KR20110103854A - Coating liquid supply device, coating liquid supply method and buffer tank - Google Patents

Coating liquid supply device, coating liquid supply method and buffer tank Download PDF

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KR20110103854A
KR20110103854A KR1020110013550A KR20110013550A KR20110103854A KR 20110103854 A KR20110103854 A KR 20110103854A KR 1020110013550 A KR1020110013550 A KR 1020110013550A KR 20110013550 A KR20110013550 A KR 20110013550A KR 20110103854 A KR20110103854 A KR 20110103854A
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민 린
토모오 우치카타
히로카즈 칸바야시
사다히코 이토
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도레 엔지니아린구 가부시키가이샤
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Abstract

<과제> 도포액이 헛되게 폐기되는 것을 피하면서, 나아가 공급하는 도포액에 기포가 혼입하는 것을 억제할 수 있는 도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법 및 버퍼 탱크를 제공한다.
<해결 수단> 도포액을 저류하는 도포액 탱크와, 도포액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크를 구비하고, 도포액 탱크를 가압하는 것에 의하여, 버퍼 탱크로부터 도포액을 송액(送液)시켜, 도포액 탱크의 도포액을 공급하는 도포액 공급 장치이고, 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량을 검출하는 잔량 검지 수단을 구비하고, 이 잔량 검지 수단에 의하여, 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량이 약간인 것을 검지하면, 버퍼 탱크로부터 도포액을 송액하는 것을 정지시키는 송액 정지 동작을 행한 후, 버퍼 탱크로부터의 송액을 정지시킨 상태로, 도포액 탱크 내의 잔류 도포액을 버퍼 탱크로 송액시키는 잔액 송액 동작이 행하여지고, 그 후, 도포액 탱크의 교환을 행하는 탱크 교환 동작이 행하여지도록 구성한다. <Problem> Provided is a coating liquid supplying apparatus, a coating liquid supplying method, and a buffer tank which can further suppress mixing of bubbles in the coating liquid to be supplied while avoiding waste of the coating liquid.
<Solution> A coating liquid tank for storing the coating liquid, and a buffer tank for temporarily storing the coating liquid, and by applying pressure to the coating liquid tank, the coating liquid is fed from the buffer tank to apply It is a coating liquid supply apparatus which supplies the coating liquid of a liquid tank, Comprising: It is equipped with the residual amount detection means which detects the residual amount of the coating liquid in a coating liquid tank, and by this residual amount detection means, the residual amount of the coating liquid in a coating liquid tank is a little. If it is detected, the liquid feeding stop operation for stopping the feeding of the coating liquid from the buffer tank is performed. It is configured so that a tank exchange operation for exchanging the coating liquid tank is performed thereafter.

Description

도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법 및 버퍼 탱크{COATING LIQUID SUPPLY DEVICE, COATING LIQUID SUPPLY METHOD AND BUFFER TANK}COATING LIQUID SUPPLY DEVICE, COATING LIQUID SUPPLY METHOD AND BUFFER TANK}

본 발명은, 기판 상(上)에 도포액을 도포하는 도포 장치에 도포액을 공급하는 도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법 및 버퍼 탱크에 관한 것이며, 특히 도포액의 잔액(殘液, 나머지 액체)을 헛되지 않게 사용할 수 있는 것과 함께, 도포액 중에 기포가 혼입한 상태로 공급하는 것을 억제할 수 있는 도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법 및 버퍼 탱크에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating liquid supply device for supplying a coating liquid to a coating apparatus for applying a coating liquid onto a substrate, a coating liquid supply method, and a buffer tank, and in particular, the remaining liquid of the coating liquid. The present invention relates to a coating liquid supplying device, a coating liquid supplying method, and a buffer tank which can be suppressed from being used in vain and which can be prevented from being supplied in a state in which bubbles are mixed in the coating liquid.

액정 디스플레이(liquid crystal display)나 플라즈마 디스플레(plasma display)이 등의 플랫 패널 디스플레이(flat panel display)에는, 유리 기판 상에 레지스트액(resist solution)이 도포된 것(도포 기판이라고 칭한다)이 사용되고 있다. 이 도포 기판은, 레지스트액이나 약액 등의 도포액을 균일하게 도포하는 기판 처리 장치에 의하여 형성되어 있다. 이 기판 처리 장치는, 도 11에 도시하는 바와 같이, 도포액의 공급원인 도포액 공급 장치(100)와, 도포액을 기판 상에 도포하는 도포 장치(105)를 구비하고 있고, 도포액 공급 장치(100)로부터 송액(送液, 액체를 보내는 것)된 도포액이 도포 장치(105)의 펌프(105a)로 공급되고, 이 펌프(105a)를 작동시키는 것에 의하여 도포 장치(105)의 노즐(105b)로부터 기판으로 도포액이 토출되는 것에 의하여, 기판 상에 균일한 도포막이 형성되도록 되어 있다. In flat panel displays such as liquid crystal displays and plasma displays, a resist solution is applied (called a coating substrate) to a glass substrate. . This application | coating board | substrate is formed by the substrate processing apparatus which apply | coats coating liquids, such as a resist liquid and a chemical liquid uniformly. This substrate processing apparatus is provided with the coating liquid supply apparatus 100 which is a supply source of a coating liquid, and the coating apparatus 105 which apply | coats a coating liquid on a board | substrate, as shown in FIG. The coating liquid fed from 100 is supplied to the pump 105a of the coating device 105, and the nozzle of the coating device 105 is operated by operating the pump 105a. By discharging the coating liquid from the substrate 105b), a uniform coating film is formed on the substrate.

일반적으로, 도포액 공급 장치(100)는, 도포액을 저류하는 도포액 탱크(101)와 도포액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크(102)를 가지고 있고, 도포액 탱크(101)로부터의 도포액을 버퍼 탱크(102)에 일시적으로 체류시키는 것으로 도포액 중에 기포(w)가 혼입하는 것을 방지할 수 있도록 되어 있다. 구체적으로는, 도포액 탱크(101)는, 용기 내에 신축성을 가지는 주머니상(狀)의 튜브(101a)가 설치되어 있고, 튜브(101a) 내에 도포액이 저류되어 있다. 그리고, 용기 내를 가압하는 것에 의하여, 튜브(101a)가 수축되어 튜브(101a) 내의 도포액이 버퍼 탱크(102)로 송액되는 것과 함께, 버퍼 탱크(102)로부터 도포 장치(105)의 펌프로 송액되는 것에 의하여, 도포액이 도포액 공급 장치(100)로부터 도포 장치(105)로 공급되도록 되어 있다. 여기서, 만일 도포액 내에 기포(w)가 혼입한 경우에는, 버퍼 탱크(102)에 일시적으로 저류되는 동안에 부력에 의하여 기포(w)를 상승시켜 기포(w)를 제거하는 것에 의하여, 버퍼 탱크(102)의 저면(底面)에 설치된 액 배출부에는 기포(w)가 제거된 도포액이 공급되도록 되어 있다(예를 들어, 하기 특허 문헌 1 참조).Generally, the coating liquid supply device 100 has a coating liquid tank 101 for storing the coating liquid and a buffer tank 102 for temporarily storing the coating liquid, and the coating liquid from the coating liquid tank 101. Is temporarily held in the buffer tank 102 to prevent the mixing of bubbles w in the coating liquid. Specifically, the coating liquid tank 101 is provided with a bag-shaped tube 101a having elasticity in the container, and the coating liquid is stored in the tube 101a. By pressurizing the inside of the container, the tube 101a is contracted and the coating liquid in the tube 101a is fed to the buffer tank 102, and from the buffer tank 102 to the pump of the coating device 105. By sending liquid, the coating liquid is supplied from the coating liquid supply device 100 to the coating device 105. Here, if the bubble (w) is mixed in the coating liquid, the buffer tank (by removing the bubble (w) by raising the bubble (w) by buoyancy while temporarily stored in the buffer tank 102), The coating liquid from which the bubble w was removed is supplied to the liquid discharge part provided in the bottom face of 102 (for example, refer patent document 1 below).

이와 같이 하여, 튜브(101a) 내의 도포액이 도포 장치(105)로 공급되지만, 도 12에 도시하는 바와 같이, 튜브(101a) 내의 도포액의 잔량이 적어진 상태에서 튜브(101a)를 수축시키면, 튜브(101a) 내의 공기가 도포액에 혼입하여, 대량의 기포(w)가 도포액에 포함되어 공급되어 버린다. 이 상태에서는, 버퍼 탱크(102)에 일시적으로 체류시키는 것만으로는 기포(w)의 제거가 충분히 행하여지지 못하여, 버퍼 탱크(102)로부터 기포(w)가 혼입한 도포액이 공급되는 것에 의하여, 도포막의 품질 불량의 원인으로 된다. 따라서, 기포(w)를 검출하는 센서(103)를 설치하여 두고, 튜브(101a)로부터 송액되는 도포액 내에 기포(w)가 약간이라도 검출되면, 튜브(101a) 내의 도포액이 비었다고 판단하고, 새로운 도포액 탱크(101)와 교환되는 것에 의하여 기포(w)의 혼입을 피하면서, 도포 장치(105)로 계속적으로 도포액이 공급되도록 되어 있다. In this way, the coating liquid in the tube 101a is supplied to the coating apparatus 105. However, as shown in FIG. 12, when the remaining amount of the coating liquid in the tube 101a is reduced, the tube 101a shrinks. Air in the tube 101a mixes with the coating liquid, and a large amount of bubbles w are contained in the coating liquid and supplied. In this state, only the temporary stay in the buffer tank 102 does not sufficiently remove the bubbles w, and the coating liquid mixed with the bubbles w is supplied from the buffer tank 102. It causes the poor quality of the coating film. Therefore, when the sensor 103 which detects the bubble w is provided, and even a little bubble w is detected in the coating liquid conveyed from the tube 101a, it judges that the coating liquid in the tube 101a is empty. The coating liquid is continuously supplied to the coating device 105 while avoiding mixing of the bubbles w by being replaced with the new coating liquid tank 101.

일본국 공개특허공보 특개평5－304087호Japanese Patent Laid-Open No. 5-304087

그러나, 상술의 도포액 공급 장치(100)에서는, 레지스트액 등의 도포액이 헛되게 폐기된다고 하는 문제가 있었다. 즉, 기포(w)의 혼입을 방지하기 위하여, 송액되는 도포액 내에 기포(w)를 검지하면 도포액 탱크(101)가 비었다고 판단되어 도포액 탱크(101)가 교환되는 것에 의하여, 튜브(101a) 내에는 어느 정도의 도포액이 남은 상태로 도포액 탱크(101)가 교환된다. 이 남은 도포액은, 고가임에도 불구하고, 탱크 교환 시에는 폐기되어 버리기 때문에, 러닝 코스트가 드는 요인이 된다고 하는 문제가 있었다. However, in the above-mentioned coating liquid supply apparatus 100, there exists a problem that coating liquids, such as a resist liquid, are discarded in vain. That is, in order to prevent the mixing of the bubble w, when the bubble w is detected in the coating liquid to be fed, it is determined that the coating liquid tank 101 is empty, and the coating liquid tank 101 is replaced so that the tube ( In 101a), the coating liquid tank 101 is exchanged with some coating liquid remaining. Although the remaining coating liquid is expensive, since it is discarded at the time of tank replacement, there is a problem that the running cost becomes a factor.

본 발명은, 상기의 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 도포액이 헛되게 폐기되는 것을 피하면서, 나아가 공급하는 도포액에 기포(w)가 혼입하는 것을 억제할 수 있는 도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법 및 버퍼 탱크를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. This invention is made | formed in view of the said problem, and the coating liquid supply apparatus and coating liquid supply method which can suppress that bubble (w) mixes further into the coating liquid to supply, avoiding waste disposal of a coating liquid. And a buffer tank.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 도포액 공급 장치는, 도포액을 저류하는 도포액 탱크와, 도포액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크를 구비하고, 상기 도포액 탱크를 가압하는 것에 의하여, 도포액을 버퍼 탱크로 송액시키는 것과 함께, 버퍼 탱크로부터 도포액을 송액시켜, 도포액 탱크의 도포액을 공급하는 도포액 공급 장치이고, 상기 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량을 검출하는 잔량 검지 수단을 구비하고, 이 잔량 검지 수단에 의하여, 상기 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량이 약간인 것을 검지하면, 상기 버퍼 탱크로부터 도포액을 송액하는 것을 정지시키는 송액 정지 동작을 행한 후, 버퍼 탱크로부터의 송액을 정지시킨 상태에서, 상기 도포액 탱크 내의 잔류 도포액을 버퍼 탱크로 송액시키는 잔액 송액 동작이 행하여지고, 그 후, 도포액 탱크의 교환을 행하는 탱크 교환 동작이 행하여지는 것을 특징으로 하고 있다. In order to solve the said subject, the coating liquid supply apparatus of this invention is equipped with the coating liquid tank which stores a coating liquid, and the buffer tank which temporarily stores a coating liquid, and pressurizes the coating liquid tank, Is supplied to the buffer tank, the coating liquid is fed from the buffer tank to supply the coating liquid of the coating liquid tank, and is provided with a remaining amount detecting means for detecting the remaining amount of the coating liquid in the coating liquid tank. When the remaining amount detecting means detects that the remaining amount of the coating liquid in the coating liquid tank is a little, after performing a liquid feeding stop operation for stopping the feeding of the coating liquid from the buffer tank, the liquid is transferred from the buffer tank. In the stopped state, the remaining liquid feeding operation for transferring the remaining coating liquid in the coating liquid tank to the buffer tank is performed, after which the coating liquid And it characterized in that a tank for performing the exchange of the exchange operation carried out is greater.

상기 도포액 공급 장치에 의하면, 도포액 탱크의 잔량이 약간 남은 것을 검지하면, 송액 정지 동작에 의하여 버퍼 탱크로부터의 송액이 정지된다. 그리고, 이 송액을 정지시킨 상태에서, 잔액 송액 동작에 의하여 도포액 탱크에 잔류하는 도포액을 버퍼 탱크로 송액시키기 때문에, 잔류한 도포액 내에 대량의 기포가 혼입하여 있는 경우라도, 기포가 버퍼 탱크보다 하류 측으로 흐르는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 잔액 송액 동작 후, 탱크 교환 동작이 행하여지는 것에 의하여, 탱크 교환 동작에 요하는 시간 내에, 버퍼 탱크로 송액된 잔류 도포액 내의 기포가 부력을 받아 상승하는 것에 의하여, 도포액과 기포가 분리된다. 즉, 도포액 탱크 내의 도포액을 끝까지 다 사용할 수 있는 것과 함께, 도포액 내의 기포도 충분히 제거할 수 있다. 따라서, 도포액이 헛되게 폐기되는 것을 피하면서, 공급하는 도포액에 기포가 혼입하는 것을 억제할 수 있다. According to the said coating liquid supply apparatus, when detecting that the remaining amount of a coating liquid tank remains a little, the liquid feeding from a buffer tank is stopped by a liquid feeding stop operation. In addition, since the coating liquid remaining in the coating liquid tank is fed into the buffer tank by the remaining liquid feeding operation in the state in which the liquid feeding is stopped, even if a large amount of bubbles are mixed in the remaining coating liquid, the bubbles remain in the buffer tank. It can prevent more flowing downstream. Then, after the liquid transfer operation, the tank exchange operation is performed, and the coating liquid and the air bubbles are separated by the buoyancy and rising of the bubbles in the residual coating liquid fed to the buffer tank within the time required for the tank exchange operation. do. That is, while the coating liquid in the coating liquid tank can be used up to the end, bubbles in the coating liquid can also be sufficiently removed. Therefore, it is possible to suppress the mixing of bubbles in the coating liquid to be supplied while avoiding waste of the coating liquid.

또한, 도포액 탱크와 버퍼 탱크를 가지는 도포액 공급 유닛이 복수 설치되고, 이들 도포액 공급 유닛의 버퍼 탱크는, 공통의 공급 경로에 택일적으로 연통(連通)하여 연결되어 있고, 상기 공급 경로에 연통하여 연결된 제1 도포액 공급 유닛의 버퍼 탱크에 있어서의 송액 정지 동작이 행하여진 후, 제1 도포액 공급 유닛으로부터 제2 도포액 공급 유닛으로 상기 공급 경로로의 연결 교환이 행하여지고, 상기 제2 도포액 공급 유닛으로부터 도포액이 송액되는 구성으로 할 수 있다. In addition, a plurality of coating liquid supply units having a coating liquid tank and a buffer tank are provided, and the buffer tanks of these coating liquid supply units are alternatively connected to a common supply path, and are connected to the supply path. After the liquid feeding stop operation in the buffer tank of the first coating liquid supply unit connected in communication is performed, the exchange of the supply path from the first coating liquid supply unit to the second coating liquid supply unit is performed. It can be set as the structure which conveys a coating liquid from 2 coating liquid supply units.

이 구성에 의하면, 제1 도포액 공급 유닛에 있어서의 송액 정지 동작이 행하여진 후, 상기 공급 경로에는, 제1의 공급 유닛으로부터 제2 도포액 공급 유닛에 연결 교환이 행하여지는 것에 의하여, 도포액이 제2 도포액 공급 유닛으로부터 송액된다. 따라서, 제1 도포액 공급 유닛이 송액 정지 동작 후, 잔량 송액 동작을 행하는 것에 의하여, 버퍼 탱크 내에 기포가 혼입한 잔류 도포액을 송액하여 버퍼 탱크 내에서 기포와 도포액을 분리하고 있는 동안, 도포액의 공급을 정지시키는 것 없이, 제2 도포액 공급 유닛으로부터 도포액을 공급할 수 있다. According to this structure, after the liquid feeding stop operation | movement in a 1st coating liquid supply unit is performed, a connection liquid is performed to the 2nd coating liquid supply unit from a 1st supply unit to a said 2nd coating liquid supply unit in the said supply path | route. The liquid is fed from the second coating liquid supply unit. Therefore, the first coating liquid supplying unit performs the remaining amount liquid feeding operation after the liquid feeding stop operation, so that the remaining coating liquid mixed with bubbles in the buffer tank is fed to separate the bubbles and the coating liquid in the buffer tank. The coating liquid can be supplied from the second coating liquid supply unit without stopping the supply of the liquid.

또한, 상기 송액 정지 동작이 행하여진 후, 잔액 송액 동작이 행하여지기 전에, 상기 버퍼 탱크의 도포액을 감소시키는 도포액 감량 동작이 행하여지고, 그 감소량은, 상기 잔액 송액 동작에 의하여 도포액 탱크 내의 잔액이 송액되는 양으로 설정되는 구성으로 하여도 무방하다. Further, after the liquid feeding stop operation is performed, a coating liquid reducing operation for reducing the coating liquid of the buffer tank is performed before the liquid feeding operation is performed, and the amount of reduction is determined in the coating liquid tank by the remaining liquid feeding operation. The configuration may be set to the amount at which the balance is remitted.

이 구성에 의하면, 미리 잔액 송액 동작에 의하여 버퍼 탱크로 공급되는 도포액량이 감량되기 때문에, 버퍼 탱크에 잔액을 수용하는 용량을 별도 설치할 필요가 없다. 따라서, 버퍼 탱크가 필요 이상으로 대형화하는 것을 억제할 수 있다. According to this structure, since the amount of coating liquid supplied to the buffer tank is reduced in advance by the remaining liquid feeding operation, it is not necessary to separately provide a capacity for accommodating the remaining liquid in the buffer tank. Therefore, it is possible to suppress the buffer tank from becoming larger than necessary.

또한, 상기 버퍼 탱크는, 공급된 도포액을 수용하는 용기부와, 이 용기부의 저면부(底面部)에 설치되는 것과 함께, 공급된 도포액을 배출하여 송액하는 액 배출부와, 도포액 탱크로부터 송액된 도포액을 상기 용기부로 공급하는 액 공급부를 구비하고, 상기 액 공급부는, 용기부의 저면부로부터 용기부의 내부까지 연신(延伸)하는 파이프부를 가지고, 이 파이프부의 선단(先端)에 도포액을 토출하는 토출구를 가지는 구성으로 하여도 무방하다. In addition, the buffer tank includes a container portion for receiving the supplied coating liquid, a liquid discharge portion for discharging and feeding the supplied coating liquid while being provided at the bottom of the container portion, and a coating liquid tank. The liquid supply part which supplies the coating liquid conveyed from the said container part is provided, The said liquid supply part has a pipe part extended from the bottom part of a container part to the inside of a container part, and a coating liquid at the front-end | tip of this pipe part. It is good also as a structure which has a discharge port which discharges | discharges.

이 구성에 의하면, 도포액 탱크로부터 송액된 도포액을 용기부로 공급하는 액 공급부가, 용기부의 저면부로부터 연신하는 파이프부 선단 부분에 설치되고, 한편, 용기부 내의 도포액을 배출하는 액 배출부가 저면부에 설치되어 있기 때문에, 액 공급부와 액 배출부가 서로 떨어진 위치에 존재한다. 따라서, 잔류 도포액이 액 공급부로부터 공급된 경우여도, 잔류 도포액 내의 기포가 액 배출부로부터 바로 배출되어 버퍼 탱크의 하류 측으로 흐르는 것을 억제할 수 있다. According to this structure, the liquid supply part which supplies the coating liquid conveyed from the coating liquid tank to a container part is provided in the pipe part front-end part extended from the bottom part of a container part, and the liquid discharge part which discharges the coating liquid in a container part is provided. Since it is provided in the bottom part, a liquid supply part and a liquid discharge part exist in the position which mutually separated. Therefore, even when the residual coating liquid is supplied from the liquid supply portion, bubbles in the residual coating liquid can be directly discharged from the liquid discharge portion and can be prevented from flowing downstream of the buffer tank.

또한, 상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 도포액 공급 방법에 의하면, 도포액을 저류하는 도포액 탱크와, 도포액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크를 구비하고, 도포액 탱크의 도포액을 버퍼 탱크를 거쳐, 기판 상에 도포액을 도포하는 도포 장치로 도포액을 공급하는 도포액 공급 방법이고, 상기 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량을 검출하는 잔량 검지 수단을 구비하고, 이 잔량 검지 수단에 의하여, 상기 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량이 약간인 것을 검지하면, 상기 버퍼 탱크로부터 도포액을 송액하는 것을 정지시키는 송액 정지 공정과, 버퍼 탱크로부터의 송액을 정지시킨 상태로, 도포액 탱크 내의 잔류 도포액을 버퍼 탱크로 송액하는 잔액 송액 공정과, 도포액 탱크의 교환을 행하는 탱크 교환 공정을 가지는 것을 특징으로 하고 있다. Moreover, according to the coating liquid supplying method of this invention, in order to solve the said subject, it is equipped with the coating liquid tank which stores a coating liquid, and the buffer tank which temporarily stores a coating liquid, The coating liquid of a coating liquid tank is used as a buffer tank. It is a coating liquid supply method which supplies a coating liquid to the coating apparatus which apply | coats a coating liquid on a board | substrate, Comprising: It is equipped with the residual amount detection means which detects the residual amount of the coating liquid in the said coating liquid tank, By this residual amount detection means And a liquid feeding stop step of stopping the feeding of the coating liquid from the buffer tank when detecting that the remaining amount of the coating liquid in the coating liquid tank is small, and remaining in the coating liquid tank in a state where the liquid feeding from the buffer tank is stopped. It has a residual liquid liquid feeding process which transfers a coating liquid to a buffer tank, and the tank exchange process which exchanges a coating liquid tank, It is characterized by the above-mentioned.

상기 도포액 공급 방법에 의하면, 도포액 탱크의 잔량이 약간 남은 것을 검지하면, 송액 정지 공정에 의하여 버퍼 탱크로부터의 송액이 정지된다. 그리고, 이 송액을 정지시킨 상태에서, 잔액 송액 공정에 의하여 도포액 탱크에 잔류하는 도포액을 버퍼 탱크로 송액시키기 때문에, 잔류한 도포액 내에 대량의 기포가 혼입하여 있는 경우여도 버퍼 탱크로부터의 송액이 정지되어 있는 것에 의하여, 기포가 버퍼 탱크보다 하류 측으로 흐르는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 잔액 송액 공정 후, 탱크 교환 공정이 행하여 지는 것에 의하여, 탱크 교환 공정에 요하는 시간 내에, 버퍼 탱크로 송액된 잔류 도포액 내의 기포가 부력을 받아 상승하는 것에 의하여, 도포액과 기포가 분리된다. 즉, 도포액 탱크 내의 도포액을 끝까지 다 사용할 수 있는 것과 함께, 도포액 내의 기포도 충분히 제거할 수 있다. 따라서, 도포액이 헛되게 폐기되는 것을 피하면서, 공급하는 도포액에 기포가 혼입하는 것을 억제할 수 있다. According to the said coating liquid supply method, when detecting that the remaining amount of a coating liquid tank remains a little, the liquid feeding from a buffer tank is stopped by a liquid feeding stop process. Since the coating liquid remaining in the coating liquid tank is fed into the buffer tank in the state in which the liquid feeding is stopped, the liquid is supplied from the buffer tank even if a large amount of bubbles are mixed in the remaining coating liquid. By this stop, it is possible to prevent bubbles from flowing downstream from the buffer tank. The coating liquid and the air bubbles are separated by the bubbling of the residual coating liquid delivered to the buffer tank within the time required for the tank replacing step by the tank exchange step being carried out after the liquid liquid feeding step, thereby raising the buoyancy. do. That is, while the coating liquid in the coating liquid tank can be used up to the end, bubbles in the coating liquid can also be sufficiently removed. Therefore, it is possible to suppress the mixing of bubbles in the coating liquid to be supplied while avoiding waste of the coating liquid.

또한, 상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 버퍼 탱크에 의하면, 공급된 도포액을 수용하는 용기부와, 이 용기부의 저면부에 설치되는 것과 함께, 공급된 도포액을 배출하여 송액하는 액 배출부와, 도포액 탱크로부터 송액된 도포액을 상기 용기부로 공급하는 액 공급부를 구비하는 버퍼 탱크이고, 상기 액 공급부는, 용기부의 저면부로부터 용기부의 내부까지 연신하는 파이프부를 가지고, 이 파이프부의 선단으로 도포액을 토출하는 토출구를 가지는 것을 특징으로 하고 있다. Moreover, according to the buffer tank of this invention, in order to solve the said subject, it is equipped with the container part which accommodates the applied coating liquid, and the liquid discharge part which is installed in the bottom part of this container part, and discharges and supplies the supplied coating liquid. And a buffer tank for supplying the coating liquid delivered from the coating liquid tank to the container section, wherein the liquid supply section has a pipe section extending from the bottom of the container section to the interior of the container section, and at the tip of the pipe section. And a discharge port for discharging the coating liquid.

이 구성에 의하면, 도포액 탱크로부터 송액된 도포액을 용기부로 공급하는 액 공급부가, 용기부의 저면부로부터 연신하는 파이프부 선단 부분에 설치되고, 한편, 용기부 내의 도포액을 배출하는 액 배출부가 저면부에 설치되어 있기 때문에, 액 공급부와 액 배출부가 서로 떨어진 위치에 존재한다. 따라서, 잔류 도포액이 액 공급부로부터 공급된 경우여도, 잔류 도포액 내의 기포가 액 배출부로부터 곧바로 배출되어 버퍼 탱크의 하류 측으로 흐르는 것을 억제할 수 있다. 이것에 의하여, 기포가 대량으로 혼입하는 도포액 탱크의 잔류 도포액이 버퍼 탱크로 공급된 경우여도, 기포를 하류 측으로 흐르는 것을 억제할 수 있기 때문에, 도포액이 헛되게 폐기되는 것을 피할 수 있다.According to this structure, the liquid supply part which supplies the coating liquid conveyed from the coating liquid tank to a container part is provided in the pipe part front-end part extended from the bottom part of a container part, and the liquid discharge part which discharges the coating liquid in a container part is provided. Since it is provided in the bottom part, a liquid supply part and a liquid discharge part exist in the position which mutually separated. Therefore, even when the residual coating liquid is supplied from the liquid supply portion, bubbles in the residual coating liquid can be immediately discharged from the liquid discharge portion and can be prevented from flowing downstream of the buffer tank. As a result, even when the remaining coating liquid of the coating liquid tank in which bubbles are mixed in a large amount is supplied to the buffer tank, it is possible to suppress the flow of bubbles downstream, so that the coating liquid can be avoided in vain.

본 발명의 도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법, 및 버퍼 탱크에 의하면, 도포액이 헛되게 폐기되는 것을 피하면서, 나아가 공급하는 도포액에 기포가 혼입하는 것을 억제할 수 있다. According to the coating liquid supply device, the coating liquid supply method, and the buffer tank of the present invention, it is possible to suppress the mixing of bubbles in the coating liquid to be supplied while avoiding waste of the coating liquid.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 있어서의 도포액 공급 장치를 도시하는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 있어서의 버퍼 탱크를 도시하는 개략도이다.
도 3은 버퍼 탱크에 도포액이 공급된 상태를 도시하는 도면이다.
도 4는 도포액 공급 장치의 동작을 도시하는 플로차트이다.
도 5는 버퍼 탱크 충전 공정에 있어서의 밸브의 개폐 상태를 도시하는 도면이다.
도 6은 도포액 공급 공정에 있어서의 밸브의 개폐 상태를 도시하는 도면이다.
도 7은 송액 정지 공정에 있어서의 밸브의 개폐 상태를 도시하는 도면이다.
도 8은 버퍼 탱크액량 조정 공정에 있어서의 밸브의 개폐 상태를 도시하는 도면이다.
도 9는 잔액 송액 공정에 있어서의 밸브의 개폐 상태를 도시하는 도면이다.
도 10은 탱크 교환 공정에 있어서의 밸브의 개폐 상태를 도시하는 도면이다.
도 11은 종래의 도포액 공급 장치를 도시하는 도면이다.
도 12는 종래의 도포액 공급 장치에 있어서, 도포액이 적어진 상태를 도시하는 도면이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic diagram which shows the coating liquid supply apparatus in one Example of this invention.
2 is a schematic view showing a buffer tank in one embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating a state in which a coating liquid is supplied to a buffer tank.
4 is a flowchart showing the operation of the coating liquid supply device.
It is a figure which shows the opening / closing state of the valve in a buffer tank filling process.
It is a figure which shows the opening / closing state of the valve in a coating liquid supply process.
It is a figure which shows the opening / closing state of the valve in a liquid feeding stop process.
It is a figure which shows the opening / closing state of the valve in a buffer tank liquid amount adjustment process.
It is a figure which shows the opening / closing state of the valve in a balance liquid feeding process.
It is a figure which shows the opening / closing state of the valve in a tank exchange process.
It is a figure which shows the conventional coating liquid supply apparatus.
It is a figure which shows the state with less coating liquid in the conventional coating liquid supply apparatus.

본 발명의 도포액 공급 장치, 도포액 공급 방법 및 버퍼 탱크에 관련되는 실시예를 도면을 이용하여 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION The Example which concerns on the coating liquid supply apparatus of this invention, a coating liquid supply method, and a buffer tank is demonstrated using drawing.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 있어서의 도포액 공급 장치를 도시하는 개략도이며, 도 2는 버퍼 탱크를 도시하는 도면이다. 1 is a schematic diagram showing a coating liquid supply apparatus in an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a buffer tank.

도 1, 도 2에 도시하는 바와 같이, 도포액 공급 장치는, 도포액 공급 유닛(10, 제1 도포액 공급 유닛), 도포액 공급 유닛(20, 제2 도포액 공급 유닛)을 구비하고 있고, 이 도포액 공급 유닛(10, 20)으로부터 탱크나 도포 장치의 펌프에 레지스트액 등의 도포액을 공급하는 것이다. 본 실시예에 있어서의 도 1에서는, 도포액 공급 유닛(10, 20)으로부터 예비 탱크(2)를 거쳐 도포 장치(3)의 펌프(3a)로 도포액을 공급하는 예를 도시하고 있다. 본 실시예에 있어서의 도포액 공급 장치는, 도포액 공급 유닛(10, 20)을 2개 구비하는 예를 도시하고 있고, 일방(一方)의 도포액 공급 유닛(10)(또는 도포액 공급 유닛(20))의 도포액의 공급이 끝나면, 타방(他方)의 도포액 공급 유닛(20)(또는 도포액 공급 유닛(10))으로부터 도포액이 공급된다고 하는 것과 같이, 어느 일방의 도포액 공급 유닛(10)(또는 도포액 공급 유닛(20))으로부터 도포액이 공급되도록 되어 있다. As shown to FIG. 1, FIG. 2, the coating liquid supply apparatus is equipped with the coating liquid supply unit 10 (1st coating liquid supply unit), and the coating liquid supply unit 20 (2nd coating liquid supply unit), The coating liquid such as a resist liquid is supplied from the coating liquid supply units 10 and 20 to the pump of the tank or the coating apparatus. In FIG. 1 in the present embodiment, an example in which the coating liquid is supplied from the coating liquid supply units 10 and 20 to the pump 3a of the coating apparatus 3 via the preliminary tank 2 is illustrated. The coating liquid supply apparatus in this embodiment shows the example provided with two coating liquid supply units 10 and 20, and one coating liquid supply unit 10 (or coating liquid supply unit) is shown. When the supply of the coating liquid of (20) is completed, any one of the coating liquids is supplied, such that the coating liquid is supplied from the other coating liquid supply unit 20 (or the coating liquid supply unit 10). The coating liquid is supplied from the unit 10 (or the coating liquid supply unit 20).

덧붙여, 본 실시예에 있어서, 도포액은 도포액 공급 유닛(10, 20)으로부터 예비 탱크(2), 도포 장치(3)로 송액되지만, 직접 도포 장치(3)로 송액하여도 무방하고, 어느 구성이어도 송액되는 측을 특별히 하류 측이라고 부르기로 한다. In addition, in this embodiment, although the coating liquid is fed from the coating liquid supply units 10 and 20 to the preliminary tank 2 and the coating apparatus 3, the coating liquid may be directly fed to the coating apparatus 3, Even if it is a structure, it will be called the downstream side especially a downstream side.

도포액 공급 유닛(10)은, 도포액을 저류하는 도포액 탱크(11)와, 도포액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크(12)를 구비하고 있고, 도포액 탱크(11)의 도포액이 버퍼 탱크(12)에서 일시적으로 저류된 후, 예비 탱크(2)로 공급된다. 구체적으로는, 도포액 탱크(11)와 버퍼 탱크(12)가 배관(D1a)에 의하여 연통하여 접속되어 있고, 이 배관(D1a)을 통하여 도포액 탱크(11)의 도포액이 버퍼 탱크(12)로 공급된다. 즉, 배관(D1a)에 설치된 밸브(V1a)를 열림 상태로 하여, 도포액 탱크(11)로부터 도포액이 송액되는 것에 의하여 도포액이 버퍼 탱크(12)로 공급된다. The coating liquid supply unit 10 includes a coating liquid tank 11 for storing the coating liquid and a buffer tank 12 for temporarily storing the coating liquid, and the coating liquid of the coating liquid tank 11 is buffered. After being temporarily stored in the tank 12, it is supplied to the reserve tank 2. Specifically, the coating liquid tank 11 and the buffer tank 12 communicate with each other by the pipe D1a, and the coating liquid of the coating liquid tank 11 is connected to the buffer tank 12 through the pipe D1a. Is supplied. That is, the coating liquid is supplied to the buffer tank 12 by sending the coating liquid from the coating liquid tank 11 with the valve V1a provided in the pipe D1a being opened.

도포액 탱크(11)는, 대량의 도포액을 저류시켜 두는 것이며, 도포 장치에 의하여 도포되는 기판 복수매분의 도포액이 저류되어 있다. 이 도포액 탱크(11)는, 도포액 탱크 본체(11a)와, 도포액 탱크 본체(11a) 내에 가스를 도입하기 위한 가스 도입부(11b)와, 도포액을 배출하는 도포액 배출부(11c)를 가지고 있다. The coating liquid tank 11 stores a large amount of coating liquid, and a coating liquid for a plurality of substrates applied by the coating apparatus is stored. This coating liquid tank 11 has a coating liquid tank main body 11a, the gas introduction part 11b for introducing gas into the coating liquid tank main body 11a, and the coating liquid discharge part 11c which discharges a coating liquid. Have

도포액 탱크 본체(11a)는, 도포액을 저류하는 용기이다. 이 도포액 탱크 본체(11a)는, 교체 가능하게 구성되어 있고, 도포액이 없어진 경우에는 도포액이 충전(充塡)된 도포액 탱크 본체(11a) 자체를 바꿀 수 있도록 되어 있다. 이 도포액 탱크 본체(11a)의 상방(上方) 부분에는 가스 도입부(11b)가 설치되어 있고, 이 가스 도입부(11b)와 도시하지 않는 에어 컴프레서(air compressor)가 배관(D2a)에 의하여 연결되어 있다. 그리고, 이 배관(D2a)에는, 밸브(V2a)가 설치되어 있고, 이 밸브(V2a)를 개폐 동작시키는 것에 의하여 도포액 탱크 본체(11a)로 에어를 공급할 수 있도록 되어 있다. 이 밸브(V2a)는, 에어 오퍼레이트식 밸브가 사용되어 있고, 후술하는 제어 장치에 의하여 개폐 동작을 제어할 수 있도록 되어 있다. 그리고, 이 밸브(V2a)의 개폐 동작을 제어하고 도포액 탱크 본체(11a)로 에어를 공급하여 가압하는 것에 의하여, 도포액 탱크 본체(11a)의 도포액을 버퍼 탱크(12)로 송액할 수 있다. 즉, 밸브(V2a)를 열림 상태로 하여 에어가 도포액 탱크 본체(11a)로 공급되면, 도포액 탱크 본체(11a)의 압력이 상승하는 것에 의하여 도포액 탱크 본체(11a)의 도포액이 압력을 받아, 도포액이 도포액 배출부(11c)를 통하여 배관(D1a)으로 배출되고, 버퍼 탱크(12)로 송액된다. The coating liquid tank main body 11a is a container which stores a coating liquid. This coating liquid tank main body 11a is comprised so that replacement is possible, and when the coating liquid disappears, the coating liquid tank main body 11a itself filled with the coating liquid can be changed. The gas introduction part 11b is provided in the upper part of this coating liquid tank main body 11a, and this gas introduction part 11b and the air compressor not shown are connected by piping D2a. have. And the valve | bulb V2a is provided in this piping D2a, and air can be supplied to the coating liquid tank main body 11a by opening and closing this valve V2a. An air operated valve is used for this valve V2a, and the opening / closing operation can be controlled by the control apparatus mentioned later. Then, the coating liquid of the coating liquid tank main body 11a can be fed to the buffer tank 12 by controlling the opening / closing operation of the valve V2a and supplying and pressurizing air to the coating liquid tank main body 11a. have. That is, when air is supplied to the coating liquid tank main body 11a with the valve V2a opened, the coating liquid of the coating liquid tank main body 11a will pressurize by the pressure of the coating liquid tank main body 11a rising. In response, the coating liquid is discharged into the pipe D1a through the coating liquid discharge part 11c, and is fed to the buffer tank 12.

또한, 도포액 배출부(11c)는, 파이프상(狀)의 관상(管狀) 부재가 도포액 탱크 본체(11a)의 상방으로부터 하방(下方)으로 연장되도록 설치되어 있고, 이 관상 부재와 배관(D1a)이 연결되어 있다. 그리고, 이 관상 부재는, 도포액 탱크 본체(11a)의 저면 부분까지 연신하여 설치되어 있고, 이것에 의하여, 도포액 탱크 본체(11a)의 도포액의 잔량이 적은 경우(저면부 부근에 액면이 있는 경우)라도 배관(D1a)을 통하여 버퍼 탱크(12)로 도포액을 송액할 수 있도록 되어 있다. Moreover, the coating liquid discharge | release part 11c is provided so that the pipe-shaped tubular member may extend downward from the upper side of the coating liquid tank main body 11a, and this tubular member and piping ( D1a) is connected. And this tubular member is extended | stretched and provided to the bottom face part of the coating liquid tank main body 11a, and, by this, when there is little residual amount of coating liquid of the coating liquid tank main body 11a (the liquid surface is near a bottom part) If any, the coating liquid can be fed to the buffer tank 12 via the pipe D1a.

덧붙여, 배관(D1a)에는, 기포를 검지하는 기포 검지 센서(F1a)가 장착되어 있다. 이 기포 검지 센서(F1a)는, 도포액 탱크 본체(11a)의 도포액의 잔량이 적은 것을 검지하는 것이다. 즉, 도포액 탱크 본체(11a) 내의 도포액의 잔량이 적은 경우, 도포액과 동시에 도포액 탱크 본체(11a) 내의 공기도 함께 받아들여지는 것에 의하여, 기포가 혼입한 상태로 도포액이 송액된다. 따라서, 도포액에 약간의 기포(w)가 혼입한 상태라도 검지시키는 것에 의하여, 버퍼 탱크(12)로 대량의 기포(w)가 공급되는 것을 방지할 수 있도록 되어 있다. In addition, the bubble detection sensor F1a which detects a bubble is attached to piping D1a. This bubble detection sensor F1a detects that the remaining amount of the coating liquid of the coating liquid tank main body 11a is small. That is, when the remaining amount of the coating liquid in the coating liquid tank main body 11a is small, air in the coating liquid tank main body 11a is also taken in at the same time as the coating liquid, and the coating liquid is fed in a state where bubbles are mixed. . Therefore, even if some bubble w is mixed in the coating liquid, it is possible to prevent the supply of a large amount of bubbles w to the buffer tank 12.

덧붙여, 도 1에 도시하는 예에서는, 도포액 탱크 본체(11a)가 케이스 부재로 도시되어 있지만, 케이스 부재 내에 튜브상의 봉투 부재를 가지는 구성이고, 케이스 부재 내의 압력을 높게 하는 것에 의하여, 봉투 부재 내의 도포액이 버퍼 탱크(12)로 공급되는 것이어도 무방하다. In addition, in the example shown in FIG. 1, although the coating liquid tank main body 11a is shown by the case member, it is a structure which has a tube-shaped envelope member in a case member, and raises the pressure in a case member, The coating liquid may be supplied to the buffer tank 12.

또한, 버퍼 탱크(12)는, 도포액 탱크(11)로부터 송액된 도포액을 일시적으로 저류하고, 도포액 내의 기포를 제거하는 것이다. 버퍼 탱크(12)는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 도포액을 저류하는 용기부(41)와, 도포액 탱크(11)로부터 송액된 도포액을 용기부(41)로 공급하는 액 공급부(42)와, 도포액을 하류 측으로 배출하는 액 배출부(43)와, 용기부(41) 내의 기체를 배출하는 배기부(44)를 가지고 있다. In addition, the buffer tank 12 temporarily stores the coating liquid fed from the coating liquid tank 11 and removes bubbles in the coating liquid. As shown in FIG. 2, the buffer tank 12 includes a container portion 41 for storing the coating liquid and a liquid supply portion for supplying the coating liquid fed from the coating liquid tank 11 to the container portion 41 ( 42, a liquid discharge part 43 for discharging the coating liquid to the downstream side, and an exhaust part 44 for discharging the gas in the container part 41.

용기부(41)는, 도포액을 저류할 수 있는 원통 형상의 케이스 부재이다. 이 용기부(41)는, 상측 용기부(41a)와 하측 용기부(41b)로 분할할 수 있도록 되어 있고, 상측 용기부(41a)의 플랜지부와 하측 용기부(41b)의 플랜지부가 실(seal) 부재를 개재시킨 상태로 연결 고정되어 있다. 이것에 의하여, 용기부(41) 내의 도포액을 밀봉할 수 있도록 되어 있다. 그리고, 용기부(41)는, 상측 용기부(41a)와 하측 용기부(41b)가 연결 고정된 상태에서는, 용기부(41)의 상면부(41c)와 저면부(41d)가 대면한 상태가 되고, 저면부(41d)가 연직 방향 하측에 위치한 상태로 사용된다. 따라서, 도포액 탱크(11)로부터 도포액이 공급되면 도포액은 용기부(41)의 저면부(41d)로부터 순으로 채워지도록 되어 있다. The container portion 41 is a cylindrical case member capable of storing a coating liquid. The container portion 41 is divided into an upper container portion 41a and a lower container portion 41b, and the flange portion of the upper container portion 41a and the flange portion of the lower container portion 41b are sealed. Connection is fixed with the seal) interposed. Thereby, the coating liquid in the container part 41 can be sealed. And the container part 41 is a state where the upper surface part 41c and the bottom face part 41d of the container part 41 faced in the state which the upper container part 41a and the lower container part 41b connected and fixed. 41 d of bottom surfaces are used in the state located below the perpendicular direction. Therefore, when the coating liquid is supplied from the coating liquid tank 11, the coating liquid is filled in order from the bottom portion 41d of the container portion 41 in order.

또한, 액 공급부(42)는, 용기부(41)로 도포액을 공급하는 것이며, 본 실시예에서는, 용기부(41)의 저면부(41d)로부터 용기부(41)의 내부까지 연신된 파이프부(45)를 가지고 있다. 구체적으로는, 저면부(41d)에는, 배관(D1a)과 연결되는 공급 구멍이 형성되어 있고, 이 공급 구멍에 파이프부(45)가 장착되어 있다. 그리고, 파이프부(45)의 선단 부분에는, 용기부(41)에 개구(開口)한 토출구(45a)가 형성되어 있고, 도포액 탱크(11)로부터 배관(D1a)을 통하여 도포액이 송액되면, 토출구(45a)로부터 용기부(41)로 도포액이 공급되도록 되어 있다. 구체적으로는, 이 파이프부(45)는, 연직 방향으로 직립한 자세를 유지할 수 있도록 고정되어 있고, 배관(D1a)을 통하여 송액된 도포액은, 토출구(45a)로부터 솟아나와 파이프부(45)의 측면부(45b)를 타고 가 용기부(41)로 공급된다. 즉, 파이프부(45)의 측면부(45b)를 타고 가 공급되는 것에 의하여, 토출구(45a)로부터 힘차게 분출하여 공급되는 경우에 비하여 공급 시에 기포가 발생하는 것이 억제되어, 용기부(41)의 저면부(41d)로부터 고요하게 채워지도록 되어 있다. In addition, the liquid supply part 42 supplies a coating liquid to the container part 41, and in this embodiment, the pipe extended from the bottom face part 41d of the container part 41 to the inside of the container part 41. It has a portion 45. Specifically, a supply hole connected to the pipe D1a is formed in the bottom face portion 41d, and the pipe part 45 is attached to the supply hole. And the discharge port 45a opened in the container part 41 is formed in the front-end | tip part of the pipe part 45, and when a coating liquid is conveyed through the piping D1a from the coating liquid tank 11, The coating liquid is supplied from the discharge port 45a to the container portion 41. Specifically, the pipe part 45 is fixed so as to maintain the upright posture in the vertical direction, and the coating liquid fed through the pipe D1a springs out of the discharge port 45a to form the pipe part 45. Take the side part 45b of and supply it to the container part 41. That is, by supplying via the side part 45b of the pipe part 45, foaming is suppressed at the time of supply compared with the case where it is forcefully ejected and supplied from the discharge port 45a, and the container part 41 It fills in quietly from bottom part 41d.

여기서, 용기부(41)에는, 액면 센서(C1a, C2a)가 설치되어 있고, 용기부(41)로 공급되는 도포액의 용량을 검지할 수 있다. 즉, 액면 센서(C1a)는, 도포액의 액량의 상한을 검지하는 것이며, 본 실시예에서는 파이프부(45)의 토출구(45a)보다도 상방에 설치되어 있다. 그리고, 도포액의 액면이 액면 센서(C1a)의 높이에 일치하면 액면 센서(C1a)가 반응하고, 용기부(41) 내의 도포액이 그 액면의 높이 이상으로 공급되는 것을 방지할 수 있도록 되어 있다. 또한, 액면 센서(C2a)는, 도포액의 액량의 하한을 제어하는 것이며, 액면 센서(C1a)보다 하방에 설치되어 있다. 본 실시예에서는, 액면 센서(C1a)가 반응하는 상한값에 비하여, 소정량만큼 적은 양에서 액면 센서(C2a)가 반응하는 위치에 설치되어 있다. 구체적으로는, 도포액 탱크(11)의 도포액량이 약간 남게 되어, 기포 검지 센서(F1a)가 반응했을 때의 도포액 탱크(11)의 도포액량과 거의 같은 양으로 설정되어 있다. Here, the liquid level sensors C1a and C2a are provided in the container part 41, and the capacity | capacitance of the coating liquid supplied to the container part 41 can be detected. That is, the liquid level sensor C1a detects the upper limit of the liquid amount of the coating liquid, and is provided above the discharge port 45a of the pipe part 45 in this embodiment. When the liquid level of the coating liquid coincides with the height of the liquid level sensor C1a, the liquid level sensor C1a reacts, and the coating liquid in the container portion 41 can be prevented from being supplied beyond the height of the liquid level. . The liquid level sensor C2a controls the lower limit of the liquid amount of the coating liquid and is provided below the liquid level sensor C1a. In the present embodiment, the liquid level sensor C2a is provided at a position where the liquid level sensor C2a reacts in an amount smaller than the upper limit value at which the liquid level sensor C1a reacts. Specifically, the amount of the coating liquid in the coating liquid tank 11 remains slightly, and the amount of the coating liquid in the coating liquid tank 11 when the bubble detection sensor F1a reacts is set at about the same amount.

또한, 배기부(44)는, 용기부(41) 내의 기체를 배출하는 것이며, 본 실시예에서는, 상측 용기부(41a)에 설치되어 있다. 구체적으로는, 상측 용기부(41a)의 상면부(41c)에 배기 구멍이 개구하여 형성되어 있고, 이 배기 구멍에 배관(D4a)이 연통하여 접속되어 있다. 이 배관(D4a)은, 밸브(V4a)가 설치되어 있고, 배관(D4a)의 단부(端部)는 대기 중에 개구되어 있다. 그리고, 밸브(V4a)는 에어 오퍼레이트식 밸브가 사용되어 있고, 제어 장치에 의하여 개폐 동작을 제어할 수 있도록 되어 있다. 따라서, 밸브(V4a)의 개폐 동작을 제어하는 것에 의하여, 용기부(41) 내의 기체를 배기하면서, 용기부(41) 내의 압력을 조절할 수 있도록 되어 있다. 이것에 의하여, 액 공급부(42)로부터 도포액이 용기부(41)로 공급되는 것에 의하여, 이 밸브(V4a)를 개폐 동작을 제어하여 용기부(41) 내의 기체를 배기하는 것에 의하여, 용기부(41) 내의 압력의 상승을 억제하여 용기부(41)로 소정량의 도포액이 안정하여 공급할 수 있도록 되어 있다. In addition, the exhaust part 44 discharges the gas in the container part 41, and is provided in the upper container part 41a in this embodiment. Specifically, an exhaust hole is formed in the upper surface portion 41c of the upper container portion 41a by opening, and the pipe D4a communicates with and is connected to the exhaust hole. The valve | bulb V4a is provided in this piping D4a, and the edge part of the piping D4a is opened in air | atmosphere. As the valve V4a, an air operated valve is used, and the opening and closing operation can be controlled by the control device. Therefore, by controlling the opening / closing operation of the valve V4a, the pressure in the container portion 41 can be adjusted while exhausting the gas in the container portion 41. As a result, the coating liquid is supplied from the liquid supply part 42 to the container part 41, thereby controlling the opening and closing operation of the valve V4a to exhaust the gas in the container part 41. The rise of the pressure in 41 is suppressed, and the coating liquid of predetermined amount can be supplied to the container part 41 stably.

액 배출부(43)는, 용기부(41)에 저류된 도포액을 도포 장치(3) 측으로 배출하는 것이며, 본 실시예에서는, 도포액이 배출되는 것에 의하여 하류 측의 예비 탱크(2)로 송액된다. 이 액 배출부(43)는, 저면부(41d)에 개구하여 형성된 배출 구멍이다. 그리고, 액 배출부(43)와 예비 탱크(2)가 배관(D3a)에 의하여 연결되어 있는 것에 의하여, 용기부(41)에 저류된 도포액은, 액 배출부(43)로부터 배관을 통하여 예비 탱크(2)로 배출되도록 되어 있다. 구체적으로는, 배관(D3a)과 공통 배관(60)이 밸브(V3a)에 의하여 연결되어 있고, 공통 배관(60)이 예비 탱크(2)에 연통하여 접속되어 있다. 그리고, 밸브(V3a)는 에어 오퍼레이트식 밸브가 사용되어 있고, 제어 장치에 의하여 개폐 동작을 제어할 수 있도록 되어 있다. 따라서, 밸브(V4a)가 닫힘 상태이고, 또한, 밸브(V1a, V2a) 및 밸브(V3a)가 열림 상태로 도포액 탱크 본체(11a)로 에어가 공급되면, 도포액 탱크 본체(11a)의 도포액이 버퍼 탱크(12)로 송액되고, 이 송액된 도포액에 의하여 버퍼 탱크(12) 내의 압력이 상승하는 것에 의하여, 버퍼 탱크(12) 내의 도포액이 압력을 받아, 배관(D3a) 및 공통 배관(60)을 통하여 하류 측의 예비 탱크(2)로 송액되도록 되어 있다. 그리고, 액 배출부(43)가 저면부(41d)에 설치되는 것에 의하여, 만일 도포액 중에 기포(w)가 혼입하는 경우라도, 도포액 중의 기포(w)를 제거할 수 있다. 즉, 도 3에 도시하는 바와 같이, 액 공급부(42)의 토출구(45a)로부터 도포액이 기포(w)와 함께 공급되면, 기포(w)는 도포액의 흐름과 함께 저면부(41d)로 향하지만, 곧바로 부력에 의하여 상승하는 것에 의하여, 기포(w)가 도포액과 함께 액 배출부(43)로부터 배출되는 것이 억제된다. 따라서, 액 공급부(42)의 토출구(45a)가, 액 배출부(43)가 설치되는 저면부(41d)로부터 떨어진 위치에 배치되어 있는 것에 의하여, 액 공급부(42)의 토출구(45a)로부터 공급된 도포액 중에 기포(w)가 혼입하고 있는 경우라도, 도포액과 함께 기포(w)가 액 배출부(43)로부터 배출되는 것을 억제할 수 있어, 도포액 내의 기포(w)를 제거할 수 있다. The liquid discharge part 43 discharges the coating liquid stored in the container part 41 toward the coating device 3 side, and in this embodiment, the coating liquid is discharged to the preliminary tank 2 on the downstream side. It is sent. This liquid discharge part 43 is a discharge hole formed by opening in the bottom face part 41d. And the coating liquid stored in the container part 41 is preliminary | stored through the piping from the liquid discharge part 43 by connecting the liquid discharge | release part 43 and the reserve tank 2 by piping D3a. It is supposed to be discharged to the tank 2. Specifically, the pipe D3a and the common pipe 60 are connected by the valve V3a, and the common pipe 60 is connected in communication with the reserve tank 2. As the valve V3a, an air operated valve is used, and the opening and closing operation can be controlled by the control device. Therefore, when air is supplied to the coating liquid tank main body 11a with the valve V4a closed and the valves V1a and V2a and the valve V3a open, the coating liquid tank main body 11a is applied. The liquid is fed to the buffer tank 12, and the pressure in the buffer tank 12 is increased by the transferred liquid to apply the pressure to the coating liquid in the buffer tank 12. The liquid is fed to the preliminary tank 2 on the downstream side via the pipe 60. And by providing the liquid discharge part 43 in the bottom face part 41d, even if the bubble w mixes in the coating liquid, the bubble w in the coating liquid can be removed. That is, as shown in FIG. 3, when a coating liquid is supplied with the bubble w from the discharge port 45a of the liquid supply part 42, the bubble w moves to the bottom face part 41d with the flow of a coating liquid. However, by rising by buoyancy immediately, it is suppressed that the bubble w is discharged from the liquid discharge part 43 together with the coating liquid. Therefore, the discharge port 45a of the liquid supply part 42 is disposed at a position away from the bottom face 41d on which the liquid discharge part 43 is provided, so that it is supplied from the discharge port 45a of the liquid supply part 42. Even when the bubble w is mixed in the applied coating liquid, the bubble w can be suppressed from being discharged from the liquid discharge part 43 together with the coating liquid, and the bubbles w in the coating liquid can be removed. have.

또한, 용기부(41)의 상면부(41c)에는, 가스 도입부(48)가 설치되어 있다. 이 가스 도입부(48)는, 도포액 탱크(11)의 가스 도입부(11b)와 마찬가지의 기능을 가지는 것이며, 이 가스 도입부(48)로부터 에어가 공급되는 것에 의하여, 도포액 탱크(11)로부터 도포액이 송액되지 않아도, 용기부(41) 내의 도포액을 하류 측으로 배출할 수 있다. 구체적으로는, 가스 도입부(48)와 도시하지 않는 에어 컴프레서가 배관(D5a)에 의하여 연결되어 있다. 그리고, 이 배관(D5a)에는, 밸브(V5a)가 설치되어 있고, 이 밸브(V5a)를 개폐 동작시키는 것에 의하여 용기부(41)로 에어를 공급할 수 있도록 되어 있다. 이 밸브(V5a)는, 에어 오퍼레이트식 밸브가 사용되어 있고, 제어 장치에 의하여 개폐 동작을 제어할 수 있도록 되어 있다. 그리고, 이 밸브(V5a)의 개폐 동작을 제어하고 용기부(41)로 에어를 공급하는 것에 의하여, 용기부(41)의 도포액을 예비 탱크(2)로 송액할 수 있다. 즉, 밸브(V3a), 밸브(V5a)를 열림 상태, 밸브(V1a), 밸브(V4a)를 닫힘 상태로 하여 에어가 용기부(41)로 공급되면, 용기부(41)의 압력이 상승하는 것에 의하여 용기부(41)의 도포액이 압력을 받고, 도포액이 액 배출부(43)를 통하여 배관(D3a)으로 배출되어, 공통 유로(60, 공통의 공급 경로)를 거쳐 예비 탱크(2)로 송액된다. In addition, the gas introduction part 48 is provided in the upper surface part 41c of the container part 41. This gas introduction part 48 has the same function as the gas introduction part 11b of the coating liquid tank 11, and is apply | coated from the coating liquid tank 11 by supplying air from this gas introduction part 48. FIG. Even if the liquid is not fed, the coating liquid in the container portion 41 can be discharged to the downstream side. Specifically, the gas introduction part 48 and the air compressor not shown are connected by piping D5a. And the valve | bulb V5a is provided in this piping D5a, and air can be supplied to the container part 41 by opening and closing this valve V5a. An air operated valve is used for this valve V5a, and the opening and closing operation can be controlled by a control device. And the coating liquid of the container part 41 can be sent to the preliminary tank 2 by controlling the opening / closing operation | movement of this valve V5a, and supplying air to the container part 41. FIG. That is, when air is supplied to the container portion 41 with the valve V3a and the valve V5a open, the valve V1a and the valve V4a closed, the pressure in the container portion 41 increases. As a result, the coating liquid of the container part 41 is pressurized, the coating liquid is discharged to the pipe D3a through the liquid discharge part 43, and the preliminary tank 2 is passed through the common flow path 60 (common supply path). It is sent to).

또한, 본 실시예에서는, 도포액 공급 유닛(10)과는 별도로 도포액 공급 유닛(20)이 설치되어 있다. 이 도포액 공급 유닛(20)은, 도포액 공급 유닛(10)과 마찬가지의 구성을 가지고 있고, 도 1에 있어서 대상의 위치 관계에 있는 구성 부재는 같은 기능을 가지고 있다. 따라서, 도포액 공급 유닛(20)에 관해서는, 설명을 생략하는 것으로 한다. In addition, in this embodiment, the coating liquid supply unit 20 is provided separately from the coating liquid supply unit 10. This coating liquid supply unit 20 has the same structure as the coating liquid supply unit 10, and the structural member in the positional relationship of the object in FIG. 1 has the same function. Therefore, description about the coating liquid supply unit 20 is abbreviate | omitted.

이들 도포액 공급 유닛(10, 20)은, 공통 유로(60)에 연통하여 접속되고 있고, 이 공통 유로(60)로의 접속을 전환하는 것에 의하여, 도포 장치(3)로 어느 일방(一方)의 도포액 공급 유닛(10, 20)으로부터 도포액을 공급할 수 있다. 즉, 밸브(V3a)를 열림 상태, 밸브(V3b)를 닫힘 상태로 설정한 경우에는, 공통 유로(60)가 도포액 공급 유닛(10)과 연통하여 접속되기 때문에, 도포액이 도포액 공급 유닛(10)으로부터 공급된다. 또한, 밸브(V3b)를 열림 상태, 밸브(V3a)를 닫힘 상태로 한 경우에는, 공통 유로(60)가 도포액 공급 유닛(20)과 연통하여 접속되기 때문에, 도포액이 도포액 공급 유닛(20)으로부터 공급된다. These coating liquid supply units 10 and 20 are connected in communication with the common flow path 60, and by switching the connection to this common flow path 60, either one of the coating apparatuses 3 is changed. The coating liquid can be supplied from the coating liquid supply units 10 and 20. That is, when the valve V3a is set to the open state and the valve V3b is set to the closed state, since the common flow path 60 is connected in communication with the coating liquid supply unit 10, the coating liquid is applied to the coating liquid supply unit. It is supplied from 10. In addition, when the valve V3b is in the open state and the valve V3a is in the closed state, since the common flow path 60 is connected in communication with the coating liquid supply unit 20, the coating liquid is applied to the coating liquid supply unit ( 20).

또한, 이 도포액 공급 장치는, 도시하지 않는 제어 장치가 설치되어 있다. 이 제어 장치에 의하여, 도포액 공급 장치가 통괄적으로 제어되도록 되어 있다. 구체적으로는, 기포 검지 센서(F1a, F1b), 액면 센서(C1a, C2a, C1b, C2b) 등의 각 센서류로부터의 신호를 받아 각 밸브(V1a, V2a …)의 개폐 동작이 제어된다. 이 각 밸브(V1a, V2a …)의 개폐 동작을 제어하는 것에 의하여, 도포액 탱크(11, 21)나 버퍼 탱크(12, 22)의 송액, 정지 등이 제어된다. In addition, this coating liquid supply apparatus is provided with the control apparatus which is not shown in figure. By this control apparatus, the coating liquid supply apparatus is collectively controlled. Specifically, opening and closing operations of the valves V1a, V2a ... are controlled by receiving signals from the sensors such as the bubble detection sensors F1a and F1b and the liquid level sensors C1a, C2a, C1b and C2b. By controlling the opening / closing operation of each of the valves V1a, V2a..., The feeding, stopping, and the like of the coating liquid tanks 11, 21 and the buffer tanks 12, 22 are controlled.

다음으로 이 도포액 공급 장치의 동작에 관하여, 도 4에 도시하는 플로차트(flow chart) 및 도 5 ~ 도 10의 각 공정에 있어서의 밸브의 개폐 상태를 도시하는 도면에 기초하여 설명한다. 덧붙여, 도 5 ~ 도 10에서는, 하얗게 남겨둔 밸브는 열림 상태를 도시하고, 검게 칠한 밸브는 닫힘 상태를 도시하고 있다. 또한, 이 설명에서는, 최초에 도포액 공급 유닛(10)으로부터 도포액을 공급하고, 그 다음으로 도포액 공급 유닛(20)으로부터 도포액을 공급하는 예에 관하여 설명한다. Next, the operation | movement of this coating liquid supply apparatus is demonstrated based on the flowchart shown in FIG. 4, and the figure which shows the opening / closing state of the valve in each process of FIGS. In addition, in Figs. 5 to 10, the valve left in white shows the open state, and the valve painted in black shows the closed state. In addition, in this description, the example which supplies a coating liquid from the coating liquid supply unit 10 first, and then supplies a coating liquid from the coating liquid supply unit 20 is demonstrated.

우선, 스텝 S1에 의하여, 버퍼 탱크 충전이 행하여진다(버퍼 탱크 충전 공정). 즉, 도포액 공급 유닛(10)의 도포액 탱크(11)로부터 도포액이 송액되는 것에 의하여, 버퍼 탱크(12)에 소정량의 도포액이 충전된다. 구체적으로는, 도 5에 도시하는 바와 같이 밸브(V1a, V2a, V4a)가 열림 상태로 설정되어, 배관(D2a)으로부터 가스 도입부(11b)를 통하여 에어가 공급되면, 도포액 탱크 본체(11a)의 도포액이 압력을 받아, 도포액이 도포액 배출부(11c)를 통하여 배관(D1a)으로 배출되고, 버퍼 탱크(12)로 송액된다. 그리고, 배관(D1a)을 통하여 송액된 도포액은, 액 공급부(42)의 토출구(45a)로부터 솟아 나와 파이프부(45)의 측면부(45b)를 타 용기부(41)로 공급된다. 그리고, 버퍼 탱크(12)의 용기부(41)에 도포액이 충전되고, 액면 센서(C2a)의 스위치가 들어가고, 한층 더 도포액이 공급되는 것에 의하여, 액면 센서(C1a)의 스위치가 들어가는 것에 의하여, 버퍼 탱크(12)에 소정량의 도포액이 공급되었다고 판단되어, 버퍼 탱크 충전이 완료한다. First, buffer tank filling is performed by step S1 (buffer tank filling step). In other words, the coating liquid is fed from the coating liquid tank 11 of the coating liquid supply unit 10 to fill the buffer tank 12 with a predetermined amount of coating liquid. Specifically, as shown in FIG. 5, when the valves V1a, V2a, V4a are set to the open state and air is supplied from the pipe D2a through the gas inlet 11b, the coating liquid tank main body 11a , The coating liquid is pressurized, and the coating liquid is discharged to the pipe D1a through the coating liquid discharge part 11c and is fed to the buffer tank 12. And the coating liquid conveyed through the piping D1a rises out of the discharge port 45a of the liquid supply part 42, and supplies the side part 45b of the pipe part 45 to the other container part 41. As shown in FIG. Then, the coating liquid is filled into the container portion 41 of the buffer tank 12, the switch of the liquid level sensor C2a enters, and the coating liquid is further supplied, whereby the switch of the liquid level sensor C1a enters. By this, it is determined that the predetermined amount of the coating liquid is supplied to the buffer tank 12, and the buffer tank filling is completed.

다음으로, 스텝 S2에 의하여, 도포 장치(3)로의 도포액 공급이 행하여진다(도포액 공급 공정). 즉, 버퍼 탱크(12)의 도포액이 예비 탱크(2)를 통하여 도포 장치(3)로 공급된다. 구체적으로는, 액면 센서(C1a)의 스위치가 들어가면, 도 6에 도시하는 바와 같이, 밸브(V4a)가 닫히고, 밸브(V3a)가 열리는 것에 의하여, 버퍼 탱크(12)의 도포액이 도포 장치(3) 측으로 공급된다. 즉, 도 6에 도시하는 밸브의 개폐 상태가 되는 것에 의하여, 배관(D2a)으로부터 가스 도입부(11b)를 통하여 에어가 공급되면, 도포액 탱크 본체(11a)의 도포액이 버퍼 탱크(12)로 송액되고, 이 송액된 도포액에 의하여 버퍼 탱크(12) 내의 압력이 상승하여, 액 배출부(43)로부터 배출된 도포액이 배관(D3a) 및 공통 배관(60)을 통하여 예비 탱크(2)를 통하여 도포 장치(3)로 송액된다. 이것에 의하여, 공급된 도포액이 펌프(3a)의 구동에 의하여 토출되는 것에 의하여, 도포 대상인 기판 등에 도포액이 도포된다. Next, the coating liquid supply to the coating device 3 is performed by step S2 (coating liquid supply process). That is, the coating liquid of the buffer tank 12 is supplied to the coating device 3 through the preliminary tank 2. Specifically, when the switch of the liquid level sensor C1a enters, as shown in FIG. 6, the valve V4a is closed and the valve V3a is opened, whereby the coating liquid of the buffer tank 12 is applied to the coating device ( 3) It is supplied to the side. That is, when air is supplied from the pipe D2a through the gas introduction part 11b by being in the open / closed state of the valve shown in FIG. 6, the coating liquid of the coating liquid tank main body 11a is transferred to the buffer tank 12. FIG. The pressure in the buffer tank 12 is increased by the liquid transfer liquid, and the coating liquid discharged from the liquid discharge part 43 is supplied to the preliminary tank 2 through the pipe D3a and the common pipe 60. The liquid is fed to the coating device 3 through. As a result, the supplied coating liquid is discharged by the driving of the pump 3a, whereby the coating liquid is applied to the substrate to be applied.

다음으로, 스텝 S3에 의하여 송액 정지가 행하여진다(송액 정지 공정). 즉, 도포액 탱크(11)의 도포액의 잔량이 약간이 되면, 액 배출부(43)로부터 배출되는 도포액 중에 대량의 기포(w)가 혼입하는 것을 방지하기 위하여, 송액 정지가 행하여진다. 구체적으로는, 기포 검지 센서(F1a)에 의하여, 배관(D1a) 내의 도포액에 기포가 포함되어 있는 것이 검지되면, 도 7에 도시하는 바와 같이, 지금까지 열림 상태였던 밸브(V1a, V3a)가 닫히는 것에 의하여, 송액이 정지된다. 즉, 밸브(V1a, V3a)가 닫히는 것에 의하여, 버퍼 탱크(12)로 새로운 기포(w)가 공급되는 것을 방지하는 것과 함께, 버퍼 탱크(12)로 공급된 기포(w)가 액 배출부(43)로부터 배출되는 것을 방지한다. 이것에 의하여, 기포 검지 센서(F1a)에 의하여 검지된 기포(w)가 버퍼 탱크(12)로 공급되어도, 밸브(V1a, V3a)가 닫힘 상태로 송액이 정지되어 있고, 나아가, 액 공급부(42)와 액 배출부(43)가 떨어져 있기 때문에, 액 공급부(42)의 토출구(45a)로부터 토출된 기포(w)는 부력에 의하여 상승한다. 이것에 의하여, 기포(w)가 액 배출부(43)로부터 배출되는 것을 방지할 수 있다. 덧붙여, 이 송액 정지를 행하는 상태에서는, 배관(D1a)에 기포(w)가 검지되면 바로 행하여지기 때문에, 도포액 탱크(11)에는, 아직 폐기하기에는 아까운 양의 도포액이 잔존하고 있다. Next, the liquid feeding stop is performed by step S3 (feeding stop step). That is, when the remaining amount of the coating liquid of the coating liquid tank 11 becomes a little, the feeding liquid is stopped in order to prevent a large amount of bubbles w from mixing in the coating liquid discharged from the liquid discharge part 43. Specifically, when the bubble detection sensor F1a detects that bubbles are contained in the coating liquid in the pipe D1a, as shown in Fig. 7, the valves V1a and V3a which have been opened so far are opened. By closing, the liquid feeding is stopped. That is, the valves V1a and V3a are closed to prevent the new bubbles w from being supplied to the buffer tank 12, and the bubbles w supplied to the buffer tank 12 are discharged from the liquid discharge part ( 43) to prevent release. Thereby, even if the bubble w detected by the bubble detection sensor F1a is supplied to the buffer tank 12, liquid supply is stopped with valve | bulb V1a, V3a closed, and also the liquid supply part 42 ) And the liquid discharge part 43 are separated, the bubble w discharged from the discharge port 45a of the liquid supply part 42 rises by buoyancy. In this way, it is possible to prevent the bubble w from being discharged from the liquid discharge part 43. In addition, since the bubble w is detected immediately in the pipe D1a in the state where this liquid supply is stopped, the coating liquid tank 11 still has an amount of coating liquid that is still too much to be discarded.

다음으로, 스텝 S4에 의하여 버퍼 탱크액량 조정이 행하여진다(버퍼 탱크액량 조정 공정). 즉, 통상, 버퍼 탱크(12)는, 스페이스적인 문제도 있고, 액면 센서(C1a)가 반응하는 상태로부터 도포액을 더 추가하는 것은 어려운 크기로 설계되어 있다. 따라서, 도포액 탱크(11)에 잔류한 도포액을 버퍼 탱크(12)로 송액하기 위해서는, 버퍼 탱크(12)의 액량을 조정할 필요가 있고, 도포액 탱크(11)에 잔류한 도포액의 양만큼 버퍼 탱크(12)의 액량을 감량시키는 것이다. 구체적으로는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 밸브(V3a, V5a)를 열어 배관(D5a)으로부터 가스 도입부(48)를 통하여 용기부(41) 내로 에어를 공급한다. 이것에 의하여, 도포액이 액 배출부(43)를 통하여 배관(D3a)으로 배출되고, 공통 유로(60)를 거쳐 예비 탱크(2)로 송액된다. 그리고, 액면 센서(C2a)가 OFF가 될 때까지 계속 송액하는 것에 의하여, 버퍼 탱크(12)의 액량을 감소시킨다. 그리고, 버퍼 탱크(12)의 액량이 감소하여, 액면 센서(C2a)가 OFF가 되면, 밸브(V1a, V3a)를 닫힘 상태로 하여, 버퍼 탱크액량 조정이 완료한다. Next, the buffer tank liquid amount adjustment is performed by step S4 (buffer tank liquid amount adjustment process). That is, the buffer tank 12 also has a space problem, and it is normally designed to the size which is difficult to add a coating liquid from the state which the liquid level sensor C1a reacts. Therefore, in order to transfer the coating liquid remaining in the coating liquid tank 11 to the buffer tank 12, it is necessary to adjust the liquid amount of the buffer tank 12, and the amount of the coating liquid remaining in the coating liquid tank 11 The amount of liquid in the buffer tank 12 is reduced by this. Specifically, as shown in FIG. 8, the valves V3a and V5a are opened to supply air from the pipe D5a to the container portion 41 through the gas introduction portion 48. As a result, the coating liquid is discharged to the pipe D3a through the liquid discharge part 43, and is fed to the preliminary tank 2 via the common flow path 60. Then, the liquid amount of the buffer tank 12 is reduced by continuously feeding the liquid until the liquid level sensor C2a is turned OFF. And when the liquid amount of the buffer tank 12 decreases and liquid level sensor C2a turns OFF, valve V1a and V3a will be closed, and buffer tank liquid amount adjustment will be completed.

한편, 이 버퍼 탱크액량 조정 완료에 의하여, 밸브(V1a, V3a)가 닫힘 상태가 되면, 도포액 공급 유닛(20)으로 전환 준비가 행하여진다. 즉, 밸브(V1b, V2b, V4b)를 열어 도포액을 버퍼 탱크(22)로 공급하는 것에 의하여, 도포액 공급 유닛(20)에 관하여 버퍼 탱크 충전 공정이 행하여진다. On the other hand, when valve | bulb V1a, V3a is closed by this buffer tank liquid amount adjustment completion, preparation to switch to the coating liquid supply unit 20 is performed. That is, the buffer tank filling process is performed with respect to the coating liquid supply unit 20 by opening valves V1b, V2b, and V4b and supplying the coating liquid to the buffer tank 22.

다음으로, 스텝 S5에 의하여, 잔액 송액 동작이 행하여진다(잔액 송액 공정). 즉, 도포액 탱크(11)에 잔류한 도포액을 헛되게 폐기하는 것 없이 버퍼 탱크(12)로 송액한다. 구체적으로는, 도 9에 도시하는 바와 같이, 밸브(V1a, V2a, V4a)를 연 상태로, 배관(D2a)으로부터 가스 도입부(11b)를 통하여 에어가 공급되면, 도포액이 도포액 배출부(11c)를 통하여 배관(D1a)으로 배출되고, 버퍼 탱크(12)로 송액된다. 즉, 액면 센서(C1a)가 ON이 될 때까지 도포액 탱크(11)에 잔류한 도포액의 송액 동작이 행하여진다. 여기서, 도포액 탱크(11)의 도포액 잔량이 적은 상태이기 때문에, 도포액과 함께 대량의 에어가 도포액 배출부(11c)로 들어가기 때문에, 도포액에는 대량의 기포(w)가 혼입한 상태로 잔량 도포액이 버퍼 탱크(12)로 공급된다. 즉, 대량의 기포(w)가 혼입한 도포액은, 액 공급부(42)의 토출구(45a)로부터 공급되는 것에 의하여 용기부(41) 내에 대량의 기포(w)가 산재하게 되지만, 토출구(45a)와 액 배출부(43)가 떨어진 위치에 배치되어 있고, 나아가, 밸브(V3a)가 닫힘 상태로 유지되어 있기 때문에, 액 배출부(43)로부터 배관(D3a)으로의 흐름이 생기지 않고, 도포액에 혼입한 기포(w)가 용기부(41)에 잔존하게 된다. Next, the balance liquid feeding operation is performed by step S5 (balance liquid feeding process). That is, the coating liquid remaining in the coating liquid tank 11 is sent to the buffer tank 12 without discarding in vain. Specifically, as shown in FIG. 9, when air is supplied from the pipe D2a through the gas inlet 11b with the valves V1a, V2a and V4a open, the coating liquid is coated with a coating liquid discharge part ( It discharges to the piping D1a through 11c), and is supplied to the buffer tank 12. FIG. That is, the liquid feeding operation of the coating liquid remaining in the coating liquid tank 11 is performed until the liquid level sensor C1a is turned on. Here, since the remaining amount of the coating liquid in the coating liquid tank 11 is small, since a large amount of air enters the coating liquid discharge part 11c together with the coating liquid, a large amount of bubbles w are mixed in the coating liquid. The remaining amount coating liquid is supplied to the buffer tank 12. In other words, the coating liquid in which the large amount of bubbles w are mixed is supplied from the discharge port 45a of the liquid supply part 42 so that a large amount of bubbles w are scattered in the container part 41, but the discharge port 45a ) And the liquid discharge part 43 are separated from each other, and furthermore, since the valve V3a is maintained in the closed state, the flow from the liquid discharge part 43 to the pipe D3a does not occur and is applied. Bubbles w mixed in the liquid remain in the container portion 41.

다음으로, 도포액 탱크의 교환이 행하여진다(탱크 교환 공정). 구체적으로는, 도포 장치(3)로의 도포액의 공급이 도포액 공급 유닛(20)으로부터 행하여지고, 도포액 공급 유닛(10)의 도포액 탱크(11)가 도포액이 충전된 도포액 탱크(11)로 교환된다. 즉, 도 10에 도시하는 바와 같이, 도포액 공급 유닛(10)의 버퍼 탱크액량 조정 공정 완료와 동시에 개시된 도포액 공급 유닛(20)에 관하여 버퍼 탱크 충전 동작이 완료하면, 밸브(V2b, V1b, V3b)가 열린 상태로, 배관(D2b)으로부터 가스 도입부(21b)를 통하여 에어가 공급되면, 도포액 탱크 본체(21a)의 도포액이 버퍼 탱크(22)로 송액되고, 이 송액된 도포액에 의하여 버퍼 탱크(22) 내의 압력이 상승하며, 액 배출부(53)로부터 배출된 도포액이 배관(D3b) 및 공통 배관(60)을 통하여 예비 탱크(2)를 통하여 도포 장치(3)로 송액된다. 이것에 의하여, 도포 장치(3)에 도포액이 끊기는 것 없이 계속 공급할 수 있다. Next, the coating liquid tank is replaced (tank exchange step). Specifically, the coating liquid to the coating device 3 is supplied from the coating liquid supply unit 20, and the coating liquid tank 11 of the coating liquid supply unit 10 is filled with a coating liquid tank ( 11). That is, as shown in FIG. 10, when the buffer tank filling operation | movement completes with respect to the coating liquid supply unit 20 which started simultaneously with the completion of the buffer tank liquid amount adjustment process of the coating liquid supply unit 10, valve | bulb V2b, V1b, When V3b) is open and air is supplied from the pipe D2b through the gas inlet 21b, the coating liquid of the coating liquid tank main body 21a is fed to the buffer tank 22, and to the transferred liquid. As a result, the pressure in the buffer tank 22 increases, and the coating liquid discharged from the liquid discharge part 53 is transferred to the coating device 3 through the preliminary tank 2 through the pipe D3b and the common pipe 60. do. Thereby, it can continue supplying to the coating device 3, without breaking a coating liquid.

그리고, 이 도포액 탱크(11)의 교환이 행하여지는 것에 의하여, 이 탱크 교환 공정의 시간을 이용하여 도포액 공급 유닛(10)의 용기부(41)의 기포(w)를 제거할 수 있다. 즉, 도포액 공급 유닛(20)의 도포액이 공급되면서, 도포액 공급 유닛(10)의 도포액 탱크(11)가 교환되는 동안, 다음번의 도포액 공급 유닛(10)의 버퍼 탱크(12)로부터 도포액의 송액이 개시될 때까지, 충분한 시간을 확보할 수 있기 때문에, 버퍼 탱크(12)로 공급된 도포액에 존재하는 모든 기포(w)를 부력에 의하여 상승시킬 수 있다. 즉, 도포액 내의 대량의 기포(w)를 액 배출부(43)로부터 이간시킬 수 있어, 잔류 도포액 내의 대량의 기포(w)를 제거할 수 있다. 이것에 의하여, 기포(w)가 대량으로 포함되는 잔존 도포액을 공급하여도, 기포(w)가 도포 장치(3) 측으로 공급되는 것을 억제할 수 있기 때문에, 도포액 탱크(11)의 도포액을 헛되지 않게 사용할 수 있다. And by changing this coating liquid tank 11, the bubble w of the container part 41 of the coating liquid supply unit 10 can be removed using the time of this tank exchange process. That is, while the coating liquid of the coating liquid supply unit 20 is supplied, while the coating liquid tank 11 of the coating liquid supply unit 10 is replaced, the buffer tank 12 of the next coating liquid supply unit 10 is replaced. Since sufficient time can be ensured until the liquid supply of the coating liquid starts from the above, all the bubbles w present in the coating liquid supplied to the buffer tank 12 can be raised by buoyancy. That is, a large amount of bubbles w in the coating liquid can be separated from the liquid discharge part 43, and a large amount of bubbles w in the residual coating liquid can be removed. Thereby, even if supplying the residual coating liquid in which the bubble w is contained in a large quantity, since supply of the bubble w to the coating device 3 side can be suppressed, the coating liquid of the coating liquid tank 11 Can be used in vain.

그 후, 도포액 공급 유닛(20)에 관해서도, 도 4의 플로차트에 기초하여, 상술한 도포액 공급 유닛(10)의 동작이 행하여진다. 그리고, 도포액 공급 유닛(20)으로부터 재차, 도포액 공급 유닛(10)으로 교체되는 것에 의하여, 도포 장치(3)로 계속하여 도포액을 공급할 수 있다. Thereafter, the coating liquid supply unit 20 is also operated on the coating liquid supply unit 10 based on the flowchart of FIG. 4. Then, the coating liquid can be continuously supplied to the coating apparatus 3 by being replaced by the coating liquid supply unit 10 again from the coating liquid supply unit 20.

이상, 상기 실시예에 있어서의 도포액 공급 장치에 의하면, 도포액 탱크의 잔량이 약간 남은 것을 검지하면, 송액 정지 동작에 의하여 버퍼 탱크로부터의 송액이 정지된다. 그리고, 이 송액을 정지시킨 상태로, 잔액 송액 동작에 의하여 도포액 탱크에 잔류하는 도포액을 버퍼 탱크로 송액시키는 것에 의하여, 잔류한 도포액 내에 대량의 기포가 혼입하고 있는 경우라도, 기포가 버퍼 탱크보다 하류 측으로 흐르는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 잔액 송액 동작 후, 탱크 교환 동작이 행하여지는 것에 의하여, 탱크 교환 동작에 요하는 시간 내에, 버퍼 탱크로 송액된 잔류 도포액 내의 기포가 부력을 받아 상승하는 것에 의하여, 도포액과 기포를 분리시킬 수 있다. 즉, 도포액 탱크 내의 도포액을 끝까지 다 사용할 수 있는 것과 함께, 도포액 내의 기포도 충분히 제거할 수 있다. 따라서, 도포액이 헛되게 폐기되는 것을 피하면서, 공급하는 도포액에 기포가 혼입하는 것을 억제할 수 있다. As mentioned above, according to the coating liquid supply apparatus in the said Example, when detecting that the remaining amount of a coating liquid tank remains a little, the liquid feeding from a buffer tank is stopped by a liquid feeding stop operation. The liquid is buffered even when a large amount of bubbles are mixed in the remaining coating liquid by transferring the coating liquid remaining in the coating liquid tank to the buffer tank by the remaining liquid feeding operation while the liquid feeding is stopped. It can prevent that it flows downstream from a tank. Then, after the liquid transfer operation, the tank exchange operation is performed, and the coating liquid and the air bubbles are separated by the buoyancy and rising of the bubbles in the residual coating liquid fed to the buffer tank within the time required for the tank exchange operation. You can. That is, while the coating liquid in the coating liquid tank can be used up to the end, bubbles in the coating liquid can also be sufficiently removed. Therefore, it is possible to suppress the mixing of bubbles in the coating liquid to be supplied while avoiding waste of the coating liquid.

또한, 상기 실시예에서는, 도포액 공급 유닛을 2개 설치하는 경우에 관하여 설명하였지만, 3개 이상 설치하는 구성이어도 무방하다. 이 경우, 하나의 도포액 공급 유닛이 도포액의 공급이 종료한 후, 나머지의 두 개의 도포액 공급 유닛의 도포액이 공급이 끝날 때까지의 동안, 도포액과 기포(w)를 분리시키는 시간을 충분히 확보할 수 있기 때문에, 도포액 공급 유닛을 2개 설치하는 경우에 비하여 기포(w)의 제거를 보다 확실히 행할 수 있다. 또한, 도포액 공급 유닛을 복수 설치하는 구성이 아니라, 1개만 설치하는 구성이어도 무방하다. 이 경우라도, 탱크 교환 공정에 있어서, 도포액을 다 배출한 도포액 탱크를 교환하는 시간을 이용하여 기포(w)를 제거할 수 있다. Moreover, in the said Example, although the case where two coating liquid supply units were provided was demonstrated, the structure provided with three or more may be sufficient. In this case, the time for separating the coating liquid and the bubble w during one coating liquid supply unit after the supply of the coating liquid is finished and until the coating liquids of the remaining two coating liquid supply units is finished supplying. Can be sufficiently secured, so that bubbles (w) can be removed more reliably than when two coating liquid supply units are provided. Moreover, the structure which installs only one rather than the structure which provides two or more coating liquid supply units may be sufficient. Even in this case, in the tank exchange step, the bubble w can be removed by using a time for replacing the coating liquid tank having exhausted the coating liquid.

10: 도포액 공급 유닛(제1 도포액 공급 유닛)
11: 도포액 탱크
12: 버퍼 탱크
20: 도포액 공급 유닛(제2 도포액 공급 유닛)
41: 용기부
42: 액 공급부
43: 액 배출부
44: 배기부
45: 파이프부
45a: 토출구
48: 가스 도입부
60: 공통 유로
F1a, F1b: 기포 검지 센서10: coating liquid supply unit (first coating liquid supply unit)
11: coating liquid tank
12: buffer tank
20: coating liquid supply unit (second coating liquid supply unit)
41: container part
42: liquid supply part
43: liquid discharge part
44: exhaust
45: pipe section
45a: discharge port
48: gas inlet
60: common euro
F1a, F1b: bubble detection sensor

Claims (6)

도포액을 저류하는 도포액 탱크와, 도포액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크를 구비하고, 상기 도포액 탱크를 가압하는 것에 의하여, 도포액을 버퍼 탱크로 송액(送液)시키는 것과 함께, 버퍼 탱크로부터 도포액을 송액시켜, 도포액 탱크의 도포액을 공급하는 도포액 공급 장치이고,
상기 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량을 검출하는 잔량 검지 수단을 구비하고,
이 잔량 검지 수단에 의하여, 상기 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량이 약간인 것을 검지하면, 상기 버퍼 탱크로부터 도포액을 송액하는 것을 정지시키는 송액 정지 동작을 행한 후, 버퍼 탱크로부터의 송액을 정지시킨 상태로, 상기 도포액 탱크 내의 잔류 도포액을 버퍼 탱크로 송액시키는 잔액(殘液) 송액 동작이 행하여지고, 그 후, 도포액 탱크의 교환을 행하는 탱크 교환 동작이 행하여지는 것을 특징으로 하는 도포액 공급 장치.A coating liquid tank which stores a coating liquid, and a buffer tank which temporarily stores a coating liquid, and by supplying the coating liquid to a buffer tank by pressurizing the said coating liquid tank, a buffer tank It is a coating liquid supply apparatus which transfers a coating liquid from the said liquid, and supplies the coating liquid of a coating liquid tank,
A residual amount detecting means for detecting a residual amount of the coating liquid in the coating liquid tank,
When the remaining amount detecting means detects that the remaining amount of the coating liquid in the coating liquid tank is a little, the liquid feeding stop operation for stopping the feeding of the coating liquid from the buffer tank is performed. In the state, a liquid feeding operation for feeding the remaining coating liquid in the coating liquid tank to the buffer tank is performed, and thereafter, a tank replacing operation for exchanging the coating liquid tank is performed. Feeding device. 도포액 탱크와 버퍼 탱크를 가지는 도포액 공급 유닛이 복수 설치되고, 이들 도포액 공급 유닛의 버퍼 탱크는, 공통의 공급 경로에 택일적으로 연통(連通)하여 연결되어 있고, 상기 공급 경로에 연통하여 연결된 제1 도포액 공급 유닛의 버퍼 탱크에 있어서의 송액 정지 동작이 행하여진 후, 제1 도포액 공급 유닛으로부터 제2 도포액 공급 유닛으로 상기 공급 경로로의 연결 교환이 행하여지고, 상기 제2 도포액 공급 유닛으로부터 도포액이 송액되는 것을 특징으로 하는 도포액 공급 장치.A plurality of coating liquid supply units having a coating liquid tank and a buffer tank are provided, and the buffer tanks of these coating liquid supply units are alternatively connected to a common supply path and connected to each other. After the liquid feeding stop operation in the buffer tank of the connected first coating liquid supply unit is performed, the connection exchange from the first coating liquid supply unit to the second coating liquid supply unit to the supply path is performed, and the second coating is performed. A coating liquid supply device, wherein the coating liquid is fed from a liquid supply unit. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 송액 정지 동작이 행하여진 후, 잔액 송액 동작이 행하여지기 전에, 상기 버퍼 탱크의 도포액을 감소시키는 도포액 감량 동작이 행하여지고, 그 감소량은, 상기 잔액 송액 동작에 의하여 도포액 탱크 내의 잔액이 송액되는 양인 것을 특징으로 하는 도포액 공급 장치.The method according to claim 1 or 2,
After the liquid feeding stop operation is performed, before the liquid liquid feeding operation is performed, a coating liquid reducing operation for reducing the coating liquid of the buffer tank is performed, and the amount of reduction is determined by the remaining amount of the remaining liquid in the coating liquid tank. A coating liquid supply device, characterized in that the amount to be fed. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 버퍼 탱크는,
공급된 도포액을 수용하는 용기부와,
이 용기부의 저면부(底面部)에 설치되는 것과 함께, 공급된 도포액을 배출하여 송액하는 액 배출부와,
도포액 탱크로부터 송액된 도포액을 상기 용기부로 공급하는 액 공급부
를 구비하고,
상기 액 공급부는, 용기부의 저면부로부터 용기부의 내부까지 연신(延伸)하는 파이프부를 가지고, 이 파이프부의 선단(先端)에 도포액을 토출하는 토출구를 가지는 것을 특징으로 하는 도포액 공급 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The buffer tank,
A container portion accommodating the supplied coating liquid,
A liquid discharge portion which is provided at the bottom of the container portion and discharges and supplies the applied coating liquid;
Liquid supply part which supplies the coating liquid conveyed from the coating liquid tank to the said container part
And
The said liquid supply part has a pipe part extended from the bottom part of a container part to the inside of a container part, and has a discharge port which discharges a coating liquid to the front-end | tip of this pipe part. 도포액을 저류하는 도포액 탱크와, 도포액을 일시적으로 저류하는 버퍼 탱크를 구비하고 도포액 탱크의 도포액을 버퍼 탱크를 거쳐, 기판 상에 도포액을 도포하는 도포 장치로 도포액을 공급하는 도포액 공급 방법이고,
상기 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량을 검출하는 잔량 검지 수단을 구비하고,
이 잔량 검지 수단에 의하여, 상기 도포액 탱크 내의 도포액의 잔량이 약간인 것을 검지하면, 상기 버퍼 탱크로부터 도포액을 송액하는 것을 정지시키는 송액 정지 공정과, 버퍼 탱크로부터의 송액을 정지시킨 상태로, 도포액 탱크 내의 잔류 도포액을 버퍼 탱크로 송액하는 잔액 송액 공정과, 도포액 탱크의 교환을 행하는 탱크 교환 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 도포액 공급 방법.A coating liquid tank for storing the coating liquid, and a buffer tank for temporarily storing the coating liquid, and supplying the coating liquid to the coating apparatus for applying the coating liquid onto the substrate via the buffer liquid via the buffer tank. It is a coating liquid supply method,
A residual amount detecting means for detecting a residual amount of the coating liquid in the coating liquid tank,
When the remaining amount detecting means detects that the remaining amount of the coating liquid in the coating liquid tank is a little, the liquid feeding stop step of stopping the feeding of the coating liquid from the buffer tank, and in a state where the liquid feeding from the buffer tank is stopped. And a remaining liquid liquid feeding step of transferring the remaining coating liquid in the coating liquid tank to the buffer tank, and a tank exchange step of exchanging the coating liquid tank. 공급된 도포액을 수용하는 용기부와,
이 용기부의 저면부에 설치되는 것과 함께, 공급된 도포액을 배출하여 송액하는 액 배출부와,
도포액 탱크로부터 송액된 도포액을 상기 용기부로 공급하는 액 공급부
를 구비하는 버퍼 탱크이고,
상기 액 공급부는, 용기부의 저면부로부터 용기부의 내부까지 연신하는 파이프부를 가지고, 이 파이프부의 선단에 도포액을 토출하는 토출구를 가지는 것을 특징으로 하는 버퍼 탱크.A container portion accommodating the supplied coating liquid,
A liquid discharge portion which is installed in the bottom portion of the container portion and discharges and supplies the applied coating liquid;
Liquid supply part which supplies the coating liquid conveyed from the coating liquid tank to the said container part
A buffer tank having:
The said liquid supply part has a pipe part extended from the bottom part of a container part to the inside of a container part, and has a discharge port which discharges a coating liquid at the front-end | tip of this pipe part.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210064556A (en) * 2019-11-26 2021-06-03 세메스 주식회사 Apparatus for discharging droplet

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102011118354A1 (en) * 2011-11-14 2013-05-16 Focke & Co. (Gmbh & Co. Kg) Device for applying flavorings to a medium
CN102650774A (en) * 2012-05-18 2012-08-29 深圳市华星光电技术有限公司 Liquid crystal suction device and liquid crystal coating equipment
JP6454597B2 (en) * 2015-05-13 2019-01-16 東京応化工業株式会社 Coating apparatus, coating system, and coating method
JP6257740B1 (en) * 2016-12-09 2018-01-10 中外炉工業株式会社 Coating liquid supply device
CN106938239B (en) * 2017-04-24 2019-07-16 武汉华星光电技术有限公司 A kind of coating head and coating machine
CN108897154A (en) * 2018-08-15 2018-11-27 张家港康得新光电材料有限公司 A kind of coating apparatus
CN109976098B (en) * 2019-03-22 2024-04-12 福建华佳彩有限公司 Photoresist tool bit
WO2020217806A1 (en) 2019-04-24 2020-10-29 富士フイルム株式会社 Silencer-attached blower
JP2021178312A (en) * 2020-05-08 2021-11-18 兵神装備株式会社 Fluid discharge system
CN112892927A (en) * 2021-01-20 2021-06-04 程建国 Semiconductor surface insulation film processing device
CN114669447A (en) * 2022-04-25 2022-06-28 京东方科技集团股份有限公司 Buffer device of coating equipment and coating equipment

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0433440Y2 (en) * 1984-12-04 1992-08-11
JPH02190700A (en) * 1989-01-19 1990-07-26 Sigma Gijutsu Kogyo Kk Liquid pressure-feeding device
JP2000189880A (en) * 1998-12-28 2000-07-11 Canon Inc Method and apparatus for coating and production of color filter
JP2002136912A (en) * 2000-10-31 2002-05-14 Dainippon Printing Co Ltd Solution supply apparatus
CN1296144C (en) * 2003-07-28 2007-01-24 中华映管股份有限公司 Multi-nozzle coating device for blowing and adhering cathode material soup
KR100610023B1 (en) * 2005-07-19 2006-08-08 삼성전자주식회사 Device for controlling dispense error of photo spinner equipment
JP4871541B2 (en) * 2005-07-26 2012-02-08 東レ株式会社 Coating method, coating apparatus, and display member manufacturing method
CN101003039A (en) * 2006-01-20 2007-07-25 达信科技股份有限公司 Coating supply system with space-saving function
SG136106A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-29 Toray Industries Coating method and coating apparatus, and manufacturing method and manufacturing apparatus of the components for displays

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210064556A (en) * 2019-11-26 2021-06-03 세메스 주식회사 Apparatus for discharging droplet

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