KR20130039882A - Apparatus for cleaning substrate - Google Patents

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KR20130039882A
KR20130039882A KR1020110104525A KR20110104525A KR20130039882A KR 20130039882 A KR20130039882 A KR 20130039882A KR 1020110104525 A KR1020110104525 A KR 1020110104525A KR 20110104525 A KR20110104525 A KR 20110104525A KR 20130039882 A KR20130039882 A KR 20130039882A
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KR
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cleaning
magnetic force
substrate
body portion
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KR1020110104525A
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Korean (ko)
Inventor
도대용
최홍림
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세메스 주식회사
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes

Abstract

PURPOSE: A substrate cleaning apparatus is provided to conveniently attach or detach a body unit to or from a brush unit by using magnetic force and to reduce replacement time. CONSTITUTION: A rotation shaft(500) delivers rotation force. A body part(100) includes a magnetic force unit(130) and a fixing unit(150). The fixing unit is protruded from the second surface of the body part. A cleaning unit(300) includes a brush unit(310) for removing foreign substances and a connection unit(320) for the magnetic force unit. The cleaning unit is combined with the body part and rotates to remove foreign substances from the substrate.

Description

기판 세정 장치{APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE} Substrate cleaning device {APPARATUS FOR CLEANING SUBSTRATE}

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게, 디스크 브러쉬를 포함하는 세정 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate cleaning apparatus. More particularly, the present invention relates to a cleaning apparatus including a disk brush.

최근에 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이 장치로는 액정 디스플레이 장치, 유기 EL 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 장치 등과 같은 다양한 종류가 있다.Recently, with the rapid development of semiconductor technology, the use of a flat display device that is light and occupies a small space is rapidly increasing. There are various kinds of flat panel display devices such as liquid crystal display devices, organic EL display devices, plasma display devices, and the like.

이와 같은 평판 디스플레이 장치는 유리 또는 석영 재질로 이루어진 대면적의 기판 상에 다층의 박막 및 배선 패턴을 포함하는데, 기판 상에 박막 및 패턴을 형성하기 위해서는 증착, 베이킹, 식각, 및 세정 등의 다양한 공정이 요구된다.Such a flat panel display apparatus includes a multi-layered thin film and a wiring pattern on a large-area substrate made of glass or quartz, and various processes such as deposition, baking, etching, and cleaning may be used to form the thin film and the pattern on the substrate. Is required.

이들 공정들 중에서 세정 공정은 기판 상에 붙어 있는 먼지나 유기물 등을 제거하기 위해 수행된다. 이러한 세정 공정은 브러쉬를 이용하는 세정공정과, 탈이온수를 사용하여 기판을 세정하는 수세 공정과, 공기를 분사하여 기판에 부착된 탈이온수를 제거하는 건조 공정을 포함한다.Among these processes, a cleaning process is performed to remove dust, organic matter, and the like on the substrate. Such washing steps include a washing step using a brush, a washing step of washing the substrate using deionized water, and a drying step of blowing air to remove deionized water attached to the substrate.

이 같은 공정들 중 브러쉬를 이용한 세정 공정은, 기판 세정 장치에 의해 행해지며, 기판 세정 장치로 이송된 기판은 상하로 배치된 브러쉬 사이를 통과하면서 브러쉬의 모에 의해 세정된다.Among these processes, a cleaning process using a brush is performed by a substrate cleaning apparatus, and the substrate transferred to the substrate cleaning apparatus is cleaned by the bristles of the brush while passing between the brushes arranged up and down.

상기 브러쉬는 반복된 세정 공정으로 마모되는 소모성 유닛이며, 이물질이 상기 브러쉬에 붙을 경우, 기판에 손상을 야기할 수 있으므로 교체가 요구된다. The brush is a consumable unit that is worn out by a repeated cleaning process, and if foreign matter adheres to the brush, replacement may be required since it may cause damage to the substrate.

이에, 본 발명의 기술적 과제는 이러한 점에서 착안된 것으로 본 발명의 목적은 브러쉬의 세척 및 교체가 필요한 경우 브러쉬를 용이하게 교체 가능한 기판 세정 장치를 제공한다.Accordingly, the technical problem of the present invention has been conceived in this respect, the object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus that can easily replace the brush when the brush needs to be cleaned and replaced.

본 발명에 따른 기판 세정 장치는 회전축, 몸체부 및 세정부를 포함한다. 상기 회전축은 회전력을 전달하며, 상기 몸체부의 제1면은 상기 회전축과 연결되고, 상기 몸체부의 제1 면의 반대 면인 제2 면 상에 자력을 가지는 자력 유닛 및 원심력에 의한 미끄러짐을 방지하기 위한 고정유닛이 형성된다. 상기 세정부는 상기 자력 유닛의 자력에 의해 결합되는 결합 유닛 및 상기 고정 유닛과 결합하여 고정되는 결착 유닛을 포함하며, 상기 몸체부와 결합하여 회전 운동함으로써 기판의 이물질을 세정한다.The substrate cleaning apparatus according to the present invention includes a rotating shaft, a body portion and a cleaning portion. The rotating shaft transmits a rotational force, the first surface of the body portion is connected to the rotating shaft, the magnetic force unit having a magnetic force on the second surface opposite to the first surface of the body portion and fixed to prevent slipping by centrifugal force The unit is formed. The cleaning unit includes a coupling unit coupled by a magnetic force of the magnetic force unit and a binding unit fixed in combination with the fixed unit, and combine with the body to clean the foreign matter of the substrate.

본 발명의 일 실시예에서, 상기 고정 유닛은 상기 몸체부의 제2 면으로부터 돌출되어 형성되며, 상기 결착 유닛은 상기 고정 유닛과 대응하도록 형성된 홈(groove)일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the fixing unit is formed to protrude from the second surface of the body portion, the binding unit may be a groove (groove) formed to correspond to the fixing unit.

본 발명의 목적을 실현하기 위한 기판 세정 장치에 있어, 몸체 유닛과 브러쉬 유닛을 자력(magnetic)를 이용하여 결합함으로써, 간편하게 탈부착이 가능하여, 브러쉬 유닛의 세척 및 교체가 필요한 경우 교체 작업 시간을 단축할 수 있다.In the substrate cleaning apparatus for realizing the object of the present invention, by combining the body unit and the brush unit using a magnetic force, it is possible to detach easily, shorten the replacement work time when cleaning and replacement of the brush unit is required. can do.

도 1은 본 발명의 목적을 실현하기 위한 기판 세정 장치의 결합 원리를 설명하기 위한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도 1에 나타난 몸체부의 평면도이다.
도 3은 도 2에 나타난 몸체부와 결합하는 세정부의 사시도이다.1 is a perspective view for explaining the coupling principle of the substrate cleaning apparatus for realizing the object of the present invention.
Figure 2 is a plan view of the body portion shown in Figure 1 according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a perspective view of a cleaning unit coupled to the body part shown in FIG. 2.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, a substrate cleaning apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is capable of various modifications and various forms, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are enlarged to illustrate the present invention in order to clarify the present invention.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprises", "having", and the like are used to specify that a feature, a number, a step, an operation, an element, a part or a combination thereof is described in the specification, But do not preclude the presence or addition of one or more other features, integers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

도 1는 본 발명의 목적을 실현하기 위한 기판 세정 장치의 결합 원리를 설명하기 위한 사시도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도 1에 나타난 몸체부의 평면도이다. 도 3은 도 2에 나타난 몸체부와 결합하는 세정부의 평면도이다.1 is a perspective view for explaining the coupling principle of the substrate cleaning apparatus for realizing the object of the present invention. Figure 2 is a plan view of the body portion shown in Figure 1 according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a plan view of a cleaning unit that engages with the body part shown in FIG. 2.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 기판 세정 장치(1000)는 몸체부(100), 세정부(300) 및 회전축(500)을 포함한다.1 to 3, the substrate cleaning apparatus 1000 includes a body part 100, a cleaning part 300, and a rotation shaft 500.

상기 몸체부(100)는 원형 디스크 형상으로 구성되며, 상기 세정부(300)과 결합되며, 상기 회전축(500)과 연결된다. 예를 들어, 상기 몸체부(100)의 제1 면(110)은 디스크 형상을 가지며, 상기 제1 면(110)을 통해 후술할 세정부(300)과 결합될 수 있다. 또한, 상기 제1 면(110)과 반대 면인 제2 면(미도시)에 상기 회전축(500)이 연결되어, 상기 몸체부(100)가 회전 운동할 수 있다.The body portion 100 has a circular disk shape, is coupled to the cleaning portion 300, and is connected to the rotation shaft 500. For example, the first surface 110 of the body portion 100 may have a disk shape and may be combined with the cleaning unit 300 to be described later through the first surface 110. In addition, the rotation shaft 500 is connected to a second surface (not shown) opposite to the first surface 110, so that the body part 100 may rotate.

상기 몸체부(100)는 자력 유닛(130), 고정 유닛(150) 및 탈착 유닛(170)을 포함한다.The body portion 100 includes a magnetic force unit 130, a fixed unit 150 and a detachable unit 170.

상기 자력 유닛(130)은 자력을 가지는 물질로 구성되며, 예를 들어, 자석일 수 있다. 상기 자력 유닛(130)은 상기 몸체부(100)의 제1 면(110)상에 형성된다. 예를 들어, 상기 제1 면(110)의 중심을 기준으로 방사형으로 복수개의 자력 유닛이 형성될 수 있으며, 또는 상기 제1 면(110)의 중심부에 단일의 자력 유닛이 형성될 수 있다. 복수로 형성된 경우 또는 단일로 형성된 경우의 자력 유닛(130)은 상기 세정부(300)의 무게보다 강한 자력을 가지는 물질로 형성된다.The magnetic unit 130 is made of a material having a magnetic force, for example, may be a magnet. The magnetic force unit 130 is formed on the first surface 110 of the body portion 100. For example, a plurality of magnetic units may be formed radially with respect to the center of the first surface 110, or a single magnetic unit may be formed in the center of the first surface 110. When formed in plural or in a single case, the magnetic force unit 130 is formed of a material having a stronger magnetic force than the weight of the cleaning unit 300.

상기 고정 유닛(150)은 상기 몸체부(100)의 제1 면(110)상에 돌출되어 형성된다. 예를 들어, 상기 제1 면(110)을 중심을 기준으로 방사형으로 복수개가 형성될 수 있다. 즉, 상기 자력 유닛(130)이 상기 제1 면(110)을 중심을 기준으로 방사형으로 형성된 경우 상기 고정 유닛(150)은 인접하는 자력 유닛(130) 사이에 방사형으로 형성될 수 있으며, 상기 자력 유닛(130)이 상기 제1 면(110)의 중심부에 단일로 형성된 경우, 상기 자력 유닛(130)의 외측에 방사형으로 복수개가 형성 될 수 있다. 상기 고정 유닛(150)은 상기 세정부(300)을 몸체부(100)에 고정하는 역할을 한다. 즉, 상기 고정 유닛(150)은 상기 세정부(300)이 자력 유닛(130)에 의한 자력에 의해 고정되어 회전 운동할 때, 미끄러지는 것을 방지한다. 본 실시예에서는 자력 유닛(130) 및 고정 유닛(150)이 몸체부(100)의 제1 면(110) 상에 별도로 형성된 것을 예로 들었지만, 이에 한정되지 않으며, 자력 유닛(130)이 상기 제1 면(110)으로부터 돌출된 구조를 가질 수 있다. 이 경우, 상기 자력 유닛(130)이 고정 유닛(150)의 역할까지 수행할 수 있다.The fixing unit 150 is formed to protrude on the first surface 110 of the body portion 100. For example, a plurality of radial portions may be formed with respect to the center of the first surface 110. That is, when the magnetic force unit 130 is formed radially with respect to the first surface 110, the fixed unit 150 may be radially formed between adjacent magnetic force units 130. When the unit 130 is formed in the center of the first surface 110 as a single, a plurality of radially may be formed on the outside of the magnetic force unit 130. The fixing unit 150 serves to fix the cleaning part 300 to the body part 100. That is, the fixing unit 150 prevents the cleaning unit 300 from slipping when the cleaning unit 300 is fixed and rotated by the magnetic force by the magnetic unit 130. In the present exemplary embodiment, the magnetic force unit 130 and the fixing unit 150 are separately formed on the first surface 110 of the body part 100, but the present disclosure is not limited thereto, and the magnetic force unit 130 may include the first unit. It may have a structure protruding from the surface (110). In this case, the magnetic force unit 130 may perform the role of the fixed unit 150.

상기 탈착 유닛(170)은 상기 몸체부(100)의 외측면에 형성된다. 예를 들어, 상기 탈착 유닛(170)은 홈(groove) 형태로 상기 몸체부의 외측면에 형성되어, 세정부(300)을 상기 몸체부(100)로부터 용이하게 탈착할 수 있도록 하는 역할을 한다. 본 실시예에서 탈착 유닛(170)은 상기 몸체부(100)의 외측면에 형성되어, 상기 세정부(300)을 몸체부(100)로부터 분리할 때 이용할 수 있는 구성을 예로 들었으나, 이에 한정되지 않고 다양한 변경이 가능하다.  The detachable unit 170 is formed on the outer surface of the body portion 100. For example, the desorption unit 170 is formed on the outer surface of the body portion in the form of a groove, and serves to easily detach the cleaning unit 300 from the body portion 100. In this embodiment, the detachable unit 170 is formed on the outer surface of the body portion 100, the configuration that can be used when separating the cleaning unit 300 from the body portion 100, but is limited to this example Many changes are possible.

상기 세정부(300)은 상기 몸체부(100)와 결합하여, 상기 회전축(500)으로부터 전달되는 회전력을 통해 회전 운동함으로써 기판을 세정한다. 상기 세정부(300)은 브러쉬 유닛(310), 결합 유닛(320) 및 결착 유닛(350)을 포함한다.The cleaning unit 300 is coupled to the body portion 100, and cleans the substrate by rotating through the rotational force transmitted from the rotation shaft 500. The cleaning part 300 includes a brush unit 310, a coupling unit 320, and a binding unit 350.

상기 브러쉬 유닛(310)은 상기 세정부(300)의 하부에 형성된다. 상기 브러쉬 유닛(310)은 기판의 표면에 접촉하여 이물질을 제거하기 위한 세정모일 수 있다. 상기 브러쉬 유닛(310)은 상기 회전축(500)을 중심으로 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전하여 기판의 표면의 이물질을 제거한다. The brush unit 310 is formed under the cleaning unit 300. The brush unit 310 may be a cleaning cap for removing foreign substances by contacting the surface of the substrate. The brush unit 310 is rotated in a clockwise or counterclockwise direction about the rotation shaft 500 to remove foreign substances on the surface of the substrate.

상기 결합 유닛(320)은 상기 세정부(300)의 상부에 형성된다. 상기 결합 유닛(320)은 상기 몸체부(100)에 형성된 상기 자력 유닛(130)과 결합될 수 있는 금속으로 형성된다. 예를 들어, 상기 결합 유닛(320)은 상기 몸체부(100)에 형성된 자력 유닛(130)과 대응되는 영역에만 형성될 수 있다. 또는 상기 결합 유닛(320)은 상기 세정부(300) 상부 전역에 형성된 금속 플레이트(SUS plate)일 수 있다.The coupling unit 320 is formed on the cleaning unit 300. The coupling unit 320 is formed of a metal that can be coupled to the magnetic force unit 130 formed in the body portion 100. For example, the coupling unit 320 may be formed only in an area corresponding to the magnetic force unit 130 formed in the body portion 100. Alternatively, the coupling unit 320 may be a metal plate (SUS plate) formed on the entire upper portion of the cleaning unit 300.

상기 결착 유닛(330)은 상기 세정부(300)의 상부에 형성되며, 상기 몸체부(100)에 형성된 고정 유닛(150)과 대응하도록 형성된다. 예를 들어, 상기 결합 유닛(320)이 상기 세정부(300)의 상부 전역에 형성된 경우, 상기 결착 유닛(330)은 결합 유닛(320)상에 형성될 수 있다. 상기 결착 유닛(330)은 상기 세정부(300)이 몸체부(100)에 결합되어 회전 운동할 때, 상기 고정 유닛(150)과 결합을 통해 상기 세정부(300)이 미끄러지지 않도록 고정하는 역할을 한다. 예를 들어, 상기 결착 유닛(330)은 상기 몸체부(100)의 제1 면(110)으로부터 돌출된 고정 유닛(150)과 대응하여 결합할 수 있는 홈(groove)일 수 있다. 본 실시예에서는 결착 유닛(330)이 돌출된 고정 유닛(150)과 대응하도록 형성된 것을 예로 들었으나, 이에 한정하지 않으며, 다양한 변경을 가하여 실시할 수 있다. 예를 들어, 상기 결착 유닛(330)이 돌출되어 형성될 수도 있으며, 상기 결착 유닛(330)과 대응하도록 고정 유닛(150)이 홈(groove)으로 형성될 수 있다.The binding unit 330 is formed on the cleaning unit 300, and is formed to correspond to the fixing unit 150 formed on the body unit 100. For example, when the coupling unit 320 is formed throughout the upper portion of the cleaning unit 300, the binding unit 330 may be formed on the coupling unit 320. The binding unit 330 serves to fix the cleaning unit 300 so that the cleaning unit 300 does not slip through the fixing unit 150 when the cleaning unit 300 is coupled to the body unit 100 to rotate. do. For example, the binding unit 330 may be a groove that may be coupled to the fixing unit 150 protruding from the first surface 110 of the body portion 100. In the present embodiment, the binding unit 330 is formed to correspond to the protruding fixed unit 150 as an example, but is not limited thereto, and may be implemented by various changes. For example, the binding unit 330 may be formed to protrude, and the fixing unit 150 may be formed as a groove to correspond to the binding unit 330.

상기 회전축(500)의 일 단은 상기 몸체부(100)의 제1 면(110)의 반대면인 제2 면(미도시)에 연결되어 형성된다. 상기 회전축(500)의 타단은 회전 구동부(미도시)와 연결되어, 회전력을 전달하는 역할을 한다. 본 실시예에서는 몸체부(100)와 회전축(500)이 별도의 구성으로서 연결된 것을 개시하였으나, 이에 제한되지 않으며, 일체로서 구성될 수 있다.One end of the rotation shaft 500 is connected to a second surface (not shown), which is the opposite surface of the first surface 110 of the body portion 100. The other end of the rotation shaft 500 is connected to the rotation drive (not shown), and serves to transmit the rotation force. In this embodiment, the body portion 100 and the rotation shaft 500 is disclosed as a separate configuration, but is not limited to this, it can be configured as an integral.

본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치에 따르면, 몸체부와 세정부를 자력(magnetic)을 이용하여 결합이 가능하다. 이에 따라 세정부를 간편하게 탈부착 가능하여, 세정부의 세척 및 교체가 필요한 경우 교체 작업 시간을 단축할 수 있다.  According to the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the body portion and the cleaning portion may be coupled using magnetic force. Accordingly, the cleaning unit can be easily attached and detached, thereby reducing the replacement work time when cleaning and replacement of the cleaning unit are required.

이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. It will be possible.

1000: 기판 세정 장치 100: 몸체부
110: 제1 면 130: 자력 유닛
150: 고정 유닛 170: 탈착 유닛
300: 세정부 310: 브러쉬 유닛
320: 결합 유닛 350: 결착 유닛
500: 회전축 1000: substrate cleaning device 100: body portion
110: first side 130: magnetic unit
150: fixed unit 170: detachable unit
300: cleaning unit 310: brush unit
320: coupling unit 350: binding unit
500: axis of rotation

Claims (2)

회전력을 전달하는 회전축;
제1 면에 상기 회전축이 연결되고, 상기 제1면과 반대면인 제2 면 상에 형성된 자력을 가지는 자력 유닛 및 원심력에 의한 미끄러짐을 방지하기 위한 고정 유닛을 포함하는 몸체부; 및
상기 자력 유닛의 자력에 의해 결합되는 결합 유닛 및 상기 고정 유닛과 결합하여 고정되는 결착 유닛을 포함하며, 상기 몸체부와 결합하여 회전 운동함으로써 기판의 이물질을 세정하는 세정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치. A rotating shaft for transmitting the rotating force;
A body part including a magnetic unit having a magnetic force formed on a second surface opposite to the first surface, the rotating shaft being connected to a first surface, and a fixing unit for preventing sliding by centrifugal force; And
And a coupling unit coupled by the magnetic force of the magnetic force unit, and a binding unit fixed to the fixed unit. The cleaning unit includes a cleaning unit for cleaning the foreign substances on the substrate by rotational movement in combination with the body unit. Substrate cleaning apparatus. 제1항에 있어서,
상기 고정 유닛은 상기 몸체부의 제2 면으로부터 돌출되어 형성되며, 상기 결착 유닛은 상기 고정 유닛과 대응하도록 형성된 홈(groove)인 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치. The method of claim 1,
And the fixing unit is formed to protrude from the second surface of the body portion, and the binding unit is a groove formed to correspond to the fixing unit.
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