KR20140011948A - Active energy ray-curable composition and film using the same - Google Patents

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KR20140011948A
KR20140011948A KR1020130082633A KR20130082633A KR20140011948A KR 20140011948 A KR20140011948 A KR 20140011948A KR 1020130082633 A KR1020130082633 A KR 1020130082633A KR 20130082633 A KR20130082633 A KR 20130082633A KR 20140011948 A KR20140011948 A KR 20140011948A
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다쿠지 츠카모토
유스케 다카하시
나오토 이노우에
히로키 도코로
도모요 시모가키
노부유키 고이케
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디아이씨 가부시끼가이샤
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Abstract

The present invention provides an active energy ray-curable composition containing porous silica particles (A) having micropores on the surface thereof and multifunctional (meth)acrylate (B) having a hydroxyl group which is obtained by adding mixture liquid (I liquid) containing tetraalkoxysilane, alkyl amines and alcohol to mixture liquid (II liquid) containing ammonia, alcohol and water; obtaining silica particles via the hydrolysis and condensation reaction of tetraalkoxysilane; and removing alkyl amines from the silica particles. Also the present invention can grant an excellent anti-blocking property to a film without degrading transparency thereof by applying the active energy ray-curable composition to the surface of the film, thereby constituting a cured film. Accordingly the present invention can provide various films such as a protective film and an optical film having excellent transparency and an excellent anti-blocking property.

Description

활성 에너지선 경화성 조성물 및 그것을 이용한 필름{ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE COMPOSITION AND FILM USING THE SAME}ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE COMPOSITION AND FILM USING THE SAME}

본 발명은, 투명성을 저하시키지 않고 안티 블로킹성을 필름에 부여할 수 있는 활성 에너지선 경화성 조성물 및 그것을 사용한 필름에 관한 것이다.This invention relates to the active energy ray curable composition which can provide anti blocking property to a film, without reducing transparency, and the film using the same.

플랫 패널 디스플레이(FPD)의 흡집 방지 하드 코팅 필름, 차(車)의 외장용 가식(加飾) 시트, 창문용 저반사 필름이나 열선 컷 필름의 표면에는, 각각 소망으로 하는 기능을 부여할 수 있는 활성 에너지선 경화성 조성물이 도공(塗工)되어 있다. 이들 필름은, 롤상으로 감겨 있는 원단으로부터 도공기로 송출되어 활성 에너지선 경화성 조성물이 도공되고, 활성 에너지선에 의해 경화한 후, 다시 롤상으로 권취된다. 이때에 롤상으로 권취된 필름은, 도공 표면이 평활한 마감이기 때문에 필름끼리가 들러붙는 현상인 블로킹이 발생하고, 재가공 시에 필름을 롤로부터 풀어냈을 때에 블로킹에 의한 마찰이 발생하여, 필름을 손상시켜버리는 문제가 있었다.Active which can give a desired function to the surface of the absorption prevention hard coating film of a flat panel display (FPD), the decorative sheet for exterior decoration of a car, the low reflection film for windows, and the hot wire cut film, respectively. An energy ray curable composition is coated. These films are sent out from the original fabric wound in roll shape to a coating machine, and an active energy ray curable composition is coated, and after hardening by an active energy ray, it is wound up in roll shape again. At this time, the film wound in roll shape has a smooth finish on the coated surface, so that blocking occurs when the films stick together, and when the film is unrolled from the roll during reworking, friction due to blocking occurs to damage the film. There was a problem.

따라서, 상기와 같은 필름의 블로킹을 억제하여, 필름에 안티 블로킹성을 부여하는 방법으로서, 그 필름 표면에 요철을 형성하는 방법이 알려져 있으며, 예를 들면 필름의 원료 수지 중에 요철을 형성하는 무기 입자 등을 연입(練入)한 후, 필름을 성형하는 방법, 필름 표면에 무기 입자 등을 함유하는 코팅제를 필름 표면에 도공하는 방법 등이 알려져 있다.Therefore, a method of forming irregularities on the surface of the film is known as a method of suppressing the blocking of the film as described above and imparting anti-blocking property to the film. For example, inorganic particles for forming irregularities in the raw material resin of the film After joining, etc., the method of shape | molding a film, the method of coating the film surface with the coating agent containing an inorganic particle etc. in the film surface, etc. are known.

예를 들면, 상기 코팅제로서는, 실리카 입자 등의 무기 입자를 함유하는 블로킹 방지성 코팅제가 제안되어 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 그러나, 이 코팅제는, 어느 정도, 블로킹을 방지할 수 있지만 반드시 충분한 것이 아니었다. 또한, 안티 블로킹성을 충분한 것으로 하기 위하여, 상당히 높은 배합 비율로 무기 입자 등을 배합할 필요가 있으며, 이 때문에, 코팅제 중의 수지가 본래 갖고 있는 경도, 유연성 등의 성능을 희생으로 하는 문제도 있었다.For example, as said coating agent, the antiblocking coating agent containing inorganic particle, such as a silica particle, is proposed (for example, refer patent document 1). However, although this coating agent can prevent blocking to some extent, it was not necessarily enough. Moreover, in order to make anti blocking property sufficient, it is necessary to mix | blend an inorganic particle etc. at a considerably high compounding ratio, and for this reason, there also existed a problem which sacrifices performance, such as hardness, flexibility, etc. which resin in a coating agent originally has.

따라서, 적은 배합량으로 보다 높은 안티 블로킹성을 필름에 부여할 수 있는 코팅제가 요구되고 있었다.Therefore, there has been a demand for a coating agent capable of imparting higher anti-blocking properties to a film with a smaller compounding amount.

일본국 특개평5-132645호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-132645

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 투명성을 저하시키지 않고 우수한 안티 블로킹성을 필름에 부여할 수 있는 활성 에너지선 경화성 조성물 및 그것을 이용한 필름을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an active energy ray-curable composition and a film using the same, which can impart excellent anti-blocking properties to a film without degrading its transparency.

본 발명자들은, 예의 연구한 결과, 특정의 방법으로 제조된 다공질 실리카 입자와, 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물을 필름에 도공함으로써, 우수한 안티 블로킹성을 갖는 필름이 얻어지는 것을 찾아내어, 본 발명을 완성했다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnest research, the present inventors have excellent anti blocking property by coating the film with the active energy ray curable composition containing the porous silica particle manufactured by the specific method, and the polyfunctional (meth) acrylate which has a hydroxyl group. The film was found and the present invention was completed.

즉, 본 발명은, 테트라알콕시실란, 알킬아민 및 알코올을 함유하는 혼합액(I액)을, 암모니아, 알코올 및 물을 함유하는 혼합액(Ⅱ액)에 가하고, 테트라알콕시실란의 가수분해 및 축합 반응에 의해 실리카 입자를 얻은 후, 당해 실리카 입자로부터 알킬아민을 제거함으로써 얻어지는 표면에 세공(細孔)을 갖는 다공질 실리카 입자(A)와, 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트(B)를 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화성 조성물 및 그것을 사용한 필름에 관한 것이다.That is, in the present invention, a mixed solution (liquid I) containing tetraalkoxysilane, alkylamine and alcohol is added to a mixed solution (liquid II) containing ammonia, alcohol and water, and subjected to hydrolysis and condensation reaction of tetraalkoxysilane. After obtaining silica particle, the porous silica particle (A) which has a pore on the surface obtained by removing an alkylamine from the said silica particle, and the polyfunctional (meth) acrylate (B) which has a hydroxyl group are contained. The present invention relates to an active energy ray curable composition and a film using the same.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물을 필름 표면에 도공하여, 경화 도막으로 함으로써, 우수한 안티 블로킹성을 가지며, 또한 투명성이 높은 필름이 간편하게 얻어진다. 또한, 얻어진 필름은, 보호 필름, 광학 필름 등의 각종 필름에 이용할 수 있다.By coating the active energy ray curable composition of this invention on a film surface, and making it into a cured coating film, the film which has the outstanding anti blocking property and high transparency is obtained simply. Moreover, the obtained film can be used for various films, such as a protective film and an optical film.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물은, 테트라알콕시실란, 알킬아민 및 알코올을 함유하는 혼합액(I액)을, 암모니아, 알코올 및 물을 함유하는 혼합액(Ⅱ액)에 가하고, 테트라알콕시실란의 가수분해 및 축합 반응에 의해 실리카 입자를 얻은 후, 당해 실리카 입자로부터 알킬아민을 제거함으로써 얻어지는 표면에 세공을 갖는 다공질 실리카 입자(A)와, 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트(B)를 함유하는 것이다.In the active energy ray-curable composition of the present invention, a mixed solution (liquid I) containing tetraalkoxysilane, alkylamine and alcohol is added to a mixed solution (liquid II) containing ammonia, alcohol, and water to hydrolyze tetraalkoxysilane. And after obtaining a silica particle by a condensation reaction, the porous silica particle (A) which has a pore in the surface obtained by removing an alkylamine from the said silica particle, and the polyfunctional (meth) acrylate (B) which has a hydroxyl group are contained. will be.

상기 I액의 구성 성분에서 다공질 실리카 입자의 원료로 되는 테트라알콕시실란으로서는, 예를 들면 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라프로폭시실란 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 반응성이 높으므로 테트라메톡시실란이 바람직하다. 또한, 이들 테트라알콕시실란은, 1종류만으로 사용할 수도 2종 이상 병용할 수도 있다.As tetraalkoxysilane which becomes a raw material of porous silica particle in the component of the said I liquid, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, etc. are mentioned, for example. Among these, tetramethoxysilane is preferable because of its high reactivity. In addition, these tetraalkoxysilanes may be used by only one type or may be used together 2 or more types.

I액의 구성 성분인 알킬아민은 실리카 입자의 표면에 세공을 만드는 소위 주형(鑄型)으로서 작용하기 때문에, 그 종류 및 첨가량에 따라, 세공의 수나 크기나 형상을 제어하는 것이 가능하다. 또한, 알킬아민은, 후술하는 암모니아와 함께 테트라알콕시실란의 가수분해 및 축합 반응의 촉매로서도 작용한다. 알킬아민으로서는, 탄소 원자수 6∼18의 알킬기를 갖는 아민 화합물이 I액이나 Ⅱ액의 용매로 되는 알코올에의 용해성이 양호하며, 입경이 예를 들면 100∼250㎚의 다공질 실리카 미립자가 얻기 쉬우므로 바람직하다. 탄소 원자수 6∼18의 알킬기를 갖는 아민 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 옥틸아민, 데실아민, 라우릴아민, 테트라데실아민, 올레일아민 등을 들 수 있다. 이들 알킬아민은, 1종류만으로 사용할 수도 2종 이상 병용할 수도 있다.Since alkylamine which is a component of liquid I acts as a so-called mold for making pores on the surface of silica particles, it is possible to control the number, size and shape of the pores in accordance with the type and the amount of addition thereof. The alkylamine also acts as a catalyst for the hydrolysis and condensation reaction of the tetraalkoxysilane with ammonia described later. As the alkylamine, the amine compound having an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms has good solubility in an alcohol which is a solvent of I liquid or II liquid, and porous silica fine particles having a particle size of, for example, 100 to 250 nm are easy to obtain. Therefore, it is preferable. As an example of the amine compound which has a C6-C18 alkyl group, octylamine, decylamine, laurylamine, tetradecylamine, oleylamine, etc. are mentioned, for example. These alkylamines may be used by only one type or may be used together 2 or more types.

또한, 후술하는 테트라알콕시실란과 알킬아민의 비율〔테트라알콕시실란/알킬아민〕을 적게 하면, 실리카 입자의 세공의 수를 늘릴 수 있다. 또한, 실리카 입자의 세공의 크기를 크게 하기 위해서는, 예를 들면 탄소 원자수가 많은 알킬아민을 사용하면 된다.Moreover, if the ratio [tetraalkoxysilane / alkylamine] of the tetraalkoxysilane and alkylamine mentioned later is reduced, the number of the pore of a silica particle can be increased. In order to increase the size of the pores of the silica particles, for example, alkylamines having a large number of carbon atoms may be used.

I액의 구성 성분인 알코올은, 용매로서 작용하며, 알킬아민을 용해하여, 균일하게 혼합된 I액을 얻기 쉽게 하는 효과를 나타낸다. 알코올로서는, 물과 혼화하는 것이 바람직하다. 또한, 알콕시실란과 알코올의 교환 반응에 의해 반응계가 복잡화하는 것을 방지하는 관점에서, 사용하는 테트라알콕시실란의 알콕시 부위와 동수(同數)의 탄소 원자수를 갖는 것이 특히 바람직하다. 구체예로서는, 메탄올, 에탄올, 프로판올 등을 들 수 있다.The alcohol which is a constituent of the I liquid acts as a solvent, and dissolves the alkylamine and exhibits the effect of easily obtaining a uniformly mixed I liquid. As alcohol, it is preferable to mix with water. Moreover, it is especially preferable to have the same number of carbon atoms as the alkoxy site | part of the tetraalkoxysilane to be used from a viewpoint of preventing the reaction system from becoming complicated by the exchange reaction of an alkoxysilane and alcohol. Specific examples thereof include methanol, ethanol, propanol and the like.

I액 중의 테트라알콕시실란과 알킬아민의 비율〔테트라알콕시실란/알킬아민〕로서는, 몰비로 1/0.05∼1/5의 범위인 것이, 세공을 표면에 가지며, 또한 1차 입자가 구상(球狀)인 입자를 얻기 위하여 바람직하며, 몰비로 1/0.1∼1/3.0의 범위가 보다 바람직하고, 몰비로 1/0.1∼1/2.0의 범위가 더 바람직하다.As a ratio [tetraalkoxysilane / alkylamine] of the tetraalkoxysilane and alkylamine in I liquid, the thing of the range of 1 / 0.05-1/5 by molar ratio has pores on the surface, and primary particles are spherical. It is preferable in order to obtain the particle | grains which are), The range of 1 / 0.1-1 / 3.0 is more preferable by molar ratio, The range of 1 / 0.1-1 / 2.0 is still more preferable by molar ratio.

또한 I액 중의 테트라알콕시실란의 함유량으로서는, I액 100질량부 중 10∼60질량부가, 수량(收量)을 많이 제조할 수 있으므로 바람직하며, 25∼45질량부가 보다 바람직하다.Moreover, as content of the tetraalkoxysilane in I liquid, since 10-60 mass parts can manufacture many quantities in 100 mass parts of I liquids, it is preferable, and 25-45 mass parts is more preferable.

Ⅱ액의 구성 성분인 암모니아는, 테트라알콕시실란의 가수분해 및 축합 반응의 촉매로서 작용한다. 사용하는 암모니아는, 암모니아수로서 가해도, 반응 용액 중에 암모니아를 기체로 도입해도 되지만, 사용량을 컨트롤하기 쉬우므로, 암모니아수로 사용하는 것이 바람직하다.Ammonia, which is a constituent of the liquid II, acts as a catalyst for the hydrolysis and condensation reaction of the tetraalkoxysilane. Although ammonia to be used may be added as ammonia water or ammonia may be introduced into the reaction solution as a gas, the amount of ammonia to be used is easy to control, so it is preferable to use ammonia water.

Ⅱ액의 구성 성분인 알코올은, 예를 들면 상기 I액의 조제에 사용하는 알코올을 사용할 수 있다. 사용하는 알코올은 I액의 조제에 사용한 알코올과 같은 것을 사용해도 되고, 다른 것을 사용해도 된다. 또한, 1종류만으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.As an alcohol which is a component of liquid II, the alcohol used for preparation of the said liquid I can be used, for example. The alcohol to be used may be the same as the alcohol used for the preparation of the I liquid, or may use another. In addition, only one type may be used and two or more types may be used together.

Ⅱ액의 구성 성분에서, 본 발명의 제조 방법에 있어서 용매로서 사용하는 물로서는, 반응계 중에 불순물이 혼입하는 것을 극력 피하기 위하여, 순수를 사용하는 것이 바람직하다.In the component of the liquid II, as water used as a solvent in the production method of the present invention, pure water is preferably used in order to avoid the incorporation of impurities into the reaction system.

Ⅱ액 중의 암모니아와 물의 비율〔암모니아/물〕로서는, 몰비로 1/1∼1/20의 범위인 것이, 세공을 표면에 가지며, 또한 1차 입자가 구상인 입자를 얻기 위하여 바람직하다. 또한, 암모니아수를 사용해서 반응 조작을 용이하게 할 수 있으므로, 암모니아와 물의 몰비가 1/2.5∼1/20의 범위인 것이 보다 바람직하다.The ratio [ammonia / water] of ammonia and water in the II liquid is preferably in the range of 1/1 to 1/20 in molar ratio in order to obtain particles having pores on the surface and spherical primary particles. In addition, since the reaction operation can be facilitated by using ammonia water, the molar ratio of ammonia and water is more preferably in the range of 1 / 2.5 to 1/220.

또한, Ⅱ액 중의 물의 질량으로서는, 다공질 실리카 미립자의 입경이 제어하기 쉬우므로 Ⅱ액 100질량부에 대하여 1∼40질량부가 바람직하며, 2∼30질량부가 보다 바람직하다.Moreover, as a mass of the water in II liquid, since the particle diameter of porous silica microparticles | fine-particles is easy to control, 1-40 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of II liquids, and 2-30 mass parts is more preferable.

본 발명에서 사용하는 다공질 실리카 입자(A)는, 상기 I액을 Ⅱ액에 가하고, 테트라알콕시실란의 가수분해 및 축합 반응을 행하여, 실리카 입자를 얻는 공정(이하, 「공정 1」로 약기함)과, 실리카 입자로부터 알킬아민을 제거하는 공정(이하, 「공정 2」로 약기함)을 거쳐서 제조된 것이다.The porous silica particle (A) used by this invention adds the said I liquid to II liquid, performs hydrolysis and condensation reaction of tetraalkoxysilane, and obtains a silica particle (it abbreviates as "step 1" hereafter). And a step of removing the alkylamine from the silica particles (hereinafter abbreviated as "step 2").

이하에 상기 공정을 상세히 설명한다. 공정 1은, 테트라알콕시실란을 가수분해 및 축합시켜, 실리카 입자를 형성하는 공정이다. I액과 Ⅱ액을 혼합시킬 때에는, 테트라알콕시실란의 가수분해 및 축합 반응의 촉매로서 작용하는 암모니아의 양이, I액과 Ⅱ액의 혼합액(반응계)의 pH를 8에서 12의 범위로 하는 양으로 되도록 I액과 Ⅱ액을 혼합시키는 것이 1차 입자가 구상인 입자를 얻기 쉬우므로 바람직하며, pH를 9에서 11의 범위로 하는 양으로 되도록 I액과 Ⅱ액을 혼합시키는 것이 보다 바람직하다.The above process is explained in full detail below. Step 1 is a step of hydrolyzing and condensing tetraalkoxysilane to form silica particles. When mixing I liquid and II liquid, the amount of ammonia acting as a catalyst for the hydrolysis and condensation reaction of tetraalkoxysilane is such that the pH of the mixed liquid (reaction system) of I liquid and II liquid is in the range of 8 to 12. It is preferable to mix I liquid and II liquid so that it may be easy to obtain the particle | grains whose spherical particle is spherical, and it is more preferable to mix I liquid and II liquid so that it may become an amount which becomes pH in the range of 9-11.

I액을 Ⅱ액에 가하기 위해서는, 예를 들면 Ⅱ액이 들어 있는 용기 위로부터 I액을 적하함에 의해 가해도 되고, Ⅱ액이 들어 있는 용기 내에 도관 노즐을 넣고, 도관 노즐로부터 I액을 유출함으로써 Ⅱ액에 I액을 가해도 된다. 또한, I액을 Ⅱ액에 가할 때에는 Ⅱ액을 교반하면서, 거기에 I액을 주입해도 된다.In order to add I liquid to II liquid, you may add it by dropping I liquid from the container containing II liquid, for example, by putting a conduit nozzle in the container containing II liquid, and draining I liquid from a conduit nozzle. You may add liquid I to liquid II. In addition, when adding I liquid to II liquid, you may inject I liquid, stirring II liquid.

상기 I액 및 Ⅱ액의 혼합 시의 온도로서는, 5∼80℃의 범위가, 반응 원료의 반응계에의 용해성 및 1차 입자가 구상인 입자를 얻기 위하여 바람직하다.As temperature at the time of mixing of said I liquid and II liquid, the range of 5-80 degreeC is preferable in order to obtain the solubility to the reaction system of a reaction raw material, and the particle whose primary particle is spherical.

상기 Ⅱ액에의 I액의 주입 시간으로서는, 0∼240분의 범위가 바람직하며, 30∼150분의 범위가 보다 바람직하다. 여기에서 말하는 0분이란, I액을 Ⅱ액에 일괄로 투입하는 것을 나타낸다. 또한, I액의 주입 후, 5∼80℃의 온도 범위에서, 10분 이상 더 교반 반응하는 것이 바람직하다. 이 공정 1에 의해, 다공질 실리카 입자의 근원으로 되는 실리카 입자가 얻어진다.As injection time of I liquid to said II liquid, the range of 0-240 minutes is preferable, and the range of 30-150 minutes is more preferable. 0 minutes here means adding I liquid to II liquid collectively. Moreover, it is preferable to further carry out stirring reaction for 10 minutes or more in the temperature range of 5-80 degreeC after injecting I liquid. By this step 1, silica particles serving as a source of the porous silica particles are obtained.

공정 1에 있어서, I액을 Ⅱ액에 가한 뒤, 테트라알콕시실란 및 알코올을 함유하는 혼합액(I'액)을 더 가함에 의해, 다른 화합물, 예를 들면 용제나, 수지의 세공에의 침입을 억제할 수 있는 다공질 실리카 입자가 얻어진다. I'액은, I액을 Ⅱ액에 가한 후 신속하게 첨가해도 되고, I액을 Ⅱ액에 가하고, 그 후, 정치 또는 교반 후 첨가해도 된다.In step 1, after adding I liquid to II liquid, the mixed liquid (I 'liquid) containing tetraalkoxysilane and alcohol is further added, and invasion into the pore of another compound, for example, a solvent and resin is carried out. A porous silica particle which can be suppressed is obtained. I 'liquid may be added promptly after adding I liquid to II liquid, and I liquid may be added to II liquid, and may be added after standing still or stirring after that.

상기한 공정 1에서 얻어진 실리카 입자로부터 알킬아민을 제거하는 것이 공정 2이다. 알킬아민을 제거하는 방법으로서는, 예를 들면 당해 실리카 입자를 산으로 세정하는 방법, 당해 실리카 입자를 고온 중에 분무하는 방법, 당해 실리카 입자를 소성하는 방법 등을 들 수 있다.Step 2 is to remove the alkylamine from the silica particles obtained in step 1 described above. As a method of removing an alkylamine, the method of washing the said silica particle with an acid, the method of spraying the said silica particle in high temperature, the method of baking the said silica particle, etc. are mentioned, for example.

실리카 입자로부터 알킬아민을 제거할 때에, 사전에 실리카 입자를 세정해 두어도 된다. 실리카 입자를 세정하는 방법으로서는, 예를 들면 우선, 공정 1에서 얻어진 반응 용액으로부터 실리카 입자를 원심분리하여, 실리카 입자를 취출한다. 이 실리카 입자에 알코올을 가하고 교반해서 현탁액으로 하고, 이 현탁액을 다시 원심분리해서 실리카 입자를 취출한다. 이 공정을 수 회 행함으로써, 알코올에 의해 실리카 입자를 세정한다. 이때 사용하는 알코올은, 상기 I액 및 Ⅱ액의 조제에 사용한 알코올과 동종의 것이 바람직하다. 또, 실리카 입자를 반응 용액 및 알코올 현탁액으로부터 취출하는 방법으로서는, 원심분리에 한하지 않으며, 예를 들면 한외(限外) 여과를 사용해도 상관없다. 또한, 한외 여과 장치를 사용하여, 연속적으로 세정 공정을 실시해도 상관없다.When removing an alkylamine from a silica particle, you may wash | clean a silica particle beforehand. As a method of washing a silica particle, first, for example, a silica particle is centrifuged from the reaction solution obtained at the process 1, and a silica particle is taken out. Alcohol is added to the silica particles, the mixture is stirred to form a suspension, and the suspension is centrifuged again to remove the silica particles. By performing this step several times, the silica particles are washed with alcohol. It is preferable that the alcohol used at this time is the same kind as the alcohol used for preparation of the said I liquid and II liquid. Moreover, as a method of taking out silica particle from a reaction solution and an alcohol suspension, it is not limited to centrifugation, For example, you may use ultrafiltration. In addition, you may perform a washing | cleaning process continuously using an ultrafiltration apparatus.

상기 실리카 입자를 산으로 세정하는 방법에서 사용하는 산으로서는, 예를 들면 염산, 질산, 황산, 아세트산 등을 들 수 있다. 이들 산 중에서도, 중화염이 수용성이므로, 무기산이 바람직하다.As an acid used by the method of wash | cleaning the said silica particle with acid, hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, acetic acid etc. are mentioned, for example. Among these acids, since the neutralized salt is water-soluble, an inorganic acid is preferable.

상기 실리카 입자를 산으로 세정할 때에는, 물 외, 알코올 존재 하에서 행하는 것이 바람직하다. 이때, 사용하는 알코올로서는, 상기 I액 및 Ⅱ액에서 사용한 알코올과 동종의 것이면 된다. 또한, 알킬아민의 추출은, 가열해서 행하는 것이 바람직하며, 그 온도 범위로서는, 추출 효율이 높으므로, 사용하는 알코올의 비점 부근인 것이 바람직하다.When wash | cleaning the said silica particle with acid, it is preferable to carry out in presence of alcohol other than water. In this case, the alcohol used may be the same kind as the alcohol used in the above-mentioned I liquid and II liquid. Moreover, it is preferable to heat-extract alkylamine, and since the extraction efficiency is high as the temperature range, it is preferable that it is near the boiling point of the alcohol to be used.

당해 실리카 입자를 고온 중에 분무하기 위해서는, 예를 들면 270∼800℃ 정도의 분위기 하에서 당해 실리카 입자를 분무할 수 있는 시판의 스프레이 드라이어를 사용하면 된다. 여기에서, 당해 실리카 입자를 고온 중에 분무할 때에는, 실리카 입자의 상기 알코올에 의한 세정이나 산에 의한 세정을 행하고 있어도 된다.In order to spray the said silica particle in high temperature, you may use the commercial spray dryer which can spray the said silica particle in the atmosphere of about 270-800 degreeC, for example. Here, when spraying the said silica particle at high temperature, you may wash | clean the silica particle with the said alcohol, or the acid.

상기 실리카 입자를 소성하는 방법에 있어서도 실리카 입자의 상기 알코올에 의한 세정이나 산에 의한 세정을 행하고 있어도 된다.Also in the method of baking the said silica particle, you may wash | clean the silica particle with the said alcohol, or the acid.

필요에 따라, 상기 세정을 행한 뒤, 실리카 미립자를 건조시키는 건조 온도는, 60∼150℃의 범위가 바람직하며, 80∼130℃의 범위가 보다 바람직하다.As needed, the range of 60-150 degreeC is preferable and, as for the drying temperature which dries silica microparticles after the said washing | cleaning, the range of 80-130 degreeC is more preferable.

건조한 실리카 입자를 소성하여, 실리카 입자에 잔류하는 유기물을 전부 제거한다. 이에 따라 주형으로서 사용한 알킬아민이 제거된다. 소성 공정의 조건으로서는, 소성 온도는 400∼1,000℃의 범위가 바람직하며, 500∼800℃의 범위가 보다 바람직하다. 또한, 소성 시간으로서는, 30분 이상인 것이 바람직하며, 1시간 이상인 것이 보다 바람직하다. 이 소성 공정을 행함으로써, 실리카 입자에 잔류하는 유기물을 전부 제거할 수 있기 때문에, 실리카 입자 표면에 세공을 갖는 다공질 실리카로 할 수 있다.Dry silica particles are calcined to remove all organic matter remaining on the silica particles. This removes the alkylamine used as the template. As conditions of a baking process, the range of 400-1,000 degreeC is preferable, and the range of 500-800 degreeC is more preferable. Moreover, as baking time, it is preferable that it is 30 minutes or more, and it is more preferable that it is 1 hour or more. By performing this baking process, since all the organic substance which remain | survives in a silica particle can be removed, it can be set as porous silica which has a pore in a silica particle surface.

소성 후, 입자가 응집해 있을 경우에는 분쇄하는 것이 바람직하다. 분쇄에 사용하는 분쇄기로서는, 볼밀, 콜로이드 밀, 코니컬 밀, 디스크 밀, 엣지 밀, 제분 밀, 해머 밀, 유발, 펠렛 밀, 제트 밀, 종축 임팩터(VSI) 밀, 윌리 밀, 롤러 밀 등을 들 수 있다.It is preferable to grind | pulverize when particle | grains aggregate after baking. As mills used for grinding, ball mills, colloid mills, conical mills, disc mills, edge mills, milling mills, hammer mills, mortars, pellet mills, jet mills, longitudinal impactor (VSI) mills, willy mills, roller mills, etc. Can be mentioned.

또한, 실리카 입자의 자기(自己) 응집을 방지할 수 있고, 유기 용제나 수지에의 분산성이 향상하므로, 상기 소성 공정 후에 얻어진 다공질 실리카 입자의 표면에 존재하는 실라놀기의 히드록시기를 표면 처리제에 의해 표면 처리해서 소수기로 치환하는 것이 바람직하다. 이 표면 처리를 행하는 방법으로서는, 예를 들면 표면 처리제를 용매에 용해시킨 용액에 다공질 실리카를 침지하고, 필요에 따라 가열하는 방법을 들 수 있다. 이 표면 처리에 사용하는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, N,N-디메틸포름아미드, 헥사메틸디실록산 등을 들 수 있다. 또한, 표면 수식(修飾)에 사용하는 표면 처리제로서는 실란 화합물이나 실라잔 화합물, 예를 들면 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 헥실트리메톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 데실트리메톡시실란, 트리플루오로프로필트리메톡시실란, 헥사메틸디실록산, 트리메틸메톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 헥사메틸디실라잔, 메톡시실란 말단을 갖는 퍼플루오로폴리에테르인 「Dow Corning 2634 Coating」(도레 다우코닝 가부시키가이샤제), 에톡시실란 말단을 갖는 퍼플루오로폴리에테르인 「플루오로링크 S10」(솔베이솔렉시스사제) 등을 들 수 있다. 특히, 상기 실라잔 화합물로 표면 처리함에 의해, 실라잔 화합물로 표면 수식되어 있는 다공질 실리카 입자를 얻을 수 있다. 구체적으로는, 상기 공정 2(실리카 입자로부터 알킬아민을 제거하는 공정) 후, 얻어지는 다공질 실리카 입자를 표면 수식하는 공정을 더함에 의해 실라잔 화합물로 표면 수식되어 있는 다공질 실리카 입자를 얻을 수 있다. 여기에서 사용하는 실라잔 화합물로서는, 헥사메틸디실라잔이 바람직하다.Moreover, since self-aggregation of a silica particle can be prevented and dispersibility to an organic solvent or resin improves, the hydroxyl group of the silanol group which exists in the surface of the porous silica particle obtained after the said baking process by a surface treating agent. It is preferable to surface-treat and to substitute a hydrophobic group. As a method of performing this surface treatment, the porous silica is immersed in the solution which melt | dissolved the surface treating agent in the solvent, for example, and the method of heating as needed is mentioned. As a solvent used for this surface treatment, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, benzene, toluene, xylene, N, N- dimethylformamide, hexamethyldisiloxane, etc. are mentioned, for example. In addition, as a surface treating agent used for surface modification, a silane compound and a silazane compound, for example, methyl trimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, and dimethyldiethoxysilane , Phenyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisiloxane, trimethylmethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, Trimethylethoxysilane, dimethyl diethoxysilane, hexamethyldisilazane, "Dow Corning 2634 Coating" (manufactured by Dore Dow Corning Co., Ltd.) which is a perfluoropolyether having a methoxysilane terminal, and an ethoxysilane terminal "Fluorolink S10" (made by Solvay Solecsys) etc. which are perfluoro polyethers are mentioned. In particular, by surface treatment with the silazane compound, porous silica particles surface-modified with the silazane compound can be obtained. Specifically, the porous silica particles surface-modified with the silazane compound can be obtained by adding the step of surface modifying the porous silica particles obtained after the step 2 (step of removing the alkylamine from the silica particles). As a silazane compound used here, hexamethyldisilazane is preferable.

다공질 실리카 입자의 표면을 실라잔 화합물에 의해 표면 수식할 때에, 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 이 촉매로서는, 염산, 황산, 질산 등의 무기산류; 옥살산, 아세트산, 포름산, 메탄설폰산, 톨루엔설폰산 등의 유기산류; 수산화나트륨, 수산화칼륨, 암모니아 등의 무기염기류; 트리에틸아민, 피리딘 등의 유기염기류; 트리이소프로폭시알루미늄, 테트라부톡시지르코늄 등의 금속 알콕시드류 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 다공질 실리카 입자(A)의 분산액의 제조 안정성이나 보존 안정성이 양호해지므로, 산 촉매(무기산류, 유기산류)가 사용된다. 무기산으로는 염산, 황산 등, 유기산으로는 메탄설폰산, 옥살산, 프탈산, 말론산, 아세트산이 바람직하며, 아세트산이 특히 바람직하다.When surface modification of the surface of a porous silica particle with a silazane compound, it is preferable to use a catalyst. As this catalyst, Inorganic acids, such as hydrochloric acid, a sulfuric acid, nitric acid; Organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; Inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; Organic bases such as triethylamine and pyridine; Metal alkoxides, such as triisopropoxy aluminum and tetrabutoxy zirconium, etc. are mentioned. Among these, since the production stability and storage stability of the dispersion liquid of porous silica particle (A) become favorable, an acid catalyst (inorganic acids, organic acids) is used. As the inorganic acid, methanesulfonic acid, oxalic acid, phthalic acid, malonic acid and acetic acid are preferable as the organic acid, and particularly preferred is acetic acid.

다공질 실리카 입자의 표면의 수식을 행하는 방법으로서는, 예를 들면 표면 수식제를 용매에 용해시킨 용액에 다공질 실리카를 침지하고, 필요에 따라 가열하는 방법을 들 수 있다. 이 표면 수식에 사용하는 용매로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 벤젠, 톨루엔, 자일렌, N,N-디메틸포름아미드, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등을 들 수 있다.As a method of modifying the surface of a porous silica particle, the method of immersing porous silica in the solution which melt | dissolved the surface modifier in the solvent, for example, and heating as needed is mentioned. As a solvent used for this surface modification, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, benzene, toluene, xylene, N, N- dimethylformamide, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc. are mentioned, for example. .

상기 다공질 실리카 입자의 표면 수식 시의 표면 수식제의 사용량은, 다공질 실리카 입자(A)가 2차 응집하지 않고, 1차 입자로서 안정한 것으로 하기 위하여, 상기 다공질 실리카 입자(A) 100질량부에 대하여, 표면 수식제는 0.3∼60질량부의 범위가 바람직하지만, 0.5∼50질량부의 범위가 보다 바람직하다.The amount of the surface modifying agent used during surface modification of the porous silica particles is based on 100 parts by mass of the porous silica particles (A) in order to ensure that the porous silica particles (A) do not secondary aggregate and are stable as primary particles. Although the range of 0.3-60 mass parts is preferable, the surface modifying agent has a more preferable range which is 0.5-50 mass parts.

또한, 상기한 표면 수식을 행할 때에 동시에 다공질 실리카 입자(A)의 응집한 입자를 분쇄해서 1차 입자 상태의 분산액으로 하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to grind | pulverize the aggregated particle | grains of porous silica particle (A) at the same time as said surface modification, and to make it the dispersion liquid of a primary particle state.

상기한 공정 1 및 2를 거침으로써, 다공질 실리카 입자를 얻을 수 있다. 얻어진 다공질 실리카 입자의 입자 형상, 평균 입자경, 평균 세공경 및 비표면적은, 하기의 측정 방법에 의해 측정할 수 있다.Porous silica particles can be obtained by passing through the steps 1 and 2 described above. The particle shape, average particle diameter, average pore diameter, and specific surface area of the obtained porous silica particles can be measured by the following measuring method.

[입자 형상] [Particle shape]

입자 형상은, 전계 방사형 주사 전자현미경(FE-SEM)(예를 들면, 니혼덴시사제 「JSM6700」)을 사용해서 관찰함으로써 확인할 수 있다.Particle shape can be confirmed by observing using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) (for example, "JSM6700" by the Nippon Denshi Corporation).

[평균 입자경] [Average particle size]

평균 입자경은, 전계 방사형 주사 전자현미경(FE-SEM)(예를 들면, 니혼덴시사제 「JSM6700」)을 사용해서 관찰함으로써 확인할 수 있다.An average particle diameter can be confirmed by observing using a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) (for example, "JSM6700" by Nippon Denshi Corporation).

[평균 세공경] [Average pore diameter]

평균 세공경은, 세공 분포 측정 장치(예를 들면, 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 「ASAP2020」)를 사용해서 측정할 수 있다.An average pore diameter can be measured using a pore distribution measuring apparatus (for example, Shimadzu Corporation "ASAP2020").

[비표면적] [Specific surface area]

비표면적은, 세공 분포 측정 장치(예를 들면, 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 「ASAP2020」)를 사용해서 BET법에 의해 측정할 수 있다.A specific surface area can be measured by a BET method using a pore distribution measuring apparatus (for example, Shimadzu Corporation "ASAP2020").

상기한 측정 방법에 의해, 얻어진 다공질 실리카 입자(A)의 입자 형상, 평균 입자경, 평균 세공경 및 비표면적을 측정할 수 있다. 본 발명에서 사용하는 다공질 실리카 입자는, 대략 구형의 외관을 갖는 다공질 실리카 입자이며, 평균 입자경은 전술한 바와 같이, 암모니아의 사용량을 조정함으로써 제어할 수 있고, 50∼300㎚의 범위의 것이 바람직하며, 100∼250㎚의 범위의 것이 보다 바람직하다. 또한, 다공질 실리카 입자(A)의 체적 평균경은, 80∼150㎚의 범위가 바람직하며, 90∼120㎚의 범위가 보다 바람직하다. 또한, 다공질 실리카 입자(A)의 평균 세공경 및 비표면적은, 알킬아민의 종류 및 사용량에 의해 제어할 수 있으며, 평균 세공경에 대해서는, 1∼4㎚의 범위의 것이 얻어지고, 비표면적에 대해서는, 40∼900㎡/g의 범위의 것이 얻어진다.By the said measuring method, the particle shape, average particle diameter, average pore diameter, and specific surface area of the obtained porous silica particle (A) can be measured. The porous silica particles used in the present invention are porous silica particles having a substantially spherical appearance, and the average particle diameter can be controlled by adjusting the amount of ammonia used as described above, and preferably in the range of 50 to 300 nm. The range of 100-250 nm is more preferable. Moreover, the range of 80-150 nm is preferable, and, as for the volume average diameter of a porous silica particle (A), the range of 90-120 nm is more preferable. In addition, the average pore diameter and specific surface area of a porous silica particle (A) can be controlled by the kind and usage-amount of an alkylamine, The thing of the range of 1-4 nm is obtained about an average pore diameter, About the thing of the range of 40-900 m <2> / g is obtained.

또한, 상기 다공질 실리카 입자(A)를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물을, 후술하는 필름에 도공해서 형성하는 경화 도막은, 보다 균일한 편이 바람직하므로, 다공질 실리카 입자(A)의 입도 분포는 좁은 편이 바람직하다. 그 때문에, 상기 다공질 실리카 입자(A)의 입도 분포를 나타내는 지수인 변동 계수(CV)는, 0∼40%의 범위가 바람직하며, 0∼35%의 범위가 보다 바람직하다. 또한, 상기 다공질 실리카 입자(A)의 제조의 용이함을 고려하면, 변동 계수의 하한은 5%가 바람직하며, 10%가 보다 바람직하고, 15%가 더 바람직하고, 20%가 특히 바람직하다. 또, 변동 계수란, 하기 식(1)에 의해 산출되는 것이며, 하기 식(1) 중의 표준 편차는, 하기 식(2)으로 산출되는 것이다. 또한, 하기 식(2) 중의 d84%는 체적 입도 분포에 있어서의 84% 경(徑)을 나타내고, d16%는 체적 입도 분포에 있어서의 16% 경을 나타낸다.Moreover, since the cured coating film which coats and forms the active-energy-ray-curable composition containing the said porous silica particle (A) to the film mentioned later is more preferable, the particle size distribution of porous silica particle (A) is narrower. desirable. Therefore, the variation coefficient CV, which is an index indicating the particle size distribution of the porous silica particles (A), is preferably in the range of 0 to 40%, more preferably in the range of 0 to 35%. In view of the ease of production of the porous silica particles (A), the lower limit of the coefficient of variation is preferably 5%, more preferably 10%, still more preferably 15%, and particularly preferably 20%. In addition, a variation coefficient is computed by following formula (1), and the standard deviation in following formula (1) is computed by following formula (2). In addition, d84% in following formula (2) shows 84% diameter in volume particle size distribution, and d16% shows 16% diameter in volume particle size distribution.

[수 1] [1]

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상기와 같은 체적 평균경 및 변동 계수를 갖는 다공질 실리카 입자(A)는, 상기한 바와 같이, 상기 공정 2(실리카 입자로부터 알킬아민을 제거하는 공정) 후, 얻어지는 실리카 입자를 표면 수식제로 표면 수식하는 공정을 본 발명의 제조 방법에 포함시킴에 의해 얻을 수 있다. 얻어진 다공질 실리카 입자(E)의 입자 형상, 비표면적은 상기한 방법으로 측정할 수 있고, 또한 체적 평균경, 변동 계수 및 세공경 분포의 피크는, 하기의 측정 방법에 의해 측정할 수 있다.As described above, the porous silica particles (A) having the volume average diameter and the coefficient of variation are subjected to surface modification of the silica particles obtained after the step 2 (step of removing the alkylamine from the silica particles) with a surface modifier. It can be obtained by including the step in the production method of the present invention. The particle shape and specific surface area of the obtained porous silica particle (E) can be measured by the above-mentioned method, and the peak of a volume average diameter, a coefficient of variation, and a pore diameter distribution can be measured by the following measuring method.

[체적 평균경 및 변동 계수] [Volume averaging and coefficient of variation]

체적 평균경은, 레이저 도플러법을 사용한 입도 분포계(예를 들면, 오츠카덴시 가부시키가이샤제 「제타 전위·입경 측정 시스템 ELSZ-2」)를 사용해서 측정할 수 있다. 또한, 변동 계수는, 동 장치로 측정한 체적 평균경 및 표준 편차로부터, 상기 식(1)에 의해 구해진다.The volume average diameter can be measured using a particle size distribution meter (for example, "Zeta potential and particle size measuring system ELSZ-2" manufactured by Otsuka Denshi Co., Ltd.) using the laser Doppler method. In addition, a variation coefficient is calculated | required by said formula (1) from the volume average diameter and standard deviation measured with the said apparatus.

[세공경 분포의 피크] [Peak of pore size distribution]

세공경 분포의 피크는, 세공 분포 측정 장치(예를 들면, 가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 「ASAP2020」)를 사용해서 측정할 수 있고, 얻어진 세공경 분포의 피크값이다.The peak of pore diameter distribution can be measured using a pore distribution measuring apparatus (for example, Shimadzu Corporation "ASAP2020"), and is a peak value of the pore diameter distribution obtained.

다음으로, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에 사용하는 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트(B)에 대하여 설명한다. 상기 다관능 (메타)아크릴레이트(B)는, 수산기 및 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물이다. 이러한 다관능 (메타)아크릴레이트(B)로서는, 예를 들면 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)히드록시에틸이소시아누레이트 등의 3가(價)의 알코올의 모노 혹은 디(메타)아크릴레이트 또는 이들 화합물이 갖는 수산기의 일부를 ε-카프로락톤으로 변성한 수산기를 갖는 모노 및 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트 등의 1개의 수산기와 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물 또는 이들 화합물이 갖는 수산기의 일부를 ε-카프로락톤으로 변성한 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 다관능 (메타)아크릴레이트(B) 중에서도, 필름의 안티 블로킹성을 보다 향상할 수 있고, 경화 도막의 물성도 양호하므로, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트가 바람직하다. 또한, 이들 다관능 (메타)아크릴레이트(B)는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상 병용할 수도 있다.Next, the polyfunctional (meth) acrylate (B) which has a hydroxyl group used for the active energy ray curable composition of this invention is demonstrated. The polyfunctional (meth) acrylate (B) is a compound having a hydroxyl group and two or more (meth) acryloyl groups. As such a polyfunctional (meth) acrylate (B), for example, trimethylolpropanedi (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropanedi (meth) acrylate, and propylene oxide modified trimethylolpropanedi (meth) acryl Mono or di (meth) acrylates of trihydric alcohols such as acrylate, glycerin di (meth) acrylate, bis (2- (meth) acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, or these Mono and di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaeryte having a hydroxyl group in which a part of the hydroxyl group of the compound is modified with ε-caprolactone The compound which has one hydroxyl group, such as a rititol penta (meth) acrylate, and three or more (meth) acryloyl groups, or a hydroxyl group which these compounds have is epsilon -caprolactone The polyfunctional (meth) acrylate which has a hydroxyl group modified | denatured by these is mentioned. Among these polyfunctional (meth) acrylates (B), since the anti blocking property of a film can be improved more and the physical property of a cured coating film is also favorable, pentaerythritol tri (meth) acrylate and dipentaerythritol penta (meth) ) Acrylates are preferred. In addition, these polyfunctional (meth) acrylates (B) may be used independently or may be used together 2 or more types.

또, 본 발명에 있어서, 「(메타)아크릴레이트」란, 메타크릴레이트와 아크릴레이트의 한쪽 또는 양쪽을 말하며, 「(메타)아크릴로일기 」란, 메타크릴로일기와 아크릴로일기의 한쪽 또는 양쪽을 말한다.In the present invention, "(meth) acrylate" refers to one or both of methacrylate and acrylate, and "(meth) acryloyl group" means one or both of methacryloyl group and acryloyl group. Say both.

또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에는, 상기 다관능 (메타)아크릴레이트(B) 외에, 수산기를 갖지 않는 다관능 (메타)아크릴레이트(C), 활성 에너지선 경화성 단량체(D), 활성 에너지선 경화성 수지(E) 등을 배합해도 상관없다.Moreover, in the active energy ray curable composition of this invention, in addition to the said polyfunctional (meth) acrylate (B), the polyfunctional (meth) acrylate (C) which does not have a hydroxyl group, an active energy ray curable monomer (D), active You may mix | blend an energy-beam curable resin (E) etc.

상기 수산기를 갖지 않는 다관능 (메타)아크릴레이트(C)로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 수평균 분자량이 150∼1000의 범위에 있는 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 수평균 분자량이 150∼1000의 범위에 있는 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 히드록시 피발산에스테르네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히 경화 도막의 경도가 우수하므로, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 3관능 이상의 다관능 (메타)아크릴레이트가 바람직하다. 이들 수산기를 갖지 않는 다관능 (메타)아크릴레이트(C)는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상 병용할 수도 있다.As a polyfunctional (meth) acrylate (C) which does not have the said hydroxyl group, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, water Polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, and average number of average molecular weights in the range of 150-1000 Polypropylene glycol di (meth) acrylate in the range of 150-1000 molecular weight, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanedioldi (meth) acrylate, 1,4-butanedioldi (meth) Acrylate, 1, 6- hexanediol di (meth) acrylate, hydroxy pivalic acid ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, trimethylol propane tree (meta ) Acrylate, ditrimethylol propane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dicyclopentenyldi (meth) acrylate, and the like. . Among these, since the hardness of a cured coating film is especially excellent, the trifunctional or more than trifunctional polyfunctional (methaacrylate, such as a trimethylol propane tri (meth) acrylate, a pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and a dipentaerythritol hexa (meth) acrylate) ) Acrylates are preferred. The polyfunctional (meth) acrylate (C) which does not have these hydroxyl groups may be used independently, or may be used together 2 or more types.

상기 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트(B)와 상기 수산기를 갖지 않는 다관능 (메타)아크릴레이트(C)의 질량비[(B)/(C)]는, 상기 다공질 실리카 입자(A)를 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 도막 표면에 국재화(局在化)할 수 있고, 보다 안티 블로킹성을 향상할 수 있으므로, 10/90∼90/10의 범위가 바람직하며, 20/80∼80/20의 범위가 보다 바람직하고, 30/70∼70/30의 범위가 더 바람직하다.Mass ratio [(B) / (C)] of the polyfunctional (meth) acrylate (B) which has the said hydroxyl group, and the polyfunctional (meth) acrylate (C) which does not have the said hydroxyl group is the said porous silica particle (A) Can be localized on the surface of the coating film of the active energy ray-curable composition of the present invention, and anti-blocking property can be improved, and therefore, the range of 10/90 to 90/10 is preferable, and 20/80 The range of -80/20 is more preferable, and the range of 30/70-70/30 is further more preferable.

상기 활성 에너지선 경화성 단량체(D)로서는, 예를 들면 메틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트 등의 지방족 알킬(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 3-클로로-2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 알릴(메타)아크릴레이트, 2-부톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-(디에틸아미노)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(디메틸아미노)에틸(메타)아크릴레이트, γ-(메타)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 노닐페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시디프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리부타디엔(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리스티릴에틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 메톡시화시클로데카트리엔(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트; 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-에틸말레이미드, N-프로필말레이미드, N-부틸말레이미드, N-헥실말레이미드, N-옥틸말레이미드, N-도데실말레이미드, N-스테아릴말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, 2-말레이미드에틸-에틸카보네이트, 2-말레이미드 에틸-프로필카보네이트, N-에틸-(2-말레이미드에틸)카바메이트, N,N-헥사메틸렌비스말레이미드, 폴리프로필렌글리콜-비스(3-말레이미드프로필)에테르, 비스(2-말레이미드에틸)카보네이트, 1,4-디말레이미드시클로헥산 등의 말레이미드류 등을 들 수 있다. 이들 활성 에너지선 경화성 단량체(D)는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상 병용할 수도 있다.As said active energy ray curable monomer (D), for example, methyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) Acrylate, octyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate Aliphatic alkyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acryl, etc. Late, allyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, 2- (diethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl (meth) acrylate, γ- ( Meta) acryloxypropyltrimethoxysilane, 2-methoxyethyl (meth ) Acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (Meth) acrylate, phenoxydipropylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, polybutadiene (meth) acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol- Polybutylene glycol (meth) acrylate, polystyrylethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) Acrylate, isobornyl (meth) acrylate, methoxylated cyclodecatriene (meth) acrylate, phenyl (meth) a Relate; Maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-butylmaleimide, N-hexylmaleimide, N-octylmaleimide, N-dodecylmaleimide, N-stearyl Maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, 2-maleimideethyl-ethylcarbonate, 2-maleimide ethyl-propylcarbonate, N-ethyl- (2-maleimideethyl) carbamate, N, Maleimide, such as N-hexamethylene bis maleimide, polypropylene glycol bis (3-maleimide propyl) ether, bis (2-maleimide ethyl) carbonate, and 1, 4- dimaleimide cyclohexane, etc. are mentioned. have. These active energy ray curable monomers (D) may be used independently or may be used together 2 or more types.

상기 활성 에너지선 경화성 수지(E)로서는, 예를 들면 우레탄(메타)아크릴레이트 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 에폭시(메타)아크릴레이트 수지, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 수지, 아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 말레이미드기를 갖는 수지 등을 들 수 있다.As said active energy ray curable resin (E), for example, urethane (meth) acrylate resin, unsaturated polyester resin, epoxy (meth) acrylate resin, polyester (meth) acrylate resin, and acrylic (meth) acrylate Resin, resin which has a maleimide group, etc. are mentioned.

여기에서 사용하는 우레탄(메타)아크릴레이트 수지는, 지방족 폴리이소시아네이트 화합물 또는 방향족 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 반응시켜서 얻어지는 우레탄 결합과 (메타)아크릴로일기를 갖는 수지를 들 수 있다.The urethane (meth) acrylate resin used here includes resins having a urethane bond and a (meth) acryloyl group obtained by reacting an aliphatic polyisocyanate compound or an aromatic polyisocyanate compound with a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group. Can be.

상기 지방족 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들면 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 헵타메틸렌디이소시아네이트, 옥타메틸렌디이소시아네이트, 데카메틸렌디이소시아네이트, 2-메틸-1,5-펜탄디이소시아네이트, 3-메틸-1,5-펜탄디이소시아네이트, 도데카메틸렌디이소시아네이트, 2-메틸펜타메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 노르보르난디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 톨릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 자일릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 시클로헥실디이소시아네이트 등을 들 수 있다. 또한, 방향족 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 트리딘디이소시아네이트, p-페닐렌디이소시아네이트 등을 들 수 있다.As said aliphatic polyisocyanate compound, for example, tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, heptamethylene diisocyanate, octamethylene diisocyanate, decamethylene diisocyanate, 2-methyl-1,5-pentanedi Isocyanate, 3-methyl-1,5-pentane diisocyanate, dodecamethylene diisocyanate, 2-methylpentamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene di Isocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, hydrogenated tetramethyl xylylene diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, etc. are mentioned. have. Moreover, as an aromatic polyisocyanate compound, tolylene diisocyanate, 4,4'- diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 1, 5- naphthalene diisocyanate, tridine diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, etc. are mentioned. .

한편, 수산기를 갖는 아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 1,5-펜탄디올모노(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올모노(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜모노(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산네오펜틸글리콜모노(메타)아크릴레이트 등의 2가 알코올의 모노(메타)아크릴레이트; 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 글리세린디(메타)아크릴레이트, 비스(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)히드록시에틸이소시아누레이트 등의 3가의 알코올의 모노 혹은 디(메타)아크릴레이트 또는 이들 화합물이 갖는 수산기의 일부를 ε-카프로락톤으로 변성한 수산기를 갖는 모노 및 디(메타)아크릴레이트; 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트 등의 1개의 수산기와 3개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물 또는 이들 화합물이 갖는 수산기의 일부를 ε-카프로락톤으로 변성한 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트; 디프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트 등의 옥시알킬렌쇄를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물; 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리옥시부틸렌-폴리옥시프로필렌모노(메타)아크릴레이트 등의 블록 구조의 옥시알킬렌쇄를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물; 폴리(에틸렌글리콜-테트라메틸렌글리콜)모노(메타)아크릴레이트, 폴리(프로필렌글리콜-테트라메틸렌글리콜)모노(메타)아크릴레이트 등의 랜덤 구조의 옥시알킬렌쇄를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다.On the other hand, as an acrylate compound which has a hydroxyl group, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxy, for example. Butyl (meth) acrylate, 1,5-pentanediol mono (meth) acrylate, 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, hydroxy pivalate neopentyl glycol Mono (meth) acrylates of dihydric alcohols such as mono (meth) acrylate; Trimethylolpropanedi (meth) acrylate, ethylene oxide modified trimethylolpropanedi (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropanedi (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, bis (2- (meth) Mono or di (meth) acrylates of trihydric alcohols such as acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, or mono and di having a hydroxyl group in which some of the hydroxyl groups of these compounds are modified with ε-caprolactone (Meth) acrylates; Compound which has one hydroxyl group and 3 or more (meth) acryloyl groups, such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylol propane tri (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate, or Polyfunctional (meth) acrylate which has a hydroxyl group which modified | denatured some hydroxyl groups which these compounds have by (epsilon) -caprolactone; (Meth) acrylates having oxyalkylene chains such as dipropylene glycol mono (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate compound; (Meth) acrylate compounds having an oxyalkylene chain having a block structure such as polyethylene glycol-polypropylene glycol mono (meth) acrylate and polyoxybutylene-polyoxypropylene mono (meth) acrylate; (Meth) acrylate compounds having an oxyalkylene chain having a random structure such as poly (ethylene glycol-tetramethylene glycol) mono (meth) acrylate and poly (propylene glycol-tetramethylene glycol) mono (meth) acrylate Can be.

상기한 지방족 폴리이소시아네이트 화합물 또는 방향족 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물의 반응은, 우레탄화 촉매의 존재 하, 통상의 방법에 의해 행할 수 있다. 여기에서 사용할 수 있는 우레탄화 촉매는, 구체적으로는, 피리딘, 피롤, 트리에틸아민, 디에틸아민, 디부틸아민 등의 아민류, 트리페닐포스핀, 트리에틸포스핀 등의 포스핀류, 디부틸주석디라우레이트, 옥틸주석트리라우레이트, 옥틸주석디아세테이트, 디부틸주석디아세테이트, 옥틸산주석 등의 유기 주석 화합물, 옥틸산아연 등의 유기 금속 화합물을 들 수 있다.Reaction of said aliphatic polyisocyanate compound or aromatic polyisocyanate compound, and the (meth) acrylate compound which has a hydroxyl group can be performed by a conventional method in presence of a urethanization catalyst. Specific examples of the urethanization catalyst that can be used herein include amines such as pyridine, pyrrole, triethylamine, diethylamine and dibutylamine, phosphines such as triphenylphosphine and triethylphosphine, and dibutyltin. Organotin compounds such as dilaurate, octyl tin trilaurate, octyl tin diacetate, dibutyl tin diacetate, tin octylate, and organometallic compounds such as zinc octylate.

이들 우레탄(메타)아크릴레이트 수지 중에서도 특히 지방족 폴리이소시아네이트 화합물과 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 반응시켜서 얻어지는 것이 경화 도막의 투명성이 우수하며, 또한 활성 에너지선에 대한 감도가 양호하고 경화성이 우수하므로 바람직하다. 또한, 상기 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물로서는, (메타)아크릴로일기를 복수 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물이, 경화 도막의 경도가 우수하므로 바람직하다.Among these urethane (meth) acrylate resins, those obtained by reacting an aliphatic polyisocyanate compound with a (meth) acrylate compound having a hydroxyl group are particularly excellent in transparency of the cured coating film, and have good sensitivity to active energy rays and excellent curability. Therefore, it is preferable. Moreover, as a (meth) acrylate compound which has the said hydroxyl group, since the polyfunctional (meth) acrylate compound which has two or more (meth) acryloyl groups is excellent in the hardness of a cured coating film, it is preferable.

상기 불포화 폴리에스테르 수지는, α,β-불포화이염기산 또는 그 산무수물, 방향족 포화 이염기산 또는 그 산무수물, 및 글리콜류의 중축합에 의해 얻어지는 경화성 수지이며, α,β-불포화이염기산 또는 그 산무수물로서는, 말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 시트라콘산, 클로로말레산, 및 이들의 에스테르 등을 들 수 있다. 방향족 포화 이염기산 또는 그 산무수물로서는, 프탈산, 무수 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 니트로프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산, 엔도 메틸렌테트라히드로 무수 프탈산, 할로겐화 무수 프탈산 및 이들의 에스테르 등을 들 수 있다. 지방족 혹은 지환족 포화 이염기산으로서는, 옥살산, 말론산, 숙신산, 아디프산, 세바스산, 아젤라산, 글루타르산, 헥사히드로 무수 프탈산 및 이들의 에스테르 등을 들 수 있다. 글리콜류로서는, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2-메틸프로판-1,3-디올, 네오펜틸글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 비스페놀A, 수소화비스페놀A, 에틸렌글리콜카보네이트, 2,2-디-(4-히드록시프로폭시디페닐)프로판 등을 들 수 있고, 그 외에 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드 등의 산화물도 마찬가지로 사용할 수 있다.The said unsaturated polyester resin is curable resin obtained by polycondensation of (alpha), (beta)-unsaturated dibasic acid or its acid anhydride, aromatic saturated dibasic acid or its acid anhydride, and glycols, and (alpha), (beta)-unsaturated dibasic acid or its Examples of the acid anhydride include maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, chloromaleic acid, and esters thereof. Examples of the aromatic saturated dibasic acid or its acid anhydride include phthalic acid, phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, nitrophthalic acid, tetrahydro phthalic anhydride, endo methylenetetrahydro phthalic anhydride, halogenated phthalic anhydride and esters thereof. Examples of the aliphatic or alicyclic saturated dibasic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, glutaric acid, hexahydro phthalic anhydride, and esters thereof. Examples of the glycols include ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2-methylpropane-1,3-diol, neopentyl glycol, triethylene glycol, tetra Ethylene glycol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, bisphenol A, hydrogenated bisphenol A, ethylene glycol carbonate, 2,2-di- (4-hydroxypropoxydiphenyl) propane, and the like. In addition, oxides, such as ethylene oxide and a propylene oxide, can also be used similarly.

상기 에폭시(메타)아크릴레이트 수지로서는, 예를 들면 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지의 에폭시기에 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 것을 들 수 있다.As said epoxy (meth) acrylate resin, (meth) acrylic acid is mentioned to the epoxy group of epoxy resins, such as a bisphenol-A epoxy resin, a bisphenol F-type epoxy resin, a phenol novolak-type epoxy resin, and a cresol novolak-type epoxy resin, for example. The thing obtained by making it react is mentioned.

상기 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 수지로서는, 예를 들면 폴리에스테르 폴리올의 수산기에 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 것을 들 수 있다.As said polyester (meth) acrylate resin, what is obtained by making (meth) acrylic acid react with the hydroxyl group of a polyester polyol, for example is mentioned.

상기 아크릴(메타)아크릴레이트 수지로서는, 예를 들면 글리시딜메타크릴레이트, 및 필요에 따라 그 외의 (메타)아크릴레이트 단량체를 중합시켜서, 에폭시기를 갖는 아크릴수지를 얻은 후, 그 에폭시기에 (메타)아크릴산을 반응시켜서 얻어지는 것을 들 수 있다.As said acryl (meth) acrylate resin, for example, glycidyl methacrylate and other (meth) acrylate monomers are polymerized as needed and the acrylic resin which has an epoxy group is obtained, and the epoxy group (meth ) What is obtained by making acrylic acid react is mentioned.

상기 말레이미드기를 갖는 수지로서는, N-히드록시에틸말레이미드와 이소포론디이소시아네이트를 우레탄화해서 얻어지는 2관능 말레이미드우레탄 화합물, 말레이미드아세트산과 폴리테트라메틸렌글리콜을 에스테르화해서 얻어지는 2관능 말레이미드에스테르 화합물, 말레이미드카프로산과 펜타에리트리톨의 테트라에틸렌옥사이드 부가물을 에스테르화해서 얻어지는 4관능 말레이미드에스테르 화합물, 말레이미드아세트산과 다가 알코올 화합물을 에스테르화해서 얻어지는 다관능 말레이미드에스테르 화합물 등을 들 수 있다. 이들 활성 에너지선 경화성 수지(E)는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상 병용할 수도 있다.As resin which has the said maleimide group, the bifunctional maleimide urethane compound obtained by urethanizing N-hydroxyethyl maleimide and isophorone diisocyanate, the bifunctional maleimide ester obtained by esterifying maleimide acetic acid and polytetramethylene glycol The polyfunctional maleimide ester compound obtained by esterifying the compound, the tetraethylene oxide adduct of maleimide caproic acid and pentaerythritol, the polyfunctional maleimide ester compound obtained by esterifying a maleimide acetic acid and a polyhydric alcohol compound, etc. are mentioned. . These active energy ray curable resins (E) may be used independently or may be used together 2 or more types.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서, 상기 다공질 실리카 입자(A)의 배합량은, 후술하는 본 발명의 필름의 안티 블로킹성을 향상할 수 있으므로, 상기에서 설명한 성분(B)∼(E)의 합계량 100질량부에 대하여, 1∼50질량부의 범위가 바람직하며, 1∼20질량부의 범위가 보다 바람직하고, 1∼10질량부의 범위가 더 바람직하다.In the active energy ray-curable composition of the present invention, since the antiblocking property of the film of the present invention to be described later can be improved in the amount of the porous silica particles (A), the components (B) to (E) described above. The range of 1-50 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total amounts, The range of 1-20 mass parts is more preferable, The range of 1-10 mass parts is more preferable.

본 발명의 필름은, 기재를 필름으로 해서, 그 적어도 일면에, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물을 도공하여 형성한 경화 도막을 갖는 것이다. 여기에서, 본 발명의 필름의 제조 방법에 대하여 설명한다. 우선, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물을 기재 필름에 도공한 후, 당해 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화하고, 경화 도막을 형성하기 위해서 활성 에너지선을 조사한다. 이 활성 에너지선으로서는, 자외선, 전자선, α선, β선, γ선 등의 전리 방사선을 들 수 있다. 활성 에너지선으로서 자외선을 조사해서 경화 도막으로 할 경우에는, 상기 활성 에너지선 경화성 조성물에 광중합 개시제(F)를 첨가하여, 경화성을 향상 하는 것이 바람직하다. 또한, 필요하면 광증감제(G)을 더 첨가하여, 경화성을 향상할 수도 있다. 한편, 전자선, α선, β선, γ선 등의 전리 방사선을 사용할 경우에는, 광중합 개시제나 광증감제를 사용하지 않아도 신속하게 경화하므로, 특별히 광중합 개시제나 광증감제를 첨가할 필요는 없다.The film of this invention makes a base material a film, and has a cured coating film formed by coating the active energy ray curable composition of this invention on at least one surface. Here, the manufacturing method of the film of this invention is demonstrated. First, after coating the active energy ray curable composition of this invention to a base film, in order to harden the said active energy ray curable composition and to form a cured coating film, an active energy ray is irradiated. As this active energy ray, ionizing radiation, such as an ultraviolet-ray, an electron beam, (alpha) rays, (beta) rays, (gamma) rays, is mentioned. When irradiating an ultraviolet-ray as an active energy ray and making it a cured coating film, it is preferable to add a photoinitiator (F) to the said active energy ray curable composition, and to improve curability. Moreover, if necessary, a photosensitizer (G) can be further added and curability can be improved. On the other hand, when ionizing radiation such as an electron beam, α-ray, β-ray, γ-ray, etc. is used, it hardens quickly without using a photopolymerization initiator or a photosensitizer, and therefore, it is not particularly necessary to add a photopolymerization initiator or a photosensitizer.

상기 광중합 개시제(F)로서는, 분자 내 개열형(開裂型) 광중합 개시제 및 수소 인발형(引拔型) 광중합 개시제를 들 수 있다. 분자 내 개열형 광중합 개시제로서는, 예를 들면 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-2-모르폴리노(4-티오메틸페닐)프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄온, 2-[2-옥소-2-페닐아세톡시에톡시]에틸에스테르, 2-(2-히드록시에톡시)에틸에스테르 등의 아세토페논계 화합물; 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소프로필에테르 등의 벤조인류; 2,4,6-트리메틸벤조인디페닐포스핀옥사이드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드계 화합물; 벤질, 메틸페닐글리옥시에스테르 등을 들 수 있다.As said photoinitiator (F), an intramolecular cleavage type | mold photoinitiator and a hydrogen extraction type | mold photoinitiator are mentioned. Examples of the intramolecular cleavage type photopolymerization initiators include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, and 1- (4-isopropylphenyl) -2-. Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-2 -Morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 2- [2-oxo-2-phenylacet Acetophenone type compounds, such as a methoxyethoxy] ethyl ester and 2- (2-hydroxyethoxy) ethyl ester; Benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether; Acylphosphine oxide compounds such as 2,4,6-trimethylbenzoindiphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; Benzyl, methylphenylglyoxyester and the like.

한편, 수소 인발형 광중합 개시제로서는, 예를 들면 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸-4-페닐벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 히드록시벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸-디페닐설파이드, 아크릴화벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 2-이소프로필티오잔톤, 2,4-디메틸티오잔톤, 2,4-디에틸티오잔톤, 2,4-디클로로티오잔톤 등의 티오잔톤계 화합물; 미힐러-케톤, 4,4'-디에틸아미노벤조페논 등의 아미노벤조페논계 화합물; 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 9,10-페난트렌퀴논, 캄포르퀴논 등을 들 수 있다.On the other hand, as a hydrogen drawing type | mold photoinitiator, benzophenone, the methyl 4-phenylbenzophenone o-benzoyl benzoate, 4,4'- dichloro benzophenone, hydroxy benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl- Benzophenone type compounds, such as diphenyl sulfide, an acrylate benzophenone, a 3,3 ', 4,4'- tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, and a 3,3'- dimethyl- 4-methoxy benzophenone ; Thioxanthone compounds such as 2-isopropyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone and 2,4-dichloro thioxanthone; Aminobenzophenone compounds such as Michler's ketone and 4,4'-diethylaminobenzophenone; 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, etc. are mentioned.

또한, 상기 광증감제(G)로서는, 예를 들면 지방족 아민, 방향족 아민 등의 아민류, o-톨릴티오요소 등의 요소류, 나트륨디에틸디티오포스페이트, s-벤질이소티우로늄-p-톨루엔설포네이트 등의 황 화합물 등을 들 수 있다.As the photosensitizer (G), for example, amines such as aliphatic amines and aromatic amines, urea such as o-tolylthiourea, sodium diethyldithiophosphate, and s-benzylisothiuronium-p- Sulfur compounds such as toluenesulfonate, and the like.

이들 광중합 개시제(F) 및 광증감제(G)의 사용량은, 활성 에너지선 경화성 조성물 중의 불휘발 성분 100질량부에 대하여, 각각 0.01∼20질량부가 바람직하며, 0.1∼15질량%가 보다 바람직하고, 0.3∼7질량부가 더 바람직하다.As for the usage-amount of these photoinitiators (F) and a photosensitizer (G), 0.01-20 mass parts is respectively preferable with respect to 100 mass parts of non volatile components in an active energy ray curable composition, 0.1-15 mass% is more preferable 0.3-7 mass parts is more preferable.

또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물에는, 용도, 특성 등의 목적으로 따라, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 점도나 굴절율의 조정, 혹은, 도막의 색조의 조정이나 그 외의 도료 성상이나 도막 물성의 조정을 목적으로 각종 배합 재료, 예를 들면 각종 유기 용제, 아크릴 수지, 페놀 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리스티렌 수지, 우레탄 수지, 요소 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지, 폴리아미드 수지, 폴리카보네이트 수지, 석유 수지, 불소 수지 등의 각종 수지, PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 카본, 산화티타늄, 알루미나, 구리, 실리카 미립자 등의 각종 유기 또는 무기 입자, 중합 개시제, 중합 금지제, 대전 방지제, 소포제, 점도 조정제, 내광안정제, 내후안정제, 내열안정제, 산화 방지제, 방청제, 슬립제, 왁스, 광택 조정제, 이형제, 상용화제(相溶化劑), 도전 조정제, 안료, 염료, 분산제, 분산 안정제, 실리콘계, 탄화수소계 계면활성제 등을 배합할 수 있다.In addition, the active energy ray-curable composition of the present invention, depending on the purpose of use, characteristics, and the like, adjusts the viscosity and refractive index, or adjusts the color tone of the coating film and other paint properties within a range that does not impair the effects of the present invention. And various compounding materials, for example, various organic solvents, acrylic resins, phenol resins, polyester resins, polystyrene resins, urethane resins, urea resins, melamine resins, alkyd resins, epoxy resins, and polyamide resins for the purpose of adjusting the coating film properties. , Various kinds of resins such as polycarbonate resin, petroleum resin, fluororesin, PTFE (polytetrafluoroethylene), polyethylene, polypropylene, carbon, titanium oxide, alumina, copper, silica fine particles and other organic or inorganic particles, polymerization initiator , Polymerization inhibitor, antistatic agent, antifoaming agent, viscosity modifier, light stabilizer, weather stabilizer, heat stabilizer, antioxidant, antirust , May also be added slip agents, wax, gloss-adjusting agent, mold release agent, a compatibilizer (相 溶化 劑), conductivity adjusting agent, pigment, dye, dispersant, dispersion stabilizer, silicone-based, and hydrocarbon based surfactants.

상기한 각 배합 성분 중, 유기 용매는, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 용액 점도를 적의(適宜) 조정함에 있어서 유용하며, 특히 박막 코팅을 행하기 위해서는, 막두께를 조정하는 것이 용이해진다. 여기에서 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소; 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, t-부탄올 등의 알코올 화합물; 아세트산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 에스테르 화합물; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥산온 등의 케톤 화합물 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 단독으로 사용할 수도, 2종 이상을 병용할 수도 있다.In each said compounding component, an organic solvent is useful at the time of adjusting the solution viscosity of the active-energy-ray-curable composition of this invention suitably, and especially in order to perform thin film coating, it becomes easy to adjust a film thickness. As an organic solvent which can be used here, For example, aromatic hydrocarbons, such as toluene and xylene; Alcohol compounds such as methanol, ethanol, isopropanol and t-butanol; Ester compounds such as ethyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; Ketone compounds, such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, etc. are mentioned. These solvents may be used alone or in combination of two or more thereof.

여기에서 유기 용매의 사용량은, 용도나 목적으로 하는 막두께나 점도에 따라 다르지만, 경화 성분의 전(全) 질량에 대하여, 질량 기준으로, 0.5∼10배량의 범위인 것이 바람직하다.Although the usage-amount of an organic solvent changes with the film thickness and viscosity made into the use and the objective here, it is preferable that it is the range of 0.5 to 10 times by mass with respect to the total mass of a hardening component.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물은, 상기한 각 성분을 혼합함에 의해 얻어지지만, 얻어진 당해 조성물을 도막 제작 시에 발생하는 이물 혼입에 따른 도막 결함을 방지하는 목적으로, 필요에 따라 여과를 행하는 것이 바람직하다. 이때, 여과에 사용하는 필터의 구경은 수 10㎛ 이하가 바람직하며, 5㎛ 이하가 보다 바람직하고, 1㎛ 이하가 더 바람직하다.Although the active energy ray-curable composition of this invention is obtained by mixing each said component, it is filtration as needed in order to prevent the coating film defect by the foreign material mixing which arises at the time of coating film preparation of the said obtained composition. desirable. At this time, several micrometers or less are preferable, as for the diameter of the filter used for filtration, 5 micrometers or less are more preferable, and 1 micrometer or less is more preferable.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화시키는 활성 에너지선으로서는, 상기한 바와 같이, 자외선, 전자선, α선, β선, γ선 등의 전리 방사선이지만, 구체적인 에너지원 또는 경화 장치로서는, 예를 들면 살균등(殺菌燈), 자외선용 형광등, 카본 아크, 제논 램프, 복사용(複寫用) 고압 수은등, 중압 또는 고압 수은등, 초고압 수은등, 무전극 램프, 메탈할라이드 램프, LED, 자연광 등을 광원으로 하는 자외선, 또는 주사형, 커튼형 전자선 가속기에 의한 전자선 등을 들 수 있다. 장치가 간편하므로, 자외선을 발생시키는 장치를 사용하는 것이 바람직하다.As an active energy ray which hardens the active energy ray curable composition of this invention, as above-mentioned, ionizing radiations, such as an ultraviolet-ray, an electron beam, (alpha) ray, (beta) ray, (gamma) ray, are mentioned as a specific energy source or a hardening apparatus, for example Sterilization lamps, UV fluorescent lamps, carbon arc, xenon lamps, high pressure mercury lamps for radiation, medium or high pressure mercury lamps, ultrahigh pressure mercury lamps, electrodeless lamps, metal halide lamps, LEDs, natural light, etc. Ultraviolet rays, an electron beam by a scanning type, curtain type electron beam accelerator, etc. are mentioned. Since the apparatus is simple, it is preferable to use an apparatus that generates ultraviolet rays.

본 발명의 필름에서 사용하는 상기 기재 필름은, 필름상이어도 시트상이어도 되며, 그 두께는, 20∼500㎛의 범위가 바람직하다. 또한, 상기 기재 필름의 재질로서는, 투명성이 높은 수지가 바람직하며, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리메틸펜텐-1 등의 폴리올레핀계 수지; 셀룰로오스아세테이트(디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등), 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트부티레이트, 셀룰로오스아세테이트프탈레이트, 질산셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 수지; 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 수지; 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴 등의 염화비닐계 수지; 폴리비닐알코올; 에틸렌-아세트산비닐 공중합체; 폴리스티렌; 폴리아미드; 폴리카보네이트; 폴리설폰; 폴리에테르설폰; 폴리에테르에테르케톤; 폴리이미드, 폴리에테르이미드 등의 폴리이미드계 수지; 노르보르넨계 수지(예를 들면, 니혼제온 가부시키가이샤제 「제오노아」), 변성 노르보르넨계 수지(예를 들면, (JSR 가부시키가이샤제 「아톤」), 환상 올레핀 공중합체(예를 들면, 미쓰이가가쿠 가부시키가이샤제 「아펠」) 등을 들 수 있다. 또한, 이들 수지로 이루어지는 기재를 2종 이상 첩합(貼合)시킨 것을 사용해도 상관없다.The base film used by the film of this invention may be a film form, or a sheet form may be sufficient, and the thickness has the preferable range of 20-500 micrometers. Moreover, as a material of the said base film, resin with high transparency is preferable, For example, Polyester-based resin, such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate; Polyolefin resins such as polypropylene, polyethylene, and polymethylpentene-1; Cellulose resins such as cellulose acetate (diacetyl cellulose, triacetyl cellulose and the like), cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate butyrate, cellulose acetate phthalate and cellulose nitrate; Acrylic resins such as polymethyl methacrylate; Vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride; Polyvinyl alcohol; Ethylene-vinyl acetate copolymers; polystyrene; Polyamide; Polycarbonate; Polysulfone; Polyethersulfone; Polyether ether ketone; Polyimide resins such as polyimide and polyetherimide; Norbornene-based resin (e.g., `` Zenooa '' manufactured by Nihon Xeon Co., Ltd.), modified norbornene-based resin (e.g. (`` Aton '', manufactured by JSR Corporation), cyclic olefin copolymer (e.g. And "Apel" manufactured by Mitsui Chemical Co., Ltd.), etc. Moreover, you may use what bonded two or more types of base materials which consist of these resins.

본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물의 기재에의 도공 방법으로서는, 예를 들면 그라비어 코터, 롤 코터, 콤마 코터, 나이프 코터, 에어나이프 코터, 커튼 코터, 키스 코터, 샤워 코터, 휠러 코터, 스핀 코터, 디핑, 스크린 인쇄, 스프레이, 어플리케이터, 바 코터 등을 사용한 도공 방법을 들 수 있다.As a coating method to the base material of the active energy ray curable composition of this invention, for example, a gravure coater, a roll coater, a comma coater, a knife coater, an air knife coater, a curtain coater, a kiss coater, a shower coater, a wheel coater, a spin coater, Coating methods using dipping, screen printing, spraying, an applicator, a bar coater, etc. are mentioned.

또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물 중에 유기 용매를 함유할 경우에는, 활성 에너지선 경화성 조성물을 기재 필름에의 도공한 후, 활성 에너지선을 조사하기 전에, 유기 용매를 휘발시키고, 또한 상기 다공질 실리카(A)를 도막 표면에 편석(偏析)시키기 위하여, 가열 또는 실온 건조하는 것이 바람직하다. 가열 건조의 조건으로서는, 유기 용제가 휘발하는 조건이면, 특별히 한정되지 않지만, 통상은, 온도 50∼100℃의 범위에서, 시간은 1∼10분의 범위에서 가열 건조하는 것이 바람직하다.When the active energy ray curable composition of the present invention contains an organic solvent, after coating the active energy ray curable composition to the base film, the organic solvent is volatilized and irradiated with the porous material before irradiating the active energy ray. In order to segregate silica (A) on the coating film surface, it is preferable to heat or dry at room temperature. Although it will not specifically limit, if it is a condition which volatilizes an organic solvent as conditions of heat drying, Usually, it is preferable to heat-dry in time in 1 to 10 minutes in the range of temperature of 50-100 degreeC.

상기한 바와 같이 조작함으로써, 본 발명의 필름이 얻어진다.By operating as mentioned above, the film of this invention is obtained.

[실시예][Example]

이하에 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 또, 합성한 다공질 실리카 입자의 특성값에 대해서는, 하기의 방법에 의해 측정했다.An Example and a comparative example are given to the following, and this invention is demonstrated in more detail. In addition, the characteristic value of the synthesized porous silica particle was measured by the following method.

[입자 형상] [Particle shape]

입자 형상은, 전계 방사형 주사 전자현미경(FE-SEM)(니혼덴시사제 「JSM6700」)을 사용해서, 5만배로 관찰함으로써 확인했다.The particle shape was confirmed by observing at 50,000 times using the field emission scanning electron microscope (FE-SEM) ("JSM6700" by Nippon Denshi Corporation).

[체적 평균경 및 변동 계수] [Volume averaging and coefficient of variation]

체적 평균경은, 레이저 도플러법을 사용한 입도 분포계(오츠카덴시 가부시키가이샤제 「제타 전위·입경 측정 시스템 ELSZ-2」)를 사용해서 측정했다. 또한, 변동 계수는, 동(同) 장치로 측정한 체적 평균경 및 표준 편차로부터, 하기 식(1)에 의해 구했다. 또한, 하기 식(1) 중의 표준 편차는, 하기 식(2)으로 구했다. 또한, 하기 식(2) 중의 d84%는 체적 입도 분포에 있어서의 84% 경을 나타내고, d16%는 체적 입도 분포에 있어서의 16% 경을 나타낸다.The volume average diameter was measured using a particle size distribution meter ("Zeta potential and particle size measuring system ELSZ-2" by Otsuka Denshi Co., Ltd.) using the laser Doppler method. In addition, the variation coefficient was calculated | required by following formula (1) from the volume average diameter and standard deviation measured with the said apparatus. In addition, the standard deviation in following formula (1) was calculated | required by following formula (2). In addition, d84% in following formula (2) shows 84% diameter in volume particle size distribution, and d16% shows 16% diameter in volume particle size distribution.

[수 2][Number 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

[세공경 분포의 피크] [Peak of pore size distribution]

세공경 분포의 피크는, 세공 분포 측정 장치(가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 「ASAP2020」)를 사용하여 측정해서 얻어진 세공 분포의 피크값으로 했다.The peak of pore diameter distribution was made into the peak value of the pore distribution obtained by measuring using the pore distribution measuring apparatus (Shimadzu Corporation "ASAP2020").

[비표면적] [Specific surface area]

비표면적은, 세공 분포 측정 장치(가부시키가이샤 시마즈세이사쿠쇼 「ASAP2020」)를 사용해서 BET법에 의해 측정했다.The specific surface area was measured by the BET method using a pore distribution measuring device (ASAP2020, Shimadzu Corporation).

(합성예 1 : 다공질 실리카 입자(1)의 합성)Synthesis Example 1: Synthesis of Porous Silica Particles (1)

온도계, 교반 날개를 구비한 500㎖의 4구 플라스크에, 메탄올 213.2g, 순수 61.3g 및 28질량% 암모니아수 27.4g을 투입하고, 교반에 의해 균일하게 혼합하고(Ⅱ액), 내온을 20℃로 유지했다. 또한, 다른 용기에서 테트라메톡시실란 34.3g, 메탄올 45.1g 및 라우릴아민 9.3g을 균일하게 혼합했다(I액). 플라스크 내를 20℃로 유지하면서, I액을 120분에 걸쳐서 Ⅱ액 중에 주입했다. I액의 주입 종료 후, 20℃에서 60분간 반응을 계속했다. 반응 종료 후, 반응액을 10,000rpm으로 10분간 원심분리한 후, 상징액(上澄液)을 폐기하고 침전물을 취출했다.Into a 500 ml four-necked flask equipped with a thermometer and a stirring blade, 213.2 g of methanol, 61.3 g of pure water, and 27.4 g of 28 mass% ammonia water were added and mixed uniformly by stirring (Liquid II). Maintained. Further, 34.3 g of tetramethoxysilane, 45.1 g of methanol, and 9.3 g of laurylamine were uniformly mixed in another container (I liquid). I liquid was injected into II liquid over 120 minutes, maintaining the inside of flask at 20 degreeC. The reaction was continued for 60 minutes at 20 degreeC after completion | finish of injection of I liquid. After completion of the reaction, the reaction solution was centrifuged at 10,000 rpm for 10 minutes, the supernatant was discarded, and the precipitate was taken out.

상기에서 얻어진 침전물에 메탄올 200g을 가해서 혼합하여 현탁액을 얻었다. 이 현탁액을 10,000rpm으로 10분간 원심분리하고, 상징을 폐기해서 침전물을 메탄올 세정했다. 이 메탄올 세정을 또한 2회 더 반복했다. 이렇게 해서 얻은 침전물을 120℃에서 6시간 건조시켜서 백색 분말을 얻었다. 얻어진 백색 분말을 전기로(電氣爐)에 넣고, 공기 분위기 하, 25℃로부터 2도/분의 승온 속도로 600℃까지 승온하고, 600℃에서 3시간 소성했다. 소성한 분말을 냉각한 후, 유발로 분쇄함으로써, 백색의 다공질 실리카 입자 12g을 얻었다. 얻어진 다공질 실리카 입자를 전계 방사형 주사 전자현미경(FE-SEM)에 의해 관찰한 바, 입자 형상은 구상이었다. 또한, 얻어진 다공질 실리카 입자(1)의 세공경 분포의 피크는 1.8㎚이며, BET법에 의한 비표면적은 216㎡/g이었다.To the precipitate obtained above was added 200 g of methanol and mixed to obtain a suspension. The suspension was centrifuged at 10,000 rpm for 10 minutes, the symbol was discarded and the precipitate was washed with methanol. This methanol wash was also repeated two more times. The precipitate thus obtained was dried at 120 ° C. for 6 hours to obtain a white powder. The obtained white powder was put into an electric furnace, and it heated up to 600 degreeC at the temperature increase rate of 2 degree / min from 25 degreeC in air atmosphere, and baked at 600 degreeC for 3 hours. The calcined powder was cooled and then ground by mortar to obtain 12 g of white porous silica particles. The obtained porous silica particles were observed with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM), whereby the particle shape was spherical. In addition, the peak of the pore diameter distribution of the obtained porous silica particle 1 was 1.8 nm, and the specific surface area by BET method was 216 m <2> / g.

상기에서 얻어진 다공질 실리카 입자 5g을 이소프로판올 44.5g과 혼합하고, 초음파 호모지나이저(가부시키가이샤 니혼세이키세이사쿠쇼제 「US-600T」)를 사용해서, 출력 300W로 5분간 분산 후, 분산액에 아세트산 0.5g 및 헥사메틸디실라잔 0.5g을 가하고, 습식 제트 밀(가부시키가이샤 츠네미츠제 「나노제트바루 JN-10」)을 사용해서, 처리 압력 130㎫에서 30분간 분산했다. 얻어진 분산액을, 온도계, 교반 날개를 구비한 200㎖의 4구 플라스크에 투입하고, 60분간 가열 환류했다. 반응액을 10,000rpm으로 10분간 원심분리한 후, 상징액을 폐기하고, 침전물을 얻었다. 침전물에 이소프로판올 50g을 가하고, 초음파 호모지나이저(가부시키가이샤 니혼세이키세이사쿠쇼제 「US-600T」)를 사용해서, 출력 300W로 5분간 분산한 후, 분산액을 No. 5C 여과지와 기리야마 깔때기(유겐가이샤 기리야마세이사쿠쇼제)를 사용해서 여과하여, 고형분 7.9질량%의 다공질 실리카 입자(1)의 분산액을 얻었다.5 g of the porous silica particles obtained above were mixed with 44.5 g of isopropanol and dispersed for 5 minutes at an output 300 W using an ultrasonic homogenizer ("US-600T" manufactured by Nippon Seiki Seisakusho Co., Ltd.). 0.5 g and 0.5 g of hexamethyldisilazane were added and dispersed for 30 minutes at a processing pressure of 130 MPa using a wet jet mill ("Nanojetbar JN-10" manufactured by Tsunemitsu Co., Ltd.). The obtained dispersion was poured into a 200 ml four-necked flask equipped with a thermometer and a stirring blade, and heated to reflux for 60 minutes. After centrifuging the reaction solution at 10,000 rpm for 10 minutes, the supernatant was discarded to obtain a precipitate. 50 g of isopropanol was added to the precipitate and dispersed for 5 minutes at an output 300 W using an ultrasonic homogenizer ("US-600T" manufactured by Nippon Seiki Seisakusho Co., Ltd.). Filtration was carried out using a 5C filter paper and a Kiriyama funnel (manufactured by Yugen Chemical Co., Ltd.), to obtain a dispersion of porous silica particles (1) having a solid content of 7.9% by mass.

얻어진 다공질 실리카 입자(1)의 분산액 중의 다공질 실리카 입자(1)의 체적 평균경은 139㎚이며, 변동 계수는 22%이었다.The volume average diameter of the porous silica particles 1 in the dispersion of the obtained porous silica particles 1 was 139 nm, and the variation coefficient was 22%.

(실시예 1)(Example 1)

합성예 1에서 얻어진 다공질 실리카 입자(1)의 분산액 227.8질량부(다공질 실리카 입자(1) 18질량부 함유), 다관능 아크릴레이트의 혼합물(디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(이하, 「DPPA」로 약기함) 55질량% 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(이하, 「DPHA」로 약기함) 45질량%의 혼합물; 이하, 「다관능 아크릴레이트(1)」로 약기함) 364질량부, 광중합 개시제(BASF 재팬 가부시키가이샤제 「이르가큐어 184」, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤; 이하, 「Irg. 184」로 약기함) 18질량부 및 이소프로판올 390.2질량부를 균일하게 혼합해서, 활성 에너지선 경화성 조성물(1)을 얻었다.227.8 parts by mass of the dispersion of the porous silica particles (1) obtained in Synthesis Example 1 (containing 18 parts by mass of the porous silica particles (1)), and a mixture of polyfunctional acrylates (dipentaerythritol pentaacrylate (hereinafter referred to as "DPPA") 3 mass parts of 55 mass% and dipentaerythritol hexaacrylate (it abbreviates as "DPHA" hereafter) 45 mass%; hereafter abbreviated as "polyfunctional acrylate (1)) 364 mass parts, photopolymerization 18 parts by mass of an initiator ("irgacure 184", 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone manufactured by BASF Japan; abbreviated as "Irg.184" below) and 390.2 parts by mass of isopropanol are uniformly mixed, and an active energy The precurable composition (1) was obtained.

(실시예 2)(Example 2)

실시예 1에서 사용한 다관능 아크릴레이트(1) 대신에, 다관능 아크릴레이트의 혼합물(DPPA 35질량% 및 DPHA 65질량%의 혼합물; 이하, 「다관능 아크릴레이트(2)」로 약기함) 364질량부를 사용한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(2)을 얻었다.A mixture of polyfunctional acrylates (a mixture of 35 mass% of DPPA and 65 mass% of DPHA; hereafter abbreviated as "multifunctional acrylate (2)") instead of the polyfunctional acrylate (1) used in Example 1 Except using a mass part, it carried out similarly to Example 1 and obtained the active energy ray curable composition (2).

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1에서 사용한 다관능 아크릴레이트(1) 대신에, 다관능 아크릴레이트의 혼합물(펜타에리트리톨트리아크릴레이트(이하, 「PE3A 」로 약기함) 70질량% 및 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트(이하, 「PE4A 」로 약기함) 30질량%의 혼합물; 이하, 「다관능 아크릴레이트(3)」로 약기함) 364질량부를 사용한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(3)을 얻었다.Instead of the polyfunctional acrylate (1) used in Example 1, a mixture of polyfunctional acrylate (pentaerythritol triacrylate (hereinafter abbreviated as "PE3A") 70% by mass) and pentaerythritol tetraacrylate (hereinafter referred to as , Abbreviated as "PE4A") 30 mass%; hereafter abbreviated as "polyfunctional acrylate (3)", it carried out similarly to Example 1 except using 364 mass parts, and an active energy ray curable composition (3) Got.

(실시예 4)(Example 4)

실시예 1에서 사용한 다관능 아크릴레이트(1) 대신에, 다관능 아크릴레이트의 혼합물(PE3A 60질량% 및 PE4A 40질량%의 혼합물; 이하, 「다관능 아크릴레이트(4)」로 약기함) 364질량부를 사용한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(4)을 얻었다.Instead of the polyfunctional acrylate (1) used in Example 1, a mixture of polyfunctional acrylate (60% by mass of PE3A and 40% by mass of PE4A; hereafter abbreviated as "polyfunctional acrylate (4)") 364 Except using a mass part, it carried out similarly to Example 1 and obtained the active energy ray curable composition (4).

(실시예 5)(Example 5)

실시예 1에서 사용한 다관능 아크릴레이트(1) 대신에, 다관능 아크릴레이트의 혼합물(PE3A 30질량% 및 PE4A 70질량%의 혼합물; 이하, 「다관능 아크릴레이트(5)」로 약기함) 364질량부를 사용한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(5)을 얻었다.A mixture of polyfunctional acrylates (mixture of 30 mass% PE3A and 70 mass% PE4A; hereafter abbreviated as "multifunctional acrylate (5)") instead of the polyfunctional acrylate (1) used in Example 1 Except using a mass part, it carried out similarly to Example 1 and obtained the active energy ray curable composition (5).

(비교예 1)(Comparative Example 1)

실시예 1에서 사용한 다공질 실리카 입자(1) 대신에, 중실(中實) 실리카(니혼쇼쿠바이 가부시키가이샤제 「시호스타 KE-P10」, 입자경 100∼200㎚, 표면 미처리) 18질량부를 사용하고, 이소프로판올의 배합량을 390.2질량부에서 600질량부로 변경한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(R1)을 얻었다.Instead of the porous silica particles 1 used in Example 1, 18 parts by mass of solid silica ("Shistar KE-P10" manufactured by Nihon Shokubai Co., Ltd., particle diameter 100 to 200 nm, surface untreated) were used. And except having changed the compounding quantity of isopropanol into 600 mass parts from 390.2 mass parts, it carried out similarly to Example 1, and obtained active energy ray curable composition (R1).

(비교예 2)(Comparative Example 2)

실시예 1에서 사용한 다공질 실리카 입자(1) 대신에, 중실 실리카(니혼쇼쿠바이 가부시키가이샤제 「시호스타 KE-P100」, 입자경 900∼1,300㎚, 표면 미처리) 18질량부를 사용하고, 이소프로판올의 배합량을 390.2질량부에서 600질량부로 변경한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(R2)을 얻었다.Instead of the porous silica particles 1 used in Example 1, 18 parts by mass of solid silica ("Shistar KE-P100" manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd., particle size 900 to 1,300 nm, surface untreated) was used, and the compounding amount of isopropanol was used. In the same manner as in Example 1, except that the amount was changed from 390.2 parts by mass to 600 parts by mass, an active energy ray curable composition (R2) was obtained.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 1에서 사용한 다관능 아크릴레이트(1) 대신에, 에틸렌옥사이드 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(트리메틸올프로판에 에틸렌옥사이드를 3몰 부가한 트리아크릴레이트; 이하, 「EO-TMPTA」로 약기함) 364질량부를 사용한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(R3)을 얻었다.Ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate (triacrylate obtained by adding 3 mol of ethylene oxide to trimethylolpropane; instead of polyfunctional acrylate (1) used in Example 1; hereinafter abbreviated as "EO-TMPTA") ) Except having used 364 mass parts), it carried out similarly to Example 1 and obtained active energy ray curable composition (R3).

(비교예 4)(Comparative Example 4)

실시예 1에서 사용한 다관능 아크릴레이트(1) 대신에, 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트(이하, 「DTMPTA」로 약기함) 364질량부를 사용한 이외는 실시예 1과 마찬가지로 행하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(R4)을 얻었다.Instead of the polyfunctional acrylate (1) used in Example 1, it carried out similarly to Example 1 except having used 364 mass parts of ditrimethylol propane tetraacrylates (it abbreviates as "DTMPTA" hereafter), and an active energy ray curable composition (R4) was obtained.

상기한 실시예 1∼5 및 비교예 1∼4에서 얻어진 활성 에너지선 경화성 조성물의 조성을 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the compositions of the active energy ray curable compositions obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 described above.

[표 1][Table 1]

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Figure pat00003

(실시예 6)(Example 6)

[평가용 필름의 제작] [Production of Evaluation Film]

상기한 실시예 1에서 얻어진 활성 에너지선 경화성 조성물(1)을, 두께 100㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 기재 상에, 와이어바 코터 #24를 사용해서 도공하고, 25℃에서 10초간 건조한 후, 80℃의 건조기에서 1분간 건조했다. 그 후에 자외선 경화 장치(질소 분위기 하, 퓨전 램프(H 밸브, 자외선 조사량 300J/㎡)를 사용해서 경화시켜, 평가용 필름을 제작했다.The active energy ray-curable composition (1) obtained in Example 1 was coated on a polyethylene terephthalate (PET) film substrate having a thickness of 100 μm using a wire bar coater # 24, and dried at 25 ° C. for 10 seconds. It dried for 1 minute in 80 degreeC dryer. Then, it hardened | cured using the ultraviolet curing device (in nitrogen atmosphere, a fusion lamp (H valve, ultraviolet irradiation amount 300J / m <2>), and the film for evaluation was produced).

[안티 블로킹성의 평가] [Evaluation of Anti-Blocking]

상기에서 얻어진 평가용 필름의 경화 도막 표면끼리, 또는 평가용 필름의 경화 도막 표면과 기재면(경화 도막의 반대면)을 접촉시켜, 안티 블로킹성을 하기의 5단계의 기준에 따라 평가했다.The cured coating film surfaces of the film for evaluation obtained above or the cured coating film surface of the film for evaluation and a base material surface (the opposite surface of a cured coating film) were contacted, and anti blocking property was evaluated according to the following 5 steps of criteria.

5 : 걸리지 않는다.5: Do not take

4 : 강하게 문지르면 약간 걸린다.4: If you rub strongly, it takes a little bit.

3 : 약하게 문지르면 약간 걸린다.3: If you rub lightly, it takes a little bit.

2 : 걸린다.2: It takes

1 : 붙어버린다.1: stick.

[헤이즈값의 측정 및 투명성의 평가] [Measurement of Haze Values and Evaluation of Transparency]

상기에서 얻어진 평가용 필름에 대하여, 헤이즈 미터(일본덴쇼쿠고교 가부시키가이샤제 「NDH2000」)로 측정하고, 얻어진 헤이즈값으로부터, 하기의 5단계의 기준에 따라 투명성을 평가했다.About the film for evaluation obtained above, it measured with the haze meter ("NDH2000" by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.), and evaluated the transparency according to the following five steps of criteria from the obtained haze value.

5 : 헤이즈값이 0.5 미만이다.5: Haze value is less than 0.5.

4 : 헤이즈값이 0.5 이상 1.0 미만이다.4: Haze value is 0.5 or more and less than 1.0.

3 : 헤이즈값이 1.0 이상 5.0 미만이다.3: Haze value is 1.0 or more and less than 5.0.

2 : 헤이즈값이 5.0 이상 10.0 미만이다.2: Haze value is 5.0 or more and less than 10.0.

1 : 헤이즈값이 10.0 이상이다.1: Haze value is 10.0 or more.

(실시예 7∼10 및 비교예 5∼8)(Examples 7-10 and Comparative Examples 5-8)

상기한 실시예 2∼5 및 비교예 1∼4에서 얻어진 활성 에너지선 경화성 조성물(2)∼(5) 및 (R1)∼(R4)을 사용하여, 실시예 6과 마찬가지로 조작해서, 평가용 필름을 제작 후, 안티 블로킹성 및 투명성의 평가를 행했다.Using the active energy ray curable compositions (2) to (5) and (R1) to (R4) obtained in the above Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 4, the same procedure as in Example 6 was carried out, and the film for evaluation After preparation, evaluation of anti blocking property and transparency was performed.

상기한 안티 블로킹성 및 투명성의 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Table 2 shows the evaluation results of the above-described anti blocking properties and transparency.

[표 2][Table 2]

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Figure pat00004

상기한 결과로부터, 실시예 1∼5의 본 발명의 활성 에너지선 경화성 조성물(1)∼(5)의 경화 도막을 갖는 필름은, 높은 안티 블로킹성을 가지며, 높은 투명도 가짐을 알 수 있었다.From the above result, it turned out that the film which has a cured coating film of the active energy ray curable compositions (1)-(5) of this invention of Examples 1-5 has high anti blocking property and has high transparency.

한편, 비교예 1은, 입자경이 작고, 실리카 입자 표면에 세공을 갖지 않는 중실 실리카 입자를 사용한 예인데, 투명성은 높지만, 도막면이 걸려, 안티 블로킹성은 불충분했다.On the other hand, Comparative Example 1 is an example in which solid silica particles having a small particle diameter and not having pores on the surface of the silica particles are used. The transparency is high, but the coating film surface is caught, and the anti blocking property is insufficient.

비교예 2는, 입자경이 크고, 실리카 입자 표면에 세공을 갖지 않는 중실 실리카 입자를 사용한 예인데, 안티 블로킹성은 양호했지만, 헤이즈값이 7.5%이며 투명성은 불충분했다.Comparative Example 2 is an example in which solid silica particles having a large particle diameter and no pores on the surface of silica particles were used. The antiblocking property was good, but the haze value was 7.5% and the transparency was insufficient.

비교예 3 및 4는, 수산기를 갖는 다관능 아크릴레이트를 사용하지 않고, 수산기를 갖지 않는 다관능 아크릴레이트만을 사용한 예인데, 투명성은 높지만, 도막면이 걸려, 안티 블로킹성은 불충분했다.The comparative examples 3 and 4 used the polyfunctional acrylate which does not have a hydroxyl group, without using the polyfunctional acrylate which has a hydroxyl group. Although transparency was high, the coating film surface was caught and anti blocking property was inadequate.

Claims (6)

테트라알콕시실란, 알킬아민 및 알코올을 함유하는 혼합액(I액)을, 암모니아, 알코올 및 물을 함유하는 혼합액(Ⅱ액)에 가하고, 테트라알콕시실란의 가수분해 및 축합 반응에 의해 실리카 입자를 얻은 후, 당해 실리카 입자로부터 알킬아민을 제거함으로써 얻어지는 표면에 세공(細孔)을 갖는 다공질 실리카 입자(A)와, 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트(B)를 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화성 조성물.After adding the mixed liquid (liquid I) containing tetraalkoxysilane, alkylamine, and alcohol to the mixed liquid (liquid II) containing ammonia, alcohol, and water, and obtaining a silica particle by the hydrolysis and condensation reaction of tetraalkoxysilane, The active energy characterized by containing the porous silica particle (A) which has a pore on the surface obtained by removing an alkylamine from the said silica particle, and the polyfunctional (meth) acrylate (B) which has a hydroxyl group. Precurable compositions. 제1항에 있어서,
상기 다공질 실리카 입자(A)가, 헥사메틸디실라잔으로 표면 수식(修飾)된 것인 활성 에너지선 경화성 조성물.
The method of claim 1,
The active energy ray curable composition in which the said porous silica particle (A) was surface-modified by hexamethyldisilazane.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 다관능 (메타)아크릴레이트(B)가, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트 및/또는 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트인 활성 에너지선 경화성 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
The active energy ray curable composition in which the said polyfunctional (meth) acrylate (B) is pentaerythritol tri (meth) acrylate and / or dipentaerythritol penta (meth) acrylate.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
또한 수산기를 갖지 않는 다관능 (메타)아크릴레이트(C)로서, 상기 수산기를 갖는 다관능 (메타)아크릴레이트(B)와 수산기를 갖지 않는 다관능 (메타)아크릴레이트(C)의 질량비[(B)/(C)]가, 10/90∼90/10의 범위인 활성 에너지선 경화성 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Moreover, as a polyfunctional (meth) acrylate (C) which does not have a hydroxyl group, the mass ratio of the polyfunctional (meth) acrylate (B) which has the said hydroxyl group, and the polyfunctional (meth) acrylate (C) which does not have a hydroxyl group [( B) / (C)] is in the range of 10/90 to 90/10.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화성 조성물을 경화해서 얻어지는 것을 특징으로 하는 경화물.Hardened | cured material obtained by hardening | curing the active-energy-ray-curable composition in any one of Claims 1-4. 기재 필름의 적어도 일면에, 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화 도막을 갖는 것을 특징으로 하는 필름.At least one surface of a base film has a cured coating film of the active energy ray curable composition of any one of Claims 1-4, The film characterized by the above-mentioned.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018100929A1 (en) * 2016-12-01 2018-06-07 Dic株式会社 Actinic-ray-curable composition and film obtained using same
JP2021177204A (en) * 2020-05-07 2021-11-11 サカタインクス株式会社 Pigment dispersion composition for black matrix, and pigment dispersion resist composition for black matrix

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01230421A (en) * 1988-03-11 1989-09-13 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd Porous spherical silica fine particle
JP3048276B2 (en) * 1992-04-23 2000-06-05 松下電工株式会社 Airgel production method
JP3761189B2 (en) * 1993-11-04 2006-03-29 触媒化成工業株式会社 Composite oxide sol, method for producing the same, and substrate
JP4642165B2 (en) * 1997-08-07 2011-03-02 日揮触媒化成株式会社 Porous silica-based coating solution, coated substrate and short fibrous silica
JP2004099361A (en) * 2002-09-09 2004-04-02 Mitsui Chemicals Inc Method of manufacturing water-resistant porous silica and its application
JP2006306008A (en) * 2005-03-31 2006-11-09 Jsr Corp Antistatic layered product
JP2006348171A (en) * 2005-06-16 2006-12-28 Toppan Printing Co Ltd Curable resin composition for low refractive index coating, antireflection film
JP2008024808A (en) * 2006-07-20 2008-02-07 Jsr Corp Curable composition and cured product thereof
US20100272996A1 (en) * 2007-07-13 2010-10-28 Justin Holmes method for synthesising microparticles
JP4961369B2 (en) * 2008-02-27 2012-06-27 富士フイルム株式会社 Optical film, polarizing plate, image display device, and method of manufacturing optical film
KR20110084957A (en) * 2008-10-17 2011-07-26 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 Film having low refractive index and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for film having low refractive index, substrate having microparticle-laminated thin film, and method for prducing the same, and optical member
JP5302089B2 (en) * 2008-12-26 2013-10-02 日東電工株式会社 Method for producing inorganic porous body
JP2010180375A (en) * 2009-02-09 2010-08-19 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Photocurable coating composition, film forming method, and coated article
JP2010195604A (en) * 2009-02-23 2010-09-09 Toyota Tsusho Corp Method for producing surface-reformed porous silica, surface-reformed porous silica, slurry composition for addition to resin, filler for resin, and resin composition
JP2011039363A (en) * 2009-08-14 2011-02-24 Sumitomo Chemical Co Ltd Polarizing plate and liquid crystal display device
JP5358355B2 (en) * 2009-08-28 2013-12-04 豊田通商株式会社 Resin composition and method for producing metal resin laminate
JP5152444B2 (en) * 2011-01-21 2013-02-27 Dic株式会社 Method for producing porous silica particles, resin composition for antireflection film, article having antireflection film, and antireflection film

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