KR20130126585A - 능동형 평면 자동 초점 - Google Patents

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KR20130126585A
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Abstract

특정한 디바이스 층에 관하여 일정한 층 깊이에서 검사하는 시스템. 시스템은 고정된 초점 면을 갖는 이미지 센서를 갖는다. 초점 센서는 기판의 표면 지형 감지하고 초점 데이터 스트림을 출력한다. 스테이지는 XY 면으로 기판을 이동시키고, 모터는 Z 차원으로 기판을 이동시킨다. 제어기는 셋업 모드 및 검사 모드 중 하나의 모드로 시스템을 작동시킨다. 셋업 모드에서, 제어기는 기판의 제1 부분을 스캔하기 위해서 기판의 XY 이동을 제어한다. 제어기는 초점 데이터 스트림을 수신하고, 동시에 XY 데이터를 수신하며, 기판에 대한 상관된 XYZ 데이터를 저장한다. 검사 모드에서, 제어기는 기판의 제2 부분을 스캔하기 위해서 기판의 XY 이동을 제어한다. 제어기는 초점 데이터 스트림을 수신하고, 동시에 XY 데이터를 수신하며, 가상 데이터 스트림을 생성하기 위해서 초점 데이터 스트림으로부터 저장된 Z 데이터를 차감한다. 제어기는 가상 데이터 스트림과 오프셋을, 검사 동안에 기판을 위 아래로 이동시키는 Z 모터에 주어서, 기판의 표면 지형에 관계없이, 원하는 Z 거리에서 초점 면을 고정시킨다.

Description

능동형 평면 자동 초점{ACTIVE PLANAR AUTOFOCUS}
본 발명은 집적 회로 제조 분야에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 집적 회로의 광학 검사 동안에 이용되는 것과 같은, 자동 초점 메커니즘에 관한 것이다.
집적 회로의 광학 검사는 원하는 초점 면의 매우 정확한 제어를 요구한다. 본 명세서에서 이용되는 용어 "집적 회로"는, 실리콘 또는 게르마늄과 같은 IV족 물질, 또는 갈륨 비소와 같은 III-V족 화합물, 또는 이와 같은 물질들의 혼합물로 형성되고, 단일(monolithic) 반도체 기판으로 형성된 디바이스와 같은 디바이스를 포함한다. 이 용어는 메모리 및 로직으로 형성된 모든 유형의 디바이스, 및 MOS 및 바이폴라와 같은 이와 같은 디바이스의 모든 설계를 포함한다. 용어는 또한 평평한 패널 디스플레이, 태양 전지, 발광 다이오드 어레이, 및 다수의 반복하는 3차원 전기 회로 구조를 포함하는 다른 기판과 같은 애플리케이션을 포괄한다.
현대의 집적 회로는 대개 조각화된 지형을 보인다. 다수의 층들이 증착되고 부분적으로 제거되며, 새로운 층들이 맨 위에 추가되기 때문에, (말하자면) 언덕과 골짜기의 표면 지형이 집적 회로의 표면에 걸쳐 발생한다. 따라서, 집적 회로의 제공된 프로세스 층들은 디바이스의 표면 상의 임의의 특정한 X/Y 점에 존재할 수도 있고 존재하지 않을 수도 있다. 그런 다음, 이러한 층의 Z 위치를 정의하는 면이 언덕을 가로지르고 골짜기를 횡단할 수 있다.
유감스럽게도, 현재의 검사 툴의 자동 초점 시스템은 집적 회로 검사 동안에 나타나는 하나 이상의 여러 가지 상이한 요인들에 의해 혼동되는 경향이 있다. 예를 들어, 앞서 기술된 바와 같은 조각화된 표면 지형의 Z 축에서 높이 및 깊이의 범위는 자동 초점 메커니즘을 혼동시키는 경향이 있어서, 초점 면을 원하는 층(단일 면에 존재함)에서부터 항상 시프트하는 레벨(ever-shift level)의 집적 회로 표면 지형(또는, 다른 곳)으로 시프트시킨다. 게다가, 광학 검사에 관하여 기판을 이동시키는 모터 및 척의 이동에 의해 도입되는 노이즈가 자동 초점 메커니즘을 원하는 검사 면으로부터 멀리 이동시킬 수 있다. 더욱이, 툴 외부에 있는 진동 및 기판에 걸친 휨(bow)은 원하는 검사 면으로부터 초점 면을 멀리 시프트시키는 더욱 많은 변수를 도입한다.
그러므로, 필요한 것은 일반적으로 기판 휨 및 진동과 같은 다른 Z 방해에 실시간으로 응답하기 위한 능력을 보유하면서 기판 지형 응답을 줄이는 시스템이다.
상기의 필요성 및 다른 필요성은 특정한 디바이스 층에 관하여 일정한 층 깊이에서 기판을 검사하는 광학 검사 시스템에 의해 충족된다. 검사 시스템은 고정된 초점 면을 갖는 이미지 센서를 갖는다. 초점 센서는 기판의 표면 지형에 관해서 Z 거리를 감지하고 초점 데이터 스트림으로 Z 거리를 출력한다. 초점 센서 및 이미지 센서는 공지된 관계로 배치된다. XY 스테이지는 이미지 센서 및 초점 센서에 관하여 XY 면으로 기판을 이동시키고, Z 모터는 이미지 센서 및 초점 센서에 관하여 Z 차원으로 기판을 이동시킨다. 제어기는 셋업 모드 및 검사 모드 중 하나의 모드로 광학 검사 시스템을 선택적으로 작동시킨다.
셋업 모드에서, 제어기는 초점 센서 아래의 기판의 제1 부분을 스캔하기 위해서 XY 스테이지를 이용하여 기판의 XY 이동을 제어한다. 제어기는 초점 센서로부터 초점 데이터 스트림을 수신하고, 동시에 XY 스테이지로부터 XY 데이터를 수신하며, 기판의 제1 부분에 대한 상관된 XYZ 데이터를 메모리에 저장한다. 검사 모드에서, 제어기는 초점 센서 및 이미지 센서 아래의 기판의 제2 부분을 스캔하기 위해서 XY 스테이지를 이용하여 기판의 XY 이동을 제어한다. 제어기는 초점 센서로부터 초점 데이터 스트림을 수신하고, 동시에 XY 스테이지로부터 XY 데이터를 수신하며, 초점 센서의 초점 데이터 스트림으로부터 Z 거리를 메모리에서 차감하여 가상 데이터 스트림을 생성하고, 여기서 메모리의 Z 거리는 스테이지의 XY 데이터와 상관된다. 제어기는 가상 데이터 스트림과 오프셋을, 검사 동안에 기판을 위 아래로 이동시키는 Z 모터에 주어서, 기판의 표면 지형에 관계없이, 원하는 Z 거리에서 초점 면을 고정시킨다.
이런 식으로, 임의의 정해진 위치에서 집적 회로의 표면 지형의 차이에 관계없이, 이미지 센서의 고정된 초점 면이 집적 회로의 원하는 층에서 고정된다. 더욱이, 셋업 모드는 기판 상의 집적 회로의 정해진 반복 패턴(예컨대, 단일 다이 또는 레티클 필드)을 위해 수행될 수 있다. 검사 모드는 셋업 절차를 반복하지 않고 기판 상의 다이 또는 레티클 필드 모두에 (그리고, 유사한 기판에) 적용될 수 있다.
다양한 실시예들에서, 제1 부분은 전체 기판이다. 다른 실시예들에서, 제1 부분은 기판의 하나 이상의 레티클 필드이다. 일부 실시예들에서, 제2 부분은 전체 기판이다. 다른 실시예들에서, 제2 부분은 기판의 하나 이상의 레티클 필드이다. 일부 실시예들에서, 제1 부분은 제2 부분의 부분 집합이다. 다른 실시예들에서, 제1 부분은 제2 부분과 동일하다. 일부 실시예들에서, 오프셋은 가상 데이터 스트림 위에 초점 면을 고정하는 값이다. 다른 실시예들에서, 오프셋은 가상 데이터 스트림 아래에 초점 면을 고정하는 값이다.
본 발명의 다른 양태에 따라, 기판의 특정한 디바이스 층에 관하여 일정한 층 깊이에서 기판을 검사하기 위한 방법이 기술되고, 이 방법은, 초점 센서 아래의 기판의 제1 부분을 스캔하기 위해서 기판의 XY 이동을 제어하는 단계, XY 이동 동안에 기판의 XY 위치를 감지하는 단계, 동시에 초점 센서를 이용하여 기판의 표면 지형에 관해서 Z 거리를 감지하는 단계, 기판의 제1 부분에 대한 상관된 XYZ 데이터를 저장하는 단계, 초점 센서 및 이미지 센서 아래의 기판의 제2 부분을 스캔하기 위해서 기판의 XY 이동을 제어하는 단계, 초점 센서 및 이미지 센서는 공지된 관계로 배치되고, XY 이동 동안에 기판의 XY 위치를 감지하는 단계, 동시에 초점 센서를 이용하여 기판의 표면 지형에 관해서 Z 거리를 감지하는 단계, 가상 데이터 스트림을 생성하기 위해 감지된 Z 거리로부터 저장된 Z 거리를 차감하는 단계, 저장된 Z 거리 및 감지된 Z 거리는 XY 위치에 의해 상관되며, 가상 데이터 스트림과 오프셋으로 지시된 바와 같이 이미지 센서에 관하여 기판을 위 아래로 이동시키면서, 기판의 제2 부분을 스캐닝하여, 기판의 표면 지형에 관계없이, 원하는 Z 거리에서 이미지 센서의 초점 면을 고정시키는 단계, 및 이미지 센서를 이용하여 원하는 Z 거리에서 기판의 제2 부분을 검사하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따르면, 집적 회로의 광학 검사 동안에 이용되는 자동 초점 메커니즘을 제공하는 것이 가능하다.
본 발명의 추가의 이점들은 상세한 설명이 도면과 함께 고려될 때 상세한 설명을 참조함으로써 명백하게 되고, 도면들은 세부 사항들을 더욱 명확하게 도시하기 위해서 실척도로 도시되지 않고, 동일한 참조 번호는 몇몇 도면들에 걸쳐서 동일한 요소를 나타낸다.
도 1a는 특정한 프로세스 단계에 있는 집적 회로의 횡단면도로, 표면 지형 및 동일 평면의 검사 층 및 초점 면을 도시한다.
도 1b는 반복 패턴 매트릭스(레티클 필드)를 갖는 기판의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따라, 집적 회로의 지형 정보를 측정하고, 집적 회로의 원하는 층과 동일 평면이 있도록 초점 면을 유지하면서 집적 회로를 광학 검사하는 장치의 기능적 블록도이다.
이제 도 1a를 참조하면, 표면 지형(102) 및 원하는 검사층(104)을 도시하는, 집적 회로(100)의 일부의 횡단면도가 도시되어 있다. 도 1의 도시는 임의의 특정 (또는 실제) 집적 회로(100)를 나타내도록 의도된 것이 아니라, 표면 밑에서 상이한 두께로 존재하고, 정해진 층의 부분들 사이에 에칭된 언덕 및 골짜기를 갖는, 상이한 두께를 갖는 상이한 층들을 단지 예시하기 위한 것임을 인식한다.
본 발명의 다양한 실시예들에 따른 광학 검사 툴은 검사 프로세스 동안에 나타날 수 있는 임의의 요인들에 관계없이, 항상 원하는 검사층(104)과 동일 평면에 초점 면(106)을 고정시킨다. 예를 들어, 집적 회로(100)의 지형(102), 바닥 진동, 척 범프, 및 기판 휨과 같은 요인이 초점 면(106)을 원하는 검사층(104)으로부터 멀리 이동하지 못하게 한다. 따라서, 원하는 층(104)의 초점 이미지가 이와 같은 요인들에 관계없이, 항상 유지된다.
이제, 도 1b를 참조하면, 기판(214) 상에 반복 패턴 매트릭스(레티클 필드)(112)를 갖는 기판(214)이 도시되어 있다. 이러한 레티클 필드(112)는 예를 들어 기판(214) 상의 개별 다이를 나타내고, 도 1a에 도시된 회로(100)와 같은 회로 패턴들이 하나의 다이에서 다음 다이로 반복된다. 이러한 반복 패턴(112)은 하나의 다이 패턴에서부터 다음 다이 패턴의 대응하는 부분까지 일정한 XY 오프셋을 갖는다. 도 1b의 예는 사소한 세부 사항으로 도면을 불필요하게 거추장스럽게 하지 않기 위해서 극도로 간략화된 것임을 인식한다.
이제 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따라, 기판(214) 상의 집적 회로(100)의 층(104)을 검사하기 위한 프로세서 기반 검사 툴(200)의 기능적 블록도가 도시된다. 표준 동작 모드에서, 툴(200)은 이미지 센서(210)에 관하여 기판(214)을 스캔한다. 초점 셈서(208)는 특정 시야 내에서 탑 표면(102)의 높이를 결정한다. 제어기(202)는 높이 정보를 취득하고, 그것을 이용하여 z 모터(218)를 이동시켜 특정한 위치에서 기판(214)의 탑 표면(102)이 초점 면(106)을 향해 이동하도록 한다.
그러나, 이러한 표준 동작 모드는 초점 센서(208)의 출력을 일정하게 유지하기 위해서 초점 면(106)을 계속해서 시프트시킨다. 초점 센서(208)가 일반적으로 기판(214)의 넓은 영역을 샘플링하기 때문에, 검사되는 실제 층은 임의의 정해진 때에 샘플링되는 특정한 자동 초점 시야의 지형 내용에 의해 결정된다. 더욱이, 초점 센서(208)의 응답은 자동 초점 시야 내에서 다양한 층들의 전기 특성 또는 광학 특성에 민감할 수 있어서, 시스템(200)의 응답을 더욱 혼란시키고 실제 검사 면을 결정하는 것을 어렵게 한다.
레티클 필드(112)의 반복 속성으로 인해, 등가의 XY 레티클 필드 위치가 일부 기준 표면에 관하여 동일한 Z 위치에서 검사될 수 있다. 그러나, 특정한 층(104)에 초점을 맞추도록 요구되면, 이 특정한 층(104)은 도 1에 관해서 기술된 바와 같은 상위 표면에 관하여 설정 깊이에서 기판(214) 상의 모든 위치에 존재하지 않는 경우, 이와 같은 간략화된 초점 메커니즘은 불충분하다.
따라서, 발전된 동작 모드에서, 툴(200)은 셋업 프로세스 동안에 기판(214)으로부터 지형 정보(102)를 감지하고, 검사 프로세스 동안 피드 포워드(feed-forward) 방식으로 XY 위치에 기초하여 지형 정보(102)를 보상한다. 이러한 프로세스는 기판(214)의 가상화된 표면으로서 여겨질 수 있는 것을 생성한다. 이런 식으로, 가상화된 표면으로부터 정해진 오프셋으로 초점 면(106)을 셋팅하는 것은, 도 1에 도시된 바와 같은, 원하는 층(104)에서 초점 면(106)을 유지시킨다.
따라서, 툴(200)은 피드 포워드 방법을 이용하여 기판(214)의 지형을 보상한다. 그러나, 툴(200)은 여전히 피드백 방식으로 기판(214)의 휨 및 Z 진동과 같은 다양한 영향을 동적으로 보상할 수 있다.
셋업 프로세스
기판(214)은 척(216)에 탑재되고, 척(216)은 Z 모터(218)에 탑재되며, Z 모터(218)는 XY 스테이지(204)에 탑재된다. XY 스테이지(204)가 척 센서(212)에 의해 측정된 바와 같은 고정 높이에서 XY 면으로 기판(214)을 스캔하고, 초점 센서(208)가 기판(214)의 정해진 개별 XY 위치에서 기판(214)의 표면 지형(102)을 검출할 수 있도록 하므로, 기판(214)의 지형에 대한 XYZ 맵을 발생시킨다. 대안적으로, 단일 레티클 필드(112)와 같은 기판(214)의 오직 일부만이 스캔된다.
그 다음에, 기판(214)(또는 레티클 필드(112))의 지형(102)에 대한 XYZ 맵은 기판(214)에 걸쳐 모든 동일한 레티클 필드(112)에 공통인 지형을 식별하도록 더욱 프로세싱된다. 기판(214)에 걸쳐 모든 동일한 레티클 필드 위치(112)에 공통이 아닌 지형 특징이 수학적으로 맵 데이터로부터 제거되고, 평균화된 레티클 필드 지형 맵이 구성되어 레티클 필드 위치 오프셋 테이블(206)에 저장되며, 이 레티클 필드 위치 오프셋 테이블(206)은 툴(200)에 저장되거나 또는 툴(200) 외부에 있는 일부 액세스 가능한 위치에 저장될 수 있다.
일부 실시예들에서, 지형 맵은 특정한 프로세스 단계에서 집적 회로(100)를 포함하는 정해진 기판에 대해 오직 한번 측정되고 저장되며, 그리고 나서, 그 후에 동일한 프로세스 단계에서 집적 회로(100)의 모든 등가 유형의 기판의 검사 동안에 이용된다. 다른 실시예들에서, 집적 회로(100)의 수학적 모델이 이용되어 지형 맵을 생성하고, 예를 들어 집적 회로(100)에 대한 설계 파일로부터 발생될 수 있다. 다른 실시예들에서, 지형 맵은 XY 매핑 프로세스 동안에 자동 초점 센서 출력을 일정하게 유지하고 각각의 개별 XY 위치에서 척 센서 위치를 판독함으로써 획득될 수 있다.
따라서, 레티클 필드(112) 지형의 맵이 구성되지만, 기판(214) 지형의 것은 아니다.
검사 프로세스
기판(214) 지형은 레티클 필드(112) 지형, 및 기판(214)의 휨 및 척(216)의 휨, 척(216) 상의 범프 등과 같은 다른 사항들을 모두 포함한다. 오직 레티클 필드(112) 맵이 검사 프로세스 동안에 플레이 백(played back)(초점 센서(208)의 출력 신호로부터 차감됨)된다. 플레이 백의 핵심은 현재 XY 스테이지(204) 위치가 레티클 필드(112) 지형 맵을 포함하는 메모리 뱅크에 대한 메모리 어드레스로서 이용되는 것이다. 일부 실시예들에서, 광학 이미지(210)를 위한 어떠한 동적 초점 요소도 없다. 이미지 초점을 제어하기 위해 이동되는 것은 오직 Z 모터(218)를 이용하는 스테이지 Z이다. 이것은 표면 지형에 관계없이, 제공된 레벨에서 이미지 센서(210)에 대한 광학 이미지가 초점이 맞추어지도록 한다. 다른 실시예들에서, 이동 요소는 Z 모터(218)를 이용한 Z 스테이지가 아니라, 오히려 광 경로의 초점 요소이다.
일부 실시예들에서, 위치 오프셋 테이블(206)에 저장된 지형 맵은 자동 초점 센서(208)의 집적 회로 지형 응답을 취소하기 위해서, 반대 극성으로 검사 프로세스 동안에 플레이 백된다. 이러한 지형 취소 신호는 이미지 센서(210)의 시야의 XY 위치에 기초한다. 이러한 피드 포워드 방법을 이용하여, 집적 회로(100) 지형(102)은 더 이상 이미지 센서(210)의 광학 이미지에 의해 위 아래로 추적되지 않고, 이상적인 "평면" 응답(106)이 획득되고, 척 오염 Z 방해를 탐지하도록 계속해서 시스템(200)의 능력을 유지한다.
본 발명의 실시에들의 앞서 말한 설명들은 예시와 설명을 목적으로 제시되었다. 이것은 개시된 정확한 형태로 본 발명을 제한하거나 본 발명을 완전하게 하도록 의도된 것이 아니다. 명백한 수정 또는 변형이 상기 교시를 고려하여 가능하다. 실시예들은 본 발명 및 그 실질적인 애플리케이션의 원리에 대한 예시를 제공하기 위한 노력으로 선택되고 기술된 것으로, 기술 분야의 당업자는 특별하게 고려된 사용이 적합한 다양한 실시예에서 다양한 수정을 갖는 본 발명을 이용하는 것이 가능하다. 이와 같은 모든 수정 및 변형은 첨부된 특허청구 범위에 의해 정의된 바와 같은 본 발명의 범위 내에 있고, 첨부된 특허청구 범위에 따라 이해될 때 이들은 공정하고, 합법적으로, 정당하게 자격이 주어진다.
102: 표면 지형 104: 원하는 검사층
106: 초점면 112: 레티클 필드
202: 제어기 206: 위치 오프셋 테이블
208: 초점 센서 210: 이미지 센서
202: 척 센서 214: 기판
216: 척 218: Z 모터
204: XY 스테이지

Claims (18)

  1. 기판의 특정한 디바이스 층에 관하여 일정한 층 깊이에서 기판을 검사하기 위한 광학 검사 시스템에 있어서,
    고정 초점 면을 갖는 이미지 센서,
    상기 기판의 표면 지형에 관해서 Z 거리를 감지하고 초점 데이터 스트림으로 상기 Z 거리를 출력하는 초점 센서 - 상기 초점 센서 및 상기 이미지 센서는 공지된 관계로 배치됨 - ,
    상기 이미지 센서 및 상기 초점 센서에 관하여 XY 면으로 상기 기판을 이동시키는 XY 스테이지,
    상기 이미지 센서 및 상기 초점 센서에 관하여 Z 차원으로 상기 기판을 이동시는 Z 모터, 및
    셋업 모드 및 검사 모드 중 하나의 모드로 상기 광학 검사 시스템을 선택적으로 작동시키는 제어기를 포함하고,
    상기 셋업 모드에서, 상기 제어기는,
    상기 초점 센서 아래의 상기 기판의 제1 부분을 스캔하기 위해서 상기 XY 스테이지를 이용하여 상기 기판의 XY 이동을 제어하고,
    상기 초점 센서로부터 상기 초점 데이터 스트림을 수신하고,
    동시에 상기 XY 스테이지로부터 XY 데이터를 수신하며,
    상기 기판의 제1 부분에 대한 상관된 XYZ 데이터를 메모리에 저장하고,
    상기 검사 모드에서, 상기 제어기는,
    상기 초점 센서 및 상기 이미지 센서 아래의 상기 기판의 제2 부분을 스캔하기 위해서 상기 XY 스테이지를 이용하여 상기 기판의 XY 이동을 제어하고,
    상기 초점 센서로부터 상기 초점 데이터 스트림을 수신하고,
    동시에 상기 XY 스테이지로부터 XY 데이터를 수신하고,
    가상 데이터 스트림을 생성하기 위해 상기 초점 센서의 상기 초점 데이터 스트림으로부터 상기 메모리에 있는 상기 Z 거리 - 상기 메모리로부터의 Z 거리는 상기 스테이지로부터의 XY 데이터와 상관됨 - 를 차감하며,
    상기 가상 데이터 스트림과 오프셋을, 상기 검사 동안에 상기 기판을 위 아래로 이동시키는 상기 Z 모터에 주어서, 상기 기판의 표면 지형에 관계없이, 원하는 Z 거리에서 상기 초점 면을 고정시키는 것인, 광학 검사 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 부분은 전체 기판인 것인, 광학 검사 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1 부분은 상기 기판의 적어도 하나의 레티클 필드인 것인, 광학 검사 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제2 부분은 전체 기판인 것인, 광학 검사 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제2 부분은 상기 기판의 적어도 하나의 레티클 필드인 것인, 광학 검사 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제1 부분은 상기 제2 부분의 부분 집합인 것인, 광학 검사 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제1 부분은 상기 제2 부분과 동일한 것인, 광학 검사 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 오프셋은 상기 가상 데이터 스트림 위에 상기 초점 면을 고정하는 값인 것인, 광학 검사 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 오프셋은 상기 가상 데이터 스트림 아래에 상기 초점 면을 고정하는 값인 것인, 광학 검사 시스템.
  10. 기판의 특정한 디바이스 층에 관하여 일정한 층 깊이에서 기판을 검사하기 위한 방법에 있어서,
    초점 센서 아래의 기판의 제1 부분을 스캔하기 위해서 상기 기판의 XY 이동을 제어하는 단계,
    상기 XY 이동 동안에 상기 기판의 XY 위치를 감지하는 단계,
    동시에 상기 초점 센서를 이용하여 상기 기판의 표면 지형에 관해서 Z 거리를 감지하는 단계,
    상기 기판의 제1 부분에 대한 상관된 XYZ 데이터를 저장하는 단계,
    상기 초점 센서 및 상기 이미지 센서 아래의 상기 기판의 제2 부분을 스캔하기 위해서 상기 기판의 XY 이동을 제어하는 단계로서, 상기 초점 센서 및 상기 이미지 센서는 공지된 관계로 배치되는 것인, XY 이동 제어 단계,
    상기 XY 이동 동안에 상기 기판의 XY 위치를 감지하는 단계,
    동시에 상기 초점 센서를 이용하여 상기 기판의 표면 지형에 관해서 Z 거리를 감지하는 단계,
    가상 데이터 스트림을 생성하기 위해 상기 감지된 Z 거리로부터 상기 저장된 Z 거리를 차감하는 단계로서, 상기 저장된 Z 거리 및 상기 감지된 Z 거리는 상기 XY 위치에 의해 상관되는 것인, 차감 단계,
    상기 가상 데이터 스트림과 오프셋으로 지시된 바와 같이 상기 이미지 센서에 관하여 상기 기판을 위 아래로 이동시키면서, 상기 기판의 제2 부분을 스캐닝하여, 상기 기판의 표면 지형에 관계없이, 원하는 Z 거리에서 상기 이미지 센서의 초점 면을 고정시키는 단계, 및
    상기 이미지 센서를 이용하여 상기 원하는 Z 거리에서 상기 기판의 제2 부분을 검사하는 단계
    를 포함하는 기판 검사 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 제1 부분은 전체 기판인 것인, 기판 검사 방법.
  12. 제10항에 있어서, 상기 제1 부분은 상기 기판의 적어도 하나의 레티클 필드인 것인, 기판 검사 방법.
  13. 제10항에 있어서, 상기 제2 부분은 전체 기판인 것인, 기판 검사 방법.
  14. 제10항에 있어서, 상기 제2 부분은 상기 기판의 적어도 하나의 레티클 필드인 것인, 기판 검사 방법.
  15. 제10항에 있어서, 상기 제1 부분은 상기 제2 부분의 부분 집합인 것인, 기판 검사 방법.
  16. 제10항에 있어서, 상기 제1 부분은 상기 제2 부분과 동일한 것인, 기판 검사 방법.
  17. 제10항에 있어서, 상기 오프셋은 상기 가상 데이터 스트림 위에 상기 초점 면을 고정하는 값인 것인, 기판 검사 방법.
  18. 제10항에 있어서, 상기 오프셋은 상기 가상 데이터 스트림 아래에 상기 초점 면을 고정하는 값인 것인, 기판 검사 방법.
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