KR20130077753A - 백색필름 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반사율이 우수한 단층 백색필름에 관한 것으로, 내광성이 우수한 백색필름에 관한 것이다.
Description
본 발명은 반사율이 우수한 단층 백색필름에 관한 것으로, 백라이트용 반사필름으로 사용하기 위한 백색필름에 관한 것이다.
최근 백색필름의 다양한 용도 중 액정 디스플레이를 이용한 다양한 용도의 확대가 이루어지고 있는 가운데 기존의 노트북, 모니터에 이어 각종 스마트 폰/패드, 대화면 TV의 수요가 급증하고 있는 추세이다. 이 때, 이러한 디스플레이용 백라이트 유닛의 최 하단에 장착되는 반사필름의 주요 요구 물성으로는 충분한 반사율과 휘도이다.
이러한 높은 반사율과 충분한 휘도를 얻기 위한 타사 공지기술의 경우, 황산바륨 등의 무기입자 또는 폴리에스테르와 비상용성인 수지를 도입함으로써 필름을 연신하는 과정에서 폴리에스테르 수지와 무기입자나 비상용 수지의 계면에 의하여 생성되는 공동 (void) 계면에서의 반사율을 이용하는 방법이 가장 대표적이다. 이러한 특허로는 일본공개특허 2004-330727, 일본공개특허 1992-239540 등이 있다.
그러나 이러한 방법을 적용하기 위해서는 충분한 양의 무기입자나 수지를 투입하여 공동의 생성량을 늘려야 하며 또한 공동의 크기를 키우기 위해서는 충분한 연신비를 가져야 한다. 그 이유는 폴리에스테르와 무기입자 또는 비상용수지 사이에 공극이 생성됨으로써 형성되는 굴절률의 차이를 이용해 난반사를 많이 일으켜 충분한 반사율을 얻기 위함이다. 그러나 이 경우, 고-저-고의 굴절률 분포 (예 : 폴리에스테르 굴절률 1.64 - 공동 굴절률 1.0 - 황산바륨 굴절률 1.64) 를 가지는 반사 계면이 형성되고 이 계면에서의 빛의 산란 및 굴절 과정에서 산란 뿐 아니라 필름 내부로 굴절되어 흡수된 빛이 최종적으로 다시 반사되어 나오지 못하는 광 손실이 일부 발생되어 반사 효율이 떨어지는 문제점이 있다.
또한, 단층 필름에 있어서 이러한 공동 형성을 일으키는 입자를 과량 사용할 경우, 필름을 이축 연신할 때 파단이 빈번히 발생해 생산성이 열악한 문제가 있어 A/B, A/B/A 또는 A/B/C 구조의 공압출을 적용하여 외층을 지지층으로 활용함과 동시에 공동 함유층의 열악한 기계 강도나 내열성 등을 부여하고 있다.
그 외의 공지 기술로는 발포제를 폴리에스테르 필름 내부에서 발포시켜 발포셀에 의한 기공을 반사 계면으로 이용하는 방법이 있으나 발포셀의 균일한 크기 제어가 어렵고 내열성이 약한 단점이 있다.
종래 기술은 충분한 반사율을 얻기 위해서 공압출을 도입하여 내층에 공극 형성을 극대화하기 위해 다량의 무기물을 투입함과 동시에 공극 형성을 더욱 극대화하기 하기 위해 비상용성 고분자를 도입하기도 한다. 그러나 이러한 조성의 압출 시트를 연신하기 위해서는 호모 폴리에스테르로는 불가능하여 일반적으로 공중합 조성을 도입하여 제막 안정성을 확보하고 있다. 더더군다나 비상용성 고분자의 도입은 필름의 제막 연신성을 매우 떨어뜨릴 뿐만 아니라 필름 제막라인의 오염 및 탄화물, 겔 등의 발생이 빈번하여 필름 제막라인에 있는 필터의 교체 및 세정이 잦을 뿐 만 아니라 이러한 비상용성 고분자는 매우 고가이기 때문에 필름 제조 코스트가 매우 상승하는 문제가 있다. 또한 필름내의 공극 비율이 높을 뿐 아니라 공중합 성분에 의해 열적 안정성이 매우 취약한 문제가 있다.
따라서 본 발명은 공극 형성 타입의 입자를 사용하지 않으면서 충분한 은폐력(Opacity)과 반사율을 통해 궁극적으로 고휘도를 만족하는 단층 타입의 필름 및 이의 제조 방법을 제공하고자 한다.
본 발명은 단층 백색필름에 관한 것으로, 백색 폴리에스테르 필름 제조에 사용되는 무기물의 개질 및 한정을 통하여 적은 투입량으로도 단층에서 충분한 반사율 및 휘도를 갖는 백색 필름을 가지도록 한다. 또한 이 필름은 내부에 공극을 가지는 타입이 아니고 공중합의 사용을 억제해 열적 안정성도 우수한 특징이 있다.
구체적으로 본 발명은 폴리에스테르 수지와, 유기물 및 무기물로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄을 포함하며, 550nm에서의 반사율이 95%이상, 상대 휘도가 98% 이상, 파단 없이 12시간 이상 안정적으로 제막 가능한 단층 백색필름에 관한 것이다.
상기 반사율을 만족하기 위해서 본 발명의 유기물 및 무기물로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄은 평균입경이 0.1 ~ 0.5㎛인 것이 바람직하다.
또한, 상기 유기물 및 무기물로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄이 10 ~ 30 중량% 로 포함되는 것이 바람직하며, 상기 범위에서 상대 휘도가 98% 이상이고, 파단 없이 12시간 이상 안정적으로 제막 가능하다.
보다 바람직하게 본 발명에서 상기 유기물 및 무기물로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄은 평균입경이 0.12 ~ 0.47㎛이고, 12 ~ 28 중량% 로 포함되는 것이 좋다.
본 발명에서 상기 루타일형 이산화티탄은 유기물 및 무기물로 표면처리 된 것을 사용함으로써 컴파운딩 과정시 작업성이 안정적이며, 입자의 분산이 뛰어나고, 필름 연신 공정 시 폴리에스테르 매트릭스 수지와의 접착력이 좋아 공극의 발생이 어려우므로 보이드에 의한 광손실을 억제할 수 있으며, 무기물에 의한 내광성이 확보되어 광원의 장시간 노출에 의한 휘도가 저하되는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 백색필름은 단층필름이면서, 반사율이 95%이상이고, 상대휘도가 98%이상이며, 광학용 필름으로 사용하기에 우수한 물성을 갖는다.
이하 본 발명의 각 구성에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.
본 발명자들은 반사율을 높이고자 입자의 함량을 증가하기 위하여 종래 공압출에 의해 필름을 제조함으로써 발생하는 문제점을 해소하고, 단층 필름으로써 공압출 필름과 동등 이상의 우수한 반사율을 가지며, 휘도가 우수한 백색필름을 제조하기 위하여 연구한 결과, 단층으로 제조 시 무기입자를 루타일형의 이산화티탄을 사용하고, 이의 표면을 유기물 및 무기물로 표면처리한 것을 사용하고, 평균입경 및 함량을 특정 범위로 조절함으로써 목적으로 하는 반사율이 우수한, 특히 95% 이상인 백색필름이 제조됨을 확인하여 본 발명을 완성하였다.
이산화티탄은 그 제조방법에 따라 아나타제(Anatase) 및 루타일(Rutile), 브루카이트(Brookite)와 같은 세 가지의 결정구조를 가지게 된다. 이는 황산법 또는 염소법으로 이산화티탄을 제조할 때 상전이에 의해 그 결정구조가 바뀌게 되며 루타일 형태의 이산화티탄이 좀 더 촘촘한 결정구조 및 상대적으로 높은 굴절률을 가진다. 이는 X-Ray의 결정 구조 패턴을 통해 확인할 수 있다. 또한 루타일 입자가 자외선에 대한 흡수 능력이 있어서 바람직하다.
한편, 공극 형성에 의한 반사계면 메카니즘은 공극 반사 계면에서의 빛의 산란 뿐 아니라 내부로의 굴절에 의한 광손실이 있어 반사율의 효율이 떨어지는 반면, 루틸 형태의 이산화티탄은 2.7의 높은 굴절률을 가지고 있어 PET (굴절률 1.6)와의 차이에 의해 강한 산란성을 얻을 수 있다.
이때, 필름 내 분산을 잘 시켜 폴리에스테르와 입자 간 반사계면의 수를 효율적으로 늘려야 함과 동시에 입자와 폴리에스테르 매트릭스 간 친화력을 높혀 공극의 생성을 억제해야 한다. 왜냐하면 친화력이 떨어질수록 연신 과정에서 공극이 생성되며 이 생성된 공극으로 인해 빛의 반사 효율이 떨어진다. 이를 달성하기 위하여 이산화티탄 표면을 유기 처리하는 것이 바람직하다. 이때 입자 주위를 소수성물질(hydrophobic) 또는 친수성(hydrophilic) 코팅을 하는데 친수성물질(hydrophilic) 코팅의 경우 입자가 수분에 매우 취약하기 때문에 컴파운딩 마스터배치 제조 시 입자의 뭉침에 의해 가공성이 매우 떨어지며 컴파운딩 시 수분에 의한 마스터배치의 열분해를 가속화시켜 점도의 하락을 가져온다. 이러한 점도가 낮은 마스터배치를 필름에 투입 적용할 경우 필름이 연신과정에서 쉽게 파단이 나며 필름이 제조 된다고 하도라도 기계적 물성이 매우 나쁘게 된다.
또한, BLU용 광학 기재필름으로 사용되기 위해서는 백색 필름의 우수한 내광성이 요구된다. CCFL 이나 LED 광원에 의해 빛에 노출되게 돼는 이산화티탄 입자는 광에 의한 활성에너지가 높아져 전자를 방출하게 되며 주위 수분에 의해 -OH 라디칼을 형성하여 폴리에스테르 필름의 분해를 촉진시킨다. 그 결과 광원에 장시간 노출된 필름은 황변도가 증가하고 반사 효율이 떨어지면서 결국 휘도가 떨어지게 된다. 따라서 이러한 이산화티탄의 광활성을 억제하기 위해서는 표면을 실리카, 알루미나, 지르코니아 등의 무기물로 피복 처리하는 것이 바람직하다.
본 발명에서는 특히, 유기물 및 무기물로 표면처리된 루타일형 이산화티탄의 평균입경이 0.1 ~ 0.5㎛인 것을 사용하고, 필름 내 10 ~ 30 중량%로 포함하는데 특징이 있다.
보다 구체적으로, 유기물 및 무기물로 표면처리된 루타일형 이산화티탄의 평균 입경은 0.1 ~ 0.5㎛인 것이 적정하며, 바람직하게는 0.12 ~ 0.47㎛인 것이 특히 바람직하다. 이산화티탄의 광반사가 최대로 발휘되는 입경의 사이즈는 가시광선(400~800nm)파장의 반이다. 따라서 이산화티탄의 입경은 0.1 ~ 0.5㎛, 보다 바람직하게는 0.12 ~ 0.47㎛, 특히 바람직하게는 0.2 ~ 0.4㎛인 것이 바람직하다. 일반적으로 이산화티탄의 굴절률과 폴리에스테르 수지의 굴절률 차이에 의해 입자와 폴리머수지 계면에서의 굴절에 의해 필름이 높은 백색도를 가지게 되는데, 입경이 0.1㎛미만인 경우, 동일 함량에서 상대적으로 많은 수의 반사계면을 가지는 측면에서는 유리하지만 이산화티탄 입자의 응집이 잘 일어나 분산이 어렵고 입자의 뭉침에 의해 실제적인 반사계면의 수가 증가하지는 않는다. 또한 컴파운딩 가공 및 필름 제막 시 필터가 자주 막히는 문제가 있다. 입경이 0.5㎛을 초과하게 되면, 가시광 영역에 있어서의 광반사율이 떨어지는 문제가 있을 뿐만 아니라 필름의 표면조도가 높아져 경도가 높은 루타일형 이산화티탄 입자로 인한 필름 제조 연신 공정 중의 연신롤 표면의 손상을 유래하며 표면조도의 상승으로 인한 필름의 광택 또한 떨어진다.
또한, 이러한 루타일형 이산화티탄의 필름 내 함량은 10 ~ 30 중량%가 적정하며, 바람직하게는 12 ~ 28 중량%, 더욱 바람직하게는 14 ~ 25 중량% 범위가 바람직하다. 10 중량% 미만일 경우는 루타일형 이산화티탄이라 하더라도 충분한 은폐력 및 반사율을 얻을 수 없고, 30 중량%를 초과하게 되는 경우 충분한 은폐력은 얻을 수 있지만 오히려 강한 산란광이 영향을 주어 광의 로스로 인해 반사율이 증가하지 못하거나 일부 떨어지는 현상이 나타난다. 또한 공극을 형성하는 입자가 아니라 하도라도 조업성이 불량하여 생산성이 떨어지는 문제가 있다.
또한, 상기 루타일형 이산화티탄은 유기물 및 무기물로 표면처리된 것을 사용하는데 특징이 있다. 상기 유기물은 소수성 물질인 것이 바람직하고, 상기 소수성 물질은 폴리실록산계, 폴리올레핀계, 퍼플루오로계폴리머 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
상기 무기물은 금속산화물인 것이 바람직하며, 알루미나, 실리카, 지르코니아 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 무기물의 평균입경은 제한되지 않으나 표면처리된 이산화티탄의 평균입경보다 작은 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.001 내지 0.2㎛인 것이 효과적이다.
상기 무기물의 평균입경이 0.001㎛ 미만일 경우에는 무기물의 표면처리 효과가 거의 나타나지 않으며, 0.2㎛초과일 경우에는 상대적으로 이산화티탄의 양이 작아져 반사율 및 휘도의 향상이 미미해질 수 있다.
소수성 물질로 표면처리하는 경우 컴파운딩 과정 중의 작업성이 안정적이며 입자의 분산이 뛰어날 뿐만 아니라 필름 연신 공정 시 폴리에스테르 매트릭스 수지와이 접착력이 좋아 공극의 발생이 어렵고 내가수분해성이나 내후성 등이 뛰어난 필름을 얻을 수 있다. 또한 Frenel 반사법칙에 의해 루타일형 이산화티탄과 폴리에스터와의 굴절률 차이가 크기 때문에 높은 반사율을 얻을 수 있고, 공극 생성에 의한 디펙트가 존재하지 않기 때문에 자외선, 수분 등에 대한 반사율의 감소, 백색도 감소 등의 현상이 크게 나타나지 않는 내광성이 매우 우수하며, 조업성이 우수한 필름을 제조할 수 있다.
반면, 친수성 물질이 코팅되는 경우 입자가 수분에 매우 취약하기 때문에 마스터배치 제조 시 입자의 뭉침에 의해 가공성이 매우 떨어지며 컴파운딩 시 수분에 의한 마스터배치의 열분해를 가속화시킬 수 있다. 이러한 마스터배치를 필름에 사용할 경우 필름의 내가수분해성이나 내후성(Weatherability)이 매우 떨어지며 황변도 심하게 일어날 수 있다.
상기 소수성 물질은 폴리실록산계, 폴리올레핀계, 퍼플루오로계폴리머 등을 사용할 수 있으며, 상기 소수성 물질의 표면 처리 함량은 표면 처리된 루타일형 이산화티탄 전체 중량 100 중량% 중, 1 ~ 10 중량%인 것이 바람직하다. 1 중량% 미만인 경우는 보이드 저하 효과가 미미하며, 10 중량%를 초과할 경우 이산화티탄의 양이 상대적으로 작아져 오히려 반사율 및 휘도의 상승을 기대하기 어렵다.
또한, 루타일형 이산화티탄의 광활성을 억제하기 위해서 표면을 실리카, 알루미나, 지르코니아 등의 무기물로 피복 처리하는 것이 바람직하며, 상기 무기물의 표면 처리 함량은 표면 처리된 루타일형 이산화티탄 전체 중량 100 중량% 중, 1 ~ 10 중량%인 것이 바람직하다. 1 중량% 미만인 경우는 광활성 억제 기능이 떨어져 반사율 및 휘도의 저하가 발생될 수 있으며, 10 중량%를 초과할 경우 이산화티탄의 양이 상대적으로 작아져 오히려 반사율 및 휘도의 상승을 기대하기 어렵다.
본 발명에서 상기 폴리에스테르는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용할 수 있으며, 보다 바람직하게는 고유점도가 0.60 ~ 1.20㎗/g인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용할 수 있다. 수지의 점도가 이 범위보다 낮으면 컴파운딩 과정에서 발생하는 열분해에 의해 점도가 더욱 떨어지게 되고 필름의 연신 배율을 높일 수가 없어 충분한 평활성 및 기계물성을 갖는 필름을 제조할 수가 없다. 또 수지의 점도가 이 범위를 초과하게 되면 컴파운딩 제조 공정이 힘들어질 뿐만 아니라 필름의 제조 시에도 제막라인의 필터압 상승을 가져와 작업성이 현저히 떨어진다.
본 발명의 백색필름을 제조 시 입자를 투입하는 방법은 통상의 백색필름 제조와 마찬가지로, 마스터배치를 제조하는 단계에서 투입하는 것도 가능하고, 폴리에스테르 중합 시에 첨가하는 것도 가능하다.
또한, 본 발명은 550nm에서 반사율이 95%이상이고, 상대 휘도가 98% 이상을 만족하는데 특징이 있다. 본 발명에서는 상기 물성을 모두 만족하는 범위에서 BLU 반사시트로 사용하기에 적합하다.
이하 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위하여 하기 일예를 들어 설명하는 바, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
이하 물성은 다음의 측정방법에 의해 측정하였다.
1. 반사율(%)
분광 광도계 (Varian社 UV Spectrophotometers Cary 5000)에 황산바륨 표준백색판을 100%라고 할 때의 상대 반사율로써, 550nm의 가시광선에서 측정한 값이다. 이때 측정각은 3°20"이고 검출기에서 시그널을 검출하는 평균 시간은 0.1s, 분석 데이터의 간격은 1nm, scan 속도는 600nm/min 이다.
2. 휘도(cd/㎡)
Side-bar 타입 에지형 (edge-lit) 17인치 백라이트 유닛의 확산 시트, 프리즘 시트를 모두 제거하고 최하단에 반사필름을 장착하여 그 위에 도광판을 얹고 휘도 측정기 BM-7을 이용하여 25℃로 유지된 환경하에서 점등 1시간 이상 경과 후 17인치 내에서 13point 각각의 값을 구한 후 평균값을 취하였다.
3. 상대휘도(%)
평가에는 데이진 듀폰사의 공압출 반사필름인 UXSP를 100이라고 했을 때의 상대값(%)을 사용하였다.
상대휘도(%) = 측정된 필름의 휘도(cd/㎡) / 데이진 듀폰사 UXSP의 휘도(1720cd/㎡) × 100
◎ (매우 양호 ; 상대 휘도 100% 이상), ○ (양호 ; 상대 휘도 98%이상 100% 미만), △ (약간 열악함 ; 상대 휘도 96% 이상 98% 미만), X (열악함 ; 상대 휘도 96% 미만) 로 구분하였다.
4. 조업성
티 다이를 통해 압출된 용융 수지는 30℃의 캐스팅 롤에 냉각되어 이후 95℃의 예열을 거쳐 종방향으로 3.0배 연신하고 이어 135℃의 연신온도에서 횡방향으로 3.0배 연신되었다. 필름의 최종 라인 스피드는 35.1m/m 이었다.
이때 조업성은 안정적으로 제막할 수 있는 것을 평가하였으며 하기 기준으로 평가하였다.
O : 파단 없이 12시간 이상 안정적으로 제막할 수 있다.
△ : 8시간 이상 12시간 미만 파단 없이 안정적으로 제막할 수 있다.
X : 8시간 이내에 파단 등이 발생하여 안정적으로 제막을 할 수 없다.
[실시예 1]
고유점도가 0.65㎗/g인 폴리에틸렌테레프탈레이트 50중량%와 소수성물질(중량평균분자량 5만인 폴리실록산, 입자 총 중량 중 2 중량%)과 평균입경 0.05㎛의 지르코니아(입자 총 중량 중 2 중량%)로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄 50중량%을 280℃에서 혼련하여 마스터배치를 제조하였다.
상기 마스터배치와 고유점도가 0.68㎗/g인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 하기 표 1과 같이 필름 내 입자 함량이 28 중량%가 되도록 혼합하여 압출기에 투입하여 285℃로 용융압출 하여 시트를 제조한 후, 종방향으로 3.0배, 횡방향으로 3.0배 연신하여 두께 188㎛인 필름을 제조하였다.
제조된 필름의 물성을 하기 표 2에 나타내었다.
[실시예 2 ~ 6]
소수성물질(중량평균분자량 5만인 폴리실록산, 입자 총 중량 중 2 중량%)과 평균입경 0.05㎛의 지르코니아(입자 총 중량 중 2 중량%)로 표면처리된 루타일형 이산화티탄의 평균입경 및 함량을 하기 표 1과 같이 변화한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
제조된 필름의 물성을 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 1]
무기입자로 평균입경이 0.3㎛인 황산바륨을 사용하였으며, 필름 내 20 중량% 포함되도록 하여 실시예 1과 같은 방법으로 제조하였다.
제조된 필름의 물성을 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 2]
무기입자로 평균입경이 0.5㎛인 탄산칼슘을 사용하였으며, 필름 내 20 중량% 포함되도록 하여 실시예 1과 같은 방법으로 제조하였다.
제조된 필름의 물성을 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 3]
하기 표 1과 같이 소수성 물질(중량평균분자량 5만인 폴리실록산, 입자 총 중량 중 2 중량%)로 표면 처리된 아나타제형 이산화티탄을 사용하였으며, 필름 내 12 중량% 포함되도록 하여 실시예 1과 같은 방법으로 제조하였다.
제조된 필름의 물성을 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 4 ~ 7]
소수성물질(중량평균분자량 5만인 폴리실록산, 입자 총 중량 중 2 중량%)과 평균입경 0.05㎛의 지르코니아(입자 총 중량 중 2 중량%)로 표면처리된 루타일형 이산화티탄의 평균입경 및 함량을 하기 표 1과 같이 변화한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.
제조된 필름의 물성을 하기 표 2에 나타내었다.
[비교예 8]
표면처리되지 않은 평균입경 0.12㎛인 루타일형 이산화티탄을 사용하였으며, 필름 내 28 중량% 포함되도록 하여 실시예 1과 같은 방법으로 제조하였다.
제조된 필름의 물성을 하기 표 2에 나타내었다.
[표 1]
[표 2]
상기 표 2에서 보이는 바와 같이, 소수성물질과 무기물로 동시에 표면처리된 루타일형 이산화티탄을 사용한 실시예 1 ~ 6에서 반사율이 95%이상이며, 상대휘도가 98% 이상이고, 조업성이 우수하여 모든 물성을 만족하므로 BLU 반사시트로 사용하기에 적합함을 알 수 있었다.
Claims (8)
- 폴리에스테르 수지와, 유기물 및 무기물로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄을 포함하며, 550nm에서의 반사율이 95%이상, 상대 휘도가 98% 이상인 단층 백색필름.
- 제 1항에 있어서,
상기 유기물 및 무기물로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄은 평균입경이 0.1 ~ 0.7㎛이고, 전체 중량 중 유기물 1 ~ 10 중량%, 무기물 1 ~ 10 중량%를 포함하는 것인 단층 백색필름.
- 제 2항에 있어서,
상기 유기물 및 무기물로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄이 10 ~ 30 중량% 로 포함되는 단층 백색필름.
- 제 3항에 있어서,
상기 백색필름은 반사율이 96 ~ 99%이고, 상대 휘도가 98 ~ 102%인 단층 백색필름.
- 제 3항에 있어서,
상기 유기물 및 무기물로 표면 처리된 루타일형 이산화티탄은 평균입경이 0.12 ~ 0.47㎛이고, 12 ~ 28 중량% 로 포함되는 단층 백색필름.
- 제 1항에 있어서,
상기 유기물은 소수성 물질이고, 상기 무기물은 금속산화물인 단층 백색필름.
- 제 6항에 있어서,
상기 소수성 물질은 폴리실록산, 폴리올레핀, 퍼플루오로폴리머에서 선택되고, 상기 금속산화물은 알루미나, 실리카, 지르코니아에서 선택되는 것인 단층 백색필름.
- 제 1항에 있어서,
상기 폴리에스테르는 폴리에틸렌테레프탈레이트인 단층 백색필름.
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CN117183535A (zh) * | 2023-11-02 | 2023-12-08 | 宁波长阳科技股份有限公司 | 一种高反射耐紫外的发泡间隙膜及其制备方法 |
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2012
- 2012-06-28 KR KR1020120070180A patent/KR20130077753A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN117183535A (zh) * | 2023-11-02 | 2023-12-08 | 宁波长阳科技股份有限公司 | 一种高反射耐紫外的发泡间隙膜及其制备方法 |
CN117183535B (zh) * | 2023-11-02 | 2024-02-09 | 宁波长阳科技股份有限公司 | 一种高反射耐紫外的发泡间隙膜及其制备方法 |
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