KR20130103894A - 블럭 세정 시스템 및 그 세정방법 - Google Patents

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KR20130103894A
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Abstract

본 발명은 블럭 세정 시스템 및 그 세정 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 디핑(Dipping) 타입을 가미한 인라인(In-line) 세정 공정을 통해 효율적으로 LED 웨이퍼를 탑재한 블럭을 세정하는 블럭 세정 시스템 및 그 세정 방법에 관한 것이다.
전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 블럭 세정 장치는, 다수개의 웨이퍼가 부착된 블럭을 수평 이동시키는 롤러; 상기 블럭 상면에 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 동시에 분사하여 세정하는 제1 세정부; 상기 블럭이 들어오면 수산화나트륨 용액(KOH)에 잠기도록 수조를 채워 세정하는 제2 세정부; 상기 블럭에 상기 초순수를 분사하여 린스하는 제3 세정부; 상기 블럭이 잠기도록 상기 초순수에 채운 후, 초음파를 인가하여 세정하는 제4 세정부; 및 상기 블럭 상면의 물기를 제거하는 건조부;를 포함한다.

Description

블럭 세정 시스템 및 그 세정방법{BLOCK CLEASINING SYDTEM AND METHOD THEREOF}
본 발명은 블럭 세정 시스템 및 그 세정방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 디핑(Dipping) 타입을 가미한 인라인(In-line) 세정 공정을 통해 효율적으로 LED 웨이퍼를 탑재한 블럭을 세정하는 블럭 세정 시스템 및 그 세정방법에 관한 것이다.
LED 웨이퍼를 만들기 위해서, 먼저 산화알루미늄에 미량의 금속을 넣고 녹여서 식히면서 결정을 성장시켜 사파이어 잉곳(Ingot)을 만든다. 이렇게 성장시킨 잉곳을 얇게 절단하여 LED 웨이퍼를 만들게 된다. 이렇게 만들어진 LED 웨이퍼에 DMP(Diamond Mechanical Polishing : 다이아몬드 사용 기계적 연마, 이하 DMP라 한다) 공정 등을 거치고 그 후 세정 공정을 거쳐야 비로소 LED 소자로 제작될 수 있다.
도 1은 종래의 블럭 세정 장치에 의해 세정되는 웨이퍼를 도시한 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 잉곳(미도시)을 절단하여 만들어진 웨이퍼(10)가 블럭(30)에 다수개가 부착되게 된다. 블럭(30)은 이하에서 설명하는 복수의 세정부를 거치면서 세정된다.
종래에도 LED 웨이퍼가 LED 소자로 제작되기 전에, 디핑(Dipping) 공정으로 LED 웨이퍼를 세정하는 장치가 있었으나, DMP 공정 후 중간 세정을 수행하는 블럭 세정 시스템이 존재하지 않았다.
따라서, DMP 공정 후 중간 세정을 수행하는 블럭 세정 시스템이 필요하게 되었다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 디핑(Dipping) 타입을 가미한 인라인(In-line) 세정 공정을 통해 효율적으로 LED 웨이퍼를 탑재한 블럭을 세정하는 블럭 세정 장치 및 그 세정방법을 제공함에 있다.
전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 블럭 세정 장치는, 다수개의 웨이퍼가 부착된 블럭을 수평 이동시키는 롤러; 상기 블럭 상면에 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 동시에 분사하여 세정하는 제1 세정부; 상기 블럭이 들어오면 수산화나트륨 용액(KOH)에 잠기도록 수조를 채워 세정하는 제2 세정부; 상기 블럭에 상기 초순수를 분사하여 린스하는 제3 세정부; 상기 블럭이 잠기도록 상기 초순수에 채운 후, 초음파를 인가하여 세정하는 제4 세정부; 및 상기 블럭 상면의 물기를 제거하는 건조부;를 포함한다.
또한 상기 노즐은, 상기 블럭 상면에 대하여 일정한 각도 및 거리를 유지하며, 초순수(DI Water: De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 고압분사하도록 설치되는 것이 바람직하다.
또한 상기 초음파 생성기는, 주파수가 700Khz 내지 1.2Mhz인 초음파를 발생시킬 수 있다.
또한 상기 건조부는, 건조 기체를 분사하는 에어 나이프(air knife)로 구성될 수 있다.
또한 제2 세정부는, 앞뒤에 상기 블럭이 드나드는 개구부가 형성되는 수조; 상기 개구부의 하단보다 소정의 값만큼 높게 설치되며, 상기 롤러에 의해 수평 이동되어 온 상기 블럭을 수평 왕복운동시키는 왕복롤러; 상기 개구부를 개폐하는 셔터; 및 상기 수조에 상기 수산화나트륨 용액(KOH)을 공급하는 급수구;를 포함한다.
또한 상기 수조의 둘레에는, 상기 수산화나트륨 용액(KOH)이 상기 블럭이 완전히 잠기는 높이보다 소정의 값만큼 높게 배수홈;이 형성될 수 있다.
또한 상기 제2 세정부는, 상기 수조의 외부로 흘러넘친 상기 수산화나트륨 용액(KOH)을 저수하는 저수조:를 더 포함할 수 있다.
전술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 블럭 세정 방법은, 블럭 상면에 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 동시에 고압분사하는 제1 세정 단계; 상기 블럭이 수산화나트륨 용액(KOH)에 잠기도록 수조를 채워 세정하는 제2 세정 단계; 상기 블럭에 상기 초순수를 고압분사하여 린스하는 제3 세정 단계; 상기 블럭이 잠기도록 상기 초순수를 채운 후, 초음파를 인가하여 세정하는 제4 세정 단계; 및 상기 블럭 상면의 물기를 제거하는 건조 단계;를 포함한다.
본 발명에 따르면, 디핑(Dipping) 타입을 가미한 인라인(In-line) 세정 공정을 통해 LED 웨이퍼를 세정하는 웨이퍼 블럭 세정 장치를 제공하여, DMP 공정 등을 거친 후 웨이퍼에 남아있는 불순물을 효과적으로 세정할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 블럭 세정 장치에 의해 세정되는 웨이퍼를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치의 블럭도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치 중 제1 세정부의 측면도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치 중 제2 세정부의 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치 중 제3 세정부의 측면도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치 중 제4 세정부의 측면도이다.
첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
또한, 명세서에 기재된 "부" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어나 소프트웨어 또는 하드웨어 및 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 시스템을 두고 연결되어 있는 경우도 포함한다.
명세서 전체에서, "이류체"라는 용어는 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 의미한다.
이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 따른 웨이퍼 블럭 세정 장치를 보다 상세하게 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치의 블럭도이다. 위에서 설명한 구성요소와 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 블럭 세정 장치(1)는 롤러(50), 제1 세정부(100), 제2 세정부(200), 제3 세정부(300), 제4 세정부(400) 및 건조부(500)를 포함한다.
롤러(50)는 다수개의 웨이퍼(10)가 부착된 블럭(30)을 수평이동시킨다. 즉 블럭 세정 장치(1)는 기본적으로 인-라인(In-line)으로 설치되는 것이 바람직하다.
제1 세정부(100)는 블럭(30) 상면을 세정하기 위하여 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질(이하 이류체)을 동시에 분사하여 세정하는 부분이다. 제1 세정부(100)에 대하여는 도 3을 참조하여 아래에서 보다 상세하게 설명한다.
제2 세정부(200)는 웨이퍼(10)가 부착된 블럭(30)이 들어오면 블럭(30)이 잠기도록 수산화나트륨 용액(KOH)이 채워져 블럭(30)을 세정하는 부분이다. 제2 세정부(200)에 대하여는 도 4를 참조하여 아래에서 보다 상세하게 설명한다.
제3 세정부(300)는 블럭(30)에 초순수를 분사하여 린스하는 부분이다. 제3 세정부(300)에 대하여는 도 5를 참조하여 아래에서 보다 상세하게 설명한다.
제4 세정부(400)는 웨이퍼(10)의 미세 불순물을 세정하기 위하여 웨이퍼(10)를 부착한 블럭(30)이 들어오면 블럭(30)이 잠기도록 초순수가 채워진 후, 초음파를 인가하여 상기 블럭(30)을 세정하는 부분이다. 제4 세정부(400)에 대하여는 도 6을 참조하여 아래에서 보다 상세하게 설명한다.
건조부(500)는 블럭(30) 상면의 물기를 제거하는 부분이다. 건조부(500)는 건조 기체를 분사하는 에어 나이프(air knife : 미도시)로 구성될 수 있다. 즉 건조부(500)가 에이 나이프로 구성되는 경우 제4 세정부(400)를 통과하면서 세정을 마친 블럭(30) 상면에는 많은 물기가 있으므로, 다음 공정으로 이동되기 전에 에어 나이프를 통해 건조 기체를 분사하여 물기를 제거하게 된다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치 중 제1 세정부의 측면도이다. 위에서 설명한 구성요소와 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 제1 세정부(100)는 롤러(50) 및 다수개의 노즐(110)을 포함한다.
노즐(110)은 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질(이류체, 이하 같다)을 동시에 고압으로 분사하는 장치이다. 또한 노즐(110)은 블럭(30) 상면에 대하여 일정한 각도 및 거리를 유지하며 이류체를 분사하도록 설치될 수 있다.
제1 세정부(100)에서의 세정 방법을 설명하면 다음과 같다. 즉 롤러(50)가 블럭(30)을 제1 세정부(100)로 수평이동시키면, 다수개의 노즐(110)을 통해 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 동시에 고압분사하여 블럭(30) 상면을 세정하게 된다. 이때 각각의 노즐(110)은 제1 세정부(100)로 수평이동하는 블럭(30) 상면에 대하여 일정한 각도 및 거리를 유지하며 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질(이류체)를 동시에 고압분사하게 된다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치 중 제2 세정부의 사시도이다. 위에서 설명한 구성요소와 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략한다.
도 4에 도시된 바와 같이 수조(210), 급수구(230), 셔터(250) 및 왕복롤러(290)를 포함한다. 수조(210)는 수산화나트륨 용액(KOH)이 채워지는 부분으로, 앞뒤에 개구부(255)가 형성되어 있어 다수개의 웨이퍼(10)가 부착된 블럭(30)이 드나들게 되며, 블럭(30)을 수평으로 왕복운동시키는 왕복롤러(290)는 개구부(255)의 하단보다 소정의 값만큼 높게 설치되는 것이 바람직하다. 즉 수산화나트륨 용액(KOH)이 수조(210)에 형성된 개구부(255)의 하단까지 물이 채워져 있고, 이는 왕복롤러(290)가 설치되어 있는 높이보다 약간 낮은 것이다. 이렇게 함으로써 왕복롤러(290)에서 블럭(30)이 수평이동하는 경우에 물에 의한 저항을 적게 받게 된다. 급수구(230)는 수조(210)에 수산화나트륨 용액(KOH)을 공급하는 장치이다. 셔터(250)는 수조(210)의 앞뒤에 형성되는 개구부(255)를 차단하는 장치로서, 블럭(30)이 왕복롤러(290)에 의해 수조(210) 안으로 들어오거나 나가는 때 셔터(250)가 올려지면 한쪽 또는 양쪽의 개구부(255)가 열리게 되어 그 이상의 높이로 수조(210)에 수산화나트륨 용액(KOH)이 채워지지 않으나, 블럭(30)이 수조(210) 안에 있을 때 셔터(250)가 내려지면 양쪽의 개구부(255)가 닫히게 되어 급수구(230)를 통해 수조(210)에 수산화나트륨 용액(KOH)이 공급되어 블럭(30)이 잠기는 높이까지 수산화나트륨 용액(KOH)이 채워지게 된다.
수조(210)의 둘레에는 수산화나트륨 용액(KOH)이 흘러넘치도록 하는 배수홈(235)가 다수개 형성될 수 있다. 배수홈(235)은 블럭(30)이 완전히 잠기는 높이보다 소정의 값만큼 높게 수조(210)의 둘레에 형성되는 것이 바람직하다. 수조(210)의 외부에는 배수홈(235)을 통해 흘러넘친 수산화나트륨 용액(KOH)을 저수하는 저수조(270)를 더 포함할 수 있다. 급수구(230)는 저수조(270)와 연결되도록 설치하여 수산화나트륨 용액(KOH)을 순환시키는 것이 바람직하다.
제2 세정부(200)에서의 세정 방법을 설명하면 다음과 같다. 즉 블럭(30)이 왕복롤러(290)에 의해 개구부(255)를 통해 수조(210) 안으로 수평이동되어 들어오면, 수조(210)의 앞뒤에 설치된 셔터(250)가 내려져서 개구부(255)가 닫히게 된다. 그 후 급수구(230)를 통해 수조(210) 안에 수산화나트륨 용액(KOH)이 공급되어 블럭(30)이 완전히 잠기게 한다. 블럭(30) 상면의 웨이퍼(10)를 보다 효과적으로 세정하기 위하여, 왕복롤러(290)로 블럭(30)을 수조(210) 안에서 왕복운동시킬 수 있다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치 중 제3 세정부의 측면도이다. 위에서 설명한 구성요소와 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 제3 세정부(300)는 롤러(50) 및 다수개의 노즐(310)을 포함한다. 노즐(310)은 초순수를 분사하는 장치이다. 제3 세정부(300)에서의 세정(린스) 방법은 제1 세정부(100)에서의 세정 방법과 동일하므로 그 부분을 참고한다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 블럭 세정 장치 중 제4 세정부의 측면도이다. 위에서 설명한 구성요소와 동일한 구성요소에 대한 설명은 생략한다.
도 6에 도시된 바와 같이 제4 세정부(400)는 롤러(50), 수조(410), 급수구(430), 셔터(450) 및 초음파 생성기(490)를 포함한다.
수조(410)는 초순수가 채워지는 부분으로, 앞뒤에 개구부(455)가 형성되어 있어 다수개의 웨이퍼(10)가 부착된 블럭(30)이 드나들게 되며, 블럭(30)을 수평 이동시키는 롤러(50)는 개구부(455)의 하단보다 소정의 값만큼 높게 설치되는 것이 바람직하다. 즉 초순수가 수조(410)에 형성된 개구부(455)의 하단까지 물이 채워져 있고, 이는 롤러(50)가 설치되어 있는 높이보다 약간 낮은 것이다. 이렇게 함으로써 롤러(50)에서 블럭(30)이 수평이동하는 경우에 물에 의한 저항을 적게 받게 된다. 급수구(430)는 수조(410)에 초순수를 공급하는 장치이다. 셔터(450)는 수조(410)의 앞뒤에 형성되는 개구부(455)를 차단하는 장치로서, 블럭(30)이 롤러(50)에 의해 수조(410) 안으로 들어오거나 나가는 때 셔터(450)가 올려지면 한쪽 또는 양쪽의 개구부(455)가 열리게 되어 수조(410)에 초순수가 채워지지 않으나, 블럭(30)이 수조(410) 안에 있을 때 셔터(450)가 내려지면 양쪽의 개구부(455)가 닫히게 되어 급수구(430)를 통해 수조(410)에 초순수가 공급되게 된다. 초음파 생성기(490)는 초음파(Megasonic : 메가소닉, 이하 같다)를 인가하여 블럭(30) 상면의 웨이퍼(10)를 세정하는 장치이다. 초음파 생성기(490)는 주파수가 700Khz 내지 1.2Mhz인 초음파를 생성할 수 있다.
수조(410)의 둘레에는 초순수가 흘러넘치도록 하는 배수홈(435)가 다수개 형성될 수 있다. 배수홈(435)은 블럭(30)이 완전히 잠기는 높이보다 소정의 값만큼 높게 수조(210)의 둘레에 형성되는 것이 바람직하다. 수조(410)의 외부에는 배수홈(435)을 통해 흘러넘친 초순수를 저수하는 저수조(470)를 더 포함할 수 있다. 급수구(430)는 저수조(470)와 연결되도록 설치하여 초순수를 순환시키는 것이 바람직하다.
블럭 세정 시스템(1)을 통해 블럭(30) 상면의 웨이퍼(10)를 세정하는 방법은 다음과 같다.
먼저 블럭(30) 상면에 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 동시에 고압분사하는 제1 세정단계이다. 즉, DMP 공정을 거쳐 불순물이 붙어있는 블럭(30)이 롤러(10)의 수평이동을 통하여 제1 세정부(100)로 들어오면, 다수개의 노즐(110)은 초순수 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 동시에 고압분사하여 이물질을 일차적으로 세정하게 된다.
둘째로, 블럭(30)이 수산화나트륨 용액(KOH)에 잠기도록 수조(210)를 채워 세정하는 제2 세정 단계이다. 즉 제1 세정단계를 거친 블럭(30)이 롤러(10)의 수평이동을 통하여 제2 세정부(200)로 들어오면, 수조(210)의 앞뒤에 형성되어 있는 개구부(255)가 내려지고 블럭(30)이 완전히 잠기도록 수조(210)에 수산화나트륨 용액(KOH)이 채워지고 세정이 이루어지게 된다. 이때, 수조(210) 안의 왕복롤러(290)가 블럭(30)을 왕복운동시킬 수 있는데, 이는 블럭(30)을 보다 효율적으로 세정하기 위함이다.
셋째로, 블럭(30)에 초순수를 고압분사하여 린스하는 제3 세정 단계(린스단계)이다. 즉, 제2 세정단계를 거친 블럭(30)이 롤러(50)의 수평이동을 통하여 제3 세정부(300)로 들어오면, 다수개의 노즐(310)은 초순수를 고압분사하여 블럭(30) 상면을 린스하게 된다.
넷째로, 블럭(30)이 잠기도록 초순수를 채운 후, 초음파를 인가하여 세정하는 제4 세정 단계이다. 즉, 제3 세정단계를 거친 블럭(30)이 롤러(50)의 수평이동을 통하여 제4 세정부(400)로 들어오면, 수조(410)의 앞뒤에 형성되어 있는 개구부(455)가 내려지고 블럭(30)이 완전히 잠기도록 수조(410)에 초순수가 채워지게 된다. 이때 고주파 생성기(490)는 진동자를 포함하여 일부만 잠기는 높이로 설치되는 것이 바람직하다. 고주파 생성기(490)는 주파수가 700Khz 내지 1.2Mhz인 초음파를 생성할 수 있다. 이러한 고주파를 블럭(30)을 상면에 인가하여 세정하게 된다.
마지막으로, 블럭(30) 상면의 물기를 제거하는 건조 단계이다. 건조부(500)에는 에어 나이프가 설치되는 것이 바람직하다. 즉 건조부(500)가 에이 나이프로 구성되는 경우 제4 세정부(400)를 통과하면서 세정을 마친 블럭(30) 상면에는 많은 물기가 있으므로, 다음 공정으로 이동되기 전에 에어 나이프를 통해 건조 기체를 분사하여 물기를 제거하게 된다.
전술한 본 개시의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 개시가 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 개시의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.
본 개시의 보호 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
1 : 블럭 세정 장치 10 : 웨이퍼
30 : 블럭 50 : 롤러
100 : 제1 세정부 110, 310 : 노즐
200 : 제2 세정부 210, 410 : 수조
230, 430 : 급수구 235, 435 : 배수홈
250, 450 : 셔터 255, 455 : 개구부
270, 470 : 저수조 290 : 왕복롤러
300: 제3 세정부 400 : 제4 세정부
490 : 초음파 생성기 500: 건조부

Claims (8)

  1. 다수개의 웨이퍼가 부착된 블럭을 수평 이동시키는 롤러;
    상기 블럭 상면에 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 동시에 분사하여 세정하는 제1 세정부;
    상기 블럭이 들어오면 수산화나트륨 용액(KOH)에 잠기도록 수조를 채워 세정하는 제2 세정부;
    상기 블럭에 상기 초순수를 분사하여 린스하는 제3 세정부;
    상기 블럭이 잠기도록 상기 초순수에 채운 후, 초음파를 인가하여 세정하는 제4 세정부; 및
    상기 블럭 상면의 물기를 제거하는 건조부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 블럭 세정 시스템.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 노즐은
    상기 블럭 상면에 대하여 일정한 각도 및 거리를 유지하며, 초순수(DI Water: De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 고압분사하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 블럭 세정 시스템.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 초음파 생성기는
    주파수가 700Khz 내지 1.2Mhz인 초음파를 발생시키는 것을 특징으로 하는 블럭 세정 시스템.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 건조부는
    건조 기체를 분사하는 에어 나이프(air knife)로 구성되는 것을 특징으로 하는 블럭 세정 시스템.
  5. 제 1항에 있어서, 제2 세정부는
    앞뒤에 상기 블럭이 드나드는 개구부가 형성되는 수조;
    상기 개구부의 하단보다 소정의 값만큼 높게 설치되며, 상기 롤러에 의해 수평 이동되어 온 상기 블럭을 수평 왕복운동시키는 왕복롤러;
    상기 개구부를 개폐하는 셔터; 및
    상기 수조에 상기 수산화나트륨 용액(KOH)을 공급하는 급수구;를 포함하는 것을 특징으로 하는 블럭 세정 시스템.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 수조의 둘레에는
    상기 수산화나트륨 용액(KOH)이 흘러넘치도록 상기 블럭이 완전히 잠기는 높이보다 소정의 값만큼 높게 배수홈;이 형성되는 것을 특징으로 하는 블럭 세정 시스템.
  7. 제 5항에 있어서, 상기 제2 세정부는
    상기 수조의 외부로 흘러넘친 상기 수산화나트륨 용액(KOH)을 저수하는 저수조;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 블럭 세정 시스템.
  8. 블럭 상면에 초순수(DI Water : De-Ionized Water) 또는 비활성 기체 중 선택한 어느 하나 또는 두 가지 물질을 동시에 고압분사하는 제1 세정 단계;
    상기 블럭이 수산화나트륨 용액(KOH)에 잠기도록 수조를 채워 세정하는 제2 세정 단계;
    상기 블럭에 상기 초순수를 고압분사하여 린스하는 제3 세정 단계;
    상기 블럭이 잠기도록 상기 초순수를 채운 후, 초음파를 인가하여 세정하는 제4 세정 단계; 및
    상기 블럭 상면의 물기를 제거하는 건조 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 블럭 세정 방법.







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KR101648294B1 (ko) * 2015-02-12 2016-08-12 임재생 금속성 판재의 초음파 세척 장치

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