KR20130126638A - 유리판, 유리판의 검사 방법 및 유리판의 제조 방법 - Google Patents

유리판, 유리판의 검사 방법 및 유리판의 제조 방법 Download PDF

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KR20130126638A
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마코토 구루미사와
류노스케 구로다
노부히코 히구치
미치토 사사키
모토유키 히로세
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아사히 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 조성이 일정한 레벨 이상으로 균일한 대형이며 얇은 유리판을 제공한다. 유리판으로부터 잘라낸 소정의 촬영 대상 유리판의 측면의 스트리어 화상을 촬영하고, 그 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하고, 콘트라스트를 보정하고, 각 분할 영역 내에 있어서의 촬영 대상 유리판의 에지 부분의 y좌표가 정렬되도록 분할 영역을 y축 방향으로 옮긴다. 그리고, 각 화소를 선택하고, 선택한 화소의 양측에 존재하는 소정의 복수 세트의 화소의 화소값의 차분의 평균값인 차분 평균값을 계산하고, 그 차분 평균값의 제곱 평균을 화소열마다 계산하고, 또한 화소열마다의 제곱 평균의 평균값을 계산한다. 이때, 소정의 복수 세트의 화소가 정하는 방법을 변화시켜서 동일한 계산을 행한다. 그리고, 각 계산 결과에 의해 얻은 값에 대하여 가중 계수를 승산하고, 그 승산 결과의 합을 계산한다. 본 발명의 유리판은 이 계산 결과가 미리 정해진 임계값 미만으로 되어 있는 것이다.

Description

유리판, 유리판의 검사 방법 및 유리판의 제조 방법 {GLASS PLATE, METHOD FOR INSPECTING GLASS PLATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING GLASS PLATE}
본 발명은 유리판, 유리판의 검사 방법 및 유리판의 제조 방법에 관한 것이다.
유리판에 있어서의 조성 상의 불균일성을 가시화한 화상에서는 휘도의 농담이 줄무늬 형상으로 관찰된다. 이와 같이, 유리판에 있어서의 조성 상의 불균일성을 가시화한 화상을 스트리어(stria) 화상이라고 칭한다. 스트리어 화상의 촬영 방법으로서, 예를 들어 슐리렌법이 있다.
또한, 특허문헌 1에는, 슐리렌법에 의한 판유리의 검사 방법이 기재되어 있다. 특허문헌 1에 기재된 검사 방법에서는, 판유리를 투과한 평행광을 렌즈를 사용하여 스크린에 확대하여 투사한다. 그리고, 상을 몇 개로 분할하여 CCD 카메라로 촬영한다. CCD 카메라로 촬영한 상에 대해서 화상 처리기가 판유리의 에지를 인식하고, 상의 외형 형상의 형상 처리를 행한다. 그리고, 퍼스널 컴퓨터가 원래의 1장의 판유리의 명암의 데이터로서 연속한 데이터에 통합한다.
또한, 특허문헌 2에는, 스트리에이션이 저감된 극자외광 광학 소자가 기재되어 있다.
일본 특허 공개 제2001-141653호 공보(단락 0009 내지 0019) 일본 특허 공표 제2005-519349호 공보
스트리어 화상에 있어서 줄무늬 모양(스트리어)이 현저하게 관찰되는 유리판은 유리판의 조성이 불균일하다고 생각되어 품질상 바람직하지 않다. 특히, 스트리어 화상에 있어서 유리판의 두께 방향에 따른 줄무늬 모양(스트리어)이 관찰되는 유리판은, 광이 투과하는 위치에 따라 조성에 불균일이 있고, 굴절률 분포에 불균일이 있게 되므로 바람직하지 않다. 예를 들어, 이러한 굴절률 분포에 불균일이 있는 유리판을 액정 표시 장치용의 기판으로서 사용한 경우, 굴절률 분포의 불균일은 액정 표시 장치에 있어서의 색 불균일의 원인이 되어버린다.
또한, 최근 들어, 유리판에 대하여 면적이 크고, 또한 얇은 것이 요구되는 경우도 많아지고 있다.
따라서, 본 발명은 조성이 일정한 레벨 이상으로 균일한 대형으로 얇은 유리판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 유리의 조성이 일정한 레벨 이상으로 균일한 유리판을 선별할 수 있는 유리판의 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 유리 조성의 균일성을 향상시킬 수 있는 유리판의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 의한 유리판은, 두께가 0.05 내지 0.7mm이고, 긴 변의 길이가 1800mm 이상이고, 짧은 변의 길이가 1500mm 이상인 직사각형의 유리판이며, 당해 유리판으로부터 주름 방향의 폭을 1.2cm로 하여 스트리어 화상의 촬영 대상 유리판을 잘라내고, 촬영 대상 유리판의 주름 방향에 직교하는 측면의 스트리어 화상이며, 당해 측면의 각 개소로부터 카메라를 향하여 입사된 광의 광량과, 각 개소에 대응하는 화소의 화소값이 선형이 되는 스트리어 화상을 촬영하고, 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하고, 스트리어 화상 내의 화소값의 최댓값을 MAX라고 하고, 최솟값을 MIN이라고 하고, 스트리어 화상의 개개의 화소의 화소값을 u라고 하고, 새로운 화소값을 v라고 했을 때, 스트리어 화상 내의 화소마다 식(1)의 계산을 행해서 v를 산출하고, 각 화소의 화소값을 v로 재설정하고, 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하여 얻어진 각 분할 영역 내의 촬영 대상 유리판의 에지 부분의 y좌표가 정렬되도록 각 분할 영역을 y방향으로 옮기고, 촬영 대상 유리판에서 kmm에 상당하는 스트리어 화상 내에서의 화소의 좌표간의 거리를 ak로 한 경우에, 2·k=10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm로 하는 각각의 경우에 대해서, 분할 영역을 옮긴 후의 스트리어 화상에서 촬영 대상 유리판을 나타내는 영역의 화소를 순차 선택하고, 임의의 좌표 (X, Y)의 화소값을 C(X, Y)라고 나타내고, 선택한 화소의 좌표를 (x, y)라고 나타내고, 선택한 화소의 양측에 존재하는 소정의 복수 세트의 화소의 화소값의 차분의 평균값인 차분 평균값을 T2·k라고 나타냈을 때, 식(2)의 계산을 행함으로써 선택한 화소에 관한 차분 평균값(T2·k)을 계산하고, 2·k=10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm로 하는 각각의 경우에 대해서, 화소마다 계산한 차분 평균값(T2 ·k)의 제곱 평균을 화소열마다 계산하고, 화소열마다 계산한 제곱 평균의 평균값을 계산하고, 2·k=10mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p1이라고 하고, 2·k=20mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p2라고 하고, 2·k=30mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p3이라고 하고, 2·k=40mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p4라고 하고, 2·k=50mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p5라고 하고, 2·k=60mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p6이라고 하고, 2·k=70mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p7이라고 했을 때에, 식(3)의 계산에 의해 얻어지는 평가값(p)이 6 미만인 것을 특징으로 한다.
v=u×255/(MAX-MIN) …식(1)
T2·k={C(x-ak, y-2)+C(x-ak, y-1)+C(x-ak, y)+C(x-ak, y+1)+C(x-ak, y+2)-C(x+ak, y-2)-C(x+ak, y-1)-C(x+ak, y)-C(x+ak, y+1)-C(x+ak, y+2)}/5 …식(2)
p=0.045×p1+0.056×p2+0.057×p3+0.064×p4+0.062×p5+0.074×p6+0.088×p7
…식(3)
또한, 식(3)의 계산에 의해 얻어지는 평가값(p)이 4 미만이어도 된다.
본 발명에 의한 유리판의 검사 방법은, 유리판의 조성의 균일성을 검사하는 유리판의 검사 방법이며, 검사 대상이 되는 유리판을 판 채취한 유리 리본으로부터 주름 방향의 폭을 1.2cm로 하여 스트리어 화상의 촬영 대상 유리판을 판 채취하고, 촬영 대상 유리판의 주름 방향에 직교하는 측면의 스트리어 화상이며, 당해 측면의 각 개소로부터 카메라를 향하여 입사된 광의 광량과, 각 개소에 대응하는 화소의 화소값이 선형이 되는 스트리어 화상을 촬영하고, 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하고, 스트리어 화상 내의 화소값의 최댓값을 MAX라고 하고, 최솟값을 MIN이라고 하고, 스트리어 화상의 개개의 화소의 화소값을 u라고 하고, 새로운 화소값을 v라고 했을 때, 스트리어 화상 내의 화소마다 식(1)의 계산을 행해서 v를 산출하고, 각 화소의 화소값을 v로 재설정하고, 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하여 얻어진 각 분할 영역 내의 촬영 대상 유리판의 에지 부분의 y좌표가 정렬되도록 각 분할 영역을 y방향으로 옮기고, 촬영 대상 유리판에서 kmm에 상당하는 스트리어 화상 내에서의 화소의 좌표간의 거리를 ak라고 한 경우에, 2·k=10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm로 하는 각각의 경우에 대해서, 분할 영역을 옮긴 후의 스트리어 화상에서 촬영 대상 유리판을 나타내는 영역의 화소를 순차 선택하고, 임의의 좌표 (X, Y)의 화소값을 C(X, Y)라고 나타내고, 선택한 화소의 좌표를 (x, y)라고 나타내고, 선택한 화소의 양측에 존재하는 소정의 복수 세트의 화소의 화소값의 차분의 평균값인 차분 평균값을 T2·k라고 나타냈을 때, 식(2)의 계산을 행함으로써 선택한 화소에 관한 차분 평균값(T2·k)을 계산하고, 2·k=10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm로 하는 각각의 경우에 대해서, 화소마다 계산한 차분 평균값(T2·k)의 제곱 평균을 화소열마다 계산하고, 화소열마다 계산한 제곱 평균의 평균값을 계산하고, 2·k=10mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p1이라고 하고, 2·k=20mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p2라고 하고, 2·k=30mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p3이라고 하고, 2·k=40mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p4라고 하고, 2·k=50mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p5라고 하고, 2·k=60mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p6이라고 하고, 2·k=70mm의 경우에 계산한 제곱 평균의 평균값을 p7이라고 했을 때, 식(3)의 계산에 의해 평가값(p)을 산출하고, 평가값(p)이 미리 정해진 임계값 미만인지의 여부를 판정하고, 평가값(p)이 임계값 미만인 경우에, 유리 리본에 있어서의 촬영 대상 유리판의 절취 개소를 중심으로 하는 소정의 범위 내로부터 판 채취한 유리판을, 조성의 균일성이 소정 레벨에 달하고 있는 유리판이라고 판정하는 것을 특징으로 한다.
v=u×255/(MAX-MIN) …식(1)
T2·k={C(x-ak, y-2)+C(x-ak, y-1)+C(x-ak, y)+C(x-ak, y+1)+C(x-ak, y+2)-C(x+ak, y-2)-C(x+ak, y-1)-C(x+ak, y)-C(x+ak, y+1)-C(x+ak, y+2)}/5 …식(2)
p=0.045×p1+0.056×p2+0.057×p3+0.064×p4+0.062×p5+0.074×p6+0.088×p7
…식(3)
본 발명에 의한 유리판의 제조 방법은, 상기의 유리판의 검사 방법으로 산출되는 평가값(p)을 참조하여 유리판을 제조하는 유리판의 제조 방법이며, 평가값(p)이 미리 정해진 임계값 이상인 경우에, 평가값(p)이 임계값 이상이 된 유리판의 제조 시보다, 유리 원료인 파유리의 입도의 균일성을 높이는 것, 용해한 유리를 교반하는 교반기의 단위 시간당의 회전수를 많게 하는 것, 바닥 소지 배출량을 증가시키는 것, 및 상부 소지 배출량을 증가시키는 것 중 적어도 하나를 행함으로써 평가값(p)이 임계값 미만이 되는 유리판을 제조하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 조성이 일정한 레벨 이상으로 균일한 대형이며 얇은 유리판을 제공할 수 있다. 또한, 유리의 조성이 일정한 레벨 이상으로 균일한 유리판을 선별할 수 있다. 또한, 본 발명의 유리판의 제조 방법에 의하면, 유리판의 유리의 조성의 균일성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 유리판의 크기를 도시하는 설명도이다.
도 2는 유리판의 검사 장치의 구성예를 도시하는 블록도이다.
도 3은 유리 리본으로부터 유리판 및 촬영 대상 유리판을 판 채취하는 예를 도시하는 설명도이다.
도 4는 유리 리본의 진행 방향에 따라 유리판을 복수매씩 판 채취하는 예를 도시하는 설명도이다.
도 5는 유리 리본의 전체 폭으로부터 잘라내는 개개의 촬영 대상 유리판의 크기를 도시하는 설명도이다.
도 6은 평가값 산출의 처리 경과의 예를 나타내는 흐름도이다.
도 7은 촬영 대상 유리판에 있어서의 스트리어 화상의 촬영 방향을 도시하는 설명도이다.
도 8a는 스텝 S1에서 얻어지는 스트리어 화상의 전체의 영역을 도시하는 모식도이다.
도 8b는 도 8a에 도시하는 스트리어 화상을 분할한 상태를 도시하는 모식도이다.
도 9는 스트리어 화상 내에 나타나는 유리판의 에지 부분을 모식적으로 도시하는 설명도이다.
도 10은 스텝 S4의 처리를 행한 결과의 예를 나타내는 설명도이다.
도 11은 차분 평균값을 계산할 때에 사용하는 화소를 도시하는 설명도이다.
도 12a는 피치가 10mm인 경우에 있어서 화소열마다 계산된 차분 평균값의 제곱 평균의 계산 결과의 예를 나타내는 그래프이다.
도 12b는 피치가 20mm인 경우에 있어서 화소열마다 계산된 차분 평균값의 제곱 평균의 계산 결과의 예를 나타내는 그래프이다.
도 12c는 피치가 70mm인 경우에 있어서 화소열마다 계산된 차분 평균값의 제곱 평균의 계산 결과의 예를 나타내는 그래프이다.
도 12d는 도 12a, 도 12b 및 도 12c의 계산 결과의 근원이 되는 스트리어 화상을 모식적으로 도시한 모식도이다.
도 13은 유리 리본 제조 장치에 있어서의 유리 용해조 및 반송관을 모식적으로 도시하는 모식도이다.
도 14는 반송관 내의 교반기를 도시하는 설명도이다.
도 15는 각 실시예에 있어서의 유리판의 판 채취 형태를 도시하는 설명도이다.
도 16은 비교예에서 제조한 유리 리본의 전체 폭분의 스트리어 화상이다.
이하, 본 발명의 실시 형태를 도면을 참조하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 유리판의 크기를 도시하는 설명도이다. 도 1의 상단에 도시하는 도면은 본 발명의 유리판의 상면도이며, 도 1의 하단에 도시하는 도면은 본 발명의 유리판의 측면도이다. 도 1의 상단에 도시한 바와 같이, 본 발명의 유리판(1)은 긴 변의 길이가 1800mm 이상이며, 짧은 변의 길이가 1500mm 이상인 직사각형의 유리판이다. 또한, 도 1의 하단에 도시한 바와 같이, 본 발명의 유리판(1)의 두께는 0.05mm 이상 0.7mm 이하이다. 단, 유리판(1)의 두께는, 예를 들어 0.1mm 이상이어도 되고, 또한, 예를 들어 0.3mm 이상이어도 된다. 본 발명의 유리판(1)의 두께의 상한은 0.7mm이다.
또한, 본 발명의 유리판(1)은 조성의 균일성이 소정의 기준을 만족하는 유리판이다. 구체적으로는, 유리판(1)은 주름 방향에 따른 폭이 1.2cm가 되는 촬영 대상 유리판을 유리판(1)으로부터 잘라내어, 그 촬영 대상 유리판의 주름 방향에 직교하는 측면의 스트리어 화상을 촬영한 경우에, 두께 방향(세로 방향)의 스트리어의 현저함을 나타내는 평가값이 소정값(즉, 미리 정한 임계값) 미만으로 되어 있는 유리판이다. 이하, 이 두께 방향의 스트리어의 현저함을 나타내는 평가값을 간단하게 평가값이라고 기재한다. 평가값이 높을수록 두께 방향의 스트리어가 현저하게 나타나고 있어서 촬영 대상 유리판의 조성이 불균일해진다. 또한, 평가값이 낮을수록 두께 방향의 스트리어가 눈에 띄지 않아서 촬영 대상 유리판의 조성이 균일해진다. 그리고, 촬영 대상 유리판의 조성의 균일함은 유리판(1)과 동일하므로, 평가값이 나타내는 촬영 대상 유리판의 조성의 균일성의 정도는 유리판(1) 자체의 조성의 균일성의 정도를 나타내고 있다.
또한, 주름 및 주름 방향에 대해서는 후술하기로 한다.
도 2는 촬영 대상 유리판의 평가값을 산출하는 유리판의 검사 장치의 구성예를 도시하는 블록도이다. 검사 장치는 화상 촬영 수단(5)과 화상 해석 수단(6)을 구비한다. 화상 촬영 수단(5) 및 화상 해석 수단(6)이 각각 독립된 장치이어도 된다.
화상 촬영 수단(5)은 촬영 대상 유리판의 측면의 스트리어 화상을 촬영하는 카메라이다. 화상 촬영 수단(5)은 렌즈를 갖고, 피사체가 되는 촬영 대상 유리판의 측면으로부터 렌즈를 향하여 입사된 광에 의해 스트리어 화상을 촬영한다. 화상 촬영 수단(5)은, 예를 들어 슐리렌법으로 스트리어 화상을 촬영하면 된다. 단, 스트리어 화상의 촬영 방법은 슐리렌법에 한정되지 않으며, 다른 방법이어도 된다. 화상 촬영 수단(5)은 유리판의 스트리어 화상을 촬영할 수 있는 공지된 수단이면 된다.
화상 해석 수단(6)은 화상 촬영 수단(5)에 의해 촬영된 스트리어 화상을 해석하여 평가값을 산출한다. 도 1에 도시하는 본 발명의 유리판(1)에서는, 잘라낸 촬영 대상 유리판에 있어서의 이 평가값이 임계값 미만으로 되어 있다. 화상 해석 수단(6)은, 예를 들어 컴퓨터 등의 정보 처리 장치에 의해 실현된다.
또한, 평가값의 계산은 도 2에 도시하는 검사 장치 이외의 장치로 계산해도 된다. 또한, 이하에 설명하는 화상 해석 수단(6)의 처리의 일부를 조작자가 매뉴얼 조작으로 행해도 된다.
또한, 유리판(1)을 제품으로서 출하하기 위해서는 그 유리판(1)으로부터 촬영 대상 유리판을 잘라내면 불편하다. 따라서, 도 3에 도시한 바와 같이, 유리판(1)을 판 채취하는 유리 리본(7)의 전체 폭으로부터 촬영 대상 유리판(2)을 잘라내고, 그 촬영 대상 유리판(2)에 대하여 스트리어 화상을 촬영하여 평가값을 구하면 된다. 유리 리본(7)의 전체 폭으로부터 잘라내는 촬영 대상 유리판(2)의 수는 1개가 아니어도 된다. 이하, 도 3에 도시한 바와 같이, 유리 리본(7)의 전체 폭을 분할하여 복수의 촬영 대상 유리판(2)을 잘라내는 경우를 예로 하여 설명한다. 이와 같이 복수의 촬영 대상 유리판(2)을 잘라낼 경우에는, 그 복수의 촬영 대상 유리판(2)에 대하여 각각 평가값을 구한다. 또한, 유리 리본(7)의 전체 폭으로부터 잘라내는 촬영 대상 유리판(2)의 수는 특별히 한정되지는 않는다. 도 3은 유리 리본으로부터 유리판(1) 및 촬영 대상 유리판(2)을 판 채취하는 예를 도시하는 설명도이다. 유리 리본(7)은 유리 리본 제조 장치(도시하지 않음)로 제조되어 순차 송출된다. 도 3에 도시한 바와 같이 유리 리본(7)의 전체 폭으로부터 복수의 촬영 대상 유리판(2)을 잘라내고, 각 촬영 대상 유리판(2)에 관한 평가값을 구했을 때, 잘라낸 모든 촬영 대상 유리판(2)에 대해서 평가값이 임계값 미만이면, 그 유리 리본(7)에 있어서의 촬영 대상 유리판(2)을 잘라낸 부분을 중심으로 하는 소정 범위 (10)로부터 판 채취한 유리판은 조성의 균일성이 일정한 레벨 이상으로 높다고 할 수 있다. 즉, 그 유리판으로부터 촬영 대상 유리판을 잘라내어, 그 촬영 대상 유리판에 대하여 평가값을 구했다고 한들, 그 평가값이 임계값 미만인 것을 말할 수 있다. 이와 같이 말할 수 있는 이유는, 유리 리본 제조 장치의 시상수는 크고, 유리 리본의 제조 조건을 바꾸었다고 한들, 그 제조 조건의 변경이 유리 리본(7)의 조성의 균일성에 영향을 줄 때까지 시간이 걸리기 때문이다. 이런 이유에 의해, 소정 범위(10)로부터 판 채취된 각 유리판(1)에 대해서는 조성의 균일성의 상태가 동일하다고 할 수 있다. 반대로, 유리 리본(7)의 전체 폭으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판(2) 중 일부의 촬영 대상 유리판(2)에 관한 평가값이 임계값 이상이면, 그 유리 리본(7)에 있어서의 촬영 대상 유리판(2)을 잘라낸 부분을 중심으로 하는 소정 범위(10)로부터 판 채취한 유리판은 조성의 균일성이 일정한 레벨에 도달하고 있지 않다고 판단한다. 즉, 그 유리판으로부터 촬영 대상 유리판을 잘라내어, 그 촬영 대상 유리판에 대하여 평가값을 구했다고 한들, 그 평가값은 임계값 이상이라고 판정한다.
또한, 소정 범위(10)는 유리 리본(7)에 있어서의 촬영 대상 유리판(2)을 잘라낸 부분의 제조 시점부터 전후 2시간의 범위에서 제조된 부분이다. 여기서, 유리 리본(7)은 순차 제조되어 유리 리본 제조 장치로부터 송출되지만, 유리 리본(7)의 각 부분은 그 부분을 잘라낼 수 있는 상태로 경화한 시점에서 제조된 상태라고 할 수 있다.
또한, 도 3에서는 유리 리본(7)의 진행 방향에 따라 유리판(1)을 1매씩 판 채취하는 경우를 도시했지만, 도 4에 도시한 바와 같이, 유리 리본(7)의 진행 방향에 따라 유리판(1)을 복수매씩 판 채취해도 된다. 도 4에서는 유리 리본(7)의 진행 방향에 따라 유리판(1)을 P매씩 판 채취하는 경우를 도시하고 있지만, 이 매수(P)는, 예를 들어 1≤P≤5의 범위이다.
이하, 유리 리본(7)으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판(2)에 대하여 평가값을 산출하는 경우를 예로 하여 설명한다. 단, 이 유리 리본(7)의 두께는 판 채취하려고 하고 있는 본 발명의 유리판(1)의 두께에 맞춰서 제조되어 있다. 그리고, 이 유리 리본(7)으로부터, 촬영 대상 유리판(2)과는 별도로, 긴 변의 길이가 1800mm 이상이며 짧은 변의 길이가 1500mm 이상인 유리판이 판 채취된다.
유리 리본(7)으로부터 촬영 대상 유리판(2)을 잘라낼 경우에는, 예를 들어 그 유리 리본(7)에 있어서의 촬영 대상 유리판(2)의 잘라낸 부분의 제조 시점부터 전후 2시간의 범위에서 제조된 유리 리본의 범위(10)(도 3 참조)로부터 도 1에 도시하는 유리판(1)을 복수매 판 채취해 둔다. 그리고, 촬영 대상 유리판(2)에 대하여 구한 평가값이 임계값 미만인지의 여부에 따라, 판 채취한 복수의 유리판(1)에 대하여 조성의 균일성이 일정한 레벨에 달하고 있는지의 여부를 통합하여 판정한다.
여기서, 유리 리본이나 유리 리본으로부터 판 채취된 유리판에 있어서의 주름 및 주름 방향에 대하여 설명한다. 플로트법 등으로 제조된 유리 리본에는 유리 리본의 주요한 연신 방향에 따른 주름이 발생하고 있다. 유리 리본의 주요한 연신 방향이란, 가이드 부재에 의한 유리 리본의 폭 방향으로의 연신이 아니라, 유리 리본의 진행 방향에 따른 연신의 방향을 의미한다. 이하, 유리 리본의 주요한 연신 방향을 간단하게 유리 리본의 연신 방향이라고 기재한다. 주름이란, 유리 리본의 연신 방향에 수직인 방향에 있어서의 판 두께의 변동 및 굴곡에 기인하여 유리 리본의 연신 방향에 발생하는 줄무늬이다. 유리 리본의 연신 방향은 유리 리본이 유리 리본 제조 장치로부터 송출되는 진행 방향과 동일하므로, 주름 방향, 유리 리본의 연신 방향 및 유리 리본의 진행 방향은 모두 동일하다.
도 5는 유리 리본의 전체 폭으로부터 잘라내는 개개의 촬영 대상 유리판(2)의 크기를 도시하는 설명도이다. 또한, 도 5에서는 유리 리본(7)의 주름의 도시를 생략하고 있다. 유리 리본(7)으로부터 촬영 대상 유리판(2)을 잘라낼 때에는, 주름 방향(환언하면, 유리 리본(7)의 진행 방향)에 따른 폭이 1.2cm가 되도록 잘라낸다. 또한, 주름 방향에 수직인 방향에 따른 폭은, 예를 들어 40cm로 하면 되지만, 주름 방향에 수직인 방향에 따른 폭은 특별히 한정되지 않고 40cm가 아니어도 된다. 또한, 촬영 대상 유리판(2)의 판 두께는 유리 리본(7)의 판 두께와 동등하다. 또한, 이미 설명한 바와 같이, 촬영 대상 유리판(2)은 유리 리본(7)의 전체 폭으로부터 잘라낸다.
도 6은 평가값(두께 방향의 스트리어의 현저함을 나타내는 평가값)의 산출의 처리 경과의 예를 나타내는 흐름도이다. 도 6에 나타내는 스텝 S1 내지 S7의 처리는, 도 3에 예시한 바와 같이 유리 리본(7)의 전체 폭으로부터 잘라낸 모든 촬영 대상 유리판(2)에 대하여 각각 행한다. 우선, 화상 촬영 수단(5)(도 2 참조)이 유리 리본(7)으로부터 잘라내진 촬영 대상 유리판의 측면의 스트리어 화상을 촬영한다(스텝 S1).
도 7은 촬영 대상 유리판에 있어서의 스트리어 화상의 촬영 방향을 도시하는 설명도이다. 스텝 S1에서는, 화상 촬영 수단(5)은 촬영 대상 유리판(2)의 주름(103)의 방향(즉, 주름 방향)에 직교하는 측면(9)의 스트리어 화상을 촬영한다.
또한, 스텝 S1에 있어서, 화상 촬영 수단(5)은 각 화소의 화소값이 미리 정해진 최저 계조의 화소값보다 크고 최고 계조의 화소값 미만이 되도록 조정된 촬영 조건 하에서 스트리어 화상을 촬영한다. 본 실시 형태에서는, 촬영된 스트리어 화상에 있어서, 각 화소의 화소값의 계조를 8비트로 나타내는 것으로 한다. 이 경우, 최저 계조의 화소값은 0이며, 최고 계조의 화소값은 255이다. 그리고, 스트리어 화상의 각 화소의 화소값이 0보다 크고 255 미만(환언하면, 1 이상 254 이하)의 범위에 들어가도록 미리 촬영 조건을 조정해 두고, 그 상태에서 화상 촬영 수단(5)이 스트리어 화상을 촬영한다. 예를 들어, 화상 촬영 시에 사용하는 광원(도시 생략)의 광량이 너무 많으면, 많은 화소의 화소값이 255로 포화된 상태가 되어 화상 전체가 새하얗게 되고, 촬영 대상 유리판(2)의 조성의 상태에 따른 스트리어를 관찰할 수 없게 되어버린다. 반대로, 광원의 광량이 너무 적으면, 많은 화소의 화소값이 0이 되어버려 화상 전체가 시커멓게 되고, 역시, 촬영 대상 유리판(2)의 조성의 상태에 따른 스트리어를 관찰할 수 없게 되어버린다. 따라서, 화상의 각 화소의 화소값이 1 내지 254의 범위에 들어가도록 광원의 밝기를 조절한 상태에서 화상 촬영 수단(5)이 스트리어 화상을 촬영한다. 여기에서는, 화소값을 1 내지 254의 범위에 들어가기 위한 조절 대상으로서 광원의 광량을 예시했지만, 광량뿐만 아니라 노광 시간, 화상 촬영 수단(5)에 있어서의 카메라 게인, 오프셋 등을 조정해도 된다.
또한, 화상 촬영 수단(5)은, 촬영 대상 유리판(2)의 측면(9)(도 7 참조)의 각 개소로부터 화상 촬영 수단(5)의 렌즈를 향하여 입사된 광의 광량과, 그 각 개소에 대응하는 스트리어 화상 내의 화소의 화소값(계조값)이 선형이 되는 스트리어 화상을 촬영한다.
스텝 S1에서 스트리어 화상이 촬영된 후, 화상 해석 수단(6)(도 2 참조)은 그 스트리어 화상을 복수의 열로 분할한다(스텝 S2). 도 8a는 스텝 S1에서 얻어지는 스트리어 화상(11)의 전체의 영역을 도시하는 모식도이다. 도 8b는 도 8a에 도시하는 스트리어 화상을 분할한 상태를 도시하는 모식도이다. 또한, 도 8a 및 도 8b에 있어서, 화상 상에 나타나는 스트리어 등의 도시는 생략하고 있다. 화상 해석 수단(6)은 스텝 S2에서, 도 8a에 도시하는 스트리어 화상(11)을 도 8b에 도시한 바와 같이 복수의 열로 분할한다. 또한, 스트리어 화상(11)에 있어서, 가로 방향(x방향)은 촬영 대상 유리판(2)의 판 폭 방향에 상당하고, 세로 방향(y방향)은 촬영 대상 유리판(2)의 두께 방향에 상당한다. 즉, 화상 해석 수단(6)은 스트리어 화상을 판 폭 방향에 따라 위치를 변화시켜서 직사각형으로 분할하면 된다.
또한, 화상 해석 수단(6)은 스트리어 화상의 콘트라스트를 보정한다(스텝 S3). 스텝 S3에 있어서, 화상 해석 수단(6)은 각 화소에 대해서 이하에 나타내는 식(1)의 계산을 행하여 얻어진 보정값(v)을 화소의 화소값으로서 재설정한다.
v=u×255/(MAX-MIN) …식(1)
식(1)의 좌변의 v는 보정 후의 새로운 화소값이다. 식(1)의 우변의 "u"는 스텝 S1에서 얻은 스트리어 화상에 있어서의 개개의 화소의 화소값이다. 또한, 우변의 "255"는 촬영된 스트리어 화상에 있어서 화소값을 표현하는 8비트의 비트열에서 표현 가능한 최고 계조의 화소값이다. 또한, 식(1)에 있어서, MAX는 스텝 S1에서 얻은 스트리어 화상에 있어서의 각 화소의 화소값의 최댓값이다. MIN은 스텝 S1에서 얻은 스트리어 화상에 있어서의 각 화소의 화소값의 최솟값이다.
또한, 스텝 S2에서는, 분할 영역마다 각 화소의 보정값을 산출하고, 그때, 식(1)의 MAX, MIN으로서 화소가 속하는 분할 영역 내에서의 화소값의 최댓값, 최솟값을 사용해도 된다.
또한, 식(1)에서 계산된 보정 후의 새로운 화소값(v)은 8비트로 표현되어 있지 않아도 된다. 또한, 식(1)에서 계산된 보정 후의 화소값(v)은 소수로 표현된 값이어도 된다.
이어서, 화상 해석 수단(6)은, 스텝 S2에서 화소값을 재설정한 스트리어 화상에 있어서, 개개의 분할 영역(도 8b 참조)에 나타나는 촬영 대상 유리판(2)의 에지 부분의 화상의 y좌표가 정렬되도록 스트리어 화상의 개개의 분할 영역을 두께 방향으로 옮긴다(스텝 S4). 도 9는 스트리어 화상 내에 나타나는 촬영 대상 유리판(2)의 에지 부분을 모식적으로 도시하는 설명도이다. 도 9에 있어서도 스트리어(줄무늬 모양)의 도시는 생략하고 있다. 촬영 대상 유리판(2)의 에지 부분(상단부 및 하단부 부분)은, 스트리어 화상에 있어서 흑색 또는 백색의 화상으로서 나타나고, 다른 부분과는 상이한 화상이 된다. 도 9에 나타내는 예에서는, 스트리어 화상(11)에 있어서, 촬영 대상 유리판(2)의 하단부의 에지 부분(12)이나, 상단부의 에지 부분(13)은 흑색 또는 백색이 된다. 촬영 대상 유리판(2)의 내부에 상당하는 영역(14)에는 스트리어가 나타나지만, 상기와 같이 도시를 생략하고 있다.
촬영 대상 유리판(2)에는 휨이 발생하고 있는 경우가 있다. 그로 인해, 스트리어 화상에 있어서, 에지 부분(12, 13)의 y좌표는 일정해진다고는 할 수 없고, 도 9에 예시하는 바와 같이 변화하고 있다. 스텝 S4에서는, 화상 해석 수단(6)은 각 분할 영역에서, 예를 들어 하단부의 에지 부분(12)을 검출한다. 이때, 흑색 또는 백색의 화상으로서 나타나고 있는 개소를 에지 부분(12)으로서 검출하면 된다. 그리고, 화상 해석 수단(6)은 각 분할 영역으로부터 검출한 에지 부분(12)의 y좌표를 정렬시키도록 각 분할 영역을 두께 방향으로 옮긴다. 단, 촬영 대상 유리판(2)의 내부에 상당하는 영역(14)에 에지 부분과 마찬가지로 흑색 또는 백색이 되는 개소가 발생하는 경우도 있다. 그로 인해, 인접하는 분할 영역끼리에서 에지 부분(12)으로서 검출한 개소의 y좌표끼리의 차가 미리 정한 임계값보다 큰 경우에는, 화상 해석 수단(6)은 어느 쪽의 영역에서의 에지 부분이 오검출되어 있다고 판정하고, 에지 부분(12)에 해당하는 개소로서 다른 개소를 다시 검출하면 된다.
도 9에 예시하는 스트리어 화상(11)에 대하여 스텝 S4의 처리를 행한 결과의 예를 도 10에 도시한다. 스텝 S4의 처리의 결과, 도 10에 도시한 바와 같이, 하단부의 에지 부분(12) 및 상단부의 에지 부분(13)의 y좌표는 정렬된다. 이 스텝 S4의 처리는 스트리어 화상 상에 나타나 있는 촬영 대상 유리판(2)의 휨을 보정하는 처리라고 할 수 있다.
또한, 상기의 설명에서는, 촬영 대상 유리판(2)의 하단부의 에지 부분(12)의y좌표를 정렬시키도록 각 분할 영역을 두께 방향으로 옮기는 경우에 대하여 설명했지만, 화상 해석 수단(6)은 촬영 대상 유리판(2)의 상단부의 에지 부분(13)의 y좌표를 정렬시키도록 각 분할 영역을 두께 방향으로 옮겨도 된다.
또한, 촬영 대상 유리판(2)에 있어서, 판 두께가 변화하고 있는 경우가 있다. 그 경우, 하단부의 에지 부분(12)으로부터 상단부의 에지 부분(13)까지의 길이(화소수)가 분할 영역끼리의 사이에서 상이한 경우가 발생한다. 그 경우, 화상 해석 수단(6)은 어느 하나의 분할 영역에서의 하단부의 에지 부분(12)부터 상단부의 에지 부분(13)까지의 화소수를 기준으로 하여, 다른 각 분할 영역에서의 하단부의 에지 부분(12)부터 상단부의 에지 부분(13)까지의 화소수가 기준이 되는 화소수와 동등해지도록 각 분할 영역의 화상을 두께 방향(y방향)으로 축소 또는 확대하면 된다.
스텝 S4에서 분할 영역을 두께 방향으로 옮기고, 도 10에 예시한 바와 같이 에지 부분의 y좌표를 정렬시킨 후, 화상 해석 수단(6)은 스텝 S5 이후의 처리에서는 촬영 대상 유리판(2)의 화상에 상당하는 영역(15) 내의 화소를 대상으로 하여 처리를 행한다. 영역(15)은 하단부의 에지 부분부터 상단부의 에지 부분까지의 범위이다.
화상 해석 수단(6)은 스텝 S4의 처리 후의 스트리어 화상에 있어서의 영역(15)(도 10 참조)에 속하는 개개의 화소에 대해서, 그 양측에 존재하는 소정의 복수 세트의 화소의 화소값의 차분의 평균값을 계산한다(스텝 S5). 구체적으로는, 화상 해석 수단(6)은 개개의 화소를 순차 선택하고, 선택한 화소의 양측에 존재하는 소정의 복수 세트의 화소의 화소값의 차분의 평균값을 계산하면 된다. 이하, 이 값을 차분 평균값이라고 기재한다.
스텝 S5에 있어서, 선택하고 있는 화소의 좌표를 (x, y)라고 기재하기로 한다. 또한, 이때, 선택한 화소의 1라인 위의 y좌표를 "y+1"이라고 하고, 선택한 화소의 2라인 위의 y좌표를 "y+2"라고 한다. 또한, 선택한 화소의 1라인 밑의 y좌표를 "y-1"이라고 하고, 선택한 화소의 2라인 위의 y좌표를 "y-2"라고 한다.
또한, 선택한 화소로부터 촬영 대상 유리판(2)에 있어서의 kmm에 상당하는 화소분만큼 좌방향으로 어긋난 화소의 x좌표를 "x-ak"라고 기재하고, 선택한 화소로부터 촬영 대상 유리판(2)에 있어서의 kmm에 상당하는 화소분만큼 우방향으로 어긋난 화소의 x좌표를 "x+ak"라고 기재한다. 이때, 좌표 (x-ak, y)와 좌표 (x+ak, y)의 간격인 2·ak는 촬영 대상 유리판(2)에 있어서 2·kmm에 상당한다. 이 선택한 화소의 x좌표를 중심으로 x방향으로 배열하는 2개의 좌표의 간격이 나타내는 촬영 대상 유리판(2)에 있어서의 길이를 피치라고 기재한다. 또한, 상기의 ak는 촬영 대상 유리판(2)에서 kmm에 상당하는 스트리어 화상 내에서의 화소의 좌표간의 거리라고 할 수 있다.
또한, 임의의 좌표 (X, Y)의 화소의 화소값을 C(X, Y)라고 나타내기로 한다. 예를 들어, 좌표 (x-ak, y)의 화소의 화소값을 C(x-ak, y)라고 기재한다.
화상 해석 수단(6)은, 피치 2·k의 값을 순차 선택하고, 1종의 피치를 선택했을 때에는, 이하에 나타내는 식(2)의 계산을 행함으로써 선택한 화소에 대하여 차분 평균값을 계산한다. 또한, 피치가 2·kmm인 경우의 차분 평균값을 T2·k라고 기재한다.
T2·k={C(x-ak, y-2)+C(x-ak, y-1)+C(x-ak, y)+C(x-ak, y+1)+C(x-ak, y+2)-C(x+ak, y-2)-C(x+ak, y-1)-C(x+ak, y)-C(x+ak, y+1)-C(x+ak, y+2)}/5 …식(2)
도 11은 식(2)에 의해 차분 평균값을 계산할 때에 사용하는 화소를 도시하는 설명도이다. 화소(20)는 선택하고 있는 화소이다. 식(2)에 있어서, {C(x-ak, y-2)-C(x+ak, y-2)}는 도 11에 도시하는 화소(25)의 화소값으로부터 화소(30)의 화소값을 감산한 차분값이다. 또한, 식(2)에 있어서, {C(x-ak, y-1)-C(x+ak, y-1)}은 화소(24)의 화소값으로부터 화소(29)의 화소값을 감산한 차분값이다. 또한, 식(2)에 있어서, {C(x-ak, y)-C(x+ak, y)}는 화소(23)의 화소값으로부터 화소(28)의 화소값을 감산한 차분값이다. 또한, 식(2)에 있어서, {C(x-ak, y+1)-C(x+ak, y+1)}은 화소(22)의 화소값으로부터 화소(27)의 화소값을 감산한 차분값이다. 또한, 식(2)에 있어서, {C(x-ak, y+2)-C(x+ak, y+2)}는 화소(21)의 화소값으로부터 화소(26)의 화소값을 감산한 차분값이다. 식(2)의 우변에서는 이들 차분값의 합을 5로 나누어서 차분 평균값을 산출하고 있다.
즉, 식(2)의 좌변의 차분 평균값(T2·k)은, 화소(25, 30)의 화소값의 차분, 화소(24, 29)의 화소값의 차분, 화소(23, 28)의 화소값의 차분, 화소(22, 27)의 화소값의 차분 및 화소(21, 26)의 화소값의 차분의 평균값이다.
화상 해석 수단(6)은 피치로서 10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm를 각각 선택한다. 그리고, 화상 해석 수단(6)은 각 피치에 있어서 개개의 좌표에 관해서 식(2)의 계산을 행하여 차분 평균값을 산출한다.
예를 들어, 피치로서 10mm를 선택한 경우에는, 화상 해석 수단(6)은 각 화소를 선택하고, 선택한 화소 (x, y)에 대해서 이하의 계산을 행한다.
T10={C(x-a5, y-2)+C(x-a5, y-1)+C(x-a5, y)+C(x-a5, y+1)+C(x-a5, y+2)-C(x+a5, y-2)-C(x+a5, y-1)-C(x+a5, y)-C(x+a5, y+1)-C(x+a5, y+2)}/5
이 계산은 피치 2·k=10mm로 한 경우에 있어서의 식(2)의 계산이다.
화상 해석 수단(6)은 10mm의 이외에 피치로서 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm를 각각 선택하여 동일한 처리를 행한다.
스텝 S5의 후, 화상 해석 수단(6)은 스텝 S5에서 선택한 각각의 피치(10, 20, 30, 40, 50, 60, 70mm)에 대해서 화소열마다 스텝 S5에서 계산한 차분 평균값의 제곱 평균을 계산하고, 또한, 화소열마다 계산한 제곱 평균의 값의 평균값을 계산한다(스텝 S6). 이 계산은 각 피치에 대하여 행해지므로, 스텝 S6에서는 7종류의 피치에 대하여 값을 구하게 된다.
스텝 S6에서 화소열마다 계산하는 제곱 평균은 스텝 S5에서 계산한 차분 평균값의 절댓값의 크기의 지표값을 화소열마다 구한 값이라고 할 수 있다. 이 값이 크다는 것은, 화소열의 양측 화소의 화소값의 차분이 크고, 두께 방향의 스트리어가 현저하게 나타나 있음을 의미한다.
도 12a는 피치가 10mm인 경우에 있어서 화소열마다 계산된 차분 평균값의 제곱 평균의 계산 결과의 예를 나타내는 그래프이다. 도 12b는 피치가 20mm인 경우에 있어서 화소열마다 계산된 차분 평균값의 제곱 평균의 계산 결과의 예를 나타내는 그래프이다. 도 12c는 피치가 70mm인 경우에 있어서 화소열마다 계산된 차분 평균값의 제곱 평균의 계산 결과의 예를 나타내는 그래프이다. 도 12d는 도 12a, 도 12b 및 도 12c의 계산 결과의 근원이 되는 스트리어 화상을 모식적으로 도시한 모식도이다. 피치가 10mm, 20mm인 경우에는, 좌측으로부터 70 내지 90번째 부근의 화소열에서 제곱 평균의 값이 커져 있다(도 12a, 도 12b 참조). 이것은, 도 12d에 도시한 바와 같이, 좌측으로부터 70 내지 90번째의 화소열의 부근에서 간격이 미세한 스트리어가 나타나 있음을 의미한다. 또한, 피치가 70mm인 경우에는, 좌측으로부터 670 내지 730번째 부근의 화소열에서 제곱 평균의 값이 커져 있다(도 12c 참조). 이것은, 도 12d에 도시한 바와 같이, 좌측으로부터 670 내지 730번째의 화소열의 부근에서 간격이 성긴 스트리어가 나타나 있음을 의미한다.
스텝 S6에서는, 화상 해석 수단(6)은 개개의 화소열마다 계산한 값(차분 평균값의 제곱 평균)의 평균값을 계산함으로써, 도 12a부터 도 12c까지 예시하는 그래프에 있어서의 종축의 값의 평균값을 구한다. 또한, 도 12a, 도 12b 및 도 12c에서는 3종류의 피치의 그래프를 예시했지만, 상기한 바와 같이 화상 해석 수단(6)은 이 평균값을 7종류의 피치 각각에 대하여 계산한다.
또한, 도 12d에서는, 설명을 간단하게 하기 위해서 좌측으로부터 70 내지 90번째의 화소열의 부근에 있어서의 간격이 미세한 스트리어와, 좌측으로부터 670 내지 730번째의 화소열의 부근에 있어서의 간격이 성긴 스트리어만을 모식적으로 도시하고 있다. 실제의 스트리어 화상에서는 화상 전체에 스트리어가 관찰된다. 그리고, 촬영 대상 유리판(2)의 조성이 불균일할수록 스트리어의 콘트라스트가 강하게 나타나 스트리어가 현저하게 관찰된다.
스텝 S6에 있어서, 7종류의 피치에 대해서 각각 값(화소열마다 계산한 제곱 평균의 평균값)을 계산한 후, 화상 해석 수단(6)은 7종류의 피치에 대하여 계산한 각 값에 대하여 가중 계수를 승산하고, 그 승산 결과의 총합을 계산한다(스텝 S7). 이 계산 결과가 평가값(두께 방향의 스트리어의 현저함을 나타내는 평가값)이다. 평가값을 p라고 하면, 스텝 S7에 있어서, 화상 해석 수단(6)은 이하의 식(3)의 계산을 행한다.
p=a×p1+b×p2+c×p3+d×p4+e×p5+f×p6+g×p7 …식(3)
식(3)에 있어서, p1은 피치 10mm에 대한 스텝 S6의 계산 결과이다. p2는 피치 20mm에 대한 스텝 S6의 계산 결과이다. p3은 피치 30mm에 대한 스텝 S6의 계산 결과이다. p4는 피치 40mm에 대한 스텝 S6의 계산 결과이다. p5는 피치 50mm에 대한 스텝 S6의 계산 결과이다.
p6은 피치 60mm에 대한 스텝 S6의 계산 결과이다. p7은 피치 70mm에 대한 스텝 S6의 계산 결과이다.
또한, 식(3)에 있어서, a는 p1에 승산하는 가중 계수이며, 본 실시 형태에서는 "0.045"이다. b는 p2에 승산하는 가중 계수이며, 본 실시 형태에서는 "0.056"이다. c는 p3에 승산하는 가중 계수이며, 본 실시 형태에서는 "0.057"이다. d는 p4에 승산하는 가중 계수이며, 본 실시 형태에서는 "0.064"이다. e는 p5에 승산하는 가중 계수이며, 본 실시 형태에서는 "0.062"이다. f는 p6에 승산하는 가중 계수이며, 본 실시 형태에서는 "0.074"이다. g는 p7에 승산하는 가중 계수이며, 본 실시 형태에서는 "0.088"이다.
즉, 본 실시 형태에 있어서, 식(3)은 보다 구체적으로는 이하와 같이 나타낼 수 있다.
p=0.045×p1+0.056×p2+0.057×p3+0.064×p4+0.062×p5+0.074×p6+0.088×p7
…식(3)
상술한 바와 같이, 유리 리본의 전체 폭으로부터 잘라낸 모든 촬영 대상 유리판에 대하여 각각 스텝 S1 내지 S7을 행하므로, 그 모든 촬영 대상 유리판에 대해서 각각 평가값(p)을 구하게 된다.
스텝 S7까지의 처리를 각각의 촬영 대상 유리판에 대하여 행하고, 각 촬영 대상 유리판에 대하여 각각 평가값(p)을 계산하면, 화상 해석 수단(6)은 촬영 대상 유리판마다 계산한 각 평가값(p)과 미리 정해진 임계값을 비교하여 유리 리본(7)의 범위(10)(도 3 참조)로부터 판 채취한 유리판의 조성의 균일성을 평가한다. 모든 촬영 대상 유리판의 평가값(p)이 모두 임계값 미만이면, 화상 해석 수단(6)은 유리 리본(7)의 범위(10)로부터 판 채취한 유리판의 조성의 균일성이 일정한 레벨 이상으로 높다고 판정한다. 한편, 모든 촬영 대상 유리판 중 일부의 촬영 대상 유리판에 대하여 평가값(p)이 임계값 이상이면, 유리 리본(7)의 범위(10)로부터 판 채취한 유리판의 조성의 균일성이 일정한 레벨에 도달하고 있지 않다고 판단한다.
즉, 촬영 대상 유리판(2)마다 산출한 평가값(p)이 모두 임계값 미만이라고 판정한 경우, 화상 해석 수단(6)은 유리 리본(7)에 있어서의 촬영 대상 유리판(2)의 잘라낸 부분의 제조 시점부터 전후 2시간의 범위에서 제조된 유리 리본의 범위(10)(도 3 참조)로부터 판 채취한 복수의 유리판(1)에 대해서 유리의 조성의 균일성이 일정한 레벨에 도달하고 있는 것으로서 선별(판정)한다. 바꾸어 말하면, 촬영 대상 유리판(2)의 잘라낸 부분의 제조 시점부터 전후 2시간의 범위에서 제조된 유리 리본의 범위(10)로부터 판 채취한 복수의 유리판(1)을 양품으로서 선별한다(스텝 S8).
한편, 스텝 S8에 있어서, 모든 촬영 대상 유리판 중 일부의 촬영 대상 유리판에 대하여 평가값(p)이 임계값 이상이라고 판정한 경우, 화상 해석 수단(6)은 유리 리본(7)에 있어서의 촬영 대상 유리판(2)의 잘라낸 부분의 제조 시점부터 전후 2시간의 범위에서 제조된 유리 리본의 범위(10)로부터 판 채취한 복수의 유리판(1)에 대해서 유리의 조성의 균일성이 일정한 레벨에 도달하고 있지 않은 것으로서 선별(판정)한다. 즉, 그들 복수의 유리(1)를 양품이 아닌 것으로서 선별한다.
스텝 S8에서 사용하는 임계값은 6으로 정해 둔다. 단, 조성의 균일성이 보다 높은 유리판을 선별하는 것이라면 임계값을 4로 해도 된다. 즉, 임계값을 6으로 하는 경우보다, 임계값을 4로 한 경우의 쪽이 조성의 균일성이 보다 높은 유리판을 선별할 수 있다. 또한, 임계값을 2로 해도 된다. 임계값을 2로 함으로써 더욱 조성의 균일성이 높은 유리판을 선별할 수 있다.
이상의 방법으로, 유리의 조성의 균일성이 일정한 레벨에 도달하고 있는 것으로서 선별된 복수의 유리판으로부터 주름 방향에 따른 폭이 1.2cm가 되는 촬영 대상 유리판을 잘라내고, 스텝 S1 내지 S8과 동일한 처리를 행하여 평가값을 구한 경우, 그 평가값도 임계값 미만이 된다.
본 발명에 의해, 조성이 일정한 레벨 이상으로 균일하고, 대형이며 얇은 유리판을 제공할 수 있다. 대형이란, 구체적으로는 긴 변의 길이가 1800mm 이상이며 짧은 변의 길이가 1500mm 이상이다. 또한, 유리판의 얇기는 0.05 내지 0.7mm이다.
또한, 본 발명의 검사 방법에 의해 유리의 조성이 일정한 레벨 이상으로 균일한 유리판을 선별할 수 있다.
이어서, 상기와 같은 평가값이 임계값 미만이 되는 본 발명의 판유리를 얻기 위한 유리 리본의 제조 방법의 예에 대하여 설명한다. 평가값이 임계값 미만이라는 것은 유리판의 조성의 균일성이 일정한 레벨 이상인 것이며, 조성의 균일성을 향상시키도록 유리 리본을 제조하면 된다.
이하에, 유리의 균일성을 향상시키기 위한 4개의 방법을 나타낸다. 이하에 나타내는 4개의 방법 중 어느 1개를 유리 리본의 제조 방법에 적용해도 되고, 4개의 방법 중 임의의 복수의 방법을 유리 리본의 제조 방법에 적용해도 된다. 또는, 이하에 나타내는 4개의 방법 이외의 방법을 유리 리본의 제조 방법에 적용해도 된다. 이들 방법으로 제조된 유리 리본으로부터 본 발명의 유리판을 판 채취할 수 있다.
유리의 균일성을 향상시키는 제1 방법은 유리 리본의 뱃치 원료와 혼합하는 파유리의 입도를 일정한 범위로 한정하는 것이다. 예를 들어, 파유리의 입도를 중량％로 0.5mm 이하 5％ 이내, 10mm 이하 75％ 이상으로 한정하면 된다. 이와 같이, 뱃치 원료와 혼합하는 파유리의 입도를 한정하는 경우에는, 예를 들어 분체 분급기에 의해 원하는 입도 범위의 파유리를 분류하고, 그 파유리를 뱃치 원료에 혼합하여 유리 리본을 제조하면 된다.
유리의 균일성을 향상시키는 제2 방법은 용해한 유리를 교반기로 교반하는 것이다. 도 13은 유리 리본 제조 장치에 있어서의 유리 용해조 및 반송관을 모식적으로 도시하는 모식도이다. 유리 용해조(41)에 있어서, 유리는 용해된 상태가 된다. 용융 유리의 반송관(42)은 유리 용해조(41)에서 용해된 유리를 다음 공정에 송출하기 위한 관상 부재이다. 제2 방법의 예로서, 예를 들어 반송관(42)에 교반기(교반 장치)(43)를 설치하고, 유리 용해조(41)로부터 다음 공정에 송출되는 용해한 유리를 교반기(43)로 교반하면 된다. 교반기의 교반 회전수는, 예를 들어 소정의 교반 성능를 기초로 4 내지 7rpm으로 하면 된다. 또한, 제2 방법을 채용하지 않을 경우에는 교반기(43)를 설치하지 않아도 된다.
교반기에 관한 상기의 교반 성능에 대하여 설명한다. 도 14는 반송관(42) 내의 교반기를 도시하는 설명도이다. 도 14를 참조하여 교반 성능을 규정하는 각종 파라미터와, 바람직한 교반 성능값에 대하여 설명한다. 교반기(43)는 회전체(63)와 블레이드(62)를 구비한다. 회전체(63)는 원기둥형이며, 블레이드(62)는 회전체(63)의 측면에 설치되어 있다. 도 14에서는 4장의 블레이드(62)를 도시하고 있지만, 블레이드(62)의 수는 4장으로 한정되지는 않는다. 또한, 회전체(63)의 저면부터 각 블레이드(62)의 설치 위치까지의 높이는 회전체(63) 측면에 있어서의 위치에 따라 상이해도 된다. 또한, 회전체(63)의 상면(67)에는 구동축(66)이 설치되고, 구동축(66)에 의해 회전체(63)은 중심축(61)을 중심으로 회전하도록 구동된다. 이 결과, 회전체(63)의 블레이드(62)에 의해 반송관(42) 내를 흐르는 유리는 교반된다. 또한, 도 14에서는 회전체(63)의 중심축(61)과 반송관(42)의 중심축이 일치하고 있는 경우를 예시하고 있다. 따라서, 도 14에 도시하는 예에서는 교반기(43)의 중심축(61)과 유리가 흐르는 방향은 평행하다. 또한, 여기서는 회전체의 상류측의 면(67)을 상면이라고 칭하고 있다. 이하의 설명에 있어서, 회전체(63)의 상면(67)의 면적에는 구동축(66)이 설치된 부분도 포함된다. 즉, 상면(67)의 면적은 회전체(63)의 저면적과 동등하다.
또한, 도 13 및 도 14에 도시하는 바와 같이, 예를 들어 반송관(42)을 L자 형상으로 구부러지도록 형성하고, 그 구부러진 부분의 벽면으로부터 구동축(66)을 늘리도록 구성하면 된다.
교반기(43)의 회전에 의해 블레이드(62)가 통과하는 영역을 회전체(63)의 상면(67)을 포함하는 평면에 정사영하여 얻어지는 영역(65)(도 14 참조)의 면적과, 회전체(63) 상면(67)의 면적의 합을 교반 면적이라고 정의한다. 이하, 교반 면적을 A1이라고 기재한다. 교반 면적(A1)의 단위는 "m2"으로 한다.
또한, 반송관(42)의 단면적으로부터 회전체(63) 상면(67)의 면적을 감산한 값을 유리의 유로 면적이라고 정의하고, 유로 면적을 A0이라고 기재한다. 또한, A0의 단위는 "m2"으로 한다. 유로 면적(A0)은, 교반기(43)가 회전해도 회전체(63) 및 블레이드(62)가 통과하지 않는 영역을 회전체(63)의 상면(67)을 포함하는 평면에 정사영하여 얻어지는 영역(64)의 면적과, 상술한 영역(65)의 면적의 합이다.
또한, 교반기(43)의 회전 속도를 Va[rad/s]라고 한다. 교반기(43)가 구비하는 블레이드(62)의 매수를 N매라고 한다. 반송관(42) 내를 흐르는 유리의 점성을 μ[N·s/m2]라고 한다. 반송관(42) 내를 흐르는 유리의 유속을 Vg[m/s]라고 한다.
이때, 상기의 파라미터를 사용하여 교반기의 교반 성능을 나타내는 성능값(E)을 이하의 식(4)와 같이 나타낸다.
E={(A1/A0)n×Va×N}/(μ×Vg) …식(4)
또한, 식(4)에 있어서의 "n"은 상수이며, n=3.7이라고 한다. 식(4)에 의해 계산되는 E의 값이 클수록 교반기에 의한 교반으로 유리의 균질성을 보다 향상시킬 수 있다. 즉, E가 클수록 교반기의 교반 성능이 높다고 할 수 있다. 유리의 균일성을 향상시키는 제2 방법에 있어서는, E>20이 성립하도록 한 후에 교반기의 교반 회전수를, 예를 들어 4 내지 7rpm으로 하면 된다.
유리의 균일성을 향상시키는 제3 방법은 용해한 유리에 있어서의 바닥 소지를 배출하는 것이다. 바닥 소지는 용해한 유리에 있어서의 이질 소지이며 용해한 유리의 하층에 쌓이는 것이다. 유리 용해조(41)에 있어서의 유리 용해 공정 후에 바닥 소지를 배출한 후 다음 공정 이후를 행함으로써 유리 리본의 조성의 균일성을 향상시킬 수 있다. 용해한 유리의 바닥 소지를 배출하기 위해서는 반송관(42)의 하부에 바닥 소지 배출부(44)를 설치하고, 반송관(42)을 통과하는 유리의 바닥 소지를 바닥 소지 배출부(44)로부터 배출하면 된다. 바닥 소지의 배출량은, 예를 들어 유리 용해조(41)로부터 배출되는 용해 유리의 10％ 이하로 하면 된다. 또한, 제3 방법을 채용하지 않을 경우에는 바닥 소지 배출부(44)를 설치하지 않아도 된다.
유리의 균일성을 향상시키는 제4 방법은 용해한 유리에 있어서의 상부 소지를 배출하는 것이다. 상부 소지는 용해한 유리에 있어서의 이질 소지이며 용해한 유리의 상층에 쌓이는 것이다. 유리 용해조(41)에 있어서의 유리 용해 공정 후에 상부 소지를 배출한 후 다음 공정 이후를 행함으로써 유리 리본의 조성의 균일성을 향상시킬 수 있다. 용해한 유리의 상부 소지를 배출하기 위해서는 반송관(42)의 상부에 상부 소지 배출부(45)를 설치하고, 반송관(42)을 통과하는 유리의 상부 소지를 상부 소지 배출부(45)로부터 배출하면 된다. 상부 소지의 배출량은, 예를 들어 유리 용해조(41)로부터 배출되는 용해 유리의 10％ 이하로 하면 된다. 또한, 제4 방법을 채용하지 않을 경우에는 상부 소지 배출부(45)를 설치하지 않아도 된다.
제조한 유리판에 대하여 스트리어 화상을 촬영하여 산출한 평가값(p)이 미리 정해진 임계값 이상으로 되어 있는 경우, 이하에 나타내는 유리판의 제조 방법에 의해 평가값(p)이 임계값 미만이 되는 유리판을 제조하면 된다. 즉, 평가값(p)이 임계값 이상이 된 유리판의 제조 시보다 유리 원료인 파유리의 입도의 균일성을 높이는 것, 용해한 유리를 교반하는 교반기의 단위 시간당의 회전수를 많게 하는 것, 바닥 소지 배출량을 증가시키는 것, 및 상부 소지 배출량을 증가시키는 것 중 적어도 하나를 행함으로써 평가값(p)이 임계값 미만이 되는 유리판을 제조하면 된다. 상기의 4개의 항목 중 1개를 채용해도 되고, 또한, 2개 이상을 채용해도 된다.
이러한 유리판의 제조 방법으로 유리판의 유리의 조성의 균일성을 향상시킬 수 있다.
(실시예1)
이하, 본 발명의 유리 리본의 제조 방법의 구체예, 및 유리 리본으로부터 판 채취한 유리판으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판의 평가값을 나타낸다. 발명자는 상기의 제1 방법으로 유리 리본을 제조하였다. 즉, 뱃치 원료와 혼합하는 파유리의 입도를 일정한 범위로 한정하여 유리 리본을 제조하였다. 파유리의 입도는 중량％로 0.5mm 이하 5％ 이내, 10mm 이하 75％ 이상의 범위로 한정하였다. 또한, 이러한 입도의 파유리는 분체 분급기에 의해 파유리를 분류함으로써 얻었다.
입도가 중량％로 0.5mm 이하 5％ 이내, 10mm 이하 75％ 이상의 범위의 파유리만을 뱃치 원료에 혼합하여 용해하고, 유리 리본을 제조하였다. 이때, 상기의 제2부터 제4까지의 각 방법은 채용하지 않았다. 즉, 교반기에 의한 교반, 바닥 소지의 배출 및 상부 소지의 배출은 행하지 않았다.
도 15는 각 실시예에 있어서의 유리판의 판 채취 형태를 도시하는 설명도이다. 유리 리본(7)을 제조한 후, 도 15에 도시한 바와 같이, 유리 리본(7)의 좌측 부분으로부터 유리판(51L)을 판 채취하고, 중앙 부분으로부터 유리판(51C)을 판 채취하고, 우측 부분으로부터 유리판(51R)을 판 채취하였다. 실시예1에 있어서, 유리판(51L, 51C, 51R)을 판 채취한 후, 또한, 이 3장의 유리판으로부터 각각 주름 방향에 따른 폭이 1.2cm가 되는 촬영 대상 유리판을 잘라냈다. 촬영 대상 유리판에 있어서의 주름에 수직인 방향의 폭은 40cm로 하였다. 그리고, 이 3장의 촬영 대상 유리판에 대하여 각각 스텝 S1 내지 S8의 처리를 행하여 평가값(p)을 산출하였다.
각 실시예 및 비교예에 있어서의 평가값의 결과를 표 1에 나타내었다.
Figure pct00001
실시예1에서는, 표 1에 나타낸 바와 같이, 3장의 유리판(51L, 51C, 51R)으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판의 평가값은 "5.74", "5.33", "2.86"이며, 그 평균값은 "4.64"이었다. 이와 같이, 3장의 유리판 각각에 대해서 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 임계값 6 미만이 되고, 유리판의 조성의 균일성이 양호하였다.
(실시예2)
발명자는 상기의 제1 방법과 제2 방법을 채용하여 유리 리본을 제조하였다. 구체적으로는, 입도가 중량％로 0.5mm 이하 5％ 이내, 10mm 이하 75％ 이상의 범위의 파유리만을 뱃치 원료에 혼합하여 용해하고, 유리 용해조(41)(도 13 참조)로부터 용해 유리를 수송하는 반송관(42) 내에서 교반기(43)(도 13 참조)를 회전시켜 용해 유리를 교반하였다. 교반기(43)의 회전 수는 E>20이 성립하도록 한 후에 4 내지 7rpm으로 하였다. 또한, 상기의 제3 및 제4의 방법은 채용하지 않았다. 즉, 바닥 소지의 배출 및 상부 소지의 배출은 행하지 않았다.
유리 리본을 생성한 후, 실시예1의 경우와 동일하게 유리 리본의 좌측 부분, 중앙 부분 및 우측 부분으로부터 각각 유리판(51L, 51C, 51R)을 판 채취했다(도 15 참조). 또한, 이 3장의 유리판으로부터 각각 주름 방향에 따른 폭이 1.2cm가 되는 촬영 대상 유리판을 잘라냈다. 촬영 대상 유리판의 크기는 실시예1과 동일하다. 그리고, 이 3장의 촬영 대상 유리판에 대하여 각각 스텝 S1 내지 S8의 처리를 행하여 평가값(p)을 산출하였다.
실시예2에서는, 3장의 유리판(51L, 51C, 51R)으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 "2.90", "1.92", "5.96"이며, 그 평균값은 "3.59"이었다(표 1 참조). 이와 같이, 3장의 유리판 각각에 대해서 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 임계값 6 미만이 되고, 유리판의 조성의 균일성이 양호하였다. 또한, 실시예1과 비교하면, 평가값(p)의 평균값은 보다 작은 값이 되어 있어서 전체적으로는 조성의 균일성이 향상되어 있다고 생각할 수 있다.
(실시예3)
발명자는 상기의 제1, 제2 및 제3의 방법을 채용하여 유리 리본을 제조하였다. 구체적으로는, 입도가 중량％로 0.5mm 이하 5％ 이내, 10mm 이하 75％ 이상의 범위의 파유리만을 뱃치 원료에 혼합하여 용해하고, 유리 용해조(42)(도 13 참조)로부터 용해 유리를 수송하는 반송관(42) 내에서 교반기(43)(도 13 참조)를 회전시켜 용해 유리를 교반하였다. 또한, 반송관(42)에 있어서 용해 유리의 바닥 소지를 배출하였다. 교반기(43)의 회전수는 E>20이 성립하도록 한 후에 4 내지 7rpm으로 하고, 바닥 소지의 배출량은 유리 용해조(41)로부터 배출되는 용해 유리의 10％로 하였다. 또한, 제4 방법은 채용하지 않았다. 즉, 상부 소지의 배출은 행하지 않았다.
유리 리본을 생성한 후, 실시예1의 경우와 동일하게 유리 리본의 좌측 부분, 중앙 부분 및 우측 부분으로부터 각각 유리판(51L, 51C, 51R)을 판 채취했다(도 15 참조). 또한, 이 3장의 유리판으로부터 각각 주름 방향에 따른 폭이 1.2cm가 되는 촬영 대상 유리판을 잘라냈다. 촬영 대상 유리판의 크기는 실시예1, 2와 동일하다. 그리고, 이 3장의 촬영 대상 유리판에 대하여 각각 스텝 S1 내지 S8의 처리를 행하여 평가값(p)을 산출하였다.
또한, 실시예3에 대해서는 2회 실시하였다. 1회째에 있어서의 유리판(51L, 51C, 51R)으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 "2.94", "2.53", "1.76"이며, 그 평균값은 "2.41"이었다(표 1 참조). 또한, 2회째에 있어서의 유리판(51L, 51C, 51R)으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 "2.22", "2.53", "2.15"이며, 그 평균값은 "2.30"이었다(표 1 참조). 1회째에 대해서도, 2회째에 대해서도 각 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 모두 임계값 6 미만이 되고, 유리판의 조성의 균일성이 양호하였다. 또한, 실시예1, 2와 비교하면, 평가값(p)의 평균값은 보다 작은 값이 되어 있어서 바닥 소지의 배출에 의해 조성의 균일성이 향상되어 있다고 할 수 있다.
(실시예4)
발명자는 상기의 제1부터 제4까지의 각 방법을 각각 채용하여 유리 리본을 제조하였다. 구체적으로는, 입도가 중량％로 0.5mm 이하 5％ 이내, 10mm 이하 75％ 이상의 범위의 파유리만을 뱃치 원료에 혼합하여 용해하고, 유리 용해조(41)(도 13 참조)로부터 용해 유리를 수송하는 반송관(42) 내에서 교반기(43)(도 13 참조)를 회전시켜 용해 유리를 교반하였다. 또한, 반송관(42)에 있어서 용해 유리의 바닥 소지 및 상부 소지를 각각 배출하였다. 교반기(43)의 회전수는 E>20이 성립하도록 한 후에 4 내지 7rpm으로 하고, 바닥 소지의 배출량은 유리 용해조(41)로부터 배출되는 용해 유리의 10％로 하였다. 또한, 상부 소지의 배출량은 바닥 소지 배출량의 1/3로 하였다.
유리 리본을 생성한 후, 실시예1의 경우와 동일하게 유리 리본의 좌측 부분, 중앙 부분 및 우측 부분으로부터 각각 유리판(51L, 51C, 51R)을 판 채취했다(도 15 참조). 또한, 이 3장의 유리판으로부터 각각 주름 방향에 따른 폭이 1.2cm가 되는 촬영 대상 유리판을 잘라냈다. 촬영 대상 유리판의 크기는 실시예 1 내지 3과 동일하다. 그리고, 이 3장의 촬영 대상 유리판에 대하여 각각 스텝 S1 내지 S8의 처리를 행하여 평가값(p)을 산출하였다.
실시예4에 대해서도 2회 실시하였다. 1회째에 있어서의 유리판(51L, 51C, 51R)으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 "1.37", "1.81", "0.74"이며, 그 평균값은 "1.31"이었다(표 1 참조). 또한, 2회째에 있어서의 유리판(51L, 51C, 51R)으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 "1.38", "1.09", "0.63"이며, 그 평균값은 "1.03"이었다(표 1 참조). 1회째에 대해서도, 2회째에 대해서도 각 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 모두 임계값 6 미만이 되고, 유리판의 조성의 균일성이 양호하였다. 또한, 실시예 1 내지 3과 비교하면, 평가값(p)의 평균값은 보다 작은 값이 되고 있어서 상부 소지의 배출에 의해 조성의 균일성이 향상되어 있다고 할 수 있다.
[비교예]
발명자는 비교예로서 상기의 제1부터 제4까지의 어느 방법도 채용하지 않고 유리 리본을 제조하였다. 실시예1의 경우와 동일하게 유리 리본의 좌측 부분, 중앙 부분 및 우측 부분으로부터 각각 유리판(51L, 51C, 51R)을 판 채취했다(도 15 참조). 또한, 이 3장의 유리판으로부터 실시예 1 내지 4와 동일하게 촬영 대상 유리판을 잘라내고, 각 촬영 대상 유리판에 대하여 각각 스텝 S1 내지 S8의 처리를 행하여 평가값(p)을 산출하였다. 또한, 비교예에서 제조한 유리 리본의 전체 폭분의 스트리어 화상의 일례를 도 16에 도시하였다. 도 16에 도시하는 스트리어 화상은 유리 리본의 전체 폭으로부터 잘라낸 각 촬영 대상 유리판에 대하여 촬영한 스트리어 화상을 늘어 놓은 화상이다.
이 경우, 각 유리판(51L, 51C, 51R)으로부터 잘라낸 촬영 대상 유리판의 평가값(p)은 "9.32", "4.43", "9.49"이며, 그 평균값은 "7.75"이었다. 이와 같이, 제1부터 제4까지의 어느 방법도 채용하지 않을 경우에는 평가값(p)이 6 미만이 되는 경우도 있지만, 전체적으로 평가값의 값은 커지고, 실시예 1 내지 4와 비교하여 조성의 균일성이 낮아져 있다고 생각할 수 있다.
본 발명은 대형이며 얇은 유리판을 사용하는 다양한 제품이며, 유리판의 조성에 대하여 높은 균일성을 요구하는 다양한 제품에 이용 가능하다.
본 출원을 상세하게 또한 특정한 실시 형태를 참조하여 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 여러 변형이나 수정을 가할 수 있는 것은 당업자에게 있어서 명확하다.
본 출원은 2010년 12월 15일 출원의 일본 특허 출원(일본 특허 출원 제2010-279211호)에 기초하는 것으로, 그 내용은 여기에 참조로서 도입된다.
1: 유리판
2: 촬영 대상 유리판
5: 화상 촬영 수단
6: 화상 해석 수단
7: 유리 리본
12, 13: 에지 부분

Claims (4)

  1. 두께가 0.05 내지 0.7mm이고, 긴 변의 길이가 1800mm 이상이고, 짧은 변의 길이가 1500mm 이상인 직사각형의 유리판이며,
    당해 유리판으로부터 주름 방향의 폭을 1.2cm로 하여 스트리어(stria) 화상의 촬영 대상 유리판을 잘라내고,
    상기 촬영 대상 유리판의 주름 방향에 직교하는 측면의 스트리어 화상이며, 당해 측면의 각 개소로부터 카메라를 향하여 입사된 광의 광량과, 상기 각 개소에 대응하는 화소의 화소값이 선형이 되는 스트리어 화상을 촬영하고,
    상기 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하고,
    상기 스트리어 화상 내의 화소값의 최댓값을 MAX라고 하고, 최솟값을 MIN이라고 하고, 상기 스트리어 화상의 개개의 화소의 화소값을 u라고 하고, 새로운 화소값을 v라고 했을 때, 상기 스트리어 화상 내의 화소마다 식(1)의 계산을 행해서 v를 산출하고, 각 화소의 화소값을 v로 재설정하고,
    상기 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하여 얻어진 각 분할 영역 내의 촬영 대상 유리판의 에지 부분의 y좌표가 정렬되도록 각 분할 영역을 y방향으로 옮기고,
    상기 촬영 대상 유리판에서 kmm에 상당하는 상기 스트리어 화상 내에서의 화소의 좌표간의 거리를 ak로 한 경우에, 2·k=10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm로 하는 각각의 경우에 대해서, 분할 영역을 옮긴 후의 스트리어 화상에서 상기 촬영 대상 유리판을 나타내는 영역의 화소를 순차 선택하고, 임의의 좌표 (X, Y)의 화소값을 C(X, Y)라고 나타내고, 선택한 화소의 좌표를 (x, y)라고 나타내고, 상기 선택한 화소의 양측에 존재하는 소정의 복수 세트의 화소의 화소값의 차분의 평균값인 차분 평균값을 T2 ·k라고 나타냈을 때, 식(2)의 계산을 행함으로써 선택한 화소에 관한 차분 평균값(T2·k)을 계산하고,
    2·k=10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm로 하는 각각의 경우에 대해서, 화소마다 계산한 차분 평균값(T2·k)의 제곱 평균을 화소열마다 계산하고, 화소열마다 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 계산하고,
    2·k=10mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p1이라고 하고, 2·k=20mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p2라고 하고, 2·k=30mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p3이라고 하고, 2·k=40mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p4라고 하고, 2·k=50mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p5라고 하고, 2·k=60mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p6이라고 하고, 2·k=70mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p7이라고 했을 때에, 식(3)의 계산에 의해 얻어지는 평가값(p)이 6 미만인
    것을 특징으로 하는 유리판.
    v=u×255/(MAX-MIN) …식(1)
    T2·k={C(x-ak, y-2)+C(x-ak, y-1)+C(x-ak, y)+C(x-ak, y+1)+C(x-ak, y+2)-C(x+ak, y-2)-C(x+ak, y-1)-C(x+ak, y)-C(x+ak, y+1)-C(x+ak, y+2)}/5 …식(2)
    p=0.045×p1+0.056×p2+0.057×p3+0.064×p4+0.062×p5+0.074×p6+0.088×p7
    …식(3)
  2. 제1항에 있어서, 식(3)의 계산에 의해 얻어지는 평가값(p)이 4 미만인 유리판.
  3. 유리판의 조성의 균일성을 검사하는 유리판의 검사 방법이며,
    검사 대상이 되는 유리판을 판 채취한 유리 리본으로부터 주름 방향의 폭을 1.2cm로 하여 스트리어 화상의 촬영 대상 유리판을 판 채취하고,
    상기 촬영 대상 유리판의 주름 방향에 직교하는 측면의 스트리어 화상이며, 당해 측면의 각 개소로부터 카메라를 향하여 입사된 광의 광량과, 상기 각 개소에 대응하는 화소의 화소값이 선형이 되는 스트리어 화상을 촬영하고,
    상기 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하고,
    상기 스트리어 화상 내의 화소값의 최댓값을 MAX라고 하고, 최솟값을 MIN이라고 하고, 상기 스트리어 화상의 개개의 화소의 화소값을 u라고 하고, 새로운 화소값을 v라고 했을 때, 상기 스트리어 화상 내의 화소마다 식(1)의 계산을 행해서 v를 산출하고, 각 화소의 화소값을 v로 재설정하고,
    상기 스트리어 화상을 열 방향으로 분할하여 얻어진 각 분할 영역 내의 촬영 대상 유리판의 에지 부분의 y좌표가 정렬되도록 각 분할 영역을 y방향으로 옮기고,
    상기 촬영 대상 유리판에서 kmm에 상당하는 상기 스트리어 화상 내에서의 화소의 좌표간의 거리를 ak라고 한 경우에, 2·k=10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm로 하는 각각의 경우에 대해서, 분할 영역을 옮긴 후의 스트리어 화상에서 상기 촬영 대상 유리판을 나타내는 영역의 화소를 순차 선택하고, 임의의 좌표 (X, Y)의 화소값을 C(X, Y)라고 나타내고, 선택한 화소의 좌표를 (x, y)라고 나타내고, 상기 선택한 화소의 양측에 존재하는 소정의 복수 세트의 화소의 화소값의 차분의 평균값인 차분 평균값을 T2·k라고 나타냈을 때, 식(2)의 계산을 행함으로써 선택한 화소에 관한 차분 평균값(T2·k)을 계산하고,
    2·k=10mm, 20mm, 30mm, 40mm, 50mm, 60mm, 70mm로 하는 각각의 경우에 대해서, 화소마다 계산한 차분 평균값(T2·k)의 제곱 평균을 화소열마다 계산하고, 화소열마다 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 계산하고,
    2·k=10mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p1이라고 하고, 2·k=20mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p2라고 하고, 2·k=30mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p3이라고 하고, 2·k=40mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p4라고 하고, 2·k=50mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p5라고 하고, 2·k=60mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p6이라고 하고, 2·k=70mm의 경우에 계산한 상기 제곱 평균의 평균값을 p7이라고 했을 때, 식(3)의 계산에 의해 평가값(p)을 산출하고,
    상기 평가값(p)이 미리 정해진 임계값 미만인지의 여부를 판정하고,
    상기 평가값(p)이 상기 임계값 미만인 경우에, 상기 유리 리본에 있어서의 상기 촬영 대상 유리판의 절취 개소를 중심으로 하는 소정의 범위 내로부터 판 채취한 유리판을, 조성의 균일성이 소정 레벨에 달하고 있는 유리판이라고 판정하는
    것을 특징으로 하는 유리판의 검사 방법.
    v=u×255/(MAX-MIN) …식(1)
    T2·k={C(x-ak, y-2)+C(x-ak, y-1)+C(x-ak, y)+C(x-ak, y+1)+C(x-ak, y+2)-C(x+ak, y-2)-C(x+ak, y-1)-C(x+ak, y)-C(x+ak, y+1)-C(x+ak, y+2)}/5 …식(2)
    p=0.045×p1+0.056×p2+0.057×p3+0.064×p4+0.062×p5+0.074×p6+0.088×p7
    …식(3)
  4. 제3항에 기재된 유리판의 검사 방법으로 산출되는 평가값(p)을 참조하여 유리판을 제조하는 유리판의 제조 방법이며,
    상기 평가값(p)이 미리 정해진 임계값 이상인 경우에,
    상기 평가값(p)이 상기 임계값 이상이 된 유리판의 제조 시보다,
    유리 원료인 파유리의 입도의 균일성을 높이는 것, 용해한 유리를 교반하는 교반기의 단위 시간당의 회전수를 많게 하는 것, 바닥 소지 배출량을 증가시키는 것, 및 상부 소지 배출량을 증가시키는 것 중 적어도 하나를 행함으로써 평가값(p)이 상기 임계값 미만이 되는 유리판을 제조하는
    것을 특징으로 하는 유리판의 제조 방법.
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