KR20120117480A - 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 및 그 제조 방법 - Google Patents

광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 및 그 제조 방법 Download PDF

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KR20120117480A
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권동주
류무선
김원국
홍주희
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(주)엘지하우시스
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Abstract

마이크로 그라비아 코팅으로 증착 프라이머층을 형성하는 것을 통하여 코팅면의 광택 특성이 심미적으로 살아날 수 있는 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 제조 방법은 기재층의 상부에 이형층을 형성하는 단계; 상기 이형층의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 하드 코팅층을 형성하는 단계; 상기 하드 코팅층의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 증착 프라이머층을 형성하는 단계; 상기 증착 프라이머층의 상부에 그라비아 코팅으로 인쇄층을 형성하는 단계; 및 상기 인쇄층의 상부에 접착층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 및 그 제조 방법{IN-MOLD TRANSCRIPTION SHEET WITH EXCELLENT GLOSS COATING SURFACE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 인몰드 전사시트 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마이크로 그라비아 코팅으로 증착 프라이머층을 형성하는 것을 통하여 코팅면의 광택 특성이 심미적으로 살아날 수 있는 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 기술 발전에 힘입어 다양한 전기 및 전자 제품이 계속적으로 출현하고 있고, 대표적으로 휴대폰과 같은 이동통신 단말기는 그 사용인구가 기하급수적으로 늘어나면서 생활 필수품 중 하나가 되었다. 이 외에도, 노트북, 전자수첩, MP3, PDA, 네비게이션 등은 소형화되면서 휴대가 가능해짐에 따라 그 사용자가 점점 늘어나고 있는 추세이다.
한편, 전기 및 전자제품은 주된 소비층인 젊은 세대의 취향을 충족시키기 위하여 그 기능성뿐만 아니라 외부로 보여지는 미감, 즉 색상이나 디자인에 대해서도 다양한 시도가 이루어지고 있다. 이러한 시도 중 하나로 최근에는 인몰드 전사필름을 이용하여 동시 사출을 통하여 최종 완제품인 사출 성형물을 제조하고 있다.
그러나, 종래의 인몰드 전사시트는 인쇄층의 상부에 그라비아 공법으로 증착 프라이머층을 형성하고 있는 데, 이 경우 증착면의 광택이 불량하여 인쇄층의 문양이 입체적으로 살아나지 못하는 문제가 있다.
본 발명의 하나의 목적은 마이크로 그라비아 코팅으로 프라이머층을 형성하는 것을 통하여 코팅면의 광택 특성이 심미적으로 살아날 수 있는 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 제조 방법으로 제조되는 인몰드 전사시트를 제공하는 것이다.
상기 하나의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 제조 방법은 기재층의 상부에 이형층을 형성하는 단계; 상기 이형층의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 하드 코팅층을 형성하는 단계; 상기 하드 코팅층의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 증착 프라이머층을 형성하는 단계; 상기 증착 프라이머층의 상부에 그라비아 코팅으로 인쇄층을 형성하는 단계; 및 상기 인쇄층의 상부에 접착층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트는 위로부터 기재층, 이형층, 하드 코팅층, 증착 프라이머층, 인쇄층 및 접착층을 포함하며, 상기 증착 프라이머층은 코팅면의 광택이 살아나도록 마이크로 그라비아 코팅에 의하여 0.5 ~ 1.5㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트는 인쇄층을 형성하기에 앞서 하드 코팅층과 증착 프라이머층을 마이크로 그라비아 코팅 공법을 이용한 연속 코팅으로 형성할 경우, 양호한 코팅면을 가질 수 있기 때문에 증착면의 광택 특성이 좋아지고, 이를 통하여 인쇄층의 문양이 보다 밝아져 입체적으로 살아날 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트에 대하여 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 제조 방법에 대하여 나타낸 공정 순서도이다.
도 3은 도 2의 증착 프라이머층 형성 과정에 대하여 개략적으로 나타낸 공정 모식도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 및 그 제조 방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트에 대하여 나타낸 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 인몰드 전사시트(100)는 위로부터 차례로 적층되는 기재층(110), 이형층(120), 하드 코팅층(130), 증착 프라이머층(140), 인쇄층(150) 및 접착층(170)을 포함한다.
기재층(110)은 PET(polyethylene terephthalate), PC(polycarbonate), PP(polypropylene) 및 아크릴(acrylic) 중 선택된 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다.
이형층(120)은 기재층(110)의 상부에 형성되며, 사출 금형 내에 인몰드 전사시트(100)를 삽입한 상태에서 용융된 수지를 사출 성형하여 제작되는 사출 성형물(미도시)을 제작한 후, 상기 사출 성형물로부터 기재층(110)을 제거하기 위한 목적으로 형성된다.
상기 이형층(120)은 에폭시계, 에폭시-멜라민계, 아미노알키드계, 아크릴계, 멜라민계, 실리콘계, 불소계, 셀룰로오스계, 요소 수지계, 폴리올레핀계 및 파라핀계 중 선택된 하나 이상의 재질로 형성될 수 있다.
하드 코팅층(130)은 사출 성형 시, 후술할 인쇄층(150)에 스크래치가 발생되는 것을 방지하기 위한 목적으로 형성되는 것으로, 바람직하게는 마이크로 그라비아(Micro Gravure) 코팅을 이용하여 형성한다.
여기서, 상기 하드 코팅층(130)은 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계 및 실록산계 폴리머 재질 중 1종 이상을 사용할 수 있고, 또한 올리고머(oligomer)와 같은 자외선 경화 수지를 사용할 수 있다. 또한, 상기 하드 코팅층(130)은 강도 향상을 위하여 실리카(silica)계의 필러를 더 포함할 수도 있다.
이때, 상기 하드 코팅층(130)은 3 ~ 8㎛의 두께로 형성하는 것이 좋다. 만약, 하드 코팅층(130)의 두께가 3㎛ 미만일 경우에는 스크래치 방지 효과가 미미할 수 있고, 반대로 하드 코팅층(130)의 두께가 8㎛를 초과할 경우에는 필요 이상의 두께로 형성되는 데 따른 생산 비용의 상승 문제가 발생할 수 있다.
증착 프라이머층(140)은 하드 코팅층(130)과 인쇄층(150) 사이에 개재되어 코팅면의 표면 광택을 향상시키는 기능을 한다.
이때, 상기 증착 프라이머층(140)은 우레탄 수지 또는 변성아크릴수지를 주성분으로 하거나 폴리이소시아네이트 및 폴리올을 주성분으로 하는 것을 이용할 수 있으며, 보다 구체적으로는 폴리아크릴 변성 폴리올, 폴리이소시아네이트, 산화금속 미립자 및 경화촉매 중 선택된 1종 이상으로 형성하는 것이 바람직하다.
상기 증착 프라이머층은 0.5 ~ 1.5㎛의 두께로 형성하는 것이 좋다. 만약, 상기 증착 프라이머층의 두께가 0.5㎛ 미만일 경우에는 표면 광택 효과가 불충분할 수 있고, 반대로 증착 프라이머층의 두께가 1.5㎛를 초과할 경우에는 크랙(crack) 발생 및 부착성이 저하되는 문제점이 있다.
특히, 상기 증착 프라이머층(140)은 하드 코팅층(130)의 형성 방법과 동일한 마이크로 그라비아 코팅 공법을 이용하여 연속 코팅 방식으로 형성하는 것이 바람직하다.
이와 같이, 후술할 인쇄층(150)을 형성하기에 앞서 하드 코팅층(130)과 증착 프라이머층(140)을 마이크로 그라비아 코팅 공법을 이용한 연속 코팅으로 형성할 경우, 양호한 코팅면을 가질 수 있기 때문에 증착면의 광택 특성이 좋아지고, 이를 통하여 인쇄층(150)의 문양이 보다 밝아져 입체적으로 살아날 수 있는 효과가 있다.
인쇄층(150)은 그라비아 코팅 공법에 의하여 형성될 수 있다. 인쇄층(150)은 서로 같거나 다른 문양을 갖고 있어 인물사진, 패턴, 다양한 컬러, 다양한 문양 등을 원하는 형태로 자유롭게 구현할 수 있다.
전술한 바와 같이, 상기 증착 프라이머층(140)의 상부에 인쇄층(150)을 형성할 경우, 상기 증착 프라이머층(140)에 의하여 코팅면 상태가 양호해져 인쇄층(150)의 문양이 심미적 및 입체적으로 살아날 수 있다.
접착층(170)은 폴리에스테르, 폴리우레탄, 아크릴, EVA(ethylene co-vinyl acetate), PVAc(polyvinyl acetate), PVC(polyvinyl chloride) 등의 접착제를 그라비아 인쇄 또는 롤코팅을 이용하는 것에 의하여 형성될 수 있다.
또한, 상기 인몰드 전사시트(100)는 인쇄층(150)과 접착층(170) 사이에 형성되는 증착층(160)을 더 포함할 수 있다.
상기 증착층(160)은 진공 증착법에 의해 형성될 수 있으며, 그 재질로는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 백금(Pt), 주석(Sn), 크롬(Cr), 니켈(Ni) 등이 사용될 수 있다.
상기 증착층(160)은 10 ~ 100nm의 두께로 형성하는 것이 바람직하다. 만약, 상기 증착층(160)의 두께가 10nm 미만일 경우에는 표면 반사에 의하여 광택 효과가 불충분할 수 있고, 반대로 증착층(160)의 두께가 100nm를 초과할 경우에는 크랙(crack) 발생 및 부착성이 저하되는 문제가 있다.
이하 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 실시예에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트 제조 방법에 대하여 설명하면 다음과 같다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 인몰드 전사시트 제조 방법에 대하여 나타낸 공정 순서도로, 도 1과 연계하여 설명하도록 한다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 인몰드 전사시트 제조 방법은 이형층 형성 단계(S110), 하드 코팅층 형성 단계(S120), 증착 프라이머층 형성(S130), 인쇄층 형성 단계(S140) 및 접착층 형성 단계(S150)를 포함한다.
이형층 형성 단계(S110)에서는 기재층(110)의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 이형층(120)을 형성한다.
여기서, 상기 이형층(122)은 에폭시계, 에폭시-멜라민계, 아미노알키드계, 아크릴계, 멜라민계, 실리콘계, 불소계, 셀룰로오스계, 요소 수지계, 폴리올레핀계, 파라핀계 중 선택된 1종 이상으로 형성하는 것이 바람직하다.
하드 코팅층 형성 단계(S120)에서는 이형층(120)의 상부에 하드 코팅층(130)을 형성한다.
상기 하드 코팅층(130)은 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계 및 실록산계 폴리머 재질 중 1종 이상을 사용할 수 있고, 또한 올리고머(oligomer)와 같은 자외선 경화 수지를 사용할 수 있다. 또한, 상기 하드 코팅층(130)은 강도 향상을 위하여 실리카(silica)계의 필러를 더 포함할 수도 있다.
증착 프라이머층 형성 단계(130)에서는 하드 코팅층(130)의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 증착 프라이머층(140)을 형성한다.
이때, 증착 프라이머층(140)은 우레탄 수지 또는 변성아크릴수지를 주성분으로 하거나 폴리이소시아네이트 및 폴리올을 주성분으로 하는 것을 이용할 수 있으며, 보다 구체적으로는 폴리아크릴 폴리올, 폴리이소시아네이트, 변성아크릴, 산화금속 미립자 및 경화촉매 중에서 선택된 1종 이상으로 형성하는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 증착 프라이머층은 0.5 ~ 1.5㎛의 두께로 형성하는 것이 좋다. 만약, 상기 증착 프라이머층의 두께가 0.5㎛ 미만일 경우에는 표면 광택 효과가 불충분할 수 있고, 반대로 증착 프라이머층의 두께가 1.5㎛를 초과할 경우에는 크랙(crack) 발생 및 부착성이 저하되는 문제점이 있다.
한편, 도 3은 도 2의 증착 프라이머층 형성 과정에 대하여 개략적으로 나타낸 공정 모식도로, 이를 참조로 보다 구체적으로 설명하도록 한다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 증착 프라이머층 형성 단계(S130)에서는 인쇄 장비를 가동시켜 권취 롤(미도시)에 권취된 기재(105, 여기서 기재는 이형층 및 하드 코팅층이 형성된 기재층이라 정의될 수 있음.)를 일정 속도로 풀게 되면, 마이크로 그라비아 롤(142)의 양측에 배치되는 제1 및 제2 가이드 롤(122, 124)에 의하여 마이크로 그라비아 롤(142)에 기재(105)가 장입되고, 상기 장입된 기재(105)는 증착 프라이머 코팅액(154)이 담긴 코팅 용기(152)의 내부로부터 딥핑된 마이크로 그라비아 롤에서 묻어온 코팅액이 기재(105)의 표면에 전사되어 프라이머 조성물(미도시)이 코팅되게 된다.
이때, 상기 마이크로 그라비아 롤(142)은 기재(105)의 진행 방향(S)에 대하여 반대 방향으로 회전하도록 설치하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 마이크로 그라비아 롤(142)과 제2 가이드 롤(124)의 사이에는 닥터 블레이드(144)가 더 설치될 수 있는 데, 이러한 닥터 블레이드(144)는 코팅 용기(152)에 딥핑된 증착 프라이머 코팅액(154)이 기재(105)에 과잉으로 도포되는 것을 방지하는 기능을 한다.
이후, 상기 기재(105)의 표면에 코팅된 증착 프라이머 조성물을 50 ~ 150℃에서 10 ~ 25초간 열처리하여 증착 프라이머층(도 1의 140)을 형성한다.
이와 같은 마이크로 그라비아 코팅 공법을 이용할 경우, 기재와 마이크로 그라비아 롤의 접촉각을 최소화할 수 있기 때문에 마이크로 그라비아 롤 표면과 기재의 접촉 범위를 극소화하므로 박막의 도료를 균일하게 도포할 수 있다. 따라서, 극박의 기재에 대하여 안정된 박막 코팅의 조작이 가능할 뿐만 아니라 코팅시에는 도료의 응집이 발생하지 않는 장점이 있다.
다시, 도 1 및 도 2를 참조하면, 인쇄층 형성 단계(S140)에서는 증착 프라이머층(140)의 상부에 그라비아 인쇄를 이용하여 인쇄층(150)을 형성한다. 이러한 인쇄층(150)은 서로 같거나 다른 문양을 갖고 있어 인물사진, 패턴, 다양한 컬러, 다양한 문양 등을 원하는 형태로 자유롭게 구현할 수 있다.
접착층 형성 단계(S150)에서는 증착 프라이머층(140)의 상부에 1~3㎛의 두께로 접착층(170)을 형성한다. 상기 접착층(170)은 폴리에스테르, 폴리우레탄, 아크릴, EVA(ethylene co-vinyl acetate), PVAc(polyvinyl acetate), PVC(polyvinyl chloride) 등의 접착제가 이용될 수 있다.
도면으로 나타내지는 않았지만, 상기 인몰드 전사시트 제조 방법은 인쇄층 형성 단계(S140)와 접착층 형성 단계(S150) 사이에 인쇄층(150)의 상부에 증착층(160)을 형성하는 증착층 형성 단계(미도시)를 더 포함할 수 있다.
증착층 형성 단계에서는 인쇄층(150)과 접착층(170)의 사이로 진공 증착법에 의하여 증착층(160)을 형성한다. 이러한 증착층(160)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 백금(Pt), 주석(Sn), 크롬(Cr) 및 니켈(Ni) 중 선택된 1종 이상으로 형성될 수 있다.
이상으로, 본 발명의 실시예에 따른 광택이 우수한 코팅면을 갖는 인몰드 전사시트를 제조할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
1. 인몰드 전사시트 제조
실시예 1
40㎛ 두께의 PET 필름의 상부에 멜라민계의 이형제 조성물을 1㎛의 두께로 코팅하여 이형층을 형성한 후, 이형층의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 5㎛의 두께를 갖는 하드 코팅층을 형성하였다.
이후, 하드 코팅층의 상부에 변성아크릴 폴리올계의 증착 프라이머 조성물을 1㎛의 두께로 코팅한 후, 120℃에서 20초간 경화하여 증착 프라이머층을 형성하였다.
이후, 증착 프라이머층의 상부에 그라비아 코팅으로 3㎛ 두께의 인쇄층을 형성한 후, 상기 인쇄층의 상부에 알루미늄을 진공 증착법으로 8nm 두께의 증착층을 형성하고 나서, 변성아크릴 폴리올계의 증착 프라이머 조성물을 1㎛의 두께로 코팅한 후, 80℃에서 20초간 경화하여 프라이머층을 형성하였다.
이후, 1.5㎛ 두께의 접착층을 형성하는 것에 의하여 인몰드 전사필름을 제조하였다.
비교예 1
증착 프라이머층을 0.5㎛의 두께로 형성하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 인몰드 전사필름을 제조하였다.
비교예 2
증착 프라이머층을 5㎛의 두께로 형성하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 인서트 몰드 전사필름을 제조하였다.
비교예 3
하드 코팅층의 상부에 인쇄층을 먼저 형성한 다음에 증착 프라이머층을 형성하는 것 이외에는 실시예 1과 동일한 방법으로 인몰드 전사필름을 제조하였다.
2.물성 평가
표 1은 실시예 1 및 비교예 1 ~ 3에 따른 인몰드용 전사필름에 대한 물성 평가에 대한 결과를 나타낸 것이다.
[표 1]
Figure pat00001

표 1을 참조하면, 실시예 1의 경우에는 광택도가 양호하고, 코팅면 상태와 증착층간 부착력은 우수한 특성을 나타내었다.
반면, 비교예 1의 경우에는 광택도는 양호하고 부착력도 우수하였으나, 코팅면 상태가 불량하였고, 비교예 2의 경우에는 광택도가 보통 수준이었고, 코팅면 상태는 양호한 특성을 나타내었으나 부착력이 불량하였다. 그리고, 비교예 3의 경우에는 광택도가 불량하였고, 코팅면 상태는 양호한 특성을 나타내었다.
위의 실험 결과를 토대로, 인쇄층을 형성하기에 앞서 증착 프라이머층을 마이크로 그라비아 코팅으로 형성할 경우, 코팅면의 우수한 광택 효과로 인쇄층의 문양이 입체적 및 심미적으로 살아날 수 있다는 것을 확인하였다.
이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형은 본 발명이 제공하는 기술 사상의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.
100 : 인몰드 전사시트 110 : 기재층
120 : 이형층 130 : 하드 코팅층
140 : 증착 프라이머층 150 : 인쇄층
160 : 증착층 170 : 접착층

Claims (8)

  1. 기재층의 상부에 이형층을 형성하는 단계;
    상기 이형층의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 하드 코팅층을 형성하는 단계;
    상기 하드 코팅층의 상부에 마이크로 그라비아 코팅으로 증착 프라이머층을 형성하는 단계;
    상기 증착 프라이머층의 상부에 그라비아 코팅으로 인쇄층을 형성하는 단계; 및
    상기 인쇄층의 상부에 접착층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사시트 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 인쇄층 형성 단계 후에,
    증착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사시트 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 증착 프라이머층의 두께는
    0.5 ~ 1.5㎛로 형성하는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사시트 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 증착 프라이머층은
    폴리아크릴 변성 폴리올, 폴리이소시아네이트, 산화금속 미립자 및 경화촉매 중 선택된 1종 이상으로 형성하는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사시트 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 증착 프라이머층 형성 단계는
    상기 하드 코팅층의 상부에 증착 프라이머 조성물을 도포하는 단계와,
    상기 도포된 증착 프라이머 조성물을 열 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사시트 제조 방법.
  6. 위로부터 기재층, 이형층, 하드 코팅층, 증착 프라이머층, 인쇄층 및 접착층을 포함하며,
    상기 증착 프라이머층은 코팅면의 광택이 살아나도록 마이크로 그라비아 코팅에 의하여 0.5 ~ 1.5㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사시트.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 증착 프라이머층은
    폴리아크릴 변성 폴리올, 폴리이소시아네이트, 산화금속 미립자 및 경화촉매 중 선택된 1종 이상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사시트.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 전사시트는
    상기 인쇄층과 접착층 사이에 개재된 증착층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 인몰드 전사시트.
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KR102402953B1 (ko) * 2022-03-17 2022-05-31 주식회사 비에프아이 하드코팅 필름의 열전사 방법
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