KR20120027985A - 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔-안테나 조립체 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법에 관한 것으로, 해결하고자 하는 기술적 과제는 전기 에너지 조절을 통한 레이돔 내 유전체의 유전율을 조절하여 전자파가 레이돔을 통과하는 속도를 국부적으로 조절함으로써 안테나의 각 복사소자로 수신되는 빔의 위상을 조절할 수 있는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법을 제공하는데 있다.
이를 위해 본 발명에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔은 복수개의 복사소자로 이루어지는 위상 배열 안테나를 커버하는 레이돔에 있어서, 상기 레이돔은 전기 에너지의 변화에 따라 유전율을 조절할 수 있는 강유전체로 이루어지되, 상기 레이돔의 굴곡면을 따라 상기 강유전체의 유전율을 조절하여 전자파의 진행속도를 조절하는 것을 특징으로 한다.

Description

위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법{RADOME FOR COMPENSATING INSERTION PHASE DELAY OF PHASE ARRAY ANTENNA AND METHOD FOR COMPENSATING INSERTION PHASE DELAY IN USING SAME}
본 발명은 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법에 관한 것으로서 레이돔의 굴곡면에서 필연적으로 발생하게 되는 삽입 위상 지연의 변이를 레이돔 자체에서 보상할 수 있는 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법에 관한 것이다.
영상 레이더의 운용시 송수신되는 전자파 펄스의 위상정보는 최종 생성 영상의 해상도를 결정하기 때문에 펄스 송수신시 그 위상의 오차를 줄이는 것이 무엇보다 중요하다.
이에 덧붙여 기존의 접시형 안테나와는 달리 최근 각광받고 있는 위상 배열 안테나의 경우 복수개의 복사소자를 구성하고 각 복사소자로 전자파가 송수신되어 최종적인 합성 빔패턴을 만들어 내기 때문에 각 복사소자로 수신되는 전자파의 위상오차를 최소한으로 줄이는 것이 절대적으로 요구된다.
이러한 레이더의 위상오차 발생원인은 송수신기 내 각종 초고주파 부품의 위상오차, 안테나의 제작 공차에 기인한 오차 및 전자파가 레이돔을 투과하면서 발생하게 되는 위상오차 등을 들 수 있다.
이 중 레이돔에서 발생하는 위상오차에 대해 보다 상세히 살펴보면, 이상적인 레이돔의 경우 전자파 투과시 성능에 아무런 영향을 끼쳐서는 안되지만, 실제 레이돔은 전자파가 통과할 경우 전자파 위상의 지연 문제를 발생시킨다.
특히, 이와 같은 문제는 전자파가 레이돔의 굴곡진 부분을 통과할 경우 심하게 나타나는데, 이는 평면파 형태의 수신 전자파가 두께가 실질적으로 달라지는 레이돔을 통과할 때 나타나는 현상이기 때문에 이에 대한 적절한 보상이 필요하다.
한편, 레이돔은 안테나가 비행체에 장착되어 운용될 경우 비행체의 안정적인 비행에 영향을 최소화함과 동시에 비행시 겪게 되는 격한 외부 환경으로부터 안테나를 적절히 보호하기 위해 설치된다.
따라서 모든 레이돔은 기계적인 강건함이 요구됨과 동시에 전기적으로는 안테나가 운용되는 주파수 범위에서 안테나의 전파 송수신 성능에 아무런 영향을 주지 않아야 하는 전기적인 투명성(transparency)이 요구된다.
그러나 현실적으로 완벽한 레이돔의 구현은 불가능하며, 거의 모든 레이돔의 경우 구조 강건성을 위해 유전체로 구현하며 복수개의 유전체 층을 삽입하여 전자파 투과 성능을 최대화 한다.
상기 유전체로 구성된 레이돔의 경우 전자파가 투과할 경우 필연적으로 전자파의 위상지연이 발생하게 되는데 이는 유전율이 서로 다른 두 개의 매질을 전자파가 진행할 때 겪게 되는 위상속도의 차이인 [수학식 1]에 기인한다.
Figure pat00001
(υ:유전체 내의 전자파의 위상속도, c:자유공간에서 전자파의 속도 εr:유전체의 상대 유전율)
도 1은 곡면 형태의 레이돔에 발생되는 국부적 위상 오차를 나타내는 도이다.
이러한 위상속도의 차이에 기인한 안테나 성능에의 영향은 안테나가 여러개의 배열로 이루어진 위상 배열 안테나에서 레이돔의 굴곡이 심한 부분을 안테나 빔이 투과할 때 그 영향이 현저하게 나타나는데, 그 이유는 도 1에 도시된 바와 같이, 위상 배열 안테나의 경우 각 배열 소자(200)에서 겪게되는 위상의 오차가 누적되어 전체 안테나의 성능에 영향을 주기 때문이고, 레이돔(100)의 굴곡이 심한 경우 빔의 수신 위치에 따른 위상 지연차가 커지기 때문이다.
도 2는 레이돔의 두께 조절을 통한 위상 배열 안테나의 위상 오차를 보상하는 모습을 나타내는 도이다.
이러한 위상오차를 보상하기 위하여 도 2에 도시된 바와 같이, 굴곡면에서 레이돔(100)의 두께를 조절함으로써 실질적으로 전자파(300)가 투과하는 거리를 조절하여 오차를 보상할 수 있는데, 상기한 레이돔(100)의 두께 조절을 통한 위상 오차 보상 방법은 알기 쉬우며 직접적인 장점이 있으나, 기계적인 가공을 수행할 경우 필연적으로 생기게 되는 기계적인 공차를 보상할 수 없다는 문제점이 있고, 수신되는 빔의 방향이 바뀌게 되어 제작된 레이돔의 특성을 바꾸려면 재설계와 재제작이 반드시 필요한 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 과제를 해결하기 위해 발명된 것으로, 전기 에너지 조절을 통한 레이돔 내 유전체의 유전율을 조절하여 전파가 레이돔을 통과하는 속도를 국부적으로 조절함으로써 안테나의 각 복사소자로 수신되는 빔의 위상을 조절할 수 있는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은 전기적으로 위상을 조절함으로써 종래의 레이돔 두께 조절을 통한 삽입 위상 지연 보상 방법보다 재설계가 용이하고, 기계적인 가공오차 문제를 해결할 수 있으며, 전기 에너지 조절을 통한 위상 미세 조절이 가능한 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법을 제공하는데 있다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔은 복수개의 복사소자로 이루어지는 위상 배열 안테나를 커버하는 레이돔에 있어서, 상기 레이돔은 전기 에너지의 변화에 따라 유전율을 조절할 수 있는 강유전체로 이루어지되, 상기 레이돔의 굴곡면을 따라 상기 강유전체의 유전율을 조절하여 전자파의 진행속도를 조절하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 레이돔 외부에서 전자기파를 국부적으로 인가하여 해당 부분의 강유전체의 유전율을 조절할 수 있다.
또한, 상기 레이돔 전체 표면에 패치 형태의 전극을 설치하여 해당 전극을 통한 전압 조절에 의해 강유전체의 유전율을 조절할 수 있다.
또한, 상기 강유전체는 Pb-계 강유전체로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 강유전체는 Pb(Zr1-x Tix)03 또는 (Pb,La)(Zr,Ti)03로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 강유전체는 텅스텐 브론즈형 강유전체로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 강유전체는 (Sr1-x,Bax)Nb206(SBN), Ba(Zr,Ti)03(BZT) 또는 Ba(Sn,Ti)03(BTS)로 이루어질 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법은 복수개의 복사소자로 이루어지는 위상 배열 안테나에 강유전체로 이루어진 레이돔을 커버하여 레이돔-안테나 조립체를 형성하는 제 1단계와, 상기 레이돔에 전기 에너지를 인가하여 상기 레이돔의 굴곡면을 따라 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 제 2단계 및 상기 강유전체의 조절된 유전율에 의해 상기 레이돔을 투과하는 전자파의 진행속도가 조절되어 전자파의 삽입 위상 지연의 변이를 최소화하는 제 3단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 2단계는 상기 레이돔의 외부에 복수의 전자기파 발생기를 설치하는 전자기파 발생기 설치공정 및 상기 전자기파 발생기를 통해 상기 레이돔에 전자기파를 인가하여 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 전자기파 인가공정을 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 2단계는 상기 레이돔의 표면에 패치 형태의 전극을 설치하는 전극 설치 공정 및 상기 전극에 전압을 인가하여 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 전압 인가 공정을 포함할 수 있다.
상기한 바와 같이 본 발명에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법에 의하면, 전기 에너지 조절을 통한 레이돔 내 유전체의 유전율을 조절하여 전자파가 레이돔을 통과하는 속도를 국부적으로 조절함으로써 안테나의 각 복사소자로 수신되는 빔의 위상을 조절할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 전기적으로 위상을 조절함으로써 종래의 레이돔 두께 조절을 통한 삽입 위상 지연 보상 방법보다 재설계가 용이하고, 기계적인 가공오차 문제를 해결할 수 있으며, 전기 에너지 조절을 통한 위상 미세 조절이 가능한 효과가 있다.
도 1은 곡면 형태의 레이돔에 발생되는 국부적 위상 오차를 나타내는 도.
도 2는 레이돔의 두께 조절을 통한 위상 배열 안테나의 위상 오차를 보상하는 모습을 나타내는 도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이돔을 이용하여 외부에서 인가되는 전자기파의 크기 조절을 통하여 유전율을 국부적으로 변화시키는 모습을 나타내는 도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이돔의 외부에서 전자기파를 국부적으로 인가하여 해당 부분의 유전율을 조절하는 모습을 나타내는 도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이돔의 전체 표면에 패치 형태의 전극을 설치하여 해당 전극을 통한 전압 조절에 의해 유전체의 유전율을 조절하는 모습을 나타내는 도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법의 블록도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법 중 제 2단계의 일 블록도.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법 중 제 2단계의 다른 블록도.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 우선, 도면들 중 동일한 구성요소 또는 부품들은 가능한 한 동일한 참조부호를 나타내고 있음에 유의해야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 모호하게 하지 않기 위해 생략한다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이돔을 이용하여 외부에서 인가되는 전자기파의 크기 조절을 통하여 유전율을 국부적으로 변화시키는 모습을 나타내는 도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔은 도 3에 도시된 바와 같이, 전기 에너지의 변화에 따라 유전율을 조절할 수 있는 강유전체(ferroelectric material)로 이루어지며, 복수개의 복사소자(200)로 이루어지는 위상 배열 안테나를 커버하여 레이돔-안테나 조립체를 형성한다.
일반적으로 위상 배열 안테나에 레이돔(100)을 장착하였을 때 레이돔(100)의 굴곡면에서는 필연적으로 삽입 위상 지연(insertion phase delay,IPD)의 변이(variation)가 발생하게 된다.
상기와 같은 IPD를 보상하기 위해 본 발명에서는 레이돔(100) 자체에서 보상하는 방법으로 상기 레이돔(100)의 굴곡면을 따라 상기 강유전체의 유전율을 조절하고 이에 따라 전자파(300)의 진행속도를 조절함으로써 최종적으로 안테나의 각 복사소자(200)로 수신되는 빔의 위상을 조절할 수 있다.
본 발명의 레이돔(100)에 사용되는 강유전체는 외부에서 인가되는 전기장이 없어도 자발 분극을 가질 수 있는 Pb-계 강유전체인 Pb(Zr1-x Tix)03 또는 (Pb,La)(Zr,Ti)03 등으로 이루어지거나, 텅스텐 브론즈형 강유전체인 (Sr1-x,Bax)Nb206(SBN), Ba(Zr,Ti)03(BZT) 또는 Ba(Sn,Ti)03(BTS) 등으로 이루어질 수 있으며, 외부에서 인가되는 전기장에 의해 그 상대 유전율(relative permittivity)은 [수학식 2]와 같이 변화하는 특징을 가진다.
Figure pat00002
(ε:유전율, P:분극의 세기, E:외부 전기장의 세기)
상술한 바와 같이, 강유전체로 이루어진 레이돔(100)의 굴곡면을 따라 강유전체의 유전율을 조절하여 전자파의 속도를 조절할 수 있는데, 구체적으로, 레이돔(100)으로 입사한 평면파가 굴곡이 있는 레이돔(100)을 통과한 이후에도 위상 배열 안테나의 각 소자(200)에 레이돔이 없었을 때의 위상으로 입사할 수 있도록 조절할 수 있다.
즉, 전자파(300)의 속도를 늦춰야 하는 부분은 상대적으로 높은 유전율을 갖도록 강유전체에 그에 해당하는 전기적 에너지를 인가하고, 전자파(300)의 속도 감쇄가 크게 요구되지 않는 부분은 상대적으로 낮은 유전율을 갖도록 그에 해당하는 에너지를 인가함으로써 전자파(300)의 속도를 조절할 수 있으며, 이를 통해 레이돔(100)을 투과할 때 생기게 되는 위상 지연의 변이를 최소화할 수 있다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이돔의 외부에서 전자기파를 국부적으로 인가하여 해당 부분의 유전율을 조절하는 모습을 나타내는 도이다.
본 발명에 따른 레이돔(100)에 국부적인 전기 에너지를 인가하여 레이돔(100)을 이루는 강유전체의 유전율을 조절하기 위한 일 방법으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 레이돔(100) 외부에 복수의 전자기파 발생기(400)를 설치하고, 상기 전자기파 발생기(400)를 통해 전자기파를 국부적으로 인가하여 해당 부분의 강유전체의 유전율을 조절할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이돔의 전체 표면에 패치 형태의 전극을 설치하여 해당 전극을 통한 전압 조절에 의해 유전체의 유전율을 조절하는 모습을 나타내는 도이다.
또한, 본 발명에 따른 레이돔(100)에 국부적인 전기 에너지를 인가하여 레이돔(100)을 이루는 강유전체의 유전율을 조절하기 위한 다른 방법으로, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 레이돔(100) 전체 표면에 패치 형태의 전극(500)을 설치하여 해당 전극(500)을 통한 전압 조절에 의해 강유전체의 유전율을 조절할 수 있다.
구체적으로, 상기 레이돔(100) 표면에 설치된 전극(500)에 적절한 전압을 국부적으로 인가한 뒤 인가된 전압의 크기조절을 통하여 레이돔(100) 내 강유전체의 유전율을 조절하여 레이돔(100)을 통과하는 전자파의 속도를 국부적으로 조절함으로써 최종적으로 안테나의 각 복사소자(200)로 수신되는 빔의 위상을 조절할 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법을 상세히 설명한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법의 블록도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법은 도 6에 도시된 바와 같이, 제 1단계(S10)와 제 2단계(S20) 및 제 3단계(S30)를 포함한다.
상기 제 1단계(S10)는 도 3에 도시된 바와 같이, 복수개의 복사소자(200)로 이루어지는 위상 배열 안테나에 강유전체로 이루어진 레이돔(100)을 커버하여 레이돔-안테나 조립체를 형성하는 단계이다.
상기 제 2단계(S20)는 상기 레이돔(100)에 전기 에너지를 인가하여 상기 레이돔(100)의 굴곡면을 따라 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 단계이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법 중 제 2단계의 일 블록도이다.
구체적으로, 상기 제 2단계(S20)는 도 7에 도시된 바와 같이, 전자기파 발생기 설치공정(S21) 및 전자기파 인가공정(S22)을 포함할 수 있다.
상기 전자기파 발생기 설치공정(S21)은 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 레이돔(100)의 외부에 복수의 전자기파 발생기(400)를 설치하는 공정이고, 상기 전자기파 인가공정(S22)은 상기 전자기파 발생기(400)를 통해 상기 레이돔(100)에 전자기파를 인가하여 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 공정이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상 방법 중 제 2단계의 다른 블록도이다.
한편, 상기 제 2단계(S20)는 도 8에 도시된 바와 같이, 전극 설치 공정(S21') 및 전압 인가 공정(S22')을 포함할 수 있다.
상기 전극 설치 공정(S21')은 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 레이돔(100)의 표면에 패치 형태의 전극(500)을 설치하는 공정이고, 상기 전압 인가 공정(S22')은 상기 전극(500)에 전압을 인가하여 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 공정이다.
상기 제 3단계(S30)는 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제 2단계(S20)에 의해 조절된 강유전체의 유전율에 의해 상기 레이돔(100)을 투과하는 전자파(300)의 진행속도가 조절되어 전자파(300)의 삽입 위상 지연의 변이를 최소화하는 단계이다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따르면 강유전체로 이루어진 레이돔(100) 외부에 복수로 설치된 전자기파 발생기(400)를 이용하여 상기 레이돔(100)에 전자기파를 국부적으로 인가함으로써 레이돔(100) 내 유전체의 유전율을 조절하거나, 상기 레이돔(100) 표면에 설치된 전극(500)에 적절한 전압을 인가한 뒤 인가된 전압의 크기조절을 통하여 레이돔(100) 내 유전체의 유전율을 조절하여 전자파(300)가 레이돔(100)을 통과하는 속도를 국부적으로 조절함으로써 최종적으로 안테나의 각 복사소자(200)로 수신되는 빔의 위상을 조절할 수 있다.
따라서, 본 발명에 따르면 종래 레이돔의 두께 조절을 통한 IPD 보상 방법 보다 재설계가 용이하며, 기계적인 가공오차 문제의 해결과 동시에 전압 조절을 통한 위상의 미세 조절도 가능한 장점이 있다.
이상과 같이 본 발명에 따른 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔 및 이를 이용한 삽입 위상 지연 보상 방법을 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상 범위내에서 당업자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다.
100:레이돔 200:복사소자
300:전자파 400:전자기파 발생기
500:전극
S10:제 1단계
S20:제 2단계
S21:전자기파 발생기 설치공정
S22:전자기파 인가공정
S21':전극 설치 공정
S22':전압 인가 공정
S30:제 3단계

Claims (10)

  1. 복수개의 복사소자로 이루어지는 위상 배열 안테나를 커버하는 레이돔에 있어서,
    상기 레이돔은 전기 에너지의 변화에 따라 유전율을 조절할 수 있는 강유전체로 이루어지되,
    상기 레이돔의 굴곡면을 따라 상기 강유전체의 유전율을 조절하여 전자파의 진행속도를 조절하는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 레이돔 외부에서 전자기파를 국부적으로 인가하여 해당 부분의 강유전체의 유전율을 조절하는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 레이돔 전체 표면에 패치 형태의 전극을 설치하여 해당 전극을 통한 전압 조절에 의해 강유전체의 유전율을 조절하는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 강유전체는 Pb-계 강유전체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 강유전체는 Pb(Zr1-x Tix)03 또는 (Pb,La)(Zr,Ti)03로 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 강유전체는 텅스텐 브론즈형 강유전체로 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 강유전체는 (Sr1-x,Bax)Nb206(SBN), Ba(Zr,Ti)03(BZT) 또는 Ba(Sn,Ti)03(BTS)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상을 위한 레이돔.
  8. 복수개의 복사소자로 이루어지는 위상 배열 안테나에 강유전체로 이루어진 레이돔을 커버하여 레이돔-안테나 조립체를 형성하는 제 1단계;
    상기 레이돔에 전기 에너지를 인가하여 상기 레이돔의 굴곡면을 따라 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 제 2단계; 및
    상기 강유전체의 조절된 유전율에 의해 상기 레이돔을 투과하는 전자파의 진행속도가 조절되어 전자파의 삽입 위상 지연의 변이를 최소화하는 제 3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상방법.
  9. 제 8항에 있어서,
    상기 제 2단계는,
    상기 레이돔의 외부에 복수의 전자기파 발생기를 설치하는 전자기파 발생기 설치공정; 및
    상기 전자기파 발생기를 통해 상기 레이돔에 전자기파를 인가하여 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 전자기파 인가공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상방법.
  10. 제 8항에 있어서,
    상기 제 2단계는,
    상기 레이돔의 표면에 패치 형태의 전극을 설치하는 전극 설치 공정; 및
    상기 전극에 전압을 인가하여 상기 강유전체의 유전율을 국부적으로 조절하는 전압 인가 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상 배열 안테나의 삽입 위상 지연 보상방법.

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