KR20130105774A

KR20130105774A - 약액 공급 장치

Info

Publication number: KR20130105774A
Application number: KR1020120027114A
Authority: KR
Inventors: 박귀수; 강병철; 조원필
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2012-03-16
Filing date: 2012-03-16
Publication date: 2013-09-26
Also published as: KR101927190B1

Abstract

본 발명에 따른 약액 공급 장치는 제1 약액 공급부 및 제2 약액 공급부를 포함한다. 제1 약액 공급부는 챔버가 설치된 장소와 동일한 제1 층에 설치되어 상기 챔버로 약액을 공급하고, 상기 공급되는 약액의 일정압력을 유지하기 위한 제1 펌프를 포함한다. 제2 약액 공급부는 상기 제1 층의 하단에 배치된 제2 층에 설치되어 상기 제1 약액 공급부로 상기 약액을 공급하며, 상기 약액을 저장하는 약액 저장 탱크, 상기 약액을 가열하기 위한 히터, 및 상기 약액을 상기 제1 약액 공급부로 공급하기 위한 제2 펌프를 포함한다. 이에 의하여, 반도체 제조 설비가 위치한 팹 내부의 공간활용도를 높이고, 안전성과 청정도를 확보할 수 있다.

Description

약액 공급 장치{SOLUTION SUPPLYING APPARATUS}

본 발명은 약액 공급 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 처리 장치로 약액을 제공하는 약액 공급 장치에 관한 것이다.

일반적으로, 반도체 제조 설비가 위치한 공간을 팹(FAB)이라고 하고, 상기 팹의 아래층에 설치된 것을 서브 팹(Sub FAB)이라고 한다.

상기 팹 내부에서의 공정은 반도체 기판 상에 막을 형성하기 위한 증착 공정과, 상기 막을 평탄화하기 위한 화학적 기계적 연마 공정과, 상기 막 상에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정과, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 막을 전기적인 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 식각 공정과, 반도체 기판의 소정 영역에 특정 이온을 주입하기 위한 이온 주입 공정과, 반도체 기판 상의 오염원을 제거하기 위한 세정 공정과, 상기 막 또는 패턴이 형성된 반도체 기판의 표면을 검사하기 위한 검사 공정 등을 포함한다.

상기 세정 공정은 상기 각각의 공정의 전후에서 반도체 기판 상에서 오염원을 제거하는 공정이다. 상기 세정 공정은 오염원의 제거 방법에 따라 화학적 세정 방법과 물리적 세정 방법으로 나뉜다.

물리적 세정 방법이란 오염된 반도체 기판을 회전 또는 고정시킨 상태에서 순수(deionized water, DI)를 상기 반도체 기판 상에 소정의 압력으로 분사하거나, 브러시 등을 이용하여 오염원을 물리적으로 반도체 기판 상에서 탈락시켜 제거하는 방법을 말한다.

화학적 세정 방법이란 소정의 화학물질을 포함하는 약액을 사용하는 세정 방법을 말한다. 상기 약액은 반도체 기판 상의 오염원과 화학적으로 반응함으로써 상기 오염원을 제거한다. 여기서, 약액은 기체 상태 또는 액체 상태일 수 있다. 예를 들어, 약액으로는 염산(HCl), 황산(H2SO4), 암모니아(NH4OH) 및 과산화수소수(H2O2) 등이 있다.

이와 같이, 화학적 세정 공정에서는 다양한 약액이 사용될 수 있으며, 상기 약액을 기판으로 공급하기 위한 약액 공급 장치가 팹 내에 구비된다. 일 예로, 상기 약액은 황산과 과산화수소의 혼합 용액이며, 상기 약액 공급 장치로부터 공급된 약액은 공정 챔버의 약액 분사 노즐을 통해 기판으로 제공된다.

특히, 고온, 고비중 및 고점도 특성의 약액을 사용하는 설비의 경우, 약액 공급 장치는 약액 분사 노즐에서 토출에 필요한 압력 및 유량을 유지하기 위해, 약액 저장 탱크와 히터, 펌프 등을 설비에 가까운 팹 내에 설치하여 약액을 공급하게 된다.

그런데, 팹 내부에 설치된 약액 공급 장치는 약액 저장 탱크 등의 설치 면적으로 인해 팹의 공간활용도가 떨어지는 문제점이 있으며, 약액을 저장하는 다량의 고온 탱크가 팹 내부에 위치하여 위험성이 높고, 팹 내의 안전성과 청정도 관리를 위해 인력과 비용이 소요되는 문제점을 가지고 있다.

본 발명을 통해 해결하고자 하는 과제는, 약액 공급 장치의 배치 구조를 개선하여 팹 내부의 공간활용도를 높이고, 안전성과 청정도를 확보할 수 있는 약액 공급 장치를 제공하는 것이다.

상기한 본 발명의 목적을 실현하기 위한 일 실시예에 따른 약액 공급 장치는 제1 약액 공급부 및 제2 약액 공급부를 포함한다. 제1 약액 공급부는 챔버가 설치된 장소와 동일한 제1 층에 설치되어 상기 챔버로 약액을 공급하고, 상기 공급되는 약액의 일정압력을 유지하기 위한 제1 펌프를 포함한다. 제2 약액 공급부는 상기 제1 층의 하단에 배치된 제2 층에 설치되어 상기 제1 약액 공급부로 상기 약액을 공급하며, 상기 약액을 저장하는 약액 저장 탱크, 상기 약액을 가열하기 위한 히터, 및 상기 약액을 상기 제1 약액 공급부로 공급하기 위한 제2 펌프를 포함한다.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 제2 층에 설치되어 상기 챔버로부터 상기 약액을 회수하고, 상기 회수된 약액을 상기 제2 약액 공급부에 공급하는 회수부를 더 포함한다.

본 발명에 따르면, 약액 공급 장치의 배치 구조에 있어서, 약액 저장 탱크와 약액을 가열하기 위한 히터를 반도체 제조 설비로부터 이격된 서브 팹에 설치하고 팹에는 약액 공급을 위한 최소한의 구성만을 설치함으로써, 반도체 제조 설비가 위치한 팹 내부의 공간활용도를 높이고, 안전성과 청정도를 확보할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치의 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1의 약액 공급 장치의 세부 구성도이다.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 장치의 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1의 약액 공급 장치의 세부 구성도이다.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상기 약액 공급 장치(100)는 제1 약액 공급부(110) 및 제2 약액 공급부(120)를 포함한다.

상기 약액 공급 장치(100)는 챔버(10)와 연결되며, 기판(11)을 대상으로 세정 공정을 수행하는 과정에서 상기 세정 공정을 위한 약액을 상기 기판(11)으로 공급하기 위하여 사용된다. 여기서, 상기 기판(11)은 웨이퍼와 같은 반도체 장치를 제조하기 위한 반도체 기판일 수 있다. 하지만 상기 기판(11)이 반도체 기판으로 한정되는 것은 아니며, 평면 디스플레이 장치의 주요 구성요소인 평판형 디스플레이 패널을 제조하기 위한 기판일 수 있다.

상기 챔버(10)는 상기 기판(11)에 대한 세정 공정이 수행되는 처리공간을 제공한다. 상기 챔버(10)는 상부 챔버와 하부 챔버를 포함할 수 있으며, 상기 기판(11)의 반입과 반출을 위하여 수직 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다.

상기 챔버(10)의 몸체는 알루미늄, 스테인리스, 구리와 같은 금속 물질로 제작될 수 있다. 또는 코팅된 금속 예를 들어, 양극 처리된 알루미늄이나 니켈 도금된 알루미늄으로 제작될 수도 있다. 또는 내화 금속(refractory metal)으로 제작될 수도 있다. 또 다른 대안으로 상기 챔버(10)의 몸체를 전체적 또는 부분적으로 석영, 세라믹과 같은 전기적 절연 물질로 제작하는 것도 가능하다. 상기 챔버(10)의 구조는 상기 기판(11)의 세정 처리를 위하여 적합한 구조 예를 들어, 원형 구조나 사각형 구조 그리고 이외에도 어떠한 형태의 구조를 가질 수 있다.

상기 챔버(10) 내에는 이송 유닛(13)에 의해 이송되는 기판(11) 상으로 약액을 공급하기 위한 노즐 유닛(15)이 배치될 수 있으며, 상기 노즐 유닛(15)은 제1 약액 공급 배관(20)을 통해 상기 제1 약액 공급부(110)와 연결될 수 있다. 상기 노즐 유닛(15)은 다수개의 노즐들을 포함할 수 있다. 상기 노즐들은 상기 약액이 상기 기판(11) 상으로 균일하게 공급되도록 왕복 운동을 할 수 있다.

상세히 도시되지는 않았으나, 상기 이송 유닛(13)은 상기 기판(11)의 이송 방향에 대하여 수직하는 방향으로 연장하는 다수의 회전축들(미도시)과, 상기 회전축들에 장착되어 상기 기판(11)을 지지하며 이송하기 위한 다수의 롤러들과, 상기 챔버(10)의 외부에서 상기 회전축들과 연결되며 상기 회전축들에 구동력을 제공하는 구동부(미도시)를 포함할 수 있다.

한편, 다른 실시예로서, 상기 챔버(10)는 기판 지지부(미도시)를 구비할 수 있다. 상기 기판 지지부는 다양한 종류가 적용될 수 있으며, 경우에 따라서 기판(11)에 대한 세정 공정이 수행되는 동안 상기 기판(11)을 회전시킬 수 있다.

상기 제1 약액 공급부(110)는 상기 챔버(10)가 설치된 장소와 동일한 제1 층에 설치되어 상기 챔버(10)로 약액을 공급한다. 상기 제1 층은 상기 챔버(10)가 위치한 공간인 팹(FAB) 내부를 지칭한다. 상기 제1 층에는 상기 챔버(10)와 상기 제1 약액 공급부(110)가 인접하여 배치되며, 상기 제1 약액 공급부(110)와 상기 챔버(10) 사이에는 제1 약액 공급 배관(20)이 구비되어 상기 약액의 공급을 위한 유로를 제공한다.

상기 제1 약액 공급부(110)는 상기 공급되는 약액의 일정압력을 유지하기 위한 제1 펌프(113)를 포함한다. 또한, 상기 제1 약액 공급부(110)는 버퍼 탱크(111), 댐퍼(115) 및 필터부(117)를 더 포함할 수 있다.

상기 버퍼 탱크(111)는 상기 제2 약액 공급부(120)로부터 공급되는 약액을 임시 저장하기 위한 탱크이다. 상기 버퍼 탱크(111)는 고온의 약액을 저장하고 있기 때문에, 석영, 세라믹과 같이 열전도율이 낮고 내열성이 강한 재질로 제작되는 것이 바람직하다. 상기 버퍼 탱크(111)는 상기 약액을 일정온도로 유지하기 위한 가열부(미도시)를 포함할 수 있으며, 상기 제1 층 내에서 보다 작은 면적을 차지하기 위해 메인 탱크(123)보다 작은 저장 용량을 가질 수 있다. 예컨대, 상기 버퍼 탱크(111)는 120?의 온도를 일정하게 유지하며, 50L의 저장 용량을 가질 수 있다.

상기 제1 펌프(113)는 상기 버퍼 탱크(111)와 상기 챔버(10) 사이에 배치된다. 상기 제1 펌프(113)는 상기 약액을 상기 챔버(10)로 투입하기 위한 압력을 제공한다. 메인 탱크(123)를 포함하는 상기 제2 약액 공급부(120)가 상기 챔버(10)와 이격되어 제2 층에 설치됨에 따라 배관 길이가 연장되어 약액을 공급하는 압력이 손실되기 때문에, 상기 제1 펌프(113)는 상기 손실된 압력을 추가 제공하여 약액이 적절한 압력을 유지하도록 한다. 상기 제1 펌프(113)는 예를 들어 진공을 이용한 진공 펌프(vacuum pump)일 수 있다. 이와 달리 상기 제1 펌프(113)는 약액의 공급 동작에 유효한 다양한 종류의 펌프가 적용될 수 있다.

상기 필터부(117)는 상기 제1 약액 공급 배관(20)에 구비되며, 상기 약액의 불순물을 제거한다. 상기 챔버(10)에서 순환된 약액은 불순물을 포함할 수 있다. 따라서, 상기 필터부(117)는 이러한 약액에 포함된 불순물을 제거하는 역할을 한다. 또한, 상기 약액이 고점도 특성을 갖는 경우, 상기 필터부(117)는 복수개로 구비되어 필터용량을 증가시킬 수 있다.

상기 제2 약액 공급부(120)는 상기 제1 층의 하단에 배치된 제2 층에 설치되어 상기 제1 약액 공급부(110)로 상기 약액을 공급한다. 상기 제2 층은 상기 팹의 아래층에 설치된 것을 서브 팹을 지칭한다. 상기 제2 층에는 상기 챔버(10)의 구동 및 약액의 공급을 위한 전기장치 및 배관 등의 부대설비가 구비될 수 있다. 상기 제1 약액 공급부(110)와 상기 제2 약액 공급부(120) 사이에는 제2 약액 공급 배관(30)이 구비되어 상기 약액의 공급을 위한 유로를 제공한다.

또한, 상기 제2 약액 공급부(120)는 상기 약액을 저장하는 약액 저장 탱크(121, 122, 123), 상기 약액을 가열하기 위한 히터(125), 및 상기 약액을 상기 제1 약액 공급부(110)로 공급하기 위한 제2 펌프(127)를 포함한다.

상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)는 제1 약액을 저장하는 제1 약액 탱크(121), 제2 약액을 저장하는 제2 약액 탱크(122), 상기 제1 약액과 상기 제2 약액을 혼합하는 메인 탱크(123)로 구성될 수 있다. 즉, 상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)는 설치 면적을 많이 차지하는 점과, 다양한 약액들에 의한 냄새, 공기 오염 및, 오염원에 의한 작업자의 건강 등을 고려하여 반도체 제조 설비와 이격되게 설치한다. 상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)의 구성은 필요에 따라 다양하게 변형될 수 있으며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)는 고온의 약액을 저장하고 있기 때문에, 석영, 세라믹과 같이 열전도율이 낮고 내열성이 강한 재질로 제작되는 것이 바람직하다. 상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)는 저장된 약액을 일정온도로 유지하기 위한 가열부(미도시)를 각각 포함할 수 있으며, 상기 제2 층 내에서는 상기 제1 층에 비해 공간적 제약이 덜하기 때문에 상기 버퍼 탱크(111)보다 큰 저장 용량을 가질 수 있다. 예컨대, 상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)는 120?의 온도를 일정하게 유지하며, 70L의 저장 용량을 가질 수 있다.

상기 메인 탱크(100)는 상기 원액 준비 탱크인 상기 제1 및 제2 약액 탱크(121, 122)와 상기 챔버(10)로부터 회수된 약액을 보관하는 회수 탱크(131)와 연결되어 상기 약액을 공급받는 구조를 가질 수 있다. 상기 약액은 그 예로서 황산, 질산, 불산 등과 같은 강산 용액을 포함할 수 있으며, 상기 강산 용액은 과산화수소 또는 탈이온수와 혼합되어 사용될 수 있다. 본 실시예에서는 상기 약액으로 황산(H2SO4)과 과산화수소(H2O2)가 혼합된 SPM(Sulfuric acid Peroxide Mixture: Sulfuric Acid/Peroxide)을 사용하는 것을 예로 설명하였으나 이에 한정되지는 않는다.

상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)의 일측에는 각 탱크와 연동된 약액 레벨 지시관(미도시)이 구비될 수 있다. 또한, 상기 약액 레벨 지시관의 일측에는 약액의 레벨을 측정하는 레벨 센서(미도시)가 구비될 수 있으며, 이를 통해 상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)에 저장된 약액의 레벨을 측정할 수 있다.

상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123)는 배기관(미도시)을 포함할 수 있다. 상기 배기관을 통해 탱크 내의 가스가 배기된다. 상기 배기관을 통해서 배기되는 가스는 탱크 내의 약액의 화학 반응에 의해서 생성된 가스 및 탱크의 안정된 압력 유지를 위해 제공된 퍼지 가스를 포함한다. 상기 퍼지 가스는 상기 레벨 지시관 또는 별도의 관(미도시)을 통해서 제공되며, 상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123) 내의 약액의 안정된 상태를 유지시킨다. 상기 퍼지 가스로는 다른 가스와 반응하지 않는 안정된 불활성 가스를 이용하며, 예를 들면 질소 가스가 이용될 수 있다.

상기 제1 및 제2 약액 탱크(121, 122)는 상기 메인 탱크(123)에 연결되어 상기 메인 탱크(123)에 기판 처리를 위한 원액과 순수를 공급한다. 상기 제1 및 제2 약액 탱크(121, 122)는 상기 원액과 순수를 저장해 두었다가 상기 메인 탱크(123)로 적절히 공급하여 상기 메인 탱크(123) 내에 저장된 약액의 농도 및 저장량을 조절한다. 다른 실시예로서, 상기 제1 약액 탱크(121)은 회수 탱크의 기능을 통합하여 사용될 수 있다.

상기 히터(125)는 상기 제2 약액 공급 배관(30)에 구비되며, 상기 약액을 가열하여 상기 제1 약액 공급부(110)로 공급되는 약액의 온도를 일정하게 유지하는 역할을 한다.

상기 제2 펌프(127)는 상기 메인 탱크(123)와 상기 버퍼 탱크(111) 사이에 배치된다. 상기 제2 펌프(127)는 제1 층에 구비된 상기 버퍼 탱크(111)로 약액을 공급하기 위한 압력을 제공한다. 상기 제2 펌프(127)는 예를 들어 진공을 이용한 진공 펌프(vacuum pump)일 수 있다. 이와 달리 상기 제2 펌프(127)는 약액의 공급 동작에 유효한 다양한 종류의 펌프가 적용될 수 있다.

본 발명에 의하면, 상기 약액 공급 장치의 구성 요소를 상기 제1 층과 제2 층에 분산하여 배치하되, 상기 챔버(10)가 위치한 제1 층에는 약액의 임시 저장을 위한 버퍼 탱크(111)와 떨어진 압력을 보충하는 제1 펌프(113)을 배치하고, 대량의 약액을 저장하는 상기 약액 저장 탱크(121, 122, 123) 및 고온의 열을 발생시키는 상기 히터(125)를 상기 제2 층에 배치하는 것을 특징으로 한다.

이에 의하여, 반도체 제조 설비가 위치한 팹 내부의 공간활용도를 높이고, 안전성과 청정도를 확보할 수 있다.

한편, 상기 약액 공급 장치(100)는 회수부(130)를 더 포함할 수 있다. 상기 회수부(130)는 상기 제2 층에 설치되어 상기 챔버(10)로부터 상기 약액을 회수하고, 상기 회수된 약액을 상기 제2 약액 공급부(120)에 공급한다. 상기 챔버(10)와 상기 회수부(130) 사이에는 약액 회수 배관(40)이 구비되어 상기 약액의 회수를 위한 유로를 제공한다. 상기 회수부(130)는 회수 탱크(131)과 회수 펌프(미도시)를 구비할 수 있다.

상기 회수 탱크(131)는 상기 회수 펌프에 의해 상기 챔버(10)로부터 회수되는 회수 약액이 저장된다. 이 때, 상기 챔버(10)로부터 회수되는 회수 약액 내에는 상기 기판(11)의 처리 공정을 수행하는 과정에서 발생된 이물질이 포함될 수 있다. 따라서 상기 회수 약액 내의 이물질을 걸러주기 위한 일환으로 필터 부재(미도시)가 구비될 수 있다. 이처럼 상기 회수 탱크(131) 내부에 저장되는 회수 약액은 상기 기판(11)의 처리 공정에 재사용 되도록 다시 상기 메인 탱크(123)로 공급하게 된다.

상기 회수 펌프는 상기 기판(11)의 처리 공정에 사용된 약액의 회수를 위하여 구비된다. 즉, 상기 회수 펌프는 상기 기판(11)의 처리 공정에 사용된 약액을 상기 챔버(10)로부터 회수하는 역할을 한다. 상기 회수 펌프는 예를 들어 진공을 이용한 진공 펌프(vacuum pump)일 수 있다. 이와 달리 상기 회수 펌프는 상기 챔버(10)로부터 상기 기판(11)의 처리 공정에 사용된 약액의 회수 동작에 유효한 다양한 종류의 펌프가 적용될 수 있다.

이상에서는 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

본 발명에 따른 약액 공급 장치는 배치 구조에 있어서, 약액 저장 탱크와 약액을 가열하기 위한 히터를 반도체 제조 설비로부터 이격된 서브 팹에 설치하고 팹에는 약액 공급을 위한 최소한의 구성만을 설치함으로써, 반도체 제조 설비가 위치한 팹 내부의 공간활용도를 높이고, 안전성과 청정도를 확보할 수 있다.

100: 약액 공급 장치 10: 챔버
11: 기판 13: 이송 유닛
15: 노즐 유닛 20: 제1 약액 공급 배관
30: 제2 약액 공급 배관 40: 약액 회수 배관
110: 제1 약액 공급부 111: 버퍼 탱크
113: 제1 펌프 115: 댐퍼
117: 필터부 120: 제2 약액 공급부
121: 제1 약액 탱크 122: 제2 약액 탱크
123: 메인 탱크 125: 히터
127: 제2 펌프 130: 회수부
131: 회수 탱크

Claims

챔버가 설치된 장소와 동일한 제1 층에 설치되어 상기 챔버로 약액을 공급하고, 상기 공급되는 약액의 일정압력을 유지하기 위한 제1 펌프를 포함하는 제1 약액 공급부; 및
상기 제1 층의 하단에 배치된 제2 층에 설치되어 상기 제1 약액 공급부로 상기 약액을 공급하며, 상기 약액을 저장하는 약액 저장 탱크, 상기 약액을 가열하기 위한 히터, 및 상기 약액을 상기 제1 약액 공급부로 공급하기 위한 제2 펌프를 포함하는 제2 약액 공급부를 포함하는 약액 공급 장치.
제1항에 있어서,
상기 제2 층에 설치되어 상기 챔버로부터 상기 약액을 회수하고, 상기 회수된 약액을 상기 제2 약액 공급부에 공급하는 회수부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.