JP3947532B2 - Anisotropic conductive adhesive film - Google Patents

Anisotropic conductive adhesive film Download PDF

Info

Publication number
JP3947532B2
JP3947532B2 JP2004202388A JP2004202388A JP3947532B2 JP 3947532 B2 JP3947532 B2 JP 3947532B2 JP 2004202388 A JP2004202388 A JP 2004202388A JP 2004202388 A JP2004202388 A JP 2004202388A JP 3947532 B2 JP3947532 B2 JP 3947532B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive adhesive
anisotropic conductive
adhesive film
epoxy compound
imidazole derivative
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004202388A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006022230A (en
Inventor
政和 川田
哲也 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2004202388A priority Critical patent/JP3947532B2/en
Publication of JP2006022230A publication Critical patent/JP2006022230A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3947532B2 publication Critical patent/JP3947532B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、異方導電性接着剤フィルムに関する。 The present invention relates to an anisotropic conductive adhesive film.

近年、液晶ディスプレイ(LCD)とテープキャリアパッケージ(TCP)との接続や、TCPと印刷回路基板(PCB)との接続等の微細な回路接続の必要性が増大してきている。その接続には、接着性樹脂中に導電性粒子を分散させた異方導電性接着剤フィルム(ACF)を使用する方法が用いられている。   In recent years, the necessity for fine circuit connection such as connection between a liquid crystal display (LCD) and a tape carrier package (TCP) and connection between a TCP and a printed circuit board (PCB) has increased. For the connection, a method using an anisotropic conductive adhesive film (ACF) in which conductive particles are dispersed in an adhesive resin is used.

この方法は、接続したい部材間にフィルム状の異方導電性接着剤を挟み加熱加圧することにより、面方向の隣接端子間では電気的絶縁性を保ちつつ、上下端子間では電気的に導通させるものである。   In this method, a film-like anisotropic conductive adhesive is sandwiched between members to be connected, and heated and pressed to maintain electrical insulation between adjacent terminals in the plane direction, while electrically conducting between upper and lower terminals. Is.

異方導電性接着剤中の接着剤樹脂として、高い接続信頼性を得る観点から熱硬化タイプの接着剤樹脂が用いられている。熱硬化タイプの接着剤樹脂として、被着体との密着性や耐湿信頼性を向上させるためにエポキシ樹脂系が用いられている。   As an adhesive resin in the anisotropic conductive adhesive, a thermosetting adhesive resin is used from the viewpoint of obtaining high connection reliability. As a thermosetting type adhesive resin, an epoxy resin system is used in order to improve adhesion to an adherend and moisture resistance reliability.

また、エポキシ樹脂の硬化剤としては、硬化性と保存安定性を両立させるという観点から潜在性を有するものを配合した材料が用いられている。こうした潜在性硬化剤として、たとえば、BF3アミン錯体、ジシアンジアミド、有機酸ヒドラジド、マイクロカプセル型イミダゾール化合物等が挙げられる。 Moreover, as the curing agent for the epoxy resin, a material containing a latent material is used from the viewpoint of achieving both curability and storage stability. Examples of such latent curing agents include BF 3 amine complex, dicyandiamide, organic acid hydrazide, and microcapsule type imidazole compound.

これらの潜在性硬化剤を配合した熱硬化タイプのものは、170℃〜200℃の温度で10〜30秒前後加熱硬化することが必要とされているものが通常である(特許文献1、2)。   The thermosetting type in which these latent curing agents are blended is usually one that is required to be heated and cured at a temperature of 170 ° C. to 200 ° C. for about 10 to 30 seconds (Patent Documents 1 and 2). ).

ところが、最近では、LCDモジュールが大画面化、高精度化、そして狭額縁化され、これに伴って接続ピッチの微細化や接続の細幅化も急速に進んできている。そのため、たとえば、LCDとTCPの接続においては、接続時の加熱によるTCPの伸びのために接続部分にずれが生じたり、接続部分が細幅のため接続時の温度でLCD内部の部材が熱的影響を受けたりする場合があった。また、TCPとPCBの接続においては、PCBが長尺化していたため接続時の加熱によりPCBとLCDが反り、TCPの配線が断線する場合があった。   Recently, however, LCD modules have become larger, more accurate, and have a narrower frame. Accordingly, connection pitches and connections have been narrowed rapidly. Therefore, for example, in the connection between the LCD and the TCP, the connection portion is displaced due to the elongation of the TCP due to heating at the time of connection, or because the connection portion is thin, the members inside the LCD are thermally at the temperature at the time of connection. I was affected. In connection between TCP and PCB, since the PCB is long, the PCB and LCD are warped by heating during connection, and the TCP wiring may be disconnected.

これらの問題を解決するため、充分な接続信頼性を保ちながら、低温でかつ短時間での接続が可能な異方導電性接着剤が求められてきている。
特開平5−21094号公報 特開2002−327162号公報
In order to solve these problems, there has been a demand for an anisotropic conductive adhesive that can be connected at a low temperature in a short time while maintaining sufficient connection reliability.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-21094 JP 2002-327162 A

ところが、エポキシ樹脂系の熱硬化タイプの異方導電性接着剤は、潜在性硬化剤を適用しても、市場の要求に対応可能なレベルの低温短時間で硬化できるものは保存安定性が低く、逆に保存安定性に優れるものは硬化に長時間または高温を必要としていた。これらはいずれも一長一短であり、低温短時間硬化と保存安定性のバランスをともに充足させる技術が求められていた。   However, epoxy resin thermosetting anisotropic conductive adhesives have low storage stability if they can be cured at low temperatures in a short time and at a level that can meet market demands even when latent curing agents are applied. On the contrary, those having excellent storage stability required a long time or high temperature for curing. All of these have advantages and disadvantages, and a technique for satisfying the balance between low-temperature short-time curing and storage stability has been demanded.

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、保存安定性および低温短時間の接続性に優れた異方導電性接着剤を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an anisotropic conductive adhesive excellent in storage stability and low-temperature short-time connectivity.

本発明者は、異方導電性接着剤の保存安定性および低温短時間硬化性を両立させることを目指して鋭意検討を重ねた。その結果、低温短時間硬化性および保存安定性を両立させる条件を見出し、本発明の完成に至った。   This inventor repeated earnest examination aiming at making the storage stability and low-temperature short-time curability of an anisotropic conductive adhesive compatible. As a result, the inventors have found a condition that achieves both low-temperature short-time curability and storage stability, and have completed the present invention.

従来においては、異方導電性接着剤の低温短時間硬化性および保存安定性のそれぞれ単独での評価方法については検討されていたものの、これらが両立しなかった原因を究明し、それを製品設計に反映させるという思想にたったものではなかった。これに対し、本発明では、異方導電性接着剤の設計に低温短時間硬化性および保存安定性の両方の観点を取り入れることにより、優れた特性を有する異方導電性接着剤を安定的に得ることが可能となった。   In the past, although independent evaluation methods for low-temperature short-time curability and storage stability of anisotropic conductive adhesives were studied individually, the cause of the incompatibility of these was investigated and the product design was conducted. It was not just the idea of reflecting on On the other hand, in the present invention, the anisotropic conductive adhesive having excellent characteristics can be stably obtained by incorporating both low-temperature short-time curability and storage stability into the design of the anisotropic conductive adhesive. It became possible to get.

本発明によれば、
(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、
フィルム形成前に、前記(a)エポキシ樹脂との混合物として35℃以上60℃以下の温度条件下で2日以上加熱された前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を含むことを特徴とする異方導電性接着剤フィルムが提供される。
本発明の異方導電性接着剤フィルムにおいて、樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下であってもよい。
本発明の異方導電性接着剤フィルムにおいて、3MPaの加圧下、10秒間で170℃まで昇温する加熱加圧条件下で圧着した際の反応率が70%以上であってもよい。
本発明の異方導電性接着剤フィルムにおいて、40℃3日間放置後のタックが放置前のタックの70%以上であってもよい。
本発明の異方導電性接着剤フィルムにおいて、40℃3日間放置後の樹脂フロー係数が放置前の樹脂フロー係数の70%以上であってもよい。
本発明の異方導電性接着剤フィルムにおいて、前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とトルエンとを混合した混合物を40℃にて90分間放置した後の粘度が、放置前の粘度の3倍以下であってもよい。
According to the present invention,
(A) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and (c) conductive particles as essential components,
Before film formation, and characterized in that it comprises the (a) mixture 2 days or more heated the at a temperature of 35 ° C. or higher 60 ° C. or less as the epoxy resins (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound An anisotropic conductive adhesive film is provided.
In the anisotropic conductive adhesive film of the present invention, the resin flow coefficient may be 1.5 or more and 3.0 or less.
In the anisotropic conductive adhesive film of the present invention, the reaction rate may be 70% or more when pressure-bonded under a pressure of 3 MPa and heated and pressurized under a pressure of 3 MPa for 10 seconds.
In the anisotropic conductive adhesive film of the present invention, the tack after leaving at 40 ° C. for 3 days may be 70% or more of the tack before leaving.
In the anisotropic conductive adhesive film of the present invention, the resin flow coefficient after standing at 40 ° C. for 3 days may be 70% or more of the resin flow coefficient before standing.
In the anisotropic conductive adhesive film of the present invention, the viscosity after leaving the mixture of the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and toluene at 40 ° C. for 90 minutes is 3 of the viscosity before standing. It may be less than double.

ところで、本発明で見出された所定の保存安定性および低温短時間硬化性を有する異方導電性接着剤フィルムは、従来の製法で得ることが困難であった。本発明においては、さらに、フィルム状の異方導電性接着剤の製造について、所定の構成の原料物質を選別して用いるとともに、所定の条件により前処理することにより、保存安定性および低温短時間硬化性にすぐれた異方導電性接着剤フィルムの製造が可能であることを見出した。   By the way, it is difficult to obtain the anisotropic conductive adhesive film having predetermined storage stability and low-temperature short-time curability found in the present invention by a conventional production method. In the present invention, for the production of a film-like anisotropic conductive adhesive, a raw material having a predetermined configuration is selected and used, and pretreatment is performed under predetermined conditions, so that storage stability and low temperature for a short time can be obtained. It has been found that an anisotropic conductive adhesive film with excellent curability can be produced.

本発明においては、
(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、フィルム形成前に前記(a)エポキシ樹脂との混合物として加熱された前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を含む。
In the present invention,
(A) epoxy resin,
(B) microencapsulated imidazole derivative epoxy compounds, and include (c) conductive particles as an essential component, wherein prior to film formation (a) heated above as mixtures with epoxy resins (b) microencapsulated imidazole Including derivative epoxy compounds.

本発明に係る異方導電性接着剤フィルムでは、フィルム形成前に前記(a)エポキシ樹脂との混合物として加熱された前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物が用いられるため、保存安定性および低温短時間硬化性を確実に向上させることができる。 Since the anisotropic conductive adhesive film according to the present invention, the prior film formation (a) heated above as mixtures with epoxy resins (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is used, the storage stability And low temperature short time curability can be improved reliably.

また、本発明においては、フィルム形成前に、前記(a)エポキシ樹脂との混合物として35℃以上60℃以下の温度条件下で2日以上加熱された前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を含む。(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を比較的長期間加熱することにより、保存安定性および低温短時間硬化性をより一層確実に向上させることができる。 In the present invention, prior to the film formation, the (a) mixture is heated 35 ° C. or higher 60 ° C. over 2 days under the following temperature conditions as the above (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy and epoxy resins Contains compounds. (B) By heating the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound for a relatively long period of time, the storage stability and the low temperature short time curability can be more reliably improved.

本発明において、前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の平均粒径が0.1μm以上3μm以下であってもよい。(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の平均粒径(d50)を0.1μm以上とすることにより、保存安定性をさらに向上させることができる。また、平均粒径を3μm以下とすることにより、低温かつ短時間の加熱条件でエポキシ樹脂を確実に硬化させることができる。このため、低温短時間硬化性および保存安定性にさらに優れた構成とすることができる。 In the present invention, the average particle size of the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound may be 0.1 μm or more and 3 μm or less. (B) The storage stability can be further improved by setting the average particle diameter (d 50 ) of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound to 0.1 μm or more. Moreover, by setting the average particle size to 3 μm or less, the epoxy resin can be reliably cured under low-temperature and short-time heating conditions. For this reason, it can be set as the structure which was further excellent in low-temperature short-time curability and storage stability.

本発明において、前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物のマイクロカプセル壁材膜の厚さが0.001μm以上0.3μm以下であってもよい。マイクロカプセル壁材膜の厚さを0.001μm以上とすることにより、保存安定性をさらに向上させることができる。また、マイクロカプセル壁材膜の厚さを0.3μm以下とすることにより、低温短時間の加熱においても、異方導電性接着剤を確実に硬化させる構成とすることができる。このため、低温短時間硬化性および保存安定性により一層優れた構成とすることができる。   In the present invention, the thickness of the microcapsule wall material film of the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound may be 0.001 μm or more and 0.3 μm or less. By making the thickness of the microcapsule wall material film 0.001 μm or more, the storage stability can be further improved. In addition, by setting the thickness of the microcapsule wall material film to 0.3 μm or less, the anisotropic conductive adhesive can be surely cured even when heating at a low temperature for a short time. For this reason, it can be set as the structure which was further excellent with low-temperature short-time curability and storage stability.

また、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物として、上述したマイクロカプセルの膜厚が薄いものを特に選別して用い、さらに、これを所定の条件で予備加熱して用いることができる。こうすることにより、異方導電性接着剤の保存安定性および低温短時間硬化性をさらに向上させることができる。   In addition, as the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, the above-described microcapsules having a thin film thickness are particularly selected and used, and further preheated under predetermined conditions. By carrying out like this, the storage stability and low temperature short time curability of an anisotropic conductive adhesive can further be improved.

本発明において、(d)ニトリル基とエポキシ基を有するエラストマーをさらに含んでもよい。こうすることにより、ポリイミドに対する密着性を向上させることができる。ポリイミドは、COF(chip on film)の基材等の材料として用いられているため、(d)ニトリル基とエポキシ基を有するエラストマーを含む構成とすることにより、COF等の基材に対する密着性を向上させることができる。   In the present invention, (d) an elastomer having a nitrile group and an epoxy group may be further included. By carrying out like this, the adhesiveness with respect to a polyimide can be improved. Since polyimide is used as a material such as a COF (chip on film) base material, (d) a structure containing an elastomer having a nitrile group and an epoxy group provides adhesion to a base material such as COF. Can be improved.

本発明において、前記エポキシ樹脂は、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂を含んでもよい。こうすることにより、接着剤の流動性を低下させ、速硬化性をさらに向上させることができる。   In the present invention, the epoxy resin may include an epoxy resin having a naphthalene skeleton. By carrying out like this, the fluidity | liquidity of an adhesive agent can be reduced and a quick curability can further be improved.

以上、本発明について説明したが、これらの構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を方法、装置の間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。   Although the present invention has been described above, any combination of these components, and those in which the components and expressions of the present invention are mutually replaced between methods and apparatuses are also effective as an aspect of the present invention.

たとえば、本発明によれば、前記異方導電性接着剤を介して電子部品または電機部品の電気的な接合が行われたことを特徴とする電子機器が提供される。   For example, according to the present invention, there is provided an electronic device characterized in that an electronic component or an electrical component is electrically joined through the anisotropic conductive adhesive.

本発明において、前記電子部品または電機部品が、半導体素子、半導体装置、プリント回路基板、液晶ディスプレイ(LCD)、パネル、プラズマディスプレイ(PDP)パネル、エレクトロルミネッセンス(EL)パネル、またはフィールドエッミッションディスプレイ(FED)パネルであってもよい。   In the present invention, the electronic component or the electric component is a semiconductor element, a semiconductor device, a printed circuit board, a liquid crystal display (LCD), a panel, a plasma display (PDP) panel, an electroluminescence (EL) panel, or a field emission display ( FED) panel.

以上説明したように本発明によれば、(a)エポキシ樹脂、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および(c)導電性粒子を必須成分して含み、フィルム形成前に、(a)エポキシ樹脂との混合物として35℃以上60℃以下の温度条件下で2日以上加熱された(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を含む構成とすることにより、保存安定性および低温短時間の接続性に優れた異方導電性接着剤フィルムが実現される。 As described above, according to the present invention, (a) an epoxy resin, (b) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and (c) conductive particles are included as essential components. It was heated over 2 days at a temperature mixture as a 35 ° C. or higher 60 ° C. or less of the epoxy resins with the configuration including the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, the storage stability and low temperature for a short time An anisotropic conductive adhesive film excellent in connectivity is realized.

以下、本発明に係る異方導電性接着剤について説明する。
本発明の異方導電性接着剤は、
(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分とし、(a)および(b)を含む絶縁性接着剤および(c)導電性粒子で構成される。本発明の異方導電性接着剤は、フィルム状である
Hereinafter, the anisotropic conductive adhesive according to the present invention will be described.
The anisotropic conductive adhesive of the present invention is
(A) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and (c) an electrically conductive particle as an essential component, and an insulating adhesive containing (a) and (b) and (c) an electrically conductive particle. The anisotropic conductive adhesive of the present invention is in the form of a film.

(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物は、潜在性硬化剤であり、絶縁性接着剤の必須成分である。具体的には、旭化成社製ノバキュア等の粒子を用いることができる。   (B) The microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is a latent curing agent and an essential component of the insulating adhesive. Specifically, particles such as NOVACURE manufactured by Asahi Kasei Corporation can be used.

マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の粒子の平均粒径は、たとえば0.1μm以上、好ましくは1μm以上とすることができる。こうすることにより、保存安定性を向上させることができる。また、粘度上昇を抑制し、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の安定的な作製が可能な構成とすることができる。   The average particle size of the particles of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound can be, for example, 0.1 μm or more, preferably 1 μm or more. By doing so, storage stability can be improved. Moreover, it can be set as the structure which suppresses a viscosity raise and can produce stably the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound.

また、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物粒子の平均粒径は、たとえば3μm以下であり、好ましくは2μm以下とすることができる。こうすることにより、潜在性硬化剤と樹脂との反応点の増加により硬化反応性を高め、低温でかつ短時間での接続が可能となる。また、反応点を充分に確保し、低温短時間で確実に硬化させることが可能となる。   The average particle diameter of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound particles is, for example, 3 μm or less, and preferably 2 μm or less. By doing so, the curing reactivity is increased by increasing the reaction point between the latent curing agent and the resin, and connection at a low temperature and in a short time becomes possible. In addition, it is possible to secure a sufficient number of reaction points and reliably cure at a low temperature in a short time.

なお、本発明で用いる(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の平均粒径は、レーザー回折型測定装置RODOS SR型(SYMPATEC HEROS&RODOS)での体積換算平均粒径とした。   In addition, the average particle diameter of the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound used in the present invention was an average particle diameter in terms of volume in a laser diffraction type measurement apparatus RODOS SR type (SYMPATEC HEROS & RODOS).

また、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物のカプセル壁材膜の厚さは、0.001μm以上、好ましくは0.01μm以上とすることができる。こうすることにより、壁材膜の強度を充分に確保するとともに、欠陥のない壁材膜を作製することができる。このため、他の原料との調合中に機械的なシェアや溶剤により壁材膜が破損し、保存安定性が低下することを抑制できる。   The thickness of the capsule wall material film of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound can be 0.001 μm or more, preferably 0.01 μm or more. By doing so, it is possible to secure a sufficient strength of the wall material film and to produce a wall material film having no defect. For this reason, it can suppress that a wall material film | membrane is damaged by mechanical share and a solvent during mixing with another raw material, and storage stability falls.

マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物のカプセル壁材膜の厚さは、たとえば0.3μm以下、好ましくは0.1μm以下とすることができる。こうすることにより、壁材膜の保存安定性を確保しつつ、壁材膜が破壊するまでの時間を充分に短くすることができる。このため、低温短時間での接着を確実に行うことができる。   The thickness of the capsule wall material film of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound can be, for example, 0.3 μm or less, preferably 0.1 μm or less. By doing so, it is possible to sufficiently shorten the time until the wall material film breaks while ensuring the storage stability of the wall material film. For this reason, adhesion at a low temperature in a short time can be reliably performed.

なお、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物のカプセル壁材膜の厚さは、たとえば(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)観察により求めることができる。   The thickness of the capsule wall material film of (b) the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound can be determined, for example, by observation with a transmission electron microscope (TEM) of the cross section of the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound.

マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物は、イミダゾール誘導体とエポキシ化合物との反応生成物をマイクロカプセル化し微粉末化したものであれば特に限定するものではない。マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とイソシアネート化合物とを反応させ、耐薬品性および貯蔵安定性を高めたものもさらに好適である。   The microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is not particularly limited as long as the reaction product of the imidazole derivative and the epoxy compound is microencapsulated into a fine powder. A compound in which a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and an isocyanate compound are reacted to improve chemical resistance and storage stability is further preferable.

マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物に用いるエポキシ化合物としては、たとえば、ビスフェノールA、ビスフェノールFおよびブロム化ビスフェノールA等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ダイマー酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル等が挙げられる。   Examples of the epoxy compound used for the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound include glycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol A, bisphenol F, and brominated bisphenol A, dimer acid diglycidyl ester, and phthalic acid diglycidyl ester.

また、ここで用いられるイミダゾール誘導体としては、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチル−5−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシジメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール等が挙げられる。   Examples of imidazole derivatives used herein include imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl- 2-methylimidazole, 1-benzyl-2-ethylimidazole, 1-benzyl-2-ethyl-5-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxydimethylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxy And methyl imidazole.

マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の添加量は特に限定するものではないが、エラストマーとエポキシ樹脂の合計100重量部に対して5重量部以上200重量部以下であることが好ましい。配合量が大きすぎると、異方導電性接着剤とした時の耐熱性や耐湿性が低下するため、接続信頼性が低下する懸念がある。また、配合量が小さすぎると、硬化性の低下が懸念される。   The addition amount of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is not particularly limited, but is preferably 5 parts by weight or more and 200 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total of the elastomer and the epoxy resin. If the blending amount is too large, the heat resistance and moisture resistance when the anisotropic conductive adhesive is used are lowered, and there is a concern that the connection reliability is lowered. Moreover, when the compounding amount is too small, there is a concern that the curability is lowered.

なお、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物は、配合品を用いてもよい。たとえば、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とエポキシ樹脂との配合品を用いてもよい。この場合、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の配合品に含まれるエポキシ樹脂の量を考慮して、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の添加量をたとえば上記範囲に調製することができる。   The microencapsulated imidazole derivative epoxy compound may be a blended product. For example, a blended product of a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and an epoxy resin may be used. In this case, the amount of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound added can be adjusted, for example, within the above range in consideration of the amount of the epoxy resin contained in the blend of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound.

次に、(a)エポキシ樹脂は、1分子中に少なくとも2個以上のエポキシ基を有するものであれば、特に限定されるものではない。たとえば、グリシジルエステル型エポキシ樹脂グリシジルアミン型エポキシ樹脂またはナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂とすることができる。こうすることにより、短時間硬化を確実に得ることができる。また、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等を用いてもよい。エポキシ樹脂は、これらに限定されるものではなく、単独でも混合して用いても差し支えない。耐湿信頼性の点から、エポキシ樹脂中のイオン性不純物であるNaイオンやClイオンが極力少ない方が好ましく、硬化性の点からエポキシ当量を、たとえば100g/eq以上500g/eq以下とすることができる。   Next, (a) the epoxy resin is not particularly limited as long as it has at least two epoxy groups in one molecule. For example, a glycidyl ester type epoxy resin or a epoxy resin having a naphthalene skeleton can be used. By carrying out like this, hardening for a short time can be obtained reliably. Further, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, or the like may be used. The epoxy resin is not limited to these, and may be used alone or in combination. From the viewpoint of moisture resistance reliability, it is preferable that Na ions and Cl ions, which are ionic impurities in the epoxy resin, be as small as possible. it can.

(a)エポキシ樹脂の配合量は、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物100重量部に対して50重量部以上2000重量部以下であることが好ましい。配合量が大きすぎると異方導電性接着剤とした時の硬化性が低下する。また、配合量が小さすぎると耐熱性および耐湿性が低下し、異方導電性接着剤とした時の接続信頼性が低下する。   The blending amount of (a) epoxy resin is preferably 50 parts by weight or more and 2000 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound. If the blending amount is too large, curability when an anisotropic conductive adhesive is obtained is lowered. On the other hand, if the blending amount is too small, the heat resistance and moisture resistance are lowered, and the connection reliability when an anisotropic conductive adhesive is obtained is lowered.

ここで、ナフタレン骨格を有するナフタレン系エポキシ樹脂は、1分子内に少なくとも1個以上のナフタレン環を含んだ骨格を有しており、ナフトール系、ナフタレンジオール系等がある。ナフタレン系エポキシ樹脂を用いることにより、異方導電性接着剤の硬化物のガラス転移温度Tgを向上させることができる。また、硬化物の高温域での線膨張係数を低下させることができる。ナフタレン系エポキシ樹脂の添加量は、異方導電性接着剤中のエポキシ樹脂成分全体に対してたとえば5重量%以上80重量%以下、好ましくは10重量%以上50重量%以下とすることができる。こうすることにより、フィルム形成性や硬化反応性を向上させることができる。   Here, the naphthalene type epoxy resin having a naphthalene skeleton has a skeleton containing at least one naphthalene ring in one molecule, and includes a naphthol type and a naphthalene diol type. By using a naphthalene type epoxy resin, the glass transition temperature Tg of the cured product of the anisotropic conductive adhesive can be improved. Moreover, the linear expansion coefficient in the high temperature range of hardened | cured material can be reduced. The addition amount of the naphthalene-based epoxy resin can be, for example, 5% by weight or more and 80% by weight or less, preferably 10% by weight or more and 50% by weight or less with respect to the entire epoxy resin component in the anisotropic conductive adhesive. By doing so, film formability and curing reactivity can be improved.

本発明に係る異方性導電接着剤は、さらにエラストマーを含んでもよい。エラストマーを含むことにより、フィルム形成を確実に行うことができる。また、エラストマーは、反応性エラストマーとすることができる。こうすることにより、異方性導電接着剤を確実にフィルム化し、シート状にすることができる。また、硬化後の樹脂の弾性率を下げ接着力を向上させ、接続時の残留応力を小さくすることができる。このため、接続信頼性を向上することができる。   The anisotropic conductive adhesive according to the present invention may further contain an elastomer. By including an elastomer, film formation can be reliably performed. The elastomer can also be a reactive elastomer. By carrying out like this, an anisotropic conductive adhesive can be reliably made into a film and can be made into a sheet form. In addition, the elastic modulus of the cured resin can be lowered to improve the adhesive force, and the residual stress at the time of connection can be reduced. For this reason, connection reliability can be improved.

エラストマーの材料は、特に限定するものではないが、フィルム形成性があるもの、たとえば、フェノキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリブタジエン、ポリプロピレン、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ブチルゴム、クロロプレンゴム、ポリアミド樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−メタクリル酸共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニル樹脂、ナイロン、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体などを用いることができ、単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。   The material of the elastomer is not particularly limited, but has a film-forming property, such as phenoxy resin, polyester resin, polyurethane resin, polyimide resin, polybutadiene, polypropylene, styrene-butadiene-styrene copolymer, polyacetal resin, Polyvinyl butyral resin, butyl rubber, chloroprene rubber, polyamide resin, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene-methacrylic acid copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyvinyl acetate resin, nylon, styrene-isoprene copolymer A coalescence, a styrene-butylene-styrene block copolymer, etc. can be used, and it can use individually or in mixture of 2 or more types.

エラストマーの配合量は特に限定されないが、エポキシ樹脂とマイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の合計100部に対して10部以上300部以下であることが好ましい。配合量が大きすぎると、異方導電性接着剤の流動性が低下するため、接続信頼性が低下する。また、各種被着体との濡れ性が低下し、密着性が低下する。また配合量が小さすぎると、異方導電性接着剤とした時の製膜性が低下する。また、硬化物の弾性率が高くなるため、各種被着体に対する密着性が低下したり、熱衝撃試験後の接続信頼性が低下したりする懸念がある。   Although the compounding quantity of an elastomer is not specifically limited, It is preferable that they are 10 parts or more and 300 parts or less with respect to a total of 100 parts of an epoxy resin and a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound. If the blending amount is too large, the fluidity of the anisotropic conductive adhesive is lowered, so that the connection reliability is lowered. Moreover, wettability with various adherends decreases, and adhesion decreases. Moreover, when a compounding quantity is too small, the film formability at the time of setting it as an anisotropic conductive adhesive will fall. Moreover, since the elasticity modulus of hardened | cured material becomes high, there exists a possibility that the adhesiveness with respect to various to-be-adhered bodies may fall, or the connection reliability after a thermal shock test may fall.

また、エラストマーとして、ニトリル基とエポキシ基を有する樹脂を用いることができる。このような樹脂として、たとえばアクリルゴムを用いることができる。アクリルゴムとしては、アクリル酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルまたはアクリロニトリルのうち少なくともひとつをモノマー成分とした重合体または共重合体があげられ、中でもグリシジルエーテル基を含有するグリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートを含む共重合体系アクリルゴムが好適に用いられる。   As the elastomer, a resin having a nitrile group and an epoxy group can be used. As such a resin, for example, acrylic rubber can be used. Examples of the acrylic rubber include a polymer or copolymer having at least one of acrylic acid, acrylic acid ester, methacrylic acid ester or acrylonitrile as a monomer component, including glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate containing a glycidyl ether group. A copolymer acrylic rubber is preferably used.

アクリルゴムは、具体的には、たとえば、下記一般式(1)で示される化合物とすることができる。   Specifically, the acrylic rubber can be, for example, a compound represented by the following general formula (1).

Figure 0003947532
Figure 0003947532

ただし、上記一般式(1)において、R1は、水素、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のいずれかを示し、R2は、水素、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のいずれかを示す。また、R1とR2とが同じ基であっても異なる基であってもよい。また、上記一般式(1)において、Xは40mol%以上98.5mol%以下、Yは1mol%以上50mol%以下、Zは0.5mol%以上10mol%以下である。また、上記一般式(1)に示したアクリルゴムの分子量は、たとえば、10000以上1500000以下である。上記一般式(1)に示したアクリルゴムを用いることにより、密着性および接続信頼性をさらに向上させることができる。 However, in the general formula (1), R 1 represents any one of hydrogen, methyl group, ethyl group, propyl group, and butyl group, and R 2 represents hydrogen, methyl group, ethyl group, propyl group, and butyl group. Indicates one of the following. R 1 and R 2 may be the same group or different groups. Moreover, in the said General formula (1), X is 40 mol% or more and 98.5 mol% or less, Y is 1 mol% or more and 50 mol% or less, Z is 0.5 mol% or more and 10 mol% or less. The molecular weight of the acrylic rubber represented by the general formula (1) is, for example, 10,000 or more and 1500,000 or less. By using the acrylic rubber represented by the general formula (1), the adhesion and connection reliability can be further improved.

次に、本発明において、(c)導電性粒子の組成は限定されるものではない。導電粒子の粒径や材質、配合量は接続したい回路のピッチやパターン、回路端子の厚みや材質等に応じて適宜選択することができる。たとえば、金属粒子や高分子核材に金属被覆をした粒子を用いることができる。   Next, in the present invention, the composition of (c) conductive particles is not limited. The particle size, material, and blending amount of the conductive particles can be appropriately selected according to the pitch and pattern of the circuit to be connected, the thickness and material of the circuit terminal, and the like. For example, metal particles or particles obtained by coating a polymer core material with metal can be used.

金属粒子としては、金、銀、亜鉛、錫、半田、インジウム、パラジウム等の単体もしくは2種以上を組み合わせてもよい。   As the metal particles, gold, silver, zinc, tin, solder, indium, palladium or the like may be used alone or in combination of two or more.

また、高分子核材に金属被覆をした粒子としては、高分子核材に、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体などのポリマーの中から1種あるいは2種以上組み合わせたもの、金属薄膜皮膜に、金、ニッケル、銀、銅、亜鉛、錫、インジウム、パラジウム、アルミニウムなどの中から1種あるいは2種以上組み合わせてよい。   In addition, as the particles obtained by metal coating the polymer core material, the epoxy resin, urethane resin, melamine resin, phenol resin, acrylic resin, polyester resin, polystyrene resin, styrene-butadiene copolymer, etc. You may combine 1 type (s) or 2 or more types from gold | metal | money, nickel, silver, copper, zinc, tin, indium, palladium, aluminum, etc. to the thing which combined 1 type (s) or 2 or more types from a polymer, and a metal thin film membrane | film | coat.

金属薄膜皮膜の厚さに特に制限はないが、たとえば0.01μm以上1μm以下とすることができる。金属薄膜皮膜の厚さが薄すぎると異方導電性接着剤とした場合接続が不安定になり、厚すぎると凝集が生じるため、異方導電性接着剤とした場合絶縁不良を起こす可能性がある。また、金属薄膜皮膜は、高分子核材の表面に均一に被覆されていることが好ましい。均一に被覆することにより、皮膜のむらや欠けをなくし、電気的接続性を向上させることができる。   Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a metal thin film membrane | film | coat, For example, they can be 0.01 micrometer or more and 1 micrometer or less. If the metal thin film is too thin, the anisotropic conductive adhesive will cause unstable connection, and if it is too thick, agglomeration will occur. is there. The metal thin film is preferably uniformly coated on the surface of the polymer core material. By coating uniformly, unevenness and chipping of the film can be eliminated and electrical connectivity can be improved.

導電性粒子の配合量は、エラストマー、エポキシ樹脂、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の合計に対してたとえば0.1体積%以上10体積%以下とすることができる。配合量が大きすぎると、異方導電性接着剤中の導電性粒子絶対量が多くなるため、被着体接続端子間の絶縁性が低下する。また、配合量が小さすぎると、異方導電性接着剤中の導電性粒子絶対量が少なくなるため、被着体接続端子上の導電性粒子が不足し、接続抵抗値が高くなる。   The compounding quantity of electroconductive particle can be 0.1 volume% or more and 10 volume% or less with respect to the sum total of an elastomer, an epoxy resin, and a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, for example. If the blending amount is too large, the absolute amount of conductive particles in the anisotropic conductive adhesive increases, and the insulation between the adherend connection terminals decreases. On the other hand, if the blending amount is too small, the absolute amount of conductive particles in the anisotropic conductive adhesive decreases, so that the conductive particles on the adherend connection terminal are insufficient and the connection resistance value is increased.

本発明の異方導電性接着剤には、必要に応じてカップリング剤を適量添加してもよい。カップリング剤を添加することにより、異方導電性接着剤の接着界面の接着性を改質することができる。また、異方導電性接着剤の耐熱性、耐湿性を向上することができる。   An appropriate amount of a coupling agent may be added to the anisotropic conductive adhesive of the present invention as necessary. By adding the coupling agent, it is possible to modify the adhesiveness of the adhesion interface of the anisotropic conductive adhesive. Moreover, the heat resistance and moisture resistance of the anisotropic conductive adhesive can be improved.

カップリング剤としては特に限定するものではないが、シランカップリング剤を好適に使用することができ、たとえば、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、1種あるいは2種以上混合してもよい。   Although it does not specifically limit as a coupling agent, A silane coupling agent can be used conveniently, for example, (gamma) -glycidoxy propyl triethoxysilane, (beta)-(3,4 epoxy cyclohexyl) ethyl trimethoxy. Examples include silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, and the like. You may mix above.

さらに、本発明に係る異方導電接着剤には、樹脂の相溶性、安定性、作業性等の各種特性向上のため、各種添加剤、たとえば、非反応性希釈剤、反応性希釈剤、揺変性付与剤、増粘剤、無機充填剤等を適宜添加してもよい。   Further, the anisotropic conductive adhesive according to the present invention has various additives such as a non-reactive diluent, a reactive diluent, a rocking agent for improving various properties such as resin compatibility, stability, and workability. Modification modifiers, thickeners, inorganic fillers and the like may be added as appropriate.

次に、本発明に係る異方導電性接着剤の作製方法について説明する。異方導電性接着剤は、潜在性硬化剤を含む絶縁性接着剤、導電粒子、および必要に応じて他の添加剤を、トルエンや酢酸エチルなどの溶媒に均一に分散させることにより得られる。また、本発明に係る異方導電性接着剤フィルムは、得られた分散液を剥離基材(例えばポリエステルシート)上にフィルム状に塗布し硬化剤の活性温度以下で溶剤を除去し、乾燥することにより製造される。   Next, a method for producing the anisotropic conductive adhesive according to the present invention will be described. An anisotropic conductive adhesive is obtained by uniformly dispersing an insulating adhesive containing a latent curing agent, conductive particles, and other additives as required in a solvent such as toluene or ethyl acetate. Moreover, the anisotropic conductive adhesive film which concerns on this invention apply | coats the obtained dispersion liquid on a peeling base material (for example, polyester sheet) in a film form, removes a solvent below the active temperature of a hardening | curing agent, and dries. It is manufactured by.

ただし、本発明に係る異方導電性接着剤を、上述の従来の方法で得ることは困難である。そこで、本発明においては、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物として、粒子径およびシェル層の厚さが一定条件の範囲内にあるもののみを選別して用いる。さらに、選別された(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物に、前処理として予備加熱を施す。   However, it is difficult to obtain the anisotropic conductive adhesive according to the present invention by the above-described conventional method. Therefore, in the present invention, as the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, only those having a particle diameter and a shell layer thickness within a certain range are selected and used. Further, the selected (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is preheated as a pretreatment.

予備加熱の温度は、たとえば35℃以上60℃以下とすることができる。35℃以上とすることにより、異方導電性接着剤の保存安定性を確実に向上させることができる。また、60℃以下とすることにより、異方導電性接着剤の短時間硬化性の低下を抑制することができる。   The temperature of the preheating can be, for example, 35 ° C. or more and 60 ° C. or less. By setting it as 35 degreeC or more, the storage stability of an anisotropically conductive adhesive agent can be improved reliably. Moreover, the fall of short-time curability of an anisotropic conductive adhesive can be suppressed by setting it as 60 degrees C or less.

また、予備加熱時間は、好ましくは2日以上とする。こうすることにより、潜在性硬化剤の保存性を確実に向上させることができる。   The preheating time is preferably 2 days or longer. By carrying out like this, the preservability of a latent hardening agent can be improved certainly.

予備加熱の条件は、具体的には、たとえば、40℃、4〜5日間とすることができる。このように低温で比較的長期間の予備加熱を行うことにより、従来の構成に比べて低温短時間効果性および保存安定性がともに優れた異方導電性接着剤を安定的に得ることができる。なお、本発明に係る異方導電性接着剤を作製する際の原料の選別および予備加熱条件の選択については、後述する実施例においてさらに詳細に示す。   Specifically, the preheating conditions may be, for example, 40 ° C. and 4 to 5 days. By performing preheating at a low temperature for a relatively long period of time, it is possible to stably obtain an anisotropic conductive adhesive that is superior in both low temperature short time effectiveness and storage stability as compared with the conventional configuration. . In addition, about the selection of the raw material at the time of producing the anisotropic conductive adhesive which concerns on this invention, and selection of preheating conditions, it shows in detail in the Example mentioned later.

また、本発明においては、潜在硬化剤として選別された(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を予備加熱して用いているため、下記のうち、少なくとも一の条件を満たすフィルム状の異方導電性接着剤を得ることがはじめて可能となる。   In the present invention, since the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound selected as the latent curing agent is preheated and used, the film-like anisotropic conductivity satisfying at least one of the following conditions: For the first time, it is possible to obtain an adhesive.

本発明に係る異方導電性接着剤フィルムは、低温短時間硬化性(A)および保存安定性(B)の指標として、(A1)または(A2)いずれかの条件および(B1)〜(B3)いずれかの条件をともに満たしてもよい
(A1)樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下である、
(A2)3MPaにて10秒間で170℃まで昇温する加熱加圧条件下で圧着した際の反応率が70%以上である、
(B1)40℃3日間放置後のタックが放置前のタックの70%以下である、
(B2)40℃で3日間放置後の樹脂フロー係数が放置前の樹脂フロー係数の70%以上である。
(B3)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とトルエンとを混合した混合物を40℃にて90分間放置した後の粘度が、放置前の粘度の3倍以下である。
The anisotropic conductive adhesive film according to the present invention has a condition of either (A1) or (A2) and (B1) to (B3) as an index of low temperature short time curability (A) and storage stability (B). ) may be less than both the one of the conditions.
(A1) The resin flow coefficient is 1.5 or more and 3.0 or less,
(A2) The reaction rate is 70% or more when pressure-bonded under a heating and pressurizing condition in which the temperature is increased to 170 ° C. for 10 seconds at 3 MPa.
(B1) The tack after leaving at 40 ° C. for 3 days is 70% or less of the tack before leaving,
(B2) The resin flow coefficient after standing for 3 days at 40 ° C. is 70% or more of the resin flow coefficient before standing.
(B3) The viscosity of the mixture obtained by mixing the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and toluene at 40 ° C. for 90 minutes is not more than 3 times the viscosity before standing.

具体的には、本発明に係る異方導電性接着剤フィルムは(A1)、(A2)および(B1)〜(B3)のいずれかを満たしてもよく、さらに具体的には、(A1)かつ(B1)、(A1)かつ(B2)、(A1)かつ(B3)、(A2)かつ(B1)、(A2)かつ(B2)、または(A2)かつ(B3)のいずれかの条件を満たしてもよいSpecifically, the anisotropic conductive adhesive film according to the present invention may satisfy any of (A1), (A2) and (B1) to (B3), and more specifically, (A1) And (B1), (A1) and (B2), (A1) and (B3), (A2) and (B1), (A2) and (B2), or (A2) and (B3) it may meet.

本発明においては、低温短時間硬化性(A)の条件と保存安定性(B)の条件とを組み合わせることにより、低温短時間硬化と保存安定性の両立が可能となる。また、これらをともに満たす異方導電性接着剤は、上述のように、特定の形状(粒径、膜厚)の潜在性硬化剤粒子を特定の条件で予備加熱することによりはじめて得ることができる。   In the present invention, it is possible to achieve both low-temperature short-time curing and storage stability by combining the conditions for low-temperature short-time curability (A) and storage stability (B). Further, the anisotropic conductive adhesive satisfying both of them can be obtained only by preheating latent curing agent particles having a specific shape (particle diameter, film thickness) under specific conditions as described above. .

なお、本明細書において、樹脂フロー係数は、ガラス基板上に貼付した異方導電性接着剤フィルムの上に他のガラス基板を配設し、7MPaにて170℃まで10秒間で昇温した際の加圧前後の面積比である。低温短時間硬化性が良好であると、樹脂フロー係数が小さくなる。   In addition, in this specification, the resin flow coefficient is obtained when another glass substrate is disposed on the anisotropic conductive adhesive film affixed on the glass substrate and the temperature is increased to 170 ° C. at 7 MPa for 10 seconds. Is the area ratio before and after pressing. If the low temperature short time curability is good, the resin flow coefficient becomes small.

また、反応率は、FT−IR測定によりエポキシ環の減衰量を測定することにより、以下のようにして算出される。測定サンプルとして、以下(i)〜(iii)の3つを用いる。
(i)未硬化の異方導電性接着剤フィルム(生フィルム)、
(ii)生フィルムをオーブン中で180℃にて1hr硬化させて得られる完全硬化フィルム、
(iii)170℃×10秒接続条件下のフィルム。
Further, the reaction rate is calculated as follows by measuring the attenuation amount of the epoxy ring by FT-IR measurement. The following three (i) to (iii) are used as measurement samples.
(I) Uncured anisotropic conductive adhesive film (raw film),
(Ii) a fully cured film obtained by curing a raw film in an oven at 180 ° C. for 1 hour,
(Iii) A film under a connecting condition of 170 ° C. × 10 seconds.

各サンプルのFTIR測定を行い、得られたIRチャートから、
(I)914cm-1:エポキシ環の逆対象伸縮振動、および
(II)829cm-1:芳香環のC−H間界面外変角振動、
2つのピークを数値化し、各試料について、
吸光度比=(I)/(II)
を求める。そして、得られた吸光度比を用いて下記式で示される反応率を算出する。
反応率(%)=(1−(iii)の吸光度比/(i)の吸光度比)/(1−(ii)の吸光度比/(i)の吸光度比)×100
FTIR measurement of each sample is performed, and from the obtained IR chart,
(I) 914 cm −1 : inverse target stretching vibration of epoxy ring, and (II) 829 cm −1 : C-H interfacial variable angular vibration of aromatic ring,
Two peaks are digitized and for each sample,
Absorbance ratio = (I) / (II)
Ask for. And the reaction rate shown by a following formula is computed using the obtained absorbance ratio.
Reaction rate (%) = (1− (iii) absorbance ratio / (i) absorbance ratio) / (1− (ii) absorbance ratio / (i) absorbance ratio) × 100

また、タックは、たとえば、直径5mmのプローブを有するタックテスタを用いて、30℃における異方導電性接着剤シートの表面タック力を測定することにより得られる。   The tack can be obtained, for example, by measuring the surface tack force of the anisotropic conductive adhesive sheet at 30 ° C. using a tack tester having a probe having a diameter of 5 mm.

また、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の粘度測定は、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とエポキシ樹脂の混合物をトルエン中に分散させ、回転粘度計により溶液粘度を測定することにより行う。   (B) The viscosity of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is measured by dispersing a mixture of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and the epoxy resin in toluene and measuring the solution viscosity with a rotational viscometer.

本発明に係る異方導電性接着剤フィルムは、低温短時間硬化性および保存安定性に優れ、電子部品または電機部品の接続に好適に用いられる。電子部品または電機部品として、たとえば、半導体素子、半導体装置、プリント回路基板、LCDパネル、PDPパネル、ELパネル、およびFEDパネル等が挙げられる。さらに具体的には、たとえば、液晶表示装置において、LCDパネルとTCPとの接続や、TCPとPCBとの接続などの微細回路同士の電気的接続に好適に用いられる。   The anisotropic conductive adhesive film according to the present invention is excellent in low-temperature short-time curability and storage stability, and is suitably used for connecting electronic parts or electrical parts. Examples of the electronic component or electrical component include a semiconductor element, a semiconductor device, a printed circuit board, an LCD panel, a PDP panel, an EL panel, and an FED panel. More specifically, for example, in a liquid crystal display device, it is suitably used for electrical connection between fine circuits such as connection between an LCD panel and TCP, or connection between TCP and PCB.

本発明の異方導電性接着剤フィルムを用いて得られる電子機器の一つである表示装置について説明する。ここでは、表示装置がLCD(液晶ディスプレイ)モジュールである場合を例に説明する。図1は、本発明のLCDモジュールの一例を模式的に示す断面図である。   A display device which is one of electronic devices obtained using the anisotropic conductive adhesive film of the present invention will be described. Here, a case where the display device is an LCD (liquid crystal display) module will be described as an example. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the LCD module of the present invention.

LCDモジュール10は、LCDパネル11および回路基板を有する。回路基板として、TCP(テープキャリアパッケージ)12およびPCB(印刷回路基板)13を有する。LCDパネル11とTCP12、およびTCP12とPCB13は、フィルム状の異方導電性接着剤14によって接着されている。   The LCD module 10 includes an LCD panel 11 and a circuit board. The circuit board includes a TCP (tape carrier package) 12 and a PCB (printed circuit board) 13. The LCD panel 11 and the TCP 12 and the TCP 12 and the PCB 13 are bonded by a film-like anisotropic conductive adhesive 14.

図2は、図1のA−A’断面図である。図2に示すように、TCP12のLCDパネル11との対向面には、回路端子としてTCP電極18が設けられている。また、LCDパネル11のTCP12との対向面には、回路端子としてITO(酸化インジウムスズ)電極17が設けられている。また、図1および図2には示していないが、PCB13のTCP12との対向面には、回路端子としてPCB電極が設けられている。   FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 1. As shown in FIG. 2, a TCP electrode 18 is provided as a circuit terminal on the surface of the TCP 12 facing the LCD panel 11. Further, an ITO (indium tin oxide) electrode 17 is provided as a circuit terminal on the surface of the LCD panel 11 facing the TCP 12. Although not shown in FIGS. 1 and 2, PCB electrodes are provided as circuit terminals on the surface of the PCB 13 facing the TCP 12.

異方導電性接着剤14は、接着剤樹脂16および接着剤樹脂16の中に分散した導電粒子15を含む。ITO電極17とTCP電極18またはTCP電極18とPCB電極(不図示)とは、異方導電性接着剤14を介して電気的に接続される。異方導電性接着剤14は導電粒子15を含むため、各回路端子間の電気的な接続が確保される。   The anisotropic conductive adhesive 14 includes an adhesive resin 16 and conductive particles 15 dispersed in the adhesive resin 16. The ITO electrode 17 and the TCP electrode 18 or the TCP electrode 18 and the PCB electrode (not shown) are electrically connected via the anisotropic conductive adhesive 14. Since the anisotropic conductive adhesive 14 includes the conductive particles 15, electrical connection between the circuit terminals is ensured.

このように、異方導電性接着剤14は、表示装置周辺の接続部材として好適に用いることができる。また、本発明に係る異方導電性接着剤14は、TCP12とLCDパネル11とを接続する出力用の接続部材としてさらに好適に用いることができる。   Thus, the anisotropic conductive adhesive 14 can be suitably used as a connection member around the display device. Further, the anisotropic conductive adhesive 14 according to the present invention can be more suitably used as an output connection member for connecting the TCP 12 and the LCD panel 11.

なお、図1では、表示装置用基板としてLCDパネル11を用いたものを示したが、本発明はこれに限定されず、たとえばエレクトロルミネッセンスパネル、プラズマディスプレイパネル等についても適用することができる。   In FIG. 1, the LCD panel 11 is used as the display device substrate. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to, for example, an electroluminescence panel, a plasma display panel, and the like.

以上、本発明を実施形態に基づき説明した。これらの実施形態は例示であり様々な変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。   The present invention has been described based on the embodiments. It should be understood by those skilled in the art that these embodiments are illustrative and that various modifications are possible, and that such modifications are within the scope of the present invention.

たとえば、本発明の異方導電性接着剤を介して表示部材と被着体を接合し、本発明に係る表示装置とすることができる。   For example, the display member and the adherend can be joined via the anisotropic conductive adhesive of the present invention to obtain a display device according to the present invention.

また、本発明の異方導電性接着剤を介して回路基板と被着体を接合し、本発明に係る電子機器とすることができる。   In addition, the circuit board and the adherend can be bonded via the anisotropic conductive adhesive of the present invention to provide an electronic apparatus according to the present invention.

以下、本発明を実験例により説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, although an example explains the present invention, the present invention is not limited to this.

(実験例1)
ビスフェノールA型フェノキシ樹脂(インケム社製PKHC、重量平均分子量Mw=50000、酢酸エチル20重量%溶液)を100重量部、
ポリビニルブチラール樹脂(積水化学工業社製BX、重合度1700、ブチラール化度65mol%、酢酸エチル20重量%溶液)を50重量部、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製エピコート828、エポキシ当量180g/eq)を20重量部、
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製エピコート806、エポキシ当量175g/eq)を30重量部、
マイクロカプセル化2−メチルイミダゾール誘導体エポキシ化合物(平均粒径3μm、カプセル膜材厚0.2μm)を20重量部、および
Ni/Auメッキアクリル粒子(積水化学社製ミクロパールAUL−705、平均粒径5μm)を3重量部、
を混合し、均一に分散させた。
(Experimental example 1)
100 parts by weight of bisphenol A type phenoxy resin (PKHC manufactured by Inchem Co., Ltd., weight average molecular weight Mw = 50000, ethyl acetate 20% by weight solution),
50 parts by weight of polyvinyl butyral resin (BX made by Sekisui Chemical Co., Ltd., polymerization degree 1700, butyralization degree 65 mol%, ethyl acetate 20% by weight solution)
20 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (Epicoat 828 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent 180 g / eq),
30 parts by weight of a bisphenol F type epoxy resin (Epicoat 806 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd., epoxy equivalent of 175 g / eq),
20 parts by weight of microencapsulated 2-methylimidazole derivative epoxy compound (average particle size 3 μm, capsule membrane material thickness 0.2 μm), and Ni / Au plated acrylic particles (Micropearl AUL-705 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., average particle size) 5 μm) 3 parts by weight,
Were mixed and dispersed uniformly.

ただし、混合に先立ち、200mlの容器中にマイクロカプセル化2−メチルイミダゾール誘導体エポキシ化合物および配合に使用したエポキシ樹脂成分を配合比で混合した混合物を入れ、予備加熱を行った。予備加熱の条件は、表中に記載した。これを、離型処理を施したポリエチレンテレフタレート上に乾燥後の厚さが15μmになるように塗布し、乾燥した。乾燥物を幅1.5mmに切断して異方導電性接着剤フィルムを得た。
However, prior to mixing, a mixture in which a microencapsulated 2-methylimidazole derivative epoxy compound and an epoxy resin component used for blending were mixed at a blending ratio was placed in a 200 ml container, and preheating was performed. The preheating conditions are shown in the table. This was applied onto polyethylene terephthalate that had been subjected to a release treatment so that the thickness after drying was 15 μm, and dried. The dried product was cut into a width of 1.5 mm to obtain an anisotropic conductive adhesive film.

得られた異方導電性接着剤フィルムの樹脂フロー係数、反応率、タック変化、樹脂フロー係数変化、接着強度、接続信頼性、および保存性を後述する方法で評価した。樹脂フロー係数および反応率を短時間硬化性の指標とした。また、タック変化および樹脂フロー係数変化を保存安定性の指標とした。ただし、タック変化は、40℃にて3日間放置後のタックの放置前のタックに対する割合(%)であり、樹脂フロー係数変化は、40℃にて3日間放置後の樹脂フロー係数の放置前の樹脂フロー係数に対する割合(%)である。   The resin flow coefficient, reaction rate, tack change, resin flow coefficient change, adhesive strength, connection reliability, and storage stability of the obtained anisotropic conductive adhesive film were evaluated by the methods described later. The resin flow coefficient and reaction rate were used as indicators of short-term curability. Further, tack change and resin flow coefficient change were used as indices of storage stability. However, the tack change is the ratio (%) of the tack after being left at 40 ° C. for 3 days to the tack before being left, and the resin flow coefficient change is before leaving the resin flow coefficient after being left at 40 ° C. for 3 days. It is a ratio (%) to the resin flow coefficient.

また、用いたマイクロカプセル化2−メチルイミダゾール誘導体エポキシ化合物のトルエン中での粘度変化を評価し、保存安定性の指標とした。ここで、粘度変化は、トルエン中にマイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および配合に使用したエポキシ樹脂成分を配合比で混合した混合物を分散させた溶液を40℃で90分間放置した後の粘度の放置前の粘度に対する比率である。   Moreover, the viscosity change in toluene of the microencapsulated 2-methylimidazole derivative epoxy compound used was evaluated and used as an index of storage stability. Here, the viscosity change is the viscosity after leaving a solution in which a mixture of a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and an epoxy resin component used for blending mixed in toluene at a blending ratio was allowed to stand at 40 ° C. for 90 minutes. It is the ratio to the viscosity before standing.

(実験例2、3)
表1に示したように、マイクロカプセル化2−メチルイミダゾール誘導体エポキシ化合物の粒子径およびカプセル膜材厚を実験例1と変化させて、実験例1と同様にして異方導電性接着剤フィルムを作製した。
(Experimental Examples 2 and 3)
As shown in Table 1, an anisotropic conductive adhesive film was prepared in the same manner as in Experimental Example 1, except that the particle size and capsule membrane material thickness of the microencapsulated 2-methylimidazole derivative epoxy compound were changed from those in Experimental Example 1. Produced.

(実験例4、5)
表1に示したように、マイクロカプセル化2−メチルイミダゾール誘導体エポキシ化合物の粒子径およびカプセル膜材厚を実験例1と変化させた。また、エポキシ樹脂の配合をビスフェノールA型エポキシ樹脂15重量部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂35重量部とした。実験例1と同様にして異方導電性接着剤フィルムを作製した。なお、実験例5では、カップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン2重量部をさらに配合した。
(Experimental Examples 4 and 5)
As shown in Table 1, the particle size and capsule membrane material thickness of the microencapsulated 2-methylimidazole derivative epoxy compound were changed from those of Experimental Example 1. The epoxy resin was blended in 15 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin and 35 parts by weight of bisphenol F type epoxy resin. An anisotropic conductive adhesive film was produced in the same manner as in Experimental Example 1. In Experimental Example 5, 2 parts by weight of γ-glycidoxypropyltriethoxysilane was further blended as a coupling agent.

(実験例6〜9)
表1および表2に示したように、エラストマーとして実験例1で用いたポリビニルブチラール樹脂にかえて下記式(2)に示すアクリロニトリル−ブタジエン−メタクリル酸共重合体(酢酸エチル20重量%溶液)を用いた。
(Experimental Examples 6-9)
As shown in Tables 1 and 2, instead of the polyvinyl butyral resin used in Experimental Example 1 as an elastomer, an acrylonitrile-butadiene-methacrylic acid copolymer (20% by weight ethyl acetate solution) represented by the following formula (2) is used. Using.

Figure 0003947532
Figure 0003947532

(ただし、上記式(2)において、l:27wt%、n:4.0mol%、分子量:100,000である。) (However, in said formula (2), it is 1:27 wt%, n: 4.0 mol%, molecular weight: 100,000.)

また、実験例6〜8においては、エポキシ樹脂の配合をビスフェノールA型エポキシ樹脂30重量部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂20重量部とした。また、実験例8では、カップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランをさらに配合した。また、実験例9では、エポキシ樹脂の配合をビスフェノールA型エポキシ樹脂20重量部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂30重量部とし、カップリング剤として、γ−アミノプロピルトリエトキシシランをさらに配合した。そして、マイクロカプセル化2−メチルイミダゾール誘導体エポキシ化合物の粒子径およびカプセル膜材厚を変化させて、実験例1と同様にして異方導電性接着剤フィルムを作製した。   Moreover, in Experimental Examples 6-8, the compounding of the epoxy resin was 30 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin and 20 parts by weight of bisphenol F type epoxy resin. In Experimental Example 8, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane was further blended as a coupling agent. In Experimental Example 9, the epoxy resin was blended with 20 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin and 30 parts by weight of a bisphenol F type epoxy resin, and γ-aminopropyltriethoxysilane was further blended as a coupling agent. Then, an anisotropic conductive adhesive film was produced in the same manner as in Experimental Example 1 by changing the particle size and capsule membrane material thickness of the microencapsulated 2-methylimidazole derivative epoxy compound.

(実験例10〜12)
表2に示したように、エラストマーとして実験例1で用いた、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂および実験例6で用いたアクリロニトリル−ブタジエン−メタクリル酸共重合体とを用いて異方導電性接着剤フィルムを作製した。また、実験例12では、カップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランを用いた。
(Experimental Examples 10-12)
As shown in Table 2, anisotropic conductivity was obtained using the bisphenol A type phenoxy resin, polyvinyl butyral resin and acrylonitrile-butadiene-methacrylic acid copolymer used in Experimental Example 6 as the elastomer used in Experimental Example 1. An adhesive film was prepared. In Experimental Example 12, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane was used as a coupling agent.

(実験例13〜14)
表2に示したように、エラストマーとしてビスフェノールA型フェノキシ樹脂および上記一般式(1)で示されるエポキシ基含有アクリルゴム(酢酸エチル20重量%溶液、上記一般式(1)中のR1=C25、R2=CH3、分子量700,000)を用いて異方導電性接着剤フィルムを作製した。また、実験例13では、カップリング剤として、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランを用いた。
(Experimental Examples 13 to 14)
As shown in Table 2, bisphenol A type phenoxy resin as an elastomer and an epoxy group-containing acrylic rubber represented by the above general formula (1) (ethyl acetate 20 wt% solution, R 1 = C in the above general formula (1)) 2 H 5 , R 2 = CH 3 , molecular weight 700,000) to produce an anisotropic conductive adhesive film. In Experimental Example 13, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane was used as a coupling agent.

(実験例15〜16)
表2に示したように、エポキシ樹脂としてビスフェノールA型エポキシ樹脂およびビスフェノールF型エポキシ樹脂に加え、ナフタレン型エポキシ樹脂(大日本インキ社製HP−4032)を用い、異方導電性接着剤フィルムを作製した。なお、実験例16では、カップリング剤としてγ−アミノプロピルトリエトキシシランを用いた。
(Experimental Examples 15 to 16)
As shown in Table 2, in addition to bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F type epoxy resin as an epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin (HP-4032 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) is used, and an anisotropic conductive adhesive film is used. Produced. In Experimental Example 16, γ-aminopropyltriethoxysilane was used as a coupling agent.

(実験例17〜21)
表3に示したように、実験例1において、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の平均粒径およびカプセル膜材厚を変えて異方導電性接着剤フィルムを得た。なお、実験例19および20では、エポキシ樹脂の配合を実験例1と異ならせた。また、実験例17、18および21では、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の予備加熱を行わなかった。また、実験例19では、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の予備加熱条件を、50℃、16hrとした。実験例20では、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の予備加熱条件を、50℃、8hrとした。
(Experimental Examples 17 to 21)
As shown in Table 3, in Example 1, anisotropic conductive adhesive films were obtained by changing the average particle size and capsule membrane material thickness of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound. In Experimental Examples 19 and 20, the compounding of the epoxy resin was different from that in Experimental Example 1. In Experimental Examples 17, 18, and 21, the pre-heating of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound was not performed. In Experimental Example 19, the preheating conditions for the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound were 50 ° C. and 16 hours. In Experimental Example 20, the preheating conditions for the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound were 50 ° C. and 8 hours.

(実験例22〜24)
表3に示したように、実験例6において、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を、マイクロカプセル化2−フェニル−4−メチルイミダゾール誘導体エポキシ化合物とした。この化合物の平均粒径およびカプセル膜材厚を変えて異方導電性接着剤フィルムを得た。なお、実験例23および24では、エポキシ樹脂の配合比を実験例6と異なるものとした。実験例23では、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の予備加熱を行わなかった。また、実験例22では、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の予備加熱条件を、50℃、8hrとした。また、実験例24では、マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の予備加熱条件を、50℃、16hrとした。
(Experimental Examples 22-24)
As shown in Table 3, in Experimental Example 6, the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound was a microencapsulated 2-phenyl-4-methylimidazole derivative epoxy compound. An anisotropic conductive adhesive film was obtained by changing the average particle size and capsule membrane thickness of this compound. In Experimental Examples 23 and 24, the compounding ratio of the epoxy resin was different from that in Experimental Example 6. In Experimental Example 23, the pre-heating of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound was not performed. In Experimental Example 22, the preheating conditions for the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound were 50 ° C. and 8 hours. In Experimental Example 24, the preheating conditions for the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound were 50 ° C. and 16 hours.

以上の実験例で作成した接着剤の配合量および評価結果を表1〜表3に示す。表1〜表3中の評価項目は、それぞれ以下の方法で測定した。   Tables 1 to 3 show the blending amounts and evaluation results of the adhesives created in the above experimental examples. The evaluation items in Tables 1 to 3 were measured by the following methods, respectively.

樹脂フロー係数
作製した異方導電性接着剤フィルムをガラス基板上に貼付した。そして、異方導電性接着剤フィルムの上に別のガラス基板を配設し、7MPaにて170℃まで10秒間で昇温した。そして、加熱加圧前後の面積比を算出し、樹脂フロー係数とした。
Resin flow coefficient The produced anisotropic conductive adhesive film was stuck on a glass substrate. And another glass substrate was arrange | positioned on an anisotropic conductive adhesive film, and it heated up to 170 degreeC at 10 MPa for 10 second. And the area ratio before and behind heat-pressing was computed, and it was set as the resin flow coefficient.

反応率
各実験例に係る異方導電性接着剤フィルムにおいて、下記(i)〜(iii)の3つを測定サンプルとして用いた。
(i)未硬化の異方導電性接着剤シート(生フィルム)、
(ii)生フィルムをオーブン中で180℃にて1hr硬化させて得られる完全硬化フィルム、
(iii)170℃×10秒接続条件下のフィルム。
Reaction Rate In the anisotropic conductive adhesive film according to each experimental example, the following three (i) to (iii) were used as measurement samples.
(I) an uncured anisotropic conductive adhesive sheet (raw film),
(Ii) a fully cured film obtained by curing a raw film in an oven at 180 ° C. for 1 hour,
(Iii) A film under a connecting condition of 170 ° C. × 10 seconds.

各サンプルのFTIR測定を行った。得られたIRチャートから、
(I)914cm-1:エポキシ環の逆対象伸縮振動、および
(II)829cm-1:芳香環のC−H間界面外変角振動、
2つのピークを数値化し、各試料について、
吸光度比=(I)/(II)
を求め、得られた吸光度比を用いて下記式で示される反応率を算出した。
反応率(%)=(1−(iii)の吸光度比/(i)の吸光度比)/(1−(ii)の吸光度比/(i)の吸光度比)×100
FTIR measurement of each sample was performed. From the obtained IR chart,
(I) 914 cm −1 : inverse target stretching vibration of epoxy ring, and (II) 829 cm −1 : C-H interfacial variable angular vibration of aromatic ring,
Two peaks are digitized and for each sample,
Absorbance ratio = (I) / (II)
And the reaction rate represented by the following formula was calculated using the obtained absorbance ratio.
Reaction rate (%) = (1− (iii) absorbance ratio / (i) absorbance ratio) / (1− (ii) absorbance ratio / (i) absorbance ratio) × 100

タック
直径5mmのプローブを有するタックテスタを用いて、30℃における異方導電性接着剤シートの表面タック力を測定した。
Tack The surface tack force of the anisotropic conductive adhesive sheet at 30 ° C. was measured using a tack tester having a probe with a diameter of 5 mm.

マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物のトルエン中での粘度変化
トルエン1重量部中にマイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物および使用したエポキシ樹脂成分を表の配合比で配合した混合物4重量部を分散させた溶液の粘度を回転粘度計(E型粘度計、50rpm)で25℃にて測定し、初期粘度に対する40℃で90分間放置した後の粘度の比を算出した。
Viscosity change in toluene of microencapsulated imidazole derivative epoxy compound Solution in which 4 parts by weight of a mixture in which microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and used epoxy resin component were blended at a blending ratio shown in the table were dispersed in 1 part by weight of toluene. Was measured with a rotational viscometer (E-type viscometer, 50 rpm) at 25 ° C., and the ratio of the viscosity after standing at 40 ° C. for 90 minutes with respect to the initial viscosity was calculated.

接着強度、接続信頼性、保存性測定用サンプルの作製
被着体は銅箔/ポリイミド=8μm/38μmに、Ni/Auメッキを施した2層FPC(ピッチ50μm、端子数400本)とITO(インジウム/錫酸化物)ベタガラスを用いた。これらの被着体を、各実験例または実験例で得られた異方導電性接着剤フィルムにより接合した。
Preparation of samples for measuring adhesive strength, connection reliability, and storage stability The adherend was a copper foil / polyimide = 8 μm / 38 μm, Ni / Au plated two-layer FPC (pitch 50 μm, number of terminals 400) and ITO ( Indium / tin oxide) solid glass was used. These adherends were joined by the anisotropic conductive adhesive film obtained in each experimental example or experimental example.

接着強度
3MPaにて170℃まで10秒間で昇温する条件で圧着し、引っ張り速度50mm/分で90度剥離試験によって評価を行った。サンプル作製直後の接着力を測定した。
Bonding strength was bonded under the condition that the temperature was raised to 170 ° C. for 10 seconds at 3 MPa, and evaluation was performed by a 90-degree peel test at a pulling speed of 50 mm / min. The adhesive force immediately after sample preparation was measured.

接続信頼性
3MPaにて170℃まで10秒間で昇温する条件で圧着し、サンプル作製直後(初期)および温度85℃、湿度85%にて1000時間放置後の隣接端子間の接続抵抗を2端子法により測定した。接触抵抗10.0Ω未満を○(導通良好)、10.0Ω以上を×(導通不良)とした。
Connection reliability Crimping is performed under the condition that the temperature is increased to 170 ° C. for 10 seconds at 3 MPa, and the connection resistance between adjacent terminals immediately after sample preparation (initial) and after leaving for 1000 hours at 85 ° C. and 85% humidity is 2 terminals. Measured by the method. A contact resistance of less than 10.0Ω was evaluated as ◯ (good conduction) and 10.0Ω or more as x (defective conduction).

保存性
異方導電性接着剤を25℃の雰囲気中に2週間放置後、3MPaにて170℃まで10秒間で昇温する条件で圧着し、接続抵抗を測定した。10.0Ω未満を○(保存性良好)、10.0Ω以上を×(保存性不良)とした。
Preservability The anisotropic conductive adhesive was allowed to stand in an atmosphere at 25 ° C. for 2 weeks, and then pressure-bonded at 3 MPa to 170 ° C. for 10 seconds, and the connection resistance was measured. A value of less than 10.0Ω was evaluated as ◯ (good storage stability) and a value of 10.0Ω or more was evaluated as × (defective storage stability).

Figure 0003947532
Figure 0003947532

Figure 0003947532
Figure 0003947532

Figure 0003947532
Figure 0003947532

表1〜表3より、所定の平均粒径およびカプセル膜材厚を有する潜在硬化剤に対して40℃で2日間以上の低温長時間の予備加熱を行うことにより、低温短時間硬化性および保存安定性の両方が良好な異方導電性接着剤フィルムが得られることがわかった。   From Tables 1 to 3, low-temperature short-time curability and storage are achieved by preheating the latent curing agent having a predetermined average particle diameter and capsule membrane material thickness at 40 ° C. for two days or longer at a low temperature for a long time. It was found that an anisotropic conductive adhesive film with good stability was obtained.

また、実験例1〜16に係る異方導電性接着剤フィルムを用いてLCDパネルとCOFを接続し、表示装置部材を得た。異方導電性接着剤フィルムの接着条件は、3MPaにて170℃まで10秒間で昇温する条件とした。得られた表示装置部材に、電源、バックライトなどの周辺部材を設けて液晶表示装置を得た。   Moreover, the LCD panel and COF were connected using the anisotropic conductive adhesive film which concerns on Experimental Examples 1-16, and the display apparatus member was obtained. The bonding conditions of the anisotropic conductive adhesive film were such that the temperature was raised to 170 ° C. at 3 MPa for 10 seconds. The obtained display device member was provided with peripheral members such as a power source and a backlight to obtain a liquid crystal display device.

得られた液晶表示装置においては、LCDパネルとCOFとの良好な接着性が得られた。これより、実験例1〜16に係る異方導電性接着剤フィルムは、出力用の異方導電性接着剤フィルムとして好適に利用できることがわかった。
本発明は、以下の態様とすることもできる。
(1)(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下であり、40℃3日間放置後のタックが放置前のタックの70%以上であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
(1)の異方導電性接着剤フィルムは、樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下であるため、低温で速やかに硬化する。また、40℃3日間放置後のタックが保存前のタックの70%以上と充分に大きく、保存安定性に優れる。このため、低温短時間硬化性および保存安定性にすぐれた構成となっている。
(2)(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、
樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下であり、40℃3日間放置後の樹脂フロー係数が放置前の樹脂フロー係数の70%以上であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
(2)の異方導電性接着剤フィルムは、樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下であるため、低温で速やかに硬化する。また、40℃3日間放置後の樹脂フロー係数が保存前の樹脂フロー係数の70%以上と充分に大きく、保存安定性に優れる。このため、低温短時間硬化性および保存安定性にすぐれた構成となっている。
(3)(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下であり、前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とトルエンとを混合した混合物を40℃にて90分間放置した後の粘度が、放置前の粘度の3倍以下であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
(3)の異方導電性接着剤フィルムは、樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下であるため、低温で速やかに硬化する。また、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とトルエンとを混合した混合物を40℃にて90分間放置した後の粘度が、放置前の粘度の3倍以下であるため、保存による粘度上昇が充分に抑制されている。このため、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の耐溶剤性が充分に確保されている。よって、低温短時間硬化性および保存安定性にすぐれた構成となっている。
(4)(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、3MPaの加圧下、10秒間で170℃まで昇温する加熱加圧条件下で圧着した際の反応率が70%以上であり、40℃3日間放置後のタックが放置前のタックの70%以上であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
(4)の異方導電性接着剤フィルムは、3MPa、170℃、10秒間という加熱加圧条件においても反応率が70%以上と充分に大きく、低温で速やかに硬化する。また、40℃3日間放置後のタックが保存前のタックの70%以上と充分に大きく、保存安定性に優れる。このため、低温短時間硬化性および保存安定性にすぐれた構成となっている。
(5)(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、3MPaの加圧下、10秒間で170℃まで昇温する加熱加圧条件下で圧着した際の反応率が70%以上であり、40℃3日間放置後の樹脂フロー係数が放置前の樹脂フロー係数の70%以上であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
(5)の異方導電性接着剤フィルムは、3MPa、170℃、10秒間という加熱加圧条件においても反応率が70%以上と充分に大きく、低温で速やかに硬化する。また、40℃3日間放置後の樹脂フロー係数が保存前の樹脂フロー係数の70%以上と充分に大きく、保存安定性に優れる。このため、低温短時間硬化性および保存安定性にすぐれた構成となっている。
(6)(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、3MPaの加圧下、10秒間で170℃まで昇温する加熱加圧条件下で圧着した際の反応率が70%以上であり、前記マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とトルエンとを混合した混合物を40℃にて90分間放置した後の粘度が、放置前の粘度の3倍以下であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
(6)の異方導電性接着剤フィルムは、3MPa、170℃、10秒間という加熱加圧条件においても反応率が70%以上と充分に大きく、低温で速やかに硬化する。また、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とトルエンとを混合した混合物を40℃にて90分間放置した後の粘度が、放置前の粘度の3倍以下であるため、保存による粘度上昇が充分に抑制されている。このため、(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の耐溶剤性が充分に確保されている。よって、低温短時間硬化性および保存安定性にすぐれた構成となっている。
In the obtained liquid crystal display device, good adhesion between the LCD panel and the COF was obtained. From this, it turned out that the anisotropic conductive adhesive film which concerns on Experimental Examples 1-16 can be utilized suitably as an anisotropic conductive adhesive film for an output.
This invention can also be set as the following aspects.
(1) (a) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and
(C) Conductive particles
An anisotropic conductive adhesive characterized in that the resin flow coefficient is 1.5 or more and 3.0 or less, and the tack after standing at 40 ° C. for 3 days is 70% or more of the tack before leaving Agent film.
Since the anisotropic conductive adhesive film of (1) has a resin flow coefficient of 1.5 or more and 3.0 or less, it is rapidly cured at a low temperature. Further, the tack after standing at 40 ° C. for 3 days is sufficiently large as 70% or more of the tack before storage, and the storage stability is excellent. For this reason, it has a structure excellent in low-temperature short-time curability and storage stability.
(2) (a) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and
(C) Conductive particles
As an essential component,
An anisotropic conductive adhesive film having a resin flow coefficient of 1.5 or more and 3.0 or less, and a resin flow coefficient after standing at 40 ° C. for 3 days is 70% or more of the resin flow coefficient before standing .
Since the anisotropic conductive adhesive film of (2) has a resin flow coefficient of 1.5 or more and 3.0 or less, it is rapidly cured at a low temperature. Further, the resin flow coefficient after standing at 40 ° C. for 3 days is sufficiently large as 70% or more of the resin flow coefficient before storage, and the storage stability is excellent. For this reason, it has a structure excellent in low-temperature short-time curability and storage stability.
(3) (a) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and
(C) Conductive particles
As an essential component, the resin flow coefficient is 1.5 or more and 3.0 or less, and the mixture of (b) the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and toluene is allowed to stand at 40 ° C. for 90 minutes. An anisotropic conductive adhesive film characterized by having a viscosity of 3 times or less of that before standing.
Since the anisotropic conductive adhesive film of (3) has a resin flow coefficient of 1.5 or more and 3.0 or less, it is rapidly cured at a low temperature. In addition, (b) the viscosity after leaving the mixture of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and toluene for 90 minutes at 40 ° C. is not more than 3 times the viscosity before leaving, so the viscosity increase due to storage Sufficiently suppressed. For this reason, the solvent resistance of (b) the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is sufficiently ensured. Therefore, it has a configuration excellent in low-temperature short-time curability and storage stability.
(4) (a) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and
(C) Conductive particles
Is an essential component, and the reaction rate is 70% or more when pressure-bonded under a pressure of 3 MPa and heated to a pressure of 170 ° C. in 10 seconds. The tack after leaving at 40 ° C. for 3 days is not allowed to stand. An anisotropic conductive adhesive film characterized by being 70% or more of the tack of the above.
The anisotropic conductive adhesive film (4) has a sufficiently high reaction rate of 70% or more even under heat and pressure conditions of 3 MPa, 170 ° C., and 10 seconds, and cures rapidly at a low temperature. Further, the tack after standing at 40 ° C. for 3 days is sufficiently large as 70% or more of the tack before storage, and the storage stability is excellent. For this reason, it has a structure excellent in low-temperature short-time curability and storage stability.
(5) (a) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and
(C) Conductive particles
As a required component, the reaction rate when pressure-bonded under a pressure of 3 MPa under a heating and pressurizing condition where the temperature is raised to 170 ° C. in 10 seconds is 70% or more, and the resin flow coefficient after standing at 40 ° C. for 3 days is An anisotropic conductive adhesive film characterized by being 70% or more of a resin flow coefficient before being left.
The anisotropic conductive adhesive film of (5) has a sufficiently high reaction rate of 70% or more even under heat and pressure conditions of 3 MPa, 170 ° C., and 10 seconds, and cures quickly at low temperatures. Further, the resin flow coefficient after standing at 40 ° C. for 3 days is sufficiently large as 70% or more of the resin flow coefficient before storage, and the storage stability is excellent. For this reason, it has a structure excellent in low-temperature short-time curability and storage stability.
(6) (a) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and
(C) Conductive particles
As an essential component, the reaction rate when pressure-bonded under a pressure of 3 MPa and heated and pressurized to 10O 0 C in 10 seconds is 70% or more, and the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and toluene An anisotropic conductive adhesive film characterized in that the viscosity of the mixture obtained by leaving the mixture at 90 ° C. for 90 minutes is not more than 3 times the viscosity before standing.
The anisotropic conductive adhesive film of (6) has a sufficiently high reaction rate of 70% or more even under heat and pressure conditions of 3 MPa, 170 ° C., and 10 seconds, and cures quickly at a low temperature. In addition, (b) the viscosity after leaving the mixture of the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and toluene at 90 ° C. for 90 minutes is not more than 3 times the viscosity before leaving, so the viscosity increase due to storage It is sufficiently suppressed. For this reason, the solvent resistance of (b) the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is sufficiently ensured. Therefore, it has a configuration excellent in low-temperature short-time curability and storage stability.

本発明の表示装置の構成の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of a structure of the display apparatus of this invention. 図1のA−A’断面図である。It is A-A 'sectional drawing of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

11 LCDパネル
12 TCP
13 PCB
14 異方導電性接着剤
15 導電粒子
16 接着剤樹脂
17 ITO電極
18 TCP電極
11 LCD panel 12 TCP
13 PCB
14 Anisotropic conductive adhesive 15 Conductive particles 16 Adhesive resin 17 ITO electrode 18 TCP electrode

Claims (10)

(a)エポキシ樹脂、
(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物、および
(c)導電性粒子
を必須成分として含み、
フィルム形成前に、前記(a)エポキシ樹脂との混合物として35℃以上60℃以下の温度条件下で2日以上加熱された前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物を含むことを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
(A) epoxy resin,
(B) a microencapsulated imidazole derivative epoxy compound, and (c) conductive particles as essential components,
Before film formation, and characterized in that it comprises the (a) mixture 2 days or more heated the at a temperature of 35 ° C. or higher 60 ° C. or less as the epoxy resins (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound An anisotropic conductive adhesive film.
請求項1に記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、
樹脂フロー係数が1.5以上3.0以下であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
In the anisotropic conductive adhesive film according to claim 1,
An anisotropic conductive adhesive film having a resin flow coefficient of 1.5 or more and 3.0 or less.
請求項1に記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、
3MPaの加圧下、10秒間で170℃まで昇温する加熱加圧条件下で圧着した際の反応率が70%以上であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
In the anisotropic conductive adhesive film according to claim 1,
An anisotropic conductive adhesive film having a reaction rate of 70% or more when pressure-bonded under a pressure of 3 MPa and heated and pressurized under a pressure of 3 MPa for 10 seconds.
請求項1に記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、
40℃3日間放置後のタックが放置前のタックの70%以上であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
In the anisotropic conductive adhesive film according to claim 1,
An anisotropic conductive adhesive film characterized in that the tack after standing at 40 ° C for 3 days is 70% or more of the tack before leaving.
請求項1に記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、
40℃3日間放置後の樹脂フロー係数が放置前の樹脂フロー係数の70%以上であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
In the anisotropic conductive adhesive film according to claim 1,
An anisotropic conductive adhesive film, wherein the resin flow coefficient after standing at 40 ° C. for 3 days is 70% or more of the resin flow coefficient before standing.
請求項1に記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、
前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物とトルエンとを混合した混合物を40℃にて90分間放置した後の粘度が、放置前の粘度の3倍以下であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
In the anisotropic conductive adhesive film according to claim 1,
The anisotropic conductivity characterized in that the viscosity after leaving the mixture of (b) the microencapsulated imidazole derivative epoxy compound and toluene for 90 minutes at 40 ° C. is not more than 3 times the viscosity before standing Adhesive film.
請求項1乃至6いずれかに記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物の平均粒径が0.1μm以上3μm以下であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。   The anisotropic conductive adhesive film according to any one of claims 1 to 6, wherein the average particle size of the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound is 0.1 µm or more and 3 µm or less. Conductive adhesive film. 請求項1乃至7いずれかに記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、前記(b)マイクロカプセル化イミダゾール誘導体エポキシ化合物のマイクロカプセル壁材膜の厚さが0.001μm以上0.3μm以下であることを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。   8. The anisotropic conductive adhesive film according to claim 1, wherein the microcapsule wall material film of the (b) microencapsulated imidazole derivative epoxy compound has a thickness of 0.001 μm to 0.3 μm. An anisotropic conductive adhesive film characterized by that. 請求項1乃至8いずれかに記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、
(d)ニトリル基とエポキシ基を有するエラストマー
をさらに含むことを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。
In the anisotropic conductive adhesive film according to any one of claims 1 to 8,
(D) An anisotropic conductive adhesive film further comprising an elastomer having a nitrile group and an epoxy group.
請求項1乃至9いずれかに記載の異方導電性接着剤フィルムにおいて、前記(a)エポキシ樹脂は、ナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂を含むことを特徴とする異方導電性接着剤フィルム。   10. The anisotropic conductive adhesive film according to claim 1, wherein the (a) epoxy resin includes an epoxy resin having a naphthalene skeleton. 11.
JP2004202388A 2004-07-08 2004-07-08 Anisotropic conductive adhesive film Expired - Fee Related JP3947532B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004202388A JP3947532B2 (en) 2004-07-08 2004-07-08 Anisotropic conductive adhesive film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004202388A JP3947532B2 (en) 2004-07-08 2004-07-08 Anisotropic conductive adhesive film

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006155884A Division JP4730215B2 (en) 2006-06-05 2006-06-05 Anisotropic conductive adhesive film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006022230A JP2006022230A (en) 2006-01-26
JP3947532B2 true JP3947532B2 (en) 2007-07-25

Family

ID=35795743

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004202388A Expired - Fee Related JP3947532B2 (en) 2004-07-08 2004-07-08 Anisotropic conductive adhesive film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3947532B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012031253A (en) * 2010-07-29 2012-02-16 Sumitomo Electric Ind Ltd Conductive film adhesive

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102325430A (en) * 2006-04-24 2012-01-18 日立化成工业株式会社 Adhesive tape
JP2008094908A (en) * 2006-10-10 2008-04-24 Sumitomo Electric Ind Ltd Adhesive for electrode connection
JP2008138182A (en) * 2006-11-02 2008-06-19 Hitachi Chem Co Ltd Circuit connecting material
KR101189622B1 (en) 2008-06-25 2012-10-10 주식회사 엘지화학 Anisotropic conductive adhesive comprising anthracene type epoxy resin and circuit connection structure using the same
JP6542526B2 (en) * 2014-11-12 2019-07-10 デクセリアルズ株式会社 Thermosetting adhesive composition, and thermosetting adhesive sheet
JP7386773B2 (en) * 2015-03-20 2023-11-27 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive adhesive, connected structure, anisotropic conductive connection method, and method for manufacturing connected structure
JP2016178225A (en) * 2015-03-20 2016-10-06 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive connection structure, anisotropic conductive connection method, and anisotropic conductive adhesive
WO2018092452A1 (en) * 2016-11-18 2018-05-24 住友電気工業株式会社 Adhesive composition and printed wiring board

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012031253A (en) * 2010-07-29 2012-02-16 Sumitomo Electric Ind Ltd Conductive film adhesive

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006022230A (en) 2006-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7736541B2 (en) Anisotropic conductive adhesive
US7588698B2 (en) Circuit connecting adhesive
EP2377903A1 (en) Film adhesive and anisotropic conductive adhesive
JP2007224228A (en) Circuit-connecting material, connection structure of circuit terminal, and method for connecting circuit terminal
JP3947532B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film
JP2017020047A (en) Adhesive film, connection structure for circuit member and connection method for circuit member
JP2002201450A (en) Adhesive composition, connecting method of circuit terminal using the same, and connected structure of circuit terminal
JP4730215B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film
JP4113191B2 (en) Electronic equipment using anisotropic conductive film
JP2002327162A (en) Anisotropically conductive adhesive composition, method for connecting circuit terminal and connection structure of the circuit terminal
JP3391870B2 (en) Anisotropic conductive film
JPH11209713A (en) Anisotropically electroconductive adhesive
JP2008308682A (en) Circuit connection material
JP2500826B2 (en) Anisotropic conductive film
JP3981341B2 (en) Anisotropic conductive adhesive
JP2000021236A (en) Anisotropic conductive resin composition
KR101955749B1 (en) Composition for use of an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive film thereof and a semiconductor device using the same
JP2010024384A (en) Anisotropically electroconductive composition
JP4055583B2 (en) Adhesive composition for circuit connection, circuit terminal connection method using the same, and circuit terminal connection structure
JP2009161684A (en) Adhesive composition for use in circuit connection, and connection structure of circuit member and connecting method of circuit member by using the adhesive composition
JP2005317491A (en) Conductive paste and electronic component mounting substrate using it
JPH08185713A (en) Anisotropic conductive film
JP2003183609A (en) Anisotropic electroconductive adhesive
CN107848283B (en) Anisotropic conductive film and display device using the same
KR20030086450A (en) Adhesive for Bonding Circuit and Circuit Board Connected by Using the Same

Legal Events

Date Code Title Description
A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20051124

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20051221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060404

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060605

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070116

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070315

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070410

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070413

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110420

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120420

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120420

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130420

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140420

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees