KR20120055075A - Method and apparatus for repairing bus line of liquid crystal panel - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A method for repairing a bus line of a liquid crystal panel and a device thereof are provided to precisely repair defects of a gate bus line or a data bus line on a non image area. CONSTITUTION: A laser processing unit(110) irradiates a laser beam wherein the laser beam has a feature which responds to a protective layer. The protective layer is formed on a damaged part of a bus line. The laser processing unit forms a recess area from which the protective layer is removed. A patterning unit(120) coats and hardens conductive ink in the recess area. The patterning unit generates a repair pattern.

Description

액정 패널의 버스 라인 리페어 방법 및 장치{Method and Apparatus for repairing bus line of liquid crystal panel}Method and apparatus for repairing bus line of liquid crystal panel {Method and Apparatus for repairing bus line of liquid crystal panel}

본 발명은 합착 공정이 수행된 액정 패널의 외곽부에 발생한 버스 라인 손상을 리페어 하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a method and apparatus for repairing bus line damage occurring at an outer portion of a liquid crystal panel in which a bonding process is performed.

액정 패널은 액정의 광학적 이방성과 분극 성질을 이용한 장치로서, 인가전압에 따른 액정 분자의 배열 방향 조절에 의해 변화하는 액정 투과도를 이용하여 여러 전기적인 정보를 시각적인 정보로 변환하여 전달하는 디스플레이 장치이다. 이러한 액정 패널은 동작전압이 낮아 소비전력이 작고 휴대용으로 사용될 수 있다는 점에서 널리 사용되고 있다. A liquid crystal panel is a device using optical anisotropy and polarization properties of a liquid crystal. A liquid crystal panel converts and transmits various electrical information into visual information by using liquid crystal transmittance which is changed by adjusting an arrangement direction of liquid crystal molecules according to an applied voltage. . Such liquid crystal panels are widely used in that their operating voltage is low and power consumption can be used in a portable manner.

액정 패널은 하부기판인 박막트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT) 어레이 기판과 상부기판인 컬러필터(Color Filter) 기판이 서로 대향되도록 합착되고, 그 사이에 유전 이방성을 가지는 액정층이 형성되는 구조를 가진다. The liquid crystal panel has a structure in which a thin film transistor (TFT) array substrate as a lower substrate and a color filter substrate as an upper substrate are bonded to face each other, and a liquid crystal layer having dielectric anisotropy is formed therebetween. .

하부기판은 하부 투명기판 상에 형성된 단위 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 게이트 배선 및 데이터 배선의 교차 지점에 형성되어 스위칭 소자로 기능하는 박막트랜지스터와, 박막트랜지스터에 연결되어 액정층을 구동하기 위한 전압을 인가하는 화소 전극 등으로 구성된다. The lower substrate includes a gate wiring and a data wiring defining a unit pixel region formed on the lower transparent substrate, a thin film transistor formed at an intersection of the gate wiring and the data wiring, and functions as a switching element, and is connected to the thin film transistor to form a liquid crystal layer. And pixel electrodes for applying a voltage for driving.

하부기판과 대향하는 상부기판은 상부 투명기판 상에 순차적으로 형성된 빛샘을 방지하기 위한 블랙 매트릭스와, 적색, 녹색 및 청색을 구현하기 위한 R, G, B의 컬러필터층과, 컬러필터층의 표면을 평탄화하기 위한 오버코트층(Overcoat layer) 등으로 구성된다. The upper substrate facing the lower substrate has a black matrix to prevent light leakage sequentially formed on the upper transparent substrate, color filter layers of R, G and B to realize red, green and blue, and planarize the surface of the color filter layer. It consists of an overcoat layer (Overcoat layer) and the like.

내측면에 형성되어 액정층의 초기 배향을 결정하는 배향막, 화소 전극에 대향하여 액정층을 구동하기 위한 기준전압을 인가하는 공통전극이 상부기판 또는/및 하부기판에 더 포함될 수 있다. The upper substrate and / or the lower substrate may further include an alignment layer formed on an inner surface to determine an initial alignment of the liquid crystal layer, and a common electrode applying a reference voltage for driving the liquid crystal layer to face the pixel electrode.

이와 같이 구성된 액정 패널의 게이트 배선과 데이터 배선을 각 1개씩 선택하여 전압을 인가하면 전압이 인가된 박막트랜지스터만이 온(on)되고, 온(on)된 박막트랜지스터에 상응하는 화소 영역 내의 액정 분자 배열이 변화된다. When one gate wiring and one data wiring of the liquid crystal panel configured as described above are selected and voltage is applied, only the thin film transistor to which the voltage is applied is turned on, and the liquid crystal molecules in the pixel region corresponding to the turned on thin film transistor. The arrangement is changed.

이러한 액정 패널을 제조함에 있어서 기판 합착 공정이 수행된다. 상부기판과 하부기판 사이에 일정한 내부 공간이 형성되도록 접착하고, 그 내부 공간에 액정을 주입한다. In manufacturing such a liquid crystal panel, a substrate bonding process is performed. The upper substrate and the lower substrate are bonded to form a predetermined internal space, and the liquid crystal is injected into the internal space.

이와 같이 합착된 액정 패널을 포함하는 액정 표시 장치는 액정 패널의 하부에 배치되어 광원으로 이용되는 백라이트와, 액정 패널의 외곽에 위치하여 액정 패널을 구동시키는 구동부로 이루어진다. 구동부는 액정 패널의 게이트 배선 및 데이터 배선에 신호를 인가하기 위한 구동회로가 집적되어 있는 구동 IC(Integrated Circuit)를 더 포함하여 구성된다. The liquid crystal display including the bonded liquid crystal panel includes a backlight disposed under the liquid crystal panel and used as a light source, and a driving unit positioned at an outer side of the liquid crystal panel to drive the liquid crystal panel. The driving unit further includes a driving IC (Integrated Circuit) in which a driving circuit for applying a signal to the gate wiring and the data wiring of the liquid crystal panel is integrated.

도 1에는 기판 합착 공정이 수행된 액정 패널의 평면도가 도시되어 있으며, 도 2는 기판 합착 공정이 수행된 액정 패널의 외곽 단면도가 도시되어 있다. 1 is a plan view of the liquid crystal panel in which the substrate bonding process is performed, and FIG. 2 is an outer sectional view of the liquid crystal panel in which the substrate bonding process is performed.

도 1 및 도 2를 참조하면, 상부기판(30)과 하부기판(40)이 합착된 액정 패널(1)은 하부기판(40)이 상부기판(30)보다 더 넓은 면적을 가지므로, 하부기판(40)의 표면 중 상부기판(30)에 의해 덮이지 않는 비화상영역(20)이 존재하게 된다. 이러한 비화상영역(20)에는 쇼팅바(shorting bar)(22)와 구동 IC 칩과의 전기적 연결을 위한 IC 본딩 존(bonding zone)을 위한 패드(pad)(24)의 버스 라인(bus line)(50)이 형성되어 있다. 1 and 2, in the liquid crystal panel 1 in which the upper substrate 30 and the lower substrate 40 are bonded, the lower substrate 40 has a larger area than the upper substrate 30. There is a non-image area 20 out of the surface of 40 that is not covered by the upper substrate 30. In this non-image area 20 a bus line of a pad 24 for an IC bonding zone for electrical connection between a shorting bar 22 and a driving IC chip. 50 is formed.

합착 공정이 수행되기 이전의 하부기판 상에 형성된 패턴(박막트랜지스터, 화소 전극, 게이트 혹은 데이터 배선 등)이 오픈(open)되는 손상에 대해서는 국부적으로 CVD 존(Chemical Vapor Deposition Zone)과 같은 진공 환경을 형성하여 리페어하는 기술이 존재하고 있다. Damage to opening patterns (such as thin film transistors, pixel electrodes, gates, or data wirings) formed on the lower substrate prior to the bonding process is opened in a vacuum environment such as a local chemical vapor deposition zone (CVD zone). There exists a technique of forming and repairing.

하지만, 합착 공정이 수행된 이후에 하부기판의 외곽부인 비화상영역(20)에 형성되어 있고 보호층(60)에 의해 덮여 있는 버스 라인(50)에 손상이 발생한 경우(도 2의 B 참조)에는, 합착에 의한 단차가 존재함(도 2의 A 참조)으로 인해 CVD 존을 구현하는 것이 불가능하게 되어 상술한 것과 같은 CVD 존을 이용한 리페어 기술은 이용할 수가 없게 된다. However, after the bonding process is performed, when the damage occurs to the bus line 50 formed in the non-imaging region 20, which is an outer portion of the lower substrate, and covered by the protective layer 60 (see FIG. 2B). Due to the presence of a step by bonding (see A in FIG. 2), it becomes impossible to implement a CVD zone, and thus a repair technique using the CVD zone as described above cannot be used.

이를 해결하기 위해 합착 공정이 수행된 이후 액정 패널(1)의 비화상영역(20)에 형성되어 있는 버스 라인(50)에 손상이 발생한 경우에 레이저를 이용하여 리페어하는 기술이 개발되어 적용되고 있다. In order to solve this problem, a technique of repairing using a laser has been developed and applied when a damage occurs in the bus line 50 formed in the non-image area 20 of the liquid crystal panel 1 after the bonding process is performed. .

도 3은 레이저를 이용하여 버스 라인 손상을 리페어하는 과정을 나타낸 단면도이다. 특히 도 3에는 도 2에 도시된 B 부분, 즉 비화상영역(20)의 버스 라인(50)이 오픈 결함을 가지고 있는 경우가 도시되어 있다. 3 is a cross-sectional view illustrating a process of repairing bus line damage using a laser. In particular, FIG. 3 illustrates a case in which the portion B of FIG. 2, that is, the bus line 50 of the non-image area 20 has an open defect.

버스 라인(50)의 오픈 결함 부분(52)에 대해서 레이저 빔을 조사하여 오픈 결함 부분(52) 주변의 버스 라인 일부(54) 및 그 상부에 위치한 보호층(62)을 제거한다(도 3의 (a) 참조). 이 경우 레이저 빔에 반응하지 않은 오픈 결함 부분(52) 상부에 일부 보호층(64)이 잔존하게 된다(도 3의 (b) 참조). The laser beam is irradiated to the open defective portion 52 of the bus line 50 to remove the portion 54 of the bus line around the open defective portion 52 and the protective layer 62 located thereon (Fig. 3). (a)). In this case, a part of the protective layer 64 remains on the open defect portion 52 that does not respond to the laser beam (see FIG. 3B).

이후 레이저 빔에 의해 제거된 리세스부(66)의 내부 및 잔존 보호층(64)의 상부에 도전성 물질을 디스펜싱(dispensing)하고 경화시켜 새로운 도전성 경로(70)를 생성함으로써(도 3의 (c) 참조), 버스 라인(50)이 도전성 경로(70)를 통해 전기적으로 연결되어 오픈 결함이 리페어될 수 있도록 한다. 그리고 도전성 경로(70)를 외부 환경으로부터 보호하기 위해 보호층(75)을 증착하여(도 3의 (d) 참조) 버스 라인 리페어 작업을 완료하게 된다. The conductive material is then dispensed and cured inside the recess 66 removed by the laser beam and on top of the remaining protective layer 64 to create a new conductive path 70 (FIG. c), the bus line 50 is electrically connected through the conductive path 70 so that the open fault can be repaired. In order to protect the conductive path 70 from the external environment, the protective layer 75 is deposited (see (d) of FIG. 3) to complete the bus line repair operation.

이 경우 리페어된 부분은 오픈 결함 부분(52)의 크기보다 큰 L1의 크기를 가지게 되며, 정상적인 비화상영역과 비교할 때 리페어된 부분이 잔존 보호층(62)으로 인해 소정 높이(h)만큼의 단차를 가지게 됨으로써 제품의 표면 마감이 양호하지 못하여 외부의 물리적 충격에 따른 파손 가능성이 높은 문제점이 있다. In this case, the repaired portion has a size L1 larger than that of the open defect portion 52, and the repaired portion has a step height of a predetermined height (h) due to the remaining protective layer 62 when compared with the normal non-image area. By having a surface finish of the product is not good, there is a high possibility of damage due to external physical impact.

또한, 버스 라인(50)이 잔존 보호층(62)으로 인해 연장된 도전성 경로(70)를 가지게 됨으로써 기본 설계안과는 다른 형상의 전기적 통로로서 기능하게 되어 전기적 신호 전달 등에 있어서 예기치 못한 문제점이 발생할 여지도 있다. In addition, since the bus line 50 has a conductive path 70 extended by the remaining protective layer 62, the bus line 50 functions as an electrical path having a shape different from that of the basic design, thus causing unexpected problems in electrical signal transmission. have.

전술한 배경기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.
The above-described background technology is technical information that the inventor holds for the derivation of the present invention or acquired in the process of deriving the present invention, and can not necessarily be a known technology disclosed to the general public prior to the filing of the present invention.

본 발명은 합착 공정이 수행된 이후 비화상영역에 형성되어 있는 게이트 버스 라인 혹은 데이터 버스 라인 등의 버스 라인에 발생한 오픈 형태의 결함을 정밀하고 고품질로 리페어할 수 있는 버스 라인 리페어 방법 및 장치를 제공하기 위한 것이다. The present invention provides a bus line repair method and apparatus capable of repairing precisely and with high quality an open type defect occurring in a bus line such as a gate bus line or a data bus line formed in a non-image area after a bonding process is performed. It is to.

또한, 본 발명은 오픈 결함 부분의 보호층이 잔존하는 문제점을 해결하여 양호한 표면 마감을 획득하고 외부 충격에 따른 파손 가능성을 낮추어 제품 완성도를 높일 수 있으며 액정 패널의 버스 라인의 기본 설계안에 충실한 리페어가 가능한 버스 라인 리페어 방법 및 장치를 제공하기 위한 것이다. In addition, the present invention can solve the problem that the protective layer of the open defect portion remaining to obtain a good surface finish and to reduce the possibility of damage due to external impact to increase the product completeness and faithful repair in the basic design of the bus line of the liquid crystal panel To provide a possible bus line repair method and apparatus.

본 발명의 이외의 목적들은 하기의 설명을 통해 쉽게 이해될 수 있을 것이다.
Other objects of the present invention will be readily understood through the following description.

본 발명의 일 측면에 따르면, 액정 패널의 버스 라인 손상을 리페어하는 장치로서, 버스 라인의 손상 부분 상부에 형성되어 있는 보호층이 반응하는 특성을 가지는 레이저 빔을 조사하여 보호층이 제거된 리세스 영역을 형성하는 레이저 가공 유닛 및 리세스 영역 내에 도전성 잉크(conductive ink)를 도포하고 경화시켜 리페어 패턴을 생성하는 패터닝 유닛을 포함하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 장치가 개시된다. According to an aspect of the present invention, a device for repairing a bus line damage of a liquid crystal panel, the recess of which a protective layer is removed by irradiating a laser beam having a characteristic that a protective layer formed on the damaged portion of the bus line reacts. Disclosed is a bus line repair apparatus for a liquid crystal panel comprising a laser processing unit forming a region and a patterning unit applying and curing a conductive ink in the recess region to generate a repair pattern.

레이저 빔은 100 내지 410nm의 파장 대역을 가질 수 있다. 또한, 레이저 빔의 파장은 193nm, 248nm, 262nm, 263nm, 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm 중 하나일 수 있다. The laser beam may have a wavelength band of 100 to 410 nm. In addition, the wavelength of the laser beam may be one of 193 nm, 248 nm, 262 nm, 263 nm, 266 nm, 308 nm, 349 nm, 351 nm, 355 nm, and 405 nm.

리세스 영역 내의 리페어 패턴 상에 보호층을 증착하는 보호층 생성 유닛을 더 포함할 수 있다.The protective layer generating unit may further include a protective layer on the repair pattern in the recess region.

리페어 패턴 상에 증착된 보호층은 손상 부분 주변 부분의 보호층과 단차가 미리 정해진 오차 범위 이내일 수 있다.The protective layer deposited on the repair pattern may have a step difference between the protective layer around the damaged portion and a predetermined error range.

액정 패널은 합착 공정이 수행된 것이며, 버스 라인을 액정 패널의 비화상영역에 형성되어 있을 수 있다.In the liquid crystal panel, a bonding process is performed, and a bus line may be formed in a non-image area of the liquid crystal panel.

한편 본 발명의 다른 측면에 따르면, 액정 패널의 버스 라인 손상을 리페어하는 방법으로서, 버스 라인의 손상 부분 상부에 형성되어 있는 보호층이 반응하는 특성을 가지는 레이저 빔을 조사하여 보호층이 제거된 리세스 영역을 형성하는 단계 및 리세스 영역 내에 도전성 잉크(conductive ink)를 도포하고 경화시켜 리페어 패턴을 생성하는 단계를 포함하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 방법이 제공된다. Meanwhile, according to another aspect of the present invention, a method of repairing a bus line damage of a liquid crystal panel, wherein the protective layer is removed by irradiating a laser beam having a characteristic that a protective layer formed on the damaged portion of the bus line reacts. A bus line repairing method of a liquid crystal panel is provided, which includes forming a recess region and applying and curing a conductive ink in the recess region to generate a repair pattern.

레이저 빔은 100 내지 410nm의 파장 대역을 가질 수 있다. 또한, 레이저 빔의 파장은 193nm, 248nm, 262nm, 263nm, 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm 중 하나일 수 있다. The laser beam may have a wavelength band of 100 to 410 nm. In addition, the wavelength of the laser beam may be one of 193 nm, 248 nm, 262 nm, 263 nm, 266 nm, 308 nm, 349 nm, 351 nm, 355 nm, and 405 nm.

리세스 영역 내의 리페어 패턴 상에 보호층을 증착하는 단계를 더 포함할 수 있다. The method may further include depositing a protective layer on the repair pattern in the recess region.

리페어 패턴 상에 증착된 보호층은 손상 부분 주변 부분의 보호층과 단차가 미리 정해진 오차 범위 이내일 수 있다. The protective layer deposited on the repair pattern may have a step difference between the protective layer around the damaged portion and a predetermined error range.

액정 패널은 합착 공정이 수행된 것이며, 버스 라인을 액정 패널의 비화상영역에 형성되어 있을 수 있다. In the liquid crystal panel, a bonding process is performed, and a bus line may be formed in a non-image area of the liquid crystal panel.

전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
Other aspects, features, and advantages will become apparent from the following drawings, claims, and detailed description of the invention.

본 발명의 실시예에 따르면, 합착 공정이 수행된 이후 비화상영역에 형성되어 있는 게이트 버스 라인 혹은 데이터 버스 라인 등의 버스 라인에 발생한 오픈 형태의 결함을 정밀하고 고품질로 리페어할 수 있다. According to an exemplary embodiment of the present invention, after the bonding process is performed, defects of an open type occurring in a bus line such as a gate bus line or a data bus line formed in a non-image area may be repaired with high precision and high quality.

또한, 오픈 결함 부분의 보호층이 잔존하는 문제점을 해결하여 양호한 표면 마감을 획득하고 외부 충격에 따른 파손 가능성을 낮추어 제품 완성도를 높일 수 있으며 액정 패널의 버스 라인의 기본 설계안에 충실한 효과가 있다.
In addition, by solving the problem that the protective layer of the open defect portion remains, to obtain a good surface finish, and to reduce the possibility of damage due to external impact to increase the product completeness, there is a faithful effect in the basic design of the bus line of the liquid crystal panel.

도 1은 기판 합착 공정이 수행된 액정 패널의 평면도,
도 2는 기판 합착 공정이 수행된 액정 패널의 외곽 단면도,
도 3은 레이저를 이용하여 버스 라인 손상을 리페어하는 과정을 나타낸 단면도,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 버스 라인 리페어 장치의 개략적인 구성도,
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 버스 라인 리페어 방법의 순서도,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 버스 라인 리페어 방법에 따른 공정이 수행되는 액정 패널의 평면도,
도 7은 도 6에 도시된 CC 선의 단면도, 즉 본 발명의 일 실시예에 따른 버스 라인 리페어 방법에 따른 공정이 수행되는 액정 패널의 단면도.
1 is a plan view of a liquid crystal panel in which a substrate bonding process is performed;
2 is an outer sectional view of a liquid crystal panel in which a substrate bonding process is performed;
3 is a cross-sectional view showing a process of repairing bus line damage using a laser;
4 is a schematic structural diagram of a bus line repair apparatus according to an embodiment of the present invention;
5 is a flowchart of a bus line repair method according to an embodiment of the present invention;
6 is a plan view of a liquid crystal panel in which a process according to a bus line repairing method according to an embodiment of the present invention is performed;
FIG. 7 is a cross-sectional view of the CC line shown in FIG. 6, that is, a cross-sectional view of a liquid crystal panel in which a process according to the bus line repairing method according to an embodiment of the present invention is performed.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The present invention is capable of various modifications and various embodiments, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. It is to be understood, however, that the invention is not to be limited to the specific embodiments, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. In the following description of the present invention, if it is determined that the detailed description of the related known technology may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. As used herein, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described on the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof.

또한, 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. In the following description, well-known functions or constructions are not described in detail since they would obscure the invention in unnecessary detail.

이하, 본 발명의 실시예에 대해 관련 도면들을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 버스 라인 리페어 장치의 개략적인 구성도이다. 도 4를 참조하면, 버스 라인 리페어 장치(100), 레이저 가공 유닛(110), 레이저 발진부(111), 광학변조기(112), 반사거울(113), 빔 확대기(114), 스캐너(115), 대물렌즈부(116), 빔 덤프(117), 지지 테이블(118), 레이저 빔의 경로(119), 패터닝 유닛(120), 디스펜서(122), 경화부(124), 제어부(130), 보호층 생성 유닛(140), 액정 패널(1)이 도시되어 있다. 4 is a schematic structural diagram of a bus line repair apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, the bus line repair apparatus 100, the laser processing unit 110, the laser oscillator 111, the optical modulator 112, the reflection mirror 113, the beam expander 114, the scanner 115, Objective lens unit 116, beam dump 117, support table 118, laser beam path 119, patterning unit 120, dispenser 122, curing unit 124, control unit 130, protection The layer generating unit 140 and the liquid crystal panel 1 are shown.

본 실시예에 따른 버스 라인 리페어 장치(100)에 의해 리페어되는 버스 라인은 합착 공정이 수행된 액정 패널(1)의 외곽부, 즉 비화상영역에 형성되어 있는 것을 가정하여 설명하기로 한다. 하지만, 그 외에 손상이 있는 패턴 상부에 보호층이 형성되어 있는 경우 해당 손상을 리페어하기 위해서 본 실시예에 따른 버스 라인 리페어 장치(100)가 적용될 수 있음은 물론이다. The bus line repaired by the bus line repair apparatus 100 according to the present exemplary embodiment will be described on the assumption that the bus lines are formed in the outer portion of the liquid crystal panel 1 where the bonding process is performed, that is, in the non-image area. However, when the protective layer is formed on the damaged pattern, the bus line repair apparatus 100 according to the present embodiment may be applied to repair the damage.

본 실시예에 따른 버스 라인 리페어 장치(100)는 합착 공정이 수행된 액정 패널(1)의 비화상영역에 존재하는 버스 라인 손상에 대하여 보호층이 반응하는 특성을 가지는 레이저를 이용하여 버스 라인 손상 부분의 상부 보호층을 정밀 제거한 후 버스 라인의 손상 부분에 도전성 잉크(conductive ink)를 이용한 패터닝을 수행함으로써 버스 라인을 리페어한다. The bus line repair apparatus 100 according to the present embodiment uses a laser having a characteristic that a protective layer reacts to a bus line damage present in a non-image area of a liquid crystal panel 1 in which a bonding process is performed. The bus line is repaired by precisely removing the upper protective layer of the portion and then performing patterning using conductive ink on the damaged portion of the bus line.

지지 테이블(118)은 전단의 이송 장치에 의해 이송된 액정 패널(1)이 거치된다. 지지 테이블(118)에 거치되는 액정 패널(1)은 도 1 및 도 2에 예시된 것과 같이 상부기판과 하부기판의 합착 공정이 수행된 액정 패널이며, 전단의 이송 장치는 컨베이어 혹은 로봇 암 등일 수 있다. The support table 118 is mounted with the liquid crystal panel 1 conveyed by the transfer device of the front end. The liquid crystal panel 1 mounted on the support table 118 is a liquid crystal panel in which a bonding process of an upper substrate and a lower substrate is performed, as illustrated in FIGS. 1 and 2, and the transfer device of the front end may be a conveyor or a robot arm. have.

지지 테이블(118) 상에 거치된 액정 패널(1)은 비화상영역 내에 형성되어 있는 버스 라인의 손상 부분 위치가 일차적으로 검출되어 있는 것으로 가정한다. 이를 위해 버스 라인 리페어 장치(100)의 전단에 손상 검출 유닛이 구비되어 있거나 실시예에 따라 버스 라인 리페어 장치(100) 내에 손상 검출 유닛이 더 포함될 수 있다. In the liquid crystal panel 1 mounted on the support table 118, it is assumed that the damaged part position of the bus line formed in the non-image area is primarily detected. To this end, a damage detection unit may be provided at the front end of the bus line repair apparatus 100 or a damage detection unit may be further included in the bus line repair apparatus 100 according to an exemplary embodiment.

손상 검출 유닛은 액정 패널(1)에 대하여 버스 라인 손상의 유무를 판별하고, 버스 라인 손상이 있는 경우 해당 버스 라인 손상의 위치에 관한 정보를 획득한다. 이를 위해 손상 검출 유닛은 촬상 카메라와 위치 측정부를 포함하여 구성될 수 있다. The damage detection unit determines the presence or absence of a bus line damage with respect to the liquid crystal panel 1, and acquires information regarding the location of the bus line damage in the case where there is a bus line damage. To this end, the damage detection unit may be configured to include an imaging camera and a position measuring unit.

촬상 카메라는 버스 라인 손상을 포함하는 액정 패널을 촬영하고, 위치 측정부는 촬상 카메라로부터 수신한 영상 신호를 이용하여 버스 라인 손상의 위치 정보를 산출하여 출력한다. 버스 라인 손상은 정상적인 패턴을 가지지 못하고 패턴 중 일부가 오픈(open)된 경우이다. 버스 라인 손상을 판별하고, 그 위치를 검출하기 위한 다양한 방법이 본 실시예에서 적용될 수 있을 것이다. The imaging camera photographs the liquid crystal panel including the bus line damage, and the position measuring unit calculates and outputs the position information of the bus line damage using the image signal received from the imaging camera. Bus line damage does not have a normal pattern and some of the patterns are open. Various methods for determining bus line damage and detecting its location may be applied in this embodiment.

레이저 가공 유닛(110)은 버스 라인의 상부에 형성된 보호층 중 손상 부분에 대응되는 위치에 레이저를 조사하여 일차적으로 보호층을 제거한다. 버스 라인 손상이 오픈인 경우에는 도전성 잉크의 도포 및 경화 이후 레이저를 조사하여 패터닝 작업을 수행하여 오픈된 부분을 연결시킬 수 있다. 이를 위해 레이저 가공 유닛(110) 또는/및 액정 패널(1)이 거치된 지지 테이블(118)을 이동시켜 정렬되도록 할 수 있다. The laser processing unit 110 irradiates a laser to a position corresponding to the damaged portion of the protective layer formed on the upper portion of the bus line to first remove the protective layer. If the bus line damage is open, the open part may be connected by irradiating a laser after applying and curing the conductive ink to perform patterning. To this end, the laser processing unit 110 or / and the liquid crystal panel 1 may be moved to be aligned by moving the supporting table 118.

레이저 발진부(111)에서 발진된 레이저 빔은 광학변조기(112)에서 변조되어 빔 덤프(117) 혹은 반사거울(113)로 향한다. 반사거울(113)로 진행한 레이저 빔은 빔 확대기(114)를 거쳐 확대되고 스캐너(115)에서 스캔되어 대물렌즈부(116)를 통해 지지 테이블(118) 상에 거치된 액정 패널(1) 중 목표로 하는 가공 위치(본 실시예에서는, 버스 라인 손상 부분에 대응되는 보호층)에 조사된다. 이에 대하여 각 구성요소 별로 자세히 설명하기로 한다. The laser beam oscillated by the laser oscillator 111 is modulated by the optical modulator 112 and directed to the beam dump 117 or the reflection mirror 113. The laser beam traveling to the reflective mirror 113 is magnified through the beam expander 114, scanned by the scanner 115, and mounted on the support table 118 through the objective lens unit 116. The target machining position (in this embodiment, the protective layer corresponding to the bus line damage part) is irradiated. This will be described in detail for each component.

레이저 발진부(111)는 레이저 매질, 펌핑부, 스위칭부 등으로 구성되어 레이저 빔을 출력한다. 레이저 발진부(111)에서 발진된 레이저 빔은 펄스 타입 혹은 연속파 타입일 수 있다. The laser oscillator 111 is composed of a laser medium, a pumping unit, a switching unit and the like to output a laser beam. The laser beam oscillated by the laser oscillator 111 may be a pulse type or a continuous wave type.

레이저 발진부(111)에서 출력되는 레이저 빔은 보호층이 반응하여 제거될 수 있는 파장을 가지는 자외선(UV)일 수 있으며, 그 파장 대역은 100 내지 410nm이다. The laser beam output from the laser oscillator 111 may be ultraviolet (UV) light having a wavelength at which the protective layer may be removed by reaction, and the wavelength band is 100 to 410 nm.

자외선 파장 대역에서 대표 파장으로, 예를 들면 193nm, 248nm, 262nm, 263nm, 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm 중 하나의 파장을 가지는 레이저 빔이 레이저 발진부(111)에서 출력될 수 있을 것이다. As a representative wavelength in the ultraviolet wavelength band, for example, a laser beam having a wavelength of one of 193 nm, 248 nm, 262 nm, 263 nm, 266 nm, 308 nm, 349 nm, 351 nm, 355 nm, and 405 nm may be output from the laser oscillator 111. .

광학변조기(112)는 조사 조건에 따라 레이저 빔의 양을 조절하기 위해 레이저 빔의 경로를 분리시킨다. 조절 대상이 되는 레이저 빔의 양은 펄스 타입의 레이저 빔인 경우 펄스 수 혹은 조사 시간이고, 연속파 타입의 레이저 빔인 경우 조사 시간일 수 있다. 이는 손상 부분의 형상, 크기 등과 같은 조사 조건에 따라 다양할 수 있을 것이다. The optical modulator 112 separates the path of the laser beam to adjust the amount of the laser beam according to the irradiation conditions. The amount of laser beam to be controlled may be the number of pulses or irradiation time in the case of a pulse type laser beam, and the irradiation time in the case of a continuous wave type laser beam. This may vary depending on the irradiation conditions such as the shape, size, etc. of the damaged portion.

레이저 발진부(111)로부터 발진된 레이저 빔에 대하여 버스 라인 손상의 리페어에 필요로 하는 만큼의 펄스 개수 혹은 조사 시간 동안은 대물렌즈부(116)에 이르는 경로로, 나머지 펄스 혹은 그 외 시간 동안은 바이패스 경로와 같은 타 경로(본 실시예에서는 빔 덤프(117)로의 경로)로 분기시킴으로써 레이저 빔의 양을 조절할 수 있다. The number of pulses or irradiation time required for the repair of the bus line damage to the laser beam oscillated from the laser oscillation unit 111 is the path to the objective lens unit 116 for the remaining pulse or other time. The amount of laser beam can be adjusted by branching to another path, such as a path, to the beam dump 117 in this embodiment.

광학변조기(112)에는 손상 부분의 크기에 따라 이를 가공하는데 필요한 레이저 빔의 양을 계산하고, 계산된 양에 상응하는 레이저 펄스만 혹은 상응하는 조사 시간 동안만 레이저 빔이 대물렌즈부(116)로 향하도록 광학변조기(112)의 작동을 제어하는 변조 제어부(미도시)가 부가될 수 있다. 변조 제어부는 광학변조기(112)와 일체로 구성되거나 별도의 장치로 연결될 수 있으며, 레이저 가공 유닛(110)을 제어하는 제어부(130)에 통합되어 구성될 수도 있다. The optical modulator 112 calculates an amount of the laser beam required to process it according to the size of the damaged portion, and only the laser pulse corresponding to the calculated amount or the laser beam is directed to the objective lens unit 116 only for a corresponding irradiation time. A modulation control unit (not shown) may be added to control the operation of the optical modulator 112 to face. The modulation control unit may be integrated with the optical modulator 112 or may be connected to a separate device, or may be integrated with the control unit 130 that controls the laser processing unit 110.

이러한 광학변조기(112)는 음향 광학변조기(Acoustic Optic Modulator, AOM)를 포함하지만, 이외에도 전자 광학변조기(Electro Optic Modulator, EOM), 액정 변조기, 고속 광학 스위치와 같은 다른 광학 셔터들을 포함할 수도 있다.Such an optical modulator 112 includes an Acoustic Optic Modulator (AOM), but may also include other optical shutters such as an Electro Optical Modulator (EOM), a liquid crystal modulator, a high speed optical switch.

스캐너(115)는 초점 조정부에 해당하는 것으로, 레이저 빔의 초점을 액정 패널(1) 상에서 미세하게 수평 이동시킨다. 스캐너(115)는 두 개의 미러가 대향하여 설치되어 레이저 빔에 대하여 2차원적으로 위치 조정할 수 있도록 설치된 갈바노 미러(Galvano Mirror)일 수 있다. The scanner 115 corresponds to a focus adjusting unit, and finely horizontally shifts the focus of the laser beam on the liquid crystal panel 1. The scanner 115 may be a galvano mirror installed so that two mirrors face each other and are positioned two-dimensionally with respect to the laser beam.

제1 갈바노 미러는 레이저 빔을 수광하여 반사시키고 제1 축을 중심으로 회전한다. 제2 갈바노 미러는 제1 축과는 다른 제2 축을 중심으로 회전하면서 제1 갈바노 미러로부터 반사된 레이저 빔을 수광하여 반사시킨다. 따라서, 제1 축과 제2 축이 이루는 각도, 제1 갈바노 미러의 회전 정도, 제2 갈바노 미러의 회전 정도를 조절함으로써 레이저 빔이 지지 테이블에 거치된 액정 패널의 원하는 지점(본 실시예에서는, 버스 라인 손상 부분에 해당하는 보호층)에 조사되도록 하는 것이 가능하다. The first galvano mirror receives and reflects the laser beam and rotates about the first axis. The second galvano mirror receives and reflects a laser beam reflected from the first galvano mirror while rotating about a second axis different from the first axis. Therefore, the desired point of the liquid crystal panel on which the laser beam is mounted on the support table by adjusting the angle between the first and second axes, the degree of rotation of the first galvano mirror, and the degree of rotation of the second galvano mirror (this embodiment In this case, it is possible to irradiate the protective layer corresponding to the damaged part of the bus line.

스캐너(115)가 레이저 빔을 수평 상의 특정 지점에 위치시키면, 대물렌즈부(116)는 초점이 미세하게 조정된 레이저 빔을 집광하여 보호층에 조사되도록 한다. 여기서, 대물렌즈부(116)는 하나의 대물렌즈로 구성되거나 볼록렌즈, 오목렌즈 등 여러 개의 렌즈군이 모여 구성되거나 하나 이상의 렌즈와 기타 광학계의 조합으로 구성될 수 있다. When the scanner 115 positions the laser beam at a specific point on the horizontal, the objective lens unit 116 focuses the laser beam with finely adjusted focus so that the protective layer is irradiated. Here, the objective lens unit 116 may be composed of one objective lens, a plurality of lens groups such as a convex lens, a concave lens, or a combination of one or more lenses and other optical systems.

지지 테이블(118)은 액정 패널(1)을 올려 놓기 위한 부분으로, 정확한 위치 및 초점을 조절할 수 있도록 하기 위해 대물렌즈부(116)에 대한 거리 또는/및 위치가 조절될 수 있다. 또한, 지지 테이블(118)은 패터닝 작업을 위한 도전성 잉크의 디스펜싱이 정밀하게 이루어질 수 있도록 후술할 디스펜서(122)에 대한 거리 또는/및 위치가 조절될 수도 있을 것이다. The support table 118 is a part for placing the liquid crystal panel 1, and the distance or / and the position with respect to the objective lens unit 116 may be adjusted so that the correct position and focus can be adjusted. In addition, the support table 118 may be adjusted to a distance or / and a position with respect to the dispenser 122, which will be described later, so that the dispensing of the conductive ink for the patterning operation can be precisely performed.

이러한 지지 테이블(118)은 전단의 이송 장치와 연동하여 이동, 회전이 가능하도록 하는 기구적 구성요소가 추가될 수 있다. The support table 118 may be added with a mechanical component to enable movement and rotation in conjunction with the transfer device of the front end.

레이저 빔의 경로(119)는 필요에 따라 변경될 수 있으며, 이를 위해 반사거울(113)이 사용된다. The path 119 of the laser beam can be changed as needed, and a reflective mirror 113 is used for this purpose.

본 실시예에서 레이저 발진부(111), 광학변조기(112), 스캐너(115), 지지 테이블(118)의 구동은 제어부(130)에 의해 전반적으로 제어될 수 있다. In this embodiment, the driving of the laser oscillator 111, the optical modulator 112, the scanner 115, and the support table 118 may be generally controlled by the controller 130.

본 실시예에서 레이저 발진부(111), 광학변조기(112), 반사거울(113), 빔 확대기(114), 스캐너(115), 대물렌즈부(116)는 광학적으로 연결되어 있다. 광학적 현상은 광의 반사, 회절, 굴절 등 다양한 현상이 있으며, 여기에서 '광학적으로 연결된다'는 의미는 다양한 광학적 현상에 의해 한쪽 구성요소에서 출사된 광을 다른쪽 구성요소에서 수광하는 관계에 있음을 의미한다. In the present embodiment, the laser oscillator 111, the optical modulator 112, the reflection mirror 113, the beam expander 114, the scanner 115, and the objective lens unit 116 are optically connected. Optical phenomena include various phenomena such as reflection, diffraction, and refraction of light. Here, 'optically connected' means that light emitted from one component is received by the other component by various optical phenomena. it means.

패터닝 유닛(120)은 액정 패널(1)의 비화상영역 중 레이저 가공 유닛(110)에 의해 레이저 가공되어 보호층이 제거된 리세스(recess) 영역 내에 도전성 잉크를 도포하고 경화시켜 리페어 패턴을 형성함으로써 오픈 형태의 손상을 가졌던 버스 라인의 전기적 연결을 복구한다. 이러한 패터닝 유닛(120)은 디스펜서(122)와 경화부(124)를 포함한다. The patterning unit 120 is laser-processed by the laser processing unit 110 among the non-image areas of the liquid crystal panel 1 to apply and cure the conductive ink in a recess area where the protective layer is removed to form a repair pattern. This repairs the electrical connections of bus lines that had been damaged in the open form. The patterning unit 120 includes a dispenser 122 and a curing unit 124.

디스펜서(122)는 지지 테이블(118)과의 상하 거리 조절을 위한 거리 조절부와, 내부에 도전성 잉크를 저장하고 있는 몸체와, 몸체의 하단부에 장착되어 도전성 잉크가 토출되는 니들(needle)을 포함한다. 여기서, 거리 조절부 대신에 지지 테이블(118)이 상하로 이동함으로써 디스펜서(122)와 지지 테이블(118) 간의 상하 거리를 조절할 수도 있을 것이다. The dispenser 122 includes a distance adjusting part for adjusting a vertical distance from the support table 118, a body storing conductive ink therein, and a needle mounted at a lower end of the body to discharge conductive ink. do. Here, the support table 118 may be moved up and down instead of the distance adjuster to adjust the vertical distance between the dispenser 122 and the support table 118.

본 실시예에서 디스펜서(122)는 디스펜싱 유닛 혹은 잉크젯 유닛을 포함할 수 있으며, 도전성 잉크를 내부에 저장하면서 제어부(130)에서의 제어에 따라 소정량의 잉크를 연속적으로 혹은 일정 단위로 나누어 토출할 수 있다. In the present embodiment, the dispenser 122 may include a dispensing unit or an inkjet unit, and discharges a predetermined amount of ink continuously or in predetermined units under the control of the controller 130 while storing the conductive ink therein. can do.

몸체는 내부에 일정 공간에 형성되어 있으며, 버스 라인의 기능을 수행할 수 있는 도전성 잉크가 저장되어 있을 수 있다. 도전성 잉크는 예를 들면 은, 금, 구리 등 중 하나 이상의 금속으로 이루어진 금속 페이스트(metal paste), 금속 나노입자 잉크(metal nano particle ink), 무입자 타입의 금속 착제 화합물(soluable metal cluster & complex type) 구조의 투명 전자 도전성 잉크(Transparent Electronic Conductive ink) 등 중 하나일 수 있다. 특히 투명 전자 도전성 잉크는 액상에서 금속으로 환원시 단면의 밀도가 높으며, 130℃ 이하의 저온 소성이 가능하고, 짧은 소성 시간을 가지면서 박막 구현이 가능하고 높은 전도도를 가져 미세패턴의 적용이 가능한 특징이 있다. The body may be formed in a predetermined space therein and may contain conductive ink capable of performing a function of a bus line. The conductive ink may be, for example, a metal paste made of one or more metals of silver, gold, copper, etc., metal nanoparticle ink, and a soluable metal cluster & complex type. It may be one of the transparent electronic conductive ink (Transparent Electronic Conductive ink) of the structure. In particular, the transparent electronic conductive ink has a high density of cross section when it is reduced from a liquid to a metal, enables low-temperature firing of 130 ° C. or below, has a short firing time, enables thin films, and has a high conductivity to apply a fine pattern. There is this.

경화부(124)는 열을 가하거나 광을 조사하여 디스펜서(122)에 의해 토출된 도전성 잉크를 경화시킬 수 있다. 즉, 경화부(124)는 히터(heater)를 포함하고 있어 리세스 영역 내에 도포된 도전성 잉크에 열을 가하거나, 램프를 포함하고 있어 소정 파장의 광(예를 들면, 자외선)을 리세스 영역 내에 도포된 도전성 잉크에 방출함으로써 화학 반응에 의해 도전성 잉크가 일정 굳기로 경화될 수 있도록 한다. The hardening unit 124 may harden the conductive ink discharged by the dispenser 122 by applying heat or irradiating light. That is, the curing unit 124 includes a heater to apply heat to the conductive ink applied in the recessed region, or includes a lamp, so that light of a predetermined wavelength (for example, ultraviolet rays) is recessed. By releasing to the conductive ink applied therein, the conductive ink can be cured to a certain hardness by chemical reaction.

경화부(124)는 열이 가해지는 방향 또는 광이 방출되는 방향이 일정 방향(예를 들면, 리세스 영역 내부)으로 유도되도록 하는 가이드를 더 구비할 수도 있다. 가이드에 의해 디스펜서(122)에 의해 도전성 잉크가 토출된 지점에 정확하게 열을 가하거나 광을 조사함으로써 보다 효율적으로 도전성 잉크를 경화시킬 수 있다. The curing unit 124 may further include a guide for directing a direction in which heat is applied or a direction in which light is emitted to a predetermined direction (eg, inside the recess area). The conductive ink can be cured more efficiently by applying heat or irradiating light accurately to the point where the conductive ink is discharged by the dispenser 122 by the guide.

본 실시예에 따른 버스 라인 리페어 장치(100)는 보호층 생성 유닛(140)을 더 포함할 수 있다. 보호층 생성 유닛(140)은 버스 라인 리페어가 완료된 이후 리페어된 버스 라인, 즉 리페어 패턴을 보호하고 레이저 가공 유닛(110)에 의해 제거된 보호층 일부를 보완하기 위해 새로운 보호층을 증착한다. The bus line repair apparatus 100 according to the present embodiment may further include a protective layer generating unit 140. The protective layer generating unit 140 deposits a new protective layer to protect the repaired bus line, that is, the repair pattern after the bus line repair is completed, and to supplement a portion of the protective layer removed by the laser processing unit 110.

특히 리세스 영역 내의 리페어 패턴 상부에 새로운 보호층이 생성됨으로써 주변의 정상적인 비화상영역의 표면과 단차가 실질적으로 없도록 하여 양호한 표면 마감을 획득하고 외부 충격에 따른 파손 가능성을 낮추어 제품 완성도를 높일 수 있다. In particular, a new protective layer is formed on the repair pattern in the recess area so that the surface and the step of the normal non-imaging area are substantially eliminated, thereby obtaining a good surface finish and lowering the possibility of damage due to external impact, thereby improving product completion. .

이상 본 실시예에서는 스캐너(115)에 의해 레이저 빔이 조사되는 위치가 조절되고 디스펜서(122)에 의해 도전성 잉크가 디스펜싱되는 위치가 조절되는 것을 가정하여 설명하였지만, 본 발명의 권리범위가 이에 한정되는 것은 아니며, 실시예에 따라 고정 초점을 가지는 레이저 빔의 조사 및/또는 도전성 잉크의 디스펜싱 동작에 대하여 지지 테이블(118)이 3차원 이동함으로써 상대적으로 레이저 빔의 조사 위치 및/또는 도전성 잉크의 디스펜싱 위치를 조절할 수도 있을 것이다. 또는 스캐너(115) 및/또는 디스펜서(122)와 지지 테이블(118)이 모두 이동함으로써 상대적으로 레이저 빔의 조사 위치 및/또는 도전성 잉크의 디스펜싱 위치를 조절할 수도 있을 것이다.
In the present exemplary embodiment, the position where the laser beam is irradiated by the scanner 115 is adjusted and the position where the conductive ink is dispensed by the dispenser 122 is adjusted, but the scope of the present invention is limited thereto. According to the embodiment, the support table 118 is three-dimensionally moved with respect to the irradiation of the laser beam having a fixed focus and / or the dispensing operation of the conductive ink, so that the irradiation position of the laser beam and / or The dispensing position may be adjusted. Alternatively, both the scanner 115 and / or the dispenser 122 and the support table 118 may be moved to adjust the irradiation position of the laser beam and / or the dispensing position of the conductive ink relatively.

이하 버스 라인 리페어 방법 및 그 과정에 대하여 도 5 이하의 도면을 참조하여 설명하기로 한다. Hereinafter, a bus line repair method and a process thereof will be described with reference to the drawings of FIG. 5.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 버스 라인 리페어 방법의 순서도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 버스 라인 리페어 방법에 따른 공정이 수행되는 액정 패널의 평면도이며, 도 7은 도 6에 도시된 CC 선의 단면도, 즉 본 발명의 일 실시예에 따른 버스 라인 리페어 방법에 따른 공정이 수행되는 액정 패널의 단면도이다. 5 is a flowchart of a bus line repair method according to an embodiment of the present invention, FIG. 6 is a plan view of a liquid crystal panel in which a process according to the bus line repair method is performed according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view of the CC line, that is, a cross-sectional view of the liquid crystal panel in which a process according to the bus line repairing method according to an embodiment of the present invention is performed.

이하에서는 상부기판과 하부기판이 대향 합착된 액정 패널(1)에 대하여 비화상영역에 형성되어 있는 버스 라인에 오픈 형태의 손상이 있는 경우를 가정하여 설명한다. Hereinafter, it will be described on the assumption that there is an open-type damage in the bus line formed in the non-image area with respect to the liquid crystal panel 1 in which the upper substrate and the lower substrate are opposed to each other.

우선 단계 S200에서 해당 액정 패널(1)을 지지 테이블(118) 상에 거치한다. 도 6의 (a) 및 도 7의 (a)을 참조하면, 지지 테이블 상에 거치된 액정 패널이 도시되어 있다. 이 때 버스 라인의 손상 부분은 그 위치, 형상, 크기 등이 손상 검출 유닛에 의해 미리 검출되어 있을 수 있다. First, in step S200, the liquid crystal panel 1 is mounted on the support table 118. Referring to FIGS. 6A and 7A, a liquid crystal panel mounted on a support table is illustrated. At this time, the damage portion of the bus line may have been previously detected by the damage detection unit in the position, shape, size, and the like.

단계 S210에서 레이저 가공 유닛(110)은 지지 테이블(118) 상에 거치된 액정 패널(1)에 대하여 버스 라인의 손상 부분(52)에 형성되어 있는 보호층(68)이 반응 가능한 레이저 빔을 해당 보호층(68)에 조사하여 제거함으로써 레이저 가공된 리세스 영역(80)을 형성한다(도 6의 (b) 및 도 7의 (b) 참조). In step S210, the laser processing unit 110 corresponds to a laser beam capable of reacting the protective layer 68 formed on the damaged portion 52 of the bus line with respect to the liquid crystal panel 1 mounted on the support table 118. The protective layer 68 is irradiated and removed to form a laser processed recess region 80 (see FIGS. 6B and 7B).

여기서, 레이저 가공에 의해 제거되는 보호층(68)은 손상 부분(52)을 포함하는 크기(L2)이면 충분하며, 형성된 리세스 영역(80) 역시 L2에 상응하는 크기를 가지게 된다. L2는 도 3에 도시된 L1보다 작은 값으로, 본 실시예에 따르면 종래 방법보다 레이저 가공 영역의 크기가 작아 주변 회로(예를 들면, 정상적인 버스 라인 등)에 미치는 영향을 최소화할 수 있다. Here, the protective layer 68 removed by laser processing is sufficient to have a size L2 including the damaged portion 52, and the recessed region 80 formed also has a size corresponding to L2. L2 is smaller than L1 shown in FIG. 3, and according to the present exemplary embodiment, the laser processing area is smaller in size than the conventional method, thereby minimizing the influence on the peripheral circuit (for example, a normal bus line).

이러한 리세스 영역(80)은 손상 부분(52)에 대응되는 보호층(68)이 잔존하지 않고 손상 부분(52)에 대응되는 하부 투명기판의 상면이 외부로 노출되도록 함입된 형상을 가진다. The recess region 80 has a shape in which the protective layer 68 corresponding to the damaged portion 52 does not remain and the upper surface of the lower transparent substrate corresponding to the damaged portion 52 is exposed to the outside.

레이저 가공 유닛(110)은 레이저 빔의 초점이 손상 부분(52)에 대응되는 보호층(68) 내에 위치하도록 각 구성요소를 구동시키며, 보호층(68)이 반응하는 특성을 가지는 레이저 빔을 발진시켜 버스 라인의 손상 부분(52)에 해당하는 영역의 보호층(68)을 제거한다. 여기서, 보호층(68)은 100 내지 410nm의 파장 대역의 레이저 빔에 반응하여 제거될 수 있으며, 보호층(68)을 제거하기 위한 레이저 빔의 대표적인 파장은 예를 들면 193nm, 248nm, 262nm, 263nm, 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm 중 하나일 수 있다. The laser processing unit 110 drives each component so that the focal point of the laser beam is located in the protective layer 68 corresponding to the damaged portion 52, and oscillates the laser beam having the characteristic that the protective layer 68 reacts. The protective layer 68 in the region corresponding to the damaged portion 52 of the bus line is removed. Herein, the protective layer 68 may be removed in response to a laser beam in a wavelength band of 100 to 410 nm, and representative wavelengths of the laser beam for removing the protective layer 68 may be, for example, 193 nm, 248 nm, 262 nm, and 263 nm. , 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm.

단계 S220 및 S230에서 패터닝 유닛(120)은 리세스 영역(80) 내에 도전성 잉크를 도포하고 경화시켜 리페어 패턴(85)을 생성한다(도 6의 (c) 및 도 7의 (c) 참조). 리페어 패턴(85)은 손상된 버스 라인의 손상된 양단부와 연결됨으로써 해당 버스 라인의 전기적 연결이 복구되어 리페어된 버스 라인이 전기 신호가 전달되는 하나의 통로로서 기능하게 한다. 여기서, 액정 패널의 기본 설계안대로 버스 라인이 리페어 될 수 있어 경로의 연장과 같은 물리적인 변경으로 인해 발생하는 예기치 못한 문제점을 미연에 방지할 수 있다. In steps S220 and S230, the patterning unit 120 applies and cures the conductive ink in the recess region 80 to generate the repair pattern 85 (see FIGS. 6C and 7C). The repair pattern 85 is connected to the damaged both ends of the damaged bus line so that the electrical connection of the corresponding bus line is restored so that the repaired bus line functions as a passage through which an electrical signal is transmitted. Here, the bus line may be repaired according to the basic design of the liquid crystal panel, thereby preventing unexpected problems caused by physical changes such as extension of the path.

리페어 패턴 생성이 완료된 후, 단계 S240에서 리세스 영역(80) 내부의 리페어 패턴(85) 상에 보호층(90)을 증착하여(도 6의 (d) 및 도 7의 (d) 참조) 해당 액정 패널(1)이 후속 작업 공정에 적용될 수 있도록 한다. After the repair pattern generation is completed, the protective layer 90 is deposited on the repair pattern 85 inside the recess region 80 in step S240 (see (d) of FIG. 6 and (d) of FIG. 7). The liquid crystal panel 1 can be applied to subsequent work processes.

리세스 영역(80) 내부에 생성된 리페어 패턴(85)은 외부에 노출되어 있으며 주변의 정상적인 비화상영역의 표면과의 단차가 존재한다. 따라서, 새롭게 보호층(90)을 증착함으로써 해당 리페어 패턴(85)이 외부 환경으로부터 보호되도록 한다. 그리고 주변의 정상적인 비화상영역의 표면과의 단차를 실질적으로 없애 양호한 제품 표면 마감을 획득하며 종래 방법에 의할 때 발생 가능한 외부 충격에 따른 파손 가능성을 낮추어 제품 완성도를 높일 수 있다. The repair pattern 85 generated inside the recess region 80 is exposed to the outside, and there is a step with the surface of the normal non-image region around the recess pattern 80. Therefore, the new repair layer 90 is deposited so that the repair pattern 85 is protected from the external environment. In addition, it is possible to obtain a good product surface finish by substantially eliminating the step with the surface of the normal non-image area of the surroundings, and to increase the product completeness by lowering the possibility of damage due to external impact that can occur by the conventional method.

본 실시예에 따른 버스 라인 리페어 방법은 추가적으로 테스트 공정을 두어 버스 라인의 리페어가 제대로 이루어졌는지 여부를 확인하는 단계가 후속할 수도 있다.
In the bus line repair method according to the present embodiment, a test process may be additionally performed to check whether the repair of the bus line is performed properly.

상기에서는 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the following claims And changes may be made without departing from the spirit and scope of the invention.

1: 액정 패널 10: 화상영역
20: 비화상영역 30: 상부기판
40: 하부기판 50: 버스 라인
60: 보호층 52: 손상 부분
62: 잔존 보호층 70: 도전성 경로
75: 보호층 100: 버스 라인 리페어 장치
110: 레이저 가공 유닛 111: 레이저 발진부
112: 광학변조기 113: 반사거울
114: 빔 확대기 115: 스캐너
116: 대물렌즈부 117: 빔 덤프
118: 지지 테이블 119: 레이저 빔 경로
120: 패터닝 유닛 122: 디스펜서
124: 경화부 130: 제어부
140; 보호층 생성 유닛 80: 리세스 영역
85: 리페어 패턴 90: 보호층
1: liquid crystal panel 10: image area
20: non-imaging area 30: upper substrate
40: lower substrate 50: bus line
60: protective layer 52: damaged portion
62: remaining protective layer 70: conductive path
75: protective layer 100: bus line repair device
110: laser processing unit 111: laser oscillation unit
112: optical modulator 113: reflective mirror
114: beam expander 115: scanner
116: objective lens unit 117: beam dump
118: support table 119: laser beam path
120: patterning unit 122: dispenser
124: curing unit 130: control unit
140; Protective layer generation unit 80: recessed area
85: repair pattern 90: protective layer

Claims (12)

액정 패널의 버스 라인 손상을 리페어하는 장치로서,
버스 라인의 손상 부분 상부에 형성되어 있는 보호층이 반응하는 특성을 가지는 레이저 빔을 조사하여 상기 보호층이 제거된 리세스 영역을 형성하는 레이저 가공 유닛; 및
상기 리세스 영역 내에 도전성 잉크(conductive ink)를 도포하고 경화시켜 리페어 패턴을 생성하는 패터닝 유닛을 포함하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 장치.
As a device for repairing bus line damage of a liquid crystal panel,
A laser processing unit for irradiating a laser beam having a characteristic of reacting a protective layer formed on the damaged portion of a bus line to form a recessed region from which the protective layer is removed; And
And a patterning unit for applying a conductive ink in the recessed area and curing the conductive ink to generate a repair pattern.
제1항에 있어서,
상기 레이저 빔은 100 내지 410nm의 파장 대역을 가지는 것을 특징으로 하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 장치.
The method of claim 1,
The laser beam is a bus line repair apparatus of the liquid crystal panel, characterized in that having a wavelength band of 100 to 410nm.
제1항에 있어서,
상기 레이저 빔의 파장은 193nm, 248nm, 262nm, 263nm, 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm 중 하나인 것을 특징으로 하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 장치.
The method of claim 1,
The wavelength of the laser beam is 193nm, 248nm, 262nm, 263nm, 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm, bus line repair apparatus of the liquid crystal panel, characterized in that.
제1항에 있어서,
상기 리세스 영역 내의 상기 리페어 패턴 상에 보호층을 증착하는 보호층 생성 유닛을 더 포함하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 장치.
The method of claim 1,
And a protective layer generating unit for depositing a protective layer on the repair pattern in the recess region.
제4항에 있어서,
상기 리페어 패턴 상에 증착된 보호층은 상기 손상 부분 주변 부분의 보호층과 단차가 미리 정해진 오차 범위 이내인 것을 특징으로 하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 장치.
The method of claim 4, wherein
The protective layer deposited on the repair pattern is a bus line repair apparatus for a liquid crystal panel, characterized in that the step between the protective layer around the damaged portion is within a predetermined error range.
제1항에 있어서,
상기 액정 패널은 합착 공정이 수행된 것이며,
상기 버스 라인을 상기 액정 패널의 비화상영역에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 장치.
The method of claim 1,
The liquid crystal panel is a bonding process is performed,
And said bus line is formed in a non-image area of said liquid crystal panel.
액정 패널의 버스 라인 손상을 리페어하는 방법으로서,
버스 라인의 손상 부분 상부에 형성되어 있는 보호층이 반응하는 특성을 가지는 레이저 빔을 조사하여 상기 보호층이 제거된 리세스 영역을 형성하는 단계; 및
상기 리세스 영역 내에 도전성 잉크(conductive ink)를 도포하고 경화시켜 리페어 패턴을 생성하는 단계를 포함하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 방법.
As a method of repairing bus line damage of a liquid crystal panel,
Irradiating a laser beam having a characteristic that the protective layer formed on the damaged portion of the bus line reacts to form a recessed region from which the protective layer is removed; And
A method of repairing a bus line of a liquid crystal panel comprising applying and curing a conductive ink in the recess region to generate a repair pattern.
제7항에 있어서,
상기 레이저 빔은 100 내지 410nm의 파장 대역을 가지는 것을 특징으로 하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 방법.
The method of claim 7, wherein
And the laser beam has a wavelength band of 100 to 410 nm.
제7항에 있어서,
상기 레이저 빔의 파장은 193nm, 248nm, 262nm, 263nm, 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm 중 하나인 것을 특징으로 하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 방법.
The method of claim 7, wherein
The wavelength of the laser beam is 193nm, 248nm, 262nm, 263nm, 266nm, 308nm, 349nm, 351nm, 355nm, 405nm bus line repair method of the liquid crystal panel, characterized in that.
제7항에 있어서,
상기 리세스 영역 내의 상기 리페어 패턴 상에 보호층을 증착하는 단계를 더 포함하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 방법.
The method of claim 7, wherein
And depositing a protective layer on the repair pattern in the recess region.
제10항에 있어서,
상기 리페어 패턴 상에 증착된 보호층은 상기 손상 부분 주변 부분의 보호층과 단차가 미리 정해진 오차 범위 이내인 것을 특징으로 하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 방법.
The method of claim 10,
The protective layer deposited on the repair pattern is a bus line repair method for a liquid crystal panel, characterized in that the step between the protective layer around the damaged portion is within a predetermined error range.
제7항에 있어서,
상기 액정 패널은 합착 공정이 수행된 것이며,
상기 버스 라인을 상기 액정 패널의 비화상영역에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 패널의 버스 라인 리페어 방법.
The method of claim 7, wherein
The liquid crystal panel is a bonding process is performed,
And the bus line is formed in a non-image area of the liquid crystal panel.
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