KR20130123488A - 약액의 잔류량을 감지하는 센서 시스템 및 이를 이용한 약액 공급 장치 - Google Patents
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- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 125
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 81
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 13
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 13
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 8
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
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- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
- H01L21/0274—Photolithographic processes
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
- H01L21/3065—Plasma etching; Reactive-ion etching
- H01L21/30655—Plasma etching; Reactive-ion etching comprising alternated and repeated etching and passivation steps, e.g. Bosch process
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract
약액 공급 장치는 약액을 저장하는 하나 이상의 약액 저장 용기; 약액 저장 용기를 상부에 탑재하고 하부의 일측에 형성된 이동 수단을 통해 이동이 가능하며, 하부에 센서가 위치하도록 중앙부가 관통되어 있는 드럼 캐스터(Drum Caster); 및 길이 방향의 막대바 일측에 센서가 부착되고, 드럼 캐스터가 막대바 중 센서가 부착된 일측을 통과하여 센서가 부착되지 않은 타측의 일부에 충돌하면, 센서가 부착된 일측이 시소의 원리로 상부 방향으로 이동하여 센서를 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 고정시키는 센서 장치를 포함한다.
본 발명은 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 센서를 고정시켜 약액의 잔류량을 감지하여 약액 사용량을 저감 또는 최소화하는 효과가 있다.
본 발명은 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 센서를 고정시켜 약액의 잔류량을 감지하여 약액 사용량을 저감 또는 최소화하는 효과가 있다.
Description
본 발명은 약액 공급 장치로서, 특히 약액 저장 용기의 하부에 센서를 고정시켜 약액의 잔류량을 감지하는 센서 시스템 및 이를 이용한 약액 공급 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 웨이퍼 상에 사진, 식각, 확산, 화학 기상 증착, 이온 주입 및 금속 증착 등의 공정을 반복적이고 선택적으로 수행하여 회로 패턴을 형성하여 이루어진다.
반도체 장치를 이루기 위해 적층되는 막을 가공하는 방법 중 가장 대표적인 것이 패터닝 작업이다.
이러한 패터닝 작업은 포토리소그래피와 에칭을 결합시켜 이루어진다.
포토리소그래피는 막 위에 포토 레지스트막을 도포하고 일정 패턴을 가진 포토 마스크를 위에 놓고 노광한 후, 다음 현상하여 포토 레지스트 패턴을 형성하는 작업으로 포토 마스크상의 미세한 패턴을 광화학적인 반응을 이용하여 포토 레지스트막에 전사하는 공정이다.
이때 형성된 포토 레지스트 패턴은 에칭 공정에서 에칭 마스크로 작용하게 된다.
이러한 포토리소그래피 공정은 광화학적으로 가교화 반응 또는 광분해 반응을 일으키는 감광성 물질이 있기 때문에 가능한 것이다.
반도체 장치에 도입되어 사용되는 대표적인 감광성 물질이 포토 레지스트이다.
반도체 장치의 제조 공정에 사용되는 포토 레지스트는 일정한 노광을 통해 정밀한 패턴을 형성해야 하므로 노출되는 광에 대한 감도 즉, 반응이 일정해야 한다.
이러한 일정한 감광성의 조건을 맞추기 위해서는 포토 레지스트의 제조도 정밀한 주의를 요하는 공정을 통해서 이루어진다.
포토 레지스트의 도포를 담당하는 설비는 주로 스핀레스 코터(Spinless Coater)가 이용되고 있다. 포토 레지스트는 일반적으로 버틀(Bottle)형 저장 용기에 담겨 이동되고 설비에 장착된다. 저장 용기는 일반적으로 포토 레지스트를 저장하는 용기로 스텐인레스 스틸 드럼(Drum)을 많이 사용한다.
도 1은 종래 기술에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 일례를 나타낸 도면이다.
저장 용기(12)와 중간 버퍼 탱크(14)는 케미컬 블록(10) 내에 구비된다. 케미컬 블록(10)은 웨이퍼에 대한 처리 공정이 진행되는 메인 코팅블록(20)과 일정 거리 이상 떨어져 있기 때문에 메인 코팅블록(20) 내의 처리 장치의 웨이퍼에 포토 레지스트가 공급되기 위해서 포토 레지스트 라인이 길어져야 한다. 여기서, 메인 코팅블록(20)은 웨이퍼의 이송이나 처리(예를 들면 포토 공정을 위한 장치가 구비되어 있는 블록을 나타내며 로봇암이나 웨이퍼 스테이지 등의 장치가 구비된다.
포토 레지스트 공급 장치는 메인 코팅블록(20)의 처리 장치의 가동을 위하여 저장 용기(12)에 질소(N2) 가스를 가압해서 하나의 중간 버퍼 탱크(14)까지 보낸다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 포토 레지스트 공급 장치는 하나의 중간 버퍼 탱크(14)에 장착된 센서(16)에 의해 약액의 유무를 감지하여 스텐인레스 스틸 드럼이 체인지(Change) 되는 시점을 파악한다.
종래의 포토 레지스트 장치는 중간 버퍼 탱크(14)에 설치된 센서(16)가 악액이 아닌 에어가 유입되어야 스텐인레스 스틸 드럼이 체인지(Change) 되는 시점을 파악한다.
따라서, 종래의 포토 레지스트 공급 장치는 드럼이 체인지 되는 시점에 배관 내 에어 유입이 발생하며 메인 코팅블록(20)의 처리 장치까지 에어 유입이 발생한다.
다시 말해, 종래의 포토 레지스트 공급 장치는 드럼이 체인지 되는 시점에 메인 코팅블록(20) 내의 글라스 위에 포토 레지스트를 코팅하는 노즐(22) 내부에 에어가 유입되며, 노즐(22)의 포토 레지스트의 토출시 에어에 의한 노즐(22)의 토출 압력 저하로 코팅 두께가 일정하지 않고 두께차가 발생한다.
따라서, 글라스 내 포토 레지스트의 코팅 두께의 차이로 공정 에러 및 반도체 소자의 불량을 초래하여 버려지게 되므로 생산성 저하와 반도체 생산 비용이 증가되는 문제점이 발생하였다.
이와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 센서를 고정시켜 약액의 잔류량을 감지하는 센서 시스템 및 이를 이용한 약액 공급 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 특징에 따른 약액 공급 장치는 약액을 저장하는 하나 이상의 약액 저장 용기; 약액 저장 용기를 상부에 탑재하고 하부의 일측에 형성된 이동 수단을 통해 이동이 가능하며, 하부에 센서가 위치하도록 중앙부가 관통되어 있는 드럼 캐스터(Drum Caster); 및 길이 방향의 막대바 일측에 센서가 부착되고, 드럼 캐스터가 막대바 중 센서가 부착된 일측을 통과하여 센서가 부착되지 않은 타측의 일부에 충돌하면, 센서가 부착된 일측이 시소의 원리로 상부 방향으로 이동하여 센서를 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 고정시키는 센서 장치를 포함한다.
본 발명의 특징에 따른 센서 시스템은 약액을 저장하는 약액 저장 용기가 삽입되어 장착되도록 일측면이 개방되어 있는 약액 용기 캐비넷(Cabinet); 약액 용기 캐비넷의 일측에 형성되어 길이 방향의 막대바 일측에 센서가 부착되고, 센서가 탑재되어 이동하는 드럼 캐스터(Drum Caster)가 막대바 중 센서가 부착된 일측을 통과하여 센서가 부착되지 않은 타측의 일부에 충돌하면, 센서가 부착된 일측이 시소의 원리로 상부 방향으로 이동하여 센서를 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 고정시키는 센서 장치를 포함한다.
약액 저장 용기의 바닥면과 상기 센서 간의 거리는 0-20mm로 이격되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 특정 위치는 상기 약액 저장 용기의 내부 하단부에 일정 깊이로 파인 바닥홈의 경계면인 것을 특징으로 한다.
전술한 구성에 의하여, 본 발명은 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 센서를 고정시켜 약액의 잔류량을 감지하여 약액 사용량을 저감 또는 최소화하는 효과가 있다.
본 발명은 센서의 신호를 감지하여 약액의 사용량 유/무를 감지하고, 이에 따라 약액 저장 용기의 교체 시점을 판단하고 약액 저장 용기가 교체되는 시점에 배관 내 에어 유입의 발생을 방지할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 포토 레지스트 공급 장치의 일례를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 센서를 약액 저장 용기에 부착되는 모습을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 캐비넷에 삽입되는 상태를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 캐비넷에 삽입되는 상태를 나타낸 일례를 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기에 센서가 장착되는 모습을 동작별로 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 탑재되는 드럼 캐스터(Drum Caster)와 센서가 탑재되는 센서 장치를 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 캐비넷에 설치된 센서 장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 센서를 약액 저장 용기에 부착되는 모습을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 캐비넷에 삽입되는 상태를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 캐비넷에 삽입되는 상태를 나타낸 일례를 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기에 센서가 장착되는 모습을 동작별로 나타낸 도면이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 탑재되는 드럼 캐스터(Drum Caster)와 센서가 탑재되는 센서 장치를 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 캐비넷에 설치된 센서 장치를 나타낸 도면이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 센서를 약액 저장 용기에 부착되는 모습을 나타낸 도면이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기를 나타낸 도면이다.
본 발명은 메인 코팅블록과 케미컬 블록 내의 구성 장치의 설명을 생략하고, 본 발명의 주요한 특징인 약액 저장 용기(100)와 센서(360)를 중심으로 상세하게 설명한다.
본 발명은 약액 사용량을 최소화하고, 약액 저장 용기(100)의 내부의 약액의 사용량 유/무를 감지하도록 약액 저장 용기(100)의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 센서(360)를 고정한다. 여기서, 약액 저장 용기(100)는 폴리에틸렌으로 이루어지진 폐쇄된 용기로서, 포토 레지스트를 저장하는 200L PE(Polyathylen) Drum을 나타낸것으로 이에 한정하지 않고, 포토 레지스트 이외의 다양한 약물의 저장 용기를 포함한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기(100)는 상부면에 질소 가스가 주입되는 질소 주입부(110)와 약액이 주입 및 배출되는 포토 레지스트 통로부(120)가 형성되고, 포토 레지스트 통로부(120)에서 연장되어 내부 하단부까지 길이 방향으로 형성된 주입관(130)이 형성된다.
약액 저장 용기(100)는 포토 레지스터의 잔량이 모일 수 있도록 내부의 하부면이 주입관(130)의 하부 끝단부까지 경사지도록 형성되고 주입관(130)의 하부 끝단부와 일정 거리 이격되어 하부면에 일정 깊이로 파인 바닥홈(140)이 형성된다.
따라서, 약액 저장 용기(100)는 바닥홈(140) 쪽으로 잔량의 포토 레지스터가 모이게 된다.
약액 저장 용기(100)는 상단부가 주입관(130)을 기준으로 좌측 439mm, 우측 93mm으로 구성되고, 하단부가 주입관(130)을 기준으로 좌측 437mm, 우측 91mm로 이루어져 있다.
센서(360)는 약액 저장 용기(100)의 약액 사용량을 감지하고 이에 따라 약액 저장 용기(100)의 체인지(Change) 되는 시점을 판단한다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 캐비넷에 삽입되는 상태를 나타낸 도면이고, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 캐비넷에 삽입되는 상태를 나타낸 일례를 나타낸 도면이고, 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기에 센서가 장착되는 모습을 동작별로 나타낸 도면이고, 도 7은 본 발명의 실시예에 따른 약액 저장 용기가 탑재되는 드럼 캐스터(Drum Caster)와 센서가 탑재되는 센서 장치를 나타낸 도면이다.
약액 저장 용기(100)는 드럼 캐스터(Drum Caster)(200)의 상부에 탑재되어 이동하며, 도 5와 같이, 포토 레지스트 캐비넷(Cabinet)(400)에 삽입된다.
본 발명의 실시예에 따른 드럼 캐스터(200)는 약액 저장 용기(100)를 상부에 탑재하고 하부의 일측에 형성된 이동 수단(210)을 통해 이동이 가능하며, 센서(360)가 접촉할 수 있게 중앙부가 관통되어 약액 저장 용기(100)의 하부면 중 일부가 개방된다.
도 5 내지 도 7를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 센서 장치(300)는 포토 레지스트 캐비넷(400)의 일측에 고정되는 센서 장치(300)와, 센서 장치(300)의 상부에 일체형으로 형성된 센서 거치대(320)와 회동축(330)을 포함한다.
센서 거치대(320)는 막대바(340)가 시소 형태로 회동 가능한 회동축(330)을 기준으로 막대바(340) 중 센서(360)가 부착된 일측과 센서(360)가 부착되지 않는 타측으로 구성된다.
센서(360)가 부착된 일측은 하부 방향으로 길이 방향의 돌출된 무게추(350)를 형성한다. 즉, 센서 거치대(320)는 무게추(350)와 센서(360)로 인하여 센서(360)가 부착되지 않는 타측보다 센서(360)가 부착된 일측을 무겁게 제작한다.
따라서, 센서 거치대(320)는 센서(360)를 약액 저장 용기(100)에 설치하기 전, 센서(360)가 부착된 일측이 아래 방향으로 내려와 있고 센서(360)가 부착되지 않는 타측이 상부 방향으로 올라가 있는 상태를 형성한다.
막대바(340)는 센서(360)가 부착된 일측과 연결되는 제1 막대바(342)가 센서(360)가 부착되지 않은 타측이 연결되는 제2 막대바(344)보다 각도를 낮게 한다.
따라서, 센서(360)가 부착되지 않은 타측은 센서(360)가 부착된 일측보다 높은 위치에 형성되도록 한다. 이는 센서(360)가 부착된 일측이 약액 저장 용기(100)의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 고정되면, 센서(360)가 부착되지 않은 타측이 약액 저장 용기(100)의 하부면에 걸려서 센서(360)가 부착된 일측과 평행을 형성할 수 있게 된다.
도 6은 액 저장 용기(100)에 센서 장치(300)의 센서(360)가 고정되는 모습을 동작별로 나타낸 것이다.
약액 저장 용기(100)가 탑재된 드럼 캐스터(200)가 막대바(340) 중 센서(360)가 부착된 일측을 통과하여 센서(360)가 부착되지 않은 타측의 일부에 충돌하면, 회동축(330)이 회전하여 센서(360)가 부착된 일측이 시소의 원리로 아래에서 상부 방향으로 이동하여 센서(360)를 약액 저장 용기(100)의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 고정시킨다. 여기서, 특정 위치는 약액 저장 용기(100)의 내부 하단면에 일정 깊이로 파인 바닥홈(140)의 좌측 경계면을 나타낸다. 그러나 이에 한정하지 않고, 우측 경계면 또는 다른 위치도 가능하다.
약액 저장 용기(100)의 바닥면과 센서(360) 간의 거리는 20mm를 나타내며, 약액 저장 용기(100)와 센서(360) 간의 거리를 항상 일정하게 유지하여 즉, 센서(360)의 감지 거리를 고정하여 센서(360)의 오작동 방지 기능과 정밀한 감지가 가능하다.
센서 장치(300)는 센서(360)의 위치를 약액 사용량의 최소화 위치에 고정하고 이를 감지하여 약액 사용량을 저감 및 최소화한다.
본 발명의 센서(360)는 정전 용량형 근접 센서로 약액 저장 용기(100)의 약액을 감지하여 약액이 남아 있으면 온으로 동작하고 약액이 점점 남지 않고 일정 기준으로 줄어들면 오프로 동작한다.
제어부(미도시)는 센서(360)의 신호를 감지하여 약액의 사용량 유/무를 감지하고, 이에 따라 약액 저장 용기(100)의 교체 시점을 판단하게 된다.
따라서, 본 발명의 약액 공급 장치는 약액 저장 용기(100)가 교체되는 시점에 배관 내 에어 유입의 발생을 방지할 수 있게 되는 것이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 캐비넷에 설치된 센서 장치를 나타낸 도면이다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 센서 장치(300)는 도 4, 도 6 및 도 7에 도시된 센서 장치(300)의 일례의 동일한 구성요소를 제외하고 차이점을 중심으로 설명한다.
센서 장치(300)는 길이 방향의 연결바(382)를 막대바(340)의 일측 끝단으로부터 연장된 하부 플레이트(374)로부터 상부면에 센서(360)가 장착되는 상부 플레이트(372)까지 관통하여 하부 플레이트(374)와 상부 플레이트(372)를 연결한다.
상부 플레이트(372)와 하부 플레이트(374)는 일정 거리를 두고 수평을 이루고 있다.
하부 플레이트(374)는 하부면 일측 끝단에서 하부 방향으로 길이 방향의 돌출된 높이 조절 브라켓(380)이 형성되어 있다. 따라서, 높이 조절 브라켓(380)은 하부 플레이트(374)와 일체형으로 이루어져 있다.
높이 조절 브라켓(380)은 막대바(340)의 일측 끝단에서 상하 높이 조절이 가능하도록 구성하며, 상하 높이 조절에 따라 높이 조절 브라켓(380)과 연결된 하부 플레이트(374)도 높이 조절이 가능하다.
상부 플레이트(372)는 각 모서리 부분에 상부 방향으로 길이 방향의 돌출된 위치 결정 핀(Pin)(370)이 형성된다.
위치 결정 핀(370)은 약액 저장 용기(100)의 바닥면과 센서(360)가 일정한 감지 거리를 유지하여 센서(360)의 오작동을 방지하는 기능을 한다.
따라서, 본 발명의 위치 결정 핀(370)의 높이는 약액 저장 용기(100)의 바닥면과 센서(360) 간의 거리인 20mm로 설정할 수 있다.
또한, 하부 플레이트(374)와 상부 플레이트(372) 간은 하중 변화시 높이를 보정하는 코일 스프링(390)이 연결되어 있다.
따라서, 코일 스프링(390)은 감지 거리 변동시 높이를 보정하는 기능을 한다. 여기서, 감지 거리 변동 요인은 약액 저장 용기(100) 내 약액 유무, 수위 변화에 따라 약액 저장 용기(100)의 바닥면과 센싱 위치까지의 높이 변화, 약액 저장 용기(100) 자체의 높이 공차, 드럼 캐스터(200)의 휨 및 바닥면 오염 등 드럼 캐스터(200)에 의한 높이 변화를 들 수 있다.
다시 말해, 본 발명의 다른 실시예에 따른 센서 장치(300)는 센싱시 약액 저장 용기(100)와 센서(360)와의 거리가 약액 저장 용기(100)와 접촉된 위치 결정 핀(370)의 높이에 의해 항상 20mm를 유지되며, 감지 거리 변동 요인을 코일 스프링(390)에 의해 보정한다.
높이 조절 브라켓(380)은 센서(360)의 위치 변화가 필요한 경우, 높이 조절 브라켓(380)과 연결된 하부 플레이트(374)의 상하 높낮이를 조절하면, 하부 플레이트(374)에 연결된 상부 플레이트(372)의 높낮이를 조절할 수 있어 센서(360)의 위치를 변화하게 된다.
또한, 센서(360), 상부 플레이트(372) 및 높이 조절 브라켓(380)은 센서(360)를 약액 저장 용기(100)에 설치하기 전, 센서 거치대(320)에서 센서(360)가 부착된 일측이 아래 방향으로 내려와 있고 센서(360)가 부착되지 않는 타측이 상부 방향으로 올라가 있는 상태를 형성하도록 한다.
도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 센서 시스템은 포토 레지스트 캐비넷(400)와 캐비넷(400)의 일측에 설치된 센서 장치(300)를 포함한다.
이상에서 설명한 본 발명의 실시예는 장치 및/또는 방법을 통해서만 구현이 되는 것은 아니며, 본 발명의 실시예의 구성에 대응하는 기능을 실현하기 위한 프로그램, 그 프로그램이 기록된 기록 매체 등을 통해 구현될 수도 있으며, 이러한 구현은 앞서 설명한 실시예의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야의 전문가라면 쉽게 구현할 수 있는 것이다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
100: 약액 저장 용기
110: 질소 주입부
120: 포토 레지스트 통로부
130: 주입관
140: 바닥홈
200: 드럼 캐스터
210: 이동 수단
300: 센서 장치
310: 센서 받침대
320: 센서 거치대
330: 회동축
340: 막대바
342: 제1 막대바
344: 제2 막대바
350: 무게추
360: 센서
370: 위치 결정 핀
372: 상부 플레이트
374: 하부 플레이트
380: 높이 조절 브라켓
382: 연결바
390: 코일 스프링
400: 포토 레지스트 캐비넷
110: 질소 주입부
120: 포토 레지스트 통로부
130: 주입관
140: 바닥홈
200: 드럼 캐스터
210: 이동 수단
300: 센서 장치
310: 센서 받침대
320: 센서 거치대
330: 회동축
340: 막대바
342: 제1 막대바
344: 제2 막대바
350: 무게추
360: 센서
370: 위치 결정 핀
372: 상부 플레이트
374: 하부 플레이트
380: 높이 조절 브라켓
382: 연결바
390: 코일 스프링
400: 포토 레지스트 캐비넷
Claims (16)
- 약액을 저장하는 하나 이상의 약액 저장 용기;
상기 약액 저장 용기를 상부에 탑재하고 하부의 일측에 형성된 이동 수단을 통해 이동이 가능하며, 하부에 센서가 위치하도록 중앙부가 관통되어 있는 드럼 캐스터(Drum Caster); 및
길이 방향의 막대바 일측에 상기 센서가 부착되고, 상기 드럼 캐스터가 상기 막대바 중 상기 센서가 부착된 일측을 통과하여 상기 센서가 부착되지 않은 타측의 일부에 충돌하면, 상기 센서가 부착된 일측이 시소의 원리로 상부 방향으로 이동하여 상기 센서를 상기 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 고정시키는 센서 장치
를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 센서 장치는,
센서 받침대와, 상기 센서 받침대의 상부에 일체형으로 형성된 센서 거치대와 상기 센서 거치대를 회전시키는 회동축을 포함하며,
상기 센서 거치대는 하부 방향으로 길이 방향의 돌출된 무게추를 형성하고 상기 센서가 부착된 일측과 상기 센서가 부착되지 않는 타측으로 구성된 막대바를 형성하며, 상기 센서가 부착된 일측이 상기 센서가 부착되지 않는 타측보다 상부 방향으로 높게 올라가 있는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 센서가 부착되는 막대바의 일면은 상부 방향으로 길이 방향의 돌출된 위치 결정 핀(Pin)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 센서 장치는,
상기 막대바의 일측 끝단으로부터 연장된 하부 플레이트;
상기 하부 플레이트로부터 길이 방향의 연결바를 통해 연결되고 상부면에 상기 센서가 장착되는 상부 플레이트;
상기 상부 플레이트는 일측에 상부 방향으로 길이 방향의 돌출된 위치 결정 핀(Pin)을 하나 이상 포함하고, 상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트 간을 코일 스프링으로 연결하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 약액 저장 용기의 바닥면과 상기 센서 간의 거리는 0-20mm로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 특정 위치는 상기 약액 저장 용기의 내부 하부면에 일정 깊이로 파인 바닥홈의 일측 경계면인 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 약액 저장 용기는 상부면에 약액이 주입 및 배출되는 약액 통로부가 형성되고 상기 약액 통로부에서 연장되어 내부 하단부까지 길이 방향으로 형성된 주입관이 형성되며,
상기 약액의 잔량이 모일 수 있도록 내부의 하부면이 상기 주입관의 하부 끝단부까지 경사지도록 형성되고 상기 주입관의 하부 끝단부와 일정 거리 이격되어 하부면에 일정 깊이로 파인 바닥홈이 형성되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 제7항에 있어서,
상기 약액 저장 용기의 주입관은 상기 약액 저장 용기의 내부에 상기 주입관을 기준으로 좌측 대 우측의 비율을 4 대 1의 비율에 해당하는 위치에 삽입되는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 제1항에 있어서,
상기 약액 저장 용기는 폴리에틸렌(Polyathylen) 드럼(Drum)인 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치. - 약액을 저장하는 약액 저장 용기가 삽입되어 장착되도록 일측면이 개방되어 있는 약액 용기 캐비넷(Cabinet);
상기 약액 용기 캐비넷의 일측에 형성되어 길이 방향의 막대바 일측에 센서가 부착되고, 상기 센서가 탑재되어 이동하는 드럼 캐스터(Drum Caster)가 상기 막대바 중 상기 센서가 부착된 일측을 통과하여 상기 센서가 부착되지 않은 타측의 일부에 충돌하면, 상기 센서가 부착된 일측이 시소의 원리로 상부 방향으로 이동하여 상기 센서를 상기 약액 저장 용기의 하부면과 일정 거리 이격된 특정 위치에 고정시키는 센서 장치
를 포함하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템. - 제10항에 있어서,
상기 센서 장치는,
센서 받침대와, 상기 센서 받침대의 상부에 일체형으로 형성된 센서 거치대와 상기 센서 거치대를 회전시키는 회동축을 포함하며,
상기 센서 거치대는 하부 방향으로 길이 방향의 돌출된 무게추를 형성하고 상기 센서가 부착된 일측과 상기 센서가 부착되지 않는 타측으로 구성된 막대바를 형성하며, 상기 센서가 부착된 일측이 상기 센서가 부착되지 않는 타측보다 상부 방향으로 높게 올라가 있는 것을 특징으로 하는 센서 시스템. - 제10항에 있어서,
상기 센서가 부착되는 막대바의 일면은 상부 방향으로 길이 방향의 돌출된 위치 결정 핀(Pin)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템. - 제10항에 있어서,
상기 센서 장치는,
상기 막대바의 일측 끝단으로부터 연장된 하부 플레이트;
상기 하부 플레이트로부터 길이 방향의 연결바를 통해 소정 거리 이격되어 연결되고 상부면에 상기 센서가 장착되는 상부 플레이트;
상기 상부 플레이트는 일측에 상부 방향으로 길이 방향의 돌출된 위치 결정 핀(Pin)을 하나 이상 포함하고, 상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트 간을 코일 스프링으로 연결하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템. - 제13항에 있어서,
상기 센서 장치는,
상기 하부 플레이트와 일체형으로 형성되고, 상기 막대바의 일측 끝단에서 상하 높이 조절에 따라 상기 하부 플레이트와 이와 연결된 상기 상부 플레이트의 높이를 조절하며, 상기 하부 플레이트의 하부면 일측 끝단에서 하부 방향으로 길이 방향의 돌출된 높이 조절 브라켓을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 센서 시스템. - 제10항에 있어서,
상기 약액 저장 용기의 바닥면과 상기 센서 간의 거리는 0-20mm로 이격되어 있는 것을 특징으로 하는 센서 시스템. - 제10항에 있어서,
상기 특정 위치는 상기 약액 저장 용기의 내부 하부면에 일정 깊이로 파인 바닥홈의 일측 경계면인 것을 특징으로 하는 센서 시스템.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120046632A KR101938595B1 (ko) | 2012-05-03 | 2012-05-03 | 약액의 잔류량을 감지하는 센서 시스템 및 이를 이용한 약액 공급 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120046632A KR101938595B1 (ko) | 2012-05-03 | 2012-05-03 | 약액의 잔류량을 감지하는 센서 시스템 및 이를 이용한 약액 공급 장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130123488A true KR20130123488A (ko) | 2013-11-13 |
KR101938595B1 KR101938595B1 (ko) | 2019-01-15 |
Family
ID=49852691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101938595B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230063684A (ko) | 2021-11-02 | 2023-05-09 | (주)에스티아이 | 약액 공급 장치 및 이를 이용한 약액 공급 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005208121A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Murata Mach Ltd | トナー残量検出装置 |
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-
2012
- 2012-05-03 KR KR1020120046632A patent/KR101938595B1/ko active IP Right Grant
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR20100078192A (ko) * | 2008-12-30 | 2010-07-08 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 제조 장비 |
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