KR20120049065A - Plasma enhanced chemical vapordeposition for liquid crystal display device - Google Patents

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KR20120049065A KR1020100110634A KR20100110634A KR20120049065A KR 20120049065 A KR20120049065 A KR 20120049065A KR 1020100110634 A KR1020100110634 A KR 1020100110634A KR 20100110634 A KR20100110634 A KR 20100110634A KR 20120049065 A KR20120049065 A KR 20120049065A
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Abstract

PURPOSE: A plasma enhanced chemical vapor deposition device for a liquid crystal display device is provided to have strong features against thermal deformation and form a good film. CONSTITUTION: An edge of a backing plate(234) has a stepped structure. A shower head(230) is arranged in a lower part of the backing plate. A susceptor(160) is separated from the shower head. The susceptor supports a substrate. A coupling unit is formed in an edge of the shower head. The coupling unit is vertically coupled with a side of the backing plate.

Description

액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치{Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition for Liquid Crystal Display Device}Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition for Liquid Crystal Display Device

본 발명은 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치에 관한 것으로, 특히 열적 변형에 우수하고 양질의 성막을 구현할 수 있는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus for a liquid crystal display, and more particularly, to a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus for a liquid crystal display apparatus capable of achieving excellent film quality and thermal deformation.

액정표시장치는 어레이 기판과 컬러필터 기판 사이에 액정을 주입하여, 그 특성을 이용해 영상효과를 얻는 비발광 소자이다.A liquid crystal display device is a non-light emitting device that injects liquid crystal between an array substrate and a color filter substrate and obtains an image effect by using the characteristics thereof.

상기 어레이 기판 및 컬러필터 기판은 각각 투명한 기판상에 수 차례 박막 증착, 패터닝 및 식각공정을 통해 제조된다. 이와 같은 제조공정은 공정챔버 상부로부터 다운 스트림 방식으로 소스물질이 가스형태로 유입되어 증착 또는 식각공정을 진행하는 경우, 소스가스가 기판 상면에 균일하게 분포될 수 있도록 기판 상부에 다수의 관통홀이 형성되는 샤워헤드 어셈블리가 구비된다.The array substrate and the color filter substrate are each manufactured through thin film deposition, patterning and etching processes on a transparent substrate. Such a manufacturing process has a plurality of through holes in the upper part of the substrate so that the source gas can be uniformly distributed on the upper surface of the substrate when the source material is introduced into the gas in a downstream manner from the upper part of the process chamber. A showerhead assembly is formed.

특히 최근에는 박막을 증착시키는데 있어서, 공정 챔버 외부의 고전압의 에너지를 이용하여 공정 가스를 플라즈마 상태로 여기시킨 상태에서 공정 가스 사이의 화학 반응을 유도하는 플라즈마 가와 화학기상증착(PECVD:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 방법이 폭넓게 사용되고 있다.In particular, in recent years in the deposition of thin films, plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), which induces a chemical reaction between process gases in a state in which the process gas is excited in a plasma state using high voltage energy outside the process chamber, is used. Deposition method is widely used.

도 1은 일반적인 액정표시장치용 PECVD 증착장치를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 2는 A영역을 상세하 도시한 단면도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a general PECVD deposition apparatus for a liquid crystal display device, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a region A in detail.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 일반적인 액정표시장치용 PECVD 증착장치는 공정챔버(100)에서 박막 증착 공정이 수행된다. 공정챔버(100)는 상부커버(112), 챔버바디(114)를 포함하고, 상부커버(112)와 챔버바디(114) 사이에 오-링과 같은 실링부재(116)가 구비된다.As shown in FIG. 1 and FIG. 2, in a typical PECVD deposition apparatus for a liquid crystal display, a thin film deposition process is performed in the process chamber 100. The process chamber 100 includes an upper cover 112 and a chamber body 114, and a sealing member 116 such as an o-ring is provided between the upper cover 112 and the chamber body 114.

상부커버(112)는 리드(122)에 의해 외부와 격리되고, 상기 리드(122) 내부에 배킹 플레이트(Backing plate, 134) 및 샤워해드(130)가 설치된다.The upper cover 112 is isolated from the outside by the lid 122, and a backing plate 134 and a shower head 130 are installed inside the lid 122.

공정가스는 배킹 플레이트(134)의 중앙을 관통하는 가스 유입관(170)에 의해 공정챔버(100) 내부로 공급된다.The process gas is supplied into the process chamber 100 by the gas inlet pipe 170 penetrating the center of the backing plate 134.

상기 공정가스는 샤워해드(130)의 분사홀(132)을 통해 서셉터(160) 상면에 안착된 기판(S)으로 균일하게 분사된다.The process gas is uniformly sprayed onto the substrate S mounted on the upper surface of the susceptor 160 through the spray hole 132 of the shower head 130.

상기 공정가스를 여기시키는데 필요한 에너지는 RF 전원(180)에서 공급한다.The energy required to excite the process gas is supplied by the RF power source 180.

기판(S)은 가장자리에 에지 프레임(164)에 구비되어 서셉터(160)에 밀착된다.The substrate S is provided at the edge of the edge frame 164 to be in close contact with the susceptor 160.

일반적인 액정표시장치용 PECVD 증착장치는 증착 반응이 완료된 후에 공정챔버(100) 내부에 잔류하는 공정가스가 외부로 배출되도록 서셉터(160) 하부에 배기구(152)가 더 구비된다.The general PECVD deposition apparatus for a liquid crystal display device further includes an exhaust port 152 under the susceptor 160 so that the process gas remaining in the process chamber 100 is discharged to the outside after the deposition reaction is completed.

일반적인 액정표시장치용 PECVD 증착장치는 백킹 플레이트(134)의 가장자리 하부면과 샤워해드(130)의 체결부가 결합된다.In general, the liquid crystal display PECVD deposition apparatus is coupled to the bottom of the edge of the backing plate 134 and the fastening portion of the shower head (130).

샤워해드(130)의 체결부는 백킹 플레이트(134)의 가장자리 하부면과 접촉되는 말단(131a)과, 상기 말단(131a)의 내측으로 요부(131c)가 형성된다. 상기 말단(131a)과 요부(131c) 사이에는 수직 절곡부(131b)가 형성된다.The fastening part of the shower head 130 is formed with a distal end 131a contacting the lower surface of the edge of the backing plate 134, and a recess 131c is formed inside the distal end 131a. A vertical bent portion 131b is formed between the end 131a and the recessed portion 131c.

즉, 샤워해드(130)는 상기 백킹 플레이트(134)의 하부면과 수평하게 접촉되는 말단(131a)에 스크류(screw) 형태의 고정부재(142)가 체결되어 백킹 플레이트(134)와 고정된다.That is, the shower head 130 is fixed to the backing plate 134 by fastening a screw-type fixing member 142 to the end 131a which is in horizontal contact with the bottom surface of the backing plate 134.

백킹 플레이트(134)는 증착 공정 시에 발생하는 열에 의해 수평 방향으로 열 팽창 및 수축을 반복한다.The backing plate 134 repeats thermal expansion and contraction in the horizontal direction by the heat generated during the deposition process.

그러나, 샤워해드(130)의 말단(131a)은 상기 백킹 플레이트(134)의 가장자리 하부면과 수평하게 면 접촉되어 열에 의한 백킹 플레이트(134)의 팽창 및 수축시에 갈림현상이 발생되고, 갈림 현상에 의해 이물질이 발생하는 문제가 있었다.However, the end 131a of the shower head 130 is in surface contact with the lower surface of the edge of the backing plate 134 so that a splitting phenomenon occurs during expansion and contraction of the backing plate 134 due to heat. There was a problem that foreign matter is generated by.

상기 갈림현상은 기판의 증착 공정 시에 성막 품질이 저하되는 문제가 야기한다.The cleavage causes a problem of deterioration of film formation quality during the deposition process of the substrate.

본 발명은 열적 변형에 우수하고 양질의 성막을 구현할 수 있는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치를 제공함에 그 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus for a liquid crystal display device which is excellent in thermal deformation and can realize a good film formation.

본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치는,Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus for a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention,

가장자리가 단차구조로 이루어지는 백킹 플레이트; 상기 백킹 플레이트의 하부에 배치된 샤워해드; 및 상기 샤워해드로부터 일정간격 이격되어 기판을 지지하는 서셉터를 포함하고, 상기 샤워해드의 가장자리에는 체결부가 구비되고, 상기 체결부는 상기 샤워해드로부터 돌출되어 상기 샤워해드의 길이방향을 기준으로 수직하게 상기 백킹 플레이트의 측면과 체결되는 것을 특징으로 한다.
A backing plate having an edge structure; A shower head disposed below the backing plate; And a susceptor for supporting a substrate spaced apart from the shower head at a predetermined interval, and a fastening portion is provided at an edge of the shower head, and the fastening portion protrudes from the shower head to be perpendicular to the longitudinal direction of the shower head. It is characterized in that it is fastened with the side of the backing plate.

본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 PECVD 증착장치는 샤워해드와 백킹 플레이트의 고정 구조에 있어서, 샤워해드의 체결부 구조는 백킹 플레이트의 외측면과 면 접촉하도록 샤워해드로부터 상부방향으로 돌출된 접촉부가 구비되어 공정챔버의 온도 상승으로 인한 백킹 플레이트의 팽창 및 수축 발생시에 백킹 플레이트의 측면방향으로 샤워해드의 체결부 특히 접촉부가 팽창 및 수축됨으로써, 갈림현상을 개선할 수 있는 장점을 가진다.In the liquid crystal display PECVD deposition apparatus according to an embodiment of the present invention, in the fixed structure of the shower head and the backing plate, the fastening portion structure of the shower head protrudes upward from the shower head so as to be in surface contact with the outer surface of the backing plate. When the contact portion is provided with expansion and contraction of the backing plate due to the temperature rise of the process chamber, the fastening part of the shower head, in particular, the contact portion of the showerhead in the lateral direction of the backing plate, the expansion and contraction, there is an advantage that can improve the separation phenomenon.

또한, 본 발명의 샤워해드는 수직으로 돌출된 돌출부, 연결부 및 접촉부의 2회 이상 구부러진 체결부에 의해 백킹 플레이트의 자중에 의한 샤워해드의 동반 변형을 최소화할 수 있다.In addition, the shower head of the present invention can minimize the deformation of the shower head due to the weight of the backing plate by the fastening portion that is bent at least two times of the vertically projecting protrusion, the connection portion and the contact portion.

따라서, 본 발명은 샤워해드의 돌출부, 연결부 및 접촉부에 의해 일반적인 액정표시장치용 PECVD 증착장치에서 발생하는 갈림 현상과 변형을 최소화하여 안정적인 공정환경으로 양질의 성막을 얻을 수 있는 장점을 가진다.Accordingly, the present invention has the advantage of achieving high quality film formation with a stable process environment by minimizing the gap phenomenon and deformation occurring in the general PECVD deposition apparatus for the liquid crystal display by the protrusions, the connecting portion and the contact portion of the shower head.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치를 도시한 분해 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 다이오드를 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 발광 다이오드의 발광 칩을 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 다이오드의 발광 칩을 도시한 단면도이다.1 is an exploded perspective view illustrating a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a light emitting diode according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating a light emitting chip of a light emitting diode according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view illustrating a light emitting chip of a light emitting diode according to another embodiment of the present invention.

첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시 예를 상세히 설명하도록 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to the accompanying drawings, embodiments of the present invention will be described in detail.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 PECVD 증착장치를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 4는 도 3의 B영역을 상세하 도시한 단면도이다.FIG. 3 is a cross-sectional view schematically illustrating a PECVD deposition apparatus for a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating region B of FIG. 3 in detail.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 PECVD 증착장치는 외부와 차단되어 진공상태의 반응영역을 형성하는 공정챔버(200)에서 박막 증착 공정이 수행된다.3 and 4, the PECVD deposition apparatus for a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention is a thin film deposition process is performed in the process chamber 200 is blocked from the outside to form a reaction region in a vacuum state do.

공정챔버(200)는 상부커버(112)와, 챔버바디(114)를 포함하고, 상기 상부커버(112)와 챔버바디(114) 사이에는 실링부재(116)가 개재되어 공정챔버(200)의 내부 영역을 외부 영역으로부터 밀패시킨다.The process chamber 200 includes an upper cover 112 and a chamber body 114, and a sealing member 116 is interposed between the upper cover 112 and the chamber body 114 to form the process chamber 200. Seal the inner region from the outer region.

상부커버(112)는 리드(122)에 의해 외부와 격리되고, 상기 리드(122)의 내측에는 내부를 횡단하도록 구비된 백킹 플레이트(234) 및 샤워해드(230)가 설치된다.The upper cover 112 is isolated from the outside by the lid 122, and the backing plate 234 and the shower head 230 is provided inside the lid 122 to traverse the interior.

공정가스는 외부의 가스공급원(미도시)으로부터 가스라인(미도시)을 경유하여 백킹 플레이트(234)의 중앙을 관통하는 가스 유입관(170)에 의하여 백킹 플레이트(234)의 하부로 주입된다.Process gas is injected into the lower portion of the backing plate 234 by a gas inlet pipe 170 passing through the center of the backing plate 234 via a gas line (not shown) from an external gas supply source (not shown).

상기 백킹 플레이트(234)의 하부로 주입된 공정가스는 백킹 플레이트(234)의 하부에 형성된 배플(baffle, 미도시)에 의해 1차 확산되고, 샤워해드(230)에 형성된 다수의 분사홀(232)을 통해 서셉터(160) 상면에 안착된 기판(S)의 상면으로 분사된다.Process gas injected into the lower portion of the backing plate 234 is first diffused by a baffle (not shown) formed in the lower portion of the backing plate 234, and a plurality of injection holes 232 formed in the shower head 230. Inject through the upper surface of the substrate (S) seated on the upper surface of the susceptor (160).

상기 공정가스를 여기시키는데 필요한 에너지는 RF 전원(180)에서 공급하고, 상기 RF 전원(180)은 상기 백킹 플레이트(234) 및 샤워해드(230)와 연결되어 샤워해드(230)를 통해 분사된 공정가스를 플라즈마화시킴으로써, 성막이 이루어진다. 즉, 상기 백킹 플레이트(234) 및 샤워해드(230)는 상부전극으로 사용될 수 있다.Energy required to excite the process gas is supplied from the RF power 180, the RF power 180 is connected to the backing plate 234 and the shower head 230 is injected through the shower head 230 The film formation is performed by plasmalizing the gas. That is, the backing plate 234 and the shower head 230 may be used as the upper electrode.

상기 챔버바디(114)의 양측면은 상부커버(112)의 리드(122)와 실링부재(116)를 통하여 결합되며, 상기 챔버바디(114)의 내부에는 샤워해드(230)와 일정간격 이격되어 대향적으로 설치된 서셉터(160)가 구비된다. 상기 서셉터(160)의 내부에는 히터(162)가 매설되고, 박박 증착과정에서 서셉터(160)의 상부로 안착되는 기판(S)을 증착에 적합한 온도로 상승시킨다. 서셉터(160)는 하부전극으로 사용될 수 있다.Both sides of the chamber body 114 are coupled through the lid 122 and the sealing member 116 of the upper cover 112, the chamber body 114 is spaced apart from the shower head 230 at a predetermined interval There is provided a susceptor 160 installed in a direction. The heater 162 is embedded in the susceptor 160 to raise the substrate S, which is seated on the upper part of the susceptor 160, to a temperature suitable for deposition. The susceptor 160 may be used as a lower electrode.

상기 서셉터(160)의 하단에는 기판(S)이 공정챔버(200) 내부로 로딩 또는 언로딩에 따라 서셉터(160)를 상하로 이동시키는 승강수단(미도시)이 연결된다.Lifting means (not shown) for moving the susceptor 160 up and down is connected to the lower end of the susceptor 160 as the substrate S is loaded or unloaded into the process chamber 200.

상기 기판(S)의 가장자리와 공정챔버(200)의 측벽으로 공정물질이 증착되지 않고 기판(S)을 서셉터(160)에 밀착시키기 위해 상기 서셉터(160)의 상측면 및 기판(S)의 측면으로 에지 프레임(164)이 설치되어 기판(S)의 가장자리를 커버한다.The upper surface of the susceptor 160 and the substrate S to adhere the substrate S to the susceptor 160 without depositing a process material on the edge of the substrate S and the sidewall of the process chamber 200. The edge frame 164 is installed at the side surface of the substrate S to cover the edge.

상기 공정챔버(200) 하부에는 증착 반응이 완료된 이후에 공정챔버(200) 내부에 잔류하는 공정가스가 외부로 배출되도록 배기구(152)가 구비된다.The exhaust chamber 152 is provided below the process chamber 200 so that the process gas remaining in the process chamber 200 is discharged to the outside after the deposition reaction is completed.

본 발명의 샤워해드(230)는 백킹 플레이트(234)의 가장자리와 결합되는 체결부를 가진다.The shower head 230 of the present invention has a fastening portion coupled to the edge of the backing plate 234.

샤워해드(230)의 체결부는 샤워해드(230)의 가장자리로부터 상부방향으로 돌출된 돌출부(230c)와, 상기 백킹 플레이트(234)의 측면과 수직으로 면 접촉되는 접촉부(230a)와, 상기 돌출부(230c)로부터 샤워해드(230)의 외측방향으로 구부러져 상기 접촉부(230a)와 연결되는 연결부(230b)를 가진다.The fastening portion of the shower head 230 includes a protrusion 230c protruding upward from the edge of the shower head 230, a contact portion 230a which is in surface contact with the side surface of the backing plate 234, and the protrusion It has a connecting portion 230b which is bent from the showerhead 230 outward from the 230c and is connected to the contact portion 230a.

상기 돌출부(230c), 접촉부(230a) 및 연결부(230b)는 상기 샤워해드(230) 제조시에 일체로 형성된다.The protruding portion 230c, the contacting portion 230a and the connecting portion 230b are integrally formed at the time of manufacturing the shower head 230.

백킹 플레이트(234)는 상기 샤워해드(230)의 체결부와 고정되는 가장자리영역에 단차구조의 제1 및 제2 측면(234a, 234b)을 가진다.The backing plate 234 has first and second side surfaces 234a and 234b having a stepped structure in an edge region fixed to the fastening portion of the shower head 230.

상기 접촉부(230a)는 상기 연결부(230b) 끝단으로부터 샤워해드(230)의 상부방향으로 구부러진다.The contact portion 230a is bent upward from the end of the connection portion 230b of the shower head 230.

상기 샤워해드(230)의 접촉부(230a)는 상기 제1 측면(234a)과 면 접촉된다.The contact portion 230a of the shower head 230 is in surface contact with the first side surface 234a.

즉, 접촉부(230a)의 내측면은 상기 제1 측면(234a)의 외면과 면 접촉됨으로써, 샤워해드(230)의 길이방향을 기준으로 수직한 방향으로 상기 백킹 플레이트(234)의 제1 측면(234a)과 접촉된다.That is, the inner surface of the contact portion 230a is in surface contact with the outer surface of the first side surface 234a, so that the first side surface of the backing plate 234 is perpendicular to the longitudinal direction of the shower head 230. 234a).

접촉부(230a)에는 스크류 형태의 고정부재(242)가 체결되어 샤워해드(230)와 백킹 플레이트(234)를 완고하게 고정시킨다.A screw-shaped fixing member 242 is fastened to the contact portion 230a to firmly fix the shower head 230 and the backing plate 234.

구체적으로 상기 고정부재(242)는 상기 접촉부(230a)를 접촉부(230a)의 외측으로부터 관통하여 제1 측면(234a)으로 고정되는 구조를 가진다.In detail, the fixing member 242 penetrates the contact portion 230a from the outside of the contact portion 230a and has a structure fixed to the first side surface 234a.

연결부(230b)는 백킹 플레이트(234)의 단차구조에 의한 제2 측면(234b)과 면 접촉된다.The connecting portion 230b is in surface contact with the second side surface 234b due to the stepped structure of the backing plate 234.

돌출부(230c)는 상기 백킹 플레이트(234)의 가장자리로부터 일정 간격 이격되어 돌출부(230c)와 백킹 플레이트(234)의 측면 사이에는 일정한 간격(234c)이 형성된다.The protrusion 230c is spaced apart from the edge of the backing plate 234 by a predetermined interval so that a constant gap 234c is formed between the protrusion 230c and the side surface of the backing plate 234.

본 발명의 백킹 플레이트(234)는 증착 공정시에 열에 의해 백킹 플레이트(234)의 수평한 방향으로 팽창 및 수축이 발생된다. 구체적으로 백킹 플레이트(234)는 x-x'방향으로 팽창 및 수축된다.The backing plate 234 of the present invention is expanded and contracted in the horizontal direction of the backing plate 234 by heat during the deposition process. Specifically, the backing plate 234 is expanded and contracted in the x-x 'direction.

본 발명의 샤워해드(230)는 백킹 플레이트(234)의 제1 측면(234a)과 면 접촉되는 접촉부(230a)가 샤워해드(230)의 길이방향과 수직하게 돌출된 구조로써, 백킹 플레이트(234)의 열 팽창 및 수축 시에 갈림 현상을 최소화할 수 있는 구조를 가진다.The shower head 230 of the present invention has a structure in which the contact portion 230a, which is in surface contact with the first side surface 234a of the backing plate 234, protrudes perpendicularly to the longitudinal direction of the shower head 230, and the backing plate 234. In the case of thermal expansion and contraction of), it has a structure capable of minimizing the phenomena.

도면에는 상세히 도시되지 않았지만, 공정챔버(200)에는 상기 샤워해드(230) 및 백킹 플레이트(234)가 체결되는 주변부와 측면 리드(122) 사이에 절연 및 진공 유지를 위해 복수의 절연부재가 구비될 수 있다. 즉, 측면 리드(122)와 샤워해드(230) 및 백킹 플레이트(234) 사이의 영역으로 플라즈마가 형성되는 것을 방지하기 위해 측면 리드(122)와 샤워해드(230) 및 백킹 플레이트(234) 사이에 절연부재가 구비될 수 있다.Although not shown in detail in the drawing, the process chamber 200 may be provided with a plurality of insulating members between the periphery of the shower head 230 and the backing plate 234 and the side lid 122 to maintain insulation and vacuum. Can be. That is, between the side lead 122 and the shower head 230 and the backing plate 234 to prevent plasma from forming in the area between the side lead 122 and the shower head 230 and the backing plate 234. An insulating member may be provided.

이상에서와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치용 PECVD 증착장치는 샤워해드(230)와 백킹 플레이트(234)의 고정 구조에 있어서, 샤워해드(230)의 체결부 구조는 백킹 플레이트(234)의 외측면과 면 접촉하도록 샤워해드(230)로부터 상부방향으로 돌출된 접촉부(230a)가 구비되어 공정챔버(200)의 온도 상승으로 인한 백킹 플레이트(234)의 팽창 및 수축 발생시에 백킹 플레이트(234)의 측면방향으로 샤워해드(230)의 체결부 특히 접촉부(230a)가 팽창 및 수축됨으로써, 갈림현상을 개선할 수 있는 장점을 가진다.As described above, the liquid crystal display PECVD deposition apparatus according to an embodiment of the present invention in the fixed structure of the shower head 230 and the backing plate 234, the fastening portion structure of the shower head 230 is a backing plate A contact portion 230a protruding upward from the shower head 230 to be in surface contact with the outer surface of the 234 is provided so that the backing plate 234 may expand and contract when the temperature of the process chamber 200 rises. Since the fastening part of the shower head 230, in particular, the contact part 230a in the lateral direction of the plate 234 is expanded and contracted, it has an advantage of improving the splitting phenomenon.

또한, 본 발명의 샤워해드(230)는 수직으로 돌출된 돌출부(230c), 연결부(230b) 및 접촉부(230a)의 2회 이상 구부러진 체결부에 의해 백킹 플레이트(234)의 자중에 의한 샤워해드(230)의 동반 변형을 최소화할 수 있다.In addition, the shower head 230 of the present invention is a shower head due to the weight of the backing plate 234 by a fastening portion bent at least two times of the protrusion 230c, the connection portion 230b and the contact portion 230a vertically protruding ( The accompanying deformation of 230 can be minimized.

따라서, 본 발명은 샤워해드(230)의 돌출부(230c), 연결부(230b) 및 접촉부(230a)에 의해 일반적인 액정표시장치용 PECVD 증착장치에서 발생하는 갈림 현상과 변형을 최소화하여 안정적인 공정환경으로 양질의 성막을 얻을 수 있는 장점을 가진다.Accordingly, the present invention minimizes the splitting and deformation occurring in the general PECVD deposition apparatus by the protrusion 230c, the connecting portion 230b, and the contacting portion 230a of the shower head 230, thereby providing a stable process environment. It has the advantage of getting a film.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

230: 샤워해드 230a: 접촉부
230b: 연결부 230c: 돌출부
234: 백킹 플레이트 234a: 제1 측면
234b: 제2 측면 234c: 간격230: shower head 230a: contact portion
230b: connection 230c: protrusion
234: backing plate 234a: first side
234b: second side 234c: gap

Claims (8)

가장자리가 단차구조로 이루어지는 백킹 플레이트;
상기 백킹 플레이트의 하부에 배치된 샤워해드; 및
상기 샤워해드로부터 일정간격 이격되어 기판을 지지하는 서셉터를 포함하고,
상기 샤워해드의 가장자리에는 체결부가 구비되고, 상기 체결부는 상기 샤워해드로부터 돌출되어 상기 샤워해드의 길이방향을 기준으로 수직하게 상기 백킹 플레이트의 측면과 체결되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치.A backing plate having an edge structure;
A shower head disposed below the backing plate; And
It includes a susceptor for supporting the substrate spaced apart from the shower head at a predetermined interval,
A fastening part is provided at an edge of the shower head, and the fastening part protrudes from the shower head and is fastened to the side surface of the backing plate perpendicularly to the longitudinal direction of the shower head. Vapor deposition apparatus. 제1 항에 있어서,
상기 샤워해드의 체결부는,
상기 샤워해드의 가장자리로부터 상부방향으로 구부러진 돌출부;
상기 백킹 플레이트의 측면과 수직으로 면 접촉되는 접촉부; 및
상기 돌출부로부터 상기 샤워해드의 외측방향으로 구부러져 상기 접촉부와 연결되는 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치.The method according to claim 1,
The fastening part of the shower head,
A protrusion bent upward from an edge of the shower head;
A contact portion which is in surface contact with the side of the backing plate perpendicularly; And
And a connecting portion which is bent from the protruding portion toward the outside of the shower head and connected to the contact portion. 제2 항에 있어서,
상기 접촉부의 내측면과 상기 백킹 플레이트의 외측면이 면 접촉되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치.The method of claim 2,
And an inner surface of the contact portion and an outer surface of the backing plate are in surface contact with each other. 제2 항에 있어서,
상기 접촉부의 외측으로부터 상기 백킹 플레이트의 측면으로 고정부재가 체결되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치.The method of claim 2,
And a fixing member is fastened from an outer side of the contact portion to a side surface of the backing plate. 제2 항에 있어서,
상기 돌출부, 상기 연결부 및 상기 접촉부는 상기 샤워해드와 일체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치.The method of claim 2,
And the protrusion, the connection part, and the contact part are integrally formed with the shower head. 제2 항에 있어서,
상기 백킹 플레이트는 단차구조의 측면에 있어서, 상기 접촉부와 면 접촉되는 제1 측면, 상기 연결부와 면 접촉되는 제2 측면을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치.The method of claim 2,
And the backing plate has a first side surface in contact with the contact portion and a second side surface in contact with the connection portion at a side surface of the stepped structure. 제2 항에 있어서,
상기 돌출부는 상기 백킹 플레이트의 측면으로부터 일정 간격 이격된 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치.The method of claim 2,
And the protrusion is spaced apart from the side surface of the backing plate by a predetermined interval. 제1 항에 있어서,
상기 샤워해드의 체결부는 적어도 2회 이상 구부러진 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 플라즈마 강화 화학기상증착 장치.
The method according to claim 1,
Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus for a liquid crystal display device characterized in that the fastening portion of the shower head has a structure bent at least two or more times.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20160047335A (en) * 2014-10-22 2016-05-02 하나머티리얼즈(주) A Cathode Electrode for Plasma Apparatus and Preparation Method Thereof
KR101855654B1 (en) * 2016-12-23 2018-05-08 주식회사 테스 Large sized showerhead assembly
KR20190075376A (en) * 2017-12-21 2019-07-01 케이맥(주) Apparatus for measuring thin film thickness and deposition apparatus for manufacturing thin film and method for measuring thin film thickness

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