KR20110137997A - Roll-to-roll chemical bath deposition apparatus - Google Patents

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KR20110137997A KR1020100058056A KR20100058056A KR20110137997A KR 20110137997 A KR20110137997 A KR 20110137997A KR 1020100058056 A KR1020100058056 A KR 1020100058056A KR 20100058056 A KR20100058056 A KR 20100058056A KR 20110137997 A KR20110137997 A KR 20110137997A
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김우삼
황정민
양기열
박춘성
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주식회사 디엠에스
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Abstract

PURPOSE: A roll-to-roll chemical bath deposition apparatus is provided to use a surface contact method instead of a substrate dipping method, thereby applying the roll-to-roll chemical bath deposition apparatus to a roll-to-roll device. CONSTITUTION: A substrate support unit(10) supports successively transferred substrates. A chemical liquid reaction bath(20) stores chemical liquid supplied from a chemical liquid supply bath(50). The chemical liquid supply bath is located in the lower part of the chemical liquid reaction bath. A chemical liquid transfers the chemical liquid of the chemical liquid supply bath to the chemical liquid reaction bath. A rotation unit(70) guides chemical liquid to move from the chemical liquid reaction bath to the chemical liquid supply bath.

Description

롤투롤 씨비디 장치{Roll-to-Roll chemical bath deposition apparatus}Roll-to-Roll chemical bath deposition apparatus

본 발명은 롤투롤 장비의 박막 증착 공정에 사용되는 씨비디 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 연속 이송되는 플랙서블(flexible) 기판상에 박막 증착 공정이 연속 수행될 수 있도록 약액을 순환 이송시킬 수 있는 약액반응조와 약액공급조를 구비함으로써, 기판과 약액의 효과적인 증착 반응을 유도함과 동시에 연속적인 증착 공정 수행을 통해 증착 효율의 향상은 물론 대면적 기판에도 효과적으로 적용할 수 있는 롤투롤 씨비디 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a CD device used in the thin film deposition process of the roll-to-roll equipment, and more specifically, it is possible to circulate and transport the chemical liquid so that the thin film deposition process can be continuously performed on a flexible substrate that is continuously transported. By providing a chemical reaction tank and a chemical solution supply tank, it induces an effective deposition reaction of the substrate and the chemical liquid and at the same time performs a continuous deposition process to improve the deposition efficiency as well as to effectively apply to large-area substrates roll to roll CD device It is about.

일반적으로 씨비디(CBD:Chemical Bath Deposition) 장치는 기판상에 박막을 증착시키는 증착 공정을 수행하기 위한 장비로서, 액상 또는 기체 상태의 약액이 실리콘 웨이퍼나 유리(glass)와 같은 기판과 화학 반응을 하여 기판상에 원하는 박막이 증착되도록 하는 데 사용되는 장비이다.In general, a chemical bath deposition (CBD) device is a device for performing a deposition process for depositing a thin film on a substrate. The liquid or gaseous chemical reacts with a substrate such as a silicon wafer or glass. This is the equipment used to deposit the desired thin film on the substrate.

따라서 씨비디 장치는 일반적으로 웨이퍼나 유리(glass) 또는 폴리머(polymer) 등의 기판상에 다수의 박막층이 적층 형성되는 태양전지(Solar Cell) 등의 제조에 있어서 증착 공정을 수행하는 데 사용되고 있다.Accordingly, the CD device is generally used to perform a deposition process in manufacturing a solar cell or the like in which a plurality of thin film layers are stacked on a substrate such as a wafer, glass, or polymer.

일반적으로 태양전지(Solar Cell)는 빛 에너지를 직접 전기 에너지로 변환하는 반도체 소자의 하나로서, 다결정(poly crystal) 및 단결정(single crystal) 실리콘 태양전지 또는 비정질 실리콘 태양전지와 같은 실리콘계 태양전지와 화합물 반도체 태양전지 등으로 크게 분류된다.In general, a solar cell is a semiconductor device that converts light energy directly into electrical energy, and silicon-based solar cells and compounds, such as polycrystalline and single crystal silicon solar cells or amorphous silicon solar cells. It is largely classified into semiconductor solar cells.

상기와 같은 태양전지는 전력 생산을 위해 다수개의 모듈(module)과 태양전지 패널(panel)로 구성되는 태양전지 어레이(array)를 구성함으로써, 전기 에너지를 발전하게 된다.Such a solar cell generates electric energy by constructing an array of solar cells composed of a plurality of modules and a solar panel for power generation.

여기서 태양전지는 일반적으로 기판상에 배면전극, 광흡수층, 버퍼층, 투명전극층, 반사방지막, 및 그리드 등의 박막층이 적층 형성됨으로써, 하나의 단위 박막을 형성하기 때문에 상기와 같은 박막층을 형성시키기 위한 스퍼터 증착 챔버, 이베퍼 증착 챔버, 버퍼층 증착 챔버, 열처리 챔버 등 각각의 공정을 수행하기 위한 다수의 장비 등이 사용되고 있다.In general, a solar cell is formed by stacking a thin film layer such as a back electrode, a light absorbing layer, a buffer layer, a transparent electrode layer, an antireflection film, and a grid on a substrate, thereby forming a single unit thin film. A plurality of equipments for performing each process, such as a deposition chamber, an evaporator deposition chamber, a buffer layer deposition chamber, and a heat treatment chamber, are used.

따라서 씨비디 장치는 버퍼층 등을 기판상에 증착시키기 위하여 증착 공정에 사용되는 것으로서, 챔버 내에 약액[황화카드뮴(CdS) 용액 등]을 투입한 후, 상기 약액에 기판이 잠기도록 하여 기판상에 버퍼층이 증착되도록 하는 것이다.Therefore, the CD device is used in a deposition process for depositing a buffer layer or the like on a substrate, and a chemical solution (such as a cadmium sulfide (CdS) solution) is introduced into a chamber, and the substrate is immersed in the chemical solution so that the buffer layer is placed on the substrate. Is to be deposited.

이하 종래의 씨비디 장치를 도 1을 참조하여 간략히 설명한다.Hereinafter, a conventional CD device will be briefly described with reference to FIG. 1.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 씨비디 장치는 반응용기(1)와 순환용기(2) 및 무맥동펌프(3)로 구성된다.As shown in FIG. 1, the conventional CD device is composed of a reaction vessel 1, a circulation vessel 2, and a pulsation-free pump 3.

기판(5)은 증착면이 상향 위치함과 동시에 히터(6)에 의해 적정 온도로 가열되도록 반응용기(1) 내부에 로딩된다.The substrate 5 is loaded inside the reaction vessel 1 so that the deposition surface is positioned upward and heated to a proper temperature by the heater 6.

한편 약액(8)은 무맥동펌프(3)에 의해 순환용기(2)로부터 반응용기(1)로 공급된 후, 반응용기(1)에 채워진 상태에서 기판(5)과 화학 반응에 의해 기판(5) 표면에 박막층을 형성하게 되고, 약액(8)은 다시 순환용기(2)로 회수되는 것이다.On the other hand, the chemical liquid 8 is supplied from the circulation vessel 2 to the reaction vessel 1 by the pulsation-free pump 3, and then the substrate 5 is chemically reacted with the substrate 5 in a state filled in the reaction vessel 1. 5) A thin film layer is formed on the surface, and the chemical liquid 8 is recovered to the circulation vessel 2 again.

이때 약액(8)은 화학적 반응에 따라 온도, 농도 등이 지속적으로 변하기 때문에 연속적인 증착 공정의 수행을 위해 무맥동펌프(3)에 의해 강제 순환하도록 하는 것이다.At this time, the chemical liquid 8 is forced to circulate by the pulsation-free pump 3 to perform a continuous deposition process because the temperature, concentration, etc. are constantly changing according to the chemical reaction.

그러나 상기와 같은 종래의 씨비디 장치는 다음과 같은 문제점들이 있었다.However, the conventional CD device as described above has the following problems.

첫째, 기판 딥핑(dipping) 방식을 통해 증착 공정을 수행함으로써, 플랙서블 기판을 사용하는 롤투롤 장비에는 적용할 수 없는 문제점이 있었고, 둘째, 약액을 교반시키기 위하여 반응용기 전체를 진동시켜야 하는 교반장치가 필요하게 됨으로써, 설비 비용이 증가하였으며, 셋째, 증착 공정 수행 중 약액 내부에 발생되는 석출물이나 이물질 등이 증착 품질을 저하시키는 것은 물론 증착 효율 또한 떨어뜨리는 문제점이 있었다.
First, there is a problem that can not be applied to the roll-to-roll equipment using a flexible substrate by performing a deposition process through a substrate dipping method, second, a stirring device that vibrates the entire reaction vessel to agitate the chemical liquid By increasing the cost of equipment, and third, there is a problem that the deposition or foreign matters generated inside the chemical solution during the deposition process, as well as deterioration of the deposition quality, as well as the deposition efficiency.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 기판 딥핑 방식이 아닌 기판 표면 접촉 방식을 취함으로써, 롤투롤 장비에도 효과적으로 적용할 수 있게 하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, it is an object of the present invention to take advantage of the substrate surface contact method rather than the substrate dipping method, it is possible to effectively apply to roll-to-roll equipment.

본 발명의 다른 목적은 약액이 기판 표면하고만 접촉되도록 하여 증착이 필요하지 않은 면이 보호되도록 하는 것이다.Another object of the present invention is to allow the chemical liquid to contact only the surface of the substrate so that the side which does not require deposition is protected.

본 발명의 또 다른 목적은 증착 공정 수행 중 약액 내부에 발생되어 침전되는 석출물이나 이물질 등에 의해 증착 품질을 떨어지는 것을 방지하기 위한 것이다.Still another object of the present invention is to prevent deterioration in deposition quality due to precipitates or foreign substances that are generated and precipitated inside the chemical liquid during the deposition process.

본 발명의 또 다른 목적은 약액 순환을 통한 연속적인 증착 공정 수행을 통해 증착 효율이 향상되도록 하는 것이다.Another object of the present invention is to improve the deposition efficiency through performing a continuous deposition process through the chemical liquid circulation.

본 발명의 또 다른 목적은 대면적 기판 적용이 용이할 뿐 아니라 기판 증착률을 효과적으로 콘트롤 할 수 있는 씨비디 장치를 제공하고자 하는 것이다.
Still another object of the present invention is to provide a CD device that can easily control a large area substrate and effectively control the substrate deposition rate.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 연속 이송되는 기판을 회전 지지하는 기판지지부와, 상기 기판 표면에 접촉될 수 있게 약액이 저장되는 약액반응조와, 상기 약액반응조 하측부에 구비되어 상기 약액반응조에 약액을 공급하는 약액공급조와, 상기 약액공급조의 약액을 상기 약액반응조에 송출하는 약액송출수단, 및 상기 약액반응조가 내설되도록 구비되며, 상기 약액이 위치에너지에 의해 상기 약액반응조에서 약액공급조로 이동 가능하도록 약액을 안내하는 회수수단을 포함하여 구성된다.In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate support for rotating and supporting a substrate to be continuously transferred, a chemical liquid reaction tank for storing the chemical liquid to be in contact with the surface of the substrate, and a lower portion of the chemical liquid reaction tank provided in the chemical liquid reaction tank. And a chemical liquid supplying means for supplying a chemical solution supplying means, a chemical liquid supplying means for delivering the chemical liquid from the chemical liquid supplying tank to the chemical liquid reaction tank, and the chemical liquid reaction tank to be installed, so that the chemical liquid can move from the chemical liquid reaction tank to the chemical liquid supply tank by potential energy. It comprises a recovery means for guiding the chemical liquid.

본 발명의 상기 기판지지부는 상기 기판을 회전 지지하는 롤러부 및 상기 기판을 가열할 수 있게 상기 롤러부에 내설된 히터로 구성된다.The substrate support portion of the present invention is composed of a roller portion for rotationally supporting the substrate and a heater built in the roller portion to heat the substrate.

또한 상기 약액반응조는 내부가 비어 있고 상부가 개방된 용기 형상으로 구비하되, 상기 약액이 외부로 흘러 넘침과 동시에 최상면이 상기 기판 표면에 접촉되도록 설치된다.In addition, the chemical liquid reaction tank is provided in a container shape with an empty inside and an open top, and is installed such that the chemical liquid flows to the outside and the top surface contacts the surface of the substrate.

또 상기 약액반응조 내측 하부에는 상기 약액이 분산 배출되어 균일하게 상향 이동될 수 있도록 다수개의 배출공이 관통 형성된 다공판이 더 구비되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that a porous plate formed with a plurality of discharge holes penetrates through the inner side of the chemical liquid reaction tank so that the chemical liquid is dispersed and discharged to be moved upward upward.

한편 상기 송출수단은 상기 약액반응조의 하측부와 상기 약액공급조를 연통시키는 약액공급관 및 상기 약액공급관에 설치되어 약액을 강제 이송시키는 펌프로 구성된다.On the other hand, the dispensing means is composed of a chemical liquid supply pipe for communicating the lower side of the chemical liquid reaction tank and the chemical liquid supply tank and a pump installed in the chemical liquid supply pipe forcibly transferring the chemical liquid.

또한 상기 약액공급관에는 상기 약액에 포함된 이물질을 제거하는 필터가 더 구비될 수 있다.In addition, the chemical liquid supply pipe may be further provided with a filter for removing foreign substances contained in the chemical liquid.

또 상기 회수수단은 상기 약액반응조가 내설될 수 있게 내부가 비어 있고 상부가 개방되며, 하측부에는 상기 연결관이 관통되도록 배출구가 관통 형성되는 약액수집조 및 일단은 상기 배출구에 연결되고 타단은 상기 약액공급조의 상측에 위치하도록 구비되는 약액회수관으로 구성된다.In addition, the recovery means is empty and the inside is open so that the chemical reaction tank is insulted, the lower part is a chemical collection tank and the outlet is formed so that the connection pipe passes through the lower end and the other end is connected to the outlet It consists of a chemical collection tube provided to be located on the upper side of the chemical liquid supply tank.

또 상기 약액공급조에는 상기 약액이 적정 온도로 유지될 수 있도록 온도조절수단이 내설될 수 있다.In addition, the chemical liquid supply tank may be a temperature control means to maintain the chemical liquid at an appropriate temperature.

또한 상기 약액반응조와 약액공급조에는 약액의 ph 정보를 확인할 수 있는 ph센서가 더 구비되는 것이 바람직하다.
In addition, the chemical reaction tank and the chemical solution supply tank is preferably further provided with a ph sensor that can check the ph information of the chemical liquid.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명은 첫째, 기판 딥핑 방식이 아닌 기판 표면 접촉 방식을 취함으로써, 롤투롤 장비에도 효과적으로 적용할 수 있을 뿐 아니라 약액 순환을 통한 연속적인 증착 공정 수행을 통해 증착 효율 향상은 물론 양산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있고, 둘째, 증착 불량 방지는 물론 박막의 품질을 현저히 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
As described above, the present invention, first, by adopting a substrate surface contact method rather than a substrate dipping method, not only can be effectively applied to roll-to-roll equipment, but also to improve deposition efficiency by performing a continuous deposition process through chemical circulation. Of course, there is an effect that can improve the mass production, and second, there is an effect that can significantly improve the quality of the thin film as well as preventing deposition failure.

도 1은 종래의 씨비디 장치의 개략적인 구성도,
도 2는 본 발명의 롤투롤 씨비디 장치의 구성도,
도 3은 본 발명의 롤투롤 씨비디 장치의 약액의 순환 흐름도이다.1 is a schematic configuration diagram of a conventional CD device;
2 is a block diagram of a roll-to-roll CD device of the present invention,
Figure 3 is a flow chart of the chemical liquid of the roll-to-roll CD device of the present invention.

이하 본 발명에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 롤투롤 씨비디 장치의 구성도를 나타낸 것이다.Figure 2 shows the configuration of the roll-to-roll CD device of the present invention.

도시된 바와 같이, 본 발명은 기판지지부(10), 약액반응조(20), 약액공급조(50), 약액송출수단(60), 및 회수수단(70)으로 구성된다.As shown, the present invention is composed of a substrate support 10, a chemical liquid reaction tank 20, a chemical liquid supply tank 50, a chemical liquid delivery means 60, and a recovery means 70.

기판지지부(10)는 동일 방향으로 회전되는 두 개의 회전롤러(200)에 의해 기판(100)이 연속적으로 권출됨과 동시에 권취되도록 기판(100)을 회전 지지하는 역할을 하는 것으로서, 롤러부(11)와 히터(12)로 구성된다.The substrate support part 10 serves to rotate and support the substrate 100 so that the substrate 100 is continuously wound and simultaneously wound by two rotating rollers 200 that rotate in the same direction, and the roller part 11. And a heater 12.

롤러부(11)는 이송되는 기판(100)의 배면을 가압하여 회전 지지함으로써, 기판(100)이 일정 각도를 유지한 상태에서 연속적으로 이송되도록 하는 것이다.The roller part 11 presses and rotates the back surface of the substrate 100 to be conveyed, so that the substrate 100 is continuously conveyed while maintaining a predetermined angle.

여기서 롤러부(11)의 위치는 하기에서 설명하는 약액반응조(20)의 위치를 고려하여 약액반응조(20) 상측부에 회전 가능하도록 설치된다.Here, the position of the roller portion 11 is installed to be rotatable in the upper portion of the chemical liquid reaction tank 20 in consideration of the position of the chemical liquid reaction tank 20 to be described below.

한편 히터(15)는 기판(100)과 약액(300)의 화학 반응이 촉진되도록 하기 위하여 기판(100)을 적정 온도로 가열하는 것으로서, 롤러부(11)의 내측 하부에 설치될 수 있을 것이다.On the other hand, the heater 15 is to heat the substrate 100 to an appropriate temperature in order to promote the chemical reaction of the substrate 100 and the chemical liquid 300, it may be installed on the inner lower portion of the roller portion (11).

히터(15)는 일반적으로 사용되는 히팅 라인을 롤러부(11) 내측 하부에 다수개 배치하여 롤러부(11)의 외주면을 가열함으로써 기판(100)이 적정온도로 유지된 상태에서 약액(300)과 접촉되도록 하는 것이다.The heater 15 arranges a plurality of heating lines generally used in the lower portion of the inside of the roller portion 11 to heat the outer circumferential surface of the roller portion 11 so that the chemical liquid 300 is maintained in a state where the substrate 100 is maintained at an appropriate temperature. To make contact with

여기서 약액(300)은 기판(100)과의 화학 반응을 통해 기판(100) 표면에 박막층을 형성하는 것으로서, 다양한 성분으로 조성된 액상의 용액이 사용되며, 일반적으로 태양전지 제조에 있어서는 Cds, Zns, ZnSe, ZnO, SnO2 , In(OH)3, In2S3 성분 등이 혼합된 액상의 혼합 용액이 사용된다.Here, the chemical liquid 300 forms a thin film layer on the surface of the substrate 100 through a chemical reaction with the substrate 100. A liquid solution composed of various components is used, and in general, Cds and Zns are used in manufacturing a solar cell. , ZnSe, ZnO, SnO 2 , In (OH) 3, In 2 S 3 A liquid mixed solution in which the components and the like are mixed is used.

한편 약액반응조(20)는 약액(300)이 기판(100)과 접촉될 수 있도록 저장되는 부분으로서, 내부가 비어 있고 상부가 개방된 일정 깊이의 용기 형태로 구비된다.Meanwhile, the chemical liquid reaction tank 20 is a portion in which the chemical liquid 300 is stored to be in contact with the substrate 100. The chemical liquid reaction tank 20 is provided in the form of a container having a predetermined depth with an empty inside and an open top.

따라서 약액반응조(20)는 약액공급조(50)로부터 유입된 약액(300)이 채워지게 되며, 지속적인 약액(300)의 유입으로 인해 약액(300)이 화살표(20a)와 같이 흘러 넘치도록 구비된다.Therefore, the chemical liquid reaction tank 20 is filled with the chemical liquid 300 introduced from the chemical liquid supply tank 50, and the chemical liquid 300 is provided to flow as shown by the arrow (20a) due to the continuous inflow of the chemical liquid (300). .

이때 약액반응조(20)는 저장된 약액(300)의 최상면이 기판(100)의 하측면과 접촉되어 증착 공정이 수행될 수 있도록 기판지지부(10)와의 위치를 고려하여 설치될 수 있을 것이다.In this case, the chemical reaction tank 20 may be installed in consideration of the position of the substrate support 10 so that the top surface of the stored chemical solution 300 is in contact with the lower surface of the substrate 100 so that the deposition process may be performed.

한편 약액반응조(20)의 하측면 중앙부에는 약액(300)이 유입되는 약액유입구(25)가 관통 형성되며, 내측 하부에는 약액유입구(25)와 일정 거리 이격되어 다공판(30)이 수평 상태로 설치된다.On the other hand, the chemical liquid inlet 25 through which the chemical liquid 300 is introduced is formed in the central side of the lower side of the chemical liquid reaction tank 20, and the porous plate 30 is horizontally spaced apart from the chemical liquid inlet 25 at a lower portion of the inner side. Is installed.

다공판(30)은 약액유입구(25)로부터 유입된 약액(300)이 상방향으로 분산 배출될 수 있게 다수개의 배출공(35)이 관통 형성된 것으로서, 유입된 약액(300)이 약액반응조(20)의 하부에서 상부로 효과적으로 분산되어 이동되도록 하는 것이다.The porous plate 30 has a plurality of discharge holes 35 formed therethrough so that the chemical liquid 300 introduced from the chemical liquid inlet 25 may be dispersed and discharged upwards, and the chemical liquid 300 introduced is the chemical liquid reaction tank 20. It is to be effectively dispersed and moved from the bottom to the top of).

즉 다공판(30)은 약액(300)이 배출공(35)을 통해 분산되어 상향 이동하게 함으로써, 약액반응조(20) 내에서의 약액(300)의 흐름을 균일화하여 약액(300)의 불규칙한 흐름이나 와류 등에 의해 기판(100)상에 불필요한 패턴 자국이나 증착 불량이 발생되는 것을 방지하는 것이다.That is, the porous plate 30 allows the chemical liquid 300 to be dispersed and moved upward through the discharge hole 35, thereby uniformizing the flow of the chemical liquid 300 in the chemical liquid reaction tank 20, thereby causing an irregular flow of the chemical liquid 300. This is to prevent unnecessary pattern marks and deposition defects from occurring on the substrate 100 due to vortices or vortices.

한편 약액공급조(50)는 약액(300)을 약액반응조(20)에 강제 공급하는 것으로서, 약액(300)이 위치에너지에 의해 회수수단(70)을 경유하여 약액공급조(50)로 자연 이동될 수 있게 약액반응조(20)의 하측부에 이격되어 위치하도록 설치된다.Meanwhile, the chemical liquid supply tank 50 is a forced supply of the chemical liquid 300 to the chemical liquid reaction tank 20. The chemical liquid 300 naturally moves to the chemical liquid supply tank 50 via the recovery means 70 by the potential energy. It is installed so as to be spaced apart from the lower side of the chemical reaction tank 20.

여기서 약액공급조(50)는 약액반응조(20)와 마찬가지로 내부에 일정량의 약액(300)이 수용될 수 있도록 상부가 개방된 일정 깊이의 용기 형상으로 구비되며, 이때 내부에는 약액(300)이 적정 온도로 유지될 수 있도록 온도조절수단(80)이 설치된다.Here, the chemical liquid supply tank 50 is provided in the shape of a container of a predetermined depth with an upper portion open to accommodate a predetermined amount of the chemical liquid 300 in the same manner as the chemical liquid reaction tank 20, and the chemical liquid 300 is appropriate therein. Temperature control means 80 is installed to be maintained at a temperature.

여기서 온도조절수단(80)은 약액(300)의 조성 성분에 따라 약액(300)이 적정 온도로 냉각된 상태에서 약액반응조(20)로 이동할 수 있도록 약액(300)을 냉각(cooling)시키게 된다.Here, the temperature adjusting means 80 cools the chemical liquid 300 to move to the chemical liquid reaction tank 20 in a state in which the chemical liquid 300 is cooled to an appropriate temperature according to the composition of the chemical liquid 300.

이때 온도조절수단(80)은 순환관(81)을 약액공급조(50)에 내설하고 이 순환관(81)에 냉매를 순환시킬 수 있는 냉각장치(85)를 연결하여 약액(300)의 온도를 조절할 수 있을 것이다.At this time, the temperature control means 80 is the temperature of the chemical liquid 300 by incorporating a cooling device 85 that circulates the circulation tube 81 in the chemical liquid supply tank 50 and circulates the refrigerant in the circulation tube 81. You will be able to adjust

한편 온도조절수단(80)은 반응성이 높은 약액(300)의 경우에는 약액(300)의 조성 성분들이 서로 미리 반응하는 것이 방지될 수 있도록 상기와 같이 약액(300)을 냉각시키는 것이 필요하지만, 약액(300)의 조성 성분에 따라 증착 공정의 효율성 향상을 위하여 약액(300)을 특정 온도로 예열하는 것이 필요한 경우에는 가열(heating) 장치로 대체될 수도 있을 것이다. Meanwhile, in the case of the chemical liquid 300 having high reactivity, the temperature adjusting means 80 needs to cool the chemical liquid 300 as described above to prevent the components of the chemical liquid 300 from reacting with each other in advance. Depending on the composition of the 300 may be replaced by a heating device if it is necessary to preheat the chemical liquid 300 to a specific temperature in order to improve the efficiency of the deposition process.

한편 송출수단(60)은 약액공급조(50)의 약액(300)을 약액반응조(20)에 공급하는 역할을 하는 것으로서, 약액공급관(61)과 펌프(65)로 구성된다.Meanwhile, the dispensing means 60 serves to supply the chemical liquid 300 of the chemical liquid supply tank 50 to the chemical liquid reaction tank 20, and is composed of a chemical liquid supply pipe 61 and a pump 65.

약액공급관(61)은 약액반응조(20)의 하측부에 형성된 약액유입구(25)와 약액공급조(50)의 하측면을 연통시킴으로써, 약액공급조(50)의 약액(300)이 약액반응조(20)로 이동할 수 있게 한다.The chemical liquid supply pipe 61 communicates the chemical liquid inlet 25 formed at the lower portion of the chemical liquid reaction tank 20 with the lower surface of the chemical liquid supply tank 50, so that the chemical liquid 300 of the chemical liquid supply tank 50 is the chemical liquid reaction tank ( 20).

이때 약액공급관(61)에는 약액(300)을 강제 이송시킬 수 있는 펌프(65)가 설치되며, 또한 약액(300)에 포함된 이물질을 제거하는 필터(66)가 구비된다.At this time, the chemical liquid supply pipe 61 is provided with a pump 65 capable of forcibly transporting the chemical liquid 300, and also provided with a filter 66 for removing foreign substances contained in the chemical liquid (300).

한편 회수수단(70)은 약액반응조(20)에서 흘러 넘치는 약액(300)이 자연 낙하하여 약액공급조(50)로 이동 가능하도록 약액(300)을 수집하여 약액공급조(50)로 복귀시키는 것으로서, 약액수집조(71)와 약액회수관(75)으로 구성된다.Meanwhile, the recovery means 70 collects the chemical liquid 300 so that the chemical liquid 300 flowing from the chemical liquid reaction tank 20 falls naturally and moves to the chemical liquid supply tank 50, and returns the chemical liquid 300 to the chemical liquid supply tank 50. It consists of a chemical collection tank 71 and a chemical collection tube (75).

여기서 약액수집조(71)는 약액반응조(20)가 내설될 수 있게 내부가 비어 있고 상부가 개방되며, 하측부에는 약액공급관(61)이 관통 가능하도록 배출구(72)가 관통 형성된다.Here, the chemical liquid collection tank 71 is empty and the upper part is open so that the chemical liquid reaction tank 20 may be built in, and a discharge port 72 is formed through the lower portion so that the chemical liquid supply pipe 61 can penetrate.

이때 약액반응조(20)는 외측으로 흘러넘치는 약액(300)이 외주면을 따라 자연 낙하하여 용이하게 약액수집조(71)의 하부로 이동할 수 있도록 약액수집조(71)의 내측 중앙부에 위치할 수 있게 설치되는 것이다.In this case, the chemical liquid reaction tank 20 may be located at the inner central portion of the chemical liquid collection tank 71 so that the chemical liquid 300 flowing outward may naturally fall along the outer circumferential surface and easily move to the lower portion of the chemical liquid collection tank 71. It is installed.

약액반응조(20)는 별도의 지지대(도시하지 않음) 등을 이용하여 약액수집조(71) 내측 중앙부에 설치할 수 있을 것이다.The chemical liquid reaction tank 20 may be installed in the central portion of the chemical liquid collection tank 71 using a separate support (not shown).

따라서 약액반응조(20)의 외주면과 약액수집조(71)의 내주면은 서로 일정거리 이격됨으로써, 약액(300)이 흘러내릴 수 있는 유로를 형성하게 되는 것이다.Therefore, the outer circumferential surface of the chemical liquid reaction tank 20 and the inner circumferential surface of the chemical liquid collection tank 71 are separated from each other by a predetermined distance to form a flow path through which the chemical liquid 300 can flow.

이때 약액수집조(71)의 저면은 약액(300)이 용이하게 배출구(72)로 이동할 수 있도록 경사지게 형성되는 것이 바람직하다.At this time, the bottom of the chemical liquid collection tank 71 is preferably formed to be inclined so that the chemical liquid 300 can be easily moved to the discharge port (72).

한편 배출구(72)는 내주면이 약액공급관(61)의 외주면과 일정 거리 이격되도록 약액공급관(61)의 직경보다 상대적으로 크게 형성됨으로써, 약액(300)이 화살표와 같이 약액회수관(75)으로 이동할 수 있게 구비된다.On the other hand, the outlet 72 is formed relatively larger than the diameter of the chemical liquid supply pipe 61 so that the inner peripheral surface is spaced apart from the outer peripheral surface of the chemical liquid supply pipe 61 by a predetermined distance, the chemical liquid 300 moves to the chemical liquid recovery pipe 75 as shown by the arrow It is provided to be.

여기서 약액회수관(75)은 일단이 배출구(72)에 연결되고 타단은 약액공급조(50)의 상측에 위치하도록 구비된다.Here, the chemical liquid collection pipe 75 is provided so that one end is connected to the discharge port 72 and the other end is located above the chemical liquid supply tank 50.

이때 약액회수관(75)이 배출구(72)와 연결되는 연결부(76)는 약액공급관(65)이 관통됨으로써 이중관 구조를 가지게 되는 것이다.At this time, the connection portion 76 is connected to the chemical liquid collection pipe 75 and the outlet 72 is to have a double pipe structure through the chemical liquid supply pipe (65).

따라서 약액수집조(71)의 배출구(72)로 배출되는 약액(300)은 연결부(76)로 유입된 후, 약액회수관(75)을 경유하여 약액공급조(50)로 다시 회수되어 순환하게 되는 것이다.Therefore, the chemical liquid 300 discharged to the outlet 72 of the chemical liquid collection tank 71 is introduced into the connection portion 76, and then recovered and circulated back to the chemical liquid supply tank 50 via the chemical liquid collection pipe 75. Will be.

한편 약액반응조(20)와 약액공급조(50)에는 약액(300)의 ph 정보를 확인할 수 있는 ph센서(350)가 설치될 수 있으며, 이 ph센서(350) 외에 약액(300)의 온도 등과 같은 정보를 측정할 수 있는 다양한 센서가 설치될 수 있을 것이다.On the other hand, the chemical reaction tank 20 and the chemical solution supply tank 50 may be provided with a ph sensor 350 to check the ph information of the chemical solution 300, in addition to the ph sensor 350, the temperature of the chemical solution 300, etc. Various sensors may be installed that can measure the same information.

이러한 센서는 약액반응조(20)와 약액공급조(50) 또는 약액공급관(61) 등에 설치될 수 있을 것이다.Such a sensor may be installed in the chemical liquid reaction tank 20 and the chemical liquid supply tank 50 or the chemical liquid supply pipe 61.

한편 본 발명의 씨비디 장치는 증착 공정의 안전성 등의 확보를 위하여 별도의 챔버(도시하지 않음) 내에 설치될 수도 있을 것이다.Meanwhile, the CD device of the present invention may be installed in a separate chamber (not shown) in order to secure safety of a deposition process.

이하 도 3을 참조하여 약액의 순환과정을 설명한다.Hereinafter, the circulation process of the chemical liquid will be described with reference to FIG. 3.

도 3은 본 발명의 약액의 순환 흐름도를 나타낸 것이다.Figure 3 shows a flow chart of the chemical liquid of the present invention.

먼저, 약액공급관(61)에 구비된 펌프가 작동(S10)하게 되면, 약액공급조 (50)내의 약액(300)은 약액공급관을 경유(S20)하여 상향 이동함으로써 약액반응조(20)의 약액유입구(25)를 통해 약액반응조로 이동(S30)하게 된다.First, when the pump provided in the chemical liquid supply pipe 61 is operated (S10), the chemical liquid 300 in the chemical liquid supply tank 50 is moved upward through the chemical liquid supply pipe (S20) by the chemical liquid inlet of the chemical reaction tank 20 Through (25) it is moved to the chemical reaction tank (S30).

약액(300)이 펌프(65)에 의해 약액공급관(61)을 경유하여 지속적으로 약액반응조(20)로 이동하게 되면, 약액(300)은 약액반응조(20)의 하부에 설치된 다공판(30)의 배출공(35)을 통해 분산 배출되어 서서히 약액반응조(20)의 하측에서부터 상방으로 채워지게 되고, 이 후, 약액반응조(20)에서 흘러 넘쳐 약액수집조로 이동(S40)하게 된다.When the chemical liquid 300 is continuously moved to the chemical liquid reaction tank 20 via the chemical liquid supply pipe 61 by the pump 65, the chemical liquid 300 is a porous plate 30 installed in the lower portion of the chemical liquid reaction tank 20. Dispersion is discharged through the discharge hole 35 is gradually filled from the lower side of the chemical reaction tank 20 to the upper side, and then flows from the chemical reaction tank 20 overflows to the chemical liquid collection tank (S40).

따라서 약액(300)은 약액반응조(20) 내에서 항상 일정량이 유지되도록 흘러 넘치게 되므로, 약액(300)의 최상면은 항상 일정한 높이에 형성되며, 이때, 이송되는 기판(100)은 롤러부(11)의 하측에서 약액(300)의 최상면과 접촉하게 되어 박막 증착이 이루어지게 되는 것이다.Therefore, since the chemical liquid 300 overflows so that a constant amount is always maintained in the chemical liquid reaction tank 20, the uppermost surface of the chemical liquid 300 is always formed at a constant height, and the substrate 100 to be transported is the roller portion 11. The lower side of the contact with the top surface of the chemical liquid 300 is to be a thin film deposition is made.

한편 약액반응조(20)에서 흘러 넘치는 약액(300)은 약액수집조(71)로 이동(S40)한 후, 약액수집조(71)의 배출구(72)를 통해 약액회수관(75)으로 이동(S50)하여 다시 약액공급조로 회수(S60)되는 것이다.Meanwhile, the chemical liquid 300 flowing from the chemical liquid reaction tank 20 moves to the chemical liquid collection tank 71 (S40), and then moves to the chemical liquid collection tube 75 through the outlet 72 of the chemical liquid collection tank 71 ( S50) is recovered to the chemical solution supply tank (S60) again.

약액(300)은 약액공급조로 회수(S60)된 후, 다시 약액공급관(61)을 통해 약액반응조(20)로 이동하게 됨으로써, 약액반응조(20)와 약액공급조(50)를 순차적으로 순환하게 되는 것이다.The chemical liquid 300 is recovered to the chemical liquid supply tank (S60), and then moved to the chemical liquid reaction tank 20 through the chemical liquid supply pipe 61, thereby sequentially circulating the chemical liquid reaction tank 20 and the chemical liquid supply tank 50. Will be.

따라서 본 발명은 기판(100) 딥핑 방식이 아닌 기판(100)의 면 접촉 방식을 취함으로써, 플랙서블 기판(100)을 이송하는 롤투롤 장비에도 효과적으로 적용할 수 있게 되고, 또한 약액(300)이 약액반응조(20)와 약액공급조(50)를 연속적으로 순환됨으로써, 증착 공정 수행 중 약액(300) 내부의 이물질 등에 의해 증착 품질이 떨어지는 것을 방지할 수 있게 될 뿐 아니라, 증착 효율 향상은 물론 대면적 기판의 증착 공정에도 효과적으로 적용할 수 있게 되는 것이다.Therefore, the present invention can be effectively applied to the roll-to-roll equipment for transferring the flexible substrate 100 by taking the surface contact method of the substrate 100 instead of the substrate 100 dipping method, and also the chemical liquid 300 By continuously circulating the chemical liquid reaction tank 20 and the chemical liquid supply tank 50, it is possible not only to prevent the deposition quality from deteriorating due to the foreign matter inside the chemical liquid 300 during the deposition process, but also to improve the deposition efficiency. It can be effectively applied to the deposition process of the area substrate.

이상, 상기의 실시 예는 단지 설명의 편의를 위해 예시로서 설명한 것에 불과하므로 특허청구범위를 한정하는 것은 아니며, 본 발명의 기술 범주 내에서 다양한 변형이 가능할 것이다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, is intended to cover various modifications and similarities.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 반응용기 2 : 순환용기
3 : 무맥동펌프 5,100 : 기판
6 : 히터 8,300 : 약액
10 : 기판지지부 11 : 롤러부
15 : 히터 20 : 약액반응조
20a : 화살표 25 : 약액유입구
30 : 다공판 35 : 배출공
50 : 약액공급조 60 : 약액송출수단
61 : 약액공급관 65 :펌프
66 : 필터 70 : 회수수단
71 : 약액수집조 72 : 배출구
75 : 약액회수관 76 : 연결부
80 : 온도조절수단 81 : 순환관
85 : 냉각장치 200 : 회전롤러
350 : ph센서Explanation of symbols on the main parts of the drawings
1: reaction vessel 2: circulation vessel
3: pulsation-free pump 5,100: substrate
6: heater 8,300: chemical
10 substrate support part 11 roller part
15: heater 20: chemical reaction tank
20a: arrow 25: chemical inlet
30: perforated plate 35: discharge hole
50: chemical liquid supply tank 60: chemical liquid delivery means
61: chemical supply pipe 65: pump
66 filter 70 recovery means
71: chemical collection tank 72: discharge port
75: chemical recovery tube 76: connection
80: temperature control means 81: circulation tube
85: cooling device 200: rotary roller
350: ph sensor

Claims (9)

연속 이송되는 기판을 회전 지지하는 기판지지부;
상기 기판 표면에 접촉될 수 있게 약액이 저장되는 약액반응조;
상기 약액반응조 하측부에 구비되어 상기 약액반응조에 약액을 공급하는 약액공급조;
상기 약액공급조의 약액을 상기 약액반응조에 송출하는 약액송출수단; 및
상기 약액반응조가 내설되도록 구비되며, 상기 약액이 위치에너지에 의해 상기 약액반응조에서 약액공급조로 이동 가능하도록 약액을 안내하는 회수수단;
을 포함하여 구성되는 롤투롤 씨비디 장치. A substrate support part for rotationally supporting a substrate to be continuously transferred;
A chemical liquid reaction tank in which the chemical liquid is stored to be in contact with the substrate surface;
A chemical liquid supply tank provided at a lower side of the chemical liquid reaction tank to supply a chemical liquid to the chemical liquid reaction tank;
Chemical liquid delivery means for sending the chemical liquid of the chemical liquid supply tank to the chemical liquid reaction tank; And
Recovery means for guiding the chemical liquid such that the chemical liquid reaction tank is provided in a built-in manner, and the chemical liquid can move from the chemical liquid reaction tank to the chemical liquid supply tank by potential energy;
Roll to roll CD device comprising a. 제1항에 있어서,
상기 기판지지부는,
상기 기판을 회전 지지하는 롤러부 및 상기 기판을 가열할 수 있게 상기 롤러부에 내설된 히터로 구성되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 씨비디 장치.The method of claim 1,
The substrate support portion,
And a roller unit for rotationally supporting the substrate, and a heater built in the roller unit to heat the substrate. 제1항에 있어서,
상기 약액반응조는 내부가 비어 있고 상부가 개방된 용기 형상으로 구비하되, 상기 약액이 외부로 흘러 넘침과 동시에 최상면이 상기 기판 표면에 접촉되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 씨비디 장치.The method of claim 1,
The chemical liquid reaction tank is provided in a container shape with an empty inside and an open top, wherein the chemical liquid flows to the outside and is installed so that the top surface is in contact with the substrate surface. 제3항에 있어서,
상기 약액반응조 내측 하부에는 상기 약액이 분산 배출되어 상향 이동될 수 있도록 다수개의 배출공이 관통 형성된 다공판이 더 구비되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 씨비디 장치.The method of claim 3,
Roll-to-roll CD device is characterized in that the inner side of the chemical liquid reaction tank is further provided with a porous plate through which a plurality of discharge holes are penetrated so that the liquid is dispersed and discharged upward. 제3항에 있어서,
상기 송출수단은,
상기 약액반응조의 하측부와 상기 약액공급조를 연통시키는 약액공급관; 및
상기 약액공급관에 설치되어 약액을 강제 이송시키는 펌프;
로 구성되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 씨비디 장치.The method of claim 3,
The sending means,
A chemical liquid supply pipe configured to communicate a lower portion of the chemical liquid reaction tank with the chemical liquid supply tank; And
A pump installed in the chemical liquid supply pipe to force the chemical liquid;
Roll-to-roll CD device, characterized in that consisting of. 제5항에 있어서,
상기 약액공급관에는 상기 약액에 포함된 이물질을 제거하는 필터가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 씨비디 장치.The method of claim 5,
Roll-to-roll CD device, characterized in that the chemical liquid supply pipe is further provided with a filter for removing foreign substances contained in the chemical liquid. 제5항에 있어서,
상기 회수수단은,
상기 약액반응조가 내설될 수 있게 내부가 비어 있고 상부가 개방되며, 하측부에는 상기 연결관이 관통되도록 배출구가 관통 형성되는 약액수집조; 및
일단은 상기 배출구에 연결되고 타단은 상기 약액공급조의 상측에 위치하도록 구비되는 약액회수관;
으로 구성되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 씨비디 장치.The method of claim 5,
The recovery means,
A chemical collection tank in which an interior is empty and an upper portion is opened so that the chemical liquid reaction tank can be built in, and a discharge hole is formed at a lower portion thereof so that the connection pipe is penetrated; And
One end is connected to the discharge port and the other end is a chemical recovery tube provided to be located above the chemical supply tank;
Roll-to-roll CD device, characterized in that consisting of. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 약액공급조에는 상기 약액이 적정 온도로 유지될 수 있도록 온도조절수단이 내설되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 씨비디 장치.The method according to any one of claims 1 to 7,
Roll to roll CD device, characterized in that the temperature control means is built in the chemical liquid supply tank so that the chemical liquid is maintained at an appropriate temperature. 제8항에 있어서,
상기 약액반응조와 약액공급조에는 약액의 ph 정보를 확인할 수 있는 ph센서가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 롤투롤 씨비디 장치.The method of claim 8,
Roll-to-roll CD device, characterized in that the chemical liquid reaction tank and the chemical liquid supply tank is further provided with a ph sensor for checking the ph information of the chemical liquid.
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WO2024075533A1 (en) * 2022-10-06 2024-04-11 株式会社Jcu Device for forming metal coating and method for forming metal coating

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CN104637842A (en) * 2013-10-15 2015-05-20 罗伯特·博世有限公司 Device for the homogeneous wet-chemical treatment of substrates
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