KR20130053974A - Light emitting device - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A light emitting device is provided to improve the reflection effect of light by using metal particles which is not oxidized in room temperature. CONSTITUTION: Metal particles(150) are arranged on a substrate. A light emitting structure(130) is arranged on the substrate and the metal particles. The light emitting structure includes a first semiconductor layer and a second semiconductor layer. An active layer(134) is arranged between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer. The metal particles form a cluster.

Description

발광 소자 {Light emitting device}Light emitting device

실시예는 발광 소자에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting device.

LED(Light Emitting Diode; 발광 다이오드)는 화합물 반도체의 특성을 이용해 전기 신호를 적외선, 가시광선 또는 빛의 형태로 변환시키는 소자로, 가정용 가전제품, 리모콘, 전광판, 표시기, 각종 자동화 기기 등에 사용되고, 점차 LED의 사용 영역이 넓어지고 있는 추세이다.LED (Light Emitting Diode) is a device that converts electrical signals into infrared, visible light or light using the characteristics of compound semiconductors. It is used in household appliances, remote controls, display boards, The use area of LED is becoming wider.

보통, 소형화된 LED는 PCB(Printed Circuit Board) 기판에 직접 장착하기 위해서 표면실장소자(Surface Mount Device)형으로 만들어지고 있고, 이에 따라 표시소자로 사용되고 있는 LED 램프도 표면실장소자 형으로 개발되고 있다. 이러한 표면실장소자는 기존의 단순한 점등 램프를 대체할 수 있으며, 이것은 다양한 칼라를 내는 점등표시기용, 문자표시기 및 영상표시기 등으로 사용된다.In general, miniaturized LEDs are made of a surface mounting device for mounting directly on a PCB (Printed Circuit Board) substrate, and an LED lamp used as a display device is also being developed as a surface mounting device type . Such a surface mount device can replace a conventional simple lighting lamp, which is used for a lighting indicator for various colors, a character indicator, an image indicator, and the like.

LED 반도체는 육방 정계의 구조를 갖는 사파이어(Sapphire)나 실리콘카바이드(SiC)등의 이종 기판에서 금속유기화학기상증착법(MOCVD) 또는 분자선 증착법(molecular beam epitaxy; MBE) 등의 공정을 통해 성장된다. LED semiconductors are grown by a process such as MOCVD or molecular beam epitaxy (MBE) on a substrate such as sapphire or silicon carbide (SiC) having a hexagonal system structure.

LED는 활성층에서 정공과 전자가 재결합하여 빛을 생성할 수 있다. 이 빛은 LED 내부에서 외부로 방출되지 못하고 내부에서 전반사로 인하여 열에너지로 변할 수 있다. 따라서, 빛에너지가 열에너지로 변하면서 생기는 광손실을 줄이기 위한 노력이 계속되고 있다. LEDs can generate light by recombination of holes and electrons in the active layer. This light is not emitted from the inside of the LED to the outside but can turn into thermal energy due to total internal reflection. Therefore, efforts have been made to reduce the light loss caused by the change of light energy into thermal energy.

사파이어(Sapphire) 기판 상에는 광추출 효율을 높이기 위하여 PSS(PSS : Patterned Sapphire SubStrate) 구조가 형성될 수 있다. 사파이어(Sapphire) 기판 상에 PSS 구조를 형성하는 경우 빛이 LED 내부에서 전반사로 인하여 손실되는 양을 최소화할 수 있다. PSS 구조 이외에도 반도체층의 상면에 요철 구조를 형성하여 광추출구조를 개선하는 노력 등이 계속되고 있다.A patterned sapphire substrate (PSS) structure may be formed on the sapphire substrate to increase light extraction efficiency. When forming a PSS structure on a sapphire substrate, the amount of light lost due to total reflection inside the LED can be minimized. In addition to the PSS structure, efforts have been made to improve the light extraction structure by forming an uneven structure on the upper surface of the semiconductor layer.

실시예는 기판 상에 금속 입자를 배치하여 빛의 반사를 일으켜 광추출효율이 향상된 발광소자를 제공한다.The embodiment provides a light emitting device in which light extraction efficiency is improved by disposing light particles by disposing metal particles on a substrate.

실시예에 따른 발광소자는 기판; 기판 상에 배치되는 금속 입자; 및 기판 및 금속 입자 상에 배치되며 제1 반도체층, 제2 반도체층 및 제1 반도체층과 제2 반도체층 사이에 배치되는 활성층을 포함하는 발광구조물;을 포함한다.The light emitting device according to the embodiment includes a substrate; Metal particles disposed on the substrate; And a light emitting structure disposed on the substrate and the metal particles, the light emitting structure including a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, and an active layer disposed between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.

실시예에 따른 발광소자는 기판 상에 금속 입자를 포함하여 빛의 반사를 통해 광추출효율을 개선할 수 있다.The light emitting device according to the embodiment may include metal particles on the substrate to improve light extraction efficiency through reflection of light.

실시예에 따른 발광소자는 금속 입자로 상온에서 쉽게 산화되지 않는 물질을 사용하여 빛의 반사효과를 높일 수 있다.The light emitting device according to the embodiment may increase the reflection effect of light by using a material that is not easily oxidized at room temperature as metal particles.

실시예에 따른 발광소자는 금속 입자가 열전도도가 높은 물질로 형성되어 반도체층 내부에 머물 수 있는 열에너지를 외부로 방출시키는데 도움이 될 수 있어 신뢰성이 개선될 수 있다.In the light emitting device according to the embodiment, the metal particles may be formed of a material having high thermal conductivity and may help to release thermal energy that may stay inside the semiconductor layer to the outside, thereby improving reliability.

실시에에 따른 발광소자는 금속 입자가 표면 플라즈몬 공명(Surface-plasmon resonance)을 일으킬 수 있는 물질로 형성되어 활성층에서 생성된 빛을 흡수하지 않고 반사시켜 광추출 효율이 극대화될 수 있다.In the light emitting device according to the embodiment, the metal particles may be formed of a material capable of causing surface plasmon resonance (Surface-plasmon resonance) to reflect light without absorbing the light generated in the active layer, thereby maximizing light extraction efficiency.

도 1 은 실시예에 따른 발광소자의 구조를 도시한 단면도,
도 2 는 실시예에 따른 발광소자의 일부를 도시한 단면도,
도 3a 는 실시예의 발광 소자를 포함한 발광소자 패키지를 나타낸 사시도,
도 3b 는 실시예의 발광 소자를 포함한 발광소자 패키지를 나타낸 단면도,
도 4a 는 실시예에 따른 발광소자 모듈을 포함하는 조명장치를 도시한 사시도,
도 4b 는 실시예에 따른 발광소자 모듈을 포함하는 조명장치를 도시한 단면도,
도 5 는 실시예에 따른 발광소자 모듈을 포함하는 백라이트 유닛을 도시한 분해 사시도, 그리고
도 6 은 실시예에 따른 발광소자 모듈을 포함하는 백라이트 유닛을 도시한 분해 사시도이다.
1 is a cross-sectional view showing the structure of a light emitting device according to the embodiment;
2 is a cross-sectional view showing a part of a light emitting device according to the embodiment;
3A is a perspective view showing a light emitting device package including a light emitting device of the embodiment;
3B is a cross-sectional view showing a light emitting device package including a light emitting device of the embodiment;
4A is a perspective view illustrating a lighting device including a light emitting device module according to an embodiment;
4B is a cross-sectional view showing a lighting apparatus including a light emitting device module according to an embodiment;
5 is an exploded perspective view illustrating a backlight unit including a light emitting device module according to an embodiment; and
6 is an exploded perspective view illustrating a backlight unit including a light emitting device module according to an embodiment.

실시예의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 내용들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 실시예는 이하에서 개시되는 사항들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 실시예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 그 권리범위는 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 따라서, 몇몇 실시예에서, 잘 알려진 공정 단계들, 잘 알려진 소자 구조 및 잘 알려진 기술들은 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 구체적으로 설명되지 않는다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Advantages and features of the embodiments, and methods of achieving them will become apparent with reference to the following detailed description in conjunction with the accompanying drawings. However, the embodiments are not limited to the matters disclosed below but may be embodied in various forms, and only the embodiments fully notify the person of ordinary skill in the art to which the embodiments belong. The scope of the rights is only defined by the scope of the claims. Thus, in some embodiments, well known process steps, well known device structures, and well known techniques are not described in detail in order to avoid unambiguous interpretation. Like reference numerals refer to like elements throughout.

실시 예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 “상(위) 또는 하(아래)(on or under)”으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐 만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiments, when described as being formed on an "on or under" of each element, the on or under is It includes both the two elements are in direct contact with each other or one or more other elements are formed indirectly between the two elements. In addition, when expressed as "on" or "under", it may include not only an upward direction but also a downward direction based on one element.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 권리범위를 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of scope. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. It is noted that the terms "comprises" and / or "comprising" used in the specification are intended to be inclusive in a manner similar to the components, steps, operations, and / Or additions.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 같은 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않은 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used in this specification (including technical and scientific terms) may be used as meanings that can be commonly understood by those skilled in the art. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.

도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기와 면적은 실제크기나 면적을 전적으로 반영하는 것은 아니다.The thickness and size of each layer in the drawings are exaggerated, omitted, or schematically shown for convenience and clarity of explanation. Also, the size and area of each component do not entirely reflect actual size or area.

비록 제1, 제2 등의 용어가 여러 가지 요소들, 성분들, 영역들, 층들 및/또는 지역들을 설명하기 위해 사용될 수 있지만, 이러한 요소들. 성분들. 영역들. 층들 및/또는 지역들은 이러한 용어에 의해 한정되어서는 안 될 것이다.Although the terms first, second, etc. may be used to describe various elements, components, regions, layers and / or regions, such elements. Ingredients. Areas. Layers and / or regions should not be limited by this term.

또한, 실시 예에서 발광소자의 구조를 설명하는 과정에서 언급하는 각도와 방향은 도면에 기재된 것을 기준으로 한다. 명세서에서 발광소자를 이루는 구조에 대한 설명에서, 각도에 대한 기준점과 위치관계를 명확히 언급하지 않은 경우, 관련 도면을 참조하도록 한다.Further, the angle and direction mentioned in the description of the structure of the light emitting device in the embodiment are based on those shown in the drawings. In the description of the structure of the light emitting device in the specification, reference points and positional relationship with respect to angles are not explicitly referred to, refer to the related drawings.

이하에서는 도면을 참조하여 실시예를 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the drawings.

도 1 은 일 실시예에 따른 발광소자의 구조를 나타낸 단면도이고, 도 2 는 일 실시예에 따른 발광소자의 일부를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a structure of a light emitting device according to one embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a part of a light emitting device according to an embodiment.

도 1 을 참조하면, 실시예에 따른 발광소자(100)는 기판(110), 기판(110) 상에 배치되는 금속 입자(150), 및 기판(110) 및 금속 입자(150) 상에 배치되며 제1 반도체층(132), 제2 반도체층(136) 및 제1 반도체층(132)과 제2 반도체층(136) 사이에 배치되는 활성층(134)을 포함하는 발광구조물을 포함한다.Referring to FIG. 1, the light emitting device 100 according to the embodiment is disposed on the substrate 110, the metal particles 150 disposed on the substrate 110, and the substrate 110 and the metal particles 150. The light emitting structure includes a first semiconductor layer 132, a second semiconductor layer 136, and an active layer 134 disposed between the first semiconductor layer 132 and the second semiconductor layer 136.

기판(110)은 제1 반도체층(132) 하부에 배치될 수 있다. 기판(110)은 제1 반도체층(132)을 지지할 수 있다. 기판(110)은 제1 반도체층(132)에서 열을 전달받을 수 있다. 기판(110)은 광 투과적 성질을 가질 수 있다. 기판(110)은 광 투과적 물질을 사용하거나, 일정두께 이하로 형성하는 경우 광 투과적 성질을 가질 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 예를 들어, 기판은 사파이어(Al2O3)로 형성될 수 있다. 기판(110)의 굴절율은 광 추출 효율을 위해 제1 반도체층(132)의 굴절율보다 작은 것이 바람직하다.The substrate 110 may be disposed under the first semiconductor layer 132. The substrate 110 may support the first semiconductor layer 132. The substrate 110 may receive heat from the first semiconductor layer 132. The substrate 110 may have a light transmissive property. The substrate 110 may have a light transmissive property when using a light transmissive material or formed below a predetermined thickness, but is not limited thereto. For example, the substrate may be formed of sapphire (Al 2 O 3 ). The refractive index of the substrate 110 is preferably smaller than the refractive index of the first semiconductor layer 132 for light extraction efficiency.

기판(110)은 실시예에 따라 반도체 물질로 형성될 수 있으며, 예를 들어, 규소(Si), 게르마늄(Ge), 비소화갈륨(GaAs), 산화아연(ZnO), 실리콘카바이드(SiC), 실리콘게르마늄(SiGe), 질화갈륨(GaN), 갈륨(Ⅲ)옥사이드(Ga2O3)와 같은 캐리어 웨이퍼로 구현될 수 있다.The substrate 110 may be formed of a semiconductor material according to an embodiment, for example, silicon (Si), germanium (Ge), gallium arsenide (GaAs), zinc oxide (ZnO), silicon carbide (SiC), It may be implemented as a carrier wafer such as silicon germanium (SiGe), gallium nitride (GaN), gallium (III) oxide (Ga 2 O 3 ).

기판(110)은 실시예에 따라 전도성 물질로 형성될 수 있다. 실시예에 따라서 금속으로 형성될 수 있으며, 예를 들어 금(Au), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 탄탈륨(Ta), 은(Ag), 백금(Pt), 크롬(Cr)중에서 선택된 어느 하나로 형성하거나 둘 이상의 합금으로 형성할 수 있으며, 위 물질 중 둘 이상의 물질을 적층하여 형성할 수 있다. 기판(110)이 금속으로 형성된 경우 발광 소자에서 발생하는 열의 방출을 용이하게 하여 발광 소자의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다.The substrate 110 may be formed of a conductive material according to an embodiment. According to the embodiment, the metal may be formed of, for example, gold (Au), nickel (Ni), tungsten (W), molybdenum (Mo), copper (Cu), aluminum (Al), tantalum (Ta), or silver. It may be formed of any one selected from (Ag), platinum (Pt), chromium (Cr) or formed of two or more alloys, and may be formed by stacking two or more of the above materials. When the substrate 110 is formed of a metal, the thermal stability of the light emitting device may be improved by facilitating the emission of heat generated from the light emitting device.

기판(110)은 광 추출 효율을 높이기 위해서, 상면에 PSS(Patterned Substrate) 구조를 구비할 수 있다.The substrate 110 may include a patterned substrate (PSS) structure on an upper surface of the substrate 110 to increase light extraction efficiency.

기판(110)의 상면 구조를 확대한 도 2 를 참조하면, 기판(110)은 발광소자(100)에서 발생하는 열의 방출을 용이하게 하여 발광소자(100)의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다. 기판(110)은 제1 반도체층(132)과 격자상수의 차이가 존재하여 제1 반도체층(132)과의 사이에 격자상수 차이를 완화시키는 층을 구비할 수 있다.Referring to FIG. 2 in which the top structure of the substrate 110 is enlarged, the substrate 110 may facilitate heat emission from the light emitting device 100, thereby improving thermal stability of the light emitting device 100. The substrate 110 may include a layer in which a difference between the first semiconductor layer 132 and the lattice constant exists so as to alleviate the lattice constant difference between the first semiconductor layer 132 and the first semiconductor layer 132.

기판(110)은 상면에 PSS 구조를 구비하여 돌출되어 형성되는 돌출부(112)와 함몰되어 형성되는 함몰부(114)가 형성될 수 있다. 기판(110)은 상면에 돌출부(112)와 함몰부(114)가 연속적으로 형성될 수 있다.The substrate 110 may have a recess 114 formed by recessing the protrusion 112 formed to protrude and have a PSS structure on an upper surface thereof. The substrate 110 may have a protrusion 112 and a recess 114 formed on the top surface thereof.

기판(110)의 상면에는 금속 입자(150)가 배치될 수 있다. 기판(110)의 함몰부(114)에 금속 입자(150)가 배치될 수 있다. 돌출부(112)의 사이에 금속 입자(150)가 배치될 수 있다. 금속 입자(150)는 버퍼층(120)의 내부에 배치될 수 있다. 금속 입자(150)는 버퍼층(120)에 둘러싸일 수 있다. 복수의 금속 입자(150)의 사이에는 버퍼층(120)을 형성하는 물질들이 배치될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다.The metal particles 150 may be disposed on the upper surface of the substrate 110. The metal particles 150 may be disposed in the recesses 114 of the substrate 110. The metal particles 150 may be disposed between the protrusions 112. The metal particles 150 may be disposed in the buffer layer 120. The metal particles 150 may be surrounded by the buffer layer 120. Materials forming the buffer layer 120 may be disposed between the plurality of metal particles 150, but embodiments are not limited thereto.

금속 입자(150)는 발광소자(100)에서 흡수하는 여기광의 파장대역 중 특정 파장대의 광을 선택적으로 공진 흡수할 수 있다. 금속 입자(150)는 특정파장의 공진 흡수를 통해서 표면 플라즈몬 공진(Surface plasmon resonance)을 유도할 수 있다. 금속 입자(150)는 발광소자(100)의 여기파장광과 같은 파장대역에 해당하는 공진주파수를 갖도록 형성될 수 있다. 금속 입자(150)는 크기와 형상을 조절하여 공진주파수를 조절할 수 있다. 금속 입자(150)는 상온에서 산화되는 정도가 적은 물질로 형성될 수 있다.The metal particles 150 may selectively absorb and absorb light of a specific wavelength band among the wavelength bands of the excitation light absorbed by the light emitting device 100. The metal particles 150 may induce surface plasmon resonance through resonance absorption of a specific wavelength. The metal particles 150 may be formed to have a resonance frequency corresponding to the same wavelength band as the excitation wavelength light of the light emitting device 100. The metal particles 150 may adjust the resonant frequency by adjusting the size and shape. The metal particles 150 may be formed of a material having a low degree of oxidation at room temperature.

금속 입자(150)는 금(Au), 은(Ag) 및 구리(Cu) 중에 한가지 물질일 수 있다. 금속 입자(150)는 금(Au), 은(Ag) 및 구리(Cu) 중에 한가지 물질로 형성되어 표면 플라즈몬 공명(SPR : Surface Plasmon Resonance)현상을 일으킬 수 있다.The metal particles 150 may be one of gold (Au), silver (Ag), and copper (Cu). The metal particles 150 may be formed of one of gold (Au), silver (Ag), and copper (Cu) to cause surface plasmon resonance (SPR).

표면 플라즈몬 공명(Surface plasmon resonance)은 금속으로 형성된 입자와 유전율이 다른 물질의 계면에서 자유 전자와 빛의 상호작용에 기인하여 발생할 수 있는 것으로, 이러한 공명은 형성된 계면에서 유전 물질의 광자에 의해 운송된 에너지가 금속에 존재하는 자유 전자의 집합적 전이로 이동될 때 발생한다.Surface plasmon resonance can occur due to the interaction of free electrons and light at the interface of materials with different dielectric constants with particles formed from metals, which are carried by photons of the dielectric material at the interface formed. It occurs when energy is transferred to the collective transition of free electrons present in the metal.

즉, 표면 플라즈몬은 금속 표면에서 일어나는 전자들의 집단적 진동(collective charge density oscillation)이며, 이에 의해 발생한 표면 플라즈몬 파는 금속 입자(150)와 유전율이 다른 물질의 계면을 따라 진행하는 표면 전자기파이다.That is, the surface plasmon is a collective charge density oscillation of electrons occurring on the metal surface, and the surface plasmon wave generated by this is surface electromagnetic waves traveling along the interface of the material having a different dielectric constant from the metal particles 150.

한편, 광에 의해 여기 되어 형성된 표면 플라즈몬 파는 금속이 평평한 면을 갖는 경우에는, 금속 표면으로부터 내부 또는 외부로 전파되지 않는 특징이 있다. 따라서, 표면 플라즈몬 파를 빛으로 외부에 방출시킬 필요가 있는바, 금속 입자(150)는 구 형상을 가져, 발생한 플라즈몬 파를 빛으로 용이하게 방출할 수 있다.On the other hand, the surface plasmon wave formed by being excited by light is characterized in that it does not propagate from the metal surface to the inside or the outside when the metal has a flat surface. Therefore, it is necessary to emit the surface plasmon wave to the outside, the metal particle 150 has a spherical shape, it can be easily emitted to the generated plasmon wave to the light.

금속 입자(150)를 형성하는 금속은, 외부 자극에 의해 전자의 방출이 쉽고 음의 유전상수를 갖는 금, 은 및 구리 중 적어도 어느 하나로 형성되는 것이 바람직하다. 금속 입자(150)는 상온에서의 산화도가 낮은 금속일 수 있다. 복수개의 금속 입자(150)는 빛을 다각도로 반사시키기 위해서 서로 이격될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 금속 입자(150)는 PSS 구조의 사이사이에 배치되어 PSS구조와 시너지 효과를 발휘하여 광추출 효율을 극대화할 수 있다.The metal forming the metal particles 150 is preferably formed of at least one of gold, silver, and copper having an easy to release of electrons by an external magnetic pole and having a negative dielectric constant. The metal particle 150 may be a metal having a low oxidation degree at room temperature. The plurality of metal particles 150 may be spaced apart from each other to reflect light at various angles, but is not limited thereto. The metal particles 150 may be disposed between the PSS structures to exert synergistic effects with the PSS structures to maximize light extraction efficiency.

금속 입자(150)는 클러스터(cluster)를 형성할 수 있다. 금속 입자(150)는 클러스터의 크기가 4 내지 100 nm 일 수 있다.. 금속 입자(150)의 폭이 4nm 이하인 경우는 발광소자(100)에서 발생하는 빛의 파장에 대하여 표면 플라즈몬 공명을 만들 수 있는 공진주파수를 갖기 어렵고, 금속 입자(150)의 폭이 100nm 이상이 되는 경우에는 함몰부(114)에 많은 수의 금속 입자(150)가 배치되기가 어려워져 광추출 효율 향상의 효과가 저감될 수 있다.The metal particles 150 may form a cluster. The metal particles 150 may have a cluster size of 4 to 100 nm. When the width of the metal particles 150 is 4 nm or less, surface plasmon resonance may be generated with respect to the wavelength of light generated from the light emitting device 100. It is difficult to have a resonant frequency, and when the width of the metal particles 150 is 100 nm or more, it is difficult to arrange a large number of metal particles 150 in the depression 114, so that the effect of improving the light extraction efficiency can be reduced. Can be.

금속 입자(150)는 항산화 처리, 예를 들면, 하이드라진(Hydrazine) 처리될 수 있다. 금속 입자(150)는 강력한 항산화제로 전처리될 수 있다. 금속 입자(150)는 N2H5 용액으로 환원될 수 있다. 즉, 기판(110) 상에 금속막을 형성하고 이를 N2H5 용액으로 린싱(rinsing)하여 금속막으로부터 금속 입자(150)를 형성할 수 있다. N2H5 용액은 물(H20)에 희석된 것일 수 있다. N2H5 용액은 물에 희석되는 경우, N2H5 의 비율은 58% 이상일 수 있다. 금속 입자(150)는 항산화 처리되어 반사효율이 더 향상될 수 있다.The metal particles 150 may be treated with an antioxidant, for example, hydrazine. The metal particles 150 may be pretreated with a strong antioxidant. The metal particles 150 may be reduced to an N 2 H 5 solution. That is, a metal film may be formed on the substrate 110 and rinsed with a N 2 H 5 solution to form the metal particles 150 from the metal film. The N 2 H 5 solution may be diluted in water (H 2 0). When the N 2 H 5 solution is diluted in water, the proportion of N 2 H 5 may be at least 58%. The metal particles 150 may be antioxidized to further improve reflection efficiency.

금속 입자(150)는 저압의 조건에서도 증기가 발생하지 않아서 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition) 장비 내에서 물질이 엉켜 발광소자(100) 제조공정에 차질이 되는 우려를 없앨 수 있다.Since the metal particles 150 do not generate steam even under low pressure conditions, the material may be entangled in the MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) equipment, thereby eliminating the possibility of disruption in the manufacturing process of the light emitting device 100.

버퍼층(120)은 기판(110)과 제1 반도체층(132) 사이에 배치될 수 있다. 버퍼층(120)은 질화갈륨(GaN), 질화인듐(InN), 질화알루미늄(AlN), 알루미늄인듐나이트라이드(AlInN), 인듐갈륨나이트라이드(InGaN), 알루미늄갈륨나이트라이드(AlGaN), 및 인듐알루미늄갈륨나이트라이드(InAlGaN) 중의 하나 이상의 물질로 형성될 수 있으나, 그 종류에 한정되지 아니한다. 버퍼층(120)은 기판(110) 상에 단결정으로 성장될 수 있다.The buffer layer 120 may be disposed between the substrate 110 and the first semiconductor layer 132. The buffer layer 120 includes gallium nitride (GaN), indium nitride (InN), aluminum nitride (AlN), aluminum indium nitride (AlInN), indium gallium nitride (InGaN), aluminum gallium nitride (AlGaN), and indium aluminum It may be formed of one or more materials of gallium nitride (InAlGaN), but is not limited thereto. The buffer layer 120 may be grown as a single crystal on the substrate 110.

버퍼층(120)은 기판(110)과 제1 반도체층(132) 사이의 격자부정합을 완화할 수 있다. 버퍼층(120)은 상면에 제1 반도체층(132)이 용이하게 성장될 수 있도록 할 수 있다. 버퍼층(120)은 상면에 배치되는 제1 반도체층(132)의 결정성을 향상시킬 수 있다. 버퍼층(120)은 기판(110)과 제1 반도체층(132) 사이의 격자상수 차이를 완화시켜 줄 수 있는 물질로 이루어 질 수 있다.The buffer layer 120 may mitigate lattice mismatch between the substrate 110 and the first semiconductor layer 132. The buffer layer 120 may allow the first semiconductor layer 132 to be easily grown on the top surface. The buffer layer 120 may improve crystallinity of the first semiconductor layer 132 disposed on the top surface. The buffer layer 120 may be made of a material that can alleviate the lattice constant difference between the substrate 110 and the first semiconductor layer 132.

버퍼층(120)은 기판의 함몰부(114)에 배치될 수 있다. 버퍼층(120)은 복수의 금속 입자(150)의 사이에 배치될 수 있다. 버퍼층(120)은 금속 입자(150)와 돌출부(112)의 사이에 배치될 수 있다. 즉, 버퍼층(120)은 금속 입자(150)를 덮도록 형성할 수 있다. 버퍼층(120)은 금속 입자(150)를 서로 이격시키거나 집중시키는 정도를 조절할 수 있다. 버퍼층(120)은 복수의 금속 입자(150)를 서로 이격시켜 활성층에서 생성된 빛을 여러가지 방향으로 반사시켜 광추출 효율을 향상시킬 수 있다. The buffer layer 120 may be disposed in the recess 114 of the substrate. The buffer layer 120 may be disposed between the plurality of metal particles 150. The buffer layer 120 may be disposed between the metal particles 150 and the protrusion 112. That is, the buffer layer 120 may be formed to cover the metal particles 150. The buffer layer 120 may adjust the degree of spaced or concentrated metal particles 150 from each other. The buffer layer 120 may improve light extraction efficiency by reflecting light generated in the active layer in various directions by separating the plurality of metal particles 150 from each other.

제1 반도체층(132)은 기판(110) 상에 배치될 수 있다. 제1 반도체층(132)은 기판(110)과의 격자상수 차이를 정합시키기 위해 버퍼층(120) 상에 배치될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 제1 반도체층(132)은 기판(110) 상에서 성장될 수 있다.The first semiconductor layer 132 may be disposed on the substrate 110. The first semiconductor layer 132 may be disposed on the buffer layer 120 to match the difference in lattice constant with the substrate 110, but is not limited thereto. The first semiconductor layer 132 may be grown on the substrate 110.

지지기판(110)의 상에는 발광구조물(130)이 형성될 수 있다. The light emitting structure 130 may be formed on the support substrate 110.

발광구조물(130)은 제1 반도체층(132), 활성층(134) 및 제2 반도체층(136)을 포함할 수 있고, 제1 반도체층(132)과 제2 반도체층(136) 사이에 활성층(134)이 개재된 구성으로 이루어질 수 있다.The light emitting structure 130 may include a first semiconductor layer 132, an active layer 134, and a second semiconductor layer 136, and an active layer between the first semiconductor layer 132 and the second semiconductor layer 136. 134 may be configured to be interposed.

제1 반도체층(132)은 n형 반도체층으로 구현될 수 있으며, 상기 n형 반도체층은 예컨데, InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN(Gallium nitride), AlN(Aluminium nitride), AlGaN(Aluminium gallium nitride), InGaN(Indium gallium nitride), InN(Indium nitride), InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있다. 제1 반도체층(132)은 예를 들어, 규소(Si), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 셀레늄(Se), 텔루늄(Te)와 같은 n형 도펀트가 도핑될 수 있다. The first semiconductor layer 132 may be implemented as an n-type semiconductor layer, and the n-type semiconductor layer may be, for example, In x Al y Ga 1 -x- y N (0≤x≤1, 0≤y≤1, A semiconductor material having a composition formula of 0 ≦ x + y ≦ 1, for example, gallium nitride (GaN), aluminum nitride (AlN), aluminum gallium nitride (AlGaN), indium gallium nitride (InGaN), indium nitride (InN), InAlGaN, AlInN and the like can be selected. For example, the first semiconductor layer 132 may be doped with n-type dopants such as silicon (Si), germanium (Ge), tin (Sn), selenium (Se), and tellurium (Te).

활성층(134)은 제1 반도체층(132) 상에 형성될 수 있다. 활성층(134)은 3족-5족 원소의 화합물 반도체 재료를 이용하여 단일 또는 다중 양자 우물 구조, 양자 선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 등으로 형성될 수 있다.The active layer 134 may be formed on the first semiconductor layer 132. The active layer 134 may be formed of a single or multiple quantum well structure, a quantum-wire structure, a quantum dot structure, or the like by using a compound semiconductor material of a group 3 to 5 element.

활성층(134)이 양자우물구조로 형성된 경우 예컨데, InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 우물층과 InaAlbGa1 -a- bN (0≤a≤1, 0≤b≤1, 0≤a+b≤1)의 조성식을 갖는 장벽층을 갖는 단일 또는 양자우물구조를 갖을 수 있다. 상기 우물층은 상기 장벽층의 밴드 갭보다 작은 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.Well active layer 134 has a composition formula in this case formed of a quantum well structure, for example, In x Al y Ga 1 -x- y N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x + y≤1) It may have a single or quantum well structure having a layer and a barrier layer having a compositional formula of In a Al b Ga 1 -a- b N ( 0≤a≤1, 0≤b≤1, 0≤a + b≤1). have. The well layer may be formed of a material having a band gap smaller than the band gap of the barrier layer.

활성층(134)의 위 또는/및 아래에는 도전성 클래드층(미도시)이 형성될 수 있고, 상기 도전성 클래드층(미도시)은 AlGaN계 반도체로 형성될 수 있으며, 활성층(134)의 밴드 갭보다는 큰 밴드 갭을 가질 수 있다.A conductive clad layer (not shown) may be formed on or under the active layer 134, and the conductive clad layer (not shown) may be formed of an AlGaN-based semiconductor, rather than a band gap of the active layer 134. It can have a large band gap.

제2 반도체층(136)은 활성층(134) 상에 형성될 수 있다. 제2 반도체층(136)은 p형 도펀트가 도핑된 p형 반도체층으로 구현될 수 있다. 제2 반도체층(136)은 InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN(Gallium nitride), AlN(Aluminium nitride), AlGaN(Aluminium gallium nitride), InGaN(Indium gallium nitride), InN(Indium nitride), InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있으며 마그네슘(Mg), 아연(Zn), 칼슘(Ca), 스트론튬(Sr), 바륨(Ba) 등의 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.The second semiconductor layer 136 may be formed on the active layer 134. The second semiconductor layer 136 may be implemented as a p-type semiconductor layer doped with a p-type dopant. The second semiconductor layer 136 is a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ x + y ≦ 1), for example, GaN ( Gallium nitride), aluminum nitride (AlN), aluminum gallium nitride (AlGaN), indium gallium nitride (InGaN), indium nitride (InN), InAlGaN, AlInN, etc., and magnesium (Mg), zinc (Zn), calcium ( P-type dopants such as Ca), strontium (Sr), and barium (Ba) may be doped.

제1 반도체층(132), 활성층(134) 및 제2 반도체층(136)은 예를 들어, 유기금속 화학 증착법(MOCVD; Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 화학 증착법(CVD; Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 화학 증착법(PECVD; Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), 분자선 성장법(MBE; Molecular Beam Epitaxy), 수소화물 기상 성장법(HVPE; Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first semiconductor layer 132, the active layer 134, and the second semiconductor layer 136 may be formed of, for example, metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), chemical vapor deposition (CVD), or plasma. Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), Molecular Beam Epitaxy (MBE), Hydride Vapor Phase Epitaxy (HVPE), etc. It is not limited.

발광구조물(130)은 제1 반도체층(132) 및 제2 반도체층(136) 내의 도전형 도펀트의 도핑 농도가 균일 또는 불균일하게 형성될 수 있으나, 이에 한정하지 아니한다. 발광구조물(130)의 층간구조는 다양하게 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지 아니한다.The light emitting structure 130 may have a uniform or non-uniform doping concentration of the conductive dopants in the first semiconductor layer 132 and the second semiconductor layer 136, but is not limited thereto. The interlayer structure of the light emitting structure 130 may be variously formed, but is not limited thereto.

발광구조물(130)은 제2 반도체층(136)상에 제2 반도체층(136)과 반대의 극성을 갖는 제3 반도체층(미도시)을 포함할 수 있다. 발광구조물(130)은 제1 반도체층(132)이 n 형 반도체층이고, 제2 반도체층(136)이 p 형 반도체층으로 구현될 수도 있다. 이에 따라, 발광구조물(130)은 N-P 접합, P-N 접합, N-P-N 접합 및 P-N-P 접합 구조 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The light emitting structure 130 may include a third semiconductor layer (not shown) having a polarity opposite to that of the second semiconductor layer 136 on the second semiconductor layer 136. In the light emitting structure 130, the first semiconductor layer 132 may be an n-type semiconductor layer, and the second semiconductor layer 136 may be implemented as a p-type semiconductor layer. Accordingly, the light emitting structure 130 may include at least one of an N-P junction, a P-N junction, an N-P-N junction, and a P-N-P junction structure.

제2 반도체층(136) 상에는 투광성 전극층(140)이 배치될 수 있다. The transparent electrode layer 140 may be disposed on the second semiconductor layer 136.

투광성 전극층(140)은 ITO, IZO(In-ZnO), GZO(Ga-ZnO), AZO(Al-ZnO), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), IrOx, RuOx, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au 및 Ni/IrOx/Au/ITO 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으며, 제2 반도체층(136)의 상부에 형성됨으로써, 전류군집현상을 방지할 수 있다.The transparent electrode layer 140 is formed of ITO, IZO (In-ZnO), GZO (Ga-ZnO), AZO (Al-ZnO), AGZO (Al-Ga ZnO), IGZO (In-Ga ZnO), IrO x , RuO x , RuO x / ITO, Ni / IrO x / Au, and Ni / IrO x / Au / ITO, and may be formed, and formed on the second semiconductor layer 136 to prevent current grouping. can do.

활성층(130)과 제2 반도체층(136) 및 투광성 전극층(140)의 일부가 제거되어 제1 반도체층(120)의 일부가 노출되고, 노출된 제1 반도체층(120) 상면에는 제1 전극(160)이 형성될 수 있다. 제2 반도체층(136)의 상면에 제2 전극(170) 이 형성될 수 있다. 제2 전극(170)은, 투광성 전극층(140)의 일부가 제거되고 제2 반도체층(136)의 일부가 노출되어서 제2 반도체층(136)에 연결되거나, 또는 투광성 전극층(140)에 연결되어 제2 반도체층(136)과 전기적으로 연결될 수 있다.A portion of the active layer 130, the second semiconductor layer 136, and the transparent electrode layer 140 are removed to expose a portion of the first semiconductor layer 120, and a first electrode is disposed on the exposed upper surface of the first semiconductor layer 120. 160 may be formed. The second electrode 170 may be formed on the upper surface of the second semiconductor layer 136. The second electrode 170 is connected to the second semiconductor layer 136 by removing a portion of the transparent electrode layer 140 and exposing a portion of the second semiconductor layer 136, or is connected to the transparent electrode layer 140. It may be electrically connected to the second semiconductor layer 136.

또한, 제2 반도체층(136) 상에는 제2 전극(170)이 배치될 수 있다. 제2 반도체층(136)은 제2 전극(170)으로부터 전류를 제공받을 수 있다. 제2 반도체층(136)의 상면에는 광 추출 구조가 형성될 수 있다.In addition, the second electrode 170 may be disposed on the second semiconductor layer 136. The second semiconductor layer 136 may receive a current from the second electrode 170. A light extraction structure may be formed on the top surface of the second semiconductor layer 136.

한편, 제1 및 2 전극(160, 170)은 전도성 물질, 예를 들어 In, Co, Si, Ge, Au, Pd, Pt, Ru, Re, Mg, Zn, Hf, Ta, Rh, Ir, W, Ti, Ag, Cr, Mo, Nb, Al, Ni, Cu, 및 WTi 중에서 선택된 금속을 포함할 수 있으며, 또는 이들의 합금을 포함할 수 있고, 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며 이에 한정하지 아니한다.Meanwhile, the first and second electrodes 160 and 170 may be conductive materials, for example, In, Co, Si, Ge, Au, Pd, Pt, Ru, Re, Mg, Zn, Hf, Ta, Rh, Ir, W It may include a metal selected from Ti, Ag, Cr, Mo, Nb, Al, Ni, Cu, and WTi, or may include an alloy thereof, may be formed in a single layer or multiple layers, but is not limited thereto. .

도 3a는 실시예에 따른 발광소자를 포함한 발광소자 패키지를 나타낸 사시도이며, 도 3b는 실시예에 따른 발광소자를 포함한 발광소자 패키지의 단면을 도시한 단면도이다.3A is a perspective view illustrating a light emitting device package including a light emitting device according to an embodiment, and FIG. 3B is a cross-sectional view illustrating a cross section of a light emitting device package including a light emitting device according to an embodiment.

도 3a 및 도 3b 를 참조하면, 실시예에 따른 발광소자 패키지(300)는 캐비티가 형성된 몸체(310), 몸체(310)에 실장된 제1 및 제2 전극(340, 350) 제1 및 제2 전극과 전기적으로 연결되는 발광소자(320) 및 캐비티에 형성되는 봉지재(330)를 포함할 수 있고, 봉지재(330)는 형광체(미도시)를 포함할 수 있다.3A and 3B, a light emitting device package 300 according to an embodiment of the present invention includes a body 310 having a cavity formed therein, first and second electrodes 340 and 350 mounted on the body 310, A light emitting device 320 electrically connected to the two electrodes, and an encapsulant 330 formed in the cavity. The encapsulant 330 may include a phosphor (not shown).

몸체(310)는 폴리프탈아미드(PPA:Polyphthalamide)와 같은 수지 재질, 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 알루미늄 나이트라이드(AlN), 액정폴리머(PSG, photo sensitive glass), 폴리아미드9T(PA9T), 신지오택틱폴리스티렌(SPS), 금속 재질, 사파이어(Al2O3), 베릴륨 옥사이드(BeO), 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board), 세라믹 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 몸체(310)는 사출 성형, 에칭 공정 등에 의해 형성될 수 있으나 이에 대해 한정하지는 않는다.The body 310 may be made of a resin material such as polyphthalamide (PPA), silicon (Si), aluminum (Al), aluminum nitride (AlN), photo sensitive glass (PSG), polyamide 9T ), new geo-isotactic polystyrene (SPS), metal materials, sapphire (Al 2 O 3), beryllium oxide (BeO), is a printed circuit board (PCB, printed circuit board), it may be formed of at least one of ceramic. The body 310 may be formed by injection molding, etching, or the like, but is not limited thereto.

몸체(310)의 내측면은 경사면이 형성될 수 있다. 이러한 경사면의 각도에 따라 발광소자(320)에서 방출되는 광의 반사각이 달라질 수 있으며, 이에 따라 외부로 방출되는 광의 지향각을 조절할 수 있다. The inner surface of the body 310 may be formed with an inclined surface. The reflection angle of the light emitted from the light emitting device 320 can be changed according to the angle of the inclined surface, and thus the directivity angle of the light emitted to the outside can be adjusted.

몸체(310)에 형성되는 캐비티를 위에서 바라본 형상은 원형, 사각형, 다각형, 타원형 등의 형상일 수 있으며, 특히 모서리가 곡선인 형상일 수도 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The shape of the cavity formed in the body 310 as viewed from above may be circular, rectangular, polygonal, elliptical, or the like, and in particular, may have a curved shape, but is not limited thereto.

봉지재(330)는 캐비티에 충진될 수 있으며, 형광체(미도시)를 포함할 수 있다. 봉지재(330)는 투명한 실리콘, 에폭시, 및 기타 수지 재질로 형성될 수 있으며, 캐비티 내에 충진한 후, 이를 자외선 또는 열 경화하는 방식으로 형성될 수 있다. The encapsulant 330 may be filled in the cavity and may include a phosphor (not shown). The encapsulant 330 may be formed of transparent silicone, epoxy, and other resin materials, and may be formed by filling in a cavity and then ultraviolet or thermal curing.

형광체(미도시)는 발광소자(320)에서 방출되는 광의 파장에 따라 종류가 선택되어 발광소자 패키지(300)가 백색광을 구현하도록 할 수 있다.The phosphor (not shown) may be selected according to the wavelength of the light emitted from the light emitting device 320 to allow the light emitting device package 300 to realize white light.

봉지재(330)에 포함되어 있는 형광체(미도시)는 발광소자(320)에서 방출되는 광의 파장에 따라 청색 발광 형광체, 청록색 발광 형광체, 녹색 발광 형광체, 황녹색 발광 형광체, 황색 발광 형광체, 황적색 발광 형광체, 오렌지색 발광 형광체, 및 적색 발광 형광체중 하나가 적용될 수 있다. The fluorescent material (not shown) included in the encapsulant 330 may be a blue light emitting phosphor, a blue light emitting fluorescent material, a green light emitting fluorescent material, a yellow green light emitting fluorescent material, a yellow light emitting fluorescent material, Fluorescent material, orange light-emitting fluorescent material, and red light-emitting fluorescent material may be applied.

즉, 형광체(미도시)는 발광소자(320)에서 방출되는 제1 빛을 가지는 광에 의해 여기 되어 제2 빛을 생성할 수 있다. 예를 들어, 발광소자(320)가 청색 발광 다이오드이고 형광체(미도시)가 황색 형광체인 경우, 황색 형광체는 청색 빛에 의해 여기되어 황색 빛을 방출할 수 있으며, 청색 발광 다이오드에서 발생한 청색 빛 및 청색 빛에 의해 여기 되어 발생한 황색 빛이 혼색됨에 따라 발광소자 패키지(300)는 백색 빛을 제공할 수 있다. That is, the phosphor (not shown) may be excited by the light having the first light emitted from the light emitting device 320 to generate the second light. For example, when the light emitting element 320 is a blue light emitting diode and the phosphor (not shown) is a yellow phosphor, the yellow phosphor may be excited by blue light to emit yellow light, and blue light emitted from the blue light emitting diode As the yellow light generated by excitation by blue light is mixed, the light emitting device package 300 can provide white light.

이와 유사하게, 발광소자(320)가 녹색 발광 다이오드인 경우는 magenta 형광체 또는 청색과 적색의 형광체(미도시)를 혼용하는 경우, 발광소자(320)가 적색 발광 다이오드인 경우는 Cyan형광체 또는 청색과 녹색 형광체를 혼용하는 경우를 예로 들 수 있다.Similarly, when the light emitting device 320 is a green light emitting diode, a magenta phosphor or blue and red phosphors (not shown) are mixed, and when the light emitting device 320 is a red light emitting diode, a cyan phosphor or blue light is used. The case where a green fluorescent substance is mixed is mentioned as an example.

이러한 형광체(미도시)는 YAG계, TAG계, 황화물계, 실리케이트계, 알루미네이트계, 질화물계, 카바이드계, 니트리도실리케이트계, 붕산염계, 불화물계, 인산염계 등의 공지된 것일 수 있다.Such phosphors (not shown) may be known such as YAG-based, TAG-based, sulfide-based, silicate-based, aluminate-based, nitride-based, carbide-based, nitridosilicate-based, borate-based, fluoride-based, and phosphate-based compounds.

한편, 몸체(310)에는 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)이 실장될 수 있다. 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 발광소자(320)와 전기적으로 연결되어 발광소자(320)에 전원을 공급할 수 있다.Meanwhile, the first electrode 340 and the second electrode 350 may be mounted on the body 310. The first electrode 340 and the second electrode 350 may be electrically connected to the light emitting device 320 to supply power to the light emitting device 320.

제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 서로 전기적으로 분리되며, 발광소자(320)에서 발생된 빛을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수 있고, 또한 발광소자(320)에서 발생된 열을 외부로 배출시킬 수 있다.The first electrode 340 and the second electrode 350 are electrically separated from each other, and may reflect light generated from the light emitting device 320 to increase light efficiency, and also generate heat generated from the light emitting device 320. Can be discharged to the outside.

도 3b 에는 발광소자(320)가 제1 전극(350) 상에 실장되었으나, 이에 한정되지 않으며, 발광소자(320)와 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 와이어 본딩(wire bonding) 방식, 플립 칩(flip chip) 방식 또는 다이 본딩 방식 중 어느 하나에 의해 전기적으로 연결될 수도 있다.Although the light emitting device 320 is mounted on the first electrode 350 in FIG. 3B, the present invention is not limited thereto, and the light emitting device 320, the first electrode 340, and the second electrode 350 may be wire bonded. May be electrically connected by any one of the following methods, a flip chip method, and a die bonding method.

이러한 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 금속 재질, 예를 들어, 티타늄(Ti), 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn), 은(Ag), 인(P), 알루미늄(Al), 인듐(In), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 루테늄(Ru), 철(Fe) 중에서 하나 이상의 물질 또는 합금을 포함할 수 있다. 또한, 제1 전극(340) 및 제2 전극(350)은 단층 또는 다층 구조를 가지도록 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first electrode 340 and the second electrode 350 are made of a metal material, for example, titanium (Ti), copper (Cu), nickel (Ni), gold (Au), chromium (Cr), and tantalum ( Ta, platinum (Pt), tin (Sn), silver (Ag), phosphorus (P), aluminum (Al), indium (In), palladium (Pd), cobalt (Co), silicon (Si), germanium ( Ge), hafnium (Hf), ruthenium (Ru), iron (Fe) may include one or more materials or alloys. In addition, the first electrode 340 and the second electrode 350 may be formed to have a single layer or a multi-layer structure, but is not limited thereto.

발광소자(320)는 제1 전극(340) 상에 실장되며, 예를 들어, 적색, 녹색, 청색, 백색 등의 빛을 방출하는 발광소자 또는 자외선을 방출하는 UV(Ultra Violet) 발광소자일 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 또한, 발광소자(320)는 한 개 이상 실장될 수 있다.The light emitting device 320 may be mounted on the first electrode 340 and may be, for example, a light emitting device emitting light of red, green, blue, white, or UV (ultraviolet) light emitting device emitting ultraviolet light. However, the present invention is not limited thereto. In addition, one or more light emitting devices 320 may be mounted.

또한, 발광소자(320)는 그 전기 단자들이 모두 상부 면에 형성된 수평형 타입(Horizontal type)이거나, 또는 상, 하부 면에 형성된 수직형 타입(Vertical type), 또는 플립 칩(flip chip) 모두에 적용 가능하다.Further, the light emitting device 320 may be a horizontal type in which all of its electrical terminals are formed on an upper surface, or a vertical type or flip chip formed on an upper and a lower surface. Applicable

한편, 발광소자(320)는 기판(미도시)의 상면에 돌출부(미도시)와 함몰부(미도시)가 형성되고 함몰부(미도시)에 금속 입자(미도시)를 배치하며 빛의 반사효과와 표면 플라즈몬 공명의 효과로 인하여 광추출효율이 향상될 수 있고, 발광소자(320) 및 발광소자 패키지(300)의 발광 효율이 개선될 수 있다.On the other hand, the light emitting device 320 has a protrusion (not shown) and a depression (not shown) is formed on the upper surface of the substrate (not shown), the metal particles (not shown) are disposed on the depression (not shown) and the reflection of light Due to the effect and the effect of surface plasmon resonance, the light extraction efficiency may be improved, and the light emission efficiency of the light emitting device 320 and the light emitting device package 300 may be improved.

실시예에 따른 발광소자 패키지(300)는 복수개가 기판 상에 어레이되며, 발광소자 패키지(300)의 광 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다.A light guide plate, a prism sheet, a diffusion sheet, and the like, which are optical members, may be disposed on a light path of the light emitting device package 300.

이러한 발광소자 패키지(300), 기판, 광학 부재는 라이트 유닛으로 기능할 수 있다. 또 다른 실시 예는 상술한 실시 예들에 기재된 발광소자(100) 또는 발광소자 패키지(300)를 포함하는 표시 장치, 지시 장치, 조명 시스템으로 구현될 수 있으며, 예를 들어, 조명 시스템은 램프, 가로등을 포함할 수 있다. The light emitting device package 300, the substrate, and the optical member may function as a light unit. Another embodiment may be implemented as a display device, an indicator device, or a lighting system including the light emitting device 100 or the light emitting device package 300 described in the above embodiments, for example, the lighting system may be a lamp, a street lamp. It may include.

도 4a는 실시예에 따른 발광소자를 포함하는 조명 시스템을 도시한 사시도이며, 도 4b는 도 4a의 조명 시스템의 D-D' 단면을 도시한 단면도이다.4A is a perspective view illustrating a lighting system including a light emitting device according to an embodiment, and FIG. 4B is a cross-sectional view illustrating a cross-sectional view taken along line D-D 'of the lighting system of FIG. 4A.

즉, 도 4b 는 도 4a의 조명 시스템(400)을 길이방향(Z)과 높이방향(X)의 면으로 자르고, 수평방향(Y)으로 바라본 단면도이다.4B is a cross-sectional view of the illumination system 400 of FIG. 4A cut in the longitudinal direction Z and the height direction X and viewed in the horizontal direction Y. FIG.

도 4a 및 도 4b를 참조하면, 조명 시스템(400)은 몸체(410), 몸체(410)와 체결되는 커버(430) 및 몸체(410)의 양단에 위치하는 마감캡(450)을 포함할 수 있다.4A and 4B, the lighting system 400 may include a body 410, a cover 430 coupled to the body 410, and a finishing cap 450 positioned at opposite ends of the body 410 have.

몸체(410)의 하부면에는 발광소자 모듈(440)이 체결되며, 몸체(410)는 발광소자 패키지(444)에서 발생한 열이 몸체(410)의 상부면을 통해 외부로 방출할 수 있도록 전도성 및 열발산 효과가 우수한 금속재질로 형성될 수 있고, 이에 한정하지 아니한다.The lower surface of the body 410 is fastened to the light emitting device module 440, the body 410 is conductive and so that the heat generated from the light emitting device package 444 can be discharged to the outside through the upper surface of the body 410 The heat dissipation effect may be formed of an excellent metal material, but is not limited thereto.

특히, 발광소자 패키지(444)는 발광소자(미도시)를 포함하며, 발광소자(미도시)는 기판(미도시)의 상면에 돌출부(미도시)와 함몰부(미도시)가 형성되고 함몰부(미도시)에 금속 입자(미도시)를 배치하며 빛의 반사효과와 표면 플라즈몬 공명의 효과로 인하여 광추출효율이 향상될 수 있고, 발광소자 패키지(444) 및 조명 시스템(400)의 발광 효율이 개선될 수 있다.In particular, the light emitting device package 444 includes a light emitting device (not shown), and the light emitting device (not shown) is formed with a protrusion (not shown) and a recessed portion (not shown) on an upper surface of the substrate (not shown). Metal particles (not shown) may be disposed in the portion (not shown), and light extraction efficiency may be improved due to light reflection effects and surface plasmon resonance effects, and light emission of the light emitting device package 444 and the lighting system 400 may be performed. Efficiency can be improved.

발광소자 패키지(444)는 기판(442) 상에 다색, 다열로 실장되어 모듈을 이룰 수 있으며, 동일한 간격으로 실장되거나 또는 필요에 따라서 다양한 이격 거리를 가지고 실장될 수 있어 밝기 등을 조절할 수 있다. 이러한 기판(442)으로 MCPCB(Metal Core PCB) 또는 FR4 재질의 PCB 를 사용할 수 있다.The light emitting device package 444 may be mounted on the substrate 442 in multiple colors and in multiple rows to form a module. The light emitting device package 444 may be mounted at the same interval or may be mounted at various separation distances as necessary to adjust brightness. As the substrate 442, a metal core PCB (MCPCB) or a PCB made of FR4 may be used.

커버(430)는 몸체(410)의 하부면을 감싸도록 원형의 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않음은 물론이다.The cover 430 may be formed in a circular shape to surround the lower surface of the body 410, but is not limited thereto.

커버(430)는 내부의 발광소자 모듈(440)을 외부의 이물질 등으로부터 보호한다. 또한, 커버(430)는 발광소자 패키지(444)에서 발생한 광의 눈부심을 방지하고, 외부로 광을 균일하게 방출할 수 있도록 확산입자를 포함할 수 있으며, 또한 커버(430)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 프리즘 패턴 등이 형성될 수 있다. 또한 커버(430)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 형광체가 도포될 수도 있다. The cover 430 protects the light emitting device module 440 from the outside and the like. In addition, the cover 430 may include diffusing particles to prevent glare of the light generated from the light emitting device package 444 and to uniformly emit light to the outside, and may also include at least one of an inner surface and an outer surface of the cover 430. A prism pattern or the like may be formed on either side. In addition, a phosphor may be applied to at least one of an inner surface and an outer surface of the cover 430.

한편, 발광소자 패키지(444)에서 발생하는 광은 커버(430)를 통해 외부로 방출되므로, 커버(430)는 광투과율이 우수하여야 하며, 발광소자 패키지(444)에서 발생하는 열에 견딜 수 있도록 충분한 내열성을 구비하고 있어야 하는 바, 커버(430)는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylen?Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC), 또는 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl Methacrylate; PMMA) 등을 포함하는 재질로 형성되는 것이 바람직하다.On the other hand, since the light generated from the light emitting device package 444 is emitted to the outside through the cover 430, the cover 430 should be excellent in the light transmittance, sufficient to withstand the heat generated in the light emitting device package 444 The cover 430 should be provided with heat resistance, and the cover 430 is made of a material including polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), or the like. It is preferably formed.

마감캡(450)은 몸체(410)의 양단에 위치하며 전원장치(미도시)를 밀폐하는 용도로 사용될 수 있다. 또한 마감캡(450)에는 전원 핀(452)이 형성되어 있어, 실시예에 따른 조명 시스템(400)은 기존의 형광등을 제거한 단자에 별도의 장치 없이 곧바로 사용할 수 있게 된다.Closing cap 450 is located at both ends of the body 410 may be used for sealing the power supply (not shown). In addition, the closing cap 450 has a power pin 452 is formed, the lighting system 400 according to the embodiment can be used immediately without a separate device in the terminal from which the existing fluorescent lamps are removed.

도 5는 실시예에 따른 발광소자를 포함하는 액정 표시 장치의 분해 사시도이다.5 is an exploded perspective view of a liquid crystal display including the light emitting device according to the embodiment.

도 5는 에지-라이트 방식으로, 액정 표시 장치(500)는 액정표시패널(510)과 액정표시패널(510)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(570)을 포함할 수 있다.5 is an edge-light method, and the liquid crystal display 500 may include a liquid crystal display panel 510 and a backlight unit 570 for providing light to the liquid crystal display panel 510.

액정표시패널(510)은 백라이트 유닛(570)으로부터 제공되는 광을 이용하여 화상을 표시할 수 있다. 액정표시패널(510)은 액정을 사이에 두고 서로 대향하는 컬러 필터 기판(512) 및 박막 트랜지스터 기판(514)을 포함할 수 있다.The liquid crystal display panel 510 may display an image by using light provided from the backlight unit 570. The liquid crystal display panel 510 may include a color filter substrate 512 and a thin film transistor substrate 514 facing each other with a liquid crystal interposed therebetween.

컬러 필터 기판(512)은 액정표시패널(510)을 통해 디스플레이되는 화상의 색을 구현할 수 있다.The color filter substrate 512 may implement colors of an image displayed through the liquid crystal display panel 510.

박막 트랜지스터 기판(514)은 구동 필름(517)을 통해 다수의 회로부품이 실장되는 인쇄회로기판(518)과 전기적으로 접속되어 있다. 박막 트랜지스터 기판(514)은 인쇄회로기판(518)으로부터 제공되는 구동 신호에 응답하여 인쇄회로기판(518)으로부터 제공되는 구동 전압을 액정에 인가할 수 있다.The thin film transistor substrate 514 is electrically connected to the printed circuit board 518 on which a plurality of circuit components are mounted through the driving film 517. The thin film transistor substrate 514 may apply a driving voltage provided from the printed circuit board 518 to the liquid crystal in response to a driving signal provided from the printed circuit board 518.

박막 트랜지스터 기판(514)은 유리나 플라스틱 등과 같은 투명한 재질의 다른 기판상에 박막으로 형성된 박막 트랜지스터 및 화소 전극을 포함할 수 있다. The thin film transistor substrate 514 may include a thin film transistor and a pixel electrode formed of a thin film on another substrate of a transparent material such as glass or plastic.

백라이트 유닛(570)은 빛을 출력하는 발광소자 모듈(520), 발광소자 모듈(520)로부터 제공되는 빛을 면광원 형태로 변경시켜 액정표시패널(510)로 제공하는 도광판(530), 도광판(530)으로부터 제공된 빛의 휘도 분포를 균일하게 하고 수직 입사성을 향상시키는 다수의 필름(550, 566, 564) 및 도광판(530)의 후방으로 방출되는 빛을 도광판(530)으로 반사시키는 반사 시트(540)로 구성된다.The backlight unit 570 may convert the light provided from the light emitting device module 520, the light emitting device module 520 into a surface light source, and provide the light guide plate 530 to the liquid crystal display panel 510. Reflective sheet for reflecting the light emitted from the rear of the light guide plate 530 and the plurality of films 550, 566, 564 to uniform the luminance distribution of the light provided from the 530 and improve the vertical incidence ( 540.

발광소자 모듈(520)은 복수의 발광소자 패키지(524)와 복수의 발광소자 패키지(524)가 실장되어 모듈을 이룰 수 있도록 PCB기판(522)을 포함할 수 있다.The light emitting device module 520 may include a PCB substrate 522 so that a plurality of light emitting device packages 524 and a plurality of light emitting device packages 524 may be mounted to form a module.

특히, 발광소자 패키지(524)는 발광소자(미도시)를 포함하며, 발광소자(미도시)는 기판(미도시)의 상면에 돌출부(미도시)와 함몰부(미도시)가 형성되고 함몰부(미도시)에 금속 입자(미도시)를 배치하며 빛의 반사효과와 표면 플라즈몬 공명의 효과로 인하여 광추출효율이 향상될 수 있고, 발광소자 패키지(524) 및 백라이트 유닛(570)의 발광 효율이 개선될 수 있다.In particular, the light emitting device package 524 includes a light emitting device (not shown), and the light emitting device (not shown) is formed with a protrusion (not shown) and a recessed portion (not shown) on an upper surface of the substrate (not shown). By disposing a metal particle (not shown) in the portion (not shown), the light extraction efficiency can be improved due to the reflection effect of light and the effect of surface plasmon resonance, and the light emission of the light emitting device package 524 and the backlight unit 570 Efficiency can be improved.

한편, 백라이트유닛(570)은 도광판(530)으로부터 입사되는 빛을 액정 표시 패널(510) 방향으로 확산시키는 확산필름(566)과, 확산된 빛을 집광하여 수직 입사성을 향상시키는 프리즘필름(550)으로 구성될 수 있으며, 프리즘필름(550)를 보호하기 위한 보호필름(564)을 포함할 수 있다.Meanwhile, the backlight unit 570 includes a diffusion film 566 for diffusing light incident from the light guide plate 530 toward the liquid crystal display panel 510, and a prism film 550 for condensing the diffused light to improve vertical incidence. ), And may include a protective film 564 to protect the prism film 550.

도 6은 실시예에 따른 발광소자를 포함하는 액정 표시 장치의 분해 사시도이다. 다만, 도 5에서 도시하고 설명한 부분에 대해서는 반복하여 상세히 설명하지 않는다.6 is an exploded perspective view of a liquid crystal display including the light emitting device according to the embodiment. However, the parts shown and described in Fig. 5 are not repeatedly described in detail.

도 6 은 직하 방식으로, 액정 표시 장치(600)는 액정표시패널(610)과 액정표시패널(610)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(670)을 포함할 수 있다.6 illustrates a direct method, the liquid crystal display 600 may include a liquid crystal display panel 610 and a backlight unit 670 for providing light to the liquid crystal display panel 610.

액정표시패널(610)은 도 5 에서 설명한 바와 동일하므로, 상세한 설명은 생략한다.Since the liquid crystal display panel 610 is the same as that described with reference to FIG. 5, detailed description is omitted.

백라이트 유닛(670)은 복수의 발광소자 모듈(623), 반사시트(624), 발광소자 모듈(623)과 반사시트(624)가 수납되는 하부 섀시(630), 발광소자 모듈(623)의 상부에 배치되는 확산판(640) 및 다수의 광학필름(660)을 포함할 수 있다.The backlight unit 670 may include a plurality of light emitting device modules 623, a reflective sheet 624, a lower chassis 630 in which the light emitting device modules 623 and the reflective sheet 624 are accommodated, and an upper portion of the light emitting device module 623. It may include a diffusion plate 640 and a plurality of optical film 660 disposed in the.

발광소자 모듈(623) 복수의 발광소자 패키지(622)와 복수의 발광소자 패키지(622)가 실장되어 모듈을 이룰 수 있도록 PCB기판(621)을 포함할 수 있다.LED Module 623 A plurality of light emitting device packages 622 and a plurality of light emitting device packages 622 may be mounted to include a PCB substrate 621 to form a module.

특히, 발광소자 패키지(622)는 발광소자(미도시)를 포함하며, 발광소자(미도시)는 기판(미도시)의 상면에 돌출부(미도시)와 함몰부(미도시)가 형성되고 함몰부(미도시)에 금속 입자(미도시)를 배치하며 빛의 반사효과와 표면 플라즈몬 공명의 효과로 인하여 광추출효율이 향상될 수 있고, 발광소자 패키지(622) 및 백라이트 유닛(670)의 발광 효율이 개선될 수 있다.In particular, the light emitting device package 622 includes a light emitting device (not shown), and the light emitting device (not shown) is formed with a protrusion (not shown) and a depression (not shown) formed on an upper surface of the substrate (not shown). By disposing a metal particle (not shown) in the portion (not shown), the light extraction efficiency can be improved due to the reflection effect of light and the effect of surface plasmon resonance, and the light emission of the light emitting device package 622 and the backlight unit 670 Efficiency can be improved.

반사 시트(624)는 발광소자 패키지(622)에서 발생한 빛을 액정표시패널(610)이 위치한 방향으로 반사시켜 빛의 이용 효율을 향상시킨다.The reflective sheet 624 reflects the light generated from the light emitting device package 622 in the direction in which the liquid crystal display panel 610 is positioned to improve light utilization efficiency.

한편, 발광소자 모듈(623)에서 발생한 빛은 확산판(640)에 입사하며, 확산판(640)의 상부에는 광학 필름(660)이 배치된다. 광학 필름(660)은 확산 필름(666), 프리즘필름(650) 및 보호필름(664)를 포함하여 구성된다.On the other hand, the light generated from the light emitting device module 623 is incident on the diffusion plate 640, the optical film 660 is disposed on the diffusion plate 640. The optical film 660 includes a diffusion film 666, a prism film 650, and a protective film 664.

실시예에 따른 발광소자는 상기한 바와 같이 설명된 실시예들의 구성과 방법이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.The configuration and the method of the embodiments described above are not limitedly applied, but the embodiments may be modified so that all or some of the embodiments are selectively combined so that various modifications can be made. .

이상에서는 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어져서는 안될 것이다Although the preferred embodiments have been illustrated and described above, the invention is not limited to the specific embodiments described above, and does not depart from the gist of the invention as claimed in the claims. Various modifications can be made by the person who has them, and these modifications should not be understood individually from the technical idea or the prospect of the present invention.

110: 기판 120: 버퍼층
130: 발광구조물 132: 제1 반도체층
134: 활성층 136: 제2 반도체층
140: 투광성 전극층 150 : 금속 입자
160: 제1 전극 170 : 제2 전극
110: substrate 120: buffer layer
130: light emitting structure 132: first semiconductor layer
134: active layer 136: second semiconductor layer
140: translucent electrode layer 150: metal particles
160: first electrode 170: second electrode

Claims (10)

기판;
상기 기판 상에 배치되는 금속 입자; 및
상기 기판 및 상기 금속 입자 상에 배치되며 제1 반도체층, 제2 반도체층 및 상기 제1 반도체층과 상기 제2 반도체층 사이에 배치되는 활성층을 포함하는 발광구조물;을 포함하는 발광소자.
Board;
Metal particles disposed on the substrate; And
And a light emitting structure disposed on the substrate and the metal particles, the light emitting structure including a first semiconductor layer, a second semiconductor layer, and an active layer disposed between the first semiconductor layer and the second semiconductor layer.
제1항에 있어서,
상기 금속 입자는 Au, Ag 및 Cu 중에 하나인 발광소자.
The method of claim 1,
The metal particle is a light emitting device of one of Au, Ag and Cu.
제1항에 있어서,
상기 금속 입자는 클러스터(cluster)를 형성할 수 있고, 상기 클러스터의 크기는 4 내지 100 nm 인 발광소자.
The method of claim 1,
The metal particles may form a cluster (cluster), the size of the cluster is 4 to 100 nm light emitting device.
제1항에 있어서,
상기 기판의 상면에는 돌출부와 함몰부가 형성되는 발광소자.
The method of claim 1,
A light emitting device is provided with a protrusion and a depression on the upper surface of the substrate.
제4항에 있어서,
상기 금속 입자는 상기 함몰부에 배치되는 발광소자.
5. The method of claim 4,
The metal particles are disposed in the recess.
제1항에 있어서,
상기 발광구조물과 상기 기판 사이에 배치되는 버퍼층을 더 포함하는 발광소자.
The method of claim 1,
The light emitting device further comprises a buffer layer disposed between the light emitting structure and the substrate.
제1항에 있어서,
상기 기판의 상면에는 돌출부와 함몰부가 형성되고
상기 버퍼층은 상기 전극입자와 상기 돌출부의 사이에 배치되는 발광소자.
The method of claim 1,
Protrusions and depressions are formed on the upper surface of the substrate,
The buffer layer is a light emitting device disposed between the electrode particles and the protrusion.
제1항에 있어서,
금속 입자는 상기 버퍼층에 둘러싸이는 발광소자.
The method of claim 1,
The metal particles are surrounded by the buffer layer.
제1항에 있어서,
상기 버퍼층은 상기 함몰부에 배치되는 발광소자.
The method of claim 1,
The buffer layer is disposed in the recess.
제1항에 있어서,
상기 금속 입자는 상기 활성층에서 발생하는 빛의 특정파장과 공진하는 발광소자.
The method of claim 1,
The metal particle resonates with a specific wavelength of light generated in the active layer.
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