KR20130020069A - In-line apparatus for developing having a cleaning device and method of fabricating liquid crystal display device using thereof - Google Patents

In-line apparatus for developing having a cleaning device and method of fabricating liquid crystal display device using thereof Download PDF

Info

Publication number
KR20130020069A
KR20130020069A KR1020110082456A KR20110082456A KR20130020069A KR 20130020069 A KR20130020069 A KR 20130020069A KR 1020110082456 A KR1020110082456 A KR 1020110082456A KR 20110082456 A KR20110082456 A KR 20110082456A KR 20130020069 A KR20130020069 A KR 20130020069A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
substrate
cleaning
unit
color filter
line
Prior art date
Application number
KR1020110082456A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101252481B1 (en
Inventor
임재범
윤근식
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
주식회사 케이씨텍
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사, 주식회사 케이씨텍 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020110082456A priority Critical patent/KR101252481B1/en
Publication of KR20130020069A publication Critical patent/KR20130020069A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101252481B1 publication Critical patent/KR101252481B1/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1313Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • B08B3/022Cleaning travelling work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1316Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor

Abstract

PURPOSE: An in-line film developing apparatus having a cleaning device and a method for fabricating a liquid crystal display device using thereof are provided to improve cleaning power by controlling the injection angle of the cleaning device. CONSTITUTION: A substrate is loaded on a loading unit. A cleaning unit(200) washes the substrate using spraying units(140a,140b). A photo process unit performs a photoresist coating, an exposure, and a developing process on the substrate. An etching unit etches the substrate. An unloading unit unloads the substrate. A loading unit, a cleaning unit, a photo process unit, the etching unit, and the unloading unit are arranged inline.

Description

세정장치를 구비한 인-라인 현상장비 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법{IN-LINE APPARATUS FOR DEVELOPING HAVING A CLEANING DEVICE AND METHOD OF FABRICATING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THEREOF}IN-LINE APPARATUS FOR DEVELOPING HAVING A CLEANING DEVICE AND METHOD OF FABRICATING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THEREOF}
본 발명은 다수의 기판에 대한 현상 및 식각공정을 인-라인으로 진행하는 인-라인 현상장비에 있어, 현상 전후의 기판에 대한 세정을 수행하기 위한 세정장치를 구비한 인-라인 현상장비 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention provides an in-line developing apparatus for developing and etching a plurality of substrates in-line, and includes an in-line developing apparatus having a cleaning apparatus for performing cleaning on a substrate before and after developing, and the same. The manufacturing method of the used liquid crystal display device is related.
최근 정보 디스플레이에 관한 관심이 고조되고 휴대가 가능한 정보매체를 이용하려는 요구가 높아지면서 기존의 표시장치인 브라운관(Cathode Ray Tube; CRT)을 대체하는 경량 박막형 평판표시장치(Flat Panel Display; FPD)에 대한 연구 및 상업화가 중점적으로 이루어지고 있다. 특히, 이러한 평판표시장치 중 액정표시장치(Liquid Crystal Display; LCD)는 액정의 광학적 이방성을 이용하여 이미지를 표현하는 장치로서, 해상도와 컬러표시 및 화질 등에서 우수하여 노트북이나 데스크탑 모니터 등에 활발하게 적용되고 있다.Recently, interest in information display has increased, and a demand for using portable information media has increased, and a light-weight flat panel display (FPD) that replaces a cathode ray tube (CRT) And research and commercialization are being carried out. Particularly, among such flat panel display devices, a liquid crystal display (LCD) is an apparatus for displaying an image using the optical anisotropy of a liquid crystal, and is excellent in resolution, color display and picture quality and is actively applied to a notebook or a desktop monitor have.
상기 액정표시장치는 크게 컬러필터(color filter) 기판과 어레이(array) 기판 및 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판 사이에 형성된 액정층(liquid crystal layer)으로 구성된다.The liquid crystal display comprises a color filter substrate, an array substrate, and a liquid crystal layer formed between the color filter substrate and the array substrate.
상기 컬러필터 기판은 적(Red; R), 녹(Green; G) 및 청(Blue; B)의 색상을 구현하는 다수의 서브-컬러필터로 구성된 컬러필터와 상기 서브-컬러필터 사이를 구분하고 액정층을 투과하는 광을 차단하는 블랙매트릭스(black matrix), 그리고 상기 액정층에 전압을 인가하는 투명한 공통전극으로 이루어져 있다.The color filter substrate distinguishes between a color filter composed of a plurality of sub-color filters that implements red (R), green (G), and blue (B) colors and the sub-color filter. A black matrix blocking light passing through the liquid crystal layer and a transparent common electrode applying a voltage to the liquid crystal layer.
또한, 상기 어레이 기판은 종횡으로 배열되어 다수의 화소영역을 정의하는 다수의 게이트라인과 데이터라인, 상기 게이트라인과 데이터라인의 교차영역에 형성된 스위칭소자인 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT) 및 상기 화소영역 위에 형성된 화소전극으로 이루어져 있다.The array substrate may include a plurality of gate lines and data lines arranged vertically and horizontally to define a plurality of pixel regions, thin film transistors (TFTs), which are switching elements formed at intersections of the gate lines and data lines, and the The pixel electrode is formed on the pixel region.
이와 같이 구성된 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판은 화상표시 영역의 외곽에 형성된 실런트에 의해 대향하도록 합착되어 액정표시장치를 구성하며, 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판의 합착은 상기 컬러필터 기판 또는 어레이 기판에 형성된 합착키를 통해 이루어진다.The color filter substrate and the array substrate configured as described above are joined to face each other by sealants formed on the outer side of the image display area to form a liquid crystal display device. The combination of the color filter substrate and the array substrate is connected to the color filter substrate or the array substrate. Through the formed key.
상기한 액정표시장치를 포함한 대부분의 평판표시장치를 제조하기 위해서는 다수의 포토리소그래피(photolithography)공정을 거쳐야 한다.In order to manufacture most flat panel display devices including the liquid crystal display device, a plurality of photolithography processes are required.
상기 포토리소그래피공정은 일종의 사진식각공정의 하나로 마스크에 그려진 패턴(pattern)을 박막이 증착된 기판 위에 전사시켜 원하는 패턴을 형성하는 일련의 공정으로, 감광액(photoresist; PR) 도포, 마스크정렬 및 노광, 현상공정 등 복잡한 다수의 공정으로 이루어져 있다.The photolithography process is a series of processes in which a pattern drawn on a mask is transferred onto a substrate on which a thin film is deposited to form a desired pattern as one of photolithography processes, including photoresist (PR) coating, mask alignment and exposure, It consists of many complex processes such as developing process.
이러한 다수의 공정은 일반적으로 서로 다른 공정장비에서 이루어짐에 따라 각 공정장비간 기판의 이송 및 반송 등 다수의 이동이 필요하게 되는데, 이동간 주변 환경에 의한 이물 낙하 및 이동 설비에 의한 이물 낙하로 기판 표면이 오염되는 문제가 있다.As these processes are generally performed in different process equipments, a number of movements are required, such as transfer and transfer of substrates between process equipments. There is a problem of this contamination.
또한, 이를 제거하기 위한 세정이 필요하게 되는데, 세정력이 저하되는 경우 낙하된 이물이 제거되지 않아 후속 공정을 진행할 때 품질문제를 야기하게 된다.In addition, it is necessary to clean to remove this, if the cleaning power is lowered foreign matters are not removed, causing a quality problem when the subsequent process proceeds.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 다수의 기판에 대한 현상 및 식각공정을 인-라인으로 진행하여 기판의 오염을 최소화하는 한편 공정을 단순화한 인-라인 현상장비 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, in-line development equipment and a liquid crystal display device using the same to simplify the process while minimizing the contamination of the substrate by progressing the development and etching process for a plurality of substrates in-line The purpose is to provide a method for producing.
본 발명의 다른 목적은 현상 전후의 기판에 대한 세정을 수행하기 위한 세정장치를 구비하여 세정 시 타격력 및 제거력을 향상시키도록 한 세정장치를 구비한 인-라인 현상장비 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a cleaning device for cleaning the substrate before and after development to manufacture the in-line developing equipment having a cleaning device to improve the impact force and the removal force during cleaning and the manufacturing of the liquid crystal display device using the same To provide a method.
본 발명의 다른 목적 및 특징들은 후술되는 발명의 구성 및 특허청구범위에서 설명될 것이다.Other objects and features of the present invention will be described in the following description of the invention and claims.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 세정장치를 구비한 인-라인 현상장비는 기판이 로딩되는 로딩부; 상기 로딩된 기판의 수직방향에 대해 소정의 각도로 설치된 적어도 하나의 분사부를 통해 상기 기판을 세정하는 세정부; 상기 세정된 기판에 대해 포토레지스트(photoresist; PR) 코팅, 노광 및 현상을 진행하는 포토공정부; 상기 현상된 기판에 대해 식각을 진행하여 소정의 패턴을 형성하는 식각부; 및 상기 패턴이 형성된 기판을 언로딩하는 언로딩부를 포함하며, 상기 로딩부, 세정부, 포토공정부, 식각부 및 언로딩부는 인-라인(in-line) 형태로 배치되는 한편, 인-라인 형태로 기판의 반송 및 각 공정을 진행하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the in-line developing apparatus provided with the cleaning apparatus of the present invention includes a loading unit for loading a substrate; A cleaning unit for cleaning the substrate through at least one spraying unit installed at a predetermined angle with respect to a vertical direction of the loaded substrate; A photo process unit for performing photoresist (PR) coating, exposure and development on the cleaned substrate; An etching unit for etching the developed substrate to form a predetermined pattern; And an unloading part for unloading the substrate on which the pattern is formed, wherein the loading part, the cleaning part, the photoprocessing part, the etching part, and the unloading part are arranged in an in-line shape while being in-line. It is characterized by advancing a substrate and each process in a form.
이때, 컨베이어 등의 이송수단을 이용하여 인-라인 형태로 기판의 반송 및 각 공정을 진행하는 것을 특징으로 한다.At this time, it is characterized in that the conveyance of the substrate in the form of in-line using the conveying means such as a conveyor and each process.
상기 세정부는 인-라인 형태로 진행되는 다수의 세정부로 구성되는 것을 특징으로 한다.The cleaning unit may include a plurality of cleaning units that proceed in-line.
이때, 상기 다수의 세정부는 플라즈마 세정부, 1차 세정부, 2차 세정부, 최후 세정부 및 건조부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In this case, the plurality of cleaning units may include a plasma cleaning unit, a primary cleaning unit, a secondary cleaning unit, a final cleaning unit, and a drying unit.
상기 1차 세정부는 롤 브러시를 이용한 1차 세정을 진행하는 것을 특징으로 한다.The primary cleaning unit is characterized in that the primary cleaning using a roll brush.
상기 건조부는 에어 나이프를 이용한 건조공정을 진행하는 것을 특징으로 한다.The drying unit is characterized in that the drying process using the air knife.
상기 분사부는 기판의 이송경로를 따라 상기 1차 세정부, 2차 세정부 및 최후 세정부에 각각 설치되어 이송되는 기판에 대하여 소정 각도로 세정수를 분사하는 최초 분사부, 중간 분사부 및 최후 분사부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The spraying unit is an initial spraying unit, an intermediate spraying unit, and a final spraying unit for spraying washing water at a predetermined angle with respect to the substrate to be transported, respectively installed in the primary cleaning unit, the secondary cleaning unit, and the final cleaning unit along a transfer path of the substrate. It is characterized by including a wealth.
상기 분사부는 소정의 각도로 기울여져 기판 표면의 이물의 하단을 타격하여 제거하는 것을 특징으로 한다.The spraying part is inclined at a predetermined angle to remove the impact by hitting the lower end of the foreign material on the substrate surface.
상기 분사부는 기판의 수직방향에 대해 5° ~ 15°의 각도로 설치되는 것을 특징으로 한다.The injection unit is characterized in that installed at an angle of 5 ° to 15 ° with respect to the vertical direction of the substrate.
본 발명의 액정표시장치의 제조방법은 컬러필터 기판과 어레이 기판 및 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판 사이에 형성된 액정층으로 구성된 액정표시장치의 제조방법에 있어서, 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판에 포토공정을 진행하기 전후에 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판을 세정하는 단계는 (a) 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판 표면에 존재하는 유기물을 제거하는 단계; (b) 상기 유기물이 제거된 컬러필터 기판이나 어레이 기판의 수직방향에 대해 소정의 각도로 세정수를 분사하여 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판에 1차 세정, 2차 세정 및 최후 세정을 진행하는 단계; 및 (c) 상기 세정된 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판을 건조하는 단계를 포함하며, 상기 (a) 단계 내지 (c) 단계는 인-라인 형태로 진행되는 것을 특징으로 한다.A method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal display device comprising a color filter substrate, an array substrate, and a liquid crystal layer formed between the color filter substrate and the array substrate, wherein the photofilter is applied to the color filter substrate or the array substrate. The cleaning of the color filter substrate or the array substrate before and after proceeding includes: (a) removing organic substances present on the surface of the color filter substrate or the array substrate; (b) spraying the washing water at a predetermined angle with respect to the vertical direction of the color filter substrate or the array substrate from which the organic material has been removed, and performing the first washing, the second washing, and the last washing on the color filter substrate or the array substrate. ; And (c) drying the cleaned color filter substrate or array substrate, wherein steps (a) to (c) are performed in-line.
이때, 상기 (a) 단계 내지 (c) 단계는 인-라인 형태로 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판의 반송 및 각 세정공정을 진행하는 것을 특징으로 한다.At this time, the steps (a) to (c) is characterized in that the color filter substrate or the array substrate transfer and cleaning process in the in-line form.
상기 1차 세정은 롤 브러시를 이용하는 것을 특징으로 한다.The first cleaning is characterized by using a roll brush.
상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판에 1차 세정, 2차 세정 및 최후 세정을 진행하는 단계는 상기 유기물이 제거된 컬러필터 기판이나 어레이 기판의 수직방향에 대해 소정의 각도로 설치된 적어도 하나의 분사부를 통해 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판에 대하여 소정 각도로 세정수를 분사하는 것을 특징으로 한다.The first cleaning, the second cleaning, and the last cleaning of the color filter substrate or the array substrate may be performed through at least one spraying unit installed at a predetermined angle with respect to the vertical direction of the color filter substrate or the array substrate from which the organic material has been removed. The washing water is sprayed at a predetermined angle with respect to the color filter substrate or the array substrate.
이때, 상기 분사부는 소정의 각도로 기울여져 컬러필터 기판이나 어레이 기판 표면의 이물의 하단을 타격하여 제거하는 것을 특징으로 한다.At this time, the spraying unit is inclined at a predetermined angle to remove the hitting the lower end of the foreign material on the surface of the color filter substrate or the array substrate.
상기 분사부는 컬러필터 기판이나 어레이 기판의 수직방향에 대해 5° ~ 15°의 각도로 설치되는 것을 특징으로 한다.The jetting unit may be installed at an angle of 5 ° to 15 ° with respect to the vertical direction of the color filter substrate or the array substrate.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 세정장치를 구비한 인-라인 현상장비 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법은 인-라인으로 이송되는 기판에 대하여 다수 회 세정을 실시하는 한편, 세정장치의 분사부 각도를 변경하여 타격력 및 제거력을 향상시킴으로서 기판의 이송 및 반송간 발생하는 이물을 효과적으로 제거할 수 있게 된다.As described above, the in-line developing apparatus having the cleaning apparatus according to the present invention and the manufacturing method of the liquid crystal display device using the same are subjected to the cleaning of the substrate transferred in-line a plurality of times, By changing the slope angle to improve the striking force and removal force it is possible to effectively remove the foreign matter generated between the transfer and transfer of the substrate.
이에 따라 수율 및 품질이 향상되는 한편, 이전 공정의 이물로 인한 원치 않는 장비의 다운(down) 및 작업 손실을 방지할 수 있는 효과를 제공한다. 예를 들어, 본 발명에 따른 세정장치는 세정력의 개선으로 수율이 약 0.15% 향상되는 효과를 제공한다.This improves yield and quality, while providing the effect of preventing unwanted equipment down and loss of work due to foreign material from previous processes. For example, the cleaning apparatus according to the present invention provides an effect of improving the yield by about 0.15% by improving the cleaning power.
특히, 이러한 본 발명에 따른 세정장치는 어떠한 구성의 현상장비뿐만 아니라 다른 용도의 장비의 세정에 적용될 수 있는 이점이 있다.In particular, the cleaning device according to the present invention has the advantage that can be applied to the cleaning of the equipment of any configuration as well as other equipment.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 흐름도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 다른 제조방법을 순차적으로 나타내는 흐름도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 인-라인 현상장비를 개략적으로 나타내는 블록도.
도 4는 상기 도 3에 도시된 인-라인 현상장비의 포토공정부에 있어, 포토공정을 순차적으로 나타내는 블록도.
도 5는 상기 도 3에 도시된 인-라인 현상장비의 세정부에 있어, 세정공정을 순차적으로 나타내는 블록도.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 세정장치의 구성을 개략적으로 나타내는 예시도.
도 7a 및 도 7b는 상기 도 6에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 세정장치에 있어, 세정장치의 분사부 각도를 변경하여 타격력 및 제거력을 향상시키는 원리를 개략적으로 나타내는 예시도.
도 8은 상기 도 6에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 세정장치에 있어, 세정장치의 분사부 각도의 최댓값을 설정하는 방법을 개략적으로 나타내는 예시도.
1 is a flowchart sequentially illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a flowchart sequentially illustrating another manufacturing method of the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention.
Figure 3 is a block diagram schematically showing the in-line developing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a block diagram sequentially showing a photo process in the photo process unit of the in-line developing apparatus shown in FIG.
FIG. 5 is a block diagram sequentially illustrating a cleaning process in the cleaning unit of the in-line developing apparatus shown in FIG.
6 is an exemplary view schematically showing a configuration of a cleaning device according to an embodiment of the present invention.
Figure 7a and 7b is an exemplary view schematically showing the principle of improving the striking force and the removal force in the cleaning device according to the embodiment of the present invention shown in Figure 6 by changing the injection angle of the cleaning device.
FIG. 8 is an exemplary view schematically showing a method for setting a maximum value of an injection angle of a cleaning device in the cleaning device according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 6.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 세정장치를 구비한 인-라인 현상장비 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a preferred embodiment of the in-line developing equipment having a cleaning apparatus according to the present invention and a method of manufacturing a liquid crystal display device using the same.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 흐름도이며, 도 2는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 다른 제조방법을 순차적으로 나타내는 흐름도이다.1 is a flowchart sequentially illustrating a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a flowchart sequentially illustrating another method of manufacturing a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.
이때, 상기 도 1은 액정주입방식으로 액정층을 형성하는 경우의 액정표시장치의 제조방법을 나타내며, 상기 도 2는 액정적하방식으로 액정층을 형성하는 경우의 액정표시장치의 제조방법을 나타낸다.1 illustrates a method of manufacturing a liquid crystal display device when a liquid crystal layer is formed by a liquid crystal injection method, and FIG. 2 illustrates a method of manufacturing a liquid crystal display device when a liquid crystal layer is formed by a liquid crystal drop method.
액정표시장치의 제조공정은 크게 하부 어레이 기판에 구동소자를 형성하는 구동소자 어레이공정과 상부 컬러필터 기판에 컬러필터를 형성하는 컬러필터공정 및 셀 공정으로 구분될 수 있다.The manufacturing process of the liquid crystal display device may be classified into a driving element array process of forming a driving element on a lower array substrate, a color filter process of forming a color filter on an upper color filter substrate, and a cell process.
우선, 어레이공정에 의해 어레이 기판에 배열되어 화소영역을 정의하는 다수의 게이트라인과 데이터라인을 형성하고 상기 화소영역 각각에 상기 게이트라인과 데이터라인에 접속되는 구동소자인 박막 트랜지스터를 형성한다(S101). 또한, 상기 어레이공정을 통해 상기 박막 트랜지스터에 접속되어 박막 트랜지스터를 통해 신호가 인가됨에 따라 액정층을 구동하는 화소전극을 형성한다.First, a plurality of gate lines and data lines which are arranged in an array substrate and define a pixel region are formed by an array process, and a thin film transistor which is a driving element connected to the gate line and the data line is formed in each of the pixel regions (S101 ). In addition, a pixel electrode connected to the thin film transistor through the array process and driving the liquid crystal layer as a signal is applied through the thin film transistor is formed.
또한, 상기 컬러필터 기판에는 컬러필터공정에 의해 컬러를 구현하는 적, 녹 및 청색의 서브컬러필터로 구성되는 컬러필터층과 공통전극을 형성한다(S103). 이때, 횡전계(In Plane Switching; IPS)방식의 액정표시장치를 제작하는 경우에는 상기 어레이공정을 통해 상기 화소전극이 형성된 어레이 기판에 상기 공통전극을 형성하게 된다.In addition, the color filter substrate is formed with a color filter layer and a common electrode composed of red, green, and blue sub-color filters that implement color by a color filter process (S103). In this case, when a liquid crystal display device having an in-plane switching (IPS) method is manufactured, the common electrode is formed on an array substrate on which the pixel electrode is formed through the array process.
이때, 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판은 대면적의 모기판에 다수개 구획되어 제조되게 된다. 다시 말해서, 대면적의 모기판에 다수의 패널영역이 정의되고, 상기 패널영역 각각에 구동소자인 박막 트랜지스터 및 컬러필터가 형성되게 된다.At this time, a plurality of the color filter substrate and the array substrate are divided into a large-sized mother substrate. In other words, a plurality of panel regions are defined in a large-sized mother substrate, and thin film transistors and color filters, which are driving elements, are formed in each of the panel regions.
이어서, 상기 컬러필터 기판 및 어레이 기판에 각각 배향막을 인쇄한 후, 컬러필터 기판 및 어레이 기판 사이에 형성되는 액정층의 액정분자에 배향규제력 또는 표면고정력(즉, 프리틸트 각(pretilt angle)과 배향방향)을 제공하기 위해 상기 배향막을 러빙 처리한다(S102, S104).Subsequently, after the alignment film is printed on the color filter substrate and the array substrate, the alignment control force or the surface fixing force (that is, the pretilt angle and orientation) is applied to the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer formed between the color filter substrate and the array substrate. Direction) to rub the alignment film (S102, S104).
상기 러빙공정을 마친 컬러필터 기판과 어레이 기판은 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 배향막 검사기를 통해 배향막의 불량여부를 검사하게 된다(S105).As shown in FIGS. 1 and 2, the color filter substrate and the array substrate that have completed the rubbing process are inspected for defects of the alignment layer through an alignment layer inspector (S105).
러빙이 균일하지 않으면 액정분자의 정렬도가 공간적으로 일정하지 않아 국소적으로 다른 광학 특성을 나타내는 불량을 일으키게 된다.If the rubbing is not uniform, the alignment degree of the liquid crystal molecules is not spatially constant, resulting in a defect that shows locally different optical characteristics.
이러한 러빙불량을 검사하는 방법에는 배향막을 도포한 후에 도포된 배향막의 표면에 얼룩, 줄무늬 또는 핀홀(pin hole) 등의 존재여부를 검사하는 1차 검사와, 러빙 후 러빙된 배향막 표면의 균일도와 스크래치(scratch) 등의 존재여부를 검사하는 2차 검사가 있다.Such a rubbing defect inspection method includes a first inspection for inspecting the presence of spots, streaks or pin holes on the surface of the coated alignment film after the alignment film is applied, and the uniformity and scratch of the surface of the rubbed alignment film after rubbing. There is a secondary test that checks for the presence of a scratch or the like.
이와 같은 배향막 검사를 마친 상기 어레이 기판에는 도 1에 도시된 바와 같이, 셀갭을 일정하게 유지하기 위한 스페이서가 형성되고 상기 컬러필터 기판의 외곽부에는 실링재가 도포된 후 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판에 압력을 가하여 합착하게 된다(S106, S107, S108). 이때, 상기 스페이서는 산포방식에 의한 볼 스페이서일 수 있으며, 또는 패터닝에 의한 컬럼 스페이서일 수 있다.As shown in FIG. 1, a spacer for maintaining a constant cell gap is formed on the array substrate after the alignment layer inspection, and a sealing material is coated on an outer portion of the color filter substrate, and then, on the color filter substrate and the array substrate. A pressure is applied and it adheres (S106, S107, S108). In this case, the spacer may be a ball spacer by a scattering method, or may be a column spacer by patterning.
그리고, 전술한 바와 같이 대면적의 모기판에 다수의 패널영역이 형성되고, 상기 패널영역 각각에 구동소자인 박막 트랜지스터 및 컬러필터층이 형성되기 때문에 낱개의 액정표시패널을 제작하기 위해서는 모기판을 절단, 가공해야만 한다(S109).As described above, a plurality of panel regions are formed in a large area of the mother substrate, and a thin film transistor and a color filter layer serving as driving elements are formed in each of the panel regions, so that the mother substrate is cut to manufacture a single liquid crystal display panel. , Must be processed (S109).
이후, 상기와 같이 가공된 개개의 액정표시패널에 액정주입구를 통해 액정을 주입하고 상기 액정주입구를 봉지하여 액정층을 형성한 후 각 액정표시패널을 검사함으로써 액정표시장치를 제작하게 된다(S110, S111).Thereafter, the liquid crystal is injected into the liquid crystal display panel processed as described above through the liquid crystal inlet, and the liquid crystal inlet is encapsulated to form a liquid crystal layer. S111).
이때, 상기 액정의 주입은 압력 차를 이용한 진공주입방식을 사용하는데, 상기 진공주입 방식은 대면적의 모기판으로부터 분리된 단위 액정표시패널의 액정주입구를 일정한 진공이 설정된 챔버 내에서 액정이 채워진 용기에 침액시킨 다음 진공 정도를 변화시킴으로써, 상기 액정표시패널 내부 및 외부의 압력 차에 의해 액정을 액정표시패널 내부로 주입시키는 방식으로, 이와 같이 액정이 액정표시패널 내부에 충진 되면, 액정주입구를 밀봉시켜 액정표시패널의 액정층을 형성한다. 따라서, 상기 액정표시패널에 진공주입 방식을 통해 액정층을 형성하는 경우에는 실패턴의 일부가 개방되도록 형성하여 액정주입구의 기능을 갖도록 하여야 한다.At this time, the injection of the liquid crystal uses a vacuum injection method using a pressure difference, the vacuum injection method is a container filled with the liquid crystal in a chamber in which a constant vacuum is set in the liquid crystal inlet of the unit liquid crystal display panel separated from the mother substrate of a large area The liquid crystal is filled into the liquid crystal display panel by injecting the liquid crystal into the liquid crystal display panel by the pressure difference between the inside and the outside of the liquid crystal display panel by dipping the liquid into a liquid. The liquid crystal layer of the liquid crystal display panel is formed. Therefore, when the liquid crystal layer is formed on the liquid crystal display panel through a vacuum injection method, a part of the failure turn should be opened to have a function of the liquid crystal injection hole.
그러나, 상기한 바와 같은 진공주입 방식은 다음과 같은 문제점이 있다.However, the vacuum injection method as described above has the following problems.
첫째, 액정표시패널에 액정을 충진 하는데 소요되는 시간이 매우 길다. 일반적으로, 합착된 액정표시패널은 수백 cm2의 면적에 수 ㎛ 정도의 갭을 갖기 때문에 압력 차를 이용한 진공주입 방식을 적용하더라도 단위 시간당 액정의 주입량은 매우 작을 수밖에 없다. 예를 들어, 약 15인치의 액정표시패널을 제작하는 경우에 액정을 충진 시키는데 대략 8시간 정도가 소요됨에 따라 액정표시패널의 제작에 많은 시간이 소요되어 생산성이 저하되는 문제가 있다. 또한, 액정표시패널이 대형화되어 갈수록 액정 충진에 소요되는 시간이 더욱 길어지고, 액정의 충진불량이 발생되어 결과적으로 액정표시패널의 대형화에 대응할 수 없는 문제점이 있다.First, it takes a very long time to fill the liquid crystal in the liquid crystal display panel. In general, since the bonded liquid crystal display panel has a gap of several μm in an area of several hundred cm 2 , the amount of liquid crystal injection per unit time is very small even when a vacuum injection method using a pressure difference is applied. For example, when manufacturing a liquid crystal display panel of about 15 inches takes about 8 hours to fill the liquid crystal there is a problem that the production of the liquid crystal display panel takes a lot of time, productivity is lowered. In addition, as the size of the liquid crystal display panel increases in size, the time required for filling the liquid crystal becomes longer, resulting in poor filling of the liquid crystal, and as a result, the size of the liquid crystal display panel cannot be coped with.
둘째, 액정의 소모량이 높다. 일반적으로, 용기에 채워진 액정량에 비해 실제 액정표시패널에 주입되는 액정량은 매우 작고, 액정이 대기나 특정 가스에 노출되면 가스와 반응하여 열화 된다. 따라서, 용기에 채워진 액정이 다수의 액정표시패널에 충진 된다고 할지라도, 충진 후에 잔류하는 많은 양의 액정을 폐기해야 하며, 이와 같이 고가의 액정을 폐기함에 따라 결과적으로 액정표시패널의 단가를 상승시켜 제품의 가격경쟁력을 약화시키는 요인이 된다.Second, the consumption of liquid crystal is high. In general, the amount of liquid crystal actually injected into the liquid crystal display panel is very small compared to the amount of liquid crystal filled in the container, and when the liquid crystal is exposed to the atmosphere or a specific gas, it reacts with the gas and deteriorates. Therefore, even if the liquid crystals filled in the container are filled in a plurality of liquid crystal display panels, a large amount of liquid crystals remaining after the filling should be discarded. As such, the expensive liquid crystals are discarded, thereby increasing the unit cost of the liquid crystal display panel. It is a factor that weakens the price competitiveness of the product.
상기한 바와 같은 진공주입 방식의 문제점을 극복하기 위해 적하방식을 적용할 수 있다.The dropping method can be applied to overcome the problems of the vacuum injection method as described above.
상기 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 적하방식을 이용한 경우에는 배향막 검사(S105)를 마친 후, 상기 컬러필터 기판에 실런트로 소정의 실패턴을 형성하는 동시에 상기 어레이 기판에 액정층을 형성하게 된다(S106', S107').As shown in FIG. 2, in the case of using the dropping method, after completing the alignment layer inspection (S105), a predetermined failure turn is formed with a sealant on the color filter substrate and a liquid crystal layer is formed on the array substrate. (S106 ', S107').
상기 적하방식은 디스펜서를 이용하여 다수의 어레이 기판이 배치된 대면적의 제 1 모기판이나 또는 다수의 컬러필터 기판이 배치된 제 2 모기판의 화상표시 영역에 액정을 적하 및 분배(dispensing)하고, 상기 제 1, 제 2 모기판을 합착하는 압력에 의해 액정을 화상표시 영역 전체에 균일하게 분포되도록 함으로써, 액정층을 형성하는 방식이다.The dropping method uses a dispenser to drop and dispense liquid crystals in an image display area of a large area of a first mother substrate on which a plurality of array substrates are arranged or a second mother substrate on which a plurality of color filter substrates are disposed. The liquid crystal layer is formed by uniformly distributing the liquid crystals to the entire image display area by the pressure for bonding the first and second mother substrates together.
따라서, 상기 액정표시패널에 적하방식을 통해 액정층을 형성하는 경우에는 액정이 화상표시 영역 외부로 누설되는 것을 방지할 수 있도록 실패턴이 화소부 영역 외곽을 감싸는 폐쇄된 패턴으로 형성되어야 한다.Therefore, when the liquid crystal layer is formed on the liquid crystal display panel by dropping, the failure turn should be formed in a closed pattern surrounding the pixel area region to prevent the liquid crystal from leaking out of the image display region.
상기 적하방식은 진공주입 방식에 비해 짧은 시간에 액정을 적하할 수 있으며, 액정표시패널이 대형화될 경우에도 액정층을 매우 신속하게 형성할 수 있다.The dropping method can drop the liquid crystal in a short time compared to the vacuum injection method, and can form the liquid crystal layer very quickly even when the liquid crystal display panel is enlarged.
또한, 기판 위에 액정을 필요한 양만 적하하기 때문에 진공주입 방식과 같이 고가의 액정을 폐기함에 따른 액정표시패널의 단가 상승을 방지하여 제품의 가격경쟁력을 강화시키게 된다.In addition, since only the required amount of liquid crystal is dropped on the substrate, the price competitiveness of the liquid crystal display panel due to the disposal of expensive liquid crystal, such as a vacuum injection method, is prevented, thereby enhancing the price competitiveness of the product.
이후, 상기와 같이 액정이 적하되고 실링재가 도포된 상기 제 1 모기판과 제 2 모기판을 정렬한 상태에서 압력을 가하여 상기 실링재에 의해 상기 제 1 모기판과 제 2 모기판을 합착 함과 동시에 압력의 인가에 의해 적하된 액정을 액정표시패널 전체에 걸쳐 균일하게 퍼지게 한다(S108'). 이와 같은 공정에 의해 대면적의 제 1, 제 2 모기판에는 액정층이 형성된 다수의 액정표시패널이 형성되며, 상기 제 1, 제 2 모기판을 가공, 절단하여 다수의 액정표시패널로 분리하고 각각의 액정표시패널을 검사함으로써 액정표시장치를 제작하게 된다(S109', S110').Thereafter, the first mother substrate and the second mother substrate are bonded together by the sealing material by applying pressure while the liquid crystal is dropped and the first mother substrate and the second mother substrate coated with the sealing material are aligned as described above. The liquid crystal dropped by the application of pressure is spread evenly over the entire liquid crystal display panel (S108 '). By such a process, a plurality of liquid crystal display panels having a liquid crystal layer are formed on the first and second mother substrates having a large area, and the first and second mother substrates are processed and cut and separated into a plurality of liquid crystal display panels. By inspecting each liquid crystal display panel, a liquid crystal display device is manufactured (S109 ', S110').
전술한 바와 같이 상기 액정표시장치를 포함하는 평판표시장치는 다수의 포토리소그래피공정(이하, 포토공정이라 함)을 거쳐 제조되는데, 상기 포토공정은 일종의 사진식각공정의 하나로 마스크에 그려진 패턴을 박막이 증착된 기판 위에 전사시켜 원하는 패턴을 형성하는 일련의 공정으로, 감광액(photoresist; 이하 PR이라 함) 도포, 마스크정렬 및 노광, 현상공정 등 복잡한 다수의 공정으로 이루어져 있다. 또한, 이러한 포토공정의 전후에는 기판의 세정공정이 진행될 수 있으며, 포토공정 후에는 식각공정이 진행되게 된다.As described above, the flat panel display device including the liquid crystal display device is manufactured through a plurality of photolithography processes (hereinafter, referred to as a photo process). The photo process is a kind of photolithography process. It is a series of processes for transferring a deposited substrate onto a desired pattern to form a desired pattern, and consists of a number of complex processes such as photoresist (PR) application, mask alignment and exposure, and development. In addition, the substrate cleaning process may be performed before or after the photo process, and the etching process may be performed after the photo process.
이때, 본 발명의 경우에는 이러한 세정공정, 포토공정 및 식각공정 등 다수의 공정간 기판의 이송 및 반송을 컨베이어 등의 이송수단을 이용한 인-라인 형태의 현상장비를 통해 진행함으로서 기판의 오염을 최소화하는 한편 공정을 단순화할 수 있게 되는데, 이하 상기 본 발명의 실시예에 따른 인-라인 현상장비에 대해서 도면을 참조하여 상세히 설명한다.In this case, in the present invention, the substrate is transported and transported between a plurality of processes, such as a cleaning process, a photo process, and an etching process, through a developing apparatus in an in-line form using a conveying means such as a conveyor to minimize substrate contamination. Meanwhile, the process can be simplified. Hereinafter, the in-line developing apparatus according to the embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 인-라인 현상장비를 개략적으로 나타내는 블록도이다.3 is a block diagram schematically illustrating an in-line developing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.
도면을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 인-라인 현상장비는 기판이 로딩되는 로딩부(100), 상기 로딩된 기판을 세정하는 세정부(200), 상기 세정된 기판에 대해 PR 코팅, 노광 및 현상을 진행하는 포토공정부(300), 상기 현상된 기판에 대해 식각을 진행하여 소정의 패턴을 형성하는 식각부(400) 및 상기 패턴이 형성된 기판을 언로딩하는 언로딩부(500)로 이루어질 수 있다.Referring to the drawings, the in-line developing apparatus according to an embodiment of the present invention is a loading unit 100 is loaded with a substrate, a cleaning unit 200 for cleaning the loaded substrate, PR coating for the cleaned substrate, A photo process unit 300 for performing exposure and development, an etching unit 400 for forming a predetermined pattern by etching the developed substrate, and an unloading unit 500 for unloading the substrate on which the pattern is formed. It may be made of.
이때, 상기 본 발명의 실시예에 따른 로딩부(100), 세정부(200), 포토공정부(300), 식각부(400) 및 언로딩부(400)는 인-라인 형태로 배치되는 한편, 컨베이어 등의 이송수단을 이용하여 인-라인 형태로 기판의 반송 및 각 공정을 진행하는 것을 특징으로 한다.In this case, the loading part 100, the cleaning part 200, the photo processing part 300, the etching part 400 and the unloading part 400 according to the embodiment of the present invention are arranged in an in-line shape, , Using a conveying means such as a conveyor is characterized in that the transfer of the substrate and each process in the in-line form.
상기 로딩부(100)는 기판을 세정공정, 포토공정 및 식각공정으로 이송시켜 주기 위하여 기판이 안착되는 영역이며, 상기 인-라인 컨베이어를 따라 세정공정, 포토공정 및 식각공정이 이루어지게 된다. 즉, 상기 본 발명의 실시예에 따른 인-라인 현상장비는 컨베이어 등의 이송수단에 의하여 일정한 속도로 수평 이송되는 기판의 상면, 하면 또는 상하 양면에 세정액, 현상액(developer) 또는 식각액(etchant) 등의 처리액을 처리하는 것으로 기판 표면을 세정, 현상 또는 식각하게 된다. 그 결과 기판의 오염을 최소화하는 한편 공정을 단순화할 수 있게 된다.The loading unit 100 is an area in which the substrate is seated in order to transfer the substrate to the cleaning process, the photo process and the etching process, and the cleaning process, the photo process and the etching process are performed along the in-line conveyor. That is, the in-line developing apparatus according to the embodiment of the present invention is a cleaning solution, a developer or an etchant on the upper, lower or upper and lower surfaces of the substrate which are horizontally transferred at a constant speed by a conveying means such as a conveyor. By treating the treatment liquid of the substrate surface, the substrate surface is cleaned, developed or etched. The result is a simplified process while minimizing contamination of the substrate.
상기 세정공정, 포토공정 및 식각공정이 모두 끝나고, 언로딩부(500)에서 기판을 다음 공정 설비로 반출시켜 줌으로써 종료된다.The cleaning process, the photo process, and the etching process are all completed, and the unloading unit 500 is finished by carrying out the substrate to the next process facility.
이하, 상기 본 발명의 실시예에 따른 세정부(200) 및 포토공정부(300)에서의 세정공정 및 포토공정을 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the cleaning process and the photo process in the cleaning unit 200 and the photo process unit 300 according to the embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 4는 상기 도 3에 도시된 인-라인 현상장비의 포토공정부에 있어, 포토공정을 순차적으로 나타내는 블록도이다.FIG. 4 is a block diagram sequentially illustrating a photo process in the photo process unit of the in-line developing apparatus shown in FIG. 3.
먼저, 소정의 패턴을 형성하려는 박막 상에 감광물질인 PR을 코팅한 후, 코팅된 PR을 건조시키기 위한 1차 베이킹(soft baking)을 진행한다(S110, S120).First, after PR is coated on a thin film to form a predetermined pattern, a first baking (soft baking) for drying the coated PR (S110, S120) is performed.
다음으로, 패턴이 형성된 포토마스크를 정렬하고 PR을 노광하는 노광공정을 진행한다(S130). 이때, 사용하는 포토마스크는 소정의 투과영역과 차단영역으로 구성되며, 상기 투과영역을 통과한 빛은 상기 PR을 화학적으로 변화시킨다.Next, an exposure process of aligning the photomask on which the pattern is formed and exposing the PR is performed (S130). In this case, the photomask to be used is composed of a predetermined transmission area and a blocking area, and the light passing through the transmission area chemically changes the PR.
상기 PR의 화학적 변화는 PR의 종류에 따라 달라지는데, 포지티브 타입의 PR은 빛을 받은 부분이 현상액에 의하여 용해되는 성질로 변화되며, 네거티브 타입의 PR은 반대로 빛을 받은 부분이 현상액에 용해되지 않는 성질로 변화된다. 여기서는 상기 포지티브 타입의 PR을 사용한 경우를 예를 들어 설명한다.The chemical change of the PR is dependent on the type of PR, the positive type of PR is changed to the property that the lighted portion is dissolved by the developer, the negative type of PR is the property that the lighted portion is not dissolved in the developer Is changed. Here, the case where the positive type PR is used is demonstrated as an example.
상기 노광공정에 이어서 현상액으로 불필요한 PR, 즉 PR의 노광된 부분을 제거하게 되면 박막 상에 소정의 PR패턴이 형성된다(S140).Subsequent to the exposure process, if the unnecessary PR, that is, the exposed portion of the PR is removed by the developer, a predetermined PR pattern is formed on the thin film (S140).
다음으로, 상기 PR패턴을 가열하여 경화시키는 2차 베이킹(hard baking)을 진행하고 난 후, 전술한 식각부에서 식각액을 통해 상기 PR패턴의 형태대로 상기 박막을 식각하고, 박리액(stripper)으로 남은 PR패턴을 제거하면 소정 형태의 박막패턴이 형성되게 된다(S150).Next, after the hard baking is performed to heat and harden the PR pattern, the thin film is etched in the form of the PR pattern through the etching solution in the above-described etching unit, and then, a stripper is used as a stripper. If the remaining PR pattern is removed, a thin film pattern of a predetermined form is formed (S150).
이와 같이 액정표시장치 등의 평판표시장치의 제조공정에서 패턴을 형성할 때에는 PR 코팅을 행하는데, PR 코팅을 하기 전에 기판 표면에 존재하는 유기물 및 무기물 등의 이물을 제거하는 기판 세정을 행한다.Thus, when forming a pattern in the manufacturing process of flat panel display devices, such as a liquid crystal display device, PR coating is performed, but before a PR coating, the board | substrate washing | cleaning which remove | eliminates foreign substances, such as an organic substance and inorganic substance which exists in the surface of a board | substrate, is performed.
도 5는 상기 도 3에 도시된 인-라인 현상장비의 세정부에 있어, 세정공정을 순차적으로 나타내는 블록도이다.FIG. 5 is a block diagram sequentially illustrating a cleaning process in the cleaning unit of the in-line developing apparatus illustrated in FIG. 3.
또한, 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 세정장치의 구성을 개략적으로 나타내는 예시도이다.6 is an exemplary view schematically showing a configuration of a cleaning device according to an embodiment of the present invention.
상기 도 6을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 세정장치는 인-라인 컨베이어(130)로 진행되는 다수의 세정부로 구성되는데, 상기 세정부(200)는 순서대로 플라즈마 세정부(210), 1차 세정부(220), 2차 세정부(230), 최후 세정부(250) 및 건조부(260)를 포함한다.Referring to FIG. 6, the cleaning device according to the embodiment of the present invention includes a plurality of cleaning parts that proceed to the in-line conveyor 130, and the cleaning parts 200 sequentially clean the plasma 210. And a first cleaning unit 220, a second cleaning unit 230, a final cleaning unit 250, and a drying unit 260.
이때, 상기 1차 세정부(220)는 롤 브러시(roll brush)(135)를 이용한 1차 세정을 진행하며, 상기 2차 세정부(230)는 일반적인 세정이나 고압 펌프, 버블 제트(bubble jet) 등에 의한 2차 세정을 진행하며, 상기 건조부(260)는 에어 나이프(air knife)(145)를 이용한 건조공정을 진행한다.In this case, the first cleaning unit 220 performs a first cleaning using a roll brush (135), the second cleaning unit 230 is a general cleaning, high pressure pump, bubble jet (bubble jet) The secondary cleaning by the process, etc., the drying unit 260 proceeds the drying process using an air knife (145).
이러한 본 발명의 실시예에 따른 세정장치는 기판(S)의 이송경로를 따라 상기 1차 세정부(220), 2차 세정부(230), 최후 세정부(250)에 각각 설치되어 이송되는 기판(S)에 대하여 세정수를 차례로 분사하는 최초 분사부(140a)와 중간 분사부(140b) 및 최종 분사부(140c)를 추가로 포함한다.The cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention is a substrate that is installed in each of the first cleaning unit 220, the second cleaning unit 230, the last cleaning unit 250 along the transfer path of the substrate (S) It further includes an initial injection unit 140a, an intermediate injection unit 140b, and a final injection unit 140c for sequentially spraying the washing water with respect to (S).
그리고, 상기 최종 세정부(250)의 최종 분사부(140c)에서 기판(S)에 분사되어 배출되는 세정수를 회수하여 상기 중간 분사부(140b)로 공급하는 제 2 저장부(151b)와 상기 중간 분사부(140b)에서 기판(S)에 분사되어 배출되는 세정수를 회수하여 상기 최초 분사부(140a)로 공급하는 제 1 저장부(151a)를 포함하는 저장부(151)를 추가로 포함한다. 따라서, 각 분사부(140a~140c)에는 기판 이송방향을 따라 점점 더 고순도의 세정수가 차등 공급된다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 저장부(151)는 최종 분사부(140c)와 중간 분사부(140b)에서 기판(S)에 분사되어 배출되는 세정수를 함께 회수하도록 단일하게 구성되는 것도 고려될 수다.In addition, the second storage unit 151b and the second storage unit 151b for collecting and supplying the washing water discharged from the final spray unit 140c of the final cleaning unit 250 to the substrate S and supplied to the intermediate spray unit 140b. The storage unit 151 further includes a storage unit 151 including a first storage unit 151a for recovering and supplying the washing water discharged and discharged from the intermediate sprayer 140b to the substrate S to the initial sprayer 140a. do. Therefore, each of the jetting parts 140a to 140c is gradually supplied with increasingly high purity cleaning water along the substrate transfer direction. However, the present invention is not limited thereto, and the storage unit 151 may be configured to recover the washing water discharged from the final injection unit 140c and the intermediate injection unit 140b to the substrate S together. It can also be considered.
상기 최종 분사부(140c)에는 세정수 공급원(150)의 공급라인(152)을 통해 초순도의 세정수를 공급할 수 있으며, 상기 최초 분사부(140a)에서 사용된 세정수는 배출라인(155)을 통해 배출될 수 있다.The final injection unit 140c may be supplied with ultrapure cleaning water through the supply line 152 of the washing water supply source 150, and the washing water used in the initial injection unit 140a may be a discharge line 155. Can be discharged through.
참고로, 도면부호 153a, 153b 및 P1, P2는 각각 순환라인 및 펌프를 나타낸다.For reference, reference numerals 153a, 153b, and P1 and P2 denote circulation lines and pumps, respectively.
이에 기판(S)은 일 방향으로 수평, 이송되면서 상기 플라즈마 세정부(210) 내에 설치되는 플라즈마 장치를 통해 그 표면의 유기물이 제거된 후 각 분사부(140a~140c)를 차례로 통과하며 각 분사부(140a~140c)에서 분사되는 세정수에 의해 순차적으로 세정되는데, 이를 상세히 설명한다.Accordingly, the substrate S is horizontally transported in one direction and organic matters are removed from the surface through the plasma apparatus installed in the plasma cleaning unit 210, and then passes through the respective injection units 140a to 140c in turn. It is sequentially washed by the washing water sprayed from (140a ~ 140c), it will be described in detail.
먼저, 인-라인 컨베이어(130)는 기판(S)을 세정 공정으로 이송시켜 주기 위하여 기판(S)이 안착되는 영역이며, 인-라인 컨베이어(130)를 따라 포토 전 세정이 이루어지게 된다.First, the in-line conveyor 130 is an area where the substrate S is seated in order to transfer the substrate S to the cleaning process, and pre-cleaning is performed along the in-line conveyor 130.
이러한 인-라인 컨베이어(130)에 안착된 기판(S)은 순수(deionized water)로는 기판(S)의 표면에 존재하는 유기물 제거가 안되기 때문에 상압 플라즈마를 이용한 유기물 제거공정을 진행하게 된다(S210). 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 엑시머 UV 램프를 이용하여 기판(S) 표면상에 존재하는 유기물을 제거할 수도 있다.Since the substrate S mounted on the in-line conveyor 130 is not deionized water, the organic material existing on the surface of the substrate S cannot be removed, and thus the organic material removing process using the atmospheric pressure plasma is performed (S210). . However, the present invention is not limited thereto, and organic materials existing on the surface of the substrate S may be removed using an excimer UV lamp.
이후, 기판(S) 표면에 묻어 있는 이물을 롤 브러시(135)를 이용하여 물리적 힘을 가해 제거하는 1차 세정공정을 진행한다(S220). 이러한, 롤 브러시(135)를 이용한 1차 세정공정은 비교적 크기가 큰 이물 및 유기물 제거에 효과가 있다.Subsequently, a first cleaning process of removing foreign substances on the surface of the substrate S by applying a physical force using the roll brush 135 is performed (S220). The first cleaning process using the roll brush 135 is effective in removing foreign matter and organic matter having a relatively large size.
또한, 대형 기판(S)의 휨을 고려하여 롤 브러시(135)는 상하 서로 마주보게 설치될 수 있다.In addition, in consideration of the bending of the large substrate (S), the roll brush 135 may be installed to face each other up and down.
또한, 상기 롤 브러시(135)를 이용한 1차 세정공정이 항상 사용되는 것은 아니고 공정에 따라 사용 유무가 결정될 수 있다. 예를 들면, 평탄화 패턴이 이루어진 곳에서는 롤 브러시를 통한 세정이 이루어지나, 패턴 형태가 이루어지는 곳에서는 패턴에 손상을 줄 수 있으므로 롤 브러시 공정이 사용되지 않는다.In addition, the primary cleaning process using the roll brush 135 is not always used, it may be used depending on the process. For example, where a flattening pattern is formed, cleaning is performed through a roll brush, but where a pattern form is formed, a roll brush process is not used because it may damage the pattern.
이후, 고압 펌프에 의한 압력을 가진 액체와 기체를 최초, 중간 분사부(140a, 140b) 내에서 혼합함으로써 물방울을 발생시키고, 그 물방울을 고속의 기체 흐름에 의해 가속 분사시켜, 기판(S) 상의 유체의 탄력으로 표면의 이물을 제거하는 2차 및 3차 이상의 세정공정이 행해진다(S230, S240).Subsequently, droplets are generated by first mixing the liquid and the gas with the pressure of the high pressure pump in the intermediate injection units 140a and 140b, and the droplets are accelerated and sprayed by the high-speed gas flow, thereby onto the substrate S. Second and third cleaning processes are performed to remove foreign substances on the surface by the elasticity of the fluid (S230, S240).
이후, 기판(S) 상에 마지막으로 최종 분사부(140c)를 이용한 샤워(shower)를 행하여 린스를 실시하고, 마지막으로 이물을 제거하는 최후 세정공정이 행해진다(S250).Thereafter, a shower using the final sprayer 140c is finally rinsed on the substrate S, and a final cleaning step of finally removing foreign matters is performed (S250).
이때, 상기 분사부(140a~140c)는 이송되는 기판(S)에 다수 회 세정수를 분사하도록 최초 분사부(140a)와 최종 분사부(140c)를 필수적으로 포함하고, 상기 최초 분사부(140a)와 최종 분사부(140c) 사이에는 단일 또는 다수의 중간 분사부(140b)가 더 설치되는 것이 바람직하다.At this time, the injection unit (140a ~ 140c) essentially includes an initial injection unit 140a and the final injection unit 140c to inject a plurality of washing water to the substrate (S) to be transferred, the first injection unit 140a ) And the final injection unit 140c is preferably provided with a single or multiple intermediate injection unit (140b).
상기 각 분사부(140a~140c)는 홀 샤워 타입 노즐을 다수 구비하여 세정수를 분사할 수 있다.Each of the spray units 140a to 140c may include a plurality of hole shower nozzles to spray washing water.
이후, 에어 나이프(145)를 이용하여 기판(S) 상에 남아 있는 물을 완전히 제거 및 건조하는 건조공정이 행해진다(S260).Thereafter, a drying process of completely removing and drying the water remaining on the substrate S using the air knife 145 is performed (S260).
한편, 이와 같은 다수 회의 세정에도 불구하고 세정 후에 이물이 제거되지 않는 경우가 발생하는데, 이는 세정에 의하여 이물이 제거되었으나 이동하여 다시 부착되는 경우, 기판에 고착됨에 따라 세정에서 제거되지 않은 경우가 있다.On the other hand, despite such a plurality of cleaning, there is a case that the foreign matter is not removed after cleaning, which is that when the foreign matter was removed by the cleaning but moved and attached again, it may not be removed in the cleaning as it adheres to the substrate. .
이중 처음 경우는 타격력은 양호하나 제거력이 약하기 때문에 이물을 기판 표면에서 떨어뜨렸으나 제거를 시키지 못한 경우에 해당하고, 나중 경우는 타격력 자체가 약해 이물을 기판 표면에서 떨어뜨리지 못한 경우에 해당한다. 상기 나중 경우는 예를 들면, 이물 상면을 때림으로써 이물을 들뜨게 하지 못하는 경우가 있을 수 있다.In the first case, the impact force is good, but the removal force is weak, so that the foreign material dropped from the surface of the substrate but failed to remove, and in the latter case, the impact force itself is weak, the foreign material does not drop from the substrate surface. In the latter case, the foreign material may not be lifted by, for example, beating the upper surface of the foreign material.
이에 본 발명의 세정장치는 분사부의 각도를 변경하여 타격력 및 제거력을 향상시킴으로서 기판의 이송 및 반송간 발생하는 이물을 효과적으로 제거할 수 있는데, 이를 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Accordingly, the cleaning apparatus of the present invention can effectively remove foreign substances generated between transfer and conveyance of the substrate by changing the angle of the injection unit to improve the impact force and the removal force, which will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 7a 및 도 7b는 상기 도 6에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 세정장치에 있어, 세정장치의 분사부 각도를 변경하여 타격력 및 제거력을 향상시키는 원리를 개략적으로 나타내는 예시도이다.7a and 7b is an exemplary view schematically showing the principle of improving the impact force and the removal force by changing the injection angle of the cleaning device in the cleaning device according to the embodiment of the present invention shown in FIG.
또한, 도 8은 상기 도 6에 도시된 본 발명의 실시예에 따른 세정장치에 있어, 세정장치의 분사부 각도의 최댓값을 설정하는 방법을 개략적으로 나타내는 예시도이다.8 is an exemplary view schematically showing a method of setting the maximum value of the injection angle of the cleaning device in the cleaning device according to the embodiment of the present invention shown in FIG.
먼저, 도 7a에 도시된 바와 같이, 분사부(140)를 기판(S)의 수직방향에 대해 소정의 각도(α)로 설치하여 기판(S)의 진입방향(도시된 화살표 방향)과 반대방향으로 세정수를 분사함으로써 제거력을 극대화하여 기판(S) 표면에서 떨어뜨린 이물(D)을 완전히 제거할 수 있게 된다.First, as shown in FIG. 7A, the injection unit 140 is installed at a predetermined angle α with respect to the vertical direction of the substrate S to be opposite to the entrance direction of the substrate S (arrow direction shown). By spraying the washing water to maximize the removal force it is possible to completely remove the foreign material (D) dropped from the surface of the substrate (S).
또한, 도 7b에 도시된 바와 같이, 기판(S)에 부착된 이물(S)의 상면을 때려서는 이물(D)을 제거하기 힘들기 때문에 상기와 같이 분사부(140)를 소정의 각도(α)로 기울여 이물(D) 하단을 타격하는 경우 타격력이 극대화되어 이물(D)을 효과적으로 제거할 수 있게 된다.In addition, as shown in Figure 7b, it is difficult to remove the foreign material (D) by hitting the upper surface of the foreign material (S) attached to the substrate (S) as described above, the injection portion 140 as described above a predetermined angle (α). If you tilt to the bottom of the foreign material (D) hitting the impact force is maximized to effectively remove the foreign material (D).
이러한 분사부(140)의 틸트(tilt) 각도(α)는 설비의 조건별로 차이가 있을 수 있으나, 도 8에 도시된 바와 같이 15°를 넘어갈 경우 기판(S)의 진입이 어려울 수 있으므로 5° ~ 15°로 설정할 수 있다.The tilt angle α of the injection unit 140 may vary according to the conditions of the equipment. However, when it exceeds 15 °, it may be difficult to enter the substrate S as shown in FIG. 8, and thus 5 °. Can be set to ~ 15 °.
이에 따라 수율 및 품질이 향상되는 한편, 이전 공정의 이물로 인한 원치 않는 장비의 다운(down) 및 작업 손실을 방지할 수 있게 된다. 예를 들어, 본 발명에 따른 세정장치는 세정력의 개선으로 수율이 약 0.15% 향상되는 효과를 제공한다.This improves yield and quality while preventing unwanted equipment downtime and loss of work due to foreign material from previous processes. For example, the cleaning apparatus according to the present invention provides an effect of improving the yield by about 0.15% by improving the cleaning power.
특히, 이러한 본 발명에 따른 세정장치는 어떠한 구성의 현상장비뿐만 아니라 다른 용도의 장비의 세정에 적용될 수 있는 이점이 있다. 즉, 포토기술을 적용한 반도체나 액정표시장치 등의 평판표시장치 등을 포함하여 기판에 도포된 PR, PI(polyimide) 또는 그에 상응하는 물질을 세정하는 모든 분야에 적용될 수 있다.In particular, the cleaning device according to the present invention has the advantage that can be applied to the cleaning of the equipment of any configuration as well as other equipment. That is, the present invention may be applied to any field of cleaning PR, PI (polyimide) or a corresponding material applied to a substrate, including a flat panel display such as a semiconductor or a liquid crystal display using photo technology.
상기한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.Many details are set forth in the foregoing description but should be construed as illustrative of preferred embodiments rather than to limit the scope of the invention. Therefore, the invention should not be construed as limited to the embodiments described, but should be determined by equivalents to the appended claims and the claims.
100 : 로딩부 130 : 인-라인 컨베이어
140,140a~140c : 분사부 145 : 에어 나이프
200 : 세정부 210 : 플라즈마 세정부
220 : 1차 세정부 230 : 2차 세정부
250 : 최후 세정부 260 : 건조부
300 : 포토공정부 400 : 식각부
500 : 언로딩부 S : 기판
100: loading unit 130: in-line conveyor
140,140a ~ 140c: Injector 145: Air Knife
200: cleaning unit 210: plasma cleaning unit
220: primary cleaning unit 230: secondary cleaning unit
250: final washing unit 260: drying unit
300: photo process unit 400: etching unit
500: unloading portion S: substrate

Claims (15)

  1. 기판이 로딩되는 로딩부;
    상기 로딩된 기판의 수직방향에 대해 소정의 각도로 설치된 적어도 하나의 분사부를 통해 상기 기판을 세정하는 세정부;
    상기 세정된 기판에 대해 포토레지스트(photoresist; PR) 코팅, 노광 및 현상을 진행하는 포토공정부;
    상기 현상된 기판에 대해 식각을 진행하여 소정의 패턴을 형성하는 식각부; 및
    상기 패턴이 형성된 기판을 언로딩하는 언로딩부를 포함하며, 상기 로딩부, 세정부, 포토공정부, 식각부 및 언로딩부는 인-라인(in-line) 형태로 배치되는 한편, 인-라인 형태로 기판의 반송 및 각 공정을 진행하는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.
    A loading unit in which a substrate is loaded;
    A cleaning unit for cleaning the substrate through at least one spraying unit installed at a predetermined angle with respect to a vertical direction of the loaded substrate;
    A photo process unit for performing photoresist (PR) coating, exposure and development on the cleaned substrate;
    An etching unit for etching the developed substrate to form a predetermined pattern; And
    And an unloading part for unloading the substrate on which the pattern is formed, wherein the loading part, the cleaning part, the photoprocessing part, the etching part, and the unloading part are arranged in-line, and in-line shape. In-line developing equipment, characterized in that for carrying out the transfer of the substrate and each process.
  2. 제 1 항에 있어서, 컨베이어 등의 이송수단을 이용하여 인-라인 형태로 기판의 반송 및 각 공정을 진행하는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.The in-line developing apparatus according to claim 1, wherein the substrate is conveyed and each process is performed in an in-line form using a conveying means such as a conveyor.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 세정부는 인-라인 형태로 진행되는 다수의 세정부로 구성되는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.The in-line developing apparatus of claim 1, wherein the cleaning unit comprises a plurality of cleaning units which proceed in an in-line form.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 다수의 세정부는 플라즈마 세정부, 1차 세정부, 2차 세정부, 최후 세정부 및 건조부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.The in-line developing apparatus of claim 3, wherein the plurality of cleaning units comprises a plasma cleaning unit, a primary cleaning unit, a secondary cleaning unit, a final cleaning unit, and a drying unit.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 1차 세정부는 롤 브러시를 이용한 1차 세정을 진행하는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.The in-line developing apparatus of claim 4, wherein the first cleaning unit performs a first cleaning using a roll brush.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 건조부는 에어 나이프를 이용한 건조공정을 진행하는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.The in-line developing apparatus of claim 4, wherein the drying unit performs a drying process using an air knife.
  7. 제 4 항에 있어서, 상기 분사부는 기판의 이송경로를 따라 상기 1차 세정부, 2차 세정부 및 최후 세정부에 각각 설치되어 이송되는 기판에 대하여 소정 각도로 세정수를 분사하는 최초 분사부, 중간 분사부 및 최후 분사부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.The spraying apparatus of claim 4, wherein the spraying unit comprises: an initial spraying unit spraying the washing water at a predetermined angle with respect to the substrate to be installed and transported respectively in the primary cleaning unit, the secondary cleaning unit, and the last cleaning unit along the transfer path of the substrate; In-line developing equipment, characterized in that it comprises an intermediate injection unit and the last injection unit.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 분사부는 소정의 각도로 기울여져 기판 표면의 이물의 하단을 타격하여 제거하는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.The in-line developing apparatus according to claim 1, wherein the jetting part is inclined at a predetermined angle to strike and remove the lower end of the foreign material on the substrate surface.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 분사부는 기판의 수직방향에 대해 5° ~ 15°의 각도로 설치되는 것을 특징으로 하는 인-라인 현상장비.The in-line developing apparatus of claim 1, wherein the jetting unit is installed at an angle of 5 ° to 15 ° with respect to a vertical direction of the substrate.
  10. 컬러필터 기판과 어레이 기판 및 상기 컬러필터 기판과 어레이 기판 사이에 형성된 액정층으로 구성된 액정표시장치의 제조방법에 있어서,
    상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판에 포토공정을 진행하기 전후에 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판을 세정하는 단계는
    (a) 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판 표면에 존재하는 유기물을 제거하는 단계;
    (b) 상기 유기물이 제거된 컬러필터 기판이나 어레이 기판의 수직방향에 대해 소정의 각도로 세정수를 분사하여 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판에 1차 세정, 2차 세정 및 최후 세정을 진행하는 단계; 및
    (c) 상기 세정된 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판을 건조하는 단계를 포함하며, 상기 (a) 단계 내지 (c) 단계는 인-라인 형태로 진행되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
    In the manufacturing method of a liquid crystal display device comprising a color filter substrate and an array substrate and a liquid crystal layer formed between the color filter substrate and the array substrate,
    The step of cleaning the color filter substrate or the array substrate before and after performing a photo process on the color filter substrate or the array substrate
    (a) removing organic substances present on the surface of the color filter substrate or the array substrate;
    (b) spraying the washing water at a predetermined angle with respect to the vertical direction of the color filter substrate or the array substrate from which the organic material has been removed, and performing the first washing, the second washing, and the last washing on the color filter substrate or the array substrate. ; And
    (c) drying the cleaned color filter substrate or array substrate, wherein steps (a) to (c) are performed in-line.
  11. 제 10 항에 있어서, 상기 (a) 단계 내지 (c) 단계는 인-라인 형태로 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판의 반송 및 각 세정공정을 진행하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.11. The method of claim 10, wherein the steps (a) to (c) are carried out in the in-line form to convey the color filter substrate or the array substrate and to perform each cleaning process.
  12. 제 10 항에 있어서, 상기 1차 세정은 롤 브러시를 이용하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The method of claim 10, wherein the first cleaning uses a roll brush.
  13. 제 10 항에 있어서, 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판에 1차 세정, 2차 세정 및 최후 세정을 진행하는 단계는 상기 유기물이 제거된 컬러필터 기판이나 어레이 기판의 수직방향에 대해 소정의 각도로 설치된 적어도 하나의 분사부를 통해 상기 컬러필터 기판이나 어레이 기판에 대하여 소정 각도로 세정수를 분사하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The method of claim 10, wherein the first cleaning, the second cleaning, and the last cleaning of the color filter substrate or the array substrate are performed at a predetermined angle with respect to the vertical direction of the color filter substrate or the array substrate from which the organic material is removed. And spraying the washing water at a predetermined angle with respect to the color filter substrate or the array substrate through at least one spraying unit.
  14. 제 13 항에 있어서, 상기 분사부는 소정의 각도로 기울여져 컬러필터 기판이나 어레이 기판 표면의 이물의 하단을 타격하여 제거하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The method of claim 13, wherein the jetting part is inclined at a predetermined angle to blow off the lower end of the foreign material on the surface of the color filter substrate or the array substrate.
  15. 제 13 항에 있어서, 상기 분사부는 컬러필터 기판이나 어레이 기판의 수직방향에 대해 5° ~ 15°의 각도로 설치되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.The method of claim 13, wherein the jetting unit is disposed at an angle of 5 ° to 15 ° with respect to the vertical direction of the color filter substrate or the array substrate.
KR1020110082456A 2011-08-18 2011-08-18 In-line apparatus for developing having a cleaning device and method of fabricating liquid crystal display device using thereof KR101252481B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110082456A KR101252481B1 (en) 2011-08-18 2011-08-18 In-line apparatus for developing having a cleaning device and method of fabricating liquid crystal display device using thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110082456A KR101252481B1 (en) 2011-08-18 2011-08-18 In-line apparatus for developing having a cleaning device and method of fabricating liquid crystal display device using thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130020069A true KR20130020069A (en) 2013-02-27
KR101252481B1 KR101252481B1 (en) 2013-04-09

Family

ID=47898072

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110082456A KR101252481B1 (en) 2011-08-18 2011-08-18 In-line apparatus for developing having a cleaning device and method of fabricating liquid crystal display device using thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101252481B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101634705B1 (en) * 2016-01-20 2016-06-29 엠에스티코리아(주) apparatus for treating substrate
KR102277314B1 (en) * 2020-09-04 2021-07-14 주식회사 톱텍 Photoresist coating device
KR102277310B1 (en) * 2020-09-04 2021-07-14 주식회사 톱텍 Photoresist coating device

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0766265A (en) * 1993-08-30 1995-03-10 Hitachi Ltd Manufacturing equipment
JP2005159217A (en) * 2003-11-28 2005-06-16 Sanyo Electric Co Ltd Manufacturing method and dicing apparatus for semiconductor device
KR100817505B1 (en) * 2005-06-29 2008-03-31 (주)티제이이앤지 Cleaning equipment and methods for wave glass plate producing flat-lightening lamp

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101634705B1 (en) * 2016-01-20 2016-06-29 엠에스티코리아(주) apparatus for treating substrate
KR102277314B1 (en) * 2020-09-04 2021-07-14 주식회사 톱텍 Photoresist coating device
KR102277310B1 (en) * 2020-09-04 2021-07-14 주식회사 톱텍 Photoresist coating device

Also Published As

Publication number Publication date
KR101252481B1 (en) 2013-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100960468B1 (en) Method of cutting liquid crystal display panel and method of fabricating liquid crystal display panel using the same
KR100928928B1 (en) Manufacturing Method of Liquid Crystal Display Panel
JP2007183540A (en) Method for cutting liquid crystal display panel and method for manufacturing liquid crystal display panel using the same
KR100347436B1 (en) Method of forming a seal pattern for liquid crystal display device
US8128995B2 (en) Method of fabricating liquid crystal display panel for coating liquid on substrate
KR101252481B1 (en) In-line apparatus for developing having a cleaning device and method of fabricating liquid crystal display device using thereof
KR20070121204A (en) Substrate transport apparatus and substrate cleaning system using the same
US20040169805A1 (en) Apparatus for forming alignment film of liquid crystal display device and method for forming alignment film using the same
KR20090015413A (en) Apparatus for cleaning slit nozzle used in manufacturing flat panal display devices
US7133097B2 (en) Apparatus for forming alignment film of liquid crystal display device comprising an alignment material removal unit for backflushing residual alignment material and a method for forming alignment film using the same.
KR100928927B1 (en) Alignment film forming equipment and alignment film forming method using the same
KR101313656B1 (en) In-line apparatus for developing and method of fabricating liquid crystal display device using thereof
KR20070077997A (en) Cleaning device and cleaning method using the same
WO2018216612A1 (en) Apparatus for treating substrate
KR20070060713A (en) Apparatus and method for cleaning a substrate
KR20060058890A (en) Cassette for loading glass
KR101073672B1 (en) Polishing roller array of multi-unit structure for display panel cleaning device
KR20140059585A (en) Cleaning apparatus for substrate
KR20100059236A (en) Apparatus and methdo for processing a glass
WO2018230457A1 (en) Substrate processing device
JP2001272922A (en) Method and device of manufacturing electrooptical device
KR20060065972A (en) Wet cleaning equipment for liquid crystal display
KR20070071199A (en) Rubbing apparatus and method of fabricating liquid crystal display panel using the same
KR100815906B1 (en) Manufacturing Apparatus of Liquid Crystal Display Devices
KR20030056530A (en) Nozzle for Injecting Liquid

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160329

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170320

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190318

Year of fee payment: 7