KR20130097688A - Polyimide-based adhesive composition, cured product, adhesive sheet, laminate, and flexible printed circuit board - Google Patents

Polyimide-based adhesive composition, cured product, adhesive sheet, laminate, and flexible printed circuit board Download PDF

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Abstract

PURPOSE: A polyimide-based adhesive composition is usable as a solution uniformly dissolved in an organic solvent and has excellent initial adhesion and heat resistant adhesion to an inorganic substrate and an organic substrate. CONSTITUTION: A polyimide-based adhesive composition is obtained by dissolving at least one polyimide resin, a thermosetting resin, and a flame retardant in an organic solvent. The thermosetting resin is at least one selected from an epoxy resin, a benzoxazine resin, a bismaleimide resin, and a cyanatoester resin. The flame retardant is at least one selected from a phosphorus-based flame retardant and inorganic fillers. The amounts of the thermosetting resin and the flame retardant are 1-150 parts by weight and 0.1-200 parts by weight respectively, to 100.0 parts by weight of the polyimide resin.

Description

폴리이미드계 접착제 조성물, 경화물, 접착 시트, 적층체, 플렉서블 프린트 기판{Polyimide-based adhesive composition, cured product, adhesive sheet, laminate, and flexible printed circuit board}Polyimide adhesive composition, cured product, adhesive sheet, laminate, flexible printed circuit board {Polyimide-based adhesive composition, cured product, adhesive sheet, laminate, and flexible printed circuit board}

본 발명은 폴리이미드계 접착제 조성물, 상기 접착제 조성물을 포함하여 얻을 수 있는 경화물, 상기 경화물을 포함하는 접착 시트, 상기 접착 시트를 이용하여 얻을 수 있는 적층체, 및 상기 적층체를 이용하여 얻을 수 있는 플렉서블 프린트 기판에 관한 것이다.
The present invention is obtained using a polyimide adhesive composition, a cured product obtained by including the adhesive composition, an adhesive sheet containing the cured product, a laminate obtained by using the adhesive sheet, and the laminate The present invention relates to a flexible printed circuit board.

종래 전자제품이나 전자기기에 이용하는 프린트 회로 기판이나 빌드업(Build-up) 기판의 제작에 이용하는 접착제는, 내열성이나 유연성, 회로 기판에의 밀착성 등이 뛰어난 방향족계 폴리이미드 수지가 상용되어 왔다. 또한, 방향족계 폴리이미드 수지는 반도체 소자 등의 전자 부품을 반송하기 위한 가고정 수단인 캐리어 테이프(carrier tape) 내지 시트의 접착제 조성물로서도 범용되고 있어 전자제품이나 전자기기를 제조하는데 빠뜨릴 수 없는 재료가 되고 있다.
BACKGROUND ART [0002] Aromatic polyimide resins having excellent heat resistance, flexibility, adhesiveness to a circuit board, and the like have been commonly used as adhesives for the production of printed circuit boards and build-up boards used in electronic products and electronic devices. Aromatic polyimide resins are also widely used as adhesive compositions for carrier tapes and sheets, which are temporary fixing means for conveying electronic components such as semiconductor devices, and are indispensable for manufacturing electronic products and electronic devices. It is becoming.

그러나, 방향족계 폴리이미드 수지의 상당수는 유기용제에 용해하기 어려워 바니쉬(varnish)로서의 이용이 곤란하다. 따라서, 종래에는 그 전구체(폴리아믹산)의 용액을 회로 기판에 도공한 후, 가열 하에 폐환 반응을 실시하여 기판상에 폴리이미드 수지의 피막을 형성하였다. 그러나, 이 방법에서는 기판 자체가 열열화(heat deterioration) 할 우려가 있다.
However, many of the aromatic polyimide resins are difficult to dissolve in organic solvents, making it difficult to use them as varnishes. Therefore, conventionally, after coating the solution of the precursor (polyamic acid) to a circuit board, the ring-closure reaction was performed under heating, and the film of polyimide resin was formed on the board | substrate. However, in this method, the substrate itself may be heat deteriorated.

특허 문헌 1에는 유기용제로의 용해성을 높인 방향족계 폴리이미드 수지로서, 비페닐테트라카르복실산, 디아미노폴리실록산 및 디아미노벤조산을 반응시켜 얻어지는 방향족계 폴리이미드실록산이 개시되어 있다.
Patent Document 1 discloses an aromatic polyimide siloxane obtained by reacting biphenyltetracarboxylic acid, diaminopolysiloxane and diaminobenzoic acid as an aromatic polyimide resin having improved solubility in an organic solvent.

또한, 특허 문헌 2에는 접착제로서의 방향족계 폴리이미드 수지로는 옥시디프탈산이무수물(비페닐테트라카르복실산류 이무수물), 비스아미노프로필 폴리디메틸실록산 및 비스아미노페녹시 벤젠을 소정의 비율로 반응시켜 얻을 수 있는 유리 전이 온도가 350℃ 이하의 방향족계 폴리이미드실록산이 개시되어 있다.
In addition, Patent Document 2 discloses an oxydiphthalic dianhydride (biphenyl tetracarboxylic dianhydride), bisaminopropyl polydimethylsiloxane, and bisaminophenoxy benzene in a predetermined ratio as an aromatic polyimide resin as an adhesive. The aromatic polyimide siloxane whose glass transition temperature which can be obtained is 350 degrees C or less is disclosed.

나아가, 특허 문헌 3에는 각종 테트라카르복실산 및 디아민으로 얻어지는 유기용제에 가용되는 것과 또한, 소정의 점도를 가지는 방향족계 폴리이미드실록산과 에폭시 수지로 구성된 조성물을 도공한 플렉서블 배선 기판이 개시되어 있다.
Further, Patent Document 3 discloses a flexible wiring substrate coated with a composition comprising an aromatic polyimide siloxane having an intended viscosity and an epoxy resin, which is soluble in an organic solvent obtained from various tetracarboxylic acids and diamines.

또한, 특허 문헌 4에는 비페닐테트라카르복실산, 디아미노폴리실록산 및 방향족 디아민을 반응시켜 얻을 수 있는 방향족계 폴리이미드실록산과 에폭시 화합물을 포함하는 조성물을 적층시켜 얻어진 TAB(Tape Automated Bonding)용 캐리어 테이프가 기재되어 있다.
In addition, Patent Document 4 discloses a carrier tape for tape automated bonding (TAB) obtained by laminating a composition containing an aromatic polyimide siloxane and an epoxy compound obtained by reacting biphenyltetracarboxylic acid, diaminopolysiloxane, and aromatic diamine. Is described.

그러나, 상기와 같이 공지된 방향족계 폴리이미드실록산을 이용한 접착제 조성물은 고온에서 무기기재나 유기기재에 대한 접착성 내지 점착성(이하, 내열 접착성으로 총칭한다.)이 충분하지 않다.
However, the adhesive composition using the above-mentioned aromatic polyimide siloxane as described above does not have sufficient adhesiveness or adhesiveness (hereinafter, collectively referred to as heat resistance) to an inorganic substrate or an organic substrate at a high temperature.

또한, 상기와 같이 공지된 방향족계 폴리이미드실록산을 캐리어 테이프나 시트의 접착제층으로서 사용했을 경우에는, 접착제의 잔류물이 발생하기 쉬운 문제도 있다. 상기의 접착제의 잔류물이란, 캐리어 테이프 내지 시트의 접착면에서 전자 부품을 박리했을 때, 부품 표면에 접착제 층의 일부가 부착되는 것을 말하며, 제품의 제품 수율이나 생산성을 저하시키는 요인이 된다.
In addition, when a known aromatic polyimide siloxane is used as an adhesive layer of a carrier tape or a sheet as described above, there is a problem that residues of the adhesive tend to occur. The residue of said adhesive means that a part of adhesive bond layer adheres to the surface of a component, when peeling an electronic component from the adhesive surface of a carrier tape or a sheet, and becomes a factor which reduces the product yield and productivity of a product.

특허 문헌 5는 캐리어 테이프 내지 시트의 접착제로서 방향족계 폴리이미드실록산을 대신해 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(NBR)로 사용한 것을 공지하고 있으나, 상기의 물질은 내열 접착성이 충분하지 않고, 접착제층의 탁(tack)이 강한 문제 등이 있다.
Patent Document 5 discloses that an acrylonitrile butadiene rubber (NBR) is used in place of an aromatic polyimide siloxane as an adhesive of a carrier tape or a sheet. However, the above-mentioned material does not have sufficient heat resistance, tack) is a strong problem.

(특허 문헌 1) 특개평 4-36321호 공보(Patent Document 1) JP-A 4-36321 (특허 문헌 2) 특개평 5-112760호 공보(Patent Document 2) Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-112760 (특허 문헌 3) 특개평 8-253677호 공보(Patent Document 3) Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-253677 (특허 문헌 4) 특개평 7-224259호 공보(Patent Document 4) JP-A-7-224259 (특허 문헌 5) 특개평 2006-117899호 공보(Patent Document 5) Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-117899

본 발명의 목적은 균질하게 유기용제에 용해된 용액으로서 이용할 수 있으며, 내열 접착성이 우수하여 접착제의 잔류물이 남기 어렵고, 경화물 상태에서는 탁(tack)이 낮으며, 신규한 폴리이미드계 접착제 조성물을 제공하는 것이다.
An object of the present invention can be used as a solution homogeneously dissolved in an organic solvent, it is excellent in heat resistance, hardly any residue of the adhesive, low tack in the hardened state, and a novel polyimide adhesive It is to provide a composition.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 소정의 폴리이미드 수지(A) 및 열경화성 수지(B)를 유기용제에 용해되어 얻어지는 폴리이미드계 접착제 조성물을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a polyimide adhesive composition obtained by dissolving a predetermined polyimide resin (A) and a thermosetting resin (B) in an organic solvent.

구체적으로, 본 발명은 하기 [1] 내지 [4]로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 폴리이미드 수지(A) 및 필요에 따라서 열경화성 수지(B) 및 난연제(C)가 유기용제(D)에 용해되어 얻어지는 폴리이미드계 접착제 조성물을 제공한다.Specifically, in the present invention, at least one polyimide resin (A) selected from the group consisting of the following [1] to [4] and, if necessary, the thermosetting resin (B) and the flame retardant (C) is an organic solvent (D). The polyimide adhesive composition obtained by melt | dissolving in is provided.

[1]방향족 테트라카르복실산류(a1) 및 다이머디아민을 30 몰% 이상 포함한 디아민류(a2)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지;[1] polyimide resin obtained by reacting aromatic tetracarboxylic acids (a1) and diamines (a2) containing 30 mol% or more of dimerdiamine;

[2] 방향족 테트라카르복실산류(a1) 및 다이머디아민을 30 몰% 이상 포함한 디아민류(a2)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지를 추가로 상기(a2) 성분으로 사슬신장하여 얻어지는 폴리이미드 수지;[2] a polyimide resin obtained by further chain-stretching a polyimide resin obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic acid (a1) and a diamine (a2) containing 30 mol% or more of dimerdiamine as the component (a2);

[3] 방향족 테트라카르복실산류(a1) 및 다이머디아민을 30 몰% 이상 포함한 디아민류(a2)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지와 에폭시기 함유 알콕시실란 부분 축합물(a3)을 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지; 및[3] polyimide resin obtained by reacting a polyimide resin obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic acid (a1) and a diamine (a2) containing 30 mol% or more of dimerdiamine and an epoxy group-containing alkoxysilane partial condensate (a3) ; And

[4] 방향족 테트라카르복실산류(a1) 및 다이머디아민을 30 몰% 이상 포함한 디아민류(a2)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지를 추가로 상기(a2) 성분으로 사슬 신장하여 얻어지는 폴리이미드 수지와 에폭시기 함유 알콕시실란 부분 축합물(a3)을 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지.
[4] A polyimide resin and an epoxy group obtained by further chain-stretching a polyimide resin obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic acid (a1) and a diamine (a2) containing 30 mol% or more of dimerdiamine in the component (a2). Polyimide resin obtained by making containing alkoxysilane partial condensate (a3) react.

또한, 본 발명은 상기 접착제 조성물을 경화시켜 얻을 수 있는 경화물 및 상기 접착제 조성물을 시트기재에 도포해 건조시켜 얻을 수 있는 접착 시트, 상기 접착 시트의 접착면에 추가로 시트기재를 열압착시켜 얻을 수 있는 적층체, 상기 적층체를 다시 가열시키는 것에 의해서 얻을 수 있는 적층체 및 상기 적층체를 이용해서 얻어지는 플렉서블 프린트 기판을 제공한다.
In addition, the present invention is obtained by thermally compressing a sheet substrate on the adhesive sheet obtained by applying the cured product obtained by curing the adhesive composition and the adhesive composition onto a sheet substrate and drying the adhesive sheet. The laminated body which can be obtained, the laminated body obtained by heating the said laminated body again, and the flexible printed circuit board obtained using the said laminated body are provided.

본 발명에 따른 접착제 조성물은 유기용제에 균질하게 용해된 용액으로서 이용이 가능하다. 또한, 무기기재 및 유기기재에 대한 초기 접착성 및 내열 접착성이 뛰어나다. 나아가 상기 접착제 조성물로 얻을 수 있는 경화물(접착제층)은 저탁(law tack)이며, 가열시에 발포하기 어렵고 접착제의 잔류물이 남기 어렵다. The adhesive composition according to the present invention can be used as a solution homogeneously dissolved in an organic solvent. In addition, it is excellent in the initial adhesiveness and heat resistance adhesion to the inorganic substrate and organic substrate. Furthermore, the hardened | cured material (adhesive layer) obtained with the said adhesive composition is a law tack, it is difficult to foam at the time of heating, and the residue of an adhesive hardly remains.

더 나아가, 본 발명에 따른 접착제 조성물은 프린트 회로 기판(빌드업 기판, 플렉서블 프린트 기판 등)이나 플렉서블 프린트 기판용 동판의 제조에 이용하는 접착제 뿐만 아니라 TAB 테이프나 COF 테이프 등의 캐리어 테이프 또는 캐리어 시트의 접착제, 반도체 층간재료 등에 유용하게 사용할 수 있다.
Furthermore, the adhesive composition according to the present invention is not only an adhesive used for manufacturing printed circuit boards (build-up boards, flexible printed boards, etc.) or copper sheets for flexible printed boards, but also adhesives of carrier tapes or carrier sheets such as TAB tapes or COF tapes. And semiconductor interlayer materials.

<폴리이미드계 접착제 조성물><Polyimide adhesive composition>

본 발명에 따른 폴리이미드계 접착제 조성물은 하기 [1] 내지 [4]로부터 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 폴리이미드 수지(A)(이하, (A)성분이라고 한다.) 및 필요에 따라서 열경화성 수지(B)(이하, (B)성분이라고 한다.) 및 난연제(C)(이하, (C)성분이라고 한다.)가 유기용제(D)(이하, (D)성분이라고 한다.)에 용해되어 얻어지는 것이다. The polyimide adhesive composition according to the present invention is at least one polyimide resin (A) (hereinafter referred to as component (A)) selected from the group consisting of the following [1] to [4], and thermosetting as necessary. The resin (B) (hereinafter referred to as component (B)) and the flame retardant (C) (hereinafter referred to as component (C)) are dissolved in an organic solvent (D) (hereinafter referred to as component (D)). It is obtained.

[1] 방향족 테트라카르복실산류(a1)(이하, (a1)성분이라고 한다.) 및 다이머디아민을 30 몰%이상 포함한 디아민류(a2)(이하, (a2)성분이라고 한다.)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지(이하, (A-1)성분이라고 한다);[1] Aromatic tetracarboxylic acids (a1) (hereinafter referred to as component (a1)) and diamine (a2) (hereinafter referred to as component (a2)) containing 30 mol% or more of dimerdiamine are reacted to react. Polyimide resin (henceforth (A-1) component) obtained;

[2] (A-1)성분을 다시 (a2)성분과 사슬신장하여 얻어지는 폴리이미드 수지(이하, (A-2)성분이라고 한다);[2] a polyimide resin (hereinafter, referred to as (A-2) component) obtained by chain-extending the component (A-1) with the component (a2);

[3] (A-1)성분과 에폭시기 함유 알콕시실란 부분 축합물(a3)(이하, (a3)성분이라고 한다.)을 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지(이하, (A-3)성분이라고 한다.); 및[3] A polyimide resin (hereinafter referred to as (A-3) component) obtained by reacting a component (A-1) with an epoxy group-containing alkoxysilane partial condensate (a3) (hereinafter referred to as component (a3)). ); And

[4] (A-2)성분과 (a3)성분을 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지(이하, (A-4)성분이라고 한다.).
[4] A polyimide resin obtained by reacting the component (A-2) with the component (a3) (hereinafter referred to as component (A-4)).

(a1)성분으로는, 폴리이미드의 원료로서 공지된 것을 사용할 수 있다. 구체적으로, 예를 들면 피로멜리트산 이무수물(Pyromellitic acid dianhydride) 또는 하기와 같이 화학식 1에서 나타내지는 화합물을 들 수 있다.As (a1) component, a well-known thing can be used as a raw material of a polyimide. Specifically, for example, pyromellitic acid dianhydride or a compound represented by the following formula (1) may be mentioned.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

(상기 화학식 1에 있어서,(In the formula 1,

X는 단일 결합 또는 하기 화학식 2에 나타낸 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조를 나타낸다.)X represents a single bond or at least one structure selected from the group represented by the following formula (2).)

[화학식2](2)

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 1로 표시되는 화합물로는 예를 들면, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-벤젠테트라카르복실산 무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산 무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐에테르테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,3',4,4'-테트라카르복시페닐)테트라플루오르프로판 이무수물, 2,2'-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)설폰 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 시클로펜탄테트라카르복실산 무수물, 부탄-1,2,3,4-테트라카르복실산, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 무수물, 4,4'-프로판-2,2'-디일비스(1,4-페닐렌옥시)디프탈산 이무수물 등이 있으며 2종 이상 조합할 수도 있다.
Examples of the compound represented by Formula 1 include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4, 4'-diphenylethertetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic anhydride, 1, 4,5,8-naphthalenetetracarboxylic anhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic anhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ', 4'-benzophenonetetracarboxylic Acid dianhydrides, 2,3,3 ', 4'-diphenylethertetracarboxylic dianhydride, 2,3,3', 4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis ( 3,3 ', 4,4'-tetracarboxyphenyl) tetrafluoropropane dianhydride, 2,2'-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) sulfone dianhydride, 2,2-bis (2,3 -Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic anhydride, butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic anhydride, 4,4'-propane-2,2'-diylbis (1,4-phenyleneoxy) diphthalic dianhydride, and the like. .

(a2)성분을 이루는 다이머디아민은 특개평 9-12712호 공보에 기재되어 있는 바와 같이, 올레인산 등의 불포화 지방산의 이량체인 다이머산으로부터 유도되는 화합물이다. 본 발명에서는 공지의 다이머디아민을 특별한 한정 없이 사용할 수 있으나, 예를 들면 아래와 같이 하기 화학식 3 또는 화학식 4로 표시되는 것이 바람직하다.Dimerdiamine which comprises (a2) component is a compound derived from dimer acid which is a dimer of unsaturated fatty acids, such as oleic acid, as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 9-12712. In the present invention, a known dimerdiamine can be used without particular limitation, but is preferably represented by the following Chemical Formula 3 or Chemical Formula 4, for example.

[화학식 3](3)

Figure pat00003
Figure pat00003

(상기 화학식 3에서, m+n=6~17의 정수이고, p+q=8~19의 정수이며, 파선부는 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합을 의미한다.)(In the formula (3), m + n = an integer of 6 to 17, p + q = an integer of 8 to 19, the broken line means a carbon-carbon single bond or a carbon-carbon double bond.)

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

(상기 화학식 4에서, m+n=6~17의 정수이고, p+q=8~19의 정수이며, 파선부는 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합을 의미한다).
(In the formula (4), m + n = an integer of 6 to 17, p + q = an integer of 8 to 19, the broken line means a carbon-carbon single bond or a carbon-carbon double bond).

다이머디아민으로는, 본 발명과 관련되는 접착제 조성물의 유기용제 용해성, 초기 접착성, 내열 접착성, 저탁(law tack)성, 접착제의 잔류물이 적게 남는 것 등의 관점에서 상기 화학식 4로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 5로 표시되는 것을 특징으로 하는 화합물이 바람직하다.
Dimerdiamine is represented by the above formula (4) in view of organic solvent solubility, initial adhesiveness, heat-resistant adhesiveness, law tack of the adhesive composition according to the present invention, less residue of the adhesive, etc. Preferred are compounds and compounds represented by the following formula (5).

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00005

Figure pat00005

다이머디아민의 시판품으로는 예를 들면 바사민 551(BASF 제팬(주) 제), 바사민 552(코그닉스재펜(주) 제;바사민 551의 물 첨가물), PRIAMINE1075, PRIAMINE1074(구로다제팬(주) 제) 등을 들 수 있다.
As a commercial item of dimerdiamine, Basamin 551 (made by BASF Japan Co., Ltd.), Basamin 552 (made by Cognix Japan Penn; water additive of Basamin 551), PRIAMINE1075, PRIAMINE1074 (Kurodazepan Co., Ltd.) 1) etc. can be mentioned.

(a2)성분에 있어서 다이머디아민의 함유량은 내열 접착성, 저탁(law tack)성, 접착제의 잔류물이 적게 남는 것 등의 관점에서 (a2) 성분의 전체 100 몰%를 기준으로 하여 일반적으로 30 몰% 이상, 바람직하게는 45~100 몰%이다. 또한, (a2)성분에는 필요에 따라서 다른 디아민을 일반적으로 70 몰% 미만, 바람직하게는 0~55 몰%의 범위로 포함할 수 있다.
The content of dimerdiamine in the component (a2) is generally 30 based on the total 100 mol% of the component (a2) in view of heat resistance, law tack and less residue of the adhesive. It is mol% or more, Preferably it is 45-100 mol%. In addition, the component (a2) may contain other diamines generally in the range of less than 70 mol%, preferably 0 to 55 mol%, as necessary.

상기 다른 디아민으로는, 각종 공지의 디아민을 특별한 한정 없이 사용할 수 있다. 구체적으로, 예를 들면 디아미노폴리실록산을 사용할 수 있으며 그 중에서도 하기 화학식 5로 표시되는 것을 특징으로 하는 화합물이 바람직하다.As said other diamine, various well-known diamine can be used without a restriction | limiting in particular. Specifically, for example, diamino polysiloxane may be used, and among them, a compound characterized by the following formula (5) is preferable.

[화학식 5][Chemical Formula 5]

Figure pat00006
Figure pat00006

(상기 화학식 5에서, (In the above formula (5)

R1은 탄소수 2~6의 알킬렌기를 나타내고, R2는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타내며, r은 1~30의 정수를 나타낸다).
R 1 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, R 2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and r represents an integer of 1 to 30).

상기 화학식 5로 표시되는 디아미노폴리실록산으로는, 예를 들면, α,ω-비스(2-아미노에틸)폴리디메틸 실록산, α,ω-비스(3-아미노프로필)폴리디메틸 실록산, α,ω-비스(4-아미노부틸)폴리디메틸 실록산, α,ω-비스(5-아미노펜틸)폴리디메틸 실록산, α,ω-비스[3-(2-아미노페닐)프로필]폴리디메틸 실록산, α,ω-비스[3-(4-아미노페닐)프로필]폴리디메틸 실록산 등이 있으며, 상기를 포함하여 이루어지는 군으로부터 2종 이상 조합할 수도 있다.
As diamino polysiloxane represented by the said Formula (5), For example, (alpha), (gamma) -bis (2-aminoethyl) polydimethyl siloxane, (alpha), (gamma) -bis (3-aminopropyl) polydimethyl siloxane, (alpha), (gamma)- Bis (4-aminobutyl) polydimethyl siloxane, α, ω-bis (5-aminopentyl) polydimethyl siloxane, α, ω-bis [3- (2-aminophenyl) propyl] polydimethyl siloxane, α, ω- Bis [3- (4-aminophenyl) propyl] polydimethyl siloxane and the like, and two or more kinds thereof may be combined from the group comprising the above.

또한, 상기의 다른 디아민으로는, 예를 들면, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판 등의 비스아미노페녹시페닐프로판 류; 3,3'- 디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4, 4'-디아미노 디페닐에테르 등의 디아미노디페닐에테르 류; p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민 등의 페닐렌디아민 류; 3,3'-디아미노디페닐설파이드, 3,4'-디아미노디페닐설파이드, 4,4'-디아미노디페닐설파이드 등의 디아미노디페닐설파이드 류; 3,3'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 4,4'-디아미노디페닐 설폰 등의 디아미노디페닐설폰 류; 3,3'-디아미노벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 3,4'-디아미노벤조페논 등의 디아미노벤조페논 류; 3,3'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,4'-디아미노디페닐메탄 등의 디아미노디페닐메탄 류; 2,2-디(3-아미노페닐)프로판, 2,2-디(4-아미노페닐)프로판, 2-(3-아미노페닐)-2-(4-아미노페닐)프로판 등의 디아미노페닐프로판 류; 2,2-디(3-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오르프로판, 2,2-디(4-아미노 페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오르프로판, 2-(3-아미노페닐)-2-(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오르프로판 등의 디아미노페닐헥사플루오르프로판 류; 1,1-디(3-아미노페닐)-1-페닐에탄, 1,1-디(4-아미노페닐)-1-페닐에탄, 1-(3-아미노페닐)-1-(4-아미노페닐)-1-페닐에탄 등의 디아미노페닐 페닐에탄 류; 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(3 - 아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠 등의 비스아미노페녹시 벤젠 류; 1,3-비스(3-아미노벤조일)벤젠, 1,3-비스(4-아미노벤조일)벤젠, 1,4-비스(3 - 아미노벤조일)벤젠, 1,4-비스(4-아미노벤조일)벤젠 등의 비스아미노벤조일 벤젠 류; 1,3-비스(3-아미노-α,α-디메틸벤질)벤젠, 1,3-비스(4-아미노-α,α-디메틸벤질)벤젠, 1,4-비스(3-아미노-α,α-디메틸벤질)벤젠, 1,4-비스(4-아미노-α,α-디메틸벤질)벤젠 등의 비스아미노디메틸 벤젠 류; 1,3-비스(3-아미노-α,α-디트리플루오르메틸벤질)벤젠, 1,3-비스(4-아미노-α,α-디트리플루오르메틸벤질)벤젠, 1,4-비스(3-아미노-α,α-디트리플루오르메틸벤질)벤젠, 1,4-비스(4-아미노-α,α-트리플루오르메틸벤질)벤젠, 등의 비스아미노 디트리플루오르메틸벤질벤젠 류; 2,6-비스(3-아미노페녹시)벤조니트릴, 2,6-비스(3-아미노페녹시)피리딘, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 등의 아미노페녹시비페닐 류; 비스[4-(3-아미노 페녹시)페닐]케톤, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]케톤 등의 아미노페녹시페닐케톤 류; 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]설파이드, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]설파이드 등의 아미노페녹시페닐설파이드 류; 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]설폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]설폰 등의 아미노페녹시페닐설폰 류; 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]에테르, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]에테르 등의 아미노페녹시페닐에테르 류; 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[3-(3-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오르프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사 플루오르프로판 등의 아미노페녹시페닐 프로판 류; 및 1,3-비스 4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,3-비스[4-(4-아미노페녹시)벤조일] 벤젠, 1,4 -비스[4-(3-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,4-비스[4-(4-아미노페녹시)벤조일]벤젠, 1,3-비스[4-(3-아미노페녹시)-α,α-디메틸벤질]벤젠, 1,3-비스 [4-(4-아미노 페녹시)-α,α-디메틸벤질]벤젠, 1,4-비스[4-(3-아미노페녹시)-α,α-디메틸벤질]벤젠, 1,4-비스[4-(4-아미노페녹시)-α,α-디메틸벤질]벤젠, 4,4'-비스[4-(4-아미노페녹시)벤조일]디페닐에테르, 4,4'-비스[4-(4-아미노-α,α-디메틸벤질)페녹시]벤조페논, 4,4'-비스[4-(4-아미노-α,α-디메틸벤질)페녹시]디페닐 설폰, 4,4'-비스[4-(4-아미노페녹시)페녹시]디페닐설폰, 3,3'-디아미노-4,4'-디페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4,4'-디비페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4-페녹시벤조페논, 3,3'-디아미노-4-비페녹시벤조페논, 6,6'-비스(3-아미노페녹시)3,3,3',3'-테트라메틸-1,1'-스파이로비인단, 6,6'-비스(4-아미노페녹시)3,3,3,'3'-테트라메틸-1,1'-스파이로비인단, 1,3-비스(3-아미노프로필)테트라메틸디실록산, 1,3-비스(4-아미노부틸)테트라메틸디실록산, 비스(아미노메틸)에테르, 비스(2-아미노에틸)에테르, 비스(3-아미노프로필)에테르, 비스(2-아미노메톡시)에틸]에테르, 비스[2-(2-아미노에톡시)에틸]에테르, 비스[2-(3-아미노프로필)에틸]에테르, 1,2-비스(아미노메톡시)에탄, 1,2-비스(2-아미노에톡시)에탄, 1,2-비스[2-(아미노메톡시)에톡시]에탄, 1,2-비스[2-(2-아미노에톡시)에톡시]에탄, 에틸렌글리콜-비스(3-아미노프로필)에테르, 디에틸렌글리콜-비스(3-아미노프로필)에테르, 트리에틸렌글리콜-비스(3-아미노프로필)에테르, 에틸렌디아민, 1,3-디아미노프로판, 1,4-디아미노부탄, 1,5-디아미노펜탄, 1,6-디아미노헥산, 1,7-디아미노헵탄, 1,8-디아미노옥탄, 1,9-디아미노노난, 1,10-디아미노데칸, 1,11-디아미노운데칸, 1,12-디아미노도데칸, 1,2-디아미노시클로헥산, 1,3-디아미노시클로헥산, 1,4-디아미노시클로 헥산, 1,2-디(2-아미노에틸)시클로헥산, 1,3-디(2-아미노에틸)시클로헥산, 1,4-디(2-아미노에틸)시클로헥산, 비스(4-아미노시클로헥실)메탄, 2,6-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 2,5-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄, 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산 등이 있다.
Moreover, as said other diamine, 2, 2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2, 2-bis [4- (4-amino phenoxy) phenyl] propane, for example. Bisamino phenoxy phenyl propanes, such as these; Diaminodiphenyl ethers such as 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether and 4,4'-diamino diphenyl ether; phenylenediamines such as p -phenylenediamine and m -phenylenediamine; Diaminodiphenyl sulfides such as 3,3'-diaminodiphenyl sulfide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfide and 4,4'-diaminodiphenyl sulfide; Diaminodiphenyl sulfones such as 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone and 4,4'-diaminodiphenyl sulfone; Diamino benzophenones such as 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone and 3,4'-diaminobenzophenone; Diaminodiphenylmethanes such as 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane and 3,4'-diaminodiphenylmethane; Diaminophenyl propane such as 2,2-di (3-aminophenyl) propane, 2,2-di (4-aminophenyl) propane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) propane Ryu; 2,2-di (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-di (4-amino phenyl) -1,1,1,3,3, Diaminophenylhexafluoropropanes such as 3-hexafluoropropane and 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane; 1,1-di (3-aminophenyl) -1-phenylethane, 1,1-di (4-aminophenyl) -1-phenylethane, 1- (3-aminophenyl) -1- (4-aminophenyl Diaminophenyl phenylethanes such as) -1-phenylethane; 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4- Bisaminophenoxy benzenes such as aminophenoxy) benzene; 1,3-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-aminobenzoyl) Bisaminobenzoyl benzenes such as benzene; 1,3-bis (3-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-α, bisaminodimethyl benzenes such as α-dimethylbenzyl) benzene and 1,4-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene; 1,3-bis (3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,4-bis ( Bisamino ditrifluoromethylbenzylbenzenes such as 3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-α, α-trifluoromethylbenzyl) benzene; 2,6-bis (3-aminophenoxy) benzonitrile, 2,6-bis (3-aminophenoxy) pyridine, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) phenyl, 4,4'-bis Aminophenoxy biphenyls such as (4-aminophenoxy) biphenyl; Aminophenoxy phenyl ketones such as bis [4- (3-amino phenoxy) phenyl] ketone and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone; Aminophenoxyphenyl sulfides such as bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide; Aminophenoxyphenyl sulfones such as bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone; Aminophenoxy phenyl ethers such as bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether; 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexa Aminophenoxyphenyl propanes such as fluoropropane and 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane; And 1,3-bis 4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-amino Phenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene , 1,3-bis [4- (4-amino phenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene , 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 4,4'-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4, 4'-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] benzophenone, 4,4'-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] di Phenyl sulfone, 4,4'-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] diphenylsulfone, 3,3'-diamino-4,4'-diphenoxybenzophenone, 3,3'- Diamino-4,4'-dibiphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 6,6'- Bis (3-aminophenoxy) 3,3,3 ', 3'-te Lamethyl-1,1'-Spirobiindane, 6,6'-bis (4-aminophenoxy) 3,3,3, '3'-tetramethyl-1,1'-Spirobiindane, 1,3 Bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (4-aminobutyl) tetramethyldisiloxane, bis (aminomethyl) ether, bis (2-aminoethyl) ether, bis (3-amino Propyl) ether, bis (2-aminomethoxy) ethyl] ether, bis [2- (2-aminoethoxy) ethyl] ether, bis [2- (3-aminopropyl) ethyl] ether, 1,2-bis (Aminomethoxy) ethane, 1,2-bis (2-aminoethoxy) ethane, 1,2-bis [2- (aminomethoxy) ethoxy] ethane, 1,2-bis [2- (2- Aminoethoxy) ethoxy] ethane, ethylene glycol-bis (3-aminopropyl) ether, diethylene glycol-bis (3-aminopropyl) ether, triethylene glycol-bis (3-aminopropyl) ether, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,7-diamino Tan, 1,8-diaminooctane, 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, 1,11-diaminoundecane, 1,12-diaminododecane, 1,2-dia Minocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclo hexane, 1,2-di (2-aminoethyl) cyclohexane, 1,3-di (2-aminoethyl) cyclohexane, 1,4-di (2-aminoethyl) cyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, 2,6-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-bis (aminomethyl ) Bicyclo [2.2.1] heptane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, and the like.

또한, 상기의 (A-1)성분은, 각종 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다. 예를 들면, 먼저, (a1)성분과 (a2)성분을 일반적으로 60~120 ℃정도, 바람직하게는 80~100 ℃의 온도에서, 일반적으로 0.1~2시간 정도, 바람직하게는 0.1~0.5시간 부가 반응시킨다. 상기에서 얻은 부가물을 다시 80~250 ℃정도, 바람직하게는 100~200 ℃의 온도에서, 0.5~50시간 정도, 바람직하게는 1~20시간 이미드화 반응, 즉, 탈수 폐환 반응시켜 얻고자 하는 (A-1)성분을 얻을 수 있다.
In addition, said (A-1) component can be manufactured by various well-known methods. For example, first, the component (a1) and the component (a2) are generally about 60 to 120 ° C, preferably at a temperature of 80 to 100 ° C, generally about 0.1 to 2 hours, preferably 0.1 to 0.5 hour Addition reaction. The adduct obtained above is about to be obtained by imidization reaction, that is, dehydration ring closure reaction, at a temperature of about 80 to 250 ° C, preferably at 100 to 200 ° C, for about 0.5 to 50 hours, preferably for 1 to 20 hours. (A-1) A component can be obtained.

또한, 상기 이미드화 반응에 있어서, 각종 공지의 반응 촉매, 탈수제, 및 하기에서 서술하는 유기용제를 사용할 수 있다. 반응 촉매로는, 트리에틸아민 등의 지방족 제3급 아민류, 메틸아닐린 등의 방향족 제 3급 아민류, 피리딘, 피콜린, 이소퀴놀린 등의 복소환식 제3급 아민류 등을 사용할 수 있다. 또한, 탈수제로는 무수 초산 등의 지방족산 무수물이나 무수 벤조산 등의 방향족산 무수물 등을 사용할 수 있다.
Moreover, in the said imidation reaction, various well-known reaction catalysts, a dehydrating agent, and the organic solvent mentioned below can be used. As the reaction catalyst, aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as methylaniline, heterocyclic tertiary amines such as pyridine, picoline, isoquinoline and the like can be used. Moreover, as a dehydrating agent, aliphatic acid anhydrides, such as acetic anhydride, aromatic acid anhydrides, such as benzoic anhydride, etc. can be used.

상기 (A-1)성분의 이미드 폐환율은 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로 70%이상, 바람직하게는 85~100%이다. 상기의「이미드 폐환율」이란, (A-1)성분에 있어서, 환(고리형)상 이미드 결합의 함유량을 의미하며, NMR나 IR분석 등의 각종 분광 수단에 의해 결정할 수 있다. 또한, (A-1)성분의 이미드 폐환율을 70%이상으로 함으로써, 본 발명의 접착제 조성물의 초기 접착성이나 내열 접착성이 한층 더 양호해지며, 본 발명의 경화물에 상기 이미드화 반응을 수행함으로써 생성되는 수분으로 인한 발포가 생기기 어려워진다.
Although the imide ring closure rate of the said (A-1) component is not specifically limited, Generally, it is 70% or more, Preferably it is 85 to 100%. Said "imide cyclization rate" means content of a ring (cyclic) imide bond in (A-1) component, and can be determined by various spectroscopic means, such as NMR and IR analysis. Moreover, initial stage adhesiveness and heat-resistant adhesiveness of the adhesive composition of this invention become further more favorable by making the imide closure rate of (A-1) component 70% or more, and the said imidation reaction to the hardened | cured material of this invention. It is difficult to produce foaming due to the moisture produced by the following.

(a1)성분과 (a2)성분의 사용량은 특별히 한정되지 않으나 (A-1)성분의 (D)성분으로의 용해성이나, 초기 접착성 및 내열 접착성 등의 관점에서 보면〔(a1)성분의 사용 몰수/(a2)성분의 사용 몰수〕가 일반적으로 0.6/1~1.4/1 정도, 바람직하게는 0.8/1~1.2/1가 되는 범위이다.
Although the usage-amount of (a1) component and (a2) component is not specifically limited, From a viewpoint of the solubility of (A-1) component as (D) component, an initial stage adhesiveness, and a heat-resistant adhesiveness, [[a1) component Number of moles to be used / number of moles of the component (a2)] is generally in the range of about 0.6 / 1 to 1.4 / 1, preferably 0.8 / 1 to 1.2 / 1.

상기 (A-2) 성분은 상기 방법으로 얻은 (A-1)성분을 추가로 상기 (a2)성분으로 사슬신장되어 얻어지는 폴리이미드 수지이다.The said (A-2) component is a polyimide resin obtained by carrying out chain extension of the (A-1) component obtained by the said method to the said (a2) component further.

(A-1)성분과 (a2)성분의 반응 조건은 특별히 한정되지는 않으나, 일반적으로는 반응 온도는 60 ℃ 이하, 바람직하게는 50℃ 이하에서, 반응 시간은 1~6시간 정도, 바람직하게는 1~3시간 부가 반응시킨다. 또, 반응 시에는 하기에서 서술하는 유기용제를 이용할 수도 있다.
Although reaction conditions of (A-1) component and (a2) component are not specifically limited, Generally, reaction temperature is 60 degrees C or less, Preferably it is 50 degrees C or less, Reaction time is about 1 to 6 hours, Preferably React for 1 to 3 hours. Moreover, the organic solvent mentioned below can also be used at the time of reaction.

사슬신장제로서의 (a2)성분의 사용량은 특별히 한정되지는 않으나, 본 발명의 효과를 달성하기 위한 목적에 있어서, 일반적으로,〔(A-1)성분 중의 잔존 카르복실기의 몰수〕/〔사슬신장제로서의 (a2)성분의 몰수〕가 0.6/1~1.4/1 정도의 범위이다.The amount of the component (a2) used as the chain extender is not particularly limited, but for the purpose of achieving the effect of the present invention, generally, [mole number of the remaining carboxyl groups in the component (A-1)] / [chain extension agent Mole number of component (a2)] is in the range of about 0.6 / 1 to 1.4 / 1.

또한, (A-2)성분에 있어서, 이미드 폐환율도 특별히 한정되지는 않으나, 일반적으로 70%이상, 바람직하게는 85~100%이다.
In addition, in the component (A-2), the imide closure rate is not particularly limited, but is generally 70% or more, preferably 85 to 100%.

(A-3)성분은 (A-1)성분과 (a3)성분을 반응시켜 얻어지는 분자 내에 알콕시 실릴기를 함유하는 폴리이미드 수지이며, 자기 가교성의 수지이므로 하기 서술하는 (B)성분을 이용하지 않고서도 내열 접착성에 뛰어난 접착제 경화물을 얻는 것이 가능해진다.(A-3) A component is a polyimide resin containing an alkoxy silyl group in the molecule | numerator obtained by making (A-1) component and (a3) component react, and since it is self-crosslinking resin, it does not use (B) component mentioned below. Moreover, it becomes possible to obtain the adhesive hardened | cured material excellent in heat-resistant adhesiveness.

(a3)성분은, 실록산 결합을 연속 단위로 하여 분자 사슬 중에 알킬기 및 알콕시기가 결합한 규소 원자를 가지며, 분자 말단에 에폭시기가 있는 고분자량 화합물이며, 각종 공지의 알콕시실란 부분 축합물과 에폭시 알코올을 탈알코올 반응(가수분해 반응)시켜 얻을 수 있다.(a3) A component is a high molecular weight compound which has the silicon atom which the alkyl group and the alkoxy group couple | bonded in the molecular chain using a siloxane bond as a continuous unit, and has an epoxy group at the terminal of a molecule | numerator, and removes various well-known alkoxysilane partial condensates and epoxy alcohols. It can obtain by alcohol reaction (hydrolysis reaction).

상기 알콕시실란 부분 축합물 성분으로는 하기 화학식 6으로 표시되는 것을 특징으로 한다: The alkoxysilane partial condensate component may be represented by the following formula (6):

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00007
Figure pat00007

(상기 화학식 6에서, (6)

R3은 탄소수 1~3 정도의 알킬기를 나타내고, R4는 탄소수 1~3 정도의 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. 또한, s는 2~100의 정수이고, 바람직하게는 2~50의 정수이며, 더욱 바람직하게는 3~8의 정수를 나타낸다).
R <3> represents a C1-C3 alkyl group and R <4> represents a C1-C3 alkyl group or an aryl group. In addition, s is an integer of 2-100, Preferably it is an integer of 2-50, More preferably, the integer of 3-8 is represented).

상기 에폭시 알코올로는 하기 화학식 7로 표시되는 것을 특징으로 한다:The epoxy alcohol is characterized in that represented by the following formula (7):

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00008
Figure pat00008

(상기 화학식 7에서, t는 1~10의 정수이고, 바람직하게는 1~8의 정수를 나타낸다).
(In the said formula (7), t is an integer of 1-10, Preferably the integer of 1-8 is represented.).

상기 탈알코올 반응은 각종 공지의 방법에 따라 실시할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 알콕시실란 부분 축합물과 에폭시 알코올과 50~150 ℃정도, 바람직하게는 70~110 ℃의 조건 하에서 가열에 의해 발생하는 알코올을 제거하면서 반응시키는게 바람직하다.
The dealcohol reaction can be carried out according to various known methods. Specifically, for example, the alkoxysilane partial condensate and an epoxy alcohol are preferably reacted while removing an alcohol generated by heating under a condition of about 50 to 150 ° C, preferably 70 to 110 ° C.

또한, 알콕시실란 부분 축합물과 에폭시 알코올의 사용량은 특별히 한정되지는 않으나 내열 밀착성이나 접착제의 잔류물 등을 고려하여, 일반적으로는〔알콕시실란 부분 축합물 중의 알콕시기의 몰수)/에폭시 알코올 중의 수산기의 몰수〕가 일반적으로 1/0.3~1/0.01 정도의 범위가 바람직하다.
In addition, the usage-amount of an alkoxysilane partial condensate and an epoxy alcohol is not specifically limited, but in consideration of heat-resistance adhesiveness, the remainder of an adhesive agent, etc., generally, [the number of moles of the alkoxy group in an alkoxysilane partial condensate) / hydroxyl group in an epoxy alcohol Molar number] is generally in the range of about 1 / 0.3 to 1 / 0.01.

나아가, 탈알코올 반응에 있어서, 필요에 따라서 하기에서 서술하는 (D)성분이나, 각종 공지의 촉매를 사용할 수 있다. 해당 촉매로는, 리튬, 나트륨, 칼륨, 루비듐, 세슘, 마그네슘, 칼슘, 바륨, 스트론튬, 아연, 알루미늄, 티탄, 코발트, 게르마늄, 주석, 납, 안티몬, 비소, 세륨, 카드뮴, 망간 등의 금속;상기와 같은 금속을 포함하는 산화물, 유기산염, 할로겐화물, 알콕사이드 등을 들 수 있다.
Furthermore, in a dealcoholization reaction, (D) component described below and various well-known catalyst can be used as needed. Examples of the catalyst include metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, magnesium, calcium, barium, strontium, zinc, aluminum, titanium, cobalt, germanium, tin, lead, antimony, arsenic, cerium, cadmium, and manganese; Oxides, organic acid salts, halides, alkoxides and the like containing such metals may be mentioned.

(A-1)성분과 (a3)성분의 반응은 소위 개환 에스테르화 반응이다. 반응 조건은 특별히 한정되지는 않으나, 반응 온도는 일반적으로 40~130 ℃정도, 바람직하게는 70~110 ℃이며, 반응 시간은 일반적으로 1~7시간 정도이다.
The reaction between the component (A-1) and the component (a3) is a so-called ring-opening esterification reaction. Although reaction conditions are not specifically limited, Reaction temperature is generally about 40-130 degreeC, Preferably it is 70-110 degreeC, and reaction time is about 1 to 7 hours generally.

상기 개환 에스테르화 반응시에는, 각종 공지의 촉매로서 예를 들면 1,8-디아자-비시클로[5.4.0]-7-운데센, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리스(디메틸아미노메틸)페놀등의 3급 아민류;2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-헵타데실이미다졸, 벤즈이미다졸 등의 이미다졸류;트리부틸포스핀, 메틸디페닐포스핀, 트리페닐포스핀, 디페닐포스핀, 페닐포스핀 등의 유기 포스핀류;테트라페닐포스포늄·테트라페닐보레이트, 2-에틸-4-메틸이미다졸·테트라페닐보레이트, N-메틸몰포린·테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐보론염 등을 사용할 수 있다. 사용량은 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로, 목적으로 하는 (A-3)성분 100 중량부(고형분 환산)에 대해서 0.15 중량부 정도이다.
In the ring-opening esterification reaction, for example, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol as various known catalysts. Tertiary amines such as tris (dimethylaminomethyl) phenol; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, benzimidazole Imidazoles; organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine; tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, 2-ethyl-4 Tetraphenyl boron salts, such as -methylimidazole tetraphenyl borate and N-methylmorpholine tetraphenyl borate, etc. can be used. Although the usage-amount is not specifically limited, Generally, it is about 0.15 weight part with respect to 100 weight part (solid content conversion) of the target (A-3) component.

또한, 개환 에스테르화 반응 시에는, 하기에서 서술하는 (D)성분을 사용할 수 있으며, 특히 시클로헥사논 등의 지방족계 용제가 바람직하다. 나아가, 각종 공지의 저분자 알코올, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등을 첨가하는 것으로써, (A-3)성분 및 후술의 (A-4)성분의 용액의 점도 안정성이 개선된다.
In addition, in the ring-opening esterification reaction, (D) component described below can be used, Especially aliphatic solvents, such as cyclohexanone, are preferable. Furthermore, the viscosity stability of the solution of (A-3) component and below-mentioned (A-4) component is improved by adding various well-known low molecular alcohols, for example, methanol, ethanol, a propanol, etc.

상기 (A-4)성분은, 상기 (A-2)성분과 (a3)성분을 반응시켜 얻어지는, 분자 내에 알콕시실릴기를 함유하는 폴리이미드 수지이며, (A-3)성분과 동일하게 자기 가교성의 수지이므로, 후술의 (B)성분을 이용하지 않아도, 내열 접착성이 뛰어난 접착제 경화물을 얻는 것이 가능해진다. (A-2)성분과 (a3)성분의 반응 조건은 (A-3)성분의 반응조건과 유사하다.
The component (A-4) is a polyimide resin containing an alkoxysilyl group in a molecule, which is obtained by reacting the component (A-2) with the component (a3), and is self-crosslinking similar to the component (A-3). Since it is resin, it becomes possible to obtain the adhesive hardened | cured material excellent in heat-resistant adhesiveness, without using (B) component mentioned later. The reaction conditions of the component (A-2) and the component (a3) are similar to those of the component (A-3).

(A-3)성분 및 (A-4)성분에는 알콕시실릴기가 잔존하고 있어, 이 부분이 하기에서 서술하는 졸-겔 반응의 반응점이 된다. 알콕시실릴기의 잔존량은 특히 한정되지는 않으나, (A-3)성분 및 (A-4)성분 중의 각각의 알콕시실릴기의 일반적으로 60%이상, 바람직하게는 80%이상인 것이 좋다.
The alkoxysilyl group remains in (A-3) component and (A-4) component, and this part becomes a reaction point of the sol-gel reaction described below. The remaining amount of the alkoxysilyl group is not particularly limited, but is preferably 60% or more, preferably 80% or more of each alkoxysilyl group in the component (A-3) and (A-4).

(B)성분은, 본 발명의 폴리이미드계 접착제 조성물의 경화제이며, 각종 공지의 것을 특별한 한정없이 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 에폭시 수지, 벤조옥사진 수지, 비스말레이미드 수지 및 시아네이트에스테르 수지로 되는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하다.
(B) A component is a hardening | curing agent of the polyimide adhesive composition of this invention, A various well-known thing can be used without a special limitation. Specifically, at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an epoxy resin, benzoxazine resin, bismaleimide resin, and a cyanate ester resin is preferable, for example.

상기 에폭시 수지로는, 예를 들면 페놀 노볼락(novolac)형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 F형 에폭시 수지, 스틸벤형 에폭시 수지, 트리아진 골격 함유 에폭시 수지, 플루오렌 골격 함유 에폭시 수지, 선형 지방족 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 글리시딜 아민형 에폭시 수지, 트리페놀 페놀메탄형 에폭시 수지, 알킬 변성 트리페놀메탄형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 골격 함유 에폭시 수지, 나프탈렌 골격 함유 에폭시 수지, 아릴 알킬렌형 에폭시 수지, 상기와 같은 에폭시 수지를 다이머 산으로 변성시켜 얻어진 변성 에폭시 수지, 다이머산디글리시딜에스테르 등을 들 수 있으며, 상기 접착제 조성물의 투명성과 내열성 등의 관점에서는 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 수지 및 지환식 에폭시 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이 바람직하다. 또한, 시판 제품으로는 예를 들어, 미쓰비시화학 (주) 제의 「jER828」나 「jER834」, 「jER807」 신닛테츠화학(주) 제의 「ST-3000」, 다이셀화학 공업(주)의 「세록사이드 2021P」 신닛테츠화학(주)의 「YD-172-X75」 등을 들 수 있으며 이를 포함하는 군으로부터 2 종 이상을 조합할 수도 있다.
As said epoxy resin, a phenol novolak-type epoxy resin, a cresol novolak-type epoxy resin, bisphenol-A epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, bisphenol S-type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A-type epoxy, for example Resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, stilbene type epoxy resin, triazine skeleton containing epoxy resin, fluorene skeleton containing epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, triphenol phenol Methane type epoxy resins, alkyl modified triphenol methane type epoxy resins, biphenyl type epoxy resins, dicyclopentadiene skeleton containing epoxy resins, naphthalene skeleton containing epoxy resins, aryl alkylene type epoxy resins and the above epoxy resins as dimer acids Modified epoxy resin obtained by modification, dimeric acid diglycidyl ester, etc. are mentioned. Were, from the viewpoint of transparency and heat resistance of the adhesive composition is preferably at least one member selected from the group consisting of bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resins and alicyclic epoxy resins. Moreover, as a commercial item, for example, "ST-3000" by Mitsubishi Chemical Co., Ltd. "jER828", "jER834", "jER807" Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd., and Daicel Chemical Industries, Ltd. "Ceroxide 2021P""YD-172-X75" by Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd., etc. can be mentioned, Two or more types can also be combined from the group containing this.

또한, 열경화성 수지로서 에폭시 수지를 이용하는 경우에는, 각종 공지의 에폭시 수지용 경화제를 병용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, 무수 석신산, 무수 프탈산, 무수 말레인산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로 멜리트산, 헥사하이드로 무수 프탈산, 3-메틸-헥사하이드로 무수 프탈산, 4-메틸- 헥사하이드로 무수 프탈산, 또는 4-메틸-헥사하이드로 무수 프탈산 및 헥사하이드로 무수 프탈산의 혼합물, 테트라하이드로 무수 프탈산, 메틸-테트라하이드로 무수 프탈산, 무수 나딕산(nadic anhydride), 무수 메틸나딕산, 노보넨-2,3-디카르복실산 무수물(norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride), 메틸노보넨-2,3-디카르복실산 무수물(methylnorbornene-2,3-dicarboxylic anhydride), 메틸시클로헥센디카르복실산 무수물, 3-도데센무수석신산, 옥테닐석신산무수물 등의 산 무수물 계 경화제; 디시안디아마이드(dicyandiamide,cyanoguanidine, DICY), 지방족 디아민(상품명「LonazcureM-DEA」, 「LonzacureM-DETDA」등; 론자제펜 (주) 제), 지방족 아민 등의 아민계 경화제; 페놀 노볼락 수지, 크레졸 노볼락 수지, 비스페놀 A형 노볼락 수지, 트리아진 변성 페놀 노볼락 수지, 페놀성 수산기 함유 포스파젠(오오츠카화학(주)의 상품명「SPH-100」등) 등의 페놀계 경화제, 순환 포스파젠계 화합물 등을 들 수 있다. 이 중에서도 페놀계 경화제, 특히 페놀성 수산기 함유 포스파젠계 경화제는 본 발명에 따른 경화물과 적층체에 난연성을 부여하기 쉬우므로 바람직하다. 상기와 같은 경화제의 사용량은 특별히 한정되지는 않으나, 일반적으로 본 발명의 접착제 조성물의 고형분을 100 중량 %로 한 경우에는 경화제의 사용량은 0.01~5 중량% 정도이다.
In addition, when using an epoxy resin as a thermosetting resin, various well-known hardening | curing agents for epoxy resins can be used together. Specifically, for example, succinic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydro phthalic anhydride, 3-methyl-hexahydro phthalic anhydride, 4-methyl-hexahydro phthalic anhydride Or a mixture of 4-methyl-hexahydro phthalic anhydride and hexahydro phthalic anhydride, tetrahydro phthalic anhydride, methyl-tetrahydro phthalic anhydride, nadic anhydride, methylnadic anhydride, norbornene-2,3- Dicarboxylic anhydride (norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride), methylnorbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, methylcyclohexenedicarboxylic acid anhydride, 3 Acid anhydride curing agents such as dodecene anhydride and octenyl succinic anhydride; Amine-based curing agents such as dicyandiamide (cyanoguanidine, DICY), aliphatic diamines (trade names "LonazcureM-DEA", "LonzacureM-DETDA"; Lonzazefen Co., Ltd.) and aliphatic amines; Phenolics such as phenol novolak resin, cresol novolak resin, bisphenol A novolak resin, triazine modified phenol novolak resin, phenolic hydroxyl group-containing phosphazene (trade name "SPH-100" of Otsuka Chemical Co., Ltd.) A curing agent, a cyclic phosphazene compound, etc. are mentioned. Among these, a phenolic hardening | curing agent, especially a phenolic hydroxyl group containing phosphazene-type hardening | curing agent is preferable since it is easy to provide a flame retardance to the hardened | cured material and laminated body which concern on this invention. Although the usage-amount of said hardening | curing agent is not specifically limited, Generally, when the solid content of the adhesive composition of this invention is 100 weight%, the usage-amount of a hardening | curing agent is about 0.01-5 weight%.

나아가, 에폭시 수지와 상기와 같은 경화제의 반응을 촉진하기 위한 촉매로는, 예를 들면, 1,8-디아자-비시클로[5.4.0]-7-운데센, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 3급 아민류; 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-헵타데실이미다졸 등의 이미다졸류;트리부틸포스핀, 메틸디페닐포스핀, 트리페닐포스핀, 디페닐포스핀, 페닐포스핀 등의 유기 포스핀류;테트라페닐포스포늄·테트라페닐보레이트, 2-에틸-4-메틸이미다졸·테트라페닐보레이트, N-메틸몰포린·테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐보론염 등을 사용할 수 있으며, 상기와 같은 군으로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종 이상을 조합할 수도 있다. Furthermore, as a catalyst for promoting the reaction of an epoxy resin and the above curing agent, for example, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, triethylenediamine, benzyldimethylamine Tertiary amines such as triethanolamine, dimethylaminoethanol and tris (dimethylaminomethyl) phenol; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-heptadecyl Imidazoles such as imidazole; organic phosphines such as tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine; tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, 2- Tetraphenylboron salts such as ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate and N-methylmorpholine tetraphenylborate; have.

더 나아가, 상기의 촉매의 사용량은 특별히 한정되지는 않으나, 일반적으로, 본 발명의 접착제 조성물의 고형분을 100 중량%로 했을 경우에 대해 촉매의 사용량은 0.01~5 중량%정도이다.
Furthermore, although the usage-amount of said catalyst is not specifically limited, Generally, the usage-amount of a catalyst is about 0.01-5 weight% with respect to the solid content of the adhesive composition of this invention being 100 weight%.

상기의 벤조옥사진 수지로는, 예를 들면, 6,6-(1-메틸에틸리덴)비스(3,4- 디하이드로-3-페닐-2H-1,3-벤조옥사진), 6,6-(1-메틸에틸리덴)비스(3,4-디하이드로-3-메틸-2H-1,3-벤조옥사진)등을 들 수 있다. 또한, 옥사진 고리의 질소에 페닐기, 메틸기, 시클로헥실기 등이 결합하고 있어도 바람직하다. 나아가, 시판 제품으로는 예를 들어, 시코쿠화성공업(주)사의 「벤조옥사진 F-a형」 또는 「벤조옥사진 P-d형」, 에어워터사의 「RLV-100」등이 있으며 상기로부터 이루어지는 군으로부터 적어도 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
Examples of the benzoxazine resins include 6,6- (1-methylethylidene) bis (3,4-dihydro-3-phenyl-2H-1,3-benzoxazine) and 6 And 6- (1-methylethylidene) bis (3,4-dihydro-3-methyl-2H-1,3-benzoxazine). Moreover, even if a phenyl group, a methyl group, a cyclohexyl group, etc. couple | bonded with nitrogen of an oxazine ring, it is preferable. Further, commercially available products include, for example, "benzoxazine Fa type" or "benzoxazine pd type" manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., "RLV-100" manufactured by Air Water Corporation, and the like. It can be used in combination of 2 or more type.

상기의 비스말레이미드 수지로는, 예를 들어, 4,4'-디페닐메탄비스말레이 미드, m-페닐렌비스말레이미드, 비스페놀A디페닐에테르비스말레이미드, 3,3'-디메틸-5,5'-디에틸-4,4'-디페닐메탄비스말레이미드, 4-메틸-1,3-페닐렌비스말레이미드, 1,6'-비스말레이미드-(2,2,4-트리메틸)헥산, 4,4'-디페닐에테르비스말레이미드, 4,4'-디페닐설폰비스말레이미드 등을 들 수 있다. 또한, 시판 제품으로는 예를 들면, JFE 케미컬(주)사의 「BAF-BMI」등이 있다. 나아가, 상기의 비스말레이미드 수지로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
As said bismaleimide resin, 4,4'- diphenylmethane bismaleimide, m -phenylene bismaleimide, bisphenol A diphenyl ether bismaleimide, 3,3'- dimethyl-5, for example. , 5'-diethyl-4,4'-diphenylmethanebismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, 1,6'-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl ) Hexane, 4,4'- diphenyl ether bismaleimide, 4,4'- diphenyl sulfone bis maleimide, etc. are mentioned. Moreover, as a commercial item, "BAF-BMI" etc. of JFE Chemical Co., Ltd. are mentioned, for example. Furthermore, it can use combining at least 2 type or more from the group which consists of said bismaleimide resin.

상기의 시아네이토에스테르 수지로는, 예를 들면, 2-아릴페놀시아네이토에스테르, 4-메톡시페놀시아네이토에스테르, 2,2-비스(4-시아네이토페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오르프로판, 비스페놀A시아네이토에스테르, 디아릴비스페놀A시아네이토에스테르, 4-페닐페놀시아네이토에스테르, 1,1,1-트리스(4-시아네이토페닐)에탄, 4-쿠밀페놀시아네이토에스테르, 1,1-비스(4-시아네이토페닐)에탄, 4,4'-비스페놀시아네이토에스테르, 2,2-비스(4-시아네이토페닐)프로판 등이 있다. 또한, 시판 제품으로는 예를 들면「PRIMASET BTP- 6020S(론자제팬(주) 제)」등이 있다. 이들은 2 종 이상을 조합 할 수 있다. 상기의 시아네이토에스테르 수지로 이루어지는 군으로부터 적어도 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
As said cyanatoester resin, 2-aryl phenol cyanato ester, 4-methoxy phenol cyanato ester, 2, 2-bis (4-cyanatophenyl) -1,1, for example , 1,3,3,3-hexafluoropropane, bisphenol A cyanatoester, diaryl bisphenol A cyanatoester, 4-phenylphenol cyanatoester, 1,1,1-tris (4-cyanae Tophenyl) ethane, 4-cumylphenolcyanatoester, 1,1-bis (4-cyanatophenyl) ethane, 4,4'-bisphenolcyanatoester, 2,2-bis (4-cyanae) Tophenyl) propane and the like. Moreover, as a commercial item, "PRIMASET BTP-6020S (made by Lonza Pan Co., Ltd.)" etc. are mentioned, for example. These can combine 2 or more types. And at least two kinds of the cyanate ester resins may be used in combination.

상기 (B)성분의 사용량은 특별한 한정은 없으나, 일반적으로, (A)성분 100 중량부(고형분 환산)에 대해서 1~150 중량부 정도, 바람직하게는 3~100 중량부 정도, 더 바람직하게는 3~75 중량부이다.
The amount of the component (B) to be used is not particularly limited, but it is generally about 1 to 150 parts by weight, preferably about 3 to 100 parts by weight, more preferably about 3 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight (in terms of solid content) 3 to 75 parts by weight.

상기 (C)성분은 폴리이미드계 접착제 조성물에 사용 가능한 난연제이면 각종 공지의 것을 특별한 한정 없이 사용할 수 있으나, 난연성의 효과를 위해서 특히 인(phosphorus)계 난연제 및/또는 무기 필러가 바람직하다.
If the component (C) is a flame retardant that can be used in the polyimide adhesive composition, various known ones can be used without particular limitation, but for the effect of flame retardancy, a phosphorus flame retardant and / or an inorganic filler is particularly preferable.

상기 인(phosphorus)계 난연제로는, 예를 들면, 폴리인산(polyphosphoric acid)이나 포스페이트산 에스테르(phosphoric acid ester), 페놀성 수산기를 함유하지 않는 포스파젠 유도체 등을 들 수 있으며, 특히 상기 포스파젠 유도체 중에서도 환상 포스파젠 유도체(후시미제약소(주)제의 「라비톨 FP300」등)는, 난연성, 내열성, 플레이트아웃(plate-out)의 저항성 등에서 바람직하다.
Examples of the phosphorus flame retardant include polyphosphoric acid, phosphoric acid ester, and phosphazene derivatives containing no phenolic hydroxyl group. Among the derivatives, cyclic phosphazene derivatives (such as "Ravitol FP300" manufactured by Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.) are preferable in terms of flame retardancy, heat resistance, resistance to plate-out, and the like.

상기 무기 필러로는, 예를 들면, 수산화 알루미늄, 수산화 마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 규산 칼슘, 규산 마그네슘, 산화칼슘, 산화 마그네슘, 산화 알루미늄, 질화 알루미늄, 붕산 알루미늄 위스커(aluminum borate whisker), 질화 붕소, 결정성 실리카, 비결정성 실리카, 흑연분, 베마이트(Boehmite)등을 들 수 있다. 이 중에서도 특히 수산화 알루미늄(베마이트)이, 본 발명의 접착제 조성물 중 분산성 및 난연성이 우수하므로 바람직하다.
Examples of the inorganic filler include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, aluminum borate whisker, and nitriding. Boron, crystalline silica, amorphous silica, graphite powder, boehmite, and the like. Among these, aluminum hydroxide (boehmite) is particularly preferable because of excellent dispersibility and flame retardancy in the adhesive composition of the present invention.

(C)성분의 사용량은 특별히 한정되지 않으나, (A)성분 100 중량부(고형분 환산)에 대해서 일반적으로 0~200 중량부 정도, 바람직하게는 25~150 중량부 정도가 되는 범위이다.
Although the usage-amount of (C) component is not specifically limited, It is the range which generally becomes about 0-200 weight part with respect to 100 weight part (solid content conversion) of (A) component, Preferably it is about 25-150 weight part.

(D)성분으로는 예를 들면, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸포름아마이드, 디메틸아세트아마이드, 디메틸설폭사이드, N-메틸카프로락탐, 메틸트리글라임, 메틸 디글라임 등의 비프로톤성 극성 용제; 시클로헥사논, 메틸시클로헥산 등의 지환식 용제; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 벤질 알코올, 크레졸 등의 알콜계 용제를 들 수 있으며 상기와 같은 용제를 포함하여 이루어지는 군으로부터 적어도 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As (D) component, for example, aprotons such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methylcaprolactam, methyltriglyme, and methyl diglyme Polar polar solvents; Alicyclic solvents such as cyclohexanone and methylcyclohexane; Alcohol solvents, such as methanol, ethanol, a propanol, benzyl alcohol, and a cresol, can be mentioned, It can use combining at least 2 or more types from the group containing such a solvent.

(D)성분의 사용량은 특별히 한정되지 않으나, 일반적으로, 본 발명의 접착제 조성물의 불휘발분이 20~60 중량%정도가 되는 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.
Although the usage-amount of (D) component is not specifically limited, Generally, it is preferable to use in the range which the non volatile matter of the adhesive composition of this invention becomes about 20 to 60 weight%.

또한, 본 발명의 접착제 조성물 외에도 필요에 따라 상기 개환 에스테르화 반응 촉매나 탈수제, 가소제, 내후제, 산화 방지제, 열안정제, 윤활제, 정전기 방지제, 표백제, 착색제, 전도제, 이형제, 표면 처리제, 점도 조절제 등의 첨가제를 배합하여 사용할 수 있다.
In addition to the adhesive composition of the present invention, if necessary, the ring-opening esterification reaction catalyst, dehydrating agent, plasticizer, weathering agent, antioxidant, heat stabilizer, lubricant, antistatic agent, bleaching agent, colorant, conductive agent, mold release agent, surface treatment agent, viscosity modifier, etc. Additives, such as these, can be used in combination.

<경화물><Cured product>

본 발명의 경화물은 본 발명의 접착제 조성물을 경화시킨 것이다. 구체적으로는, 먼저 상기 접착제 조성물을 일반적으로 70~200 ℃정도로 가열해, 1~10분간 경화 반응시킨다(단계 1); 다음으로, (B)성분(열경화성 수지)과 경화 반응을 진행시키기 위해서, 다시 일반적으로 150~250 ℃정도, 10분~3시간 정도 가열 처리한다(단계 2)를 포함하는 단계를 거쳐 반응시켜 얻어진 경화물의 수축을 완만하게 할 수 있기 때문에 기재에 대한 밀착성을 확보할 수 있으며, 상기 탈수 폐환 반응으로 인해 부수적으로 생성되는 물을 원인으로 하는 발포를 억제할 수도 있다. 나아가, 상기의 경화 반응에는 (A)성분 유래의 폴리아믹산의 탈수 폐환 반응이나, (a3)성분유래의 알콕시실릴기의 졸-겔 반응이 포함된다.
The hardened | cured material of this invention hardened the adhesive composition of this invention. Specifically, first, the adhesive composition is generally heated to about 70 to 200 ° C. and cured for 1 to 10 minutes (step 1); Next, in order to advance hardening reaction with (B) component (thermosetting resin), it heat-processes generally about 150-250 degreeC, and it carries out for reaction for about 10 minutes-3 hours (step 2) obtained, and obtained Since the shrinkage of hardened | cured material can be made gentle, adhesiveness with respect to a base material can be ensured, and foaming due to the water which arises incidentally by the said dehydration ring closure reaction can also be suppressed. Furthermore, the said hardening reaction includes the dehydration ring closure reaction of the polyamic acid derived from (A) component, and the sol-gel reaction of the alkoxy silyl group derived from (a3) component.

또한, 본 발명의 접착제 조성물을 포함하여 얻을 수 있는 경화물에는 상기 졸-겔 반응에 의해 발생하는 실리카(SiO2)입자가 포함될 수 있다. 나아가, 함유량은 일반적으로 0~15 중량% 정도이지만, (A-3)성분 및 (A-4)성분을 이용한 접착제 조성물에 대해서는, 상기 접착제 조성물을 가열 경화시킬 때 유동성을 적절하게 하여 얻을 수 있는 경화물과 기재와의 밀착성을 양호하게 하기 위해서는 실리카(SiO2) 입자의 함유량이 일반적으로 0.5~15%정도, 바람직하게는 1~10%의 범위인 것이 바람직하다. 상기의 함유량은 원료 투입량으로부터 산출되는 계산치이다.In addition, the cured product obtained by including the adhesive composition of the present invention may include silica (SiO 2 ) particles generated by the sol-gel reaction. Furthermore, although content is generally about 0 to 15 weight%, about the adhesive composition using the (A-3) component and (A-4) component, when carrying out heat-hardening of the said adhesive composition, it can obtain the fluidity appropriately. in order to improve the adhesiveness between the cured material and the base material is preferably silica (SiO 2) content of usually 0.5 to 15%, preferably in the range of 1 to 10% of the particles. The above content is a calculated value calculated from the raw material input amount.

본 발명의 경화물의 형상은 특별히 한정되지 않으나, 기재 시트의 접착 용도에 제공하는 경우에는 막의 두께가 일반적으로 1~100μm정도, 바람직하게는 3~50μm정도이며, 용도에 따라 적당히 조정할 수 있다.
Although the shape of the hardened | cured material of this invention is not specifically limited, When providing for the adhesive use of a base sheet, the film thickness is generally about 1-100 micrometers, Preferably it is about 3-50 micrometers, and can adjust suitably according to a use.

본 발명의 접착 시트는, 본 발명의 접착제 조성물을 시트기재에 도포해 건조시켜 얻을 수 있다. 상기의 시트기재로는 예를 들면, 폴리이미드, 폴리이미드 실리카 하이브리드, 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프타레이트(PEN), 폴리메타크릴산메틸수지(PMMA), 폴리스티렌수지(PSt), 폴리카보네이트(polycarbonate)수지(PC), 아크릴로니트릴부타디엔 스틸렌수지(ABS), 에틸렌테레프탈레이트; 및 페놀, 프탈산, 하이드록시나프토산 등의 파라하이드록시벤조산에서 얻을 수 있는 방향족계 폴리에스테르 수지(소위 액정 폴리머;(주)쿠라레제,「벡스타」등) 등의 유기기재를 들 수 있으며, 이러한 안에서도 내열성이나 치수 안정성 등과 관련하여 폴리이미드 필름, 특히 폴리이미드 실리카 하이브리드 필름이 바람직하다. 상기 시트기재의 두께는 용도에 따라 적당하게 설정하는 것이 바람직하다. 나아가, 접착 시트는 캐리어 시트나 캐리어 테이프로서 사용할 수 있다.
The adhesive sheet of this invention can be obtained by apply | coating the adhesive composition of this invention to a sheet base material, and drying it. Examples of the sheet base material include polyimide, polyimide silica hybrid, polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and polymethyl methacrylate resin ( PMMA), polystyrene resin (PSt), polycarbonate resin (PC), acrylonitrile butadiene styrene resin (ABS), ethylene terephthalate; And organic base materials such as aromatic polyester resins (so-called liquid crystal polymers; Kurarese, Bexsta, etc.) obtained from parahydroxybenzoic acids such as phenol, phthalic acid and hydroxy naphthoic acid. Also in this, a polyimide film, especially a polyimide silica hybrid film is preferable with respect to heat resistance, dimensional stability, etc. It is preferable to set the thickness of the said sheet base material suitably according to a use. Furthermore, an adhesive sheet can be used as a carrier sheet and a carrier tape.

본 발명의 적층체는 상기 접착 시트의 접착면에 다른 시트기재를 열압착시키는 것으로 얻을 수 있다. 상기 시트기재로는, 글래스(glass), 철, 알루미늄, 42 알로이, 동 등의 금속이나, ITO, 실리콘 및 실리콘카바이드 등의 무기기재가 적합하며 두께는 용도에 따라 적당하게 설정할 수 있다. 또한, 상기 적층체는 추가로 가열 처리하는 것이 바람직하다.
The laminated body of this invention can be obtained by thermo-compressing another sheet base material on the adhesive surface of the said adhesive sheet. As the sheet substrate, a metal such as glass, iron, aluminum, 42 alloy, copper, or an inorganic substrate such as ITO, silicon or silicon carbide is suitable, and the thickness can be appropriately set depending on the application. Moreover, it is preferable to heat-process the said laminated body further.

본 발명의 플렉서블 프린트 기판은, 상기 적층체를 이용하여 상기 적층체의 무기기재 면에 다시 상기 접착 시트의 접착면을 접착시키는 것으로 얻을 수 있다. 상기 플렉서블 프린트 기판으로는, 유기기재로서 폴리이미드 시트기재를, 무기기재로서 금속박(특히 동박)을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 플렉서블 프린트 기판의 금속 표면을 소프트 에칭 처리하여 회로를 형성해서, 회로 위에 다시 상기 접착 시트를 붙여 열압착 하는 것으로서, 플렉서블 프린트 배선 기판을 얻을 수 있다.
The flexible printed circuit board of the present invention can be obtained by bonding the adhesive surface of the adhesive sheet to the inorganic substrate surface of the laminate using the laminate. As said flexible printed circuit board, it is preferable to use a polyimide sheet base material as an organic base material, and metal foil (especially copper foil) as an inorganic base material. In addition, a flexible printed wiring board can be obtained by soft etching the metal surface of the flexible printed board to form a circuit, and attaching the adhesive sheet to the circuit again and thermocompression bonding.

이하, 본 발명을 실시예 및 비교예를 들어 구체적으로 설명하나, 하기의 실시예 및 제조예에 의해서 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다. 또한 , 각 예 중 부 및 %는 특기하지 않는 한 중량 기준이다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the scope of the present invention is not limited by the following Examples and Preparation Examples. In addition, the part and% in each case are a basis of weight unless there is particular notice.

<실란기 변성 타입의 폴리이미드 수지계 접착제 조성물의 조제><Preparation of the polyimide resin adhesive composition of the silane group modification type>

<제조예 1>&Lt; Preparation Example 1 &

교반기, 분수기, 온도계 및 질소 가스 도입관을 갖춘 반응 용기에, 3,3', 4,4'-벤조페논테트라카르복실산 무수물(상품명「BTDA」, 다이셀 화학공업(주) 제; 이하, 간단히 벤조페논테트라카르복실산 무수물이라고 한다.)(53.00 g), 시클로헥사논(185.50 g) 및 메틸시클로헥산(37.10 g)을 넣은 후, 상기 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(상품명 「PRIAMINE1075」, 구로다제팬(주)제; 이하, 간단히 다이머디아민이라고 한다.)(85.40 g)을 적하투입한 후, 140 ℃까지 가열하고, 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지(A-1-1)의 용액(불휘발분 38.0%)을 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다.
3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic anhydride (brand name "BTDA", the Daicel Chemical Industry Co., Ltd. product) to the reaction container provided with a stirrer, a water fountain, a thermometer, and a nitrogen gas introduction tube; (Briefly referred to as benzophenone tetracarboxylic anhydride) (53.00 g), cyclohexanone (185.50 g) and methylcyclohexane (37.10 g) were added, and then the solution was heated to 60 ° C. After heating, dimerdiamine (brand name "PRIAMINE1075", manufactured by Kurodazepan Co., Ltd .; hereinafter simply referred to as dimerdiamine) (85.40 g) was added dropwise thereto, and then heated to 140 ° C, followed by imidization reaction for 1 hour. The solution (non-volatile content 38.0%) of polyimide resin (A-1-1) was obtained. The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.04.

<제조예 2>&Lt; Preparation Example 2 &

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에, 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물(신일본이화(주)제, 상품명「리카시트 DSDA」; 이하, 간단히 디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물이라고 한다.)(53.00 g), 시클로헥사논(185.50 g), 메틸시클로헥산(37.10 g)을 넣은 후, 상기 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 다음으로, 다이머디아민(76.82 g)을 적하투입한 후, 140 ℃까지 가열하고 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지(A-1-2)의 용액(불휘발분 36.0%)을 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다.
3,3 ', 4,4'- diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride (made by Nippon Kasei Co., Ltd., brand name "Rica sheet DSDA") to the same reaction container as the said Production Example 1; Sulfontetracarboxylic dianhydride) (53.00 g), cyclohexanone (185.50 g) and methylcyclohexane (37.10 g) were added, and then the solution was heated to 60 ° C. Next, dimerdiamine (76.82 g) was added dropwise thereto, and then heated to 140 ° C and imidized for 1 hour to obtain a solution (non-volatile content 36.0%) of polyimide resin (A-1-2). The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.04.

<제조예 3>&Lt; Preparation Example 3 &

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에, 벤조페논테트라카르복실산 이무수물(53.00 g), 시클로헥사논(185.50 g) 및 메틸시클로헥산(37.10 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(85.40 g)을 적하투입한 후, 140 ℃까지 가열하고 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액(불휘발분 37.0%)를 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04 이다. 상기의 폴리이미드 수지의 용액을 실온까지 냉각시킨 후, 사슬신장제로서 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(상품명「BAPP」, 와카야마정화(주)제; 1.78 g)을 온도가 40 ℃이하로 유지되도록 소량씩 서서히 첨가하였다. 첨가 종료 후, 계속해서 실온으로 30분 동안 교반하면서 사슬신장 반응시켜 폴리이미드 수지(A-2-1)의 용액(불휘발분 38.0%)을 얻었다.
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (185.50 g), and methylcyclohexane (37.10 g) were put into the same reaction container as the said preparation example 1, and the solution was heated to 60 degreeC. After heating, dimerdiamine (85.40 g) was added dropwise, and then heated to 140 ° C and imidized for 1 hour to obtain a solution of polyimide resin (non-volatile content 37.0%). The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.04. After cooling the solution of said polyimide resin to room temperature, 2, 2-bis [4- (4-amino phenoxy) phenyl] propane (brand name "BAPP", Wakayama Purification Co., Ltd. product; 1.78) is a chain extender. g) was added slowly in small portions to keep the temperature below 40 ° C. After completion of the addition, chain elongation was continued while stirring at room temperature for 30 minutes, and the solution (non-volatile content 38.0%) of polyimide resin (A-2-1) was obtained.

<제조예 4>&Lt; Preparation Example 4 &

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에, 벤조페논테트라카르복실산 이무수물 (53.00 g), 시클로헥사논(212.00 g) 및 메틸시클로헥산(42.40 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(42.70 g) 및 α,ω-비스-(3 아미노프로필)폴리디메틸실록산(상품명 「KF8010」, 신에츠 화학공업(주); 이하, 간단히 비스아미노프로필폴리디메틸실록산이라고 한다.)(69.59 g)을 적하투입한 후, 140 ℃까지 가열하고 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지(A-1-3)의 용액(불휘발분 39.0%)를 얻었다. 상기 용액에 있어서 디아민 성분중의 다이머디아민은 50 몰%이며, 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다.
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (212.00 g), and methylcyclohexane (42.40 g) were put into the same reaction container as the said preparation example 1, and the solution was heated to 60 degreeC. After heating, dimerdiamine (42.70 g) and α, ω-bis- (3 aminopropyl) polydimethylsiloxane (trade name "KF8010", Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; hereinafter simply referred to as bisaminopropylpolydimethylsiloxane.) (69.59 g) was added dropwise thereto, and then heated to 140 ° C and imidized for 1 hour to obtain a solution of polyimide resin (A-1-3) (non-volatile content 39.0%). In this solution, the dimer diamine in the diamine component is 50 mol%, and the molar ratio of the acid component / amine component is 1.04.

<제조예 5>&Lt; Production Example 5 &

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에 벤조페논테트라카르복실산 이무수물 (53.00 g), 시클로헥사논(159.00 g) 및 메틸시클로헥산(31.80 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(80.74 g)를 적하투입한 후, 140 ℃까지 가열하고 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 상기 용액에 있어서, 산성분/아민 성분의 몰비는 1.10이다. 상기 폴리이미드 수지 용액을 실온으로 냉각한 후, 사슬신장제로서 다이머디아민(6.73 g)을 소량씩 서서히 첨가해, 실온에서 1시간 동안 교반하면서 신장 반응시켜 폴리이미드 수지(A-2-2)의 용액(불휘발분 42.0%)을 얻었다.
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (159.00 g) and methylcyclohexane (31.80 g) were added to the same reaction vessel as in Preparation Example 1, and the solution was heated to 60 ° C. After heating, dimerdiamine (80.74 g) was added dropwise, and then heated to 140 ° C and imidized for 1 hour to obtain a solution of polyimide resin. In the above solution, the molar ratio of acid component / amine component is 1.10. After the polyimide resin solution was cooled to room temperature, dimerdiamine (6.73 g) was gradually added in small portions as a chain extender, followed by elongation reaction with stirring at room temperature for 1 hour to obtain polyimide resin (A-2-2). A solution (42.0% nonvolatile content) was obtained.

<제조예 6>&Lt; Production Example 6 &

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에 4,4'-[프로판-2,2'-디일비스(1,4-페닐렌옥시)]디프탈산 이무수물(상품명「BisDA2000」, SABIC 이노베티브 플라스틱 제팬 합동 회사 제; 이하, 간단히 디일비스페닐렌옥시디프탈산 이무수물이라고 한다.)(70.00 g), 시클로헥사논(175.00 g), 메틸시클로헥산(35.00 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(69.90 g)을 적하투입한 후, 140 ℃까지 가열하고 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지(A-1-4)의 용액(불휘발분 40.5%)를 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다.
4,4 '-[propane-2,2'-diylbis (1,4-phenyleneoxy)] diphthalic dianhydride (brand name "BisDA2000", SABIC Innovative Plastic Japan) in the same reaction vessel as in Production Example 1 Co., Ltd .; hereafter simply referred to as diylbisphenyleneoxydiphthalic dianhydride) (70.00 g), cyclohexanone (175.00 g), and methylcyclohexane (35.00 g) were added, and then the solution was heated to 60 ° C. . After heating, dimerdiamine (69.90 g) was added dropwise, and then heated to 140 ° C and imidized for 1 hour to obtain a solution of a polyimide resin (A-1-4) (non-volatile content 40.5%). The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.04.

<제조예 7>&Lt; Production Example 7 >

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에 4,4'-옥시디프탈산무수물(상품명「ODPA-1000」, SABIC 이노베티브 플라스틱 제팬합동회사 제; 이하, 간단히 옥시디프탈산무수물이라고 한다.)(50.00 g), 시클로헥사논(226.50 g) 및 메틸시클로헥산(25.00 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민 (84.56 g)을 적하투입한 후, 140 ℃까지 가열하고 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지(A-1-5)의 용액(불휘발분 35.0%)을 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.03이다.
4,4'- oxydiphthalic anhydride (brand name "ODPA-1000", product made by SABIC Innovative Plastics Japan Co., Ltd .; hereafter referred to simply as oxydiphthalic anhydride) in the same reaction vessel as Preparation Example 1 (50.00 g) ), Cyclohexanone (226.50 g) and methylcyclohexane (25.00 g) were added, and then the solution was heated to 60 ° C. After heating, dimerdiamine (84.56 g) was added dropwise, and then heated to 140 ° C and imidized for 1 hour to obtain a solution of polyimide resin (A-1-5) (non-volatile content 35.0%). The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.03.

<제조예 8>&Lt; Production Example 8 &

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에 디일비스페닐렌옥시디프탈산 이무수물(65.00 g), 시클로헥사논(266.50 g) 및 메틸시클로헥산(44.42 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민 (43.71 g), 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산(상품명「1,3-BAC」, 미츠비시가스화학 제)(5.42 g)을 서서히 첨가한 후, 140 ℃까지 가열하고 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지(A-1-6)의 용액(불휘발분 29.5%)을 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.05이다.
Diylbisphenyleneoxydiphthalic dianhydride (65.00 g), cyclohexanone (266.50 g) and methylcyclohexane (44.42 g) were added to the same reaction vessel as in Preparation Example 1, and the solution was heated to 60 ° C. After heating, dimerdiamine (43.71 g) and 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane (trade name "1,3-BAC", manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) (5.42 g) were gradually added, followed by heating to 140 ° C. And imidation reaction for 1 hour to obtain a solution of a polyimide resin (A-1-6) (non-volatile content 29.5%). The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.05.

<비교제조예 1>  < Comparative Production Example 1>

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에 벤조페논테트라카르복실산 이무수물( 53.00 g), 시클로헥사논(185.50 g) 및 메틸시클로헥산(37.10 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민을 대신하여 비스아미노프로필 폴리디메틸실록산(139.17 g)을 적하투입한 후, 용액을 140 ℃까지 가열하고, 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지(가)의 용액(불휘발분 46.2%)를 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다.
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (185.50 g), and methylcyclohexane (37.10 g) were put in the same reaction container as Preparation Example 1, and the solution was heated to 60 ° C. After heating, bisaminopropyl polydimethylsiloxane (139.17 g) was added dropwise in place of the dimerdiamine, and then the solution was heated to 140 ° C and imidized for 1 hour to give a solution of the polyimide resin (a) (non-volatile content). 46.2%). The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.04.

<비교제조예 2>  <Comparative Production Example 2>

제조예 1과 동일한 반응 용기에 벤조페논테트라카르복실산 이무수물 (53.00 g), 시클로헥사논(212.00 g), 메틸시클로헥산(42.40 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(21.35 g) 및 비스아미노프로필폴리디메틸실록산(104.38 g)을 적하투입한 후, 1시간 동안 이미드화 반응시켜, 폴리이미드 수지(나)의 용액(불휘발분 41.0%)를 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다.
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (212.00 g), and methylcyclohexane (42.40 g) were put into the same reaction container as the manufacture example 1, and the solution was heated to 60 degreeC. After heating, dimerdiamine (21.35 g) and bisaminopropyl polydimethylsiloxane (104.38 g) were added dropwise, followed by imidization reaction for 1 hour to obtain a solution of polyimide resin (I) (non-volatile content 41.0%). . The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.04.


폴리이미드 수지Polyimide resin (a1)(a1) (a2)(폴리이미드 성분)(a2) (polyimide component) (a2)
(사슬신장제)
(a2)
(Chain extension)
다이머디아민Dimerdiamine 다른 디아민Other diamine 제조예 1Production Example 1 (A-1-1)(A-1-1) BTDABTDA PRIAMINEPRIAMINE ------ ------ 제조예 2Production Example 2 (A-1-2) (A-1-2) DSDA DSDA PRIAMINEPRIAMINE ------ ------ 제조예 3Production Example 3 (A-2-1)(A-2-1) BTDABTDA PRIAMINEPRIAMINE ------ BAPPBAPP 제조예 4Production Example 4 (A-1-3)(A-1-3) BTDA BTDA PRIAMINE
(50 mol%)
PRIAMINE
(50 mol%)
KF8010
(50 mol%)
KF8010
(50 mol%)
------
제조예 5Production Example 5 (A-2-2)(A-2-2) BTDABTDA PRIAMINEPRIAMINE ------ PRIAMINEPRIAMINE 제조예 6Production Example 6 (A-1-4)(A-1-4) BISDABISDA PRIAMINEPRIAMINE ------ ------ 제조예 7Production Example 7 (A-1-5)(A-1-5) ODPAODPA PRIAMINEPRIAMINE ------ ------ 제조예 8Production Example 8 (A-1-6)(A-1-6) BISDABISDA PRIAMINE
(68 mol%)
PRIAMINE
(68 mol%)
1,3-BAC
(32 mol%)
1,3-BAC
(32 mol%)
------
비교제조예 1Comparative Preparation Example 1 (가)(end) BTDABTDA ------ KF8010KF8010 ------ 비교제조예 2Comparative Production Example 2 (나)(I) BTDABTDA PRIAMINE
(25 mol%)
PRIAMINE
(25 mol%)
KF8010
(75 mol%)
KF8010
(75 mol%)
------

BTDA:3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물BTDA: 3,3 ', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride

DSDA:3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물DSDA : 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride

BISDA:4,4'-[프로판-2,2'-디일비스(1,4-페닐렌옥시)]디프탈산 이무수물BISDA: 4,4 '-[propane-2,2'-diylbis (1,4-phenyleneoxy)] diphthalic dianhydride

PRIAMINE:다이머디아민PRIAMINE : Dimerdiamine

KF8010:α,ω-비스(3-아미노프로필)폴리디메틸실록산KF8010: α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane

BAPP:2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판BAPP: 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane

1,3-BAC: 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산
1,3-BAC: 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane

<실시예 1>&Lt; Example 1 >

(A)성분으로서 상기 제조예 1의 폴리이미드 수지(A-1-1)의 용액(100.0 g), (B)성분으로서 비스페놀 A형 에폭시 수지(상품명 「jER828」, 에폭시 당량 190 g/eq, 제팬 에폭시 레진(주) 제; 4.23 g), 페놀 노볼락 수지(상품명「타마놀 T759」, 수산기 당량 106 g/eq, 아라카와 화학공업(주); 2.18 g) 및 2-에틸-4-메틸이미다졸(상품명「2E4MZ」, 시코쿠화성공업(주); 0.06 g)을 혼합한다. 다음으로, (C) 성분으로서 베마이트(상품명「세라슐 BMT-3LV」, 카와이석회공업(주); 25.66 g), 환상 시아노페녹시포스파젠 유도체(상품명「라비톨 FP-300」, 후시미제약소(주); 12.00 g), 유기용제로서 시클로헥사논(49.33 g) 및 메탄올(8.55 g)을 첨가하고 교반시켜 접착제 조성물(불휘발분 40.7%)을 얻었다.
As a component (A), the solution (100.0 g) of the polyimide resin (A-1-1) of the said manufacture example 1, bisphenol-A epoxy resin (brand name "jER828", epoxy equivalent 190 g / eq, as a component), Japan Epoxy Resin Co., Ltd. product; 4.23 g), phenol novolak resin (trade name "Tamanole T759", hydroxyl equivalent 106 g / eq, Arakawa Chemical Industries; 2.18 g) and 2-ethyl-4-methyl Midazole (brand name "2E4MZ", Shikoku Kagaku Kogyo Co., Ltd .; 0.06 g) is mixed. Next, boehmite (brand name "Cerasul BMT-3LV", Kawaii Lime Industry Co., Ltd .; 25.66 g), a cyclic cyanophenoxy phosphazene derivative (brand name "Ravitol FP-300"), Fushi as (C) component Unrefined Co., Ltd .: 12.00 g), cyclohexanone (49.33 g) and methanol (8.55 g) were added and stirred as an organic solvent, and the adhesive composition (non-volatile content 40.7%) was obtained.

<실시예 2~13><Examples 2 to 13>

(A)성분, (B)성분, (C)성분 및 유기용제로서 하기 표 2에 나타나는 종류의 것을 각각의 사용량으로 사용한 것 외는 상기 실시예 1의 방법과 동일하게 수행하여 각 접착제 조성물을 얻었다.
As the component (A), the component (B), the component (C) and the organic solvent, those used in the amounts shown in Table 2 below were used in the same manner as in Example 1 to obtain respective adhesive compositions.

<비교예 1~2>&Lt; Comparative Examples 1 and 2 &

상기 실시예 1에서 사용한 (A-1-1)성분의 용액을 대신하여, 상기 (가)성분의 용액 또는 상기 (나)성분의 용액을 하기 표 2에서 표시된 양만큼 사용하고, (B)성분, (C)성분 및 유기용제는 하기 표 2에서 나타내는 종류의 것을 각각 사용량으로 사용한 것 외에는 상기 실시예 1의 방법과 동일하게 수행하여, 각 접착제 조성물을 얻었다.
In place of the solution of the component (A-1-1) used in Example 1, the solution of the component (A) or the solution of the component (B) was used in an amount shown in Table 2 below, and the component (B) , (C) component and the organic solvent were performed similarly to the method of Example 1 except having used the thing of the kind shown in following Table 2 respectively, and obtained each adhesive composition.

<비교예 3>&Lt; Comparative Example 3 &

상기 실시예 1에서 사용한 (A-1-1)성분의 용액을 대신하여, 카르복실기를 함유한 NBR(상품명「XER 32C」, JSR(주) 제)을 하기 표 2에서 표시된 양만큼 사용하고, (B)성분, (C)성분 및 유기용제는 하기 표 2로 나타내어진 종류의 것을 각각 사용량으로 사용한 것 외에는 상기 실시예 1의 방법과 동일하게 수행하여, 각 접착제 조성물을 얻었다.
In place of the solution of the component (A-1-1) used in Example 1, NBR (trade name "XER 32C", manufactured by JSR Corporation) containing a carboxyl group was used in an amount shown in Table 2 below, ( Each adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1, except that the components B), (C) and the organic solvent were each used in the amounts shown in Table 2 below.

Figure pat00009
Figure pat00009

jER828(상품명):비스페놀 A형 에폭시 수지(제팬 에폭시 레진(주) 제, 에폭시 당량 190 g/eq)jER828 (brand name): Bisphenol A type epoxy resin (product made in Japan epoxy resin Co., Ltd., epoxy equivalent 190 g / eq)

타마놀 T759(상품명):페놀 노볼락 수지(아라카와 화학공업(주) 제, 수산기 당량 106 g/eq)Tamanol T759 (brand name): Phenolic novolak resin (Arakawa Chemical Co., Ltd. product, hydroxyl equivalent 106 g / eq)

2E4MZ(상품명):2-에틸-4-메틸이미다졸(시코쿠화성공업(주) 제)2E4MZ (brand name): 2-ethyl-4-methylimidazole (made by Shikoku Kagaku Kogyo Co., Ltd.)

BMI-TMH(상품명):1,6'-비스말레이미드(2,2,4-트리메틸)헥산(다이와 화성공업(주) 제)BMI-TMH (brand name): 1,6'-bismaleimide (2,2,4-trimethyl) hexane (made by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd.)

파크밀 D(상품명):디쿠밀퍼옥사이드(일유(주) 제)Park mill D (brand name): Dicumyl peroxide (made in Japan)

PRIMASET BTP-6020S(상품명):시아네이토에스테르 수지(론더 제팬(주) 제)PRIMASET BTP-6020S (brand name): cyanatoester resin (product made in Lauder Japan)

세라슐 BMT-3LV(상품명):베마이트(카와이 석회 공업(주) 제)Cerasul BMT-3LV (brand name): Boehmite (product made in Kawai lime industry)

라비톨 FP-300:페녹시포스파젠 유도체((주) 후시미 제약소 제)
Labitol FP-300: phenoxyphosphazene derivative (made by Fushimi Pharmaceutical Co., Ltd.)

<실란 변성 타입의 폴리이미드 수지계 접착제 조성물의 조제><Preparation of the polyimide resin adhesive composition of the silane modification type>

<(a3) 성분의 합성><Synthesis of (a3) Component>

교반기, 분수기, 온도계 및 질소 가스 도입관을 갖춘 반응 용기에, 글리시돌(상품명「에피올OH」, 일본 유지(주); 1400 g) 및 테트라메톡시실란 부분 축합물(상품명「메틸실리케이트51」, 타마 화학(주), Si의 평균 개수 4, 8957.9 g)을 넣고 질소 기류 하에 교반 하면서 90 ℃까지 승온시킨 후, 디부틸틴라우레이트(Dibutyltin dilaurate, 2.0 g)를 첨가하고 가수분해 반응시켰다. 반응 중에 부가적으로 발생한 메탄올은 분수기로 제거하고, 메탄올의 양이 약 630 g에 이른 시점에서 실온까지 5시간 동안 냉각시켰다. 다음으로 13 kPa로 약 10분 동안 반응계 내에 잔존하는 메탄올을 감압 제거하여, 에폭시기를 함유한 메톡시실란 부분 축합물(a3-1)을 얻었다.
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a water fountain, a thermometer, and a nitrogen gas introduction tube, glycidol (trade name "Epiol OH", Nippon Oil Industries, Ltd .; 1400 g) and tetramethoxysilane partial condensate (brand name "methyl silicate") 51 ”, Tama Chemical Co., Ltd., the average number of Si, 4957.9 g) were added, and it heated up to 90 degreeC, stirring under nitrogen stream, and added dibutyltin laurate (2.0 g), and hydrolyzed reaction. I was. The methanol additionally generated during the reaction was removed by a water fountain, and cooled to room temperature for 5 hours when the amount of methanol reached about 630 g. Next, methanol remaining in the reaction system was removed under reduced pressure at 13 kPa for about 10 minutes to obtain a methoxysilane partial condensate (a3-1) containing an epoxy group.

<실시예 14>&Lt; Example 14 >

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에, 벤조페논테트라카르복실산 이무수물 (53.00 g), 시클로헥사논(185.50 g), 및 메틸시클로헥산(37.10 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(85.40 g)을 적하투입한 후, 140 ℃에서 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다.Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (185.50 g), and methylcyclohexane (37.10 g) were put into the same reaction container as the preparation example 1, and the solution was heated to 60 degreeC. . After heating, dimerdiamine (85.40 g) was added dropwise, followed by imidization reaction at 140 ° C. for 1 hour to obtain a solution of polyimide resin. The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.04.

상기 폴리이미드 수지 용액을 실온까지 냉각시킨 후, 상기 (a3-1)성분(47.0 g)을 넣고 90 ℃에서 3시간 동안 탈메탄올 반응시켜 메톡시실릴기 함유 실란 변성 폴리이미드 수지(A-3-1)의 용액을 얻었다. 다음으로, 상기 용액을 실온까지 냉각한 후, 메탄올(93.9 g)을 첨가하여 수지 용액(불휘발분 38.0%)을 얻었다. 나아가, 상기의 수지 용액을 추가로 시클로헥사논으로 희석하여 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 그대로 접착제 조성물로서 이용했다.
After the polyimide resin solution was cooled to room temperature, the (a3-1) component (47.0 g) was added thereto, followed by deethanol reaction at 90 ° C. for 3 hours to form a methoxysilyl group-containing silane-modified polyimide resin (A-3- The solution of 1) was obtained. Next, after cooling the said solution to room temperature, methanol (93.9g) was added and the resin solution (non-volatile content 38.0%) was obtained. Furthermore, the said resin solution was further diluted with cyclohexanone, and the resin varnish (35.0% of non volatile matter) was obtained. The said resin varnish was used as an adhesive composition as it was.

<실시예 15> < Example 15>

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에, 디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물 (53.00 g), 시클로헥사논(185.50 g) 및 메틸시클로헥산(37.10 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(768.2 g)을 적하투입한 후, 140 ℃에서 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다.Diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (185.50 g) and methylcyclohexane (37.10 g) were put in the same reaction vessel as Preparation Example 1 above, and the solution was heated to 60 ° C. . After heating, dimerdiamine (768.2 g) was added dropwise, followed by imidization reaction at 140 ° C. for 1 hour to obtain a solution of polyimide resin. The molar ratio of acid component / amine component in the solution is 1.04.

다음으로, 다른 반응 용기에 수지 용액을 실온까지 냉각시킨 후 상기 (a3-1)성분 (44.1 g)를 넣고, 90 ℃에서 3시간 동안 탈메탄올 반응시켜 메톡시실릴기 함유 실란 변성 폴리이미드 수지(A-3-2)의 용액을 얻었다. 상기 용액을 실온까지 냉각한 후, 메탄올(88.3 g)을 첨가하여 수지의 용액(불휘발분 36.5%)을 얻었다. 상기 수지 용액을 추가로 시클로헥사논으로 희석하여 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 접착제 조성물로서 이용했다.
Next, after cooling the resin solution to room temperature in another reaction vessel, the (a3-1) component (44.1 g) was added thereto, followed by deethanol reaction at 90 ° C. for 3 hours to form a methoxysilyl group-containing silane-modified polyimide resin ( A-3-2) was obtained. After the solution was cooled to room temperature, methanol (88.3 g) was added to obtain a solution of resin (36.5% nonvolatile content). The resin solution was further diluted with cyclohexanone to obtain a resin varnish (35.0% of nonvolatile matter). The said resin varnish was used as an adhesive composition.

<실시예 16>&Lt; Example 16 >

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 얻은 (A-1-1)성분의 용액(3610.0 g) 및 (a3-1)성분(228.0 g)을 넣은 후, 90 ℃에서 3시간 동안 반응시켜 메톡시실릴기 함유 실란 변성 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 상기 용액을 실온까지 냉각해, 메탄올(456.0 g)을 첨가하여 메톡시실릴기 함유 실란 변성 폴리이미드 수지(A-3-3)의 용액(불휘발분 36.0%)을 얻었다. 나아가 상기 용액을 추가로 시클로헥사논으로 희석하여, 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 그대로 접착제 조성물로서 이용했다.
After putting the solution (3610.0 g) and the component (a3-1) (228.0 g) of the (A-1-1) component obtained by the same method as the said Preparation Example 1 in the same reaction container as the said Preparation Example 1, at 90 degreeC The reaction was carried out for 3 hours to obtain a solution of the methoxysilyl group-containing silane-modified polyimide resin. The solution was cooled to room temperature, and methanol (456.0 g) was added to obtain a solution (non-volatile content 36.0%) of the methoxysilyl group-containing silane-modified polyimide resin (A-3-3). Furthermore, the said solution was further diluted with cyclohexanone and the resin varnish (35.0% of non volatile matter) was obtained. The said resin varnish was used as an adhesive composition as it was.

<실시예 17>&Lt; Example 17 >

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에, 벤조페논테트라카르복실산 이무수물(53.00 g), 시클로헥사논(1484.0 g) 및 메틸시클로헥산(296.8 g) 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(807.4 g)을 적하투입한 후, 140 ℃에서 3시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액(불휘발분 42.0%)을 얻었다. 상기 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.10이었다. 다음으로, 폴리이미드 수지 용액을 실온까지 냉각시킨 후, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판(상품명「BAPP」, 와카야마정화(주)제; 40.9 g)을 온도가 40 ℃이하로 유지되도록 소량씩 서서히 첨가하였다. 첨가 종료 후, 계속해서 실온으로 30분 동안 교반하면서 신장 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 다음으로, 상기 반응 용기에 상기 (a3-1)성분 (46.8 g)을 넣은 후, 90 ℃에서 3시간 동안 반응시켜 메톡시실릴기 함유 실란 변성 폴리이미드 수지(A-4-1)의 용액을 얻었다. 상기 용액을 실온까지 냉각한 후, 메탄올(93.5 g)을 첨가하여, 추가로 시클로헥사논으로 희석하여 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 그대로 접착제 조성물로서 이용했다.
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (1484.0 g), and methylcyclohexane (296.8 g) were put into the same reaction container as the said preparation example 1, and the solution was heated to 60 degreeC. After heating, dimerdiamine (807.4 g) was added dropwise, followed by imidization reaction at 140 ° C. for 3 hours to obtain a solution of polyimide resin (42.0% of nonvolatile matter). The molar ratio of acid component / amine component in the solution was 1.10. Next, after cooling a polyimide resin solution to room temperature, 2, 2-bis [4- (4-amino phenoxy) phenyl] propane (brand name "BAPP", Wakayama Purification Co., Ltd. product; 40.9 g) is heated. Was slowly added in small portions to keep it below 40 ° C. After completion of the addition, the solution was subjected to a stretching reaction with stirring at room temperature for 30 minutes to obtain a solution of the polyimide resin. Next, the (a3-1) component (46.8 g) was added to the reaction vessel and reacted at 90 ° C. for 3 hours to prepare a solution of methoxysilyl group-containing silane-modified polyimide resin (A-4-1). Got it. After cooling the said solution to room temperature, methanol (93.5g) was added, and also diluted with cyclohexanone, and the resin varnish (35.0% of non volatile matter) was obtained. The said resin varnish was used as an adhesive composition as it was.

<실시예 18>&Lt; Example 18 >

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에 상기 제조예 1과 동일한 방법으로 얻은 (A-1-1)성분의 용액(3610.0 g)을 넣은 후, 사슬신장제로서 4, 4'-디아미노디페닐에테르(상품명 「DPE/ODA」, 와카야마정화(주); 9.2 g)를, 온도가 40 ℃이하로 유지되도록 소량씩 첨가하였다. 첨가 종료 후, 실온으로 30분 동안 교반하면서 신장 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 다음으로, 상기 반응 용기에 상기 (a3-1)성분 (46.8 g)을 넣은 후, 90 ℃에서 3시간 동안 반응시켜 메톡시실릴기 함유 실란 변성 폴리이미드 수지(A-4-2)의 용액을 얻었다. 다음으로, 상기 용액을 실온까지 냉각한 후, 메탄올(93.5 g)을 첨가하여 추가로 시클로헥사논으로 희석하여 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 그대로 접착제 조성물로서 이용했다.
The solution (3610.0 g) of the component (A-1-1) obtained in the same manner as in Preparation Example 1 was placed in the same reaction vessel as in Preparation Example 1, followed by 4, 4'-diaminodiphenyl ether as a chain extender. (Trade name "DPE / ODA", Wakayama Purification Co., Ltd .; 9.2 g) was added little by little so that temperature may be maintained below 40 degreeC. After the addition was completed, the reaction was elongated with stirring at room temperature for 30 minutes to obtain a solution of polyimide resin. Next, the (a3-1) component (46.8 g) was added to the reaction vessel and reacted at 90 ° C. for 3 hours to prepare a solution of methoxysilyl group-containing silane-modified polyimide resin (A-4-2). Got it. Next, after cooling the said solution to room temperature, methanol (93.5g) was added, and also diluted with cyclohexanone, and the resin varnish (35.0% of non volatile matter) was obtained. The said resin varnish was used as an adhesive composition as it was.

<실시예 19>&Lt; Example 19 >

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물(53.00 g), 시클로헥사논(2120.0 g) 및 메틸시클로헥산(424.0 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후, 다이머디아민(427.0 g) 및 α,ω-비스(3-아미노프로필)폴리디메틸실록산(상품명 「KF-8010」, 신에츠 화학공업(주) 제; 695.9 g)을 적하투입한 후, 140 ℃에서 1시간 동안 이미드화 반응시켜, 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 상기 용액에 있어서, 디아민 성분중의 다이머디아민은 50 몰%이며, 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다. 다음으로, 상기 폴리이미드 수지 용액을 실온까지 냉각 후, 상기 (a3-1) 성분(47.0 g)을 넣고 90 ℃에서 메톡시실릴기 함유 실란 변성 폴리이미드 수지(A-3-4)의 용액을 얻었다. 상기 용액을 실온까지 냉각한 후, 메탄올(113.0 g)을 첨가하여, 추가로 시클로헥사논으로 희석하여 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 그대로 접착제 조성물로서 이용했다.
In the same reaction vessel as Preparation Example 1, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (2120.0 g) and methylcyclohexane (424.0 g) were added thereto. The solution was then heated to 60 ° C. After heating, dimerdiamine (427.0 g) and α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane (trade name "KF-8010", manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; 695.9 g) were added dropwise thereto, and then 140 The imidation reaction was carried out at 1 ° C. for 1 hour to obtain a solution of polyimide resin. In the above solution, the dimerdiamine in the diamine component is 50 mol%, and the molar ratio of the acid component / amine component is 1.04. Next, after cooling the said polyimide resin solution to room temperature, the said (a3-1) component (47.0g) is put, and the solution of a methoxy silyl group containing silane modified polyimide resin (A-3-4) is added at 90 degreeC. Got it. After cooling the said solution to room temperature, methanol (113.0g) was added, and also diluted with cyclohexanone, and the resin varnish (35.0% of non volatile matter) was obtained. The said resin varnish was used as an adhesive composition as it was.

<실시예 20>&Lt; Example 20 >

상기 실시예 13에서 얻은 수지 바니쉬((A-3-1)성분 함유)에 jER828(1.8 g) 및 시클로헥사논(12.0 g)을 첨가하여 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 그대로 접착제 조성물로서 이용했다.
JER828 (1.8 g) and cyclohexanone (12.0 g) were added to the resin varnish ((A-3-1) component containing) obtained in the said Example 13, and the resin varnish (35.0% of non volatile matter) was obtained. The said resin varnish was used as an adhesive composition as it was.

<비교예 4>&Lt; Comparative Example 4 &

상기 제조예 1과 동일한 반응 용기에 벤조페논테트라카르복실산 이무수물(53.00 g), 시클로헥사논(185.50 g) 및 메틸시클로헥산(37.10 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열 후 다이머디아민을 대신하여 α,ω-비스-(3 아미노프로필)폴리디메틸실록산(1391.7 g)을 적하투입한 후, 용액을 140 ℃까지 가열하고 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 또한, 상기 수지의 용액에 있어서 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다. 다음으로 상기 폴리이미드 수지 용액을 실온까지 냉각시킨 후, 상기 (a3-1)성분 (66.1 g)을 넣고 90 ℃에서 3시간 동안 반응시킨 후, 실온까지 냉각하여 메탄올(132.1 g)을 첨가하는 것으로서 메톡시실릴기 함유 실란 변성 폴리이미드 수지(다)의 용액(불휘발분 45.0%)을 얻었다. 상기의 용액을 추가로 시클로헥사논으로 희석하여 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 그대로 접착제 조성물로서 이용했다.
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (185.50 g) and methylcyclohexane (37.10 g) were put in the same reaction container as Preparation Example 1, and the solution was heated to 60 ° C. After heating, dropwise addition of α, ω-bis- (3 aminopropyl) polydimethylsiloxane (1391.7 g) in place of dimerdiamine, the solution was heated to 140 ℃ and imidized for 1 hour to a solution of polyimide resin Got. In addition, the molar ratio of the acid component / amine component in the solution of the said resin is 1.04. Next, after cooling the polyimide resin solution to room temperature, the (a3-1) component (66.1 g) was added and reacted at 90 ° C. for 3 hours, followed by cooling to room temperature to add methanol (132.1 g). The solution (45.0% of non volatile matter) of the methoxy silyl group containing silane modified polyimide resin (c) was obtained. The above solution was further diluted with cyclohexanone to obtain a resin varnish (35.0% of nonvolatile matter). The said resin varnish was used as an adhesive composition as it was.

<비교예 5>&Lt; Comparative Example 5 &

상기 제조예 1과 동일한 반응용기에 벤조페논테트라카르복실산 이무수물(53.00 g), 시클로헥사논(2120.0 g) 및 메틸시클로헥산(424.0 g)을 넣은 후, 용액을 60 ℃까지 가열하였다. 가열한 후 다이머디아민(213.5 g) 및 α,ω-비스-(3 아미노프로필)폴리디메틸실록산(1043.8 g)을 적하투입한 후, 용액을 140 ℃에서 1시간 동안 이미드화 반응시켜 폴리이미드 수지의 용액을 얻었다. 상기 용액에 있어서, 디아민 성분 중 다이머디아민은 25 몰%이며, 산성분/아민 성분의 몰비는 1.04이다. 다음으로, 상기 폴리이미드 수지 용액을 실온까지 냉각시킨 후, 상기 (a3-1)성분(56.5 g)을 넣고 90 ℃에서 3시간 동안 반응시킨 후, 실온까지 냉각하여 메탄올(113.0 g)을 첨가하여, 메톡시 실릴기 함유 폴리이미드 수지(라)의 용액(불휘발분 40.0%)을 얻었다. 상기의 용액을 추가로 시클로헥사논으로 희석하여 수지 바니쉬(불휘발분 35.0%)를 얻었다. 상기 수지 바니쉬는 그대로 접착제 조성물로서 이용했다.
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride (53.00 g), cyclohexanone (2120.0 g) and methylcyclohexane (424.0 g) were added to the same reaction container as Preparation Example 1, and the solution was heated to 60 ° C. After heating, dimerdiamine (213.5 g) and α, ω-bis- (3 aminopropyl) polydimethylsiloxane (1043.8 g) were added dropwise thereto, and the solution was imidized at 140 ° C. for 1 hour to obtain polyimide resin. A solution was obtained. In the above solution, the dimer diamine in the diamine component is 25 mol%, and the molar ratio of the acid component / amine component is 1.04. Next, after the polyimide resin solution was cooled to room temperature, the (a3-1) component (56.5 g) was added thereto, reacted at 90 ° C. for 3 hours, and then cooled to room temperature to add methanol (113.0 g). And the solution (non-volatile content 40.0%) of the methoxy silyl group containing polyimide resin (d) were obtained. The above solution was further diluted with cyclohexanone to obtain a resin varnish (35.0% of nonvolatile matter). The said resin varnish was used as an adhesive composition as it was.


폴리
이미드
수지
Poly
Imide
Suzy
(a1)
(a1)
(a2) 폴리이미드 성분(a2) polyimide component (a2)
사슬신장제
(a2)
Chain extension
(a3)(a3) SiO2
wt%
SiO 2
wt%
다이머디아민Dimerdiamine 다른 다이머디아민Other dimerdiamine 실시예 14Example 14 (A-3-1)(A-3-1) BTDABTDA PRIAMINEPRIAMINE ------ ------ (a3-1)(a3-1) 22 실시예 15Example 15 (A-3-2)(A-3-2) DSDADSDA PRIAMINEPRIAMINE ------ ------ (a3-1)(a3-1) 22 실시예 16Example 16 (A-3-3)(A-3-3) BTDABTDA PRIAMINEPRIAMINE ------ ------ (a3-1)(a3-1) 99 실시예 17Example 17 (A-4-1)(A-4-1) BTDABTDA PRIAMINEPRIAMINE ------ BAPPBAPP (a3-1)(a3-1) 22 실시예 18Example 18 (A-4-2)(A-4-2) BTDABTDA PRIAMINEPRIAMINE ------ DPE/ODADPE / ODA (a3-1)(a3-1) 22 실시예 19Example 19 (A-3-4)(A-3-4) BTDABTDA PRIAMINE
(50mol%)
PRIAMINE
(50 mol%)
KF8010
(50mol%)
KF8010
(50 mol%)
------ (a3-1)(a3-1) 22
실시예 20Example 20 (A-3-1)(A-3-1) BTDABTDA PRIAMINEPRIAMINE ------ ------ (a3-1)(a3-1) 22 비교예 4Comparative Example 4 (다)(All) BTDABTDA ------ KF8010KF8010 ------ (a3-1)(a3-1) 22 비교예 5Comparative Example 5 (라)(la) BTDABTDA PRIAMINE
(25mol%)
PRIAMINE
(25 mol%)
KF8010
(75mol%)
KF8010
(75mol%)
------ (a3-1)(a3-1) 22

(※) 실시예 19는 (B)성분을 사용.(※) Example 19 uses (B) component.

BTDA, PRIAMINE, DSDA, KF8010 및 BAPP는 상기 표 1과 같다.BTDA, PRIAMINE, DSDA, KF8010 and BAPP are shown in Table 1 above.

DPE/ODA(상품명):4,4'-디아미노페닐에테르(와카야마 정화(주) 제)DPE / ODA (brand name): 4,4'-diaminophenyl ether (made by Wakayama purification)

SiO2(%):실리카 입자 함유율(투입 중량으로부터의 계산치)
SiO 2 (%): Silica particle content rate (calculated from input weight)

<접착 시트의 제작><Production of adhesive sheet>

상기 실시예 1의 접착제 조성물을 블록 공중합 폴리이미드 실리카 하이브리드 필름(상품명「포미란 N25」, 아라카와 화학공업(주) 제;열팽창 계수=18 ppm, 인장 탄성률=5.9 GPa, 막의 두께 25μm)에, 건조 후의 두께가 30μm가 되도록 갭 코터에서 도포한 후, 180 ℃에서 3분간 건조시켜 접착 시트를 얻었다. 상기 다른 실시예 및 비교예의 접착제 조성물에 대해서도 이와 같은 방법으로 접착 시트를 얻었다. 다음으로 각 접착 시트의 접착면에 전해 동박(상품명「F2-WS」, 후루카와 사킷포일(주) 제; 18μm 두께)의 처리면을 겹쳐 이것을 수평 방향으로 움직였다. 그 때, 점착성이 있어 전해 동박을 움직일 수 없었던 경우를 "탁(tack)성 유" 및 수평 방향으로 움직일 수 있던 경우를 "탁(tack)성 무" 이라고 판단하여 상기의 결과를 하기 표 4에 나타내었다.
The adhesive composition of Example 1 was dried on a block copolymerized polyimide silica hybrid film (trade name "Pomiran N25", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd .; thermal expansion coefficient = 18 ppm, tensile modulus = 5.9 GPa, and film thickness of 25 µm). After apply | coating with a gap coater so that the thickness may be set to 30 micrometers, it dried at 180 degreeC for 3 minutes, and obtained the adhesive sheet. The adhesive sheet was obtained by the same method also about the adhesive composition of the said other Example and a comparative example. Next, the process surface of electrolytic copper foil (brand name "F2-WS", Furukawa Saku foil Co., Ltd .; 18 micrometers thickness) was superimposed on the adhesive surface of each adhesive sheet, and this was moved to the horizontal direction. At that time, the case where the electrolytic copper foil could not be moved due to adhesiveness was judged as "tack free" and the case where it could be moved in the horizontal direction was "tack free" and the above results are shown in Table 4 below. Indicated.

<적층체(1)의 제작><Production of laminated body 1>

상기 실시예 1로 제작한 접착 시트의 접착면에, 전해 동박(상품명「F2-WS」, 후루카와사킷훠일(주) 제; 18μm 두께)의 처리면을 겹쳐 압력 10 MPa, 180 ℃ 및 1분의 조건으로 가열 압착시킨 후, 다시 200 ℃에서 1시간 동안 가열하여 적층체(1)를 제작하였다. 상기 다른 실시예 및 비교예의 접착제 조성물에 대해서도 이와 같은 방법으로 각각의 적층체(1)을 얻었다. 또한, 적층체(1)는 FPC 기판으로서의 사용을 상정하고 있다.
On the adhesive surface of the adhesive sheet produced in Example 1, the treated surface of the electrolytic copper foil (brand name "F2-WS", manufactured by Furukawa Sakku Co., Ltd .; 18 μm thickness) was piled up under pressure of 10 MPa, 180 ° C. and 1 minute. After heat-pressing on conditions, it heated again at 200 degreeC for 1 hour, and produced the laminated body (1). Each laminated body 1 was obtained by the same method also about the adhesive composition of the said other Example and a comparative example. In addition, the laminated body 1 assumes use as an FPC board | substrate.

<적층체(2)의 제작><Production of laminated body 2>

상기 실시예 1과 관련되는 접착제 조성물을, 포미란 N25에 건조 후, 두께가 30μm가 되도록 갭 코터에서 도포한 후, 200 ℃에서 30분 동안 가열하여 접착 시트를 얻었다. 다음으로 상기 접착 시트의 접착제 면에, 상기 전해 동박(F2-WS)의 처리면을 겹쳐 맞춘 후, 압력 10 MPa 및 200 ℃의 조건으로 1분간 가열 압착시켜 적층체(2)를 제작했다. 상기 다른 실시예 및 비교예의 접착제 조성물에 대해서도 이와 같은 방법으로 각각의 적층체(2)를 얻었다. 또한, 적층체(2)는 캐리어 시트나 캐리어 테이프로서의 사용을 상정하고 있다.
The adhesive composition according to Example 1 was applied to a gap coater so as to have a thickness of 30 μm after drying on pomiran N25, and then heated at 200 ° C. for 30 minutes to obtain an adhesive sheet. Next, after laminating | stacking the process surface of the said electrolytic copper foil (F2-WS) on the adhesive surface of the said adhesive sheet, it heat-pressed for 1 minute on the conditions of 10 MPa and 200 degreeC, and produced the laminated body 2. Each laminated body 2 was obtained by the same method also about the adhesive composition of the said other Example and a comparative example. In addition, the laminated body 2 assumes use as a carrier sheet and a carrier tape.

<접착성 시험><Adhesive test>

상기 실시예 및 비교예의 각 적층체에 대해서, JISC-6481 규격에 준거하여 박리 강도를 측정했다. 상기 측정 결과를 하기 표 4 및 5에 나타내었다.
About each laminated body of the said Example and a comparative example, peeling strength was measured based on JISC-6481 standard. The measurement results are shown in Tables 4 and 5 below.

<땜납(soldering) 내열성 시험:고온역><Soldering heat resistance test: high temperature area>

상기 실시예 및 비교예의 적층체(1) 각각에 대해서 120 ℃에서 5분간 가열한 후, 플라스틱 기재면을 상향하여 340 ℃의 땜납 욕조에 1분간 띄운 후, 접착제 층의 발포나 금속기재의 벗겨짐을 확인하고 JISC-6481 규격에 준거하여 동박의 박리 강도를 측정했다. 상기 측정 결과를 표 4 및 5에 나타낸다. 또한, 적층체(1)는 FPC 기판으로서의 이용이 상정되고 있기 때문에, 박리 강도의 수치가 클수록 접착성이 양호하다.
After heating at 120 ° C. for 5 minutes for each of the laminates 1 of the above-described examples and comparative examples, the surface of the plastic substrate was raised upward, floated in a solder bath at 340 ° C. for 1 minute, and then the foaming of the adhesive layer and the peeling of the metal substrate were removed. It confirmed and the peeling strength of copper foil was measured based on JISC-6481 standard. The measurement results are shown in Tables 4 and 5. Further, since the layered product 1 is assumed to be used as an FPC board, the larger the value of the peel strength is, the better the adhesion is.

<난연성><Flammability>

상기 실시예 및 비교예의 적층체(1)의 각각에 대해서 UL94 규격에 준거하여 난연성을 평가하였다. 적층체(1)이 UL94규격의 V-0클래스에 해당하는 경우를 "난연성 유" 및 연소했을 경우를 "난연성 무"로 하였다.
About each of the laminated bodies 1 of the said Example and the comparative example, flame retardance was evaluated based on UL94 standard. The case where the laminated body 1 corresponded to the V94 class of UL94 standard was "flame retardant oil", and the case where it burned was "flame-free flameless".

<땜납(soldering) 내열성:저온역><Soldering heat resistance: low temperature range>

상기 실시예 및 비교예의 적층체(2)의 각각에 대해서 120℃에서 5분간 가열한 후, 플라스틱 기재면을 하향해 260 ℃의 땜납 욕조에 5분간 띄운 후, 접착제 층의 발포나 금속기재의 벗겨짐을 확인하고 JISC-6481 규격에 준거하여 전해 동박의 박리 강도를 측정했다. 측정할 시, 전해동박의 반사면의 표면 상태를 관찰하는 것과 동시에 측정하는 기재의 접착제의 잔류물의 유무를 확인하였다. 상기 결과를 하기 표 4 및 5에 나타내었다. 또한, 적층체(2)는 캐리어 시트나 캐리어 테이프로서의 이용을 상정한 것이므로 가고착한 반도체 소자 등의 전자 부품을 박리할 필요성이 있으므로 박리 강도의 수치가 작을수록 양호하다고 본다.
After heating at 120 ° C. for 5 minutes for each of the laminates 2 of the Examples and Comparative Examples, the plastic substrate surface was lowered and floated in a solder bath at 260 ° C. for 5 minutes, followed by foaming of the adhesive layer or peeling off of the metal substrate. Was confirmed and the peeling strength of the electrolytic copper foil was measured based on JISC-6481 standard. At the time of a measurement, the surface state of the reflecting surface of an electrolytic copper foil was observed, and the presence or absence of the residue of the adhesive agent of the base material to measure was confirmed. The results are shown in Tables 4 and 5 below. In addition, since the laminated body 2 is assumed to be used as a carrier sheet or a carrier tape, it is necessary to peel electronic components, such as a temporarily fixed semiconductor element, and it is considered that the smaller the peel strength is, the better.


실란
미변성
상태

Silane
Undenatured
condition
접착시트
Adhesive sheet
적층체(1)   Laminate (1) 적층체(2)    Laminate (2)
초기
박리
강도
(N/cm)
Early
Exfoliation
burglar
(N / cm)
땜납 내열성
시험후
(340 ℃ ×1min)
Solder heat resistance
After the test
(340 ℃ × 1min)

난연성

Flammability

초기
박리
강도
(N/cm)

Early
Exfoliation
burglar
(N / cm)
땜납 내열성
시험후
(260℃ ×5min)
Solder heat resistance
After the test
(260 ℃ × 5min)
탁(tack)Tack 박리강도 (N/cm)Peel Strength (N / cm) 외관Exterior 박리강도 (N/cm)Peel Strength (N / cm) 외관Exterior 부착
경화물
Attach
Cured goods
실시예 1Example 1 radish 99 88 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 2Example 2 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 3Example 3 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 4Example 4 radish 77 66 무변화No change U 22 22 무변화No change radish 실시예 5Example 5 radish 99 77 무변화No change U 33 44 무변화No change radish 실시예 6Example 6 radish 99 88 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 7Example 7 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 8Example 8 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 9Example 9 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 10Example 10 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 11Example 11 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 12Example 12 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 실시예 13Example 13 radish 88 77 무변화No change U 22 33 무변화No change radish 비교예 1Comparative Example 1 U 77 66 무변화No change U 44 66 무변화No change U 비교예 2Comparative Example 2 U 88 66 무변화No change U 44 66 무변화No change U 비교예 3Comparative Example 3 U 99 33 발포firing U 44 66 무변화No change U


실란기
변성상태

Silane
Denaturation
접착시트
Adhesive sheet
적층체(1)   Laminate (1) 적층체(2)    Laminate (2)
초기
박리
강도
(N/cm)
Early
Exfoliation
burglar
(N / cm)
땜납 내열성
시험후
(340 ℃ ×1min)
Solder heat resistance
After the test
(340 ℃ × 1min)

난연성

Flammability

초기
박리
강도
(N/cm)

Early
Exfoliation
burglar
(N / cm)
땜납 내열성
시험후
(260℃ ×5min)
Solder heat resistance
After the test
(260 ℃ × 5min)
탁(tack)Tack 박리강도 (N/cm)Peel Strength (N / cm) 외관Exterior 박리강도 (N/cm)Peel Strength (N / cm) 외관Exterior 부착
경화물
Attach
Cured goods
실시예 14Example 14 radish 99 66 무변화No change radish 33 44 무변화No change radish 실시예 15Example 15 radish 99 66 무변화No change radish 33 44 무변화No change radish 실시예 16Example 16 radish 88 77 무변화No change radish 33 44 무변화No change radish 실시예 17Example 17 radish 99 77 무변화No change radish 33 44 무변화No change radish 실시예 18Example 18 radish 99 77 무변화No change radish 33 44 무변화No change radish 실시예 19Example 19 radish 99 77 무변화No change radish 33 44 무변화No change radish 실시예 20Example 20 radish 99 77 무변화No change radish 33 44 무변화No change radish 비교예 4Comparative Example 4 U 88 77 무변화No change radish 55 66 무변화No change U 비교예 5Comparative Example 5 U 88 77 무변화No change radish 55 66 무변화No change U

<플렉서블 프린트 배선판의 제작><Production of flexible printed wiring board>

상기 실시예 1과 관련되는 접착제 조성물을, 포미란 N25에 건조 후의 두께가 30μm가 되도록 갭 코터에서 도포한 후, 180 ℃에서 3분간 건조시켜 접착 시트를 얻었다. 상기의 접착 시트의 접착제 면에 전기 전해 동박(F2-WS)의 처리면을 겹쳐 180 ℃의 라미네이트 롤로 압착한 후, 200 ℃에서 2시간 동안 처리하여 플렉서블 동장적층판을 얻었다. 이 동장적층판의 동 표면을 소프트 에칭 처리하고 동회로를 형성하여, 그 위에 상기 방법으로 얻은 실시예 1에 관한 본 발명의 접착제 조성물을 사용한 적층체(1)를 겹쳐 맞추어 압력 10 MPa, 180 ℃ 및 1분간의 조건으로 가열 압착 시킨 후, 다시 200 ℃에서 1시간 가열하여 플렉서블 프린트 배선판을 제작할 수 있었다. 또한, 다른 실시예의 접착제 조성물에 대해서도 이와 같은 방법으로 플렉서블 프린트 배선판을 제작하였다.The adhesive composition which concerns on the said Example 1 was apply | coated to pomiran N25 so that the thickness after drying might be set to 30 micrometers, and it dried at 180 degreeC for 3 minutes, and obtained the adhesive sheet. The treated surface of the electrolytic copper foil (F2-WS) was superimposed on the adhesive face of the adhesive sheet and pressed with a laminate roll at 180 ° C., and then treated at 200 ° C. for 2 hours to obtain a flexible copper clad laminate. The copper surface of this copper clad laminated board was soft-etched and the copper circuit was formed, and the laminated body 1 using the adhesive composition of this invention concerning Example 1 obtained by the said method was piled up on it, and the pressure was 10 MPa, 180 degreeC, and After heat-pressing on the conditions of 1 minute, it heated again at 200 degreeC for 1 hour, and was able to manufacture the flexible printed wiring board. Moreover, the flexible printed wiring board was produced by the same method also about the adhesive composition of another Example.

Claims (22)

하기 [1] 내지 [4]로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 폴리이미드 수지(A) 및 필요에 따라서 열경화성수지(B) 및 난연제(C)가 유기용제(D)에 용해되어 얻어지는 폴리이미드계 접착제 조성물:
[1] 방향족 테트라카르복실산류(a1) 및 다이머디아민을 30 몰% 이상 포함한 디아민류(a2)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지;
[2] 방향족 테트라카르복실산류(a1) 및 다이머디아민을 30 몰% 이상 포함한 디아민류(a2)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지를 추가로 상기 (a2)성분으로 사슬신장하여 얻어지는 폴리이미드 수지;
[3] 방향족 테트라카르복실산류(a1) 및 다이머디아민을 30 몰% 이상 포함한 디아민류(a2)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지와 에폭시기 함유 알콕시실란 부분 축합물(a3)을 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지; 및
[4] 방향족 테트라카르복실산류(a1) 및 다이머디아민을 30 몰% 이상 포함한 디아민류(a2)를 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지를 추가로 상기 (a2)성분으로 사슬 신장하여 얻어지는 폴리이미드 수지와 에폭시기 함유 알콕시실란 부분 축합물(a3)을 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지.
Polyimide obtained by dissolving at least one polyimide resin (A) selected from the group consisting of the following [1] to [4] and, if necessary, the thermosetting resin (B) and the flame retardant (C) in an organic solvent (D). Adhesive composition:
[1] polyimide resin obtained by reacting aromatic tetracarboxylic acids (a1) and diamines (a2) containing 30 mol% or more of dimerdiamine;
[2] a polyimide resin obtained by further chain-stretching a polyimide resin obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic acid (a1) and a diamine (a2) containing 30 mol% or more of dimerdiamine as the component (a2);
[3] polyimide resin obtained by reacting a polyimide resin obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic acid (a1) and a diamine (a2) containing 30 mol% or more of dimerdiamine and an epoxy group-containing alkoxysilane partial condensate (a3) ; And
[4] A polyimide resin and an epoxy group obtained by further chain-stretching a polyimide resin obtained by reacting an aromatic tetracarboxylic acid (a1) and a diamine (a2) containing 30 mol% or more of dimerdiamine as the component (a2). Polyimide resin obtained by making containing alkoxysilane partial condensate (a3) react.
제1항에 있어서,
상기 (a1)성분은 하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물:
[화학식1]
Figure pat00010

(상기 화학식 1에 있어서,
X는 단일 결합 또는 하기 화학식 2에 나타낸 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구조를 나타낸다.)
[화학식2]
Figure pat00011
.
The method of claim 1,
The (a1) component is a polyimide adhesive composition, characterized in that represented by the following formula (1):
[Chemical Formula 1]
Figure pat00010

(In the formula 1,
X represents a single bond or at least one structure selected from the group represented by the following formula (2).)
(2)
Figure pat00011
.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 다이머디아민은 하기 화학식 3 또는 화학식 4로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물:
[화학식 3]
Figure pat00012

(상기 화학식 3에서, m+n=6~17의 정수이고, p+q=8~19의 정수이며, 파선부는 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합을 의미한다.)
[화학식 4]
Figure pat00013

(상기 화학식 4에서, m+n=6~17의 정수이고, p+q=8~19의 정수이며, 파선부는 탄소-탄소 단일 결합 또는 탄소-탄소 이중 결합을 의미한다).
3. The method according to claim 1 or 2,
The dimerdiamine is a polyimide adhesive composition, characterized in that represented by the following formula (3) or (4):
(3)
Figure pat00012

(In the formula (3), m + n = an integer of 6 to 17, p + q = an integer of 8 to 19, the broken line means a carbon-carbon single bond or a carbon-carbon double bond.)
[Chemical Formula 4]
Figure pat00013

(In the formula (4), m + n = an integer of 6 to 17, p + q = an integer of 8 to 19, the broken line means a carbon-carbon single bond or a carbon-carbon double bond).
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (a1)성분 및 (a2)성분을 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지에 대하여,〔(a1)성분의 사용 몰 수/(a2)성분의 사용 몰 수〕가 0.6/1~1.4/1인 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
[The number of moles of use of (a1) component / the number of moles of use of (a2) component] are 0.6 / 1-1.4 / 1 with respect to the polyimide resin obtained by making the said (a1) component and (a2) component react. Polyimide adhesive composition.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 폴리이미드 수지 원료로서의 (a2)성분이 추가로 디아미노폴리실록산류를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
(A2) A component as said polyimide resin raw material contains diamino polysiloxane further, The polyimide adhesive composition characterized by the above-mentioned.
제5항에 있어서,
상기 디아미노폴리실록산류는 하기 화학식 5로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물:
[화학식 5]
Figure pat00014

(상기 화학식 5에서,
R1은 탄소수 2~6의 알킬렌기를 나타내고, R2는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타내며, r은 1~30의 정수를 나타낸다).
The method of claim 5,
The diamino polysiloxanes are polyimide adhesive composition, characterized in that represented by the following formula (5):
[Chemical Formula 5]
Figure pat00014

(In the above formula (5)
R 1 represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, R 2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and r represents an integer of 1 to 30).
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
사슬신장제로서의 (a2)성분이 비스아미노페녹시페닐프로판류 및 다이머디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
(A2) A component as a chain extender is 1 or more types chosen from the group which consists of bisaminophenoxy phenyl propanes and dimer diamine, The polyimide adhesive composition characterized by the above-mentioned.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 사슬신장제로서의 (a2)성분 사용량이,〔(a1)성분 및 (a2)성분을 반응시켜 얻어지는 폴리이미드 수지 중의 잔존 카르복실기의 몰수〕/〔사슬신장제로서의 (a2)성분의 몰수〕가 0.6/1~1.4/1이 되는 범위인 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
[A mole number of the remaining carboxyl groups in the polyimide resin obtained by reacting the (a1) component and the (a2) component] / [the number of moles of the component (a2) as the chain extender] is 0.6. It is a range which becomes / 1-1.4 / 1, The polyimide adhesive composition characterized by the above-mentioned.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (a3)성분이 알콕시실란 부분 축합물과 에폭시 알코올을 탈알코올 반응시켜 얻을 수 있는 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The said (a3) component can obtain the alkoxysilane partial condensate and the de-alcohol reaction of the epoxy alcohol, The polyimide adhesive composition characterized by the above-mentioned.
제9항에 있어서,
상기 알콕시실란 부분축합물은 하기 화학식 6으로 표시되는 것을 특징으로 하는 제9항의 폴리이미드계 접착제 조성물:
[화학식 6]
Figure pat00015

(상기 화학식 6에서,
R3은 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내고, R4는 탄소수 1~3의 알킬기 또는 아릴기를 나타내며, s는 2~100의 정수를 나타낸다).
10. The method of claim 9,
The alkoxysilane partial condensate is a polyimide adhesive composition of claim 9, characterized in that represented by the following formula (6):
[Chemical Formula 6]
Figure pat00015

(6)
R 3 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 4 represents an alkyl group or an aryl group having 1 to 3 carbon atoms, and s represents an integer of 2 to 100).
제9항 내지 제10항에 있어서,
상기 에폭시 알코올은 하기 화학식 7로 표시되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물:
[화학식 7]
Figure pat00016

(상기 화학식 7에서, t는 1~10의 정수를 나타낸다).
The method according to claim 9, wherein
The epoxy alcohol is a polyimide adhesive composition, characterized in that represented by the following formula (7):
(7)
Figure pat00016

(In the formula (7), t represents an integer of 1 to 10).
제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 알콕시실란 부분축합물과 에폭시 알코올의 사용량이,〔알콕시실란 부분 축합물 중의 알콕시기의 몰수/에폭시 알코올중의 수산기의 몰수〕가 1/0.3~1/0.01이 되는 범위인 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물.
12. The method according to any one of claims 9 to 11,
Polyis characterized in that the amount of the alkoxysilane partial condensate and the epoxy alcohol is in a range such that [the number of moles of alkoxy groups in the alkoxysilane partial condensate / the number of moles of hydroxyl groups in the epoxy alcohol] becomes 1 / 0.3 to 1 / 0.01. Mid type adhesive composition.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (B)성분이 에폭시 수지, 벤조옥사진 수지, 비스말레이미드 수지 및 시아네이토에스테르 수지로부터 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 폴리이미드계 접착제 조성물.
13. The method according to any one of claims 1 to 12,
Said (B) component is polyimide adhesive composition which is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an epoxy resin, benzoxazine resin, bismaleimide resin, and a cyanatoester resin.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
(B)성분의 사용량이 (A)성분 100 중량부(고형분환산)에 대해서 1~150 중량부인 폴리이미드계 접착제 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 13,
The polyimide adhesive composition whose usage-amount of (B) component is 1-150 weight part with respect to 100 weight part (solid content conversion) of (A) component.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (C)성분이 인(phosphorus)계 난연제 및 무기 필러로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 폴리이미드계 접착제 조성물.
15. The method according to any one of claims 1 to 14,
Said (C) component is 1 or more types chosen from the group which consists of a phosphorus flame retardant and an inorganic filler, The polyimide adhesive composition characterized by the above-mentioned.
제15항에 있어서,
(C)성분의 사용량이 (A)성분 100 중량부(고형분환산)에 대해서 0.1~200 중량부인 폴리이미드계 접착제 조성물.
16. The method of claim 15,
The polyimide adhesive composition whose usage-amount of (C) component is 0.1-200 weight part with respect to 100 weight part (solid content conversion) of (A) component.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항의 폴리이미드계 접착제 조성물을 경화시켜 얻을 수 있는 경화물.
Hardened | cured material obtained by hardening | curing the polyimide adhesive composition of any one of Claims 1-16.
제17항에 있어서,
실리카 성분의 함유율이 0~15 중량%인 것을 특징으로 하는 경화물.
18. The method of claim 17,
And the content of the silica component is 0 to 15% by weight.
제1항 내지 제18항 중 어느 한 항의 폴리이미드계 접착제 조성물을 시트기재에 도포해 건조시켜 얻을 수 있는 접착 시트.
An adhesive sheet obtained by applying the polyimide adhesive composition of any one of claims 1 to 18 to a sheet base material and drying the same.
제19항의 접착 시트의 접착면에 추가로 시트기재를 열 압착시켜 얻을 수 있는 적층체.
A laminate obtained by thermally compressing a sheet substrate in addition to the adhesive face of the adhesive sheet of claim 19.
제20항의 적층체를 추가로 가열하여 얻을 수 있는 적층체.
A laminate obtained by further heating the laminate of claim 20.
제21항의 적층체를 이용해서 얻어지는 플렉서블 프린트 기판.The flexible printed circuit board obtained using the laminated body of Claim 21.
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