KR20120046158A - Latent hardener for epoxy compositions - Google Patents

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KR20120046158A
KR20120046158A KR1020127000780A KR20127000780A KR20120046158A KR 20120046158 A KR20120046158 A KR 20120046158A KR 1020127000780 A KR1020127000780 A KR 1020127000780A KR 20127000780 A KR20127000780 A KR 20127000780A KR 20120046158 A KR20120046158 A KR 20120046158A
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Abstract

본원에서 아민, 에폭시 수지 및 엘라스토머 에폭시 부가물의 반응 생성물로 구성된 에폭시 수지용 경화제가 기술된다. 추가로 분산제로서 아민, 에폭시 수지 및 엘라스토머 에폭시 부가물의 용액을 승온에서 유기 매질 중에서 진탕시킴을 포함하는 방법이 기술된다. Described herein are curing agents for epoxy resins consisting of the reaction products of amines, epoxy resins and elastomeric epoxy adducts. Further described are methods comprising shaking a solution of an amine, an epoxy resin and an elastomeric epoxy adduct as a dispersant in an organic medium at elevated temperature.

Description

에폭시 조성물용 잠재성 하드너{Latent hardener for epoxy compositions}Latent hardener for epoxy compositions

관련 출원의 부분 연속Partial continuation of the related application

본원은 2009년 6월 12일자로 출원된 미국 가출원 제61/186,547호; 2009년 7월 2일자로 출원된 미국 출원 제12/497,040호; 2010년 3월 12일자로 출원된 미국 가출원 제61/313,199호; 및 2010년 4월 19일자로 출원된 미국 출원 제12/762,892호에 대해 우선권을 주장한다.US Provisional Application No. 61 / 186,547, filed June 12, 2009; US Application No. 12 / 497,040, filed July 2, 2009; US Provisional Application No. 61 / 313,199, filed March 12, 2010; And U.S. Application No. 12 / 762,892, filed April 19, 2010.

발명의 분야Field of invention

본 발명은 에폭시 수지용 잠재성 하드너(latent hardener) 및, 보다 특히 쉘 재료로 캡슐화되거나 피복된 코어 재료로 구성된 잠재성 하드너에 관한 것이다.
The present invention relates to latent hardeners for epoxy resins and, more particularly, to latent hardeners composed of a core material encapsulated or coated with a shell material.

에폭시 접착제는 50년 이상 동안 공지되었고, 상업화된 최초 고온 접착제 중의 하나였다. 한번 경화되면, 재료는 광범위한 온도 범위에 걸쳐 이의 접착성을 유지시키고, 고전단 강도를 갖고, 풍화작용, 오일, 용매 및 수분에 내성이다. 접착제는 일액형(1-part) 접착제 또는 이액형 접착제로서 시판되고, 수개의 형태로, 예를 들어, 페이스트, 용매 용액 및 지지 필름으로 이용가능하다. 세가지 형태 중에서, 일액형 접착제 필름은 일반적으로 보다 양호한 두께 균일성과 함께 우수한 접착 강도를 제공하고, 전자공학용 이방성 전도성 필름, 가장 현저하게는 플랫 패널 디스플레이의 개발에서 실용적인 용도가 밝혀졌다.Epoxy adhesives have been known for over 50 years and were one of the first high temperature adhesives to be commercialized. Once cured, the material maintains its adhesion over a wide range of temperatures, has high shear strength, and is resistant to weathering, oils, solvents, and moisture. Adhesives are commercially available as one-part adhesives or two-part adhesives and are available in several forms, for example as pastes, solvent solutions and support films. Among the three forms, one-part adhesive films generally provide excellent adhesive strength with better thickness uniformity, and have found practical use in the development of anisotropic conductive films, most notably flat panel displays for electronics.

일액형 접착제 필름을 구축하기 위해, 통상적으로 잠재성 하드너, 다작용성 에폭시 수지, 페녹시 수지, 첨가제 및 임의로 충전제를 한번에 배합한다. 이어서, 이 조성물은 박리 층 상의 필름으로서 캐스팅한다. 결합 공정 동안, 접착제를 하나의 특정 표면으로 옮기고, 박리 층을 제거했다. 또 다른 표면은 필름과 접촉시키고, 접착제를 열 및/또는 압력을 적용하여 강한 열경화성 접착제로 경화시킨다. 이 예에서, 재료가 열경화성 접착제로 경화되도록 할 수 있는 접착제의 두 성분은 하드너 및 다작용성 에폭시이다. 가교결합된 망상구조를 착수하는 것은 후자이지만, 이를 일어나게 하는 것은 전자이다. 경화 공정 동안, 잠재성 하드너는 먼저 에폭시 수지의 옥시란과 개환 부가물을 형성하여 다작용성 에폭시의 중합을 개시한다. 일단 생성되면, 첨가 생성물은 접착제를 통해 보급되는 개환 종의 캐스캐이드를 유발하고, 최종적으로 가교결합된 열경화성 재료를 생성한다.To build a one-component adhesive film, latent hardeners, multifunctional epoxy resins, phenoxy resins, additives and optionally fillers are typically blended in one step. This composition is then cast as a film on the release layer. During the bonding process, the adhesive was transferred to one specific surface and the release layer was removed. Another surface is in contact with the film and the adhesive is cured with a strong thermoset adhesive by applying heat and / or pressure. In this example, the two components of the adhesive that can cause the material to cure with a thermoset adhesive are a hardener and a multifunctional epoxy. It is the latter to undertake the crosslinked network, but it is the former that causes it. During the curing process, the latent hardener first forms the ring opening adduct with the oxirane of the epoxy resin to initiate the polymerization of the multifunctional epoxy. Once produced, the additive product causes a cascade of ring-opening species to spread through the adhesive, resulting in a crosslinked thermoset material.

하드너의 활성 성분은 일반적으로 아민 화합물(예를 들어, 이미다졸)과 에폭시 수지의 반응 생성물로 구성된다. 이러한 부가물은 에폭시 수지의 경화를 개시하고 가속화하는 것으로 공지되어 있다(참조: Heise, M.S.; Martin, G.C. Macromolecules, 1989, 22 99-104; Heise, M.S.; Martin, G.C. J. Poly. Sci.: Part C: Polym. Lett. 1988, 26, 153-157; Barton, J.M; Shepherd, P.M.; Die Makromolekular Chemie 1975 176, 919-930). 그러나, 이들 중 하나의 결점은 이들이 경화제(curative)로서 매우 효과적이어서 일단 첨가되면, 이들이 비교적 짧은 시간에 경화의 킥-오프(kick-off)를 개시할 것이기 때문에, 이들은 일액형 접착제에 직접 사용될 수 없다는 것이다. 하드너가 에폭시 잔기의 개환 중합을 계속 가속하기 때문에, 당업자는 접착제 및 이의 필름을 제조하려고 하지만, 당업자가 관찰하는 것은 조성물의 점도가 느리게 증가한다는 것이다. 이 현상은 가장 통상적으로 감소된 작업가능한 수명으로서 칭명되고, 즉 접착제를 조립하고 필름을 제조하는데 이용가능한 시간은 조기 경화 때문에 극적으로 감소되었다. 따라서, 이것이 일어나는 것을 정지시키기 위해, 일반적으로 아민-에폭시 부가물 자체를 하드너로 사용하지 않고, 대신 통상적으로 수행하는 것은 아민-에폭시 부가물을 접착 환경으로부터 격리시키는 재료의 보호용 쉘로 캡슐화하거나 피복시키는 것이다. 일단 접착제에 혼입되면, 아민-에폭시 부가물은 열 및/또는 압력의 인가를 통해 이의 보호용 쉘로부터 방출된다. 본원에서 기술된 상기한 잠재성 하드너는 통상 코어-쉘 잠재성 하드너로서 칭명되고, 이러한 경우 코어는 아민-에폭시 부가물이고, 쉘은 보호용 쉘이다.Hardener's active component generally consists of the reaction product of an amine compound (eg imidazole) with an epoxy resin. Such adducts are known to initiate and accelerate the curing of epoxy resins (Heise, MS; Martin, GC Macromolecules, 1989, 22 99-104; Heise, MS; Martin, GCJ Poly. Sci .: Part C) Polym. Lett. 1988, 26, 153-157; Barton, JM; Shepherd, PM; Die Makromolekular Chemie 1975 176, 919-930). However, one of the drawbacks is that they can be used directly in one-component adhesives because they are so effective as curative that once they are added they will initiate the kick-off of curing in a relatively short time. It is not. Since Hardner continues to accelerate the ring-opening polymerization of epoxy moieties, one skilled in the art would like to prepare adhesives and films thereof, but one skilled in the art observes that the viscosity of the composition increases slowly. This phenomenon is most commonly referred to as reduced workable life, ie the time available to assemble the adhesive and make the film has been dramatically reduced because of premature curing. Thus, in order to stop this from happening, in general, the amine-epoxy adduct itself is not used as a hardener, but instead is usually done by encapsulating or coating the amine-epoxy adduct with a protective shell of material that isolates it from the adhesive environment. . Once incorporated into the adhesive, the amine-epoxy adduct is released from its protective shell through the application of heat and / or pressure. The latent hardeners described herein are commonly referred to as core-shell latent hardeners, in which case the core is an amine-epoxy adduct and the shell is a protective shell.

코어-쉘 잠재성 하드너가 직면하는 하나의 중요한 상반관계(trade-off)가 존재하는데, 이는 코어 재료가 접착 환경 또는 매트릭스 내로 방출되도록 하기 위해 파괴되거나 침투성이어야 하는 보호용 쉘의 포함 때문에 경화 속도가 종종 느려지고경화 온도가 종종 증가된다. 임의의 특정 이론에 결부시키지 않고, 상기한 수단을 사용하여, 예를 들어, 쉘 두께, 가교결합 밀도 또는 쉘의 Tg를 증가시키거나 또는 쉘과 코어 재료 또는 접착제 매트릭스 사이의 비상용성 정도를 증가시킴으로써 쉘 재료의 장벽 특성을 증가시키기 때문에, 아민-에폭시 부가물을 접착 환경으로 방출시키는데 더 많은 에너지가 소요된다는 것이 익히 공지되어 있다. 따라서, 일액형 접착제로 제형화될 경우, 낮은 경화 온도 및 경화 속도의 감소를 희생하여 목적하는 특성인 증가된 저장 기간 안정성을 갖는 하드너이다. 따라서, 정상 저장 조건에서 코어 재료를 보호하기 위해 충분하지만, 접착제의 경화 속도를 늦추기 위해서 너무 많지는 않은 보호용 쉘을 갖는 코어-쉘 잠재성 하드너를 제조하기 위해 일정한 균형이 지속된다. 또한, 코어 재료의 방출은 합리적으로 저온에서 촉발되어 좁은 온도 범위 내에서 완결될 수 있다.One important trade-off faced by core-shell latent hardeners is that the rate of cure is often due to the inclusion of a protective shell that must be broken or permeable in order for the core material to be released into the adhesive environment or matrix. The curing temperature is often increased. Without wishing to be bound by any particular theory, using the aforementioned means, for example, to increase the shell thickness, crosslink density or T g of the shell or increase the degree of incompatibility between the shell and the core material or adhesive matrix. It is well known that more energy is required to release the amine-epoxy adduct into the adhesive environment, thereby increasing the barrier properties of the shell material. Thus, when formulated as a one-part adhesive, it is a hardener with increased shelf life stability, which is a desired property at the expense of low cure temperature and a decrease in cure rate. Thus, a constant balance is maintained to produce core-shell latent hardeners with sufficient protective shells to protect the core material under normal storage conditions but not too much to slow down the curing rate of the adhesive. In addition, release of the core material can be reasonably triggered at low temperatures and completed within a narrow temperature range.

가장 빈번히 사용되는 코어-쉘 잠재성 하드너 중의 하나는 미국 특허 제4,833,226호, 미국 특허 제5,219,956호, US 제2006/0128835호, US 제2007/0010636호, US 제2007/0055039호, US 제2007/0244268호, EP 제1,557,438호, EP 제1,731,545호, EP 제1,852,452호, 및 EP 제1,980,580호에 기술된 바와 같은 코어-쉘 재료로 구성된 것들이다. 본원에 기술된 하드너는 먼저, 코어 재료 괴상(lump)의 합성으로 수득되고, 이어서 이를 형상이 불규칙한 마이크로 크기의 입자로 분쇄한다. 코어 재료는 아민 화합물과 에폭시 수지의 반응 생성물이고, 상기한 코어 재료는, 접착제 및 피복물에서 발견된 것과 같이, 에폭시 조성물용 하드너로서 기능한다. 코어 재료의 저장 안정성을 향상시키고 조기 경화를 예방하기 위해, 이를 에폭시 조성물의 성분, 예를 들어, 용매, 희석제, 저분자량 에폭사이드 및 첨가제에 불침투성인 재료의 쉘로 캡슐화한다. 이를 달성하기 위해, 분쇄된 고체를 다작용성 이소시아네이트, 활성 수소 화합물, 예를 들어, 물, 및 에폭시 수지의 혼합물에 첨가한다. 상기 캡슐화 과정의 화학은 입자 주위에 가교결합된 쉘 피복물을 형성하기 위해 폴리이소시아네이트 화합물의 가교결합 반응 및/또는 가수분해에 좌우된다. 쉘의 통상적인 가교결합 구조는 우레아, 우레탄, 카바메이트, 뷰렛, 알로파네이트 등을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다. 그러나, 가교결합 반응은 연속 상 중에서 그리고 계면에서 차별 없이 랜덤하게 발생한다. 불필요한 부산물, 예를 들어, 가교결합된 폴리우레아 입자가 연속 상 중에서 생성되는 한편, 몇몇 코어 입자는 완전히 캡슐화되지 않을 가능성이 매우 높다. 또한, 이 공정에 의해 제조된 코어 입자는 형상 및 입자 크기의 매우 광범위한 분포를 갖는 불규칙한 형상이고, 이에 형성된 쉘의 두께와 가교결합 밀도의 균일성이 매우 불량하다. 그 결과, 캡슐화된 하드너 입자는 통상적으로 매우 광범위한 분포의 방출성을 나타내고, 이러한 형태의 하드너 캡슐로 제형화된 일액형 접착제는 흔히 불량한 저장 수명 안정성 및 불활발한 경화 프로파일 또는 높은 경화 온도를 나타낸다.One of the most frequently used core-shell latent hardeners is US Pat. No. 4,833,226, US Pat. No. 5,219,956, US 2006/0128835, US 2007/0010636, US 2007/0055039, US 2007 /. Those composed of core-shell materials as described in 0244268, EP 1,557,438, EP 1,731,545, EP 1,852,452, and EP 1,980,580. The hardeners described herein are first obtained by the synthesis of a lump of core material, which is then milled into microsized particles of irregular shape. The core material is the reaction product of the amine compound and the epoxy resin, and the core material described above functions as a hardener for the epoxy composition, as found in adhesives and coatings. To improve the storage stability of the core material and to prevent premature curing, it is encapsulated in a shell of material impermeable to components of the epoxy composition, such as solvents, diluents, low molecular weight epoxides and additives. To achieve this, the milled solid is added to a mixture of polyfunctional isocyanates, active hydrogen compounds such as water, and epoxy resins. The chemistry of the encapsulation process depends on the crosslinking reaction and / or hydrolysis of the polyisocyanate compound to form a crosslinked shell coating around the particles. Conventional crosslinking structures of the shell include, but are not limited to, urea, urethane, carbamate, biuret, allophanate, and the like. However, crosslinking reactions occur randomly in the continuous phase and without discrimination at the interface. Unnecessary by-products such as crosslinked polyurea particles are produced in the continuous phase, while some core particles are very unlikely to be fully encapsulated. In addition, the core particles produced by this process are irregular shapes having a very wide distribution of shapes and particle sizes, and the uniformity of the thickness and crosslink density of the shell formed thereon is very poor. As a result, encapsulated hardener particles typically exhibit a very wide range of release properties, and single-component adhesives formulated with these types of hardener capsules often exhibit poor shelf life stability and inadequate cure profiles or high cure temperatures.

상기한 바와 달리, 형상이 구형인 코어 쉘 잠재성 하드너를 또한 기술하는 본 발명의 다른 그룹, 즉 EP 제459,745호, EP 제552,976호, US 제5,357,008호, US 제5,480,957호, US 제5,548,058호, US 제5,554,714호, 제5,561,204호, US 제5,567,792호 및 US 제5,591,814호가 있다. 코어 재료는 구형 입자로서 수득되고, 유기 매질 중에서 분산제의 존재하에 아민과 활성 수소 원자(예: 이미다졸) 및 에폭시 수지의 반응으로부터 합성된다. 아민, 에폭시 수지 및 분산제는 유기 매질에 가용성인 반면, 반응 생성물, 코어 재료는 아니고, 그 결과 코어 입자는 비교적 좁은 크기 분포를 갖는 안정한 분산액으로서 용액으로부터 침전된다. 좁은 크기 분포를 갖는 바람직한 입자 크기의 안정한 분산액을 제조하기 위한 가장 중요한 인자는 분산제의 특성이고, 본 발명자들은 폴리아크릴레이트, 폴리아크릴아미드, 폴리비닐 아세테이트, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리스티렌 및 폴리비닐 클로라이드의 그래프트의 부류로부터의 분산제를 사용하는 예를 제시한다. 일단 분리되면, 구형 코어 재료는 이소시아네이트로 캡슐화되어 구형 코어-쉘 잠재성 하드너를 제조한다.Unlike the above, other groups of the invention which also describe core shell latent hardeners that are spherical in shape, ie EP 459,745, EP 552,976, US 5,357,008, US 5,480,957, US 5,548,058, US 5,554,714, 5,561,204, US 5,567,792 and US 5,591,814. The core material is obtained as spherical particles and synthesized from the reaction of an amine with an active hydrogen atom (eg imidazole) and an epoxy resin in the presence of a dispersant in an organic medium. The amines, epoxy resins and dispersants are soluble in the organic medium, while the reaction products, not the core material, as a result of which the core particles precipitate out of solution as a stable dispersion with a relatively narrow size distribution. The most important factor for producing a stable dispersion of the preferred particle size with a narrow size distribution is the nature of the dispersant, and the inventors have found that the graft of polyacrylate, polyacrylamide, polyvinyl acetate, polyethylene oxide, polystyrene and polyvinyl chloride Examples of using dispersants from the class are given. Once separated, the spherical core material is encapsulated with isocyanates to produce spherical core-shell latent hardeners.

쉘 재료는 결함, 예를 들어, 홀, 공극, 얇은 영역, 또는 불충분한 가교결합 밀도로 구성된 영역을 함유하지 않아야 한다. 이러한 결함은 코어가 완성 제품의 처리 또는 저장 동안 보호용 쉘로부터 조기에 방출되도록 할 수 있을 것이다. 어느 쪽이든, 캡슐화된 잠재성 하드너로부터 이러한 코어의 조기 방출은 저장 안정성 및 저장 수명의 손실(일액형 에폭시 접착제의 경우)로 나타날 것이다. 그러나, 이 결함은 이전에 존재하는 쉘에 추가의 그리고 연속적인 쉘 재료 층을 도포하고, 따라서 추가의 쉘 재료 층을 결함에 충전시켜 피복시킴으로써 극복할 수 있다.The shell material should not contain defects, for example holes, voids, thin regions, or regions consisting of insufficient crosslink density. Such defects may allow the core to be released early from the protective shell during processing or storage of the finished product. Either way, early release of these cores from the encapsulated latent hardener will result in loss of storage stability and shelf life (in the case of one-part epoxy adhesives). However, this defect can be overcome by applying an additional and continuous layer of shell material to the previously existing shell and thus filling and covering the additional layer of shell material with the defect.

종래 기술의 또 다른 제한은 보다 불침투성인 보호용 쉘을 제조하여 이의 장벽 특성을 향상시키려는 시도에서, 쉘과 주위 에폭시 조성물의 상용성이 무시되었다는 점이다. 종래 기술은 이소시아네이트, 및 임의로 물 및 추가의 에폭시의 존재하에 캡슐화를 교시한다. 수득하는 것은 가교결합된 폴리우레탄 및 임의로 폴리우레아로 구성된 쉘이다. 에폭시 접착제로 제형화될 경우, 현재 경질의 매우 가교결합된 쉘은 주위 에폭시와 불량한 능력을 갖는다. 이의 예는 쉘의 표면과 에폭시 사이의 표면 장력의 미스매치이고, 이는 에폭시가 적당하게 습윤되지 않고 쉘 재료의 표면에 분산되는 디웨팅(dewetting) 현상으로서 나타날 것이다. 따라서, 그 결과, 경화 후, 접착제는 공극 및 이질성 경화 영역을 함유할 것이고, 이들 둘 다가 접착 강도를 감소시킬 것임을 알 수 있을 것이다.Another limitation of the prior art is that, in attempts to produce more impermeable protective shells and to improve their barrier properties, the compatibility of the shells with the surrounding epoxy compositions has been ignored. The prior art teaches encapsulation in the presence of isocyanates and optionally water and further epoxy. What is obtained is a shell composed of crosslinked polyurethane and optionally polyurea. When formulated with epoxy adhesives, currently hard, highly crosslinked shells have poor ability with the surrounding epoxy. An example of this is a mismatch of the surface tension between the surface of the shell and the epoxy, which will appear as a dewetting phenomenon where the epoxy is dispersed on the surface of the shell material without being adequately wetted. Thus, as a result, it will be appreciated that after curing, the adhesive will contain voids and heterogeneous cured regions, both of which will reduce the adhesive strength.

조기 경화를 예방하기 위해 장벽 특성이 향상된 코어-쉘 잠재성 하드너가 여전히 필요하다. 추가로, 에폭시 상용성이 향상된, 캡슐화 잠재성 하드너가 필요하다.
There is still a need for core-shell latent hardeners with improved barrier properties to prevent premature curing. In addition, there is a need for encapsulated latent hardeners with improved epoxy compatibility.

본 발명의 요약SUMMARY OF THE INVENTION

본 발명은 열경화성물, 예를 들어, 에폭시 수지용 잠재성 하드너 또는 촉매, 보다 특히, 쉘 재료로 캡슐화되거나 피복된 코어 재료로 구성된 잠재성 하드너 또는 촉매에 관한 것이다. 에폭시 수지용 경화제(curative)인 코어 재료는 추가로 아민(예: 이미다졸, 피페라진, 1급 지방족 아민, 및 2급 지방족 아민)과 에폭시 수지의 반응 생성물로 구성된다. 하나의 양태에서, 코어 재료는 유기 매질 중에서 카복실 말단 폴리(부타디엔-co-아크릴로니트릴)(CTBN)과 에폭시 수지의 반응 생성물인 분산제의 존재하에 합성된다. 하나의 양태에서, CTBN과 에폭시 수지의 반응 생성물은 좁은 크기 분포의 구형 코어 입자의 안정한 분산액을 제공할 수 있다. 또 다른 양태에서, 거의 100% 전환이 약간 과량의 에폭시를 사용하여 수득된다. 또 다른 양태에서, 구형 코어 입자는 다작용성 이소시아네이트 또는 티오이소시아네이트와 반응시켜 캡슐화한다. 임의로, 에폭시 수지를 이소시아네이트와 동시에 첨가하여 캡슐화 쉘의 두께를 증강시킨다. 또 다른 양태에서, 일단 형성되면, 코어 재료는 다작용성 이소시아네이트, 또는 이소시아네이트와 다작용성 에폭시 수지의 혼합물, 또는 이소시아네이트와 에폭시 상용성 재료, 예를 들어, CTBN 또는 폴리아크릴레이트 개질된 에폭시의 혼합물, 또는 이소시아네이트, 다작용성 에폭시 및 에폭시 상용성 재료의 혼합물을 사용하여 단계적 방식으로 적용된 둘 이상의 쉘 재료로 완전 캡슐화된다. 입자를 사용하여 제조된 경화성 조성물은 탁월한 저장 안정성 및 향상된 경화성을 갖는다.The present invention relates to latent hardeners or catalysts for thermosets, for example epoxy resins, more particularly latent hardeners or catalysts composed of a core material encapsulated or coated with a shell material. The curable core material for epoxy resins further consists of the reaction product of amines such as imidazole, piperazine, primary aliphatic amines, and secondary aliphatic amines and epoxy resins. In one embodiment, the core material is synthesized in the presence of a dispersant that is a reaction product of carboxyl terminated poly (butadiene-co-acrylonitrile) (CTBN) and an epoxy resin in an organic medium. In one embodiment, the reaction product of CTBN and epoxy resin can provide a stable dispersion of spherical core particles of narrow size distribution. In another embodiment, nearly 100% conversion is obtained using a slight excess of epoxy. In another embodiment, the spherical core particles are encapsulated by reaction with polyfunctional isocyanates or thioisocyanates. Optionally, an epoxy resin is added simultaneously with the isocyanate to enhance the thickness of the encapsulated shell. In another embodiment, once formed, the core material may be a polyfunctional isocyanate, or a mixture of isocyanates and a polyfunctional epoxy resin, or a mixture of isocyanates and epoxy compatible materials, such as CTBN or polyacrylate modified epoxy, or It is fully encapsulated into two or more shell materials applied in a stepwise manner using a mixture of isocyanates, multifunctional epoxy and epoxy compatible materials. Curable compositions prepared using the particles have excellent storage stability and improved curability.

본 명세서의 한 국면은 잠재성 하드너 또는 촉매의 장벽 특성 및 내용매성에 대한 개선에 관한 것이다.One aspect of the present disclosure relates to improvements in barrier properties and solvent resistance of latent hardeners or catalysts.

본 명세서의 또 다른 국면은 잠재성 하드너 또는 촉매의 장벽 특성 및 내용매성에 대한 개선에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure relates to improvements in barrier properties and solvent resistance of latent hardeners or catalysts.

본 명세서의 또 다른 국면은 잠재성 하드너 또는 촉매와 에폭시 수지 또는 조성물의 상용성에 대한 개선에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure is directed to improvements in the compatibility of latent hardeners or catalysts with epoxy resins or compositions.

본 명세서의 또 다른 국면은 구형이고 완전히 캡슐화된 잠재성 하드너 또는 촉매에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure relates to spherical and fully encapsulated latent hardeners or catalysts.

본 명세서의 다른 국면은 목적하는 온도, 압력 또는 이들 둘의 조합에서 코어 재료를 방출시키는 잠재성 하드너 또는 촉매에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure relates to latent hardeners or catalysts that release the core material at the desired temperature, pressure, or a combination of both.

본 명세서의 다른 국면은 잠재성 코어-쉘 잠재성 하드너 또는 촉매에 관한 것으로서, 여기서 상기 하드너 또는 촉매는 구형 입자의 안정한 분산액으로 구성된다.Another aspect of the present disclosure relates to latent core-shell latent hardeners or catalysts, wherein the hardeners or catalysts consist of a stable dispersion of spherical particles.

본 명세서의 또 다른 국면은 분산제를 사용하는 구형 코어 입자의 제조방법에 관한 것으로서, 여기서 상기 분산제는 카복실-말단 부타디엔-아크릴로니트릴 고무(CTBN)와 에폭시 수지의 반응 생성물(부가물)이다.Another aspect of the present specification relates to a method for producing spherical core particles using a dispersant, wherein the dispersant is a reaction product (adduct) of a carboxyl-terminated butadiene-acrylonitrile rubber (CTBN) and an epoxy resin.

본 명세서의 또 다른 국면은 아민 화합물, 에폭시 수지 및 분산제로 구성된 경화제(curing agent)에 관한 것으로서, 상기 분산제는 CTBN과 에폭시 수지의 부가물이다.Another aspect of the present specification relates to a curing agent composed of an amine compound, an epoxy resin, and a dispersant, wherein the dispersant is an adduct of CTBN and an epoxy resin.

본 명세서의 또 다른 국면은 경화제의 제조방법에 관한 것이다.Another aspect of the present specification relates to a method of preparing a curing agent.

본 명세서의 또 다른 국면은 경화제로 구성된 마스터배치에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure relates to a masterbatch composed of a curing agent.

본 명세서의 또 다른 국면은 본원에 기술된 경화제로 구성된 조성물을 포함하는 전자 장치 또는 플랫 패널 디스플레이에 관한 것이다. 예를 들어, 드라이버 집적 회로(IC)를 전자 장치 또는 플랫 패널 디스플레이에 연결하는데 사용되는 통상의 방법은 칩-온-글라스(COG: chip-on-glass) 또는 칩-온-필름(COF: chip-on-film)의 사용을 통해서이다. COG 및 COF의 구축시, 이방성 전도성 필름 접착제(ACF) 및 비전도성 필름 접착제(NCF)를 통상적으로 사용하여 COG 또는 COF를 드라이버 IC에 부착하고, 이는 접착제를 경화시키고 부품 사이의 영구적 결합을 생성하는 경화제이다. 따라서, 한 양태에서, 집적 회로 칩 또는 기타 전자 부품을 본원에 기술된 경화제를 함유하는 에폭시 접착제를 사용하여 부착시킨다.Another aspect of the present disclosure relates to an electronic device or flat panel display comprising a composition comprised of the curing agent described herein. For example, conventional methods used to connect driver integrated circuits (ICs) to electronic devices or flat panel displays are chip-on-glass (COG) or chip-on-film (COF) chip. through the use of -on-film). In the construction of COGs and COFs, anisotropic conductive film adhesives (ACFs) and non-conductive film adhesives (NCFs) are commonly used to attach COGs or COFs to driver ICs, which cure the adhesive and create permanent bonds between components. It is a hardener. Thus, in one embodiment, an integrated circuit chip or other electronic component is attached using an epoxy adhesive containing a curing agent described herein.

본 명세서의 또 다른 국면은 경화제를 함유하는 조성물에 관한 것으로서, 여기서 조성물은 접착제, 전도성 접착제, 복합체, 성형 컴파운드, 이방성 전도성 필름(ACF) 접착제, 비-랜덤 어레이 ACF, 비-전도성 접착체 필름(NCF), 피복물, 캡슐화제, 언더필 재료(underfill material), 납 또는 유리 땜납이다.Another aspect of the present disclosure relates to a composition containing a curing agent, wherein the composition is an adhesive, a conductive adhesive, a composite, a molding compound, an anisotropic conductive film (ACF) adhesive, a non-random array ACF, a non-conductive adhesive film ( NCF), coatings, encapsulants, underfill materials, lead or glass solder.

본 명세서의 또 다른 국면은 본원에 기술된 경화제로 구성된 에폭시 접착제 조성물을 포함하는 회로 기판에 관한 것이다. 전형적으로, 전자 부품, 예를 들어, 레지스터, 캐퍼시터 및 IC는 납땜 공정을 통해 회로 기판에 어셈블리된다. 이 공정은 고온을 필요로 하고, 폐기물을 발생시킨다. 그러나, 기술된 경화제를 함유하는 ACF, NCF 또는 전도성 접착제는 전자 부품을 고온의 사용, 폐기물 및 독성의 중금속 없이 회로 기판에 실장하는 대안의 방법을 제공한다. 이 적용에서, ACF 및 NCF는 전기적 접촉을 제공하고, 부품을 기판에 고정시킨다.Another aspect of the present disclosure relates to a circuit board comprising an epoxy adhesive composition composed of a curing agent described herein. Typically, electronic components such as resistors, capacitors, and ICs are assembled to a circuit board through a soldering process. This process requires high temperatures and generates waste. However, the described ACF, NCF or conductive adhesives containing hardeners provide an alternative method of mounting electronic components on circuit boards without heavy metals of high temperature use, waste and toxicity. In this application, the ACF and NCF provide electrical contact and secure the part to the substrate.

본 명세서의 또 다른 국면은 본원에 기술된 경화제를 함유하는 에폭시 접착제 조성물을 사용하여 어셈블리된 전자 장치 또는 디스플레이에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure relates to an electronic device or display assembled using an epoxy adhesive composition containing a curing agent described herein.

본 명세서의 또 다른 국면은 본원에 기술된 경화제를 함유하는 접착제 조성물을 포함하는 플립 칩(flip chip)에 관한 것이다. 전형적으로, 플립 칩은 2단계로 기판에 실장된 칩이다. 먼저, 칩을 납땜 또는 공융(eutecitic) 결합을 통해 기판에 결합된다. 이어서, 언더필 재료는 통상적으로 액체 형태로 칩과 기판 사이의 갭에 충전시키고, 경화시킨다. 납땜 또는 공융 결합 공정을 본원에 기술된 경화제를 함유하는 ACF 또는 NCF로의 대체는 제1 단계를 달성하기 위한 대안적인 방법이다. 접착제 접근법이 회로 기판이 직면하는 이점을 제공할 뿐만 아니라, ACF 및 NCF는 또한 칩과 기판 사이의 갭을 충전시키는 언더필 재료로서 기능하여 공정을 단일 단계로 달성하고, 이전에는 두 단계가 사용되었다.Another aspect of the present disclosure relates to a flip chip comprising an adhesive composition containing a curing agent described herein. Typically, flip chips are chips mounted on a substrate in two steps. First, the chip is bonded to the substrate via soldering or eutectic bonding. The underfill material is then filled in a gap between the chip and the substrate, typically in liquid form, and cured. Replacing the soldering or eutectic bonding process with ACF or NCF containing the curing agent described herein is an alternative method to achieve the first step. Not only does the adhesive approach provide the advantages that the circuit board faces, ACF and NCF also function as the underfill material to fill the gap between the chip and the substrate to achieve the process in a single step, and two steps were previously used.

본 명세서의 또 다른 국면은 조성물이 경화되거나, 부분 경화되거나 경화되지 않고, 경화제로 구성된 전자 장치 또는 디스플레이에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure is directed to an electronic device or display composed of a curing agent, wherein the composition is not cured, partially cured or cured.

본 명세서의 또 다른 국면은 고해상도 LCD, 전자 페이퍼(ePaper), 미니 프로젝터, 및 플랫 패널 디스플레이, 전자 장치, 회로 기판, 및 본원에 기술된 경화제를 함유하는 에폭시 접착제가 상기한 바와 같이 사용되는 플립 칩으로 구성된 휴대 전화와 같은 반도체 장치에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure is a flip chip in which a high resolution LCD, an electronic paper (ePaper), a mini projector, and a flat panel display, an electronic device, a circuit board, and an epoxy adhesive containing a curing agent described herein are used as described above. It relates to a semiconductor device such as a mobile phone.

본 명세서의 또 다른 국면은 고정 어레이(fixed array) ACF이고, 여기서 고정 어레이 ACF는 금 입자가 접착제 필름에 소정의 패턴으로, 예를 들어, 본원에 기술된 경화제를 함유하는 에폭시 접착제가 어레이를 구축하는데 사용되는 트릴리온(Trillion)의 특허 출원 제2006/0280912 Al호에 기술된 바와 같이 분산된 ACF이다.Another aspect of the present specification is a fixed array ACF, wherein the fixed array ACF is an epoxy adhesive containing gold particles in a predetermined pattern on an adhesive film, for example, containing a curing agent as described herein to build an array. Dispersed ACF as described in Trillion patent application 2006/0280912 Al.

본 명세서의 또 다른 국면은 본원에 참조로 인용된, 2008년 1월 10일자로 출원된 미국 출원 번호 제12/008,375호에 기술된 보호된 페놀계 화합물을 포함하는 고 Tg 일액형 성형 컴파운드이고, 여기서 보호된 페놀계 화합물은 아릴 글리시딜 카보네이트 잔기, 및 본원에 기술된 경화제를 포함한다.Another aspect of this specification is a high T g one component molding compound comprising a protected phenolic compound described in US Application No. 12 / 008,375, filed Jan. 10, 2008, which is incorporated herein by reference. , Wherein the phenolic compound protected includes aryl glycidyl carbonate residues, and the curing agents described herein.

본 명세서의 또 다른 국면은 프리프레그 복합체(prepreg composite) 및 성형 컴파운드, 예를 들어, 시트 성형 컴파운드(SMC), 벌크 성형 컴파운드(BMC) 및 도우 성형 컴파운드(DMC: dough molding compound)를 포함하는 일액형 복합체이고, 여기서 경화제는 본원에 기술된 경화제이다.Another aspect of the present disclosure includes a prepreg composite and molding compound, such as sheet molding compound (SMC), bulk molding compound (BMC) and dough molding compound (DMC). It is a liquid complex, wherein the curing agent is the curing agent described herein.

본 명세서의 또 다른 국면은 땜납 마스크 및 함침 피복물을 포함하는 접착제 및 피복 용품이고, 여기서 경화제는 본원에 기술된 경화제이다.Another aspect of the present specification is an adhesive and a coating article comprising a solder mask and an impregnating coating, wherein the curing agent is the curing agent described herein.

본 명세서의 또 다른 국면은 본원에 기술된 경화제를 어셈블리에 함유하고, 예를 들어, 문헌(참조: Colclaser, Roy A.; "Microelectronics Processing and Device Design"; John Wiley & Sons, Publishers: New York, 1980; Chapter 8, page pp. 163-181)에 기술된 바와 같은 반도체 용품을 패키징하는 에폭시 수지를 사용하는 것이다. Another aspect of the present specification includes a curing agent described herein in an assembly, for example, see Colclaser, Roy A .; "Microelectronics Processing and Device Design"; John Wiley & Sons, Publishers: New York, 1980; Chapter 8, page pp. 163-181), uses an epoxy resin for packaging a semiconductor article.

본 명세서의 또 다른 국면은 조성물이 경화되거나, 부분 경화되거나 경화되지 않고, 본원에 기술된 경화제로 구성된 회로 기판에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure relates to a circuit board composed of the curing agent described herein, wherein the composition is not cured, partially cured or cured.

본 명세서의 또 다른 국면은 본원에 기술된 에폭시 접착제 조성물이 경화되거나, 부분 경화되거나 경화되지 않고, 경화제로 구성된 플립 칩에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure relates to a flip chip composed of a curing agent, wherein the epoxy adhesive composition described herein is not cured, partially cured or cured.

본 명세서의 또 다른 국면은 경화제를 함유하는 조성물을 포함하는 반도체 장치에 관한 것이다. 본 명세서의 또 다른 국면은 조성물이 경화되거나, 부분 경화되거나 경화되지 않고 경화제로 구성된 반도체 장치에 관한 것이다.Another aspect of the present disclosure relates to a semiconductor device comprising a composition containing a curing agent. Another aspect of the present disclosure relates to a semiconductor device wherein the composition is cured, partially cured or not cured and consists of a curing agent.

본 발명의 또 다른 국면은 조성물에 관한 것으로서, 당해 조성물은 저장 조건하에 실질적으로 긴 저장 수명을 갖는 일액형 접착제 조성물이고, 경화 온도 또는 성형 온도에서 반응성이고 본원에 기술된 경화제를 함유한다.Another aspect of the invention relates to a composition, wherein the composition is a one-part adhesive composition having a substantially long shelf life under storage conditions, and is reactive at a curing temperature or molding temperature and contains a curing agent as described herein.

본 명세서의 또 다른 국면은 경화제를 함유하는 조성물에 관한 것으로서, 경화 후 당해 조성물은 계면에서의 접착, 경화시 낮은 수축율 및 낮은 열 팽창 계수 (CTE)를 나타낸다.Another aspect of the present disclosure relates to a composition containing a curing agent, wherein after curing, the composition exhibits adhesion at the interface, low shrinkage upon curing, and low coefficient of thermal expansion (CTE).

본 명세서의 추가의 국면은 경화제를 함유하는 조성물에 관한 것으로서, 당해 조성물은 복합 재료 또는 성형 컴파운드용 매트릭스이다.
A further aspect of the present disclosure relates to a composition containing a curing agent, wherein the composition is a matrix for a composite material or a molding compound.

도 1은 2개의 보호용 쉘 재료로 캡슐화된 코어 재료를 나타내는 도면이다. 향상된 잠재성 하드너 상용성을 위한 경우, 보호용 쉘 2의 조성은 에폭시 상용성 재료로 구성되도록 선택되고, 쉘 1의 조성은 단지 이의 장벽 특성을 기초하여 선택된다.
도 2는 2-메틸이미다졸, 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르(DGEBA) 및 CVC Thermoset Materials HyPox™ RK84로부터 분리된 CTBN-에폭시 부가물로 구성된 구형 코어 입자의 전자현미경 사진이다.
도 3은 2-메틸이미다졸, 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르(DGEBA) 및 CVC Thermoset Materials HyPox™ RK84로부터 분리된 CTBN-에폭시 부가물로 구성된 구형 코어 입자의 전자현미경 사진이고, 여기서 코어 입자는 4,4'-메틸렌비스(페닐 이소시아네이트)(MDI)로 캡슐화된다.
도 4는 2-메틸이미다졸, 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르(DGEBA) 및 CVC Thermoset Materials HyPox™ RK84로부터 분리된 CTBN-에폭시 부가물로 구성된 구형 단일 코어 입자의 전자현미경 사진이다.
도 5는 CTBN-에폭시 부가물(c)의 화학 구조이고, 여기서 하이드록실-작용성 에폭시 수지(b), 예를 들어, CVC Thermoset Specialties HyPox RK84의 것인 CTBN(a)와 함께 합성에 사용된다. 잔류하는 미반응 에폭시 수지(b)는 (c)가 분산제로서 사용되기 전에 제거된다.
도 6은 CTBN-에폭시 부가물(e)의 화학 구조이고, 여기서 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르(d), 예를 들어, CVC Thermoset Specialties HyPox RA1340의 것이 CTBN(a)와 함께 합성에 사용된다.
1 shows a core material encapsulated with two protective shell materials. For improved latent hardner compatibility, the composition of protective shell 2 is chosen to consist of an epoxy compatible material, and the composition of shell 1 is chosen only based on its barrier properties.
FIG. 2 is an electron micrograph of spherical core particles composed of 2-methylimidazole, diglycidyl ether of bisphenol A (DGEBA) and CTBN-epoxy adducts isolated from CVC Thermoset Materials HyPox ™ RK84.
FIG. 3 is an electron micrograph of spherical core particles consisting of 2-methylimidazole, diglycidyl ether of bisphenol A (DGEBA) and CTBN-epoxy adducts isolated from CVC Thermoset Materials HyPox ™ RK84, where the core particles Is encapsulated with 4,4'-methylenebis (phenyl isocyanate) (MDI).
4 is an electron micrograph of spherical single core particles consisting of 2-methylimidazole, diglycidyl ether of bisphenol A (DGEBA) and CTBN-epoxy adducts isolated from CVC Thermoset Materials HyPox ™ RK84.
FIG. 5 is the chemical structure of CTBN-epoxy adduct (c), where it is used in synthesis with CTBN (a) which is of hydroxyl-functional epoxy resin (b), eg, CVC Thermoset Specialties HyPox RK84. . The remaining unreacted epoxy resin (b) is removed before (c) is used as a dispersant.
FIG. 6 is the chemical structure of CTBN-epoxy adduct (e), wherein diglycidyl ether (d) of bisphenol A, for example CVC Thermoset Specialties HyPox RA1340, is used for synthesis with CTBN (a). .

하나의 양태에서, 경화제는 (i) 아민, (ii) 에폭시 화합물 및 (iii) 엘라스토머 및 에폭시 수지의 부가물로 이루어진 부가물이다. 엘라스토머/에폭시 수지 부가물은 반응 매질 중에서 구형의 캡슐화되지 않은 입자의 분산액을 형성할 수 있도록 하는 반응성 분산제로서 기능한다.In one embodiment, the curing agent is an adduct consisting of (i) an amine, (ii) an epoxy compound and (iii) an adduct of an elastomer and an epoxy resin. The elastomer / epoxy resin adduct serves as a reactive dispersant that allows the formation of a dispersion of spherical unencapsulated particles in the reaction medium.

본 발명의 또 다른 국면은 아민 화합물을 승온에서 연속 상의 존재하에 진탕시키면서 에폭시/엘라스토머 부가물에 이어 에폭시 화합물과 반응시키고, 반응 혼합물 용액으로부터 형성된 미세한 구형 입자를 회수함을 포함하는 경화제의 미세한 구형 코어 입자의 제조방법이다. 임의로, 회수된 입자를 여과하여 응집된 입자를 제거하고, 중력 분별, 여과, 침전, 필드 유동 분별(field flow fractionation) 및 필드 유동 분류와 같은 방법으로 분류하여 작은 부속(satellite) 입자를 제거할 수 있다. 연속 상은 아민 화합물, 에폭시 화합물 및 에폭시/엘라스토머 부가물을 용해시킬 수 있지만 3개의 반응물 또는 용매 및 비-용매의 혼합물로부터 형성된 부가물을 용해시킬 수 없는 용매로 구성된 유기 용매 또는 용매 혼합물이고, 여기서 상기 용매는 아민 화합물, 에폭시 화합물 및 에폭시/엘라스토머 부가물을 용해시킬 수 있지만, 3개의 반응물 또는 혼합물로부터 형성된 부가물 입자는 용해시킬 수 없고, 비-용매는 아민 화합물, 에폭시 화합물, 에폭시/엘라스토머 부가물, 및 3개의 반응물로부터 형성된 부가물 입자용 비-용매이다. 연속 상의 선택은 분산액 안정성 및 입자 크기 및 입자 크기 분포에 영향을 미친다.Another aspect of the present invention provides a fine spherical core of a curing agent comprising reacting an amine compound with an epoxy / elastomer adduct followed by an epoxy compound while shaking in the presence of a continuous phase at elevated temperature and recovering the fine spherical particles formed from the reaction mixture solution. It is a manufacturing method of particle | grains. Optionally, the recovered particles can be filtered to remove aggregated particles and sorted by methods such as gravity fractionation, filtration, sedimentation, field flow fractionation and field flow fractionation to remove small satellite particles. have. The continuous phase is an organic solvent or solvent mixture consisting of a solvent capable of dissolving an amine compound, an epoxy compound, and an epoxy / elastomer adduct but not capable of dissolving the adduct formed from three reactants or a mixture of solvent and non-solvent, wherein the The solvent may dissolve the amine compound, the epoxy compound and the epoxy / elastomer adduct, but the adduct particles formed from the three reactants or mixtures cannot dissolve, and the non-solvent is the amine compound, the epoxy compound, the epoxy / elastomer adduct. And non-solvents for adduct particles formed from the three reactants. The choice of continuous phase affects dispersion stability and particle size and particle size distribution.

본 발명의 또 다른 양태는 이의 주요 성분으로서 에폭시 조성물 및 경화제의 구형 입자를 포함하는 열 경화성 조성물이다. 이러한 경우, 본 발명의 경화제의 구형 입자는 에폭시 조성물 중에 가용성이 아니거나 팽윤성이 아니다. 하나의 양태에서, 입자의 용융 유동 온도는 약 50℃ 이상이고, 입자 직경은 0.1㎛ 내지 30㎛이다. 당해 입자는 접착제에 에폭시 수지 100중량부당 약 1 내지 60중량부의 양으로 도입된다.Another aspect of the present invention is a thermosetting composition comprising spherical particles of an epoxy composition and a curing agent as its main components. In this case, the spherical particles of the curing agent of the present invention are not soluble or swellable in the epoxy composition. In one embodiment, the melt flow temperature of the particles is at least about 50 ° C. and the particle diameter is 0.1 μm to 30 μm. The particles are introduced into the adhesive in an amount of about 1 to 60 parts by weight per 100 parts by weight of epoxy resin.

하나의 양태에서, 본 발명은 또한 에폭시 수지용 경화제 마스터배치를 포함하고, 여기서 상기 마스터배치는 경화제의 미세한 구형 입자가 균일하게 분산된 액체 에폭시 수지를 포함한다. 특정 양태에서, 당해 입자는 상기한 입자 100중량부를 기준으로 하여, 다작용성 이소시아네이트 화합물 1 내지 100중량부 및 임의로 에폭시 화합물 1 내지 100중량부와 반응시켰다. 이어서, 입자를, 상기 입자 100중량부를 기준으로 하여, 1 내지 100중량부의 다작용성 이소시아네이트 화합물, 및 임의로 1 내지 100중량부의 다작용성 에폭시 화합물 및 임의로 1 내지 100중량부의 에폭시 상용성 재료와 연속 단계로 1회 이상의 추가 회수로 반응시킨다. In one embodiment, the present invention also includes a curing agent masterbatch for an epoxy resin, wherein the masterbatch comprises a liquid epoxy resin in which fine spherical particles of the curing agent are uniformly dispersed. In certain embodiments, the particles were reacted with 1 to 100 parts by weight of the polyfunctional isocyanate compound and optionally 1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the particles described above. The particles are then subjected to continuous steps with 1 to 100 parts by weight of the polyfunctional isocyanate compound, and optionally 1 to 100 parts by weight of the multifunctional epoxy compound and optionally 1 to 100 parts by weight of the epoxy compatible material, based on 100 parts by weight of the particles. The reaction is carried out one or more times.

본 발명은 추가로 상기한 구형 입자의 용융 유동 온도 이하의 온도에서 에폭시 수지에 경화제의 구형 입자를 분산시키는 단계를 포함하는 에폭시 수지용 경화제 마스터배치의 제조방법을 포함한다.
The present invention further includes a method for producing a curing agent masterbatch for an epoxy resin comprising dispersing spherical particles of the curing agent in an epoxy resin at a temperature below the melt flow temperature of the spherical particles.

경화제 에폭시 + 아민 화합물Curing Agent Epoxy + Amine Compound

본 발명에서, 경화제의 제조에 사용될 수 있는 아민 화합물 및 에폭시 화합물은 음이온성 중합에 의한 경화 반응을 촉진시키는 이의 화학 구조, 이의 융점 및 용융되거나 가소화된 점탄성 상태로 경화되는 에폭시 수지와의 이의 상용성, 이의 신속 경화성 및 이의 반응성에 기초하여 선택된다. 용융 유동 온도는 통상적인 방법으로 측정된 바와 같이, 물질이 용융된 유체로서 유동하기 시작하는 온도로서 본원에서 정의된다. 본 발명의 특정 양태에 유용한 아민 및 에폭시 화합물의 예는 본원에 참조로 인용된 EP 제459,745호, EP 제552,976호, US 제5,357,008호, US 제5,480,957호, US 제5,548,058호, US 제5,554,714호, 제5,561,204호, US 제5,567,792호 및 US 제5,591,814호에 기술되어 있다.
In the present invention, the amine compound and the epoxy compound which can be used in the preparation of the curing agent have its chemical structure which promotes the curing reaction by anionic polymerization, its melting point and its compatibility with the epoxy resin cured to a molten or plasticized viscoelastic state. It is selected based on the sex, its quick cure and its reactivity. Melt flow temperature is defined herein as the temperature at which material begins to flow as molten fluid, as measured by conventional methods. Examples of amines and epoxy compounds useful in certain embodiments of the present invention include EP 459,745, EP 552,976, US 5,357,008, US 5,480,957, US 5,548,058, US 5,554,714, 5,561,204, US 5,567,792 and US 5,591,814.

아민 화합물Amine compound

임의의 아민 화합물이 사용될 수 있는 반면, 아민의 선택은 에폭시 화합물의 특성에 기초한다. 에폭시 화합물과 반응하지만 완전 중합 없이 반응을 가능하게 하는 아민을 선택한다. 일작용성 에폭시 화합물과 반응시, 실질적으로 임의의 아민 화합물을 사용할 수 있지만, 다작용성 에폭시 화합물을 반응시킬 경우, 단지 하나의 활성 수소를 갖는 아민 화합물, 즉 에폭시 그룹의 반응에 기여하는 2급 아미노 그룹을 사용할 수 있다. 3급 아미노 그룹을 갖는, 즉 활성 수소를 전혀 갖지 않는 화합물의 사용도 또한 허용된다. 다음 화합물은 이작용성 비스페놀 A 디글리시딜 에테르와 배합될 수 있는 아민 화합물의 예시적 예이다: 2-메틸이미다졸 및 2,4-디메틸이미다졸로 대표되는 이미다졸, N-메틸 피페라진 및 N-하이드록실에틸-피페라진으로 대표되는 피페라진, 아나바신으로 대표되는 아나바신, 3,5-디메틸-피라졸로 대표되는 피라졸, 테트라-메틸-쿠아니딘 또는 푸린으로 대표되는 푸린, 피라졸로 대표되는 피라졸, 및 1,2,3-트리아졸로 대표되는 트리아졸 등.
While any amine compound can be used, the choice of amine is based on the properties of the epoxy compound. An amine is selected that reacts with the epoxy compound but allows the reaction without complete polymerization. When reacting with a monofunctional epoxy compound, substantially any amine compound can be used, but when reacting a polyfunctional epoxy compound, the secondary amino contributing to the reaction of an amine compound with only one active hydrogen, ie an epoxy group You can use groups. The use of compounds with tertiary amino groups, ie without active hydrogen at all, is also acceptable. The following compounds are illustrative examples of amine compounds that may be combined with bifunctional bisphenol A diglycidyl ethers: imidazoles represented by 2-methylimidazole and 2,4-dimethylimidazole, N-methyl piperazine And piperazine represented by N-hydroxyl ethyl-piperazine, ananacin represented by anabacin, pyrazole represented by 3,5-dimethyl-pyrazole, purine represented by tetra-methyl-quaanidine or purine, Pyrazoles represented by pyrazoles, triazoles represented by 1,2,3-triazoles, and the like.

에폭시 화합물Epoxy compound

에폭시 화합물의 예는 일작용성 에폭시 화합물, 예를 들어, n-부틸 글리시딜 에테르, 스티렌 옥사이드 및 페닐글리시딜 에테르; 이작용성 에폭시 화합물, 예를 들어, 비스페놀 A 디글리시딜 에테르, 비스페놀 F 디글리시딜 에테르, 비스페놀 S 디글리시딜 에테르 및 디글리시딜 프탈레이트; 삼작용성 화합물, 예를 들어, 트리글리시딜 이소시아누레이트, 트리글리시딜 p-아미노페놀; 사작용성 화합물, 예를 들어, 테트라글리시딜 m-크실렌 디아민 및 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄; 및 추가의 작용성 그룹을 갖는 화합물, 예를 들어, 크레졸 노볼락 폴리글리시딜 에테르, 페놀 노볼락 폴리글리시딜 에테르 등이다. 에폭시의 선택은 또한 배합되는 아민 화합물의 형태에 의해 결정된다. 에폭시 화합물은 또한 형성된 부가물의 연화점 및 상용성에 기초하여 경화되는 에폭시 수지와 관련하여 용융 상태로 선택된다. 경화되는 에폭시 수지 대부분이 비스페놀 A 디글리시딜 에테르를 포함하기 때문에, 이 화합물은 부가물을 제조하기 위한 출발 재료로서 가장 통상적으로 사용된다. 하나의 양태에서, 에폭시 당량이 기껏 약 1,000, 바람직하게는 기껏 약 500인 에폭시 화합물이 통상적으로 사용된다.
Examples of epoxy compounds include monofunctional epoxy compounds such as n-butyl glycidyl ether, styrene oxide and phenylglycidyl ether; Bifunctional epoxy compounds such as bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether and diglycidyl phthalate; Trifunctional compounds such as triglycidyl isocyanurate, triglycidyl p-aminophenol; Tetrafunctional compounds such as tetraglycidyl m-xylene diamine and tetraglycidyldiaminodiphenylmethane; And compounds with additional functional groups such as cresol novolac polyglycidyl ether, phenol novolac polyglycidyl ether and the like. The choice of epoxy is also determined by the type of amine compound to be blended. Epoxy compounds are also selected in the molten state with respect to the epoxy resin to cure based on the softening point and compatibility of the adducts formed. Since most of the epoxy resins to be cured include bisphenol A diglycidyl ether, this compound is most commonly used as a starting material for preparing adducts. In one embodiment, epoxy compounds having an epoxy equivalent weight of at most about 1,000, preferably at most about 500, are commonly used.

용매menstruum

출발 재료로서의 아민 화합물 및 에폭시 화합물을 용해시킬 수 있지만, 부가물을 용해 없이 입자 형태로 침전시킬 수 있는 용매 시스템을 선택하는 것이 또한 중요하다. 본 발명의 특정 양태에 사용될 수 있는 용매의 예는 메틸 이소부틸 케톤, 메틸 이소프로필 케톤, 메틸 에틸 케톤, 아세톤, n-부틸아세테이트, 이소부틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 메틸 아세테이트, 테트라하이드로푸란, 1,4-디옥산, 셀로솔브, 에틸렌글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸 에테르, 아니솔, 톨루엔, p-크실렌, 벤젠, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 클로로벤젠 및 피리딘이다. 이들 용매는 단독으로 사용될 수 있거나, 둘 이상의 용매가 함께 사용될 수 있다.
Although it is possible to dissolve the amine compound and the epoxy compound as starting materials, it is also important to choose a solvent system that can precipitate the adduct in the form of particles without dissolution. Examples of solvents that may be used in certain embodiments of the invention include methyl isobutyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl ethyl ketone, acetone, n-butyl acetate, isobutyl acetate, ethyl acetate, methyl acetate, tetrahydrofuran, 1, 4-dioxane, cellosolve, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, anisole, toluene, p-xylene, benzene, methylene chloride, chloroform, trichloroethylene, chlorobenzene and pyridine. These solvents may be used alone, or two or more solvents may be used together.

비-용매Non-solvent

추가로, 아민 화합물이 분산액 안정제 및 에폭시 수지의 에폭시 작용기와 반응하도록 비-용매를 첨가할 필요가 있다. 이러한 경우 비-용매는 아민 화합물, 분산액 안정제 또는 에폭시 수지를 용해시키지 않는 임의의 용매이다. 비-용매로서 사용될 수 있는 하나의 가능한 부류의 화합물은 선형 또는 측쇄 지방족 화합물, 예를 들어, 헵탄, 헥산, 옥탄, 이소-옥탄, 석유 에테르 등이다. 용매와 함께 비-용매의 한 예는 헵탄과 MIBK의 혼합물이다. 상기한 용매 및 비-용매 이외에, 희석제 또는 묽은 용매를 임의로 사용하여 제형 또는 공정 윈도우를 넓힐 수 있다.
In addition, it is necessary to add a non-solvent so that the amine compound reacts with the dispersion stabilizer and the epoxy functional groups of the epoxy resin. In this case the non-solvent is any solvent that does not dissolve the amine compound, dispersion stabilizer or epoxy resin. One possible class of compounds that can be used as non-solvents are linear or branched chain aliphatic compounds such as heptane, hexane, octane, iso-octane, petroleum ether and the like. One example of a non-solvent with a solvent is a mixture of heptane and MIBK. In addition to the solvents and non-solvents described above, diluents or dilute solvents may optionally be used to widen the formulation or process window.

분산액 안정제 또는 분산제Dispersion stabilizers or dispersants

분산액 안정제 또는 분산제는 반응 매질에서 부가물 입자의 안정한 분산을 가능하게 한다. 이러한 분산액 안정제 없이, 형성된 부가물 입자는 반응 동안 응집되고 점성 괴상으로 침전될 수 있고, 따라서 목적하는 미세한 구형 입자는 수득할 수 없다. 최적의 분산제는 좁은 입자 크기 분포를 갖는 안정한 분산액을 제조하는데 중요하다. 반응성 분산제가 흔히 비반응성 분산제보다 더 효과적인데, 이는 입자 표면으로부터 떨어진 분산제의 탈착 또는 이동은 일단 입자 상과 반응시키면 거의 없기 때문이다. 엘라스토머/에폭시 부가물은 본 발명에 따라 반응성 분산제로서 사용된다. 반응성 분산제의 적합한 분자량 범위는 약 1,000 내지 300,000, 바람직하게는 약 2,000 내지 100,000, 가장 바람직하게는 약 3,000 내지 10,000이다.
Dispersion stabilizers or dispersants enable stable dispersion of adduct particles in the reaction medium. Without this dispersion stabilizer, the adduct particles formed can agglomerate and precipitate into viscous masses during the reaction, and thus the desired fine spherical particles cannot be obtained. Optimal dispersants are important for producing stable dispersions with narrow particle size distributions. Reactive dispersants are often more effective than non-reactive dispersants because there is little desorption or migration of the dispersant away from the particle surface once it has reacted with the particulate phase. Elastomer / epoxy adducts are used according to the invention as reactive dispersants. Suitable molecular weight ranges for the reactive dispersant are about 1,000 to 300,000, preferably about 2,000 to 100,000, most preferably about 3,000 to 10,000.

반응성 분산제로서 에폭시/엘라스토머 부가물Epoxy / Elastomer Additives as Reactive Dispersants

에폭시/엘라스토머 부가물 자체는 일반적으로 약 1:5 내지 5:1부의 에폭시 또는 기타 중합체 대 엘라스토머, 보다 바람직하게는 약 1:3 내지 3:1부의 에폭시 대 엘라스토머를 포함한다. 보다 통상적으로, 부가물은 약 5% 이상, 보다 통상적으로 약 12% 이상, 훨씬 더 통상적으로 약 18% 이상의 엘라스토머를 포함하고, 또한 통상적으로 약 50% 이하, 훨씬 더 통상적으로 약 40% 이하, 더욱 더 통상적으로 약 35% 이하의 엘라스토머를 포함하지만, 높거나 낮은 비율이 가능하다. 부가물용으로 적합한 엘라스토머는 주쇄 또는 측쇄에서 작용화될 수 있다. 적합한 작용성 그룹은 -COOH, -NH2, -NH-, -OH, -SH, -CONH2, -CONH-, -NHCONH-, -NCO, -NCS, 및 옥시란 또는 글리시딜 그룹 등을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다. 엘라스토머는 임의로 가황화가능하거나 후가교결합가능할 수 있다. 예시적 엘라스토머는, 제한 없이, 천연 고무, 스티렌-부타디엔 고무, 폴리이소프렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔, 이소프렌-부타디엔 공중합체, 네오프렌, 니트릴 고무, 부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체, 부틸 고무, 폴리설파이드 엘라스토머, 아크릴 엘라스토머, 아크릴로니트릴 엘라스토머, 실리콘 고무, 폴리실록산, 폴리에스테르 고무, 디이소시아네이트-결합된 축합 엘라스토머, EPDM(에틸렌-프로필렌 디엔 고무), 클로로설폰화 폴리에틸렌, 불소화 탄화수소, 열가소성 엘라스토머, 예를 들어, 스티렌 및 부타디엔 또는 이소프렌의 블록 공중합체의 (AB) 및 (ABA) 형태, 폴리우레탄 또는 폴리에스테르의 다중-세그먼트 블록 공중합체의 (AB)n 형태 등을 포함한다. 카복실 말단 부타디엔-아크릴로니트릴(CTBN)이 작용화 엘라스토머로서 사용되는 경우, 바람직한 니트릴 함량은 12 내지 35중량%, 더욱 바람직하게는 20 내지 33중량%이다.The epoxy / elastomer adduct itself generally comprises about 1: 5 to 5: 1 parts epoxy or other polymer to elastomer, more preferably about 1: 3 to 3: 1 parts epoxy to elastomer. More typically, the adduct comprises at least about 5%, more typically at least about 12%, even more typically at least about 18%, and also typically at most about 50%, even more typically at most about 40%, Even more typically, up to about 35% of the elastomer is included, although high or low ratios are possible. Elastomers suitable for the adduct may be functionalized in the main chain or in the side chain. Suitable functional groups include -COOH, -NH 2 , -NH-, -OH, -SH, -CONH 2 , -CONH-, -NHCONH-, -NCO, -NCS, and oxirane or glycidyl groups, and the like. Including but not limited to. The elastomer may be optionally vulcanizable or postcrosslinkable. Exemplary elastomers include, without limitation, natural rubber, styrene-butadiene rubber, polyisoprene, polyisobutylene, polybutadiene, isoprene-butadiene copolymer, neoprene, nitrile rubber, butadiene-acrylonitrile copolymer, butyl rubber, poly Sulfide elastomers, acrylic elastomers, acrylonitrile elastomers, silicone rubbers, polysiloxanes, polyester rubbers, diisocyanate-bonded condensation elastomers, ethylene-propylene diene rubbers (EPDM), chlorosulfonated polyethylene, fluorinated hydrocarbons, thermoplastic elastomers, for example Such as (AB) and (ABA) forms of block copolymers of styrene and butadiene or isoprene, (AB) n forms of multi-segment block copolymers of polyurethane or polyester, and the like. When carboxyl terminated butadiene-acrylonitrile (CTBN) is used as the functionalized elastomer, the preferred nitrile content is 12 to 35% by weight, more preferably 20 to 33% by weight.

바람직한 에폭사이드-작용화 에폭시/엘라스토머 부가물의 예는 상표명 HyPox™ RK84(도 5)하에 에폭시 수지와의 혼합물, CTBN 엘라스토머로 개질된 비스페놀 A 에폭시 수지, 및 상표명 HyPox™ RA1340(도 6), CTBN 엘라스토머로 개질된 에폭시 페놀 노볼락 수지로 시판되고, 둘 다 CVC Thermoset Specialties(Moorestown, NJ)로부터 시판된다. 비스페놀 A 에폭시 수지 이외에, 기타 에폭시 수지를 에폭시/엘라스토머 부가물, 예를 들어, n-부틸 글리시딜 에테르, 스티렌 옥사이드 및 페닐글리시딜 에테르; 이작용성 에폭시 화합물, 예를 들어, 비스페놀 A 디글리시딜 에테르, 비스페놀 F 디글리시딜 에테르, 비스페놀 S 디글리시딜 에테르 및 디글리시딜 프탈레이트; 삼작용성 화합물, 예를 들어, 트리글리시딜 이소시아누레이트, 트리글리시딜 p-아미노페놀; 사작용성 화합물, 예를 들어, 테트라글리시딜 m-크실렌 디아민 및 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄; 및 추가의 작용성 그룹을 갖는 화합물, 예를 들어, 크레졸 노볼락 폴리글리시딜 에테르, 페놀 노볼락 폴리글리시딜 에테르 등을 제조하는데 사용될 수 있다. 본 발명에 사용하기에 적합한 추가의 또는 대안의 에폭시/엘라스토머 및 기타 부가물의 예는 모두 본원에 참조로 인용된, 차플리키, 마이클(Czaplicki, Michael)의 미국 특허 제6,846,559호 및 미국 특허 공보 제2004/0204551호에 기재되어 있다.
Examples of preferred epoxide-functionalized epoxy / elastomeric adducts are mixtures with epoxy resins under the tradename HyPox ™ RK84 (FIG. 5), bisphenol A epoxy resins modified with CTBN elastomers, and tradename HyPox ™ RA1340 (FIG. 6), CTBN elastomers And commercially available from CVC Thermoset Specialties (Moorestown, NJ). In addition to bisphenol A epoxy resins, other epoxy resins include epoxy / elastomeric adducts such as n-butyl glycidyl ether, styrene oxide and phenylglycidyl ether; Bifunctional epoxy compounds such as bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether and diglycidyl phthalate; Trifunctional compounds such as triglycidyl isocyanurate, triglycidyl p-aminophenol; Tetrafunctional compounds such as tetraglycidyl m-xylene diamine and tetraglycidyldiaminodiphenylmethane; And compounds having additional functional groups such as cresol novolac polyglycidyl ether, phenol novolac polyglycidyl ether, and the like. Examples of additional or alternative epoxy / elastomers and other adducts suitable for use in the present invention are described in US Pat. No. 6,846,559 and C. Patent Publications of Czaplicki, Michael, all of which are incorporated herein by reference. 2004/0204551.

아민 화합물 + 반응성 분산제Amine Compounds + Reactive Dispersants

경화제를 제조하기 위해, 하나의 비제한적인 공정에서, 선택된 아민 화합물 및 에폭사이드-작용화 반응성 분산제를 분산제가 완전히 도입되었음을 보장하기 위해 먼저 반응시킨다. 반응성 분산제를 선택된 용매 시스템에 용해시키고, 약 2분 내지 약 3시간, 바람직하게는 약 4분 내지 약 2시간, 가장 바람직하게는 약 5분 내지 약 1시간 동안 가열 및 교반의 조합을 사용하여 반응시켰다. 따라서, 본 발명에 사용될 수 있는 반응 온도는 통상적으로 40℃ 내지 90℃, 바람직하게는 50℃ 내지 80℃이고, 출발 재료, 즉 아민 화합물 및 에폭사이드-작용화 반응성 분산제의 농도는 통상적으로 약 2 내지 40중량%, 바람직하게는 약 5 내지 30중량%이다. 반응성 분산제의 양은, 반응성 분산제 및 아민 화합물의 배합된 중량을 기준으로 하여 약 1 내지 70%(w/w), 바람직하게는 반응성 분산제 및 아민 화합물의 배합된 중량을 기준으로 하여 약 5 내지 50%(w/w), 가장 바람직하게는 반응성 분산제 및 아민 화합물의 배합된 중량을 기준으로 하여 약 9 내지 35%(w/w)이다. 에폭사이드-작용화 반응성 분산제가 엘라스토머에 결합되지 않는 잔류성 에폭시 화합물을 함유하는 특별한 경우, 예를 들어, 도 5 및 6에서와 같이, 상기한 반응성 분산제로부터의 미반응 에폭시 화합물 제거로 이루어진 추가의 정제 단계를 시작한다. 이 정제 단계는 에폭시 화합물 첨가 후 응집물 및 고체 재료의 괴상의 형성을 피하기 위해 특히 중요하다(이하 참조).
To prepare the curing agent, in one non-limiting process, the selected amine compound and the epoxide-functionalized reactive dispersant are first reacted to ensure that the dispersant is fully introduced. The reactive dispersant is dissolved in the selected solvent system and reacted using a combination of heating and stirring for about 2 minutes to about 3 hours, preferably about 4 minutes to about 2 hours, most preferably about 5 minutes to about 1 hour. I was. Accordingly, reaction temperatures that can be used in the present invention are typically from 40 ° C. to 90 ° C., preferably from 50 ° C. to 80 ° C., and the concentrations of the starting materials, ie the amine compound and the epoxide-functionalized reactive dispersant, are typically about 2 To 40% by weight, preferably about 5 to 30% by weight. The amount of the reactive dispersant is about 1 to 70% (w / w) based on the combined weight of the reactive dispersant and the amine compound, preferably about 5 to 50% based on the combined weight of the reactive dispersant and the amine compound. (w / w), most preferably about 9 to 35% (w / w) based on the combined weight of the reactive dispersant and the amine compound. In special cases where the epoxide-functionalized reactive dispersant contains a residual epoxy compound that is not bonded to the elastomer, further purification consists of removing the unreacted epoxy compound from the reactive dispersant described above, for example, in FIGS. 5 and 6. Start the step. This purification step is especially important to avoid the formation of aggregates and aggregates of solid materials after the addition of epoxy compounds (see below).

에폭시 상용성 재료Epoxy compatible materials

에폭시 상용성 재료는 에폭시 수지와 상용성인 작용성 그룹 또는 그룹들을 함유하는 임의의 에폭시-작용성 재료이다. 하나의 예는 상표명 HyPox™ RK84(도 5) 및 상표명 HyPox RA1340(도 6)으로 CVC Thermoset Specialties(Moorestown, NJ)로부터 시판되는 에폭시 수지와의 혼합물로서 시판되는 에폭사이드-작용화 에폭시/엘라스토머 부가물이다. 상기한 HyPox 엘라스토머는 에폭시 상용성 단량체 아크릴로니트릴을 함유한다. 기타 예는 에폭시 상용성 공단량체, 예를 들어, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트를 함유하는 에폭시-작용성 폴리아크릴레이트를 포함하지만, 이에 제한되지 않는다.
Epoxy compatible materials are any epoxy-functional materials containing functional groups or groups compatible with epoxy resins. One example is an epoxide-functionalized epoxy / elastomeric adduct commercially available as a mixture with an epoxy resin commercially available from CVC Thermoset Specialties (Moorestown, NJ) under the tradename HyPox ™ RK84 (FIG. 5) and the trade name HyPox RA1340 (FIG. 6). to be. The HyPox elastomers described above contain epoxy compatible monomer acrylonitrile. Other examples include, but are not limited to, epoxy compatible comonomers such as epoxy-functional polyacrylates containing acrylonitrile and methyl methacrylate.

아민 화합물 + 에폭사이드-작용화 반응성 분산제 + 에폭시 화합물, 캡슐화되지 않은 입자의 형성Amine Compound + Epoxide-functionalized Reactive Dispersant + Epoxy Compound, Formation of Unencapsulated Particles

아민 화합물을 에폭사이드-작용화 분산제와 반응시킨 후, 캡슐화되지 않은 잠재성 하드너 입자의 형성은 에폭시 화합물 첨가로 시작한다. 에폭시 화합물의 용액을 에폭시 수지 용액의 일정한 연속 첨가를 허용하는 장치, 예를 들어, 시린지 펌프 또는 연동 펌프 등을 사용하여 약 5분 내지 6시간, 바람직하게는 약 10분 내지 4시간, 가장 바람직하게는 약 15분 내지 2시간에 걸쳐 아민 화합물-분산액 안정제 용액의 교반된 가열 용액에 서서히 첨가한다. 에폭시 화합물의 양은, 아민 화합물, 반응성 분산제 및 에폭시 화합물의 배합된 중량을 기준으로 하여, 약 10 내지 90%(w/w), 바람직하게는 약 30 내지 85%(w/w), 가장 바람직하게는 약 50 내지 80%(w/w)이다. 한 예에서, 반응성 분산제 및 아민의 용액을 불활성 대기하에 가열하면서 진탕시키고, 소정의 시간 후, 에폭시 화합물의 용액을 소정의 시간 동안 첨가한다. 원래의 투명한 용액은 에폭시 화합물이 반응하기 시작함에 따라 불투명해진다. 반응이 진행함에 따라, 반응 시스템의 불투명도는 결국 생성되는 독특한 유백색 혼탁 분산액과 함께 점차적으로 증가한다.After reacting the amine compound with the epoxide-functionalized dispersant, the formation of unencapsulated latent hardener particles begins with the addition of an epoxy compound. The solution of the epoxy compound is about 5 minutes to 6 hours, preferably about 10 minutes to 4 hours, most preferably using an apparatus that allows constant continuous addition of the epoxy resin solution, such as a syringe pump or peristaltic pump, etc. Is slowly added to the stirred heated solution of the amine compound-dispersion stabilizer solution over about 15 minutes to 2 hours. The amount of epoxy compound is about 10 to 90% (w / w), preferably about 30 to 85% (w / w), most preferably based on the combined weight of the amine compound, the reactive dispersant and the epoxy compound. Is about 50-80% (w / w). In one example, a solution of the reactive dispersant and the amine is shaken while heating under an inert atmosphere, and after a predetermined time, a solution of the epoxy compound is added for a predetermined time. The original clear solution becomes opaque as the epoxy compound begins to react. As the reaction proceeds, the opacity of the reaction system gradually increases with the unique milky turbid dispersion eventually produced.

출발 재료의 반응 온도 및 농도가 너무 높을 경우, 응집물은 적합한 양의 반응성 분산재의 존재하에서도 쉽게 형성될 수 있다. 따라서, 본 발명에 사용될 수 있는 반응 온도는 통상적으로 40℃ 내지 90℃, 바람직하게는 50℃ 내지 80℃이고, 출발 재료, 즉 아민 화합물, 반응성 분산제 및 에폭시 화합물의 농도는 통상적으로 2 내지 40중량%, 바람직하게는 5 내지 30중량%이다. 일반적으로, 부가물의 입자 크기는 출발 재료의 증가된 농도에 따라 증가하지만, 반응성 분산제의 증가된 농도에 따라 감소한다.
If the reaction temperature and concentration of the starting material is too high, aggregates can easily form even in the presence of a suitable amount of reactive dispersant. Thus, the reaction temperatures that can be used in the present invention are typically from 40 ° C. to 90 ° C., preferably from 50 ° C. to 80 ° C., and the concentrations of the starting materials, ie the amine compounds, the reactive dispersants and the epoxy compounds, are usually from 2 to 40 weight. %, Preferably 5 to 30% by weight. In general, the particle size of the adduct increases with increasing concentration of the starting material but decreases with increasing concentration of the reactive dispersant.

캡슐화Encapsulation

입자를, 캡슐화물 또는 보호용 쉘의 각 층을 하나 이상의 연속 단계로 입자 상에 적용하면서 후속적으로 캡슐화한다. 구형 경화제를 캡슐화하는 각종 공지된 방법을 본 발명에 사용할 수 있다. 하나의 양태에서, 부가물 입자를 캡슐화제와 단계적(step-wise)으로 반응시켜 둘 이상의 보호용 쉘을 형성할 수 있고, 여기서 상기한 캡슐화제는 다작용성 이소시아네이트 화합물 또는 다작용성 이소시아네이트 화합물과 다작용성 에폭시 화합물의 혼합물 또는 다작용성 이소시아네이트와 에폭시 상용성 화합물(예: 아크릴로니트릴)의 혼합물 또는 다작용성 이소시아네이트, 에폭시 화합물 및 에폭시 상용성 화합물의 혼합물로 구성된다. 적합한 다작용성 이소시아네이트 화합물은 톨루엔 디이소시아네이트, 메틸렌 디페닐 디이소시아네이트, 수소화 메틸렌 디페닐 디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소시아네이트, 이소포론 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 크실릴렌 디이소시아네이트, 수소화 크실릴렌 디이소시아네이트, 테트라메틸크실렌 디이소시아네이트, 1,3,6-헥사메틸렌 트리이소시아네이트, 리신 디이소시아네이트, 트리페닐에탄 트리이소시아네이트, 이러한 화합물 및 기타 활성 수소-함유 화합물의 첨가로 형성된 다작용성 이소시아네이트 화합물 및 이들의 임의의 혼합물의 단핵 종 및 다핵 종을 포함한다.The particles are subsequently encapsulated while applying each layer of the encapsulation or protective shell onto the particles in one or more successive steps. Various known methods of encapsulating spherical curing agents can be used in the present invention. In one embodiment, the adduct particles can be reacted step-wise with the encapsulating agent to form two or more protective shells, wherein the encapsulating agent is a polyfunctional isocyanate compound or a polyfunctional isocyanate compound and a multifunctional epoxy. Mixtures of compounds or mixtures of polyfunctional isocyanates with epoxy compatible compounds such as acrylonitrile or mixtures of polyfunctional isocyanates, epoxy compounds and epoxy compatible compounds. Suitable polyfunctional isocyanate compounds include toluene diisocyanate, methylene diphenyl diisocyanate, hydrogenated methylene diphenyl diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylyl Ethylene diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, lysine diisocyanate, triphenylethane triisocyanate, polyfunctional isocyanate compounds formed by the addition of these compounds and other active hydrogen-containing compounds and these Mononuclear species and multinuclear species of any mixture of;

다작용성 에폭시의 대표적인 예는 메틸렌 비스글리시딜 아닐린, HELOXY™ Modifier 48(헥시온 스페셜티 케미칼스(Hexion Specialty Chemicals) 제품), Toagosei GP-301 그래프트 폴리메틸메타크릴레이트-g-에폭시 개질된 아크릴레이트 중합체 및 아크릴로니트릴(에폭시 상용성 공단량체)을 함유하는 다작용성 에폭시를 포함하지만, 기타 다작용성 에폭시도 포함시켜야 한다.Representative examples of multifunctional epoxies are methylene bisglycidyl aniline, HELOXY ™ Modifier 48 (from Hexion Specialty Chemicals), Toagosei GP-301 graft polymethylmethacrylate-g-epoxy modified acrylate Polyfunctional epoxies containing polymers and acrylonitrile (epoxy compatible comonomers) are included, but other multifunctional epoxies should also be included.

캡슐화되지 않은 입자를 캡슐화하는데 사용되는 캡슐화제의 양은 경화제 마스터배치의 저장 안정성 및 경화성에 영향을 미친다. 동일한 입자의 첨가 생성물로, 증가된 양의 캡슐화제는 저장 안정성을 향상시키지만 경화성은 저하시킨다. 따라서, 직경 약 0.1㎛ 내지 30㎛인 부가물 입자의 경우, 캡슐화제는 코어 입자 대 캡슐화제 약 50:50 내지 95:5(w/w), 바람직하게는 코어 입자 대 캡슐화제 약 60:40 내지 90:10(w/w), 가장 바람직하게는 코어 입자 대 캡슐화제 약 70:30 내지 90:10(w/w)의 비로 사용된다. 추가로, 캡슐화제가 이소시아네이트 화합물과 에폭시 화합물 또는 이소시아네이트 화합물과 에폭시 상용성 화합물의 혼합물일 경우, 에폭시 화합물의 양은 이소시아네이트 화합물 대 에폭시 화합물 약 1:99 내지 99:1(w/w), 바람직하게는 이소시아네이트 화합물 대 에폭시 화합물 약 60:40 내지 99:1(w/w), 가장 바람직하게는 이소시아네이트 화합물 대 에폭시 화합물 약 80:20 내지 99:1(w/w)의 비로 사용된다. 추가로, 캡슐화제가 이소시아네이트, 에폭시 화합물 및 에폭시 상용성 화합물의 혼합물일 경우, 에폭시 화합물의 양은 이소시아네이트 화합물 대 에폭시 화합물 약 1:99 내지 99:1(w/w), 바람직하게는 이소시아네이트 화합물 대 에폭시 화합물 + 에폭시 상용성 화합물 약 60:40 내지 99:1(w/w), 가장 바람직하게는 이소시아네이트 화합물 대 에폭시 화합물 약 80:20 내지 99:1(w/w)의 비로 사용된다. 따라서, 저장 안정성과 경화성 사이의 절충안은 부가물 입자의 크기에 따라 변하고, 더 작은 입자 크기는 동일한 방출 또는 장벽 특성을 달성하기 위해 증가된 양의 쉘 형성 재료, 예를 들어, 다작용성 이소시아네이트를 필요로 한다.The amount of encapsulating agent used to encapsulate the unencapsulated particles affects the storage stability and curability of the curing agent masterbatch. With the addition of the same particles, increased amounts of encapsulating agent improve storage stability but lower curability. Thus, for adduct particles of about 0.1 μm to 30 μm in diameter, the encapsulating agent is about 50:50 to 95: 5 (w / w) of core particles to encapsulating agent, preferably about 60:40 of core particles to encapsulating agent. To 90:10 (w / w), most preferably a ratio of core particles to encapsulant about 70:30 to 90:10 (w / w). In addition, when the encapsulating agent is an isocyanate compound and an epoxy compound or a mixture of an isocyanate compound and an epoxy compatible compound, the amount of the epoxy compound is about 1:99 to 99: 1 (w / w), preferably isocyanate Compound to epoxy compound about 60:40 to 99: 1 (w / w), most preferably isocyanate compound to epoxy compound about 80:20 to 99: 1 (w / w). In addition, when the encapsulating agent is a mixture of isocyanate, epoxy compound and epoxy compatible compound, the amount of epoxy compound is about 1:99 to 99: 1 (w / w), preferably isocyanate compound to epoxy compound + Epoxy compatible compounds about 60:40 to 99: 1 (w / w), most preferably in an ratio of isocyanate compound to epoxy compound about 80:20 to 99: 1 (w / w). Thus, the compromise between storage stability and curability varies with the size of the adduct particles, and smaller particle sizes require increased amounts of shell forming material, for example polyfunctional isocyanates, to achieve the same release or barrier properties. Shall be.

하나의 양태에서, 입자 형성 반응이 완료되면, 캡슐화되지 않은 입자를 여과에 의해 반응 매질로부터 분리한 다음, 새로운 용매로 세척한다. 이어서, 입자를 후속적으로 캡슐화한다.
In one embodiment, upon completion of the particle formation reaction, the unencapsulated particles are separated from the reaction medium by filtration and then washed with fresh solvent. The particles are subsequently encapsulated.

마스터배치Masterbatch

일반적으로, 마스터배치를 형성하기 위해, 캡슐화 입자를, 상기 입자와 에폭시 수지의 배합된 중량을 기준으로 하여, 약 5 내지 90%(w/w), 바람직하게는 상기 입자와 액체 에폭시 화합물의 배합된 중량을 기준으로 하여, 약 15 내지 80%(w/w), 가장 바람직하게는 상기 입자와 액체 에폭시 화합물의 배합된 중량을 기준으로 하여, 약 20 내지 70%(w/w) 범위로 에폭시 수지에 균일하게 분산시킨다.Generally, in order to form a masterbatch, the encapsulated particles are formulated at about 5 to 90% (w / w), preferably based on the combined weight of the particles and the epoxy resin, preferably the particles and the liquid epoxy compound. Based on the total weight of the epoxy, in the range of about 20 to 70% (w / w), most preferably based on the combined weight of the particles and the liquid epoxy compound. Disperse uniformly in resin.

하나의 양태에서, 에폭시 수지는 비스페놀 A, 비스페놀 F, 노볼락 에폭시 등의 하나 이상의 에폭시 수지일 수 있다.In one embodiment, the epoxy resin can be one or more epoxy resins such as bisphenol A, bisphenol F, novolac epoxy, and the like.

하나의 양태에서, 2차 입자의 형성을 피하기 위해, 캡슐화 입자를 1차 입자로서의 에폭시 수지에, 예를 들어, 3-롤 밀로 블렌딩하여 기계적으로 분산시킨다.In one embodiment, to avoid the formation of secondary particles, the encapsulated particles are mechanically dispersed in an epoxy resin as primary particles, for example by blending with a 3-roll mill.

또 다른 양태에서, 캡슐화 공정을 완료한 후, 가열 및 교반을 정지하고, 에폭시 수지를 분산액에 첨가한다. 혼합물을 에폭시 수지를 분산액에 균일하게 분포시키기에 충분히 다시 교반한다. 이어서, 용매를 진공 증류 등을 사용하여 제거하여 총 고체 함량이 약 60 내지 100%(w/w), 바람직하게는 약 70 내지 100%(w/w), 가장 바람직하게는 약 80 내지 100%(w/w)이도록 한다. 이어서, 입자를 당해 분야의 숙련가에게 공지된 기술, 예를 들어, 3-롤 밀 등을 사용하여 추가로 에폭시 수지에 분산시킨다.In another embodiment, after the encapsulation process is complete, heating and stirring are stopped and the epoxy resin is added to the dispersion. The mixture is stirred again again sufficiently to evenly distribute the epoxy resin in the dispersion. The solvent is then removed using vacuum distillation or the like so that the total solids content is from about 60 to 100% (w / w), preferably from about 70 to 100% (w / w), most preferably from about 80 to 100% (w / w). The particles are then further dispersed in the epoxy resin using techniques known to those skilled in the art, such as a 3-roll mill or the like.

또 다른 양태에서, 반응이 완료되면, 고체 함량 100%(w/w)가 되도록 용매를 진공 증류로 제거한다. 이어서, 고체 입자를 에폭시 수지에 첨가하고, 입자를 당해 분야의 숙련가에게 공지된 기술, 예를 들어, 3-롤 밀 등을 사용하여 에폭시 수지에 추가로 분산시킨다.In another embodiment, upon completion of the reaction, the solvent is removed by vacuum distillation to a solid content of 100% (w / w). Solid particles are then added to the epoxy resin and the particles are further dispersed in the epoxy resin using techniques known to those skilled in the art, such as a 3-roll mill or the like.

또 다른 양태에서, 반응이 완료되면, 입자의 분산액을 여과하여 입자를 분리한다. 새로운 용매를 사용하여 입자의 표면에 부착된 미반응 출발 재료를 세척한다. 이어서, 에폭시 수지를 고체 입자에 첨가하고, 혼합물을 당해 분야의 숙련가에게 공지된 기술, 예를 들어, 3-롤 밀 등을 사용하여 추가로 분산시킨다.In another embodiment, upon completion of the reaction, the dispersion of particles is filtered to separate the particles. Fresh solvent is used to wash the unreacted starting material attached to the surface of the particles. The epoxy resin is then added to the solid particles and the mixture is further dispersed using techniques known to those skilled in the art, such as a 3-roll mill or the like.

본원에 기술된 접착제 조성물은 전도성 접착제, 복합체, 성형 컴파운드, 이방성 전도성 필름(ACF) 접착제, 비-랜덤 어레이 ACF, 비-전도성 접착제 필름(NCF), 피복물, 캡슐화제, 언더필 재료, 납-부재 땜납 등을 포함하는 각종 적용에 잠재적으로 유용하다.The adhesive compositions described herein include conductive adhesives, composites, molding compounds, anisotropic conductive film (ACF) adhesives, non-random array ACFs, non-conductive adhesive films (NCFs), coatings, encapsulants, underfill materials, lead-free solders Potentially useful for a variety of applications, including and the like.

발명을 상세하게 기술하고, 본 발명은 다음 비제한적인 실시예로 설명된다:
Having described the invention in detail, the invention is illustrated by the following non-limiting examples:

실시예:Example

캡슐화되지 않은 코어 입자의 형성 실시예:Example of Formation of Unencapsulated Core Particles:

실시예 1. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(1)Example 1 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (1)

시판 재료 HyPox RK84[CVC Thermoset Specialties의 시판 재료, 및 비스페놀 A 에폭시 수지 및 이의 부가물과 CTBN의 혼합물(도 5)]를 분산액 안정제로서 사용했다. PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에, 0.93g의 CTBN-에폭시 부가물, 1.64g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸 및 48g의 4-메틸-2-펜탄온(MIBK)을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징시켰다. 1시간 후, 3.39g(0.019당량)의 DER™ 332(다우 케미칼(Dow Chemical) 제품) 및 3.4g의 MIBK의 용액을 20분에 걸쳐 적가한 후, 반응물을 300rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반했다. 유백색 분산액이 형성되었다. 분산액을 반응기로부터 배출시키고, 원심분리하고, MIBK로 세척하고, 증발 건조시켜 3.6g(60.4% 수율)의 생성물을 수득했다. 소적의 분산액을 희석시키고, 유리 슬라이드 상에 피복시키고, 실온에서 진공하에 건조시켰다. 건조된 샘플은 금의 박층으로 스퍼터링하고, 이의 주사 전자현미경 사진은 Hitachi S-2460N 주사 전자현미경을 사용하여 수득했다.
Commercial material HyPox RK84 (commercial material from CVC Thermoset Specialties and bisphenol A epoxy resin and adducts thereof and a mixture of CTBN (FIG. 5)) was used as dispersion stabilizer. In a three neck round bottom flask equipped with PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropwise funnel and argon gas inlet, 0.93 g of CTBN-epoxy adduct, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole and 48 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK) were charged. The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 hour, a solution of 3.39 g (0.019 equiv) of DER ™ 332 (Dow Chemical) and 3.4 g MIBK was added dropwise over 20 minutes, then the reaction was stirred under an argon atmosphere for 6 hours at 300 rpm. did. A milky white dispersion formed. The dispersion was withdrawn from the reactor, centrifuged, washed with MIBK and evaporated to dryness to yield 3.6 g (60.4% yield) of product. The droplets of dispersion were diluted, coated on a glass slide and dried under vacuum at room temperature. The dried sample was sputtered with a thin layer of gold, and scanning electron micrographs thereof were obtained using a Hitachi S-2460N scanning electron microscope.

실시예 2. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(2)Example 2. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (2)

CVC Thermoset Specialties HyPox™ RK84로부터 분리된 CTBN-에폭시 부가물을 분산액 안정제로서 사용했다. 재료를 메틸 에틸 케톤에 용해시킨 다음, 메탄올로 침전시키고, 당해 공정을 2회 더 반복하여 부가물을 수득했다. 캡슐화되지 않은 코어 입자(2)는 0.51g의 CTBN-에폭시 부가물, 1.63g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸, 3.51g(0.02당량)의 DER™ 332 및 51g의 MIBK로부터 실시예 1의 공정을 사용하여 합성하여 4.4g(78% 수율)의 입자를 수득했다.
CTBN-epoxy adduct isolated from CVC Thermoset Specialties HyPox ™ RK84 was used as dispersion stabilizer. The material was dissolved in methyl ethyl ketone and then precipitated with methanol and the process repeated two more times to give the adduct. Unencapsulated core particles (2) were obtained from Example 1 from 0.51 g of CTBN-epoxy adduct, 1.63 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.51 g (0.02 equivalent) of DER ™ 332 and 51 g of MIBK. Synthesis using the process of yielded 4.4 g (78% yield) of particles.

실시예 3. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RA1340으로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(3)Example 3. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RA1340 (3)

시판 재료 HyPox RA1340[CVC Thermoset Specialties의 시판 재료, 및 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르 및 이의 부산물과 CTBN의 혼합물(도 6)]을 분산액 안정제로서 사용했다. 마이크로캡슐 코어(3)은 1.15g의 상기한 CTBN-에폭시 부가물, 1.64g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸, 2.87g(0.0164당량)의 DER™ 332 및 51g의 MIBK로부터 실시예 1의 공정을 사용하여 합성하여 1.2g(21.2% 수율)의 입자를 수득했다.
Commercial material HyPox RA1340 (commercial material from CVC Thermoset Specialties, and diglycidyl ether of bisphenol A and its by-product and mixture of CTBN (FIG. 6)) was used as dispersion stabilizer. Microcapsule core 3 was prepared from 1.15 g of the CTBN-epoxy adduct described above, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 2.87 g (0.0164 equivalents) of DER ™ 332 and 51 g of MIBK. Synthesis using the process of afforded 1.2 g (21.2% yield) of particles.

실시예 4. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RA1340으로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(4)Example 4 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RA1340 (4)

CVC Thermoset Specialties HyPox™ RA1340으로부터 분리된 CTBN-에폭시 부가물을 분산액 안정제로서 사용했다. 부가물은 먼저 재료를 메틸 에틸 케톤에 용해시킨 다음, 메탄올로 침전시키고, 당해 공정을 2회 더 반복하여 수득했다. 캡슐화되지 않은 코어 입자(4)는 0.53g의 CTBN-부가물, 1.65g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸, 3.5g(0.02당량)의 DER™ 332 및 51g의 MIBK로부터 실시예 1에 기술된 절차를 사용하여 합성하여 2.6g(45.9% 수율)의 입자를 수득했다.
CTBN-epoxy adduct isolated from CVC Thermoset Specialties HyPox ™ RA1340 was used as dispersion stabilizer. The adduct was obtained by first dissolving the material in methyl ethyl ketone, then precipitating with methanol and repeating this process two more times. Unencapsulated core particles (4) were prepared in Example 1 from 0.53 g of CTBN-adduct, 1.65 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER ™ 332 and 51 g of MIBK. Synthesis using the procedure described gave 2.6 g (45.9% yield) of particles.

실시예 5. 2-에틸-4-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(5)Example 5 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Ethyl-4-methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (5)

캡슐화되지 않은 코어 입자(5)는 0.57g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 2.20g(0.02mol)의 2-에틸-4-메틸이미다졸, 3.5g(0.02당량)의 DER™ 332 및 63g의 MIBK로부터 실시예 1의 공정을 사용하여 합성하여 0.7g(11.2% 수율)의 입자를 수득했다.
Unencapsulated core particles (5) consisted of 0.57 g of Example 2 CTBN-epoxy adduct, 2.20 g (0.02 mol) of 2-ethyl-4-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER ™ 332 And 63 g of MIBK were synthesized using the process of Example 1 to yield 0.7 g (11.2% yield) of particles.

실시예 6. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RA1340으로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(6)Example 6 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RA1340 (6)

캡슐화되지 않은 코어 입자(6)은 0.26g의 실시예 4의 CTBN-에폭시 부가물, 1.64g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸, 3.5g(0.02당량)의 DER™ 332 및 50g의 MIBK로부터 실시예 1의 공정을 사용하여 합성하여 1.6g(26.9% 수율)의 입자를 수득했다.
Unencapsulated core particles 6 consisted of 0.26 g of CTBN-epoxy adduct of Example 4, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equivalent) of DER ™ 332 and 50 g of MIBK Synthesis was carried out using the process of Example 1 from to obtain 1.6 g (26.9% yield) of particles.

실시예 7. 2-에틸-4-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(7)Example 7 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Ethyl-4-methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (7)

캡슐화되지 않은 코어 입자(7)은 0.57g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 2.20g(0.02mol)의 2-에틸-4-메틸이미다졸, 3.5g(0.02당량)의 DER™ 332 및 56g의 MIBK로부터 실시예 1의 공정을 사용하여 합성하고, 반응물을 300rpm에서 16.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반하여 2.5g(40% 수율)의 입자를 수득했다.
Unencapsulated core particles (7) consisted of 0.57 g of the CTBN-epoxy adduct of Example 2, 2.20 g (0.02 mol) 2-ethyl-4-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER ™ 332 And 56 g of MIBK were synthesized using the process of Example 1, and the reaction was stirred at 300 rpm for 16.5 hours under an argon atmosphere to yield 2.5 g (40% yield) of particles.

실시예 8. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(8)Example 8 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (8)

마이크로캡슐 코어(8)은 0.52g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 1.64g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸, 3.5g(0.02당량)의 DER™ 332 및 51g의 MIBK로부터 실시예 1의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 300rpm에서 16시간 동안 아르곤 대기하에 교반하여 4.0g(71% 수율)의 입자를 수득했다.
The microcapsule core 8 is run from 0.52 g of the CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER ™ 332 and 51 g of MIBK It synthesize | combined using the process of Example 1. The reaction was stirred at 300 rpm for 16 h under argon atmosphere to yield 4.0 g (71% yield) of particles.

실시예 9. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(9)Example 9 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (9)

캡슐화되지 않은 코어 입자(9)는 0.52g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 1.64g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸, 3.5g(0.02당량)의 DER™ 332 및 52g의 MIBK로부터 실시예 1의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반하여 4.18g(74% 수율)의 입자를 수득했다.
Unencapsulated core particles 9 were 0.52 g of the CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER ™ 332 and 52 g of MIBK It synthesize | combined using the process of Example 1 from the. The reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere to yield 4.18 g (74% yield) of particles.

실시예 10. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(10)Example 10. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (10)

캡슐화되지 않은 코어 입자(10)은 0.52g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 1.64g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸 및 37.3g의 4-메틸-2-펜탄온(MIBK)으로부터 합성했다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징시켰다. 1시간 후, 3.5g(0.02당량)의 DER™ 332(다우 케미칼 제품) 및 3.5g의 MIBK의 용액을 15분에 걸쳐 적가한 후, 반응물을 1000rpm에서 1시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 이후, 1Og의 헵탄을 1시간에 걸쳐 적가했다. 반응물을 추가의 4시간 동안 1000ppm에서 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 분산액을 배출시키고, 원심분리하고, MIBK로 세척하고, 증발 건조시켜 2.1g(37% 수율)의 건조된 입자를 수득했다.
Unencapsulated core particles 10 consisted of 0.52 g of Example 2 CTBN-epoxy adduct, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole and 37.3 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK) Synthesized from The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 hour, a solution of 3.5 g (0.02 equiv) of DER ™ 332 (product of Dow Chemical) and 3.5 g MIBK was added dropwise over 15 minutes, then the reaction was stirred at 1000 rpm for 1 hour under argon atmosphere. Thereafter, 10 g of heptane was added dropwise over 1 hour. The reaction was stirred at 1000 ppm for an additional 4 hours. A milky white dispersion formed. The dispersion was drained, centrifuged, washed with MIBK and evaporated to dryness to yield 2.1 g (37% yield) of dried particles.

실시예 11. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(11)Example 11 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (11)

캡슐화되지 않은 코어 입자(11)을 0.52g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 1.64g(0.02mol)의 2-메틸이미다졸 및 37.3g의 4-메틸-2-펜탄온(MIBK)으로부터 합성했다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징시켰다. 1시간 후, 3.5g(0.02당량)의 DER™ 332(다우 케미칼 제품) 및 3.5g의 MIBK의 용액을 15분에 걸쳐 적가한 후, 반응물을 1000rpm에서 1시간 동안 아르곤 대기하에 교반시킨 후, 3g의 헵탄을 1시간에 걸쳐 적가했다. 반응물을 4시간 동안 1000ppm에서 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 분산액을 배출시키고, 원심분리하고, MIBK로 세척하고, 증발 건조시켜 3.0g(53% 수율)의 건조된 입자를 수득했다.
0.52 g of the CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole and 37.3 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK) were obtained. Synthesized from The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 hour, a solution of 3.5 g (0.02 equiv) of DER ™ 332 (product of Dow Chemical) and 3.5 g MIBK was added dropwise over 15 minutes, then the reaction was stirred at 1000 rpm for 1 hour under argon atmosphere, then 3 g Heptane was added dropwise over 1 hour. The reaction was stirred at 1000 ppm for 4 hours. A milky white dispersion formed. The dispersion was drained, centrifuged, washed with MIBK and evaporated to dryness to yield 3.0 g (53% yield) of dried particles.

실시예 12. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(12)Example 12. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (12)

캡슐화되지 않은 코어 입자(12)는 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 1.05g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DER™ 332 3.5g(0.02당량) 및 MIBK 51g으로부터 실시예 1의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 교반시켜 입자 4.4g(71% 수율)을 수득했다.
Unencapsulated core particles 12 were prepared from Example 1 from 1.05 g of CTBN-epoxy adduct from Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER ™ 332 and 51 g of MIBK. It synthesize | combined using the process of. The reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours to yield 4.4 g (71% yield) of particles.

실시예 13. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(13)Example 13. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (13)

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), 헵탄 5.1g, 4-메틸-2-펜탄온(MIBK) 42.3g을 충전시켰다. 반응 플라스크를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징시켰다. 1시간 후, DERTM 332(다우 케미칼 제품) 3.5g(0.02당량)과 MIBK 3.6g의 용액을 15분에 걸쳐 적가하고, 이어서 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 분산액을 배출시키고, 원심분리하고, MIBK로 세척하고, 증발 건조시켜 입자 3.4g(60% 수율)을 수득했다.
0.52 g CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole in a three neck round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropwise funnel and argon gas inlet , Heptane 5.1 g, 4-methyl-2-pentanone (MIBK) 42.3 g were charged. The reaction flask was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 hour, a solution of 3.5 g (0.02 equiv) of DER 332 (Dow Chemical) and 3.6 g of MIBK was added dropwise over 15 minutes, then the reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours. A milky white dispersion formed. The dispersion was drained, centrifuged, washed with MIBK and evaporated to dryness to yield 3.4 g (60% yield) of particles.

실시예 14. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 "정제된" HyPoxTM RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(14)Example 14 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and “Purified” HyPox RK 84 (14)

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), 헵탄 5.1g 및 4-메틸-2-펜탄온(MIBK) 46.8g을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징하고, 1시간 동안 300rpm에서 교반시켰다. DERTM 332(다우 케미칼 제품) 3.5g(0.02당량)과 MIBK 3.5g의 용액을 15분에 걸쳐 적가하고, 이어서 반응물을 300rpm에서 1시간 동안 및 이어서 1000rpm에서 추가로 5시간 동안 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 분산액을 배출시키고, 원심분리하고, MIBK로 세척하고, 증발 건조시켜 입자 3.2g(57% 수율)을 수득했다.
0.52 g CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole in a three neck round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropwise funnel and argon gas inlet , 5.1 g heptane and 46.8 g 4-methyl-2-pentanone (MIBK) were charged. The reactor was placed in an 80 ° C. bath, purged with argon and stirred at 300 rpm for 1 hour. A solution of 3.5 g (0.02 equiv) of DER 332 (Dow Chemical) and 3.5 g of MIBK was added dropwise over 15 minutes, and then the reaction was stirred at 300 rpm for 1 hour and then at 1000 rpm for an additional 5 hours. A milky white dispersion formed. The dispersion was drained, centrifuged, washed with MIBK and evaporated to dryness to afford 3.2 g (57% yield) of particles.

실시예 15. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(15)Example 15 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (15)

캡슐화되지 않은 코어 입자(15)는 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.51g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.5g(0.02당량), 헵탄 15.3g 및 MIBK 34g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켜 입자 4.5g(80% 수율)을 수득했다.
Unencapsulated core particles 15 were 0.51 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER 332, 15.3 g of heptane and 34 g of MIBK Synthesized using the process of Example 13. The reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere to yield 4.5 g (80% yield) of particles.

실시예 16. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(16)Example 16 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (16)

캡슐화되지 않은 코어 입자(16)은 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.5g(0.02당량), 헵탄 2.6g 및 MIBK 49g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성하고, 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켜 입자 2.4g(42.4% 수율)을 수득했다.
Unencapsulated core particles 16 were 0.52 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER 332, 2.6 g of heptane and 49 g of MIBK Was synthesized using the process of Example 13 from, and the reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere to yield 2.4 g (42.4% yield) of particles.

실시예 17. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(17)Example 17. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (17)

캡슐화되지 않은 코어 입자(17)은 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.5g(0.02당량), 헵탄 10.2g 및 MIBK 41g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켜 입자 3.9g(69% 수율)을 수득했다.
Unencapsulated core particles 17 consisted of 0.52 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER 332, 10.2 g of heptane and 41 g of MIBK Synthesized using the process of Example 13. The reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere to yield 3.9 g (69% yield) of particles.

실시예 18. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(18)Example 18 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA, and HyPox ™ RK 84 (18)

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol) 및 4-메틸-2-펜탄온(MIBK) 47.3g을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 반응물을 300rpm에서 1시간 동안 교반시킨 후, DERTM 332(다우 케미칼 제품) 3.5g(0.02당량)과 MIBK 3.5g의 용액을 15분에 걸쳐 적가하고, 이어서 반응물을 300rpm에서 1시간 동안 및 이어서 1000rpm에서 추가로 5시간 동안 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 분산액을 배출시키고, 원심분리하고, MIBK로 세척하고, 증발 건조시켜 입자 4.53g(80% 수율)을 수득했다.
0.52 g CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole in a three neck round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropwise funnel and argon gas inlet And 47.3 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK). The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After the reaction was stirred at 300 rpm for 1 hour, a solution of 3.5 g (0.02 equiv) of DER 332 (Dow Chemical) and 3.5 g of MIBK was added dropwise over 15 minutes, followed by reaction at 300 rpm for 1 hour and then 1000 rpm Stirred for an additional 5 h. A milky white dispersion formed. The dispersion was drained, centrifuged, washed with MIBK and evaporated to dryness to yield 4.53 g (80% yield) of particles.

실시예 19. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(19)Example 19. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (19)

캡슐화되지 않은 코어 입자(19)는 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.51g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.5g(0.02당량) 및 MIBK 51g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성하고, 반응물을 1500rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켜 입자 4.05g(71.5% 수율)을 수득했다.
Unencapsulated core particles 19 were obtained from Example 13 from 0.51 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER 332 and 51 g of MIBK. Synthesis was carried out using the process of and the reaction was stirred at 1500 rpm for 6 hours under an argon atmosphere to yield 4.05 g (71.5% yield) of particles.

실시예 20. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(20)Example 20 Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (20)

캡슐화되지 않은 코어 입자(20)은 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.5g(0.02당량), 헵탄 7.6g 및 MIBK 43g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성하고, 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 교반시켜 입자 4.05g(71.5% 수율)을 수득했다.
Unencapsulated core particles 20 consisted of 0.52 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER 332, 7.6 g of heptane and 43 g of MIBK Was synthesized using the process of Example 13 from, and the reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours to yield 4.05 g (71.5% yield) of particles.

실시예 21. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(21)Example 21.Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (21)

캡슐화되지 않은 코어 입자(21)은 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.51g, 2-메틸이미다졸 1.65g(0.02mol), DERTM 332 3.5g(0.02당량), 헵탄 7.6g 및 MIBK 43g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 16시간 동안 교반시켜 입자 3.6g(64% 수율)을 수득했다.
The unencapsulated core particles 21 were 0.51 g of the CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.65 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.5 g (0.02 equiv) of DER TM 332, 7.6 g of heptane and 43 g of MIBK. Synthesized using the process of Example 13. The reaction was stirred at 1000 rpm for 16 hours to yield 3.6 g (64% yield) of particles.

실시예 22. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(22)Example 22. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (22)

캡슐화되지 않은 코어 입자(22)는 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.51g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.85g(0.022당량), 헵탄 7.6g 및 MIBK 43g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켜 입자 4.95g(82.3% 수율)을 수득했다. 분산액의 소적을 MIBK로 희석시키고, 유리 슬라이드 위에 피복하고, 진공하에 실온에서 건조시켰다. 건조된 샘플을 금 박층으로 스퍼터링하고, 이의 전자현미경사진(도 1 및 도 2)을 Hitachi S-2460N 주사 전자현미경으로 찍었다.
Unencapsulated core particles 22 were 0.51 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.85 g (0.022 equivalents) of DER 332, 7.6 g of heptane and 43 g of MIBK. Synthesized using the process of Example 13. The reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere to yield 4.95 g (82.3% yield) of particles. Droplets of the dispersion were diluted with MIBK, coated on a glass slide and dried at room temperature under vacuum. The dried sample was sputtered with a thin gold layer and its electron micrographs (FIGS. 1 and 2) were taken with a Hitachi S-2460N scanning electron microscope.

실시예 23. 2-메틸이미다졸, DGEBA 및 HyPox™ RK 84로부터의 캡슐화되지 않은 코어 입자의 합성(23)Example 23. Synthesis of Unencapsulated Core Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA and HyPox ™ RK 84 (23)

캡슐화되지 않은 코어 입자(23)은 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.51g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.85g(0.022당량), 헵탄 7.6g 및 MIBK 42g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 16시간 동안 교반시켜 입자 4.49g(74.7% 수율)을 수득했다.
The unencapsulated core particles 23 consisted of 0.51 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.85 g (0.022 equiv) of DER TM 332, 7.6 g of heptane and 42 g of MIBK Synthesized using the process of Example 13. The reaction was stirred at 1000 rpm for 16 hours to yield 4.49 g (74.7% yield) of particles.

캡슐화되지 않은 코어 입자의 캡슐화 실시예Encapsulation Examples of Unencapsulated Core Particles

실시예 24. 2-메틸이미다졸, DGEBA, HyPox™ RK 84 및 MDI로부터 캡슐화된 입자의 합성(24)Example 24. Synthesis of Encapsulated Particles from 2-Methylimidazole, DGEBA, HyPox ™ RK 84 and MDI (24)

마이크로캡슐 코어는 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.85g(0.022당량), 헵탄 7.6g 및 MIBK 42g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 분산액의 소적을 제거하고, MIBK로 희석하고, 유리 슬라이드 상에 피복하고, 진공하에 실온에서 건조시켰다. 건조된 샘플을 금 박층으로 스퍼터링 피복하고, 전자현미경사진을 Hitachi S-2460N 주사 전자현미경으로 찍었다. 캡슐화는 4,4'-메틸렌비스(페닐 이소시아네이트)(가장 통상적으로 MDI로서 지칭됨) 1.56g(0.0125당량)과 MIBK 14.1g의 용액을 110분에 걸쳐 적가하여 개시하고, 이어서 반응물을 1000rpm에서 15시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 분산액의 소적을 건조시키고, 이의 FT-IR 스펙트럼은 이소시아네이트 잔기의 완전한 전환을 나타냈다. 모든 이소시아네이트가 소모되었음을 확인한 후, 분산액 소적을 제거하고, 추가의 MIBK로 희석시키고, 유리 슬라이드 상에 피복시키고, 진공하에 실온에서 건조시켰다. 건조된 샘플을 금 박층으로 스퍼터링하고, 이의 전자현미경사진을 Hitachi S-2460N 주사 전자현미경으로 찍었다(도 3 및 도 4).
The microcapsule core was prepared from Example 2 from 0.52 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.85 g (0.022 equiv) of DER 332, 7.6 g of heptane and 42 g of MIBK. Synthesis using process. The reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere. Droplets of the dispersion were removed, diluted with MIBK, coated on a glass slide, and dried at room temperature under vacuum. The dried sample was sputtered with a thin gold layer, and electron micrographs were taken with a Hitachi S-2460N scanning electron microscope. Encapsulation is initiated by the dropwise addition of 1.56 g (0.0125 equivalents) of 4,4'-methylenebis (phenyl isocyanate) (most commonly referred to as MDI) and a 14.1 g solution of MIBK over 110 minutes, followed by reaction at 15 rpm at 15 rpm. Stir under argon atmosphere for hours. Droplets of the dispersion were dried and its FT-IR spectrum showed complete conversion of isocyanate residues. After confirming that all isocyanates have been consumed, the dispersion droplets are removed, diluted with additional MIBK, coated on glass slides and dried at room temperature under vacuum. The dried sample was sputtered with a thin gold layer and its electron micrographs were taken with a Hitachi S-2460N scanning electron microscope (FIGS. 3 and 4).

실시예 25. 2-메틸이미다졸, DGEBA, HypoxTM RK 84, MDI 및 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린)으로부터 마이크로캡슐의 합성(25)Example 25. 2-methylimidazole, DGEBA, Hypox Synthesis of Microcapsules from RK 84, MDI and 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline)

마이크로캡슐 코어는 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.51g, 2-메틸렌이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.85g(0.022당량), 헵탄 7.6g 및 MIBK 42g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성하고, 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 캡슐화는 MDI 1.4g(0.0112당량), 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 0.16g(0.00038당량) 및 MIBK 14.1g의 용액을 110분에 걸쳐 적가하여 개시하고, 이어서 반응물을 1000rpm에서 15시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 분산액의 소적을 건조시키고, 이의 FT-IR 스펙트럼은 이소시아네이트 잔기의 완전한 전환을 나타냈다.
The microcapsule core is 0.51 g of the CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methyleneimidazole, DER 3.332 g (0.022 eq) of 332, 7.6 g of heptane and 42 g of MIBK were synthesized using the process of Example 13 and the reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere. Encapsulation is initiated by dropwise addition of a solution of 1.4 g (0.0112 equivalents) of MDI, 0.16 g (0.00038 equivalents) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 14.1 g of MIBK over 110 minutes, The reaction was then stirred at 1000 rpm for 15 hours under argon atmosphere. Droplets of the dispersion were dried and its FT-IR spectrum showed complete conversion of isocyanate residues.

실시예 26. 2-메틸이미다졸, DGEBA, HyP0xTM RK 84 및 MDI로부터 마이크로캡슐의 합성(26)Example 26. Synthesis of Microcapsules from 2-methylimidazole, DGEBA, HyPOx RK 84 and MDI (26)

마이크로캡슐 코어는 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.86g(0.022당량), 헵탄 7.6g 및 MIBK 42g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성했다. 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. MDI 1.57g(0.0125당량)과 MIBK 14.1g의 용액을 90분에 걸쳐 적가하여 캡슐화하고, 이어서 반응물을 1000rpm에서 15시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 분산액의 소적을 건조시키고, 이의 FT-IR 스펙트럼은 이소시아네이트 잔기의 완전한 전환을 나타냈다.
The microcapsule core was prepared from Example 2 from 0.52 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.86 g (0.022 equiv) of DER 332, 7.6 g of heptane and 42 g of MIBK. Synthesis using process. The reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere. A solution of 1.57 g (0.0125 equiv) MDI and 14.1 g MIBK was added dropwise over 90 minutes, and the reaction was then stirred under an argon atmosphere for 15 hours at 1000 rpm. Droplets of the dispersion were dried and its FT-IR spectrum showed complete conversion of isocyanate residues.

실시예 27. 2-메틸이미다졸, DGEBA, HypoxTM RK 84, MDI 및 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린)으로부터 마이크로캡슐의 합성(27)Example 27 Synthesis of Microcapsules from 2-methylimidazole, DGEBA, Hypox RK 84, MDI, and 4,4′-methylenebis (N, N-diglycidylaniline)

마이크로캡슐 코어는 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 0.52g, 2-메틸이미다졸 1.64g(0.02mol), DERTM 332 3.85g(0.022당량), 헵탄 7.6g 및 MIBK 43g으로부터 실시예 13의 공정을 사용하여 합성하고, 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 캡슐화는 MDI(시그마 알드리치(Sigma Aldrich) 제품) 2.8g(0.0223당량), 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 0.35g(0.0033당량) 및 MIBK 14.1g의 용액을 240분에 걸쳐 적가하여 개시하고, 이어서 반응물을 1000rpm에서 15시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.
The microcapsule core was prepared from Example 2 from 0.52 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 1.64 g (0.02 mol) of 2-methylimidazole, 3.85 g (0.022 equiv) of DER 332, 7.6 g of heptane and 43 g of MIBK. Synthesized using the process, and the reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere. Encapsulation consists of a solution of 2.8 g (0.0223 equivalents) of MDI (Sigma Aldrich), 0.35 g (0.0033 equivalents) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 14.1 g of MIBK. Start by dropwise over 240 minutes, then the reaction was stirred at 1000 rpm for 15 hours under argon atmosphere.

실시예 28. 2-메틸이미다졸, DGEBA, HypoxTM RK 84, MDI 및 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린)으로부터 마이크로캡슐의 합성(28)Example 28 Synthesis of Microcapsules from 2-methylimidazole, DGEBA, Hypox RK 84, MDI, and 4,4′-methylenebis (N, N-diglycidylaniline)

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에, 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물 1.03g, 2-메틸이미다졸 3.28g(0.04mol), 헵탄 15.2g 및 4-메틸-2-펜탄온(MIBK) 76g을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 1시간 후, DERTM 332(다우 케미칼 제품) 7.7g(0.044당량)과 MIBK 7.7g의 용액을 40분에 걸쳐 적가하고, 이어서 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 분산액의 소적을 희석시키고, 유리 슬라이드 상에 피복하고, 진공 오븐에서 실온으로 건조시켰다. 건조된 샘플을 Au 박층으로 스퍼터링하고, 주사 전자현미경사진을 찍었다. 캡슐화는 MDI 2.8g(0.0223당량), 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 0.32g(0.003당량) 및 MIBK 28.2g의 용액을 240분에 걸쳐 적가하여 개시하고, 이어서 반응물을 1000rpm에서 12.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.
In a three neck round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropwise funnel and argon gas inlet, 1.03 g of the CTBN-epoxy adduct of Example 2, 3.28 g (0.04 mol) of 2-methylimidazole ), 15.2 g of heptane and 76 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK) were charged. The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 h, a solution of 7.7 g (0.044 equiv) of DER 332 (Dow Chemical) and 7.7 g of MIBK was added dropwise over 40 minutes, and the reaction was then stirred under an argon atmosphere for 6 hours at 1000 rpm. A milky white dispersion formed. Droplets of the dispersion were diluted, coated on a glass slide and dried at room temperature in a vacuum oven. The dried sample was sputtered into a thin Au layer and photographed by scanning electron microscopy. Encapsulation is initiated by dropwise addition of a solution of 2.8 g (0.0223 equiv) of MDI, 0.32 g (0.003 equiv) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 28.2 g of MIBK over 240 minutes, The reaction was then stirred at 1000 rpm for 12.5 hours under argon atmosphere.

실시예 29. 2-메틸이미다졸, DGEBA, HyPox™ RK 84L, Desmodur® W 및 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린)으로부터 마이크로캡슐의 합성(29)Example 29. Synthesis of microcapsules from 2-methylimidazole, DGEBA, HyPox ™ RK 84L, Desmodur® W and 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline)

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에, 2.09g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 6.56g(0.08mol)의 2-메틸이미다졸 및 183g의 4-메틸-2-펜탄온(MIBK)을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 1시간 후, 15.4g(0.088당량)의 DERTM 332(다우 케미칼의 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르(DGEBA)) 및 18.7g의 MIBK의 용액을 1시간에 걸쳐 적가한 후, 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 입자를 중력하에 침전시켜 상청액 액체가 경사 제거되도록 했다. 입자를 MIBK에 재분산시켰다. 잔류 분산액을 작은 세공 크기 멤브레인 필터를 통해 여과했다. 입자를 MIBK에 재분산시킨 후, 30㎛ 세공 크기 필터를 통해 여과하여 대형 입자 및 응집물을 제거했다. 생성되는 분산액의 소수의 액적을 건조시키고, 금으로 스퍼터링하고, SEM에 부하시켰다. 이의 현미경 사진은 입자가 캡슐화 단계로 진행하도록 허용되기에 적당한 품질이었음을 보여준다. 분산액의 고체 함량은 9.84%(w/w)에서 측정되었다. 총 분산액의 수율은 84.4g이었다.In a three neck round bottom flask equipped with PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropping funnel and argon gas inlet, 2.09 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 6.56 g (0.08 mol) of 2-methyl Imidazole and 183 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK) were charged. The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 hour, a solution of 15.4 g (0.088 eq) of DER TM 332 (Diglycidyl ether of Dow Chemical A (DGEBA)) and 18.7 g of MIBK was added dropwise over 1 hour, after which the reaction was carried out at 1000 rpm. Stir under argon atmosphere for 6 hours. A milky white dispersion formed. The particles were allowed to settle under gravity to allow the supernatant liquid to be decanted. The particles were redispersed in MIBK. The remaining dispersion was filtered through a small pore size membrane filter. The particles were redispersed in MIBK and then filtered through a 30 μm pore size filter to remove large particles and aggregates. A few droplets of the resulting dispersion were dried, sputtered with gold and loaded onto the SEM. Its photomicrographs showed that the particles were of a quality that was acceptable to allow them to proceed to the encapsulation step. The solids content of the dispersion was measured at 9.84% (w / w). The yield of the total dispersion was 84.4 g.

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에, 0.83g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 10.3g의 MIBK 및 정제된 분산액을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 여기에, 17g의 헵탄을 1시간에 걸쳐 적가했다. 캡슐화는 1.9g(0.0145당량)의 Desmodur® W(바이엘 머터리얼사이언스(Bayer MaterialScience)로부터의 액체 지환족 디이소시아네이트), 0.19g(0.002당량)의 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 및 18.9g의 MIBK의 용액을 4시간에 걸쳐 적가하여 개시하고, 이 후, 반응물을 1000rpm에서 12.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.
A three neck round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropping funnel and argon gas inlet was charged with 0.83 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 10.3 g of MIBK and purified dispersion. I was. The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. 17 g of heptane was added dropwise thereto over 1 hour. Encapsulation weighs 1.9 g (0.0145 equivalents) of Desmodur® W (liquid alicyclic diisocyanate from Bayer MaterialScience), 0.19 g (0.002 equivalents) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 18.9 g of MIBK The solution was initiated dropwise over 4 hours, after which the reaction was stirred at 1000 rpm for 12.5 hours under argon atmosphere.

실시예 30(전조). 2개의 쉘 재료로 구성된 마이크로캡슐의 합성Example 30 (precursor). Synthesis of Microcapsules Comprising Two Shell Materials

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에 2.09g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 6.56g(0.08mol)의 2-메틸이미다졸 및 183g의 4-메틸-2-펜탄온(MIBK)을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 1시간 후, 15.4g(0.088당량)의 DERTM 332(다우 케미칼 제품) 및 18.7g의 MIBK의 용액을 1시간 동안 적가한 후, 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 입자를 중력하에 침전시켜 상청액 액체가 경사 제거되도록 했다. 입자를 MIBK에 재분산시켰다. 잔류 분산액을 작은 세공 크기 멤브레인 필터를 통해 여과했다. 입자를 MIBK에 재분산시킨 후, 30㎛ 세공 크기 필터를 통해 여과하여 대형 입자 및 응집물을 제거했다.In a three-neck round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropping funnel and argon gas inlet, 2.09 g of the CTBN-epoxy adduct of Example 2, 6.56 g (0.08 mol) of 2-methyl Midazole and 183 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK) were charged. The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 hour, a solution of 15.4 g (0.088 equiv) of DER 332 (available from Dow Chemical) and 18.7 g of MIBK was added dropwise for 1 hour, then the reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under an argon atmosphere. A milky white dispersion formed. The particles were allowed to settle under gravity to allow the supernatant liquid to be decanted off. The particles were redispersed in MIBK. The remaining dispersion was filtered through a small pore size membrane filter. The particles were redispersed in MIBK and then filtered through a 30 μm pore size filter to remove large particles and aggregates.

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에 0.83g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 10.3g의 MIBK 및 정제된 분산액을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 여기에, 17g의 헵탄을 1시간에 걸쳐 적가했다. 제1 쉘 층을 갖는 캡슐화는 1.9g(0.0145당량)의 Desmodur® W(바이엘 머터리얼사이언스 제품), 0.19g(0.002당량)의 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 및 18.9g의 MIBK의 용액을 4시간에 걸쳐 적가하여 개시하고, 이 후, 반응물을 1000rpm에서 12.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.A three necked round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropping funnel and argon gas inlet was charged with 0.83 g of Example 2 CTBN-epoxy adduct, 10.3 g of MIBK and purified dispersion. . The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. 17 g of heptane was added dropwise thereto over 1 hour. Encapsulation with the first shell layer weighs 1.9 g (0.0145 equivalents) of Desmodur® A solution of W (by Bayer Material Science), 0.19 g (0.002 equivalents) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 18.9 g of MIBK was added dropwise over 4 hours The reaction was then stirred at 1000 rpm for 12.5 hours under argon atmosphere.

제2 쉘 층은 1.9g(0.0145당량)의 Desmodur® W(바이엘 머터리얼사이언스 제품), 0.19g(0.002당량)의 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 및 18.9g의 MIBK의 용액을 4시간에 걸쳐 적가하여 형성하고, 이 후, 반응물을 1000rpm에서 12.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.
The second shell layer is 1.9 g (0.0145 equiv) of Desmodur® W (by Bayer Material Science), 0.19 g (0.002 equiv) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 18.9 A solution of g of MIBK was formed dropwise over 4 hours, after which the reaction was stirred at 1000 rpm for 12.5 hours under argon atmosphere.

실시예 31(전조), 2개의 쉘 재료로 구성되고, 최외각 쉘 재료가 에폭시 상용성 재료로 구성되는 마이크로캡슐의 합성Example 31 (Precursor), Synthesis of Microcapsules Comprising Two Shell Materials, with the Outer Shell Material Made of Epoxy-Compatible Materials

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에, 2.09g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 6.56g(0.08mol)의 2-메틸이미다졸 및 183g의 4-메틸-2-펜탄온(MIBK)을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 1시간 후, 15.4g(0.088당량)의 DERTM 332(다우 케미칼 제품) 및 18.7g의 MIBK의 용액을 1시간 에 걸쳐 적가한 후, 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 입자를 중력하에 침전시켜 상청액 액체가 경사 제거되도록 했다. 입자를 MIBK에 재분산시켰다. 잔류 분산액을 작은 세공 크기 멤브레인 필터를 통해 여과했다. 입자를 MIBK에 재분산시킨 후, 30㎛ 세공 크기 필터를 통해 여과하여 대형 입자 및 응집물을 제거했다.In a three neck round bottom flask equipped with PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropping funnel and argon gas inlet, 2.09 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 6.56 g (0.08 mol) of 2-methyl Imidazole and 183 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK) were charged. The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 hour, a solution of 15.4 g (0.088 equiv) of DER 332 (available from Dow Chemical) and 18.7 g of MIBK was added dropwise over 1 hour, and then the reaction was stirred at 1000 rpm under an argon atmosphere for 6 hours. A milky white dispersion formed. The particles were allowed to settle under gravity to allow the supernatant liquid to be decanted off. The particles were redispersed in MIBK. The remaining dispersion was filtered through a small pore size membrane filter. The particles were redispersed in MIBK and then filtered through a 30 μm pore size filter to remove large particles and aggregates.

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에 0.83g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 10.3g의 MIBK 및 정제된 분산액을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 여기에, 17g의 헵탄을 1시간에 걸쳐 적가했다. 제1 쉘 층 캡슐화는 1.9g(0.0145당량)의 Desmodur® W(바이엘 머터리얼사이언스 제품), 0.19g(0.002당량)의 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 및 18.9g의 MIBK의 용액을 4시간에 걸쳐 적가하여 개시하고, 이 후, 반응물을 1000rpm에서 12.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.A three necked round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropping funnel and argon gas inlet was charged with 0.83 g of Example 2 CTBN-epoxy adduct, 10.3 g of MIBK and purified dispersion. . The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. 17 g of heptane was added dropwise thereto over 1 hour. The first shell layer encapsulation weighs 1.9 g (0.0145 equivalents) of Desmodur® A solution of W (by Bayer Material Science), 0.19 g (0.002 equivalents) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 18.9 g of MIBK was added dropwise over 4 hours The reaction was then stirred at 1000 rpm for 12.5 hours under argon atmosphere.

제2 쉘 층은 1.9g(0.0145당량)의 Desmodur® W(바이엘 머터리얼사이언스 제품), 1.9g의 CVC Thermoset Materials HyPoxTM RA1340 및 18.9g의 MIBK의 용액을 4시간 동안 적가하여 형성하고, 이 후, 반응물을 1000rpm에서 12.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.Second shell layer weighs 1.9 g (0.0145 equivalents) of Desmodur® W (by Bayer MaterialScience), 1.9 g CVC Thermoset Materials HyPox TM A solution of RA1340 and 18.9 g of MIBK was added dropwise over 4 hours, after which the reaction was stirred at 1000 rpm for 12.5 hours under argon atmosphere.

실시예 32(전조), 2개의 쉘 재료로 구성되고, 최외각 쉘 재료가 에폭시 상용성 재료로 구성된 마이크로캡슐의 합성Example 32 (Precursor), Synthesis of Microcapsules Comprising Two Shell Materials, with the Outer Shell Material Made of an Epoxy-Compatible Material

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에, 2.09g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 6.56g(0.08mol)의 2-메틸이미다졸 및 183g의 4-메틸-2-펜탄온(MIBK)을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 1시간 후, 15.4g(0.088당량)의 DERTM 332(다우 케미칼 제품)와 18.7g의 MIBK의 용액을 1시간에 걸쳐 적가한 후, 반응물을 1000rpm에서 6시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다. 유백색 분산액이 형성되었다. 입자를 중력하에 침전시켜 상청액 액체가 경사 제거되도록 했다. 입자를 MIBK에 재분산시켰다. 잔류 분산액을 작은 세공 크기 멤브레인 필터를 통해 여과했다. 입자를 MIBK에 재분산시킨 후, 30㎛ 세공 크기 필터를 통해 여과하여 대형 입자 및 응집물을 제거했다.In a three neck round bottom flask equipped with PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropping funnel and argon gas inlet, 2.09 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 6.56 g (0.08 mol) of 2-methyl Imidazole and 183 g of 4-methyl-2-pentanone (MIBK) were charged. The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. After 1 hour, a solution of 15.4 g (0.088 equiv) of DER 332 (available from Dow Chemical) and 18.7 g of MIBK was added dropwise over 1 hour, and then the reaction was stirred at 1000 rpm for 6 hours under argon atmosphere. A milky white dispersion formed. The particles were allowed to settle under gravity to allow the supernatant liquid to be decanted off. The particles were redispersed in MIBK. The remaining dispersion was filtered through a small pore size membrane filter. The particles were redispersed in MIBK and then filtered through a 30 μm pore size filter to remove large particles and aggregates.

PTFE 플루오로중합체 반달형 오버헤드 교반기, 환류 응축기, 적가 펀넬 및 아르곤 기체 유입구가 장착된 3구 환저 플라스크에, 0.83g의 실시예 2의 CTBN-에폭시 부가물, 10.3g의 MIBK 및 정제된 분산액을 충전시켰다. 반응기를 80℃ 욕에 위치시키고, 아르곤으로 퍼징했다. 여기에, 17g의 헵탄을 1시간에 걸쳐 적가했다. 캡슐화는 1.9g(0.0145당량)의 Desmodur® W(바이엘 머터리얼사이언스 제품), 0.19g(0.002당량)의 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 및 18.9g의 MIBK의 용액을 4시간에 걸쳐 적가하여 개시하고, 이 후, 반응물을 1000rpm에서 12.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.A three neck round bottom flask equipped with a PTFE fluoropolymer half moon overhead stirrer, reflux condenser, dropping funnel and argon gas inlet was charged with 0.83 g of CTBN-epoxy adduct of Example 2, 10.3 g of MIBK and purified dispersion. I was. The reactor was placed in an 80 ° C. bath and purged with argon. 17 g of heptane was added dropwise thereto over 1 hour. Encapsulation weighs 1.9 g (0.0145 equivalents) of Desmodur® A solution of W (by Bayer Material Science), 0.19 g (0.002 equivalents) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 18.9 g of MIBK was added dropwise over 4 hours The reaction was then stirred at 1000 rpm for 12.5 hours under argon atmosphere.

제2 쉘 층은 1.9g(0.0145당량)의 Desmodur17g의 헵탄을 1시간에 걸쳐 적가했다 W(바이엘 머터리얼사이언스 제품), 1.9g의 Toagosei GP-301 그래프트 폴리아크릴레이트, 0.19g(0.002당량)의 4,4'-메틸렌비스(N,N-디글리시딜아닐린) 및 18.9g의 MIBK의 용액을 4시간에 걸쳐 적가하여 형성하고, 이 후, 반응물을 1000rpm에서 12.5시간 동안 아르곤 대기하에 교반시켰다.
The second shell layer added dropwise 1.9 g (0.0145 equiv) of Desmodur17 g heptane over 1 hour. W (by Bayer Material Science), 1.9 g of Toagosei GP-301 graft polyacrylate, 0.19 g (0.002 equivalent) of 4,4'-methylenebis (N, N-diglycidylaniline) and 18.9 g A solution of MIBK was formed dropwise over 4 hours, after which the reaction was stirred at 1000 rpm for 12.5 hours under argon atmosphere.

마스터배치의 제조 실시예:Preparation Examples of Masterbatches:

실시예 33. 실시예 24의 입자로부터 마스터배치의 제조Example 33 Preparation of a Masterbatch from the Particles of Example 24

실시예 24의 입자의 분산액을 50℃에서 진공하에 증발시켜 황색 고체를 수득하고, 막자사발로 분쇄하고, 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르에 입자 대 에폭시 수지 35:65(w/w)의 비로 첨가했다. 혼합물을 3-롤 밀을 사용하여 20분 동안 분산시켜 크림빛 황색 분산액을 수득했다.
The dispersion of the particles of Example 24 was evaporated in vacuo at 50 ° C. to give a yellow solid, ground in a mortar and in a ratio of particles to epoxy resin 35:65 (w / w) in diglycidyl ether of bisphenol A. Added. The mixture was dispersed for 20 minutes using a 3-roll mill to give a creamy yellow dispersion.

실시예 34. 실시예 28의 입자로부터 마스터배치의 제조Example 34 Preparation of a Masterbatch from the Particles of Example 28

실온에서, 1Og의 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르를 입자의 분산액을 함유하는 실시예 28의 반응 혼합물에 첨가하고, 3시간 동안 교반했다. 용매를 진공하에 31℃에서 고체 함량 86%(w/w)로 제거했다. 이로부터, 12.86g을 제거하고, 추가의 7.90g의 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르와 혼합했다. 이어서, 혼합물을 3-롤 밀을 사용하여 추가로 3분 동안 처리하여 크림빛 황색 분산액을 수득했다.
At room temperature, 10 g of diglycidyl ether of bisphenol A was added to the reaction mixture of Example 28 containing a dispersion of particles and stirred for 3 hours. The solvent was removed under vacuum at 31 ° C. with a solids content of 86% (w / w). From this, 12.86 g were removed and mixed with an additional 7.90 g of diglycidyl ether of bisphenol A. The mixture was then treated for an additional 3 minutes using a 3-roll mill to yield a creamy yellow dispersion.

성능 결과:Performance result:

내용매성 시험을 위해, 혼합물은 입자, 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르 및 MIBK를 4:50:46(w/w)의 비로 배합하여 제조했다. 이어서, 혼합물을 40℃ 오일 욕에 위치시키고, 점도 변화를 시각적으로 모니터링했다. 결과는 이하 표 1에 제시한다. 상기 혼합물의 분액을 박막으로서 유리 슬라이드 상에 피복시키고, 실온에서 진공하에 건조시켰다. DSC 흔적량은 30 내지 250℃의 온도 윈도우, 가열 속도 5℃/분을 사용하는 TA 기기 Q1O 시차 주사 열량계를 사용하여 수득하고, 질소 대기하에 수행했다. 결과는 이하 표 1에 제시한다.For solvent resistance testing, the mixture was prepared by combining particles, diglycidyl ether of bisphenol A and MIBK in a ratio of 4:50:46 (w / w). The mixture was then placed in a 40 ° C. oil bath and visually monitored for viscosity changes. The results are shown in Table 1 below. An aliquot of the mixture was coated on a glass slide as a thin film and dried under vacuum at room temperature. DSC traces were obtained using a TA instrument Q10 Differential Scanning Calorimeter using a temperature window of 30 to 250 ° C., heating rate 5 ° C./min and performed under nitrogen atmosphere. The results are shown in Table 1 below.

캡슐화되지 않은 입자 및 캡슐화된 입자의 내용매성 및 DSC 결과 Solvent resistance and DSC results of unencapsulated and encapsulated particles 캡슐화되지 않은 입자 및 캡슐화된 입자의 내용매성 및 DSC 결과Solvent resistance and DSC results of unencapsulated and encapsulated particles 입자particle 캡슐화되지 않음/캡슐화됨Unencapsulated / Encapsulated 내용매성Content-based DSCDSC 겔화 시간(h)Gel time (h) T최대(발열, ℃)T max (heating, ℃) H(J/g)H (J / g) 2222 캡슐화되지 않음Not encapsulated 1414 105105 297297 2424 캡슐화됨Encapsulated 120120 119119 330330 2525 캡슐화됨Encapsulated 170170 124124 307307 2727 캡슐화됨Encapsulated 240240 142142 200200 2828 캡슐화됨Encapsulated 190190 124124 218218

본 발명은 상세히 이의 특정 양태를 참조로 기술되고, 다수의 변동 및 변형이 다음 특허청구범위의 취지 및 범위로부터 벗어나지 않고 가능하다는 것이 당해 분야의 숙련가에게 명백하다.The present invention has been described in detail with reference to specific embodiments thereof, and it is apparent to those skilled in the art that many variations and modifications are possible without departing from the spirit and scope of the following claims.

Claims (19)

(a) 아민,
(b) 에폭시 수지 및
(c) 엘라스토머-에폭시 부가물
의 반응 생성물로 구성된, 에폭시 수지용 경화제(curing agent).
(a) amines,
(b) epoxy resins and
(c) elastomer-epoxy adducts
Curing agent for epoxy resin, consisting of the reaction product of.
제1항에 있어서, 상기 경화제가
(a) 아민,
(b) 에폭시 수지 및
(c) 카복실-말단 부타디엔-아크릴로니트릴(CTBN)-에폭시 부가물
의 반응 생성물을 포함하는, 경화제.
The method of claim 1 wherein the curing agent is
(a) amines,
(b) epoxy resins and
(c) carboxyl-terminated butadiene-acrylonitrile (CTBN) -epoxy adduct
A curing agent comprising the reaction product of.
제2항에 있어서, 상기 CTBN의 니트릴 함량이 약 12 내지 35중량%인, 경화제.The curing agent of claim 2, wherein the nitrile content of the CTBN is about 12-35 weight percent. 제2항에 있어서, 상기 경화제가 분산액의 코어 상(core phase)으로서 형성되고, 상기 입자들이 중합체 쉘 내로 캡슐화된, 경화제.The curing agent of claim 2, wherein the curing agent is formed as a core phase of the dispersion and the particles are encapsulated into a polymer shell. 제4항에 있어서, 둘 이상의 중합체 쉘이, 상기 입자들을 다작용성 이소시아네이트와 반응시킴으로써 단계적 방식(step-wise fashion)으로 형성된, 경화제.The curing agent of claim 4, wherein at least two polymer shells are formed in a step-wise fashion by reacting the particles with polyfunctional isocyanates. 제4항에 있어서, 추가로 둘 이상의 중합체 쉘이, 상기 입자들을 다작용성 이소시아네이트 및 다작용성 에폭시 화합물과 반응시킴으로써 단계적 방식으로 형성된, 경화제.The curing agent of claim 4, wherein at least two polymer shells are formed in a stepwise manner by reacting the particles with a polyfunctional isocyanate and a polyfunctional epoxy compound. 제4항에 있어서, 추가로 둘 이상의 중합체 쉘이, 상기 입자들을 다작용성 이소시아네이트 및 다작용성 에폭시 상용성 화합물과 반응시킴으로써 단계적 방식으로 형성된, 경화제.The curing agent of claim 4, wherein at least two polymer shells are formed in a stepwise manner by reacting the particles with a polyfunctional isocyanate and a polyfunctional epoxy compatible compound. 제4항에 있어서, 추가로 둘 이상의 중합체 쉘이, 상기 입자들을 다작용성 이소시아네이트, 다작용성 에폭시 화합물 및 에폭시 상용성 화합물과 반응시킴으로써 단계적 방식으로 형성된, 경화제.The curing agent of claim 4, wherein at least two polymer shells are formed in a stepwise manner by reacting the particles with a polyfunctional isocyanate, a polyfunctional epoxy compound and an epoxy compatible compound. 에폭시 수지 및 경화제를 포함하는 조성물로서,
상기 경화제는
(a) 아민,
(b) 에폭시 수지 및
(c) 엘라스토머-에폭시 부가물
의 반응 생성물인, 조성물.
As a composition containing an epoxy resin and a curing agent,
The curing agent
(a) amines,
(b) epoxy resins and
(c) elastomer-epoxy adducts
Composition, the reaction product of which is
제9항에 있어서, 상기 경화제가
(a) 아민,
(b) 에폭시 수지 및
(c) 카복실-말단 부타디엔-아크릴로니트릴(CTBN)-에폭시 부가물
의 반응 생성물인, 조성물.
The method of claim 9, wherein the curing agent
(a) amines,
(b) epoxy resins and
(c) carboxyl-terminated butadiene-acrylonitrile (CTBN) -epoxy adduct
Composition, the reaction product of which is
제10항에 있어서, 상기 CTBN의 니트릴 함량이 약 12 내지 35중량%인, 조성물.The composition of claim 10, wherein the nitrile content of the CTBN is about 12-35 weight percent. 에폭시 접착제에 의해 기판에 부착된 전자 부품으로서,
상기 에폭시 접착제에
(a) 아민,
(b) 에폭시 수지 및
(c) 엘라스토머-에폭시 부가물
의 반응 생성물로 구성된 경화제가 혼입된, 전자 부품.
An electronic component attached to a substrate by an epoxy adhesive,
On the epoxy adhesive
(a) amines,
(b) epoxy resins and
(c) elastomer-epoxy adducts
An electronic component comprising a curing agent composed of a reaction product of.
제12항에 있어서, 상기 전자 부품이 회로 기판의 일부를 형성하는, 전자 부품.The electronic component of claim 12, wherein the electronic component forms part of a circuit board. 제12항에 있어서, 상기 전자 부품이 상기 에폭시 접착제로 기판에 실장된 집적 회로 칩인, 전자 부품.The electronic component of claim 12, wherein the electronic component is an integrated circuit chip mounted on a substrate with the epoxy adhesive. 제12항에 있어서, 상기 전자 부품이 에폭시 접착제로 기판에 부착된 반도체 장치인, 전자 부품.The electronic component according to claim 12, wherein the electronic component is a semiconductor device attached to a substrate with an epoxy adhesive. 에폭시 접착제 및 경화제를 포함하는 접착제 필름에 소정의 패턴으로 분산된 금 입자를 포함하는 고정 어레이(fixed array) ACF로서,
상기 경화제는 아민, 에폭시 수지 및 엘라스토머-에폭시 부가물의 반응 생성물인, 고정 어레이 ACF.
A fixed array ACF comprising gold particles dispersed in a predetermined pattern in an adhesive film comprising an epoxy adhesive and a curing agent,
Wherein the curing agent is the reaction product of an amine, an epoxy resin and an elastomer-epoxy adduct.
제16항에 있어서, 상기 조성물이 보호된 페놀계 화합물을 포함하는 고 Tg 일액형(1-part) 성형 컴파운드로서 유용하도록 제형화되고, 상기 보호된 페놀계 화합물이 아릴 글리시딜 카보네이트 잔기를 포함하는, ACF.The composition of claim 16 wherein the composition is formulated to be useful as a high Tg one-part molding compound comprising a protected phenolic compound, wherein the protected phenolic compound comprises an aryl glycidyl carbonate moiety. ACF. 제17항에 있어서, 상기 조성물이 시트 성형 컴파운드(SMC), 벌크 성형 컴파운드(BMC) 또는 도우 성형 컴파운드(DMC: dough molding compound)로서 유용하도록 제형화되는, ACF.18. The ACF of claim 17, wherein the composition is formulated to be useful as a sheet molding compound (SMC), bulk molding compound (BMC) or dough molding compound (DMC). 제12항에 있어서, 상기 전자 부품이 전자 디스플레이를 형성하는, 전자 부품.The electronic component of claim 12, wherein the electronic component forms an electronic display.
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