KR20120047902A - 아미노 관능성 중합체 촉매 전구체의 처리 방법 - Google Patents
아미노 관능성 중합체 촉매 전구체의 처리 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20120047902A KR20120047902A KR1020127000994A KR20127000994A KR20120047902A KR 20120047902 A KR20120047902 A KR 20120047902A KR 1020127000994 A KR1020127000994 A KR 1020127000994A KR 20127000994 A KR20127000994 A KR 20127000994A KR 20120047902 A KR20120047902 A KR 20120047902A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- catalyst
- catalyst precursor
- reduced pressure
- process according
- water
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 71
- 239000012018 catalyst precursor Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 title 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 104
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 42
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 claims abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 17
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 239000003570 air Substances 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 15
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 11
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 9
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003109 Karl Fischer titration Methods 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 7
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 7
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 210000000416 exudates and transudate Anatomy 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 description 1
- ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 2-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CC=N1 ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M Formate Chemical compound [O-]C=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005902 aminomethylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical class [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
- B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
- B01J31/06—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides containing polymers
- B01J31/08—Ion-exchange resins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/08—Heat treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J41/00—Anion exchange; Use of material as anion exchangers; Treatment of material for improving the anion exchange properties
- B01J41/04—Processes using organic exchangers
- B01J41/07—Processes using organic exchangers in the weakly basic form
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/08—Compounds containing halogen
- C01B33/107—Halogenated silanes
- C01B33/10773—Halogenated silanes obtained by disproportionation and molecular rearrangement of halogenated silanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/125—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving both Si-C and Si-halogen linkages, the Si-C and Si-halogen linkages can be to the same or to different Si atoms, e.g. redistribution reactions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J41/00—Anion exchange; Use of material as anion exchangers; Treatment of material for improving the anion exchange properties
- B01J41/04—Processes using organic exchangers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/10—Process efficiency
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
본 발명은 높은 수분 함량을 갖는 아미노-관능성 중합체 촉매 전구체를 그의 내부 다공성 구조 및 외부 구형을 유지하면서, 온화한 온도에서 저압 하에 처리함으로써 촉매를 형성하는 방법에 관한 것이며, 여기서 제조된 촉매 전구체는 2.5 중량% 미만의 수분 함량을 갖는다. 상기 방법은 바람직하게는 디클로로실란, 모노실란, 실란, 또는 실란으로부터의 솔라 또는 반도체 규소를 제조하기 위한 산업적 규모의 방법에 통합된다.
Description
본 발명은 실질적으로 수분-함유 아미노-관능성 중합체 촉매 전구체를 그의 내부 다공성 구조 및 그의 외부 구형을 유지하면서 처리하여 촉매를 형성하는 방법에 관한 것이며, 여기서 촉매 전구체는 온화한 온도에서 감압 하에 처리되어 2.5 중량% 미만의 수분 함량을 갖는 촉매가 제조된다. 상기 방법은 바람직하게는 디클로로실란, 모노클로로실란, 모노실란 또는 모노실란 (SiH4)으로부터의 초순수 규소를 제조하기 위한 산업적 규모의 방법으로 통합된다.
트리클로로실란 (TCS, HSiCl3)으로부터 모노실란 (SiH4), 모노클로로실란 (ClSiH3) 및 또한 디클로로실란 (DCS, H2SiCl2)을 제조하기 위한 특히 경제적인 방법은, 사염화규소 (STC, SiCl4) 공동생성물이 함께 형성되는 불균화 반응인 것이 밝혀졌다. 보다 고도로 염소화된 실란, 일반적으로 트리클로로실란으로부터 보다 덜 염소화된 실란, 예컨대 모노실란, 모노클로로실란 또는 디클로로실란을 제조하기 위한 불균화 반응은 화학 평형을 보다 빠르게 확립하는 촉매의 존재 하에 수행된다. 이는 불균화 또는 불균등화 반응으로 공지된, 일반적으로 하기 반응식 1에 따른 두 실란 분자 간의 수소 및 염소 원자의 교환을 포함한다. 여기서 x는 0 내지 3의 값이고 y는 1 내지 4의 값으로 가정할 수 있되, 규소 원자는 4가이다.
<반응식 1>
트리클로로실란을 적합한 촉매 상에서 불균등화시키는 것이 통상적이다. 사용되는 대부분의 촉매는 2급 또는 3급 아민 또는 4급 암모늄 염이다.
촉매를 사용할 때 중요한 것은 원하지 않는 부산물의 형성 및 오염물의 유입을 피하는 것이다. 이는 초순수 규소를 실란으로부터 분리하는 경우에 훨씬 더 중요하다. 이 경우에, 심지어 질량 ppb 내지 ppt 범위의 불순물도 문제가 된다.
수개의 연속 반응의 조합은 3 단계의 불균화에 의해 - 트리클로로실란에서 모노클로로실란을 통해 디클로로실란으로 진행되고 최종적으로 사염화규소와 함께 모노실란을 형성하여, 모노실란의 제조를 가능하게 한다. 반응 및 분리의 가장 가능한 통합은 반응성 정류에 의해 제공된다. 불균화 반응은, 전체적인 공정에서의 전환이 최종 완료에 이르게 하기 위해 전환되지 반응물로부터의 반응 생성물의 제거가 요구되는, 즉 전환이 화학 평형에 의해 제한되는 반응이다.
전형적으로, 상업적 촉매는 촉매를 그의 활성 형태로 전환시키기 위해 처리된다. 이는 수소 스파징 또는 촉매 활성 부위의 전자 환경의 변화에 의해, 예를 들어 산화 또는 환원에 의해 달성될 수 있다. 수분-민감성 화합물의 촉매작용을 위한 촉매로서 수분함유 물질을 사용하는 경우에, 물은 유리하게는 가수분해를 방지하기 위해 제거된다. 이러한 경우에서 촉매 활성은 또한 빈번히 시스템의 수분 함량으로 인해 피해를 입을 수 있다.
보통 수소 결합의 형성에 의해 촉매와 강하게 결합된 물을 제거하기 위해, 이는 전형적으로 다른 극성 비양성자성 또는 극성 양성자성 용매에 의해 치환된다. 사용되는 용매는 보통 유기 물질, 예컨대 알콜 또는 케톤이며, 이는 또한 보통 촉매의 사용 전에 후속 공정 단계에서 다시 제거되어야 한다. 이러한 방법은 많은 단계를 가지고 있고, 결과적으로 수고롭다는 단점을 갖는다. 언급된 경우에서, 용매 및 대체되는 물의 다량의 혼합물이 추가적으로 생성되고, 이는 불편하고 고비용의 방식으로 후처리되어야 한다.
DE 100 57 521 A1은 스티렌-디비닐벤젠 공중합체의 직접 아미노메틸화에 의해 제조된, 3급 아민 기를 갖는 디비닐벤젠-가교된 폴리스티렌 수지를 포함하는 불균화 촉매를 개시한다. 이 촉매는 우선 고순도 물로, 이어서 메탄올, 특히 비등하는 메탄올로 세척된다. 후속적으로, 촉매는 달리 명시되지 않는 한, 가열, 진공화 또는 스트리핑에 의하여 메탄올 잔기가 제거된다.
본 발명의 목적은 상기 언급된 단점을 피하는 촉매 제조를 위한 대안적이고 보다 생태학적인 방법을 개발하는 것이다. 보다 바람직하게는, 이에 따라 제조된 촉매는, 초고순도 할로실란을 특히 이들 할로실란을 분해하거나 오염시키는 것 없이 불균화시키기 위한 방법에서 사용가능할 것이다.
상기 목적은 특허청구범위 제1항의 특징을 갖는 방법 및 제17항의 특징에 따른 용도에 의해 달성된다. 특히 바람직한 실시양태는 종속항에서 및 상세한 설명에 기재된다.
놀랍게도, 본 발명에 따른 방법은 심지어 다공성 수분-함유 아미노-관능성 유기 중합체 촉매 전구체를 감압 하에 200℃ 미만, 바람직하게는 150℃ 미만의 온도 범위에서 특히 용매-비함유 방법으로 처리하여, 구조 및 촉매 활성 및/또는 촉매 활성의 활성화를 유지하면서 촉매를 형성하고; 보다 특히 실질적으로 무수 촉매를 제공한다는 것을 발견하였다. 본 발명의 처리에 의해, 전구체의 다공성 내부 구조 및/또는 외부 형상이 촉매에서 보존된다. 이 방법으로 처리된 촉매의 촉매 활성 및 유효 수명은 산업적 규모의 보다 고도의 할로실란의 불균화에서 매우 적합하다.
일반적으로, 모든 아미노-관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체는 본 발명에 따른 방법에 의해 촉매 전구체로서 처리될 수 있다. 바람직하게는 할로실란을 위한 불균화 촉매로서 적합하도록 하기 위해, 디알킬아미노- 또는 디알킬아미노메틸-관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체 또는 트리알킬암모늄- 또는 트리알킬암모니오메틸렌-관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체를 본 발명에 따른 방법에 의해 처리하는 것이 바람직하다.
하기 화학식은 상기 언급된 관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체의 구조를 이상적 형태로 예시한다:
디알킬아미노-관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체,
디알킬아미노메틸렌-관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체,
트리알킬암모늄-관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체
및
트리알킬암모니오메틸렌-관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체,
상기 식에서, R'은 중합체 지지체, 특히 디비닐벤젠-가교된 폴리스티렌, 즉 디비닐벤젠-스티렌 공중합체이고, 알킬은 독립적으로 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸 또는 i-부틸이고, A-는 독립적으로 음이온, 예를 들어 그러나 전적으로 OH- (히드록실), Cl- (클로라이드), CH3COO- (아세테이트) 또는 HCOO- (포르메이트)의 군으로부터의 음이온, 특히 OH-이다.
언급된 디메틸아미노-관능화된 디비닐벤젠-가교된 폴리스티렌 수지 뿐만 아니라, 본 발명에 따른 방법에 의해 3급 및/또는 4급 아미노 기로 관능화된 디비닐벤젠-가교된 다공성 폴리스티렌 수지를 건조시키는 것이 또한 가능하다. 유사하게 바람직한 촉매 전구체는 아미노, 피리딘, 피라진, 페나진, 아크리딘, 퀴놀린 또는 페난트롤린 기와 함께 중합 또는 공중합에 의해 제조된 질소-함유 염기성 루이스 화합물, 및 높은 비표면적을 갖는 화합물, 예를 들어 분자체, 중합체-개질된 분자체 또는 비닐 수지를 포함한다. 폴리-아미노-관능화된 다공성 중합체, 특히 비닐피리딘 중합체 (폴리비닐피리딘) 또는 비닐피리딘 공중합체, 예컨대 비닐피리딘 및 스티렌 또는 디비닐벤젠과의 공중합체가 바람직하다. 비닐피리딘 함량은 유리하게는 우세하다.
본 발명에 따른 방법이 촉매 전구체로서 3급 아미노 기를 갖는 디비닐벤젠-가교된 폴리스티렌 수지, 예컨대 앰버리스트(Amberlyst)® A 21, 수지의 중합체 백본 상에 디메틸아미노 기를 갖는 디비닐벤젠-가교된 폴리스티렌 수지를 기재로 하는 이온 교환 수지에 특히 적합하다는 것을 발견하였다. 또한 이 방법으로, 4급 트리메틸암모늄-관능화된 디비닐벤젠-스티렌 공중합체를 기재로 하고 고도의 다공성 구조를 갖는 앰버리스트® A 26 OH를 처리하는 것이 가능하다. 촉매의 평균 입자 직경은 전형적으로 0.5 내지 0.6 mm이다.
앰버리스트® A 21의 경우에서와 같이, 다공성 내지 거대다공성 촉매 전구체의 캐비티 (200 옹스트롬 초과의 기공 직경) 내에 쉽게 휘발되거나 어렵게 휘발되는 물질, 예컨대 물이 다량 포함되어 존재하는 경우에도, 감압 - 진공과 동의임 - 하에 임의로 200℃ 미만까지의 온화한 열 처리로 촉매 전구체를 처리함으로써 촉매를 제조할 수 있다. 150℃ 미만에서 처리하는 것이 바람직하다. 이에 따라 제조된 촉매는 구조를 유지하면서, 즉 내부 및/또는 외부 구조 또는 형태학 및 활성화시키고자 하는 촉매 전구체의 특성을 유지하면서 수득된다.
난휘발성 물질, 예컨대 물의 실질적으로 완전한 제거를 위해서는 촉매 전구체의 순수한 열 처리가 필수적이라는 것을 발견하였다. 보통 사용되는 활성 부위 및 유기 지지체 물질, 예컨대 디비닐벤젠-스티렌 공중합체, 조질의 촉매 또는 촉매 전구체는 실시예에 나타낸 바와 같이, 오랜 시간에 걸쳐서 고온에 노출될 때 구조적 변형 및/또는 분해를 겪지 않을 수 없다.
할로실란의 불균화를 위한 촉매는, 실란의 발화성으로 인한 안전성의 이유 때문에 그리고 실란의 오염 방지를 위해 산소와의 접촉을 방지하는 것이 추가로 필요하다. 물과 실란의 접촉은 또한 촉매 활성을 손상시킬 수 있는 문제가 되는 고체 이산화규소 침착물을 초래할 수 있다.
따라서 본 발명은, 수분-함유 아미노-관능성 유기 중합체 촉매 전구체를 200℃ 미만에서 감압 (즉, 표준압 또는 주위 압력에 비해 감소된 압력) 하에 처리함으로써 바람직하게는 2.5 중량% 미만의 수분 함량을 갖는, 보다 바람직하게는 0.00001 중량% 내지 2 중량% 범위의 수분 함량을 갖는 촉매를 수득하는, 수분-함유 아미노-관능성 유기 중합체 촉매 전구체, 특히 용매-비함유 촉매 전구체를 처리하여 촉매를 형성하기 위한 방법을 제공한다. 본 발명에 따라, "유기"는 적어도 부분적으로 유기 화합물을 포함하는 촉매 전구체를 의미하는 것으로 해석한다. 이들은 일반적으로 아미노-관능화된 중합체 또는 공중합체이다.
수분-함유 촉매 전구체를 건조 기체 또는 기체 혼합물 하에 감압 하에 처리하는 것이 특히 바람직하다. 전형적으로, 공기 또는 불활성 기체가 사용될 수 있으며, 그의 잔류 수분 함량은 바람직하게는 (질량 기준으로) 1000 ppm 미만, 예를 들어 1000 ppm 내지 0.01 ppt, 특히 200 ppm 미만, 보다 바람직하게는 50 ppm 미만, 특히 바람직하게는 5 ppm 미만의 범위이다.
촉매 전구체의 최적 처리를 위해, 처리를 유동 기체 또는 기체 혼합물 하에, 바람직하게는 불활성 기체 분위기 하에, 특히 유동 불활성 기체 분위기 하에 감압 하에 수행한다. 기체 유동 또는 불활성 기체 유동은 바람직하게는 0.0001 내지 10 m3/h, 보다 바람직하게는 0.0001 내지 1.5 m3/h의 범위일 수 있으며, 약 0.5 내지 1.25 m3/h의 값이 산업적 규모에 바람직할 수 있다.
본 발명은 보다 특히, 실질적으로 수분-함유 아미노-관능성 촉매 전구체를 그의 내부 및/또는 외부 구조, 특히 내부 그의 다공성 구조 및 외부 형상을 유지하면서, 온화한 온도에서 감압 하에 처리함으로써 실질적으로 무수 촉매, 특히 2.5 중량% 미만, 바람직하게는 0.00001 중량% 내지 2 중량%의 수분 함량을 갖는 촉매를 제조하는, 실질적으로 수분-함유 아미노-관능성 촉매 전구체를 처리하여 촉매를 형성하는 방법에 관한 것이다. 100℃ 미만에서 0.001 내지 100 mbar의 범위, 바람직하게는 0.001 내지 70 mbar의 범위의 압력에서 처리하는 것이 바람직하다. 측정할 수 있는 수분 함량의 변화의 범위는 +/- 0.3 중량%일 수 있다.
수분 함량은 예를 들어, 칼 피셔(Karl Fischer) (칼 피셔 적정, DIN 5 777)에 따라 측정할 수 있다. 본 발명에 따른 방법에 의해 확립될 수 있는 아미노-관능성 촉매의 수분 함량은 유리하게는 0 (즉, KF에 의해 측정할 수 없음) 내지 2.5 중량%의 범위, 특히 0.0001 내지 2 중량%의 범위, 바람직하게는 0.001 내지 1.8 중량%의 범위, 보다 바람직하게는 0.001 내지 1.0 중량%의 범위, 추가로 바람직하게는 0.001 내지 0.8 중량%의 범위, 보다 더 바람직하게는 0.001 내지 0.5 중량%, 0.001 내지 0.4 중량% 또는 0.0001 중량% 내지 0.3 중량%의 범위이다. 동시에, 본 발명의 공정 단계의 조합은 유기 용매의 사용을 피하면서 촉매의 구조를 유지하도록 한다.
방법은 바람직하게는 산업적 규모의 방법이고, 바람직하게는 디클로로실란, 실란, 및 실란으로부터의 솔라 또는 반도체 규소의 제조를 위한 산업적 규모의 방법에 할당되거나 또는 이에 통합된다. 일반적으로, 방법은 촉매 유효 수명의 사이클에서의 회분식 공정으로 언급된 방법에 배치될 수 있다.
실질적으로 수분-함유 아미노-관능성 촉매 전구체는 일반적으로 그의 총 중량에 대해 10 중량% 초과의 물을 함유한다. 수분 함량은 특히 물-세척되고 임의로 여과되는 촉매 전구체의 경우에, 60 중량% 이하일 수 있다. 처리 전에, 물, 특히 탈염수 또는 탈이온수로 예를 들어 압력 세척에 의해 수분-함유 촉매 전구체를 세척하는 것이 바람직할 수 있다. 용매에 의한 물의 대체가 바람직하게는 본 발명에 따른 방법에서 생략될 수 있다.
유사하게, 수분-함유 아미노-관능성 촉매 전구체는 또한 예를 들어 그의 오염 프로파일로 인해 고순도 실란을 제조하거나 불균화시키기 위한 방법에 사용할 수 없는 조질의 촉매로부터 본 발명의 처리 전에 물로 세척함으로써 실제로 형성될 수 있다. 이는 할로실란을 보다 덜 할로겐화된 실란 또는 모노실란으로 불균화시키는 경우에, 특히 솔라 또는 반도체 규소의 제조를 위한 출발 물질로서 특히 적절하다.
본원을 위해, 조질의 촉매를 증류수, 2차 증류수, 바람직하게는 고순도 탈이온수로 세척하고, 이에 따라 촉매 전구체로서 존재한다. 전구체의 수분 함량은, 그 측정의 결과에서, 총 중량에 대하여 현저하게 10 중량% 초과, 특히 80 중량% 이하일 수 있다. 일반적으로, 수분 함량은 총 중량에 대하여 약 30 내지 70 중량%, 바람직하게는 약 45 내지 60 중량%이다.
이러한 높은 수분 함량의 촉매 전구체가 주어지는 경우, 열적으로 민감한 아미노-관능성 촉매 전구체를 산업적 규모에서 분해 또는 촉매 활성의 손상 없이 건조시켜 바람직하게는 언급된 불균등화에 적합한 촉매를 수득하기 위해 건조 공정의 세심한 조정이 필수적이다. 촉매 전구체의 처리에서 매우 문제가 되는 인자는 촉매 전구체의 처리 과정 중의 분해 반응, 변환 또는 삼출이다.
물-세척되거나 처리되지 않은 촉매 전구체가 본 발명에 따른 방법에서 실질적으로 용매-비함유 형태로 사용되는 것이 또한 바람직하다. 촉매 전구체는 전구체 또는 조질의 촉매가 추가로 용매, 또는 알콜과 같은 용매를 포함하는 혼합물로 처리되지 않았을 경우에 실질적으로 용매-비함유 간주된다.
한 별법에서, 촉매를 제조하기 위한 바람직한 방법은 1) 촉매 전구체 또는 조질의 촉매를 물로 세척하여 촉매 전구체를 형성하는 단계, 특히 통상적인 상업적 촉매, 바람직하게는 아미노-관능성 촉매를 바람직하게는 증류수, 보다 바람직하게는 고순도 탈이온수로 세척하는 단계; 2) 수분-함유 촉매 전구체를 추가적 처리 없이 임의로 온도를 특히 200℃ 이하의 온도 범위에서 조절하면서 감압 또는 진공을 적용함으로써 촉매를 형성하는 단계; 및 임의로 3) 불활성 기체 또는 건조 공기를 사용하여 진공을 파괴하는 단계를 포함하며; 촉매는 단계 2) 또는 3) 이후에 수득된다. 추가적 단계에서, 촉매는 불균화를 위한 할로실란과 접촉할 수 있다. 적용된 진공 하에 온도 조절은 바람직하게는 처리 동안 15℃ 내지 200℃의 온도 범위를 보장한다. 전구체는 바람직하게는 진공 하에 승온, 보다 바람직하게는 150℃ 미만에서 처리된다. 한 별법에서, 방법은 또한 단계 1) 없이 수행될 수 있다.
방법의 특히 유리한 실시양태에서, 촉매는 아미노-관능성 다공성 수분-함유 촉매 전구체를, 임의로 실질적으로 내부 및/또는 외부 구조를 유지하면서 처리함으로써 제조된다. 전구체의 수분 함량은 60 중량% 이하일 수 있다. 보다 특히, 다공성 구조 및/또는 외부 구조, 바람직하게는 내부 및/또는 외부 구조 또는 형상, 특히 촉매 (전구체)의 표면은 물의 제거 후 실질적으로 보존된다.
구조, 특히 다공성 내부 구조 및 또한 외부 형상의 유지는 촉매의 활성 및 반응기의 매우 긴 사용 수명을 위해 필수적이다. 활성 부위의 접근성이 촉매 활성을 위해 보장되어야 하고, 통과하거나 주변으로 흐르는 반응물 유체, 즉 액체 또는 기체상 물질의 우수한 흐름이 보장되어야 한다. 촉매의 활성 부위는 전환하고자 하는 활성인 물질과 접근할 수 있도록 유지된다. 어떠한 경우에도 촉매 전구체의 구조의 붕괴 또는 열적으로 민감한 물질의 분해를 피해야 한다. 촉매 전구체의 통상적인 순수한 열 건조의 경우에, 구조는 처리 중에 변형되고; 보다 특히, 결정질 물질의 삼출로 인해 다공성 구조가 막히게 된다는 것을 발견하였다. 이는 순수한 열 건조 후의 도 3 및 4의 미립자 촉매의 외측 표면 상의 특히 결정질 침착물에 의해, 또는 대체적으로 침착물에 의해 시각적으로 명백해진다.
불활성 기체, 특히 질소, 아르곤 또는 헬륨을 사용한 감압 또는 진공의 제거는 촉매가 실질적으로 산소-비함유 방법으로 제조되도록 한다. 활성 부위의 부분 산화는 촉매 활성을 손상시킬 수 있고, 상기 기재된 바와 같이 모노실란의 제조에서 안전성 위험이 있을 수 있다. 이는 특히 고순도 할로실란의 불균화에 실제로 사용 가능한 촉매의 제조를 위한 앰버리스트® A 21에서 사실이다.
고순도 할로실란은 그의 모든 오염물, 특히 모든 소위 "금속성" 오염물의 합으로서의 오염 프로파일이 1 ppm 미만 내지 0.0001 ppt, 바람직하게는 100 ppb 내지 0.0001 ppt, 보다 바람직하게는 10 ppb 내지 0.0001 ppt, 보다 더 바람직하게는 1 ppb 내지 0.0001 ppt (질량 기준)인 것을 의미하는 것으로 해석된다. 일반적으로, 이러한 오염 프로파일은 원소 철, 붕소, 인 및 알루미늄에 대해 바람직하다.
따라서 감압 하에 촉매 전구체의 처리를 위한 방법은 또한 건조 공기 또는 불활성 기체, 특히 건조 불활성 기체와 같은 기체 또는 기체 혼합물을 사용하여 진공을 깨뜨리는 것을 포함한다. 한 방법 변형에서, 촉매 전구체는 감압의 확립 전에도 불활성 기체 하에 저장될 수 있다. 불활성 기체 스트림을 촉매 전구체 상으로 통과시키고 이어서 감압을 확립하는 것이 바람직하다.
촉매 전구체, 촉매 또는 그 둘의 혼합물을 처리 중에 교반시키는 것이 특히 유리하다.
본 발명의 처리 후, 촉매를 특히 실온에서 할로실란과 접촉시킬 수 있다. 본 발명에 따르면, 본 발명의 방법에 의해 제조되거나 수득될 수 있는 촉매는 화학식 I의 수소- 및 할로겐-함유 규소 화합물, 특히 고순도 할로실란 HnSimX(2m+2-n) (I) (여기서, X는 독립적으로 불소, 염소, 브롬 및/또는 요오드이고, n 및 m은 각각 1 ≤ n < (2m + 2) 및 1 ≤ m ≤ 12인 정수임)을 불균화시키는데 적합하다. X가 염소인 경우에, m은 바람직하게는 1 또는 2이고, 보다 바람직하게는 1이다. 따라서 촉매는 보다 바람직하게는 HSiCl3, H2SiCl2, H3SiCl 또는 그 중 둘 이상을 함유하는 혼합물을 불균화시키는데 적합하다.
촉매 전구체는 바람직하게는 -196℃ 내지 200℃, 특히 15℃ 내지 175℃, 바람직하게는 15℃ 내지 150℃에, 보다 바람직하게는 20℃ 내지 135℃, 보다 더 바람직하게는 20℃ 내지 110℃의 온도 범위 내에서 처리되며, 여기서 20℃ 내지 95℃의 온도 범위가 특히 바람직하다. 전형적으로, 처리는 각 경우에 60℃ 내지 140℃, 특히 60℃ 내지 95℃, 즉 특히 60, 65, 70, 75, 80, 85, 90, 95℃ 및 또한 모든 중간 온도 값의 온도 범위에서 온도의 확립 후에 바람직하게는 감압 하에 임의로 촉매 전구체 또는 촉매 및 전구체의 생성된 혼합물의 교반과 함께 수행된다.
처리를 감압 하에 0.0001 mbar 내지 1012 mbar (절대압 mbar)의 범위에서 수행하는 것이 바람직하다. 보다 특히, 감압은 0.005 mbar 내지 800 mbar의 범위, 바람직하게는 0.01 mbar 내지 600 mbar의 범위, 보다 바람직하게는 0.05 내지 400 mbar의 범위, 추가로 바람직하게는 0.05 mbar 내지 200 mbar의 범위, 보다 유리하게는 0.05 mbar 내지 100 mbar의 범위, 특히 0.1 mbar 내지 80 mbar의 범위, 보다 특히 0.1 mbar 내지 50 mbar의 범위, 보다 더 특히 0.001 내지 5 mbar의 범위이고; 압력은 보다 더 바람직하게는 1 mbar 미만이다. 승온에서, 특히 15℃ 내지 180℃, 보다 바람직하게는 20℃ 내지 150℃의 범위에서 50 mbar 내지 200 mbar의 범위에서, 바람직하게는 1 mbar 내지 50 mbar 미만까지로의 감압 또는 진공을 확립하는 것이 바람직하다.
아미노-관능성 수분-함유 촉매 전구체의 경우, 50 mbar 내지 200 mbar에서 1 mbar 미만까지의 감압 하에 80℃ 내지 140℃의 온도 범위 내에서의 처리는 구조의 유지와 동시에 2 중량% 미만, 바람직하게는 0.8 중량% 미만 내지 0.5 중량% 미만까지의 수분 함량의 확립에 대해 특히 유리한 것으로 밝혀졌다. 또한, 이러한 조건 하에, 건조는 산업적 규모에서 허용가능한 공정 기간 내에서 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 방법의 추가적 특정 이점은 산업적 규모에서도 활성화시키고자 하는 촉매 전구체의 구조의 유지를 보장하는 것이다. 유리하게는, 공정 배치당 1 kg 내지 10 t, 특히 1 내지 1000 kg, 바람직하게는 10 내지 500 kg의 촉매 전구체는 어떠한 심각한 구조적인 변화 또는 분해를 겪지 않고도 건조될 수 있다.
본 발명에 따른 방법을 수행하기 위해, 처리는 기구를 충전하고 임의로는 비우기 위한 장치 및 액체 또는 기체상 물질을 제거하기 위한 장치를 갖는 수용기, 특히 반응기, 용기 또는 컨테이너를 포함하는 기구에서 수행될 수 있다. 기구를 충전하고 임의로는 비우기 위한 장치를 사용하여, 촉매 전구체를 도입할 수 있고, 반응물을 회분식 또는 연속식으로 첨가할 수 있고, 사용한 촉매를 이후에 제거할 수 있다. 본 발명에 따라, 기구는 상기에 기재된 감압 하에, 표준압 하에 또는 승압 하에 작동시키기에 적합하다. 또한, 바람직하게는 컨테이너에 가열 및/또는 냉각 기구가 배정된다. 유리하게는, 컨테이너에 교반기 기구가 배정되고/거나 컨테이너가 회전가능하다. 기구는 또한 불활성 기체 공급기를 갖는다. 본 발명에 따른 방법을 수행하기 위한 특히 바람직한 기구는 진공 시스템, 가열 및/또는 냉각 기구 및 불활성 기체 공급기가 배정된 패들 건조기, 필터 건조기 또는 교반 반응기를 포함한다.
본 발명은 또한 수분-함유 아미노-관능화된 촉매 전구체로부터 촉매를 제조하기 위한, 진공 시스템, 가열 및/또는 냉각 기구 및 불활성 기체 공급기가 배정된 패들 건조기, 필터 건조기 또는 교반 반응기의 용도를 제공한다.
본 발명은 마찬가지로 클로로실란을 불균화시키기 위한, 특히 보다 고도로 치환된 클로로실란으로부터 디클로로실란, 모노클로로실란 또는 모노실란을 제조하기 위한, 본 발명에 따른 방법에 의해 제조된 촉매의 용도를 제공한다. 제조된 촉매는 바람직하게는 (i) 트리클로로실란을 불균화시켜 모노실란, 모노클로로실란, 디클로로실란 및 테트라클로로실란 또는 언급된 화합물 중 둘 이상을 포함하는 혼합물을 수득하는데 사용되거나, 또는 (ii) 디클로로실란을 불균화시켜 모노실란, 모노클로로실란, 트리클로로실란 및 사염화규소 또는 언급된 화합물 중 둘 이상의 혼합물을 수득하는데 사용될 수 있다.
하기 실시예는 본 발명에 따른 방법을 그에 제한함 없이 예시한다. 도 1 내지 5는 이후 기재되는 처리 방법 전 및 후의 앰버리스트® A 21 (대략 25 m2/g, 평균 기공 직경 400 옹스트롬)의 특성 및 형태적 특징에서의 시각적 변화를 보여준다.
도 1: 130℃ 및 10 내지 20 mbar에서 5 시간 동안 건조시킨 후의 촉매 (500 μm를 표시함).
도 2: 비건조된 촉매 (500 μm를 표시함).
도 3: 삼출물이 있는, 175℃에서 5 시간 동안 건조시킨 후의 촉매 (500 μm를 표시함).
도 4: 결정질 삼출물이 있는, 250℃에서 5 시간 동안 건조시킨 후의 촉매 (500 μm를 표시함).
도 5: 비건조된 촉매 (보다 큰 해상도; 500 μm를 표시함).
실시예 시리즈 1
실시예 1.1
대략 55 중량%의 출발 수분 함량을 갖는 앰버리스트® A21 (롬 하스(Rohm Haas)) 80.1 g을 재킷이 있는 코일 응축기 및 교반기가 장치된 500 ml 4구 플라스크에 칭량하였다. 오일조에서 약 95℃ 포트 온도 및 1 mbar 미만의 압력 (회전 베인 펌프)에서 8시간에 걸쳐 건조를 수행하였다. 이후 건조 질소에 노출시키고 주위 온도로 냉각시켰다. 건조된 촉매의 수분 함량을 칼 피셔 적정 (DIN 51 777)에 의해 측정하였으며, 0.3 중량%이었다.
촉매의 성능 시험: 건조된 촉매 29.1 g을 응축기 및 기체 유출구를 갖는 플라스크에서 트리클로로실란 (GC > 99.9%) 250 ml으로 뒤덮히도록 하고, 5시간 후 GC를 위해 샘플을 취하였다. 트리클로로실란 87.8 (GC%) 뿐만 아니라, 사염화규소 및 쉽게 휘발되는 디클로로실란 및 모노클로로실란 반응 생성물 (혼합물에 용해됨)이 존재하였다.
비교 실시예 1.2
대략 55 중량%의 출발 수분 함량을 갖는 비처리된 앰버리스트® A21 촉매의 성능 시험. 촉매 1 g을 온도계, 응축기 및 기체 유출구를 갖는 플라스크에 초기에 충전하고, 사염화규소 10 ml를 25 ml 적하 깔때기를 사용하여 계량 첨가하였다. 강한 반응이 즉시 일어났으며, 이는 물과 사염화규소의 반응이 종료될 때까지 24℃에서 37℃까지의 온도 증가 및 HCl 미스트의 형성을 동반하였다. 반응 혼합물의 분석은 다양한 실록산 및 실리카 침착물까지 포함하는 축합 생성물이 형성된다는 것을 보여주었다. 그의 원래 형태에서, 촉매는 가수분해-민감성 물질, 예를 들어 트리클로로실란의 전환에 부적합하였다.
실시예 시리즈 2
실시예 1.1, 3.1, 3.2, 3.3, 4.1, 4.2 및 4.3의 기재에 따라 제조된 촉매를 그의 촉매 활성에 대해 조사하였다.
이를 위해, 적하 깔때기, 내부 온도계, 샘플링을 위한 격막 및 기체 유출구를 갖는 250 cm3 4구 플라스크를 초기에 특정 촉매 20 g로 충전하고, 트리클로로실란 (TCS) 100 g을 수조에서 자기 교반기에 의해 일정하게 교반시키면서 30-31℃에서 빠르게 첨가하였다. 주어진 측정 시간 후, 샘플을 GC 주사기를 사용하여 격막을 통해 취하고, GC를 사용하여 불균화 생성물의 형성, 특히 난휘발성 사염화규소 (SiCl4)의 형성에 대해 분석하였다.
(형성된 모노실란을 포함하여) 기체 출구를 통하여 빠져나온 기체상 생성물을 나트륨 메톡시드 용액에 도입하였다.
기재 1.1, 3.2, 3.3, 4.1에 따라 제조된 촉매는 모두 비교적 높은 불균화 활성을 나타내었다. 3.1에 따라 제조된 촉매는 적당한 불균화 활성을 나타내었고, 4.2 및 4.3에 따른 촉매는 낮은 촉매 활성만을 나타내었고, 4.3에 따른 촉매는 가장 낮은 활성을 나타내었다.
실시예 시리즈 3
시험을 위한 일반적 절차: 2 l 둥근 플라스크를 각각의 실시예에 기재된 절차에 의해 건조된 앰버리스트® A 21 촉매 300 g로 초기에 충전하고 (플라스크 부피의 대략 50%), 이어서 SiCl4 1500 g을 1분 이내에 적하 깔때기를 통해 첨가하였다. 온도 프로파일을 온도계를 사용하여 모니터링하였다.
실시예 3.1
대략 55 중량%의 출발 수분 함량을 갖는 비처리된 앰버리스트® A21 촉매 1 kg을 회전 증발기에서 110℃ 및 주위 압력에서 11시간에 걸쳐 건조시켰다. 수분 함량을 칼 피셔 적정 (DIN 51 777)에 의해 측정하였으며, 1.7%이었다.
SiCl4를 첨가한 경우에, 격렬한 반응이 관찰되었다. 플라스크 내용물은 110℃ 초과까지 매우 강하게 가열되었으며, 상당한 기체 발생 및 범핑을 동반하였다.
실시예 3.2
대략 55 중량%의 출발 수분 함량을 갖는 비처리된 앰버리스트® A21 촉매 350 kg을 1 m3 패들 건조기에서 90℃에서 12시간에 걸쳐 20회전/분으로 건조시켰다. 이 과정 중, 건조 질소를 1 m3/h의 유량으로 건조기 베이스를 통하여 불어 넣었으며, 진공은 60 mbar로부터 1 mbar 미만까지 점차적으로 낮추었다. 수분 함량을 칼 피셔 적정 (DIN 51 777)에 의해 측정하였으며, 0.5%이었다. SiCl4를 첨가한 경우에, 플라스크 내용물은 최대 40℃로 약간 가온되었으며, 이 과정 중 소량의 기체 발생만이 관찰되었다.
실시예 3.3
대략 55 중량%의 출발 수분 함량을 갖는 비처리된 앰버리스트® A21 촉매 350 kg를 1 m3 패들 건조기에서 130℃에서 16시간에 걸쳐서 20회전/분으로 건조시켰다. 이 과정 중, 0.5 m3/h의 유량으로 건조 질소를 사용하여, 부피가 건조된 촉매 상에 덮히도록 하였으며, 150 mbar의 진공이 확립되었다. 수분 함량을 칼 피셔 적정 (DIN 51 777)에 의해 측정하였으며, 0.4%이었다. SiCl4를 첨가한 경우에, 플라스크 내용물은 최대 38℃로 약간 가열되었으며, 이 과정 중 소량의 기체 발생만이 관찰되었다.
시험 시리즈 3의 결과: 증가된 잔류 수분 함량으로 발생하는 효과, 예컨대 사용된 클로로실란의 비점 초과로의 온도의 증가 및 기체 발생은 산업적 규모에서 큰 문제로 이어지며, 이는 촉매의 사용을 매우 제한하거나 불가능하게 한다.
실시예 시리즈 4
실시예 4.1
형태학적 연구: 대략 55 중량%의 출발 수분 함량을 갖는 비처리된 앰버리스트® A21 촉매 300 g을 회전 증발기에서 130℃ 및 20 - 10 mbar의 압력에서 5시간에 걸쳐 건조시켰다. 수분 함량을 칼 피셔 적정 (DIN 51 777)에 의해 측정하였으며, 0.5%이었다.
건조된 촉매의 샘플을 광학 현미경법에 의하여 연구하고 (도 1), 비건조된 샘플과 비교하였다 (도 2). 촉매 구체의 구형의 시각적으로 매우 매끈한 표면은 이 건조 방법의 과정 중에 변하지 않는다는 것이 명확하다. 따라서 건조된 촉매는 활성 시험에서 우수한 활성을 나타내며; 실시예 시리즈 2를 참조하기 바란다.
실시예 4.2 및 4.3
대략 55 중량%의 출발 수분 함량을 갖는 비처리된 앰버리스트® A21 촉매 300 g을 각 경우에 마를로썸(Marlotherm) 오일조를 갖는 회전 증발기에서 175℃ 또는 250℃ 및 주위 압력에서 5시간에 걸쳐 건조시켰다. 수분 함량을 칼 피셔 적정 (DIN 51 777)에 의해 측정하였으며, 1.5 또는 1.2%이었다. 175℃에서 건조된 촉매 샘플의 경우에, 결정질 외관의 경미한 삼출물이 광학 현미경으로 관찰되었다 (도 3). 250℃에서 건조된 샘플은 상당한 결정질 삼출물을 나타내었으며 (도 4), 황색빛 구체의 갈색이 진해졌다. 도 5는 비건조된 샘플의 이미지를 비교를 위해 적절한 배율로 나타낸다.
130℃ 및 20 내지 10 mbar에서 건조된 촉매와 비교하여, 고온에서 건조된 촉매는 보다 낮은 활성을 나타내었으며, 250℃에서 건조된 촉매는 가장 낮은 활성을 나타내었다.
Claims (18)
- 수분-함유 아미노-관능성 중합체 유기 촉매 전구체를 200℃ 미만에서 감압 하에 처리하여 2.5 중량% 미만의 수분 함량을 갖는 촉매를 수득하는, 수분-함유 아미노-관능성 중합체 유기 촉매 전구체를 처리하여 촉매를 형성하는 방법.
- 제1항에 있어서, 수분-함유 촉매 전구체를 감압 하에 건조 기체 또는 기체 혼합물로 처리하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 촉매 전구체가 실질적으로 용매-비함유인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 촉매 전구체를 감압 하에 처리하여 불활성 기체, 공기 또는 그의 혼합물에 의해 진공을 파괴하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 촉매 전구체, 촉매 또는 그 둘의 혼합물을 처리 중에 교반시키는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, tert-아미노-관능성 디비닐벤젠-스티렌 공중합체 또는 4급-암모늄-관능성 디비닐벤젠-스티렌 공중합체를 포함하는 아미노-관능성 다공성 수분-함유 촉매 전구체를 처리하여 촉매를 제조하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 수분-함유 촉매 전구체로부터 실질적으로 내부 및/또는 외부 구조를 유지하면서 촉매를 제조하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
1) 조질의 촉매를 물로 세척하여 촉매 전구체를 형성하는 단계,
2) 촉매 전구체를 감압 하에 200℃ 미만의 승온에서 처리하는 단계; 및 임의로
3) 불활성 기체에 의해 진공을 파괴하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 촉매가 HSiCl3, H2SiCl2, H3SiCl 또는 상기 화합물 중 둘 이상을 함유하는 혼합물을 불균화시키는데 적합한 것임을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, -196℃ 내지 175℃의 온도 범위에서 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 감압이 0.001 mbar 내지 1012 mbar인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 기구를 충전하고 임의로는 비우기 위한 장치 및 액체 또는 기체상 물질을 제거하기 위한 장치를 갖는 용기를 포함하는 기구에서 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제12항에 있어서, 용기에 가열 및/또는 냉각 기구가 배정되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제10항 또는 제13항에 있어서, 기구가 승압, 표준압 및 감압 하에서의 작동에 적합한 것임을 특징으로 하는 방법.
- 제10항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 용기에 교반기 기구가 배정되고/거나 용기가 회전가능한 것임을 특징으로 하는 방법.
- 제10항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 기구가 진공 시스템, 가열 및/또는 냉각 기구 및 불활성 기체 공급기가 배정된 패들 건조기, 필터 건조기 또는 교반 반응기를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 클로로실란을 불균화시키기 위한, 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따라 제조된 촉매의 용도.
- 제17항에 있어서, 보다 고도로 치환된 클로로실란으로부터 디클로로실란, 모노클로로실란 또는 모노실란을 제조하기 위한 용도.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102009027728.5 | 2009-07-15 | ||
| DE102009027728A DE102009027728A1 (de) | 2009-07-15 | 2009-07-15 | Verfahren zur Behandlung von Katalysator-Präkursoren |
| PCT/EP2010/056701 WO2011006694A2 (de) | 2009-07-15 | 2010-05-17 | Verfahren zur behandlung von katalysator-präkursoren |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20120047902A true KR20120047902A (ko) | 2012-05-14 |
| KR101664521B1 KR101664521B1 (ko) | 2016-10-10 |
Family
ID=43382683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020127000994A KR101664521B1 (ko) | 2009-07-15 | 2010-05-17 | 아미노 관능성 중합체 촉매 전구체의 처리 방법 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20120177557A1 (ko) |
| EP (1) | EP2454016B1 (ko) |
| JP (1) | JP5680075B2 (ko) |
| KR (1) | KR101664521B1 (ko) |
| CN (2) | CN102470355A (ko) |
| BR (1) | BR112012000964A2 (ko) |
| CA (1) | CA2767853A1 (ko) |
| DE (1) | DE102009027728A1 (ko) |
| ES (1) | ES2523899T3 (ko) |
| RU (1) | RU2012105031A (ko) |
| TW (1) | TW201114492A (ko) |
| WO (1) | WO2011006694A2 (ko) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007007874A1 (de) | 2007-02-14 | 2008-08-21 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung höherer Silane |
| DE102009053804B3 (de) | 2009-11-18 | 2011-03-17 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Hydridosilanen |
| DE102010002342A1 (de) | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Evonik Degussa GmbH, 45128 | Verwendung der spezifischen Widerstandsmessung zur indirekten Bestimmung der Reinheit von Silanen und Germanen und ein entsprechendes Verfahren |
| DE102010043648A1 (de) | 2010-11-09 | 2012-05-10 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur selektiven Spaltung höherer Silane |
| DE102011004058A1 (de) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Evonik Degussa Gmbh | Monochlorsilan, Verfahren und Vorrichtung zu dessen Herstellung |
| JP5879283B2 (ja) * | 2013-02-13 | 2016-03-08 | 信越化学工業株式会社 | トリクロロシランの製造方法 |
| JP6184898B2 (ja) * | 2014-04-15 | 2017-08-23 | 信越化学工業株式会社 | クロロシラン類、クロロシラン類の精製方法、および、シリコン結晶 |
| RU2608035C1 (ru) * | 2015-07-30 | 2017-01-12 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Ордена Трудового Красного Знамени Институт нефтехимического синтеза им. А.В. Топчиева Российской академии наук (ИНХС РАН) | Способ гидроконверсии тяжёлого углеводородного сырья (варианты) |
| CN105921175A (zh) * | 2016-04-18 | 2016-09-07 | 张玲 | 一种甲硅烷催化剂的制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4347671A (en) * | 1979-04-07 | 1982-09-07 | Kernforschungsanlage Juich, Gesellschaft mit beschrankter Haftung | Vacuum-drying method and apparatus |
| US20040030171A1 (en) * | 2000-11-21 | 2004-02-12 | Stephan Klein | Method for producing silanes |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE784818A (fr) * | 1971-06-14 | 1972-12-13 | Westinghouse Electric Corp | Etalonnage du profil de deplacement de la position d'un entrainement par moteur |
| US3928542A (en) * | 1974-04-05 | 1975-12-23 | Union Carbide Corp | Process for the preparation of anion exchange resin for use in the redistribution of chlorosilanes |
| FR2552436B1 (fr) * | 1983-09-28 | 1985-10-25 | Rhone Poulenc Spec Chim | Nouveau procede de fabrication d'hydrogeno-silanes par reaction de redistribution |
| DE3712098A1 (de) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von disproportionierungsprodukten von dichlormethylsilan in gegenwart eines katalysators |
| US5118485A (en) * | 1988-03-25 | 1992-06-02 | Hemlock Semiconductor Corporation | Recovery of lower-boiling silanes in a cvd process |
| DE10057521B4 (de) | 2000-11-21 | 2009-04-16 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Silanen |
| US20030054509A1 (en) * | 2001-04-06 | 2003-03-20 | Archer-Daniels-Midland Company | Method for producing fats or oils |
| DE102004045245B4 (de) * | 2004-09-17 | 2007-11-15 | Degussa Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Silanen |
| DE102007059170A1 (de) * | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Katalysator und Verfahren zur Dismutierung von Wasserstoff enthaltenden Halogensilanen |
| RU2011130894A (ru) * | 2008-12-25 | 2013-01-27 | Токуяма Корпорейшн | Способ получения хлорсилана |
-
2009
- 2009-07-15 DE DE102009027728A patent/DE102009027728A1/de not_active Withdrawn
-
2010
- 2010-05-17 ES ES10720757.3T patent/ES2523899T3/es active Active
- 2010-05-17 WO PCT/EP2010/056701 patent/WO2011006694A2/de active Application Filing
- 2010-05-17 RU RU2012105031/04A patent/RU2012105031A/ru not_active Application Discontinuation
- 2010-05-17 KR KR1020127000994A patent/KR101664521B1/ko active IP Right Grant
- 2010-05-17 EP EP10720757.3A patent/EP2454016B1/de not_active Not-in-force
- 2010-05-17 CN CN2010800315336A patent/CN102470355A/zh active Pending
- 2010-05-17 JP JP2012519941A patent/JP5680075B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-05-17 CN CN201610447763.XA patent/CN106076416A/zh active Pending
- 2010-05-17 BR BR112012000964A patent/BR112012000964A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2010-05-17 US US13/383,965 patent/US20120177557A1/en not_active Abandoned
- 2010-05-17 CA CA2767853A patent/CA2767853A1/en not_active Abandoned
- 2010-07-12 TW TW099122834A patent/TW201114492A/zh unknown
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4347671A (en) * | 1979-04-07 | 1982-09-07 | Kernforschungsanlage Juich, Gesellschaft mit beschrankter Haftung | Vacuum-drying method and apparatus |
| US20040030171A1 (en) * | 2000-11-21 | 2004-02-12 | Stephan Klein | Method for producing silanes |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE102009027728A1 (de) | 2011-01-20 |
| WO2011006694A3 (de) | 2011-12-01 |
| RU2012105031A (ru) | 2013-08-20 |
| BR112012000964A2 (pt) | 2016-03-15 |
| WO2011006694A2 (de) | 2011-01-20 |
| CN106076416A (zh) | 2016-11-09 |
| TW201114492A (en) | 2011-05-01 |
| EP2454016A2 (de) | 2012-05-23 |
| US20120177557A1 (en) | 2012-07-12 |
| KR101664521B1 (ko) | 2016-10-10 |
| EP2454016B1 (de) | 2014-09-17 |
| JP2012532752A (ja) | 2012-12-20 |
| CA2767853A1 (en) | 2011-01-20 |
| CN102470355A (zh) | 2012-05-23 |
| ES2523899T3 (es) | 2014-12-02 |
| JP5680075B2 (ja) | 2015-03-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101664521B1 (ko) | 아미노 관능성 중합체 촉매 전구체의 처리 방법 | |
| JP5738289B2 (ja) | ハロゲンシランを不均化するため及び異種金属を除去するための方法及びアミノ官能性樹脂の使用 | |
| RU2492924C9 (ru) | Катализатор и способ дисмутации содержащих водород галогенсиланов | |
| KR101819262B1 (ko) | 고급 실란의 선택적 분해 방법 | |
| KR20150139858A (ko) | 실란 화합물 또는 클로로실란 화합물의 정제 방법, 다결정 실리콘의 제조 방법 및 약염기성 이온 교환 수지의 재생 처리 방법 | |
| WO2011006695A1 (de) | Entfernung von fremdmetallen aus anorganischen silanen | |
| US20140017155A1 (en) | Process for preparing trichlorosilane | |
| CN112041324A (zh) | 生产卤代硅烷化合物的方法 | |
| CN115023407B (zh) | 用于从氯硅烷混合物中除去杂质的方法 | |
| CN114008056B (zh) | 通过使至少一种部分氢化的氯乙硅烷在固体非官能化吸附剂上反应来获得六氯乙硅烷的方法 | |
| Hu et al. | Formation of Nanostructured Silicas through the Fluoride Catalysed Self-Polymerization of Q-type Silsesquioxane Cages | |
| CN109021007A (zh) | 一种环境友好的二苯基二甲氧基硅烷的制备方法 | |
| KR20160143973A (ko) | 음이온 교환수지를 이용한 클로로실란의 정제방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |