로로에탄(9.7) 등을 들 수 있다. 이 중에서도 용해성의 관점에서 히드록시 화합물이 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르와 같은 디올의 모노에테르나, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논과 같은 히드록시케톤이 보다 바람직하며, 알킬렌글리콜, 디알킬렌글리콜 또는 트리알킬렌글리콜의 모노알킬에테르나, 히드록시알카논이 보다 바람직하다.The solvent (E2) having a solubility parameter of 9.2 to 11.0 (cal / cm3) 1/2 has its solubility parameter ((cal / cm3) 1/2 ) parenthesized, for example, ethylene glycol monopropyl ether (10.6) , Ethylene glycol mono isopropyl ether (9.2), ethylene glycol mono n-butyl ether (10.2), ethylene glycol monohexyl ether (9.4), ethylene glycol monophenyl ether (10.9), ethylene glycol monobenzyl ether Diethylene glycol monoallyl ether (9.8), diethylene glycol monomethyl ether (10.7), diethylene glycol mono n-butyl ether (10.0), diethylene glycol monohexyl ether (9.7), diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether 9.2), diethylene glycol monobenzyl ether (9.6), triethylene glycol monomethyl ether (10.2), triethylene glycol monoethyl ether (9.9), triethylene glycol mono-n-butyl ether (9.3), polyethylene glycol monomethyl ether (9.2), propylene glycol monomethyl ether Propyleneglycol mono-n-butyl ether (9.3), propylene glycol mono-t-butyl ether (9.7), propylene glycol monophenyl ether (11.0), dipropylene glycol Propylene glycol monomethyl ether (9.6), tripropylene glycol monomethyl ether (9.4), ethylene glycol mono n-butyl ether acetate (10.3), propylene glycol diacetate (9.6), methyl-3-methoxypropionate (10.7), butyl lactate (9.8), cyclohexanone (9.9), 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone (alias diacetone alcohol) (10.0), chloroform (9.3), acetone (9.9), and 1,1,2,2-tetrachloroethane (9.7). Among them, a hydroxy compound is preferable from the viewpoint of solubility, and a monoether of a diol such as propylene glycol monomethyl ether and a hydroxy ketone such as 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone are more preferable, Monoalkyl ethers of glycols, dialkylene glycols or trialkylene glycols, and hydroxyalkanones are more preferred.

용해도 파라미터가 8.0 ~ 9.1(cal/㎤)1/2인 용제(E1)의 함유량은, 용제(E)에 대하여, 70 ~ 99 질량%이고, 바람직하게는 70 ~ 97 질량%이며, 용해도 파라미터가 9.2 ~ 11.0(cal/㎤)1/2인 용제(E2)의 함유량은, 용제(E)에 대하여, 1 ~ 30 질량%이고, 바람직하게는 3 ~ 30 질량%이다. 용제의 질량%의 비율이 상기한 범위에 있으면 용해성, 도포시의 평탄성이 양호해지는 경향이 있다. 또한, 용제(E)는, 용제 (E1) 및 (E2) 이외의 용제를 포함하고 있어도 좋지만, 그 함유량은, 용제(E)에 대하여, 통상 20 질량% 이하이며, 바람직하게는 10 질량% 이하이다.The content of the solvent (E1) having a solubility parameter of 8.0 to 9.1 (cal / cm3) 1/2 is 70 to 99% by mass, preferably 70 to 97% by mass with respect to the solvent (E) The content of the solvent (E2) of 9.2 to 11.0 (cal / cm3) 1/2 is 1 to 30 mass%, preferably 3 to 30 mass%, with respect to the solvent (E). When the ratio of the mass% of the solvent is in the above range, solubility and flatness at the time of coating tend to be improved. The solvent (E) may contain a solvent other than the solvents (E1) and (E2), but the content thereof is usually 20 mass% or less, preferably 10 mass% or less to be.

또한, 용해도 파라미터는, 다음 식에 의해 구할 수 있다.The solubility parameter can be determined by the following equation.

용해도 파라미터=(△E/V)1/2 Solubility parameter = (? E / V) 1/2

△E: 응집 에너지(증발 엔탈피), V: 몰 체적? E: cohesive energy (evaporation enthalpy), V: molar volume

용제(E)는, 바인더 수지(A)의 합성시에 사용하여도 좋다.The solvent (E) may be used in the synthesis of the binder resin (A).

용제(E)의 함유량은, 감광성 수지 조성물에 대하여, 바람직하게는 60 ~ 95 질량%이며, 보다 바람직하게는 70 ~ 90 질량%이다. 다시 말하면, 감광성 수지 조성물의 고형분은, 바람직하게는 5 ~ 40 질량%이며, 보다 바람직하게는 10 ~ 30 질량%이다. 용제(E)의 함유량이 상기한 범위에 있으면, 도포시의 평탄성이 양호해지는 경향이 있다.The content of the solvent (E) is preferably 60 to 95% by mass, and more preferably 70 to 90% by mass, based on the photosensitive resin composition. In other words, the solid content of the photosensitive resin composition is preferably 5 to 40% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass. When the content of the solvent (E) is in the above range, the flatness at the time of coating tends to be good.

본 발명의 감광성 수지 조성물은, 착색제(F)를 더 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 착색제(F)로서는, 안료 및 염료를 들 수 있지만, 패턴의 내열성 및 내광성의 점에서, 안료를 포함하는 것이 바람직하고, 패턴의 광투과성의 점에서, 염료를 포함하는 것이 바람직하고, 안료 및 염료를 포함하는 것이 보다 바람직하다. The photosensitive resin composition of the present invention preferably further comprises a colorant (F). Examples of the colorant (F) include pigments and dyes. However, from the viewpoints of heat resistance and light resistance of the pattern, it is preferable to include a pigment, and from the viewpoint of light transmittance of the pattern, It is more preferable to include a dye.

안료로서는, 유기 안료 및 무기 안료를 들 수 있고, 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에 의해 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다.Examples of the pigment include organic pigments and inorganic pigments, and compounds classified by pigment index (published by The Society of Dyers and Colourists) as pigments.

유기 안료로서는, C.I. 피그먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194, 214 등의 황색 안료;As the organic pigment, C.I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139 , 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 194 and 214;

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 등의 오렌지색 안료;C.I. Orange pigments such as Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73;

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265 등의 적색 안료;C.I. Red pigments such as Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, ;

C.I. 피그먼트 블루 15, 15:3, 15:4, 15:6, 60 등의 청색 안료;C.I. Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, and 60;

C.I. 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38 등의 바이올렛색 안료;C.I. Violet pigments such as Pigment Violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38;

C.I. 피그먼트 그린 7, 36, 58 등의 녹색 안료;C.I. Green pigments such as Pigment Green 7, 36, and 58;

C.I. 피그먼트 브라운 23, 25 등의 브라운색 안료;C.I. Brown pigments such as Pigment Brown 23 and 25;

C.I. 피그먼트 블랙 1, 7 등의 흑색 안료 등을 들 수 있다.C.I. Pigment black 1, pigment black 7, and the like.

그 중에서도, C.I. 피그먼트 옐로우 138, 139, 150, C.I. 피그먼트 레드 177, 242, 254, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:3, 15:6, C.I. 피그먼트 그린 7, 36, 58이 바람직하다. Among them, C.I. Pigment Yellow 138, 139, 150, C.I. Pigment Red 177, 242, 254, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Blue 15: 3, 15: 6, C.I. Pigment greens 7, 36 and 58 are preferred.

이들 안료는, 단독으로도 2종 이상을 혼합하여 이용하여도 좋다.These pigments may be used singly or in combination of two or more kinds.

상기 안료는, 필요에 따라, 로진 처리, 산성 기 또는 염기성 기가 도입된 안료 유도체나 안료 분산제 등을 이용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에의 그라프트 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리, 이온성 불순물의 이온 교환법 등에 의한 제거 처리 등이 행해져 있어도 좋다. 또한, 안료는, 입경이 균일한 것이 바람직하다. 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리를 행함으로써, 안료가 용액 중에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다.The pigment may be subjected to a surface treatment using a pigment derivative or a pigment dispersing agent to which a rosin treatment, an acidic group or a basic group is introduced, a graft treatment on a pigment surface with a polymer compound or the like, an atomization treatment using a sulfuric acid atomization method, A cleaning treatment with an organic solvent or water to remove impurities, a removal treatment with an ion exchange method of ionic impurities, or the like may be performed. It is preferable that the pigment has a uniform particle size. By containing a pigment dispersant and carrying out a dispersion treatment, a pigment dispersion in which the pigment is uniformly dispersed in a solution can be obtained.

상기 안료 분산제로서는, 시판되고 있는 계면활성제를 이용할 수 있고, 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성(兩性), 폴리에스테르계, 폴리아민계, 아크릴계 등의 계면활성제 등을 들 수 있다. 상기 계면활성제로서는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄 지방산 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등 이외에, 상품명으로 KP[신에츠카가쿠고교(주) 제조], 플로렌[교에이샤카가쿠(주) 제조], 솔스퍼스[제네카(주) 제조], EFKA(BASF 재팬(주) 제조), 아지스퍼(등록상표)[아지노모토파인테크노(주) 제조], Disperbyk(빅케미사 제조) 등을 들 수 있다. 이들은, 각각 단독으로도 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.As the above-mentioned pigment dispersant, commercially available surfactants can be used, and surfactants such as silicone, fluorine, ester, cationic, anionic, nonionic, amphoteric, polyester, polyamine, . Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid-modified polyesters, tertiary amine-modified polyurethanes, polyethyleneimines and the like (Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), fluorene (manufactured by Gyoe Shikagaku Co., Ltd.), Solsperse (manufactured by Zeneca), EFKA Spur (registered trademark) (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) and Disperbyk (manufactured by Big-Mass). These may be used alone or in combination of two or more.

안료 분산제를 사용하는 경우, 그 사용량은, 안료에 대하여, 바람직하게는 100 질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 5 ~ 50 질량%이다. 안료 분산제의 사용량이 상기한 범위에 있으면, 균일한 분산 상태의 안료 분산액이 얻어지는 경향이 있다.When a pigment dispersant is used, its amount to be used is preferably 100% by mass or less, and more preferably 5 to 50% by mass, based on the pigment. When the amount of the pigment dispersant is within the above range, a pigment dispersion in a uniformly dispersed state tends to be obtained.

착색제(F)로서는, 공지된 염료도 사용할 수 있고, 염료로서는, 유용성(油溶性) 염료, 산성 염료 등을 들 수 있다.As the colorant (F), known dyes can also be used. Examples of the dyes include oil-soluble dyes and acid dyes.

이들 염료는, 용제에의 용해도나, 이 염료를 포함하는 착색 경화성 수지 조성물을 이용하여 컬러 필터의 패턴을 형성했을 때의 광 퇴색(褪色) 내성이나 분광 스펙트럼에 맞춰 적절하게 선택된다.These dyes are appropriately selected in accordance with the solubility in a solvent and the light discoloration resistance and spectral spectrum when a pattern of a color filter is formed using a colored curable resin composition containing the dye.

염료는, 특별히 한정되지 않고 공지된 염료를 사용할 수 있으며, 예컨대, 용제 염료, 산성 염료, 직접 염료, 매염 염료 등을 들 수 있다. 염료로서는, 예컨대, 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)에 의해 피그먼트 이외로 색상을 갖는 것으로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(시키센샤)에 기재되어 있는 공지된 염료를 들 수 있다. 또한, 화학 구조에 따르면, 아조 염료, 시아닌 염료, 트리페닐메탄 염료, 크산텐 염료, 프탈로시아닌 염료, 안트라퀴논 염료, 나프토퀴논 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료, 아조메틴 염료, 스쿠아릴리움 염료, 아크리딘 염료, 스티릴 염료, 쿠마린 염료, 퀴놀린 염료 및 니트로 염료 등을 들 수 있다. 이들 중, 유기 용제 가용성 염료가 바람직하다.The dye is not particularly limited and known dyes can be used, and examples thereof include solvent dyes, acid dyes, direct dyes, mordant dyes and the like. Examples of the dyes include compounds classified by the color index (published by The Society of Dyers and Colourists) as having a color other than pigment, and known dyes described in dyeing notes (Shika Sensha). In addition, according to the chemical structure, it is possible to use azo dyes, cyanine dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalocyanine dyes, anthraquinone dyes, naphthoquinone dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, azomethine dyes, squarylium dyes, Acridine dyes, styryl dyes, coumarin dyes, quinoline dyes, and nitro dyes. Of these, organic solvent-soluble dyes are preferred.

구체적으로는, C.I. 솔벤트 옐로우 4, 14, 15, 23, 24, 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 117, 162, 163, 167, 189;Specifically, C.I. Solvent Yellow 4, 14, 15, 23, 24, 38, 62, 63, 68, 82, 94, 98, 99, 117, 162, 163, 167, 189;

C.I. 솔벤트 레드 45, 49, 111, 125, 130, 143, 145, 146, 150, 151, 155, 168, 169, 172, 175, 181, 207, 218, 222, 227, 230, 245, 247;C.I. Solvent Red 45, 49, 111, 125, 130, 143, 145, 146, 150, 151, 155, 168, 169, 172, 175, 181, 207, 218, 222, 227, 230, 245, 247;

C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 56, 77, 86;C.I. Solvent Orange 2, 7, 11, 15, 26, 56, 77, 86;

C.I. 솔벤트 바이올렛 11, 13, 14, 26, 31, 36, 37, 38, 45, 47, 48, 51, 59, 60;C.I. Solvent Violet 11, 13, 14, 26, 31, 36, 37, 38, 45, 47, 48, 51, 59, 60;

C.I. 솔벤트 블루 4, 5, 14, 18, 35, 36, 37, 45, 58, 59, 59:1, 63, 67, 68, 69, 70, 78, 79, 83, 90, 94, 97, 98, 100, 101, 102, 104, 105, 111, 112, 122, 128, 132, 136, 139;C.I. Solvent Blue 4, 5, 14, 18, 35, 36, 37, 45, 58, 59, 59: 1, 63, 67, 68, 69, 70, 78, 79, 83, 90, 94, 100, 101, 102, 104, 105, 111, 112, 122, 128, 132, 136, 139;

C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 등의 C.I. 솔벤트 염료,C.I. Solvent Green 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, Solvent dyes,

C.I. 애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251;C.I. Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 112, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251;

C.I. 애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 33, 34, 35, 37, 40, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 76, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 95, 97, 98, 103, 106, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 155, 158, 160, 172, 176, 182, 183, 195, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 289, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 388, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426;C.I. Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 33, 34, 35, 37, 40, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 272, 277, 278, 279, 252, 257, 258, 260, 261, 289, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 388, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426;

C.I. 애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173;C.I. Acid Orange 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173;

C.I. 애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 15, 16, 17, 19, 21, 23, 24, 25, 30, 34, 38, 49, 72, 102;C.I. Acid Violet 6B, 7, 9, 15, 16, 17, 19, 21, 23, 24, 25, 30, 34, 38, 49, 72, 102;

C.I. 애시드 블루 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 18, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 29, 34, 38, 40, 41, 42, 43, 45, 48, 51, 54, 59, 60, 62, 70, 72, 74, 75, 78, 80, 82, 83, 86, 87, 88, 90, 90:1, 91, 92, 93, 93:1, 96, 99, 100, 102, 103, 104, 108, 109, 110, 112, 113, 117, 119, 120, 123, 126, 127, 129, 130, 131, 138, 140, 142, 143, 147, 150, 151, 154, 158, 161, 166, 167, 168, 170, 171, 175, 182, 183, 184, 187, 192, 199, 203, 204, 205, 210, 213, 229, 234, 236, 242, 243, 256, 259, 267, 269, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335, 340;C.I. Acid Blue 1, 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, 18, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 29, 34, 38, 40, 41, 42, 90, 90, 91, 92, 93, 93, 1, 2, 3, 4, 5, 96, 99, 100, 102, 103, 104, 108, 109, 110, 112, 113, 117, 119, 120, 123, 126, 127, 129, 130, 131, 138, 140, 150, 151, 154, 158, 161, 166, 167, 168, 170, 171, 175, 182, 183, 184, 187, 192, 199, 203, 204, 205, 210, 213, 229, 234, 236, 242, 243, 256, 259, 267, 269, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324: 1, 335, 340;

C.I. 애시드 그린 1, 3, 5, 6, 7, 8, 9, 11, 13, 14, 15, 16, 22, 25, 27, 28, 41, 50, 50:1, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 등의 C.I. 애시드 염료,C.I. Acid Green 1, 3, 5, 6, 7, 8, 9, 11, 13, 14, 15, 16, 22, 25, 27, 28, 41, 50, 104, 105, 106, 109, Acid dyes,

C.I. 다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141;C.I. Direct Yellow 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 136, 138, 141;

C.I. 다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250;C.I. Direct Red 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250;

C.I. 다이렉트 오렌지 26, 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;C.I. Direct Orange 26, 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;

C.I. 다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;C.I. Direct Violet 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;

C.I. 다이렉트 블루 1, 2, 3, 6, 8, 15, 22, 25, 28, 29, 40, 41, 42, 47, 52, 55, 57, 71, 76, 77, 78, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 120, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 195, 196, 198, 199, 200, 201, 202, 203, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 225, 226, 228, 229, 236, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 246, 247, 248, 249, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293;C.I. Direct Blue 1, 2, 3, 6, 8, 15, 22, 25, 28, 29, 40, 41, 42, 47, 52, 55, 57, 71, 76, 77, 78, 80, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 120, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 236, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 246, 234, 236, 247, 248, 249, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293;

C.I. 다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등의 C.I. 다이렉트 염료,C.I. Direct Green 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, Direct dyes,

C.I. 디스퍼스 옐로우 51, 54, 76;C.I. Disperse Yellow 51, 54, 76;

C.I. 디스퍼스 바이올렛 26, 27;C.I. Disperse Violet 26, 27;

C.I. 디스퍼스 블루 1, 14, 56, 60 등의 C.I. 디스퍼스 염료,C.I. Disperse Blue 1, 14, 56, 60, etc. C.I. Disperse dyes,

C.I. 베이식 레드 1, 10;C.I. Basic red 1, 10;

C.I. 베이식 블루 1, 3, 5, 7, 9, 19, 21, 22, 24, 25, 26, 28, 29, 40, 41, 45, 47, 54, 58, 59, 60, 64, 65, 66, 67, 68, 81, 83, 88, 89;C.I. Basic Blue 1, 3, 5, 7, 9, 19, 21, 22, 24, 25, 26, 28, 29, 40, 41, 45, 47, 54, 58, 59, 60, 64, 65, 66, 67, 68, 81, 83, 88, 89;

C.I. 베이식 바이올렛 2;C.I. Basic Violet 2;

C.I. 베이식 레드 9;C.I. Basic Red 9;

C.I. 베이식 그린 1; 등의 C.I. 베이식 염료,C.I. Basic Green 1; C.I. Basic dyes,

C.I. 리액티브 옐로우 2, 76, 116;C.I. Reactive Yellow 2, 76, 116;

C.I. 리액티브 오렌지 16;C.I. Reactive Orange 16;

C.I. 리액티브 레드 36; 등의 C.I. 리액티브 염료C.I. Reactive red 36; C.I. Reactive dye

C.I. 모던트 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65;C.I. Modern Yellow 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65;

C.I. 모던트 레드 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 29, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 42, 43, 45, 46, 48, 52, 53, 56, 62, 63, 71, 74, 76, 78, 85, 86, 88, 90, 94, 95;C.I. 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 27, 29, 30, 32, 33, 36, 37, 38 , 39, 41, 42, 43, 45, 46, 48, 52, 53, 56, 62, 63, 71, 74, 76, 78, 85, 86, 88, 90, 94, 95;

C.I. 모던트 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48;C.I. Modern orange 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48;

C.I. 모던트 바이올렛 1, 1:1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 10, 11, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 24, 27, 28, 30, 31, 32, 33, 36, 37, 39, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 49, 53, 58;C.I. Modern Violet 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 10, 11, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 24, 27, 28 , 30, 31, 32, 33, 36, 37, 39, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 49, 53, 58;

C.I. 모던트 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;C.I. 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43 , 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;

C.I. 모던트 그린 1, 3, 4, 5, 10, 13, 15, 19, 21, 23, 26, 29, 31, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등의 C.I. 모던트 염료,C.I. C.I., such as Modern Green 1, 3, 4, 5, 10, 13, 15, 19, 21, 23, 26, 29, 31, 33, 34, 35, 41, Modern dyes,

C.I. 배트 그린 1 등의 C.I. 배트 염료 등을 들 수 있다.C.I. C.I. Vat dyes and the like.

이들 염료는, 원하는 컬러 필터의 분광 스펙트럼에 맞춰 적절하게 선택하면 좋다.These dyes may be suitably selected in accordance with the spectral spectrum of a desired color filter.

염료는, 분자 내에 크산텐 골격을 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. The dye preferably contains a compound having a xanthene skeleton in the molecule.

착색제(F)의 함유량은, 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 5 ~ 60 질량%이며, 보다 바람직하게는 5 ~ 45 질량%이다. 착색제(F)의 함유량이 상기한 범위이면, 원하는 분광이나 색 농도를 얻을 수 있다.The content of the colorant (F) is preferably from 5 to 60 mass%, more preferably from 5 to 45 mass%, based on the solid content of the photosensitive resin composition. When the content of the colorant (F) is within the above range, desired spectral or color density can be obtained.

본 발명의 감광성 수지 조성물은, 계면활성제를 포함하고 있어도 좋다. 계면활성제로서는, 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제, 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제 등을 들 수 있다. 계면활성제를 포함함으로써, 도포시의 평탄성이 양호해지는 경향이 있다.The photosensitive resin composition of the present invention may contain a surfactant. Examples of the surfactant include a silicone surfactant, a fluorine surfactant, and a silicon surfactant having a fluorine atom. The inclusion of the surfactant tends to improve the flatness at the time of application.

실리콘계 계면활성제로서는, 실록산 결합을 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 도레이실리콘 DC3PA, 도레이실리콘 SH7PA, 도레이실리콘 DC11PA, 도레이실리콘 SH21PA, 도레이실리콘 SH28PA, 도레이실리콘 SH29PA, 도레이실리콘 SH30PA, 폴리에테르 변성 실리콘 오일 SH8400[도레이·다우코닝(주) 제조], KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341[신에츠카가쿠고교(주) 제조], TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈·재팬 고도가이샤 제조) 등을 들 수 있다.As the silicone surfactant, a surfactant having a siloxane bond can be mentioned. Specific examples thereof include TORAY silicone DC3PA, TORAY silicone SH7PA, TORAY silicone DC11PA, TORAY silicone SH21PA, TORAY silicone SH28PA, TORAY silicone SH29PA, TORAY silicone SH30PA, polyether-modified silicone oil SH8400 (Toray Dow Corning Co., Ltd.) , KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (Momentive Performance Materials (Manufactured by Japan Kogyo Co., Ltd.).

불소계 계면활성제로서는, 플루오로카본쇄를 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 플로리너트(등록상표) FC430, 플로리너트 FC431[스미토모쓰리엠(주) 제조], 메가팍(등록상표) F142D, 메가팍 F171, 메가팍 F172, 메가팍 F173, 메가팍 F177, 메가팍 F183, 메가팍 R30[DIC(주) 제조], 에프톱(등록상표) EF301, 에프톱 EF303, 에프톱 EF351, 에프톱 EF352[미쓰비시 머티리얼 덴시카세이(주) 제조], 서프론(등록상표) S381, 서프론 S382, 서프론 SC101, 서프론 SC105[아사히가라스(주) 제조], E5844[다이킨고교(주) 제조] 등을 들 수 있다.As the fluorochemical surfactant, a surfactant having a fluorocarbon chain can be mentioned. Specifically, there are used a flourine (registered trademark) FC430, Florinat FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Ltd.), Megapack (registered trademark) F142D, Megapack F171, Megapack F172, Megapack F173, Megapack F177, (Registered trademark) EF301, EF TOP EF303, EF TOP EF351 and EF TOP EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Denshi Kasei Co., Ltd.), Surflon (registered trademark) S381, Surflon S382, Surflon SC101, Surflon SC105 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and E5844 (manufactured by Daikin Industries Co., Ltd.).

불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제로서는, 실록산 결합 및 플루오로카본쇄를 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팍(등록상표) R08, 메가팍 BL20, 메가팍 F475, 메가팍 F477, 메가팍 F443[DIC(주) 제조] 등을 들 수 있다. 바람직하게는 메가팍(등록상표) F475를 들 수 있다.Examples of the silicone surfactant having a fluorine atom include a surfactant having a siloxane bond and a fluorocarbon chain. Specific examples thereof include Megapack (registered trademark) R08, Megapark BL20, Megapack F475, Megapack F477, Megapack F443 (manufactured by DIC Corporation) and the like. And preferably Megapak (registered trademark) F475.

계면활성제는, 감광성 수지 조성물에 대하여, 바람직하게는 0.001 ~ 0.2 질량%이며, 보다 바람직하게는 0.002 ~ 0.1 질량%, 특히 바람직하게는 0.01 ~ 0.05 질량%이다. 계면활성제를 이 범위로 함유함으로써, 도막의 평탄성을 양호하게 할 수 있다.The surfactant is preferably 0.001 to 0.2% by mass, more preferably 0.002 to 0.1% by mass, and particularly preferably 0.01 to 0.05% by mass, based on the photosensitive resin composition. When the surfactant is contained in this range, the flatness of the coating film can be improved.

본 발명의 감광성 수지 조성물은, 필요에 따라, 충전제, 다른 고분자 화합물, 밀착촉진제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정제, 연쇄이동제 등의 여러 가지 첨가제를 포함하여도 좋다.The photosensitive resin composition of the present invention may contain various additives such as fillers, other polymer compounds, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, and chain transfer agents, if necessary.

본 발명의 감광성 수지 조성물은, 바인더 수지(A), 중합성 화합물(B), 중합 개시제(C), 체질 안료(D), 용제(E) 및 필요에 따라 착색제(F)나 그 밖의 성분을 혼합함으로써 얻어진다.The photosensitive resin composition of the present invention is a photosensitive resin composition containing a binder resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerization initiator (C), an extender pigment (D), a solvent (E) and optionally a colorant (F) .

또한, 착색제(F)로서 안료를 혼합하는 경우, 예컨대, 이하의 순서로 조제하는 것이 바람직하다.When the pigment is mixed as the colorant (F), it is preferable to prepare it in the following procedure, for example.

우선, 안료를 미리 용제(E)와 혼합하고, 안료의 평균 입자경이 0.2 ㎛ 이하 정도가 될 때까지, 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이 때, 필요에 따라 안료 분산제, 바인더 수지(A)의 일부 또는 전부를 배합하여도 좋다. 얻어진 안료 분산액에, 바인더 수지(A)의 나머지, 중합성 화합물(B), 중합 개시제(C), 체질 안료(D) 및 필요에 따라 사용되는 그 밖의 성분, 나아가서는 필요에 따라 추가의 용제(E)를, 소정의 농도가 되도록 첨가하여 감광성 수지 조성물을 얻을 수 있다.First, the pigment is mixed with the solvent (E) in advance and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the pigment becomes about 0.2 μm or less. At this time, if necessary, a part or all of the pigment dispersant and the binder resin (A) may be blended. To the pigment dispersion thus obtained, the remainder of the binder resin (A), the polymerizable compound (B), the polymerization initiator (C), the extender pigment (D) and other components as required, E) is added so as to have a predetermined concentration to obtain a photosensitive resin composition.

본 발명의 감광성 수지 조성물의 기판에의 도포 방법으로는 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP 코팅법, 다이 코팅법 등을 들 수 있다. 또한, 딥 코터, 롤 코터, 바 코터, 스핀 코터, 슬릿 & 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터, 커튼 플로 코터, 스핀리스 코터라고도 불리는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치를 이용하여 도포하여도 좋다. 그 중에서도, 슬릿 코터, 스핀 코터, 롤 코터 등을 이용하여 도포하는 것이 바람직하다.Examples of the method of applying the photosensitive resin composition of the present invention to a substrate include an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, a CAP coating method and a die coating method. In addition, even if a coating apparatus such as dip coater, roll coater, bar coater, spin coater, slit & spin coater, slit coater (die coater, curtain float coater, spunless coater) good. Among them, it is preferable to apply by using a slit coater, a spin coater, a roll coater or the like.

기판에 감광성 수지 조성물을 도포하여 얻어지는 도막의 건조 방법으로는 가열 건조, 자연 건조, 통풍 건조, 감압 건조 등의 방법을 들 수 있다. 복수의 방법을 조합하여 행하여도 좋다.Examples of a drying method of a coating film obtained by applying a photosensitive resin composition to a substrate include heat drying, natural drying, air drying, and vacuum drying. A plurality of methods may be combined.

건조 온도로서는 10℃ ~ 120℃가 바람직하고, 25℃ ~ 100℃가 보다 바람직하다. 또한, 가열 시간으로서는 10초간 ~ 60분간인 것이 바람직하고, 30초간 ~ 30분간인 것이 보다 바람직하다.The drying temperature is preferably 10 ° C to 120 ° C, more preferably 25 ° C to 100 ° C. The heating time is preferably 10 seconds to 60 minutes, more preferably 30 seconds to 30 minutes.

감압 건조는 50 ~ 150 Pa의 압력 하, 20℃ ~ 25℃의 온도 범위에서 행하는 것이 바람직하다.The reduced-pressure drying is preferably carried out under a pressure of 50 to 150 Pa at a temperature of 20 to 25 캜.

도막을 건조시켜 얻어지는 건조막의 막 두께는, 특별히 한정되지 않고, 이용하는 재료, 용도 등에 따라 적절하게 조정할 수 있으며, 통상, 0.1 ~ 20 ㎛이고, 바람직하게는 1 ~ 6 ㎛이다.The film thickness of the dried film obtained by drying the coated film is not particularly limited and can be suitably adjusted according to the material to be used and the application, and is usually 0.1 to 20 탆, preferably 1 to 6 탆.

건조막은, 목적의 패턴을 형성하기 위한 포토마스크를 통해 노광한다. 이 때의 포토마스크 상의 패턴 형상은 특별히 한정되지 않고, 목적으로 하는 용도에 따른 패턴 형상이 이용된다. 또한, 중합 개시제(C)로서 열중합 개시제를 이용하는 경우는, 노광에 의해 건조막이 가열되고, 이 열이 열중합 개시제에 작용한다.The dry film is exposed through a photomask for forming a desired pattern. The pattern shape on the photomask at this time is not particularly limited, and a pattern shape according to the intended use is used. When a thermal polymerization initiator is used as the polymerization initiator (C), the dry film is heated by exposure, and this heat acts on the thermal polymerization initiator.

노광에 이용되는 광원으로는, 250 ~ 450 ㎚의 파장의 광을 발생하는 광원이 바람직하다. 예컨대, 350 ㎚ 미만의 광을, 이 파장 영역을 커트하는 필터를 이용하여 커트하거나, 436 ㎚ 부근, 408 ㎚ 부근, 365 ㎚ 부근의 광을, 이들 파장 영역을 취출하는 밴드 패스 필터를 이용하여 선택적으로 취출하거나 하여도 좋다. 광원으로는, 수은등, 발광 다이오드, 메탈할라이드 램프, 할로겐 램프 등을 들 수 있다.As a light source used for exposure, a light source that generates light having a wavelength of 250 to 450 nm is preferable. For example, light having a wavelength of less than 350 nm may be cut using a filter that cuts the wavelength region, or light having wavelengths around 436 nm, 408 nm, and 365 nm may be selectively extracted using a band- Or may be taken out. Examples of the light source include a mercury lamp, a light emitting diode, a metal halide lamp, and a halogen lamp.

노광면 전체에 균일하게 평행 광선을 조사하거나, 마스크와 기재와의 정확한 위치 맞춤을 행할 수 있기 때문에, 마스크 얼라이너, 스텝퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use an apparatus such as a mask aligner or a stepper because it is possible to uniformly irradiate the entire exposure surface with a parallel light beam or to precisely align the mask with the substrate.

건조막을 노광시켜 얻어지는 노광막을 현상액에 접촉시켜 소정 부분, 예컨대, 미노광부를 용해시켜, 현상함으로써, 패턴을 얻을 수 있다. 현상액으로는 유기 용제를 이용할 수도 있지만, 노광막의 노광부가 현상액에 의해 쉽게 용해되거나 팽윤되지 않아 양호한 형상의 패턴을 얻을 수 있기 때문에, 알칼리성 화합물의 수용액을 이용하는 것이 바람직하다.A pattern can be obtained by dissolving a predetermined portion, for example, an unexposed portion, and developing the exposed film obtained by exposing the dried film to a developing solution. As the developing solution, an organic solvent may be used. However, an aqueous solution of an alkaline compound is preferably used because an exposed portion of the exposed film is not easily dissolved or swelled by a developing solution and a pattern of a good shape can be obtained.

현상 방법은, 패들법, 디핑법, 스프레이법 등 중 어느 것이어도 좋다. 또한, 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 좋다.The developing method may be paddle method, dipping method, spray method, or the like. Further, the substrate may be inclined at an arbitrary angle at the time of development.

현상 후에는 수세하는 것이 바람직하다.It is preferable to rinse after development.

상기 알칼리성 화합물로서는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등의 무기 알칼리성 화합물; Examples of the alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogenphosphate, sodium dihydrogenphosphate, ammonium dihydrogenphosphate, ammonium dihydrogenphosphate, potassium dihydrogenphosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, Inorganic alkaline compounds such as potassium hydrogen, sodium borate, potassium borate and ammonia;

테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등의 유기 알칼리성 화합물을 들 수 있다.Monoethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, diisopropylamine, diisopropylamine, diisopropylamine, And organic alkaline compounds such as ethanolamine.

그 중에서도, 수산화칼륨, 탄산수소나트륨, 테트라메틸암모늄히드록시드가 바람직하다.Among them, potassium hydroxide, sodium hydrogencarbonate and tetramethylammonium hydroxide are preferable.

이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물의 수용액 중의 농도는, 바람직하게는 0.01 ~ 10 질량%이며, 보다 바람직하게는 0.03 ~ 5 질량%이다.The concentration of these inorganic and organic alkaline compounds in the aqueous solution is preferably 0.01 to 10 mass%, and more preferably 0.03 to 5 mass%.

상기 알칼리성 화합물의 수용액은, 계면활성제를 포함하고 있어도 좋다.The aqueous solution of the alkaline compound may contain a surfactant.

계면활성제로서는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 코폴리머, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등의 비이온계 계면활성제;Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid Nonionic surfactants such as esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters and polyoxyethylene alkylamines;

라우릴알코올황산에스테르나트륨, 올레일알코올황산에스테르나트륨, 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄, 도데실벤젠술폰산나트륨, 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 음이온계 계면활성제;Anionic surfactants such as sodium lauryl alcohol sulfate ester, sodium oleyl alcohol sulfate ester, sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate and sodium dodecylnaphthalenesulfonate;

스테아릴아민염산염, 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 양이온계 계면활성제 등을 들 수 있다.Cationic surfactants such as stearylamine hydrochloride and lauryltrimethylammonium chloride, and the like.

알칼리성 화합물의 수용액 중의 계면활성제의 농도는, 바람직하게는 0.01 ~ 10 질량%, 보다 바람직하게는 0.05 ~ 8 질량%, 특히 바람직하게는 0.1 ~ 5 질량%이다.The concentration of the surfactant in the aqueous solution of the alkaline compound is preferably 0.01 to 10 mass%, more preferably 0.05 to 8 mass%, and particularly preferably 0.1 to 5 mass%.

상기한 바와 같이 얻어진 패턴을 더 베이크함으로써, 열경화된 패턴을 얻을 수 있다. 베이크 온도로는, 통상, 25℃ 이상 230℃ 이하, 바람직하게는 25℃ 이상 200℃ 이하, 보다 바람직하게는 25℃ 이상 160℃ 이하, 더욱 바람직하게는 25℃ 이상 120℃ 이하이다. 베이크 시간으로는, 통상, 1 ~ 300분, 바람직하게는 1 ~ 180분, 보다 바람직하게는 1 ~ 60분이다.By baking the pattern obtained as described above, a thermally cured pattern can be obtained. The baking temperature is usually 25 ° C or higher and 230 ° C or lower, preferably 25 ° C or higher and 200 ° C or lower, more preferably 25 ° C or higher and 160 ° C or lower, and further preferably 25 ° C or higher and 120 ° C or lower. The baking time is usually 1 to 300 minutes, preferably 1 to 180 minutes, and more preferably 1 to 60 minutes.

이와 같이 하여 얻어지는 패턴은, 예컨대, 액정 표시 장치에 사용되는 포토스페이서, 패터닝 가능한 오버 코트, 컬러 필터로서 유용하다. 또한, 본 발명의 감광성 수지 조성물은, 액정 표시 장치나 이미지 센서의 화소가 되는 막 또는 패턴 등을 형성하기 위해서 적합하게 이용할 수 있고, 이들 막 또는 패턴을 그 구성 부품의 일부로서 구비하는 컬러 필터, 어레이 기판, 또한, 이들 컬러 필터 및/또는 어레이 기판 등을 구비하는 표시 장치, 예컨대, 액정 표시 장치, 유기 EL 장치, 고체 촬상 장치 등에 이용할 수 있다.The pattern thus obtained is useful as, for example, a photo-spacer used in a liquid crystal display, a patternable overcoat, and a color filter. The photosensitive resin composition of the present invention can be suitably used for forming a film or a pattern to be a pixel of a liquid crystal display device or an image sensor and can be suitably used as a color filter, An array substrate, and a display device including these color filters and / or array substrates, for example, a liquid crystal display device, an organic EL device, and a solid-state imaging device.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물에 대해서, 보다 상세하게 설명한다. 예에서 「%」 및 「부」는, 특기하지 않는 한, 질량% 및 질량부이다.Hereinafter, the colored photosensitive resin composition of the present invention will be described in more detail by examples. In the examples, "% " and " part " are by mass% and mass part, unless otherwise specified.

<바인더 수지(A1) 용액의 합성><Synthesis of Binder Resin (A1) Solution>

교반 장치, 적하 깔때기, 콘덴서, 온도계, 가스 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 67부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 33부를 취하고, 질소 치환하면서 교반하여 120℃로 승온하였다. 다음에, 디시클로펜타닐아크릴레이트 11부, 벤질메타크릴레이트 31부, 메타크릴산 23부로 이루어진 모노머 혼합물에 퍼부틸 O를 모노머 혼합물 100부에 대하여 1부의 비율로 첨가하였다. 이것을 적하 깔때기로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하고, 120℃에서 2시간 더 교반하여 공중합체를 얻었다. 다음에, 플라스크 안을 공기 치환으로 바꾸어, 글리시딜메타크릴레이트 10부, 트리페닐포스핀 0.46부 및 메틸히드로퀴논 0.08부를 상기 공중합체의 용액 중에 투입하고 120℃에서 반응을 계속하여 고형분 산가가 150 mg-KOH/g이 되었을 때 반응을 종료하며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 75부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 5부를 첨가함으로써, 중량 평균 분자량(Mw)이 30×103이고, 산가가 150 mg-KOH/g인 바인더 수지(A1)를 30 질량% 포함하는 용액을 얻었다. 바인더 수지(A1)는, 이하의 구조 단위를 갖는 것이다.67 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and 33 parts of propylene glycol monomethyl ether were placed in a flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a condenser, a thermometer and a gas introduction tube, stirred while replacing nitrogen and heated to 120 deg. Subsequently, Perbutyl O was added to the monomer mixture consisting of 11 parts of dicyclopentanyl acrylate, 31 parts of benzyl methacrylate and 23 parts of methacrylic acid in a ratio of 1 part based on 100 parts of the monomer mixture. This was dropped from the dropping funnel into the flask over 2 hours and further stirred at 120 ° C for 2 hours to obtain a copolymer. Then, 10 parts of glycidyl methacrylate, 0.46 part of triphenylphosphine and 0.08 part of methylhydroquinone were added to the solution of the copolymer, and the reaction was continued at 120 캜 to obtain a copolymer having a solid content of acid value of 150 mg -KOH / g, the reaction was terminated and 75 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and 5 parts of propylene glycol monomethyl ether were added to obtain a copolymer having a weight average molecular weight (Mw) of 30 × 10 3 and an acid value of 150 mg-KOH / g in 30% by mass of the binder resin (A1). The binder resin (A1) has the following structural units.

Figure pat00021
Figure pat00021

<바인더 수지(A2) 용액의 합성><Synthesis of Binder Resin (A2) Solution>

교반 장치, 적하 깔때기, 콘덴서, 온도계, 가스 도입관을 구비한 플라스크에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 67부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 33부를 취하고, 질소 치환하면서 교반하여 120℃로 승온하였다. 다음에, 디시클로펜타닐아크릴레이트 10부, 벤질메타크릴레이트 34부, 메타크릴산 20부로 이루어진 모노머 혼합물에 퍼부틸 O를 모노머 혼합물 100부에 대하여 1부의 비율로 첨가하였다. 이것을 적하 깔때기로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하고, 120℃에서 2시간 더 교반하여 공중합체를 얻었다. 다음에, 플라스크 안을 공기 치환으로 바꾸어, 글리시딜메타크릴레이트 10부, 트리페닐포스핀 0.44부 및 메틸히드로퀴논 0.08부를 상기 공중합체의 용액 중에 투입하고 120℃에서 반응을 계속하여 고형분 산가가 130 mg-KOH/g이 되었을 때 반응을 종료하며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 74부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 5부를 첨가함으로써, 중량 평균 분자량(Mw)이 30×103이고, 산가가 130 mg-KOH/g인 바인더 수지(A2)를 30 질량% 포함하는 용액을 얻었다. 바인더 수지(A2)는, 이하의 구조 단위를 갖는 것이다.67 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and 33 parts of propylene glycol monomethyl ether were placed in a flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a condenser, a thermometer and a gas introduction tube, stirred while replacing nitrogen and heated to 120 deg. Subsequently, Perbutyl O was added to the monomer mixture consisting of 10 parts of dicyclopentanyl acrylate, 34 parts of benzyl methacrylate and 20 parts of methacrylic acid in a ratio of 1 part based on 100 parts of the monomer mixture. This was dropped from the dropping funnel into the flask over 2 hours and further stirred at 120 ° C for 2 hours to obtain a copolymer. Then, 10 parts of glycidyl methacrylate, 0.44 part of triphenylphosphine and 0.08 part of methylhydroquinone were added to the solution of the copolymer, and the reaction was continued at 120 ° C to obtain a copolymer having a solid content of 130 mg -KOH / g, the reaction was terminated and 74 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate and 5 parts of propylene glycol monomethyl ether were added to obtain a copolymer having a weight average molecular weight (Mw) of 30 × 10 3 and an acid value of 130 mg-KOH / g of a binder resin (A2) in an amount of 30% by mass. The binder resin (A2) has the following structural unit.

Figure pat00022
Figure pat00022

<바인더 수지(A3) 용액의 합성><Synthesis of Binder Resin (A3) Solution>

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 깔때기 및 가스 도입관을 구비한 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 413부를 도입하였다. 그 후, 가스 도입관을 통해 질소 가스를 플라스크 안에 도입하여 플라스크 안의 분위기를 질소 가스로 치환하고, 벤질메타크릴레이트 144부, 디시클로펜타닐아크릴레이트 30부, 메타크릴산 35부 및 아조비스이소부티로니트릴 5.2부를 첨가하여 100℃에서 5시간 동안 교반하였다. 그 후 실온까지 냉각시켜 중량 평균 분자량(Mw)이 10×103이고, 산가가 110 mg-KOH/g인 바인더 수지(A3)를 33.6 질량% 포함하는 용액을 얻었다. 수지(A3)는, 이하의 구조 단위를 갖는 것이다.413 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was introduced into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a gas inlet tube. Thereafter, nitrogen gas was introduced into the flask through a gas inlet tube, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen gas, and 144 parts of benzyl methacrylate, 30 parts of dicyclopentanyl acrylate, 35 parts of methacrylic acid and 0.1 part of azobisisobutyl And 5.2 parts of ronitryl was added thereto, followed by stirring at 100 ° C for 5 hours. Thereafter, the solution was cooled to room temperature to obtain a solution containing 33.6% by mass of a binder resin (A3) having a weight average molecular weight (Mw) of 10 × 10 3 and an acid value of 110 mg-KOH / g. The resin (A3) has the following structural units.

Figure pat00023
Figure pat00023

<바인더 수지(A4) 용액의 합성><Synthesis of Binder Resin (A4) Solution>

환류 냉각기, 적하 깔때기 및 교반기를 구비한 1 ℓ의 플라스크 안에 질소를 적량 흐르게 하여 질소 분위기로 치환하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 371부를 넣어, 교반하면서 85℃까지 가열하였다. 계속해서, 아크릴산 54부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일아크릴레이트 및 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-9-일아크릴레이트의 혼합물 225부, 비닐톨루엔(이성체 혼합물) 81부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 80부의 혼합 용액을 4시간에 걸쳐 적하하였다. 한편, 중합 개시제 2,2-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 30부를 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 160부에 용해시킨 용액을 5시간에 걸쳐 적하하였다. 개시제 용액의 적하 종료 후, 4시간 동안 같은 온도로 유지한 후, 실온까지 냉각시켜 중량 평균 분자량(Mw)이 10×103이고 산가가 115 mg-KOH/g인 바인더 수지(A4)를 37.5 질량% 포함하고, B형 점도(23℃)가 246 mPas인 용액을 얻었다. 바인더 수지(A4)는, 이하의 구조 단위를 갖는 것이다.In a 1 L flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel and a stirrer, a nitrogen stream was appropriately flowed, and the flask was purged with nitrogen atmosphere. 371 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was added and heated to 85 DEG C with stirring. Subsequently, 54 parts of acrylic acid, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl acrylate and 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan- Acrylate, 81 parts of vinyl toluene (isomer mixture) and 80 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was added dropwise over 4 hours. On the other hand, a solution prepared by dissolving 30 parts of polymerization initiator 2,2-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) in 160 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was added dropwise over 5 hours. After the end of the dropwise addition of the initiator solution, the mixture was kept at the same temperature for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain 37.5 mass parts of a binder resin (A4) having a weight average molecular weight (Mw) of 10 x 10 &lt; 3 & %, And a B-type viscosity (23 ° C) of 246 mPas. The binder resin (A4) has the following structural units.

Figure pat00024
Figure pat00024

합성예에서 얻어진 수지의 중량 평균 분자량(Mw) 및 수 평균 분자량(Mn)의 측정은 GPC법을 이용하여 이하의 조건으로 행하였다.The weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the resin obtained in Synthesis Example were measured by the GPC method under the following conditions.

장치: K2479[(주)시마즈세이사쿠쇼 제조]Apparatus: K2479 (manufactured by Shimadzu Corporation)

칼럼: SHIMADZU Shim-pack GPC-80MColumn: SHIMADZU Shim-pack GPC-80M

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40 DEG C

용매: THF(테트라히드로푸란)Solvent: THF (tetrahydrofuran)

유속: 1.0 ㎖/minFlow rate: 1.0 ml / min

검출기: RIDetector: RI

<화학식 (F1)으로 표시되는 화합물의 합성>&Lt; Synthesis of Compound Represented by Formula (F1) >

화학식 (IV-1)로 표시되는 화합물 40.5부와 2,6-크실리딘[도쿄카세이(주) 제조] 60.5부를 차광 조건 하에 혼합하여, N-메틸피리돈 200부 중, 150℃에서 8시간 동안 교반하였다. 얻어진 반응액을 실온까지 냉각시킨 후, 물 1200부, 35% 염산 75부의 혼합액 중에 첨가하여 실온에서 1시간 동안 교반하였더니, 결정이 석출되었다. 석출된 결정을 흡인 여과의 잔류물로서 취득하여 메탄올 100부로 세정한 후, 60℃에서 하룻밤 감압 건조시켜, 화학식 (IV-2)로 표시되는 화합물 49부를 얻었다. 수율은 85%였다.40.5 parts of the compound represented by the formula (IV-1) and 60.5 parts of 2,6-xylidine (manufactured by Tokyo Kasei Corporation) were mixed under light shielding conditions, and the mixture was heated in 150 parts of N-methylpyridone Lt; / RTI &gt; The obtained reaction solution was cooled to room temperature, added to a mixed solution of 1200 parts of water and 75 parts of 35% hydrochloric acid, and stirred at room temperature for 1 hour to precipitate crystals. The precipitated crystals were collected as a residue of suction filtration, washed with 100 parts of methanol, and dried under reduced pressure at 60 DEG C overnight to obtain 49 parts of a compound represented by the formula (IV-2). The yield was 85%.

Figure pat00025
Figure pat00025

계속해서, 화학식 (IV-2)로 표시되는 화합물 28.8부와, 1-브로모프로판 21.6부 및 탄산칼륨 24.2부를 N-메틸피리돈 144부 중에 첨가하여 90℃에서 4시간 동안 교반하였다. 얻어진 반응액을 실온까지 냉각시킨 후에 농축하고, 물 560부 중에 첨가하여 10℃ ~ 15℃에서 1시간 동안 교반하였더니, 결정이 석출되었다. 석출된 결정을 흡인 여과의 잔류물로서 취득한 후 건조시키고, 이온 교환수 1000부로 세정한 후, 60℃에서 하룻밤 감압 건조시켜, 화학식 (F1)로 표시되는 화합물 30.0부를 얻었다. 수율은 91%였다.Subsequently, 28.8 parts of the compound represented by the formula (IV-2), 21.6 parts of 1-bromopropane and 24.2 parts of potassium carbonate were added to 144 parts of N-methylpyridone, and the mixture was stirred at 90 ° C for 4 hours. The obtained reaction solution was cooled to room temperature, concentrated, and added to 560 parts of water. The mixture was stirred at 10 to 15 DEG C for 1 hour, and crystals were precipitated. The precipitated crystals were collected as a residue of suction filtration, dried, washed with 1000 parts of ion-exchanged water, and dried under reduced pressure at 60 ° C overnight to obtain 30.0 parts of a compound represented by the formula (F1). The yield was 91%.

Figure pat00026
Figure pat00026

화학식 (F1)로 표시되는 화합물의 동정Identification of the compound represented by the formula (F1)

(질량 분석) 이온화 모드=ESI+: m/z=[M+H]+659.3(Mass analysis) Ionization mode = ESI +: m / z = [M + H] + 659.3

정확한 질량(Exact Mass): 658.3                        Exact Mass: 658.3

실시예Example 1 One

[감광성 수지 조성물 1의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 1]

착색제(F): C.I. 피그먼트 레드 242 15부,Colorant (F): C.I. Pigment Red 242 15 parts,

착색제(F): C.I. 피그먼트 레드 177 20부,Colorant (F): C.I. Pigment Red 177 20 parts,

아크릴계 안료 분산제 14부,14 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A1) 용액 33.3부33.3 parts of a binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 10부), 및(Binder resin (A1) 10 parts), and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 191부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 191 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A1) 용액 254부254 parts of the binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 76.2부);(76.2 parts of binder resin (A1));

중합성 화합물(B): 글리세롤1,3-디글리세로레이트디아크릴레이트Polymerizable compound (B): glycerol 1,3-diglycerolate diacrylate

(GDDA; Aldrich사 제조) 37부;(GDDA; manufactured by Aldrich) 37 parts;

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 3.7부;[Irgacure (R) OXE-01; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 3.7 parts;

중합 개시제(C): 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드Polymerization initiator (C): bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide

[이르가큐어(등록상표) 819; BASF 재팬(주) 제조] 7.4부;[Irgacure (R) 819; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 7.4 parts;

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 3.7부;[KAYACURE (TM) DETX-S; (Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 3.7 parts;

체질 안료(D) 분산액: PMA-ST; 닛산카가쿠(주) 제조Extender pigment (D) Dispersion: PMA-ST; Manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.

(산화규소 30 질량%, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 69.5 질량% 및 메탄올 0.5 질량%)(이하 동일함) 41부;(30 mass% of silicon oxide, 69.5 mass% of propylene glycol monoethyl ether acetate and 0.5 mass% of methanol) (hereinafter the same) 41 parts;

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 398부; 및Solvent (E): 398 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.5부[Toray Silicone SH8400; 0.5 part (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 1을 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 1.

얻어진 감광성 수지 조성물 1 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 93.3 질량%이고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(용제(E2))의 비율은 6.7 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A1)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A1)/중합성 화합물(B))은 70/30이었다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition 1 was 93.3% by mass and the ratio of propylene glycol monomethyl ether (solvent (E2) Respectively. The mass ratio (binder resin (A1) / polymerizable compound (B)) of the binder resin (A1) and the polymerizable compound (B) was 70/30.

실시예Example 2 2

[감광성 수지 조성물 2의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 2]

착색제(F): C.I. 피그먼트 그린 58 43부,Colorant (F): C.I. Pigment Green 58 43 parts,

착색제(F): C.I. 피그먼트 옐로우 138 24부Colorant (F): C.I. Pigment Yellow 138 24 parts

아크릴계 안료 분산제 12부,12 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A1) 용액 86.7부86.7 parts of a binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 26부), 및(Binder resin (A1) 26 parts), and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 390부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 390 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A1) 용액 117부117 parts of the binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 35.1부);(Binder resin (A1) 35.1 parts);

중합성 화합물(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트Polymerizable compound (B): dipentaerythritol hexaacrylate

[KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼카야쿠(주) 제조] 41부;[KAYARAD (TM) DPHA; 41 parts (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 10부;[Irgacure (R) OXE-01; 10 parts by BASF Japan Co., Ltd.);

중합 개시제(C): 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드Polymerization initiator (C): bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide

[이르가큐어](등록상표) 819; BASF 재팬(주) 제조] 8.1부;[Irgacure] (R) 819; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 8.1 parts;

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 10부;[KAYACURE (TM) DETX-S; 10 parts by weight (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

체질 안료(D) 분산액: PMA-ST; 닛산카가쿠(주) 제조 34부;Extender pigment (D) Dispersion: PMA-ST; 34 parts by Nissan Kagaku KK;

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 307부; 및Solvent (E): 307 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.5부[Doraikon SH8400; 0.5 part (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 2를 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 2.

얻어진 감광성 수지 조성물 2 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 96.9 질량%이며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(용제(E2))의 비율은 3.1 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A1)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A1)/중합성 화합물(B))은 60/40이었다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition 2 was 96.9 mass%, the proportion of propylene glycol monomethyl ether (solvent (E2) Respectively. The mass ratio (binder resin (A1) / polymerizable compound (B)) of the binder resin (A1) and the polymerizable compound (B) was 60/40.

실시예Example 3 3

[감광성 수지 조성물 3의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 3]

착색제(F): C.I. 피그먼트 블루 15:6 27부,Colorant (F): C.I. Pigment Blue 15: 6 27 parts,

착색제(F): C.I. 피그먼트 바이올렛 23 0.5부,Colorant (F): C.I. 0.5 parts of Pigment Violet 23,

아크릴계 안료 분산제 10부,10 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A1) 용액 27.7부27.7 parts of a binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 8.3부), 및(Binder resin (A1) 8.3 parts), and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 140부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 140 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A1) 용액 227부227 parts of the binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 68.1부);(68.1 parts of binder resin (A1));

중합성 화합물(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트Polymerizable compound (B): dipentaerythritol hexaacrylate

[KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼카야쿠(주) 제조] 32부;[KAYARAD (TM) DPHA; (Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 5.4부;[Irgacure (R) OXE-01; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 5.4 parts;

중합 개시제(C): 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드Polymerization initiator (C): bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide

[이르가큐어(등록상표) 819; BASF 재팬(주) 제조] 8.6부;[Irgacure (R) 819; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 8.6 parts;

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 4.3부;[KAYACURE (TM) DETX-S; (Manufactured by Nippon Kayaku) 4.3 parts;

체질 안료(D) 분산액: PMA-ST; 닛산카가쿠(주) 제조 36부;Extender pigment (D) Dispersion: PMA-ST; 36 parts, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.;

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 497부; 및Solvent (E): 497 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.5부[Toray Silicone SH8400; 0.5 part (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 3을 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 3.

얻어진 감광성 수지 조성물 3 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 94.2 질량%이며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(용제(E2))의 비율은 5.8 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A1)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A1)/중합성 화합물(B))은 70/30이었다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition 3 was 94.2 mass%, the proportion of propylene glycol monomethyl ether (solvent (E2)) was 5.8 mass% Respectively. The mass ratio (binder resin (A1) / polymerizable compound (B)) of the binder resin (A1) and the polymerizable compound (B) was 70/30.

실시예Example 4 4

[감광성 수지 조성물 4의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 4]

착색제(F): C.I. 피그먼트 블루 15:6 27부,Colorant (F): C.I. Pigment Blue 15: 6 27 parts,

착색제(F): C.I. 피그먼트 바이올렛 23 0.5부,Colorant (F): C.I. 0.5 parts of Pigment Violet 23,

아크릴계 안료 분산제 10부,10 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A2) 용액 24.7부24.7 parts of a binder resin (A2) solution

(바인더 수지(A2) 7.4부), 및(Binder resin (A2), 7.4 parts), and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 140부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 140 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A2) 용액 191부Binder resin (A2) solution 191 parts

(바인더 수지(A2) 57.3부);(Binder resin (A2) 57.3 parts);

중합성 화합물(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트Polymerizable compound (B): dipentaerythritol hexaacrylate

[KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼카야쿠(주) 제조] 43부;[KAYARAD (TM) DPHA; 43 parts manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.;

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 5.4부;[Irgacure (R) OXE-01; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 5.4 parts;

중합 개시제(C): 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드Polymerization initiator (C): bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide

[이르가큐어(등록상표) 819; BASF 재팬(주) 제조] 8.6부;[Irgacure (R) 819; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 8.6 parts;

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 4.3부;[KAYACURE (TM) DETX-S; (Manufactured by Nippon Kayaku) 4.3 parts;

체질 안료(D) 분산액: PMA-ST; 닛산카가쿠(주) 제조 36부;Extender pigment (D) Dispersion: PMA-ST; 36 parts, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.;

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 530부; 및Solvent (E): 530 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.5부[Toray Silicone SH8400; 0.5 part (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 4를 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 4.

얻어진 감광성 수지 조성물 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 95.1 질량%이며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(용제(E2))의 비율은 4.9 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A2)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A2)/중합성 화합물(B))은 60/40이었다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition was 95.1 mass% and the ratio of propylene glycol monomethyl ether (solvent (E2)) was 4.9 mass% . The mass ratio (binder resin (A2) / polymerizable compound (B)) of the binder resin (A2) and the polymerizable compound (B) was 60/40.

실시예Example 5 5

[감광성 수지 조성물 5의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 5]

착색제(F): C.I. 피그먼트 블루 15:6 27부,Colorant (F): C.I. Pigment Blue 15: 6 27 parts,

착색제(F): C.I. 피그먼트 바이올렛 23 0.5부,Colorant (F): C.I. 0.5 parts of Pigment Violet 23,

아크릴계 안료 분산제 10부,10 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A1) 용액 24.7부24.7 parts of a binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 7.4부), 및(Binder resin (A1), 7.4 parts), and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 140부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 140 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A1) 용액 245부245 parts of the binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 73.5부);(Binder resin (A1) 73.5 parts);

중합성 화합물(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트Polymerizable compound (B): dipentaerythritol hexaacrylate

[KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼카야쿠(주) 제조] 27부;[KAYARAD (TM) DPHA; (Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 5.4부;[Irgacure (R) OXE-01; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 5.4 parts;

중합 개시제(C): 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드Polymerization initiator (C): bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide

[이르가큐어(등록상표) 819; BASF 재팬(주) 제조] 8.6부;[Irgacure (R) 819; Manufactured by BASF Japan Ltd.) 8.6 parts;

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 4.3부;[KAYACURE (TM) DETX-S; (Manufactured by Nippon Kayaku) 4.3 parts;

체질 안료(D) 분산액: PMA-ST; 닛산카가쿠(주) 제조 36부;Extender pigment (D) Dispersion: PMA-ST; 36 parts, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.;

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 494부; 및Solvent (E): 494 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.5부[Toray Silicone SH8400; 0.5 part (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 5를 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 5.

얻어진 감광성 수지 조성물 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 93.8 질량%이며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(용제(E2))의 비율은 6.2 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A1)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A1)/중합성 화합물(B))은 75/25였다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition was 93.8 mass% and the proportion of propylene glycol monomethyl ether (solvent (E2)) was 6.2 mass% . The mass ratio (binder resin (A1) / polymerizable compound (B)) of the binder resin (A1) and the polymerizable compound (B) was 75/25.

실시예Example 6 6

[감광성 수지 조성물 6의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 6]

착색제(F): C.I. 피그먼트 블루 15:6 27부,Colorant (F): C.I. Pigment Blue 15: 6 27 parts,

착색제(F): C.I. 피그먼트 바이올렛 23 0.5부,Colorant (F): C.I. 0.5 parts of Pigment Violet 23,

아크릴계 안료 분산제 10부,10 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A1) 용액 27.7부27.7 parts of a binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 8.3부), 및(Binder resin (A1) 8.3 parts), and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 140부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 140 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A1) 용액 227부227 parts of the binder resin (A1) solution

(바인더 수지(A1) 68.1부);(68.1 parts of binder resin (A1));

중합성 화합물(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트Polymerizable compound (B): dipentaerythritol hexaacrylate

[KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼카야쿠(주) 제조] 32부;[KAYARAD (TM) DPHA; (Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 5.8부;[Irgacure (R) OXE-01; BASF Japan Ltd.) 5.8 parts;

중합 개시제(C): 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드Polymerization initiator (C): bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide

[이르가큐어(등록상표) 819; BASF 재팬(주) 제조] 9.4부;[Irgacure (R) 819; 9.4 parts; manufactured by BASF Japan Co., Ltd.);

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 4.7부;[KAYACURE (TM) DETX-S; 4.7 parts; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

체질 안료(D) 분산액: PMA-ST; 닛산카가쿠(주) 제조 36부;Extender pigment (D) Dispersion: PMA-ST; 36 parts, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.;

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르 190부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether 190 parts

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 317부; 및Solvent (E): 317 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.5부[Toray Silicone SH8400; 0.5 part (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.)

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 6을 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 6.

얻어진 감광성 수지 조성물 6 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 71.2 질량%이며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르(용제(E2))의 비율은 28.9 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A1)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A1)/중합성 화합물(B))은 70/30였다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition 6 was 71.2 mass%, the proportion of propylene glycol monomethyl ether (solvent (E2)) was 28.9 mass% Respectively. The mass ratio (binder resin (A1) / polymerizable compound (B)) of the binder resin (A1) and the polymerizable compound (B) was 70/30.

비교예Comparative Example 1 One

[감광성 수지 조성물 7의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 7]

일본 특허 공개 제2011-221310호 공보 실시예 1에 따라 감광성 수지 조성물 7을 얻었다.Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-221310 A photosensitive resin composition 7 was obtained in accordance with Example 1.

실시예Example 7 7

[감광성 수지 조성물 8의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 8]

착색제(F): C.I. 피그먼트 블루 15:6 26부,Colorant (F): C.I. Pigment Blue 15: 6 26 parts,

착색제(F): 화학식 (F1)로 표시되는 화합물 6.4부,Colorant (F): 6.4 parts of a compound represented by the formula (F1)

아크릴계 안료 분산제 9.0부,9.0 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A4) 용액 26.7부Binder resin (A4) solution 26.7 parts

(바인더 수지(A4) 10부),(10 parts of binder resin (A4)),

용제(E): 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 31부, 및Solvent (E): 31 parts of 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 282부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 282 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A3) 용액 108부108 parts of the binder resin (A3) solution

(바인더 수지(A3) 36.3부);(36.3 parts of binder resin (A3));

중합성 화합물(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트Polymerizable compound (B): dipentaerythritol hexaacrylate

[KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼카야쿠(주) 제조] 47부;[KAYARAD (TM) DPHA; (Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 9.3부;[Irgacure (R) OXE-01; 9.3 parts by BASF Japan Co., Ltd.);

중합 개시제(C): 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온Polymerization initiator (C): 2-Methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-

[이르가큐어 907; BASF 재팬(주) 제조] 1.9부;[Irgacure 907; 1.9 parts; manufactured by BASF Japan Ltd.);

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 5.6부;[KAYACURE (TM) DETX-S; 5.6 parts; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

체질 안료(D) 분산액: PMA-ST; 닛산카가쿠(주) 제조 37부;Extender pigment (D) Dispersion: PMA-ST; 37 parts, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.;

용제(E): 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 168부Solvent (E): 168 parts of 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 260부; 및Solvent (E): 260 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.1부[Toray Silicone SH8400; (Manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.1 part

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 8을 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 8.

얻어진 감광성 수지 조성물 8 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 75.7 질량%이며, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논(용제(E2))의 비율은 24.3 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A3)와 바인더 수지(A4)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A3)/바인더 수지(A4)/중합성 화합물(B))은 11/39/50이었다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition 8 was 75.7% by mass, and the content of 4-hydroxy- )) Was 24.3% by mass. The mass ratio (binder resin (A3) / binder resin (A4) / polymerizable compound (B)) of the binder resin (A3), the binder resin (A4) and the polymerizable compound (B) was 11/39/50 .

실시예Example 8 8

[감광성 수지 조성물 9의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 9]

착색제(F): C.I. 피그먼트 블루 15:6 26부,Colorant (F): C.I. Pigment Blue 15: 6 26 parts,

착색제(F): 화학식 (F1)로 표시되는 화합물 6.4부,Colorant (F): 6.4 parts of a compound represented by the formula (F1)

아크릴계 안료 분산제 9.0부,9.0 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A4) 용액 26.7부Binder resin (A4) solution 26.7 parts

(바인더 수지(A4) 10부),(10 parts of binder resin (A4)),

용제(E): 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 31부 및Solvent (E): 31 parts of 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 282부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 282 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A4) 용액 97부Binder resin (A4) solution 97 parts

(바인더 수지(A4) 36.4부);(36.4 parts of binder resin (A4));

중합성 화합물(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트Polymerizable compound (B): dipentaerythritol hexaacrylate

[KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼카야쿠(주) 제조] 47부;[KAYARAD (TM) DPHA; (Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 9.3부;[Irgacure (R) OXE-01; 9.3 parts by BASF Japan Co., Ltd.);

중합 개시제(C): 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온Polymerization initiator (C): 2-Methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-

[이르가큐어 907; BASF 재팬(주) 제조] 1.9부;[Irgacure 907; 1.9 parts; manufactured by BASF Japan Ltd.);

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 5.6부;[KAYACURE (TM) DETX-S; 5.6 parts; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

체질 안료(D) 분산액: PMA-ST; 닛산카가쿠(주) 제조 37부;Extender pigment (D) Dispersion: PMA-ST; 37 parts, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.;

용제(E): 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 168부Solvent (E): 168 parts of 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 272부; 및Solvent (E): 272 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.1부[Toray Silicone SH8400; (Manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.1 part

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 9를 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 9.

얻어진 감광성 수지 조성물 9 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 75.7 질량%이며, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논(용제(E2))의 비율은 24.3 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A4)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A4)/중합성 화합물(B))은 50/50이었다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition 9 was 75.7% by mass, and the content of 4-hydroxy- )) Was 24.3% by mass. The mass ratio of the binder resin (A4) to the polymerizable compound (B) (binder resin (A4) / polymerizable compound (B)) was 50/50.

비교예Comparative Example 2 2

[감광성 수지 조성물 10의 조제][Preparation of photosensitive resin composition 10]

착색제(F): C.I. 피그먼트 블루 15:6 26부,Colorant (F): C.I. Pigment Blue 15: 6 26 parts,

착색제(F): 화학식 (F1)로 표시되는 화합물 6.4부,Colorant (F): 6.4 parts of a compound represented by the formula (F1)

아크릴계 안료 분산제 4.3부,4.3 parts of an acrylic pigment dispersant,

바인더 수지(A4) 용액 32부Binder resin (A4) solution 32 parts

(바인더 수지(A4) 12부),(Binder resin (A4) 12 parts),

용제(E): 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 29부 및Solvent (E): 29 parts of 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone and

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 243부Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate 243 parts

를 혼합하고, 비드 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액;A pigment dispersion in which the pigment is sufficiently dispersed by using a bead mill;

바인더 수지(A4) 용액 121부Binder resin (A4) solution 121 parts

(바인더 수지(A4) 45.4부);(Binder resin (A4) 45.4 parts);

중합성 화합물(B): 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트Polymerizable compound (B): dipentaerythritol hexaacrylate

[KAYARAD(등록상표) DPHA; 니혼카야쿠(주) 제조] 52부;[KAYARAD (TM) DPHA; 52 parts manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.;

중합 개시제(C): N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민Polymerization initiator (C): N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octan-1-

[이르가큐어(등록상표) OXE-01; BASF 재팬(주) 제조] 11부;[Irgacure (R) OXE-01; 11 parts by BASF Japan Ltd.);

중합 개시제(C): 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온Polymerization initiator (C): 2-Methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan-

[이르가큐어 907; BASF 재팬(주) 제조] 2.1부;[Irgacure 907; 2.1 parts by BASF Japan Co., Ltd.);

중합 개시 조제(C): 디에틸티오크산톤Polymerization initiator (C): Diethyl thioxanthone

[KAYACURE(등록상표) DETX-S; 니혼카야쿠(주) 제조] 6.3부;[KAYACURE (TM) DETX-S; (Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.);

용제(E): 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논 168부Solvent (E): 168 parts of 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 320부; 및Solvent (E): 320 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate; And

계면활성제: 폴리에테르 변성 실리콘 오일Surfactant: polyether-modified silicone oil

[도레이실리콘 SH8400; 도레이 다우코닝(주) 제조] 0.1부[Toray Silicone SH8400; (Manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) 0.1 part

를 혼합하여 감광성 수지 조성물 10을 얻었다.To obtain a photosensitive resin composition 10.

얻어진 감광성 수지 조성물 10 중의 전체 용제(E)에서 차지하는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(용제(E1))의 비율은 75.8 질량%이며, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논(용제(E2))의 비율은 24.2 질량%였다. 또한, 바인더 수지(A4)와 중합성 화합물(B)의 질량 비율(바인더 수지(A4)/중합성 화합물(B))은 50/50이었다.The proportion of propylene glycol monomethyl ether acetate (solvent (E1)) in the total solvent (E) in the obtained photosensitive resin composition 10 was 75.8 mass%, and the content of 4-hydroxy-4-methyl- )) Was 24.2% by mass. The mass ratio of the binder resin (A4) to the polymerizable compound (B) (binder resin (A4) / polymerizable compound (B)) was 50/50.

<패턴의 제작><Fabrication of pattern>

1변이 2인치인 정사각형 유리 기판 상에, 감광성 수지 조성물을 스핀 코트법으로 도포한 후, 100℃에서 3분간 프리베이크하여 건조막을 형성하였다. 방냉 후, 상기 기판 상에 형성된 건조막에, 이 건조막과의 간격이 100 ㎛가 되도록 배치된 석영 유리제 포토마스크를 통해 노광기[TME-150 RSK; 탑콘(주) 제조]를 이용하여, 대기 분위기 하, 50 mJ/㎠의 노광량(365 ㎚ 기준)으로 광조사하였다. 포토마스크로서는, 50 ㎛ 라인 앤드 스페이스 패턴이 형성된 것을 사용하였다. 광조사 후, 얻어진 노광막을, 비이온계 계면활성제 0.12%와 탄산나트륨 2%를 포함하는 수계 현상액에 24℃에서 60초간 침지하여 현상하고, 수세한 후, 오븐 안, 230℃에서 30분간 포스트베이크를 행하여 패턴을 얻었다.The photosensitive resin composition was coated on a square glass substrate having one side of 2 inches by spin coating, and then prebaked at 100 캜 for 3 minutes to form a dried film. After cooling, the resist film was exposed to a dry film formed on the substrate through a quartz glass photomask so that the distance between the film and the dry film was 100 mu m, using an exposure machine (TME-150 RSK; (Manufactured by Topcon Co., Ltd.) at an exposure amount of 50 mJ / cm &lt; 2 &gt; (based on 365 nm) in an air atmosphere. As the photomask, a 50 占 퐉 line and space pattern was formed. After the light irradiation, the obtained exposure film was immersed in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 2% of sodium carbonate at 24 DEG C for 60 seconds for development, rinsed and postbaked in an oven at 230 DEG C for 30 minutes And a pattern was obtained.

<해상도 평가><Evaluation of resolution>

얻어진 패턴을 레이저 현미경(Axio Imager MAT 칼자이스사 제조)으로 관찰하고, 해상하고 있는 최소 치수를 해상도로 하였다. 해상도가 높을수록 고선명 컬러 필터의 제조에 이용할 수 있다.The obtained pattern was observed with a laser microscope (manufactured by Carl Zeiss, Axio Imager MAT), and the minimum resolution was determined as the resolution. The higher the resolution, the more usable for the production of high-definition color filters.

<현상 얼룩 평가>&Lt; Evaluation of development unevenness &

얻어진 패턴을 레이저 현미경(Axio Imager MAT 칼자이스사 제조)으로 관찰하고, 패턴 상에 물 얼룩이 없는 것을 ○(현상 얼룩이 보이지 않음), 물 얼룩이 있는 것을 ×(현상 얼룩이 보임)로서 평가하였다. 현상 얼룩이 보이는 경우, 컬러 필터의 제조에 이용할 때에, 색 얼룩이 발생한다.The obtained pattern was observed with a laser microscope (Axio Imager MAT manufactured by Carl Zeiss Co.), and those having no water unevenness were evaluated as &amp; cir &amp; (no developing unevenness was observed) and those having water unevenness were evaluated as x (developing unevenness). When development unevenness is seen, color unevenness occurs when used for manufacturing a color filter.

<내용제성 평가><Evaluation of solvent resistance>

상기 기판 상에 형성된 패턴에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 1 ㎖ 적하하여 30초간 정지시킨 후, 스핀 코터를 이용하여 회전수 1000 rpm으로 10초간 회전시켜, 패턴 상의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 털어내었다.One milliliter of propylene glycol monomethyl ether acetate was added dropwise to the pattern formed on the substrate, and the mixture was kept at rest for 30 seconds and then rotated at a rotation speed of 1000 rpm for 10 seconds using a spin coater to remove the patterned propylene glycol monomethyl ether acetate .

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 접촉 전후에 측정한 막 두께 값으로부터 하기 식에 따라 막 두께 유지율을 계산하였다. 막 두께 유지율이 높을수록 경화성이 양호하며, 컬러 필터의 제조에 이용할 때에, 혼색을 막을 수 있어, 현상 얼룩이 개선된다.The film thickness retention ratio was calculated from the film thickness values measured before and after the contact with propylene glycol monomethyl ether acetate according to the following formula. The higher the film thickness retention ratio is, the better the curability is, and when used in the production of a color filter, the color mixing can be prevented and the development unevenness is improved.

(막 두께 유지율)(%)=(접촉 후의 막 두께)/(접촉 전의 막 두께)(Film thickness retention) (%) = (film thickness after contact) / (film thickness before contact)

<전면 노광 현상막의 제작>&Lt; Fabrication of front exposure film &

1변이 2인치인 정사각형 유리판 상에 PET 필름(도레이 제조 루미라 75-T60)을 접합하여 기판을 제작하였다. 기판의 PET 필름 측에, 감광성 수지 조성물을 스핀 코트법에 의해 도포하고, 핫 플레이트 상, 80℃에서 2분간 프리베이크하였다. 방냉 후, 상기 기판 상에 형성된 건조막의 전면에, 노광기[TME-150RSK; 탑콘(주) 제조]를 이용하여 대기 분위기 하, 150 mJ/㎠의 노광량(365 ㎚ 기준)으로 광조사하였다. 광조사 후, 비이온계 계면활성제 0.12%와 수산화칼륨 0.04%를 포함하는 수계 현상액에, 23℃에서 50초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정함으로써, 전면 노광 현상막을 얻었다. 얻어진 전면 노광 현상막을, 막 두께 측정 장치[DEKTAK3; (주)알박 제조]를 이용하여 측정한 결과, 2 ㎛였다.A PET film (Lumira 75-T60 manufactured by Toray Industries, Inc.) was bonded to a square glass plate having a side of 2 inches on each side to prepare a substrate. On the PET film side of the substrate, the photosensitive resin composition was applied by a spin coat method and prebaked on a hot plate at 80 DEG C for 2 minutes. After cooling down, on the entire surface of the dried film formed on the substrate, an exposure machine (TME-150RSK; (Manufactured by Topcon Co., Ltd.) at an exposure amount of 150 mJ / cm &lt; 2 &gt; (based on 365 nm) in an air atmosphere. After light irradiation, the resist film was immersed in an aqueous developing solution containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at 23 DEG C for 50 seconds, developed and washed with pure water to obtain a front exposure film. The obtained front exposure developing film was measured with a film thickness measuring device [DEKTAK3; (Manufactured by ULVAC Co., Ltd.), and found to be 2 탆.

<크로스컷 시험>&Lt; Crosscut test >

얻어진 전면 노광 현상막에 대해서, JIS K5600-5-6에 준한 테이프 박리 시험(크로스컷 시험)을 행하여 PET 필름과의 밀착성을 평가하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.The obtained front exposure film was subjected to a tape peeling test (cross-cut test) in accordance with JIS K5600-5-6 to evaluate the adhesion to the PET film. The results are shown in Table 1.

<연필 경도><Pencil hardness>

얻어진 전면 노광 현상막에 대해서, JIS-K5400에 준한 연필 경도의 측정을, 연필 긁힘 경도 시험기(가부시키가이샤 야스다세이키 세이사쿠쇼 제조)를 이용하여 행하였다. 또한, 하중은 1,000 g으로 하였다.The obtained pencil hardness according to JIS-K5400 was measured using a pencil scratch hardness tester (manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.). The load was 1,000 g.

<점착성 평가>&Lt; Evaluation of stickiness &

1변이 5 cm인 정사각형 PET 필름(도레이(주) 제조 루미라 75-T60)에, 감광성 수지 조성물을 필름 어플리케이터(타이유키자이 가부시키가이샤 제조 AP75)를 이용하여 도포하고, 핫 플레이트 상, 80℃에서 2분간 프리베이크하였다. 방냉 후, 상기 1변이 5 cm인 정사각형 PET 필름 상에 형성된 건조막에, 다른 1변이 5 cm인 PET 필름(도레이(주) 제조 루미라 75-T-60)을 압착시킨 후, 이 압착시킨 PET 필름을 박리하였다. 건조막에 얼룩이 없고, 또한, 박리한 PET 필름에 전사가 없는 것을 ○(점착성이 보이지 않음), 건조막에 얼룩이 있고, 또한, 박리한 PET 필름에 전사가 있는 것을 ×(점착성이 보임)로서 평가하였다. 점착성이 보이는 경우, 컬러 필터의 제조에 이용할 때에, 색 얼룩이 발생한다.A photosensitive resin composition was applied to a square PET film (Rumira 75-T60, manufactured by Toray Co., Ltd.) having a side length of 5 cm using a film applicator (AP75 manufactured by Tai Yuki Kaisha K.K.) Lt; / RTI &gt; for 2 minutes. After cooling, a PET film (Lumira 75-T-60 manufactured by Toray Industries, Inc.) having another 5 cm side was pressed onto the dried film formed on the square PET film with the side of 5 cm on one side, The film was peeled off. (No stickiness was observed), no dried film was uneven and no peeling was observed on the peeled PET film, and the peeling of the peeled PET film was evaluated as x (stickiness) Respectively. When stickiness is seen, color unevenness occurs when used in the production of color filters.

Figure pat00027
Figure pat00027

본 발명에 따르면, 만족할 수 있는 저점착성을 갖는 건조막을 부여하고, 또한, 만족할 수 있는 경도를 갖는 패턴을 부여하는 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있게 된다.INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it becomes possible to provide a photosensitive resin composition which gives a dry film having satisfactory low tackiness and which gives a pattern having satisfactory hardness.

본 발명의 감광성 수지 조성물을 이용함으로써, 현상 얼룩이 개선된 해상도가 높은 패턴을 얻을 수 있다. 본 발명에 의해 얻어지는 패턴은, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치, 전자 페이퍼 표시 장치 등에 이용하는 표시용 컬러 필터로서 유용하다.By using the photosensitive resin composition of the present invention, it is possible to obtain a pattern with high resolution and improved unevenness in development. The pattern obtained by the present invention is useful as a display color filter for use in a liquid crystal display, an organic EL display, an electronic paper display, or the like.

Claims (10)

바인더 수지(A), 중합성 화합물(B), 중합 개시제(C), 체질 안료(D) 및 용제(E)를 포함하는 감광성 수지 조성물로서, 상기 용제(E)는, 용해도 파라미터가 8.0 ~ 9.1(cal/㎤)1/2인 용제(E1)를, 상기 용제(E)에 대하여, 70 ~ 99 질량% 포함하고, 용해도 파라미터가 9.2 ~ 11.0(cal/㎤)1/2인 용제(E2)를, 상기 용제(E)에 대하여, 1 ~ 30 질량% 포함하는 용제인 감광성 수지 조성물.A photosensitive resin composition comprising a binder resin (A), a polymerizable compound (B), a polymerization initiator (C), an extender pigment (D) and a solvent (E), wherein the solvent (E) has a solubility parameter of 8.0 to 9.1 solvents (E2) (cal / ㎤) 1/2 of the solvent (E1) for, with respect to the solvent (E), and contains 70 to 99% by weight, the solubility parameter is 9.2 ~ 11.0 (cal / ㎤) 1/2 Is contained in an amount of 1 to 30% by mass with respect to the solvent (E). 제1항에 있어서, 상기 중합 개시제(C)가 옥심 화합물인 감광성 수지 조성물.The photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the polymerization initiator (C) is an oxime compound. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 바인더 수지(A)의 산가가 50 ~ 180 mg-KOH/g인 감광성 수지 조성물.The photosensitive resin composition according to claim 1 or 2, wherein the acid value of the binder resin (A) is 50 to 180 mg-KOH / g. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 바인더 수지(A)의 함유량이, 상기 바인더 수지(A) 및 상기 중합성 화합물(B)의 합계량 100 질량부에 대하여, 30 ~ 80 질량부인 감광성 수지 조성물.The toner according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the binder resin (A) is 30 to 80 mass% (based on 100 parts by mass of the total amount of the binder resin (A) Lt; / RTI &gt; 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 체질 안료(D)가 산화규소인 감광성 수지 조성물.The photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the extender pigment (D) is silicon oxide. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 착색제를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.The photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 5, further comprising a colorant. 제6항에 있어서, 착색제가 안료를 포함하는 착색제인 감광성 수지 조성물.The photosensitive resin composition according to claim 6, wherein the coloring agent is a coloring agent comprising a pigment. 제6항 또는 제7항에 있어서, 착색제가 염료를 포함하는 착색제인 감광성 수지 조성물. The photosensitive resin composition according to claim 6 or 7, wherein the colorant is a colorant comprising a dye. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 감광성 수지 조성물에 의해 형성되는 패턴.A pattern formed by the photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 8. 제9항에 기재된 패턴을 포함하는 표시 장치.A display device comprising the pattern according to claim 9.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170112303A (en) * 2016-03-31 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR20210030885A (en) * 2019-09-09 2021-03-18 주식회사 에스지플렉시오 Optical Film and the Fabrication Method Thereof

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101391224B1 (en) * 2013-05-28 2014-05-02 동우 화인켐 주식회사 Photosensitive resin composition for spacer and spacer manufactured by the same
JP2015125235A (en) * 2013-12-26 2015-07-06 凸版印刷株式会社 Photosensitive composition for color filter for solid-state imaging device, color filter for solid-state imaging device, and solid-state imaging device
JP2016091015A (en) * 2014-10-31 2016-05-23 サカタインクス株式会社 Triarylmethane-based dye-containing colored composition for color filter and triarylmethane-based dye-containing resist composition for color filter comprising the colored composition
JP6634753B2 (en) * 2015-09-17 2020-01-22 東洋インキScホールディングス株式会社 Photosensitive coloring composition for color filter, method for producing photosensitive coloring composition, and color filter
KR102337048B1 (en) * 2016-03-31 2021-12-07 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 Colored curable resin composition, color filter and display apparatus comprizing the same
JP7043306B2 (en) * 2018-03-23 2022-03-29 株式会社ノリタケカンパニーリミテド Photosensitive compositions and their use

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010014779A (en) * 2008-07-01 2010-01-21 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive colored composition, color filter base and semi-transmissive liquid crystal display
JP2012149250A (en) * 2010-12-28 2012-08-09 Fujifilm Corp Titanium black dispersion composition, black radiation-sensitive composition containing the same, black cured film, solid state imaging element and method for producing black cured film
JP2012177911A (en) * 2011-02-04 2012-09-13 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Coloring composition for color filter, and color filter
JP2012215865A (en) * 2011-03-29 2012-11-08 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Red coloring composition for color filter and color filter

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG97168A1 (en) * 1999-12-15 2003-07-18 Ciba Sc Holding Ag Photosensitive resin composition
JP4837315B2 (en) * 2005-06-29 2011-12-14 凸版印刷株式会社 Photosensitive resin composition for photospacer and color filter for liquid crystal display device using the same
CN101114123B (en) * 2006-07-28 2011-11-02 富士胶片株式会社 Photo-setting property composition and color filter using the composition
KR100961818B1 (en) * 2007-02-21 2010-06-08 주식회사 엘지화학 Photo?sensitive resin composition for black matrix, black matrix produced by the composition and liquid crystal display including the black matrix
JP5284833B2 (en) * 2008-03-31 2013-09-11 富士フイルム株式会社 Photospacer manufacturing method
US8486591B2 (en) * 2008-10-24 2013-07-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition for color filter and color filter prepared using the same
JP5834379B2 (en) * 2009-06-25 2015-12-24 Jsr株式会社 Coloring composition, color filter and color liquid crystal display element
JP2011039165A (en) * 2009-08-07 2011-02-24 Hitachi Chem Co Ltd Alkali-soluble photocurable composition, cured coating film using the composition and transparent member
JP2011122005A (en) * 2009-12-08 2011-06-23 Sony Corp Anti-reflection film, method for producing the same, and coating liquid of ultraviolet-curable resin material composition
JP5690490B2 (en) * 2010-02-18 2015-03-25 東京応化工業株式会社 Photosensitive composition
JP2011221310A (en) * 2010-04-09 2011-11-04 Fujifilm Corp Photocuring blue colorant composition for color filter, color filter, manufacturing method for color filter and a liquid crystal display apparatus
JP6113078B2 (en) * 2011-01-18 2017-04-12 エルジー・ケム・リミテッド Photosensitive resin composition, photosensitive material and method for producing photosensitive material
JP5211307B2 (en) * 2011-03-04 2013-06-12 東洋インキScホールディングス株式会社 Photosensitive composition
JP2014122926A (en) * 2011-03-31 2014-07-03 Asahi Glass Co Ltd Photosensitive composition for negative type and coating film
CN103502888B (en) * 2011-04-28 2016-05-25 旭硝子株式会社 Negative light-sensitive resin combination, cured film, partition wall and black matrix" and manufacture method thereof, colour filter and organic EL
JP5539429B2 (en) * 2012-03-19 2014-07-02 富士フイルム株式会社 Colored photosensitive composition, color filter, method for producing color filter, and liquid crystal display device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010014779A (en) * 2008-07-01 2010-01-21 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive colored composition, color filter base and semi-transmissive liquid crystal display
JP2012149250A (en) * 2010-12-28 2012-08-09 Fujifilm Corp Titanium black dispersion composition, black radiation-sensitive composition containing the same, black cured film, solid state imaging element and method for producing black cured film
JP2012177911A (en) * 2011-02-04 2012-09-13 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Coloring composition for color filter, and color filter
JP2012215865A (en) * 2011-03-29 2012-11-08 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Red coloring composition for color filter and color filter

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170112303A (en) * 2016-03-31 2017-10-12 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR20210030885A (en) * 2019-09-09 2021-03-18 주식회사 에스지플렉시오 Optical Film and the Fabrication Method Thereof

Also Published As

Publication number Publication date
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KR102128122B1 (en) 2020-06-29
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