KR20140025901A - Light emitting device - Google Patents

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Abstract

An embodiment of the present invention is to provide a light emitting device which comprises: a light emitting structure having a first semiconductor layer, a second semiconductor layer. and an activating layer between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer; a first electrode electrically connected to the first semiconductor layer; a second electrode electrically connected to the second semiconductor layer; and an optical conversion layer disposed to have a predetermined pattern on the first semiconductor layer and conversing a wavelength of the light emitted from the activating layer, wherein the optical conversion layer includes: a first optical conversion layer disposed on one side of the first electrode and having a first optical conversion particle with a first size; and a second optical conversion layer disposed on one side of the first optical conversion layer and having a second optical conversion particle with a second size.

Description

발광소자{Light emitting device}[0001]

실시 예는 발광소자에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting element.

반도체의 3-5족 또는 2-6족 화합물 반도체 물질을 이용한 발광 다이오드(Ligit Emitting Diode)나 레이저 다이오드와 같은 발광소자는 박막 성장 기술 및 소자 재료의 개발로 적색, 녹색, 청색 및 자외선 등 다양한 색을 구현할 수 있으며, 형광 물질을 이용하거나 색을 조합함으로써 효율이 좋은 백색 광선도 구현이 가능하다. BACKGROUND ART Light emitting devices such as a light emitting diode (LD) or a laser diode using semiconductor materials of Group 3-5 or 2-6 group semiconductors are widely used for various colors such as red, green, blue, and ultraviolet And it is possible to realize a white light beam having high efficiency by using a fluorescent material or combining colors.

이러한 발광소자는 형광등, 백열등 등 기존의 광원에 비해 저소비전력, 반영구적인 수명, 빠른 응답속도, 안전성, 환경친화성의 장점을 가짐에 따라, 점차 사용 영역이 증가하고 있으며, 이와 같이 발광소자의 사용영역이 넓어지면서, 생활에 사용되는 전등, 구조 신호용 전등 등에 요구되는 휘도가 높이지는 바, 발광소자의 효율을 증가시키는 것이 중요하다.
Such a light emitting device has advantages such as low power consumption, semi-permanent lifetime, quick response speed, safety, and environmental friendliness compared to conventional light sources such as fluorescent lamps and incandescent lamps, It is important to increase the efficiency of the light emitting device as the brightness required for a lamp used in daily life and a light for a structural signal is increased.

실시 예는, 광속을 향상시키며, 지향각을 확대시키기 용이한 발광소자를 제공한다.The embodiment provides a light emitting device that improves a light flux and can easily increase a directivity angle.

실시 예에 따른 발광소자는, 제1 반도체층, 제2 반도체층 및 상기 제1, 2 반도체층 사이에 활성층을 포함하는 발광구조물, 상기 제1 반도체층에 전기적으로 연결된 제1 전극, 상기 제2 반도체층에 전기적으로 연결된 제2 전극 및 상기 제1 반도체층 상에 소정 패턴을 가지고 배치되며, 상기 활성층에서 방출된 광의 파장을 변환하는 광변환층을 포함하고, 상기 광변환층은, 상기 제1 전극의 일측에 위치하며, 제1 크기를 가지는 제1 광변환입자를 포함하는 제1 광변환층 및 상기 제1 광변환층의 일측에 위치하며, 제2 크기를 가지는 제2 광변환입자를 포함하는 제2 광변환층을 포함할 수 있다.
A light emitting device according to an embodiment includes a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, a light emitting structure including an active layer between the first and second semiconductor layers, a first electrode electrically connected to the first semiconductor layer, A second electrode electrically connected to the semiconductor layer; and a light conversion layer disposed on the first semiconductor layer in a predetermined pattern, the light conversion layer converting a wavelength of light emitted from the active layer, A first photo-conversion layer located on one side of the electrode and including first photo-conversion particles having a first size, and second photo-conversion particles positioned on one side of the first photo-conversion layer and having a second size, The second light conversion layer may include a second light conversion layer.

실시 예에 따른 발광소자는, 발광구조물 상에 배치된 제1 전극의 둘레에 인접하게 제1 크기를 가지는 제1 광변환입자를 포함하는 제1 광변환층으로 광속을 향상시키며, 제1 광변환층의 둘레에 인접하게 상기 제1 크기와 다른 제2 크기를 가지는 제2 광변환입자를 포함하는 제2 광변환층으로 지향각을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.The light emitting device according to the embodiment improves the light flux to the first light conversion layer including the first light conversion particles having a first size adjacent to the periphery of the first electrode disposed on the light emitting structure, And a second light conversion layer including second light conversion particles having a second size different from the first size adjacent to the periphery of the layer.

실시예에 따른 발광소자는 서로 크기가 다른 광변환입자를 포함하여, 색변환효율이 향상될 수 있다. The light emitting device according to the embodiment includes the photo-conversion particles having different sizes, so that the color conversion efficiency can be improved.

실시예에 따른 발광소자는 제2 광변환층의 두께를 조절하여 발광구조물에 가해지는 압력으로 인한 결함을 최소화할 수 있다.
The light emitting device according to the embodiment can minimize the defect due to the pressure applied to the light emitting structure by adjusting the thickness of the second light conversion layer.

도 1은 제1 실시 예에 따른 발광소자를 나타낸 단면도이다.
도 1a 는 광변환입자의 크기에 따른 지향각 특성의 변화를 나타낸 그래프이다.
도 2는 제2 실시 예에 따른 발광소자를 나타낸 단면도이다.
도 3은 실시예에 따른 발광소자를 포함하는 발광소자패키지의 단면을 도시한 단면도이다.
도 4는 실시예에 따른 발광소자 모듈을 포함하는 조명장치를 도시한 사시도이다.
도 5는 도 4의 조명장치의 C - C’ 단면을 도시한 단면도이다.
도 6은 실시예에 따른 광학시트를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다.
도 7은 실시예에 따른 광학시트를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다.
1 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device according to a first embodiment.
FIG. 1A is a graph showing a change in the directional angle characteristic depending on the size of the photoconversion particle.
2 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device according to a second embodiment.
3 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package including the light emitting device according to the embodiment.
4 is a perspective view illustrating a lighting device including a light emitting device module according to an embodiment.
5 is a cross-sectional view taken along the line C-C 'of the illumination device of FIG.
6 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device including an optical sheet according to an embodiment.
7 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device including an optical sheet according to an embodiment.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 따라서, 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 공정 단계들, 잘 알려진 소자 구조 및 잘 알려진 기술들은 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the concept of the invention to those skilled in the art. To fully disclose the scope of the invention to a person skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims. Thus, in some embodiments, well known process steps, well known device structures, and well-known techniques are not specifically described to avoid an undesirable interpretation of the present invention. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작 시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)"또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 소자는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.The terms spatially relative, "below", "beneath", "lower", "above", "upper" May be used to readily describe a device or a relationship of components to other devices or components. Spatially relative terms should be understood to include, in addition to the orientation shown in the drawings, terms that include different orientations of the device during use or operation. For example, when inverting an element shown in the figures, an element described as "below" or "beneath" of another element may be placed "above" another element. Thus, the exemplary term "below" can include both downward and upward directions. The elements can also be oriented in different directions, so that spatially relative terms can be interpreted according to orientation.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. It is noted that the terms "comprises" and / or "comprising" used in the specification are intended to be inclusive in a manner similar to the components, steps, operations, and / Or additions.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used in a sense commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.

도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기와 면적은 실제크기나 면적을 전적으로 반영하는 것은 아니다. The thickness and size of each layer in the drawings are exaggerated, omitted, or schematically shown for convenience and clarity of explanation. Also, the size and area of each component do not entirely reflect actual size or area.

또한, 실시 예에서 발광소자의 구조를 설명하는 과정에서 언급하는 각도와 방향은 도면에 기재된 것을 기준으로 한다. 명세서에서 발광소자를 이루는 구조에 대한 설명에서, 각도에 대한 기준점과 위치관계를 명확히 언급하지 않은 경우, 관련 도면을 참조하도록 한다.Further, the angle and direction mentioned in the description of the structure of the light emitting device in the embodiment are based on those shown in the drawings. In the description of the structure of the light emitting device in the specification, reference points and positional relationship with respect to angles are not explicitly referred to, refer to the related drawings.

도 1은 제1 실시 예에 따른 발광소자를 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device according to a first embodiment.

도 1을 참조하면, 발광소자(100)는 기판(110) 및 기판(110) 상에 제1 반도체층(162), 제2 반도체층(166) 및 제1, 2 반도체층(162, 166) 사이에 활성층(164)을 포함하는 발광구조물(160)을 포함할 수 있다.1, a light emitting device 100 includes a first semiconductor layer 162, a second semiconductor layer 166, and first and second semiconductor layers 162 and 166 on a substrate 110 and a substrate 110, And a light emitting structure 160 including an active layer 164 therebetween.

실시 예에 따른 발광소자(100)는 기판(110), 기판(110) 상에 배치된 결합층(120), 결합층(120) 상에 배치된 캡핑층(130) 및 캡핑층(130) 내에 제1 전극(140), 제1 전극(140) 상에 발광구조물(160), 발광구조물(160) 상에 제2 전극(170)을 포함할 수 있다.The light emitting device 100 according to the embodiment includes a substrate 110, a coupling layer 120 disposed on the substrate 110, a capping layer 130 disposed on the coupling layer 120, A light emitting structure 160 may be formed on the first electrode 140 and the first electrode 140 and a second electrode 170 may be formed on the light emitting structure 160.

실시 예에서, 발광소자(100)는 전극이 수직적으로 배치된 수직형 타입(vertical type)의 발광소자인 것으로 나타내었으나, 발광구조물(160)의 일 영역을 에칭하여 전극이 수평적으로 배치된 수평형 타입(lateral type)의 발광소자일 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.In the embodiment, the light emitting device 100 is a vertical type light emitting device in which electrodes are arranged vertically. However, it is also possible to etch one region of the light emitting structure 160, And may be a lateral type light emitting device, but is not limited thereto.

기판(110)은 발광구조물(160)의 하부에 배치되어, 발광구조물(160)을 지지할 수 있으며, 광 투과적 성질을 가질 수 있다. The substrate 110 may be disposed under the light emitting structure 160 to support the light emitting structure 160 and may have a light transmitting property.

이때, 기판(110)은 광 투과적 물질을 사용하거나, 소정의 물질을 일정 두께 이하로 형성하여 광 투과적 성질을 가질 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 기판(110)의 굴절율은 광추출 효율을 위해 제1 반도체층(162)의 굴절율보다 작을 수 있으나, 이에 한정을 두지 않는다.At this time, the substrate 110 may have a light transmitting property by using a light transmitting material or by forming a predetermined material to a predetermined thickness or less, but the present invention is not limited thereto. The refractive index of the substrate 110 may be smaller than the refractive index of the first semiconductor layer 162 for light extraction efficiency, but is not limited thereto.

기판(110)은 반도체 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 반도체 물질은 규소(Si), 게르마늄(Ge), 비소화갈륨(GaAs), 산화아연(ZnO), 실리콘카바이드(SiC), 실리콘게르마늄(SiGe), 질화갈륨(GaN), 갈륨(Ⅲ)옥사이드(Ga2O3)와 같은 캐리어 웨이퍼로 구현될 수 있다.The substrate 110 may be formed of a semiconductor material. For example, the semiconductor material may be selected from the group consisting of silicon (Si), germanium (Ge), gallium arsenide (GaAs), zinc oxide (ZnO), silicon carbide (SiC), silicon germanium (SiGe), gallium nitride III < / RTI > oxide (Ga2O3).

기판(110)은 전도성 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 금속으로 형성된 경우 기판(110)은 금(Au), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 탄탈륨(Ta), 은(Ag), 백금(Pt), 크롬(Cr) 중에서 선택된 어느 하나로 형성하거나 둘 이상의 합금으로 형성할 수 있으며, 위 물질 중 둘 이상의 물질을 적층하여 형성할 수 있으며, 발광 소자(100)에서 발생하는 열의 방출을 용이하게 하여, 발광 소자(100)의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다.The substrate 110 may be formed of a conductive material. For example, when the substrate 110 is formed of a metal, the substrate 110 may include at least one selected from the group consisting of gold (Au), nickel (Ni), tungsten (W), molybdenum (Mo), copper (Cu), aluminum (Al), tantalum (Ag), platinum (Pt), and chromium (Cr), or may be formed of two or more alloys, and two or more of the above materials may be laminated. And the thermal stability of the light emitting device 100 can be improved.

기판(110)은 열전도성이 우수한 물질을 이용하여 형성할 수 있으며, 또한 전도성 물질로 형성할 수 있는데, 금속 물질 또는 전도성 세라믹을 이용하여 형성할 수 있다. 기판(110)은 단일층으로 형성될 수 있고, 이중 구조 또는 그 이상의 다중 구조로 형성될 수 있다.The substrate 110 may be formed using a material having excellent thermal conductivity, or may be formed of a conductive material, and may be formed using a metal material or a conductive ceramic. The substrate 110 may be formed of a single layer, and may be formed of a dual structure or a multiple structure.

기판(110) 상에는 기판(110)과 캡핑층(130)의 결합을 위하여 결합층(Wafer Bonding Layer)(120)이 위치할 수 있다. 결합층(120)은 예를 들어, 금(Au), 주석(Sn), 인듐(In), 은(Ag), 니켈(Ni), 나이오븀(Nb) 및 구리(Cu)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다.A bonding layer 120 may be disposed on the substrate 110 for coupling the substrate 110 and the capping layer 130. The bonding layer 120 may be formed from a group consisting of, for example, Au, Sn, In, Ag, Ni, Nb and Cu. The material to be selected or an alloy thereof.

결합층(120) 상에는 캡핑층(130)이 형성될 수 있다. 캡핑층(130)은 제1 전극(140)이 배치되는 홈(미도시)이 형성될 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.A capping layer 130 may be formed on the bonding layer 120. The capping layer 130 may have a groove (not shown) in which the first electrode 140 is disposed, but is not limited thereto.

즉, 캡핑층(130)는 제1 전극(140)의 배치 위치를 정할 수 있으며, 제1 전극(140)의 반사전극(142)에 대한 이동을 방지할 수 있다.That is, the capping layer 130 can determine the disposing position of the first electrode 140 and prevent the first electrode 140 from moving relative to the reflective electrode 142.

제1 전극(140)은 캡핑층(130)에 형성된 상기 홈에 배치된 반사전극(142) 및 반사전극(142) 및 캡핑층(130) 상에 배치된 투명전극(146)을 포함할 수 있다.The first electrode 140 may include a reflective electrode 142 and a reflective electrode 142 disposed in the groove formed in the capping layer 130 and a transparent electrode 146 disposed on the capping layer 130 .

여기서, 반사전극(142)은 반사특성이 우수한 물질, 예를 들어 은(Ag), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 루비듐(Rh), 팔라듐(Pd), 이리듐(Ir), 루테늄(Ru), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 백금(Pt), 금(Au), 하프늄(Hf) 및 이들의 선택적인 조합으로 구성된 물질 중에서 형성될 수 있으며, 투명전극(146)은 예를 들어, IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide) 및 ATO(antimony tin oxide) 및 이들의 선택적인 조합으로 구성된 물질 중에서 형성될 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.The reflective electrode 142 may be formed of a material having excellent reflection characteristics such as silver (Ag), nickel (Ni), aluminum (Al), rubidium (Rh), palladium (Pd), iridium (Ir) ), Magnesium (Mg), zinc (Zn), platinum (Pt), gold (Au), hafnium (Hf), and combinations thereof. The transparent electrode 146 may be formed, IZO (indium zinc oxide), IZTO (indium zinc oxide), IZO (indium aluminum zinc oxide), IGZO (indium gallium zinc oxide), IGTO (indium gallium tin oxide), AZO tin oxide, and combinations thereof. However, the present invention is not limited thereto.

또한, 제1 전극(140)은 반사전극(142) 및 투명전극(146)이 다층으로 형성될 수 있으며, 예를 들어, IZO/Ni, AZO/Ag, IZO/Ag/Ni, AZO/Ag/Ni 등으로 적층할 수 있다. The first electrode 140 may have a multilayer structure of the reflective electrode 142 and the transparent electrode 146. For example, the first electrode 140 may be formed of IZO / Ni, AZO / Ag, IZO / Ag / Ni, Ni or the like.

여기서, 제1 전극(140)의 측면에는 채널층(150)이 형성될 수 있으며, 제1 전극(140) 상에는 발광구조물(160)이 배치될 수 있다.A channel layer 150 may be formed on a side surface of the first electrode 140 and a light emitting structure 160 may be disposed on the first electrode 140.

발광구조물(160)은 상술한 바와 같이 제1 반도체층(162), 제2 반도체층(166) 및 제1, 2 반도체층(162, 166) 사이에 활성층(164)을 포함할 수 있다.The light emitting structure 160 may include the active layer 164 between the first semiconductor layer 162, the second semiconductor layer 166 and the first and second semiconductor layers 162 and 166 as described above.

제1 반도체층(162)은 활성층(164)으로 정공을 주입하는 p형 반도체층으로 구현될 수 있으며, 제1 반도체층(162)은 활성층(164)에서 파장이 약 400 내지 550nm인 파랑색(Blue) 빛을 생성하는 경우, InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaP(Gallium nitride), AlN(Aluminium nitride), AlGaN(Aluminium gallium nitride), InGaN(Indium gallium nitride), InN(Indium nitride), InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있다. 제1 반도체층(162)은 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 칼슘(Ca), 스트론튬(Sr), 바륨(Ba) 등의 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.The first semiconductor layer 162 may be a p-type semiconductor layer injecting holes into the active layer 164 and the first semiconductor layer 162 may be formed in the active layer 164 in a blue color having a wavelength of about 400 to 550 nm Blue) light, a semiconductor material having a composition formula of InxAlyGa1-x-yN (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? 1), for example GaP (Gallium nitride) Aluminum nitride (AlN), aluminum gallium nitride (AlGaN), indium gallium nitride (InGaN), indium nitride (InN), InAlGaN and AlInN. The first semiconductor layer 162 may be doped with a p-type dopant such as magnesium (Mg), zinc (Zn), calcium (Ca), strontium (Sr), barium (Ba)

제1 반도체층(162)은 활성층(164)에서 파장이 약 610 내지 780 nm의 빨강색(Red) 빛을 생성하는 경우, InxAlyGa1-x-yP (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 반도체층(162)은 GaP 또는 AlGaInP 등으로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 제1 반도체층(162)은 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 칼슘(Ca), 스트론튬(Sr), 바륨(Ba) 등의 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.When the active layer 164 generates red light having a wavelength of about 610 to 780 nm, the first semiconductor layer 162 may be formed of InxAlyGa1-x-yP (0? X? 1, 0? Y? 0? X + y? 1). For example, the first semiconductor layer 162 may be formed of GaP or AlGaInP, but is not limited thereto. The first semiconductor layer 162 may be doped with a p-type dopant such as magnesium (Mg), zinc (Zn), calcium (Ca), strontium (Sr), barium (Ba)

활성층(164)은 제1 반도체층(162) 상에 형성될 수 있다. 활성층(164)은 3족-5족 원소의 화합물 반도체 재료를 이용하여 단일 또는 다중 양자 우물 구조, 양자 선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 등으로 형성될 수 있다.The active layer 164 may be formed on the first semiconductor layer 162. The active layer 164 may be formed of a single or multiple quantum well structure, a quantum-wire structure, a quantum dot structure, or the like using a compound semiconductor material of Group 3-V group elements.

생성하는 빛의 파장이 파랑색 계열인 경우, 양자우물구조인 활성층(264)은 InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 우물층과 InaAlbGa1-a-bN (0≤a≤1, 0≤b≤1, 0≤a+b≤1)의 조성식을 갖는 장벽층을 갖는 단일 또는 양자우물구조를 포함할 수 있다. 상기 우물층은 상기 장벽층의 에너지 밴드 갭보다 작은 에너지 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.When the wavelength of the generated light is blue, the active layer 264, which is a quantum well structure, has a composition formula of InxAlyGa1-x-yN (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + And a single or quantum well structure having a barrier layer having a composition formula of InaAlbGa1-a-bN (0? A? 1, 0? B? 1, 0? A + b? 1). The well layer may be formed of a material having an energy band gap smaller than the energy band gap of the barrier layer.

생성하는 빛의 파장이 빨간색 계열인 경우, 양자우물구조인 활성층(264)은 InxAlyGa1-x-yP (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 우물층과 InaAlbGa1-a-bP (0≤a≤1, 0≤b≤1, 0≤a+b≤1)의 조성식을 갖는 장벽층을 갖는 단일 또는 양자우물구조를 포함할 수 있다. 상기 우물층은 상기 장벽층의 에너지 밴드 갭보다 작은 에너지 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.When the wavelength of the generated light is red, the active layer 264 as a quantum well structure has a composition formula of InxAlyGa1-x-yP (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? 1) A well layer and a barrier layer having a composition formula of InaAlbGa1-a-bP (0? A? 1, 0? B? 1, 0? A + b? 1). The well layer may be formed of a material having an energy band gap smaller than the energy band gap of the barrier layer.

제2 반도체층(166)은 n형 반도체층으로 구현될 수 있다.The second semiconductor layer 166 may be implemented as an n-type semiconductor layer.

예를 들어, 활성층(164)이 생성하는 빛의 파장이 파란색 계열인 경우, 제2 반도체층(166)은 InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN(Gallium nitride), AlN(Aluminium nitride), AlGaN(Aluminium gallium nitride), InGaN(Indium gallium nitride), InN(Indium nitride), InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있다. 제2 반도체층(166)은 규소(Si), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 셀레늄(Se), 텔루늄(Te)와 같은 n형 도펀트가 도핑될 수 있다.For example, when the wavelength of light generated by the active layer 164 is blue, the second semiconductor layer 166 may be formed of InxAlyGa1-x-yN (0? X? 1, 0? Y? (AlN), AlGaN (Indium Gallium Nitride), InGaN (Indium Gallium nitride), InN (Indium nitride), InAlGaN, AlInN or the like having a composition formula of GaN Can be selected. The second semiconductor layer 166 may be doped with an n-type dopant such as silicon (Si), germanium (Ge), tin (Sn), selenium (Se), or tellurium (Te).

예를 들어, 활성층(164)이 생성하는 빛의 파장이 빨간색 계열인 경우 제2 반도체층(166)은 InxAlyGa1-x-yP (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 예를 들어, 제1 반도체층(162)은 GaP 또는 AlGaInP 등으로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 제2 반도체층(166)은 규소(Si), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 셀레늄(Se), 텔루늄(Te)와 같은 n형 도펀트가 도핑될 수 있다.For example, when the wavelength of light generated by the active layer 164 is red, the second semiconductor layer 166 may be formed of InxAlyGa1-x-yP (0? X? 1, 0? Y? Lt; = 1), but the present invention is not limited thereto. For example, the first semiconductor layer 162 may be formed of GaP or AlGaInP, but is not limited thereto. The second semiconductor layer 166 may be doped with an n-type dopant such as silicon (Si), germanium (Ge), tin (Sn), selenium (Se), or tellurium (Te).

한편, 발광구조물(160)은 제2 반도체층(166) 위에 제2 반도체층(166)과 반대의 극성을 갖는 제3 도전성 반도체층(미도시)을 포함할 수 있다. 또한 제1 반도체층(162)이 n 형 반도체층이고, 제2 반도체층(166)이 p 형 반도체층으로 구현될 수도 있다. 이에 따라 발광구조물은 N-P 접합, P-N 접합, N-P-N 접합 및 P-N-P 접합 구조 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The light emitting structure 160 may include a third conductive semiconductor layer (not shown) having a polarity opposite to that of the second semiconductor layer 166 on the second semiconductor layer 166. Also, the first semiconductor layer 162 may be an n-type semiconductor layer and the second semiconductor layer 166 may be a p-type semiconductor layer. Accordingly, the light emitting structure may include at least one of an N-P junction, a P-N junction, an N-P-N junction, and a P-N-P junction structure.

제2 반도체층(166)은 상부의 표면의 일 영역에 요철(pss)이 위치할 수 있다. 제2 반도체층(166)은 상면의 적어도 일 영역에 에칭을 수행하여 요철을 형성할 수 있다. 상기 에칭 공정은 습식 또는 건식 에칭 공정을 포함할 수 있다. 제2 반도체층(166)의 에칭이 수행되는 에칭면은 습식 에칭에 의해 용이하게 에칭되는 N(나이트라이드)-face일 수 있으며, Ga(갈륨)-face에 비해 표면 거칠기가 향상될 수 있다. 에칭 과정을 거침에 따라서, 제2 반도체층(166)의 상면은 광추출 구조를 형성하는 요철이 형성될 수 있다. 제2 반도체층(166) 상면의 요철은 랜덤한 크기로 불규칙하게 형성될 수 있으나, 이에 대해 한정하지 아니한다. 제2 반도체층(166) 상면의 요철(pss)은 텍스쳐(texture) 패턴, 요철 패턴, 평탄하지 않는 패턴(uneven pattern) 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나 이에 대하여 한정하지 아니한다.The second semiconductor layer 166 may have irregularities (pss) in one region of its upper surface. The second semiconductor layer 166 may be etched in at least one region of the upper surface to form irregularities. The etching process may include a wet or dry etching process. The etched surface on which the etching of the second semiconductor layer 166 is performed may be an N (nitride) -face that is easily etched by wet etching, and the surface roughness may be improved compared to Ga (gallium) -face. As the etching process is performed, the upper surface of the second semiconductor layer 166 may be formed with irregularities that form a light extracting structure. The irregularities on the upper surface of the second semiconductor layer 166 may be irregularly formed in a random size, but the present invention is not limited thereto. The irregularities pss on the upper surface of the second semiconductor layer 166 may include at least one of a texture pattern, a concavo-convex pattern, and an uneven pattern, but the present invention is not limited thereto.

제2 반도체층(166)의 요철(pss)은 측 단면이 원기둥, 다각기둥, 원뿔, 다각뿔, 원뿔대, 다각뿔대 등 다양한 형상을 갖도록 형성될 수 있으며, 뿔 형상을 포함할 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다.The concavo-convex (pss) of the second semiconductor layer 166 may be formed to have various shapes such as a cylinder, a polygonal column, a cone, a polygonal pyramid, a truncated cone, a polygonal pyramid, and the like, No.

제2 반도체층(166) 상의 요철(pss)은 활성층(164)에서 발생하는 빛의 파장보다 작은 주기로 형성될 수 있다. 예를 들어, 활성층(164)에서 발생하는 빛이 620 내지 700nm의 빨강영역이라면 제2 반도체층(166)의 요철(pss)의 주기가 620nm 이하일 수 있다. 또한, 활성층(164)에서 발생하는 빛이 450 내지 480nm의 파랑영역이라면 제2 반도체층(166)의 요철의 주기는 450nm 이하일 수 있다.The projections and depressions pss on the second semiconductor layer 166 may be formed at a period shorter than the wavelength of light generated in the active layer 164. For example, if the light generated in the active layer 164 is a red region of 620 to 700 nm, the period of the irregularities (pss) of the second semiconductor layer 166 may be 620 nm or less. If the light generated in the active layer 164 is a wave region of 450 to 480 nm, the period of the concavity and convexity of the second semiconductor layer 166 may be 450 nm or less.

제2 반도체층(166)은 상면에 요철(pss)이 형성되어 상면의 유효굴절율이 제2 반도체층(166) 자체의 굴절율보다 작아질 수 있고, 외부로 빛이 발산되는 과정을 용이하게 할 수 있다.The second semiconductor layer 166 may have a concavo-convex structure formed on the upper surface thereof so that the effective refractive index of the upper surface of the second semiconductor layer 166 may be smaller than that of the second semiconductor layer 166 itself, have.

제2 반도체층(166)의 요철(pss)은 PEC(photo electro chemical) 또는 KOH 용액을 사용한 습식 식각 방법 등의 방법으로 형성될 수 있으며, 이에 한정하지 아니한다.The irregularities (pss) of the second semiconductor layer 166 may be formed by a wet etching method using a photoelectrochemical (PEC) or a KOH solution, but are not limited thereto.

제2 반도체층(166)은 상부에 요철(pss)이 형성되어 활성층(164)에서 생성된 빛이 전반사되어 발광구조물(160) 내부에서 재흡수되거나 산란되는 것을 최소화할 수 있다. 제2 반도체층(166)은 상부에 요철(pss)이 형성되어 광 추출 효율이 향상될 수 있다.The second semiconductor layer 166 is formed on the top of the second semiconductor layer 166 so that the light generated in the active layer 164 is totally reflected and reabsorbed or scattered within the light emitting structure 160 can be minimized. The second semiconductor layer 166 may have irregularities (pss) formed thereon to improve light extraction efficiency.

제2 반도체층(166) 상에는 제2 전극(170)이 배치될 수 있으며, 제2 전극(170)은 적어도 하나의 패드(미도시) 또는/및 소정 패턴을 갖는 전극을 포함할 수 있고, 이에 한정하지 아니한다.A second electrode 170 may be disposed on the second semiconductor layer 166 and the second electrode 170 may include at least one pad (not shown) and / or an electrode having a predetermined pattern, Not limited.

제2 전극(170)은 제2 반도체층(166)의 상면 중 센터 영역, 외측 영역 또는 모서리 영역에 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 한편, 제2 전극(170)은 패드(미도시) 및 패드(미도시)와 연결되어 적어도 일 방향으로 연장되는 적어도 하나의 브랜치(branch) 전극(미도시)이 연결될 수 있다. 제2 전극(170)은 제2 반도체층(166)의 위가 아닌 다른 영역에 배치될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The second electrode 170 may be disposed in the center region, the outer region, or the edge region of the upper surface of the second semiconductor layer 166, but the present invention is not limited thereto. The second electrode 170 may be connected to at least one branch electrode (not shown) connected to a pad (not shown) and a pad (not shown) and extending in at least one direction. The second electrode 170 may be disposed on another region of the second semiconductor layer 166, but the present invention is not limited thereto.

제2 전극(170)은 전도성 물질, 예를 들어 인듐(In), 토발트(Co), 규소(Si), 게르마늄(Ge), 금(Au), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 루테늄(Ru), 레늄(Re), 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 하프늄(Hf), 탄탈(Ta), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 텅스텐(W), 티타늄(Ti), 은(Ag), 크롬(Cr), 몰리브덴(Mo), 나이오븀(Nb), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 및 티타늄 텅스텐 합금(WTi) 중에서 선택된 금속 또는 합금을 이용하여 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다.The second electrode 170 may be formed of a conductive material such as indium (In), tungsten (Co), silicon (Si), germanium (Ge), gold (Au), palladium (Pd), platinum (Ru), rhenium (Re), magnesium (Mg), zinc (Zn), hafnium (Hf), tantalum (Ta), rhodium (Rh), iridium (Ir), tungsten A metal or an alloy selected from Ag, Cr, Mo, Nb, Al, Ni, Cu, and WTi, Or may be formed as a single layer or multiple layers.

한편, 제2 전극(170)은 제2 반도체층(166)의 평탄한 상면 위에 배치될 수 있고 평탄하지 않는 요철(pss) 위에 배치될 수도 있으며, 이에 한정하지 아니한다.On the other hand, the second electrode 170 may be disposed on the flat top surface of the second semiconductor layer 166 and may be disposed on uneven surfaces (pss), but is not limited thereto.

발광구조물(160)의 측면 및 상면에는 보호층(180)이 형성될 수 있다.A protective layer 180 may be formed on the side surface and the top surface of the light emitting structure 160.

실시 예에서, 보호층(180)은 제2 반도체층(166)의 요철(pss) 상에 형성된 것으로 나타내었으나, 발광구조물(160)의 측면에만 형성될 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.The protective layer 180 is formed on the concavo-convex portion (pss) of the second semiconductor layer 166, but may be formed only on the side surface of the light emitting structure 160, but is not limited thereto.

보호층(180)은 광투과율이 높으며, 절연 물질로 형성될 수 있으며, 예를 들어 SiO2, SiOx, SiOxNy, Si3N4, Al2O3 로 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다.The protective layer 180 may have a high light transmittance and may be formed of an insulating material, for example, SiO 2, SiO x, SiO x N y, Si 3 N 4, or Al 2 O 3.

보호층(180) 상에는 활성층(164)에서 방출된 광의 파장을 변환하는 광변환층(190)이 형성될 수 있다.A light conversion layer 190 may be formed on the passivation layer 180 to convert the wavelength of the light emitted from the active layer 164.

광변환층(190)은 제2 전극(170)의 일측에 위치할 수 있다. 예를 들어, 광변환층(190)은 제2 전극(170)의 둘레를 감싸며, 보호층(180), 즉 제2 반도체층(166)의 상면에 형성될 수 있다.The photo-conversion layer 190 may be located on one side of the second electrode 170. For example, the photo-conversion layer 190 surrounds the second electrode 170 and may be formed on the upper surface of the passivation layer 180, that is, the second semiconductor layer 166.

이때, 광변환층(190)은 제2 전극(170)의 측면에 인접하게 배치되며, 제1 크기(d1)를 가지는 제1 광변환입자(a1)를 포함하는 제1 광변환층(192) 및 제1 광변환층(192)의 일측에 위치하며,, 제2 크기(d2)를 가지는 제2 광변환입자(a2)를 포함하는 제2 광변환층(194)을 포함할 수 있다. 제2 광변환층(194)은 예를 들어, 제1 광변환층(192)의 둘레를 감싸도록 형성될 수 있다.The photo-conversion layer 190 is disposed adjacent to the side of the second electrode 170 and includes a first photo-conversion layer 192 including first photo-conversion particles a1 having a first size d1, And a second photo-conversion layer 194 located on one side of the first photo-conversion layer 192 and including second photo-conversion particles a2 having a second size d2. The second light conversion layer 194 may be formed to surround the first light conversion layer 192, for example.

실시 예에서, 제1, 2 광변환층(192, 194)은 활성층(164)에서 방출된 광을 동일한 파장의 광으로 변환하는 동일한 형광체(미도시)인 것으로 설명하지만, 서로 다른 파장의 광으로 변환하는 서로 다른 형광체일 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.In the embodiment, the first and second light conversion layers 192 and 194 are described as being the same phosphor (not shown) that converts the light emitted from the active layer 164 into light of the same wavelength. However, And may be different phosphors to be converted, but is not limited thereto.

즉, 제1 광변환층(192)에 포함된 제1 광변환입자(a1)의 제1 크기(d1)는 5 ㎛ 내지 7 ㎛일 수 있다. 제2 광변환층(194)에 포함된 제2 광변환입자(a2)의 제2 크기(d2)는 15㎛ 내지 30 ㎛ 일 수 있다.That is, the first size d1 of the first photo-conversion particles a1 included in the first photo-conversion layer 192 may be between 5 μm and 7 μm. The second size d2 of the second light conversion particles a2 included in the second light conversion layer 194 may be 15 mu m to 30 mu m.

제1 크기(d1)는 5㎛ 미만인 경우, 지향각이 넓어지나 광속을 증가시키는 정도가 미약할 수 있으며, 7㎛ 를 초과하는 경우, 광속을 증가시키는 정도는 향상될 수 있으나, 지향각을 넓히는 효과는 작을 수 있다.When the first size d1 is less than 5 mu m, the degree of increase of the light flux may be small although the directivity angle is widened. When the first size d1 is more than 7 mu m, the degree of increase of the light flux may be improved, The effect can be small.

제2 크기(d2)는 15㎛ 미만인 경우 광속이 낮아지며 지향각이 증가될 수 있으며, 30㎛ 보다 큰 경우 광속이 증가되지만 지향각이 매우 낮아짐으로써, 전체적인 광 효율이 낮아질 수 있다.If the second size d2 is less than 15 mu m, the light flux is lowered and the directivity angle may be increased. When the second size d2 is larger than 30 mu m, the light flux is increased but the directivity angle is very low.

아래의 표 1 은 입자의 크기에 따른 광속, 색온도 등을 조사한 실험결화를 나타내고 있다.Table 1 below shows the experimental fluorescence obtained by examining the luminous flux and the color temperature according to the particle size.

[표 1][Table 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

표 1 에서 LM은 광속(lumen)을 나타내고, Cx, Cy 는 색좌표, CCT 는 색온도, CRI는 색 렌더링 지수(color rendering index)를 나타낸다. 표 1 에서 큰입자의 크기는 15㎛ 내지 50㎛ 이고, 중간입자의 크기는 8㎛ 내지 13㎛ 이고, 작은 입자의 크기는 5㎛ 내지 7㎛ 이다.In Table 1, LM denotes a lumen, C x and C y denote color coordinates, CCT denotes a color temperature, and CRI denotes a color rendering index. In Table 1, the size of the large particles is 15 占 퐉 to 50 占 퐉, the sizes of the middle particles are 8 占 퐉 to 13 占 퐉, and the sizes of the small particles are 5 占 퐉 to 7 占 퐉.

표 1 을 참조하면, 광변환입자의 크기가 커질수록 광속이 증가하는 것을 확인할 수 있다.Referring to Table 1, it can be seen that the light flux increases as the size of the photoconversion particle increases.

도 1a는 광변환입자의 크기에 따른 발광소자의 지향각 특성 변화를 도시한 그래프이다. 도 1a 에서, 큰입자의 크기는 15㎛ 내지 50㎛ 이고, 중간입자의 크기는 8㎛ 내지 13㎛ 이고, 작은 입자의 크기는 5㎛ 내지 7㎛ 이다.FIG. 1A is a graph showing a change in the orientation angle characteristic of the light emitting device according to the size of the light conversion particles. In Fig. 1A, the size of the large particles is 15 mu m to 50 mu m, the size of the medium particles is 8 mu m to 13 mu m, and the size of the small particles is 5 mu m to 7 mu m.

도 1a 를 참조하면, 광변환입자의 크기가 커질수록 색온도는 높아지지만 지향각은 좁아짐을 확인할 수 있다.
Referring to FIG. 1A, the larger the size of the photo-converted particles, the higher the color temperature, but the smaller the orientation angle.

제2 광변환층(194)의 두께는 40㎛ 내지 100㎛일 수 있다.The thickness of the second light conversion layer 194 may be between 40 μm and 100 μm.

제2 광변환층(194)의 두께(b2)는 40㎛보다 얇은 경우, 두께를 얇게하기 위한 공정 중에 발광구조물(160)에 압력으로 인한 결함을 발생시킬 수 있고, 100㎛보다 두꺼운 경우, 공정상에서 제2 광변환층(194)의 두께를 고르게하기가 어려워져 발광소자(100)의 광변환효율이 떨어질 수 있다.When the thickness b2 of the second light conversion layer 194 is thinner than 40 占 퐉, defects due to pressure can be generated in the light emitting structure 160 during the process for reducing the thickness. When the thickness b2 is thicker than 100 占 퐉, It is difficult to uniformize the thickness of the second light conversion layer 194 on the light emitting device 100, and the light conversion efficiency of the light emitting device 100 may deteriorate.

도 1 에서는, 제1 광변환층(192)의 두께(b1)가 제2 광변환층(194)의 두께(b2)보다 얇게 도시되어 있으나, 이에 한정하지 아니한 다양한 실시예가 존재할 수 있다.1, the thickness b1 of the first light conversion layer 192 is shown to be thinner than the thickness b2 of the second light conversion layer 194, but there may be various embodiments not limited thereto.

제1 광변환층(192)과 제2 광변환층(194)는 크기가 서로 다른 광변환입자를 포함하여, 발광구조물(160)에서 발광된 빛의 광속을 증가시키며, 발광소자(100)의 지향각을 넓힐 수 있다.The first photoconversion layer 192 and the second photoconversion layer 194 include photoconversion particles having different sizes to increase the luminous flux of the light emitted from the light emitting structure 160, It is possible to widen the directivity angle.

따라서, 광변환층(190)은 발광소자(100)의 지향각을 전체적으로 넓힐 수 있으므로, 지향각 및 광속을 확보하기 용이한 이점이 있다.Accordingly, the light conversion layer 190 can broaden the directivity angle of the light emitting device 100 as a whole, so that it is easy to secure the directivity angle and the light flux.

도 2는 제2 실시 예에 따른 발광소자를 나타낸 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device according to a second embodiment.

도 2에 나타낸 발광소자(200)는 도 1에 나타낸 발광소자(100)와 동일 구성에 대한 설명을 생략하거나 간략하게 설명한다.The light-emitting device 200 shown in Fig. 2 will not be described or briefly explained in the same manner as the light-emitting device 100 shown in Fig.

도 2를 참조하면, 발광소자(200)는 기판(210), 기판(210) 상에 제1 반도체층(262), 제2 반도체층(266) 및 제1, 2 반도체층(262, 266) 사이에 활성층(264)을 포함하는 발광구조물(260) 및 발광구조물(260) 상에 광변환층(290)을 포함할 수 있다.2, the light emitting device 200 includes a substrate 210, a first semiconductor layer 262, a second semiconductor layer 266, and first and second semiconductor layers 262 and 266 on the substrate 210, The light emitting structure 260 including the active layer 264 and the light converting layer 290 on the light emitting structure 260 may be included.

광변환층(290)은 제2 전극(270)의 둘레를 감싸며 소정 패턴을 가지고 형성될 수 있다.The light conversion layer 290 may surround the second electrode 270 and may have a predetermined pattern.

즉, 광변환층(290)은 제2 전극(270)을 기준으로 제1 크기(d1)를 가지는 제1 광변환입자(a1)를 포함하는 제1 광변환층(292) 및 제1 광변환층(292)에 인접하며 제2 크기(d2)를 가지는 제2 광변환입자(a2)를 포함하는 제2 광변환층(294)을 포함할 수 있다.That is, the light conversion layer 290 includes a first light conversion layer 292 including first light conversion particles a1 having a first size d1 with respect to the second electrode 270, And a second photoconversion layer 294 comprising a second photoconversion particle a2 adjacent the layer 292 and having a second size d2.

제2 실시 예에서 광변환층(290)은 제1, 2 광변환층(292, 294)이 서로 순차적으로 형성될 수 있다.In the second embodiment, the first and second light conversion layers 292 and 294 may be sequentially formed on the light conversion layer 290.

즉, 제1 광변환층(292)은 제2 전극(270)의 둘레를 감싸는 부분과 제2 광변환층(294) 사이에 배치된 부분을 통하여 광속을 증가시킬 수 있다.That is, the first light conversion layer 292 may increase the light flux through a portion disposed between the portion surrounding the second electrode 270 and the second light conversion layer 294.

여기서, 제1, 2 광변환층(292, 294)은 제2 전극(270)을 기준으로, 상부에서 바라본 형상이 동심원으로 형성될 수 있으며, 이외에 다른 형상으로 형성될 수 있으며 이에 한정을 두지 않는다.Here, the first and second light conversion layers 292 and 294 may be formed concentrically with respect to the second electrode 270, or may have a different shape, but are not limited thereto .

또한, 도면에는 나타내지 않았으나, 제1, 2 광변환층(292, 294) 중 어느 하나의 층은 다른 하나의 층 상에 형성될 수 있으며, 제2 전극(270) 상에도 형성될 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.Also, although not shown in the drawing, any one of the first and second light conversion layers 292 and 294 may be formed on the other layer and may also be formed on the second electrode 270, Do not limit.

제1 광변환층(292)에 포함된 제1 광변환입자(a1)의 제1 크기(d1)는 5 ㎛ 내지 7 ㎛일 수 있다. 제2 광변환층(194)에 포함된 제2 광변환입자(a2)의 제2 크기(d2)는 15㎛ 내지 30 ㎛ 일 수 있다.The first size d1 of the first photo-conversion particles a1 included in the first photo-conversion layer 292 may be 5 탆 to 7 탆. The second size d2 of the second light conversion particles a2 included in the second light conversion layer 194 may be 15 mu m to 30 mu m.

제1 크기(d1)는 5㎛ 미만인 경우, 지향각이 넓어지나 광속을 증가시키는 정도가 미약할 수 있으며, 7㎛ 를 초과하는 경우, 광속을 증가시키는 정도는 향상될 수 있으나, 지향각을 넓히는 효과는 작을 수 있다.When the first size d1 is less than 5 mu m, the degree of increase of the light flux may be small although the directivity angle is widened. When the first size d1 is more than 7 mu m, the degree of increase of the light flux may be improved, The effect can be small.

제2 크기(d2)는 15㎛ 미만인 경우 광속이 낮아지며 지향각이 증가될 수 있으며, 30㎛ 보다 큰 경우 광속이 증가되지만 지향각이 매우 낮아짐으로써, 전체적인 광 효율이 낮아질 수 있다.If the second size d2 is less than 15 mu m, the light flux is lowered and the directivity angle may be increased. When the second size d2 is larger than 30 mu m, the light flux is increased but the directivity angle is very low.

제2 광변환층(294)의 두께는 40㎛ 내지 100㎛일 수 있다.The thickness of the second light conversion layer 294 may be between 40 μm and 100 μm.

제2 광변환층(294)의 두께(b2)는 40㎛보다 얇은 경우, 두께를 얇게하기 위한 공정 중에 발광구조물(260)에 압력으로 인한 결함을 발생시킬 수 있고, 100㎛보다 두꺼운 경우, 공정상에서 제2 광변환층(294)의 두께를 고르게하기가 어려워져 발광소자(200)의 광변환효율이 떨어질 수 있다.When the thickness b2 of the second light conversion layer 294 is thinner than 40 占 퐉, defects due to pressure can be generated in the light emitting structure 260 during the process for reducing the thickness. When the thickness b2 is thicker than 100 占 퐉, It is difficult to uniformize the thickness of the second light conversion layer 294 on the light emitting device 200, and the light conversion efficiency of the light emitting device 200 may be reduced.

도 2 에서는, 제1 광변환층(292)의 두께(b1)가 제2 광변환층(294)의 두께(b2)보다 얇게 도시되어 있으나, 이에 한정하지 아니한 다양한 실시예가 존재할 수 있다.
2, the thickness b1 of the first photo-conversion layer 292 is shown to be thinner than the thickness b2 of the second photo-conversion layer 294, but there may be various embodiments not limited thereto.

제1 광변환층(292)과 제2 광변환층(294)는 크기가 서로 다른 광변환입자를 포함하여, 발광구조물(260)에서 발광된 빛의 광속을 증가시키며, 발광소자(200)의 지향각을 넓힐 수 있다.The first and second photo-conversion layers 292 and 294 include photo-conversion particles of different sizes to increase the light flux of the light emitted from the light emitting structure 260, It is possible to widen the directivity angle.

따라서, 광변환층(290)은 발광소자(200)의 지향각을 전체적으로 넓힐 수 있으므로, 지향각 및 광속을 확보하기 용이한 이점이 있다.Therefore, the light conversion layer 290 can broaden the directivity angle of the light emitting device 200 as a whole, so that it is easy to secure the directivity angle and the light flux.

도 3은 실시예에 따른 발광소자를 포함하는 발광소자패키지의 단면을 도시한 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package including the light emitting device according to the embodiment.

도 3을 참조하면, 실시예에 따른 발광소자패키지(300)는 캐비티가 형성된 몸체(310), 몸체(310)의 캐비티에 실장된 광원부(320) 및 캐비티에 충진되는 봉지재(350)를 포함할 수 있다.3, the light emitting device package 300 includes a body 310 having a cavity, a light source 320 mounted on a cavity of the body 310, and an encapsulant 350 filled in the cavity 310 can do.

몸체(310)는 폴리프탈아미드(PPA:Polyphthalamide)와 같은 수지 재질, 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 알루미늄 나이트라이드(AlN), 액정폴리머(PSG, photo sensitive glass), 폴리아미드9T(PA9T), 신지오택틱폴리스티렌(SPS), 금속 재질, 사파이어(Al2O3), 베릴륨 옥사이드(BeO), 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board), 세라믹 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 몸체(310)는 사출 성형, 에칭 공정 등에 의해 형성될 수 있으나 이에 대해 한정하지는 않는다.The body 310 may be made of a resin material such as polyphthalamide (PPA), silicon (Si), aluminum (Al), aluminum nitride (AlN), photo sensitive glass (PSG), polyamide 9T (SPS), a metal material, sapphire (Al2O3), beryllium oxide (BeO), a printed circuit board (PCB), and ceramics. The body 310 may be formed by injection molding, etching, or the like, but is not limited thereto.

광원부(320)는 몸체(310)의 바닥면에 실장되며, 일 예로 광원부(320)는 도 1 내지 도 3에서 도시하고 설명한 발광소자 중 어느 하나일 수 있다. 발광소자는 예를 들어, 적색, 녹색, 청색, 백색 등의 빛을 방출하는 유색 발광 소자 또는 자외선을 방출하는 UV(Ultra Violet) 발광 소자일 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 또한, 발광 소자는 한 개 이상 실장될 수 있다.The light source unit 320 may be mounted on the bottom surface of the body 310. For example, the light source unit 320 may be any one of the light emitting devices illustrated in FIGS. The light emitting device may be, for example, a colored light emitting device that emits light such as red, green, blue, or white, or a UV (Ultra Violet) light emitting device that emits ultraviolet light. In addition, one or more light emitting elements can be mounted.

몸체(310)는 제1 전극(330) 및 제2 전극(340)을 포함할 수 있다. 제1 전극(330) 및 제2 전극(340)은 광원부(320)와 전기적으로 연결되어 광원부(320)에 전원을 공급할 수 있다.The body 310 may include a first electrode 330 and a second electrode 340. The first electrode 330 and the second electrode 340 may be electrically connected to the light source 320 to supply power to the light source 320.

또한, 제1 전극(330) 및 제2 전극(340)은 서로 전기적으로 분리되며, 광원부(320)에서 발생된 빛을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수 있고, 또한 광원부(320)에서 발생된 열을 외부로 배출시킬 수 있다.In addition, the first electrode 330 and the second electrode 340 are electrically separated from each other. The first electrode 330 and the second electrode 340 can reflect the light generated from the light source unit 320 to increase the light efficiency. Further, To the outside.

도 3에는 제1 전극(330)과 제2 전극(340) 모두가 와이어(360)에 의해 광원부(320)와 본딩된 것을 도시하나, 이에 한정하지 않으며, 특히 수직형 발광소자의 경우는 제1 전극(330) 및 제2 전극(340) 중 어느 하나가 와이어(360)에 의해 광원부(320)와 본딩될 수 있으며, 플립칩 방식에 의해 와이어(360) 없이 광원부(320)와 전기적으로 연결될 수도 있다.3 illustrates that both the first electrode 330 and the second electrode 340 are bonded to the light source 320 by the wire 360. However, the present invention is not limited thereto, Any one of the electrode 330 and the second electrode 340 may be bonded to the light source 320 by the wire 360 and may be electrically connected to the light source 320 without the wire 360 by the flip- have.

이러한 제1 전극(330) 및 제2 전극(340)은 금속 재질, 예를 들어, 티타늄(Ti), 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn), 은(Ag), 인(P), 알루미늄(Al), 인듐(In), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 루테늄(Ru), 철(Fe) 중에서 하나 이상의 물질 또는 합금을 포함할 수 있다. 또한, 제1 전극(330) 및 제2 전극(340)은 단층 또는 다층 구조를 가지도록 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first electrode 330 and the second electrode 340 may be formed of a metal material such as titanium (Ti), copper (Cu), nickel (Ni), gold (Au), chromium (Cr), tantalum Ta, Pt, Sn, Ag, P, Al, Pd, Co, Si, Ge, Ge), hafnium (Hf), ruthenium (Ru), and iron (Fe). The first electrode 330 and the second electrode 340 may have a single-layer structure or a multi-layer structure, but the present invention is not limited thereto.

봉지재(350)는 캐비티에 충진될 수 있으며, 형광체(미도시)를 포함할 수 있다. 봉지재(350)는 투명한 실리콘, 에폭시, 및 기타 수지 재질로 형성될 수 있으며, 캐비티 내에 충진한 후, 이를 자외선 또는 열 경화하는 방식으로 형성될 수 있다. The encapsulant 350 may be filled in the cavity and may include a phosphor (not shown). The encapsulant 350 may be formed of a transparent silicone, epoxy, or other resin material, and may be formed in such a manner that the encapsulant 350 is filled in the cavity and then cured by UV or thermal curing.

형광체(미도시)는 광원부(320)에서 방출되는 광의 파장에 따라 종류가 선택되어 발광소자패키지(300)가 백색광을 구현하도록 할 수 있다.The phosphor (not shown) may be selected according to the wavelength of the light emitted from the light source unit 320 so that the light emitting device package 300 may emit white light.

봉지재(350)에 포함되어 있는 형광체(미도시)는 광원부(320)에서 방출되는 광의 파장에 따라 청색 발광 형광체, 청록색 발광 형광체, 녹색 발광 형광체, 황녹색 발광 형광체, 황색 발광 형광체, 황적색 발광 형광체, 오렌지색 발광 형광체, 및 적색 발광 형광체중 하나가 적용될 수 있다. The fluorescent material (not shown) included in the encapsulant 350 may be a blue light emitting phosphor, a blue light emitting fluorescent material, a green light emitting fluorescent material, a yellow green light emitting fluorescent material, a yellow light emitting fluorescent material, , An orange light-emitting fluorescent substance, and a red light-emitting fluorescent substance may be applied.

즉, 형광체(미도시)는 광원부(320)에서 방출되는 제1 빛을 가지는 광에 의해 여기 되어 제2 빛을 생성할 수 있다. 예를 들어, 광원부(320)가 청색 발광 다이오드이고 형광체(미도시)가 황색 형광체인 경우, 황색 형광체는 청색 빛에 의해 여기되어 황색 빛을 방출할 수 있으며, 청색 발광 다이오드에서 발생한 청색 빛 및 청색 빛에 의해 여기 되어 발생한 황색 빛이 혼색됨에 따라 발광소자패키지(300)는 백색 빛을 제공할 수 있다. That is, the phosphor (not shown) may be excited by the light having the first light emitted from the light source 320 to generate the second light. For example, when the light source 320 is a blue light emitting diode and the phosphor (not shown) is a yellow phosphor, the yellow phosphor may be excited by blue light to emit yellow light, and blue light emitted from the blue light emitting diode and blue The light emitting device package 300 can provide white light as yellow light generated by excitation by light is mixed.

도 4는 실시예에 따른 발광소자 모듈을 포함하는 조명장치를 도시한 사시도이며, 도 5는 도 4의 조명장치의 C - C’ 단면을 도시한 단면도이다.FIG. 4 is a perspective view illustrating a lighting device including a light emitting device module according to an embodiment, and FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a C-C 'cross section of the lighting device of FIG.

즉, 도 5는 도 4의 조명장치(400)를 길이방향(Z)과 높이방향(X)의 면으로 자르고, 수평방향(Y)으로 바라본 단면도이다.5 is a cross-sectional view of the lighting apparatus 400 of FIG. 4 cut in the longitudinal direction Z and the height direction X and viewed in the horizontal direction Y. FIG.

도 4 및 도 5를 참조하면, 조명장치(400)는 몸체(410), 몸체(410)와 체결되는 커버(430) 및 몸체(410)의 양단에 위치하는 마감캡(450)을 포함할 수 있다.4 and 5, the lighting apparatus 400 may include a body 410, a cover 430 to be coupled to the body 410, and a finishing cap 450 positioned at both ends of the body 410 have.

몸체(410)의 하부면에는 발광소자 모듈(440)이 체결되며, 몸체(410)는 발광소자 패키지(444)에서 발생한 열이 몸체(410)의 상부면을 통해 외부로 방출할 수 있도록 전도성 및 열발산 효과가 우수한 금속재질로 형성될 수 있고, 이에 한정하지 아니한다.The light emitting device module 440 is coupled to a lower surface of the body 410. The body 410 is electrically connected to the light emitting device package 444 through a conductive material such that heat generated from the light emitting device package 444 can be emitted to the outside through the upper surface of the body 410. [ And may be formed of a metal material having excellent heat dissipation effect, but is not limited thereto.

특히, 발광소자 모듈(440)는 발광소자 패키지(444)를 둘러싸는 밀봉부(미도시)를 포함하여 이물질의 침투가 방지될 수 있어서 신뢰성이 향상될 수 있고, 아울러 신뢰성 있는 조명장치(400)의 구현이 가능해진다.Particularly, the light emitting device module 440 includes a sealing portion (not shown) that surrounds the light emitting device package 444 to prevent foreign matter from penetrating, thereby improving the reliability. In addition, . ≪ / RTI >

발광소자 패키지(444)는 기판(442) 상에 다색, 다열로 실장되어 모듈을 이룰 수 있으며, 동일한 간격으로 실장되거나 또는 필요에 따라서 다양한 이격 거리를 가지고 실장될 수 있어 밝기 등을 조절할 수 있다. 이러한 기판(442)으로 MCPCB(Metal Core PCB) 또는 FR4 재질의 PCB 를 사용할 수 있다.The light emitting device package 444 may be mounted on the substrate 442 in a multi-color, multi-row manner to form a module. The light emitting device package 444 may be mounted at equal intervals or may be mounted with various spacings as needed. As such a substrate 442, MCPCB (Metal Core PCB) or FR4 PCB can be used.

커버(430)는 몸체(410)의 하부면을 감싸도록 원형의 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않음은 물론이다.The cover 430 may be formed in a circular shape so as to surround the lower surface of the body 410, but is not limited thereto.

커버(430)는 내부의 발광소자 모듈(440)을 외부의 이물질 등으로부터 보호한다. 또한, 커버(430)는 발광소자 패키지(444)에서 발생한 광의 눈부심을 방지하고, 외부로 광을 균일하게 방출할 수 있도록 확산입자를 포함할 수 있으며, 또한 커버(430)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 프리즘 패턴 등이 형성될 수 있다. 또한 커버(430)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 형광체가 도포될 수도 있다. The cover 430 protects the internal light emitting device module 440 from foreign substances or the like. The cover 430 may include diffusion particles to prevent glare of the light generated in the light emitting device package 444 and uniformly emit light to the outside and may include at least one of an inner surface and an outer surface of the cover 430 A prism pattern or the like may be formed on one side. Further, the phosphor may be coated on at least one of the inner surface and the outer surface of the cover 430.

한편, 발광소자 패키지(444)에서 발생하는 광은 커버(430)를 통해 외부로 방출되므로, 커버(430)는 광투과율이 우수하여야 하며, 발광소자 패키지(444)에서 발생하는 열에 견딜 수 있도록 충분한 내열성을 구비하고 있어야 하는 바, 커버(430)는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylen Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC), 또는 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl Methacrylate; PMMA) 등을 포함하는 재질로 형성되는 것이 바람직하다.Since the light generated from the light emitting device package 444 is emitted to the outside through the cover 430, the cover 430 must have a high light transmittance and sufficient to withstand the heat generated from the light emitting device package 444. [ The cover 430 may be formed of a material including polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), or the like. .

마감캡(450)은 몸체(410)의 양단에 위치하며 전원장치(미도시)를 밀폐하는 용도로 사용될 수 있다. 또한 마감캡(450)에는 전원 핀(452)이 형성되어 있어, 실시예에 따른 조명장치(400)는 기존의 형광등을 제거한 단자에 별도의 장치 없이 곧바로 사용할 수 있게 된다.The finishing cap 450 is located at both ends of the body 410 and can be used for sealing the power supply unit (not shown). In addition, the fin 450 is formed on the finishing cap 450, so that the lighting device 400 according to the embodiment can be used immediately without a separate device on the terminal from which the conventional fluorescent lamp is removed.

도 6은 실시예에 따른 광학시트를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다.6 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device including an optical sheet according to an embodiment.

도 6는 에지-라이트 방식으로, 액정 표시 장치(500)는 액정표시패널(510)과 액정표시패널(510)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(570)을 포함할 수 있다.6, the liquid crystal display device 500 may include a backlight unit 570 for providing light to the liquid crystal display panel 510 and the liquid crystal display panel 510 in an edge-light manner.

액정표시패널(510)은 백라이트 유닛(570)으로부터 제공되는 광을 이용하여 화상을 표시할 수 있다. 액정표시패널(510)은 액정을 사이에 두고 서로 대향하는 컬러 필터 기판(512) 및 박막 트랜지스터 기판(514)을 포함할 수 있다.The liquid crystal display panel 510 can display an image using the light provided from the backlight unit 570. The liquid crystal display panel 510 may include a color filter substrate 512 and a thin film transistor substrate 514 facing each other with a liquid crystal therebetween.

컬러 필터 기판(512)은 액정표시패널(510)을 통해 디스플레이되는 화상의 색을 구현할 수 있다.The color filter substrate 512 can realize the color of an image to be displayed through the liquid crystal display panel 510.

박막 트랜지스터 기판(514)은 구동 필름(517)을 통해 다수의 회로부품이 실장되는 인쇄회로기판(518)과 전기적으로 접속되어 있다. 박막 트랜지스터 기판(514)은 인쇄회로기판(518)으로부터 제공되는 구동 신호에 응답하여 인쇄회로기판(518)으로부터 제공되는 구동 전압을 액정에 인가할 수 있다.The thin film transistor substrate 514 is electrically connected to a printed circuit board 518 on which a plurality of circuit components are mounted via a driving film 517. The thin film transistor substrate 514 may apply a driving voltage provided from the printed circuit board 518 to the liquid crystal in response to a driving signal provided from the printed circuit board 518.

박막 트랜지스터 기판(514)은 유리나 플라스틱 등과 같은 투명한 재질의 다른 기판상에 박막으로 형성된 박막 트랜지스터 및 화소 전극을 포함할 수 있다. The thin film transistor substrate 514 may include a thin film transistor and a pixel electrode formed as a thin film on another substrate of a transparent material such as glass or plastic.

백라이트 유닛(570)은 빛을 출력하는 발광소자 모듈(520), 발광소자 모듈(520)로부터 제공되는 빛을 면광원 형태로 변경시켜 액정표시패널(510)로 제공하는 도광판(530), 도광판(530)으로부터 제공된 빛의 휘도 분포를 균일하게 하고 수직 입사성을 향상시키는 다수의 필름(550, 566, 564) 및 도광판(530)의 후방으로 방출되는 빛을 도광판(530)으로 반사시키는 반사 시트(540)로 구성된다.The backlight unit 570 includes a light emitting device module 520 that outputs light, a light guide plate 530 that changes the light provided from the light emitting device module 520 into a surface light source and provides the light to the liquid crystal display panel 510, A plurality of films 550, 566, and 564 that uniformly distribute the luminance of light provided from the light guide plate 530 and improve vertical incidence, and a reflective sheet (not shown) that reflects light emitted to the rear of the light guide plate 530 to the light guide plate 530 540).

발광소자 모듈(520)은 복수의 발광소자 패키지(524)와 복수의 발광소자 패키지(524)가 실장되어 모듈을 이룰 수 있도록 PCB기판(522)을 포함할 수 있다.The light emitting device module 520 may include a PCB substrate 522 to mount a plurality of light emitting device packages 524 and a plurality of light emitting device packages 524 to form a module.

특히, 발광소자 모듈(520)는 발광소자 패키지(524)를 둘러싸는 밀봉부(미도시)를 포함하여 이물질의 침투가 방지될 수 있어서 신뢰성이 향상될 수 있고, 아울러 신뢰성 있는 백라이트 유닛(570)의 구현이 가능해진다.Particularly, the light emitting device module 520 includes a sealing portion (not shown) surrounding the light emitting device package 524 to prevent foreign matter from penetrating, thereby improving the reliability. In addition, . ≪ / RTI >

한편, 백라이트유닛(570)은 도광판(530)으로부터 입사되는 빛을 액정 표시 패널(510) 방향으로 확산시키는 확산필름(566)과, 확산된 빛을 집광하여 수직 입사성을 향상시키는 프리즘필름(550)으로 구성될 수 있으며, 프리즘필름(550)를 보호하기 위한 보호필름(564)을 포함할 수 있다.The backlight unit 570 includes a diffusion film 566 for diffusing light incident from the light guide plate 530 toward the liquid crystal display panel 510 and a prism film 550 for enhancing vertical incidence by condensing the diffused light And may include a protective film 564 for protecting the prism film 550. [

도 7은 실시예에 따른 광학시트를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다. 다만, 도 6에서 도시하고 설명한 부분에 대해서는 반복하여 상세히 설명하지 않는다.7 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device including an optical sheet according to an embodiment. However, the parts shown and described in Fig. 6 are not repeatedly described in detail.

도 7은 직하 방식으로, 액정 표시 장치(600)는 액정표시패널(610)과 액정표시패널(610)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(670)을 포함할 수 있다.7, the liquid crystal display 600 may include a liquid crystal display panel 610 and a backlight unit 670 for providing light to the liquid crystal display panel 610 in a direct-down manner.

액정표시패널(610)은 도 4에서 설명한 바와 동일하므로, 상세한 설명은 생략한다.Since the liquid crystal display panel 610 is the same as that described in FIG. 4, detailed description is omitted.

백라이트 유닛(670)은 복수의 발광소자 모듈(623), 반사시트(624), 발광소자 모듈(623)과 반사시트(624)가 수납되는 하부 섀시(630), 발광소자 모듈(623)의 상부에 배치되는 확산판(640) 및 다수의 광학필름(660)을 포함할 수 있다.The backlight unit 670 includes a plurality of light emitting element modules 623, a reflective sheet 624, a lower chassis 630 in which the light emitting element module 623 and the reflective sheet 624 are accommodated, And a plurality of optical films 660 disposed on the diffuser plate 640.

발광소자 모듈(623) 복수의 발광소자 패키지(622)와 복수의 발광소자 패키지(622)가 실장되어 모듈을 이룰 수 있도록 PCB기판(621)을 포함할 수 있다.The light emitting device module 623 may include a PCB substrate 621 to mount a plurality of light emitting device packages 622 and a plurality of light emitting device packages 622 to form a module.

특히, 발광소자 모듈(623)는 발광소자 패키지(622)를 둘러싸는 밀봉부(미도시)를 포함하여 이물질의 침투가 방지될 수 있어서 신뢰성이 향상될 수 있고, 아울러 신뢰성 있는 백라이트 유닛(670)의 구현이 가능해진다.Particularly, the light emitting element module 623 includes a sealing portion (not shown) surrounding the light emitting element package 622 to prevent foreign matter from penetrating thereto, thereby improving reliability. Further, the reliability of the backlight unit 670 is improved, . ≪ / RTI >

반사 시트(624)는 발광소자 패키지(622)에서 발생한 빛을 액정표시패널(610)이 위치한 방향으로 반사시켜 빛의 이용 효율을 향상시킨다.The reflective sheet 624 reflects light generated from the light emitting device package 622 in a direction in which the liquid crystal display panel 610 is positioned, thereby improving light utilization efficiency.

한편, 발광소자 모듈(623)에서 발생한 빛은 확산판(640)에 입사하며, 확산판(640)의 상부에는 광학 필름(660)이 배치된다. 광학 필름(660)은 확산 필름(666), 프리즘필름(650) 및 보호필름(664)를 포함하여 구성된다.The light emitted from the light emitting element module 623 is incident on the diffusion plate 640 and the optical film 660 is disposed on the diffusion plate 640. The optical film 660 is composed of a diffusion film 666, a prism film 650, and a protective film 664.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안될 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It should be understood that various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the present invention.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 특허청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안될 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, It should be understood that various modifications may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the present invention.

100 : 발광소자
110 : 기판
120 : 결합층
130 : 캡핑층
140 : 제 1 전극
150 : 채널층
160 : 발광구조물
170 : 제2 전극
180 : 보호층
190 : 광변환층
100: Light emitting element
110: substrate
120: bonding layer
130: capping layer
140: first electrode
150: channel layer
160: Light emitting structure
170: second electrode
180: protective layer
190: photo-conversion layer

Claims (12)

제1 반도체층, 제2 반도체층 및 상기 제1, 2 반도체층 사이에 활성층을 포함하는 발광구조물;
상기 제1 반도체층에 전기적으로 연결된 제1 전극;
상기 제2 반도체층에 전기적으로 연결된 제2 전극; 및
상기 제1 반도체층 상에 소정 패턴을 가지고 배치되며, 상기 활성층에서 방출된 광의 파장을 변환하는 광변환층;을 포함하고,
상기 광변환층은,
상기 제2 전극의 일측에 위치하며, 제1 크기를 가지는 제1 광변환입자를 포함하는 제1 광변환층; 및
상기 제1 광변환층의 일측에 위치하며, 제2 크기를 가지는 제2 광변환입자를 포함하는 제2 광변환층을 포함하는 발광소자.
A light emitting structure including a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, and an active layer between the first and second semiconductor layers;
A first electrode electrically connected to the first semiconductor layer;
A second electrode electrically connected to the second semiconductor layer; And
And a light conversion layer disposed on the first semiconductor layer in a predetermined pattern and converting a wavelength of light emitted from the active layer,
Wherein the light conversion layer comprises:
A first photo-conversion layer located at one side of the second electrode and including first photo-conversion particles having a first size; And
And a second light conversion layer disposed on one side of the first light conversion layer and including second light conversion particles having a second size.
제 1 항에 있어서,
상기 제2 광변환층의 두께는 40㎛ 내지 100㎛인 발광소자.
The method according to claim 1,
And the thickness of the second light conversion layer is 40 占 퐉 to 100 占 퐉.
제 1 항에 있어서,
상기 제1, 2 광변환입자는,
상기 활성층에서 방출된 광을 서로 동일한 파장의 광으로 변환하는 형광체인 발광소자.
The method according to claim 1,
Wherein the first and second light conversion particles are formed by:
And a light emitting element that converts the light emitted from the active layer into light having the same wavelength.
제 1 항에 있어서,
상기 제2 크기는 15 ㎛ 내지 30 ㎛인 발광소자.
The method according to claim 1,
And the second size is 15 [mu] m to 30 [mu] m.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 크기는,
5 ㎛ 내지 7 ㎛인 발광소자.
The method according to claim 1,
The first size may be,
5 m to 7 m.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 전극 아래에 기판을 포함하고,
상기 제1 전극은,
상기 기판에 인접한 반사전극; 및
상기 반사전극과 상기 제2 반도체층 사이에 투명전극;을 포함하는 발광소자.
The method according to claim 1,
A substrate below the first electrode,
Wherein the first electrode comprises:
A reflective electrode adjacent to the substrate; And
And a transparent electrode between the reflective electrode and the second semiconductor layer.
제 6 항에 있어서,
상기 기판과 상기 제1 전극 사이에 캡핑층(capping layer)을 포함하고,
상기 캡핑층은,
상기 제1 전극이 안착되는 홈이 형성된 발광소자.
The method according to claim 6,
And a capping layer between the substrate and the first electrode,
Wherein the capping layer comprises:
And a groove in which the first electrode is seated is formed.
제 1 항에 있어서,
상기 발광구조물의 측면에 배치된 보호층을 포함하는 발광소자.
The method according to claim 1,
And a protective layer disposed on a side surface of the light emitting structure.
제 8 항에 있어서,
상기 제1 전극의 측면에 인접하며, 상기 보호층을 지지하는 절연층(채널층)을 포함하는 발광소자.
9. The method of claim 8,
And an insulating layer (channel layer) adjacent to a side surface of the first electrode and supporting the protective layer.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 크기는 상기 제2 크기보다 작은 발광소자.
The method according to claim 1,
Wherein the first size is smaller than the second size.
제 1 항에 있어서,
제2 광변환층의 두께는 40㎛ 내지 100㎛인 발광소자.
The method according to claim 1,
And the thickness of the second light conversion layer is 40 占 퐉 to 100 占 퐉.
제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 발광소자를 포함하는 조명 시스템.
An illumination system comprising the light-emitting device according to any one of claims 1 to 11.
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