KR20120086865A - Deposition material supply apparatus and evaporation device for manufacturing of OLED including the same - Google Patents

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KR20120086865A
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김영학
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엘아이지에이디피 주식회사
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Abstract

PURPOSE: A deposition material supply apparatus and a deposition device for manufacturing an OLED(Organic Light Emitted Device) including the same are provided to prevent decrease in deposition characteristics due to deterioration by instantly heating a deposition material put in a tray with laser and simultaneously evaporating the deposition material at once. CONSTITUTION: A support(300) is installed to be spaced at a constant interval in order to support each corner of a tray(110). The support includes an elastic member(302) to absorb vibration transferred from the tray. The tray forms a larger opening area than a cross sectional area of a bottom plane. A vibrator(310) distributes an uniform height of a deposition material, which is provided to a receiving space of the tray, by vibrating the tray. A supply means supplies the uniform height of the deposition material to the receiving space of the tray.

Description

증착물질 공급장치 및 이것을 포함하는 유기발광소자 제조용 증착장비{Deposition material supply apparatus and evaporation device for manufacturing of OLED including the same}Deposition material supply apparatus and evaporation device for manufacturing an organic light emitting device comprising the same

본 발명은 증착물질 공급장치 및 이것을 포함하는 유기발광소자 제조용 증착장비에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 피처리 기판에 유기물 등의 증착물질을 증착시키기 위하여 상기 증착물질을 담는 트레이의 전면적에 균일한 높이로 증착물질을 공급하도록 하는 장치와 이것을 포함하는 유기발광소자 제조용 증착장비에 관한 것이다.
The present invention relates to a deposition material supply apparatus and a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device including the same, and more particularly, uniform height on the entire surface of the tray containing the deposition material in order to deposit the deposition material such as organic matter on the substrate to be processed. The present invention relates to a device for supplying a deposition material to an organic light emitting device and a deposition device for manufacturing an organic light emitting device including the same.

일반적으로 유기발광소자(OLED : Organic Light Emitted Device)는, 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계발광현상을 이용하여 스스로 빛을 내는 자체발광형 증착물을 말한다.In general, an organic light emitting device (OLED) refers to a self-emitting deposition material that emits light by using an electroluminescence phenomenon that emits light when a current flows through a fluorescent organic compound.

유기발광소자를 이용한 디스플레이 소자는 낮은 전압에서 구동이 가능하고 얇은 박막으로 만들 수 있고, 넓은 시야각과 빠른 응답속도를 갖고 있어 일반 LCD와 달리 바로 옆에서 보아도 화질이 변하지 않음은 물론 화면에 잔상이 남지 않으며, 또한 소형 화면에서는 LCD 이상의 화질과 단순한 제조공정으로 인하여 유리한 가격 경쟁력을 갖는바, 차세대 디스플레이 소자로 주목받고 있다.The display device using the organic light emitting device can be driven at low voltage, can be made into a thin film, and has a wide viewing angle and fast response speed, unlike the general LCD, the image quality does not change even when viewed from the side, and afterimages remain on the screen. In addition, the small screen has an advantageous price competitiveness due to the image quality and simple manufacturing process than the LCD, attracting attention as a next-generation display device.

유기발광소자를 활용해 TV나 휴대전화의 디스플레이를 만들거나 조명 기구를 생산할 때 절대적으로 필요한 장비가 유기발광소자 제조용 증착장비이다.Evaporation equipment for manufacturing organic light emitting devices is an absolutely necessary equipment for making displays of TVs or mobile phones or producing lighting equipment using organic light emitting devices.

유기발광소자 제조용 증착장비는 피처리 기판에 유기물 등의 증착물질을 증착하여 박막을 형성하는데 사용되는 장비로서, 유기발광소자 생산을 위한 핵심 장비이다.Deposition equipment for manufacturing an organic light emitting device is a device used to form a thin film by depositing a deposition material, such as organic material on the substrate to be processed, is a key equipment for the production of an organic light emitting device.

유기발광소자 제조용 증착장비는 주로 진공 열 증착장비(Thermal evaporation system)가 이용된다. 즉, 유기발광소자는 주로 열 증착공정에 의하여 증착 챔버 내에서 증착이 이루어진다.As a deposition equipment for manufacturing an organic light emitting device, a vacuum evaporation system is mainly used. That is, the organic light emitting device is mainly deposited in the deposition chamber by a thermal deposition process.

도 1은 종래의 일반적인 유기발광소자 제조용 증착장비를 나타낸 것으로서, 도시된 바와 같이, 증착 챔버(10) 내 상부에는 피처리 기판(S)이 위치하고, 하부에는 증발원(20)이 설치되며, 이 증발원(20) 내의 도가니(22)에 담긴 파우더 형태의 증착물질(22a)이 증착 챔버(10) 내부에서 증발하게 됨으로써, 상부의 피처리 기판(S) 표면에 닿아 응고되면서 박막이 증착된다.1 illustrates a conventional deposition apparatus for manufacturing a conventional organic light emitting device, as shown in the upper portion of the deposition chamber 10, a substrate S is disposed, and an evaporation source 20 is installed at a lower portion of the evaporation source. The deposition material 22a in powder form contained in the crucible 22 in the 20 is evaporated in the deposition chamber 10, and thus a thin film is deposited while being solidified by touching the surface of the upper substrate to be processed S.

여기서, 증발원(20) 내에는 증착물질(22a)을 담은 도가니(22)가 설치되고, 이 도가니(22)의 주위에는 열선장치(24)가 구비됨으로써, 열선장치(24)에 전기를 공급함에 따라 열선이 저항가열되어 많은 복사열을 발산하게 되는바, 이 복사열에 의해 도가니(22)가 가열되면서 내부의 증착물질(22a)을 증발시키게 된다.Here, the crucible 22 containing the vapor deposition material 22a is installed in the evaporation source 20, and the hot wire device 24 is provided around the crucible 22 to supply electricity to the hot wire device 24. As a result, the heating wire is heated by resistance to emit a lot of radiant heat. The crucible 22 is heated by the radiant heat to evaporate the deposition material 22a therein.

한편, 피처리 기판(S)에 증착되는 박막의 두께를 조절하기 위하여 피처피 기판(S)과 증발원(20) 사이에는 개방 또는 폐쇄가 이루어지는 셔터(30)가 배치된다. 즉, 셔터(30)는 피처리 기판(S)에 대한 증착물질 증착시에는 개방이 이루어지고, 증착물질 증착이 완료되거나 일시 중단되는 경우에는 폐쇄가 이루어져서 더 이상 증착물질이 피처리 기판(S)의 표면에 증착되지 않도록 하는 기능을 담당한다.
On the other hand, in order to control the thickness of the thin film deposited on the substrate S to be processed, the shutter 30 is opened or closed between the feature substrate S and the evaporation source 20. That is, the shutter 30 is opened when the deposition material is deposited on the substrate S, and when the deposition material deposition is completed or suspended, the shutter 30 is closed so that the deposition material is no longer the substrate S. It is responsible for preventing the deposition on the surface.

그러나, 이러한 증착공정을 이용한 유기발광소자 제조용 증착장비는, 열선장치(24)에 전기를 공급하여 저항가열시킴에 따라 도가니(22)를 가열시키게 되는바, 많은 전기적 에너지 소모가 발생됨은 물론 도가니(22)의 승온 속도가 늦어 증착 공정의 효율이 저하되고, 도가니(22)의 가열 온도 조절이 상대적으로 늦어지게 되어 증착물질(22a)의 증발량을 맞추기가 용이하지 못한 문제점도 있었다.However, in the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device using the deposition process, the crucible 22 is heated by supplying electricity to the heating device 24 to heat the resistance, so that a large amount of electrical energy is consumed as well as the crucible ( Since the temperature increase rate of 22) is lowered, the efficiency of the deposition process is lowered, and the heating temperature of the crucible 22 is relatively slowed, so that it is not easy to match the evaporation amount of the deposition material 22a.

또한, 다량의 증착물질(22a)을 도가니(22)에 충진시킨 상태에서 연속 증착을 진행하게 됨으로써, 도가니(22)에 담긴 증착물질 중, 상부와 하부에 위치하는 증착물질(22a) 중, 상대적으로 하부에 위치하는 증착물질은 지속적으로 열선장치(24)에 의해 열화되어 결국 변성에 따른 증착 특성이 저하되는바, 피처리 기판(S)에 대한 증착시 막 균일성이 저하되는 문제점도 있었다.In addition, the continuous deposition is performed while a large amount of deposition material 22a is filled in the crucible 22, so that among the deposition materials contained in the crucible 22, among the deposition materials 22a positioned above and below, As a result, the deposition material positioned at the lower portion is continuously degraded by the heating apparatus 24, and thus the deposition characteristics due to the deterioration are degraded. Thus, there is a problem that the film uniformity is reduced during deposition on the substrate S to be processed.

또, 증착 공정이 진행되지 않는 경우에도 지속적으로 증착물질이 증발되어 고가의 증착물질을 낭비하게 되어 경제적이지 못한 문제점도 있었다.In addition, even when the deposition process does not proceed, the evaporation material is continuously evaporated to waste expensive evaporation material, there is also a problem that is not economical.

본 발명은 상기와 같은 제반 문제점에 착안하여 안출된 것으로서, 본 발명은 상기와 같은 제반 문제점에 착안하여 안출된 것으로서, 밑면의 단면적이 넓게 형성되고, 이 밑면 보다 개구면적이 더 크게 형성된 트레이를 제공하되, 이 트레이에 균일한 높이로 증착물질을 분포시킨 후, 레이저 등의 열원으로 순간가열시킴에 따라 상기 트레이에 담긴 증착물질이 동시다발적으로 증발되면서 피처리 기판에 증착되도록 하는 유기발광소자 제조용 증착장비를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, the present invention is devised in view of the above-described problems, and provides a tray having a wide cross-sectional area of the bottom surface, the opening area is larger than the bottom surface However, after the deposition material is distributed at a uniform height on the tray, the instantaneous heating with a heat source such as a laser, so that the deposition material contained in the tray is simultaneously evaporated and deposited on the substrate to be processed. The purpose is to provide a deposition equipment.

즉, 트레이에 담긴 증착물질을 레이저 등의 열원으로 순간 가열시킴에 따라 전기적 에너지 소모를 줄이고, 트레이의 승온 속도를 순간적으로 높여 증착 공정의 효율을 향상시키며, 트레이의 가열 온도조절이 상대적으로 용이하도록 하여 증착물질의 증발량을 정확히 제어할 수 있도록 함으로써, 결국 피처리 기판에 대한 증착물질의 증착이 보다 효율적으로 이루어지도록 하는 유기발광소자 제조용 증착장비를 제공하는데 그 목적이 있는 것이다.In other words, by heating the deposition material in the tray with a heat source such as a laser to reduce the electrical energy consumption, increase the tray heating rate instantaneously to improve the efficiency of the deposition process, and to control the heating temperature of the tray relatively easy By precisely controlling the amount of evaporation of the deposition material, the purpose is to provide a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device that can be more efficiently made to deposit the deposition material on the substrate to be processed.

또한, 본 발명은 레이저 등의 열원으로 트레이에 담긴 증착물질을 순간가열시켜 동시다발적으로 한 번에 증발시킴에 따라, 상기 트레이에 증착물질이 남지 않도록 하여 열화에 따른 증착 특성의 저하를 예방하고, 이에 따라 피처리 기판에 대한 증착시 막균일성이 향상되도록 하는 유기발광소자 제조용 증착장비를 제공하는데에도 목적이 있다.In addition, according to the present invention, by simultaneously heating the deposition material contained in the tray with a heat source such as a laser and simultaneously evaporating at once, the deposition material does not remain in the tray to prevent deterioration of deposition characteristics due to deterioration. Accordingly, an object of the present invention is to provide a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device for improving film uniformity during deposition on a substrate to be processed.

또한, 트레이에는 증착 공정에 필요로 하는 양 만큼의 증착물질을 공급하여 한 번에 가열시켜 증발시킴에 따라, 증착 공정이 진행되지 않는 경우에는 증착물질의 증발이 이루어지지 않도록 함으로써, 고가의 증착물질을 낭비하지 않도록 하여 결국 경제성을 향상시키도록 하는 유기발광소자 제조용 증착장비를 제공하는데에도 목적이 있다.In addition, by supplying the amount of deposition material required for the deposition process to the tray and heating and evaporating at a time, if the deposition process is not in progress, the evaporation of the deposition material is not made, the expensive deposition material It is another object of the present invention to provide a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device that does not waste, thereby improving the economical efficiency.

한편, 본 발명은 상기 트레이에 균일한 높이로 증착물질을 공급하도록 하여 피처리 기판에 증착물질이 고르게 증착되도록 함으로써, 피처리 기판의 막균일성을 더욱 향상시키도록 하는 유기발광소자 제조용 증착장비를 제공하는데에도 목적이 있다.On the other hand, the present invention is to supply the deposition material to the tray to a uniform height to deposit the deposition material evenly on the substrate, to further improve the film uniformity of the organic light emitting device manufacturing deposition equipment for manufacturing the substrate uniformity There is also a purpose to provide.

또, 본 발명은 상기 트레이에 2종 이상의 증착물질을 구분되게 공급한 후, 각각의 증착물질을 선택적으로 증발시켜서, 피처리 기판에 다른 증착물질이 순차적으로 증착되도록 하는 유기발광소자 제조용 증착장비를 제공하는데에도 목적이 있다.In another aspect, the present invention provides a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device for supplying two or more different deposition materials to the tray, and then selectively evaporate each deposition material, so that different deposition materials are sequentially deposited on the substrate to be processed. There is also a purpose to provide.

특히, 본 발명은 상기 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이에 증착물질을 균일한 높이로 공급하도록 하는 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
In particular, it is an object of the present invention to provide an apparatus for supplying a deposition material to a tray applied to the deposition equipment for manufacturing the organic light emitting device at a uniform height.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 증착물질 공급장치는, 밑면의 단면적과 같거나 또는 더 크게 개구면적이 형성된 트레이와; 상기 트레이가 수평상태를 이루도록 지지하는 받침대와; 상기 받침대에 상기 트레이가 지지된 상태에서, 상기 트레이를 진동시켜 상기 트레이의 수용공간에 공급된 증착물질을 균일한 높이로 분포시키는 바이브레이터를 포함하는 것을 특징으로 한다.The vapor deposition material supply apparatus according to the present invention for achieving the above object comprises a tray having an opening area equal to or larger than the cross-sectional area of the bottom surface; A pedestal for supporting the tray in a horizontal state; And a vibrator for vibrating the tray to distribute the deposition material supplied to the receiving space of the tray at a uniform height while the tray is supported by the pedestal.

이 경우, 상기 받침대는, 상기 트레이의 각 모서리부를 지지하도록 다수개 구비되며, 상기 트레이에서 전달되는 진동을 흡수하도록 탄성부재가 구비되는 것이 바람직하다.In this case, the pedestal is provided with a plurality to support each corner of the tray, it is preferable that the elastic member is provided to absorb the vibration transmitted from the tray.

또한, 상기 바이브레이터는, 상기 트레이의 저면 하부와 접촉되고, 그 진동의 세기가 조절되는 것이 바람직하다.In addition, the vibrator is preferably in contact with the bottom of the bottom of the tray, the vibration intensity is adjusted.

여기서, 상기 트레이의 수용공간에 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 공급수단을 더 포함할 수도 있다.Here, the supply means for supplying the deposition material in a uniform height to the receiving space of the tray may be further included.

이 경우, 상기 공급수단은, 상기 트레이와 일정간격 이격된 위치에 지지,설치되는 베이스부와; 상기 베이스부의 중심축과 그 후단이 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제1크랭크 암과; 상기 제1크랭크 암의 선단과 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제2크랭크 암 및; 상기 제2크랭크 암의 선단 저부에 수직방향으로 설치되어 증착물질을 트레이에 공급하는 노즐부를 포함하는 구성일 수 있다.In this case, the supply means, the base portion is supported, installed in a position spaced apart from the tray; A first crank arm of a predetermined length in which the central axis of the base portion and the rear end are hinged and rotated; A second crank arm of a predetermined length hingedly coupled to the front end of the first crank arm to be rotated; The second crank arm may be configured to include a nozzle part installed in a vertical direction at a bottom end of the second crank arm to supply a deposition material to a tray.

또한, 상기 공급수단은, 상기 트레이의 나란한 양쪽 측면부위에 평행하게 설치되는 한 쌍의 가이드 레일과; 상기 가이드 레일의 안쪽면을 따라 Y축 방향으로 수평이동되는 이동부재와; 상기 이동부재의 저부에 수직방향으로 설치되고 상기 이동부재를 따라 X축 방향으로 수평이동되면서 증착물질을 상기 트레이에 공급하는 노즐부를 포함하는 구성일 수도 있다.
In addition, the supply means, a pair of guide rails installed in parallel on both side surfaces of the tray; A moving member horizontally moved in the Y-axis direction along an inner surface of the guide rail; It may be configured to include a nozzle that is installed in the vertical direction on the bottom of the moving member and horizontally moved along the moving member in the X-axis direction to supply the deposition material to the tray.

한편, 본 발명에 따른 증착물질 공급장치는, 밑면의 단면적과 같거나 또는 더 크게 개구면적이 형성된 트레이와; 상기 트레이의 수용공간 상부에서 이동가능하게 설치되어, 상기 트레이의 수용공간에 균일한 높이로 증착물질을 공급하는 공급수단을 포함하는 구성으로 이루어질 수도 있다.On the other hand, the deposition material supply apparatus according to the present invention comprises a tray having an opening area equal to or larger than the cross-sectional area of the bottom surface; It may be made of a configuration including a supply means for supplying the deposition material to a uniform height in the receiving space of the tray to be movable above the receiving space of the tray.

이 경우, 상기 공급수단은 상기 트레이와 일정간격 이격된 위치에 지지,설치되는 베이스부와; 상기 베이스부의 중심축과 그 후단이 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제1크랭크 암과; 상기 제1크랭크 암의 선단과 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제2크랭크 암 및; 상기 제2크랭크 암의 선단 저부에 수직방향으로 설치되어 증착물질을 상기 트레이에 공급하는 노즐부를 포함하는 구성일 수 있다.In this case, the supply means includes a base portion that is supported, installed in a position spaced apart from the tray; A first crank arm of a predetermined length in which the central axis of the base portion and the rear end are hinged and rotated; A second crank arm of a predetermined length hingedly coupled to the front end of the first crank arm to be rotated; The second crank arm may be configured to include a nozzle part installed in a vertical direction at a bottom end of the second crank arm to supply deposition material to the tray.

또한, 상기 공급수단은, 상기 트레이의 나란한 양쪽 측면부위에 평행하게 설치되는 한 쌍의 가이드 레일과; 상기 가이드 레일의 안쪽면을 따라 Y축 방향으로 수평이동되는 이동부재와; 상기 이동부재의 저부에 수직방향으로 설치되고 상기 이동부재를 따라 X축 방향으로 수평이동되면서 증착물질을 상기 트레이에 공급하는 노즐부를 포함하는 구성일 수도 있다.
In addition, the supply means, a pair of guide rails installed in parallel on both side surfaces of the tray; A moving member horizontally moved in the Y-axis direction along an inner surface of the guide rail; It may be configured to include a nozzle that is installed in the vertical direction on the bottom of the moving member and horizontally moved along the moving member in the X-axis direction to supply the deposition material to the tray.

한편, 본 발명에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비는, 상부에 피처리 기판이 위치하는 증착 챔버와; 상기 증착 챔버 내부에 위치하고, 증착물질이 일정두께로 분포되어 수용되는 것으로서, 상기 증착물질이 수용되는 밑면의 단면적과 같거나 또는 더 크게 개구면적이 형성된 트레이와; 상기 트레이에 열원을 공급하여, 상기 트레이에 공급된 증착물질이 증발되도록 하는 열원 발생부 및; 상기 트레이에 균일한 높이로 증착물질을 공급하기 위한 것으로서, 상기한 구성의 증착물질 공급장치를 포함하는 것을 특징으로 한다.
On the other hand, the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention, the deposition chamber is located on the substrate to be processed; A tray located inside the deposition chamber, in which a deposition material is distributed and received at a predetermined thickness, the tray having an opening area equal to or larger than a cross-sectional area of the bottom surface on which the deposition material is received; A heat source generator supplying a heat source to the tray to allow evaporation of the deposition material supplied to the tray; It is for supplying a deposition material at a uniform height to the tray, characterized in that it comprises a deposition material supply device of the above configuration.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비 에 의하면, 밑면의 단면적이 넓게 형성되고, 이 밑면 보다 개구면적이 더 크게 형성된 트레이가 제공되되, 이 트레이에 균일한 높이로 증착물질이 분포된 후, 레이저 등의 열원으로 순간가열됨에 따라 상기 트레이에 담긴 증착물질이 동시다발적으로 증발되면서 피처리 기판에 증착됨으로써 그 증착 효율이 향상되는 효과가 제공된다.As described above, according to the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention, there is provided a tray having a wide cross-sectional area of the bottom surface and having a larger opening area than the bottom surface, wherein the deposition material has a uniform height. After this distribution, as the instantaneous heating with a heat source such as a laser, the deposition material contained in the tray is simultaneously vaporized and deposited on the substrate to be treated, thereby providing an effect of improving the deposition efficiency.

즉, 트레이에 담긴 증착물질이 레이저 등의 열원으로 순간 가열됨에 따라 전기적 에너지 소모가 줄고, 트레이의 승온 속도가 순간적으로 높아져 증착 공정의 효율이 향상되며, 트레이의 가열 온도조절이 상대적으로 용이해져 증착물질의 증발량을 정확히 제어할 수 있게 됨으로써, 결국 피처리 기판에 대한 증착물질의 증착이 보다 효율적으로 이루어지게 된다.That is, as the deposition material contained in the tray is heated by a heat source such as a laser, the electrical energy consumption is reduced, the temperature rise rate of the tray is instantaneously increased, the efficiency of the deposition process is improved, and the heating temperature of the tray is relatively easy to be deposited. By being able to accurately control the amount of evaporation of the material, the deposition of the deposition material on the substrate to be processed becomes more efficient.

또한, 본 발명은 레이저 등의 열원으로 트레이에 담긴 증착물질이 순간가열되어 동시다발적으로 한 번에 증발됨에 따라, 상기 트레이에 증착물질이 남지 않게 되어 열화에 따른 증착 특성의 저하가 예방되고, 이에 따라 피처리 기판에 대한 증착시 막균일성이 향상되는 효과도 제공된다.In addition, according to the present invention, as the deposition material contained in the tray as a heat source such as a laser is instantaneously heated and simultaneously evaporated at once, the deposition material is not left in the tray, thereby preventing deterioration of deposition characteristics due to deterioration. This also provides the effect of improving film uniformity upon deposition onto the substrate to be treated.

또한, 트레이에는 증착 공정에 필요로 하는 양 만큼의 증착물질이 분포되어 한 번에 가열,증발됨에 따라, 증착 공정이 진행되지 않는 경우에는 증착물질의 증발이 이루어지지 않게 됨으로써, 고가의 증착물질 낭비가 예방되어 결국 경제성이 향상되는 효과도 제공된다.In addition, as the amount of deposition material required for the deposition process is distributed in the tray and heated and evaporated at one time, when the deposition process does not proceed, evaporation of the deposition material is not performed, thereby expensive waste of deposition material. Can be prevented, resulting in economic efficiency.

한편, 본 발명은 상기 트레이에 균일한 높이로 증착물질이 분포되어 피처리 기판에 증착물질이 고르게 증착됨으로써, 피처리 기판의 막균일성이 더욱 향상된다.On the other hand, in the present invention, the deposition material is evenly distributed on the tray, and the deposition material is evenly deposited on the substrate, thereby further improving film uniformity of the substrate.

또, 본 발명은 상기 트레이에 2종 이상의 증착물질이 구분되게 분포된 후, 각각의 증착물질이 선택적으로 증발되어서, 피처리 기판에 다른 증착물질이 순차적으로 증착되는 것이 한 번의 공정으로 가능하게 되는 효과도 제공된다.
In addition, the present invention is that after the two or more kinds of deposition material is distributed in the tray separately, each deposition material is selectively evaporated, it is possible to sequentially deposit other deposition material on the substrate to be processed in one step Effects are also provided.

특히, 본 발명에 따른 증착물질 공급장치에 의하면, 트레이의 수용공간에 증착물질이 균일한 높이로 공급되어 분포됨으로써, 피처리 기판의 표면에 골고루 박막이 증착되는 등, 그 증착 효율이 증대되는 효과가 제공된다.
In particular, according to the deposition material supply apparatus according to the present invention, the deposition material is supplied and distributed in a uniform height in the receiving space of the tray, the effect of increasing the deposition efficiency, such as evenly deposited thin film on the surface of the substrate to be processed Is provided.

도 1은 종래의 유기발광소자 제조용 증착장비의 개략적인 구성을 나타낸 단면도.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 제 1실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비 구성을 나타낸 단면도.
도 3은 본 발명의 제 1실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착 장비에 적용되는 트레이에 다양한 패턴들이 형성된 상태를 도시한 사시도.
도 4a 내지 도 4c는, 본 발명의 제 2실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이의 각 형상을 도시한 사시도.
도 5는 본 발명의 제 2실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비의 단면도.
도 6은 본 발명의 제 3실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비의 단면도.
도 7은 도 6에서 얼라인 장치의 구성을 나타낸 사시도.
도 8a 내지 도 8e는 도 7의 얼라인 장치에 의해 트레이의 구획된 각 수용부가 열원 발생부와 선택적으로 수직정렬되는 관계를 순차적으로 도시한 평면도.
도 9는 본 발명의 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이에 유기물 등의 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 제 4실시 예에 따른 공급장치 구성을 개략적으로 도시한 구성도,
도 10은 도 9의 평면도.
도 11은 본 발명의 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이에 유기물 등의 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 제 5실시 예에 따른 공급장치 구성을 개략적으로 도시한 구성도,
도 12는 도 10의 평면도.
도 13은 본 발명의 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이에 유기물 등의 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 제 6실시 예에 따른 공급장치 구성을 개략적으로 도시한 구성도,
도 14는 도 13의 평면도.1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a deposition apparatus for manufacturing a conventional organic light emitting device.
Figure 2a and Figure 2b is a cross-sectional view showing the configuration of the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the first embodiment of the present invention.
3 is a perspective view illustrating a state in which various patterns are formed in a tray applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to a first embodiment of the present invention.
4A to 4C are perspective views illustrating respective shapes of trays applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to a second embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to a second embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a perspective view illustrating a configuration of an alignment device in FIG. 6. FIG.
8A to 8E are plan views sequentially illustrating a relationship in which each receiving portion of the tray is selectively vertically aligned with the heat source generating portion by the alignment device of FIG.
9 is a configuration diagram schematically illustrating a configuration of a supply apparatus according to a fourth embodiment for supplying a deposition material such as an organic material to a tray applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device of the present invention at a uniform height,
10 is a plan view of FIG.
FIG. 11 is a configuration diagram schematically illustrating a configuration of a supply apparatus according to a fifth embodiment of supplying a deposition material such as organic matter to a tray applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device of the present invention at a uniform height.
12 is a plan view of FIG. 10.
FIG. 13 is a configuration diagram schematically illustrating a configuration of a supply apparatus according to a sixth embodiment for supplying a deposition material such as organic matter to a tray applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device of the present invention at a uniform height; FIG.
14 is a plan view of FIG.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 예시도면에 의거하여 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

<제 1실시 예><First Embodiment>

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 제 1실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비 구성을 나타낸 단면도로서, 도 2a는 트레이가 상승하지 않은 상태의 단면도이고, 도 2b는 트레이가 상승하여 증착공정을 진행하는 상태의 단면도이다.2A and 2B are cross-sectional views illustrating a construction of a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2A is a cross-sectional view of a tray not being raised, and FIG. 2B is a tray lifted to perform a deposition process. It is sectional drawing of a state to advance.

참고로, 본 발명의 제 1실시 예를 설명함에 있어서, 종래에 있어서와 동일한 부분에 대해서는 동일 부호를 부여하여 설명하고, 그 반복되는 설명은 생략하여 설명하기로 한다. For reference, in describing the first embodiment of the present invention, the same parts as in the related art will be described with the same reference numerals, and repeated description thereof will be omitted.

도시된 바와 같이, 본 발명의 제 1실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비는, 내부가 진공상태를 이루는 증착 챔버(10)를 포함한다.As shown, the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the first embodiment of the present invention includes a deposition chamber 10 in which the interior is in a vacuum state.

증착 챔버(10)의 상부에는 유기물 등의 증착물질(112) 증착이 이루어지기 위한 피처리 기판(S)이 위치되고, 하부에는 열원에 의한 가열로 증착물질(112)을 증발시켜서 피처피 기판(S)의 표면에 박막을 증착시키기 위한 증발원(100)이 설치되어 있다.The substrate S is disposed on the deposition chamber 10 to deposit the deposition material 112, such as an organic material, and the vapor deposition material 112 is evaporated by heating by a heat source. The evaporation source 100 for depositing a thin film on the surface of S) is provided.

증발원(100)은, 증착물질(112)이 균일한 높이로 분포되는 일정너비의 트레이(110)와, 이 트레이(110)에 열원을 공급하여 가열시키는 열원 발생부(130)로 구성된다.The evaporation source 100 includes a tray 110 having a constant width in which the deposition material 112 is distributed at a uniform height, and a heat source generator 130 for supplying and heating a heat source to the tray 110.

여기서, 트레이(110)는 증착 챔버(10)의 내부에 위치되고, 증착물질(112)이 균일하게 일정두께로 분포되어 수용되는 것으로서, 증착물질(112)이 넓은 면적에 걸쳐 수용되도록 단면적이 넓게 형성되어 있으며, 이 밑면에 대하여 그 개구면적이 같거나 또는 더 크게 형성되어 있다.Here, the tray 110 is located inside the deposition chamber 10, and the deposition material 112 is uniformly distributed at a predetermined thickness and accommodated. The tray 110 has a wide cross-sectional area such that the deposition material 112 is accommodated over a large area. It is formed, and the opening area is formed the same or larger with respect to this base surface.

열원 발생부(130)는, 트레이(110)에 열원을 공급하여 가열시킴에 따라 트레이(110)에 공급되어 분포된 증착물질(112)을 증발시킴으로써, 증발되는 증착물질이 피처리 기판(S)에 증착되도록 하는 것으로서, 트레이(110)를 가열시키도록 열원을 공급할 수 있는 위치라면 증착 챔버(10)의 내부 또는 외부의 어디 위치에 설치되어도 무방하다.The heat source generating unit 130 supplies the heat source to the tray 110 and heats the same, thereby evaporating the deposition material 112 supplied and distributed to the tray 110 so that the vaporized deposition material is evaporated. In order to be deposited on, the heat source may be provided to heat the tray 110, the location may be installed anywhere inside or outside the deposition chamber 10.

다만, 본 발명의 제 1실시 예에서와 같이, 열원 발생부(130)가 증착 챔버(10)의 하측에 설치되어, 이 열원 발생부(130)로부터 발생되는 열원이 트레이(110)의 저면부에 골고루 전달되도록 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 열원 발생부(130)는 증착 챔버(10)의 하측 내부에 설치될 수도 있고, 도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이 증착 챔버(10)의 하측 외부에 설치될 수도 있는데, 열원 발생부(130)가 증착 챔버(10)의 하측 외부에 설치될 경우, 열원 발생부(130)로부터 발생되는 열원이 증착 챔버(10)를 통과할 수 있도록 증착 챔버(10)의 하부 일측에는 투명창(12)이 형성되는 것이 바람직하다.However, as in the first embodiment of the present invention, the heat source generator 130 is installed below the deposition chamber 10, so that the heat source generated from the heat source generator 130 is the bottom of the tray 110. It is desirable to ensure even delivery to the. In this case, the heat source generator 130 may be installed inside the lower side of the deposition chamber 10, or may be installed outside the lower side of the deposition chamber 10 as shown in FIGS. 2A and 2B. When the unit 130 is installed outside the lower side of the deposition chamber 10, the transparent window is disposed at one lower side of the deposition chamber 10 so that the heat source generated from the heat source generator 130 may pass through the deposition chamber 10. It is preferable that (12) be formed.

또한, 열원 발생부(130)는 트레이(110)를 저항가열시키기 위한 열원 제공이 아닌 순간가열시키기 위한 열원 제공이 이루어지도록 레이저, 고주파, E-BEAM, IR BEAM HEATER 등의 열원을 발생시키는 장치를 적용하는 것이 바람직하다.In addition, the heat source generating unit 130 is a device for generating a heat source such as laser, high frequency, E-BEAM, IR BEAM HEATER to provide a heat source for instantaneous heating rather than providing a heat source for resistance heating of the tray 110 It is desirable to apply.

한편, 트레이(110)는 증착 챔버(10) 내부에서 승강수단(120)에 의해 지지되며, 승강수단(120)에 의해 상하로 승강이 이루어지도록 구성되어 있다.On the other hand, the tray 110 is supported by the lifting means 120 in the deposition chamber 10, it is configured to be raised and lowered by the lifting means 120.

즉, 증착물질이 담긴 트레이(110)를 상하로 승강시킴에 따라 피처리 기판(S)과의 간격을 조절하여 증착물질(112)의 증착이 보다 효율적으로 이루어지도록 구성되어 있다.That is, as the tray 110 containing the deposition material is lifted up and down, the deposition material 112 is controlled to be more efficiently deposited by adjusting a distance from the substrate S to be processed.

여기서, 승강수단(120)은 유압실린더 또는 공압실린더 또는 모터와 볼 스크류 또는 리니어 모터 등을 비롯하여 종래에 공지된 어떠한 승강수단이 적용될 수 있다.
Here, the lifting means 120 may be any lifting means known in the art, including a hydraulic cylinder or pneumatic cylinder or a motor and a ball screw or linear motor.

상기와 같은 구성으로 이루어진 유기발광소자 제조용 증착장비를 이용하여 피처리 기판(S)에 박막을 증착하는 과정을 설명하면 다음과 같다.Referring to the process of depositing a thin film on the substrate (S) to be processed using the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device having the above configuration as follows.

먼저, 트레이(110)의 수용공간에 증착물질(112)을 일정두께로 공급하여 담은 상태에서, 이 트레이(110)를 증착 챔버(10) 내부에 인입시킨 후, 승강수단(120)에 의해 승강시켜 피처리 기판(S)과의 간격을 조절한다.First, the tray 110 is introduced into the deposition chamber 10 in a state in which the deposition material 112 is supplied and contained in the accommodation space of the tray 110 at a predetermined thickness. By adjusting the distance from the substrate S to be processed.

이때, 트레이(110)에 담긴 증착물질(112)의 특성에 따라 피처리 기판(S)과의 최적 간격을 설정하고, 설정된 간격을 유지하도록 승강수단(120)을 작동하여 트레이(110)와 피처리 기판(S)과의 간격을 조절한다.At this time, according to the characteristics of the deposition material 112 contained in the tray 110 to set the optimum interval with the substrate to be processed (S), operating the lifting means 120 to maintain the set interval by the tray 110 and the blood The distance from the processing substrate S is adjusted.

다음에, 증착 챔버(10)의 하측 외부에 설치된 열원 발생부(130)에 전원을 인가하여, 열원 발생부(130)에서 열원이 발생되도록 하고, 이 열원이 증착 챔버(10)의 투명창(12)을 통과하여 트레이(110)의 저면을 골고루 가열시키도록 한다.Next, power is applied to the heat source generator 130 installed outside the deposition chamber 10 so that the heat source is generated in the heat source generator 130, and the heat source is a transparent window () of the deposition chamber 10. 12) to evenly heat the bottom of the tray 110.

따라서, 트레이(110)의 저면은 전체 면적이 순간적으로 가열이 이루어지는바, 트레이(110)의 수용공간에 균일한 높이로 분포되어 있는 증착물질(112)이 한 번에 동시다발적으로 증발되어 피처리 기판(S)의 표면에 증착된다.Therefore, the bottom surface of the tray 110 is instantaneously heated, so that the deposition material 112 distributed at a uniform height in the receiving space of the tray 110 is simultaneously vaporized at once. It is deposited on the surface of the processing substrate S.

이때, 트레이(110)는 증착물질(112)이 수용되는 수용공간의 밑면 단면적에 비하여 그 개구면적이 같거나 더 크게 형성되어 있는바, 트레이(110)에 담긴 증착물질(112) 전체가 동시에 증발됨으로써, 그 증발속도가 빨라지게 된다. 또한, 트레이(110)의 저면을 가열시켜 증착물질(112)을 증발시키도록 하는 열원이 레이저, 고주파, E-BEAM, IR BEAM HEATER 등이 적용되는바, 종래의 저항가열 방식에 비하여 순간가열시키게 되어 트레이(110)의 승온 속도도 빨라지게 되어 결국 증착물질(112)의 증발이 신속하게 이루어지게 된다.In this case, the tray 110 is formed with the same or larger opening area than the bottom cross-sectional area of the accommodating space in which the deposition material 112 is accommodated, and the entire deposition material 112 contained in the tray 110 evaporates at the same time. As a result, the evaporation rate is increased. In addition, a heat source for heating the bottom of the tray 110 to evaporate the deposition material 112 is applied to the laser, high frequency, E-BEAM, IR BEAM HEATER, etc., so that the instantaneous heating compared to the conventional resistance heating method As a result, the temperature increase rate of the tray 110 is also increased, so that the evaporation of the deposition material 112 is quickly performed.

특히, 트레이(110)의 수용공간에 담긴 증착물질(112)이 얇은 두께로 넓게 퍼진 상태로 분포되어 있는바, 트레이(110)의 가열에 따라 증착물질(112) 전체가 한순간에 동시다발적으로 증발이 이루어지게 되는바, 증발이 이루어지지 않는 증착물질이 남지 않게 되어 열화에 따른 변성이 이루어지지 않음으로써, 막균일성의 저하가 예방됨은 물론 비공정 중에도 증발될 증착물질이 남아 있지 않음으로 인하여 고가의 증착물질 손실을 예방할 수도 있게 된다.In particular, the deposition material 112 contained in the receiving space of the tray 110 is distributed in a state that is spread in a thin thickness bar, the entire deposition material 112 at the same time at the same time according to the heating of the tray 110 As the evaporation is performed, the deposition material which does not evaporate does not remain, and thus, degeneration is not performed due to deterioration, which prevents the deterioration of film uniformity and expensive because no deposition material remains to be evaporated even during non-processing. It is also possible to prevent the loss of deposited material.

이와 같이, 트레이(110)에 담긴 증착물질(112)의 증발에 따른 피처리 기판(S)에 대한 박막 증착 공정이 완료되면, 트레이(110)는 승강수단(120)에 의해 하강시킨 다음 외부로 빼내고, 다른 증착물질(112)을 담은 다른 트레이(110)를 증착 챔버(10) 내부로 인입시켜 승강수단(120)에 의해 승강시킨 후, 증착 공정을 연속해서 수행하면 된다.
As such, when the thin film deposition process for the substrate S according to the evaporation of the deposition material 112 contained in the tray 110 is completed, the tray 110 is lowered by the elevating means 120 and then moved to the outside. After pulling out, another tray 110 containing the other deposition material 112 is introduced into the deposition chamber 10 and lifted by the elevating means 120, and then the deposition process may be continuously performed.

한편, 본 발명의 제 1실시 예에 적용되는 트레이(110)는, 넓은 면적에 얇으면서 균일한 두께로 증착물질(112)이 분포되는 것이 매우 중요하다.On the other hand, in the tray 110 applied to the first embodiment of the present invention, it is very important that the deposition material 112 is distributed in a thin and uniform thickness in a large area.

즉, 트레이(110)에 열원이 가해짐에 따라 넓은 면적에 분포된 증착물질(112)이 동시다발적으로 한순간에 증발이 이루어지면서 피처리 기판(S)의 표면에 증착이 이루어져야 하는바, 어느 한쪽부분은 두껍게 또 다른 한쪽부분은 얇게 등 전체적으로 균일하지 못한 두께로 증착물질이 분포되는 경우, 피처리 기판(S)의 표면에 골고루 박막이 증착되지 못하여 불량발생의 원인이 되는바, 상기 트레이(110)에 증착물질(112)이 균일한 두께로 분포되도록 공급되는 것은 매우 중요한 것이다.That is, as the heat source is applied to the tray 110, the deposition material 112 distributed in a large area must be deposited on the surface of the substrate S to be simultaneously vaporized at once and simultaneously. If one part is thick and the other part is thin, the deposition material is distributed in a non-uniform thickness as a whole, the thin film is not evenly deposited on the surface of the substrate to be processed (S), which causes a defect, the tray ( It is very important that the deposition material 112 is supplied to the 110 so as to be distributed in a uniform thickness.

이에, 트레이(110)의 수용공간에 일정두께로 균일하게 증착물질(112)을 분포시키기 위하여, 도 3a 내지 도 3d에 도시된 바와 같이, 트레이(110)의 수용공간 내부에는 일정간격과 일정높이의 패턴들이 형성되는 것이 바람직하다.Thus, in order to distribute the deposition material 112 uniformly to a predetermined thickness in the receiving space of the tray 110, as shown in Figures 3a to 3d, a predetermined interval and a predetermined height inside the receiving space of the tray 110 Is preferably formed.

여기서 상기 패턴은, 도 3a에 도시된 바와 같이, 트레이(110)의 수용공간에 그 중심을 기준으로 상하좌우 방향으로 일정간격마다 일정높이의 격벽(110a)들이 형성된 것일 수 있다. 이때 이 격벽(110a)들은 외곽 테두리를 향할수록 점차적으로 길이가 긴 것이 형성되는 것이 바람직하다.Here, as shown in FIG. 3A, partition walls 110a having a predetermined height may be formed in the accommodation space of the tray 110 at regular intervals in the vertical, horizontal, and horizontal directions based on the center thereof. At this time, it is preferable that the partitions 110a are gradually longer in length toward the outer edge thereof.

또한, 상기 패턴은, 도 3b에 도시된 바와 같이, 트레이(110)의 수용공간에 그 중심을 기준으로 대각선 방향으로 일정간격마다 일정높이의 격벽(110b)들이 형성된 것일 수도 있다. 이때 이 격벽(110b)들은 외곽 테두리를 향할수록 점차적으로 길이가 긴 것이 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the pattern, as shown in Figure 3b, may be formed in the receiving space of the tray 110, the partition wall (110b) of a predetermined height at a predetermined interval in a diagonal direction with respect to the center thereof. At this time, it is preferable that the partitions 110b have a length that gradually increases toward the outer edge thereof.

또한, 상기 패턴은, 도 3c에 도시된 바와 같이, 트레이(110)의 수용공간에 그 중심을 기준으로 원형 형태를 이루는 일정높이의 격벽(110c)들이 형성된 것일 수도 있다. 이 경우에도 이 격벽(110c)들은 외곽 테두리를 향할수록 점차적으로 길이가 긴 것이 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the pattern, as shown in Figure 3c, may be formed in the receiving space of the tray 110, the partition wall (110c) of a predetermined height to form a circular shape based on the center thereof. Even in this case, the partitions 110c are preferably formed to gradually increase in length toward the outer edge.

참고로, 상기 패턴은 도 3a 내지 도 3c에 도시된 바와 같은 형태로 형성된 것으로 한정되지 않고, 규칙적이거나 또는 불규칙적인 일정한 간격으로 형성되더라도, 동일높이로만 형성된 것이면 어떠한 형태로 형성되어도 무방하다.For reference, the pattern is not limited to the one formed in the shape shown in FIGS. 3A to 3C, and the pattern may be formed in any shape as long as it is formed only at the same height.

한편, 상기 패턴은 도 3d에 도시된 바와 같이, 트레이(110)를 평면상에서 바라보았을 때, 다수개의 허니컴 구조가 정렬되게 형성되도록 격벽(110d)이 형성된 것일 수도 있다. 물론, 이 경우에 별도로 도시되지는 않았지만, 다수개의 원형 또는 삼각형 이상의 다각형 구조가 정렬되게 형성되도록 격벽이 형성된 것이어도 무방하다.Meanwhile, as illustrated in FIG. 3D, when the tray 110 is viewed in a plan view, the partition wall 110d may be formed such that a plurality of honeycomb structures are aligned. Of course, although not shown separately in this case, the partition wall may be formed so that a plurality of circular or triangular or more polygonal structures are formed to be aligned.

이와 같이, 트레이(110)의 수용공간 내부에 격벽(110a,110b,110c,110d)의 배치에 따라 일정간격과 일정높이의 패턴들이 형성된 상태에서, 트레이(110)의 수용공간에 증착물질(112)을 담은 후, 후공정을 거치게 되면 트레이(110)의 수용공간에 전체적으로 균일한 높이로 증착물질이 분포된다.As such, the deposition material 112 is formed in the accommodation space of the tray 110 in a state where patterns having a predetermined interval and a predetermined height are formed according to the arrangement of the partition walls 110a, 110b, 110c, and 110d in the accommodation space of the tray 110. ), After the post-processing, the deposition material is distributed at a uniform height as a whole in the receiving space of the tray 110.

여기서, 후공정은 트레이(110)의 수용공간에 증착물질(112)을 넘치도록 공급시킨 후, 그 상면을 별도의 블레이드(미도시됨)로 밀어서 트레이(110)의 전체면적에 걸쳐 균일한 높이로 증착물질(112)이 분포되도록 한 것일 수 있다. 이 경우, 블레이드에 의해 트레이(110)의 수용공간에 분포된 증착물질(112)이 밀리게 될 때, 패턴을 이루는 격벽(110a,110b,110c,110d)들에 의해 증착물질(112)이 각각 별도의 공간에 분포된 상태를 유지하게 되는바, 어느 한 공간에 분포된 증착물질이 격벽(110a,110b,110c,110d)에 의해 다른 공간으로 넘어가지 않게 됨으로써, 동일한 높이를 유지할 수 있게 되어 결국 전체적으로 균일한 높이로 분포된 상태를 이루게 된다.Here, the post-process is supplied to the storage space of the tray 110 to overflow the deposition material 112, and then push the upper surface with a separate blade (not shown) to uniform height over the entire area of the tray 110 The deposition material 112 may be distributed. In this case, when the deposition material 112 distributed in the receiving space of the tray 110 is pushed by the blade, the deposition material 112 is formed by the partition walls 110a, 110b, 110c, and 110d forming a pattern, respectively. Since the state of distribution in a separate space is maintained, the deposition material distributed in one space is not transferred to another space by the partition walls 110a, 110b, 110c, and 110d, so that the same height can be maintained. The overall uniformity is achieved.

또한, 상기 후공정은 트레이(110)를 바이브레이터(미도시됨)로서 살짝 진동을 주면서 흔들어줌으로써, 트레이(110)의 전체면적에 걸쳐 균일한 높이로 증착물질이 분포되도록 한 것일 수도 있다. 이 경우에도, 바이브레이터에 의해 트레이(110)가 진동을 하게 될 때, 패턴을 이루는 격벽(110a,110b,110c,110d)들에 의해 증착물질(112)이 각각 별도의 공간에 분포된 상태를 유지하게 되는바, 어느 한 공간에 분포된 증착물질이 다른 공간으로 넘어가지 않게 됨으로써, 동일한 높이를 유지할 수 있게 되어 결국 전체적으로 균일한 높이로 분포된 상태를 이루게 된다.
In addition, the post process may shake the tray 110 by vibrating it as a vibrator (not shown), so that the deposition material may be distributed at a uniform height over the entire area of the tray 110. Even in this case, when the tray 110 is vibrated by the vibrator, the deposition material 112 is maintained in a separate space by the partition walls 110a, 110b, 110c, and 110d forming the pattern. As the deposition material distributed in one space is not transferred to another space, the same height can be maintained, thereby achieving a state uniformly distributed at an overall height.

<제 2실시 예>Second Embodiment

도 4a 내지 도 4c는, 본 발명의 제 2실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이의 각 형상을 도시한 사시도이다.4A to 4C are perspective views illustrating respective shapes of trays applied to the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the second embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비에는, 최소 2종 이상의 증착물질이 별개로 분포되어 수용되도록, 구획벽에 의해 적어도 2개 이상의 증착물질 수용부가 형성된 트레이(110)를 포함한다.As shown, in the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the second embodiment of the present invention, a tray formed with at least two deposition material receiving portion by a partition wall so that at least two or more deposition materials are distributed and accommodated separately 110.

즉, 유기발광소자를 제조하기 위하여 피처리 기판(S)에 박막을 증착시킬 경우, 단일 종의 증착물질만을 증착시키는 것이 아니고, 여러 종의 증착물질을 순차적으로 증착시키기도 하는바, 본 발명의 제 2실시 예에서는 서로 다른 2종 이상의 증착물질을 별개로 수용하는 트레이(110)를 제공하되, 이 트레이(110)에 담긴 별개의 증착물질들을 순차적으로 피처리 기판(S)에 증착시키는 유기발광소자 제조용 증착장비를 제공한다.That is, when the thin film is deposited on the substrate S in order to manufacture the organic light emitting device, not only a single deposition material is deposited but also several deposition materials are sequentially deposited. According to the second embodiment, an organic light emitting device for providing a tray 110 for separately receiving two or more different deposition materials, and sequentially depositing separate deposition materials contained in the tray 110 on the substrate S to be processed. It provides a deposition equipment for manufacturing.

참고로, 본 발명의 제 2실시 예를 설명함에 있어서, 종래 및 제 1실시 예에 있어서와 동일한 부분에 대해서는 동일부호를 부여하여 설명하고, 그 반복되는 설명은 생략하여 설명하기로 한다.For reference, in describing the second embodiment of the present invention, the same parts as in the prior art and the first embodiment will be described with the same reference numerals, and repeated descriptions thereof will be omitted.

먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이, 중앙부위를 일직선상으로 구획하는 구획벽(110-1)에 의해 수용공간이 2등분되어 제1수용부(113a)와 제2수용부(113b)로 구분된 트레이(110)가 제공될 수 있다.First, as shown in FIG. 4A, the accommodation space is divided into two parts by the partition wall 110-1 that divides the central portion in a straight line, and is divided into the first accommodation portion 113a and the second accommodation portion 113b. Tray 110 may be provided.

이 경우, 제1수용부(113a)에는 어느 증착물질이 수용되도록 분포되고, 제2수용부(113b)에는 다른 증착물질이 수용되도록 분포된다. 참고로, 각각 다른 종의 증착물질들은 설명의 편의상 갑종, 을종, 병종, 정종의 증착물질이라 칭하여 설명하기로 한다.In this case, any deposition material is distributed in the first accommodating part 113a and other deposition material is distributed in the second accommodating part 113b. For reference, different kinds of deposition materials will be described for convenience of description by referring to deposition materials of type A, species, disease, and type.

또한, 도 4b에 도시된 바와 같이, 중앙부위를 기점으로 좌우방향으로 구획하는 구획벽(110-2)에 의해 수용공간이 4등분되어 제1수용부(114a)와, 제2수용부(114b)와, 제3수용부(114c) 및 제4수용부(114d)로 구분된 트레이(110)가 제공될 수 있다.In addition, as shown in Figure 4b, the receiving space is divided into four by the partition wall (110-2) partitioning from the central portion in the left and right direction, the first receiving portion (114a) and the second receiving portion (114b) ) And a tray 110 divided into a third accommodating part 114c and a fourth accommodating part 114d may be provided.

이 경우에, 제1수용부(114a)에는 갑종의 증착물질이 수용되도록 분포되고, 제2수용부(114b)에는 을종의 증착물질이 수용되도록 분포되며, 제3수용부(114c)에는 병종의 증착물질이 수용되도록 분포되고, 제4수용부(114d)에는 정종의 증착물질이 수용되도록 분포된다.In this case, the first accommodating part 114a is distributed to accommodate the first deposition material, the second accommodating part 114b is distributed to accommodate the evaporation material of the species, and the third accommodating part 114c is used to collect the diseased material. The deposition material is distributed to accommodate the distribution material, and the fourth accommodation part 114d is distributed to accommodate the deposition material of the kind.

한편, 도 4c에 도시된 바와 같이, 중앙부위를 기점으로 대각선 방향으로 구획하는 구획부(110-3)에 의해 수용공간이 4등분되어 제1수용부(115a)와, 제2수용부(115b)와, 제3수용부(115c) 및 제4수용부(115d)로 구분된 트레이(110)가 제공될 수 있다.On the other hand, as shown in Fig. 4c, the receiving space is divided into four by the partition portion 110-3 partitioning the center portion in the diagonal direction, the first accommodation portion 115a and the second accommodation portion 115b. ) And a tray 110 divided into a third accommodating part 115c and a fourth accommodating part 115d may be provided.

이 경우에, 제1수용부(115a)에는 갑종의 증착물질이 수용되도록 분포되고, 제2수용부(115b)에는 을종의 증착물질이 수용되도록 분포되며, 제3수용부(115c)에는 병종의 증착물질이 수용되도록 분포되고, 제4수용부(115d)에는 정종의 증착물질이 수용되도록 분포된다.In this case, the first accommodating part 115a is distributed to accommodate the first deposition material, the second accommodating part 115b is distributed to accommodate the evaporation material of the species, and the third accommodating part 115c is used to distribute the diseased material. The deposition material is distributed to accommodate the distribution material, and the fourth accommodation part 115d is distributed to accommodate the deposition material of the kind.

참고로, 본 발명의 제 2실시 예에서 도 4a 내지 도 4c에서와 같이, 수용공간이 구획벽(110-1,110-2,110-3)에 의해 2등분 또는 4등분 된 트레이(110)를 일례로 들어 도시하였으나, 구획벽의 형성에 따라 3등분 또는 5등분 이상의 수용부가 형성된 트레이(110)가 제공될 수도 있다. 즉, 구획벽에 의해 최소 수용공간이 2등분된 트레이(110)가 제공되어 서로 다른 종의 증착물질을 담은 것이라면, 어떠한 것이라도 본 발명의 제 2실시 예에 적용될 수 있다.For reference, in the second exemplary embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 4A to 4C, the tray 110 in which the receiving space is divided into two or four portions by the partition walls 110-1, 110-2, and 110-3 is taken as an example. Although illustrated, the tray 110 having a receiving portion of three or more portions may be provided according to the formation of the partition wall. That is, as long as the tray 110 having a minimum accommodation space is divided into two by the partition wall to contain different kinds of deposition materials, any one may be applied to the second embodiment of the present invention.

한편, 상기와 같이 최소 2등분 이상으로 수용공간이 형성되어, 서로 다른 종의 증착물질이 분포된 트레이(110)가 적용된 경우, 각각의 수용부에 균일한 높이로 증착물질이 분포될 수 있도록 각 수용부마다 격벽에 의한 패턴이 형성되는 것이 바람직하다.On the other hand, as described above, when the receiving space is formed in at least two or more portions, and the tray 110 in which different kinds of deposition materials are distributed is applied, each of the deposition materials can be distributed at a uniform height in each receiving portion. It is preferable that the pattern by a partition is formed for every accommodating part.

여기서의 패턴은, 앞선 제 1실시 예에서 설명한 패턴과 동일 또는 유사한 것이 적용될 수 있으며, 이의 경우 그 작용효과는 동일하므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.Herein, the same or similar to the pattern described in the first embodiment may be applied. In this case, since the operation and effect are the same, a detailed description thereof will be omitted.

이와 같이, 최소 2등분 이상으로 수용공간이 형성되어, 서로 다른 종의 증착물질이 분포된 트레이(110)를 적용하여 피처리 기판(S)에 각각 다른 증착물질을 순차적으로 증착시킬 경우, 상기 트레이(110)에 열원을 공급하여 가열시키는 열원 발생부는 트레이(110)의 수용부 개수에 해당하는 개수만큼 형성되는 것이 바람직하다.As such, when the receiving space is formed in at least two equal parts, and the different deposition materials are sequentially deposited on the substrate S by applying the tray 110 in which different kinds of deposition materials are distributed, the tray The heat source generator for supplying and heating the heat source to the 110 is preferably formed by the number corresponding to the number of the accommodating portions of the tray 110.

예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이, 수용공간이 2등분 된 트레이(110)가 적용될 경우, 열원 발생부(130a,130b) 또한 2개가 형성되어 각각의 수용공간에 분포된 증착물질(112a,112b)들을 각각의 열원 발생부(130a,130b)로 하여금 가열시키도록 하면 된다.
For example, as shown in Figure 5, when the tray 110 is divided into two receiving spaces, the heat source generating unit (130a, 130b) is also formed of two deposition materials 112a, 112b distributed in each receiving space ) May be caused to heat each of the heat source generators 130a and 130b.

본 발명의 제 2실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비를 이용하여 피처리 기판(S)에 박막을 증착하는 과정을 설명하면 다음과 같다.Referring to the process of depositing a thin film on the substrate (S) by using the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the second embodiment of the present invention.

먼저, 트레이(110)의 구획된 수용공간에 서로 다른 종의 증착물질을 균일한 두께로 분포되도록 공급하여 담은 상태에서, 이 트레이(110)를 증착 챔버(10) 내부에 인입시킨 후, 승강수단(120)에 의해 승강시켜 피처리 기판(S)과의 간격을 조절한다.First, the tray 110 is introduced into the deposition chamber 10 in a state in which different kinds of deposition materials are distributed and distributed in a uniform thickness in the partitioned receiving space of the tray 110, and then the lifting means. It raises and lowers by 120, and adjusts the space | interval with the to-be-processed substrate S. FIG.

여기서, 트레이(110)는 그 수용공간이 구획벽(110-1)에 의해 제1수용부(113a)와 제2수용부(113b)로 2등분 되되, 제1수용부(113a)에는 갑종 증착물질(112a)이, 제2수용부(113b)에는 을종 증착물질(112b)이 분포된 것을 일례로 하고, 상기 열원 발생부(130a,130b)는 트레이(110)의 제1수용부(113a)에 열원을 공급하는 제1열원 발생부(130a)와, 제2수용부(113b)에 열원을 공급하는 제2열원 발생부(130b)가 제공된 것을 일례로 하여 설명하기로 한다.Here, the tray 110 is divided into two parts into the first accommodating portion 113a and the second accommodating portion 113b by the partition wall 110-1, and the first accommodating portion 113a is firstly deposited. In one example, the material 112a is formed by distributing a heterogeneous deposition material 112b in the second accommodating part 113b, and the heat source generating parts 130a and 130b are formed in the first accommodating part 113a of the tray 110. The first heat source generator 130a for supplying the heat source to the second source and the second heat source generator 130b for supplying the heat source to the second accommodating part 113b will be described as an example.

다음에, 증착 챔버(10)의 하측 외부에 설치된 열원 발생부 중, 제1열원 발생부(130a)에 전원을 인가하여, 제1열원 발생부(130a)에서 열원이 발생되도록 하고, 이 열원이 증착 챔버(10)의 투명창(12)을 통과하여 트레이(110)의 제1수용부(113a) 저면을 골고루 가열시키도록 한다.Next, power is applied to the first heat source generator 130a among the heat source generators provided outside the deposition chamber 10 so that the heat source is generated in the first heat source generator 130a. The bottom surface of the first accommodating portion 113a of the tray 110 is uniformly heated by passing through the transparent window 12 of the deposition chamber 10.

따라서, 트레이(110)의 제1수용부(113a) 저면은 전체 면적이 순간적으로 가열이 이루어지는바, 트레이(110)의 제1수용부(113a)에 균일한 높이로 분포되어 있는 갑종 증착물질(112a)이 동시에 증발되어 피처리 기판(S)의 표면에 증착된다.Accordingly, the bottom surface of the first accommodating part 113a of the tray 110 is heated immediately, and the first grade deposition material is distributed at a uniform height in the first accommodating part 113a of the tray 110. 112a) is simultaneously evaporated and deposited on the surface of the substrate S to be processed.

이와 같이, 트레이(110)의 제1수용부(113a)에 분포된 갑종 증착물질(112a)의 증착이 완료되면, 제2열원 발생부(130b)에 전원을 인가하여, 제2열원 발생부(130b)에서 열원이 발생되도록 하고, 이 열원이 증착 챔버(10)의 투명창(12)을 통과하여 트레이(110)의 제2수용부(113b) 저면을 골고루 가열시키도록 한다.As such, when the deposition of the first type deposition material 112a distributed in the first accommodating part 113a of the tray 110 is completed, power is applied to the second heat source generator 130b and the second heat source generator ( The heat source is generated at 130b), and the heat source passes through the transparent window 12 of the deposition chamber 10 to evenly heat the bottom surface of the second accommodating portion 113b of the tray 110.

따라서, 트레이(110)의 제2수용부(113b) 저면은 전체 면적이 순간적으로 가열이 이루어지는바, 트레이(110)의 제2수용부(113b)에 균일한 높이로 분포되어 있는 을종 증착물질(112b)이 동시에 증발되어 피처리 기판(S)의 표면에 증착된다.Therefore, the bottom surface of the second accommodating portion 113b of the tray 110 is heated at an entire area, and thus, a heterogeneous deposition material having a uniform height distributed in the second accommodating portion 113b of the tray 110 ( 112b) is simultaneously evaporated and deposited on the surface of the substrate S to be processed.

이와 같이 서로 다른 2종 이상의 증착물질(112a,112b)을 순차적으로 피처리 기판(S)에 증착시키는 증착 공정시에도, 앞선 제 1실시 예에서와 동일한 작용효과를 거두게 됨은 물론인바, 이에 대한 반복설명은 생략하기로 한다.
As described above, even in a deposition process in which two or more different deposition materials 112a and 112b are sequentially deposited on the substrate S, the same operation and effect as in the first embodiment are achieved. The description will be omitted.

<제 3실시 예>&Lt; Third Embodiment >

본 발명의 제 3실시 예는, 앞서 설명한 제 2실시 예의 변형 실시 예로서, 각각 다른 종의 증착물질이 분포되도록 복수의 수용부를 갖는 트레이(110)를 하나의 열원 발생부(130)에 의해 순차 가열시켜 서로 다른 종의 증착물질들을 순차적으로 피처리 기판(S)에 증착시키도록 한 것이다.The third embodiment of the present invention is a modified embodiment of the above-described second embodiment, in which the tray 110 having a plurality of accommodation portions is sequentially disposed by one heat source generator 130 so that different kinds of deposition materials are distributed. By heating, different types of deposition materials are sequentially deposited on the substrate S to be processed.

즉, 본 발명의 제 2실시 예에서는 트레이(110)의 각 수용부마다 그 개수에 맞게 열원 발생부가 제공되어, 해당 열원 발생부(130)가 해당 수용부를 가열시켜 각 증착물질을 순차적으로 증발시키도록 한 것으로 설명하였으나, 본 발명의 제 3실시 예에서는 하나의 열원 발생부(130)만을 제공하여 트레이(110)의 각 수용부를 순차적으로 가열시킴으로써, 각 증착물질들이 순차적으로 증발되도록 한 것이다.That is, in the second embodiment of the present invention, a heat source generator is provided according to the number of each receiver of the tray 110 so that the heat source generator 130 heats the receiver to sequentially evaporate each deposition material. In the third embodiment of the present invention, only one heat source generator 130 is provided to sequentially heat each receiving portion of the tray 110 so that the deposition materials are sequentially evaporated.

도 6은 본 발명의 제 3실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비의 단면도이고, 도 7은 도 6에서 얼라인 장치의 작동관계를 나타내기 위한 부분 사시도이며, 도 8a 내지 도 8e는 도 7의 얼라인 장치가 얼라인 됨에 따라 열원 발생부와 트레이의 수직 정렬관계를 순차적으로 나타낸 평면도이다.6 is a cross-sectional view of a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to a third embodiment of the present invention, FIG. 7 is a partial perspective view illustrating an operation relationship of an alignment device in FIG. 6, and FIGS. 8A to 8E are FIGS. This is a plan view showing the vertical alignment relationship between the heat source generating unit and the tray as the alignment device of the aligning device is aligned.

참고로, 본 발명의 제 3실시 예를 설명함에 있어서, 앞선 제 1실시 예 및 제 2실시 예에서와 동일한 부분에 대해서는 동일부호를 부여하여 설명하고, 그 반복되는 설명은 생략하여 설명하기로 한다.For reference, in describing the third embodiment of the present invention, the same parts as in the first and second embodiments will be described with the same reference numerals, and repeated descriptions thereof will be omitted. .

도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 증착 챔버(10)의 하측 외부에는 전원을 공급받아 레이저, 고주파, E-BEAM, IR BEAM HEATER 등의 열원을 발생시키는 열원 발생부(130)가 제공된다.As illustrated in FIGS. 6 and 7, a heat source generator 130 is provided on the lower outside of the deposition chamber 10 to generate heat sources such as laser, high frequency, E-BEAM, IR BEAM HEATER, and the like. .

한편, 증착 챔버(10)의 하측 내부에는 상기 열원 발생부(130)로부터 발생되는 열원에 의해 가열되어 그 수용공간에 분포된 증착물질을 증발시키는 트레이(110)가 제공된다.On the other hand, the lower side of the deposition chamber 10 is provided with a tray 110 is heated by the heat source generated from the heat source generator 130 to evaporate the deposition material distributed in the receiving space.

여기서의 트레이(110)는, 앞선 제 2실시 예에서 설명한 바와 같이, 구획벽에 의해 적어도 2등분되어 복수의 수용부가 형성되고, 각 수용부마다 서로 다른 종의 증착물질이 분포된 것이다.As described in the second embodiment, the tray 110 is divided into at least two parts by partition walls to form a plurality of accommodating portions, and different kinds of deposition materials are distributed in each accommodating portion.

여기서, 상기 트레이(110)는 그 수용공간이 구획벽(110-2)에 의해 제1수용부(114a), 제2수용부(114b), 제3수용부(114c) 및 제4수용부(114d)로 4등분 되되, 제1수용부(114a)에는 갑종 증착물질이, 제2수용부(114b)에는 을종 증착물질이, 제3수용부(114c)에는 병종 증착물질이, 제4수용부(114d)에는 정종 증착물질이 분포된 것을 일례로 들어 설명하기로 한다.(도 4b 참조)Here, the tray 110 has a receiving space of the first accommodating part 114a, the second accommodating part 114b, the third accommodating part 114c and the fourth accommodating part by the partition wall 110-2. 114d), wherein the first accommodating part 114a has a first grade deposition material, the second accommodating part 114b has a heterogeneous evaporation material, and the third accommodating part 114c has a bottle type deposition material, and the fourth accommodating part has a fourth accommodating part. An example of the distribution of the seed deposition material in 114d will be described as an example (see FIG. 4B).

이와 같이 구성된 트레이(110)는, 이 트레이(110)를 X축 및 Y축으로 수평이동시키기 위한 얼라인 장치(200)에 의해 지지된다.The tray 110 comprised in this way is supported by the alignment apparatus 200 for horizontally moving this tray 110 to an X-axis and a Y-axis.

상기 얼라인 장치(200)는, 트레이(110)를 지지함은 물론 트레이(110)를 선택적으로 X축 및 Y축으로 수평이동시켜서, 트레이(110)의 제1수용부(114a), 제2수용부(114b), 제3수용부(114c) 및 제4수용부(114d)가 선택적으로 열원 발생부(130)와 동일 수직선상을 이루도록 하여 해당 수용부에 분포된 해당 증착물질만 가열되어 증발되도록 하는 기능을 담당하는데, 그 상세한 기능 설명은 후술하기로 한다.The alignment apparatus 200 not only supports the tray 110 but also selectively moves the tray 110 horizontally along the X and Y axes, so that the first accommodation part 114a and the second of the tray 110 are moved. The receiving part 114b, the third accommodating part 114c, and the fourth accommodating part 114d selectively form the same vertical line as the heat source generating part 130 so that only the corresponding deposition material distributed in the accommodating part is heated and evaporated. It is responsible for the function, so that a detailed description of the function will be described later.

얼라인 장치(200)는, 트레이(110)가 지지,설치되며, 그 중앙부위에 열원 발생부(130)로부터 발생되는 열원이 통과되기 위한 열원 통과공(212)이 형성된 제1프레임(210)과, 이 제1프레임(210)이 X축 방향으로 수평이동 가능하게 지지,설치되는 제2프레임(220)과, 이 제2프레임(220)이 Y축 방향으로 수평이동 가능하게 지지,설치되는 가이드 레일(230)을 포함하여 구성된다.The alignment apparatus 200 includes a first frame 210 in which a tray 110 is supported and installed, and a heat source passage hole 212 is formed at a central portion thereof to allow a heat source generated from the heat source generator 130 to pass therethrough. And a second frame 220 which is supported and installed in the X-axis direction for horizontal movement, and the second frame 220 is supported and installed in a Y-axis direction for horizontal movement. It is configured to include a guide rail 230.

즉, 가이드 레일(230)은 증착 챔버(10)의 저면으로부터 수직방향으로 설치되는 지지대(232)에 의해 지지,설치되는데, 제2프레임(220)은 이러한 가이드 레일(230)에 대하여 Y축 방향으로 수평이동 가능하게 지지,설치되고, 제1프레임(210)은 상기 제2프레임(220)에 대하여 X축 방향으로 수평이동 가능하게 지지,설치된다.That is, the guide rail 230 is supported and installed by the support 232 installed in the vertical direction from the bottom of the deposition chamber 10, the second frame 220 with respect to the guide rail 230 in the Y-axis direction The first frame 210 is supported and installed horizontally in the X-axis direction with respect to the second frame 220.

또한, 트레이(110)는, 제1프레임(210)에 대하여 지지,설치되는데, 이때 트레이(110)는 승강실린더(240)에 의해 제1프레임(210)에 대하여 지지,설치되어, 제1프레임(210)에 대하여 승강이 이루어지도록 구성될 수도 있다.In addition, the tray 110 is supported and installed with respect to the first frame 210. At this time, the tray 110 is supported and installed with respect to the first frame 210 by the lifting cylinder 240. Lifting may be performed with respect to 210.

상기 제1프레임(210)은, 그 중앙부위에 일정직경의 열원 통과공(212)이 형성되고, 이 열원 통과공(212)을 중심으로 전후좌우에 각각 사각 틀이 형성되어 있는데, 이 사각 틀 중, 서로 평행하게 대향되는 양쪽 틀의 상면부에는 각각 제1구동모터(214)가 설치되어 있다. 이 제1구동모터(214)들의 축에는 각각 제1피니언 기어(216)가 축설되어 있고, 상기 제2프레임(220)에서 제1피니언 기어(216)가 위치하는 제1프레임(210)의 평행한 양 틀이 안착,지지되는 양쪽 틀 상면부에는 상기 제1피니언 기어(216)와 대응하는 제1랙 기어(222)가 형성되어 있다.The first frame 210 has a heat source through-hole 212 having a constant diameter formed at a central portion thereof, and rectangular frames are formed at the front, rear, left, and right sides of the heat source through-hole 212, respectively. First, the first driving motor 214 is provided on the upper surface portions of both frames facing each other in parallel. First pinion gears 216 are arranged on the axes of the first driving motors 214, respectively, and parallel to the first frame 210 in which the first pinion gears 216 are positioned in the second frame 220. The first rack gear 222 corresponding to the first pinion gear 216 is formed on both upper surfaces of the frame on which both frames are seated and supported.

따라서, 제1구동모터(214)들의 정,역회전에 따라 제1피니언 기어(216)들이 제2프레임(220)의 제1랙 기어(222) 상을 전진 또는 후진하게 되는바, 제2프레임(220)에 대하여 제1프레임(210)이 X축 방향으로 수평이동이 가능하게 된다.Accordingly, the first pinion gears 216 move forward or backward on the first rack gear 222 of the second frame 220 according to the forward and reverse rotation of the first driving motors 214. The first frame 210 may be horizontally moved in the X-axis direction with respect to 220.

한편, 제2프레임(220)에서 제1랙 기어(222)가 형성된 틀들과 직각을 이루는 다른 틀들의 상면부에는 제2구동모터(224)가 설치되어 있다. 이 제2구동모터(224)들의 축에도 각각 제2피니언 기어(226)가 축설되어 있고, 상기 가이드 레일(230) 상면부에도 제2피니언 기어(226)와 대응하는 제2랙 기어(234)가 형성되어 있다.On the other hand, in the second frame 220, the second drive motor 224 is installed on the upper surface portion of the other frame perpendicular to the frame formed with the first rack gear 222. Second pinion gears 226 are also arranged on the shafts of the second driving motors 224, and second rack gears 234 corresponding to the second pinion gears 226 on the upper surface of the guide rail 230, respectively. Is formed.

따라서, 제2구동모터(224)들의 정,역회전에 따라 제2피니언 기어(226)들이 가이드 레일(230)의 제2랙 기어(234) 상을 전진 또는 후진하게 되는바, 가이드 레일(230)에 대하여 제2프레임(220)이 Y축 방향으로 수평이동이 가능하게 된다.Accordingly, the second pinion gears 226 move forward or backward on the second rack gear 234 of the guide rail 230 according to the forward and reverse rotation of the second driving motors 224. ), The second frame 220 can be horizontally moved in the Y-axis direction.

이와 같이, 제1구동모터(214)들과, 제2구동모터(224)들의 정,역회전에 따라 제1프레임(210)이 X축 및 Y축 방향을 따라 선택적으로 수평이동이 가능하게 됨으로써, 제1프레임(210)의 상부에 지지,설치되는 트레이(110) 또한 X축 및 Y축 방향을 따라 선택적으로 수평이동이 가능하게 된다.
As such, the first frame 210 is selectively horizontally moved along the X and Y axes in accordance with the forward and reverse rotations of the first and second driving motors 214 and 224. In addition, the tray 110 supported and installed on the upper portion of the first frame 210 may also be selectively horizontally moved along the X and Y axis directions.

상기와 같은 구성으로 이루어진 본 발명의 제 3실시 예에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비를 이용하여 피처리 기판(S)에 박막을 증착하는 과정을 설명하면 다음과 같다.Referring to the process of depositing a thin film on the substrate (S) to be processed using the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the third embodiment of the present invention having the above configuration as follows.

먼저, 트레이(110)의 구획된 수용공간에 서로 다른 종의 증착물질을 균일한 두께로 분포하여 담은 상태에서, 이 트레이(110)를 증착 챔버(10) 내부에 인입시킨다.First, the tray 110 is introduced into the deposition chamber 10 in a state in which deposition materials of different species are distributed and contained in a uniform thickness in the partitioned receiving space of the tray 110.

여기서, 피처리 기판(S)에 트레이(110)의 각 수용부(114a,114b,114c,114d) 중, 어느 하나의 수용부에 분포된 증착물질부터 순차적으로 증착시키고자 할 경우에는, 해당 수용부가 열원 발생부(130)와 동일 수직선상에 위치하도록 얼라인 장치(200)를 작동시킨다.In this case, when the vapor deposition material distributed in any one of the accommodating portions 114a, 114b, 114c, and 114d of the tray 110 is sequentially deposited on the substrate S to be processed, the accommodating The alignment apparatus 200 is operated to be positioned on the same vertical line as the additional heat source generator 130.

예컨대, 도 8a에 도시된 바와 같이, 트레이(110)의 중앙부위에 열원 발생부(130)가 동일 수직선상을 이루는 초기상태에서, 트레이(110)의 수용부 중, 제1수용부(114a)에 분포된 갑종 증착물질을 먼저 피처리 기판(S)에 증착시키고자 할 경우에는, 도 8b에 도시된 바와 같이, 얼라인 장치(200)의 제1구동모터(214)와 제2구동모터(224)를 선택적으로 회전시켜 트레이(110)의 제1수용부(114a)가 열원 발생부(130)와 동일 수직선상에 위치되도록 한다.For example, as shown in FIG. 8A, in the initial state in which the heat source generating unit 130 forms the same vertical line at the center of the tray 110, the first accommodating part 114a among the accommodating parts of the tray 110. In the case where the first deposition material distributed in the first layer is to be deposited on the substrate S, as shown in FIG. 8B, the first driving motor 214 and the second driving motor of the alignment device 200 may be formed. 224 is selectively rotated such that the first accommodating part 114a of the tray 110 is positioned on the same vertical line as the heat source generating part 130.

다음에, 열원 발생부(130)에서 열원이 발생되도록 하고, 이 열원이 증착 챔버(10)의 투명창(12)을 통과하여 트레이(110)의 제1수용부(114a) 저면을 골고루 가열시키도록 한다.Next, a heat source is generated in the heat source generator 130, and the heat source passes through the transparent window 12 of the deposition chamber 10 to evenly heat the bottom of the first accommodating portion 114a of the tray 110. To do that.

이때, 열원 발생부(130)에서 발생되는 열원은 그 파장을 조절하여 제1수용부(114a) 저면만 가열시키고, 근접하는 제2수용부 내지 제4수용부(114b,114c,114d)의 저면은 가열시키지 않도록 하는 것이 바람직하다.At this time, the heat source generated by the heat source generator 130 controls the wavelength to heat only the bottom of the first accommodating part 114a, and the bottom of the adjacent second accommodating part to the fourth accommodating part 114b, 114c, and 114d. It is preferable not to heat silver.

따라서, 트레이(110)의 제1수용부(114a) 저면은 전체 면적이 순간적으로 가열이 이루어지는바, 트레이(110)의 제1수용부(114a)에 균일한 높이로 분포되어 있는 갑종 증착물질이 동시에 증발되어 피처리 기판(S)의 표면에 증착된다.Accordingly, the bottom surface of the first accommodating portion 114a of the tray 110 is heated immediately, and thus, the first deposition material having a uniform height is distributed in the first accommodating portion 114a of the tray 110. At the same time, it is evaporated and deposited on the surface of the substrate S.

이와 같이, 트레이(110)의 제1수용부(114a)에 분포된 갑종 증착물질의 증착이 완료되면, 다시 얼라인 장치(200)의 제1구동모터(214)와 제2구동모터(224)를 선택적으로 회전시켜 트레이(110)의 제2수용부 내지 제4수용부(114b,114c,114d) 중 다음으로 설정된 수용부가 열원 발생부(130)와 동일 수직선상에 위치되도록 한다.(도 8b 내지 도 8e 참조)As such, when deposition of the first deposition material distributed in the first accommodating part 114a of the tray 110 is completed, the first driving motor 214 and the second driving motor 224 of the alignment device 200 are again. Is selectively rotated so that the next receiving portion of the second to fourth receiving portions 114b, 114c, and 114d of the tray 110 is located on the same vertical line as the heat source generating portion 130 (FIG. 8B). To FIG. 8E)

다음에, 열원 발생부(130)에서 열원이 발생되도록 하고, 이 열원이 증착 챔버(10)의 투명창(12)을 통과하여 트레이(110)의 다음 수용부(제2수용부 내지 제4수용부 중 하나의 수용부) 저면을 골고루 가열시키도록 한다.Next, a heat source is generated in the heat source generating unit 130, and the heat source passes through the transparent window 12 of the deposition chamber 10 to receive the next accommodating part of the tray 110 (second accommodating part to fourth accommodating part). Heat the bottom of one receiving part evenly).

따라서, 트레이(110)의 다음 수용부(제2수용부 내지 제4수용부 중 하나의 수용부) 저면은 전체 면적이 순간적으로 가열이 이루어지는바, 트레이(110)의 다음 수용부(제2수용부 내지 제4수용부 중 하나의 수용부)에 균일한 높이로 분포되어 있는 다른 종의 증착물질이 동시에 증발되어 피처리 기판(S)의 표면에 증착된다.Accordingly, the bottom of the next housing portion (the one accommodation portion of the second accommodation portion or the fourth accommodation portion) of the tray 110 is heated in an instantaneous area, and thus the next accommodation portion of the tray 110 (the second accommodation portion). Evaporation materials of different species which are distributed at a uniform height in one of the first to fourth accommodating parts) are simultaneously evaporated and deposited on the surface of the substrate S to be processed.

이와 같은 방법으로 얼라인 장치(200)를 작동시켜 해당 수용부가 열원 발생부(130)와 동일 수직선상으로 위치되도록 한 후, 순차적으로 다른 종의 증착물질을 피처리 기판(S)에 증착시키면 된다.By operating the alignment device 200 in this manner, the corresponding receiving part is positioned in the same vertical line as the heat source generating part 130, and then another deposition material of different species is sequentially deposited on the substrate S to be processed. .

여기서, 상기 제1프레임(210)에 대하여 트레이(110)가 지지,설치되도록 하는 승강실린더(240)를 작동시켜 트레이(110)를 상승시킴에 따라 피처리 기판(S)에 대한 증착 공정이 효율적으로 이루어질 수 있는 간격으로 조절할 수도 있다.In this case, as the tray 110 is raised by operating the lifting cylinder 240 to support and install the tray 110 with respect to the first frame 210, the deposition process for the substrate S to be processed is efficient. It can also be adjusted at intervals that can be made.

한편, 서로 다른 종의 증착물질이 분포되어 담긴 트레이(110)가 얼라인 장치(200)에 의해 X축 및 Y축으로 이동하게 됨에 따라, 피처리 기판(S) 또한 상기 트레이(110)와 같이 X축 및 Y축으로 이동되도록 하거나, 상기 트레이(110)와 효율적인 증착 공정이 이루어질 수 있도록 간격을 조절하기 위하여 피처리 기판(S)의 승강이 이루어지도록 하는 피처리 기판(S) 정렬장치가 더 제공될 수도 있다.
Meanwhile, as the tray 110 in which different kinds of deposition materials are distributed is moved to the X-axis and the Y-axis by the alignment device 200, the substrate S is also processed as in the tray 110. There is further provided a substrate S alignment device for moving the substrate S in order to move in the X-axis and Y-axis, or to adjust a distance between the tray 110 and an efficient deposition process. May be

이상에서와 같이, 서로 다른 여러 종 이상의 증착물질을 순차적으로 피처리 기판(S)에 증착시키는 증착 공정시에도, 앞선 제 1실시 예 및 제 2실시 예에서와 동일한 작용효과를 거두게 됨은 물론인바, 이에 대한 반복설명은 생략하기로 한다.
As described above, even during the deposition process of sequentially depositing a plurality of different deposition materials on the substrate S to be processed, the same effects as in the first and second embodiments will be obtained. Repeated description thereof will be omitted.

이하, 상기한 <제 1실시 예> 내지 <제 3 실시 예>에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이에 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, an apparatus for supplying a deposition material at a uniform height to a tray applied to the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the above <first embodiment> to <third embodiment> will be described.

앞서 언급한 바와 같이, 상기한 구성의 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이(110)는, 넓은 면적에 얇으면서 균일한 두께로 증착물질(112)이 분포되는 것이 매우 중요하다.As mentioned above, in the tray 110 applied to the deposition apparatus for manufacturing the organic light emitting device having the above-described configuration, it is very important that the deposition material 112 is distributed in a thin and uniform thickness in a large area.

이에, 본 발명에서는 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이에 증착물질을 균일한 높이로 분포되도록 공급하는 장치를 더 제공한다.
Accordingly, the present invention further provides an apparatus for supplying a deposition material to a uniform height in a tray applied to the deposition equipment for manufacturing an organic light emitting device.

<제 4실시 예>Fourth Embodiment

도 9는 본 발명에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비의 트레이에 유기물 등의 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 장치 구성을 개략적으로 도시한 구성도이고, 도 10은 도 9의 평면도이다.FIG. 9 is a configuration diagram schematically illustrating a device configuration for supplying a deposition material such as an organic material to a tray of a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention at a uniform height, and FIG. 10 is a plan view of FIG. 9.

도시된 바와 같이, 유기물 등의 증착물질이 전면적에 걸쳐 담기되, 그 밑면의 단면적과 같거나 또는 더 크게 개구면적이 형성된 트레이(110)를 안착지지하기 위한 받침대(300)가 구비된다.As shown in the drawing, a deposition material such as an organic material is contained over the entire area, and a pedestal 300 is provided for seating and supporting the tray 110 having an opening area that is equal to or greater than the cross-sectional area of the bottom surface thereof.

받침대(300)는 지면 등의 바닥면에 대하여 탄성고무 등의 탄성수단(302)에 의해 지지되는 것으로서, 트레이(110)의 각 모서리를 지지하도록 일정간격 이격된 상태로 설치되어 있다.The pedestal 300 is supported by elastic means 302 such as elastic rubber with respect to the bottom surface such as the ground, and is installed at a predetermined interval so as to support each corner of the tray 110.

도 9 및 도 10에서 트레이(110)는 평면상에서 바라볼 때 사각형태인 것을 일례로 도시하였는바, 상기 받침대(300)는 트레이(110)의 사각 모서리 부위를 지지하도록 4군데에 형성된다. 그러나, 트레이(110)가 평면상에서 바라볼 때 원형 또는 삼각형태인 것이 적용될 수도 있으므로, 받침대(300)의 설치 개수는 한정되지 않는다.In FIG. 9 and FIG. 10, the tray 110 has a rectangular shape when viewed in plan view. The pedestal 300 is formed in four places to support the rectangular corner portion of the tray 110. However, since the tray 110 may have a circular or triangular shape when viewed from a plane, the number of mounting of the pedestal 300 is not limited.

한편, 받침대(300)는 지면 등의 바닥면에 대하여 탄성고무 등의 탄성수단(302)에 의해 지지된다고 하였는데, 여기서 탄성수단(302)은 탄성고무를 비롯하여 탄성스프링과 같이 소정의 탄성력을 발휘하는 것이라면 어떠한 것이라도 적용 가능하다.On the other hand, the pedestal 300 is said to be supported by elastic means 302, such as elastic rubber, with respect to the bottom surface, such as the ground, where the elastic means 302 exhibits a predetermined elastic force, such as elastic rubber, including elastic spring Anything can be applied.

상기 받침대(300)에 트레이(110)가 안착된 상태에서, 트레이(110)의 저면과 밀착되는 바이브레이터(310)가 구비된다.In the state where the tray 110 is seated on the pedestal 300, the vibrator 310 is provided to be in close contact with the bottom surface of the tray 110.

바이브레이터(310)는, 지면 등의 바닥면에 직접 접촉되게 설치되지 않고, 탄성고무 또는 탄성스프링과 같이 탄성수단(도면부호 미부여)에 의해 지지되도록 설치되는 것이 바람직하다.The vibrator 310 is not provided to be in direct contact with the bottom surface of the ground, but is preferably installed to be supported by elastic means (not shown), such as elastic rubber or elastic spring.

이러한 바이브레이터(310)는 제어부(314) 및 강약조절부(312)와 전기적으로 연결되어 있으며, 이에 따라 제어부(314)의 작동신호에 따라 전원을 인가받아 진동을 일으키게 되며, 필요에 따라 강약조절부(312)를 이용하여 진동의 크기를 조절할 수 있게 된다.
The vibrator 310 is electrically connected to the control unit 314 and the strength and weakening unit 312, according to the power is applied according to the operating signal of the control unit 314 to generate a vibration, if necessary, the strength and weakening unit It is possible to adjust the magnitude of the vibration using 312.

상기와 같은 구성으로 이루어진 증착장비용 트레이(110)에 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 장치의 작동관계를 설명한다.The operation relationship of the device for supplying the deposition material to a uniform height to the tray 110 for deposition equipment having the above configuration will be described.

받침대(300)에 트레이(110)가 수평을 이루도록 안착시킨 상태에서, 트레이(110)의 수용공간에 유기물 등의 증착물질(미도시됨)을 일정높이로 공급한다.In a state in which the tray 110 is horizontally mounted on the pedestal 300, a deposition material (not shown) such as an organic material is supplied to a receiving space of the tray 110 at a predetermined height.

이때, 트레이(110)는 그 수용공간에 증착물질을 일정높이로 공급한 상태에서 받침대(300)에 수평을 이루도록 안착시킬 수도 있다.In this case, the tray 110 may be seated horizontally on the pedestal 300 in a state in which the deposition material is supplied at a predetermined height into the accommodation space.

이와 같이, 받침대(300)에 대하여 증착물질이 공급된 트레이(110)가 안착된 상태에서, 제어부(314)에 의해 바이브레이터(310)에 작동신호를 인가하면 바이브레이터(310)가 진동을 일으키면서 트레이(110)를 전후좌우로 흔들어주게 되면서 그 수용공간에 공급된 증착물질을 균일한 높이로 분포시키게 된다.As such, when the tray 110 to which the deposition material is supplied to the pedestal 300 is seated, when the operation signal is applied to the vibrator 310 by the controller 314, the vibrator 310 vibrates and causes the tray. While shaking the front and rear 110, the deposition material supplied to the receiving space is distributed at a uniform height.

여기서, 강약조절부(312)를 이용하여 바이브레이터(310)의 진동 강약을 조절하여 보다 효율적으로 트레이(110)에 공급된 증착물질을 균일한 높이로 분포시키는 것이 바람직하다.Here, it is preferable to distribute the deposition material supplied to the tray 110 to a uniform height more efficiently by controlling the vibration intensity of the vibrator 310 by using the strength control unit 312.

바이브레이터(310)에 의한 진동으로 트레이(110)가 흔들리게 될 때, 트레이(110)를 지지하는 받침대(300)는 탄성수단에 의해 그 충격을 흡수하게 됨으로써, 트레이(110)가 상하로 충격을 받지 않고 전후좌우로만 가볍게 흔들리게 되어 더욱 효과적으로 증착물질이 균일한 높이로 정렬된다.When the tray 110 is shaken by the vibration of the vibrator 310, the pedestal 300 for supporting the tray 110 is absorbed by the elastic means, the tray 110 is shocked up and down Lightly swayed only before, after, and left and right without receiving, more effectively the deposition material is aligned at a uniform height.

이와 같이, 그 수용공간에 균일한 높이로 증착물질이 공급된 트레이(110)는 증착 챔버(10) 내부로 이동되어 피처리 기판(S)에 대한 박막 증착에 사용되면 되는데, 이에 대한 작동관계는 앞선 제 1실시 예 내지 제 3실시 예에서 설명하였는바, 이하에서는 그 설명을 생략한다.As such, the tray 110 supplied with the deposition material at a uniform height in the accommodation space may be moved into the deposition chamber 10 to be used for thin film deposition on the substrate S to be processed. As described above in the first to third embodiments, the description thereof is omitted below.

참고로, 상기와 같은 구성으로 이루어진 공급장치인 받침대(300)와 바이브레이터(310) 등은 증착 챔버(10)의 내부에 설치되어 균일한 높이로 증착물질이 공급된 상태에서 곧바로 피처리 기판(S)에 대한 박막 증착에 사용될 수도 있다.
For reference, the pedestal 300 and the vibrator 310, which are the supply device having the above-described configuration, are installed in the deposition chamber 10 and immediately after the deposition material is supplied at a uniform height (S). May be used for thin film deposition.

<제 5실시 예><Fifth Embodiment>

도 11은 본 발명에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이(110)에 유기물 등의 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 제 5실시 예에 따른 장치 구성을 개략적으로 도시한 구성도이고, 도 12는 도 11의 평면도이다.FIG. 11 is a configuration diagram schematically illustrating a device configuration according to a fifth embodiment of supplying a deposition material such as an organic material to a tray 110 applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention at a uniform height. 12 is a plan view of FIG. 11.

참고로, 본 발명의 제 5실시 예는, 앞선 제 4실시 예와 비교하여 트레이(110)에 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 공급수단(320)이 더 추가된 것이며, 그 외의 구성 및 작용효과는 동일하므로, 동일한 부분에 대해서는 동일부호를 부여하여 설명하고, 그 반복되는 설명은 생략하여 설명하기로 한다.For reference, in the fifth embodiment of the present invention, a supply unit 320 for supplying a deposition material to the tray 110 at a uniform height is further added as compared with the foregoing fourth embodiment. Since the effects are the same, the same parts will be described with the same reference numerals, and repeated description thereof will be omitted.

즉, 본 발명의 제 5실시 예에서는, 트레이(110)에 증착물질을 균일한 높이로 공급하기 위한 공급수단(320)을 더 포함하며, 탄성수단을 갖는 받침대(300)와, 바이브레이터(310) 및 제어부(314), 강약조절부(312)의 구성은 앞선 제 1실시 예와 동일하다.That is, in the fifth embodiment of the present invention, the tray 110 further includes a supply means 320 for supplying a deposition material to a uniform height, the pedestal 300 and the vibrator 310 having elastic means And the configuration of the control unit 314, the strength and weakening unit 312 is the same as the first embodiment.

상기 공급수단(320)은, 트레이(110)와 일정간격 이격된 위치에 지지,설치되는 베이스부(322)와, 이 베이스부(322)의 중심축과 그 후단이 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제1크랭크 암(324)과, 이 제1크랭크 암(324)의 선단과 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제2크랭크 암(326) 및, 이 제2크랭크 암(326)의 선단 저부에 수직방향으로 설치되어 증착물질을 트레이(110)에 공급하는 노즐부(328)를 포함하여 구성된다.The supply means 320, the base portion 322 which is supported and installed at a position spaced apart from the tray 110, the center axis and the rear end of the base portion 322 is hinged by a constant rotation A first crank arm 324 of length, a second crank arm 326 of a predetermined length hinged to the tip of the first crank arm 324 and rotated, and the tip of the second crank arm 326 It is configured to include a nozzle unit 328 is installed in the vertical direction at the bottom to supply the deposition material to the tray 110.

여기서, 노즐부(328)는 트레이(110)의 수용공간을 X축 및 Y축으로 수평이동하면서 동일한 이동속도에 따라 균일한 양의 증착물질을 공급하게 되는 것으로서, X축 및 Y축으로 동일속도로 이동하는 것은 제1크랭크 암(324)이 베이스부(322)에 대하여 설정된 속도로 회동되도록 설정하고, 제2크랭크 암(326)이 제1크랭크 암(324)에 대하여 설정된 속도로 회동되도록 설정하는 것에 의해 이루어지게 된다.
Here, the nozzle unit 328 is to supply the deposition material in a uniform amount according to the same moving speed while moving the receiving space of the tray 110 in the X-axis and Y-axis, the same speed in the X-axis and Y-axis Moving to set the first crank arm 324 to rotate at a speed set with respect to the base portion 322, and set the second crank arm 326 to rotate at a speed set with respect to the first crank arm 324. By doing so.

상기와 같은 구성으로 이루어진 증착장비용 트레이(110)에 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 장치의 작동관계를 설명한다.The operation relationship of the device for supplying the deposition material to a uniform height to the tray 110 for deposition equipment having the above configuration will be described.

받침대(300)에 트레이(110)가 수평을 이루도록 안착시킨 상태에서, 트레이(110)의 수용공간에 공급수단(320)에 의해 유기물 등의 증착물질을 일정높이로 공급하여 분포시킨다.In a state where the tray 110 is horizontally seated on the pedestal 300, a deposition material such as an organic material is supplied and distributed to the accommodation space of the tray 110 by a supply means 320.

즉, 공급수단(320)의 베이스부(322)와, 제1크랭크 암(324)과, 제2크랭크 암(326) 및 노즐부(328)의 설정된 작동에 의해 트레이(110)의 수용공간에 증착물질을 균일한 높이로 공급한다.That is, the base unit 322 of the supply means 320, the first crank arm 324, the second crank arm 326 and the nozzle unit 328 by the set operation of the receiving space of the tray 110 The deposition material is supplied at a uniform height.

이와 같이, 받침대(300)에 대하여 증착물질이 공급된 트레이(110)가 안착된 상태에서, 제어부(314)에 의해 바이브레이터(310)에 작동신호를 인가하면 바이브레이터(310)가 진동을 일으키면서 트레이(110)를 전후좌우로 흔들어주게 되면서 그 수용공간에 공급된 증착물질을 더욱 균일한 높이로 정렬시키게 되는데, 바이브레이터(310)의 진동에 의한 정렬관계 및 균일한 높이로 증착물질이 공급된 트레이(110)를 증착 챔버(10) 내부로 이동시켜 피처리 기판(S)에 대하여 증착시키는 작동관계는 앞선 제 4실시 예에서 설명하였으므로, 이하에서는 반복설명을 생략하기로 한다.As such, when the tray 110 to which the deposition material is supplied to the pedestal 300 is seated, when the operation signal is applied to the vibrator 310 by the controller 314, the vibrator 310 vibrates and causes the tray. While shaking (110) front, rear, left, and right to align the deposition material supplied to the receiving space at a more uniform height, the tray in which the deposition material is supplied at a uniform height and the alignment relationship caused by the vibration of the vibrator 310 ( Since the operation relationship of moving 110 into the deposition chamber 10 and depositing the substrate S is described in the fourth embodiment, the description thereof will be omitted below.

참고로, 상기와 같은 구성으로 이루어진 공급장치인 받침대(300)와 바이브레이터(310) 등과, 공급수단(320)은 증착 챔버(10)의 내부에 설치되어 균일한 높이로 증착물질이 공급된 상태에서 곧바로 피처리 기판(S)에 대한 박막 증착에 사용될 수도 있다.For reference, the pedestal 300, the vibrator 310, and the like, the supply device having the above configuration, and the supply means 320 are installed in the deposition chamber 10 in a state in which the deposition material is supplied at a uniform height. It may be directly used for thin film deposition on the substrate S to be processed.

한편, 본 발명의 제 5실시 예에서는 트레이(110)의 수용공간에 상기한 구성의 공급수단(320)에 의해 균일한 높이로 증착물질을 공급하게 됨으로써, 후공정에 이용되는 바이브레이터(310)와, 이 바이브레이터(310)의 진동시 트레이(110)의 충격을 흡수하기 위한 탄성수단 및 바이브레이터(310)를 제어하기 위한 제어부(314)와 강약조절부(312)의 구성은 배제할 수도 있다.
On the other hand, in the fifth embodiment of the present invention by supplying the deposition material to a uniform height by the supply means 320 of the above-described configuration to the receiving space of the tray 110, the vibrator 310 and the post-process The elastic means for absorbing the impact of the tray 110 during the vibration of the vibrator 310 and the control unit 314 and the strength and weakening unit 312 for controlling the vibrator 310 may be excluded.

<제 6실시 예>Sixth Embodiment

도 13은 본 발명에 따른 유기발광소자 제조용 증착장비에 적용되는 트레이(110)에 유기물 등의 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 제 6실시 예에 따른 장치 구성을 개략적으로 도시한 구성도이고, 도 14는 도 13의 평면도이다.FIG. 13 is a configuration diagram schematically illustrating a device configuration according to a sixth embodiment of supplying a deposition material such as an organic material to a tray 110 applied to a deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device according to the present invention at a uniform height. 14 is a plan view of FIG. 13.

참고로, 본 발명의 제 6실시 예는, 앞선 제 5실시 예와 비교하여 트레이(110)에 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 공급수단의 구성만 상이할 뿐, 그 외의 구성 및 작용효과는 동일하므로, 동일한 부분에 대해서는 동일부호를 부여하여 설명하고, 그 반복되는 설명은 생략하여 설명하기로 한다.For reference, the sixth embodiment of the present invention differs only from the configuration of the supply means for supplying the deposition material to the tray 110 at a uniform height, as compared with the fifth embodiment. Since the same parts are denoted by the same reference numerals, the description thereof will be omitted.

즉, 본 발명의 제 6실시 예에서는, 트레이(110)에 증착물질을 균일한 높이로 공급하기 위한 공급수단만 앞선 제 2실시 예에서와 상이하고, 탄성수단을 갖는 받침대(300)와, 바이브레이터(310) 및 제어부(314), 강약조절부(312)의 구성은 앞선 제 4실시 예 및 제 5실시 예와 동일하다.That is, in the sixth embodiment of the present invention, only the supply means for supplying the deposition material to the tray 110 at a uniform height is different from that in the second embodiment, and the pedestal 300 having the elastic means and the vibrator The configuration of the 310, the controller 314, and the strength and weakness control unit 312 are the same as in the foregoing fourth and fifth embodiments.

상기 공급수단(330)은, 트레이(110)의 나란한 양쪽 측면부위에 평행하게 설치되는 한 쌍의 가이드 레일(332)과, 이 가이드 레일(332)의 안쪽면을 따라 Y축 방향으로 수평이동되는 이동부재(334)와, 이 이동부재(334)의 저부에 수직방향으로 설치되고 X축 방향으로 수평이동되면서 증착물질을 트레이(110)에 공급하는 노즐부(336)를 포함하여 구성된다.The supply means 330 is a pair of guide rails 332 which are installed in parallel to both side surfaces of the tray 110 and the horizontal movement in the Y-axis direction along the inner surface of the guide rail 332 The moving member 334 and the bottom of the moving member 334 are installed in a vertical direction and horizontally moved in the X-axis direction, and comprises a nozzle unit 336 for supplying the deposition material to the tray 110.

여기서, 노즐부(336)는 트레이(110)의 수용공간을 X축 및 Y축 방향으로 수평이동하면서 동일한 이동속도에 따라 균일한 양의 증착물질을 공급하게 되는 것으로서, X축 및 Y축으로 동일속도로 이동하는 것은 상기 노즐부(336)가 이동부재(334)에 대하여 설정된 속도로 X축 방향으로 수평이동 하고, 또한 이동부재(334)가 가이드 레일(332)에 대하여 설정된 속도로 Y축 방향으로 수평이동 함에 의해 이루어지게 된다.Here, the nozzle unit 336 is to supply a uniform amount of the deposition material according to the same moving speed while horizontally moving the receiving space of the tray 110 in the X-axis and Y-axis direction, the same in the X-axis and Y-axis Moving at a speed means that the nozzle unit 336 moves horizontally in the X-axis direction at a speed set with respect to the moving member 334, and the moving member 334 moves in the Y-axis direction at a speed set with respect to the guide rail 332. It is made by moving horizontally.

참고로, 가이드 레일(332)에 대한 이동부재(334)의 Y축 방향 수평이동과, 이동부재(334)에 대한 노즐부(336)의 X축 방향 수평이동은 리니어 모터와, 랙과 피니언 또는 실린더 등의 공지된 기술에 의해 얼마든지 구현 가능할 것이므로, 이에 대한 상세한 구성 및 그 작동관계는 생략한다.
For reference, the horizontal movement in the Y axis direction of the moving member 334 with respect to the guide rail 332 and the horizontal movement in the X axis direction of the nozzle unit 336 with respect to the moving member 334 may include a linear motor, a rack and a pinion, Since it can be implemented by any known technique such as a cylinder, a detailed configuration thereof and its operation relationship is omitted.

상기와 같은 구성으로 이루어진 본 발명의 제 6실시 예에 따른 증착장비용 트레이(110)에 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 장치의 작동관계를 설명한다.The operation relationship of the apparatus for supplying a deposition material to a uniform height in the tray 110 for deposition equipment according to the sixth embodiment of the present invention having the above configuration will be described.

받침대(300)에 트레이(110)가 수평을 이루도록 안착시킨 상태에서, 트레이(110)의 수용공간에 공급수단(330)에 의해 유기물 등의 증착물질을 일정높이로 공급한다.In a state where the tray 110 is horizontally mounted on the pedestal 300, a deposition material such as an organic material is supplied to the accommodation space of the tray 110 at a predetermined height by the supply means 330.

즉, 공급수단(330)의 이동부재(334)와 노즐부(336)의 설정된 수평이동에 의해 트레이(110)의 수용공간에 증착물질을 균일한 높이로 공급하엽 분포시킨다.That is, by setting the horizontal movement of the moving member 334 and the nozzle unit 336 of the supply means 330 to distribute the deposition material to the receiving space of the tray 110 at a uniform height.

이와 같이, 받침대(300)에 대하여 증착물질이 공급된 트레이(110)가 안착된 상태에서, 제어부(314)에 의해 바이브레이터(310)에 작동신호를 인가하면 바이브레이터(310)가 진동을 일으키면서 트레이(110)를 전후좌우로 흔들어주게 되면서 그 수용공간에 공급된 증착물질을 더욱 균일한 높이로 정렬시키게 되는데, 바이브레이터(310)의 진동에 의한 정렬관계 및 균일한 높이로 증착물질이 공급된 트레이(110)를 증착 챔버(10) 내부로 이동시켜 피처리 기판(S)에 대하여 증착시키는 작동관계는 앞선 제 4실시 예 및 제 5실시 예에서 설명하였으므로, 이하에서는 반복설명을 생략하기로 한다.As such, when the tray 110 to which the deposition material is supplied to the pedestal 300 is seated, when the operation signal is applied to the vibrator 310 by the controller 314, the vibrator 310 vibrates and causes the tray. While shaking (110) front, rear, left, and right to align the deposition material supplied to the receiving space at a more uniform height, the tray in which the deposition material is supplied at a uniform height and the alignment relationship caused by the vibration of the vibrator 310 ( Since the operation relationship of moving 110 into the deposition chamber 10 and depositing the substrate S is described in the foregoing fourth and fifth embodiments, a repeated description thereof will be omitted.

참고로, 상기와 같은 구성으로 이루어진 공급장치 중, 받침대(300)와 바이브레이터(310) 등과, 공급수단(330)은 증착 챔버(10)의 내부에 설치되어 균일한 높이로 증착물질이 공급된 상태에서 곧바로 피처리 기판(S)에 대한 박막 증착에 사용될 수도 있다.For reference, in the supply device having the above configuration, the pedestal 300, the vibrator 310, and the like, and the supply means 330 are installed inside the deposition chamber 10 so that the deposition material is supplied at a uniform height. It can also be used for thin film deposition on the substrate S to be processed immediately.

한편, 본 발명의 제 6실시 예에서는 트레이(110)의 수용공간에 상기한 구성의 공급수단(330)에 의해 균일한 높이로 증착물질을 공급하게 됨으로써, 후공정에 이용되는 바이브레이터(310)와, 이 바이브레이터(310)의 진동시 트레이(110)의 충격을 흡수하기 위한 탄성수단(302) 및 바이브레이터(310)를 제어하기 위한 제어부(314)와 강약조절부(312)의 구성은 배제할 수도 있다.
On the other hand, in the sixth embodiment of the present invention by supplying the deposition material at a uniform height to the receiving space of the tray 110 by the supply means 330 of the above configuration, the vibrator 310 used for the later process and In addition, the configuration of the elastic means 302 for absorbing the impact of the tray 110 during the vibration of the vibrator 310 and the control unit 314 and the strength and weakening unit 312 for controlling the vibrator 310 may be excluded. have.

참고로, 본 발명의 제 4실시 예 내지 제 6실시 예에 따른 공급장치는, 앞선 제 1실시 예 내지 제 3실시 예에서의 유기발광소자 제조용 증착장비에서 설명한 모든 구성요소들과 유기적으로 혼용되어 적용될 수 있다.
For reference, the supply apparatus according to the fourth to sixth embodiments of the present invention is organically mixed with all the components described in the deposition apparatus for manufacturing an organic light emitting device in the first to third embodiments. Can be applied.

이상에서와 같은 본 발명의 실시 예에서 설명한 기술적 사상들은 각각 독립적으로 실시될 수 있으며, 서로 조합되어 실시될 수도 있다. 또한, 본 발명은 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시 예를 통하여 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시 예가 가능하다. 따라서, 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
Technical ideas described in the embodiments of the present invention as described above may be implemented independently, or may be implemented in combination with each other. In addition, the present invention has been described through the embodiments described in the drawings and the detailed description of the invention, which is merely exemplary, and those skilled in the art to which the present invention pertains have various modifications and equivalent other embodiments. It is possible. Accordingly, the technical scope of the present invention should be determined by the appended claims.

S : 피처리 기판 10 : 증착 챔버
110 : 트레이 110a,110b,110c,110d : 격벽
110-1,110-2,110-3 : 구획벽 112 : 증착물질
120 : 승강수단 130 : 열원 발생부
200 : 얼라인 장치 210 : 제1프레임
212 : 열원 통과공 214 : 제1구동장치
216 : 제1피니언 기어 220 : 제2프레임
222 : 제1랙 기어 224 : 제2구동장치
226 : 제2피니언 기어 230 : 가이드 레일
232 : 지지대 234 : 제2랙 기어
300 : 받침대 302 : 탄성수단
310 : 바이브레이터 312 : 강약조절부
314 : 제어부 320,330 : 공급수단
322 : 베이스부 324 : 제1크랭크 암
326 : 제2크랭크 암 328 : 노즐부
332 : 가이드레일 334 : 이동부재
336 : 노즐부S: substrate to be processed 10: deposition chamber
110: tray 110a, 110b, 110c, 110d: bulkhead
110-1,110-2,110-3: partition wall 112: deposition material
120: lifting means 130: heat source generating unit
200: alignment device 210: first frame
212: heat source through-hole 214: first drive device
216: first pinion gear 220: second frame
222: first rack gear 224: second drive device
226: second pinion gear 230: guide rail
232: support 234: second rack gear
300: pedestal 302: elastic means
310: vibrator 312: strength control unit
314: control unit 320,330: supply means
322: base portion 324: first crank arm
326: second crank arm 328: nozzle portion
332: guide rail 334: moving member
336: nozzle unit

Claims (10)

밑면의 단면적과 같거나 또는 더 크게 개구면적이 형성된 트레이와;
상기 트레이가 수평상태를 이루도록 지지하는 받침대와;
상기 받침대에 상기 트레이가 지지된 상태에서, 상기 트레이를 진동시켜 상기 트레이의 수용공간에 공급된 증착물질을 균일한 높이로 분포시키는 바이브레이터를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
A tray formed with an opening area equal to or greater than the cross-sectional area of the underside;
A pedestal for supporting the tray in a horizontal state;
And a vibrator configured to vibrate the tray to distribute the deposition material supplied to the receiving space of the tray at a uniform height while the tray is supported by the pedestal.
제 1항에 있어서,
상기 받침대는, 상기 트레이의 각 모서리부를 지지하도록 다수개 구비되며, 상기 트레이에서 전달되는 진동을 흡수하도록 탄성부재가 구비된 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
The method of claim 1,
The pedestal is provided with a plurality to support each corner of the tray, the deposition material supply apparatus, characterized in that the elastic member is provided to absorb the vibration transmitted from the tray.
제 1항에 있어서,
상기 바이브레이터는, 상기 트레이의 저면 하부와 접촉되고, 그 진동의 세기가 조절되는 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
The method of claim 1,
The vibrator is in contact with the bottom of the bottom surface of the tray, the deposition material supply apparatus, characterized in that the intensity of vibration is adjusted.
제 1항 내지 제 3항 중, 어느 한 항에 있어서,
상기 트레이의 수용공간에 증착물질을 균일한 높이로 공급하는 공급수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
The method according to any one of claims 1 to 3,
And a supply means for supplying the deposition material at a uniform height to the accommodation space of the tray.
제 4항에 있어서,
상기 공급수단은,
상기 트레이와 일정간격 이격된 위치에 지지,설치되는 베이스부와;
상기 베이스부의 중심축과 그 후단이 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제1크랭크 암과;
상기 제1크랭크 암의 선단과 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제2크랭크 암 및;
상기 제2크랭크 암의 선단 저부에 수직방향으로 설치되어 증착물질을 트레이에 공급하는 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
The method of claim 4, wherein
The supply means,
A base part supported and installed at a position spaced apart from the tray by a predetermined distance;
A first crank arm of a predetermined length in which the central axis of the base portion and the rear end are hinged and rotated;
A second crank arm of a predetermined length hingedly coupled to the front end of the first crank arm to be rotated;
And a nozzle unit installed in a vertical direction at a bottom end of the second crank arm to supply the deposition material to the tray.
제 4항에 있어서,
상기 공급수단은,
상기 트레이의 나란한 양쪽 측면부위에 평행하게 설치되는 한 쌍의 가이드 레일과;
상기 가이드 레일의 안쪽면을 따라 Y축 방향으로 수평이동되는 이동부재와;
상기 이동부재의 저부에 수직방향으로 설치되고 상기 이동부재를 따라 X축 방향으로 수평이동되면서 증착물질을 상기 트레이에 공급하는 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
The method of claim 4, wherein
The supply means,
A pair of guide rails installed parallel to both side surfaces of the tray;
A moving member horizontally moved in the Y-axis direction along an inner surface of the guide rail;
And a nozzle unit installed at the bottom of the moving member in a vertical direction and horizontally moving along the moving member in the X-axis direction to supply the deposition material to the tray.
밑면의 단면적과 같거나 또는 더 크게 개구면적이 형성된 트레이와;
상기 트레이의 수용공간 상부에서 이동가능하게 설치되어, 상기 트레이의 수용공간에 균일한 높이로 증착물질을 공급하는 공급수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
A tray formed with an opening area equal to or greater than the cross-sectional area of the underside;
And a supply means installed to be movable above the accommodating space of the tray to supply the evaporation material with a uniform height to the accommodating space of the tray.
제 7항에 있어서,
상기 공급수단은,
상기 트레이와 일정간격 이격된 위치에 지지,설치되는 베이스부와;
상기 베이스부의 중심축과 그 후단이 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제1크랭크 암과;
상기 제1크랭크 암의 선단과 힌지결합되어 회동이 이루어지는 일정길이의 제2크랭크 암 및;
상기 제2크랭크 암의 선단 저부에 수직방향으로 설치되어 증착물질을 상기 트레이에 공급하는 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
8. The method of claim 7,
The supply means,
A base part supported and installed at a position spaced apart from the tray by a predetermined distance;
A first crank arm of a predetermined length in which the central axis of the base portion and the rear end are hinged and rotated;
A second crank arm of a predetermined length hingedly coupled to the front end of the first crank arm to be rotated;
And a nozzle unit installed in a vertical direction at a bottom end of the second crank arm to supply deposition material to the tray.
제 7항에 있어서,
상기 공급수단은,
상기 트레이의 나란한 양쪽 측면부위에 평행하게 설치되는 한 쌍의 가이드 레일과;
상기 가이드 레일의 안쪽면을 따라 Y축 방향으로 수평이동되는 이동부재와;
상기 이동부재의 저부에 수직방향으로 설치되고 상기 이동부재를 따라 X축 방향으로 수평이동되면서 증착물질을 상기 트레이에 공급하는 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착물질 공급장치.
8. The method of claim 7,
The supply means,
A pair of guide rails installed parallel to both side surfaces of the tray;
A moving member horizontally moved in the Y-axis direction along an inner surface of the guide rail;
And a nozzle unit installed at the bottom of the moving member in a vertical direction and horizontally moving along the moving member in the X-axis direction to supply the deposition material to the tray.
상부에 피처리 기판이 위치하는 증착 챔버와;
상기 증착 챔버 내부에 위치하고, 증착물질이 일정두께로 분포되어 수용되는 것으로서, 상기 증착물질이 수용되는 밑면의 단면적과 같거나 또는 더 크게 개구면적이 형성된 트레이와;
상기 트레이에 열원을 공급하여, 상기 트레이에 분포된 증착물질이 증발되도록 하는 열원 발생부 및;
상기 트레이에 균일한 높이로 증착물질을 공급하기 위한 것으로서, 청구항 1 내지 청구항 3, 청구항 5 내지 청구항 9 중, 어느 한 항에 기재된 증착물질 공급장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광소자 제조용 증착장비.A deposition chamber in which a substrate to be processed is disposed;
A tray located inside the deposition chamber, in which a deposition material is distributed and received at a predetermined thickness, the tray having an opening area equal to or larger than a cross-sectional area of the bottom surface on which the deposition material is received;
A heat source generator supplying a heat source to the tray to allow evaporation of the deposition material distributed in the tray;
Deposition apparatus for supplying a deposition material to the tray at a uniform height, comprising the deposition material supply apparatus according to any one of claims 1 to 3, 5 to 9 .
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