KR20140048747A - 표시 장치 제조 방법 - Google Patents

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김태환
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Abstract

표시 장치 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 한 실시예에 따른 표시 장치 제조 방법은 표면 처리된 영역을 포함하는 캐리어 기판을 준비하는 단계, 상기 캐리어 기판 위에 모기판을 올려놓는 단계, 상기 모기판 위에 박막 형성 공정을 진행하는 단계 그리고 상기 표면 처리된 영역을 시작점(initial point)으로 하여 상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계를 포함한다.

Description

표시 장치 제조 방법{MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY DEVICE}
본 발명은 표시 장치 제조 방법에 관한 것이다.
박막 트랜지스터(TFT)를 포함한 다양한 전자 부품은, 예를 들면 평판 표시 장치, 예를 들면 액정 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조시에 유리 등으로 형성된 기판 위에 제조된다.
최근에 두께가 얇고 가벼운 표시 장치 제조 기술을 확보하기 위해 앞서 언급한 전자 부품 등이 형성되는 기판의 두께를 줄이려는 노력이 진행되고 있다.
최근에, 실질적으로 얇은 기판은 유리 제조업자에 의해서, 예를 들면 두께를 0.1 mm 이하까지 감소시킨 기판이 제조되었다. 하지만, 이렇게 얇은 기판 위에서 박막 공정 등을 진행하게 되면 높은 공정 온도 등에 의해 기판이 손상될 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 캐리어 기판을 사용하여 얇은 두께를 갖는 표시 장치 제조 방법을 제공하는데 있다.
본 발명의 일실시예에 따른 표시 장치 제조 방법은 표면 처리된 영역을 포함하는 캐리어 기판을 준비하는 단계, 상기 캐리어 기판 위에 모기판을 올려놓는 단계, 상기 모기판 위에 박막 형성 공정을 진행하는 단계 그리고 상기 표면 처리된 영역을 시작점(initial point)으로 하여 상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계를 포함한다.
상기 캐리어 기판 위에 상기 표시판을 올려놓는 단계는 정전기에 의해 상기 캐리어 기판과 상기 모기판이 달라붙는 단계를 포함할 수 있다.
상기 표면 처리된 영역에서 상기 캐리어 기판과 상기 모기판이 접착되지 않은 영역을 포함할 수 있다.
상기 박막 형성 공정을 진행하는 단계는 200도 이상의 온도에서 수행하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 표면 처리된 영역을 제1 영역이라 하고, 상기 캐리어 기판에서 표면 처리되지 않은 영역을 제2 영역이라고 할 때, 상기 제1 영역과 상기 제2 영역의 표면 거칠기(roughness)가 서로 다를 수 있다.
상기 제1 영역은 산화물 또는 실리콘 화합물을 포함하는 박막을 증착하여 형성할 수 있다.
상기 산화물을 포함하는 박막은 인듐, 주석 및 아연 중 적어도 하나를 포함하는 산화물로 형성할 수 있다.
상기 제1 영역의 표면 거칠기는 5nm 이상이 되도록 형성할 수 있다.
상기 표면 처리된 영역은 자기조립 단분자막으로 형성할 수 있다.
상기 자기조립 단분자막이 형성된 상기 표면 처리된 영역은 소수성을 가질 수 있다.
상기 자기조립 단분자막은 옥타데실트리클로로실란(octadecyltrichlorosilane; OTS), 과플루오로옥틸트리클로로 실란(Perfluoroctyltrichloro silane; FOTS), 및 디클로로디메틸실란(Dichlorodimethylsilane; DDMS) 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계는 상기 표면 처리된 영역에 오일을 침투시키는 단계를 포함할 수 있다.
상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계는 막대 형상의 바(bar)를 사용하는 것을 포함할 수 있다.
상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계 이후에 상기 캐리어 기판을 재활용하여 상기 모기판과 다른 모기판 위에 박막을 형성하는 공정에 사용할 수 있다.
상기 표면 처리된 영역은 상기 모기판의 모퉁이와 중첩하는 부분에 형성될 수 있다.
상기 표면 처리된 영역은 상기 모기판의 한 변을 따라 형성될 수 있다.
상기 표면 처리된 영역은 상기 모기판의 표시 영역과 중첩하는 부분을 포함할 수 있다.
이와 같이 본 발명의 한 실시예에 따르면, 일정 영역에 표면 처리된 캐리어 기판 위에 모기판을 접촉한 후 모기판 위에 박막 형성 공정을 진행하고, 이후에 캐리어 기판과 모기판을 분리함으로써 얇은 두께를 갖는 표시 장치를 구현할 수 있다.
또한, 캐리어 기판을 재사용할 수 있기 때문에 원가 절감될 수 있다.
도 1 내지 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다.
첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 또한, 층이 다른 층 또는 기판 "상"에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 층 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제 3의 층이 개재될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 의미한다.
도 1 내지 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 표시 장치 제조 방법을 설명하기 위한 평면도 및 단면도들이다. 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 표시 장치 제조 방법에서 표면 처리 영역(SDP)을 나타내기 위한 평면도이다.
도 1을 참고하면, 본 실시예에 따른 표시 장치 제조 방법은 캐리어 기판(CRS)의 일부 영역에 표면 처리하는 단계를 포함한다. 캐리어 기판(CRS) 일부를 표면 처리 하여 표면 거칠기(roughness)를 크게 하거나 표면 에너지를 조절할 수 있다. 표면 처리된 캐리어 기판(CRS) 부분을 제1 영역이(SDP)라고 하고, 표면 처리되지 않은 나머지 캐리어 기판(CRS) 부분을 제2 영역이라고 할 때, 일부분이 표면 처리된 캐리어 기판(CRS) 위에 모기판(110)을 올려 놓으면 제2 영역에서는 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110) 사이의 정전기에 의해 두 기판(CRS, 110)이 잘 달라 붙고, 제1 영역(SDP)에서는 표면 처리 때문에 잘 달라 붙지 않는다.
캐리어 기판은 베어(Bare) 상태의 유리로 이루어질 수 있고, 다른 유리 또는 금속 등으로 이루어질 수 있다.
모기판(110)을 캐리어 기판(CRS) 위에 올려 놓기 전에 모기판(110)을 세정 처리할 수 있다.
모기판의 두께는 0.1mm 이하일 수 있고, 캐리어 기판의 두께는 모기판 두께의 4배 내지 10배 이하일 수 있다. 예를 들어, 캐리어 기판의 두께는 0.5mm 또는 0.7mm일 수 있다.
캐리어 기판의 길이 및 폭은 지지된 얇은 모기판의 크기에 따라서 다양하게 변할 수 있다.
본 실시예에서 표면 처리된 제1 영역(SDP)은 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110)이 중첩하는 사각형의 모퉁이 부분에 형성될 수 있다. 도 1에서는 중첩하는 사각형의 4개의 모퉁이 가운데 1개의 모퉁이에 제1 영역(SDP)을 형성하였으나, 적어도 2개 이상의 모퉁이에 제1 영역(SDP)을 형성하는 것도 가능하다.
캐리어 기판(CRS)을 표면 처리하는 단계는 제1 영역(SDP)의 표면 거칠기를 크게 하는 단계를 포함한다. 제1 영역(SDP)의 표면 거칠기를 크게 하기 위해 제1 영역(SDP)에 선택적으로 산화물 또는 실리콘 화합물을 포함하는 박막을 증착할 수 있다. 이러한 박막은 스퍼터링 방법 또는 펄스 레이저 증착법을 사용하여 형성할 수 있다.
여기서, 제1 영역(SDP)의 표면 거칠기는 대략 5nm 이상으로 형성하는 것이 바람직하다. 실험예로 제1 영역(SDP)에 알루미늄 도핑된 아연 산화물을 500ㅕ 이상 증착하였을 때 실효 표면 거칠기(Root Mean Square Roughness)가 5nm 이상이 되었고, 이 때 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110) 사이의 접착력이 약해지면서 제1 영역(SDP)이 시작점(initial point)으로 작용하여 두 기판(CRS, 110)을 쉽게 분리할 수 있는 것을 확인하였다.
앞에서 표면 처리의 한 가지 예로 산화물 또는 실리콘 화합물을 포함하는 박막을 증착하는 방법에 대해 설명하였다. 이제, 표면 처리하는 다른 예로 자기조립 단분자막을 형성하는 방법을 설명하기로 한다.
본 실시예에서 캐리어 기판(CRS)을 표면 처리하는 단계는 제1 영역(SDP)에 자기조립 단분자막을 형성하는 단계를 포함한다. 자기조립 단분자막을 형성하기 이전에 캐리어 기판(CRS)의 제1 영역(SDP)의 접촉각은 30도 내외이다. 하지만, 제1 영역(SDP)에 자기조립 단분자막을 형성한 후에 접촉각은 100도 전후가 되고 소수성을 가질 수 있다.
자기조립 단분자막은 주어진 기질의 표면에 자발적으로 형성되는 규칙적으로 잘 정렬된 유기 분자막을 말한다. 여기서, 자기조립 단분자막은 옥타데실트리클로로실란(octadecyltrichlorosilane; OTS), 과플루오로옥틸트리클로로 실란(Perfluoroctyltrichloro silane; FOTS), 및 디클로로디메틸실란(Dichlorodimethylsilane; DDMS) 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
캐리어 기판(CRS)의 제1 영역(SDP)에 자기조립 단분자막이 형성되어 있으면, 후속의 박막 형성 공정에서 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110) 사이에 화학 결합이 발생하여 두 기판(CRS, 110)이 분리되지 않는 현상을 방지할 수 있다.
도 2a, 도 2b 및 도 2c는 도 1의 실시예에서 표면 처리 영역을 변형한 실시예를 나타내는 단면도들이다.
도 2a를 참고하면, 본 실시예에서 표면 처리된 제1 영역(SDP)은 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110)이 중첩하는 사각형에서 모기판(110)의 한 변과 이웃하는 영역을 따라 일렬로 형성될 수 있다. 도 2b를 참고하면, 도 2a의 실시예에서 설명한 제1 영역(SDP)의 긴 막대 모양이 복수개로 분할된 형태로 제1 영역(SDP)을 형성할 수 있다. 도 2c를 참고하면, 표면 처리된 제1 영역(SDP)은 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110)이 중첩하는 사각형에서 모기판(110)의 한 변과 중첩하는 긴 막대 모양으로 형성된다. 표면 처리된 제1 영역(SDP)은 도 2a, 도 2b 및 도 2c에서 설명한 실시예에 한정되지 않고 다양한 형태로 변형 가능하다.
도 3은 도 1의 실시예에서 표면 처리 영역을 표시 영역까지 확대한 실시예를 나타내는 단면도이다.
도 3을 참고하면, 도 1의 실시예에서 모기판(110) 내에서 표시 영역(DP)이 되는 영역까지 표면 처리를 확장할 수 있다. 도 3의 실시예와 같이 표면 처리를 가장자리뿐만 아니라 표시 영역(DP)까지 추가하는 경우에 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110)을 좀 더 쉽게 분리할 수 있다.
지금까지 본 발명의 일실시예에 따른 표시 장치 제조 방법에 따라 캐리어 기판(CRS)의 일부 영역에 표면 처리를 하는 방법에 대해 설명하였다. 이후 표면 처리된 캐리어 기판(CRS) 위에 올려진 모기판(110) 위에 표시 장치를 형성하기 위한 박막 공정이 진행될 수 있다. 이하에서는 박막 형성 공정에 대해 설명하기로 한다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치의 한 화소에 대한 등가 회로도이다.
도 4를 참고하면, 본 발명의 일실시예에 따른 액정 표시 장치는 서로 마주하는 박막 트랜지스터 표시판(100)과 공통 전극 표시판(200), 그리고 그 사이에 개재되어 있는 액정층(3)을 포함한다.
액정 표시 장치는 복수의 게이트선(GL), 복수 쌍의 데이터선(DLa, DLb) 및 복수의 유지 전극선(SL)을 포함하는 신호선과 이에 연결된 복수의 화소(PX)를 포함한다.
각 화소(PX)는 한 쌍의 부화소(PXa, PXb)를 포함하며, 부화소(PXa, PXb)는 스위칭 소자(Qa, Qb)와 액정 축전기(Clca, Clcb) 및 유지 축전기(storage capacitor)(Csta, Cstb)를 포함한다.
스위칭 소자(Qa, Qb)는 하부 표시판(100)에 구비되어 있는 박막 트랜지스터 등의 삼단자 소자로서, 그 제어 단자는 게이트선(GL)과 연결되어 있고, 입력 단자는 데이터선(DLa, DLb)과 연결되어 있으며, 출력 단자는 액정 축전기(Clca, Clcb) 및 유지 축전기(Csta, Cstb)와 연결되어 있다.
액정 축전기(Clca, Clcb)는 부화소 전극(191a, 191b)과 공통 전극(270)을 두 단자로 하고, 두 단자 사이의 액정층(3) 부분을 유전체로 하여 형성된다.
액정 축전기(Clca, Clcb)의 보조적인 역할을 하는 유지 축전기(Csta, Cstb)는 하부 표시판(100)에 구비된 유지 전극선(SL)과 부화소 전극(191a, 191b)이 절연체를 사이에 두고 중첩되어 이루어지며 유지 전극선(SL)에는 공통 전압(Vcom) 따위의 정해진 전압이 인가된다.
두 액정 축전기(Clca, Clcb)에 충전되는 전압은 서로 약간의 차이가 나도록 설정되어 있다. 예를 들면, 액정 축전기(Clca)에 인가되는 데이터 전압이 인접한 다른 액정 축전기(Clcb)에 인가되는 데이터 전압에 비하여 항상 낮거나 높도록 설정한다. 이렇게 두 액정 축전기(Clca, Clcb)의 전압을 적절하게 조절하면 측면에서 바라보는 영상이 정면에서 바라보는 영상에 근접하도록 할 수 있어 액정 표시 장치의 측면 시인성이 향상된다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고, 도 6은 도 5의 절단선 VI-VI'을 따라 자른 단면도이다.
도 5 및 도 6을 참고하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치는 서로 마주하는 하부 표시판(100)과 상부 표시판(200) 및 이들 두 표시판(100, 200) 사이에 들어 있는 액정층(3)을 포함한다.
먼저, 하부 표시판(100)에 대하여 설명한다.
모기판(110) 위에 복수의 게이트선(121) 및 복수의 유지 전극선(131, 135)이 형성되어 있다.
게이트선(121)은 게이트 신호를 전달하며 주로 가로 방향으로 뻗어 있다. 각 게이트선(121)은 위로 돌출한 복수의 제1 및 제2 게이트 전극(124a, 124b)을 포함한다.
유지 전극선은 게이트선(121)과 실질적으로 나란하게 뻗은 줄기선(131)과 이로부터 뻗어 나온 복수의 유지 전극(135)을 포함한다.
유지 전극선(131, 135)의 모양 및 배치는 여러 형태로 변형될 수 있다.
게이트선(121) 및 유지 전극선(131, 135) 위에는 게이트 절연막(140)이 형성되어 있으며, 게이트 절연막(140) 위에는 비정질 또는 결정질 규소 등으로 만들어진 복수의 반도체(154a, 154b)가 형성되어 있다.
반도체(154a, 154b) 위에는 각각 복수 쌍의 저항성 접촉 부재(163b, 165b)가 형성되어 있으며, 저항성 접촉 부재(163b, 165b)는 실리사이드(silicide) 또는 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어질 수 있다.
저항성 접촉 부재(163b, 165b) 및 게이트 절연막(140) 위에는 복수 쌍의 데이터선(171a, 171b)과 복수 쌍의 제1 및 제2 드레인 전극 (175a, 175b)이 형성되어 있다.
데이터선(171a, 171b)은 데이터 신호를 전달하며 주로 세로 방향으로 뻗어 게이트선(121) 및 유지 전극선의 줄기선(131)과 교차한다. 데이터선(171a, 171b)은 제1, 제2 게이트 전극(124a, 124b)을 향하여 뻗어 U자형으로 굽은 제1 및 제2 소스 전극 (173a, 173b)을 포함하며, 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b)은 제1, 제2 게이트 전극(124a, 124b)을 중심으로 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)과 마주한다.
제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)은 각각 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b)으로 일부 둘러싸인 한 쪽 끝에서부터 위로 뻗어 있으며 반대쪽 끝은 다른 층과의 접속을 위해 면적이 넓을 수 있다.
그러나 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)을 비롯한 데이터선(171a, 171b)의 모양 및 배치는 여러 형태로 변형될 수 있다.
제1 및 제2 게이트 전극(124a, 124b), 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b) 및 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)은 제1 및 제2 반도체(154a, 154b)와 함께 제1 및 제2 박막 트랜지스터(thin film transistor, TFT)(Qa, Qb)를 이루며, 제1 및 제2 박막 트랜지스터(Qa, Qb)의 채널(channel)은 제1 및 제2 소스 전극(173a, 173b)과 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b) 사이의 제1 및 제2 반도체(154a, 154b)에 형성된다.
저항성 접촉 부재(163b, 165b)는 그 아래의 반도체(154a, 154b)와 그 위의 데이터선(171a, 171b), 드레인 전극(175a, 175b) 사이에만 존재하며 이들 사이의 접촉 저항을 낮추어 준다. 반도체(154a, 154b)에는 소스 전극(173a, 173b)과 드레인 전극(175a, 175b) 사이에는 데이터선(171a, 171b) 및 드레인 전극(175a, 175b)으로 가리지 않고 노출된 부분이 있다.
데이터선(171a, 171b), 드레인 전극(175a, 175b) 및 노출된 반도체(154a, 154b) 부분 위에는 질화규소 또는 산화규소 따위로 만들어진 하부 보호막(180p)이 형성되어 있다.
하부 보호막(180p) 위에는 소정 간격으로 분리되어 있는 차광 부재(220)가 형성되어 있다. 차광 부재(220)는 위 아래로 길게 형성된 직선부와 박막 트랜지스터에 대응하는 사각형 부분을 포함할 수 있으며 빛샘을 방지한다.
하부 보호막(180p) 및 차광 부재(220) 위에는 복수의 색필터(230)가 형성되어 있다. 색필터(230)는 차광 부재(220)로 둘러싸인 영역 내에 대부분 존재한다. 색필터(230)에는 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b) 위에 위치하는 복수의 개구부(235a, 235b)가 형성되어 있다. 색필터(230)는 특히 녹색(Green) 색필터일 수 있다.
여기서, 하부 보호막(180p)은 색필터(230)의 안료가 노출된 반도체(154a, 154b) 부분으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
차광 부재(220) 및 색필터(230) 위에는 상부 보호막(180q)이 형성되어 있다. 상부 보호막(180q)은 질화 규소 또는 산화 규소 따위의 무기 절연 물질로 형성될 수 있으며, 색필터(230)가 들뜨는 것을 방지하고, 색필터(230)로부터 유입되는 용제(solvent)와 같은 유기물에 의한 액정층(3)의 오염을 억제하여 화면 구동시 초래할 수 있는 잔상과 같은 불량을 방지한다.
그러나, 차광 부재(220)는 상부 표시판(200)에 위치할 수도 있다.
상부 보호막(180q) 및 하부 보호막(180p)에는 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)을 드러내는 복수의 접촉 구멍(185a, 185b)이 형성되어 있다.
상부 보호막(180q) 위에는 복수의 화소 전극(191)이 형성되어 있으며 전술한 색필터(230)는 화소 전극(191)의 열을 따라 길게 뻗을 수 있다. 그리고, 유지 전극선(131)의 분지선(135)은 화소 전극(191)과 데이터선(171a, 171b) 사이에 위치한다.
화소 전극(191)은 ITO 또는 IZO 등의 투명한 도전 물질이나 알루미늄, 은, 크롬 또는 그 합금 등의 반사성 금속으로 만들어질 수 있고, 각 화소 전극(191)은 서로 분리되어 있는 제1 및 제2 부화소 전극(191a, 191b)을 포함할 수 있다.
제1 및 제2 부화소 전극(191a, 191b)은 접촉 구멍(185a, 185b)을 통하여 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)과 물리적, 전기적으로 연결되어 있으며, 제1 및 제2 드레인 전극(175a, 175b)으로부터 데이터 전압을 인가 받는다.
화소 전극(191) 위에는 배향막(11)이 형성되어 있다.
다음, 상부 표시판(200)에 대해서 설명한다.
상부 표시판(200)에는 투명한 절연 기판(210) 위에 공통 전극(270)이 형성되어 있으며, 그 위에는 배향막(11)이 형성되어 있다.
각 배향막(11, 21)은 수직 배향막일 수 있다.
하부 표시판(100) 및 상부 표시판(200)의 바깥쪽 면에는 편광자(polarization)(도시하지 않음)가 구비되어 있을 수 있다.
하부 표시판(100)과 상부 표시판(200) 사이에는 액정층(3)이 개재되어 있다. 액정층(3)은 음의 유전율 이방성을 가질 수 있다.
이상에서는 액정 표시 장치에 관해 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 박막 형성 공정을 포함하는 유기 발광 표시 장치 및 그 외 표시 장치에도 본 발명의 실시예에 따른 표시 장치 제조 방법에 관한 설명이 적용될 수 있다.
이처럼 캐리어 기판(CRS) 위에 올려진 모기판(110) 위에 박막 형성 공정을 진행하고 나면, 표면 처리된 제1 영역(SDP)을 제외한 나머지인 제2 영역은 양극 접합(anodic bonding) 또는 용융 접합(fusion bonding) 등에 의해 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110) 사이에 강한 결합이 발생한다. 따라서, 이 부분은 쉽게 분리되지 않는다. 이러한 현상은 박막 형성 공정이 대략 200도 이상의 고온에서 진행될 수 있고, 전기장 상태에서 수행되기 때문에 발생한다.
양극 접합은 고온 전기장 상태에서 나트륨 이온이 발생하고 글라스(glass)로 형성된 모기판(110)과 글라스로 형성된 캐리어 기판(CRS) 계면에 정전기력이 발생하여 상호 확산(interdiffusion)에 의한 공유 결합이 형성된다. 용융 접합은 이물이 없고, 표면 거칠기가 5nm 이하이면서 친수성 상태의 글라스(glass)가 고온에서 접합할 경우에 반 데르 발스 힘에 따른 원리와 수소 결합에 의해 글라스가 분리되지 않는 현상을 갖는다.
하지만, 본 발명의 일실시예에 따른 표시 장치 제조 방법에 따르면, 박막 공정 진행 이전에 캐리어 기판(CRS)이 표면 처리된 제1 영역(SDP)을 갖기 때문에 제1 영역(SDP)을 시작점(initial point)으로 하여 나머지 영역까지 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110)을 분리할 수 있다. 이하, 도 7을 참고하여, 박막 형성 공정 이후에 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110)을 분리하는 과정에 대해 설명하기로 한다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 표시 장치 제조 방법에서 두 기판을 분리하는 단계를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 7을 참고하면, 표면 처리된 캐리어 기판(CRS)의 제1 영역(SDP)은 모기판(110)과 잘 붙어 있지 않은 상태이다. 제1 영역(SDP)에 퍼짐성이 좋은 오일 등을 떨어뜨린다. 제1 영역(SDP)에 떨어진 오일은 삼투압 현상에 의해 제1 영역(SDP)을 제외한 나머지 영역으로 침투된다. 이 때, 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110)이 잘 분리되도록 하기 위해 세라믹으로 형성된 얇은 바(500)를 사용할 수 있다. 바(500)를 제1 영역(SDP)을 시작점으로 하여 도 7에 표시된 화살표 방향을 따라 이동시키면서 캐리어 기판(CRS)과 모기판(110)을 물리적으로 분리할 수 있다.
분리된 캐리어 기판(CRS)은 버리지 않고 재활용하여 다른 모기판 위에 박막을 형성하는 공정에 사용할 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
110 모기판 400 용액
500 바 CRS 캐리어 기판
SDP 제1 영역 DP 표시 영역

Claims (17)

  1. 표면 처리된 영역을 포함하는 캐리어 기판을 준비하는 단계,
    상기 캐리어 기판 위에 모기판을 올려놓는 단계,
    상기 모기판 위에 박막 형성 공정을 진행하는 단계 그리고
    상기 표면 처리된 영역을 시작점(initial point)으로 하여 상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계를 포함하는 표시 장치 제조 방법.
  2. 제1항에서,
    상기 캐리어 기판 위에 상기 표시판을 올려놓는 단계는 정전기에 의해 상기 캐리어 기판과 상기 모기판이 달라붙는 단계를 포함하는 표시 장치 제조 방법.
  3. 제2항에서,
    상기 표면 처리된 영역에서 상기 캐리어 기판과 상기 모기판이 접착되지 않은 영역을 포함하는 표시 장치 제조 방법.
  4. 제3항에서,
    상기 박막 형성 공정을 진행하는 단계는 200도 이상의 온도에서 수행하는 단계를 포함하는 표시 장치 제조 방법.
  5. 제4항에서,
    상기 표면 처리된 영역을 제1 영역이라 하고, 상기 캐리어 기판에서 표면 처리되지 않은 영역을 제2 영역이라고 할 때, 상기 제1 영역과 상기 제2 영역의 표면 거칠기(roughness)가 서로 다른 표시 장치 제조 방법.
  6. 제5항에서,
    상기 제1 영역은 산화물을 포함하는 박막 또는 실리콘 화합물을 증착하여 형성하는 표시 장치 제조 방법.
  7. 제6항에서,
    상기 산화물을 포함하는 박막은 인듐, 주석 및 아연 중 적어도 하나를 포함하는 산화물로 형성하는 표시 장치 제조 방법.
  8. 제5항에서,
    상기 제1 영역의 표면 거칠기는 5nm 이상이 되도록 형성하는 표시 장치 제조 방법.
  9. 제4항에서,
    상기 표면 처리된 영역은 자기조립 단분자막으로 형성하는 표시 장치 제조 방법.
  10. 제9항에서,
    상기 자기조립 단분자막이 형성된 상기 표면 처리된 영역은 소수성을 갖는 표시 장치 제조 방법.
  11. 제10항에서,
    상기 자기조립 단분자막은 옥타데실트리클로로실란(octadecyltrichlorosilane; OTS), 과플루오로옥틸트리클로로 실란(Perfluoroctyltrichloro silane; FOTS), 및 디클로로디메틸실란(Dichlorodimethylsilane; DDMS) 중에서 적어도 하나를 포함하는 표시 장치 제조 방법.
  12. 제1항에서,
    상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계는 상기 표면 처리된 영역에 오일을 침투시키는 단계를 포함하는 표시 장치 제조 방법.
  13. 제12항에서,
    상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계는 막대 형상의 바(bar)를 사용하는 것을 포함하는 표시 장치 제조 방법.
  14. 제1항에서,
    상기 캐리어 기판과 상기 모기판을 분리하는 단계 이후에 상기 캐리어 기판을 재활용하여 상기 모기판과 다른 모기판 위에 박막을 형성하는 공정에 사용하는 표시 장치 제조 방법.
  15. 제1항에서,
    상기 표면 처리된 영역은 상기 모기판의 모퉁이와 중첩하는 부분에 형성된 표시 장치 제조 방법.
  16. 제1항에서,
    상기 표면 처리된 영역은 상기 모기판의 한 변을 따라 형성된 표시 장치 제조 방법.
  17. 제1항에서,
    상기 표면 처리된 영역은 상기 모기판의 표시 영역과 중첩하는 부분을 포함하는 표시 장치 제조 방법.
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