KR20140002473A - 글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판의 제조 장치 - Google Patents

글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판의 제조 장치 Download PDF

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KR20140002473A
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Abstract

글래스 기판을 제조할 때, 글래스 기판의 제조 과정에서 이용하는 청징조로부터 휘발한 백금이나 백금 합금으로 만들어지는 이물의 혼입을 억제한다. 글래스 기판을 제조할 때, 글래스의 원료를 용해하여 용융 글래스를 생성하고, 백금 혹은 백금 합금으로 구성되고 가열된 장척 형상의 관을 포함하는 청징조 중에 있어서, 기상 공간이 형성된 상태에서 상기 용융 글래스를 통과시키는 동안에, 상기 용융 글래스를 가열함으로써 상기 용융 글래스로부터 상기 기상 공간으로 기포를 방출시키는 탈포 처리를 포함하는 청징을 행한다. 이때, 상기 청징조의 관은, 상기 기상 공간에 포함되는 백금 휘발물을 응고시키는 온도 이하로 되는 개소의 적어도 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않도록 형성되어 있다.

Description

글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판의 제조 장치{METHOD AND APPARATUS FOR MAKING GLASS SHEET}
본 발명은, 글래스 원료를 용융하여 생성시킨 용융 글래스를 성형함으로써 글래스 기판을 제조하는 글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판의 제조 장치에 관한 것이다.
글래스 기판은, 일반적으로, 글래스 원료로부터 용융 글래스를 생성시킨 후, 용융 글래스를 글래스 기판으로 성형하는 공정을 거쳐 제조된다. 상기한 공정 중에, 용융 글래스가 내포하는 미소한 기포를 제거하는 공정[이하, 청징(淸澄)이라고도 함]이 포함된다. 청징은, 관을 이룬 청징조의 본체를 가열하면서, 이 관 형상의 청징조 본체(이하, 청징관이라 함)에 As2O3 등의 청징제를 배합시킨 용융 글래스를 통과시키고, 청징제의 산화 환원 반응에 의해 용융 글래스 중의 기포가 제거됨으로써 행해진다. 보다 구체적으로는, 조용해(粗溶解)한 용융 글래스의 온도를 더욱 높여 청징제를 기능시켜 기포를 부상 탈포(脫泡)시킨 후, 온도를 낮춤으로써, 전부 탈포되지 않고 남은 비교적 작은 기포는 용융 글래스에 흡수시키도록 하고 있다. 즉, 청징은, 기포를 부상 탈포시키는 처리(이하, 탈포 처리라고 함) 및 작은 기포를 용융 글래스에 흡수시키는 처리(이하, 흡수 처리라고 함)를 포함한다. 탈포 처리에서는, 청징관에 용융 글래스를 통과시킬 때에, 청징관의 내부 상방의 표면과 용융 글래스의 액면과의 사이에 일정 넓이의 탈포용의 기상 공간을 갖는다.
청징제는 종래 As2O3이 일반적이었지만, 최근의 환경 부하의 관점에서, 독성이 낮은 SnO2이나 Fe2O3 등이 이용되도록 되어 있다.
그런데, 고온의 용융 글래스로부터 품위가 높은 글래스 기판을 양산하기 위해서는, 글래스 기판의 결함의 요인으로 되는 이물 등이, 글래스 기판을 제조하는 어느 장치로부터도 용융 글래스로 혼입되지 않도록 고려하는 것이 요망된다. 이 때문에, 글래스 기판의 제조 과정에 있어서 용융 글래스에 접하는 부재의 내벽은, 그 부재에 접하는 용융 글래스의 온도, 요구되는 글래스 기판의 품질 등에 따라, 적절한 재료에 의해 구성할 필요가 있다. 예를 들면, 상술한 청징관을 구성하는 관의 재료는, 통상 백금 또는 백금 합금 등의 백금족 금속이 이용되고 있는 것이 알려져 있다(특허문헌 1). 백금 또는 백금 합금 등은, 비싸지만 융점이 높고, 용융 글래스에 대한 내식성도 우수하므로, 청징관에 적절히 이용된다.
탈포 처리 시에 청징관을 가열하는 온도는, 성형해야 하는 글래스 기판의 조성에 따라 상이하지만, 1000∼1650℃ 정도이다.
일반적으로, 청징조에는, 탈포시킨 기포를 외부로 방출하기 위한 가스 배기구가 형성되어 있다. 이 때문에, 가스 배기구로부터, 청징조의 내부에 외기가 도입되는 경우가 있다. 가스 배기구로부터 산소를 포함한 외기가, 청징조 내에 도입된 경우, 청징관 중 기상 공간에 접하는 내벽 부분의 백금 또는 백금 합금은 휘발한다.
또한, 청징관 내부에서는, 용융 글래스로부터 기포 중의 가스, 예를 들면 산소가 상술한 기상 공간으로 방출된다. 이 산소의 성분에 의해서도, 청징관 중 기상 공간에 접하는 내벽 부분의 백금 또는 백금 합금도 휘발한다. 즉, 청징조 내부의 기상 공간은, 산소에 의해 휘발된 백금 또는 백금 합금의 휘발물을 포함하고 있다.
일본 특허 출원 공표 제2006-522001호 공보
그런데, 글래스 기판의 제조에 있어서, 이용하는 청징제에 따라 청징 작용이 효과적으로 발휘되는 온도가 상이한 것이 알려져 있다. 예를 들면, As2O3(아비산)은, 기포를 제거하는 능력이 우수하고, 청징 온도는 1500℃ 정도, 혹은 1500℃보다 약간 높은 범위로 충분하다. 이 때문에, 종래는 청징제로서 As2O3을 이용하는 것이 일반적이었다. 그러나, 아비산은 환경 부하가 높기 때문에, 이미 설명한 바와 같이 최근에는 환경 부하가 높지 않은(독성이 낮은) 청징제로서 SnO2(산화주석) 등이 적절히 이용된다. 그러나, 산화주석은 아비산과 비교하여 탈포 공정 시에 기포를 방출하는 힘이 약하기 때문에, 글래스의 점성을 낮게 하여 탈포 효과를 높일 필요가 있다. 따라서 용융 글래스의 온도를 높게 하여 청징을 행할 필요가 있다. 예를 들면, 산화주석을 청징제로서 사용한 경우에는, 1600℃ 이상으로 승온시키는 것이 바람직하다. 이 때문에, 상술한 기상 공간에 접하는 청징관의 내부 상방의 표면에 있어서, 벽면으로부터 백금이나 백금 합금이 종래보다도 휘발하기 쉽다고 하는 문제점이 있었다.
이 백금이나 백금 합금 등의 휘발물이 응고하여 얻어지는 결정(백금 이물 혹은 백금 합금 이물)의 일부가 미립자로서 용융 글래스 중에 혼입되어, 글래스 기판의 품질의 저하를 초래할 우려가 있었다.
따라서, 본 발명은, 이상의 점을 감안하여, 글래스 기판의 제조 과정에서 이용하는 청징조로부터 휘발한 백금이나 백금 합금으로 만들어지는 이물의 혼입을 억제할 수 있는 글래스 기판의 제조 방법 및 글래스 기판의 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 양태는, 글래스 기판의 제조 방법이다. 해당 제조 방법은, 글래스의 원료를 용해하여 용융 글래스를 생성하는 용해 공정과, 백금 혹은 백금 합금으로 구성되고 가열된 장척 형상의 관을 포함하는 청징조 중에 있어서, 기상 공간이 형성된 상태에서 상기 용융 글래스를 통과시키는 동안에, 상기 용융 글래스를 가열함으로써 상기 용융 글래스로부터 상기 기상 공간으로 기포를 방출시키는 탈포 처리를 포함하는 청징 공정을 포함한다.
상기 청징조의 상기 관은, 상기 기상 공간에 포함되는 백금 휘발물을 응고시키는 온도 이하로 되는 개소의 적어도 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않도록 형성되어 있다.
상기 관은, 상기 기상 공간에 포함되는 백금 휘발물을 응고시키는 온도 이하로 되는 개소의 적어도 일부에서는 상기 기상 공간을 갖지 않도록 형성되어 있으므로, 상기 일부 또는 그 근방의 상기 관의 내벽면에, 백금 혹은 백금 합금의 휘발물이 응고하여 얻어지는 결정이 생성되기 어려워, 청징 공정 중의 용융 글래스 중에 이물로서 혼입되는 경우는 적어진다. 따라서, 글래스 기판을 제조할 때, 백금이나 백금 합금으로 만들어지는 이물이 글래스 기판에 혼입되는 것을 억제할 수 있다.
상기 용융 글래스의 가열은, 상기 관에 설치된 한 쌍의 전극판으로부터 상기 관으로 전류를 흐르게 하여 통전 가열함으로써 행해진다. 상기 관의 온도가 국소적으로 저하되는 상기 전극판의 위치에 있어서, 기상 공간을 갖지 않도록 형성되어 있다.
상기 전극판은 상기 관의 통전 가열을 위해 이용되지만, 판 형상이며 방열에 의해 냉각되기 쉬우므로 상기 전극판이 설치됨으로써 상기 관의 벽의 온도가 국소적으로 저하된다. 따라서, 상기 전극판 위치에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않도록, 상기 관은 형성되는 것이 바람직하다.
상기 용융 글래스는, 청징제로서 SnO2을 포함할 수 있다. 청징제로서 SnO2을 포함하는 용융 글래스는, 독성이 적으므로 환경 부하 저감의 점에서 적절하지만, 청징 기능이 낮다. 이 때문에, 청징 공정에서는, 종래에 비해 용융 글래스를 보다 고온으로 되게 하는 것이 행해진다. 이 경우, 청징조의 상기 관도 가열에 의해 종래보다도 고온으로 되므로, 백금 혹은 백금 합금의 휘발, 또한 휘발물의 응고에 의해 상기 관의 내벽면으로의 결정(백금 이물, 백금 합금 이물)의 생성이 많아진다. 상술한 양태의 상기 관의 벽면의 온도가 상기 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 개소의 적어도 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않는 부분이 형성되도록, 상기 관은 형성되어 있으므로, 상기 일부 또는 그 근방의 상기 관의 내벽면에 백금 혹은 백금 합금의 결정이 생성되기 어려워, 청징 공정 중의 용융 글래스 중에 이물로서 혼입되는 경우는 적어진다. 따라서, 글래스 기판을 제조할 때, 백금이나 백금 합금으로 만들어지는 이물이 글래스 기판에 혼입되는 것을 억제할 수 있다.
상기 용융 글래스의 102.5poise에 있어서의 온도는, 1500℃ 이상으로 할 수 있다. 102.5poise에 있어서의 온도가 1500℃ 이상인 글래스는, 점성이 높은 글래스이므로, 상기 관 내의 용융 글래스의 온도는 종래에 비해 보다 한층 높게 설정된다. 그러나, 이 경우에 있어서도, 상기 관의 벽의 온도가 상기 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 개소의 적어도 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않도록 상기 관은 형성되어 있으므로, 상기 관의 벽의 온도가 상기 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 상기 일부 또는 그 근방의 상기 관의 내벽면에, 백금 혹은 백금 합금의 휘발물이 응고하여 얻어지는 결정이 생성되기 어려워, 청징 공정 중의 용융 글래스 중에 이물로서 혼입되는 경우는 적어진다. 따라서, 글래스 기판을 제조할 때, 백금이나 백금 합금으로 만들어지는 이물이 글래스 기판에 혼입되는 것을 억제할 수 있다.
상기 관의 상기 기상 공간을 갖지 않는 개소는, 상기 관의 내벽면 전체 둘레가 용융 글래스와 접하고 있다. 이 때문에, 상기 기상 공간에 포함되는 백금 휘발물이 응고하기 위한 상기 관의 내벽면이 존재하지 않는다. 이 때문에, 청징 공정 중의 용융 글래스 중에 이물로서 혼입되는 경우는 적어진다.
상기 관은, 보다 구체적으로는, 상기 관의 관 단면 전체가 상기 용융 글래스의 유로이며, 상기 기상 공간을 갖지 않는 제1 부분과, 상기 기상 공간을 갖고, 상기 용융 글래스의 액면을 갖도록, 상기 청징조의 관로 단면의 일부가, 상기 용융 글래스의 유로로 되어 있는 제2 부분을 구비한다. 이 때문에, 상술한 바와 같이 상기 관의 내벽면에, 백금 혹은 백금 합금의 휘발물이 응고하여 얻어지는 결정이 생성되기 어려워, 청징 공정 중의 용융 글래스 중에 이물로서 혼입되는 경우는 적어진다.
상기 관의 관 단면은, 예를 들면 상기 관의 상기 기상 공간을 갖지 않는 개소로부터 단계적으로 혹은 연속적으로 확대되어 있다.
또한, 상기 청징조의 상기 관은, 상기 관의 온도가 1600℃ 이하로 되는 개소의 적어도 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않도록 형성되는 것이 바람직하다.
상기 글래스 기판으로서, 무알카리 글래스를 이용한 무알카리 글래스판, 혹은 알칼리 성분을 미량 함유시키는 알칼리 미량 함유 글래스를 이용한 알칼리 미량 함유 글래스판이 적절하다. 예를 들면 플랫 패널 디스플레이용의 글래스 기판에서는, 그 표면에 TFT(Thin Film Transistor)가 사용된다. 이 경우, TFT의 영향을 억제하는 관점에서, 글래스 기판에, 무알카리 글래스, 혹은 알칼리 미량 함유 글래스가 적절히 이용된다. 그러나, 무알카리 글래스, 혹은 알칼리 미량 함유 글래스는, 고온 점성이 높다. 이 때문에, 용해조 또한 청징조에 있어서의 용융 글래스의 온도는 종래에 비해 고온으로 한다. 이와 같이 청징조에 있어서 용융 글래스를 고온으로 하는 경우에도, 상기 관의 벽면의 온도가 상기 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 개소의 적어도 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않는 부분이 형성된다. 이 때문에, 상기 일부 또는 그 근방의 상기 관의 내벽면에 백금 혹은 백금 합금의 결정이 생성되기 어려워, 청징 공정 중의 용융 글래스 중에 이물로서 혼입되는 경우는 적어진다. 따라서, 글래스 기판을 제조할 때, 백금이나 백금 합금으로 만들어지는 이물이 글래스 기판에 혼입되는 것을 억제할 수 있다.
상기 한 쌍의 전극판은, 예를 들면 상기 관의 입구 및 출구의 양단부에 설치되어 있다.
본 발명의 다른 일 양태는, 용융 글래스를 생성하는 용해조를 갖는 글래스 기판의 제조 장치이다. 해당 제조 장치는, 투입된 글래스 원료를 용해하여 용융 글래스를 만드는 용해 장치와, 백금 혹은 백금 합금으로 구성된 관을 포함하고, 상기 관 중에 있어서, 기상 공간이 형성된 상태에서 상기 용융 글래스를 통과시키는 동안에, 상기 관에 설치된 한 쌍의 전극판 사이로 전류를 흐르게 하여 상기 관을 통전 가열한 후 상기 기상 공간으로 기포를 방출시키는 탈포 처리를 적어도 행하는 청징조와, 상기 청징조를 통과한 상기 용융 글래스를 성형하여 글래스 시트로 하는 성형 장치와, 상기 글래스 시트를 서냉하는 서냉 장치와, 서냉한 상기 글래스 시트를 절단하여 글래스 기판으로 하는 절단 장치를 포함한다.
상기 관에는, 상기 관의 길이 방향에 있어서, 상기 관의 벽의 온도가 상기 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 개소가 적어도 일부 존재하고, 상기 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않는 부분이 형성되어 있다.
상기 관의 벽의 온도가 상기 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 상기 관의 길이 방향의 부분의 적어도 일부에서는, 상기 기상 공간을 갖지 않으므로, 상기 부분의 상기 일부 또는 그 근방의 상기 관의 내벽면에, 백금 혹은 백금 합금의 휘발물이 응고하여 얻어지는 결정이 생성되기 어려워, 청징 공정 중의 용융 글래스 중에 이물로서 혼입되는 경우는 적어진다. 따라서, 글래스 기판의 제조 장치는, 백금이나 백금 합금으로 만들어지는 이물이 글래스 기판에 혼입되는 것을 억제할 수 있다.
상기 용융 글래스의 가열은, 상기 관에 설치된 한 쌍의 전극판으로부터 상기 관으로 전류를 흐르게 하여 통전 가열함으로써 행해진다. 이때, 상기 관의 벽의 온도가 상기 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 개소는, 예를 들면 상기 전극판이 설치됨으로써 상기 관의 벽의 온도가 국소적으로 저하되는, 상기 관의 길이 방향의 전극판 위치이다.
상술한 양태의 글래스 기판의 제조 방법 및 제조 장치에 따르면, 글래스 기판의 제조 과정에서 이용하는 청징조의 관으로부터 휘발한 백금 혹은 백금 합금으로 만들어지는 금속 이물의 혼입을 억제할 수 있다.
도 1은 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법의 공정의 일례를 나타내는 도면.
도 2는 본 실시 형태에 있어서의 용해 공정∼절단 공정을 행하는 장치의 일례를 모식적으로 도시하는 도면.
도 3은 본 실시 형태의 청징조를 설명하는 사시도.
도 4의 (a), (b)는, 본 실시 형태의 청징관에 있어서의 단면을 도시하는 도면.
이하, 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법 및 제조 장치에 대해 설명한다. 도 1은, 본 발명의 글래스 기판의 제조 방법의 공정의 일례를 나타내는 도면이다.
글래스 기판의 제조 방법은, 용해 공정(ST1)과, 청징 공정(ST2)과, 균질화 공정(ST3)과, 공급 공정(ST4)과, 성형 공정(ST5)과, 서냉 공정(ST6)과, 절단 공정(ST7)을 주로 갖는다. 그 외에, 연삭 공정, 연마 공정, 세정 공정, 검사 공정, 곤포 공정 등을 갖고, 곤포 공정에서 적층된 복수의 글래스 기판은, 납입처의 업자에게 반송된다.
용해 공정(ST1)은 용해조에서 행해진다. 용해 공정에서는, 용해조에 축적된 용융 글래스의 액면에 글래스 원료를 투입함으로써 용융 글래스를 만든다. 또한, 용해조의 내벽 중, 평면에서 보아 사각형의 용해조의 길이 방향에 있어서 대향하는 내벽의 한쪽의 바닥부에 형성된 유출구로부터 후공정을 향해 용융 글래스를 흐르게 한다.
여기서, 용해조 중의 용융 글래스는 용해조에 있어서 전극을 이용하여 통전 가열됨으로써 용해조 중에서 원하는 온도를 갖는 용융 글래스로 된다. 즉, 용해조의 용융 글래스는, 용융 글래스 자체에 전극으로부터 전기가 흘러 스스로 발열함으로써 승온한다. 이 통전에 의한 용융 글래스의 가열 이외에, 버너에 의한 화염을 보조적으로 부여하여 글래스 원료를 용해할 수도 있다. 또한, 글래스 원료에는 청징제가 첨가된다. 청징제에 대해서는, 환경 부하 저감의 점에서, SnO2(산화주석)이 적절히 이용된다.
청징 공정(ST2)은, 청징조의, 백금 또는 백금 합금제의 청징관의 내부에서 행해진다. 청징 공정에서는, 청징조의 관 내의 용융 글래스가 승온된다. 이 과정에서, 청징제는, 환원 반응에 의해 산소를 방출하고, 후에 환원제로서 작용하는 물질로 된다. 용융 글래스 중에 포함되는 O2, CO2 혹은 SO2을 포함한 기포는, 청징제의 환원 반응에 의해 생긴 O2를 흡수하여 성장하고, 용융 글래스의 액면으로 부상하여 파포(破泡)하여 소멸한다. 기포에 포함된 가스는, 청징조에 형성된 기상 공간을 통하여 외기로 방출된다.
그 후, 청징 공정에서는, 용융 글래스의 온도를 저하시킨다. 이 과정에서, 청징제의 환원 반응에 의해 얻어진 환원제가 산화 반응을 한다. 이에 의해, 용융 글래스에 잔존하는 기포 중의 O2 등의 가스 성분이 용융 글래스 중에 재흡수되어, 기포가 소멸한다.
균질화 공정(ST3)에서는, 청징조로부터 연장되는 배관을 통하여 공급된 교반조 내의 용융 글래스를, 스터러를 이용하여 교반함으로써, 글래스 성분의 균질화를 행한다. 이에 의해, 맥리 등의 원인인 글래스의 조성 얼룩을 저감시킬 수 있다. 또한, 교반조는 1개 설치해도, 2개 설치해도 된다.
공급 공정(ST4)에서는, 교반조로부터 연장되는 배관을 통해서 용융 글래스가 성형 장치에 공급된다.
성형 장치에서는, 성형 공정(ST5) 및 서냉 공정(ST6)이 행해진다.
성형 공정(ST5)에서는, 용융 글래스를 시트 글래스로 성형하고, 시트 글래스의 흐름을 만든다. 성형은, 오버플로우 다운드로우법 혹은 플로트법을 이용할 수 있다. 후술하는 본 실시 형태에서는, 오버플로우 다운드로우법이 이용된다.
서냉 공정(ST6)에서는, 성형되어 흐르는 시트 글래스가 원하는 두께로 되고, 내부 변형이 생기지 않도록, 또한 휨이 생기지 않도록 냉각된다.
절단 공정(ST7)에서는, 절단 장치에 있어서, 성형 장치로부터 공급된 시트 글래스를 소정의 길이로 절단함으로써, 판 형상의 글래스판을 얻는다. 절단된 글래스판은 더욱, 소정의 사이즈로 절단되어, 목표 사이즈의 글래스 기판이 만들어진다. 이 후, 글래스 기판의 단면의 연삭, 연마가 행해지고, 글래스 기판의 세정이 행해지고, 또한 기포나 맥리 등의 이상 결함의 유무가 검사된 후, 검사 합격품의 글래스판이 최종 제품으로서 곤포된다.
도 2는, 본 실시 형태에 있어서의 용해 공정(ST1)∼절단 공정(ST7)을 행하는 장치의 일례를 모식적으로 도시하는 도면이다. 해당 장치는, 도 2에 도시한 바와 같이, 주로 용해 장치(100)와, 성형 장치(200)와, 절단 장치(300)를 갖는다. 용해 장치(100)는, 용해조(101)와, 청징조(102)와, 교반조(103)와, 글래스 공급관(104, 105, 106)을 갖는다.
도 2에 도시하는 예의 용해조(용해 장치)(101)는, 글래스 원료의 투입이 스크류 피더(101d)를 이용하여 행해진다. 본 실시 형태에서는, 글래스 원료의 투입을, 스크류 피더(101d)를 이용하여 행하지만, 이 외의 원료 투입 방식, 예를 들면 버킷을 이용한 글래스 원료의 투입을 행해도 되고, 글래스 원료의 투입 방식은 제한되지 않는다. 청징조(102)는, 백금 혹은 백금 합금제의 청징관(102a)(도 3 참조)을 포함한다. 청징관(102a) 중에 있어서, 용융 글래스(MG)가 액면을 갖도록 기상 공간이 형성된 상태에서 용융 글래스(MG)를 통과시키는 동안에, 청징관(102a)에 설치된 한 쌍의 전극판 사이로 전류를 흐르게 하여 청징관(102a)을 통전 가열하여 용융 글래스(MG)를 기상 공간으로 기포를 방출시키는 탈포 처리를 적어도 행한다. 교반조(103)는, 스터러(103a)에 의해 용융 글래스(MG)를 교반하여 균질화한다.
성형 장치(200)는, 성형체(210)를 포함하고, 청징조(102), 교반조(103)를 통과한 용융 글래스(MG)를, 성형체(210)를 이용한 오버플로우 다운드로우법에 의해, 성형하여 글래스 시트(SG)로 한다.
서냉 장치(220)는, 판 두께 편차, 변형 및 휨이 글래스 시트(SG)에 생기지 않도록, 글래스 시트(SG)를 서냉한다.
절단 장치(300)는, 서냉한 글래스 시트(SG)를 절단하여 글래스 기판으로 한다.
(청징 공정)
도 3은, 청징 공정을 행하는 장치 구성을 주로 도시하는 도면이다. 도 4의 (a), (b)는, 본 실시 형태에서 이용하는 청징관에 있어서의 단면과 용융 글래스의 관계를 도시하는 도면이다.
청징 공정은, 탈포 처리와 흡수 처리를 포함한다. 이하의 설명에서는, 청징제로서 SnO2을 이용한 예로 설명한다. SnO2은, 종래의 As2O3에 비해 청징 기능은 낮지만, 환경 부하가 낮은 점에서 청징제로서 적절히 이용할 수 있다. 그러나, SnO2은, 청징 기능이 As2O3에 비해 낮으므로, SnO2을 이용한 경우, 용융 글래스(MG)의 청징 공정 시의 용융 글래스(MG)의 온도를 종래보다 높게 해야만 한다. 이 경우, 예를 들면 청징 공정에 있어서의 최고 온도는 1700℃ 정도, 바람직하게는 1710℃ 이하, 보다 바람직하게는 1720℃ 이하로 할 수 있다.
용해조(101)에서 용해된 용융 글래스(MG)는, 글래스 공급관(104)(도 2 참조)에 의해, 청징조(102)의 청징관(102a)에 도입된다.
청징조(102)는, 도 3에 도시한 바와 같이, 백금 혹은 백금 합금제의 장척 형상의 청징관(102a)과, 청징관(102a)의 꼭대기부에 설치된 통기관(102b)과, 전극판(102c, 102d)을 구비한다.
청징관(102a)의 주위에는, 도시되지 않지만, 내화물 벽돌로 덮여 있어도 된다. 청징관(102a)의 대략 중앙부에는, 통기관(102b)이 설치되어 있다.
청징관(102a)의 양측의 단부에는, 전극판(102c, 102d)이, 청징관(102a)의 외주를 둘러싸도록 플랜지 형상으로 설치되어 있다. 전극판(102c, 102d)은, 교류 전원(102g)과 접속되고, 소정의 전압이 인가된다. 전극판(102c, 102d)은, 청징관(102a)으로 전류를 흐르게 하여 청징관(102a)을 통전 가열함으로써, 청징관(102a)을 흐르는 용융 글래스(MG)의 온도를 예를 들면 1630℃ 이상으로 승온한다. 이 경우, 예를 들면 청징 공정에 있어서의 최고 온도는 1700℃ 정도, 바람직하게는 1710℃ 이하, 보다 바람직하게는 1720℃ 이하로 할 수 있다.
한편, 용융 글래스(MG)는, 청징관(102a) 내에 있어서, 용융 글래스(MG)가 액면을 갖도록 흐른다. 이 승온에 의해 점성이 예를 들면 120∼400poise로 된 용융 글래스(MG)는, 용융 글래스(MG) 내에서 청징제의 작용에 의해 팽창한 기포를 부상시키고, 용융 글래스(MG)의 액면에서 파포시켜 기상 공간으로 기포에 포함되는 가스를 방출한다. 즉, 탈포 처리가 행해진다. 따라서, 청징관(102a)은, 그 내부에, 용융 글래스(MG)가 액면을 갖도록 기상 공간을 갖는다.
청징관(102a)의 상방의 기상 공간에서 파포하여 방출된 가스 성분은, 통기관(102b)으로부터, 청징관(102a) 밖으로 방출된다. 청징관(102a)에 있어서, 부상 속도가 빠른 직경이 큰 기포가 제거된다.
청징관(102a) 내를 흐르는 용융 글래스(MG)의 온도는 예를 들면 1630℃ 이상으로 유지된 후, 청징관(102a)의 후반 부분 이후 또는 후속하는 글래스 공급관(105) 이후에 있어서 서서히(단계적으로 혹은 연속적으로) 강온되어, 기포의 흡수 처리가 행해진다. 흡수 처리에서는, 상술한 바와 같이 기포가 용융 글래스(MG)의 강온에 의해 용융 글래스(MG) 내에 흡수되어 소멸한다.
도 3에서는, 한 쌍의 전극판(102c, 102d)을 설치한 예가 도시되어 있지만, 예를 들면 청징관(102a)의 후반 부분에 있어서 강온되는 경우, 전극판(102c, 102d) 이외에 1쌍 이상의 전극판을 설치해도 된다.
또한, 청징관(102a)에는, 용융 글래스(MG)의 액면에서 파포하여 방출되는 가스를 외기로 배출하기 위한 기상 공간이 형성되고, 청징관(102a)에 통기관(102b)이 설치되어 있다. 따라서, 외기와 통한 기상 공간은 산소를 포함한다.
한편, 청징관(102a)은, 통전 가열에 의해 고온(예를 들면, 1700℃ 정도)으로 가열되므로, 백금 혹은 백금 합금으로 이루어지는 청징관(102a)의 내벽면으로부터 백금 혹은 백금 합금이 휘발하기 쉽다. 특히, 기상 공간은, 산소를 포함하므로, 한층더 기상 공간 중에 백금 혹은 백금 합금이 휘발한다. 이와 같이, 기상 공간은, 청징관(102a)의 내벽면으로부터 기화한 백금 휘발물을 포함하고 있다.
여기서 청징관(102a)의, 전극판(102c, 102d)이 설치되는 부분에서는, 그 이외의 부분에 비해 청징관(102a)의 단면적이 좁게 되어 있다. 전극판(102c, 102d)이 설치되는 부분에서는, 도 4의 (a)에 도시한 바와 같이, 청징조(102)의 청징관(102a)의 관로 단면 전체가, 용융 글래스(MG)의 유로(사선 영역)로 되어 있다. 즉, 청징관(102a)의 내부에서는, 전극판(102c, 102d)이 설치되는 위치(전극판 위치)에 있어서 기상 공간을 갖지 않는다. 이 부분으로부터 이격됨에 따라서, 관로 단면이 서서히 확대되어, 도 4의 (b)에 도시한 바와 같이, 용융 글래스(MG)가 액면을 갖도록, 청징관(102a)의 관로 단면의 일부가, 용융 글래스(MG)의 유로(사선 영역)로 되어 있다. 즉, 청징조(102)의 청징관(102a)에서는, 청징조(102)의 청징관(102a)의 길이 방향의 전극판 위치에 있어서, 청징관(102a)의 관로 단면 전체가, 용융 글래스(MG)의 유로로 되어, 기상 공간을 갖지 않는 부분(제1 부분)과, 기상 공간을 갖고, 용융 글래스(MG)의 액면을 갖도록, 청징관(102a)의 관로 단면의 일부가, 용융 글래스(MG)의 유로로 되어 있는 부분(제2 부분)을 구비한다. 또한, 전극판(102c, 102d)이 플랜지 형상으로 설치됨으로써, 전극판(102c, 102d)이 외기와 접하는 면적이 커, 냉각 기능을 가지므로, 전극판 위치에 있어서, 청징관(102a)의 벽의 온도는, 국소적으로 저하된다. 또한, 전극판(102c, 102d)의 온도가 과도하게 높아지지 않도록, 외부로부터 냉각하는 경우는, 더욱 온도가 저하된다. 즉, 전극판(102c, 102d)이 설치되는 부분에서는 청징관(102a)의 벽의 온도는 국소적으로 저하된다. 구체적으로는, 청징관(102a)에는, 청징관(102a)의 길이 방향에 있어서, 기상 공간을 갖지 않는 부분이 있고, 이 부분에 있어서의 청징관(102a)의 벽의 온도는, 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되어 있다.
이 때문에, 이 위치에 있어서 기상 공간이 있으면, 기상 공간 중의 백금 휘발물이 상기 부분의 주위에서 냉각되어, 이 위치에 있어서의 내벽면에 응고하기 쉬워져, 백금 혹은 백금 합금의 결정이 생성되기 쉽다. 이 백금 혹은 백금 합금의 결정의 일부가, 미립자로 되어 이탈하고, 용융 글래스(MG) 내로 낙하하여 용융 글래스(MG)에 용이하게 혼입된다. 이와 같은 용융 글래스(MG)가 후공정으로 흐르면, 금속 이물이 혼입된 결함을 갖는 글래스 기판이 제작되므로 바람직하지 못하다.
본 실시 형태에서는, 청징관(102a)의 벽의 온도가, 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 길이 방향의 부분에 있어서, 구체적으로는, 전극판(102c, 102d)이 설치되는 부분(전극 위치의 내벽면)에 있어서, 기상 공간이 없도록, 청징관(102a)의 관로 단면이 그 이외의 부분에 비해 작게 되어 있다.
기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도는, 미리 실험 등에 의해 구해진다. 이 온도는, 기상 공간의 산소 분압 등의 기상 공간의 조건에 영향을 받는 백금 휘발물의 휘발량에 의해, 변동한다.
또한, 본 실시 형태의 청징관(102a)의 관 단면은, 청징관(102a)의 기상 공간을 갖지 않는 제1 부분으로부터 연속적으로 확대되고 있지만, 관 단면은, 단계적으로 확대되어도 된다.
또한, 백금 휘발물이 응고하는 온도는, 청징관(102a) 내의 기상 공간의 분위기 중의 백금 혹은 백금 합금의 농도에 의해 변화되지만, 예를 들면 1600℃ 이하이며, 청징관(102a)의 온도가 1600℃ 이하, 특히 1500℃ 이하로 되는 영역에 있어서 백금 휘발물의 응고는 생기기 쉽다. 따라서, 청징관(102a)은, 청징관(102a)의 온도가 1600℃ 이하로 되는 개소의 적어도 일부에 있어서, 기상 공간을 갖지 않도록 형성되는 것이 바람직하다.
청징관(102a)은, 본 실시 형태에서는, 관로 단면적이 전극 위치로부터 이격됨에 따라 서서히 확대되는 구성으로 되어 있지만, 본 실시 형태에서는 이것으로 한정되지 않는다. 전극 위치로부터 소정 거리 이격된 부분으로부터 급격하게 관로 단면적을 확대한 구성을 이용해도 된다.
또한, 본 실시 형태의 청징관(102a)에서는, 청징관(102a)의 길이 방향에 있어서, 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 위치, 즉 전극판 위치가 2개소 존재하고, 이 2개소의 어느 것에 있어서도, 기상 공간을 갖지 않는 부분이 형성되어 있다. 그러나, 청징관(102a)의 길이 방향에 있어서, 청징관(102a)에, 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 부분이 복수 개소 존재할 때, 이 부분 중 적어도 1개소에 있어서, 기상 공간을 갖지 않는 부분이 형성되어도 된다.
이와 같이, 청징조(102)의 청징관(102a)은, 전극판(102c, 102d)이 설치됨으로써 청징관(102a)의 벽의 온도가 국소적으로 저하되는 전극판 위치에 있어서, 기상 공간을 갖지 않고, 청징관(102a)의 관로 단면 전체가, 용융 글래스(MG)의 유로로 되어 있으므로, 청징관(102a)으로부터 휘발한 백금이나 백금 합금이 전극판 위치에 있어서 결정화되는 일은 없고, 따라서, 용융 글래스(MG)에 백금 이물이나 백금 합금 이물 등의 금속 이물이 혼입되는 일은 적어, 제작되는 글래스 기판에의 금속 이물의 혼입을 억제할 수 있다.
본 실시 형태의 효과는, 하기 (A), (B)의 경우와 같이, 청징관 내의 용융 글래스의 온도를 종래보다 고온으로 하는 경우에, 보다 유효하게 발휘될 수 있다.
(A) 종래로부터 청징제로서 이용되어 온 As2O3 등에 비해 SnO2은 독성이 적으므로, 환경 부하 저감의 점에서, 청징제로서 SnO2을 이용하는 것이 바람직하다. 그러나, 청징제로서 이용되어 온 As2O3 등에 비해 청징 기능이 뒤떨어지는 SnO2의 청징 기능을 효과적으로 기능시키기 위해, 청징관 내의 용융 글래스의 온도는 종래보다도 고온으로 한다.
(B) 고온 점성이 높은 글래스에서는, 청징 공정에 있어서의 탈포 처리에서, 청징관 내의 용융 글래스의 온도를 종래보다도 고온으로 한다. 고온 점성이 높은 글래스라 함은, 예를 들면 용융 글래스(MG)의 102.5poise에 있어서의 온도는, 1500℃ 이상인 경우를 들 수 있다. 또한, 무알카리 글래스 및 알칼리 미량 함유 글래스는, 고온 점성이 높은 글래스이다.
(글래스 조성)
글래스 기판의 글래스 조성은 예를 들면 이하의 것을 예로 들 수 있다.
이하 나타내는 조성의 함유율 표시는, 질량％이다.
SiO2:50∼70％,
Al2O3:0∼25％,
B2O3:1∼15％,
MgO:0∼10％,
CaO:0∼20％,
SrO:0∼20％,
BaO:0∼10％,
RO:5∼30％(단, R은 Mg, Ca, Sr 및 Ba으로부터 선택되는 적어도 1종이며, 글래스 기판이 함유하는 것임)를 함유하는 무알카리 글래스인 것이, 바람직하다.
또한, 본 실시 형태에서는 무알카리 글래스로 하였지만, 글래스 기판은 알칼리 금속을 미량 포함한 알칼리 미량 함유 글래스이어도 된다. 알칼리 금속을 함유시키는 경우, R'2O의 합계가 0.10％ 이상 0.5％ 이하, 바람직하게는 0.20％ 이상 0.5％ 이하(단, R'는 Li, Na 및 K으로부터 선택되는 적어도 1종이며, 글래스 기판이 함유하는 것임)를 포함하는 것이 바람직하다. 물론, R'2O의 합계가 0.10％보다 낮아도 된다. 또한, As2O3, Sb2O3 및 PbO을 실질적으로 포함하지 않는 것이 바람직하다.
또한, 본 실시 형태의 글래스 기판의 제조 방법을 적용하는 경우에는, 글래스 조성물이, 상기 각 성분 외에, 질량％ 표시로, SnO2:0.01∼1％(바람직하게는 0.01∼0.5％), Fe2O3:0∼0.2％(바람직하게는 0.01∼0.08％)를 함유하고, 환경 부하를 고려하여, As2O3, Sb2O3 및 PbO을 실질적으로 함유하지 않도록 글래스 원료를 조제해도 된다.
이상, 본 발명의 글래스 기판의 제조 방법 및 제조 장치에 대해 상세하게 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되지 않고, 본 발명의 주지를 일탈하지 않는 범위에 있어서, 다양한 개량이나 변경을 해도 되는 것은 물론이다.
100 : 용해 장치
101 : 용해조
101a : 액조
101b : 상부 공간
101c : 액면
101d : 스크류 피더
102 : 청징조
102a : 청징관
102b : 통기관
102c, 102d : 전극판
102g : 교류 전원
103 : 교반조
103a : 스터러
104, 105, 106 : 글래스 공급관
200 : 성형 장치
210 : 성형체
220 : 서냉 장치
300 : 절단 장치

Claims (10)

  1. 글래스의 원료를 용해하여 용융 글래스를 생성하는 용해 공정과,
    백금 혹은 백금 합금으로 구성되고 가열된 장척(長尺) 형상의 관을 포함하는 청징조 중에 있어서, 기상 공간이 형성된 상태에서 상기 용융 글래스를 통과시키는 동안에, 상기 용융 글래스를 가열함으로써 상기 용융 글래스로부터 상기 기상 공간으로 기포를 방출시키는 탈포 처리를 포함하는 청징 공정을 포함하고,
    상기 청징조의 관은, 상기 기상 공간에 포함되는 백금 휘발물을 응고시키는 온도 이하로 되는 개소(箇所)의 적어도 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 글래스 기판의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 용융 글래스의 가열은, 상기 관에 설치된 한 쌍의 전극판으로부터 상기 관으로 전류를 흐르게 하여 통전 가열함으로써 행해지고,
    상기 관의 온도가 국소적으로 저하되는 상기 전극판의 위치에 있어서, 기상 공간을 갖지 않도록 형성되어 있는 글래스 기판의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 용융 글래스는, 청징제로서 SnO2을 포함하는 글래스 기판의 제조 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 용융 글래스의 102.5poise에 있어서의 온도는, 1500℃ 이상인 글래스 기판의 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 관의 상기 기상 공간을 갖지 않는 개소는, 상기 관의 내벽면 전체 둘레가 용융 글래스와 접하고 있는 글래스 기판의 제조 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 관은, 상기 관의 관 단면 전체가 상기 용융 글래스의 유로(流路)이며, 상기 기상 공간을 갖지 않는 제1 부분과, 상기 기상 공간을 갖고, 상기 용융 글래스의 액면을 갖도록, 상기 청징조의 관로(管路) 단면의 일부가, 상기 용융 글래스의 유로로 되어 있는 제2 부분을 구비하는 글래스 기판의 제조 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 관의 관 단면은, 상기 관의 상기 기상 공간을 갖지 않는 개소로부터 단계적으로 혹은 연속적으로 확대되어 있는 글래스 기판의 제조 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 한 쌍의 전극판은, 상기 관의 입구 및 출구의 양단부에 설치되어 있는 글래스 기판의 제조 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 글래스 기판은, 무알카리 글래스 또는 알칼리 미량 함유 글래스 기판인 글래스 기판의 제조 방법.
  10. 용융 글래스를 생성하는 용해조를 갖는 글래스 기판의 제조 장치로서,
    투입된 글래스 원료를 용해하여 용융 글래스를 만드는 용해 장치와,
    백금 혹은 백금 합금으로 구성된 관을 포함하고, 상기 관 중에 있어서, 기상 공간이 형성된 상태에서 상기 용융 글래스를 통과시키는 동안에, 상기 관에 설치된 한 쌍의 전극판 사이로 전류를 흐르게 하여 상기 관을 통전 가열한 후 상기 기상 공간으로 기포를 방출시키는 탈포 처리를 적어도 행하는 청징조와,
    상기 청징조를 통과한 상기 용융 글래스를 성형하여 글래스 시트로 하는 성형 장치와,
    상기 글래스 시트를 서냉(徐冷)하는 서냉 장치와,
    서냉한 상기 글래스 시트를 절단하여 글래스 기판으로 하는 절단 장치를 포함하고,
    상기 관에는, 상기 관의 길이 방향에 있어서, 상기 관의 벽의 온도가 상기 기상 공간 내에 포함되는 백금 휘발물이 응고하는 온도 이하로 되는 개소의 적어도 일부에 있어서, 상기 기상 공간을 갖지 않는 부분이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 글래스 기판의 제조 장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016048956A1 (en) * 2014-09-24 2016-03-31 Corning Incorporated Volatile filtration systems for fusion draw machines

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101716996B1 (ko) * 2013-02-01 2017-03-15 아반스트레이트 가부시키가이샤 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판 제조 장치
JP6247958B2 (ja) * 2014-02-26 2017-12-13 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス板の製造方法、及び、ガラス板の製造装置
JP5976863B2 (ja) * 2014-03-31 2016-08-24 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法およびガラス基板の製造装置
CN204356216U (zh) * 2014-03-31 2015-05-27 安瀚视特控股株式会社 玻璃基板制造装置
JP6088056B2 (ja) * 2014-06-30 2017-03-01 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法、ガラス基板、及びガラス基板積層体
JP6494969B2 (ja) * 2014-09-30 2019-04-03 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法、およびガラス基板製造装置
JP6792821B2 (ja) * 2016-12-14 2020-12-02 日本電気硝子株式会社 ガラス供給管の支持構造、板ガラス製造装置、板ガラス製造方法、及びガラス供給管の予熱方法
JP6768216B2 (ja) * 2016-12-16 2020-10-14 日本電気硝子株式会社 板ガラス製造方法、清澄容器及び板ガラス製造装置
KR102417853B1 (ko) * 2017-12-08 2022-07-06 코닝 인코포레이티드 유리 제조 장치 및 유리 제조 방법
JP7092021B2 (ja) 2018-12-21 2022-06-28 日本電気硝子株式会社 ガラス物品の製造方法
JP7212535B2 (ja) * 2019-01-31 2023-01-25 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19939779C2 (de) 1999-08-21 2003-06-26 Schott Glas Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen Erschmelzen und Läutern von anorganischen Verbindungen, insbesondere von Gläsern und Glaskeramiken
TWI276611B (en) * 2000-08-17 2007-03-21 Hoya Corp Process for producing glass and glass-melting apparatus thereof
JP2004091244A (ja) * 2002-08-30 2004-03-25 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラス基板及びその製造方法
KR100889716B1 (ko) * 2005-06-06 2009-03-23 아사히 가라스 가부시키가이샤 유리 제조 장치 및 그 구성 요소, 그리고 그 구성 요소를통전 가열하는 방법
CN101130448A (zh) * 2006-08-12 2008-02-27 史考特公司 用于生产玻璃的避免成分被化学还原的方法和系统
US8925353B2 (en) * 2007-11-08 2015-01-06 Corning Incorporated Process and system for fining glass
US20100199721A1 (en) * 2008-11-12 2010-08-12 Keisha Chantelle Ann Antoine Apparatus and method for reducing gaseous inclusions in a glass
KR101305612B1 (ko) * 2010-09-30 2013-09-09 아반스트레이트 가부시키가이샤 유리판 제조 방법
JP5769574B2 (ja) * 2011-09-30 2015-08-26 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス板の製造方法
JP5719797B2 (ja) * 2012-04-06 2015-05-20 ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 ガラス板の製造方法及びガラス板の製造装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016048956A1 (en) * 2014-09-24 2016-03-31 Corning Incorporated Volatile filtration systems for fusion draw machines

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