KR20130112112A - 가변 펄스폭의 레이저를 생성하는 방법 및 고출력의 레이저를 생성하는 방법 - Google Patents

가변 펄스폭의 레이저를 생성하는 방법 및 고출력의 레이저를 생성하는 방법 Download PDF

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Abstract

가변 펄스폭의 레이저를 생성하는 방법 및 고출력의 레이저를 생성하는 방법이 개시된다. 개시된 가변 펄스폭의 레이저 생성방법은 복수의 레이저 광원 모듈을 결합하고, 상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들에 순차적인 시간차(time delay)를 줌으로써 상기 펄스형 레이저광들과는 다른 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭을 생성한다.

Description

가변 펄스폭의 레이저를 생성하는 방법 및 고출력의 레이저를 생성하는 방법{Method of generating laser having variable pulse width and method of generating high power laser}
본 발명은 레이저 광원 모듈들을 시간적 또는 공간적으로 결합함으로써 가변 펄스폭의 레이저를 생성하거나 고출력 레이저를 생성하는 방법에 관한 것이다.
레이저 어닐링(laser annealing), 레이저 드릴링 등과 같은 레이저 가공시에 고려되어할 중요한 파라미터로는 파장(wavelength), 평균 출력(average power), PRF(pulse repetition frequency), 펄스폭(pulse width) 등이 있다. 이 중에서 펄스폭은 레이저의 첨두 출력을 결정짓는 요소로서, 레이저의 한 펄스가 얼마나 오랫동안 지속되는 가를 나타내는 값이다. 특히, 레이저 어닐링 공정에서 펄스폭은 실리콘의 결정화 정도를 좌우하는 요소로 매우 중요한 파라미터이다. 즉, 레이저의 펄스폭이 적합하지 않은 경우에 어닐링 공정에서 효율적으로 다결정 실리콘 박막을 형성하지 못하여 전자 이동도(electron mobility) 및 리프레시 속도(refresh rate) 향상 등이 떨어지게 된다. 따라서, 테스트 타입, 공정 타입 또는 샘플 타입 등에 따라 펄스폭의 가변 필요성이 제기된다.
기존의 펄스폭을 조절하는 방법으로는 듀티비(duty ration) 조절이나, 공진기(optical resonator)의 길이를 조절하는 방법이 사용되었다. 그러나, 듀티비를 조절하여 펄스폭을 제어하는 방법은 평균 출력의 손실이 발생되는 등의 문제가 있다. 그리고, 공진기의 길이를 조절하여 펄스폭을 제어하는 방법은 레이저 빔의 품질을 변화시키게 되는데, 이는 펄스폭을 바꿀 때 마다 빔 경로 및 광학계의 수정과 함께, 레이저 가공시 새로운 테스트를 거쳐서 최적의 조건을 다시 찾아서 검증하여야 한다는 문제점이 있다. 즉, 기존의 펄스폭 조절 방식에서는 평균 출력의 손실이 발생되거나 빔 가공 품질이 변화함으로써 이를 고려한 광학계를 수정, 설계하여야 하고, 또한 빔 품질 변화로 인해 새로운 조건에서 테스트를 진행하여 조건을 최적화, 공정화시켜야 하므로, 시간적, 경제적인 손실이 발생하게 되고, 최악의 경우 펄스폭이 바뀌면서 레이저 가공 공정 실패할 경우도 발생될 수 있다.
한편, 레이저 어닐링과 같은 레이저 가공 공정에 필요한 에너지 밀도는 그린 레이저 어닐링(GLA; green laser annealing)의 경우 일반적으로 0.5J/cm2 이상이 된다. 이 값은 가공 면적, 즉 결상 이미지의 크기에 따라 필요한 펄스당 에너지가 결정되며, 이미지 사이즈가 커지면 더 많은 펄스당 에너지가 필요하게 됨을 의미한다. 가공 이미지의 크기가 증가하거나 또는 샘프의 크기 변화에 의해 펄스당 에너지의 증가가 필요한 경우에 기존에는 PRF(pulse repetition frequency)의 조절을 통해서 에너지를 증가시켰으며, PRF의 조절만으로 펄스당 에너지가 부족한 경우에는 레이저 광원 모듈을 추가하거나 고출력 레이저 광원 모듈로 교체하는 방법이 사용되었다.
그러나, 레이저 광원 모듈을 추가하는 방법으로 레이저 어닐링에 필요한 에너지 밀도를 얻기 위는 것은 추가 광학계를 설치하여야 하며, 각 모듈로 나오는 레이저 빔들의 정렬이 필요하게 되어 시간적, 공간적으로 추가적인 비용이 발생된다. 또한, 고출력 레이저 광원 모듈로 교체하는 방법은 추가 비용 뿐만아니라 레이저 빔의 특성 변화로 인한 광학계의 재설계 및 수정이 필요하게 된다.
본 발명은 레이저 광원 모듈들을 시간적 또는 공간적으로 결합함으로써 가변 펄스폭의 레이저를 생성하거나 고출력 레이저를 생성하는 방법을 제공한다.
본 발명의 일 측면에 있어서,
복수의 레이저 광원 모듈을 결합하여 가변 펄스폭의 레이저광을 생성하는 방법에 있어서,
상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들에 순차적인 시간차(time delay)를 줌으로써 상기 펄스형 레이저광들과는 다른 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법을 제공된다.
상기 레이저 광원 모듈들의 결합에 의해 생성되는 레이저광의 펄스폭은 상기 레이저 광원 모듈들 각각으로부터 출사되는 레이저광의 펄스폭보다 클 수 있다.
상기 레이저 광원 모듈들의 출사단 쪽에는 레이저광들을 스위칭하는 셔터들이 마련되어 있으며, 상기 셔터들은 컨트롤러에 의해 시간차를 가지고 순차적으로 구동될 수 있다.
상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들은 포커싱 렌즈에 의해 집속되어 가변 펄스폭의 레이저광을 형성할 수 있다. 이러한 상기 가변 펄스폭의 레이저광은 가공 대상물 상에 조사되어 레이저 어닐링 공정을 수행할 수 있다.
상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 레이저광들은 400 ~ 600nm의 파장을 가질 수 있다. 그리고, 상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들에 주어지는 시간차는 수십ns ~ 수백ns, 예를 들면 10ns ~ 500ns 정도가 될 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 있어서,
복수의 레이저 광원 모듈을 결합하여 고출력의 레이저광을 생성하는 방법에 있어서,
상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사된 펄스형 레이저광들을 공간적으로 결합하여 상기 펄스형 레이저광들 보다 높은 출력을 가지는 고출력의 레이저광 생성방법이 제공된다.
상기 펄스형 레이저광들은 상기 레이저 광원 모듈들로부터 동시에 출사될 수 있다. 상기 레이저 광원 모듈들의 출사단 쪽에는 레이저광들을 스위칭하는 셔터들이 마련되어 있으며, 상기 셔터들은 컨트롤러에 의해 동시에 구동될 수 있다.
상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들은 포커싱 렌즈에 의해 집속되어 고출력의 레이저광을 형성할 수 있으며, 상기 레이저 광원 모듈들과 상기 포커싱 렌즈 사이에는 상기 펄스형 레이저광들이 지나가는 관통공들이 형성된 마스크가 더 마련될 수 있다.
본 발명의 실시예들에 의하면, 복수의 레이저 광원 모듈을 시간적으로 결합하여 펄스폭이 변화된 가변 펄스폭의 레이저광을 형성할 수 있으며, 또한 복수의 레이저 광원 모듈을 공간적으로 결합하여 고출력의 레이저광을 형성할 수 있다. 그리고, 이렇게 생성된 가변 펄스폭의 레이저광 및 고출력의 레이저광은 레이저 어닐링 공정, 특히 그린 레이저 어닐링 공정(green laser annealing)에 유용하게 적용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 가변 펄스폭의 레이저광을 생성하는 장치를 도시한 것이다.
도 2는 펄스폭이 90ns인 레이저광의 펄스 파형을 도시한 것이다.
도 3a는 10ns의 시간차를 두고 진행하는 펄스폭이 90ns인 레이저광 2개가 결합하여 형성되는 레이저광의 펄스 파형을 도시한 것이다.
도 3b는 50ns의 시간차를 두고 진행하는 펄스폭이 90ns인 레이저광 2개가 결합하여 형성되는 레이저광의 펄스 파형을 도시한 것이다.
도 4a 내지 도 4c는 시간차를 두고 진행하는 레이저광 5개가 결합하여 형성된 레이저광들의 펄스 파형들을 도시한 것이다.
도 5는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 가변 펄스폭의 레이저광을 생성하는 장치를 도시한 것이다.
도 6a는 도 5의 마스크 상에 입사되는 레이저광들을 도시한 것이다.
도 6b는 도 5의 포커싱 렌즈에 의해 집속되어 가공 대상물 상에 형성된 고출력의 레이저광을 도시한 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 각 구성요소의 크기나 두께는 설명의 명료성을 위하여 과장되어 있을 수 있다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 가변 펄스폭의 레이저광을 생성하는 장치를 도시한 것이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 가변 펄스폭의 레이저광 생성 장치는 복수의 레이저 광원 모듈(111,112)로부터 출사되는 펄스형 레이저광들(L1,L2)을 시간적으로 결합함으로써 변화된 펄스폭을 가지는 레이저광을 생성한다. 도 1에는 2개의 레이저 광원 모듈(111,112)이 결합된 경우를 예시적으로 도시하고 있으며, 이외에도 3개 이상의 레이저 광원 모듈이 결합될 수도 있다.
구체적으로, 제1 및 제2 레이저 광원 모듈(111,112)로부터 각각 펄스형 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)을 발진한다. 여기서, 상기 제1 및 제2 레이저 광원 모듈(111,112)로부터 발진되는 펄스형 제1 및 제2 레이저광들(L1,L2)은 예를 들면, 대략 400nm ~ 600nm 정도의 파장을 가지는 질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 그리고, 상기 제1 및 제2 레이저광들(L1,L2)은 예를 들면 대략 나노초(ns; nano second) 수준의 펄스폭을 가질 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 상기 제1 및 제2 레이저 광원 모듈(111,112)의 출사단에는 각각 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)을 스위칭하는 제1 및 제2 셔터(141,142)가 마련되어 있다. 그리고, 이러한 제1 및 제2 셔터(141,142)는 컨트롤러(150)에 의해 그 구동이 제어된다. 본 실시예에서는 상기 컨트롤러(150)가 제1 및 제2 셔터(141,142)를 시간차를 가지고 순차적으로 구동시키게 되며, 이에 따라, 상기 제1 및 제2 셔터(141,142)를 통과한 펄스형 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)은 소정의 시간차를 두고 진행하게 된다. 여기서, 상기 제1 및 제2 레이저광(L1,L2) 사이의 시간차는 예를 들면 수십 ns ~ 수백ns 정도가 될 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 및 제2 레이저광(L1,L2) 사이의 시간차는 10ns ~ 50ns 정도가 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 그리고, 이렇게 시간차를 두고 진행되는 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)이 후술하는 바와 같이 포커싱 렌즈(130)에 의해 집속되어 결합되면 상기 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)의 펄스폭과는 다른 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광이 생성된다. 여기서, 상기 가변 펄스폭의 레이저광은 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)의 펄스폭 보다 큰 펄스폭을 가질 수 있다.
상기 제1 및 제2 셔터(141,142)를 나온 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)은 반사 미러(120)를 통해 반사된 다음, 포커싱 렌즈(130)에 입사된다. 그리고, 상기 포커싱 렌즈(130)는 입사된 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)을 집속함으로써 상기 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)의 펄스폭과는 다른 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광을 형성하게 되고, 이렇게 생성된 가변 펄스폭의 레이저광은 스테이지(100)에 장착된 가공 대상물(W) 상에 조사되어 가공작업을 수행하게 된다. 한편, 도 1에는 도시되어 않으나 상기 레이저광들(L1,L2)이 진행하는 광경로 상에는 레이저광들(L1,L2)의 세기를 균일하게 하기 위한 빔 호모지나이저(beam homogenizer), 빔 성형수단, 마스크 등과 같은 광학 수단들이 더 배치될 수 있다.
본 실시예에서 시간차를 가지고 진행하는 복수의 레이저광들(L1,L2)을 시간적으로 결합하여 가변 펄스폭의 레이저광을 생성하는 과정은 다음과 같다.
이하에서는 상기 제1 및 제2 레이저 발진기(111,112)로부터 각각 90ns의 펄스폭을 가지는 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)이 출사되는 경우를 예로들어 설명한다. 도 2에는 펄스폭이 90ns인 레이저광의 펄스 파형이 도시되어 있다. 도 3a는 10ns의 시간차를 두고 진행하는 펄스폭이 90ns인 레이저광 2개가 결합하여 형성되는 레이저광의 펄스 파형을 도시한 것이다. 도 3a를 참조하면, 10ns의 시간차를 두고 진행하는 펄스폭이 90ns인 레이저광 2개가 결합하게 되면 대략 110ns의 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광이 생성될 수 있음을 알 수 있다. 따라서, 도 1에 도시된 장치에서, 제1 및 제2 셔터(141,142)가 컨트롤러(150)에 의해 10ns의 시간차를 두고 순차적으로 구동되면, 상기 제1 및 제2 셔터(141,142)를 나오는 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)은 10ns의 시간차를 두고 진행하게 된다. 그리고, 이렇게 시간차를 두고 진행하는 제1 및 제2 레이저광(L1,L2)이 포커싱 렌즈(130)에 의해 집속되면 대략 110ns의 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광이 생성될 수 있다. 이와 같이, 시간차를 두고 진행하는 복수의 펄스형 레이저광을 결합하게 되면 더 큰 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광을 생성할 수 있으며, 그 세기 또한 증대시킬 수 있다.
도 3b는 10ns의 시간차를 두고 진행하는 펄스폭이 90ns인 레이저광 2개가 결합하여 형성되는 레이저광의 펄스 파형을 도시한 것이다. 도 3b를 참조하면, 10ns의 시간차를 두고 진행하는 펄스폭이 90ns인 레이저광 2개가 결합하게 되면 대략 140ns의 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광이 생성됨을 알 수 있다. 한편, 도 3b에 도시된 가변 펄스폭의 레이저광은 레이저광들 각각보다 그 세기는 증대하였으나, 도 3a에 도시된 가변 펄스폭의 레이저광보다는 그 세기가 작아졌음을 알 수 있다.
도 4a 내지 도 4c는 시간차를 두고 진행하는 레이저광 5개가 결합하여 형성된 레이저광들의 펄스 파형들을 도시한 것이다. 도 4a 내지 도 4c를 참조하면, 진행하는 레이저광들 사이의 시간차가 증가할수록 형성되는 가변 펄스폭의 레이저광의 펄스폭이 커짐을 알 수 있다.
이상과 같이, 본 실시예에 의하면, 순차적인 시간차를 두고 진행하는 복수의 펄스형 레이저광을 결합하게 되면 보다 넓은 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광을 생성할 수 있다. 그리고, 이와 같은 가변 펄스폭의 레이저광은 레이저 어닐링 공정에 특히 유용하게 사용될 수 있다.
종래에는 엑시머 레이저 어닐링 공정을 사용하여 웨이퍼 상의 비정질 실리콘 막을 다결정 실리콘막으로 형성하는 방법이 사용되었으나, 최근에는 그린 레이저 어닐링(GLA; green laser annealing) 방식이 각광을 받고 있다. 이는 그린 레이저 어닐링 방식은 유독 가스를 발생시키지 않아 환경 친화적이며, 또한 유지 비용이 적게드는 장점이 있다. 그리고, 엑시머 레이저 어닐링 방식의 경우 실리콘 결정을 수직 방향으로 생성하는 반면에, 그린 레이저 어닐링 방식은 수평 방향으로 실리콘 결정을 생성하게 되므로 결정의 크기를 증가시킬 수 있고, 이동도를 향상시킬 수 있다는 점에서 장점이 있다. 본 실시예와 같은 방식으로 펄스폭을 변화시킨 그린 레이저광을 어닐링 공정에 사용하게 되면, 어닐링 공정을 보다 안정적이고 신뢰성 있게 수행할 수 있다.
도 5는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 가변 펄스폭의 레이저광을 생성하는 장치를 도시한 것이다.
도 5를 참조하면, 본 실시예에 따른 가변 펄스폭의 레이저광 생성 장치는 복수의 레이저 광원 모듈(211,212,213,214,215)로부터 출사되는 펄스형 레이저광들(L1,L2,L3,L4,L5)을 공간적으로 결합함으로써 고출력의 펄스형 레이저광을 생성한다. 도 5에는 5개의 레이저 광원 모듈(211,212,213,214,215)이 공간적으로 결합된 경우를 예시적으로 도시하고 있으며, 상기 레이저 광원 모듈들(211,212,213,214,215)의 개수는 다양하게 변형될 수 있다.
구체적으로, 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저 광원 모듈(211,212,213,214,215)로부터 각각 펄스형 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)을 발진한다. 여기서, 상기 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)은 예를 들면, 대략 400nm ~ 600nm 정도의 파장을 가지는 질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 그리고, 상기 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)은 예를 들면 대략 나노초(ns; nano second) 수준의 펄스폭을 가질 수 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 상기 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저 광원 모듈(211,212,213,214,215)의 출사단에는 각각 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)을 스위칭하는 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 셔터(141,142,143,144,145)가 마련되어 있다. 그리고, 이러한 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 셔터(141,142,143,144,145)는 컨트롤러(250)에 의해 그 구동이 제어된다. 본 실시예에서는 상기 컨트롤러(250)가 상기 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 셔터(141,142,143,144,145)를 동시에 구동시키게 되며, 이에 따라, 상기 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 셔터(141,142,143,144,145)를 통과한 펄스형 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)은 시간차 없이 동시에 진행하게 된다.
이와 같이 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 셔터(141,142,143,144,145)를 통과한 펄스형 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)은 각각 반사미러들(271,272,273,274,275,260,270)을 통해 반사된 후, 마스크(280) 상의 서로 다른 위치들에 각각 입사된다. 여기서, 상기 마스크(280)에는 상기 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)이 투과하는 관통공들이 형성되어 있다. 그리고, 이러한 마스크(280)의 관통공들을 투과한 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)은 포커싱 렌즈(290)에 입사되고, 상기 포커싱 렌즈(290)는 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)을 집속하여 고출력의 펄스 레이저광을 형성한다. 그리고, 이렇게 생성된 고출력의 펄스 레이저광은 스테이지(200)에 장착된 가공 대상물(W) 상에 조사되어 레이저 가공작업을 수행하게 된다. 한편, 도 5에는 도시되어 않으나 상기 레이저광들(L1,L2,L3,L4,L5)이 진행하는 광경로 상에는 빔의 세기를 균일하게 하기 위한 빔 호모지나이저, 빔 성형수단 등과 같은 광학 수단들이 더 배치될 수 있다.
도 6a는 도 5에 도시된 마스크(280) 상의 서로 다른 위치에 입사되는 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)을 도시한 것이며, 도 6b는 상기 마스크(280)를 통과한 제1, 제2, 제3, 제4 및 제5 레이저광(L1,L2,L3,L4,L5)이 포커싱 렌즈(290)에 의해 집속된 후 가공 대상물 상에 스폿(S) 형태로 형성된 고출력의 레이저광을 도시한 것이다. 이와 같이, 본 실시예에 의하면 복수의 레이저 광원 모듈(211,212,213,214,215)로부터 출사되는 펄스형 레이저광들(L1,L2,L3,L4,L5)을 공간적으로 결합하게 되면 레이저광들(L1,L2,L3,L4,L5) 각각 보다 높은 출력을 가지는 고출력의 펄스형 레이저광을 생성할 수 있다. 그리고, 이렇게 생성된 고출력의 펄스형 레이저광을 그린 레이저 어닐링 공정에 적용하게 되면 가공 대상물 상에 보다 안정적이고 신뢰성 있는 어닐링 공정을 수행할 수 있게 된다.
이상에서 본 발명의 실시예가 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다.
100,200... 스테이지
111,112,211,212,213,214,215... 레이저 광원 모듈
141,142,241,242,243,244,245... 셔터
150,250... 컨트롤러
120,260,270,271,272,273,274,275... 반사미러
280... 마스크 130,290... 포커싱 렌즈
L1,L2,L3,L4,L5... 레이저광 W... 가공 대상물

Claims (15)

  1. 복수의 레이저 광원 모듈을 결합하여 가변 펄스폭의 레이저광을 생성하는 방법에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들에 순차적인 시간차(time delay)를 줌으로써 상기 펄스형 레이저광들과는 다른 펄스폭을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들의 결합에 의해 생성되는 레이저광의 펄스폭은 상기 레이저 광원 모듈들 각각으로부터 출사되는 레이저광의 펄스폭보다 큰 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들의 출사단 쪽에는 레이저광들을 스위칭하는 셔터들이 마련되어 있으며, 상기 셔터들은 컨트롤러에 의해 시간차를 가지고 순차적으로 구동되는 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들은 포커싱 렌즈에 의해 집속되어 가변 펄스폭의 레이저광을 형성하는 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 가변 펄스폭의 레이저광은 가공 대상물 상에 조사되어 레이저 어닐링 공정을 수행하는 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 레이저광들은 400 ~ 600nm의 파장을 가지는 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들에 주어지는 시간차는 수십ns ~ 수백ns인 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들에 주어지는 시간차는 10ns ~ 500ns인 가변 펄스폭의 레이저광 생성방법.
  9. 복수의 레이저 광원 모듈을 결합하여 고출력의 레이저광을 생성하는 방법에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사된 펄스형 레이저광들을 공간적으로 결합하여 상기 펄스형 레이저광들 보다 높은 출력을 가지는 고출력의 레이저광 생성방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 펄스형 레이저광들은 상기 레이저 광원 모듈들로부터 동시에 출사되는 고출력의 레이저광 생성방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들의 출사단 쪽에는 레이저광들을 스위칭하는 셔터들이 마련되어 있으며, 상기 셔터들은 컨트롤러에 의해 동시에 구동되는 고출력의 레이저광 생성방법.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 펄스형 레이저광들은 포커싱 렌즈에 의해 집속되어 고출력의 레이저광을 형성하는 고출력의 레이저광 생성방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들과 상기 포커싱 렌즈 사이에는 상기 펄스형 레이저광들이 지나가는 관통공들이 형성된 마스크가 더 마련되는 고출력의 레이저광 생성방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 고출력의 레이저광은 가공 대상물 상에 조사되어 레이저 어닐링 공정을 수행하는 고출력의 레이저광 생성방법.
  15. 제 9 항에 있어서,
    상기 레이저 광원 모듈들로부터 출사되는 레이저광들은 400 ~ 600nm의 파장을 가지는 고출력의 레이저광 생성방법.
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KR20200032484A (ko) * 2018-09-18 2020-03-26 레이저쎌 주식회사 마이크론급의 두께를 갖는 전자부품에 대한 레이저 리플로우 장치
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