KR20130142012A - Apparatus for pressing a plate assembly and method thereof - Google Patents

Apparatus for pressing a plate assembly and method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20130142012A
KR20130142012A KR1020120065227A KR20120065227A KR20130142012A KR 20130142012 A KR20130142012 A KR 20130142012A KR 1020120065227 A KR1020120065227 A KR 1020120065227A KR 20120065227 A KR20120065227 A KR 20120065227A KR 20130142012 A KR20130142012 A KR 20130142012A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chamber
chambers
plate assembly
loading
plate
Prior art date
Application number
KR1020120065227A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101375646B1 (en
Inventor
김규완
강혜종
최문기
윤인수
Original Assignee
주식회사 씨엘디
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 씨엘디 filed Critical 주식회사 씨엘디
Priority to KR1020120065227A priority Critical patent/KR101375646B1/en
Publication of KR20130142012A publication Critical patent/KR20130142012A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101375646B1 publication Critical patent/KR101375646B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1313Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like

Abstract

Disclosed are a pressure device and a pressure method. The pressure device comprises a receiving part for receiving each plate assembly, a plurality of chambers including an openable and closable plate for opening and closing the receiving part, a loading unit for selectively loading the plate assembly in one of the chambers, a pressure unit which is connected to each of the chamber to inject pressure gas into the receiving part, and a discharge unit which is connected to each of the chambers to discharge the pressure gas injected into the receiving part.

Description

가압 장치 및 방법{ Apparatus for pressing a plate assembly and method thereof}Apparatus for pressing a plate assembly and method

본 발명은 가압 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to pressurization devices and methods.

유기 발광 디스플레이 장치나 액정 디스플레이 장치와 같은 평판 디스플레이 장치는 디스플레이 패널의 플레이트 외면에 편광 필름이나 AR필름 등 각종 기능성 필름과 같은 플레이트가 부착될 수 있다. 뿐만 아니라, 터치용 ITO 기판이나 커버 기판과 같은 글라스 또는 플라스틱으로 제작된 기판 플레이트도 부착될 수 있다.In a flat panel display device such as an organic light emitting display device or a liquid crystal display device, a plate such as various functional films such as a polarizing film or an AR film may be attached to the plate outer surface of the display panel. In addition, a substrate plate made of glass or plastic such as a touch ITO substrate or a cover substrate may be attached.

이렇게 플레이트와 플레이트가 서로 면접촉하도록 부착되는 플레이트 조립체는 플레이트들 사이의 기포를 제거해 줄 필요가 있다.The plate assembly to which the plate and the plate are attached so as to be in surface contact with each other needs to remove air bubbles between the plates.

상기와 같은 종래기술의 문제 및/또는 한계를 극복하기 위한 것으로, 플레이트 조립체의 서로 면접합된 플레이트들 사이의 기포를 제거해줄 수 있는 가압 장치 및 방법을 제공하는 데에 목적이 있다.In order to overcome the problems and / or limitations of the prior art as described above, an object of the present invention is to provide a pressurization device and a method capable of removing air bubbles between plates bonded to each other of a plate assembly.

다른 목적은, 적은 공간에서 복수의 플레이트 조립체에 가압 공정을 실시할 수 있도록 하는 가압 장치 및 방법을 제공하는 것이다.Another object is to provide a pressurizing device and a method which allow a pressing process to be performed on a plurality of plate assemblies in a small space.

일 측면에 따르면, 각각 플레이트 조립체를 수용하는 수용부 및 상기 수용부를 개폐하는 개폐 플레이트를 포함하는 복수개의 챔버와, 상기 챔버들 중 하나에 선택적으로 상기 플레이트 조립체를 로딩하는 로딩 유닛과, 상기 각 챔버와 연결되어 상기 수용부에 가압 가스를 주입하는 가압 유닛과, 상기 각 챔버와 연결되어 상기 수용부에 주입된 가압 가스를 배기하는 배기 유닛을 포함하는 가압 장치를 제공한다.According to one aspect, a plurality of chambers each comprising a receiving portion for receiving the plate assembly and the opening and closing plate for opening and closing the receiving portion, a loading unit for selectively loading the plate assembly into one of the chambers, each of the chambers And a pressurizing unit connected to each other to inject pressurized gas into the receiving unit, and an exhaust unit connected to the respective chambers to exhaust pressurized gas injected into the containing unit.

상기 챔버들과 로딩 유닛은 상대적으로 이동하도록 구비될 수 있다.The chambers and the loading unit may be provided to move relatively.

상기 챔버들은 지면에 수직한 방향으로 매엽식으로 적층된 것일 수 있다.The chambers may be stacked in a sheet shape in a direction perpendicular to the ground.

상기 챔버들에 연결되고, 상기 챔버들을 지면에 수직한 방향으로 이동시키는 제1이동 유닛을 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a first moving unit connected to the chambers and moving the chambers in a direction perpendicular to the ground.

상기 로딩 유닛에 연결되고, 상기 로딩 유닛을 지면에 수직한 방향으로 이동시키는 제2이동 유닛을 더 포함할 수 있다.It may further include a second moving unit connected to the loading unit and moving the loading unit in a direction perpendicular to the ground.

상기 로딩 유닛은 상기 챔버들 중 어느 하나에 대향되도록 고정적으로 배치될 수 있다.The loading unit may be fixedly arranged to face any one of the chambers.

다른 일 측면에 따르면, 복수개의 챔버 중 제1챔버에 제1플레이트 조립체를 수용하고 상기 제1챔버를 폐쇄하는 단계와, 상기 제1챔버에 가압 가스를 주입하는 단계와, 상기 제1챔버를 폐쇄시킨 상태로 유지시키는 단계와, 복수개의 챔버 중 제2챔버에 제2플레이트 조립체를 수용하고 상기 제2챔버를 폐쇄하는 단계와, 상기 제2챔버에 가압 가스를 주입하는 단계와, 상기 제2챔버를 폐쇄시킨 상태로 유지시키는 단계와, 상기 제1챔버로부터 상기 가압 가스를 배기하는 단계와, 상기 제1챔버를 개방해 상기 제1플레이트 조립체를 상기 제1챔버로부터 꺼내는 단계와, 상기 제2챔버로부터 상기 가압 가스를 배기하는 단계와, 상기 제2챔버를 개방해 상기 제2플레이트 조립체를 상기 제2챔버로부터 꺼내는 단계를 포함하는 가압 방법을 제공한다.According to another aspect, the method includes: receiving a first plate assembly in a first chamber of a plurality of chambers and closing the first chamber, injecting pressurized gas into the first chamber, and closing the first chamber Holding the second plate assembly in a second chamber of the plurality of chambers, closing the second chamber, injecting pressurized gas into the second chamber, and injecting the second chamber into the second chamber. Maintaining a closed state, exhausting the pressurized gas from the first chamber, opening the first chamber to remove the first plate assembly from the first chamber, and Exhausting the pressurized gas from the air; and opening the second chamber to remove the second plate assembly from the second chamber.

상기 제1챔버 및 제2챔버를 순차적으로 이동시키는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include sequentially moving the first chamber and the second chamber.

상기 제1챔버 및 제2챔버는 지면에 수직한 방향으로 매엽식으로 적층될 수 있다.The first chamber and the second chamber may be stacked in a sheet shape in a direction perpendicular to the ground.

상기 제1챔버를 폐쇄시킨 상태로 유지시키는 동안, 상기 복수개의 챔버 중 제2챔버에 제2플레이트 조립체를 수용하고 상기 제2챔버를 폐쇄하는 단계 및 상기 제2챔버에 가압 가스를 주입하는 단계 중 적어도 하나의 단계가 수행될 수 있다.While holding the first chamber in a closed state, receiving a second plate assembly in a second chamber of the plurality of chambers, closing the second chamber, and injecting pressurized gas into the second chamber. At least one step may be performed.

적어도 2장의 플레이트가 면접합된 플레이트 조립체의 면 접합된 부분에서의 기포를 효과적으로 제거할 수 있다.It is possible to effectively remove air bubbles in the face bonded portion of the plate assembly in which at least two plates are face bonded.

복수의 챔버를 인라인 방식으로 배열시킴으로써 가압 유지시간 동안에도 다른 챔버에서 로딩 및 언로딩 공정이 진행되도록 할 수 있기 때문에 공정 택타임을 현격히 줄일 수 있다.By arranging the plurality of chambers in an in-line manner, the process tack time can be significantly reduced because the loading and unloading process can be performed in another chamber even during the pressurized holding time.

챔버들이 지면에 수직한 방향으로 매엽식으로 적층되기 때문에 장비를 보다 콤팩트하게 형성할 수 있고, 장비 전체가 차지하는 부피도 줄일 수 있다.Since the chambers are stacked on a sheet in a direction perpendicular to the ground, the equipment can be made more compact and the volume of the entire equipment can be reduced.

다른 설비, 예컨대 적어도 하나 이상의 라미네이팅 설비와 연계하여 인라인 시스템을 구축할 수 있고, 이에 따라 라미네이팅과 기포 제거를 포함한 공정이 자동으로 진행되도록 할 수 있다.Inline systems can be built in conjunction with other facilities, such as at least one laminating facility, thereby allowing the process to proceed automatically, including laminating and bubble removal.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 장치의 구성을 개략적으로 도시한 구성도,
도 2는 도 1의 가압 장치의 일 예를 보다 구체적으로 도시한 측면도,
도 3은 도 1의 가압 장치의 일 예를 보다 구체적으로 도시한 평면도,
도 4는 도 1의 가압 장치의 다른 일 예를 보다 구체적으로 도시한 측면도,
도 5는 도 1의 가압 장치의 다른 일 예를 보다 구체적으로 도시한 평면도,
도 6은 도 1의 제1챔버의 일 예를 도시한 단면도,
도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 방법 중 로딩 단계들을 순차적으로 도시한 구성도,
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 방법 중 언로딩 단계들을 순차적으로 도시한 구성도.
1 is a configuration diagram schematically showing the configuration of a pressurization device according to an embodiment of the present invention,
2 is a side view illustrating an example of the pressurization device of FIG. 1 in more detail;
3 is a plan view illustrating an example of the pressurization apparatus of FIG. 1 in more detail;
4 is a side view illustrating another example of the pressurization device of FIG. 1 in more detail;
5 is a plan view illustrating another example of the pressurization apparatus of FIG. 1 in more detail;
6 is a cross-sectional view illustrating an example of the first chamber of FIG. 1;
7a to 7c is a configuration diagram sequentially showing the loading steps of the pressing method according to an embodiment of the present invention,
8A to 8C are diagrams sequentially illustrating unloading steps in the pressing method according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 실시예들에 대하여 보다 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 장치의 구성을 개략적으로 도시한 구성도이다.1 is a configuration diagram schematically showing the configuration of a pressing device according to an embodiment of the present invention.

도 1에서 볼 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 장치는, 복수의 챔버(1)와, 로딩 유닛(2)과, 가압 유닛(3)과, 배기 유닛(4)을 포함한다.As can be seen in FIG. 1, the pressurization device according to an embodiment of the present invention includes a plurality of chambers 1, a loading unit 2, a pressurization unit 3, and an exhaust unit 4.

상기 복수의 챔버(1)는 서로 연속적으로 배열되어 있는 제1챔버(11), 제2챔버(12), 제3챔버(13) 및 제4챔버(14)를 포함할 수 있다. 챔버(1)의 개수는 공정 및 가압 조건에 따라 적절하게 선택할 수 있음은 물론이다.The plurality of chambers 1 may include a first chamber 11, a second chamber 12, a third chamber 13, and a fourth chamber 14 that are continuously arranged with each other. It is a matter of course that the number of the chambers 1 can be appropriately selected according to the process and pressurization conditions.

상기 복수의 챔버(1), 즉 제1챔버(11), 제2챔버(12), 제3챔버(13) 및 제4챔버(14)는 지면에 수직한 방향으로 매엽식으로 적층되어 배치될 수 있다. 이렇게 챔버들(1)이 매엽식으로 적층됨에 따라 복수의 챔버들(1)이 배치되는 공간을 줄일 수 있고, 보다 콤팩트하게 공간 활용을 할 수 있게 된다. 그러나 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고 상기 복수의 챔버들(1)이 지면에 수평한 방향으로 배치될 수도 있다.The plurality of chambers 1, that is, the first chamber 11, the second chamber 12, the third chamber 13, and the fourth chamber 14 may be stacked and stacked in a direction perpendicular to the ground. Can be. As the chambers 1 are stacked in this manner, the space in which the plurality of chambers 1 are disposed can be reduced, and the space can be more compactly utilized. However, the present invention is not necessarily limited thereto, and the plurality of chambers 1 may be disposed in a direction horizontal to the ground.

상기 복수의 챔버들(1) 중 적어도 하나의 챔버에 대향되도록 로딩 유닛(2)이 위치한다. 상기 로딩 유닛(2)은 상기 챔버들(1) 중 적어도 하나의 챔버에 플레이트 조립체를 집어 넣고, 상기 챔버들(1) 중 적어도 하나의 챔버로부터 플레이트 조립체를 빼 낼 수 있도록 구비된다.The loading unit 2 is positioned to face at least one of the plurality of chambers 1. The loading unit 2 is provided to insert the plate assembly into at least one of the chambers 1 and to withdraw the plate assembly from at least one of the chambers 1.

상기 로딩 유닛(2)과 챔버들(1)은 서로 상대적으로 운동하도록 구비될 수 있다. 예컨대 상기 로딩 유닛(2)이 고정된 상태에서 상기 챔버들(1)이 상하 방향으로 이동되도록 하거나, 상기 챔버들(1)이 고정된 상태에서 상기 로딩 유닛(2)이 상하 방향으로 이동되도록 할 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.The loading unit 2 and the chambers 1 may be provided to move relative to each other. For example, the chambers 1 may be moved in the vertical direction while the loading unit 2 is fixed, or the loading unit 2 may be moved in the vertical direction while the chambers 1 are fixed. Can be. A detailed description thereof will be described later.

상기 각 챔버들(1)에는 가압 유닛(3)과 배기 유닛(4)이 연결된다.Each chamber 1 is connected with a pressurizing unit 3 and an exhaust unit 4.

상기 가압 유닛(3)은 가압 펌프(31)와 복수의 가압 밸브(32)를 포함한다. 상기 가압 밸브(32)는 가압 펌프(31)와 각 챔버들(1)의 사이에 개재되어 가압 펌프(31)로부터 각 챔버들(1)로 공급되는 가압 가스의 제공을 단속한다. 상기 가압 가스는 각 챔버들(1) 내에 수용되는 플레이트 조립체를 가압하기 위한 가스로서, 질소, 아르곤과 같은 불활성 가스일 수 있는 데, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 일반 공기가 될 수도 있다.The pressurization unit 3 comprises a pressurization pump 31 and a plurality of pressurization valves 32. The pressure valve 32 is interposed between the pressure pump 31 and the respective chambers 1 to intervene the provision of pressurized gas supplied from the pressure pump 31 to the respective chambers 1. The pressurized gas is a gas for pressurizing the plate assembly accommodated in the chambers 1, and may be an inert gas such as nitrogen or argon, but is not limited thereto, and may be general air.

상기 가압 밸브(32)는 제1가압 밸브(321), 제2가압 밸브(322), 제3가압 밸브(323) 및 제4가압 밸브(324)를 포함한다. 상기 제1가압 밸브(321)는 제1챔버(11)와 가압 펌프(31)의 사이에 개재되고, 상기 제2가압 밸브(322)는 제2챔버(12)와 가압 펌프(31)의 사이에 개재되고, 상기 제3가압 밸브(323)는 제3챔버(13)와 가압 펌프(31)의 사이에 개재되고, 상기 제4가압 밸브(324)는 제4챔버(14)와 가압 펌프(31)의 사이에 개재된다. 도 1에 따른 실시예에서 가압 펌프(31)가 하나인 것으로 도시하였으나 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 가압 펌프(31)가 복수개 구비되어 각 챔버(1)별로 서로 다른 가압 펌프와 연결될 수 있다.The pressure valve 32 includes a first pressure valve 321, a second pressure valve 322, a third pressure valve 323, and a fourth pressure valve 324. The first pressure valve 321 is interposed between the first chamber 11 and the pressure pump 31, and the second pressure valve 322 is between the second chamber 12 and the pressure pump 31. The third pressure valve 323 is interposed between the third chamber 13 and the pressure pump 31, and the fourth pressure valve 324 is the fourth chamber 14 and the pressure pump ( It is interposed between 31). Although the pressure pump 31 is illustrated as one in the embodiment according to FIG. 1, the present invention is not necessarily limited thereto, and a plurality of pressure pumps 31 may be provided and connected to different pressure pumps for each chamber 1. have.

상기 배기 유닛(4)은 배기 펌프(41)와 복수의 배기 밸브(42)를 포함한다. 상기 배기 펌프(41)는 상기 챔버들(1) 내부를 강제적으로 배기시킨다. 상기 배기 밸브(42)는 배기 펌프(41)와 각 챔버들(1)의 사이에 개재되어 각 챔버들(1)로부터 가압 가스의 배기를 단속한다. 본 발명은 반드시 상기 배기 펌프(41)를 이용해 배기시켜야 하는 것은 아니고, 상기 배기 펌프(41) 없이 상기 배기 밸브(42)의 개폐 정도를 조절하여 자연 배기가 되도록 할 수도 있다.The exhaust unit 4 comprises an exhaust pump 41 and a plurality of exhaust valves 42. The exhaust pump 41 forcibly exhausts the inside of the chambers 1. The exhaust valve 42 is interposed between the exhaust pump 41 and the respective chambers 1 to interrupt the exhaust of pressurized gas from the respective chambers 1. The present invention is not necessarily exhausted using the exhaust pump 41, and may be naturally exhausted by adjusting the opening and closing degree of the exhaust valve 42 without the exhaust pump 41.

상기 배기 밸브(42)는 제1배기 밸브(421), 제2배기 밸브(422), 제3배기 밸브(423) 및 제4배기 밸브(424)를 포함한다. 상기 제1배기 밸브(321)는 제1챔버(11)와 배기 펌프(41)의 사이에 개재되고, 상기 제2배기 밸브(422)는 제2챔버(12)와 배기 펌프(41)의 사이에 개재되고, 상기 제3배기 밸브(423)는 제3챔버(13)와 배기 펌프(41)의 사이에 개재되고, 상기 제4배기 밸브(424)는 제4챔버(14)와 배기 펌프(41)의 사이에 개재된다. 도 1에 따른 실시예에서 배기 펌프(41)가 하나인 것으로 도시하였으나 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 배기 펌프(41)가 복수개 구비되어 각 챔버(1)별로 서로 다른 배기 펌프와 연결될 수 있다.The exhaust valve 42 includes a first exhaust valve 421, a second exhaust valve 422, a third exhaust valve 423, and a fourth exhaust valve 424. The first exhaust valve 321 is interposed between the first chamber 11 and the exhaust pump 41, and the second exhaust valve 422 is disposed between the second chamber 12 and the exhaust pump 41. The third exhaust valve 423 is interposed between the third chamber 13 and the exhaust pump 41, and the fourth exhaust valve 424 is the fourth chamber 14 and the exhaust pump ( It is interposed between 41). Although one exhaust pump 41 is illustrated in the embodiment according to FIG. 1, the present invention is not limited thereto, and a plurality of exhaust pumps 41 may be provided to be connected to different exhaust pumps for each chamber 1. have.

도 2 및 도 3은 도 1의 가압 장치의 일 실시예를 보다 구체적으로 나타낸 측면도 및 평면도이다.2 and 3 are a side view and a plan view showing in more detail an embodiment of the pressing device of FIG.

상기 가압 장치의 일 실시예는 제1프레임(61) 내부에 설치될 수 있다. 상기 제1프레임(61)에 매엽식으로 적층된 제1챔버(11) 내지 제4챔버(14)가 설치된다. 상기 제1프레임(61)의 내부에는 제2프레임(62)이 구비되며, 이 제2프레임(62)에 로딩 유닛(2)이 설치된다.One embodiment of the pressing device may be installed inside the first frame 61. The first chamber 11 to the fourth chamber 14 stacked on the first frame 61 are stacked. The second frame 62 is provided inside the first frame 61, and the loading unit 2 is installed in the second frame 62.

상기 로딩 유닛(2)은 상기 챔버들(1) 중 하나, 예를 들면 제1챔버(11)와 대향되는 위치에서 상기 제2프레임(62)에 고정적으로 설치된다.The loading unit 2 is fixedly mounted to the second frame 62 at a position opposite to one of the chambers 1, for example the first chamber 11.

상기 로딩 유닛(2)은 상부에 플레이트 조립체(7)가 안착되는 로딩 플레이트(21)와 이 로딩 플레이트(21)의 하면을 지지하는 복수의 제1롤러들(22)과, 상기 로딩 플레이트(21)를 챔버들(1) 중 하나로 집어 넣거나 챔버들(1) 중 하나로부터 빼 낼 수 있도록 구비된 제1구동부(23)를 포함한다.The loading unit 2 includes a loading plate 21 on which a plate assembly 7 is mounted, a plurality of first rollers 22 supporting a lower surface of the loading plate 21, and the loading plate 21. ) Includes a first driving part 23 provided to insert into or out of one of the chambers 1.

상기 로딩 플레이트(21)는 그 상부면에 플레이트 조립체(7)가 안정적으로 안착될 수 있도록 구비된 플레이트가 사용된다.The loading plate 21 uses a plate provided on the upper surface so that the plate assembly 7 can be stably seated.

상기 제1롤러들(22)은 로딩 플레이트(21)가 로딩/언로딩 방향(Y)으로 왕복운동하기 용이하도록 로딩 플레이트(21)의 하면을 지지한다.The first rollers 22 support the lower surface of the loading plate 21 to facilitate the loading plate 21 to reciprocate in the loading / unloading direction (Y).

상기 제1구동부(23)는 상기 로딩 플레이트(21)를 로딩/언로딩 방향(Y)으로 왕복 운동시키는 것으로 도면에 도시하지는 않았지만 로딩 플레이트(21)와의 사이에 척 밸브와 같이 로딩 플레이트(21)를 처킹할 수 있는 구조를 포함하며, 척 밸브를 이동하는 액츄에이터를 포함할 수 있다.Although not shown in the drawing, the first driving unit 23 reciprocates the loading plate 21 in the loading / unloading direction (Y), such as a chuck valve between the loading plate 21 and the loading plate 21. It includes a structure capable of chucking, and may include an actuator for moving the chuck valve.

상기 플레이트 조립체(7)는 필름이 라미네이팅된 디스플레이 패널이 될 수 있는 데, 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 적어도 두 장의 플레이트가 서로 면 접촉된 조립체일 수 있다.The plate assembly 7 may be a display panel in which a film is laminated, but is not limited thereto and may be an assembly in which at least two plates are in surface contact with each other.

상기 챔버들(1) 내로는 플레이트 조립체(7)가 안착된 로딩 플레이트(21)가 수용될 수 있다. 따라서 플레이트 조립체(7)가 안착된 로딩 플레이트(21)가 도 3에서 볼 때 제1방향(X1)으로 로딩 유닛(2)에 유입된 후, 로딩 플레이트(21)가 챔버들(1) 중 하나에 수용되도록 하고, 가압 공정이 끝난 후에는 로딩 유닛(2)이 로딩 플레이트(21)를 챔버(1)로부터 꺼내어 제2방향( X2)으로 토출시킨다. 따라서 상기 제1방향(X1) 및 제2방향(X2)에는 다른 장치들이 배치되어 연속적인 인라인 공정을 이루도록 할 수 있다. 예컨대 상기 제1방향(X1)의 외측에 적어도 하나의 라미네이팅 설비를 배치시키고, 상기 제2방향(X2)의 외측에 언로딩 설비를 배치시킬 수 있다. 이 경우, 라미네이팅이 끝난 플레이트 조립체(7)가 자동으로 상기 제1방향(X1)으로 로딩 유닛(2)으로 공급되어 본 발명의 가압 장치를 통해 플레이트 조립체(7) 내부의 기포를 빼 낸 후, 상기 제2방향(X2)으로 토출되어 언로딩 설비를 통해 적재되도록 할 수 있다. 더욱이 이 모든 시스템을 자동으로 구현하기에 더욱 용이하다.The loading plate 21 on which the plate assembly 7 is mounted may be accommodated in the chambers 1. Thus, after the loading plate 21 on which the plate assembly 7 is seated enters the loading unit 2 in the first direction X1 as seen in FIG. 3, the loading plate 21 is one of the chambers 1. After the pressing process is finished, the loading unit 2 takes the loading plate 21 out of the chamber 1 and discharges it in the second direction X2. Accordingly, other devices may be arranged in the first direction X1 and the second direction X2 to achieve a continuous inline process. For example, at least one laminating facility may be disposed outside the first direction X1, and the unloading facility may be disposed outside the second direction X2. In this case, after the laminated plate assembly 7 is automatically supplied to the loading unit 2 in the first direction X1, the bubbles inside the plate assembly 7 are drawn out through the pressurizing device of the present invention. It may be discharged in the second direction X2 to be loaded through the unloading facility. Moreover, it is easier to implement all these systems automatically.

본 발명에서 상기 로딩 플레이트(21) 대신 플레이트 조립체(7)만이 이동되도록 할 수도 있음은 물론이다. Of course, the plate assembly 7 may be moved instead of the loading plate 21 in the present invention.

상기 제1챔버(11) 내지 제4챔버(14)는 복수의 제1가이드(51)에 슬라이딩 가능하게 연결되어 있다. 상기 제1가이드들(51)은 지면에 수직한 방향으로 연장되게 상기 제1프레임(61)에 고정된다. The first chamber 11 to the fourth chamber 14 are slidably connected to the plurality of first guides 51. The first guides 51 are fixed to the first frame 61 to extend in a direction perpendicular to the ground.

상기 제1프레임(61)에는 상기 각 챔버들(1)을 수직 방향으로 이동시키는 제1이동 유닛(50)이 설치된다. 상기 제1이동 유닛(50)은 제2구동부(53)와 제2가이드(52)를 포함한다. 상기 제2가이드(52)는 각 챔버들(1)에 연결되어 있는 볼 스크류가 될 수 있고, 제2구동부(53)는 이 제2가이드(52)를 회전시키는 모터가 될 수 있다. 제2구동부(53)가 제2가이드(52)를 회전시킴에 따라 챔버들(1)이 제1가이드들(51)을 따라 상하 방향으로 운동할 수 있다.The first frame 61 is provided with a first moving unit 50 for moving the chambers 1 in the vertical direction. The first moving unit 50 includes a second driving part 53 and a second guide 52. The second guide 52 may be a ball screw connected to each of the chambers 1, and the second driving part 53 may be a motor for rotating the second guide 52. As the second driving unit 53 rotates the second guide 52, the chambers 1 may move in the vertical direction along the first guides 51.

도 4 및 도 5에는 도 1의 가압 장치의 다른 일 실시예를 보다 구체적으로 나타내었는 데, 도 4 및 도 5에 따른 실시예는 챔버들(1)이 고정된 상태에서 로딩 유닛(2)을 상하방향으로 이동시키는 것이다.4 and 5 show another embodiment of the pressurization device of FIG. 1 in more detail. The embodiment according to FIGS. 4 and 5 shows the loading unit 2 with the chambers 1 fixed. It moves up and down.

도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 로딩 유닛(2)은 테이블(63) 위에 안착되고, 상기 테이블(63)은 복수의 제3가이드(55)에 슬라이딩 가능하게 연결되어 있다. 상기 제3가이드들(55)은 지면에 수직한 방향으로 연장되게 상기 제1프레임(61)에 고정된다.4 and 5, the loading unit 2 is seated on the table 63, and the table 63 is slidably connected to the plurality of third guides 55. The third guides 55 are fixed to the first frame 61 to extend in a direction perpendicular to the ground.

상기 제1프레임(61)에는 상기 로딩 유닛(2)을 수직 방향으로 이동시키는 제2이동 유닛(54)이 설치된다. 상기 제2이동 유닛(54)은 제3구동부(57)와 제4가이드(56)를 포함한다. 상기 제4가이드(56)는 상기 로딩 유닛(2), 더욱 엄밀히는 상기 테이블(63)에 연결되어 있는 볼 스크류가 될 수 있고, 상기 제3구동부(57)는 이 제4가이드(56)를 회전시키는 모터가 될 수 있다. 제3구동부(57)가 제4가이드(56)를 회전시킴에 따라 로딩 유닛(2)이 제3가이드들(55)을 따라 상하 방향으로 운동할 수 있다.The first frame 61 is provided with a second moving unit 54 for moving the loading unit 2 in the vertical direction. The second moving unit 54 includes a third driving unit 57 and a fourth guide 56. The fourth guide 56 may be a ball screw connected to the loading unit 2, more rigidly to the table 63, and the third driving part 57 may fix the fourth guide 56. It can be a rotating motor. As the third driving unit 57 rotates the fourth guide 56, the loading unit 2 may move in the vertical direction along the third guides 55.

도 6에는 제1챔버(11)의 일 예를 보다 상세히 도시하였다.6 illustrates an example of the first chamber 11 in more detail.

상기 제1챔버(11)는 내부에 수용부(113)가 구비된 바디(111)를 갖는다. 상기 바디(111)의 일측에는 상기 수용부(113)와 연통된 입구(112)가 설치된다. 이 입구(112)를 통해 수용부(113) 내로 상기 플레이트 조립체 또는 로딩 플레이트가 출입한다. The first chamber 11 has a body 111 having a receiving portion 113 therein. One side of the body 111 is provided with an inlet 112 communicating with the receiving portion 113. The plate assembly or loading plate enters into the receiving portion 113 through the inlet 112.

상기 입구(112)는 바디(111) 내에 설치된 게이트 플레이트(114)에 의해 개폐된다. 상기 게이트 플레이트(114)는 일단이 상기 바디(111) 내부에 힌지 결합되어 상기 수용부(113)를 향해 회동하여 상기 입구(112)를 개폐한다. The inlet 112 is opened and closed by a gate plate 114 installed in the body 111. One end of the gate plate 114 is hinged to the inside of the body 111 to rotate toward the receiving portion 113 to open and close the inlet 112.

상기 바디(111) 내부에는 상기 수용부(113)를 향해 상방으로 돌출한 복수의 제2롤러들(115)이 배치되어 수용부(113) 내로 진입하는 플레이트 조립체 또는 로딩 플레이트의 저면을 지지한다.A plurality of second rollers 115 protruding upward toward the accommodating part 113 may be disposed in the body 111 to support a bottom surface of the plate assembly or the loading plate that enters the accommodating part 113.

다음으로 도 7a 내지 도 8c를 참조로 전술한 도 1 내지 도 3 및 도 6에 따른 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 장치의 가압 방법을 설명한다.Next, a pressing method of the pressing device according to an embodiment of the present invention according to FIGS. 1 to 3 and 6 described above with reference to FIGS. 7A to 8C will be described.

먼저, 도 7a에서 볼 수 있듯이, 제1플레이트 조립체(71)가 로딩 방향(Y1)으로 진행하여 제1챔버(11) 내로 수용된다. 도면에서는 제1플레이트 조립체(71)만을 도시하였으나, 이는 설명의 편의를 위한 것으로 전술한 바와 같이 상기 제1플레이트 조립체(71)는 로딩 플레이트에 안착되어 있고, 로딩 플레이트가 제1챔버(11) 내로 수용되도록 할 수 있다. 이는 후술하는 다른 플레이트 조립체들의 경우에도 마찬가지이다.First, as shown in FIG. 7A, the first plate assembly 71 proceeds in the loading direction Y1 and is received into the first chamber 11. Although only the first plate assembly 71 is shown in the drawing, this is for convenience of description and as described above, the first plate assembly 71 is seated on a loading plate, and the loading plate is inserted into the first chamber 11. Can be accommodated. The same is true of the other plate assemblies described below.

제1플레이트 조립체(71)가 제1챔버(11) 내에 수용된 후에는 도 6에서 볼 수 있듯이, 게이트 플레이트(114)가 닫혀 제1챔버(11)의 입구(112)가 폐쇄된다.After the first plate assembly 71 is received in the first chamber 11, as shown in FIG. 6, the gate plate 114 is closed to close the inlet 112 of the first chamber 11.

이후 도 1을 참조할 때, 가압 유닛(2)의 가압 펌프(31)가 작동하고 제1가압 밸브(321)가 개방되어 제1챔버(11)로 가압가스가 공급된다. 이 때, 제2가압 밸브(322) 내지 제4가압 밸브(324)와 복수의 배기 밸브들(42)은 닫혀 있는 상태이다.1, the pressurization pump 31 of the pressurization unit 2 is operated and the first pressurization valve 321 is opened to supply pressurized gas to the first chamber 11. At this time, the second pressure valve 322 to the fourth pressure valve 324 and the plurality of exhaust valves 42 are in a closed state.

가압가스의 공급으로 제1챔버(11) 내부가 적정 압력이 되면, 제1가압 밸브(321)가 닫혀 가압 가스의 제1챔버(11) 내부로의 공급이 중단되고, 제1챔버(11)는 기밀이 유지된 상태가 된다. 제1챔버(11)는 이 상태에서 일정 시간 유지되어 그 내부의 압력이 유지되도록 함으로써 내부에 수용된 제1플레이트 조립체(71)를 지속적으로 가압하게 된다. 상기 제1챔버(11) 내부에는 도 6에서 볼 수 있듯이 복수의 제1롤러들(115)이 배치되어 있고, 로딩 플레이트에 안착된 상태로 제1플레이트 조립체(71)가 제1롤러들(115) 위에 놓여 있는 상태이기 때문에 제1챔버(11) 내부가 가압 가스에 의해 일정 압력이 유지될 경우 이 압력은 제1플레이트 조립체(71)를 면방향으로 압박하게 된다. 따라서 제1플레이트 조립체(71)를 형성하는 플레이트들 사이의 기포가 제거될 수 있게 된다.When the inside of the first chamber 11 is supplied with a suitable pressure by supplying the pressurized gas, the first pressurizing valve 321 is closed to stop the supply of the pressurized gas into the first chamber 11 and the first chamber 11 is closed. Becomes confidential. The first chamber 11 is maintained for a predetermined time in this state to maintain the pressure therein to continuously press the first plate assembly 71 accommodated therein. As shown in FIG. 6, a plurality of first rollers 115 are disposed in the first chamber 11, and the first plate assembly 71 is mounted on the loading plate. Since the pressure is maintained on the inside of the first chamber 11 by the pressurized gas, the pressure presses the first plate assembly 71 in the surface direction. Thus, bubbles between the plates forming the first plate assembly 71 can be removed.

한편, 이렇게 제1챔버(11)가 기밀이 유지되는 동안, 도 7b에서 볼 수 있듯이, 제1챔버(11)의 앞에 위치한 로딩 유닛에는 제2플레이트 조립체(72)가 위치하게 된다. 이 상태에서 챔버들(1)이 위로 한 단계 이동해 제2플레이트 조립체(72)가 제2챔버(12)의 앞에 위치하도록 한다.Meanwhile, while the first chamber 11 is hermetically maintained, as shown in FIG. 7B, the second plate assembly 72 is positioned in the loading unit located in front of the first chamber 11. In this state, the chambers 1 move up one step so that the second plate assembly 72 is positioned in front of the second chamber 12.

다음으로, 도 7c에서 볼 수 있듯이, 제2플레이트 조립체(72)가 로딩 방향(Y1)으로 진행하여 제2챔버(11) 내로 수용된다. Next, as can be seen in FIG. 7C, the second plate assembly 72 travels in the loading direction Y1 and is received into the second chamber 11.

제2플레이트 조립체(72)가 제2챔버(12) 내에 수용된 후에는 제2챔버(12)가 폐쇄된다.After the second plate assembly 72 is received in the second chamber 12, the second chamber 12 is closed.

이후 도 1을 참조할 때, 가압 유닛(2)의 가압 펌프(31)가 작동하고 제2가압 밸브(322)가 개방되어 제2챔버(12)로 가압가스가 공급된다. 이 때, 제1가압 밸브(321), 제3가압 밸브(323) 및 제4가압 밸브(324)와 복수의 배기 밸브들(42)은 닫혀 있는 상태이다.1, the pressurization pump 31 of the pressurization unit 2 is operated and the second pressurization valve 322 is opened to supply pressurized gas to the second chamber 12. At this time, the first pressure valve 321, the third pressure valve 323, the fourth pressure valve 324, and the plurality of exhaust valves 42 are closed.

가압가스의 공급으로 제2챔버(12) 내부가 적정 압력이 되면, 제2가압 밸브(322)가 닫혀 가압 가스의 제2챔버(12) 내부로의 공급이 중단되고, 제2챔버(12)는 기밀이 유지된 상태가 된다. 제2챔버(12)는 이 상태에서 일정 시간 유지되어 그 내부의 압력이 유지되도록 함으로써 내부에 수용된 제2플레이트 조립체(72)를 지속적으로 가압하게 된다. When the inside of the second chamber 12 reaches a proper pressure by supplying the pressurized gas, the second pressurizing valve 322 is closed to stop the supply of the pressurized gas into the second chamber 12 and the second chamber 12 is closed. Becomes confidential. The second chamber 12 is maintained in this state for a certain time to maintain a pressure therein to continuously press the second plate assembly 72 accommodated therein.

이러한 방식으로 계속해서 제3챔버(13) 및 제4챔버(14)에도 플레이트 조립체들이 수용되고 가압 공정이 진행될 수 있다. 이처럼 본 발명은 일정 시간이 유지되어야 하는 가압 공정이 특정 챔버에서 진행되는 동안에도 다른 챔버에 플레이트 조립체를 수용하는 공정을 계속 진행할 수 있기 때문에 가압 시간 유지에 따른 택 타임 로스를 최소화할 수 있고, 인라인 방식으로 가압 공정을 유지시킬 수 있게 된다.In this manner, the plate assemblies are also accommodated in the third chamber 13 and the fourth chamber 14 and the pressing process can proceed. As such, the present invention can continue the process of receiving the plate assembly in another chamber while the pressurization process, which requires a certain time to be maintained in a specific chamber, can minimize the tack time loss due to the pressurization time, and can be inlined. It is possible to maintain the pressurization process in a manner.

이렇게 챔버들에 모두 플레이트 조립체들이 채워진 상태로 일정시간 유지된 후에는 각 챔버들로부터 순차적으로 플레이트 조립체들을 꺼내는 공정을 진행한다.After the chambers are kept in the state in which the plate assemblies are filled in a predetermined time, the process of sequentially removing the plate assemblies from the respective chambers is performed.

먼저, 제1챔버(11)가 다시 로딩 유닛과 대응되는 위치가 되도록 챔버들(1)의 위치가 조절된 상태에서, 도 1에서 볼 수 있듯이, 배기 유닛(4)의 제1배기 밸브(42)가 열려 제1챔버(11) 내부가 배기된다. 이 때, 배기 펌프(41)가 작동하여 강제 배기시킬 수 있다.First, with the positions of the chambers 1 adjusted so that the first chamber 11 again corresponds to the loading unit, as shown in FIG. 1, the first exhaust valve 42 of the exhaust unit 4 ) Is opened and the inside of the first chamber 11 is exhausted. At this time, the exhaust pump 41 can be operated to forcibly evacuate.

제1챔버(11) 내부가 배기가 완료되면, 도 8a에서 볼 수 있듯이, 제1챔버(11)가 개방되고 제1플레이트 조립체(71)가 언로딩 방향(Y2)으로 이동되어 토출된다. 토출된 이후에는 도 3에서 볼 수 있듯이 제2방향(X2)으로 이송된다.When the inside of the first chamber 11 is exhausted, as shown in FIG. 8A, the first chamber 11 is opened and the first plate assembly 71 is moved in the unloading direction Y2 to be discharged. After discharge, as shown in FIG. 3, it is transferred in the second direction X2.

도 8b에서 볼 수 있듯이, 제1플레이트 조립체(71)의 토출이 완료된 후에는 챔버들(1)이 상승하고, 제2챔버(12)가 로딩 유닛에 대응되는 위치로 이동된다. 도 1에서 볼 수 있듯이, 배기 유닛(4)의 제2배기 밸브(42)가 열려 제2챔버(12) 내부가 배기된다. 이 때, 배기 펌프(41)가 작동하여 강제 배기시킬 수 있다.As shown in FIG. 8B, after the discharge of the first plate assembly 71 is completed, the chambers 1 are raised and the second chamber 12 is moved to a position corresponding to the loading unit. As can be seen in FIG. 1, the second exhaust valve 42 of the exhaust unit 4 is opened to exhaust the inside of the second chamber 12. At this time, the exhaust pump 41 can be operated to forcibly evacuate.

제2챔버(12) 내부가 배기가 완료되면, 도 8c에서 볼 수 있듯이, 제2챔버(12)가 개방되고 제2플레이트 조립체(72)가 언로딩 방향(Y2)으로 이동되어 토출된다. 토출된 이후에는 도 3에서 볼 수 있듯이 제2방향(X2)으로 이송된다.When the exhaust of the inside of the second chamber 12 is completed, as shown in FIG. 8C, the second chamber 12 is opened and the second plate assembly 72 is moved in the unloading direction Y2 to be discharged. After discharge, as shown in FIG. 3, it is transferred in the second direction X2.

이러한 방법으로 연속적으로 플레이트 조립체들이 각 챔버들로부터 토출된다.In this way, the plate assemblies are continuously discharged from the respective chambers.

위에서는 도 2 및 도 3의 실시예와 같이 챔버들(1)이 이동하는 경우의 가압 방법을 설명하였으나, 도 4 및 도 5의 실시예와 같이 이동 유닛(2)이 이동하는 경우에도 동일한 방법이 적용될 수 있음은 물론이다. 즉, 이 경우에는 챔버들(1)이 고정되어 있으므로 이동 유닛(2)이 이동하면서 각 챔버들(1)에 플레이트 조립체 및/또는 로딩 플레이트를 제공하고, 각 챔버들(1)로부터 플레이트 조립체 및/또는 로딩 플레이트를 꺼내는 방식으로 운용될 수 있다.In the above, the pressurization method in the case where the chambers 1 move as in the embodiment of FIGS. 2 and 3 has been described. Of course this can be applied. That is, in this case, since the chambers 1 are fixed, the mobile unit 2 moves to provide a plate assembly and / or a loading plate in each of the chambers 1, and from each chamber 1 And / or by removing the loading plate.

이상 설명한 실시예에서는 각 챔버들에 모두 플레이트 조립체가 순차적으로 수용된 이후, 다시 각 챔버들로부터 플레이트 조립체가 순차적으로 토출되었으나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 미리 설정된 가압 시간에 따라 일부 챔버들에 플레이트 조립체가 수용되기 전에 가압이 완료된 챔버로부터 플레이트 조립체를 토출하도록 할 수도 있다.In the above-described embodiment, the plate assembly is sequentially received in each of the chambers, and then the plate assembly is sequentially discharged from each of the chambers, but the present invention is not necessarily limited thereto. The plate assembly may be discharged from the pressurized chamber before the plate assembly is received.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of limitation and that those skilled in the art will recognize that various modifications and equivalent arrangements may be made therein. It will be possible. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

Claims (10)

각각 플레이트 조립체를 수용하는 수용부 및 상기 수용부를 개폐하는 개폐 플레이트를 포함하는 복수개의 챔버;
상기 챔버들 중 하나에 선택적으로 상기 플레이트 조립체를 로딩하는 로딩 유닛;
상기 각 챔버와 연결되어 상기 수용부에 가압 가스를 주입하는 가압 유닛; 및
상기 각 챔버와 연결되어 상기 수용부에 주입된 가압 가스를 배기하는 배기 유닛;을 포함하는 가압 장치.
A plurality of chambers each including an accommodating part accommodating the plate assembly and an opening and closing plate to open and close the accommodating part;
A loading unit for selectively loading the plate assembly into one of the chambers;
A pressurizing unit connected to each of the chambers to inject pressurized gas into the receiving portion; And
And an exhaust unit connected to each of the chambers to exhaust the pressurized gas injected into the accommodation portion.
제1항에 있어서,
상기 챔버들과 로딩 유닛은 상대적으로 이동하도록 구비된 가압 장치.
The method of claim 1,
The chamber and the loading unit are provided to move relatively.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 챔버들은 지면에 수직한 방향으로 매엽식으로 적층된 가압 장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
And the chambers are stacked in a sheet shape in a direction perpendicular to the ground.
제3항에 있어서,
상기 챔버들에 연결되고, 상기 챔버들을 지면에 수직한 방향으로 이동시키는 제1이동 유닛을 더 포함하는 가압 장치.
The method of claim 3,
And a first moving unit connected to the chambers and moving the chambers in a direction perpendicular to the ground.
제4항에 있어서,
상기 로딩 유닛은 상기 챔버들 중 어느 하나에 대향되도록 고정적으로 배치된 가압 장치.
5. The method of claim 4,
And the loading unit is fixedly arranged to face any one of the chambers.
제3항에 있어서,
상기 로딩 유닛에 연결되고, 상기 로딩 유닛을 지면에 수직한 방향으로 이동시키는 제2이동 유닛을 더 포함하는 가압 장치.
The method of claim 3,
And a second moving unit connected to the loading unit and moving the loading unit in a direction perpendicular to the ground.
복수개의 챔버 중 제1챔버에 제1플레이트 조립체를 수용하고 상기 제1챔버를 폐쇄하는 단계;
상기 제1챔버에 가압 가스를 주입하는 단계;
상기 제1챔버를 폐쇄시킨 상태로 유지시키는 단계;
복수개의 챔버 중 제2챔버에 제2플레이트 조립체를 수용하고 상기 제2챔버를 폐쇄하는 단계;
상기 제2챔버에 가압 가스를 주입하는 단계;
상기 제2챔버를 폐쇄시킨 상태로 유지시키는 단계;
상기 제1챔버로부터 상기 가압 가스를 배기하는 단계;
상기 제1챔버를 개방해 상기 제1플레이트 조립체를 상기 제1챔버로부터 꺼내는 단계;
상기 제2챔버로부터 상기 가압 가스를 배기하는 단계; 및
상기 제2챔버를 개방해 상기 제2플레이트 조립체를 상기 제2챔버로부터 꺼내는 단계;를 포함하는 가압 방법.
Receiving a first plate assembly in a first chamber of the plurality of chambers and closing the first chamber;
Injecting pressurized gas into the first chamber;
Maintaining the first chamber in a closed state;
Receiving a second plate assembly in a second chamber of the plurality of chambers and closing the second chamber;
Injecting pressurized gas into the second chamber;
Maintaining the second chamber in a closed state;
Exhausting the pressurized gas from the first chamber;
Opening the first chamber to remove the first plate assembly from the first chamber;
Exhausting the pressurized gas from the second chamber; And
Opening the second chamber to remove the second plate assembly from the second chamber.
제7항에 있어서,
상기 제1챔버 및 제2챔버를 순차적으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 가압 방법.
The method of claim 7, wherein
And moving the first chamber and the second chamber sequentially.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 제1챔버 및 제2챔버는 지면에 수직한 방향으로 매엽식으로 적층된 가압 방법.
9. The method according to claim 7 or 8,
And the first chamber and the second chamber are stacked in a sheet shape in a direction perpendicular to the ground.
제7항 또는 제8항에 있어서,
상기 제1챔버를 폐쇄시킨 상태로 유지시키는 동안, 상기 복수개의 챔버 중 제2챔버에 제2플레이트 조립체를 수용하고 상기 제2챔버를 폐쇄하는 단계 및 상기 제2챔버에 가압 가스를 주입하는 단계 중 적어도 하나의 단계가 수행되는 가압 방법.
9. The method according to claim 7 or 8,
While holding the first chamber in a closed state, receiving a second plate assembly in a second chamber of the plurality of chambers, closing the second chamber, and injecting pressurized gas into the second chamber. At least one step is carried out.
KR1020120065227A 2012-06-18 2012-06-18 Apparatus for pressing a plate assembly and method thereof KR101375646B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120065227A KR101375646B1 (en) 2012-06-18 2012-06-18 Apparatus for pressing a plate assembly and method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020120065227A KR101375646B1 (en) 2012-06-18 2012-06-18 Apparatus for pressing a plate assembly and method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130142012A true KR20130142012A (en) 2013-12-27
KR101375646B1 KR101375646B1 (en) 2014-03-18

Family

ID=49985780

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120065227A KR101375646B1 (en) 2012-06-18 2012-06-18 Apparatus for pressing a plate assembly and method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101375646B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112415802A (en) * 2020-12-07 2021-02-26 黄伟伟 Liquid crystal display production and assembly method
KR102572046B1 (en) * 2022-10-07 2023-08-29 주식회사 화인프리시젼 Manufacturing apparatus of Vapor chamber

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6949143B1 (en) * 1999-12-15 2005-09-27 Applied Materials, Inc. Dual substrate loadlock process equipment
US7418982B2 (en) * 2006-05-17 2008-09-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Substrate carrier and facility interface and apparatus including same
JP2009062604A (en) * 2007-09-10 2009-03-26 Tokyo Electron Ltd Vacuum treatment system, and method for carrying substrate
JP5159670B2 (en) 2009-02-27 2013-03-06 日本アビオニクス株式会社 Centering device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112415802A (en) * 2020-12-07 2021-02-26 黄伟伟 Liquid crystal display production and assembly method
KR102572046B1 (en) * 2022-10-07 2023-08-29 주식회사 화인프리시젼 Manufacturing apparatus of Vapor chamber

Also Published As

Publication number Publication date
KR101375646B1 (en) 2014-03-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8540002B2 (en) System and method for completing lamination of rigid-to-rigid substrates by the controlled application of pressure
CN101781091B (en) Device for bearing transparent conductive film glass during thinning single surface and thinning method for transparent conductive film glass
JP2016175401A (en) Substrate lamination system and method
JP2012058417A (en) Assembly system of 3d display panel device with touch panel
KR101375646B1 (en) Apparatus for pressing a plate assembly and method thereof
KR101898065B1 (en) Substrate transfer module
KR100926979B1 (en) Panel joining apparatus for manufacturing lcd module with touch screen
KR101341126B1 (en) Panel bonding apparatus
WO2013128710A1 (en) Coating application device, substrate retaining device, and substrate retaining method
KR101326142B1 (en) Autoclave and treating apparatus for panel assembly using the same
KR101898063B1 (en) Align module, and method for aligning substrate and mask
CN203545883U (en) Novel transparent conductive film glass thinning bearing device
KR101126685B1 (en) Film bonding apparatus and bonding method of film
KR101385132B1 (en) Apparatus for pressing a plate assembly
KR101318929B1 (en) Apparatus for pressing a plate assembly
JP5286593B2 (en) Multi-table type seam welding apparatus and seam welding method.
KR20160049629A (en) Cassette stoker and casette loading/unloading method using thereof
TW201411228A (en) Pressurized deaerating apparatus and deaerating chamber thereof
JP4760457B2 (en) Substrate bonding equipment
KR20070093196A (en) Substrate bonding apparatus
JP2013157418A (en) Etching device
CN107272227B (en) High-pressure kettle device for defoaming
KR101039533B1 (en) Apparatus for manufacturing substrate having vertically stacted process chambers
KR100965410B1 (en) Apparatus for attaching LCD glass and method thereof
CN201362646Y (en) Single-sided thinning bearing device of transparent conducting film glass

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170306

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee