KR101795815B1 - Colored photosensitive composition - Google Patents

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Abstract

과제
적색 필터와의 색분리능이 우수한 녹색의 컬러 필터를 얻을 수 있는 착색 감광성 조성물을 제공하는 것.
해결 수단
착색제, 중합성 화합물, 중합 개시제 및 용제를 함유하고, 착색제가 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료와, 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료와, 퀴노프탈론 안료를 함유하는 착색 감광성 조성물.
assignment
Provided is a colored photosensitive composition capable of obtaining a green color filter excellent in color separation ability from a red filter.
Solution
A colorant, a polymerizable compound, a polymerization initiator and a solvent, wherein the colorant contains a halogenated copper phthalocyanine pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment, and a quinophthalone pigment.

Description

착색 감광성 조성물{COLORED PHOTOSENSITIVE COMPOSITION}COLORED PHOTOSENSITIVE COMPOSITION [0002]

본 발명은 액정 표시 소자나 고체 촬상 소자에 사용되는 컬러 필터를 구성하는 착색 화상의 형성에 바람직한 착색 감광성 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to a colored photosensitive composition suitable for forming a colored image constituting a color filter used for a liquid crystal display element or a solid-state image pickup element.

액정 표시 패널, 일렉트로루미네선스 패널, 플라즈마 디스플레이 패널 등의 디스플레이 장치에 사용되는 컬러 필터는, 착색 감광성 조성물을 사용하여 제조된다. 이와 같은 착색 감광성 조성물로는, 착색제, 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 함유하고, 착색제가 C.I.피그먼트 그린 36 및 C.I.피그먼트 옐로우 150 인 조성물이 알려져 있다 (특허문헌 1).Color filters used in display devices such as liquid crystal display panels, electroluminescence panels, and plasma display panels are manufactured using colored photosensitive compositions. Such a colored photosensitive composition includes a colorant, a resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent, wherein the colorant is CI Pigment Green 36 and CI Pigment Yellow 150 (Patent Document 1).

일본 공개특허공보 제2005-157311호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-157311

상기 착색 감광성 조성물을 사용하여 형성된 녹색의 컬러 필터에서는, 적색 필터와의 색분리능에 대해, 반드시 충분히 만족시킬 수 있는 것은 아니었다. The green color filter formed using the above-mentioned colored photosensitive composition is not necessarily satisfactory enough for the color separation performance with the red filter.

본 발명은, 이하의[1]∼[8]을 제공하는 것이다. The present invention provides the following [1] to [8].

[1]착색제, 중합성 화합물, 중합 개시제 및 용제를 함유하고, 착색제가 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료와, 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료와, 퀴노프탈론 안료를 함유하는 착색제인 착색 감광성 조성물.[1] A colored photosensitive composition comprising a colorant, a polymerizable compound, a polymerization initiator, and a solvent, wherein the colorant is a colorant containing a halogenated copper phthalocyanine pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment, and a quinophthalone pigment.

[2]할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료의 함유량이 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료의 함유량 100 질량부에 대해, 20 질량부 이상 150 질량부 이하인 상기[1]에 기재된 착색 감광성 조성물.[2] The colored photosensitive composition according to the above [1], wherein the content of the copper halide phthalocyanine pigment is 20 parts by mass or more and 150 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the zinc halphthalocyanine pigment.

[3]퀴노프탈론 안료의 함유량이 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료의 함유량 100 질량부에 대해, 50 질량부 이상 200 질량부 이하인 상기[1]에 기재된 착색 감광성 조성물.[3] The colored photosensitive composition according to the above [1], wherein the content of the quinophthalone pigment is 50 parts by mass or more and 200 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the zinc phthalocyanine pigment.

[4]할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료의 함유량이 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료의 함유량 100 질량부에 대해, 20 질량부 이상 150 질량부 이하이며, 또한 퀴노프탈론 안료의 함유량이 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료의 함유량 100 질량부에 대해, 50 질량부 이상 200 질량부 이하인 상기[1]에 기재된 착색 감광성 조성물.[4] The image forming method according to any one of [1] to [4], wherein the content of the copper halide phthalocyanine pigment is 20 parts by mass or more and 150 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the zinc phthalocyanine pigment, and the content of the quinophthalone pigment is 100 parts by mass Is not less than 50 parts by mass and not more than 200 parts by mass based on 100 parts by mass of the colorant.

[5]할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료가 C.I.피그먼트 그린 7 인 상기[1]∼[4]중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 조성물.[5] The colored photosensitive composition according to any one of [1] to [4], wherein the halogenated copper phthalocyanine pigment is CI Pigment Green 7.

[6]퀴노프탈론 안료가 C.I.피그먼트 옐로우 138 인 상기[1]∼[3]중 어느 한 항에 기재된 착색 감광 수지성 조성물.[6] The colored photosensitive resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the quinophthalone pigment is CI Pigment Yellow 138.

[7]착색제, 중합성 화합물, 중합 개시제, 용제 및 수지를 함유하는 상기[1]∼[6]중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 조성물.[7] The colored photosensitive composition according to any one of [1] to [6], which contains a colorant, a polymerizable compound, a polymerization initiator, a solvent and a resin.

[8]상기[1]∼[7]중 어느 한 항에 기재된 착색 감광성 조성물로 형성된 컬러 필터.[8] A color filter formed from the colored photosensitive composition according to any one of [1] to [7].

본 발명의 착색 감광성 조성물에 의하면, 적색 필터와의 색분리능이 우수한 녹색 컬러 필터를 얻을 수 있게 된다. According to the colored photosensitive composition of the present invention, it is possible to obtain a green color filter excellent in color separation ability from a red filter.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 착색제 (A), 중합성 화합물 (C), 중합 개시제 (D) 및 용제 (E) 를 함유하고, 착색제가 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료와, 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료와, 퀴노프탈론 안료를 함유하는 착색 감광성 조성물이다. 본 발명의 착색 감광성 조성물은 수지 (B) 를 함유하는 것이 바람직하다. The colored photosensitive composition of the present invention comprises a colorant (A), a polymerizable compound (C), a polymerization initiator (D) and a solvent (E), wherein the colorant is a halogenated copper phthalocyanine pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment, Is a colored photosensitive composition containing a pigment. The colored photosensitive composition of the present invention preferably contains the resin (B).

또한, 본 명세서에 있어서는, 각 성분으로서 예시하는 화합물은 특별한 언급이 없는 한, 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. In the present specification, the compounds exemplified as respective components can be used alone or in combination, unless otherwise specified.

본 발명의 착색 감광성 조성물에 사용되는 착색제 (A) 는, 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료와, 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료와, 퀴노프탈론 안료를 함유한다. The colorant (A) used in the colored photosensitive composition of the present invention contains a halogenated copper phthalocyanine pigment, a zinc halide phthalocyanine pigment, and a quinophthalone pigment.

할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료로는 염소화 구리 프탈로시아닌 안료가 바람직하고, C.I.피그먼트 그린 7 이 보다 바람직하다. 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료가 상기 안료이면, 600 ㎚ 부근의 투과율을 낮게 할 수 있기 때문에 적색 필터와의 색분리능이 우수하다. As copper halide copper phthalocyanine pigments, chlorinated copper phthalocyanine pigments are preferable, and C. I. Pigment Green 7 is more preferable. If the halogenated copper phthalocyanine pigment is the above-mentioned pigment, the transmittance in the vicinity of 600 nm can be lowered, so that the color separating ability with the red filter is excellent.

할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료로는 C.I.피그먼트 그린 58 이 바람직하다.CI Pigment Green 58 is preferable as the zinc halide phthalocyanine pigment.

할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료의 함유량은 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료의 함유량 100 질량부에 대해, 20 질량부 이상 150 질량부 이하인 것이 바람직하고, 80 질량부 이상 120 질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료의 함유량이 상기 범위이면, 520 ㎚ 에 있어서의 투과율을 높게 유지한 상태에서, 600 ㎚ 부근의 투과율을 낮게 할 수 있기 때문에 적색 필터와의 색분리능이 우수하고, 또한 고명도인 녹색 필터를 얻을 수 있다. 이와 같은 녹색 필터를, 액정 표시 장치 등의 표시 장치의 녹색 화소에 형성되는 컬러 필터로서 사용한 경우, 그 표시 장치의 색재현성을 향상시킬 수 있다. The content of the halogenated copper phthalocyanine pigment is preferably 20 parts by mass or more and 150 parts by mass or less, more preferably 80 parts by mass or more and 120 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the zinc halphthalocyanine pigment. When the content of the copper phthalocyanine halide pigment is within the above range, the transmittance in the vicinity of 600 nm can be lowered while the transmittance at 520 nm is maintained at a high level. Therefore, the color separating ability with respect to the red filter is excellent, A filter can be obtained. When such a green filter is used as a color filter formed in a green pixel of a display device such as a liquid crystal display device, the color reproducibility of the display device can be improved.

착색제 (A) 는 추가로 퀴노프탈론 안료를 함유한다. 퀴노프탈론 안료의 함유량은, 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료의 함유량 100 질량부에 대해, 50 질량부 이상 200 질량부 이하인 것이 바람직하고, 120 질량부 이상 200 질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 퀴노프탈론 안료로는, C.I.피그먼트 옐로우 138 이 바람직하다. 상기와 같은 퀴노프탈론 안료를 함유함으로써, 청색 필터와의 색분리능이 우수한 경향이 있다. The colorant (A) further contains a quinophthalone pigment. The content of the quinophthalone pigment is preferably 50 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, more preferably 120 parts by mass or more and 200 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the zinc halphthalocyanine pigment. As the quinophthalone pigment, CI Pigment Yellow 138 is preferable. The inclusion of the quinophthalone pigment as described above tends to provide an excellent color separation capability with the blue filter.

상기 안료는 필요에 따라, 로진 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입된 안료 유도체나 안료 분산제 등을 사용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에 대한 그래프트 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리, 이온성 불순물의 이온 교환법 등에 의한 제거 처리 등이 실시되어 있어도 된다. 또, 안료는 입경이 균일한 것이 바람직하다. 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리를 실시함으로써, 안료가 용액 중에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다. The pigment may be subjected to a surface treatment using a pigment derivative or a pigment dispersant into which a rosin treatment, an acidic group or a basic group is introduced, a graft treatment on the surface of the pigment with a polymer compound or the like, an atomization treatment such as a sulfuric acid atomization method, A cleaning treatment with an organic solvent or water for removal, a removal treatment with an ion exchange method of ionic impurities, or the like may be performed. It is preferable that the pigment has a uniform particle size. By containing the pigment dispersant and carrying out the dispersion treatment, a pigment dispersion in which the pigment is uniformly dispersed in the solution can be obtained.

상기 안료 분산제로는, 시판되는 계면활성제를 사용할 수 있다. 계면활성제로는, 예를 들어, 실리콘계, 불소계, 에스테르계, 카티온계, 아니온계, 노니온계, 양성, 폴리에스테르계, 폴리아민계, 아크릴계 및 우레탄계의 계면활성제를 들 수 있다. 상기 계면활성제로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 폴리에틸렌글리콜디에스테르류, 소르비탄 지방산 에스테르류, 지방산 변성 폴리에스테르류, 3 급 아민 변성 폴리우레탄류, 폴리에틸렌이민류 등 외에, 상품명으로 KP (신에츠 화학 공업 (주) 제조), 플로우렌 (쿄에이샤 화학 (주) 제조), 솔스퍼스 (제네카 (주) 제조), EFKA (CIBA 사 제조), 아지스파 (아지노모토 파인 테크노 (주) 제조), Disperbyk (빅케미사 제조) 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. As the pigment dispersing agent, commercially available surfactants can be used. Examples of the surfactant include silicon surfactants, fluorine surfactants, ester surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants, polyester surfactants, polyamines surfactants, acrylic surfactants and urethane surfactants. Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkylphenyl ethers, polyethylene glycol diesters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid modified polyesters, tertiary amine modified polyurethanes, polyethyleneimines (Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Fluren (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Solsperse (manufactured by Zeneca), EFKA (manufactured by CIBA) (Manufactured by Fine Techno Co., Ltd.), and Disperbyk (manufactured by Big Chemical). These may be used alone or in combination of two or more.

안료 분산제를 사용하는 경우, 그 사용량은 안료의 총 질량에 대해, 바람직하게는 100 질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 5 ∼ 50 질량% 이다. 안료 분산제의 사용량이 상기 범위에 있으면, 균일한 분산 상태의 안료 분산액이 얻어지는 경향이 있다. When a pigment dispersant is used, its amount to be used is preferably 100% by mass or less, more preferably 5 to 50% by mass, based on the total mass of the pigment. When the amount of the pigment dispersant is in the above range, a pigment dispersion in a uniformly dispersed state tends to be obtained.

착색제 (A) 의 함유량은 착색 감광성 조성물의 고형분에 대해, 바람직하게는 5 ∼ 60 질량% 이며, 보다 바람직하게는 5 ∼ 45 질량% 이다. 상기 범위이면, 소망으로 하는 분광이나 색농도를 얻을 수 있다. 여기서, 고형분이란, 착색 감광성 조성물로부터 용제를 제외한 양의 합계를 말한다. The content of the colorant (A) is preferably 5 to 60% by mass, and more preferably 5 to 45% by mass, based on the solid content of the colored photosensitive composition. Within the above range, desired spectral or color density can be obtained. Here, the solid content refers to the sum of the amounts excluding the solvent from the colored photosensitive composition.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 수지 (B) 를 함유하는 것이 바람직하다.The colored photosensitive composition of the present invention preferably contains the resin (B).

본 발명의 착색 감광성 조성물에 사용되는 수지 (B) 로는, 알칼리 용해성을 나타내는 수지인 것이 바람직하다. 여기서, 알칼리 용해성이란, 알칼리 화합물의 수용액인 현상액에 용해되는 성질을 말한다. The resin (B) used in the colored photosensitive composition of the present invention is preferably a resin exhibiting alkali solubility. Here, the alkali solubility refers to a property of dissolving in a developer which is an aqueous solution of an alkaline compound.

상기 알칼리 용해성을 나타내는 수지로는,As the resin exhibiting alkali solubility,

수지 (B-1):불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 (a) (이하 「(a)」라고 하는 경우가 있다) 와 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르를 갖는 화합물 (b) (이하 「(b)」라고 하는 경우가 있다) 를 중합하여 이루어지는 공중합체, At least one kind (a) (hereinafter sometimes referred to as "(a)") selected from the group consisting of an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride and a cyclic (B) (hereinafter also referred to as " b) "

수지 (B-2): (a) 및 (b) 와 공중합 가능한 단량체 (c) (단, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르는 갖지 않는다.) (이하 「(c)」라고 하는 경우가 있다) 와 (a) 와 (b) 를 중합하여 이루어지는 공중합체, Resin (B-2): Monomer (c) copolymerizable with (a) and (b) (provided that there is no cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms) (hereinafter occasionally referred to as "(c) And (a) and (b)

수지 (B-3): (a) 와 (c) 를 중합하여 이루어지는 공중합체, Resin (B-3): a copolymer obtained by polymerizing (a) and (c)

수지 (B-4):(a) 와 (c) 를 중합하여 이루어지는 공중합체에 (b) 를 반응시켜 얻어지는 수지 Resin (B-4): A resin obtained by reacting (b) a copolymer obtained by polymerizing (a) and (c)

수지 (B-5):(b) 와 (c) 를 중합하여 이루어지는 공중합체에 (a) 를 반응시켜 얻어지는 수지 등을 들 수 있다. Resin (B-5): Resin obtained by reacting the copolymer (b) and (c) with (a).

(a) 로는, 구체적으로는, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, o-비닐벤조산, m-비닐벤조산, p-비닐벤조산 등의 불포화모노카르복실산류;(a) include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, o-vinylbenzoic acid, m-vinylbenzoic acid and p-vinylbenzoic acid;

말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 3-비닐프탈산, 4-비닐프탈산, 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산, 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산, 디메틸테트라하이드로프탈산, 1,4-시클로헥센디카르복실산 등의 불포화 디카르복실산류;Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and 1,4-cyclohexene dicarboxylic acid;

메틸-5-노르보르넨-2,3-디카르복실산, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 카르복시기를 함유하는 비시클로 불포화 화합물류;Methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hepto-2- 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hepto- Cyclo [2.2.1] hept-2-ene, and 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene;

무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물, 디메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 무수물 (하이믹산 무수물) 등의 불포화 디카르복실산류 무수물;Maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride , Unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as dimethyl tetrahydrophthalic anhydride and 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-eno anhydride (hymic acid anhydride);

숙신산모노〔2-(메트)아크릴로일옥시에틸〕, 프탈산모노〔2-(메트)아크릴로일옥시에틸〕 등의 2 가 이상의 다가 카르복실산의 불포화 모노〔(메트)아크릴로일옥시알킬〕에스테르류;(Meth) acryloyloxyalkyl (meth) acrylate of a divalent or higher polyvalent carboxylic acid such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], phthalic acid mono [2- Esters;

α- (하이드록시메틸)아크릴산과 같은, 동일 분자 중에 하이드록시기 및 카르복시기를 함유하는 불포화 아크릴레이트류 등을 들 수 있다. and unsaturated acrylates containing a hydroxyl group and a carboxyl group in the same molecule, such as? - (hydroxymethyl) acrylic acid.

이들 중, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 공중합 반응성면이나 알칼리 용해성면에서 바람직하게 사용된다. Of these, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are preferably used in terms of copolymerization-reactive surface and alkali solubility.

여기서, 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 나타낸다. 「(메트)아크릴로일」및 「(메트)아크릴레이트」 등의 표기도 동일한 의미를 갖는다.In the present specification, the term "(meth) acrylic acid" means at least one kind selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid. Quot ;, " (meth) acryloyl ", and " (meth) acrylate "

(b) 는, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르 (예를 들어, 옥시란 고리, 옥세탄 고리 및 테트라하이드로푸란 고리 (옥솔란 고리) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종) 를 갖는 중합성 화합물이다. (b) 는, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체인 것이 바람직하고, 탄소수 2 ∼ 4 의 고리형 에테르와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 보다 바람직하다.(b) is a polymerizable compound having a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms (for example, at least one member selected from the group consisting of oxiran ring, oxetane ring and tetrahydrofuran ring (oxolane ring)) to be. (b) is preferably a monomer having a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms and an ethylenic unsaturated bond, more preferably a monomer having a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms and a (meth) acryloyloxy group.

(b) 로는, 예를 들어, 옥시라닐기를 갖는 단량체 (b1) (이하 「(b1)」이라고 하는 경우가 있다), 옥세타닐기를 갖는 단량체 (b2) (이하 「(b2)」라고 하는 경우가 있다), 및 테트라하이드로푸릴기를 갖는 단량체 (b3) (이하 「(b3)」이라고 하는 경우가 있다) 을 들 수 있다. (b2) having an oxyanyl group (hereinafter referred to as " b2) " (hereinafter referred to as " b2) " , And a monomer (b3) having a tetrahydrofuryl group (hereinafter sometimes referred to as "(b3)").

옥시라닐기를 갖는 단량체 (b1) 이란, 옥시라닐기를 갖는 중합성 화합물을 가리킨다. (b1) 로는, 예를 들어, 사슬형 올레핀을 에폭시화한 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b1-1) (이하 「(b1-1)」이라고 하는 경우가 있다), 및 시클로알켄을 에폭시화한 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b1-2) (이하 「(b1-2)」라고 하는 경우가 있다) 를 들 수 있다. The monomer (b1) having an oxiranyl group means a polymerizable compound having an oxiranyl group. (b1-1) having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter may be referred to as " (b1-1) ")) and a cycloalkene having a structure obtained by epoxidizing a chain olefin (B1-2) having an epoxidized structure and an ethylenic unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as " (b1-2) ").

(b1) 로는, 옥시라닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체인 것이 바람직하고, 옥시라닐기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 보다 바람직하고, (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 (b1-2) 가 더욱 바람직하다. (b1) is preferably a monomer having an oxiranyl group and an ethylenic unsaturated bond, more preferably a monomer having an oxiranyl group and a (meth) acryloyloxy group, and a monomer having a (meth) acryloyloxy group, 2) is more preferable.

(b1-1) 로는, 구체적으로는 글리시딜(메트)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메트)아크릴레이트, β-에틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-o-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-m-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-p-비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,5-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,6-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,4-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 3,4,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 일본 공개특허공보 평7-248625호에 기재되는 화합물 등을 들 수 있다. (meth) acrylate,? -ethylglycidyl (meth) acrylate, glycidylvinylether, o (meth) acrylate, -Vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether,? -Methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether,? -Methyl-m-vinylbenzyl glycidyl (Glycidyloxymethyl) styrene, 2,4-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,5-bis (glycidyloxymethyl) styrene, Styrene, 2,6-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,4-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,5-tris (glycidyloxymethyl) ) Styrene, 2,3,6-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 3,4,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4,6- , Compounds described in JP-A 7-248625, and the like.

(b1-2) 로는, 비닐시클로헥센모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산 (예를 들어, 세로키사이드 2000;다이셀 화학 공업 (주) 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트 (예를 들어, 사이크로마 A400;다이셀 화학 공업 (주) 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타아크릴레이트 (예를 들어, 사이크로마 M100;다이셀 화학 공업 (주) 제조), 식 (I) 로 나타내는 화합물, 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. (b1-2) include vinylcyclohexene monoxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (for example, Verticalizer 2000 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 3,4- (For example, Cychroma A400, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (for example, Cychroma M100, manufactured by Daicel Chemical Industries, , Compounds represented by the formula (I) and compounds represented by the formula (II).

[화학식 1][Chemical Formula 1]

Figure 112011075789923-pat00001
Figure 112011075789923-pat00001

[식 (I) 및 식 (Ⅱ) 에 있어서, R1 및 R2 는 서로 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 함유되는 수소 원자는 하이드록시기로 치환되어 있어도 된다. [In the formulas (I) and (II), R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group is substituted with a hydroxy group do.

X1 및 X2 는 서로 독립적으로, 단결합, -R3-, *-R3-O-, *-R3-S-, *-R3-NH- 를 나타낸다. X 1 and X 2 independently represent a single bond, -R 3 -, -R 3 -O-, -R 3 -S- or -R 3 -NH-.

R3 은 탄소수 1 ∼ 6 의 알칸디일기를 나타낸다. R 3 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.

* 는 O 와의 결합수(手)를 나타낸다.]* Represents the number of bonds with O.]

탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로는, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있다. Specific examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group.

하이드록시알킬기로는, 하이드록시메틸기, 1-하이드록시에틸기, 2-하이드록시에틸기, 1-하이드록시프로필기, 2-하이드록시프로필기, 3-하이드록시프로필기, 1-하이드록시-1-메틸에틸기, 2-하이드록시-1-메틸에틸기, 1-하이드록시부틸기, 2-하이드록시부틸기, 3-하이드록시부틸기, 4-하이드록시부틸기 등을 들 수 있다.Examples of the hydroxyalkyl group include a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 1-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, a 3-hydroxypropyl group, Hydroxyethyl group, 1-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 4-hydroxybutyl group and the like.

R1 및 R2 로는, 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 하이드록시메틸기, 1-하이드록시에틸기, 2-하이드록시에틸기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기를 들 수 있다. As R 1 and R 2 , a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group and a 2-hydroxyethyl group are preferable, and a hydrogen atom and a methyl group are more preferable.

알칸디일기로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기 등을 들 수 있다.Examples of the alkanediyl group include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, a butane- And a 1,6-diyl group.

X1 및 X2 로는, 바람직하게는 단결합, 메틸렌기, 에틸렌기, *-CH2-O- (* 는 O 와의 결합수를 나타낸다) 기, *-CH2CH2-O- 기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 단결합, *-CH2CH2-O- 기를 들 수 있다. X 1 and X 2 are preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, * -CH 2 -O- (* represents the number of bonds with O) group, * -CH 2 CH 2 -O- group More preferably a single bond, * -CH 2 CH 2 -O- group.

식 (I) 로 나타내는 화합물로는, 식 (I-1) ∼ 식 (I-15) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 식 (I-1), 식 (I-3), 식 (I-5), 식 (I-7), 식 (I-9), 식 (I-11) ∼ 식 (I-15) 를 들 수 있다. 보다 바람직하게는 식 (I-1), 식 (I-7), 식 (I-9), 식 (I-15) 를 들 수 있다. Examples of the compound represented by formula (I) include compounds represented by formulas (I-1) to (I-15). (I-1), (I-3), (I-5), (I-7) ). (I-1), (I-7), (I-9) and (I-15) are more preferable.

[화학식 2](2)

Figure 112011075789923-pat00002
Figure 112011075789923-pat00002

식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물로는, 식 (Ⅱ-1) ∼ 식 (Ⅱ-15) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 식 (Ⅱ-1), 식 (Ⅱ-3), 식 (Ⅱ-5), 식 (Ⅱ-7), 식 (Ⅱ-9), 식 (Ⅱ-11) ∼ 식 (Ⅱ-15) 를 들 수 있다. 보다 바람직하게는 식 (Ⅱ-1), 식 (Ⅱ-7), 식 (Ⅱ-9), 식 (Ⅱ-15) 를 들 수 있다. Examples of the compound represented by the formula (II) include compounds represented by the formulas (II-1) to (II-15). (II-1), Formula (II-3), Formula (II-5), Formula (II-7), Formula ). (II-1), (II-7), (II-9) and (II-15).

[화학식 3](3)

Figure 112011075789923-pat00003
Figure 112011075789923-pat00003

식 (I) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅱ) 로 나타내는 화합물은, 각각 단독으로 사용할 수 있다. 또, 그들은 임의의 비율로 혼합할 수 있다. 혼합하는 경우, 그 혼합 비율은 몰비로, 바람직하게는 식 (I):식 (Ⅱ) 에서, 5:95 ∼ 95:5, 보다 바람직하게는 10:90 ∼ 90:10, 특히 바람직하게는 20:80 ∼ 80:20 이다. The compound represented by formula (I) and the compound represented by formula (II) may be used alone. In addition, they can be mixed at an arbitrary ratio. In the case of mixing, the mixing ratio thereof is preferably from 5:95 to 95: 5, more preferably from 10:90 to 90:10, particularly preferably from 20:90 to 90:10 in the formula (I): formula (II) : 80 to 80:20.

옥세타닐기를 갖는 단량체 (b2) 란, 옥세타닐기를 갖는 중합성 화합물을 나타낸다. (b2) 로는, 옥세타닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체인 것이 바람직하고, 옥세타닐기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 보다 바람직하다. (b2) 로는, 예를 들어, 3-메틸-3-(메트)아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-(메트)아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-(메트)아크릴로일옥시에틸옥세탄 및 3-에틸-3-(메트)아크릴로일옥시에틸옥세탄을 들 수 있다. The monomer (b2) having an oxetanyl group means a polymerizable compound having an oxetanyl group. (b2) is preferably a monomer having an oxetanyl group and an ethylenically unsaturated bond, more preferably a monomer having an oxetanyl group and a (meth) acryloyloxy group. (meth) acryloyloxymethyloxetane, 3-methyl-3- ((meth) acryloyloxymethyloxetane, (Meth) acryloyloxyethyl oxetane and 3-ethyl-3- (meth) acryloyloxyethyl oxetane.

테트라하이드로푸릴기를 갖는 단량체 (b3) 이란, 테트라하이드로푸릴기를 갖는 중합성 화합물을 나타낸다. (b3) 으로는, 테트라하이드로푸릴기와 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 단량체인 것이 바람직하고, 테트라하이드로푸릴기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 보다 바람직하다. The monomer (b3) having a tetrahydrofuryl group means a polymerizable compound having a tetrahydrofuryl group. (b3) is preferably a monomer having a tetrahydrofuryl group and an ethylenically unsaturated double bond, more preferably a monomer having a tetrahydrofuryl group and a (meth) acryloyloxy group.

(b3) 으로는, 구체적으로는, 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트 (예를 들어, 비스코트 V#150, 오사카 유기 화학 공업 (주) 제조), 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트 등을 들 수 있다.  Specific examples of the compound (b3) include tetrahydrofurfuryl acrylate (for example, Viscot V # 150, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), tetrahydrofurfuryl methacrylate, and the like.

(c) 로는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산알킬에스테르류;(meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (Meth) acrylic acid alkyl esters;

시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트 (당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트라고 하고 있다), 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산 고리형 알킬에스테르류;Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate (in the art, dicyclopentanil (Meth) acrylate), (meth) acrylic acid cyclic alkyl esters such as dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate;

페닐(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산아릴 또는 아르알킬에스테르류;Aryl (meth) acrylates or aralkyl esters such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate;

말레산디에틸, 푸마르산디에틸, 이타콘산디에틸 등의 디카르복실산디에스테르;Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate, and diethyl itaconate;

2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 하이드록시알킬에스테르류;Hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;

비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-(2'-하이드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디하이드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(하이드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(2'-하이드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-비스(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-비스(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물류;2,2-hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] 2.2.1] hept-2-ene, 5- (2'-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] 2.2.1] hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2.1] 2,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (2'- hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] 2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hept- 2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hept- 5-tert-butoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyclohexyloxycarbo 2,6-bis (tert-butoxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, ] Hept-2-ene, and 5,6-bis (cyclohexyloxycarbonyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene;

N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미드벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미드부틸레이트, N-숙신이미딜-6-말레이미드카프로에이트, N-숙신이미딜-3-말레이미드프로피오네이트, N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체류;N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimide benzoate, N-succinimidyl-4-maleimide butyrate, N- Dicarbonylimide derivatives such as N-succinimidyl-3-maleimidepropionate and N- (9-acridinyl) maleimide;

스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아세트산비닐, 1,3-부타디엔, 이소프렌 및 2,3-디메틸-1,3-부타디엔을 들 수 있다. And examples thereof include styrene,? -Methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, Vinyl, 1,3-butadiene, isoprene and 2,3-dimethyl-1,3-butadiene.

이들 중, 스티렌, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, 비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등이, 공중합 반응성 및 알칼리 용해성면에서 바람직하다. Of these, styrene, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, and bicyclo [2.2.1] hept-2-ene are preferred from the viewpoint of copolymerization reactivity and alkali solubility.

수지 (B-1) 에 있어서, 각 단량체에서 유래하는 구조 단위의 비율이, 수지 (B-1) 을 구성하는 구조 단위의 합계 몰수에 대해, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. In the resin (B-1), the ratio of the structural units derived from each monomer is preferably in the following range with respect to the total number of moles of the structural units constituting the resin (B-1).

(a) 에서 유래하는 구조 단위;5 ∼ 60 몰% (보다 바람직하게는 10 ∼ 50 몰%) (5 to 60 mol% (more preferably 10 to 50 mol%) of a structural unit derived from the structural unit (a)

(b) 에서 유래하는 구조 단위;40 ∼ 95 몰% (보다 바람직하게는 50 ∼ 90 몰%)(more preferably 50 to 90 mol%) derived from the structural unit (b)

수지 (B-1) 의 구조 단위의 비율이, 상기 범위에 있으면, 보존 안정성, 현상성, 내용제성, 내열성 및 기계 강도가 양호해지는 경향이 있다. When the ratio of the structural unit of the resin (B-1) is within the above range, storage stability, developability, solvent resistance, heat resistance and mechanical strength tend to be improved.

수지 (B-1) 로는, (b) 가 (b1) 인 수지가 바람직하고, (b) 가 (b1-2) 인 수지가 보다 바람직하다. As the resin (B-1), the resin (b) is preferably the resin (b1), and the resin (b) is the resin (b1-2).

수지 (B-1) 은 예를 들어, 문헌 「고분자 합성의 실험법」 (오오츠 타카유키저 발행소 (주) 화학 동인 제 1 판 제 1 쇄 1972년 3월 1일 발행) 에 기재된 방법 및 당해 문헌에 기재된 인용 문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다. The resin (B-1) can be produced by, for example, a method described in "Experimental Method of Polymer Synthesis" (published by Otsu Takayuki Co., Ltd., 1st Edition, First Edition, March 1, 1972) Can be produced by referring to the cited document.

구체적으로는, (a) 및 (b) 의 소정량, 중합 개시제 및 용제 등을 반응 용기 중에 주입하고, 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 탈산소에서, 교반, 가열, 보온하는 방법이 예시된다. 또한, 여기서 사용되는 중합 개시제 및 용제 등은, 특별히 한정되지 않고, 당해 분야에서 통상적으로 사용되고 있는 것 모두를 사용할 수 있다. 중합 개시제로는, 예를 들어 아조 화합물 (2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등) 및 유기 과산화물 (벤조일퍼옥사이드 등) 을 들 수 있고, 용제로는, 각 단량체를 용해시키는 것이면 되고, 착색 감광성 조성물의 용제로서 후술하는 용제 등을 사용할 수 있다. Specifically, there is exemplified a method of stirring, heating, and keeping the oxygen in the deoxygenation by injecting a predetermined amount of (a) and (b), a polymerization initiator and a solvent into the reaction vessel and replacing oxygen by nitrogen. The polymerization initiator, solvent and the like used herein are not particularly limited, and any of those conventionally used in the art can be used. Examples of the polymerization initiator include azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and organic peroxides such as benzoyl peroxide The solvent may be any one that dissolves the respective monomers, and a solvent, which will be described later, may be used as a solvent for the colored photosensitive composition.

또한, 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법에 의해 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다. 특히, 이 중합시에 용제로서 후술하는 용제 (E) 와 동일한 용제를 사용함으로써, 반응 후의 용액을 그대로 사용할 수 있고, 제조 공정을 간략화할 수 있다. The solution obtained after the reaction may be used as it is, or a concentrated or diluted solution may be used. Alternatively, a solution obtained as a solid (powder) by re-precipitation or the like may be used. In particular, by using the same solvent as the solvent (E) described below as a solvent in the polymerization, the solution after the reaction can be used as it is, and the production process can be simplified.

수지 (B-2) 에 있어서, 각 단량체에서 유래하는 구조 단위의 비율이, 수지 (B-2) 를 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰수에 대해, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. In the resin (B-2), the proportion of the structural units derived from each monomer is preferably in the following range with respect to the total number of moles of the total structural units constituting the resin (B-2).

(a) 에서 유래하는 구조 단위;2 ∼ 40 몰% (보다 바람직하게는 5 ∼ 35 몰%) 2 to 40 mol% (more preferably 5 to 35 mol%) of a structural unit derived from the structural unit (a)

(b) 에서 유래하는 구조 단위;2 ∼ 95 몰% (보다 바람직하게는 5 ∼ 80 몰%) 2 to 95 mol% (more preferably 5 to 80 mol%) of a structural unit derived from the structural unit (b)

(c) 에서 유래하는 구조 단위;1 ∼ 65 몰% (보다 바람직하게는 1 ∼ 60 몰%) 1 to 65 mol% (more preferably 1 to 60 mol%) of a structural unit derived from the structural unit (c)

수지 (B-2) 의 구조 단위의 비율이, 상기 범위에 있으면, 보존 안정성, 현상성, 내용제성, 내열성 및 기계 강도가 양호해지는 경향이 있다. When the ratio of the structural unit of the resin (B-2) is within the above range, storage stability, developability, solvent resistance, heat resistance and mechanical strength tend to be improved.

수지 (B-2) 로는, (b) 가 (b1) 인 수지가 바람직하고, (b) 가 (b1-2) 인 수지가 보다 바람직하다. As the resin (B-2), the resin (b) is preferably the resin (b1), and the resin (b) is the resin (b1-2).

수지 (B-2) 는 수지 (B-1) 과 동일한 방법에 의해 제조할 수 있다. The resin (B-2) can be produced by the same method as the resin (B-1).

수지 (B-3) 에 있어서, 각 단량체에서 유래하는 구조 단위의 비율이, 수지 (B-3) 을 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰수에 대해, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. In the resin (B-3), the proportion of the structural units derived from each monomer is preferably in the following range with respect to the total number of moles of the total structural units constituting the resin (B-3).

(a) 에서 유래하는 구조 단위;2 ∼ 40 몰% (보다 바람직하게는 5 ∼ 35 몰%) 2 to 40 mol% (more preferably 5 to 35 mol%) of a structural unit derived from the structural unit (a)

(c) 에서 유래하는 구조 단위;60 ∼ 98 몰% (보다 바람직하게는 65 ∼ 95 몰%) 60 to 98 mol% (more preferably 65 to 95 mol%) of a structural unit derived from the structural unit (c)

수지 (B-3) 의 구조 단위의 비율이, 상기 범위에 있으면, 보존 안정성, 현상성 및 내용제성이 양호해지는 경향이 있다. When the proportion of the structural unit of the resin (B-3) is in the above range, storage stability, developability and solvent resistance tends to be good.

수지 (B-3) 은 수지 (B-1) 과 동일한 방법에 의해 제조할 수 있다. The resin (B-3) can be produced by the same method as the resin (B-1).

수지 (B-4) 및 수지 (B-5) 는 예를 들어, 2 단계의 공정을 거쳐 제조할 수 있다. 이 경우도, 상기 서술한 문헌 「고분자 합성의 실험법」 (오오츠 타카유키저 발행소 (주) 화학 동인 제 1 판 제 1 쇄 1972년 3월 1일 발행) 에 기재된 방법, 일본 공개특허공보 제2001-89533호에 기재된 방법 등을 참고로 하여 제조할 수 있다. The resin (B-4) and the resin (B-5) can be produced, for example, by a two-step process. Also in this case, the method described in the aforementioned " Experimental Method of Polymer Synthesis " (published by Otsu Takayuki Co., Ltd., 1st Edition, 1st Edition, March 1, 1972), Japanese Patent Laid- 89533, and the like.

수지 (B-4) 는, 먼저, 제 1 단계로서 상기 서술한 수지 (B-1) 의 제조 방법과 동일하게 하여, (a) 와 (c) 의 공중합체를 얻는다. The resin (B-4) is first obtained in the same manner as in the above-mentioned production method of the resin (B-1) described above to obtain a copolymer of (a) and (c).

이 경우, 상기와 동일하게, 얻어진 공중합체는, 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법에 의해 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다. In this case, similarly to the above, the solution obtained after the reaction may be used as it is, or a solution obtained by concentration or dilution may be used, or it may be taken out as a solid (powder) by a method such as re-precipitation .

(a) 및 (c) 에서 유래하는 구조 단위의 비율이, 상기 공중합체를 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰수에 대해, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. it is preferable that the ratio of the structural units derived from (a) and (c) is in the following range with respect to the total number of moles of the total structural units constituting the copolymer.

(a) 에서 유래하는 구조 단위;5 ∼ 50 몰% (보다 바람직하게는 10 ∼ 45 몰%) (5 to 50 mol% (more preferably 10 to 45 mol%) derived from the structural unit (a)

(c) 에서 유래하는 구조 단위;50 ∼ 95 몰% (보다 바람직하게는 55 ∼ 90 몰%) (50 to 95 mol% (more preferably 55 to 90 mol%) derived from the structural unit (c)

다음으로, 제 2 단계로서, 얻어진 공중합체에서 유래하는 (a) 의 카르복실산 및 카르복실산 무수물의 일부를, (b) 의 고리형 에테르와 반응시킨다. 고리형 에테르의 반응성이 높고, 미반응인 (b) 가 잔존하기 어렵다는 점에서, (b) 로는 (b1) 이 바람직하고, (b1-1) 이 더욱 바람직하다. Next, as a second step, a part of the carboxylic acid (a) and the carboxylic acid anhydride derived from the obtained copolymer are reacted with the cyclic ether of (b). (B1) is more preferable, and (b1-1) is more preferable in respect of (b) from the viewpoint that the reactivity of the cyclic ether is high and the unreacted phosphorus (b)

구체적으로는, 상기에 이어서, 플라스크 내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, (a) 의 몰수에 대해 5 ∼ 80 몰% 의 (b), 카르복시기와 고리형 에테르의 반응 촉매 (예를 들어 트리스(디메틸아미노메틸)페놀) 를 (a), (b) 및 (c) 의 합계량에 대해 0.001 ∼ 5 질량%, 및 중합 금지제 (예를 들어 하이드로퀴논) 를 (a), (b) 및 (c) 의 합계량에 대해 0.001 ∼ 5 질량% 를 플라스크 내에 넣고, 60 ∼ 130 ℃ 에서, 1 ∼ 10 시간 반응시켜, 수지 (A-4) 를 얻을 수 있다. 또한, 중합 조건과 동일하게, 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여, 주입 방법이나 반응 온도를 적절히 조정할 수 있다. Specifically, the atmosphere in the flask is replaced with air in the flask, and 5 to 80 mol% (b) of the reaction catalyst of a carboxyl group and a cyclic ether (for example, tris (A), (b) and (c) in an amount of 0.001 to 5% by mass relative to the total amount of (a), (b) and (c), and a polymerization inhibitor (such as hydroquinone) ) Is added to the flask in an amount of 0.001 to 5 mass% with respect to the total amount of the resin (A-4). The resin (A-4) can be obtained by reacting at 60 to 130 ° C for 1 to 10 hours. In addition, the injection method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the production facility or the amount of heat generated by polymerization, as in the case of the polymerization conditions.

또, 이 경우, (b) 의 몰수는, (a) 의 몰수에 대해, 10 ∼ 75 몰% 로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 15 ∼ 70 몰% 이다. (b) 의 몰수를 이 범위로 함으로써, 보존 안정성, 내용제성 및 내열성의 밸런스가 양호해지는 경향이 있다. In this case, the number of moles of (b) is preferably 10 to 75 mol%, and more preferably 15 to 70 mol% with respect to the number of moles of (a). When the number of moles of (b) is within this range, balance between storage stability, solvent resistance and heat resistance tends to be improved.

수지 (B-4) 의 구체예로는, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;Specific examples of the resin (B-4) include resins obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate, resins obtained by reacting (meth) acrylic acid / benzyl (Meth) acrylate, a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / cyclohexyl (meth) acrylate, A resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate and a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / (Meth) acrylic acid / N-cyclohexylmaleimide, a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate Aglycidyl (meth) acrylate (Meth) acrylic acid / dicyclopentyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a (meth) acrylic acid / dicyclopentyl (Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of cyclopentanyl (Meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide with glycidyl (meth) A resin obtained by reacting a copolymer of an acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate;

크로톤산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/크로톤산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/크로톤산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylate is reacted with a copolymer of crotonic acid / cyclohexyl (meth) acrylate and a resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / benzyl (meth) acrylate with glycidyl (Meth) acrylate on a copolymer of crotonic acid / styrene, a resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / methyl crotonate with glycidyl (meth) acrylate, a crotonic acid / (Meth) acrylate in a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of N-cyclohexylmaleimide with glycidyl ), A resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate, a crotonic acid / dicyclo (Meth) acrylate on a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonate and a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of tannyl (meth) Acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide with glycidyl (meth) acrylate;

말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/말레산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/말레산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylate is added to a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate and a copolymer of maleic acid / benzyl (meth) acrylate with glycidyl (Meth) acrylate is reacted with a copolymer of maleic acid / cyclohexyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate is allowed to react with a copolymer of maleic acid / styrene A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / methyl maleic acid with glycidyl (meth) acrylate, or a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of maleic acid / N-cyclohexylmaleimide , A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate with glycidyl (meth) acrylate, maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (Meth) acrylate A resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene, a resin obtained by reacting glycidyl (meth) (Meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate / maleic acid methyl ester is reacted with glycidyl (meth) acrylate, a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide A resin obtained by reacting a glycidyl (meth) acrylate with a co-monomer;

(메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl A resin obtained by reacting a copolymer of glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / cyclohexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / methyl (meth) acrylate is copolymerized with a copolymer of a (meth) acrylic acid / maleic anhydride / styrene copolymer and a glycidyl (meth) Acrylate, (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclohexyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / N-cyclohexylmaleimide with glycidyl Fentanyl (Meth) acrylate / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate on a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene, a resin obtained by reacting glycidyl (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a (meth) acrylic acid / A resin obtained by reacting glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide;

(메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;(Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / Epoxy cyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / cyclohexyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / Styrene is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and a copolymer of (meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Resin, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / N-cyclohexylmaleimide with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl )Ah (Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate was added to the copolymer of (meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (Meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / (Meth) acrylic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of / N-cyclohexylmaleimide copolymer is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/크로톤산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/크로톤산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 크로톤산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;Epoxycyclohexylmethyl methacrylate on a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate and a copolymer of crotonic acid / benzyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, Cyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of crotonic acid / cyclohexyl (meth) acrylate, and a copolymer of crotonic acid / styrene with 3, 4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of crotonic acid / methyl crotonate and a resin obtained by reacting crotonic acid / N-cyclohexylmaleimide A copolymer obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer and a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexyl A resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate, crotonic acid / Dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / Epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of crotonic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide Reacted resin;

말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/말레산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/말레산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, 말레산/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and a copolymer of maleic acid / benzyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclo Maleic acid / cyclohexyl (meth) acrylate is reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a copolymer obtained by reacting maleic acid / cyclohexyl (meth) acrylate with 3,4- 4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / methyl maleic acid with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting maleic acid / N-cyclohexylmaleimide Epoxycyclohexylmethyl methacrylate was added to a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Creel , A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting maleic acid / dicyclopentanyl (Meth) acrylate / styrene is reacted with a copolymer of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate and a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / maleic acid methyl ester with 3,4- Epoxycyclohexylmethyl methacrylate; a resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate;

(메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지, (메트)아크릴산/말레산 무수물/디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드의 공중합체에 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트를 반응시킨 수지 등을 들 수 있다. (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / benzyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / cyclohexyl (meth) acrylate was added to a copolymer of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / (meth) acrylic acid / maleic anhydride / styrene, a resin obtained by reacting a (meth) acrylic acid / maleic anhydride / (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / N-cyclohexylmaleimide was added to a copolymer of 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Krill Resin reacted with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate on a copolymer of (meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene copolymer obtained by reacting 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a copolymer of maleic anhydride / dicyclopentanyl (Meth) acrylic acid / maleic anhydride / dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexyl (meth) acrylate / A resin obtained by reacting a copolymer of maleimide with 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and the like.

수지 (B-5) 는 제 1 단계로서 상기 서술한 수지 (B-1) 의 제조 방법과 동일하게 하여, (b) 와 (c) 의 공중합체를 얻는다. In the first step of the resin (B-5), the copolymer of (b) and (c) is obtained in the same manner as the resin (B-1) described above.

이 경우, 상기와 동일하게, 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법에 의해 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다. In this case, in the same manner as described above, the solution obtained after the reaction may be used as it is, or a concentrated or diluted solution may be used, or a solid (powder) obtained by re-precipitation or the like may be used.

(b) 및 (c) 에서 유래하는 구조 단위의 비율이, 상기 공중합체를 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰수에 대해, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. it is preferable that the ratio of the structural units derived from (b) and (c) is in the following range with respect to the total number of moles of the total structural units constituting the copolymer.

(b) 에서 유래하는 구조 단위;5 ∼ 95 몰% (보다 바람직하게는 10 ∼ 90 몰%) (5 to 95 mol% (more preferably 10 to 90 mol%) derived from the structural unit (b)

(c) 에서 유래하는 구조 단위;5 ∼ 95 몰% (보다 바람직하게는 10 ∼ 90 몰%) (more preferably 10 to 90 mol%) derived from the structural unit (c)

또한, 수지 (B-4) 의 제조 방법과 동일하게 하여, (b) 와 (c) 의 공중합체 중 (b) 에서 유래하는 고리형 에테르에, (a) 가 갖는 카르복실산 또는 카르복실산 무수물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 고리형 에테르와 카르복실산 또는 카르복실산 무수물의 반응에 의해 발생하는 하이드록시기에, 추가로 카르복실산 무수물을 반응시켜도 된다. In the same manner as in the production of the resin (B-4), the cyclic ether derived from the copolymer (b) in the copolymer (b) and the copolymer (c) And then reacting the resulting mixture with an anhydride. A carboxylic acid anhydride may be further reacted with a hydroxyl group generated by the reaction of a cyclic ether and a carboxylic acid or carboxylic acid anhydride.

상기 공중합체에 반응시키는 (a) 의 사용량은, (b) 의 몰수에 대해 5 ∼ 80 몰% 인 것이 바람직하다. 고리형 에테르의 반응성이 높고, 미반응인 (b) 가 잔존하기 어렵다는 점에서, (b) 로는 (b1) 이 바람직하고, 더욱 (b1-1) 이 바람직하다. The amount of (a) to be reacted with the copolymer is preferably 5 to 80 mol% with respect to the number of moles of (b). (B1) is preferable and (b1-1) is more preferable in (b) because the reactivity of the cyclic ether is high and unreacted phosphorus (b) is difficult to remain.

수지 (B-5) 의 구체예로는, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 벤질(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 시클로헥실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, (메트)아크릴산메틸/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, N-시클로헥실말레이미드/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지;Specific examples of the resin (B-5) include resins obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid, benzyl (meth) (Meth) acrylic acid to a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (Meth) acrylic acid to a copolymer of (meth) acrylic acid methyl / glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid / glycidyl (Meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycidyl Lt; RTI ID = 0.0 > (meth) < (Meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid, dicyclopentanyl (Meth) acrylate / (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / A resin obtained by reacting a (meth) acrylic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate;

디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 벤질(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 시클로헥실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 크로톤산메틸/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, N-시클로헥실말레이미드/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/크로톤산메틸/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate with a crotonic acid, and a copolymer of benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) A resin obtained by reacting a copolymer of styrene / glycidyl (meth) acrylate with a resin obtained by reacting a resin reacted with crotonic acid to a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate and crotonic acid A resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid methyl / glycidyl (meth) acrylate with a crotonic acid, a resin obtained by reacting a copolymer of N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate with crotonic acid (Meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycidyl (Meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate is reacted with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / glycidyl (Meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide (meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonate / glycidyl (meth) / Glycidyl (meth) acrylate with crotonic acid;

디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 벤질(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 시클로헥실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 말레산메틸/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, N-시클로헥실말레이미드/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/말레산메틸/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate and maleic acid with a copolymer of benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) (Meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of styrene / glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of cyclohexyl A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid methyl / glycidyl (meth) acrylate with maleic acid, a resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) (Meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycidyl Acrylate / Writing A resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of glycidyl (meth) A resin obtained by reacting a copolymer of fentanyl (meth) acrylate / maleic acid methyl / glycidyl (meth) acrylate with maleic acid, dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / glycidyl Methacrylate; maleic acid;

디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 벤질(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 시클로헥실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, (메트)아크릴산메틸/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, N-시클로헥실말레이미드/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, a resin obtained by reacting benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) A resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid with maleic anhydride, a resin obtained by reacting a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, (Meth) acrylic acid and maleic anhydride are added to a copolymer of a copolymer of (meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate with a copolymer of (meth) acrylic acid and glycidyl (Meth) acrylic acid and maleic anhydride to a copolymer of N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate (Meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate reacted with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, dicyclopentanyl (Meth) acrylate / styrene / glycidyl (meth) acrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, a copolymer of dicyclopentanyl (Meth) acrylic acid and maleic anhydride to a copolymer of a dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate resin reacted with acrylic acid and maleic anhydride , A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid and maleic anhydride;

디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 벤질(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 시클로헥실(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 스티렌/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, (메트)아크릴산메틸/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, N-시클로헥실말레이미드/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with (meth) acrylic acid, a resin obtained by reacting benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (Meth) acrylic acid to a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of styrene / 3, (Meth) acrylic acid is reacted with a copolymer of a (meth) acrylic acid methyl / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate and a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid and 4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with a (Meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3, a resin obtained by reacting a copolymer of N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with (meth) acrylic acid, dicyclopentanyl ,4- (Meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate in the copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate and cyclohexylmethyl methacrylate A resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, dicyclopentanyl (Meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide (meth) acrylate / (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate copolymer obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of dicyclopentanyl / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate is reacted with (meth) acrylic acid;

디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 벤질(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 시클로헥실(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 스티렌/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 크로톤산메틸/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, N-시클로헥실말레이미드/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/크로톤산메틸/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 크로톤산을 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with crotonic acid, a resin obtained by reacting benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate A resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid with a copolymer, a resin obtained by reacting a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with crotonic acid, a resin obtained by reacting styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl A resin obtained by reacting a copolymer of methacrylate with crotonic acid, a resin obtained by reacting a copolymer of crotonic acid methyl / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with crotonic acid, N-cyclohexylmaleimide / 3,4 -Epoxy cyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate A resin obtained by reacting a polymer with crotonic acid, a resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with crotonic acid, A resin obtained by reacting a copolymer of fentanyl (meth) acrylate / styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with crotonic acid, dicyclopentanyl (meth) acrylate / methyl crotonate / 3,4- Crotonic acid was added to a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of hexylmethyl methacrylate with crotonic acid Reacted resin;

디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 벤질(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 시클로헥실(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 스티렌/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 말레산메틸/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, N-시클로헥실말레이미드/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/말레산메틸/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 말레산을 반응시킨 수지;A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with maleic acid, a resin obtained by reacting benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate A resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid with a copolymer of cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl A resin obtained by reacting a copolymer of methacrylate with maleic acid, a resin obtained by reacting a copolymer of maleic acid methyl / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with maleic acid, N-cyclohexylmaleimide / 3,4 (Meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate in a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate Male A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with maleic acid, dicyclopentanyl (meth) Acrylate / styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting maleic acid with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / maleic acid methyl / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate A resin obtained by reacting a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with maleic acid;

디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 벤질(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 시클로헥실(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 스티렌/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, (메트)아크릴산메틸/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, N-시클로헥실말레이미드/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/시클로헥실(메트)아크릴레이트/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/스티렌/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산메틸/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트/N-시클로헥실말레이미드/3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산 및 말레산 무수물을 반응시킨 수지 등을 들 수 있다. (Meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid and maleic anhydride with a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate and 3,4- (Meth) acrylic acid and maleic anhydride are reacted with a copolymer of cyclohexylmethyl methacrylate and cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and (meth) acrylic acid and (Meth) acrylic acid / maleic anhydride, a resin obtained by reacting a copolymer of styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, a resin obtained by reacting a (Meth) acrylic acid and maleic anhydride reacted with a copolymer of (meth) acrylic acid and hexylmethyl methacrylate, and a resin obtained by reacting a copolymer of N-cyclohexylmaleimide / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with (meth) (Meth) acrylic acid and maleic anhydride to a copolymer of dicyclopentanyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, (Meth) acrylic acid and maleic anhydride to a copolymer of dicyclopentyl (meth) acrylate / cyclohexyl (meth) acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, (Meth) acrylate / (meth) acrylate / dicyclopentanyl (meth) acrylate / styrene / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, a resin obtained by reacting a copolymer of (meth) acrylic acid and maleic anhydride with a copolymer of (Meth) acrylate / N-cyclohexyl (meth) acrylate and a resin obtained by reacting a copolymer of methyl acrylate / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate with (meth) acrylic acid and maleic anhydride, Maleimide can be given a mid / 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate to a copolymer of acrylate (meth) acrylic resin is reacted with maleic anhydride and the like.

수지 (B) 의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 3,000 ∼ 100,000, 보다 바람직하게는 5,000 ∼ 50,000 이다. 수지 (B) 의 중량 평균 분자량이, 상기 범위에 있으면, 도포성이 양호해지는 경향이 있고, 또 현상시에 막감소가 발생하기 어렵고, 또한 현상시에 비노광부의 누락성이 양호한 경향이 있다.The weight average molecular weight of the resin (B) in terms of polystyrene is preferably 3,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight of the resin (B) is within the above range, the coating property tends to be good, the film is hardly reduced at the time of development, and the unexposed portion of the non-exposed portion tends to be good at the time of development.

수지 (B) 의 분자량 분포[중량 평균 분자량 (Mw)/수 평균 분자량 (Mn)]은, 바람직하게는 1.1 ∼ 6.0 이며, 보다 바람직하게는 1.2 ∼ 4.0 이다. 분자량 분포가, 상기 범위에 있으면, 현상성이 우수한 경향이 있다. The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the resin (B) is preferably 1.1 to 6.0, and more preferably 1.2 to 4.0. When the molecular weight distribution is in the above range, the developability tends to be excellent.

수지 (B) 의 산가는 바람직하게는 20 ∼ 150 ㎎/g-KOH 이며, 보다 바람직하게는 50 ∼ 135 ㎎/g-KOH, 특히 바람직하게는 70 ∼ 135 ㎎/g-KOH 이다. 여기서 산가는 수지 (B) 1 g 을 중화하는 데에 필요한 수산화칼륨의 양 (㎎) 으로서 측정되는 값이며, 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다. The acid value of the resin (B) is preferably 20 to 150 mg / g-KOH, more preferably 50 to 135 mg / g-KOH, particularly preferably 70 to 135 mg / g-KOH. The acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary for neutralizing 1 g of the resin (B), and can be obtained by titration using an aqueous solution of potassium hydroxide.

본 발명의 착색 감광성 조성물이 수지 (B) 를 함유하는 경우, 수지 (B) 의 함유량은, 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C) 의 합계량에 대해, 통상적으로 5 ∼ 95 질량%, 바람직하게는 20 ∼ 80 질량% 이며, 보다 바람직하게는 40 ∼ 60 질량% 이다. 수지 (B) 의 함유량이 상기 범위에 있으면, 현상성, 밀착성, 경화된 패턴의 내용제성, 기계 특성이 양호해지는 경향이 있다. When the colored photosensitive composition of the present invention contains the resin (B), the content of the resin (B) is usually 5 to 95 mass%, preferably 5 to 95 mass%, relative to the total amount of the resin (B) Is 20 to 80% by mass, and more preferably 40 to 60% by mass. When the content of the resin (B) is in the above range, developability, adhesiveness, solvent resistance of the cured pattern, and mechanical characteristics tend to be good.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 중합성 화합물 (C) 를 함유한다. The colored photosensitive composition of the present invention contains a polymerizable compound (C).

중합성 화합물 (C) 는 중합 개시제 (D) 로부터 발생한 활성 라디칼, 산 등에 의해 중합할 수 있는 화합물로서, 예를 들어, 중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산에스테르 화합물을 들 수 있다. The polymerizable compound (C) is a compound which can be polymerized by an active radical or an acid generated from the polymerization initiator (D), and includes, for example, a compound having a polymerizable ethylenically unsaturated bond, ) Acrylic acid ester compound.

중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 1 개 갖는 중합성 화합물 (C) 로는, 상기 (a), (b) 및 (c) 로서 예시한 화합물과 동일한 것을 들 수 있고, 그 중에서도, (메트)아크릴산에스테르류가 바람직하다. Examples of the polymerizable compound (C) having one polymerizable ethylenically unsaturated bond include the same compounds as those exemplified as the above-mentioned (a), (b) and (c), among which (meth) .

중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 2 개 갖는 중합성 화합물 (C) 로는, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 비스페놀 A 의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르, 에톡시화 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에톡시화 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Examples of the polymerizable compound (C) having two polymerizable ethylenically unsaturated bonds include 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di Acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di Acrylate, polyethylene glycol diacrylate, bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl Glycol di (meth) acrylate, and 3-methylpentanediol di (meth) acrylate.

중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 3 개 이상 갖는 중합성 화합물 (C) 로는, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산무수물 카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트와 산무수물의 반응물, 카프로락톤 변성 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트와 산무수물 등을 들 수 있다. Examples of the polymerizable compound (C) having three or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylol propane tri Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri A reaction product of dipentaerythritol penta (meth) acrylate and an acid anhydride, tripentaerythritol (meth) acrylate and acid anhydride caprolactone-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol (Meth) acrylate, caprolactone modified tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, caprolactone modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone modified dipentaerythritol penta (Meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone modified tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone Modified tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified tripentaerythritol Acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tri (meth) acrylate and acid anhydride, caprolactone-modified dipentaerythritol penta (meth) A reaction product of an acrylate and an acid anhydride, caprolactone-modified tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, and an acid anhydride.

그 중에서도, 3 관능 이상의 모노머가 바람직하고, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트가 보다 바람직하다. Of these, monomers having three or more functionalities are preferable, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate is more preferable.

중합성 화합물 (C) 의 함유량은 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C) 의 합계량에 대해, 바람직하게는 5 ∼ 95 질량%, 보다 바람직하게는 20 ∼ 80 질량% 이다. 중합성 화합물 (C) 의 함유량이, 상기 범위에 있으면, 감도나, 얻어지는 패턴의 평활성, 신뢰성, 기계 강도가 양호해지는 경향이 있다. The content of the polymerizable compound (C) is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, based on the total amount of the resin (B) and the polymerizable compound (C). When the content of the polymerizable compound (C) is in the above range, the sensitivity and the smoothness, reliability and mechanical strength of the resulting pattern tends to be good.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 중합 개시제 (D) 를 함유한다. The colored photosensitive composition of the present invention contains a polymerization initiator (D).

중합 개시제 (D) 로는, 광의 작용에 의해 활성 라디칼, 산 등을 발생시키고, 중합을 개시하는 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 공지된 중합 개시제를 사용할 수 있다. The polymerization initiator (D) is not particularly limited as long as it is a compound which generates an active radical, an acid or the like by the action of light and initiates polymerization, and a known polymerization initiator can be used.

중합 개시제 (D) 로는, 비이미다졸 화합물, 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, 옥심 화합물이 바람직하다. 또, 일본 공개특허공보 제2008-181087호에 기재된 광 카티온 중합 개시제 (예를 들어, 오늄 카티온과 루이스산 유래의 아니온으로 구성되어 있는 것) 를 사용해도 된다. As the polymerization initiator (D), a nonimidazole compound, an alkylphenone compound, a triazine compound, an acylphosphine oxide compound or an oxime compound is preferable. The photocathione polymerization initiator described in JP-A No. 2008-181087 (for example, one composed of onium cation and anion derived from Lewis acid) may be used.

상기 비이미다졸 화합물로는, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 (예를 들어, 일본 공개특허공보 평6-75372호 및 일본 공개특허공보 평6-75373호 참조), 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸 (예를 들어, 일본 특허공보 소48-38403호 및 일본 공개특허공보 소62-174204호 참조), 4,4'5,5'-위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 (예를 들어, 일본 공개특허공보 평7-10913호 참조) 등을 들 수 있다. 바람직하게는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸을 들 수 있다. Examples of the imidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3- ) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (see, for example, JP-A 6-75372 and JP-A 6-75373), 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) ) Diimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (dialkoxyphenyl) 4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole (see, for example, Japanese Patent Publication No. 48-38403 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-174204) Imidazole compounds in which the phenyl group at the 5,5'-position is substituted by a carboalkoxy group (see, for example, JP-A-7-10913). Preferred are 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole.

상기 알킬페논 화합물로는, 디에톡시아세토페논, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-(4-메틸페닐메틸)부탄-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-하이드록시-2-메틸-1-〔4-(2-하이드록시에톡시)페닐〕프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-(4-이소프로페닐페닐)프로판-1-온의 올리고머 등을 수 있고, 바람직하게는 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 등을 들 수 있다. 이르가큐어 369, 907 (이상, BASF 재팬사 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다. Examples of the alkylphenone compounds include diethoxyacetophenone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan- 2- (4-methylphenylmethyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2- Methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (2-hydroxyethoxy) Oligomers of 2-hydroxy-2-methyl-1- (4-isopropenylphenyl) propane-1-one and the like, preferably 2-methyl- (4-methylsulfanylphenyl) propan-1-one, and 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutan-1-one. IRGACURE 369, 907 (manufactured by BASF Japan), and the like may be used.

상기 트리아진 화합물로는, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐) 에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (Trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) -1,3,5-triazine, ) Ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] Bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

상기 아실포스핀옥사이드 화합물로는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 이르가큐어 819 (BASF 재팬사 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다. Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like. A commercially available product such as Irgacure 819 (manufactured by BASF Japan) may be used.

상기 옥심 화합물로는, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민 등을 들 수 있다. 이르가큐어 OXE-01, OXE-02 (이상, BASF 재팬사 제조), N-1919 (ADEKA 사 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다. Examples of the oxime compounds include N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butan-1-one-2-imine, N-benzoyloxy- Yl] ethane-1-imine, N-acetoxy-1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) Benzoyl} -9H-carbazol-3-yl] ethan-1-imine or the like is used instead of 9-ethyl-6- {2- methyl- 4- (3,3- . Commercially available products such as Irgacure OXE-01, OXE-02 (manufactured by BASF Japan) and N-1919 (manufactured by ADEKA) may be used.

또한, 중합 개시제 (D) 로는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 화합물;벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물;9,10-페난트렌퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 캠퍼퀴논 등의 퀴논 화합물;10-부틸-2-클로로아크리돈, 벤질, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다. 이들은, 후술하는 중합 개시 보조제 (D1) (특히 후술하는 아민 화합물) 과 조합하여 사용하는 것이 바람직하다. Examples of the polymerization initiator (D) include benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether; benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4- Benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, etc. Benzophenone compounds such as 9,10-phenanthrene quinone, 2-ethyl anthraquinone, camphorquinone, etc., 10-butyl-2-chloroacridone, benzyl, methyl phenylglyoxylate, . These are preferably used in combination with a polymerization initiating auxiliary (D1) described later (particularly an amine compound described below).

본 발명의 착색 감광성 조성물은 중합 개시 보조제 (D1) 을 함유하고 있어도 된다. 중합 개시 보조제 (D1) 은 중합 개시제 (D) 와 조합하여 사용되고, 중합 개시제에 의해 중합이 개시된 중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위해서 사용되는 화합물, 또는 증감제이다. The colored photosensitive composition of the present invention may contain a polymerization initiator (D1). The polymerization initiation assistant (D1) is used in combination with the polymerization initiator (D), and is a compound or a sensitizer used for promoting the polymerization of the polymerizable compound initiated by the polymerization initiator.

중합 개시 보조제 (D1) 로는, 아민 화합물, 티아졸린 화합물, 알콕시안트라센 화합물, 티오크산톤 화합물, 카르복실산 화합물 등을 들 수 있다. Examples of the polymerization initiator (D1) include an amine compound, a thiazoline compound, an alkoxyanthracene compound, a thioxanthone compound, and a carboxylic acid compound.

아민 화합물로는, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 그 중에서도 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. EAB-F (호도가야 화학 공업 (주) 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다. Examples of the amine compound include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, (Dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (ethyl Methylamino) benzophenone, among which 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is preferable. And commercially available products such as EAB-F (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) may be used.

티아졸린 화합물로는, 식 (Ⅲ-1) ∼ 식 (Ⅲ-3) 으로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. Examples of the thiazoline compound include compounds represented by the formulas (III-1) to (III-3).

[화학식 4][Chemical Formula 4]

Figure 112011075789923-pat00004
Figure 112011075789923-pat00004

알콕시안트라센 화합물로는, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센 등을 들 수 있다. Examples of the alkoxyanthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, Dibutoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dibutoxyanthracene and the like.

티오크산톤 화합물로는, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다. Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1- City Oak Mountain, and the like.

카르복실산 화합물로는, 페닐술파닐아세트산, 메틸페닐술파닐아세트산, 에틸페닐술파닐아세트산, 메틸에틸페닐술파닐아세트산, 디메틸페닐술파닐아세트산, 메톡시페닐술파닐아세트산, 디메톡시페닐술파닐아세트산, 클로로페닐술파닐아세트산, 디클로로페닐술파닐아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다. Examples of the carboxylic acid compound include phenylsulfanyl acetic acid, methylphenylsulfanylacetic acid, ethylphenylsulfanylacetic acid, methylethylphenylsulfanylacetic acid, dimethylphenylsulfanylacetic acid, methoxyphenylsulfanylacetic acid, dimethoxyphenylsulfanylacetic acid, Chlorophenylsulfanylacetic acid, dichlorophenylsulfanylacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid and the like.

중합 개시제 (D) 의 함유량은, 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C) 의 합계량에 대해, 바람직하게는 0.1 ∼ 40 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 30 질량% 이다. The content of the polymerization initiator (D) is preferably 0.1 to 40 mass%, more preferably 1 to 30 mass%, based on the total amount of the resin (B) and the polymerizable compound (C).

중합 개시제 (D) 의 합계량이 이 범위에 있으면, 착색 감광성 조성물이 고감도가 되어, 얻어지는 패턴의 내약품성, 기계 강도, 표면 평활성이 양호해지는 경향이 있다. When the total amount of the polymerization initiator (D) is within this range, the colored photosensitive composition becomes highly sensitive, and the chemical resistance, mechanical strength and surface smoothness of the resulting pattern tends to be good.

중합 개시 보조제 (D1) 을 사용하는 경우, 그 사용량은, 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C) 의 합계량에 대해, 바람직하게는 0.01 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 40 질량% 이다. 또, 중합 개시제 (D) 1 몰당, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 몰, 보다 바람직하게는 0.01 ∼ 5 몰이다. The amount of the polymerization initiator (D1) to be used is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 40% by mass, based on the total amount of the resin (B) and the polymerizable compound (C) . It is preferably 0.01 to 10 moles, more preferably 0.01 to 5 moles, per 1 mole of the polymerization initiator (D).

중합 개시 보조제 (D1) 의 양이 이 범위에 있으면, 얻어지는 착색 감광성 조성물의 감도가 더욱 높아져, 얻어지는 패턴의 생산성이 향상되는 경향이 있다. When the amount of the polymerization initiator (D1) is within this range, the sensitivity of the resulting colored photosensitive composition is further increased, and the productivity of the obtained pattern tends to be improved.

또, 본 발명의 착색 감광성 조성물은, 추가로 다관능 티올 화합물 (T) 를 함유하고 있어도 된다. 이 다관능 티올 화합물 (T) 는, 분자 내에 2 개 이상의 술파닐기를 갖는 화합물이다. 그 중에서도, 지방족 탄화수소기에 인접하는 술파닐기를 2 개 이상 갖는 화합물을 사용하면, 본 발명의 착색 감광성 조성물의 감도가 높아지기 때문에 바람직하다. The colored photosensitive composition of the present invention may further contain a polyfunctional thiol compound (T). The polyfunctional thiol compound (T) is a compound having two or more sulfanyl groups in the molecule. Among them, the use of a compound having two or more sulfanyl groups adjacent to the aliphatic hydrocarbon group is preferable because sensitivity of the colored photosensitive composition of the present invention is increased.

다관능 티올 화합물 (T) 로는, 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-비스(메틸술파닐)벤젠, 부탄디올비스(3-술파닐프로피오네이트), 부탄디올비스(3-술파닐아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-술파닐아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-술파닐아세테이트), 부탄디올비스(3-술파닐프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(3-술파닐프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(3-술파닐아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-술파닐프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-술파닐아세테이트), 트리스하이드록시에틸트리스(3-술파닐프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-술파닐부틸레이트), 1,4-비스(3-술파닐부틸옥시)부탄 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional thiol compound (T) include hexane dithiol, decanediol, 1,4-bis (methylsulfanyl) benzene, butanediol bis (3-sulfanylpropionate), butanediol bis (3-sulfanyl acetate) , Trimethylolpropane tris (3-sulfanyl acetate), butanediol bis (3-sulfanyl propionate), trimethylolpropane tris (3-sulfanyl propionate), ethylene glycol bis Pentaerythritol tetrakis (3-sulfanyl acetate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanyl propionate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanyl acetate), tris hydroxyethyl tris Propionate), pentaerythritol tetrakis (3-sulfanylbutylate), and 1,4-bis (3-sulfanylbutyloxy) butane.

다관능 티올 화합물 (T) 의 함유량은, 중합 개시제 (D) 에 대해, 바람직하게는 0.5 ∼ 20 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 15 질량% 이다. 다관능 티올 화합물 (T) 의 함유량이 이 범위에 있으면, 감도가 높아지고, 또 현상성이 양호해지는 경향이 있다. The content of the polyfunctional thiol compound (T) is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, based on the polymerization initiator (D). When the content of the polyfunctional thiol compound (T) is within this range, the sensitivity tends to be high and the developability tends to be good.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 용제 (E) 를 함유한다. 용제 (E) 로는, 특별히 한정되지 않고, 당해 분야에서 통상적으로 사용되는 용제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르 용제 (분자 내에 -COO- 를 함유하고, -O- 를 함유하지 않는 용제), 에스테르 용제 이외의 에테르 용제 (분자 내에 -O- 를 함유하고, -COO- 를 함유하지 않는 용제), 에테르에스테르 용제 (분자 내에 -COO- 와 -O- 를 함유하는 용제), 에스테르 용제 이외의 케톤 용제 (분자 내에 -CO- 를 함유하고, -COO- 를 함유하지 않는 용제), 알코올 용제, 방향족 탄화수소 용제, 아미드 용제 및 디메틸술폭사이드 중에서 선택하여 사용할 수 있다. The colored photosensitive composition of the present invention contains a solvent (E). The solvent (E) is not particularly limited, and a solvent commonly used in the art can be used. For example, an ester solvent (a solvent containing -COO- in the molecule and not containing -O-), an ether solvent other than an ester solvent (a solvent containing -O- in the molecule and not containing -COO- ), Ether ester solvents (solvents containing -COO- and -O- in the molecule), ketone solvents other than ester solvents (solvents containing -CO- in the molecule and containing -COO-), alcohol solvents, An aromatic hydrocarbon solvent, an amide solvent, and dimethylsulfoxide.

에스테르 용제로는, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산부틸, 2-하이드록시이소부탄산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산부틸, 부티르산이소프로필, 부티르산에틸, 부티르산부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 시클로헥산올아세테이트, γ-부티로락톤 등을 들 수 있다. Examples of the ester solvent include methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 2-hydroxyisobutanoate, ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl formate, isopentyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate , Butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, cyclohexanol acetate, and γ-butyrolactone.

에테르 용제로는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-3-메틸부탄올, 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 1,4-디옥산, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 아니솔, 페네톨, 메틸아니솔 등을 들 수 있다. Examples of the ether solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, tetrahydrofuran, tetrahydrofuran , 1,4-dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, anisole, A brush, and the like.

에테르에스테르 용제로는, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the ether ester solvent include methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, Ethoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, Methyl propionate, methyl propionate, methyl 2-ethoxy-2-methyl propionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, Monopropyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate , Di, and the like ethylene glycol monobutyl ether acetate.

케톤 용제로는, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 아세톤, 2-부타논, 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 4-메틸-2-펜타논, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 이소포론 등을 들 수 있다. Examples of the ketone solvent include 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4- Cyclopentanone, cyclohexanone, isophorone, and the like.

알코올 용제로는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 글리세린 등을 들 수 있다. Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin and the like.

방향족 탄화수소 용제로는, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 메시틸렌 등을 들 수 있다. Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include benzene, toluene, xylene, and mesitylene.

아미드 용제로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸 피롤리돈 등을 들 수 있다. Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone.

이들 용제는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.These solvents may be used alone, or two or more solvents may be used in combination.

상기 용제 중, 도포성, 건조성면에서, 1 atm 에 있어서의 비점이 120 ℃ 이상 180 ℃ 이하인 유기 용제가 바람직하다. 그 중에서도, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메톡시-1-부탄올 등이 바람직하다. Among these solvents, an organic solvent having a boiling point of 120 ° C or more and 180 ° C or less at 1 atm is preferable from the viewpoint of coatability and dryness. Among them, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, 3-methoxybutyl acetate, 3-methoxy-1-butanol and the like are preferable.

착색 감광성 조성물에 있어서의 용제 (E) 의 함유량은, 착색 감광성 조성물에 대해, 바람직하게는 60 ∼ 95 질량% 이며, 보다 바람직하게는 70 ∼ 90 질량% 이다. 바꾸어 말하면, 착색 감광성 조성물의 고형분은, 바람직하게는 5 ∼ 40 질량% 이며, 보다 바람직하게는 10 ∼ 30 질량% 이다. 용제 (E) 의 함유량이 상기 범위에 있으면, 도포시의 평탄성이 양호해지는 경향이 있다. The content of the solvent (E) in the colored photosensitive composition is preferably 60 to 95% by mass, and more preferably 70 to 90% by mass, based on the colored photosensitive composition. In other words, the solid content of the colored photosensitive composition is preferably 5 to 40% by mass, and more preferably 10 to 30% by mass. When the content of the solvent (E) is in the above range, the flatness at the time of coating tends to be good.

본 발명의 착색 감광성 조성물은, 계면활성제 (F) 를 함유하는 것이 바람직하다. 계면활성제로는, 예를 들어, 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제, 및 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제를 들 수 있다. 계면활성제를 함유함으로써, 도포시의 평탄성이 양호해지는 경향이 있다. The colored photosensitive composition of the present invention preferably contains a surfactant (F). Examples of the surfactant include a silicone surfactant, a fluorinated surfactant, and a silicon surfactant having a fluorine atom. The inclusion of the surfactant tends to make the flatness at the time of coating good.

실리콘계 계면활성제로는, 실록산 결합을 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 토오레 실리콘 DC3PA, 동 SH7PA, 동 DC11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 SH29PA, 동 SH30PA, 폴리에테르 변성 실리콘 오일 SH8400 (상품명:토오레 다우코닝 (주) 제조), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (신에츠 화학 공업 (주) 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (모멘티브 퍼포먼스 마테리알즈 재팬 합동 회사 제조) 등을 들 수 있다. As the silicone surfactant, a surfactant having a siloxane bond can be mentioned. Concretely, it is possible to use a silicone resin such as Tororensilicon DC3PA, Copper SH7PA, Copper DC11PA, Copper SH21PA, Copper SH28PA, Copper SH29PA, Copper SH30PA, Polyether Modified Silicone Oil SH8400 (trade name: manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP323, KP324, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF- 4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by Momentive Performance Materials Japan Co., Ltd.) And the like.

불소계 계면활성제로는, 플루오로 카본 사슬을 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 플로리나토 (등록 상표) FC430, 동 FC431 (스미토모 3M (주) 제조), 메가팍 (등록 상표) F142D, 동 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F177, 동 F183, 동 R30 (DIC (주) 제조), 에프톱 (등록 상표) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352 (미쓰비시 마테리알 전자 화성 (주) 제조), 사프론 (등록 상표) S381, 동 S382, 동 SC101, 동 SC105 (아사히 가라스 (주) 제조), E5844 ((주) 다이킨 파인 케미컬 연구소 제조) 등을 들 수 있다. Examples of the fluorine-based surfactant include a surfactant having a fluorocarbon chain. Specifically, the following materials were used: Florinato (registered trademark) FC430, FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Ltd.), Megapack (registered trademark) F142D, copper F171, copper F172, copper F173, copper F177, copper F183, copper R30 (Registered trademark) S381, S382, SC101, SC105 (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), EF301, EF351, EF351 and EF352 (Manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Research Co., Ltd.).

불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제로는, 실록산 결합 및 플루오로 카본 사슬을 갖는 계면활성제를 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팍 (등록 상표) R08, 동 BL20, 동 F475, 동 F477, 동 F443 (DIC (주) 제조) 등을 들 수 있다. 바람직하게는 메가팍 (등록 상표) F475 를 들 수 있다. Examples of the silicone surfactant having a fluorine atom include a surfactant having a siloxane bond and a fluorocarbon chain. Specific examples thereof include Megapac (registered trademark) R08, Copper BL20, Copper F475, Copper F477, Copper F443 (manufactured by DIC Corporation). And preferably Megapak (registered trademark) F475.

계면활성제 (F) 는 착색 감광성 조성물에 대해, 0.001 질량% 이상 0.2 질량% 이하이며, 바람직하게는 0.002 질량% 이상 0.1 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상 0.05 질량% 이하이다. 계면활성제를 이 범위에서 함유함으로써, 도포막의 평탄성을 양호하게 할 수 있다. The surfactant (F) is 0.001 mass% or more and 0.2 mass% or less, preferably 0.002 mass% or more and 0.1 mass% or less, and more preferably 0.01 mass% or more and 0.05 mass% or less, with respect to the color photosensitive composition. When the surfactant is contained in this range, the flatness of the coating film can be improved.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 필요에 따라 충전제, 다른 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 연쇄 이동제 등의 여러 가지 첨가제를 함유해도 된다. The colored photosensitive composition of the present invention may contain various additives such as fillers, other polymer compounds, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, and chain transfer agents, if necessary.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 예를 들어, 이하와 같이 하여 조제할 수 있다. The colored photosensitive composition of the present invention can be prepared, for example, as follows.

먼저, 착색제 (A) 의 안료를 용제 (E) 와 혼합하고, 안료의 평균 입자경이 0.2 ㎛ 이하 정도가 될 때까지, 비즈밀 등을 사용하여 분산시킨다. 이 때, 필요에 따라 안료 분산제, 수지 (B) 의 일부 또는 전부를 배합해도 된다. 얻어진 안료 분산액에, 중합성 화합물 (C) 및 중합 개시제 (D), 필요에 따라 함유되는 수지 (B) 의 잔여물, 그 밖의 성분, 또한 필요에 따라 추가의 용제 (E) 를, 소정의 농도가 되도록 첨가함으로써, 목적의 착색 감광성 조성물을 얻을 수 있다. First, the pigment of the colorant (A) is mixed with the solvent (E) and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the pigment becomes about 0.2 탆 or less. At this time, if necessary, a part or all of the pigment dispersant and the resin (B) may be blended. To the pigment dispersion thus obtained, the polymerizable compound (C) and the polymerization initiator (D), the residue of the resin (B) optionally contained, other components and, if necessary, further solvent (E) So that the intended colored photosensitive composition can be obtained.

본 발명의 착색 감광성 조성물은 예를 들어, 하기 (1) ∼ (4) 에 나타나는 공정을 거쳐, 컬러 필터에 가공된다. The colored photosensitive composition of the present invention is processed into a color filter, for example, through the steps shown in the following (1) to (4).

(1) 본 발명의 착색 감광성 조성물을 기판에 도포함으로써 도포막을 얻는 공정(1) A step of obtaining a coating film by applying the colored photosensitive composition of the present invention to a substrate

(2) 도포막에, 마스크를 개재하여 노광함으로써 노광 후 도포막을 얻는 공정(2) A step of obtaining a coated film after exposure by exposing the coated film through a mask

(3) 노광 후 도포막을 알칼리 현상액으로 현상함으로써 패턴을 얻는 공정(3) a step of obtaining a pattern by developing the coated film after exposure with an alkali developer

(4) 패턴을 베이크함으로써 경화된 패턴을 얻는 공정(4) A step of obtaining a cured pattern by baking a pattern

패턴을 얻는 방법으로는, 포토리소그래피법, 잉크젯법, 인쇄법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 포토리소그래피법이 바람직하다. Examples of the method for obtaining the pattern include a photolithography method, an inkjet method, a printing method, and the like. Among them, a photolithography method is preferable.

포토리소그래피법은 상기 착색 감광성 조성물을 기판에 도포하여, 건조시키고, 포토마스크를 개재하여 노광하고, 현상함으로써 패턴을 얻는 방법이다. In the photolithography method, the above-mentioned colored photosensitive composition is applied to a substrate, dried, exposed through a photomask, and developed to obtain a pattern.

상기 기판으로는, 예를 들어, 유리, 금속 및 플라스틱을 들 수 있고, 판 형상이어도 되고, 필름 형상이어도 된다. Examples of the substrate include glass, metal, and plastic. The substrate may be a plate or a film.

플라스틱으로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 노르보르넨계 폴리머 등의 폴리올레핀, 폴리비닐알코올, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리(메트)아크릴산에스테르, 셀룰로오스에스테르, 폴리카보네이트, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리에테르케톤, 폴리페닐렌술파이드 및 폴리페닐렌옥사이드를 들 수 있다. 여기서, (메트)아크릴산이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 말한다. Examples of the plastic include polyolefins such as polyethylene, polypropylene and norbornene polymer, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly (meth) acrylate, cellulose ester, polycarbonate, polysulfone, poly Ether sulfone, polyether ketone, polyphenylene sulfide, and polyphenylene oxide. Here, (meth) acrylic acid means at least one kind selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid.

이들 기판에는, 컬러 필터, 각종 절연 또는 도전막, 구동 회로 등의 구조체가 형성되어 있어도 된다. On these substrates, a structure such as a color filter, various insulating or conductive films, and a drive circuit may be formed.

본 발명의 착색 감광성 조성물에 의하면, 보다 저온에서 경화된 패턴을 형성할 수 있다는 점에서, 플라스틱 기판에 패턴을 형성할 때에 특히 유용하다. The colored photosensitive composition of the present invention is particularly useful when a pattern is formed on a plastic substrate in that it can form a cured pattern at a lower temperature.

기판에 대한 도포 방법으로는, 예를 들어, 압출 코팅법, 다이렉트 그라비아 코팅법, 리버스 그라비아 코팅법, CAP 코팅법 및 다이 코팅법을 들 수 있다. 또, 딥 코터, 롤 코터, 바 코터, 스핀 코터, 슬릿&스핀 코터, 슬릿 코터 (다이 코터, 커튼플로우 코터, 스핀레스 코터라고도 불리는 경우가 있다), 잉크젯 등의 도포 장치를 사용하여 도포해도 된다. 그 중에서도, 슬릿 코터, 스핀 코터, 롤 코터 등을 사용하여 도포하는 것이 바람직하다. Examples of the application method for the substrate include extrusion coating, direct gravure coating, reverse gravure coating, CAP coating and die coating. It may also be applied by using a coating device such as a dip coater, a roll coater, a bar coater, a spin coater, a slit & spin coater, a slit coater (also referred to as a die coater, a curtain flow coater or a spinless coater) . Among them, it is preferable to apply by using a slit coater, a spin coater, a roll coater or the like.

기판에 도포한 막의 건조 방법으로는, 예를 들어, 가열 건조, 자연 건조, 통풍 건조, 감압 건조 등의 방법을 들 수 있다. 복수의 방법을 조합하여 실시해도 된다. Examples of the drying method of the film coated on the substrate include heat drying, natural drying, air drying, and vacuum drying. A plurality of methods may be combined.

건조 온도로는, 10 ∼ 120 ℃ 가 바람직하고, 25 ∼ 100 ℃ 가 보다 바람직하다. 또 가열 시간으로는, 10 초간 ∼ 60 분간인 것이 바람직하고, 30 초간 ∼ 30 분간인 것이 보다 바람직하다. The drying temperature is preferably 10 to 120 占 폚, more preferably 25 to 100 占 폚. The heating time is preferably 10 seconds to 60 minutes, more preferably 30 seconds to 30 minutes.

감압 건조는 50 ∼ 150 Pa 의 압력하, 20 ∼ 25 ℃ 의 온도 범위에서 실시하는 것이 바람직하다. The vacuum drying is preferably carried out at a temperature of 20 to 25 캜 under a pressure of 50 to 150 Pa.

건조 후의 도포막의 막두께는, 특별히 한정되지 않고, 사용하는 재료, 용도 등에 따라 적절히 조정할 수 있고, 통상적으로 0.1 ∼ 20 ㎛ 이며, 바람직하게는 1 ∼ 6 ㎛ 이다. The film thickness of the coated film after drying is not particularly limited and can be appropriately adjusted depending on the material to be used and the application, and is usually 0.1 to 20 탆, preferably 1 to 6 탆.

건조 후의 도포막은, 목적의 패턴을 형성하기 위한 포토마스크를 개재하여, 노광한다. 이 때의 포토마스크 상의 패턴 형상은 특별히 한정되지 않고, 목적으로 하는 용도에 따른 패턴 형상이 사용된다. The coated film after drying is exposed through a photomask for forming a desired pattern. The pattern shape on the photomask at this time is not particularly limited, and a pattern shape according to the intended use is used.

노광에 사용되는 광원으로는, 250 ∼ 450 ㎚ 의 파장의 광을 발생하는 광원이 바람직하다. 예를 들어, 350 ㎚ 미만의 광을, 이 파장역을 컷하는 필터를 사용하여 컷하거나 436 ㎚ 부근, 408 ㎚ 부근, 365 ㎚ 부근의 광을, 이들의 파장역을 취출하는 밴드 패스 필터를 사용하여 선택적으로 취출하거나 해도 된다. 구체적으로는, 수은등, 발광 다이오드, 메탈 할라이드 램프, 할로겐 램프 등을 들 수 있다. As a light source used for exposure, a light source that generates light having a wavelength of 250 to 450 nm is preferable. For example, light having a wavelength of less than 350 nm is cut using a filter for cutting the wavelength band, or a band-pass filter for extracting light in the vicinity of 436 nm, around 408 nm, and around 365 nm is used Or may be selectively taken out. Specific examples thereof include mercury lamps, light emitting diodes, metal halide lamps, and halogen lamps.

노광면 전체에 균일하게 평행 광선을 조사하거나 마스크와 기재의 정확한 위치 맞춤을 실시할 수 있기 때문에, 마스크 얼라이너, 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. It is preferable to use a device such as a mask aligner or a stepper because it is possible to uniformly irradiate the entire exposure surface with parallel rays or accurately align the mask and the substrate.

노광 후, 현상액에 접촉시켜 소정 부분, 예를 들어, 미노광부를 용해시켜, 현상함으로써 패턴을 얻을 수 있다. 현상액으로는, 유기 용제이어도 되지만, 도포막의 노광부가 현상액에 의해 용해나 팽윤이 발생되기 어렵고, 양호한 형상의 패턴이 얻어지기 때문에, 염기성 화합물의 수용액이 바람직하다. After exposure, a pattern can be obtained by contacting a predetermined portion, for example, an unexposed portion with a developing solution to develop the resist. As the developing solution, an organic solvent may be used, but an aqueous solution of a basic compound is preferable because dissolution or swelling hardly occurs in the exposed portion of the coating film and a pattern of a good shape can be obtained.

현상 방법은, 패들법, 딥핑법, 스프레이법 등 중 어느 것이어도 된다. 또한, 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울이어도 된다. The developing method may be paddle method, dipping method, spray method, or the like. Further, the substrate may be inclined at an arbitrary angle at the time of development.

현상 후에는, 수세하는 것이 바람직하다. After development, it is preferable to wash with water.

상기 염기성 화합물로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소2나트륨, 인산2수소나트륨, 인산수소2암모늄, 인산2수소암모늄, 인산2수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등의 무기 염기성 화합물;테트라메틸암모늄하이드록사이드, 2-하이드록시에틸트리메틸암모늄하이드록사이드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등의 유기 염기성 화합물을 들 수 있다. 그 중에서도, 수산화칼륨, 탄산수소나트륨 및 테트라메틸암모늄하이드록사이드가 바람직하다. Examples of the basic compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogenphosphate, sodium dihydrogenphosphate, ammonium dihydrogenphosphate, ammonium dihydrogenphosphate, potassium dihydrogenphosphate, sodium silicate, potassium silicate, potassium carbonate, Inorganic basic compounds such as sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate and ammonia; organic basic compounds such as tetramethyl ammonium hydroxide, 2-hydroxyethyl trimethyl ammonium hydroxide, , Organic basic compounds such as diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, and ethanolamine. Among them, potassium hydroxide, sodium hydrogencarbonate and tetramethylammonium hydroxide are preferable.

이들 무기 및 유기 염기성 화합물의 수용액 중의 농도는, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 질량% 이며, 보다 바람직하게는 0.03 ∼ 5 질량% 이다. The concentration of these inorganic and organic basic compounds in the aqueous solution is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.03 to 5% by mass.

상기 염기성 화합물의 수용액은, 계면활성제를 함유하고 있어도 된다. The aqueous solution of the basic compound may contain a surfactant.

계면활성제로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 코폴리머, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등의 노니온계 계면활성제;Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene aryl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan Nonionic surfactants such as fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters and polyoxyethylene alkylamines;

라우릴알코올황산에스테르나트륨, 올레일알코올황산에스테르나트륨, 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄, 도데실벤젠술폰산나트륨, 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 아니온계 계면활성제;Anionic surfactants such as sodium lauryl alcohol sulfate, sodium oleyl alcohol sulfate, sodium lauryl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate and sodium dodecylnaphthalenesulfonate;

스테아릴아민염산염, 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 카티온계 계면활성제 등을 들 수 있다. And cationic surfactants such as stearylamine hydrochloride and lauryltrimethylammonium chloride.

염기성 화합물의 수용액 중의 계면활성제의 농도는, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 질량%, 보다 바람직하게는 0.05 ∼ 8 질량%, 특히 바람직하게는 0.1 ∼ 5 질량% 이다. The concentration of the surfactant in the aqueous solution of the basic compound is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 8% by mass, and particularly preferably 0.1 to 5% by mass.

추가로 필요에 따라 포스트베이크를 실시해도 된다. 포스트베이크는 예를 들어, 50 ∼ 230 ℃, 2 ∼ 240 분간의 범위에서 실시하는 것이 바람직하다.Further post-baking may be carried out if necessary. The post-baking is preferably carried out at a temperature in the range of, for example, 50 to 230 DEG C for 2 to 240 minutes.

본 발명의 착색 감광성 조성물은, 색 농도, 명도, 콘트라스트, 감도, 해상도, 내열성 등의 양호한 패턴 및 컬러 필터를 얻는 것이 가능해진다. 또, 이들의 컬러 필터 또는 패턴을 그 구성 부품의 일부로서 구비하는 표시 장치, 예를 들어, 공지된 액정 표시 장치, 유기 EL 장치, 고체 촬상 소자, 전자 페이퍼 등의 착색 화상과 관련된 기기에, 공지된 양태로 이용할 수 있다. The colored photosensitive composition of the present invention can obtain a good pattern such as color density, brightness, contrast, sensitivity, resolution, heat resistance, and color filter. It is also possible to use a display device having such a color filter or pattern as a part of its constituent parts, for example, a device related to a colored image such as a known liquid crystal display device, an organic EL device, a solid- Gt; < / RTI >

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」 는 특별한 기재가 없는 한 질량% 및 질량부이다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. In the examples, "% " and " part " are by mass% and part by mass unless otherwise specified.

합성예 1Synthesis Example 1

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 깔때기 및 질소 도입관을 구비한 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 182 g 을 도입하고, 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 한 후, 100 ℃ 로 승온시킨 후, 벤질메타크릴레이트 70.5 g (0.40 몰), 메타크릴산 43.0 g (0.5 몰), 트리시클로데칸 골격의 모노메타크릴레이트 (히타치 화성 (주) 제조 FA-513M) 22.0 g (0.10 몰) 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 136 g 으로 이루어지는 혼합물에 아조비스이소부티로니트릴 3.6 g 을 첨가한 용액을 적하 깔때기로부터 2 시간에 걸쳐 플라스크에 적하하고, 추가로 100 ℃ 에서 5 시간 계속하여 교반하였다. 다음으로, 플라스크 내 분위기를 질소에서 공기로 하고, 글리시딜메타크릴레이트 35.5 g[0.25 몰, (본 반응에 사용한 메타크릴산의 카르복실기에 대해 50 몰%)], 트리스디메틸아미노메틸페놀 0.9 g 및 하이드로퀴논 0.145 g 을 플라스크 내에 투입하고, 110 ℃ 에서 6 시간 반응을 계속하여, 고형분 산가가 79 ㎎KOH/g 인 수지 용액 B1 을 얻었다. GPC 에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 13,000 이고, 분자량 분포 (Mw/Mn) 는 2.1 이었다. 182 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was introduced into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a nitrogen inlet tube, the atmosphere in the flask was changed to nitrogen in air, 22.0 g (0.10 mole) of mono methacrylate (FA-513M, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) and 43.0 g (0.5 mole) of methacrylic acid were mixed with 70.5 g (0.40 mole) of benzyl methacrylate, And 136 g of monomethyl ether acetate, to which 3.6 g of azobisisobutyronitrile had been added, was added dropwise to the flask over 2 hours from the dropping funnel, and further stirred at 100 DEG C for 5 hours. Next, 35.5 g (0.25 mol) of glycidyl methacrylate (50 mol% with respect to the carboxyl group of the methacrylic acid used in the present reaction) of 0.9 g of trisdimethylaminomethylphenol, And hydroquinone (0.145 g) were charged into a flask, and the reaction was continued at 110 DEG C for 6 hours to obtain a resin solution B1 having a solid acid value of 79 mgKOH / g. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 13,000 and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.1.

합성예 2Synthesis Example 2

교반기, 온도계, 환류 냉각기, 적하 깔때기 및 가스 도입관을 구비한 플라스크에, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 250 부를 도입하였다. 그 후, 질소 가스를 가스 도입관을 사용하여 플라스크 내에 도입하여, 플라스크 내 분위기가 질소 가스로 치환되었다. 그 후, 플라스크 내의 용액을 100 ℃ 로 승온시킨 후, 벤질메타크릴레이트 152.6 부, 메타크릴산 41.7 부, 아조비스이소부티로니트릴 1.5 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 150 부로 이루어지는 혼합물을, 적하 깔때기를 사용하여 2 시간에 걸쳐 플라스크에 적하하고, 적하 완료 후, 추가로 100 ℃ 에서 2.5 시간 교반을 계속하여, 중량 평균 분자량 Mw 는 2.3×104, 고형분 34 질량%, 용액 산가 47 ㎎-KOH/g 인 수지 용액 B2 를 얻었다. 250 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was introduced into a flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, a dropping funnel and a gas introduction tube. Thereafter, nitrogen gas was introduced into the flask by using a gas introduction tube, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen gas. Thereafter, the solution in the flask was heated to 100 DEG C, and then a mixture of 152.6 parts of benzyl methacrylate, 41.7 parts of methacrylic acid, 1.5 parts of azobisisobutyronitrile and 150 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate was added to a dropping funnel And the mixture was further stirred at 100 ° C for 2.5 hours. The weight average molecular weight Mw was 2.3 × 10 4 , the solid content was 34% by mass, the solution acid value was 47 mg-KOH / lt; 2 > / g.

합성예에서 얻어진 수지의 중량 평균 분자량 (Mw) 및 수 평균 분자량 (Mn) 의 측정은, GPC 법을 사용하여, 이하의 조건에서 실시하였다. The weight-average molecular weight (Mw) and the number-average molecular weight (Mn) of the resin obtained in Synthesis Example were measured by the GPC method under the following conditions.

장치;K2479 ((주) 시마즈 제작소 제조) Apparatus: K2479 (manufactured by Shimadzu Corporation)

칼럼;SHIMADZU Shim-pack GPC-80M Column: SHIMADZU Shim-pack GPC-80M

칼럼 온도;40 ℃ Column temperature: 40 占 폚

용매;THF (테트라하이드로푸란) Solvent: THF (tetrahydrofuran)

유속;1.0 ㎖/min Flow rate: 1.0 ml / min

검출기;RIDetector; RI

상기에서 얻어진 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 및 수평균 분자량의 비 (Mw/Mn) 를 분자량 분포로 하였다. The ratio (Mw / Mn) of the weight average molecular weight and the number average molecular weight in terms of polystyrene obtained as described above was defined as a molecular weight distribution.

실시예 1Example 1

[착색 감광성 조성물의 조제][Preparation of colored photosensitive composition]

안료:C.I.피그먼트 그린 58 51 부 Pigment: CI Pigment Green 58 51 parts

아크릴계 안료 분산제 10 부 Acrylic pigment dispersant 10 parts

수지 용액 B2 (고형분 환산) 20 부 Resin solution B2 (in terms of solid content) 20 parts

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 267 부Propylene glycol monomethyl ether acetate 267 parts

를 혼합하고, 비즈밀을 사용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액 A, , And the pigment dispersion A in which the pigment was sufficiently dispersed by using a bead mill,

안료:C.I.피그먼트 옐로우 138 81 부Pigment: CI Pigment Yellow 138 81 parts

아크릴계 안료 분산제 12 부Acrylic pigment dispersant 12 parts

수지 용액 B2 (고형분 환산) 28 부Resin solution B2 (in terms of solid content) 28 parts

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 402 부Propylene glycol monomethyl ether acetate 402 parts

를 혼합하고, 비즈밀을 사용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액 B, A pigment dispersion B in which pigments were sufficiently dispersed using a bead mill,

안료:C.I.피그먼트 그린 7 29 부Pigment: C.I. Pigment Green 7 29 parts

아크릴계 안료 분산제 5.7 부Acrylic pigment dispersant 5.7 parts

수지 용액 B2 (고형분 환산) 11 부Resin solution B2 (in terms of solid content) 11 parts

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 173 부Propylene glycol monomethyl ether acetate 173 parts

를 혼합하고, 비즈밀을 사용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액 C, And a pigment dispersion C in which pigments were fully dispersed using a bead mill,

수지:수지 용액 B1 (고형분 환산) 66 부 Resin: Resin solution B1 (in terms of solid content) 66 parts

중합성 화합물:디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (닛폰 화약 (주) 제조) 57 부Polymerizable compound: 57 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

중합 개시제:2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 (이르가큐어 369;BASF 재팬사 제조) 15 부Polymerization initiator: 15 parts of 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutan-1-one (Irgacure 369; BASF Japan)

중합 개시 보조제:4,4‘-비스(디에틸아미노)벤조페논 (EAB-F;호도가야 화학 공업 (주) 제조) 4.9 부Polymerization initiator: 4.9 parts of 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone (EAB-F manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.)

용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 450 부, 및Solvent: 450 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, and

첨가제:스미에폭시 ESCN-195XL (스미토모 화학 (주) 제조) 6.1 부Additive: Sumi-epoxy ESCN-195XL (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 6.1 parts

를 혼합하여 착색 감광성 조성물을 얻었다. To obtain a colored photosensitive composition.

비교예Comparative Example

[착색 감광성 조성물의 조제][Preparation of colored photosensitive composition]

안료:C.I.피그먼트 그린 36 5.5 부 Pigment: C.I. Pigment Green 36 5.5 parts

안료:C.I.피그먼트 옐로우 150 2.4 부 Pigment: 2.4 parts of C. I. Pigment Yellow 150

폴리에스테르계 안료 분산제 1.2 부Polyester-based pigment dispersant 1.2 parts

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 38 부Propylene glycol monomethyl ether acetate 38 parts

를 혼합하고, 비즈밀을 사용하여 안료를 충분히 분산시킨 안료 분산액에 이어서, Were mixed, and the pigment dispersion in which the pigment was sufficiently dispersed by using a bead mill,

수지:수지 용액 B1 (고형분 환산) 6.6 부Resin: Resin solution B1 (in terms of solid content) 6.6 parts

중합성 화합물:디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (닛폰 화약 (주) 제조) 5.7 부Polymerizable compound: 5.7 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

중합 개시제:2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온 (이르가큐어 369;BASF 재팬사 제조) 1.5 부Polymerization initiator: 1.5 parts of 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutan-1-one (Irgacure 369; BASF Japan)

중합 개시 보조제:4,4‘-비스(디에틸아미노)벤조페논 (EAB-F 호도가야 화학 공업 (주) 제조) 0.49 부Polymerization initiator: 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone (EAB-F manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) 0.49 parts

첨가제:스미에폭시 ESCN-195XL (스미토모 화학 (주) 제조) 0.61 부Additive: Sumi-epoxy ESCN-195XL (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 0.61 part

용제:프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 38 부Solvent: Propylene glycol monomethyl ether acetate 38 parts

를 혼합하여 착색 감광성 조성물을 얻었다. To obtain a colored photosensitive composition.

<패턴의 제작><Fabrication of pattern>

가로세로 2 인치의 유리판 상에 PET 필름 (토오레 제조 루미라 75-T60) 을 첩합 (貼合) 하여 기판을 제작하였다. 기판의 PET 필름측에, 착색 감광성 조성물을 스핀 코트법에 의해 도포하고, 핫 플레이트 상, 80 ℃ 에서 2 분간 프리베이크하였다. 방랭 후, 이 착색 감광성 조성물을 도포한 기판과 석영 유리제 포토마스크의 간격을 10 ㎛ 로 하고, 노광기 (TME-150RSK;탑콘 (주) 제조) 를 사용하여, 대기 분위기하에서 200 mJ/㎠ (365 ㎚ 기준) 의 노광량으로 광조사하였다. 또한, 이 때의 착색 감광성 조성물에 대한 조사는, 초고압 수은등으로부터의 방사광을, 광학 필터 (UV-35;아사히 분광 (주) 제조) 를 통과시켜 실시하였다. 포토마스크로는, 10 ∼ 100 ㎛ 의 라인 앤드 스페이스 패턴이 형성된 것을 사용하였다. 광 조사 후, 테트라메틸암모늄 0.1 % 수용액에 23 ℃ 에서 80 초간 침지하여 현상하고, 순수로 세정하여, 패턴을 형성하였다. 얻어진 패턴의 막두께를, 막두께 측정 장치 (DEKTAK3;닛폰 진공 기술 (주) 제조) 를 사용하여 측정한 결과, 2 ㎛ 였다. A PET film (Toore Lumira 75-T60) was stuck on a 2-inch-wide glass plate to prepare a substrate. On the PET film side of the substrate, the colored photosensitive composition was applied by a spin coat method and prebaked on a hot plate at 80 DEG C for 2 minutes. After cooling down, the space between the substrate coated with the colored photosensitive composition and the quartz glass photomask was adjusted to 200 mJ / cm &lt; 2 &gt; (365 nm) using an exposure machine (TME-150RSK; Standard) exposure dose. The irradiation of the colored photosensitive composition at this time was carried out by passing the radiation from the ultra-high pressure mercury lamp through an optical filter (UV-35; manufactured by Asahi Spectroscopy). As the photomask, a line and space pattern of 10 to 100 mu m was formed. After irradiation with light, it was immersed in a 0.1% aqueous solution of tetramethylammonium at 23 DEG C for 80 seconds, developed and cleaned with pure water to form a pattern. The film thickness of the obtained pattern was measured using a film thickness measuring device (DEKTAK3; manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.), and found to be 2 占 퐉.

상기와 동일하게 하여 형성한 패턴을, 추가로 50 ℃ 에서 5 분간 가열 (포스트베이크) 하여, 경화된 패턴을 얻었다. 또, 상기와 동일하게 하여 형성한 패턴을, 추가로 100 ℃ 에서 5 분간 가열 (포스트베이크) 하여, 경화된 패턴을 얻었다. 얻어진 경화된 패턴의 막두께를 상기와 동일하게 측정한 결과, 모두 2 ㎛ 였다. The pattern formed in the same manner as described above was further heated (post-baking) at 50 캜 for 5 minutes to obtain a cured pattern. Further, the pattern formed in the same manner as above was further heated (post-baking) at 100 DEG C for 5 minutes to obtain a cured pattern. The film thickness of the obtained cured pattern was measured in the same manner as described above, and found to be 2 탆 in all cases.

<색성능 평가>&Lt; Evaluation of color performance &

얻어진 패턴의 분광 스펙트럼을 현미 분광측광 장치 (OSP-SP200 OLYMPUS 사 제조) 를 사용하여, 600 ㎚ 에 있어서의 투과율 (T1), 및 520 ㎚ 에 있어서의 투과율 (T2) 을 측정하였다. T2 에 대한 T1 의 비 (T1/T2) 가 작을수록, 적색 필터와의 색분리능이 높아 바람직하다. 결과를 표 1 에 나타낸다. The transmittance (T1) at 600 nm and the transmittance (T2) at 520 nm were measured using a spectroscopic spectrophotometer (OSP-SP200 OLYMPUS CO., LTD. The smaller the ratio of T1 to T2 (T1 / T2) is, the better the color separation performance from the red filter is. The results are shown in Table 1.

T2 에 대한 T1 의 비 (T1/T2)The ratio of T1 to T2 (T1 / T2) 포스트베이크 없음No post bake 포스트베이크 50 ℃Post bake ℃ 50 포스트베이크 100 ℃Post bake ℃ 100 실시예Example 0.230.23 0.230.23 0.230.23 비교예Comparative Example 0.490.49 0.490.49 0.490.49

<내용제성 평가><Evaluation of solvent resistance>

상기 기판 상에 형성된 패턴에 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 1 ㎖ 적하하고, 30 초간 정지한 후, 스핀 코터를 사용하여 회전수 1000 rpm 으로 10 초간 회전시켜, 패턴 상의 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트를 흔들어 제거했다.One milliliter of propylene glycol monomethyl ether acetate was added dropwise to the pattern formed on the substrate, and the mixture was stopped for 30 seconds and then rotated at a rotation number of 1000 rpm for 10 seconds using a spin coater to swell the patterned propylene glycol monomethyl ether acetate Removed.

프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 접촉 전후에 측정한 막두께 값으로부터 하기 식에 의해 막두께 유지를 계산하였다. 막두께 유지율이 높을수록 경화성이 양호하고, 녹색 이외의 착색 감광성 조성물을 덧칠할 때에 그 착색 감광성 조성물에 함유되는 용매에 대한 용출이 억제되기 때문에, 컬러 필터를 제작할 때에, 혼색 (믹싱) 을 방지할 수 있다. 결과를 표 2 에 나타낸다. The film thickness retention was calculated from the film thickness values measured before and after contact with propylene glycol monomethyl ether acetate by the following formula. The higher the film thickness retention ratio is, the better the curability is, and when the colored photosensitive composition other than green is overlaid, the elution to the solvent contained in the colored photosensitive composition is suppressed. Therefore, . The results are shown in Table 2.

(막두께 유지율) (%) = (접촉 후의 막두께) / (접촉 전의 막두께)  (Film thickness retention) (%) = (film thickness after contact) / (film thickness before contact)

<해상도 평가><Evaluation of resolution>

얻어진 패턴을 레이저 현미경 (Axio Imager MAT 칼 자이스사 제조) 으로 관찰하고, 해상되어 있는 최소 치수를 해상도로 하였다. 해상도가 높을수록, 고정밀 컬러 필터를 제작할 수 있다. 결과를 표 2 에 나타낸다. The obtained pattern was observed with a laser microscope (Axio Imager MAT manufactured by Carl Zeiss), and the minimum resolution was determined as the resolution. The higher the resolution, the more precise the color filter can be produced. The results are shown in Table 2.

해상도 (㎛)Resolution (탆) 막두께 유지율 (%)Film thickness retention (%) 포스트베이크 없음No post bake 포스트베이크 50 ℃Post bake ℃ 50 포스트베이크 100 ℃Post bake ℃ 100 포스트베이크 없음No post bake 포스트베이크 50 ℃Post bake ℃ 50 포스트베이크 100 ℃Post bake ℃ 100 실시예Example 2020 2020 2020 9090 9292 9292 비교예Comparative Example 4040 4040 4040 8888 9191 9090

본 발명의 착색 감광성 조성물에 의하면, 적색 필터와의 색분리능이 우수한 녹색의 컬러 필터를 얻을 수 있다.According to the colored photosensitive composition of the present invention, a green color filter excellent in color separation ability from a red filter can be obtained.

Claims (8)

착색제, 중합성 화합물, 중합 개시제 및 용제를 함유하고, 착색제가 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료와, 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료와, 퀴노프탈론 안료를 함유하는 착색료이고, 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료가 C.I.피그먼트 그린 7 이고, 할로겐화 구리 프탈로시아닌 안료의 함유량이 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료의 함유량 100 질량부에 대해, 20 질량부 이상 150 질량부 이하인 착색 감광성 조성물.Wherein the colorant is a coloring agent containing a halogenated copper phthalocyanine pigment, a halogenated zinc phthalocyanine pigment and a quinophthalone pigment, the halogenated copper phthalocyanine pigment is CI Pigment Green 7, Wherein the content of the copper halide phthalocyanine pigment is 20 parts by mass or more and 150 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the zinc phthalocyanine pigment. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
퀴노프탈론 안료의 함유량이 할로겐화 아연 프탈로시아닌 안료의 함유량 100 질량부에 대해, 50 질량부 이상 200 질량부 이하인 착색 감광성 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the content of the quinophthalone pigment is 50 parts by mass or more and 200 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the zinc phthalocyanine pigment.
삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
퀴노프탈론 안료가 C.I.피그먼트 옐로우 138 인 착색 감광성 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the quinophthalone pigment is &lt; RTI ID = 0.0 &gt; CI Pigment Yellow 138. &lt; / RTI &gt;
제 1 항에 있어서,
착색제, 중합성 화합물, 중합 개시제, 용제 및 수지를 함유하는 착색 감광성 조성물.
The method according to claim 1,
A colored photosensitive composition comprising a colorant, a polymerizable compound, a polymerization initiator, a solvent and a resin.
제 1 항에 기재된 착색 감광성 조성물로 형성된 컬러 필터.A color filter formed from the colored photosensitive composition according to claim 1.
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