KR20120081966A - Rfid inlay, card containing thesame and method for manufacturing thereof - Google Patents

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KR20120081966A
KR20120081966A KR1020120071761A KR20120071761A KR20120081966A KR 20120081966 A KR20120081966 A KR 20120081966A KR 1020120071761 A KR1020120071761 A KR 1020120071761A KR 20120071761 A KR20120071761 A KR 20120071761A KR 20120081966 A KR20120081966 A KR 20120081966A
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윤정우
김경훈
강덕인
김명규
박선병
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솔브레인 주식회사
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Abstract

PURPOSE: An RFID(Radio Frequency ID) inlay and a card including the same and a manufacturing method thereof are provided to simply apply to mass production and prevent damage of an IC chip or a joint between the IC chip and an antenna as high pressure and high temperature are not applied. CONSTITUTION: An antenna layer(100) includes hardware and an antenna. An IC chip(210) is connected with the antenna layer and is projected to an upper of the antenna layer. A photo-hardening resin layer(230) covers a protrusion of the IC chip. A support layer(300) covers the photo-hardening resin layer. A cover layer(400) covers the support layer. The support layer uses light transmission material.

Description

RFID 인레이, 이를 포함하는 카드 및 이들의 제조방법{RFID INLAY, CARD CONTAINING THESAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF}RDF inlays, cards comprising the same, and methods for manufacturing the same {RFID INLAY, CARD CONTAINING THESAME AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF}

본 발명은 RFID 인레이, 이를 포함하는 카드 및 이들의 제조방법에 관한 것으로서, 제조과정이나 사용과정에서 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부위가 파손되는 것을 막을 수 있고, 내열성이 우수하면서도 각 층간의 접착력이 우수하고 컬(CURL) 현상이 나타나지 않는 RFID 인레이, 이를 포함하는 카드 및 이들의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an RFID inlay, a card including the same, and a method of manufacturing the same, which can prevent the IC chip or the connection portion between the IC chip and the antenna from being damaged during the manufacturing process or the use process, and has excellent heat resistance and The present invention relates to an RFID inlay having excellent adhesion and no CURL phenomenon, a card including the same, and a method of manufacturing the same.

무선 주파수(RF; Radio Frequency)를 이용한 기술들은 이동통신기술 분야, 유통 분야, 진단 분야, 보안 분야 등에서 폭넓게 응용되어 사용되고 있다.Technologies using radio frequency (RF) have been widely applied and used in the field of mobile communication technology, distribution, diagnostics, and security.

특히, RFID(Radio Frequency Identification)장치의 경우에는 개별 인식이 가능한 특정한 대역의 무선 주파수를 특정하여 활용 가능하고, RFID 장치와 직접 정보를 송수신 하는 리더기와 직접 접촉하지 않고 사용할 수 있다는 점, 집적화 기술에 의하여 카드 안에 탑재될 수 있을 정도로 소형화 되어있다는 점 등에서 현재 사용되고 있는 교통카드 외에도 다양한 활용이 가능하다.In particular, in the case of an RFID (Radio Frequency Identification) device, it is possible to specify and utilize a radio frequency of a specific band that can be individually recognized, and can be used without directly contacting a reader that directly transmits and receives information with an RFID device. In addition, it can be used in various ways in addition to the currently used traffic card in that it is compact enough to be mounted in the card.

일반적으로 RFID는, 내장된 배터리에 의해 태그의 송수신 신호를 증폭시켜 신호감도 및 송수신 거리가 크며 내장된 IC칩 모두를 구동하는 능동형, 내장된 배터리 없이 리더기 주위의 전자기장을 통해 안테나에 발생한 전력으로 송수신기능과 직접회로 칩을 구동하는 수동형, 내장된 배터리는 직접회로 칩의 구동에만 쓰이고 송수신 기능은 안테나에서 발생한 전력으로 구동하는 반능동형 등으로 분류된다.In general, RFID amplifies a tag's transmit / receive signal by using a built-in battery, and thus has high signal sensitivity and transmit / receive distance. Passive and built-in batteries that drive functions and integrated circuit chips are used only for driving integrated circuit chips. Transmit and receive functions are classified as semi-active and driven by power generated by the antenna.

수동형 RFID는 필름 형태의 박막에 일정한 주파수를 송수신할 수 있도록 패터닝된 안테나와 상기 안테나를 통해 발생한 전력으로 구동되는 IC칩으로 구성된다. Passive RFID is composed of an antenna patterned to transmit and receive a constant frequency in the film-like thin film and IC chip driven by the power generated through the antenna.

능동형 RFID는, 안테나에 수신된 신호가 내장된 배터리에 의해 증폭하여 IC칩으로 전달되며, 제어기, 메모리 등이 내장된 IC칩에서의 신호처리에 필요한 충분한 전력을 공급받는다. 또한, IC칩 속에서 처리된 신호는 증폭되어 특정의 RF로 변조되어 리더기로 전달된다. 따라서, 송수신 거리가 수동형 RFID에 비하여 상대적으로 길고 송수신 감도도 좋다.The active RFID is amplified by a battery in which the signal received at the antenna is embedded and transferred to the IC chip, and is supplied with sufficient power for signal processing in the IC chip in which the controller, memory and the like are embedded. In addition, the signal processed in the IC chip is amplified, modulated by a specific RF, and delivered to the reader. Therefore, the transmission / reception distance is relatively longer than the passive RFID, and the transmission / reception sensitivity is also good.

반능동형 RFID는, IC칩 속에 내장된 전력관리 모듈을 통해 안테나와 리더기와의 송수신 신호처리를 최적화함으로써 내장된 배터리의 수명을 최대한 활용하는 기능을 가지고 있다.Semi-active RFID has the function of maximizing the life of the built-in battery by optimizing the transmission and reception signal processing between the antenna and the reader through the power management module embedded in the IC chip.

수동형이든 능동형이든 반능동형이든 무관하게 상기 RFID는 안테나와 IC칩을 반드시 포함하고, 안테나와 IC칩은 연결부로 연결된다. 칩 형태의 집적회로인 IC칩은 박막 형태의 안테나에 비하여 크기는 작으나 상대적으로 두께가 두껍고, 안테나와 IC칩은 연결부는 안테나나 IC칩 자체에 비하여 압력에 약한 특성이 있다. Regardless of whether it is passive, active or semi-active, the RFID necessarily includes an antenna and an IC chip, and the antenna and the IC chip are connected by a connection portion. IC chips, which are chip-shaped integrated circuits, are smaller in thickness than thin-film antennas, but are relatively thicker, and the connection between the antenna and the IC chip is weaker in pressure than the antenna or the IC chip itself.

그러나, 이동통신기술 분야, 유통 분야, 진단 분야, 보안 분야 등에서 얇은 카드나 작은 칩의 형태로 제조되는 RFID를 선호하고, 종래 RFID의 제조과정에서 고온 고압으로 압착하는 과정에 의하여 RFID를 제조하여서, IC칩 자체나 안테나와 IC칩은 연결부는 제조과정에서 쉽게 파손된다는 문제점이 있었다.However, in the mobile communication technology field, distribution field, diagnostic field, security field, etc., the RFID is manufactured in the form of a thin card or a small chip. The IC chip itself, or the antenna and the IC chip has a problem that the connection portion is easily broken during the manufacturing process.

본 발명의 목적은 제조과정이나 사용과정에서 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부위가 파손되는 것을 막을 수 있고, 내열성이 우수하면서도 각 층간의 접착력이 우수하고 컬(CURL) 현상이 나타나지 않는 RFID 인레이, 이를 포함하는 카드 및 이들의 제조방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to prevent damage to the IC chip or the connection portion of the IC chip and the antenna during the manufacturing process or use process, and excellent heat resistance, excellent adhesion between the layers and RFID inlay that does not appear curl (CURL) phenomenon It is to provide a card and a manufacturing method thereof.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 카드는 기재와 안테나를 포함하는 안테나층, 상기 안테나층과 연결되며 상기 안테나층의 상부로 돌출되는 IC칩, 상기 IC칩의 돌출부를 덮는 광경화성 수지층, 상기 광경화성 수지층을 덮는 지지층 및 상기 지지층을 덮는 커버층을 포함한다. In order to achieve the above object, a card according to an embodiment of the present invention includes an antenna layer including a substrate and an antenna, an IC chip connected to the antenna layer and protruding above the antenna layer, and covering a protrusion of the IC chip. It comprises a chemical conversion resin layer, a support layer covering the photocurable resin layer, and a cover layer covering the support layer.

상기 지지층은 광투과성 재질을 사용하는 것 일 수 있다.The support layer may be to use a light transmissive material.

상기 지지층은 PET, PEN, PI, PC, PVC, PP 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 필름일 수 있다.The support layer may be any one film selected from the group consisting of PET, PEN, PI, PC, PVC, PP, and a combination thereof.

상기 커버층은 합성수지 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나일 수 있다. The cover layer may be any one selected from the group consisting of synthetic resin film, fiber, paper, and combinations thereof.

상기 광경화성 수지층의 광경화성 수지는 지방족 우레탄계 올리고머 및 에폭시계 올리고머로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 올리고머, 모노머, 그리고 광개시제를 포함하는 것 일 수 있다. The photocurable resin of the photocurable resin layer may include any one of oligomers, monomers, and photoinitiators selected from the group consisting of aliphatic urethane oligomers and epoxy oligomers.

본 발명의 다른 일 실시예에 따른 카드의 제조 방법은 IC칩이 구비된 안테나층을 준비하는 단계, 상기 안테나층 상에 광경화성 수지 조성물을 도포하는 단계, 상기 광경화성 수지 조성물 상부에 지지층을 적층하는 단계, 상기 지지층을 통해 상기 광경화성 수지 조성물에 광을 조사하여, 상기 광경화성 수지 조성물을 경화시키는 단계 및 상기 지지층을 상기 광경화성 수지 조성물 상에 남겨둔 상태에서 상기 지지층 상에 커버층을 적층하는 단계를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a card, including preparing an antenna layer having an IC chip, applying a photocurable resin composition on the antenna layer, and stacking a support layer on the photocurable resin composition. Irradiating light to the photocurable resin composition through the support layer, curing the photocurable resin composition, and laminating a cover layer on the support layer while leaving the support layer on the photocurable resin composition. Steps.

상기 카드의 제조 방법에서 상기 광경화성 수지 조성물을 도포하는 단계는 올리고머를 1차 예열하는 단계, 상기 올리고머와 모노머를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계, 상기 혼합물을 2차 예열하는 단계, 상기 2차 예열된 혼합물을 교반하는 단계 및 상기 교반된 혼합물에 광개시제를 첨가하는 수지 조성물 제조단계를 포함하는 것 일 수 있다. Applying the photocurable resin composition in the manufacturing method of the card comprises the steps of preheating the oligomer first, preparing a mixture by mixing the oligomer and monomer, preheating the mixture second, the second preheating It may be to include a step of stirring the mixture and a resin composition manufacturing step of adding a photoinitiator to the stirred mixture.

상기 카드의 제조 방법에서 상기 광경화성 수지 조성물은 지방족 우레탄계 올리고머 및 에폭시계 올리고머로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 올리고머, 모노머, 그리고 광개시제를 포함하는 것 일 수 있다. In the method of manufacturing the card, the photocurable resin composition may include any one of oligomers, monomers, and photoinitiators selected from the group consisting of aliphatic urethane oligomers and epoxy oligomers.

상기 카드의 제조 방법에서 상기 지지층은 광투과성 재질을 사용하는 것 일 수 있다.In the manufacturing method of the card, the support layer may be one using a light transmissive material.

상기 지지층은 PET, PEN, PI, PC, PVC, PP 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 필름일 수 있다. The support layer may be any one film selected from the group consisting of PET, PEN, PI, PC, PVC, PP, and a combination thereof.

상기 카드의 제조 방법에서 상기 커버층을 적층하는 단계는 상기 지지층 상에 합성수지 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 열압착 방식으로 적층하는 것 일 수 있다. In the manufacturing method of the card, the stacking of the cover layer may include laminating any one selected from the group consisting of synthetic resin film, fiber, paper, and a combination thereof on the support layer by thermocompression bonding.

상기 카드의 제조 방법에서 상기 커버층을 적층하는 단계는 상기 지지층 상에 합성수지 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 스티커 부착 방식으로 적층하는 것 일 수 있다.
In the manufacturing method of the card, the stacking of the cover layer may include laminating any one selected from the group consisting of a synthetic resin film, fiber, paper, and a combination thereof on the support layer.

이하, 본 발명을 도면을 참고하여 더욱 상세하게 설명한다. 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. Like parts are designated by like reference numerals throughout the specification.

도1 및 도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 RFID 인레이의 단면도이다.1 and 2 are cross-sectional views of an RFID inlay according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 RFID 인레이(10)는 RFID를 포함하는 제품에 필수적으로 포함되는 것으로, 도1 및 도2를 참조하여 본 발명의 RFID 인레이(10)를 설명하면, 상기 RFID 인레이(10)는 안테나층(100)과 IC칩층(200)을 포함한다.An RFID inlay 10 according to an embodiment of the present invention is essentially included in a product including an RFID. Referring to FIGS. 1 and 2, the RFID inlay 10 according to the present invention will be described. 10 includes an antenna layer 100 and an IC chip layer 200.

상기 안테나층(100)은 기재(110)와 안테나(130)를 포함한다.The antenna layer 100 includes a substrate 110 and an antenna 130.

상기 기재(110)는 박막 형태의 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 사용할 수 있으며, 상기 기재(100)로 상기 필름을 사용하는 경우 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(Polyethylene Naphtalate, PEN), 폴리비닐 클로라이드(Polyvinyl Chloride, PVC), 폴리에틸렌(Polyethylene, PE), 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리프로필렌(Polypropylene, PP), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 폴리에스테르(polyester), 폴리술폰(Polysulfone), 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌(Acrylonitrile Butadiene Styrene, ABS), 폴리스티렌(Polystyrene, PS), 나일론(Nylon) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나일 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.The substrate 110 may be any one selected from the group consisting of a film, a fiber, paper, and a combination thereof in the form of a thin film, and when the film is used as the substrate 100, polyethylene terephthalate (PET) ), Polyethylene Naphtalate (PEN), Polyvinyl Chloride (PVC), Polyethylene (Polyethylene, PE), Polyimide (PI), Polypropylene (PP), Polycarbonate (Polycarbonate, PC), polyester, polysulfone, acrylonitrile butadiene styrene (ABS), polystyrene (PS), nylon (Nylon), and combinations thereof However, the present invention is not limited thereto.

바람직하게 상기 기재(110)는 PET, PEN, PI, PC 및 PP 필름을 사용하는 것이 내열성이나 절연성 면에서 유리한 효과가 있으며, RFID의 열이나 압력에 의한 변성을 막을 수 있다는 점에서 유리한 효과가 있다.Preferably, the substrate 110 is advantageous in that PET, PEN, PI, PC, and PP films have a favorable effect in terms of heat resistance and insulation, and in that it can prevent denaturation due to heat or pressure of the RFID. .

상기 기재(110)는 프라이머 처리를 하여서 사용할 수 있다.The substrate 110 may be used by subjecting it to a primer.

상기 안테나(130)는 도전 재료로 구성되며 Ag, Au, Al, Cu, Zn, Sn, Ni, Cr, Fe, Co, Ti 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속을 사용할 수 있다. 상기 Al, Cu 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 금속을 상기 안테나(130)의 도전 재료로 사용하는 것이 가공 용이성, 비용면에서 유리하다.The antenna 130 may be made of a conductive material and may use any one metal selected from the group consisting of Ag, Au, Al, Cu, Zn, Sn, Ni, Cr, Fe, Co, Ti, and combinations thereof. . It is advantageous in terms of ease of processing and cost to use any one metal selected from the group consisting of Al, Cu, and combinations thereof as the conductive material of the antenna 130.

상기 안테나(130)는 상기 도전 재료를 이용하여 상기 기재(110)상에 형성된다. 도1을 참조하면, 상기 안테나(130)는 상기 기재(110)상의 일면에 형성될 수도 있고, 도2를 참조하면, 상기 안테나(130)는 상기 기재(110)상의 양면에 형성될 수도 있다.The antenna 130 is formed on the substrate 110 using the conductive material. Referring to FIG. 1, the antenna 130 may be formed on one surface of the substrate 110, and referring to FIG. 2, the antenna 130 may be formed on both surfaces of the substrate 110.

상기 안테나(130)의 형성방법은 RFID의 안테나를 형성하는 방법이라면 제한 없이 사용할 수 있고, 구체적으로 특정한 안테나 패턴으로 상기 기재 위에 형성한 금속층을 제거가공(sputtering)하거나, 금속을 프린팅하여 형성될 수 있으며, 금속층을 에칭가공하여 형성할 수도 있다.The method of forming the antenna 130 may be used without limitation as long as it is a method of forming an antenna of RFID, and specifically, may be formed by sputtering or printing a metal layer formed on the substrate with a specific antenna pattern. The metal layer may be formed by etching.

상기 기재(110)와 상기 안테나(130)의 사이에는 접착제층(도시하지 않음)이 더 형성될 수 있고, 상기 접착제층의 접착제는 상기 기재(110)와 상기 안테나(130)를 접착시킬 수 있는 것이라면 제한없이 사용될 수 있다.An adhesive layer (not shown) may be further formed between the substrate 110 and the antenna 130, and the adhesive of the adhesive layer may adhere the substrate 110 to the antenna 130. Can be used without limitation.

상기 IC칩층(200)은 IC칩(210)과 광경화성 수지층(230)을 포함한다.The IC chip layer 200 includes an IC chip 210 and a photocurable resin layer 230.

상기 IC칩(210)은 RFID에서 사용되는 IC칩이라면 그 종류에 무관하게 제한없이 사용할 수 있다. 상기 IC칩(210)은 상기 안테나층(100)의 기재(110)의 일면 또는 안테나(130)의 일면에 접하게 위치하게 되고, 따라서 상기 안테나층(100)의 상부로 일부 또는 전부가 돌출된다.The IC chip 210 may be used without limitation as long as it is an IC chip used in RFID. The IC chip 210 is positioned to be in contact with one surface of the substrate 110 or one surface of the antenna 130 of the antenna layer 100, and thus some or all of the IC chip protrudes above the antenna layer 100.

상기 IC칩(210)은 상기 안테나(130)와 연결부(도시하지 않음)에 의하여 연결되며, 상기 연결부는 기존의 RFID에서 IC칩과 안테나를 연결하는 방법이라면 제한없이 사용될 수 있다. 상기 IC칩은 상기 안테나로부터 수신된 신호를 전달 받아 작동한다.The IC chip 210 is connected to the antenna 130 by a connection unit (not shown), and the connection unit may be used without limitation as long as it is a method of connecting the IC chip and the antenna in the conventional RFID. The IC chip operates by receiving a signal received from the antenna.

상기 광경화성 수지층(230)은 상기 안테나층(100)의 상부로 일부 또는 전부가 돌출되는 상기 IC칩(210)의 돌출부와 상기 연결부를 덮어서 열이나 압력에 의하여 상기 IC칩(210)이나 상기 연결부가 파손되는 것을 막아준다.The photocurable resin layer 230 covers the protruding portion and the connecting portion of the IC chip 210, which part or all protrudes from the upper portion of the antenna layer 100, so that the IC chip 210 or the substrate may be damaged by heat or pressure. This prevents the connection from breaking.

구체적으로, 상기 광경화성 수지층(230)의 일면은 상기 IC칩(210)의 돌출부를 덮어 보호하고 상기 안테나층(100)의 전면(全面)을 덮으며, 상기 광경화성 수지층(230)의 타면은 표면이 평평할 수 있다.Specifically, one surface of the photocurable resin layer 230 covers and protects the protrusion of the IC chip 210 and covers the entire surface of the antenna layer 100. The other side may have a flat surface.

상기 RFID 인레이(10)는 상기 광경화성 수지층(230)을 포함함에 따라 종래와 같이 열경화 방식으로 보호층을 형성할 필요가 없어 열경화시 고온 및 고압에 의하여 상기 IC칩(210)과 상기 연결부가 파손되는 것을 방지할 수 있으며, 또한 이를 방지하기 위하여 수지층에 IC칩(210)이 수용되기 위한 별도의 공간을 마련할 필요가 없어 제조공정을 단순화시킬 수 있다.Since the RFID inlay 10 includes the photocurable resin layer 230, it is not necessary to form a protective layer in a thermosetting manner as in the prior art, and thus the IC chip 210 and the high temperature and high pressure may be formed during thermal curing. It is possible to prevent the connection part from being broken, and to prevent this, it is not necessary to provide a separate space for accommodating the IC chip 210 in the resin layer, thereby simplifying the manufacturing process.

도3 및 도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 RFID 인레이(10)의 단면도로, 도3및 도4를 참조하면, 상기 RFID 인레이(10)는 상기 광경화성 수지층(230)의 상부에 지지층(300)을 더 포함할 수 있다.3 and 4 are cross-sectional views of an RFID inlay 10 according to an embodiment of the present invention. Referring to FIGS. 3 and 4, the RFID inlay 10 is disposed on the photocurable resin layer 230. The support layer 300 may further include.

상기 지지층(300)은 박막 형태의 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 사용할 수 있으며, 상기 지지층(300)으로 상기 필름을 사용하는 경우 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate, PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(Polyethylene Naphtalate, PEN), 폴리비닐 클로라이드(Polyvinyl Chloride, PVC), 폴리에틸렌(Polyethylene, PE), 폴리이미드(Polyimide, PI), 폴리프로필렌(Polypropylene, PP), 폴리카보네이트(Polycarbonate, PC), 폴리에스테르(polyester), 폴리술폰(Polysulfone), 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌(Acrylonitrile Butadiene Styrene, ABS), 폴리스티렌(Polystyrene, PS), 나일론(Nylon) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The support layer 300 may use any one selected from the group consisting of a film, a fiber, paper, and a combination thereof in a thin film form, and in the case of using the film as the support layer 300, polyethylene terephthalate (PET) ), Polyethylene Naphtalate (PEN), Polyvinyl Chloride (PVC), Polyethylene (Polyethylene, PE), Polyimide (PI), Polypropylene (PP), Polycarbonate (Polycarbonate, PC), polyester, polysulfone, acrylonitrile butadiene styrene (ABS), polystyrene (PS), nylon (Nylon), and combinations thereof It may be, but is not limited thereto.

바람직하게 상기 지지층(300)은 PET, PEN, PI, PC 및 PP 필름을 사용하는 것이 내열성이나 절연성 면에서 유리한 효과가 있으며, RFID의 열이나 압력에 의한 변성을 막을 수 있다는 점에서 유리한 효과가 있다. Preferably, the support layer 300 is advantageous in that the use of PET, PEN, PI, PC, and PP film has an advantageous effect in terms of heat resistance and insulation, and can prevent modification due to heat or pressure of the RFID. .

상기 지지층(300)은 상기 안테나층(100)에 상기 광경화성 수지층(230)을 형성하는 경우 발생할 수 있는 컬 현상(CURL 현상)을 방지할 수 있다. 또한, 상기 지지층(300)을 상기 기재(110)와 동일한 소재의 것을 사용할 수도 있고, 상이한 소재의 것을 사용할 수도 있는데, 상기 기재(110)와 동일한 소재를 사용하는 경우 상기 컬 현상을 더욱 효과적으로 방지할 수 있다.The support layer 300 may prevent a curl phenomenon (CURL phenomenon) that may occur when the photocurable resin layer 230 is formed on the antenna layer 100. In addition, the support layer 300 may be made of the same material as the base material 110, or may be used of a different material, when using the same material as the base material 110 to more effectively prevent the curl phenomenon Can be.

상기 광경화성 수지층(230)은 광경화성 수지 조성물을 도포하고 광경화시켜 제조된 것일 수 있다.The photocurable resin layer 230 may be prepared by coating and photocuring the photocurable resin composition.

상기 광경화성 수지 조성물은 도포한 후 광조사를 통하여 경화될 수 있는 것이면 어느 것이든 사용할 수 있으며, 본 발명에서 특별히 한정되지 않는다.The photocurable resin composition may be used as long as it can be cured through light irradiation after coating, and is not particularly limited in the present invention.

바람직하게 상기 광경화성 수지 조성물은 우레탄계 올리고머, 모노머 및 광개시제를 포함할 수 있다. 또한, 상기 우레탄계 올리고머로는 바람직하게 지방족 우레탄계 올리고머를 사용할 수 있고, 더욱 바람직하게 2이상의 관능기를 가진 지방족 우레탄계 올리고머를 사용할 수 있다. 상기 지방족 우레탄계 올리고머를 사용하는 경우 RFID 인레이에의 컬(CURL) 현상 발생을 줄이고, 상기 기재층 또는 상기 지지층과의 접착력을 높일 수 있으며, RFID 인레이의 내부이 있는 IC칩을 보호할 수 있도록 적절한 유연성 및 복원성을 가질 수 있다.Preferably, the photocurable resin composition may include a urethane-based oligomer, a monomer and a photoinitiator. The urethane oligomer may be preferably an aliphatic urethane oligomer, and more preferably an aliphatic urethane oligomer having two or more functional groups. When the aliphatic urethane-based oligomer is used, it is possible to reduce the occurrence of curl on the RFID inlay, increase adhesion to the base layer or the support layer, and provide proper flexibility and protection to protect the IC chip having the inside of the RFID inlay. It may have resiliency.

상기 모노머는 포스페이트(Phosphate)계, 아미드(Amide)계, 하이드록시(Hydroxy)계, 지방족(Aliphatic)계 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것일 수 있고, 상기 지방족(Aliphatic)계 모노머는 관능기로 에틸 옥사이드(Ethyl oxide) 또는 프로필 옥사이드(Propyl oxide)가 도입된 지방족계 모노머이거나 부분적으로 방향족 탄소가 도입된 지방족계 모노머일 수도 있다.The monomer may be any one selected from the group consisting of phosphate-based, amide-based, hydroxy-based, aliphatic-based and combinations thereof, and the aliphatic-based monomers. May be an aliphatic monomer in which ethyl oxide or propyl oxide is introduced as a functional group or an aliphatic monomer in which aromatic carbon is partially introduced.

상기 포스페이트(Phosphate)계 모노머로는 포스페이트 (메타)크릴레이트(Phosphate (Meth)acrylate)를, 아미드(Amide)계 모노머로는 N,N-디메틸아크릴아미드(N,N-Dimethyl acrylamide)를, 하이드록시(Hydroxy)계 모노머로는, 2-하이드록시 에틸 (메타)크릴레이트(2-Hydroxy ethyl (meth)acrylate, 2-HEMA), 지방족(Aliphatic)계 모노머로는 페녹시 (메타)크릴레이트(Phenoxy (Meth)acrylate), 페녹시 에틸 (메타)크릴레이트(Phenoxy Ethyl (Meth)acrylate), 라우릴 (메타)크릴레이트(Lauryl (Meth)acrylate), 에틸렌글리콜 노닐페닐 에테르 (메타)크릴레이트(Ethyleneglycol Nonylphenyl Ether (Meth)acrylate) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나일 수 있다.The phosphate monomer is phosphate (meth) acrylate (Phosphate (Meth) acrylate), the amide monomer is N, N-dimethyl acrylamide (N, N-Dimethyl acrylamide), As the hydroxy (Hydroxy) monomer, 2-hydroxy ethyl (meth) acrylate (2-Hydroxy ethyl (meth) acrylate, 2-HEMA), as the aliphatic monomer, phenoxy (meth) acrylate ( Phenoxy (Meth) acrylate, Phenoxy Ethyl (Meth) acrylate, Lauryl (Meth) acrylate, Ethylene glycol nonylphenyl ether (meth) acrylate ( Ethyleneglycol Nonylphenyl Ether (Meth) acrylate) and combinations thereof may be any one selected from the group consisting of.

상기 포스페이트(Phosphate)계 모노머와 상기 아미드(Amide)계 모노머를 사용하는 경우 광경화성 수지층의 접착력이 우수해질 수 있고, 상기 지방족(Aliphatic)계 모노머를 사용하는 경우 컬 현상을 줄이면서도 유연성 및 복원성을 광경화성 수지층에 부여할 수 있다.When the phosphate-based monomer and the amide-based monomer are used, the adhesion of the photocurable resin layer may be excellent, and when the aliphatic monomer is used, flexibility and resilience may be reduced while reducing curl. Can be given to a photocurable resin layer.

상기 광개시제는 광경화형 수지 조성물에서 사용하는 통상의 광개시제를 사용할 수 있고, 광조사시에 사용하는 광원이나, 모노머 및 올리고머의 구성에 따라 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.The photoinitiator can be used a conventional photoinitiator used in the photocurable resin composition, and can be appropriately selected according to the configuration of the light source, monomer and oligomer used at the time of light irradiation.

상기 광개시제로는 광경화성 수지에서 광개시제로 사용하는 것이라면 어떤 것이든 사용할 수 있다. 다만, 지지층으로 사용하는 소재의 광투과성을 고려하여 적절한 것을 선택하여 사용하는 것이 바람직하다.As the photoinitiator, any one used as the photoinitiator in the photocurable resin may be used. However, in consideration of the light transmittance of the material used as the support layer, it is preferable to select and use an appropriate one.

상기 광개시제로는 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드(2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide, TPO), 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-원(2-Methyl-1[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 사용할 수 있으며, TPO를 사용하는 경우 350nm 이상의 장파장에서의 광개시제로서의 역할이 우수하며, 200nm 내지 1000nm의 두께에서도 심부까지 경과하는 것이 가능하고, 광경화성 수지층의 접착력 및 경화특성을 향상시킬 수 있다. The photoinitiator is 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide, TPO), 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropane-1-one (2-Methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one) and any combination thereof may be used, and TPO In the case of using, it is excellent as a photoinitiator in the long wavelength of 350nm or more, it is possible to pass to the deep part even in the thickness of 200nm to 1000nm, it is possible to improve the adhesive force and curing characteristics of the photocurable resin layer.

상기 광경화성 수지 조성물은 산화방지제 등의 기타 첨가제를 더 포함할 수 있고, 상기 산화방지제로는 트리에틸렌 글리콜-비스-3-(3-터트-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐) 프로피오네이트(Triethylene glycol-bis-3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate)를 사용할 수 있으며, 이 경우 산화를 방지할 수 있는 효과가 있다. 상기 기타 첨가제는 광경화성 수지 조성물 전체를 기준으로 0.01 내지 3 중량%로 포함될 수 있다.The photocurable resin composition may further include other additives such as an antioxidant, and the antioxidant may be triethylene glycol-bis-3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propio. Nate (Triethylene glycol-bis-3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate) can be used, in this case there is an effect that can prevent oxidation. The other additives may be included in 0.01 to 3% by weight based on the entire photocurable resin composition.

상기 광경화성 수지 조성물은 우레탄계 올리고머 18 내지 80 중량%, 모노머 18 내지 80 중량%, 광개시제 0.1 내지 15 중량%를 포함하는 광경화성 수지 조성물을 포함하는 것일 수 있고, 바람직하게 우레탄계 올리고머 38 내지 70 중량%, 모노머 18 내지 60 중량%, 광개시제 0.1 내지 6 중량%를 포함할 수 있고, 더욱 바람직하게 우레탄계 올리고머 48 내지 60 중량%, 모노머 38 내지 50 중량%, 광개시제 0.1 내지 4 중량%를 포함하는 것일 수 있다. 상기의 비율로 광경화성 수지 조성물을 구성하는 경우 컬발생 현상이 적으면서도 접착력이 우수하며 경화특성 또한 우수한 광경화성 수지층을 구성할 수 있다. 또한 상기 비율로 광경화성 수지 조성물을 구성하는 경우 200um 이상의 심부에도 광경화가 가능하고 RFID 인레이를 보호하기에 적절한 유연성 및 복원특성을 부여할 수 있다.The photocurable resin composition may include a photocurable resin composition comprising 18 to 80% by weight of a urethane oligomer, 18 to 80% by weight of a monomer, and 0.1 to 15% by weight of a photoinitiator, and preferably 38 to 70% by weight of a urethane oligomer. It may include 18 to 60% by weight of monomer, 0.1 to 6% by weight of photoinitiator, and more preferably 48 to 60% by weight of urethane oligomer, 38 to 50% by weight of monomer and 0.1 to 4% by weight of photoinitiator. . When constituting the photocurable resin composition in the above ratio, it is possible to form a photocurable resin layer having a low curling phenomenon and excellent adhesion and curing properties. In addition, when the photocurable resin composition is formed at the above ratio, photocuring is possible even at a depth of 200 μm or more, and it may impart appropriate flexibility and restoration characteristics to protect the RFID inlay.

상기 광경화성 수지 조성물은 용제를 더 포함할 수 있으며, 상기 용제는 광경화성 수지 조성물에 포함되는 통상의 용제라면 어떤 것이든 사용할 수 있다. 예를들어, 아크릴레이트류, 알코올류, 메타크릴아미드류, 에테르류 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
The photocurable resin composition may further include a solvent, and any solvent may be used as long as it is a common solvent included in the photocurable resin composition. For example, acrylates, alcohols, methacrylamides, ethers, and the like can be used, but are not limited thereto.

도5 및 도6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 카드(20)의 단면도를 나타낸 것이다. 도5를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 카드(20)는 상기 RFID 인레이(10)를 포함한다.5 and 6 show cross-sectional views of a card 20 according to another embodiment of the invention. Referring to FIG. 5, a card 20 according to another embodiment of the present invention includes the RFID inlay 10.

상기 RFID 인레이(10)를 포함하는 카드(20)는 상기 RFID 인레이(10)에 상부 커버(410), 하부 커버(430) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 커버층(400)을 더 포함하는 것일 수 있다.The card 20 including the RFID inlay 10 includes one cover layer 400 selected from the group consisting of an upper cover 410, a lower cover 430, and a combination thereof. It may be to include more.

상기 상부 커버(410) 및 하부 커버(430)는 카드의 표면제로 사용할 수 있는 것이라면 어떤 것이든 사용할 수 있으며, 합성수지 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나일 수 있다. The upper cover 410 and the lower cover 430 may be used as long as it can be used as a surface agent of the card, it may be any one selected from the group consisting of synthetic resin film, fiber, paper and combinations thereof.

상기 상부 커버(410) 및 하부 커버(430)는 RFID 인레이(10)와 만나는 면에 접착층(도시하지 않음)이 형성되어 있는 것일 수 있다. 상기 접착층은 공지의 접착제를 사용할 수 있으며, 상기 접착층이 더 형성됨으로 인하여 기존의 카드 제조방식인 열압착 방식이 아닌 스티커 방식으로 RFID 인레이(10)를 포함하는 카드(20)를 제조할 수 있다.The upper cover 410 and the lower cover 430 may be an adhesive layer (not shown) is formed on the surface that meets the RFID inlay 10. The adhesive layer may use a known adhesive, and since the adhesive layer is further formed, the card 20 including the RFID inlay 10 may be manufactured by a sticker method instead of a thermocompression method that is a conventional card manufacturing method.

도6을 참조하면, 상기 RFID 인레이(10)를 포함하는 카드(20)는 상기 RFID 인레이(10)의 상부 커버(410)의 상부에 위치하는 상부 코팅층(510)을 더 포함할 수 있고, 상기 RFID 인레이(10)의 하부 커버(430)의 하부에 위치하는 하부 코팅층(530)을 더 포함할 수 있다.
Referring to FIG. 6, the card 20 including the RFID inlay 10 may further include an upper coating layer 510 positioned on the upper cover 410 of the RFID inlay 10. A lower coating layer 530 may be further included below the lower cover 430 of the RFID inlay 10.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 RFID 인레이의 제조방법은 광경화성 수지 도포단계 및 광경화단계를 포함한다. The method of manufacturing an RFID inlay according to another embodiment of the present invention includes a photocurable resin coating step and a photocuring step.

상기 광경화성 수지 도포단계 이전에 광경화성 수지 조성물 제조단계를 더 포함할 수 있다.The photocurable resin composition may be further prepared before the photocurable resin coating step.

상기 광경화성 수지 조성물 제조단계는 1차예열과정, 1차혼합과정, 2차예열과정, 교반과정, 2차혼합과정을 포함한다.The photocurable resin composition manufacturing step includes a first preheating process, a first mixing process, a second preheating process, a stirring process, a second mixing process.

상기 광경화성 수지 조성물에 대한 구체적인 구성 및 함량에 관한 내용은 상기 RFID 인레이에서 설명한 바와 같으므로 기재를 생략한다.Details regarding the specific structure and content of the photocurable resin composition are the same as described in the RFID inlay, and thus descriptions thereof are omitted.

상기 1차예열과정은 제조단계는 올리고머를 20 내지 80℃에서 10 내지 200분 동안 예열하는 과정이고, 바람직하게 올리고머를 40 내지 60℃에서 20 내지 60분 동안 예열할 수 있다. 상기 1차예열과정을 거치는 경우 상대적으로 고온인 예열 과정에서 올리고머가 저점도화 되어서 혼합이 충분하게 이루어질 수 있다.The first preheating process is a process of preheating the oligomer at 20 to 80 ℃ for 10 to 200 minutes, preferably the oligomer may be preheated at 40 to 60 ℃ for 20 to 60 minutes. In the case of the first preheating process, the oligomer may become low in the preheating process at a relatively high temperature, thereby sufficiently mixing.

상기 1차혼합과정은 모노머를 상기 올리고머와 혼합하여 혼합물을 제조하는 과정이다.The first mixing process is a process of preparing a mixture by mixing a monomer with the oligomer.

상기 2차예열과정은 상기 혼합물을 20 내지 80℃에서 10 내지 80분 동안 예열하는 과정이고, 바람직하게 상기 혼합물을 40 내지 60℃에서 20 내지 60분 동안 예열하는 과정이다. 상기 2차예열과정을 거치는 경우 예열에 따른 저점도화에 따라서 올리고머와 모노모의 혼합이 보다 잘 이루어질 수 있다.The second preheating process is a process of preheating the mixture at 20 to 80 ℃ for 10 to 80 minutes, preferably a process of preheating the mixture at 40 to 60 ℃ for 20 to 60 minutes. In the case of the second preheating process, the oligomer and the monomo may be better mixed according to the low viscosity due to the preheating.

상기 교반과정은 상기 2차 예열된 혼합물을 교반하는 과정이다. 상기 교반과정은 저속 교반 후 고속 교반의 단계로 이루어질 수 있다.The stirring process is a process of stirring the second preheated mixture. The stirring process may be performed in a step of high speed stirring after low speed stirring.

상기 2차혼합과정은 상기 혼합물에 광개시제를 첨가하는 과정이다.The secondary mixing process is a process of adding a photoinitiator to the mixture.

상기 2차혼합과정 이후에 여과과정을 더 거칠 수 있다.After the second mixing process, the filtration process may be further performed.

상기 광경화성 수지 도포단계는 상기 광경화성 수지 조성물을 IC칩(210)이 구비된 안테나층(100)에 도포하는 단계이다.The photocurable resin coating step is a step of applying the photocurable resin composition to the antenna layer 100 provided with the IC chip (210).

상기 IC칩(210) 및 상기 안테나층(100)에 관한 내용은 상기 RFID 인레이(10)에서 설명한 바와 같으므로 기재를 생략한다.Since the details of the IC chip 210 and the antenna layer 100 are the same as described in the RFID inlay 10, description thereof is omitted.

상기 광경화단계는 상기 광경화성 수지가 도포된 IC칩(210)이 구비된 IC칩층(200)에 광조사하여 상기 광경화성 수지를 경화시키는 단계이다.The photocuring step is a step of curing the photocurable resin by light irradiation to the IC chip layer 200 provided with the IC chip 210 coated with the photocurable resin.

상기 광경화성 수지 도포단계와 광경화단계 사이에 상기 광경화성 수지 도포단계에서 제조된 광경화성 수지가 도포된 IC칩(210)의 광경화성 수지의 상부에 지지층(300)을 적층하는 지지층 적층단계를 더 포함할 수 있다.Between the photocurable resin coating step and the photocuring step, the support layer lamination step of laminating the support layer 300 on top of the photocurable resin of the IC chip 210 coated with the photocurable resin prepared in the photocurable resin coating step It may further include.

상기 지지층(300)에 관한 내용은 상기 RFID 인레이(10)에서 설명한 바와 같으므로 기재를 생략한다.Since the contents of the support layer 300 are the same as described in the RFID inlay 10, description thereof is omitted.

상기 광경화성 수지 도포단계와 상기 지지층 적층단계는 순차로 이루어질 수 있고, 적정량의 광경화성 수지를 상기 안테나층(100)에 도포하고, 상기 도포된 광경화성 수지의 상부에 지지층(300)을 적층하여 상기 광경화성 수지가 상기 안테나층(100) 및 상기 안테나층의 상부로 일부 또는 전부가 돌출되는 IC칩(210)에 적절한 높이로 수지층의 표면이 평평하게 되도록 할 수 있다.The photocurable resin coating step and the support layer stacking step may be sequentially performed, and an appropriate amount of the photocurable resin is applied to the antenna layer 100, and the support layer 300 is laminated on the coated photocurable resin. The surface of the resin layer may be flattened at a height suitable for the photocurable resin and the IC chip 210 protruding part or all of the antenna layer 100 and the upper portion of the antenna layer.

상기 광경화성 수지 도포 단계, 광경화단계, 지지층 적층 단계 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 단계는 룰투롤 방식으로 이루어질 수 있다. 상기 롤투롤 방식은 상기 기재를 각 RFID 인레이 별로 재단하지 않고 상기 기재를 회전롤에 감아 이송시키면서 연속적으로 여러 개의 RFID 인레이를 제조한 후 재단하여 RFID 인레이를 제조하는 방법이다. 상기 RFID 인레이 제조방법은 롤투롤 방식을 적용할 수 있어 간단하고 자동화된 방법을 통하여 상기 RFID 인레이를 제조할 수 있다.Any one step selected from the group consisting of the photocurable resin coating step, the photocuring step, the supporting layer stacking step, and a combination thereof may be made in a rule-to-roll manner. The roll-to-roll method is a method of manufacturing an RFID inlay by cutting a plurality of RFID inlays continuously while cutting the substrate onto a rotary roll without cutting the substrate for each RFID inlay. The RFID inlay manufacturing method may apply a roll-to-roll method to manufacture the RFID inlay through a simple and automated method.

상기 광경화 단계는 광경화성 조성물의 경화 정도나 지지층의 광투과성능 등을 고려하여 1차 광경화단계만 이루어질 수도 있고, 상기 1차 광경화단계 이후에 상기 1차 광경화단계에서 제조된 RFID 인레이에 다시 광조사를 하여 광경화성 수지 조성물을 경화시키는 2차 광경화단계를 더 포함할 수도 있다.
The photocuring step may be made only in the first photocuring step in consideration of the degree of curing of the photocurable composition or the light transmission performance of the support layer, and after the first photocuring step, the RFID inlay manufactured in the first photocuring step It may further comprise a secondary photocuring step of curing the photocurable resin composition by light irradiation again.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 RFID 인레이를 포함하는 카드의 제조방법은 상기 RFID 인레이의 제조방법에 의하여 제조된 RFID 인레이(10)에 상부 커버(410), 하부 커버(430) 및 이들의 조합으로 이루어진 커버층(400)을 적층시키는 커버층 적층단계를 포함한다. According to another embodiment of the present invention, a method of manufacturing a card including an RFID inlay includes an upper cover 410, a lower cover 430, and a cover of an RFID inlay 10 manufactured by the method of manufacturing an RFID inlay. Cover layer stacking step of stacking the cover layer 400 made of a combination.

상기 커버층 적층단계는 열압착 방식에 의할 수도 있고, 상기 커버층(400)은 상기 커버층(400)과 상기 RFID 인레이(10)와 만나는 면에 형성된 접착층에 의하여 스티커 방식에 의한 것일 수도 있다.The cover layer stacking step may be by a thermocompression bonding method, and the cover layer 400 may be by a sticker method by an adhesive layer formed on a surface where the cover layer 400 meets the RFID inlay 10. .

상기 커버층 적층단계가 스티커 방식으로 이루어지는 경우, 열압착 방식의 경우에 발생할 수 있는 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부의 파손을 막을 수 있다.When the cover layer stacking step is performed by a sticker method, it is possible to prevent breakage of the IC chip or the connection portion of the IC chip and the antenna, which may occur in the case of the thermocompression bonding method.

상기 RFID 인레이를 포함하는 카드의 제조방법은 상기 커버층이 적층된 RFID 인레이의 상부에 상부 코팅층(510)을 적층하고, 상기 커버층이 적층된 RFID 인레이의 하부에 하부 코팅층(530)을 적층하는 코팅층(500) 적층 과정을 더 포함할 수 있다.In the method of manufacturing a card including the RFID inlay, the upper coating layer 510 is stacked on the RFID inlay on which the cover layer is stacked, and the lower coating layer 530 is laminated on the RFID inlay on which the cover layer is stacked. The coating layer 500 may further include a lamination process.

상기 커버층(400) 및 코팅층(500)에 관한 기재는 상기 RFID 인레이(10)에서 설명한 바와 같으므로 기재를 생략한다.Since the description of the cover layer 400 and the coating layer 500 is the same as described in the RFID inlay 10, the description is omitted.

상기 광경화성 수지 조성물 및 광경화성 수지층에서 광경화는 열압착 방식에 의하지 아니하고 광선의 조사에 의하여 수지 조성물이 경화되어 수지층을 형성하는 경우를 모두 포함하는 의미이며, 바람직하게 상기 광경화는 UV경화일 수 있다.In the photocurable resin composition and the photocurable resin layer, photocuring means all the cases where the resin composition is cured by irradiation with light to form a resin layer, not by a thermocompression bonding method, and preferably the photocuring is UV. May be curing.

본 발명의 RFID 인레이는 제조과정이나 사용과정에서 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부위가 파손되는 것을 막을 수 있고, 내열성이 우수하면서도 각 층간의 접착력이 우수하고 컬(CURL) 현상이 나타나지 않는다. 본 발명의 RFID 인레이를 포함하는 카드는 내압력성 및 내열성이 우수하다,The RFID inlay of the present invention can prevent the IC chip or the connection portion of the IC chip and the antenna from being damaged during the manufacturing process or the use process, and has excellent heat resistance but excellent adhesion between the layers and does not exhibit curl phenomenon. The card including the RFID inlay of the present invention is excellent in pressure resistance and heat resistance,

또한, 본 발명인 RFID 인레이 및 RFID 인레이를 포함하는 카드의 제조방법은 간단하면서도 대량생산에 적용이 가능하고, 고온고압을 적용하지 않아서 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부위가 파손되는 것을 막을 수 있는 RFID 인레이 및 RFID 인레이를 포함하는 카드의 제조방법을 제공한다.In addition, the present invention is a manufacturing method of the card including the RFID inlay and the RFID inlay is simple, but can be applied to mass production, it is possible to prevent the damage of the connection between the IC chip or IC chip and the antenna by not applying high temperature and high pressure A method of manufacturing a card including an RFID inlay and an RFID inlay is provided.

도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 RFID 인레이의 일 태양의 단면도.
도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 RFID 인레이의 다른 일 태양의 단면도.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 지지층을 포함한 RFID 인레이의 일 태양의 단면도.
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 지지층을 포함한 RFID 인레이의 다른 일 태양의 단면도.
도5는 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 RFID 인레이를 포함하는 카드의 단면도.
도6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 RFID 인레이를 포함하는 카드의 다른 일 태양의 단면도.
1 is a cross-sectional view of one aspect of an RFID inlay in accordance with an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of another aspect of an RFID inlay in accordance with an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view of one aspect of an RFID inlay including a support layer in accordance with one embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view of another aspect of an RFID inlay including a support layer in accordance with an embodiment of the present invention.
5 is a sectional view of a card including an RFID inlay according to another embodiment of the present invention.
Figure 6 is a cross-sectional view of another aspect of a card including an RFID inlay in accordance with another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily practice the present invention. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

광경화성Photocurable 수지 조성물의 제조 Preparation of resin composition

하기 표1의 함량과 구성을 가진 광경화성 수지 조성물을 제조하였다. To prepare a photocurable resin composition having the content and composition of Table 1.

(( 실시예1Example 1 ))

하기 표1 실시예1의 올리고머를 50℃에서 30분 동안 예열한 후에 배합조에 넣었다. 하기 표1의 실시예1의 모노머를 각각 해당 양만큼 상기 올리고머를 넣은 배합조에 넣었다. 상기 배합조를 50℃에서 30분가량 방치한 후에 교반을 시작하였다. 교반은 저속 교반 후에 고속 교반을 하는 순서로 이루어졌고, 완전하게 내용물이 용해될 때까지 반복하였다. 상기 교반중인 배합조에 광개시제를 첨가하였다. 교반이 완료된 후에는 여과하면서 광경화성 수지 조성물을 제조하였다.Table 1 The oligomers of Example 1 were preheated at 50 ° C. for 30 minutes and then placed in a blending bath. The monomer of Example 1 of Table 1 was put into the mixing tank which put the said oligomer by the corresponding quantity, respectively. After the mixing tank was left at 50 ° C. for about 30 minutes, stirring was started. Stirring was followed by high speed stirring followed by low speed stirring and repeated until the contents completely dissolved. A photoinitiator was added to the mixing tank under stirring. After stirring was completed, a photocurable resin composition was prepared while filtering.

(( 실시예2Example 2 내지  To 실시예Example 7) 7)

하기 표1의 해당 함량과 구성으로 올리고머, 모노머 및 광개시제를 사용한 것을 제외하고는 실시예1과 동일한 방식으로 광경화성 수지 조성물을 제조하였다.A photocurable resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that oligomers, monomers, and photoinitiators were used in the corresponding amounts and configurations of Table 1 below.

실시예
1
Example
One
실시예
2
Example
2
실시예
3
Example
3
실시예
4
Example
4
실시예
5
Example
5
실시예
6
Example
6
실시예
7
Example
7
올리고머 1Oligomer 1 -- 5555 -- -- -- -- -- 올리고머 2Oligomer 2 5555 -- -- 5555 5555 5555 5555 올리고머 3Oligomer 3 -- -- 5555 -- -- -- -- 모노머 1Monomer 1 -- -- -- 1010 1010 1010 1010 모노머 2Monomer 2 -- -- -- -- 88 88 88 모노머 3Monomer 3 77 77 77 77 77 77 77 모노머 4Monomer 4 77 77 77 77 77 77 77 모노머 5Monomer 5 77 77 77 77 77 77 77 모노머 6Monomer 6 77 77 77 77 77 77 77 첨가제additive 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 광개시제1Photoinitiator 1 2.92.9 2.92.9 2.92.9 2.92.9 2.92.9 -- 44 광개시제2Photoinitiator 2 -- -- -- -- -- 2.92.9 -- 합계Sum 8686 8686 8686 9696 104104 104104 105.1105.1

(단위: 중량부)(Unit: parts by weight)

상기 표1에서 각 올리고머의 구성을 하기 표2로 나타내었다.The composition of each oligomer in Table 1 is shown in Table 2 below.

종류Kinds 점도cPs (Temp.℃)Viscosity cPs (Temp. ℃) 희석제(Diluent)Diluent 올리고머1Oligomer1 비스페놀-A 에폭시
(Bisphenol-A Epoxy)
Bisphenol-A Epoxy
(Bisphenol-A Epoxy)
800,000 (25)
2,300 (65)
800,000 (25)
2,300 (65)
--
올리고머2Oligomer 2 지방족 우레탄
(Aliphatic Urethane)
Aliphatic Urethane
(Aliphatic Urethane)
12,000 (25)12,000 (25) N-(2-하이드록시프로필)메타크릴아미드N-(2-hydroxypropyl)methacrylamide(HPMA) 35중량%N- (2-hydroxypropyl) methacrylamide N- (2-hydroxypropyl) methacrylamide (HPMA) 35% by weight
올리고머3Oligomer 3 에폭시(Epoxy)Epoxy 40,000 (25)40,000 (25) --

상기 표1에서 각 모노머, 광개시제 및 기타 첨가제의 구성을 하기 표3로 나타내었다.In Table 1, the configuration of each monomer, photoinitiator and other additives is shown in Table 3 below.

  종류Kinds StructureStructure 모노머1Monomer 1 포스페이트(Phosphate)계Phosphate 포스페이트 메타크릴레이트(Phosphate Methacrylate)Phosphate Methacrylate 모노머2Monomer 2 아미드(Amide)계Amide N,N-디메틸아크릴아미드(N,N-Dimethyl acrylamide)N, N-Dimethylacrylamide 모노머3Monomer 3 하이드록시(Hydroxy)계Hydroxy system 2-하이드록시 에틸 메타크릴레이트(2-Hydroxy ethyl methacrylate, 2-HEMA)2-Hydroxy ethyl methacrylate (2-HEMA) 모노머4Monomer 4 지방족(Aliphatic)계 Aliphatic system 페녹시 에틸 아크릴레이트(Phenoxy Ethyl Acrylate, CAS No: 48145-04-6)Phenoxy Ethyl Acrylate (CAS No: 48145-04-6) 모노머5Monomer 5 지방족(Aliphatic)계 Aliphatic system 라우릴 아크릴레이트(Lauryl acrylate)Lauryl acrylate 모노머6Monomer 6 지방족(Aliphatic)계 Aliphatic system 에틸렌글리콜 노닐페닐 에테르 아크릴레이트(Ethyleneglycol Nonylphenyl Ether Acrylate, CAS No: 50974-47-5)Ethyleneglycol Nonylphenyl Ether Acrylate (CAS No: 50974-47-5) 첨가제additive  산화방지제Antioxidant 트리에틸렌 글리콜-비스-3-(3-터드-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐) 프로피오네이트(Triethylene glycol-bis-3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate)Triethylene glycol-bis-3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate (Triethylene glycol-bis-3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionate) 광개시제1Photoinitiator 1  -- 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드(2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide, TPO)2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide (2,4,6-Trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphineoxide, TPO) 광개시제2Photoinitiator 2  -- 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴리노프로판-1-원(2-Methyl-1[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one), 상품명 Irgacure 907, Ciba사 제조2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one (2-Methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one), trade name Irgacure 907, manufactured by Ciba

* RFID 인레이의 제조 * RFID Manufacture of inlays

(( 실시예1Example 1 내지  To 실시예7의Example 7 경우) Occation)

내열PET 필름을 기재로 하고 알루미늄을 상기 기재에 접착하여 에칭하는 과정을 통하여 특정한 패턴을 형성한 안테나층과 IC칩을 적층하였다. 상기 IC칩이 있는 안테나층의 면에 상기에서 제조한 실시예1 내지 실시예7의 광경화성 조성물을 도포하고, 롤투롤 방식으로 상기 광경화성 조성물의 표면에 PET필름을 적층하였다. 상기 PET필름을 적층된 광경화성 조성물이 도포된 안테나층을 롤러를 통과시켜서 평평하게 하였고, 여기에 UV광조사기(메탈 할라이드 램프 사용, 3 mpm 통과 시에 UVA 260 mJ/cm2의 광량)를 이용하여 상기 광경화성 수지를 경화하였다.The antenna layer and the IC chip having a specific pattern were laminated through a process of etching a heat-resistant PET film and attaching aluminum to the substrate. The photocurable composition of Examples 1 to 7 prepared above was applied to the surface of the antenna layer having the IC chip, and a PET film was laminated on the surface of the photocurable composition in a roll-to-roll manner. The PET film was laminated to the antenna layer coated with the laminated photocurable composition by passing through a roller, and using a UV light irradiator (using a metal halide lamp, the amount of UVA 260 mJ / cm 2 when passing 3 mpm). To harden the photocurable resin.

(( 비교예의Comparative Example 경우- Occation- 광경화성Photocurable 수지층을 포함하지 않는  Does not contain a resin layer 열압착Thermocompression 방식) system)

내열PET 필름을 기재로 하고 알루미늄을 상기 기재에 접착하여 에칭하는 과정을 통하여 특정한 패턴을 형성한 안테나층과 IC칩을 접착하였다. 상기 IC칩이 접착된 안테나층을 포함하는 기재에 상하 양면으로 PET필름을 정합하여 열합지를 시켜서 비교예인 RFID 인레이를 제조하였다.
The IC chip was bonded to the antenna layer having a specific pattern through a process of etching a heat-resistant PET film and bonding aluminum to the substrate. An RFID inlay as a comparative example was manufactured by thermally laminating a PET film on both sides of the substrate including the antenna layer to which the IC chip was bonded, and thermally laminating it.

RFIDRFID 인레이의Inlay 물성평가 Property evaluation

상기 방식으로 제조한 RFID 인레이의 컬 현상의 정도 및 접착력의 정도를 평가하여 하기 표4로 나타내었다.The degree of curling and adhesion of the RFID inlay manufactured by the above method were evaluated and shown in Table 4 below.

상기 컬 현상은 상기 방식으로 제조한 RFID 인레이의 광경화 전후를 비교하여, 광경화 전후 모양유지 및 모서리 들뜸 없는 경우를 양호로 평가하였고, ○로 표시하였다. 광경화 전후에 모양은 유지되지만 모서리 부분에 들뜸 현상이 나타나는 것을 보통으로 평가하고, △로 표시하였다. 광경화된 후에 심하게 수축되는 경우를 나쁨으로 평가하였고 ×로 평가하였다.The curling phenomenon was evaluated by comparing the before and after photocuring of the RFID inlay manufactured by the above method, and the case of maintaining the shape before and after the photocuring and without edge lift was evaluated as good, and was indicated as ○. Although the shape was maintained before and after photocuring, the lifting phenomenon appeared in the corner part as a normal evaluation, and was represented by (triangle | delta). The cases of severe shrinkage after photocuring were evaluated as poor and ×.

상기 접착력의 정도는 상기 방식으로 제조한 RFID 인레이의 기재인 내열PET와 지지층인 PET를 벌려서 평가하였고, 분리할 때에 PET가 찢어질 정도로 접착력이 우수한 경우를 매우 우수로 평가하고 ◎로 표시했으며, 분리할 때에 힘은 걸리지만, PET는 찢어지지 않는 정도를 우수로 평가하고 ○로 나타내었다. 분리할 때에 약간의 힘이 걸리는 경우를 보통으로 평가하고 △로 나타냈으며, 쉽게 분리되는 경우를 나쁨으로 평가하고 ×로 표시하였다.The degree of adhesive strength was evaluated by spreading the heat-resistant PET and the support layer PET of the RFID inlay manufactured in the above manner, and when the separation was excellent enough to tear the PET when the separation was evaluated as very good and marked with ◎, separation When it takes force, but PET is evaluated as the degree of excellent tearing and represented by ○. The case where some force was taken at the time of separation was evaluated as normal, and it was shown as (triangle | delta), and the case where it was easy to separate was evaluated as bad and marked with x.

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 컬현상Curl phenomenon ×× 접착력Adhesion ××

상기 표4를 참조하면, 올리고머2를 사용한 실시예1의 경우가 접착력과 컬현상 면에서 비교적 우수한 결과를 보여주었다.Referring to Table 4, Example 1 using the oligomer 2 showed relatively good results in terms of adhesion and curling.

상기 실시예1에서 사용한 올리고머2에 모노머 및 광개시제의 종류와 함량에 변화를 주면서 실시예4 내지 7의 물성을 평가하였고, 그 결과를 하기 표5로 정리하였다.The physical properties of Examples 4 to 7 were evaluated while changing the type and content of the monomer and photoinitiator to the oligomer 2 used in Example 1, and the results are summarized in Table 5 below.

하기 표5에서 경화특성은 두께에 따라서 UV를 조사하여 경화시켰다. 경화후의 경화상태를 파악해서 유분기가 남아 있으면 미경화로 평가하였다. 1000um두께에서 심부경화성을 만족하는 경우 매우 우수로 평가하고 ◎로 표시했으며, 200um 두께의 심부경화성을 만족하는 경우에 우수로 평가했고 ○로 나타내었으며, 200um 두께에서도 심부경화성을 만족하지 못한 경우에 보통으로 평가하고 △으로 나타내었다.In the following Table 5, the curing properties were cured by irradiation with UV depending on the thickness. The state of cure after cure was checked, and if oily residue remained, it was evaluated as uncured. In case of satisfying the deep sclerosis at 1000um thickness, it was evaluated as very good and marked with ◎. In case of satisfactory deep sclerosis of 200um thickness, it was evaluated as excellent and indicated as ○. And evaluated as Δ.

실시예 1Example 1 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 실시예7Example 7 컬현상Curl phenomenon 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 양호Good 접착력Adhesion 경화특성Curing property

상기 표5를 참조하면, 포스페이트계 모노머인 모노머1과 아미드계 모노머인 모노머2를 사용하는 실시예4 내지 7의 경우에 접착력이 우수한 것으로 나타났고, 광계시제1을 사용하는 경우가 광계시제2를 사용한 실시예6보다 우수한 결과를 보여주었다. 컬 현상은 실시예가 전반적으로 양호했고, 경화특성도 모두 우수했으나, 광개시제의 함량을 높인 실시예7의 경우에 경화특성이 더욱 우수함을 알 수 있었다.
Referring to Table 5, the adhesion was excellent in the case of Examples 4 to 7 using the monomer phosphate-based monomer 1 and the amide-based monomer 2, the photoinitiator 2 is used when It showed better results than Example 6 used. Curling phenomenon was good in the overall Example, the curing properties were all excellent, but in the case of Example 7 to increase the content of the photoinitiator was found to be more excellent curing properties.

RFIDRFID 인레이를Inlay 포함하는 카드의 제조 Manufacture of cards to include

상기 실시예1 및 실시예4 내지 7의 RFID 인레이에 상부커버 및 하부커버를 스티커 방식을 적층하고, 코팅층을 오버라미네이션하여 실시예1 및 실시예4 내지 7의 카드를 제조하였다. 상기 비교예의 RFID 인레이에도 상부, 하부커버 및 상하부 코팅층을 적층하고 열압착 방식으로 라미네이션 하여 비교예의 카드를 제조하였다.The cards of Example 1 and Examples 4 to 7 were manufactured by laminating a sticker method on the upper cover and the lower cover on the RFID inlays of Examples 1 and 4 to 7, and overlaminating the coating layer. In the RFID inlay of the comparative example, the upper, lower cover and the upper and lower coating layers were laminated and laminated by thermocompression bonding to prepare a card of the comparative example.

상기 제조된 실시예 및 비교예의 카드에 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부분이 손상되었는지 여부를 확인하여 하기 표6으로 나타내었다. 카드 120개를 제조하여 1개라도 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부분이 손상된 카드가 있는 경우에 나쁨으로 나타내어 ×로 나타내었고, 1개의 카드에도 손상된 부분이 없는 경우에 우수로 평가하고 ○로 나타내었다.Checking whether the IC chip or the connection portion of the IC chip and the antenna is damaged in the cards of the prepared examples and comparative examples are shown in Table 6 below. If 120 cards are manufactured and at least one card has a damaged part of IC chip or IC chip and antenna, it is indicated as bad and indicated by ×. Indicated.

  비교예Comparative example 실시예 1Example 1 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 실시예 7Example 7 손상여부Damage ××

상기 표6을 참조하면, 광경화성 수지층을 포함하지 아니하는 비교예의 경우 열압착 방식으로 제조되는 과정에서 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부분이 손상되는 것으로 나타났으나, 실시예1 및 실시예4 내지 7의 경우에는 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부분의 손상이 전혀 없었으며, 이는 광경화 수지층에 의하여 IC칩이나 IC칩과 안테나의 연결부분이 보호되었기 때문으로 생각된다.Referring to Table 6, in the case of the comparative example that does not include a photocurable resin layer, it was found that the connection portion of the IC chip or the IC chip and the antenna is damaged during the manufacturing process by the thermocompression bonding method. In Examples 4 to 7, there was no damage to the IC chip or the connection portion between the IC chip and the antenna, which is considered to be because the connection portion between the IC chip or the IC chip and the antenna was protected by the photocurable resin layer.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concepts of the present invention defined in the following claims are also provided. It belongs to the scope of rights.

10: RFID 인레이 20: RFID 인레이를 포함하는 카드
100: 안테나층 110: 기재
130: 안테나 200: IC칩층
210: IC칩 230: 광경화성 수지층
300: 지지층 400: 커버층
410: 상부 커버층 430: 하부 커버층
500: 코팅층 510: 상부 코팅층
530: 하부 코팅층
10: RFID inlay 20: Card containing RFID inlay
100: antenna layer 110: substrate
130: antenna 200: IC chip layer
210: IC chip 230: photocurable resin layer
300: support layer 400: cover layer
410: upper cover layer 430: lower cover layer
500: coating layer 510: top coating layer
530: bottom coating layer

Claims (12)

기재와 안테나를 포함하는 안테나층,
상기 안테나층과 연결되며 상기 안테나층의 상부로 돌출되는 IC칩,
상기 IC칩의 돌출부를 덮는 광경화성 수지층,
상기 광경화성 수지층을 덮는 지지층 및
상기 지지층을 덮는 커버층을 포함하는 카드.
An antenna layer comprising a substrate and an antenna,
An IC chip connected to the antenna layer and protruding above the antenna layer,
A photocurable resin layer covering the protrusion of the IC chip,
A support layer covering the photocurable resin layer and
And a cover layer covering the support layer.
제 1 항에 있어서,
상기 지지층은 광투과성 재질을 사용하는 것인 카드.
The method of claim 1,
And the support layer is made of a light transmissive material.
제 2 항에 있어서,
상기 지지층은 PET, PEN, PI, PC, PVC, PP 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 필름인 것인 카드.
The method of claim 2,
The support layer is a card which is any one film selected from the group consisting of PET, PEN, PI, PC, PVC, PP and combinations thereof.
제 1 항에 있어서,
상기 커버층은 합성수지 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것인 카드.
The method of claim 1,
Wherein the cover layer is any one selected from the group consisting of synthetic resin film, fiber, paper and combinations thereof.
제 1 항에 있어서,
상기 광경화성 수지층의 광경화성 수지는 지방족 우레탄계 올리고머 및 에폭시계 올리고머로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 올리고머, 모노머, 그리고 광개시제를 포함하는 카드.
The method of claim 1,
The photocurable resin of the photocurable resin layer is a card comprising any one oligomer, monomer, and photoinitiator selected from the group consisting of aliphatic urethane oligomer and epoxy oligomer.
IC칩이 구비된 안테나층을 준비하는 단계,
상기 안테나층 상에 광경화성 수지 조성물을 도포하는 단계,
상기 광경화성 수지 조성물 상부에 지지층을 적층하는 단계,
상기 지지층을 통해 상기 광경화성 수지 조성물에 광을 조사하여, 상기 광경화성 수지 조성물을 경화시키는 단계 및
상기 지지층을 상기 광경화성 수지 조성물 상에 남겨둔 상태에서 상기 지지층 상에 커버층을 적층하는 단계를 포함하는 카드의 제조 방법.
Preparing an antenna layer provided with an IC chip,
Applying a photocurable resin composition on the antenna layer,
Stacking a support layer on the photocurable resin composition;
Irradiating light onto the photocurable resin composition through the support layer to cure the photocurable resin composition; and
And laminating a cover layer on the support layer while leaving the support layer on the photocurable resin composition.
제 6 항에 있어서,
상기 광경화성 수지 조성물을 도포하는 단계는
올리고머를 1차 예열하는 단계,
상기 올리고머와 모노머를 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계,
상기 혼합물을 2차 예열하는 단계,
상기 2차 예열된 혼합물을 교반하는 단계 및
상기 교반된 혼합물에 광개시제를 첨가하는 수지 조성물 제조단계를 포함하는 것인 카드의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Applying the photocurable resin composition is
Preheating the oligomer,
Preparing a mixture by mixing the oligomer and monomer,
Secondary preheating of the mixture,
Stirring the secondary preheated mixture and
Method of producing a card comprising a resin composition manufacturing step of adding a photoinitiator to the stirred mixture.
제 6 항에 있어서,
상기 광경화성 수지 조성물은 지방족 우레탄계 올리고머 및 에폭시계 올리고머로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 올리고머, 모노머, 그리고 광개시제를 포함하는 것인 카드의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The photocurable resin composition is a method for producing a card comprising any one oligomer, monomer, and photoinitiator selected from the group consisting of aliphatic urethane oligomer and epoxy oligomer.
제 6 항에 있어서,
상기 지지층은 광투과성 재질을 사용하는 것인 카드의 제조 방법.
The method according to claim 6,
The support layer is a method of manufacturing a card using a light transmissive material.
제 9 항에 있어서,
상기 지지층은 PET, PEN, PI, PC, PVC, PP 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 필름인 것인 카드의 제조 방법.
The method of claim 9,
The support layer is a manufacturing method of a card which is any one film selected from the group consisting of PET, PEN, PI, PC, PVC, PP and combinations thereof.
제 6 항에 있어서,
상기 커버층을 적층 하는 단계는 상기 지지층 상에 합성수지 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 열압착 방식으로 적층 시키는 단계를 포함하는 카드의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Laminating the cover layer comprises the step of laminating any one selected from the group consisting of synthetic resin film, fiber, paper and combinations thereof on the support layer by a thermocompression bonding method.
제 6 항에 있어서,
상기 커버층을 적층하는 단계는 상기 지지층 상에 합성수지 필름, 섬유, 종이 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 스티커 부착 방식으로 적층 시키는 단계를 포함하는 카드의 제조 방법.
The method according to claim 6,
Laminating the cover layer comprises the step of laminating any one selected from the group consisting of a synthetic resin film, fibers, paper and combinations thereof on the support layer by a sticker attachment method.
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