JP2003168323A - Anisotropic conductive paste and its using method - Google Patents

Anisotropic conductive paste and its using method

Info

Publication number
JP2003168323A
JP2003168323A JP2001367579A JP2001367579A JP2003168323A JP 2003168323 A JP2003168323 A JP 2003168323A JP 2001367579 A JP2001367579 A JP 2001367579A JP 2001367579 A JP2001367579 A JP 2001367579A JP 2003168323 A JP2003168323 A JP 2003168323A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mass
anisotropic conductive
conductive paste
softening point
fine particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001367579A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3864078B2 (en
Inventor
Yasushi Mizuta
田 康 司 水
Tatsuji Murata
田 達 司 村
Makoto Nakahara
原 真 中
Takatoshi Kira
良 隆 敏 吉
Daisuke Ikesugi
杉 大 輔 池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Sharp Corp
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc, Sharp Corp filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP2001367579A priority Critical patent/JP3864078B2/en
Priority to TW091134757A priority patent/TWI232467B/en
Priority to KR10-2002-0075108A priority patent/KR100527990B1/en
Priority to CNB021518866A priority patent/CN1228383C/en
Priority to US10/307,282 priority patent/US6939431B2/en
Publication of JP2003168323A publication Critical patent/JP2003168323A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3864078B2 publication Critical patent/JP3864078B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide anisotropic conductive paste with high storage stability, high dispenser coating workability, no generation of lost resin, bubbles, and exudation in thermo compression bonding, high bonding reliability and high connection reliability even in high temperature and high humidity, and high repairing capability, and to provide a using method of the anisotropic conductive paste. <P>SOLUTION: This anisotropic conductive paste contains (I) 30-80 percentage by mass of epoxy resin; (II) 10-50 percentage by mass of a phenol base curing agent; (III) 5-25 percentage by mass of high softening point fine particles; and (IV) 0.1-25 percentage by mass of conductive particles. This anisotropic conductive paste is used to connect an electric circuit wiring formed on one board to an electric circuit wiring formed on the other board. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレ
イ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマ
ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ、およ
び電荷結合素子(CCD;Charge Coupled Device)、
およびCMOS(Complementary Metal OxideSemicondu
ctor)などの半導体デバイスに使用される電気回路の微
細な配線の接合に用いられる異方性導電ペースト、およ
び電気回路配線の接続に用いられる異方性導電ペースト
の使用方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a flat panel display such as a liquid crystal display, an electroluminescence display and a plasma display, and a charge coupled device (CCD).
And CMOS (Complementary Metal Oxide Semicondu)
The present invention relates to an anisotropic conductive paste used for joining fine wiring of an electric circuit used for a semiconductor device such as a ctor) and a method of using the anisotropic conductive paste used for connecting electric circuit wiring.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、テレビジョン受信機、パーソナル
コンピューター、携帯電話器などに使用されている液晶
ディスプレイは、高精細化、小型化されており、それに
伴ってドライバの集積回路の配線が狭ピッチ化してい
る。また、高生産性を維持するために温度が200℃、
圧力が2MPa、時間が10〜30秒といった激しい熱圧
着条件において、集積回路を実装したTCP(TapeCarr
ier Package)の配線と液晶ディスプレイ基板との配線
との接続を行っている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal displays used in television receivers, personal computers, mobile phones, etc. have been made finer and smaller, and accordingly, the wiring of integrated circuits of drivers has a narrow pitch. It has become. Also, in order to maintain high productivity, the temperature is 200 ℃,
TCP (TapeCarr) mounted with an integrated circuit under severe thermocompression bonding conditions such as pressure of 2 MPa and time of 10 to 30 seconds.
ier Package) and the liquid crystal display board wiring.

【0003】従来からこのような配線の接続を行うため
に、特開平3−46707号公報などに記載されている
ような微細導電性粒子を樹脂中に分散させ異方性を持た
せた異方性導電フィルムが使用されている。しかしなが
ら、この異方性導電フィルムは、離型フィルムを使用し
てフィルム化することで製造されるため製造コストがか
かり高価であること、使用に際しては専用の自動剥離機
の併設が必須となることなどのコスト面で問題があっ
た。また、この異方性導電フィルムは、充分な接着強度
が得られず、高温高湿下では接続信頼性が低下するなど
の課題もあった。
Conventionally, in order to connect such a wiring, an anisotropic method in which fine conductive particles as described in JP-A-3-46707 are dispersed in a resin to give anisotropy. Conductive film is used. However, since this anisotropic conductive film is manufactured by forming it into a film using a release film, the manufacturing cost is high and expensive, and it is necessary to install a dedicated automatic peeling machine at the time of use. There was a problem in terms of cost. Further, this anisotropic conductive film also has a problem that sufficient adhesive strength cannot be obtained and the connection reliability is lowered under high temperature and high humidity.

【0004】これらの問題を解決する材料としては、特
開昭62−40183号公報、特開昭62−76215
号公報、特開昭62−176139号公報などに開示さ
れているような室温で液状である異方性導電ペーストま
たは異方性導電接着剤が挙げられる。しかしながら、こ
れらの異方性導電ペーストまたは異方性導電接着剤は、
急激な昇温を伴う熱圧着工程では粘度が激しく低下す
る。したがって、熱圧着時に液流れの発生が原因である
樹脂抜けが発生したり、染み出し汚染が発生するといっ
た問題があった。また、異方性導電ペーストまたは異方
性導電接着剤中で、導電性粒子が部分凝集するために、
圧着方向での導通不良などが発生するといった課題もあ
る。さらに、前記異方性導電ペーストなどが硬化した
後、この硬化物中に残存する気泡により高温高湿時の接
続信頼性は保持できないという問題もある。またさら
に、前記硬化物は、強度は充分に有するが、リペア性が
ないなどの問題点も有していた。
Materials for solving these problems are disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 62-40183 and 62-76215.
An anisotropic conductive paste or an anisotropic conductive adhesive which is liquid at room temperature as disclosed in JP-A No. 62-176139 and JP-A No. 62-176139. However, these anisotropic conductive pastes or anisotropic conductive adhesives
In the thermocompression bonding process that involves a rapid temperature rise, the viscosity drops sharply. Therefore, there has been a problem that resin leakage due to the generation of liquid flow during thermocompression bonding or bleeding contamination occurs. In the anisotropic conductive paste or anisotropic conductive adhesive, the conductive particles are partially aggregated,
There is also a problem that conduction failure occurs in the crimping direction. Further, there is a problem that after the anisotropic conductive paste or the like is hardened, the connection reliability at the time of high temperature and high humidity cannot be maintained due to the bubbles remaining in the hardened material. Further, the cured product had sufficient strength, but had a problem that it did not have repairability.

【0005】したがって、特に、温度が200℃、圧力
が2MPa、時間が10秒〜30秒といった激しい熱圧着
条件でも硬化物に気泡が残存せず、高い接着信頼性、接
続信頼性およびリペア性を有した材料が望まれていた。
Therefore, in particular, no bubbles remain in the cured product even under severe thermocompression bonding conditions such as a temperature of 200 ° C., a pressure of 2 MPa, and a time of 10 seconds to 30 seconds, and high adhesion reliability, connection reliability and repairability can be obtained. The material possessed was desired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、貯蔵
安定性、ディスペンサー塗布作業性に優れ、熱圧着時の
樹脂抜け、気泡および染み出しの発生がなく、その硬化
物は、高温高湿時においても接着信頼性および接続信頼
性が高く、かつリペア性を有した異方性導電ペーストお
よびその使用方法を提供することである。
The object of the present invention is excellent in storage stability and workability of dispenser application, and there is no resin dropout, bubble and exudation during thermocompression bonding, and the cured product thereof has high temperature and high humidity. An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive paste having high adhesion reliability and connection reliability and repairability, and a method of using the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の異方性導電ペー
ストは、(I)エポキシ樹脂30〜80質量%、(II)
フェノール系硬化剤10〜50質量%、(III)高軟化
点微粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子0.1〜2
5質量%を含むことを特徴としている。
The anisotropic conductive paste of the present invention comprises (I) an epoxy resin of 30 to 80% by mass, (II)
Phenolic curing agent 10 to 50% by mass, (III) high softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) conductive particles 0.1 to 2
It is characterized by containing 5% by mass.

【0008】また、本発明の異方性導電ペーストは、
(I)エポキシ樹脂30〜79.9質量%、(II)フェ
ノール系硬化剤10〜50質量%、(III)高軟化点微
粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子0.1〜25質
量%、(V)消泡剤0.1〜20質量%を含むことを特
徴としている。
Further, the anisotropic conductive paste of the present invention is
(I) Epoxy resin 30 to 79.9 mass%, (II) Phenolic curing agent 10 to 50 mass%, (III) High softening point fine particles 5 to 25 mass%, (IV) Conductive particles 0.1 to 25 %, And (V) antifoaming agent 0.1 to 20% by mass.

【0009】さらに、本発明の異方性導電ペーストは、
(I)エポキシ樹脂30〜79.8質量%、(II)フェ
ノール系硬化剤10〜50質量%、(III)高軟化点微
粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子0.1〜25質
量%、(VI)カップリング剤0.1〜5質量%を含むこ
とを特徴としている。
Further, the anisotropic conductive paste of the present invention is
(I) Epoxy resin 30 to 79.8 mass%, (II) Phenolic curing agent 10 to 50 mass%, (III) High softening point fine particles 5 to 25 mass%, (IV) Conductive particles 0.1 to 25 %, And (VI) coupling agent 0.1 to 5% by mass.

【0010】またさらに、本発明の異方性導電ペースト
は、(I)エポキシ樹脂30〜79.8質量%、(II)
フェノール系硬化剤10〜50質量%、(III)高軟化
点微粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子0.1〜2
5質量%、(V)消泡剤0.1〜20質量%、(VI)カ
ップリング剤0.1〜5質量%を含むことを特徴として
いる。
Furthermore, the anisotropic conductive paste of the present invention is (I) epoxy resin 30 to 79.8 mass%, (II)
Phenolic curing agent 10 to 50% by mass, (III) high softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) conductive particles 0.1 to 2
5% by mass, (V) antifoaming agent 0.1 to 20% by mass, and (VI) coupling agent 0.1 to 5% by mass.

【0011】またさらに、本発明の異方性導電ペースト
は、前記異方性導電ペーストに、さらに硬化触媒(VI
I)を含むことを特徴としている。前記エポキシ樹脂
(I)は、エポキシ基を1分子中に少なくとも平均1〜
6個有し、かつGPCによるポリスチレン換算平均分子
量が100〜7000であることが好ましい。
Furthermore, the anisotropic conductive paste of the present invention further comprises a curing catalyst (VI
It is characterized by including I). The epoxy resin (I) has at least an average of 1 to 1 epoxy groups in one molecule.
It is preferable to have 6 and have a polystyrene-converted average molecular weight by GPC of 100 to 7,000.

【0012】前記フェノール系硬化剤(II)はフェノー
ルノボラック型硬化剤であることが好ましい。前記高軟
化点微粒子(III)は、60〜150℃の軟化点温度を
有し、かつ一次粒子径が0.01〜2μmの範囲である
ことが好ましく、さらに、メチル(メタ)アクリレート
と、該メチル(メタ)アクリレート以外の共重合可能な
モノマーとを共重合して得られる高軟化点微粒子であっ
て、前記メチル(メタ)アクリレートを30〜70質量
%含むことも好ましい。
The phenolic curing agent (II) is preferably a phenol novolac type curing agent. It is preferable that the high softening point fine particles (III) have a softening point temperature of 60 to 150 ° C. and a primary particle diameter of 0.01 to 2 μm, and further, methyl (meth) acrylate and High softening point fine particles obtained by copolymerizing a copolymerizable monomer other than methyl (meth) acrylate, and preferably containing 30 to 70% by mass of the methyl (meth) acrylate.

【0013】前記導電性粒子(IV)は、その表面成分を
金またはニッケルで構成していることが好ましい。前記
消泡剤(V)は、ポリシリコーンであることが好まし
く、さらに、該ポリシリコーンが、シリコーン変性され
たエラストマーであって、かつ軟化点温度が−80〜0
℃であり、かつ異方性導電ペースト中に粒子として存在
しており、その1次粒子径が0.05〜5μmであるこ
とも好ましく、またさらに、該シリコーン変性されたエ
ラストマーが、エポキシ樹脂にシリコーン含有基がグラ
フト化されたエラストマーであることが望ましい。
It is preferable that the surface component of the conductive particles (IV) is composed of gold or nickel. The defoaming agent (V) is preferably polysilicone, and the polysilicone is a silicone-modified elastomer and has a softening point temperature of -80 to 0.
It is also preferable that the temperature is at 0 ° C., and the particles are present in the anisotropic conductive paste as particles, and the primary particle diameter thereof is 0.05 to 5 μm. Furthermore, the silicone-modified elastomer is an epoxy resin. Desirably, the silicone-containing group is a grafted elastomer.

【0014】この異方性導電ペーストの25℃における
粘度は、30〜400Pa・sであることが好ましい。ま
た、本発明の異方性導電ペーストの使用方法は、前記異
方性導電ペーストによって、一方の基板上に形成される
電気配線と、他方の基板上に形成される電気回路配線と
を接続することを特徴としている。
The viscosity of this anisotropic conductive paste at 25 ° C. is preferably 30 to 400 Pa · s. In the method of using the anisotropic conductive paste of the present invention, the anisotropic conductive paste connects the electrical wiring formed on one substrate and the electrical circuit wiring formed on the other substrate. It is characterized by that.

【0015】本発明に従えば、高温高湿時においても高
い接着信頼性および接続信頼性が得られる異方性導電ペ
ーストを用いるので、配線同士を確実に接続できる。さ
らに、本発明の異方性導電ペーストの使用方法は、回路
材料、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセン
スディスプレイ、プラズマディスプレイ、電荷結合素
子、半導体デバイスのうちいずれか1つに用いることを
特徴としている。
According to the present invention, since the anisotropic conductive paste which can obtain high adhesion reliability and connection reliability even at high temperature and high humidity is used, the wirings can be surely connected to each other. Furthermore, the method of using the anisotropic conductive paste of the present invention is characterized in that it is used in any one of a circuit material, a liquid crystal display, an organic electroluminescence display, a plasma display, a charge coupled device, and a semiconductor device.

【0016】本発明に従えば、貯蔵安定性、ディスペン
サー塗布作業性に優れ、熱圧着時の樹脂抜け、気泡およ
び染み出しの発生はなく、その硬化物は、高温高湿時に
おいても接着信頼性および接続信頼性が高く、かつリペ
ア性を有した異方性導電ペーストが得られる。また、こ
のような異方性導電ペーストを使用することで、配線の
短絡などが発生せず、また隣接配線同士の絶縁性も保た
れる。
According to the present invention, the storage stability and dispenser coating workability are excellent, there is no resin dropout, bubbles and exudation during thermocompression bonding, and the cured product thereof has reliable adhesion even at high temperature and high humidity. Also, an anisotropic conductive paste having high connection reliability and repairability can be obtained. In addition, by using such an anisotropic conductive paste, a short circuit of wiring does not occur, and the insulation between adjacent wirings is maintained.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明について具体的に説
明する。本発明に係る異方性導電ペーストは、以下に記
載の樹脂組成物である。本発明においては、以下に記載
の、樹脂組成物1、樹脂組成物2、樹脂組成物3、およ
び樹脂組成物4を併せて異方性導電ペースト(樹脂組成
物)という。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be specifically described below. The anisotropic conductive paste according to the present invention is the resin composition described below. In the present invention, the resin composition 1, the resin composition 2, the resin composition 3, and the resin composition 4 described below are collectively referred to as an anisotropic conductive paste (resin composition).

【0018】本発明の第1の異方性導電ペーストは、
(I)エポキシ樹脂30〜80質量%、(II)フェノー
ル系硬化剤10〜50質量%、(III)高軟化点微粒子
5〜25質量%、(IV)導電性粒子0.1〜25質量%
を含んでいる(以下、樹脂組成物1)。また、本発明の
第2の異方性導電ペーストは、(I)エポキシ樹脂30
〜79.9質量%、(II)フェノール系硬化剤10〜5
0質量%、(III)高軟化点微粒子5〜25質量%、(I
V)導電性粒子0.1〜25質量%、(V)消泡剤0.
1〜20質量%を含んでいる(以下、樹脂組成物2)。
The first anisotropic conductive paste of the present invention is
(I) Epoxy resin 30 to 80% by mass, (II) Phenolic curing agent 10 to 50% by mass, (III) High softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) Conductive particles 0.1 to 25% by mass.
(Hereinafter, resin composition 1). The second anisotropic conductive paste of the present invention is (I) epoxy resin 30.
~ 79.9% by mass, (II) phenolic curing agent 10-5
0 mass%, (III) high softening point fine particles 5 to 25 mass%, (I
V) 0.1 to 25% by mass of conductive particles, (V) antifoaming agent 0.
1 to 20 mass% is contained (hereinafter, resin composition 2).

【0019】さらに、本発明の第3の異方性導電ペース
トは、(I)エポキシ樹脂30〜79.8質量%、(I
I)フェノール系硬化剤10〜50質量%、(III)高軟
化点微粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子0.1〜
25質量%、(VI)カップリング剤0.1〜5質量%を
含んでいる(以下、樹脂組成物3)。またさらに、本発
明の第4の異方性導電ペーストは、(I)エポキシ樹脂
30〜79.8質量%、(II)フェノール系硬化剤10
〜50質量%、(III)高軟化点微粒子5〜25質量
%、(IV)導電性粒子0.1〜25質量%、(V)消泡
剤0.1〜20質量%、(VI)カップリング剤0.1〜
5質量%を含んでいる(以下、樹脂組成物4)。
Further, the third anisotropic conductive paste of the present invention is (I) epoxy resin 30 to 79.8 mass%, (I)
I) Phenolic curing agent 10 to 50% by mass, (III) High softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) Conductive particles 0.1 to
25% by mass and 0.1 to 5% by mass of (VI) coupling agent (hereinafter referred to as resin composition 3). Furthermore, the fourth anisotropic conductive paste of the present invention is (I) epoxy resin 30 to 79.8 mass%, (II) phenolic curing agent 10
To 50% by mass, (III) high softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) conductive particles 0.1 to 25% by mass, (V) defoaming agent 0.1 to 20% by mass, (VI) cup Ring agent 0.1
5% by mass (hereinafter, resin composition 4).

【0020】本発明においては、上記樹脂組成物1〜4
には、さらに硬化触媒(VII)を添加することができ
る。本発明に係る異方性導電ペーストを、以上のような
構成とすることで、貯蔵安定性、ディスペンサー塗布作
業性に優れ、熱圧着時の樹脂抜け、気泡および染み出し
の発生がない異方性導電ペーストを得ることができ、ま
たその硬化物も、高温高湿時においても高い接着信頼性
および接続信頼性を有し、かつリペア性を有する。本発
明の異方性導電ペーストは、圧力をかけて硬化させた方
向には導電性を有し、他の方向には絶縁性を有するとい
う性質を持つ、以下に成分(I)〜(VII)について詳
しく説明する。
In the present invention, the above resin compositions 1 to 4 are used.
A curing catalyst (VII) can be further added to. Anisotropic conductive paste according to the present invention, by having the above-mentioned configuration, excellent storage stability, dispenser coating workability, anisotropy without resin loss during thermocompression bonding, bubbles and exudation A conductive paste can be obtained, and a cured product thereof has high adhesion reliability and connection reliability even at high temperature and high humidity, and has repairability. The anisotropic conductive paste of the present invention has the following properties (I) to (VII), which have the property of having conductivity in the direction of being hardened by applying pressure and having insulation in the other direction. Will be described in detail.

【0021】<エポキシ樹脂(I)>前記エポキシ樹脂
(I)は、本発明の異方性導電ペースト(樹脂組成物)
100質量%において、30〜80質量%、好ましくは
40〜70質量%、さらに好ましくは45〜65質量%
の量で用いることが望ましい。また、後述する消泡剤
(V)を樹脂組成物に含有する場合、前記エポキシ樹脂
(I)は、30〜79.9質量%、好ましくは40〜6
9.9質量%、さらに好ましくは50〜64.9質量%
の量で用いることが望ましい。前記エポキシ樹脂(I)
は、該組成物がカップリング剤(VI)、または消泡剤
(V)とカップリング剤(VI)とを含む場合には、前記
エポキシ樹脂(I)は、30〜79.8質量%、好まし
くは40〜69.8質量%、さらに好ましくは50〜6
4.8質量%の量で用いることが望ましい。
<Epoxy Resin (I)> The epoxy resin (I) is the anisotropic conductive paste (resin composition) of the present invention.
At 100 mass%, 30 to 80 mass%, preferably 40 to 70 mass%, more preferably 45 to 65 mass%.
It is desirable to use the amount of. When the resin composition contains a defoaming agent (V) described later, the epoxy resin (I) is 30 to 79.9% by mass, preferably 40 to 6% by mass.
9.9% by mass, more preferably 50 to 64.9% by mass
It is desirable to use the amount of. The epoxy resin (I)
When the composition contains the coupling agent (VI), or the defoaming agent (V) and the coupling agent (VI), the epoxy resin (I) is 30 to 79.8% by mass, Preferably 40 to 69.8% by mass, more preferably 50 to 6
It is desirable to use it in an amount of 4.8% by weight.

【0022】エポキシ樹脂(I)の使用量が、樹脂組成
物(100質量%)において、30質量%以上である
と、本発明の異方性導電ペーストの硬化物において接着
信頼性および接続信頼性が確保でき、80質量%以下で
あると本発明の異方性導電ペーストの硬化物においてリ
ペア性が確保できる。ここで、リペア性とは、電極同士
などを異方性導電ペーストで接着した後に不具合が生じ
た場合には、接着部位を剥離し、洗浄し、再び電極同士
を接着することがあるが、その際に、硬化物が、ガラス
基板などの基材に残存せず、基材を使用することができ
る性能をいう。
When the amount of the epoxy resin (I) used is 30% by mass or more in the resin composition (100% by mass), the adhesive reliability and the connection reliability in the cured product of the anisotropic conductive paste of the present invention. Can be secured, and when it is 80% by mass or less, the repairability can be secured in the cured product of the anisotropic conductive paste of the present invention. Here, the repairability, if a problem occurs after bonding the electrodes and the like with an anisotropic conductive paste, the adhesion site may be peeled off, washed, and the electrodes may be bonded again. In this case, the cured product does not remain on the base material such as the glass substrate, and it means the ability to use the base material.

【0023】本発明に用いられるエポキシ樹脂(I)と
しては、すでに公知のものが用いられるが、好ましく
は、エポキシ樹脂(I)の1分子中にエポキシ基を平均
1〜6個、好ましくは平均1.2〜6個、さらに好まし
くは平均1.7〜6個有しているものを用いることが望
ましい。エポキシ樹脂(I)の1分子中にエポキシ基を
平均1〜6個有すれば、本発明の異方性導電ペーストの
高温高湿時における接着信頼性および接続信頼性を得る
ことができる。
As the epoxy resin (I) used in the present invention, known epoxy resins can be used, but it is preferable that 1 to 6 epoxy groups are contained in one molecule of the epoxy resin (I), preferably the average. It is desirable to use those having 1.2 to 6, and more preferably 1.7 to 6 on average. If the epoxy resin (I) has an average of 1 to 6 epoxy groups in one molecule, it is possible to obtain the adhesive reliability and connection reliability of the anisotropic conductive paste of the present invention at high temperature and high humidity.

【0024】エポキシ樹脂(I)の分子量としては、ゲ
ルパーミエーションクロマトグラフィー(以下、GPC
という)によるポリスチレン換算平均分子量が100〜
7000、好ましくは150〜3000、より好ましく
は350〜2000の範囲であることが望ましい。GP
Cによるポリスチレン換算平均分子量が上記範囲であれ
ば、本発明の異方性導電ペーストのディスペンサー塗布
作業性に優れるため好ましい。本発明において、エポキ
シ樹脂(I)は、上記1分子中に有するエポキシ基の範
囲と、上記ポリスチレン換算平均分子量の範囲とのいず
れの組み合わせであってもよい。
The epoxy resin (I) has a molecular weight of gel permeation chromatography (hereinafter referred to as GPC).
The polystyrene-converted average molecular weight is 100 to
It is desirable that it is in the range of 7,000, preferably 150 to 3,000, and more preferably 350 to 2,000. GP
When the polystyrene-reduced average molecular weight by C is in the above range, the anisotropic conductive paste of the present invention is excellent in dispenser coating workability, which is preferable. In the present invention, the epoxy resin (I) may be any combination of the range of the epoxy group contained in one molecule and the range of the polystyrene-converted average molecular weight.

【0025】また、このエポキシ樹脂(I)は常温下で
液体であっても固体であってもよい。例えば、単官能性
エポキシ樹脂(I-1)および多官能性エポキシ樹脂(I-
2)を挙げることができ、これの中から選ばれるものを
1種または2種以上組み合わせて用いてもよい。単官能
性エポキシ樹脂(I-1)としては、脂肪族モノグリシジ
ルエーテル化合物、芳香族モノグリシジルエーテル化合
物、脂肪族モノグリシジルエステル化合物、芳香族モノ
グリシジルエステル化合物、脂環式モノグルシジルエス
テル化合物、窒素元素含有モノグリシジルエーテル化合
物、モノグリシジルプロピルポリシロキサン化合物、モ
ノグリシジルアルカンなどが挙げられる。
The epoxy resin (I) may be liquid or solid at room temperature. For example, monofunctional epoxy resin (I-1) and polyfunctional epoxy resin (I-
2) can be mentioned, and one selected from these may be used alone or in combination of two or more. As the monofunctional epoxy resin (I-1), an aliphatic monoglycidyl ether compound, an aromatic monoglycidyl ether compound, an aliphatic monoglycidyl ester compound, an aromatic monoglycidyl ester compound, an alicyclic monoglycidyl ester compound, Examples thereof include nitrogen element-containing monoglycidyl ether compounds, monoglycidylpropyl polysiloxane compounds, monoglycidyl alkanes, and the like.

【0026】前記脂肪族モノグリシジルエーテル化合物
としては、ポリアルキレンモノアルキルエーテル類とエ
ピクロルヒドリンとの反応で得られたもの、脂肪族アル
コール類とエピクロルヒドリンとの反応で得られたもの
などが挙げられる。前記ポリアルキレンモノアルキルエ
ーテル類としては、炭素数が1〜6であるアルキル基ま
たはアルケニル基を有するエチレングリコールモノアル
キルエーテル、ジエチレングリコールモノアルキルエー
テル、トリエチレングリコールモノアルキルエーテル、
ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ピロピ
レングリコールモノアルキルエーテル、ジピロピレング
リコールモノアルキルエーテル、トリピロピレングリコ
ールモノアルキルエーテル、ポリピロピレングリコール
モノアルキルエーテルなどが挙げられる。前記脂肪酸ア
ルコール類としては、n−ブタノール、イソブタノー
ル、n−オクタノール、2−エチルヘキシルアルコー
ル、ジメチロールプロパンモノアルキルエーテル、メチ
ロールプロパンジアルキルエーテル、グリセリンジアル
キルエーテル、ジメチロールプロパンモノアルキルエス
テル、メチロールプロパンジアルキルエステル、グリセ
リンジアルキルエステルなどが挙げられる。
Examples of the aliphatic monoglycidyl ether compounds include those obtained by the reaction of polyalkylene monoalkyl ethers with epichlorohydrin, those obtained by the reaction of aliphatic alcohols with epichlorohydrin, and the like. Examples of the polyalkylene monoalkyl ethers include ethylene glycol monoalkyl ether, diethylene glycol monoalkyl ether, triethylene glycol monoalkyl ether having an alkyl group or an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms,
Examples thereof include polyethylene glycol monoalkyl ether, pyropyrene glycol monoalkyl ether, dipyropyrene glycol monoalkyl ether, tripyropyrene glycol monoalkyl ether, and polypyropyrene glycol monoalkyl ether. Examples of the fatty acid alcohols include n-butanol, isobutanol, n-octanol, 2-ethylhexyl alcohol, dimethylolpropane monoalkyl ether, methylolpropane dialkyl ether, glycerin dialkyl ether, dimethylolpropane monoalkyl ester, methylolpropane dialkyl ester. , Glycerin dialkyl ester and the like.

【0027】前記芳香族モノグルシジルエーテル化合物
としては、芳香族アルコール類またはそれらをエチレン
グリコール、プロピレングリコールなどのアルキレング
リコールで変性したアルコール類とエピクロルヒドリン
との反応で得られたもlのが挙げられる。前記芳香族ア
ルコール類としては、フェノール、ベンジルアルコー
ル、キシレノール、ナフトールなどが挙げられる。
Examples of the aromatic monoglycidyl ether compounds include aromatic alcohols or alcohols obtained by modifying them with alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol and epichlorohydrin obtained by the reaction of epichlorohydrin. . Examples of the aromatic alcohols include phenol, benzyl alcohol, xylenol, and naphthol.

【0028】前記脂肪族モノグリシジルエステル化合物
としては、脂肪族ジカルボン酸モノアルキルエステルと
エピクロルヒドリンとの反応で得られたものが、また、
芳香族モノグリシジルエステル化合物としては、芳香族
ジカルボン酸モノアルキルエステルとエピクロルヒドリ
ンとの反応で得られたものが挙げられる。多官能性エポ
キシ樹脂(I-2)としては、脂肪族多価グリシジルエー
テル化合物、芳香族多価グリシジルエーテル化合物、脂
肪族多価グリシジルエステル化合物、芳香族多価グリシ
ジルエステル化合物、脂肪族多価グリシジルエーテルエ
ステル化合物、芳香族多価グリシジルエーテルエステル
化合物、脂環式多価グリシジルエーテル化合物、脂肪族
多価グリシジルアミン化合物、芳香族多価グリシジルア
ミン化合物、ヒダントイン型多価グリシジル化合物、ノ
ボラック型多価グリシジルエーテル化合物、エポキシ化
ジエン重合体、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘ
キシルメチル、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘ
キサンカーボネート、ビス(2,3−エポキシシクロペ
ンチル)エーテルなどが挙げられる。
As the above-mentioned aliphatic monoglycidyl ester compound, a compound obtained by reacting an aliphatic dicarboxylic acid monoalkyl ester with epichlorohydrin,
Examples of the aromatic monoglycidyl ester compound include those obtained by the reaction of aromatic dicarboxylic acid monoalkyl ester and epichlorohydrin. Examples of the polyfunctional epoxy resin (I-2) include aliphatic polyvalent glycidyl ether compounds, aromatic polyvalent glycidyl ether compounds, aliphatic polyvalent glycidyl ester compounds, aromatic polyvalent glycidyl ester compounds, and aliphatic polyvalent glycidyl compounds. Ether ester compound, aromatic polyvalent glycidyl ether ester compound, alicyclic polyvalent glycidyl ether compound, aliphatic polyvalent glycidyl amine compound, aromatic polyvalent glycidyl amine compound, hydantoin type polyvalent glycidyl compound, novolac type polyvalent glycidyl Examples thereof include ether compounds, epoxidized diene polymers, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexane carbonate and bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether.

【0029】前記脂肪族多価グリシジルエーテル化合物
としては、ポリアルキレングリコール類とエピクロルヒ
ドリンとの反応で得られたもの、多価アルコール類とエ
ピクロルヒドリンとの反応で得られたものなどが挙げら
れる。前記ポリアルキレングリコール類としては、エチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ポリエチレングリコール、ピロピレングリ
コール、ジピロピレングリコール、トリピロピレングリ
コール、ポリピロピレングリコールなどが挙げられる。
多価アルコール類としては、ジメチロールプロパン、ト
リメチロールプロパン、スピログリコール、グリセリン
などが挙げられる。
Examples of the aliphatic polyhydric glycidyl ether compounds include those obtained by the reaction of polyalkylene glycols with epichlorohydrin, those obtained by the reaction of polyhydric alcohols with epichlorohydrin, and the like. Examples of the polyalkylene glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, pyropyrene glycol, dipyropyrene glycol, tripyropyrene glycol, and polypyropyrene glycol.
Examples of polyhydric alcohols include dimethylolpropane, trimethylolpropane, spiroglycol, and glycerin.

【0030】前記芳香族多価グリシジルエーテル化合物
としては、芳香族ジオール類またはそれらをエチレング
リコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリ
コールで変性したジオール類とエピクロルヒドリンとの
反応で得られたものなどが挙げられる。前記芳香族ジオ
ール類としては、ビスフェノールA、ビスフェノール
S、ビスフェノールF、ビスフェノールADなどが挙げ
られる。
Examples of the aromatic polyvalent glycidyl ether compounds include those obtained by reacting aromatic diols or diols obtained by modifying them with alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol, and epichlorohydrin. Examples of the aromatic diols include bisphenol A, bisphenol S, bisphenol F and bisphenol AD.

【0031】前記脂肪族多価グリシジルエステル化合物
としては、アジピン酸、イタコン酸などの脂肪族ジカル
ボン酸とエピクロルヒドリンとの反応で得られたものが
挙げられる。前記芳香族多価グリシジルエステル化合物
としては、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット
酸などの芳香族ジカルボン酸とエピクロルヒドリンとの
反応で得られたものが挙げられる。
Examples of the aliphatic polyhydric glycidyl ester compounds include those obtained by the reaction of aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and itaconic acid with epichlorohydrin. Examples of the aromatic polyvalent glycidyl ester compound include those obtained by the reaction of an aromatic dicarboxylic acid such as isophthalic acid, terephthalic acid, and pyromellitic acid with epichlorohydrin.

【0032】前記脂肪族多価グリシジルエーテルエステ
ル化合物および芳香族多価グリシジルエーテルエステル
化合物としては、ヒドロキシジカルボン酸化合物とエピ
クロルヒドリンとの反応で得られたものが挙げられる。
前記脂肪族多価グリシジルアミン化合物としては、ポリ
エチレンジアミンなどの脂肪族ジアミンとエピクロルヒ
ドリンとの反応で得られたものが挙げられる。
Examples of the aliphatic polyvalent glycidyl ether ester compound and the aromatic polyvalent glycidyl ether ester compound include those obtained by the reaction of a hydroxydicarboxylic acid compound and epichlorohydrin.
Examples of the aliphatic polyvalent glycidyl amine compound include those obtained by reacting an aliphatic diamine such as polyethylene diamine with epichlorohydrin.

【0033】前記芳香族多価グリシジルアミン化合物と
しては、ジアミノジフェニルメタン、アニリン、メタキ
シリレンジアミンなどの芳香族ジアミンとエピクロルヒ
ドリンとの反応で得られたものが挙げられる。前記ヒダ
ントイン型多価グリシジル化合物としては、ヒダンイン
またはその誘導体とエピクロルヒドリンとの反応で得ら
れたものが挙げられる。
Examples of the aromatic polyvalent glycidyl amine compounds include those obtained by the reaction of aromatic diamines such as diaminodiphenylmethane, aniline and metaxylylenediamine with epichlorohydrin. Examples of the hydantoin-type polyvalent glycidyl compound include those obtained by reacting hydanin or a derivative thereof with epichlorohydrin.

【0034】前記ノボラック型多価グリシジルエーテル
化合物としては、フェノールまたはクレゾールとホルム
アルデヒドとから誘導されたノボラック樹脂とエピクロ
ルヒドリンとの反応で得られたもの、ポリアルケニルフ
ェノールやそのコポリマーなどのポリフェノール類とエ
ピクロルヒドリンとの反応で得られたものが挙げられ
る。
The novolac-type polyhydric glycidyl ether compound is obtained by reacting a novolak resin derived from phenol or cresol and formaldehyde with epichlorohydrin, polyphenols such as polyalkenylphenol and copolymers thereof, and epichlorohydrin. What was obtained by the reaction of is mentioned.

【0035】前記エポキシ化ジエン重合体としては、エ
ポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化ポリイソプレンな
どが挙げられる。<フェノール系硬化剤(II)> 本発明の異方性導電ペー
スト(樹脂組成物)に用いられるフェノール系硬化剤
(II)は、樹脂組成物(100質量%)において、10
〜50質量%、好ましくは10〜40質量%、さらに好
ましくは10〜30質量%の量で用いることが望まし
い。フェノール系硬化剤(II)の使用量が、樹脂組成物
(100質量%)において、10質量%以上であると、
該樹脂組成物の硬化物は、高温高湿時の接着信頼性およ
び接続信頼性に優れ、また、50質量%以下であると、
樹脂組成物の粘度の上昇を抑えることができ、作業性お
よび塗布性に優れるため好ましい。
Examples of the epoxidized diene polymer include epoxidized polybutadiene and epoxidized polyisoprene. <Phenolic curing agent (II)> The phenolic curing agent (II) used in the anisotropic conductive paste (resin composition) of the present invention is 10% in the resin composition (100% by mass).
It is desirable to use in an amount of -50 mass%, preferably 10-40 mass%, more preferably 10-30 mass%. When the amount of the phenolic curing agent (II) used is 10% by mass or more in the resin composition (100% by mass),
The cured product of the resin composition has excellent adhesion reliability and connection reliability at high temperature and high humidity, and is 50% by mass or less,
This is preferable because it is possible to suppress an increase in the viscosity of the resin composition and it is excellent in workability and coatability.

【0036】本発明に用いられるフェノール系硬化剤
(II)は、常温下で液体であっても固体であってもよ
い。2以上の官能基を有するフェノール系硬化剤の中か
ら選ばれたものを1種または2種以上組み合わせて用い
てもよい。そのようなフェノール系硬化剤(II)として
は、特開平6−100667号公報記載のフェノール系
硬化剤が用いられ、具体的には、フェニル化合物または
ナフタレン化合物と、アルデヒド類、ケトン類、芳香族
化合物、または脂環式化合物などとの縮合物が挙げられ
る。前記フェニル化合物としては、フェノール、クレゾ
ール、エチルフェノール、プロピルフェノールなど、前
記ナフタレン化合物としては、α−ナフトール、β−ナ
フトールなど、前記アルデヒド類としては、ホルムアル
デヒド(ホルマリン)、パラホルムアルデヒドなど、前
記ケトン類としてはアセトン、アセトフェノンなど、前
記芳香族化合物としては、キシリレン、ジビニルベンゼ
ンなど、前記脂環式化合物としては、ジシクロペンタジ
エンなどが挙げられる。
The phenolic curing agent (II) used in the present invention may be liquid or solid at room temperature. One selected from the phenolic curing agents having two or more functional groups may be used alone or in combination of two or more. As such a phenol-based curing agent (II), the phenol-based curing agent described in JP-A-6-100667 is used, and specifically, a phenyl compound or a naphthalene compound and aldehydes, ketones, aromatics Examples thereof include compounds and condensates with alicyclic compounds. Examples of the phenyl compound include phenol, cresol, ethylphenol, and propylphenol. Examples of the naphthalene compound include α-naphthol and β-naphthol. Examples of the aldehydes include formaldehyde (formalin) and paraformaldehyde. Examples thereof include acetone and acetophenone, examples of the aromatic compound include xylylene and divinylbenzene, and examples of the alicyclic compound include dicyclopentadiene.

【0037】フェノール系硬化剤(II)としては、すで
に公知のもの用いることができるが、フェノールまたは
クレゾールとホルムアルデヒドとから誘導されたフェノ
ールノボラック型硬化剤を用いることが好ましい。<高軟化点微粒子(III)> 本発明の異方性導電ペース
ト(樹脂組成物)に用いられる高軟化点微粒子(III)
は、軟化点温度以上で本発明の異方性導電ペースト中で
溶融することにより、該ペーストの粘度を増加させ、そ
の流動を抑制することができる。また、異方性導電ペー
ストのリペア性を付与することもできる。
As the phenol-based curing agent (II), a known one can be used, but it is preferable to use a phenol novolac type curing agent derived from phenol or cresol and formaldehyde. <High softening point fine particles (III)> High softening point fine particles (III) used in the anisotropic conductive paste (resin composition) of the present invention
Can be melted in the anisotropic conductive paste of the present invention at a softening point temperature or higher to increase the viscosity of the paste and suppress its flow. Further, the repairability of the anisotropic conductive paste can be imparted.

【0038】そのような高軟化点微粒子(III)は、樹
脂組成物(100質量%)において、5〜25質量%、
好ましくは10〜20質量%、さらに好ましくは13〜
18質量%の量で用いることが望ましい。高軟化点微粒
子(III)の使用量が、樹脂組成物(100質量%)に
おいて、5質量%以上であると、熱圧着時の樹脂抜けお
よび染み出しの発生を抑制することができ、また、25
質量%以下であると、異方性導電ペーストの粘度が、塗
布作業に支障をきたすほど上昇せず、ディスペンサー塗
布などの作業性に優れるため好ましい。
The high softening point fine particles (III) are contained in the resin composition (100% by mass) in an amount of 5 to 25% by mass,
Preferably 10 to 20% by mass, more preferably 13 to
It is desirable to use it in an amount of 18% by weight. When the amount of the high softening point fine particles (III) used is 5% by mass or more in the resin composition (100% by mass), it is possible to suppress the occurrence of resin loss and exudation during thermocompression bonding, and 25
It is preferable for the content to be not more than mass% because the viscosity of the anisotropic conductive paste does not rise so much as to hinder the coating work and the workability in dispenser coating and the like is excellent.

【0039】前記高軟化点微粒子(III)としては、軟
化点温度が60〜150℃、好ましくは70〜120℃
であり、かつ1次粒子径が0.01〜2μm、0.1〜
1μmの範囲にあるものであれば、すでに公知のものを
用いてよい。本発明において高軟化点微粒子(III)
は、上記軟化点温度の範囲と1次粒子径の範囲とのいず
れの組み合わせであってもよい。ここで1次粒子径と
は、機械的にそれ以上分離できない粒子のことである。
軟化点温度が60℃以上であると、室温における本発明
の異方性導電ペーストの貯蔵安定性が優れるため好まし
い。また、軟化点温度が150℃以下であると150〜
200℃の熱圧着工程において、異方性導電ペーストの
流動を抑えることができ、リペア性も付与することがで
きる。また、高軟化点微粒子(III)の1次粒子径は、
ディスペンサー塗布などの作業性、接続信頼性などの点
から0.01〜2μmであることが好ましい。
The high softening point fine particles (III) have a softening point temperature of 60 to 150 ° C, preferably 70 to 120 ° C.
And the primary particle size is 0.01 to 2 μm, 0.1 to
Any known material may be used as long as it is in the range of 1 μm. High softening point fine particles (III) in the present invention
May be any combination of the softening point temperature range and the primary particle size range. Here, the primary particle size is a particle that cannot be mechanically separated.
A softening point temperature of 60 ° C. or higher is preferable because the anisotropic conductive paste of the present invention has excellent storage stability at room temperature. Further, when the softening point temperature is 150 ° C. or lower, it is 150 to
In the thermocompression bonding process at 200 ° C., the flow of the anisotropic conductive paste can be suppressed and repairability can be imparted. The primary particle diameter of the high softening point fine particles (III) is
From the viewpoint of workability such as dispenser application and connection reliability, the thickness is preferably 0.01 to 2 μm.

【0040】また、高軟化点微粒子(III)を製造する
には、高軟化点微粒子(III)のエマルション溶液を調
製し、これを噴霧乾燥することにより得られる。そのよ
うなエマルション溶液は、例えばモノマーとしてメチル
(メタ)アクリレート30〜70質量%とその他共重合
可能なモノマー70〜30質量%とを共重合させること
により得られ、好ましくはその他共重合可能なモノマー
として、多官能モノマーを使用することが望ましい。上
記多官能モノマーを使用すると、エマルション微粒子に
微架橋構造が形成される。
The high softening point fine particles (III) can be produced by preparing an emulsion solution of the high softening point fine particles (III) and spray-drying the emulsion solution. Such an emulsion solution is obtained, for example, by copolymerizing 30 to 70% by mass of methyl (meth) acrylate as a monomer and 70 to 30% by mass of another copolymerizable monomer, and preferably another copolymerizable monomer. As, it is desirable to use a polyfunctional monomer. When the above polyfunctional monomer is used, a finely crosslinked structure is formed in the emulsion fine particles.

【0041】これらのエマルション溶液から得られた高
軟化点微粒子(III)を本発明の異方性導電ペーストに
用いることで、室温における異方性導電ペーストの貯蔵
安定性がより高くなり、熱圧着時における樹脂抜けおよ
び染み出しの発生をさらに抑制することができる。前記
モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチ
ル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(アクリレート)、2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、ヘキ
サデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)
アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)ア
クリレート)等のアクリル酸エステル類、アクリルアミ
ド類、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸等
の酸モノマー、スチレン、スチレン誘導体等の芳香族ビ
ニル化合物等を挙げることができる。
By using the high softening point fine particles (III) obtained from these emulsion solutions in the anisotropic conductive paste of the present invention, the storage stability of the anisotropic conductive paste at room temperature is further increased, and thermocompression bonding is performed. It is possible to further suppress the occurrence of resin omission and bleeding at the time. Examples of the monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (acrylate), 2-ethylhexyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, octadecyl ( Meta)
Acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate,
Acrylic acid esters such as phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acrylamides, acid monomers such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, styrene, Examples thereof include aromatic vinyl compounds such as styrene derivatives.

【0042】また、前記エマルション微粒子に微架橋構
造を形成するための多官能モノマーとしては、ジビニル
ベンゼン、ジアクリレート類、1,3ーブタジエン、
1、3ーペンタジエン、イソプレン、1、3ーヘキサジ
エン、クロロプレン等の共役ジエン類を使用することが
できる。前記エマルション微粒子の表面を微架橋する方
法としては、エマルション微粒子の表面層のエポキシ
基、カルボキシル基、およびアミノ基を金属架橋させて
アイオノマー架橋させる方法も挙げられる。エマルショ
ン微粒子に微架橋構造を形成することにより、室温下で
エポキシ樹脂(I)、溶剤などに容易に溶解しにくくな
り、本発明の異方性導電ペーストの貯蔵安定性を向上さ
せることができる。
As the polyfunctional monomer for forming a finely crosslinked structure in the emulsion fine particles, divinylbenzene, diacrylates, 1,3-butadiene,
Conjugated dienes such as 1,3-pentadiene, isoprene, 1,3-hexadiene and chloroprene can be used. Examples of the method for slightly cross-linking the surface of the emulsion fine particles include a method for cross-linking the epoxy group, the carboxyl group, and the amino group of the surface layer of the emulsion fine particles with metal to ionomer cross-link. By forming a fine cross-linking structure in the emulsion fine particles, it becomes difficult for the emulsion fine particles to dissolve in the epoxy resin (I), a solvent, etc. at room temperature, and the storage stability of the anisotropic conductive paste of the present invention can be improved.

【0043】<導電性粒子(IV)>本発明の異方性導電
ペースト(樹脂組成物)に用いられる導電性粒子(IV)
は、樹脂組成物(100質量%)において、0.1〜2
5質量%、好ましくは1〜20質量%、さらに好ましく
は2〜15質量%の量で用いることが望ましい。導電性
粒子(IV)の使用量が、樹脂組成物(100質量%)に
おいて、0.1質量%以上であり、かつ25質量%以下
であると、異方性導電ペーストに充分な導電性を付与す
ることができる。
<Conductive Particles (IV)> The conductive particles (IV) used in the anisotropic conductive paste (resin composition) of the present invention.
Is 0.1 to 2 in the resin composition (100% by mass).
It is desirable to use 5% by mass, preferably 1 to 20% by mass, more preferably 2 to 15% by mass. When the amount of the conductive particles (IV) used in the resin composition (100% by mass) is 0.1% by mass or more and 25% by mass or less, the anisotropic conductive paste has sufficient conductivity. Can be granted.

【0044】本発明の異方性導電ペーストに用いられる
導電性粒子(IV)としては、すでに公知のものを用いる
ことができる。具体的には、金、ニッケル、銀、白金な
どの貴金属類の導電性粒子、銀銅合金、金銅合金、ニッ
ケル合金などの貴金属合金類の導電性粒子、ポリスチレ
ンなどの有機ポリマー微粒子に前記貴金属または貴金属
合金の皮膜を形成させて得られる導電性粒子などを挙げ
ることができる。好ましくは、貴金属である金またはニ
ッケルの導電性粒子、有機ポリマー微粒子に金またはニ
ッケルの貴金属皮膜を形成させて得られる導電性粒子な
どが望ましい。前記の有機ポリマー微粒子に金またはニ
ッケルの貴金属皮膜を形成させているとは、すなわち有
機ポリマー微粒子の表面成分が金またはニッケルで形成
されていることを意味する。市販品としては、積水ファ
インケミカル社製の商品名「ミクロパールAUシリー
ズ」が挙げられる。これら導電性粒子の粒子径は、2〜
20μmの範囲のものが好ましい。
As the conductive particles (IV) used in the anisotropic conductive paste of the present invention, known particles can be used. Specifically, gold, nickel, silver, conductive particles of noble metals such as platinum, silver-copper alloy, gold-copper alloy, conductive particles of noble metal alloys such as nickel alloy, organic polymer fine particles such as polystyrene to the noble metal or Examples thereof include conductive particles obtained by forming a film of a noble metal alloy. Preferably, conductive particles of noble metal gold or nickel, conductive particles obtained by forming a noble metal film of gold or nickel on organic polymer fine particles, and the like are desirable. The formation of a noble metal film of gold or nickel on the organic polymer fine particles means that the surface component of the organic polymer fine particles is formed of gold or nickel. Examples of commercially available products include Sekisui Fine Chemical's trade name “Micropearl AU series”. The particle size of these conductive particles is 2 to
It is preferably in the range of 20 μm.

【0045】<消泡剤(V)>本発明の異方性導電ペー
スト(樹脂組成物)に用いられる消泡剤(V)は、すで
に公知ものを用いることができる。具体的には、シリコ
ーン系消泡剤、フッ素系消泡剤などが挙げられるが、好
ましくはシリコーン系消泡剤、さらに好ましくはポリシ
リコーンが用いられる。
<Defoaming Agent (V)> As the defoaming agent (V) used in the anisotropic conductive paste (resin composition) of the present invention, a known defoaming agent can be used. Specific examples thereof include silicone-based defoaming agents and fluorine-based defoaming agents, preferably silicone-based defoaming agents, and more preferably polysilicone.

【0046】このような消泡剤(V)は、樹脂組成物中
(100質量%)において、0.1〜20質量%、好ま
しくは0.1〜15質量%、さらに好ましくは0.5〜
15質量%の量で用いることが望ましい。消泡剤(V)
の使用量が、樹脂組成物中(100質量%)において、
0.1質量%以上であると、異方性導電ペーストに泡が
発生し難くなり、硬化後においても気泡を含有しないた
め好ましく、また、20質量%以下であると、ディスペ
ンサー塗布作業性、および異方性導電ペーストの接着性
に優れ、さらに硬化後はガスバリア性の低下を抑制する
ことができる。
Such an antifoaming agent (V) in the resin composition (100% by mass) is 0.1 to 20% by mass, preferably 0.1 to 15% by mass, more preferably 0.5 to
It is desirable to use in an amount of 15% by weight. Defoaming agent (V)
Is used in the resin composition (100% by mass),
When it is 0.1% by mass or more, bubbles are less likely to be generated in the anisotropic conductive paste, and bubbles are not contained even after curing, and when it is 20% by mass or less, dispenser coating workability and The anisotropic conductive paste has excellent adhesiveness, and further, it is possible to suppress deterioration of the gas barrier property after curing.

【0047】前記ポリシリコーンは、シリコーン変性さ
れたエラストマーであることが好ましい。ポリシリコー
ンがエラストマーであることにより、異方性導電ペース
トを硬化させた場合に、外部からの物理的衝撃、冷熱サ
イクル試験時の熱歪などを緩和することができる。ま
た、前記ポリシリコーンが、シリコーン変性されたエラ
ストマーであることにより、外部からの物理的衝撃、冷
熱サイクル試験時の熱歪などをさらに緩和することがで
きる。ここでシリコーン変性とは、官能基を有するシリ
コーンをエラストマーにグラフト結合させることであ
る。
The polysilicone is preferably a silicone-modified elastomer. Since the silicone is an elastomer, when the anisotropic conductive paste is cured, it is possible to reduce physical shock from the outside, thermal strain during a thermal cycle test, and the like. Further, since the above-mentioned polysilicone is a silicone-modified elastomer, it is possible to further alleviate physical impact from the outside, thermal strain during a thermal cycle test, and the like. Here, the silicone modification is to graft-bond a silicone having a functional group to an elastomer.

【0048】また前記ポリシリコーンとしては、本発明
の異方性導電ペーストの成分であるエポキシ樹脂(I)
とは別のエポキシ樹脂にグラフト化しているシリコーン
変性されたエラストマーを用いるのが好ましい。一般的
にエポキシ樹脂とシリコーンとは相溶性が低いため、相
分離を起こしやすい。したがって、ポリシリコーンとし
て、エポキシ樹脂にグラフト化しているシリコーン変性
されたエラストマーを用いることにより、ポリシリコー
ンは、異方性導電ペースト中に均一に分散することがで
きる。
As the above-mentioned polysilicone, the epoxy resin (I) which is a component of the anisotropic conductive paste of the present invention is used.
It is preferable to use a silicone-modified elastomer which is grafted to an epoxy resin other than. Generally, epoxy resins and silicones have low compatibility, and thus phase separation easily occurs. Therefore, by using the silicone-modified elastomer grafted to the epoxy resin as the polysilicone, the polysilicone can be uniformly dispersed in the anisotropic conductive paste.

【0049】そのようなポリシリコーンとしては、軟化
点温度が−80℃〜0℃、好ましくは、−80〜−20
℃、さらに好ましくは−80〜−40℃であることが望
ましい。軟化点が上記範囲であることにより外部からの
物理的衝撃、冷熱サイクル試験時の熱歪等を緩和する効
果が向上し、高い接着強度が確保できる。また、前記ポ
リシリコーンは、その一次粒子径が0.05〜5μm、
好ましくは、0.1〜3.5μm、さらに好ましくは
0.1〜2μmのゴム状ポリマー微粒子であることが望
ましい。ポリシリコーンの1次粒子径を0.05μm以
上とすることにより、異方性導電ペースト中で凝集が発
生せず、さらに、該ペーストの粘度が安定してディスペ
ンサー塗布などの作業性に優れるため好ましい。また、
ポリシリコーンの1次粒子径を5μm以下とすることに
より、ディスペンサー塗布などの作業性に優れ、かつ該
ポリシリコーンを含有する異方性導電ペーストが硬化し
た後は、高い接着強度も確保することができる。本発明
においてポリシリコーンは、上記軟化点温度の範囲と1
次粒子径の範囲とのいずれの組み合わせであってもよ
い。
Such a polysilicone has a softening point temperature of -80 ° C to 0 ° C, preferably -80 to -20.
C., more preferably -80 to -40.degree. When the softening point is in the above range, the effect of alleviating physical impact from the outside, thermal strain during a heat cycle test, etc. is improved, and high adhesive strength can be secured. The polysilicone has a primary particle size of 0.05 to 5 μm,
It is desirable that the rubber-like polymer particles have a diameter of preferably 0.1 to 3.5 μm, more preferably 0.1 to 2 μm. When the primary particle diameter of the poly-silicone is 0.05 μm or more, aggregation does not occur in the anisotropic conductive paste, and the viscosity of the paste is stable, and workability such as dispenser application is excellent, which is preferable. . Also,
By setting the primary particle diameter of the polysilicone to 5 μm or less, workability such as dispenser application is excellent, and high adhesive strength can be secured after the anisotropic conductive paste containing the polysilicone is cured. it can. In the present invention, the polysilicone has a softening point range of 1 and above.
Any combination with the range of the secondary particle size may be used.

【0050】前記ポリシリコーンの形成方法としては、
シリコーンゴム微粒子を用いる方法、特開昭60ー72
957号公報に開示されている方法、エポキシ樹脂に二
重結合を導入してその二重結合と反応可能なハイドロジ
ェン含有シリコーンを反応させてグラフト体を生成し、
グラフト体の存在下でシリコーンゴムモノマーを重合さ
せる方法、エポキシ樹脂に二重結合を導入してそれに重
合可能なビニル基含有シリコーンゴムモノマーを反応さ
せグラフト体を生成する方法、該グラフト体の存在下で
シリコーンゴムモノマーを重合させる方法などが挙げら
れる。好ましくはシリコーンゴム微粒子を用いずにグラ
フト体およびグラフト体を生成後、シリコーンゴム粒子
を生成させる方法であり、また、これらの方法で得たポ
リシリコーンは分散しても粘度上昇が少ないので良好な
ディスペンサー塗布作業性が得られる。
As a method for forming the above-mentioned polysilicone,
Method using fine particles of silicone rubber, JP-A-60-72
No. 957, a double bond is introduced into an epoxy resin and a hydrogen-containing silicone capable of reacting with the double bond is reacted to form a graft body,
A method of polymerizing a silicone rubber monomer in the presence of a graft body, a method of introducing a double bond into an epoxy resin and reacting a polymerizable vinyl group-containing silicone rubber monomer therewith to form a graft body, in the presence of the graft body And a method of polymerizing the silicone rubber monomer. Preferred is a method in which the silicone rubber particles are formed after forming the graft body and the graft body without using the silicone rubber fine particles, and the viscosity of the polysilicone obtained by these methods is small even when dispersed, which is preferable. Dispenser coating workability can be obtained.

【0051】<カップリング剤(VI)>本発明の異方性
導電ペースト(樹脂組成物)に用いられるカップリング
剤(VI)は、該樹脂組成物と基材との接着力を向上さ
せ、さらに一方の基板上に形成される電気回路配線と、
他方の基板上に形成される電気回路配線とを接着力を向
上させるために用いられる。その使用量は、樹脂組成物
(100質量%)において、0.1質量%〜5質量%、
好ましくは0.1〜4質量%、さらに好ましくは0.1
〜3質量%の量であることが望ましい。カップリング剤
(VI)の使用量が、樹脂組成物(100質量%)におい
て0.1質量%以上であると、異方性導電ペーストと基
材との接着性が高くなり、また、5質量%以下である
と、該ペーストの硬化物は充分な硬度が得られ、さらに
周辺部材への汚染性を低下することができる。
<Coupling Agent (VI)> The coupling agent (VI) used in the anisotropic conductive paste (resin composition) of the present invention improves the adhesive force between the resin composition and the substrate, Furthermore, electrical circuit wiring formed on one of the substrates,
It is used to improve the adhesive force with the electric circuit wiring formed on the other substrate. The amount used is 0.1% by mass to 5% by mass in the resin composition (100% by mass),
Preferably 0.1 to 4% by mass, more preferably 0.1.
It is desirable that the amount be 3% by mass. When the amount of the coupling agent (VI) used is 0.1% by mass or more in the resin composition (100% by mass), the adhesiveness between the anisotropic conductive paste and the base material is high, and the amount is 5% by mass. When it is at most%, the cured product of the paste will have sufficient hardness, and the contamination of peripheral members can be reduced.

【0052】前記カップリング剤(VI)としては、すで
に公知のカップリング剤を使用することができる。具体
的には、トリアルコキシシラン化合物、メチルジアルコ
キシシラン化合物が挙げられる。より具体的には、トリ
アルコキシシラン化合物としては、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−
アミノエチル−γ−イミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナー
トプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。ま
た、メチルジアルコキシシラン化合物としては、γ−グ
リシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロビルメチルジエトキシシラン、γ−アミノ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピル
メチルジメトキシシラン、N−アミノエチル−γ−イミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メルカプトプピルルメチルジメト
キシシラン、イソシアナートプロピルメチルジエトキシ
シラなどが挙げられる。
As the coupling agent (VI), a known coupling agent can be used. Specific examples include a trialkoxysilane compound and a methyldialkoxysilane compound. More specifically, as the trialkoxysilane compound, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N −
Examples thereof include aminoethyl-γ-iminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, and γ-isocyanatopropyltriethoxysilane. Further, as the methyl dialkoxy silane compound, γ-glycidoxy propyl methyl dimethoxy silane, γ-glycidoxy propyl methyl diethoxy silane, γ-aminopropyl methyl dimethoxy silane, γ-amino propyl methyl dimethoxy silane, N -Aminoethyl- [gamma] -iminopropylmethyldimethoxysilane, [gamma] -mercaptropylmethyldimethoxysilane, [gamma] -aminopropyltrimethoxysilane, [gamma] -mercaptopyrupylmethyldimethoxysilane, and isocyanate propylmethyldiethoxysila.

【0053】<硬化触媒(VII)>本発明の異方性導電
ペースト(樹脂組成物)に用いられる硬化触媒(VII)
は、エポキシ樹脂(I)とフェノール系硬化剤(II)と
が反応する際の触媒として働き、具体的には、非常に短
時間で該樹脂組成物を硬化させることを目的として添加
される。そのような硬化触媒(VII)は、すでに公知の
エポキシ硬化触媒の中から選択することができる。特に
40℃以上の加熱によって熱硬化活性を示す潜在性エポ
キシ硬化触媒を使用することが好ましい。ただし、この
硬化触媒(VII)としては、フェノール系硬化剤(II)
は含まれないものとする。
<Curing catalyst (VII)> Curing catalyst (VII) used in the anisotropic conductive paste (resin composition) of the present invention
Acts as a catalyst when the epoxy resin (I) reacts with the phenolic curing agent (II), and is specifically added for the purpose of curing the resin composition in a very short time. Such curing catalyst (VII) can be selected from among the already known epoxy curing catalysts. In particular, it is preferable to use a latent epoxy curing catalyst that exhibits thermosetting activity by heating at 40 ° C. or higher. However, the curing catalyst (VII) is a phenolic curing agent (II).
Is not included.

【0054】前記40℃以上の加熱温度によって熱硬化
活性を示す潜在性硬化触媒としては、ジシアンジアミド
およびその誘導体、アジピン酸ジヒドラジッド、イソフ
タル酸ジヒドラジッド等のジビドラジッド化合物が挙げ
られる。また、イミダゾール化合物の誘導体およびそれ
らの変性物、すなわちイミダゾール系硬化触媒を用いて
もよい。そのようなイミダゾール系硬化触媒としては、
具体的には、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4
−メチルイミダゾール、2−n−ペンタデシルイミダゾ
ールなどのイミダゾール誘導体、イミダゾール化合物と
芳香族酸無水物との錯体、イミダゾール化合物とエポキ
シ樹脂とのアダクト体などのイミダゾール変性誘導体、
マイクロカプセル変性体などが挙げられる。
Examples of the latent curing catalyst which exhibits thermosetting activity at a heating temperature of 40 ° C. or higher include dicyandiamide and its derivatives, and dividazid compounds such as adipic acid dihydrazide and isophthalic acid dihydrazide. Further, a derivative of an imidazole compound and a modified product thereof, that is, an imidazole-based curing catalyst may be used. As such an imidazole-based curing catalyst,
Specifically, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4
-Methylimidazole, imidazole derivative such as 2-n-pentadecylimidazole, complex of imidazole compound and aromatic acid anhydride, imidazole-modified derivative such as adduct of imidazole compound and epoxy resin,
Examples include modified microcapsules.

【0055】前記マイクロカプセル変性体、すなわちマ
イクロカプセル化されているイミダゾール系硬化触媒と
しては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メ
チルイミダゾール、2−n−ペンタデシルイミダゾール
系硬化触媒をコア材として、微小なシェルで封じ込めら
れたマイクロカプセル化物が挙げられる。前記硬化触媒
(VII)は、樹脂組成物(100質量%)において、1
5質量%以下、好ましくは1〜10質量%の量で用いる
ことが望ましい。15質量%以下とすることによりエポ
キシ樹脂硬化物の特性が発現され、高い接着信頼性を得
ることができる。
The modified microcapsules, that is, microcapsulated imidazole-based curing catalysts include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 2-n-pentadecylimidazole-based curing catalysts as core materials. As an example, a microencapsulated product enclosed by a fine shell can be mentioned. The curing catalyst (VII) is 1 in the resin composition (100% by mass).
It is desirable to use it in an amount of 5% by mass or less, preferably 1 to 10% by mass. When the content is 15% by mass or less, the characteristics of the cured epoxy resin are exhibited, and high adhesion reliability can be obtained.

【0056】なお、本発明においては、異方性導電ペー
スト中に、フェノール系硬化剤(II)を使用せず、硬化
触媒(VII)のみを使用すると、その場合は、エポキシ
樹脂(I)がイオン重合反応することにより該樹脂組成
物は硬化するが、この硬化物は、フェノール系硬化剤
(II)を用いて得られた硬化剤よりも性能が充分ではな
いことがある。
In the present invention, if the phenolic curing agent (II) is not used in the anisotropic conductive paste and only the curing catalyst (VII) is used, in this case, the epoxy resin (I) is The resin composition is cured by an ionic polymerization reaction, but this cured product may have insufficient performance than the curing agent obtained by using the phenolic curing agent (II).

【0057】<その他の添加材料>本発明の異方性導電
ペースト(樹脂組成物)には、その他の添加材料とし
て、例えば無機質充填剤、溶剤などを添加してもよい。
前記無機質充填剤は、粘度調整、硬化物の熱応力低減な
どを目的として添加され、すでに公知の無機化合物の中
から選択することができる。そのような無機質充填剤と
しは、具体的には、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウ
ム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、珪酸アルミニウ
ム、珪酸ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化アル
ミニウム(アルミナ)、酸化亜鉛、二酸化珪素、チタン
酸カリウム、カオリン、タルク、アスベスト粉、石英
粉、雲母、ガラス繊維などが挙げられる。
<Other Additive Materials> The anisotropic conductive paste (resin composition) of the present invention may be added with other additive materials such as an inorganic filler and a solvent.
The inorganic filler is added for the purpose of adjusting the viscosity and reducing the thermal stress of the cured product, and can be selected from already known inorganic compounds. Specific examples of such an inorganic filler include calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, magnesium sulfate, aluminum silicate, zirconium silicate, iron oxide, titanium oxide, aluminum oxide (alumina), zinc oxide, silicon dioxide, Examples thereof include potassium titanate, kaolin, talc, asbestos powder, quartz powder, mica and glass fiber.

【0058】前記無機質充填剤の粒子径は、異方性導電
ペーストの導通特性に影響を与えない範囲であれば特に
制限はないが、2μm以下、好ましくは0.01〜1μ
mのものが望ましい。また前記無機質充填剤は、異方性
導電ペーストの導通特性に影響を与えない範囲であれば
特に制限はないが、樹脂組成物(100質量%)におい
て40質量%以下、好ましくは5〜30質量%の量で用
いることが望ましい。
The particle size of the inorganic filler is not particularly limited as long as it does not affect the conduction characteristics of the anisotropic conductive paste, but is 2 μm or less, preferably 0.01 to 1 μm.
m is preferable. The inorganic filler is not particularly limited as long as it does not affect the conduction characteristics of the anisotropic conductive paste, but is 40% by mass or less, preferably 5 to 30% by mass in the resin composition (100% by mass). % Is preferably used.

【0059】前記無機質充填剤はその一部または全部
が、無機質充填剤を100質量%としたとき、エポキシ
樹脂(I)および/またはカップリング剤(VI)により
1〜50質量%がグラフト化変性されていることが好ま
しい。すなわち、繰り返し溶剤洗浄法で求めた重量増加
量で表されるグラフト化率が、1〜50%である無機質
充填剤を用いることが好ましい。
A part or all of the inorganic filler is graft-modified with the epoxy resin (I) and / or the coupling agent (VI) in an amount of 1 to 50% by weight, when the amount of the inorganic filler is 100% by weight. Is preferably provided. That is, it is preferable to use an inorganic filler having a grafting ratio of 1 to 50%, which is represented by the weight increase amount obtained by the repeated solvent washing method.

【0060】ここで繰り返し溶剤洗浄法でグラフト化率
を求めるには、以下のようにすればよい。まず、一部ま
たは全部がグラフト化変性されている無機質充填剤を、
その10〜20倍質量の下記溶剤で、5〜10回湿潤ろ
過を繰り返す。このろ過により、グラフト化変性してい
ないエポキシ樹脂(I)およびカップリング剤(VI)が
洗い流される。前記溶剤としては、エポキシ樹脂(I)
およびカップリング剤(VI)の良溶剤が用いられ、例え
ばアセトン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノ
ール、トルエン、キシレンなどが挙げられる。次に、前
記ろ過後に残った無機質充填剤を乾燥し、その質量を測
定する。その質量が、グラフト化変性された無機質充填
剤の乾燥質量となる。この測定値から、下記式にしたが
って、質量増加率を求める。なお、前記繰り返し溶剤洗
浄法の替わりに、前記溶剤を用いたソックスレー連続抽
出法によってグラフト化率を求めてもよい。
Here, in order to obtain the grafting ratio by the repeated solvent washing method, the following may be carried out. First, the inorganic filler partially or wholly graft-modified,
Wet filtration is repeated 5 to 10 times with 10 to 20 times the mass of the following solvent. By this filtration, the epoxy resin (I) and the coupling agent (VI) which have not been graft-modified are washed away. As the solvent, an epoxy resin (I) is used.
And a good solvent for the coupling agent (VI) is used, and examples thereof include acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, toluene, and xylene. Next, the inorganic filler remaining after the filtration is dried and its mass is measured. That mass is the dry mass of the grafted and modified inorganic filler. From this measured value, the mass increase rate is calculated according to the following formula. The grafting rate may be obtained by a Soxhlet continuous extraction method using the solvent instead of the repeated solvent washing method.

【0061】式:グラフト化率(%)=[(グラフト化
変性された無機充填剤の乾燥質量−グラフト化変性前の
無機充填剤の乾燥質量)/グラフト化変性前の無機充填
剤の乾燥質量]×100 前記溶剤としては、具体例には、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケト
ン溶剤、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチ
ルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビト
ールなどのエーテル溶剤、酢酸エチル、ジエチレングリ
コールジアセテート、アルコキシジエチレングリコール
モノアセテートなどが挙げられる。該溶剤の使用量は、
特に限定されず、異方性導電ペーストを硬化させた後に
溶媒が残存しない量で用いられる。
Formula: Grafting ratio (%) = [(dry weight of inorganic filler modified by grafting-dry weight of inorganic filler before grafting modification) / dry weight of inorganic filler before grafting modification] ] × 100 Specific examples of the solvent include methyl ethyl ketone,
Examples thereof include ketone solvents such as methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether, methyl carbitol, ethyl carbitol, and butyl carbitol, ethyl acetate, diethylene glycol diacetate, and alkoxydiethylene glycol monoacetate. The amount of the solvent used is
There is no particular limitation, and the solvent is used in an amount such that the solvent does not remain after the anisotropic conductive paste is cured.

【0062】本発明の異方性導電ペーストの調製方法
は、特に限定されないが、例えば以下のようにして行な
う。常温下において、前記のエポキシ樹脂(I)、フェ
ノール系硬化剤(II)、高軟化点微粒子(III)、消泡
剤(V)、およびカップリング剤(VI)をダルトンミキ
サーで予備混練した後、3本ロールで混練を行なう。次
に、導電性粒子(IV)、硬化触媒(VII)を添加し、混
合した後、ダルトンミキサーで真空下、混練脱泡を行う
ことにより本発明の異方性導電ペーストを調製すること
ができる。
The method for preparing the anisotropic conductive paste of the present invention is not particularly limited, but is performed as follows, for example. After the epoxy resin (I), the phenolic curing agent (II), the high softening point fine particles (III), the defoaming agent (V), and the coupling agent (VI) are pre-kneaded in a Dalton mixer at room temperature. Knead with 3 rolls. Next, the anisotropic conductive paste of the present invention can be prepared by adding and mixing the conductive particles (IV) and the curing catalyst (VII), and then kneading and defoaming in a Dalton mixer under vacuum. .

【0063】このようにして得られる本発明の異方性導
電ペーストは、粘度が25℃において30〜400Pa・
s、好ましくは40〜200Pa・s、さらに好ましくは5
0〜150Pa・s(EH型粘度計、2.5rpm)であるこ
とが望ましい。該ペーストの粘度が30Pa・s以上である
と、熱圧着による硬化時に気泡の発生原因となる樹脂の
流動を抑制することができ、また、400Pa・s以下であ
ると、ディスペンサー塗布作業性に優れるため好まし
い。
The anisotropic conductive paste of the present invention thus obtained has a viscosity of 30 to 400 Pa.
s, preferably 40 to 200 Pa · s, more preferably 5
It is preferably 0 to 150 Pa · s (EH type viscometer, 2.5 rpm). When the viscosity of the paste is 30 Pa · s or more, it is possible to suppress the flow of resin which causes bubbles during curing by thermocompression bonding, and when it is 400 Pa · s or less, the dispenser coating workability is excellent. Therefore, it is preferable.

【0064】<異方性導電ペーストの使用方法>本発明
の異方性導電ペーストの使用方法は、電気回路配線の接
続方法に関するものであり、ここでは液晶ディスプレイ
における電気回路配線の接続方法を例にとって説明す
る。図1に示すように、まず、工程1として、本発明の
異方性導電ペーストを液晶ディスプレイ基板の所定の位
置にディスペンサーによって塗布する。次に工程2にお
いて、前記液晶ディスプレイ基板とIC搭載回路基板で
あるTCPとのアライメントを行う。次に工程3におい
て、加熱プレス固定方式によって前記異方性導電ペース
トを硬化させる。これらの工程1〜3によって、液晶デ
ィスプレイ基板とTCPとの電気導通回路を形成する。
<Method of Using Anisotropic Conductive Paste> The method of using the anisotropic conductive paste of the present invention relates to a method of connecting electric circuit wirings. Here, a method of connecting electric circuit wirings in a liquid crystal display is taken as an example. To explain. As shown in FIG. 1, first, in step 1, the anisotropic conductive paste of the present invention is applied to a predetermined position of a liquid crystal display substrate by a dispenser. Next, in step 2, the liquid crystal display substrate and the TCP, which is an IC-mounted circuit substrate, are aligned. Next, in step 3, the anisotropic conductive paste is cured by a heating press fixing method. By these steps 1 to 3, an electric conduction circuit between the liquid crystal display substrate and the TCP is formed.

【0065】また、工程1の異方性導電ペーストのディ
スペンサーによる塗布に際しては、ディスペンサー全体
が20℃〜50℃の温度下においてプレヒートされてい
てもよい。異方性導電ペーストの塗布は、ディスペンサ
ーによる塗布のようにコンピュータ制御で行ってもよい
し、手動で必要部位に塗布してもよい。また、工程3の
加熱プレス固定方式による異方性導電ペーストの硬化に
際しては、加熱プレスするための熱板は100℃〜30
0℃、好ましくは120〜250℃の範囲で温度調整さ
れることが望ましい。また、加熱プレス時の圧締圧は、
0.1〜5MPaとし、電極同士の接合部位に対し均一な
熱圧力を付加する。例えば、電極とプレス面との間にゴ
ムマットを配置してプレスを行ってもよい。
When the anisotropic conductive paste is applied by the dispenser in step 1, the entire dispenser may be preheated at a temperature of 20 ° C to 50 ° C. The application of the anisotropic conductive paste may be performed by computer control such as application by a dispenser, or may be applied manually to a necessary site. Further, when the anisotropic conductive paste is hardened by the hot press fixing method in step 3, the hot plate for hot pressing is 100 ° C. to 30 ° C.
It is desirable to adjust the temperature within 0 ° C, preferably within the range of 120 to 250 ° C. In addition, the clamping pressure during hot pressing is
The pressure is set to 0.1 to 5 MPa, and uniform heat and pressure is applied to the joint portion between the electrodes. For example, a rubber mat may be placed between the electrode and the pressing surface for pressing.

【0066】以上のように、本発明の異方性導電ペース
トを用いて、液晶ディスプレイ基板の配線とTCPの配
線とを接続すれば、圧着した方向にのみ導通性を有する
ように接続される。したがって隣接配線間の絶縁性が保
たれ、高い接続信頼性で配線が接続できる。上述した電
気回路配線の接続方法では、液晶ディスプレイについて
説明しているが、有機エレクトロルミネッセンスディス
プレイ、プラズマディスプレイなどのフラットパネルデ
ィスプレイにおける電気回路配線の接続にも適用でき
る。また、この異方性導電ペーストは、回路材料、電荷
結合素子、CCD、およびCMOSなどの半導体デバイ
スの配線の接続にも用いることができる。
As described above, when the wiring of the liquid crystal display substrate and the wiring of the TCP are connected by using the anisotropic conductive paste of the present invention, they are connected so as to have conductivity only in the crimping direction. Therefore, insulation between adjacent wirings is maintained, and wirings can be connected with high connection reliability. In the above-mentioned connection method of electric circuit wiring, the liquid crystal display is explained, but it is also applicable to connection of electric circuit wiring in a flat panel display such as an organic electroluminescence display and a plasma display. The anisotropic conductive paste can also be used for connecting wirings of semiconductor devices such as circuit materials, charge-coupled devices, CCDs, and CMOSs.

【0067】[0067]

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。なお、以下の実施例、比較例で行った試
験および測定は、以下の方法により行った。<1.貯蔵安定性試験> 異方性導電ペーストをポリエチ
レン製容器中に入れ、密閉し、−10℃に保持された恒
温槽に保管した。30日経過後、25℃での粘度を測定
してその増加率により判定した。 ○:10%未満 △:10%以上50%未満 ×:50%以上<2.塗布適性試験> 異方性導電ペーストを10ccのシ
リンジに充填した後、脱泡を行なった。ディスペンサー
(ショットマスター:武蔵エンジニアリング製)で毎秒
4cmのスピードで塗布し、以下の基準にしたがい判定
した。 ○:染み出し、糸曳きが無く、外観も良好であった。 △:染み出し、糸曳きは無いが、外観が不良であった。 ×:染み出し、糸曳きが発生して塗布適性が著しく劣
る。<3.ゲル化時間の測定> 異方性導電ペースト1gを1
50℃の熱板に載せ、スパチュラで攪拌した。該樹脂組
成物を熱板に載せてから糸曳きが無くなるまでの時間を
測定してゲル化時間とした。<4.接着強度の測定> 異方性導電ペースト1gをディ
スペンサー(ショットマスター:武蔵エンジニアリング
製)で低アルカリガラス上に描画を行なった。230℃
のセラミックツールで30秒間、2MPaの圧力にて、試
験用TAB(TapeAutomated Bonding)フィルムと圧着
し、貼り合わせを行なった。温度25℃、湿度50%R
H(Relative Humidity)の恒温槽にて24時間保管
後、ピール強度(接着強度);g/cmを引張り試験装置
(インテスコ製)にて測定した。<5.樹脂抜け確認試験> 異方性導電ペースト1gをデ
ィスペンサー(ショットマスター:武蔵エンジニアリン
グ製)で低アルカリガラス上に描画を行なった。230
℃のセラミックツールで30秒間、2MPaの圧力にて、
試験用TABフィルムと圧着し、貼り合わせを行なっ
た。冷却後、顕微鏡にて接合部分を観察し、以下の基準
にしたがい判定した。 ○:樹脂抜け、染み出しが無く、外観も良好であった。 △:バンプ間に一部樹脂抜けが見られ、外観が不良であ
った。 ×:樹脂抜け、染み出しが全体的の発生した。<6.気泡発生確認試験> 異方性導電ペースト1gをデ
ィスペンサー(ショットマスター:武蔵エンジニアリン
グ製)で低アルカリガラス上に塗布した。230℃のセ
ラミックツールで30秒間、2MPaの圧力にて、試験用
TABフィルムと圧着し、貼り合わせを行なった。冷却
後、顕微鏡にて接合部分を観察し、以下の基準にしたが
い判定した。 ○:気泡が無く、外観も良好であった。 △:バンプ間に一部気泡が見られた。 ×:全体的に気泡が見られた。<7.導通性の測定> 異方性導電ペースト1gをディス
ペンサー(ショットマスター:武蔵エンジニアリング
製)でITO(Indium Tin Oxide)配線を有する低アル
カリガラス上に塗布した。230℃のセラミックツール
で30秒間、2MPaの圧力にて、試験用TABフィルム
と圧着し、貼り合わせを行なった。貼り合わせ直後、I
TOと試験用TABフィルム上の電極間の抵抗値(Ω)
を測定し、さらに、60℃95%RH下において600
時間保管後に電極間の抵抗値を再測定した。<8.配線間ショート確認試験> 異方性導電ペースト1
gをディスペンサー(ショットマスター:武蔵エンジニ
アリング製)でITO配線を有する低アルカリガラス上
に描画を行なった。230℃のセラミックツールで30
秒間、2MPaの圧力にて、試験用TABフィルムと圧着
し、貼り合わせを行なった。冷却後、隣合うITO電極
間の接続を測定し、以下の基準にしたがい判定した。 ○:絶縁性が確保されている。 ×:導通している。<9.リペア性確認試験> 異方性導電ペースト1gをデ
ィスペンサー(ショットマスター:武蔵エンジニアリン
グ製)で低アルカリガラス上に描画を行なった。試験用
TABフィルムと230℃のセラミックツールにて30
秒間、2MPaの圧力にて圧着し貼り合わせを行なった。
冷却後、溶剤で洗浄して試験用TABフィルムを剥離し
た後、低アルカリガラスの表面を顕微鏡で観察し、以下
の基準にしたがい判定した。 ○:樹脂の残存が無く、外観も良好であった。 △:樹脂が部分的に残存しており外観も不良であった。 ×:全体的に樹脂が残存していた。
The present invention will be described in more detail based on the following examples, but the invention is not intended to be limited to these examples. The tests and measurements carried out in the following examples and comparative examples were carried out by the following methods. <1. Storage stability test> The anisotropic conductive paste was put in a polyethylene container, sealed, and stored in a constant temperature bath kept at -10 ° C. After 30 days, the viscosity at 25 ° C. was measured and judged by the rate of increase. ◯: less than 10% Δ: 10% or more and less than 50% x: 50% or more <2. Applicability test> Anisotropic conductive paste was filled in a 10 cc syringe and then defoamed. A dispenser (Shot Master: manufactured by Musashi Engineering) was applied at a speed of 4 cm per second, and judged according to the following criteria. ◯: No bleeding, no stringing, and good appearance. Δ: No bleeding or stringing, but the appearance was poor. X: Exudation and stringing occur, resulting in extremely poor coatability. <3. Measurement of gelation time> 1 g of anisotropic conductive paste
It was placed on a hot plate at 50 ° C. and stirred with a spatula. The time from when the resin composition was placed on the hot plate until the stringing was eliminated was measured and taken as the gelation time. <4. Measurement of Adhesive Strength> 1 g of anisotropic conductive paste was drawn on a low alkali glass with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). 230 ° C
The TAB (Tape Automated Bonding) film for test was pressure-bonded with the ceramic tool for 30 seconds at a pressure of 2 MPa to perform bonding. Temperature 25 ℃, humidity 50% R
After being stored in a H (Relative Humidity) thermostat for 24 hours, the peel strength (adhesive strength); g / cm was measured by a tensile tester (manufactured by Intesco). <5. Resin loss confirmation test> 1 g of the anisotropic conductive paste was drawn on a low alkali glass with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). 230
At a pressure of 2MPa for 30 seconds with a ceramic tool at ℃,
The test TAB film was pressed and bonded. After cooling, the joint portion was observed with a microscope and judged according to the following criteria. ◯: There was no resin omission or bleeding, and the appearance was good. Δ: Some resin was missing between the bumps and the appearance was poor. X: The resin omission and bleeding occurred entirely. <6. Bubble Generation Confirmation Test> Anisotropic conductive paste (1 g) was applied on low-alkali glass with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). The test TAB film was pressure-bonded with a ceramic tool at 230 ° C. for 30 seconds at a pressure of 2 MPa to bond them together. After cooling, the joint portion was observed with a microscope and judged according to the following criteria. ◯: There were no bubbles and the appearance was good. Δ: Some bubbles were seen between the bumps. X: Bubbles were seen as a whole. <7. Measurement of Conductivity > 1 g of anisotropic conductive paste was applied onto a low alkali glass having ITO (Indium Tin Oxide) wiring by a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). The test TAB film was pressure-bonded with a ceramic tool at 230 ° C. for 30 seconds at a pressure of 2 MPa to bond them together. Immediately after bonding, I
Resistance value (Ω) between TO and electrode on test TAB film
Is measured, and further 600 at 60 ° C. and 95% RH.
After the time storage, the resistance value between the electrodes was measured again. <8. Wiring short confirmation test> Anisotropic conductive paste 1
Drawing of g was performed on a low alkali glass having ITO wiring with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). 30 with a ceramic tool at 230 ° C
The test TAB film was pressure-bonded at a pressure of 2 MPa for a second and bonded. After cooling, the connection between adjacent ITO electrodes was measured and judged according to the following criteria. ○: Insulation is secured. X: Conducted. <9. Repairability Confirmation Test> 1 g of the anisotropic conductive paste was drawn on a low alkali glass with a dispenser (shot master: manufactured by Musashi Engineering). 30 with a test TAB film and a ceramic tool at 230 ° C
Bonding was performed by pressing under a pressure of 2 MPa for a second.
After cooling, the test TAB film was peeled off by washing with a solvent, and then the surface of the low-alkali glass was observed with a microscope and judged according to the following criteria. ◯: No resin remained and the appearance was good. Δ: The resin partially remained and the appearance was poor. X: The resin remained as a whole.

【0068】[0068]

【合成例1】高軟化点微粒子の合成 攪拌機、窒素導入管、温度計、還流冷却管を備えた10
00mlの四つ口フラスコにイオン交換水400gを入
れ、攪拌しながら、アルキルジフェニルエーテルジスル
ホン酸ナトリウム1.0gを仕込み、65℃まで昇温し
た。65℃に保持し、攪拌を継続しながら、過硫酸カリ
ウム0.4gを添加した後、次いで、t-ドデシルメル
カプタン1.2g、n−ブチルアクリレート156g、
ジビニルベンゼン4.0g、アルキルジフェニルエーテ
ルジスルホン酸ナトリウム3.0gおよびイオン交換水
200gからなる溶液をホモジナイザーで乳化した混合
溶液を4時間で連続滴下した。滴下後2時間反応を継続
させた後、メチルメタクリレート232gを一度に添加し
た後、1時間反応を継続させ、次いでアクリル酸8gを
1時間で連続添加し、65℃に保持し2時間反応を継続
させた後、冷却した。水酸化カリウムにてpH=7に中
和して固形分40.6質量%のエマルション溶液を得
た。
[Synthesis Example 1] Synthesis of high softening point fine particles 10 equipped with a stirrer, nitrogen introducing tube, thermometer, reflux cooling tube
400 g of ion-exchanged water was placed in a 00 ml four-necked flask, 1.0 g of sodium alkyldiphenyl ether disulfonate was charged with stirring, and the temperature was raised to 65 ° C. While maintaining the temperature at 65 ° C. and continuing stirring, 0.4 g of potassium persulfate was added, and then 1.2 g of t-dodecyl mercaptan, 156 g of n-butyl acrylate,
A mixed solution obtained by emulsifying a solution of 4.0 g of divinylbenzene, 3.0 g of sodium alkyldiphenyl ether disulfonate and 200 g of ion-exchanged water with a homogenizer was continuously added dropwise for 4 hours. After the reaction was continued for 2 hours after the dropping, 232 g of methyl methacrylate was added at once and then the reaction was continued for 1 hour, then 8 g of acrylic acid was continuously added in 1 hour, and the reaction was continued at 65 ° C. for 2 hours. After that, it was cooled. It was neutralized to pH = 7 with potassium hydroxide to obtain an emulsion solution having a solid content of 40.6% by mass.

【0069】このエマルション溶液1,000gを噴霧
乾燥器によって噴霧乾燥し、水分含有量0.1%以下で
ある高軟化点微粒子を約400g得た。得られた高軟化
点微粒子の軟化点は80℃であった。なお、該高軟化点
微粒子を、サブミクロン粒子アナライザー(N4PLU
S型;ベックマンコールター社製)にて粒子径を測定し
た結果、180nmであった。
1,000 g of this emulsion solution was spray-dried with a spray dryer to obtain about 400 g of high softening point fine particles having a water content of 0.1% or less. The softening point of the obtained high softening point fine particles was 80 ° C. The high softening point fine particles were analyzed with a submicron particle analyzer (N4PLU).
The particle size was 180 nm as a result of measuring the particle size by S-type; manufactured by Beckman Coulter, Inc.).

【0070】[0070]

【合成例2】低軟化点微粒子の合成 攪拌機、窒素導入管、温度計、還流冷却管を備えた10
00mlの四つ口フラスコにイオン交換水400gを入
れ、攪拌しながらアルキルジフェニルエーテルジスルホ
ン酸ナトリウム1.0gを仕込み、65℃まで昇温し
た。65℃に保持し、攪拌を継続しながら過硫酸カリウ
ム0.4gを添加した後、次いで、t-ドデシルメルカ
プタン1.2g、n−ブチルアクリレート156g、ジ
ビニルベンゼン4.0g、アルキルジフェニルエーテル
ジスルホン酸ナトリウム3.0gおよびイオン交換水2
00gからなる溶液をホモジナイザーで乳化した混合溶
液を4時間で連続滴下した。滴下後2時間反応を継続さ
せた後、メチルメタクリレート142g、n−ブチルア
クリレート90gを一度に添加した後、1時間反応を継
続させた。次いでアクリル酸8gを1時間で連続添加
し、65℃一定温度で2時間反応を継続させた後、冷却
した。水酸化カリウムにてpH=7に中和して固形分4
0.6質量%のエマルション溶液を得た。
[Synthesis Example 2] Synthesis of fine particles having a low softening point 10 equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a thermometer, and a reflux cooling tube
400 g of ion-exchanged water was placed in a 00 ml four-necked flask, 1.0 g of sodium alkyldiphenyl ether disulfonate was charged with stirring, and the temperature was raised to 65 ° C. After maintaining at 65 ° C. and adding 0.4 g of potassium persulfate while continuing stirring, 1.2 g of t-dodecyl mercaptan, 156 g of n-butyl acrylate, 4.0 g of divinylbenzene, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate 3 g 0.0 g and ion-exchanged water 2
A mixed solution obtained by emulsifying a solution of 00 g with a homogenizer was continuously added dropwise over 4 hours. After the reaction was continued for 2 hours after the dropping, 142 g of methyl methacrylate and 90 g of n-butyl acrylate were added at once, and the reaction was continued for 1 hour. Next, 8 g of acrylic acid was continuously added over 1 hour, and the reaction was continued at a constant temperature of 65 ° C. for 2 hours and then cooled. Neutralized to pH = 7 with potassium hydroxide and solid content 4
A 0.6% by mass emulsion solution was obtained.

【0071】このエマルション溶液1,000gを噴霧
乾燥し、水分含有量が0.1%以下である低軟化点微粒
子約400g得た。得られた低軟化点微粒子の軟化点は
40℃であった。なお、低軟化点微粒子を合成例1で用
いたサブミクロン粒子アナライザーにて粒子径を測定し
た結果、180nmであった。
1,000 g of this emulsion solution was spray-dried to obtain about 400 g of low softening point fine particles having a water content of 0.1% or less. The softening point of the obtained low softening point fine particles was 40 ° C. The particle size of the low softening point fine particles was measured by the submicron particle analyzer used in Synthesis Example 1, and the result was 180 nm.

【0072】[0072]

【合成例3】シリコーンエラストマー(A)の合成 攪拌機、気体導入管、温度計、冷却管を備えた2000
mlの四つ口フラスコを用意し、分子内に2個のエポキ
シ基を持つビスフェノールF型エポキシ樹脂〔エピクロ
ン830S(大日本インキ化学工業(株)製)〕600
g、メタアクリル酸12g、ジメチルエタノールアミン
1g、トルエン50gを加え、空気を導入しながら11
0℃で5時間反応させ二重結合を導入した。次にヒドロ
キシアクリレート5g、ブチルアクリレート10g、ア
ゾビスイソブチロニトリル1gを加え70℃で3時間反
応させ、さらに90℃で1時間反応させた。次いで11
0℃減圧下で脱トルエンを行った。次に、分子中にメト
キシ基を有するシリコーン中間体(東レ・ダウコーニン
グ・シリコーン(株)製)70g、ジブチルスズジラウ
レート0.3gを加え、150℃で1時間反応を行い、
生成メタノールを除去するため、さらに1時間反応を継
続した。得られたグラフト体に、常温硬化型2液タイプ
のシリコーンゴム〔KE−1204(信越シリコーン
(株)製)〕を1/1で混合したものを300g加え、
2時間反応させ、架橋型シリコーンゴム微粒子が均一に
分散したシリコーンエラストマー(A)を得た。
[Synthesis Example 3] Synthesis of silicone elastomer (A) 2000 equipped with a stirrer, gas introduction tube, thermometer, and cooling tube
A bisphenol F type epoxy resin [Epiclon 830S (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)] having two epoxy groups in the molecule is prepared in a ml four-necked flask.
g, 12 g of methacrylic acid, 1 g of dimethylethanolamine and 50 g of toluene were added, and 11 were introduced while introducing air.
A double bond was introduced by reacting at 0 ° C. for 5 hours. Next, 5 g of hydroxy acrylate, 10 g of butyl acrylate, and 1 g of azobisisobutyronitrile were added, and the mixture was reacted at 70 ° C. for 3 hours and further at 90 ° C. for 1 hour. Then 11
Detoluene was removed under reduced pressure at 0 ° C. Next, 70 g of a silicone intermediate having a methoxy group in the molecule (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and 0.3 g of dibutyltin dilaurate were added, and the reaction was carried out at 150 ° C. for 1 hour,
The reaction was continued for another hour to remove the produced methanol. To the obtained graft body, 300 g of a mixture of room temperature-curing two-component type silicone rubber [KE-1204 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)] at a ratio of 1/1 was added,
The reaction was carried out for 2 hours to obtain a silicone elastomer (A) in which crosslinked silicone rubber fine particles were uniformly dispersed.

【0073】このシリコーンエラストマー(A)を光硬
化触媒の存在化に低温で速硬化させ、その硬化物の破断
面モルフォロジーを電子顕微鏡で観察して、分散ゴム粒
子径を測定したところ、ゴムの平均粒子径値は、1.0
μmであった。
This silicone elastomer (A) was rapidly cured at a low temperature in the presence of a photocuring catalyst, and the fracture surface morphology of the cured product was observed with an electron microscope to measure the dispersed rubber particle size. Particle size value is 1.0
was μm.

【0074】[0074]

【実施例1】エポキシ樹脂(I)としてビスフェノール
A型エポキシ樹脂、フェノール系硬化剤(II)としてフ
ェノール・p−キシリレングリコールジメチルエーテル
重縮合物〔ミレックスLLL(三井化学(株)製)〕、
高軟化点微粒子(III)として合成例1において合成し
た高軟化点微粒子、消泡剤(V)として合成例3で合成
したシリコーンエラストマー(A)、およびカップリン
グ剤(VI)としてγ−グリシジルプロピルトリメトキシ
シラン〔KBM−403(信越シリコーン(株)製)〕
を、常温下、ダルトンミキサーで予備混練した後、次に
3本ロールで混練を行なった。次いで導電性粒子(IV)
としてミクロパールAu−205(積水化学(株)製、
比重2.67)、硬化触媒(VII)としてイミダゾール
変性マイクロカプセル型化合物〔ノバキュアHX374
8(旭化成エポキシ(株)製)〕を混合後、ダルトンミ
キサーで真空下、混練脱泡を行なった。各材料の配合量
は表1に示す。
Example 1 Bisphenol A type epoxy resin as epoxy resin (I), phenol / p-xylylene glycol dimethyl ether polycondensate as phenolic curing agent (II) [Mirex LLL (Mitsui Chemicals, Inc.)],
High softening point fine particles (III) synthesized in Synthesis Example 1 as the high softening point fine particles, silicone elastomer (A) synthesized in Synthesis Example 3 as the defoaming agent (V), and γ-glycidylpropyl as the coupling agent (VI) Trimethoxysilane [KBM-403 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)]
Was preliminarily kneaded with a Dalton mixer at room temperature, and then kneaded with three rolls. Then conductive particles (IV)
Micropearl Au-205 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.,
Specific gravity 2.67), imidazole-modified microcapsule type compound [NOVACURE HX374 as a curing catalyst (VII)]
8 (manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd.)], and kneaded and defoamed under vacuum with a Dalton mixer. The compounding amount of each material is shown in Table 1.

【0075】得られた異方性導電ペーストを以下の試験
方法により評価を行った。その結果を表2に示す。
The anisotropic conductive paste thus obtained was evaluated by the following test methods. The results are shown in Table 2.

【0076】[0076]

【実施例2】実施例1における硬化触媒を用いず、配合
量を表1に示したとおりとした以外は、実施例1と同様
の方法により異方性導電ペーストを調製し、試験を行っ
た。試験結果を表2に示す。
Example 2 An anisotropic conductive paste was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the curing catalyst in Example 1 was not used and the blending amount was changed as shown in Table 1. . The test results are shown in Table 2.

【0077】[0077]

【実施例3】実施例1における消泡剤をシリコーンエラ
ストマーAから直鎖状シリコーンB(DC3037(信
越シリコー社製))に変更し、配合量を表1に示したと
おりとした以外は、実施例1と同様の方法により異方性
導電ペーストを調製し、試験を行った。試験結果を表2
に示す。
[Example 3] Example 3 was repeated except that the defoaming agent in Example 1 was changed from silicone elastomer A to linear silicone B (DC3037 (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)) and the compounding amount was changed as shown in Table 1. An anisotropic conductive paste was prepared by the same method as in Example 1 and tested. Table 2 shows the test results
Shown in.

【0078】[0078]

【実施例4】実施例1におけるカップリング剤(VI)を
用いず、配合量を表1に示したとおりとした以外は、実
施例1と同様の方法により異方性導電ペーストを調製
し、試験を行った。試験結果を表2に示す。
Example 4 An anisotropic conductive paste was prepared in the same manner as in Example 1 except that the coupling agent (VI) in Example 1 was not used and the blending amount was as shown in Table 1. The test was conducted. The test results are shown in Table 2.

【0079】[0079]

【実施例5】実施例1におけるカップリング剤(VI)、
および消泡剤(V)を用いず、配合量を表1に示したと
おりとした以外は、実施例1と同様の方法により異方性
導電ペーストを調製し、試験を行った。試験結果を表2
に示す。
Example 5 Coupling agent (VI) in Example 1,
An anisotropic conductive paste was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the defoaming agent (V) was not used and the blending amount was changed as shown in Table 1. Table 2 shows the test results
Shown in.

【0080】[0080]

【実施例6】実施例1におけるカップリング剤(VI)、
消泡剤(V)、および硬化触媒を用いず、配合量を表1
に示したとおりとした以外は、実施例1と同様の方法に
より異方性導電ペーストを調製し、試験を行った。試験
結果を表2に示す。
Example 6 Coupling agent (VI) in Example 1,
The defoaming agent (V) and the curing catalyst were not used, and the blending amount is shown in Table 1.
An anisotropic conductive paste was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the above procedure was used. The test results are shown in Table 2.

【0081】[0081]

【比較例1】実施例1における高軟化点微粒子を用い
ず、配合量を表1に示したとおりとした以外は、実施例
1と同様の方法により異方性導電ペーストを調製し、試
験を行った。試験結果を表2に示す。
Comparative Example 1 An anisotropic conductive paste was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the high softening point fine particles in Example 1 were not used and the blending amount was changed as shown in Table 1. went. The test results are shown in Table 2.

【0082】[0082]

【比較例2】実施例1における高軟化点微粒子を、合成
例2において合成した低軟化点微粒子に変更し、配合量
を表1に示したとおりとした以外は、実施例1と同様の
方法により異方性導電ペーストを調整し、試験を行っ
た。試験結果を表2に示す。
Comparative Example 2 The same method as in Example 1 except that the high softening point fine particles in Example 1 were changed to the low softening point fine particles synthesized in Synthesis Example 2 and the compounding amounts were changed as shown in Table 1. An anisotropic conductive paste was prepared according to to test. The test results are shown in Table 2.

【0083】[0083]

【比較例3】配合量を表1に示したとおりに変更した以
外は、実施例1と同様の方法により異方性導電ペースト
を調製し、試験を行った。試験結果を表2に示す。表2
より実施例1〜6の異方性導電ペーストは、いずれの試
験においても良好な評価が得られることが確認された。
Comparative Example 3 An anisotropic conductive paste was prepared and tested in the same manner as in Example 1 except that the compounding amount was changed as shown in Table 1. The test results are shown in Table 2. Table 2
From the results, it was confirmed that the anisotropic conductive pastes of Examples 1 to 6 could obtain good evaluations in all tests.

【0084】[0084]

【表1】 [Table 1]

【0085】[0085]

【表2】 [Table 2]

【0086】[0086]

【発明の効果】本発明によれば、貯蔵安定性、ディスペ
ンサー塗布作業性に優れた異方性導電ペーストを提供で
きる。また、本発明は、高生産性を維持するための温度
200℃、時間10〜30秒といった厳しい熱圧着条件
下における配線の接続においても、樹脂抜け、気泡、染
み出しの発生がない異方性導電ペーストであって、その
硬化物は、高温高湿時においても接着信頼性および接続
信頼性が高く、かつリペア性も高い異方性導電ペースト
を提供できる。
According to the present invention, it is possible to provide an anisotropic conductive paste which is excellent in storage stability and workability in dispenser application. In addition, the present invention is anisotropy in which no resin loss, bubbles, or exudation occur even when wiring is connected under severe thermocompression bonding conditions such as a temperature of 200 ° C. and a time of 10 to 30 seconds for maintaining high productivity. The cured product of the conductive paste can provide an anisotropic conductive paste having high adhesion reliability and connection reliability even at high temperature and high humidity, and high repairability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明における電気回路配線の接続方
法の概略工程図である。
FIG. 1 is a schematic process diagram of a method for connecting electrical circuit wiring according to the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08L 63/00 C08L 63/00 C 83/04 83/04 101/00 101/00 C09J 9/02 C09J 9/02 161/06 161/06 163/00 163/00 (72)発明者 村 田 達 司 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 中 原 真 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 吉 良 隆 敏 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 池 杉 大 輔 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 4J002 BC023 BC034 BG013 BG043 BG053 BG063 BG073 BG133 BH003 CC02X CC03X CD00W CD01W CD02W CD03W CD04W CD05W CD06W CD10W CD13W CD18W CP035 DA076 DA086 DA116 DC006 EQ028 ER028 EU118 EX037 EX067 EX077 EX087 FA083 FA084 FA086 FB074 FD010 FD114 FD116 FD14X FD148 FD205 GQ02 4J036 AA01 DA02 DA05 FA01 FA13 FB03 FB07 FB16 JA07 4J040 DF012 DF032 DF092 EB031 EB032 EB051 EB052 EC001 EC002 EC031 EC032 EC051 EC052 EC091 EC092 EC101 EC102 EC462 EK032 HA136 HD43 KA16 KA17 KA32 LA09 NA19 5G301 DA01 DA55 DA57 DD01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) C08L 63/00 C08L 63/00 C 83/04 83/04 101/00 101/00 C09J 9/02 C09J 9 / 02 161/06 161/06 163/00 163/00 (72) Inventor Tatsushi Murata 580-32 Nagaura, Sodegaura City, Chiba Prefecture Mitsui Chemicals, Inc. (72) Inventor Makoto Nakahara Abeno, Osaka City, Osaka Prefecture 22-22, Nagaike-cho, Chuap Co., Ltd. (72) Inventor Takatoshi Kira 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka (72) In-house (72) Incorporated Daisuke Ike Sugi, Abeno, Osaka-shi, Osaka 22-22, Nagaike-cho, Chuap Co., Ltd. F-term (reference) 4J002 BC023 BC034 BG013 BG043 BG053 BG063 BG073 BG133 BH003 CC02X CC03X CD00W CD01W CD02W CD03W CD04W CD05W CD06W CD10W CD13W CD18W EQ86ER DA0006 U118 EX037 EX067 EX077 EX087 FA083 FA084 FA086 FB074 FD010 FD114 FD116 FD14X FD148 FD205 GQ02 4J036 AA01 DA02 DA05 FA01 FA13 FB03 FB07 KA16 EC07 EC02 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC2 EC0 KA32 LA09 NA19 5G301 DA01 DA55 DA57 DD01

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(I)エポキシ樹脂30〜80質量%、
(II)フェノール系硬化剤10〜50質量%、(III)
高軟化点微粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子0.
1〜25質量%を含むことを特徴とする異方性導電ペー
スト。
1. (I) Epoxy resin 30 to 80% by mass,
(II) Phenolic curing agent 10 to 50% by mass, (III)
High softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) conductive particles 0.
An anisotropic conductive paste comprising 1 to 25% by mass.
【請求項2】(I)エポキシ樹脂30〜79.9質量
%、(II)フェノール系硬化剤10〜50質量%、(II
I)高軟化点微粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子
0.1〜25質量%、(V)消泡剤0.1〜20質量%
を含むことを特徴とする異方性導電ペースト。
2. (I) Epoxy resin 30 to 79.9% by mass, (II) Phenolic curing agent 10 to 50% by mass, (II
I) High softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) Conductive particles 0.1 to 25% by mass, (V) Defoaming agent 0.1 to 20% by mass
An anisotropic conductive paste comprising:
【請求項3】(I)エポキシ樹脂30〜79.8質量
%、(II)フェノール系硬化剤10〜50質量%、(II
I)高軟化点微粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子
0.1〜25質量%、(VI)カップリング剤0.1〜5
質量%を含むことを特徴とする異方性導電ペースト。
3. (I) Epoxy resin 30 to 79.8% by mass, (II) Phenolic curing agent 10 to 50% by mass, (II
I) High softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) Conductive particles 0.1 to 25% by mass, (VI) Coupling agent 0.1 to 5
An anisotropic conductive paste, characterized by containing mass%.
【請求項4】(I)エポキシ樹脂30〜79.8質量
%、(II)フェノール系硬化剤10〜50質量%、(II
I)高軟化点微粒子5〜25質量%、(IV)導電性粒子
0.1〜25質量%、(V)消泡剤0.1〜20質量
%、(VI)カップリング剤0.1〜5質量%を含むこと
を特徴とする異方性導電ペースト。
4. (I) Epoxy resin 30 to 79.8% by mass, (II) Phenolic curing agent 10 to 50% by mass, (II
I) High softening point fine particles 5 to 25% by mass, (IV) Conductive particles 0.1 to 25% by mass, (V) Defoaming agent 0.1 to 20% by mass, (VI) Coupling agent 0.1 to 0.1% An anisotropic conductive paste containing 5% by mass.
【請求項5】請求項1〜4のいずれかに記載の異方性導
電ペーストに、さらに硬化触媒(VII)を含むことを特
徴とする異方性導電ペースト。
5. An anisotropic conductive paste, wherein the anisotropic conductive paste according to any one of claims 1 to 4 further contains a curing catalyst (VII).
【請求項6】前記エポキシ樹脂(I)が、1分子中にエ
ポキシ基を少なくとも平均1〜6個有し、かつGPCに
よるポリスチレン換算平均分子量が100〜7000で
あることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の
異方性導電ペースト。
6. The epoxy resin (I) has at least 1 to 6 epoxy groups on average in one molecule, and has a polystyrene-converted average molecular weight of 100 to 7,000 by GPC. An anisotropic conductive paste according to any one of items 1 to 5.
【請求項7】前記フェノール系硬化剤(II)が、フェノ
ールノボラック型硬化剤であることを特徴とする請求項
1〜6のいずれかに記載の異方性導電ペースト。
7. The anisotropic conductive paste according to claim 1, wherein the phenolic curing agent (II) is a phenol novolac type curing agent.
【請求項8】前記高軟化点微粒子(III)が、60〜1
50℃の軟化点温度を有し、かつ1次粒子径が0.01
〜2μmの範囲であることを特徴とする請求項1〜7の
いずれかに記載の異方性導電ペースト。
8. The high softening point fine particles (III) comprise 60 to 1
It has a softening point temperature of 50 ° C. and a primary particle size of 0.01.
It is a range of -2 micrometers, The anisotropic conductive paste in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned.
【請求項9】前記高軟化点微粒子(III)が、メチル
(メタ)アクリレートと、該メチル(メタ)アクリレー
ト以外の共重合可能なモノマーとを共重合して得られる
高軟化点微粒子であって、前記メチル(メタ)アクリレ
ートを30〜70質量%含むことを特徴とする請求項1
〜8のいずれかに記載の異方性導電ペースト。
9. The high softening point fine particles (III) are high softening point fine particles obtained by copolymerizing methyl (meth) acrylate and a copolymerizable monomer other than the methyl (meth) acrylate. And 30 to 70% by mass of the methyl (meth) acrylate.
The anisotropic conductive paste according to any one of to 8.
【請求項10】前記導電性粒子(IV)が、その表面成分
を金またはニッケルで構成していることを特徴とする請
求項1〜9のいずれかに記載の異方性導電ペースト。
10. The anisotropic conductive paste according to claim 1, wherein the conductive particles (IV) have a surface component made of gold or nickel.
【請求項11】前記消泡剤(V)がポリシリコーンであ
ることを特徴とする請求項2、4〜10のいずれかに記
載の異方性導電ペースト。
11. The anisotropic conductive paste according to claim 2, wherein the defoaming agent (V) is polysilicone.
【請求項12】前記ポリシリコーンが、シリコーン変性
されたエラストマーであって、かつ軟化点温度−80〜
0℃であり、さらに、異方性導電ペースト中に粒子とし
て存在しており、その1次粒子径が0.05〜5μmで
あることを特徴とする請求項11に記載の異方性導電ペ
ースト。
12. The polysilicone is a silicone-modified elastomer and has a softening point of -80 to
12. The anisotropic conductive paste according to claim 11, which has a temperature of 0 ° C. and is present as particles in the anisotropic conductive paste and has a primary particle diameter of 0.05 to 5 μm. ..
【請求項13】前記シリコーン変性されたエラストマー
が、エポキシ樹脂にシリコーン含有基がグラフト化され
たエラストマーであることを特徴とする請求項12に記
載の異方性導電ペースト。
13. The anisotropic conductive paste according to claim 12, wherein the silicone-modified elastomer is an elastomer in which a silicone-containing group is grafted to an epoxy resin.
【請求項14】25℃における粘度が30〜400Pa・s
であることを特徴とする請求項1〜13のいずれかに記
載の異方性導電ペースト。
14. The viscosity at 25 ° C. is 30 to 400 Pa · s.
The anisotropic conductive paste according to any one of claims 1 to 13, wherein
【請求項15】請求項1〜14のいずれかに記載の異方
性導電ペーストによって、一方の基板上に形成される電
気回路配線と、他方の基板上に形成される電気回路配線
とを接続することを特徴とする異方性導電ペーストの使
用方法。
15. The anisotropic conductive paste according to any one of claims 1 to 14 is used to connect electrical circuit wiring formed on one substrate and electrical circuit wiring formed on the other substrate. A method of using an anisotropic conductive paste, comprising:
【請求項16】請求項1〜14のいずれかに記載の異方
性導電ペーストが、回路材料、液晶ディスプレイ、有機
エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディ
スプレイ、電荷結合素子、半導体デバイスのうちのいず
れか1つに用いることを特徴とする異方性導電ペースト
の使用方法。
16. The anisotropic conductive paste according to claim 1, which is one of a circuit material, a liquid crystal display, an organic electroluminescence display, a plasma display, a charge-coupled device, and a semiconductor device. A method of using an anisotropic conductive paste, which is used for.
JP2001367579A 2001-11-30 2001-11-30 Anisotropic conductive paste and method of using the same Expired - Fee Related JP3864078B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001367579A JP3864078B2 (en) 2001-11-30 2001-11-30 Anisotropic conductive paste and method of using the same
TW091134757A TWI232467B (en) 2001-11-30 2002-11-29 Paste for circuit connection, anisotropic conductive paste and uses thereof
KR10-2002-0075108A KR100527990B1 (en) 2001-11-30 2002-11-29 Paste for circuit connection, anisotropic conductive paste and uses thereof
CNB021518866A CN1228383C (en) 2001-11-30 2002-11-30 Paste for connecting circuit, anisotropic conducting paste and application thereof
US10/307,282 US6939431B2 (en) 2001-11-30 2002-12-02 Paste for circuit connection, anisotropic conductive paste and uses thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001367579A JP3864078B2 (en) 2001-11-30 2001-11-30 Anisotropic conductive paste and method of using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003168323A true JP2003168323A (en) 2003-06-13
JP3864078B2 JP3864078B2 (en) 2006-12-27

Family

ID=19177304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001367579A Expired - Fee Related JP3864078B2 (en) 2001-11-30 2001-11-30 Anisotropic conductive paste and method of using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3864078B2 (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005171166A (en) * 2003-12-15 2005-06-30 Sanyo Chem Ind Ltd Casting resin composition
JP2005171445A (en) * 2003-12-15 2005-06-30 Kinyosha Co Ltd Resin roll for calendering
JP2006137924A (en) * 2004-07-01 2006-06-01 Murata Mfg Co Ltd Electroconductive resin composition, electroconductive resin cured product, and electronic component module
WO2007058108A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Anisotropic conductive adhesive
JP2007224191A (en) * 2006-02-24 2007-09-06 Sanyo Electric Co Ltd Electroconductive paste composition, solar battery cell using the paste composition, and solar battery module using the cell
WO2012005144A1 (en) * 2010-07-06 2012-01-12 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 Anisotropic conductive adhesive, process for producing same, connection structure, and process for producing same
JP5012903B2 (en) * 2007-08-08 2012-08-29 日立化成工業株式会社 Circuit connection adhesive composition, circuit connection film adhesive and circuit member connection structure
JP2012186161A (en) * 2011-02-17 2012-09-27 Sekisui Chem Co Ltd Anisotropic conductive material, connection structure, and method for manufacturing connection structure
JP5602743B2 (en) * 2009-08-26 2014-10-08 積水化学工業株式会社 Anisotropic conductive material, connection structure, and manufacturing method of connection structure
WO2015068611A1 (en) * 2013-11-07 2015-05-14 東洋インキScホールディングス株式会社 Electroconductive adhesive, electroconductive adhesive sheet, wiring device, and method for manufacturing wiring device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100815384B1 (en) 2006-12-28 2008-03-20 제일모직주식회사 Composition for use in the formation of anisotropic conductive adhesive

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005171445A (en) * 2003-12-15 2005-06-30 Kinyosha Co Ltd Resin roll for calendering
JP2005171166A (en) * 2003-12-15 2005-06-30 Sanyo Chem Ind Ltd Casting resin composition
JP2006137924A (en) * 2004-07-01 2006-06-01 Murata Mfg Co Ltd Electroconductive resin composition, electroconductive resin cured product, and electronic component module
WO2007058108A1 (en) * 2005-11-21 2007-05-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Anisotropic conductive adhesive
JPWO2007058108A1 (en) * 2005-11-21 2009-04-30 日立化成工業株式会社 Anisotropic conductive adhesive
JP2007224191A (en) * 2006-02-24 2007-09-06 Sanyo Electric Co Ltd Electroconductive paste composition, solar battery cell using the paste composition, and solar battery module using the cell
JP5012903B2 (en) * 2007-08-08 2012-08-29 日立化成工業株式会社 Circuit connection adhesive composition, circuit connection film adhesive and circuit member connection structure
JP5602743B2 (en) * 2009-08-26 2014-10-08 積水化学工業株式会社 Anisotropic conductive material, connection structure, and manufacturing method of connection structure
WO2012005144A1 (en) * 2010-07-06 2012-01-12 ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 Anisotropic conductive adhesive, process for producing same, connection structure, and process for producing same
JP2012017355A (en) * 2010-07-06 2012-01-26 Sony Chemical & Information Device Corp Anisotropic conductive adhesive, process for producing the same, connection structure, and process for producing the same
US9279070B2 (en) 2010-07-06 2016-03-08 Dexerials Corporation Anisotropic conductive adhesive, method of producing the same, connection structure and producing method thereof
JP2012186161A (en) * 2011-02-17 2012-09-27 Sekisui Chem Co Ltd Anisotropic conductive material, connection structure, and method for manufacturing connection structure
WO2015068611A1 (en) * 2013-11-07 2015-05-14 東洋インキScホールディングス株式会社 Electroconductive adhesive, electroconductive adhesive sheet, wiring device, and method for manufacturing wiring device
JP2015110769A (en) * 2013-11-07 2015-06-18 東洋インキScホールディングス株式会社 Conductive adhesive, conductive adhesive sheet, wiring device, and method for manufacturing wiring device

Also Published As

Publication number Publication date
JP3864078B2 (en) 2006-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI232467B (en) Paste for circuit connection, anisotropic conductive paste and uses thereof
KR100402154B1 (en) Anisotropically conductive paste
JP6414296B2 (en) Adhesive sheet and method for manufacturing semiconductor device
JP3904798B2 (en) Anisotropic conductive paste
KR100932045B1 (en) Curable resin composition, adhesive epoxy resin paste, adhesive epoxy resin sheet, conductive connection paste, conductive connection sheet, and electronic component bonding body
JP2014129544A (en) Adhesive composition and method for manufacturing the same, adhesive member using adhesive composition and method for manufacturing the same, support member for loading semiconductor and method for manufacturing the same, semiconductor device and method for manufacturing the same
US8067484B2 (en) Latent hardener with improved barrier properties and compatibility
WO2004039885A1 (en) Sealant composition for liquid crystal and process for producing liquid-crystal display panel with the same
JP4627125B2 (en) Anisotropic conductive paste
JP4449325B2 (en) Adhesive film for semiconductor, semiconductor device, and manufacturing method of semiconductor device.
JP3864078B2 (en) Anisotropic conductive paste and method of using the same
JP2017132919A (en) Anisotropic conductive adhesive composition, film-like adhesive, connection structure and semiconductor device
JP2015081269A (en) Conductive epoxy resin composition for screen printing, die-attach method using the same, and semiconductor device having cured product of the composition
JP2010077317A (en) Adhesive composition, adhesive film and usage thereof
US20100317545A1 (en) Latent hardener for epoxy compositions
JP2003165825A (en) Anisotropic electroconductive paste and method for using the same
TWI554162B (en) Adhesion film for connecting circuit and usage thereof, circuit connection structure and manufacturing method thereof, and connecting method of circuit member
TW201109411A (en) Bonding sheet
JP4824876B2 (en) Circuit connection paste material
TWI425023B (en) Latent hardener for epoxy compositions
JP3947532B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film
JP2003165826A (en) Paste resin composition for connecting circuit and method for using the same
JP4420266B2 (en) Paste resin composition for circuit connection and method of using the same
JP4763876B2 (en) Thermosetting adhesive composition and adhesive sheets
JP4730215B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040813

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060608

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060614

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060810

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060906

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061002

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3864078

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101006

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111006

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111006

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121006

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121006

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131006

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees