KR20140038933A - 에어로졸 상태의 입자들을 모니터하기 위한 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 에어로졸을 포함하는 채널(11) 또는 공간에서 입자들을 모니터하기 위한 장치(1) 및 그 장치에 있어서의 이온 트랩 장치에 관한 것이다. 상기 장치(1)는, 이젝터(24), 상기 이젝터(24)에 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)을 공급하도록 배열된 가스 공급기(6, 16, 18, 19), 샘플 에어로졸 흐름(A) 중의 입자들의 적어도 일부를 대전시키기 위해 상기 가스 공급기(6, 16, 18, 19) 및 상기 이젝터(24)에 의해 제공되는 흡입작용을 통해 상기 채널(11)로부터 상기 이젝터(24) 안으로 샘플 에어로졸 흐름(A)을 제공하도록 배열된 샘플-흡입 장치(2), 및 상기 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거하기 위해 적어도 부분적으로 상기 이젝터(24) 안으로 연장되는 이온 트랩(12)을 포함한다. 본 발명에 따르면, 상기 이온 트랩(12)은 금속 트랩 와이어로서 제공된다.

Description

에어로졸 상태의 입자들을 모니터하기 위한 장치{APPARATUS FOR MONITORING PARTICLES IN AN AEROSOL}
본 발명은 입자들을 모니터하기 위한 장치에 관한 것으로서, 특히 본 출원의 특허청구범위 제1항의 전제부에 정의된 것과 같은 장치에 관한 것이다.
소정의 직경을 갖는 미세입자들이 수많은 산업공정들과 연소공정들에서 형성된다. 여러 가지 이유로 이러한 미세입자들에 대한 측정이 행해진다. 미세입자 측정은 그의 잠재적인 건강효과 때문에, 그리고 또한 연소형 엔진, 특히 디젤엔진의 동작과 같은 연소 과정과 산업공정들의 동작을 모니터하기 위해 수행되기도 한다. 미세입자들을 모니터하는 또 다른 이유는 산업공정들에서 나노입자(nano-sized particles)들의 활용과 제조의 증가이다. 전술한 이유로 인해 신뢰성 있는 미세입자 측정장비 및 그 방법에 대한 필요성이 존재한다.
미세입자를 측정하기 위한 종래기술의 방법 및 장치 중의 하나는 국제공개 WO2009109688A1에 기술되어 있다. 이러한 종래기술의 방법에서는 입자가 없는, 소위 "클린 가스(clean gas)"가 장치에 공급되어 흡입 챔버를 통해 그 장치 내부에 제공된 이젝터로 구동유체의 흐름(motive fluid flow)으로서 안내된다. 이 클린 가스는 또한 흡입 챔버로 공급되기 전에 그리고 공급 중에 이온화된다. 이온화된 클린 가스는 바람직하게는 음속으로 또는 음속에 가까운 속도로 이젝터에 공급될 수도 있다. 클린 가스의 이온화는 예를 들면, 코로나 하전기(corona charger)를 이용해 수행될 수도 있다. 흡입 챔버에는 또한 미세입자들을 갖는 에어로솔을 포함하는 공간 또는 채널과 유체 상으로 연통하도록 구성된 샘플 흡입구가 제공된다. 구동유체 흐름(즉, 클린 가스의 흐름)은 샘플 흡입구에 대한 흡입력을 야기하여 덕트 또는 공간으로부터 흡입 챔버로의 샘플 에어로졸 흐름이 형성된다. 따라서 샘플 에어로졸 흐름은 이젝터에 대한 측면 흐름으로서 제공된다. 이온화된 클린 가스는 입자들의 적어도 일부분을 하전시킨다. 하전된 입자들은 에어로졸을 함유하는 덕트 또는 공간으로 다시 안내될 수도 있다. 따라서 에어로졸 샘플의 미세입자들은 전기적으로 하전된 입자들에 의해 운반되는 전하를 모니터함으로써 모니터링이 이루어진다. 자유 이온(free ions)들은 이젝터의 하류 측에 배열된 이온 트랩(ion trap)을 이용하여 제거된다. 전형적인 이젝터(또는 이젝터 펌프)는 가스의 운동에너지를 압력으로 변환하는 좁은 통로(throat) 후단에 분기형 원뿔(diverging cone 또는 diverging outlet diffuser)을 포함하고 있다. 이것은 이젝터 내부 가스의 크기와 체류시간을 증가시킨다. 체류시간의 증가는 상기한 종래기술의 방법(WO2009109688 A1)에 기초하는 측정장치의 응답시간을 늦어지게 만든다.
미세입자 모니터 장치에 대한 중요한 요구사항 중의 하나는 오랜 기간 동안 정비가 필요 없이도 동작 될 수 있도록 하는 신뢰성 있는 동작이다. 연소엔진의 미세입자를 모니터하는 것과 같은 많은 응용분야에 있어서, 모니터 장치가 실시간으로 미세입자 측정을 수행하도록 연속적으로 동작 될 수 있음이 또한 바람직하다. 더욱이, 많은 경우에 미세입자 모니터 장치는 기존의 시스템들에 설치될 필요가 있는데, 여기에서는 입자 측정 장치에 대하여 단지 제한된 양의 공간만이 존재한다. 통상적으로 산업 시스템들, 연소 시스템들 또는 기타의 에어로졸 시스템들은 가능한 한 콤팩트한 설계로 구성된다. 따라서, 미세입자 측정장치도 또한 크기가 소형일 필요가 있다. 그러나, 소형 크기의 장점은 제한된 공간의 이용에만 한정되지는 않는다. 작은 크기에 있어서의 더 중요한 장점은 측정장치 내부의 입자 손실의 최소화이다. 게다가, 이러한 작은 크기는 소형의 센싱 공간을 통한 더 빠른 가스의 흐름 덕분에 더 빠른 응답 시간의 측정을 가능하게 해준다.
대다수의 경우, 장치의 제조비용이 낮은 것이 중요하다. 이러한 이유로 장치의 구조가 제조하기에 너무 복잡하지 않아야 한다.
본 발명의 목적은 종래기술상의 문제점들을 극복하기 위한 장치 및 그 구성을 제공하기 위함이다.
상기한 본 발명의 목적들은 특허청구범위 제1항의 특징부에 따른 장치로써 달성되는데, 상기 장치는 트랩 와이어(trap wire)로서 제공되는 이온 트랩(12)을 포함하고 있다.
본 발명의 바람직한 실시예들은 종속 청구항들에 기술되어 있다.
본 발명은 이젝터에 공급되는 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스로써 입자들의 적어도 일부를 하전시키고 그리고 와이어 또는 막대로서 형성되는 이온 트랩을 갖춘 이젝터의 대체로 하류 쪽에서 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거함으로써 에어로졸의 입자들을 모니터하기 위한 장치를 제공한다는 개념에 기초하고 있다. 이온 트랩 와이어는 직선형이거나 또는 곡선 형상으로 구부러져도 좋다. 상기 트랩 와이어는 적어도 부분적으로 이젝터 안으로 연장된다. 일 실시예에 있어서 트랩 와이어는 적어도 부분적으로는 이젝터의 좁은 통로(목부분) 안으로 연장되도록 구성된다. 트랩 와이어가 상기한 좁은 통로(바람직하게는 그것의 분기부) 안으로 연장될 때, 이온 트랩은 이젝터 구조와 내부 체적을 활용한다. 결과적으로 측정장치의 전체 크기와 센서에서의 샘플 가스 체류시간이 감소 될 수 있다. 감소 된 체류시간은 측정장치의 더 빠른 시간적 응답을 가능하게 해준다.
와이어 또는 막대형의 이온 트랩들은 종래기술로부터도 알려져 있다. 미국특허출원 공개 제2006/0284077 A1호(TSI 인코퍼레이티드, 2006-12-21 출원)는 나노입자 노출을 비침습적(non-invasive)으로 측정하기 위한 기구를 개시하고 있는데, 이것은 에어로졸의 단극성 확산 하전(unipolar diffusion charging)을 달성하기 위해 이온들을 발생하는 코로나 방전 요소를 포함하며, 이 다음에는 임계점을 초과하는 전기이동도를 갖는 하전 입자들의 일부와 초과 이온들을 제거하기 위한 이온 트랩이 후속된다. 바람직하게는, 더 높은 전기이동도 요소들은 관 모양의 전도체 구조로부터 전기적으로 분리되는 하나의 전도체 요소를 에워싸는 그러한 구조를 갖는 전기 집진기(electrostatic precipitator)를 이용하여 추출된다. 그러나, 상기 공개발명은 이젝터를 사용하여 달성 가능한 장점들을 기술하는 것에서는 실패하고 있으며, 따라서 상기 기구장치는 입자 손실로부터 손해를 입을 수도 있다.
입자에 의해 보유되는 전하의 측정에 기초하는 입자 측정장치에서 이젝터의 장점은 그것이 이온과 입자들의 빠른 혼합을 가능하게 한다는 것이다. 이젝터는 전형적으로 세 개의 부분들, 즉 흡입 노즐, 좁은 통로(throat) 및 분기 배출 디퓨저(diverging exit diffuser)로 이루어진다. 본 발명자는 구동유체 흐름과 이젝터에서의 측면 흐름의 혼합이 아주 효율적이어서 실제로 입자들은 이젝터의 좁은 통로에서 가장 나중에 구동유체 흐름에 의해 수반되는 이온들에 의해 하전된다는 것을 발견하였다. 따라서, 그 흐름으로부터 과잉 이온들을 제거하기 위해 사용되는 이온 트랩은 적어도 부분적으로는 이젝터 안에 조립될 수도 있고, 이에 따라 흐름의 경로를 상당히 단축시켜 입자 모니터 장치의 크기를 최소화할 수가 있다. 이것은 또한 입자 측정장치 내부로의 입자손실을 최소화하고 상기 장치의 더 빠른 시간적 응답을 가능하게 한다. 바람직하게는, 특히 실린더 형상의 대칭으로 된 구조의 경우에는, 이온 트랩의 고전압 전극은 막대 형상이고, 가장 바람직하게는 와이어 형태인데, 이것은 입자 측정장치 내부의 흐름 패턴에 반드시 영향을 미치지는 않는다. 이젝터 표면들, 특히 분기 디퓨저의 내면과 또한 어떤 경우에는 좁은 통로의 내면은 이온 집전전극(ion collecting electrode)들로서 작용한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 이온 트랩은 이온 트랩 와이어 및 이온 트랩 도체(conductor) 양자를 제공하는 단일한 와이어 또는 막대로서 형성된다. 상기 이온 트랩은 측정 하우징 내부에서 흡입 챔버로부터 이온 트래핑 챔버로 그리고 그 안에 이온 트랩을 형성하는 이젝터로 연장되는 형태로 구성된다.
본 발명은 이온 트랩 와이어가 이온 트랩을 위한 간단한 기계적 구조를 제공한다는 장점을 갖는다. 이러한 간단한 기계적 구조는 입자들을 모니터하기 위한 장치 또는 입자 센서를 장기간 동안 정비할 필요가 없이 동작 될 수 있도록 동작의 신뢰성을 향상시킨다. 트랩 도체가 측정 하우징 내부에서 흡입 챔버로부터 이온 트래핑 챔버와 이젝터로 연장되는 구성의 이온 트랩 장치는 또한 캠팩트한 구조를 제공함으로써 장치의 외부 크기 또는 직경을 감소시킨다. 트랩 와이어는 또한 이온 트래핑 하우징의 크기, 즉 상기 장치의 길이 또는 외부 크기를 감소시킬 수 있는 구조로 형성될 수도 있다. 트랩 와이어는 또한 보통의 이온 트래핑 전압들의 이용을 가능하게 하는 구성으로 형성될 수도 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들과 관련하여 더 상세하게 설명될 것이다.
도 1은 종래 기술의 입자 모니터 장치의 개략적인 도면이다.
도 2는 본 발명에 따른 모니터 장치의 일 실시예에 대한 개략적인 도면이다.
도 3은 이온 트랩 도체의 일 실시예에 대한 개략적인 도면이다.
도 1은 종래 기술의 입자 모니터링 장치의 일 실시예를 보여주고 있다. 상기 장치는 외부 몸체(50)를 포함하는데, 이 내부에는 장치의 도체(conductor)들(30)과 전기부품들의 적어도 일부 및 측정 하우징(measurement housing)(17)이 제공된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 전기 부품들과 도체들(30)은 측정 하우징(17)의 실질적으로 외부에, 즉 외부 몸체(50)과 측정 하우징(17) 사이에 배열된다.
측정 하우징(17)은 에어로졸의 입자 모니터링이 수행되는 공간을 제공한다. 샘플 에어로졸 흐름(A)은 에어로졸 내의 입자들을 모니터하거나 측정하기 위해 측정 하우징(17) 내부의 에어로졸을 포함하는 채널, 덕트 또는 공간으로부터 안내된다. 상기 장치(1)는 에어로졸 흐름(F)이 있는 에어로졸 덕트(11)에 측면으로 연결된다. 따라서, 상기 장치(1)는 에어로졸 흐름(F)에서 미세입자들 또는 입자들을 모니터하도록 배열된다. 에어로졸 덕트는 연소 엔진의 배기 덕트 또는 그와 유사한 것일 수도 있다. 선택적으로는, 에어로졸 덕트는 에어로졸을 포함하는 임의의 공간 또는 에어로졸 흐름(F)을 갖는 임의의 덕트 또는 채널일 수도 있다. 상기 공간은 에어로졸 흐름을 포함하는 것을 필요로 하지만, 본 장치는 또한 실질적으로 정지된 에어로졸의 입자들, 예컨대, 실내 공기의 입자들을 모니터하도록 배열될 수도 있다. 도면들에서 입자 모니터 장치는 에어로졸 덕트(11)의 외부에 연결되어 에어로졸 덕트(11)의 측벽에 연결된다. 이러한 구성은 개구부들이 상기 덕트(11)의 측벽들에 만들어지는 것을 필요로 하지만, 상기 장치는 덕트(11) 내부의 흐름의 조건에 현저하게 영향을 미치지는 않는다. 다른 실시예에 있어서 상기 입자 모니터 장치는 에어로졸 덕트(11) 내부에 배치될 수도 있다. 이러한 실시예에서는 상기 장치는 덕트(11)의 내부 측벽들에 연결될 수도 있으며, 개구부들이 상기 덕트의 측벽들에 만들어질 필요는 없다. 상기 장치는 에어로졸 덕트 내부에 또는, 예를 들어, 그것이 연소 엔진의 배기 가스의 입자들을 모니터하기 위해 사용될 경우에는, 배기 덕트 내에 배치될 수도 있다.
상기 장치(1)는 그 장치(1) 안으로 샘플 에어로졸 흐름(A)을 안내하기 위한 샘플 흡입구(2)를 포함한다. 샘플 흡입구(2)는 상기 장치(1)의 측정 하우징(17)의 내부 및 에어로졸 덕트(11)와 유체 상으로 통하는 상태로 되어 있다. 상기 장치(1)는 또한 바람직하게는 샘플 배출구(10)를 포함하고 있는데, 이것을 통해서 분석된 샘플 에어로졸 흐름(B)이 상기 장치(1)와 측정 하우징(17)으로부터 배출된다. 도 1의 이 실시예에 있어서, 상기 분석된 샘플 에어로졸(B)은 에어로졸 덕트(11)로 복귀한다. 샘플 배출구(10)는 또한 상기 분석된 샘플 에어로졸(B)을 직접 주변의 공기 또는 다른 위치로, 예를 들면, 컨테이너로, 안내하도록 배열될 수도 있다. 따라서, 상기 장치(1)는 에어로졸 덕트(11)로부터 받아들인 샘플 에어로졸(A)을 반드시 수집하거나 저장하지는 않는다. 선택적인 일 실시예에 있어서, 상기 장치는 또한 하나 또는 다수의 샘플 흡입구들을 포함하는 샘플 흡입장치(2)를 포함할 수도 있다. 더욱이, 상기 장치는 하나 또는 다수의 샘플 배출구들을 포함하는 샘플-배출 장치(10)를 포함할 수도 있다.
상기 장치(1)는 흡입 챔버(4)를 포함하며, 그리고 샘플 흡입구(2)는 에어로졸 덕트(11)와 흡입 챔버(4) 사이의 유체의 연통을 제공하도록 배열된다. 상기 장치는 흡입 챔버(4) 안으로 입자가 없는 클린 가스(C)를 공급하기 위한 가스 공급기를 더 포함하고 있다. 상기 가스 공급기는 가스공급기 연결부(18)를 포함하고 있는데, 이것을 통해 클린 가스가 가스공급원(19)으로부터 제공될 수도 있다. 상기 가스는 그 가스에서 입자들을 본질적으로 제거하기 위하여 필터 또는 그와 유사한 것으로 클리닝이 이루어질 수도 있는데, 이로써 가압 된 가스에서의 입자농도는 샘플 에어로졸 흐름(A)에서의 입자농도보다 현저하게 더 낮아지게 된다. 상기 클린 가스는 공기 또는 적절한 다른 가스일 수도 있다. 상기 클린 가스는 또한 흡입 챔버(4) 안으로 그것을 공급하기 전에 적절하게 공기조절(conditioning)이 이루어질 수도 있다. 그러한 공기조절은 가스를 냉각 또는 가열하거나 그 가스의 유속과 체적을 유속 컨트롤러(flow controller)로써 조절하는 것을 포함할 수도 있다. 클린 가스는 다음에는 가스 공급기 연결부(18)를 통해 측정장치(1)로 공급된다.
상기 장치(1)는 클린 가스 공급채널(16)을 더 포함하고 있는데, 그것을 통해 클린 가스는 상기 장치(1)의 흡입 챔버(4)로 공급된다. 상기 클린 가스 공급채널(16)은 가스 공급기 채널(18)과 유체상태로 통하도록 구성되고, 또한 흡입 챔버(4)로 개방되어 있는 노즐 헤드(6)를 포함한다. 상기 장치에는 또한 노즐 헤드(6)로부터 흡입 챔버(4) 안으로 클린 가스를 공급하기 전 또는 도중에 클린 가스의 적어도 일부를 이온화하기 위한 이온화(ionization) 장치(14)가 제공된다. 도 1의 실시예에 있어서, 이온화 장치(14)는 클린 가스 공급채널(16)로 연결되게끔 배열된다. 도 1의 실시예에 있어서, 이온화 장치는 클린 가스 공급 채널(16) 내에서 연장되는 코로나 침(corona needle)(14)이다. 이온화 장치(14)는 또한 클린 가스를 이온화하기에 적절한 형태의 다른 종류의 전극일 수도 있다. 노즐 헤드(6) 및 코로나 침(14)은 그 코로나 침(14)이 반드시 노즐 헤드(6)의 근처에까지 연장되도록 배열하는 것이 유리할 것이다. 이것은 코로나 침(14)을 깨끗하게 유지하는데 도움이 되며 이온 생산성을 향상시킨다. 코로나 침(14)을 통과하는 클린 가스 흐름은 코로나 침을 깨끗하게 유지한다. 코로나 침(14)은 하나 또는 다수의 전기절연체들(35)에 의해 상기 장치(1)의 몸체(17)와 클린 가스 흐름의 채널 벽들로부터 분리된다. 가스 공급 채널(16)의 벽들은 코로나 침(14)과 같은 전위(potential)에 있는 것이 바람직하다. 전술한 구성에 따르면, 가스 공급 채널(16)은 흡입 챔버(4)에 본질적으로 입자가 없는 이온화된 가스 흐름(C)을 제공하도록 배열된다.
상기 장치에는 이젝터(24)가 또한 제공된다. 상기한 이젝터(24)는 수렴-분기형(converging-diverging) 흐름 채널, 즉 이젝터(24)의 좁은 통로(목 부분)(8)를 형성하는 수렴-분기형 노즐(24)을 포함한다. 이젝터(24)는 유체의 주 흐름의 모멘텀을 활용하여 측면 유체 흐름을 위한 흡입력을 생성하기 위한 펌프와 같은 장치이다. 상기한 유체의 주 흐름(main flow) 및 측면 흐름(side flow)은 적어도 부분적으로는 이젝터(24)에서 혼합된다. 이젝터(24)의 좁은 통로(8)를 통과한 후에 혼합 유체는 팽창하고 속도는 감소하는데, 이것은 결과적으로 운동에너지를 다시 압력 에너지로 변화시키게 된다. 또 다른 실시예에 있어서, 상기 장치는 또한 하나 또는 다수의 클린 가스 공급 채널들(16), 코로나 침들(14) 및 이젝터들(24)을 포함할 수도 있다.
도 1의 실시예에 있어서, 노즐(6)로부터 방출된 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)은 주 흐름(main flow)으로 이젝터(24)의 좁은 통로(8) 부분에 공급된다. 따라서, 클린 가스 공급채널(16) 및 노즐 헤드(6)를 통해서 상기한 좁은 통로(8) 안으로 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)을 고속으로 공급하도록 구성된다. 상기한 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)의 유속은 바람직하게는 음속 또는 음속에 근접한다. 이젝터(24)에 있어서 상기 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)은 샘플 에어로졸 흐름(A)이 흡입 챔버(4) 안으로 흡입되도록 샘플 흡입구(2)로의 흡입력을 형성한다. 샘플 에어로졸 흐름(A)은 이젝터(24)의 측면 흐름을 형성한다. 샘플 에어로졸 흐름(A)의 유속은 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)의 유속과 이젝터(24)의 배열에만 본질적으로 종속된다. 바람직한 실시예에 있어서, 측면 흐름(A)에 대한 메인 흐름(C)의 비는 작은데, 바람직하게는 1:1, 더욱 바람직하게는 1:3 정도이다. 전술한 것에 따르면, 상기 장치(1)에 샘플 에어로졸 흐름(A)을 능동적으로 공급할 필요는 없지만, 그것은 클린 가스 공급기 및 이젝터(24)를 이용하여 흡입될 수도 있다.
상기한 본질적으로 입자 없는 이온화 가스 흐름(C) 및 샘플 에어로졸 흐름은 흡입 챔버(4)에서 그리고 이젝터(24)에서 혼합됨으로써 샘플 에어로졸 흐름(A)의 입자들은 이온화된 클린 가스 흐름(C)에 의한 혼합 중에 전기적으로 하전 된다. 상기한 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C) 및 샘플 에어로졸 흐름(A)은 이젝터(25)로부터, 특히 이젝터(24)의 좁은 통로(8)로부터 방출되는 이젝터 흐름(J)을 함께 형성한다. 상기 장치(1)는 또한 측정 하우징(17) 내부에 이온 트래핑 챔버(22)를 더 구비하고 있다. 상기 이온 트래핑 챔버(22)는 샘플 에어로졸 흐름 (A)의 입자들에 부착되지 않는 이온들을 제거하기 위한 이온 트랩(12)을 포함한다. 이온 트랩(12)에는 전술한 자유 이온들을 제거하기 위한 수집 전압(collection voltage)이 제공될 수도 있다. 자유 이온들을 트래핑 하기 위해 사용되는 전압은 상기 장치(1)의 설계 파라미터들에 종속되기는 하지만, 전형적으로 이온 트랩(12) 전압은 10v - 30kV 범위이다. 상기 이온 트랩(12) 전압은 핵제거형(removed nuclei mode) 입자들 또는 축적형(accumulation mode)의 가장 작은 입자들에도 또한 조절될 수도 있다. 선택적인 실시예에 있어서 이온 트랩(12)은 전기장, 자기장, 확산 또는 이들의 조합에 의한 이젝터 흐름(J)으로부터 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거하도록 배열된다.
함께 혼합된 본질적인 클린 가스와 샘플 에어로졸, 즉 이젝터 흐름(J)은 샘플 에어로졸의 하전된 입자들과 함께 배출구(10)를 통해서 상기 장치(1)로부터 방출된다. 배출구(10)는 상기 장치(1)로부터의 방출 흐름(B)을 배출하기 위한 이온 트래핑 챔버(22)와 유체 상으로 연통하도록 제공된다. 상기 배출구(10)는 에어로졸 덕트(11)로 또는 주변 대기 또는 임의의 다른 위치로 방출 흐름(B)을 다시 공급하도록 배열될 수도 있다.
에어로졸 덕트(11)에서의 에어로졸(F)의 입자들은 샘플 에어로졸 흐름(A)의 전기적으로 하전된 입자들에 의해 보유되는 전하를 측정함으로써 모니터 된다. 바람직한 실시예에 있어서, 에어로졸(F)의 입자들은 배출구(10)를 통해 이젝터 흐름(J)을 구비한 장치(1)로부터 전기적으로 하전된 입자들과 함께 이탈하는 전하를 측정함으로써 모니터 된다. 전기적으로 하전된 입자들에 의해 보유되는 전하의 측정은 다양한 선택적인 방식들로 이루어질 수도 있다. 일 실시예에 있어서 전기적으로 하전된 입자들에 의해 보유된 전하는 샘플 배출구(10)로부터 이탈하는 순 전류(net current)를 측정함으로써 측정된다. 작은 전류, 즉 전형적으로 pA 레벨의 전류를 측정할 수 있도록 하기 위하여 전체적 장치(1)는 주위 시스템들로부터 분리된다. 도 1에서 상기 장치(1)에는 덕트(11)로부터 상기 장치를 절연하기 위한 장비 절연체들(13)이 제공된다. 전위계(electrometer)(34)가 상기한 분리된 장치(1)(즉, 몸체(50)의 벽에 있는 한 포인트)와 주변 시스템들의 접지점 사이에 장착될 수도 있다. 이러한 유형의 구성으로써 전위계(34)는 이온화된 입자들과 함께 분리된 장치(1)로부터 이탈하는 전하를 측정할 수가 있게 된다. 달리 말하면, 이러한 유형의 장치구성에 의해 이탈 전류(escaping current)가 측정된다.
도 1은 상기 장치(1)로부터 이탈하는 전류를 측정함으로써 입자들을 모니터하기 위한 일 실시예를 도시한다. 이탈 전류는 전기장치(30)로써 측정된다. 전기장치(30)는 이온화 장치(14)에 고전압을 제공하기 위한 이온화 장치(14)에 접속된 고전압 소스(36)를 포함한다. 고전압 소스(36)는 분리용 트랜스포머(38)와 전기 절연체들(35)에 의해 다른 시스템으로부터 전기적으로 분리된다. 이온화 장치(14)는 가스 채널(16)의 벽들과 같은 전위에 놓여있다. 전기장치(30)는 측정 하우징(17)의 벽과 갈바닉 접촉(galvanic contact)을 이루는 포인트와 이온화 장치(7) 사이에 장착된 전위계(34)를 더 포함하고 있다. 고전압 소스(36)의 제1접속부는 이온화 장치(14)에 접속되고 제2접속부는 전위계(34)의 제1입력으로서 연결된다. 전위계(34)의 제2입력은 측정 하우징(17)의 벽에 그리고 이온 트랩(12)에 접속된다. 이러한 유형의 전기장치(30) 구성으로써 전위계(34)는 이온화된 입자들을 갖는 장치(1)로부터 그리고 이온 트래핑 챔버(30)로부터 이탈하는 전하, 예컨대 이탈 전류를 측정한다.
이온 트랩(12)은 자유 이온들이 상기 장치(1)로부터 이탈하는 것을 방지한다. 이온 트랩(12)은 이온 트랩 도체(25)를 경유하여 수집 전압 소스(29)로 접속된다. 종래기술에 있어서 이온 트랩(12)은 네트와 같은 전극들 또는 전극과 같은 플레이트로서 제공된다. 도 1은 이온 트랩(12) 플레이트 장치가 이젝터의 흐름(J)으로부터 자유 이온들을 제거하기 위해 이젝터(24)의 하류부에 배열되는 구성의 종래기술의 일 실시예를 도시하고 있다. 상기 이온 트랩(12)은 측정 하우징(17)의 실질적으로 외부로부터 특히 상기 장치(1)의 측정 하우징(17)과 외곽 몸체(50) 사이에서 연장되도록 배열된 이온 트랩 도체(25)를 경유하여 수집 전압 소스(29)에 접속된다. 선택적인 실시예에 있어서 이온 트랩은 전계, 자계, 확산 또는 이들의 조합에 의해 이젝터 흐름(J)로부터 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거하도록 배열될 수도 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예를 도시하고 있다. 도 2에서 트랩 와이어(12)는 이젝터(24) 안으로 적어도 부분적으로 연장되도록 구부러져 있는데, 상기 이젝터는 흡입 노즐(118), 좁은 통로(8) 및 분기 디퓨저(108)로 구성된다. 특히, 트랩 와이어(12)는 이젝터(24)의 디퓨저(108) 안으로 적어도 부분적으로 또는 이젝터(24)의 좁은 통로(8) 안으로 적어도 부분적으로 연장되도록 배열된다. 이러한 도 2의 구성은 이젝터(24)의 디퓨저(108) 또는 좁은 통로(8)가 입자들에 부착되지 않은 자유 이온들을 제거하기 위해 사용되는 것을 가능하게 해준다. 따라서, 트랩 와이어(12)는 상기 장치의 길이, 특히 이온 트래핑 챔버(22)의 길이가 짧아지도록 이젝터(24)의 길이를 활용한다. 실험에 따르면, 놀랍게도, 입자들의 하전(charging)은, 입자들의 이온화가 이젝터(24)의 배출 훨씬 전에 수행되므로, 트랩 와이어(12)가 이젝터(24) 안으로 적어도 부분적으로 연장될 때에 영향을 받지 않는다는 것이 관찰되었다.
도 2에 도시된 바와 같이, 입자 센서를 형성하는 상기 장치(1)는 그 안에 이젝터(24)가 제공되어 있는 측정 하우징(17)을 포함한다. 흡입 챔버(4)는 측정 하우징(17) 내부에 그리고 이젝터(24)의 상류 쪽에 배열된다. 흡입 챔버(17)에는, 채널(11) 또는 공간으로부터 샘플-흡입 장치(2)를 통해 샘플 에어로졸 흐름(A)을 제공하기 위하여, 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)을 이젝터(24)에 공급하는 가스 공급기(6, 16, 18, 19)가 제공된다. 이온 트래핑 챔버(22)는 측정 하우징(17) 내부에 그리고 이젝터(24)의 하류 쪽에 배열된다. 이온 트래핑 챔버(22)에는 이온 트랩 장치구성(12, 25, 26)이 제공되는데, 상기 이온 트랩 장치구성은 이젝터 흐름(J)으로부터 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거하기 위한 집전 전압을 이온 트랩(12)에 제공하기 위해 트랩 도체(25)로써 집전 전압 소스(29)에 연결된 이온 트랩(12)을 포함하고 있다. 상기한 수집 전압 소스(29)는 측정 하우징(17) 외부에 배치된다. 도 2에 도시된 것과 같이, 트랩 도체(25)는 이온 트랩(12)에 집전 전압을 제공하기 위해 측정 하우징(17) 내부에서 그리고 흡입 챔버(4)로부터 이온 트래핑 챔버(22) 쪽으로 특히 측정 하우징(17) 내부에서 연장되도록 배열된다. 일 실시예에 있어서, 트랩 도체(25)는 이온 트랩(12)에 집전 전압을 제공하기 위해 측정 하우징(17) 내부에서 그리고 특히 흡입 챔버(4)와 이젝터 구조(24)를 통해 이온 트래핑 챔버(22) 쪽으로 특히 측정 하우징(17) 내부에서 연장되도록 배열된다.
트랩 도체(25)는 측정 하우징(17)으로부터 전기적으로 절연된다. 트랩 도체(25)에는 절연 목적으로 외부 절연층이 제공될 수도 있다. 측정 하우징(17)에는 트랩 도체 채널(28)이 제공될 수도 있는데, 이 채널을 통해 트랩 도체(25)는 샘플 에어로졸 흐름(A), 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C), 및 이젝터 흐름(J) 으로부터 트랩 도체(25)를 분리하기 위해 측정 하우징(17) 내부를 통과한다. 트랩 도체 채널(28)은 측정 하우징(17) 내부에 트랩 도체(25)를 위한 전기적 절연을 제공할 수도 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 트랩 도체 채널(28)은 흡입 챔버(4)로부터 이온 트래핑 챔버(22)로, 또는 흡입 챔버(4)와 이젝터 구조(24)를 통해, 이온 트래핑 챔버(22)로 연장될 수도 있는데, 이로써 트랩 도체(25)는 측정 하우징(17) 내부에서 이온 트래핑 챔버(22) 쪽으로 통과되도록 함으로써 트랩 도체(25)는 샘플 에어로졸 흐름(A)과 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)에 종속되지는 않는다. 이젝터(24)는 세라믹 재료로부터 형성되어도 좋다. 상기 세라믹 재료의 이젝터(24)는 흡입 챔버(4) 전체를 통해 연장되도록 배열될 수도 있는데, 이렇게 함으로써 트랩 도체 채널(28)은 세라믹 재료에까지 제공될 수도 있다.트랩 도체 채널(28)은 따라서 전기 장치로부터 흡입 챔버와 이젝터 구조를 통해 이온 트래핑 챔버(22) 안으로 세라믹 물질을 통해 연장될 수도 있다. 트랩 도체 채널(28)은 세라믹 물질을 통해 구멍을 뚫음으로써 형성될 수도 있다. 세라믹 물질이 이젝터(24)를 형성하기 위해 사용될 때 그 세라믹 물질은 금속층과 같은 도전층으로써 코팅이 될 수도 있다. 도전성 코팅은 상기 세라믹 물질이 측정 하우징(17)과 같은 전위에 있도록 측정 하우징(17)의 벽들과 더 연결된다. 일 실시예에 있어서, 세라믹 물질은 임의의 적합한 다른 물질로 교체될 수도 있다. 또 다른 선택적인 실시예에서는 상기 트랩 도체 채널(28)에는 측정 하우징(17) 내부에 배열된 분리된 채널 요소가 제공될 수도 있다. 트랩 도체 채널(28)은 트랩 도체(25)가 샘플 에어로졸 흐름(A)으로 인해 더러워지는 것을 방지한다.
트랩 도체 채널(28)은, 샘플 에어로졸의 미세 입자들과 같은 오염물질들이 이온 트랩(12) 또는 이온 트랩 홀더(26)가 이온 트래핑 챔버(22)로 연장될 경우에 형성되는 개구부를 통해 트랩 도체 채널(28)에 들어갈 수도 있기 때문에 오염될 수도 있다. 이온 트랩 홀더(26)는 이온 트랩(12)를 지지하고 이온 트랩 도체(25)로부터 이온 트랩(12)로의 집전전압을 안내하도록 배열된 임의의 기계적 및 전기적 도전성 부재일 수도 있다. 이온 트랩 홀더(26)는 분리된 부분일 수도 있으며, 또는 이온 트랩 도체(25) 또는 이온 트랩(12) 또는 양자의 통합형 부재일 수도 있다. 트랩 도체 채널(28)의 더러워짐을 방지하기 위하여 그것은 트랩 도체(25)와 트랩 도체 채널(28)의 내벽들 사이에서 이온 트랩 챔버(22) 쪽으로 트랩 도체 채널(28)을 따라서 흐르는 시스 가스(sheath gas)의 흐름(H)이 제공될 수도 있다. 상기한 시스 가스 흐름(H)은 임의의 적절한 가스 소스로부터의 임의의 적절한 가스를 포함할 수도 있다. 바람직한 실시예에 있어서, 상기한 시스 가스 흐름(H)은 또한 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름을 흡입 챔버(4)에 공급하는 가스 소스(19)로부터 제공된다. 트랩 도체 채널(28) 및 이온 트랩 도체(25)는 바람직하게는 상이한 단면의 형상을 갖는데, 이것은 시스 가스 흐름(H)이 유동하는 이온 트랩 도체(25)와 트랩 도체 채널(28) 사이에 간격이 제공되도록 하기 위함이다. 도 3은 트랩 도체 채널(28)이 실질적으로 둥근 단면을 가지며 이온 트랩 도체(25)가 실질적으로 직사각형의 단면을 갖는 실시예를 도시하고 있다.
이온 트랩(12)은 트랩 홀더(26)가 있거나 없는 트랩 도체(25)에 전기적으로 연결된 분리형 요소일 수도 있다. 분리형 이온 트랩(12)은 이온 트랩 플레이트, 네트 또는 기타의 실질적으로 3차원의 이온 트랩 장치일 수도 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 이온 트랩(12) 및 트랩 도체(25)는 트랩 홀더가 없는 단일한 금속 와이어 또는 막대로서 제공될 수도 있다. 이온 트랩 또는 트랩 와이어(12)는 전술한 것과 같이 구현될 수도 있다. 따라서, 트랩 와이어(12)는 그것이 이온 트랩(12)으로서 이온 트래핑 챔버(22)에 들어가도록 된 이온 트랩 도체로서 트랩 도체 채널(28) 내에서 연장된다. 이러한 배열은 이온 트랩 장치에 대한 단순하고 콤팩트한 해결책을 제공한다. 이러한 유형의 이온 트랩 장치에 있어서 이온 트랩(12)은 이젝터(24) 안으로 적어도 부분적으로 연장되거나 또는 이온 트래핑 챔버(22) 내부에서 이젝터(24)의 좁은 통로(8) 안으로 적어도 부분적으로 연장되도록 배열된 길이 방향의 와이어 또는 막대일 수도 있다.
관련 기술의 진보에 따라 본 발명의 기본적인 개념은 다양한 방식으로 구현될 수도 있음은 당해 기술분야의 전문가에게는 자명할 것이다. 본 발명과 그것의 실시예들은 따라서 전술한 예들에만 한정되는 것이 아니라 아래의 특허청구범위 내에서 이해되어야 할 것이다.

Claims (10)

  1. 에어로졸을 포함하는 채널(11) 또는 공간에서 입자들을 모니터하기 위한 장치(1)로서,
    이젝터(24);
    상기 이젝터(24)에 본질적으로 입자가 없는 이온화 가스 흐름(C)을 공급하도록 배열된 가스 공급기(6, 16, 18, 19);
    샘플 에어로졸 흐름(A) 중의 입자들의 적어도 일부를 하전시키기 위해 상기 가스 공급기(6, 16, 18, 19) 및 상기 이젝터(24)에 의해 제공되는 흡입작용을 통해 상기 채널(11) 또는 공간으로부터 상기 이젝터(24) 안으로 샘플 에어로졸 흐름(A)을 제공하도록 배열된 샘플-흡입 장치(2);
    상기 이젝터(24)로부터 방출되는 이젝터 흐름(J)으로부터 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거하기 위한 이온 트랩(12)을 포함하는 장치에 있어서,
    상기 이온 트랩(12)은 상기 이젝터(24) 안으로 적어도 부분적으로 연장되는 트랩 와이어로서 제공되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 트랩 와이어(12)는 상기 이젝터(24)의 분기형 디퓨저(108) 안으로 적어도 부분적으로 연장되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 트랩 와이어(12)는 상기 이젝터(24)의 좁은 통로(8) 안으로 적어도 부분적으로 연장되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 트랩 와이어(12)는 전계, 자계, 확산 또는 이들의 조합에 의해 상기 이젝터 흐름(J)으로부터 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거하도록 배열되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 장치는 측정 하우징(17)을 포함하고, 그 내부에는 상기 샘플-흡입 장치(2)를 통해 상기 채널(11) 또는 공간과 유체상태로 연통하도록 되고 상기 이젝터(24)의 상류 쪽에 배열된 흡입 챔버(4)와, 상기 이젝터(24)의 하류 쪽에 배열된 이온 트래핑 챔버(22)가 제공되고, 그리고 상기 트랩 와이어(12)는 상기 이온 트래핑 챔버(22)에 배열되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 트랩 와이어(12)는 상기 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거하기 위한 집전전압 소스에 상기 트랩 와이어(12)를 연결하는 트랩 도체(25)를 포함하고, 그리고 상기 트랩 도체(25)는 상기 흡입 챔버(4)로부터 상기 이온 트래핑 챔버(22)로 측정 하우징(17) 내부에서 연장되도록 배열되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 트랩 와이어(12)는 상기 입자들에 부착되지 않은 이온들을 제거하기 위한 집전전압 소스에 상기 트랩 와이어(12)를 연결하는 트랩 도체(25)를 포함하고, 그리고 상기 트랩 도체(25)는 상기 흡입 챔버(4)와 상기 이젝터 구조(24)를 통해서 상기 이온 트래핑 챔버(22)로 측정 하우징(17) 내부에서 연장되도록 배열되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  8. 제6항 또는 제7항에 있어서, 상기 트랩 도체(25)는 트랩 도체 채널(28)에서 연장되도록 배열되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 트랩 도체 채널(28)에는 상기 트랩 도체(25)와 트랩 도체 채널(28)의 내벽들 사이에서 상기 이온 트래핑 챔버(22)로 흐르는 시스 가스(sheath gas)의 흐름(H)이 제공되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
  10. 제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 트랩 와이어(12) 및 트랩 도체(26)는 단일한 금속 와이어 또는 막대로서 제공되는 것을 특징으로 하는 입자들을 모니터하기 위한 장치.
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