KR20110093779A - 개선된 다축 회절 격자 - Google Patents

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KR20110093779A
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루이스 엠. 스포토
딘 제이. 란다조
매튜 제이. 데스크너
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Abstract

감광성 에멀전/포토레지스트가 도포된 유리 또는 삭마 가능한 기재와 같은 광으로 한정할 수 있는 표면에 단일 광원으로부터의 가간섭성 광의 세 개 이상의 빔을 비추고, 회절 격자 패턴을 광으로 한정할 수 있는 표면에 맵핑함으로써, 회절 격자와 같은 개선된 광 간섭 패턴이 광으로 한정할 수 있는 표면에 통합된다. 광 간섭 패턴의 맵핑은 레이저 광 또는 적합한 광 스펙트럼을 생성하는 다른 광원과 같은 세 개 이상의 광 빔의 간섭에 의해 생성된다. 맵핑된 광으로 한정할 수 있는 표면은 엠보싱 심을 생성하기 위하여 사용될 수 있다. 엠보싱 심은 그후 필름 또는 종이를 엠보싱하기 위하여 사용될 수 있다. 엠보싱된 필름/종이는 금속화되고 기재상에 적층되어, 백색 광에 노출되었을 때 다양한 시청 각도에서 이동 패턴을 갖는 제품을 생성할 수 있다.

Description

개선된 다축 회절 격자{IMPROVED MULTI-AXIS DIFFRACTION GRATING}
본 출원은 발명의 명칭이 "IMPROVED MULTI-AXIS DIFFRACTION GRATING"이고 2008년 11월 10일 출원된 미국 가특허출원 제61/113,032호를 우선권 주장한다.
본 발명은 엠보싱 심(embossing shim)과 엠보싱 심을 제작하는 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은, 개선된 컬러 이동 또는 광학적인 가변 배경을 갖는 홀로그램 또는 격자와 같은 회절 표면의 제작을 위한, 엠보싱 심 및 엠보싱 심을 제작하는 방법에 관한 것이다.
엠보싱된 홀로그램 영상을 포함하는 반사성 투명, 반투명, 및 불투명 재질은 여권, 신용카드, 보안 통행권, 허가증, 인지뿐만 아니라 선물용 포장, 도서 삽화 등과 같은 보안 및 장식 응용에서 일반적으로 사용된다. 보호는 홀로그램 또는 광학적으로 변하는 필름을 서류에 부착함으로써 달성된다. 이러한 홀로그램 또는 광학적으로 변하는 필름이 종래의 인쇄 기술을 사용하여 쉽게 복사되지 않기 때문에, 이러한 서류를 위조 및 모조하는 것은 매우 어렵다.
홀로그램 필름은 일반적으로 3차원 영상의 엠보싱된 패턴을 금속화함으로써 생성된다. 전통적인 엠보싱은 표면을 바꾸기 위해 재질의 한 면에 입력을 가해, 재질에 3차원 또는 돌출 효과를 제공한다. 즉, 전통적인 엠보싱은 3D 미세구조를 재질로 전사한다. 전형적인 필름 엠보싱 기계는 도 1에 도시된 바와 같이, 두 개의 원통형 롤러, 하나의 엠보싱 롤러 및 하나의 후면 롤러를 사용한다. 엠보싱 심으로도 알려진 조직화된 패턴을 갖는 엠보싱 스탬퍼는 엠보싱 롤러에 부착된다. 일반적으로 0.0004 및 0.001 인치(0.001016 cm 및 0.00254 cm) 사이의 두께 또는 그 이상의 두께의 필름이 두 개의 롤러 사이에서 압출되거나 인출된다. 엠보싱 롤러 상에 위치한 돌출 또는 조직화된 엠보싱 심은 필름에 후면 롤러를 향해 힘을 가해, 필름 내에 엠보싱된 압인을 생성한다. 이러한 필름은 이후에 종이, 카드보드, 플라스틱, 금속 또는 다른 기재에 적층될 수 있다.
압인의 엠보싱된 측은 알루미늄화 또는 금속화되어, 3D 미세구조를 반사성 홀로그램으로 변화시킨다. 전형적으로 감광성 에멀전이 도포된 기재를 가간섭성 광원으로부터의 두 개의 빔에 노출시키고, 감광성 에멀전 또는 포토레지스트에 최종 간섭 패턴을 에칭 또는 현상함으로써, 엠보싱 심을 위한 홀로그램 패턴이 생성된다.
홀로그램 패턴은 전형적으로 회절 격자와 같은 광학 간섭 패턴을 포함한다. 회절 격자는 규칙적인 패턴을 갖는 성분이 광을 다른 방향으로 이동하는 수개의 빔으로 분할(회절)시키는 광 간섭 패턴이다. 도 2에 도시된 대형 포맷의 무지개 반사성 포일/필름 홀로그램을 생성하는 단일 축 회절 격자는 단일 레이저로부터의 가간섭성 광의 2 개의 확장된 빔을 간섭시킴으로써 생성된다. 입사 광은 2개의 방향에서 회절된다. 주변 광을 컬러 성분으로 회절시킴으로써 무지개 빛깔 유형의 효과 "무지개 홀로그램"을 생성하는 회절 격자는 당업계에서 잘 알려져 있다.
홀로그램 영상은 일반적으로 회절 컬러가 눈에 보이기 위해 직접 조명을 필요로 한다. 따라서, 회절 컬러를 시청하기 위하여, 홀로그램 영상은 홀로그램 영상이 조명된 동일한 각도로 시청되어야만 한다. 따라서, 홀로그램으로부터 반사하는 무지개 또는 무지개 빛깔의 광은 일반적으로 오직 두 방향, 주로 0도와 180도에서만 보여질 수 있다. 다른 방향 또는 각도로 보았을 때, 컬러는 눈에 띄지 않고, 홀로그램은 어둡게 또는 회색/은색으로 보인다. 따라서, 시야가 상당히 제한된다.
도 3에 도시된 교차-격자 패턴은 공통적으로 생성된 광 간섭 패턴으로, 이 패턴 내에서 위에서 기술한 대형 포맷의 무지개 반사성 포일/필름 홀로그램을 생성하기 위하여 단일 축 격자가 사용되고, 그 후 두 개의 빔이 원래의 격자에 대해 90도 만큼 회전한다. 빔을 회전시키는 것은 홀로그램에 대한 시야각을 증대시켜, 시야각 또는 무지개 컬러가 두 개 이상의 각도로부터 눈에 보이게 한다. 최종 교차-격자는 격자 빈도에 기초하여 다수(4 이상)의 방향에서 광을 회절시켜(즉, 컬러가 눈에 보이게 하여), 시야각을 증대시킨다.
위에서 보았을 때, 광은 0, 90, 180 및 270도에서 대칭으로 회절된다. 회절된 빔은 또한 특정 빈도에서 벗어난 (대각선)(45, 135, 225, 315)각도에서 대칭으로 보인다. 그러나, 두 개의 확장된 빔을 사용하고 회전후 기재를 이중으로 노출시키는 것은 오직 대칭적으로 회절된 빔만을 생성한다. 만약 비대칭 출력이 필요하다면, 격자의 기하학 및/또는 빈도가 노출 사이에서 변한다. 따라서, 빈도 및/또는 격자가 변하지 않거나, 기재가 이중으로 노출되지 않는다면, 광/컬러의 강도 또는 밝기는 특정 회절 각도에서 감소된다.
덧붙여, 두 개의 빔에 의해 생성된 대형 포맷의 무지개 회절 격자는 두배로 진동하기 쉽다. 두 개의 빔 기술은 원하는 밝기를 얻기 위해 기재가 간섭 패턴에 두 번 노출되는 것을 필요로 하고, 따라서 노출 사이에 기재의 조정을 필요로 한다. 빔 및/또는 기재의 부가적인 조정은 에러, 진동, 영상 오염, 또는 균일하지 않은 격자 효율의 기회를 증가시킨다.
따라서, 회절 격자 홀로그램과 같은 광 간섭 패턴의 시야를 제어할 필요가 있고, 기재의 조정을 최소화하면서 회절 격자 패턴의 밝기 및 강도를 증가시킬 필요가 있다.
개선된 회절 격자 홀로그램과 같은 엠보싱 심을 위한 개선된 광 간섭 패턴은 가간섭성 광원로부터의 3개 이상의 빔을 사용하여 생성되어, 백색 광에 노출되었을 때 이전의 홀로그램보다 더 강렬하거나 강한 시각 효과를 갖는 회절 격자 홀로그램을 제작한다. 단일 소스로부터의 3개 이상의 가간섭성 광 빔은 포토레지스트 플레이트 또는 삭마가능한 기재와 같은 광으로 한정할 수 있는(photodefinable) 표면을 향한다. 세 개의 빔은 서로 간섭하여, 기재를 빔에 두 번 노출시키지 않고, 또한 포토레지스트 플레이트 또는 삭마가능한 기재의 증가된 조정 없이도, 주어진 기재 상에서 제공된 이전의 방법보다 증가된 시야를 갖는 회절 격자 홀로그램을 생성한다.
일 실시예에 있어서, 회절 격자 패턴과 같은 광 간섭 패턴은, 감광 에멀전/포토레지스트가 도포된 유리("포토레지스트 플레이트")와 같은 광으로 한정할 수 있는 표면을 가간섭성 광원로부터의 세 개 이상의 빔에 노출시킴으로써, 광으로 한정할 수 있는 표면에 통합된다. 다른 실시예에 있어서, 광으로 한정할 수 있는 표면은 가간섭성 광원로부터의 세 개 이상의 빔으로 직접 삭마된다. 광으로 한정할 수 있는 표면은 전기도금되어 금속 마스터 심을 형성한다. 광으로 한정할 수 있는 금속 마스터는 엠보싱 심으로 사용을 위해 니켈 도금된다. 광 간섭 패턴의 구성은, 태양광, 백열광 또는 형광 광과 같은 점 광원에 의해 조명될 때 적합한 광 스펙트럼을 생성하는 레이저 광, 아크 광, 또는 다른 단색 광원과 같은, 세 개 이상의 광 빔의 간섭에 의해 생성된다.
최종 회절 격자 패턴이 광으로 한정할 수 있는 표면 상에 에칭되거나, 현상되거나, 삭마된다. 에칭/현상된 광으로 한정할 수 있는 표면은 엠보싱 심을 생성하기 위하여 사용된다. 엠보싱 심은 그후 필름 또는 종이를 대량으로 엠보싱하기 위하여 사용될 수 있다. 엠보싱된 종이/필름은 금속화되어 기재 위에 적층되어, 백색 광에 노출될 때 다양한 시야 각에서 이동 패턴과 무지개 컬러를 갖는 홀로그램 제품을 생성할 수 있다.
본 발명의 이들 및 다른 특징 및 장점은 첨부된 청구범위와 관련된 다음의 상세한 설명으로부터 자명할 것이다.
본 발명의 이익 및 장점은 다음의 상세한 설명과 첨부된 도면을 검토한 당업자에게는 자명해질 것이다.
세 개의 빔은 서로 간섭하여, 기재를 빔에 두 번 노출시키지 않고, 또한 포토레지스트 플레이트 또는 삭마가능한 기재의 증가된 조정 없이도, 주어진 기재 상에서 제공된 이전의 방법보다 증가된 시야를 갖는 회절 격자 홀로그램을 생성한다.
도 1은 엠보싱 심을 사용하는 엠보싱 장치를 도시하는 도면.
도 2는 두 개의 빔으로 만들어진 단일 축의 대형 포맷 무지개 회절 격자를 도시하는 도면.
도 3은 두 개의 빔으로 만들어진 이중 축의 대형 포맷 무지개 회절 격자를 도시하는 도면.
도 4는 본 발명의 원리에 따라 생성된 대형 포맷 무지개 회절 격자를 도시하는 도면.
도 5는 광 간섭 패턴을 생성하는 방법의 다른 실시예로서, 본 발명의 원리에 따라 생성된 다중 홀로그램 도트로 이루어진 전체적으로 대형 홀로그램 영상을 생성하기 위하여, 세 개의 빔이 한 픽셀에 좁게 집중되고, 이후 광으로 한정할 수 있는 표면이 XY 방향에서 병진운동하여, 다중 픽셀화된 홀로그램이 형성되는, 다른 실시예의 도면.
본 발명은 다양한 형태의 실시예가 가능하지만, 본 개시물이 본 발명의 예시로서 간주되고, 본 발명을 도시된 특징 실시예로 제한하려는 것은 아니라는 이해를 통해 현재의 양호한 실시예가 도면에 도시되고 이후로 설명된다.
본 명세서의 현재의 제목 즉, "발명을 실시하기 위한 구체적인 내용"은 특허청의 요건에 관한 것이고, 본 명세서에 개시된 요지를 함축하지 않고, 또는 이를 제한하는 것으로 추론되지 않아야 한다는 것을 이해해야 한다.
회절 격자 포일/필름 홀로그램과 같은 개선된 광 간섭 패턴은 단일 광원으로부터의 세 개 이상의 가간섭성 광빔을 포토레지스트 플레이트 또는 삭마가능한 기재와 같은 광으로 한정할 수 있는 표면에 향하게 하거나 비춤으로써 생성된다. 세 개 빔은 서로 간섭하고, 광으로 한정할 수 있는 표면 상에 광 간섭 패턴을 생성하고, 이러한 간섭 패턴은, 광으로 한정할 수 있는 표면을 빔에 두 번 노출시키지 않고, 또한 포토레지스트 플레이트의 증가된 조정 없이도, 제공된 이전의 방법보다 더 넓은 시야를 갖는 홀로그램을 초래하는 각도 재생의 더 큰 제어를 제공한다.
도 1을 참조하면, 필름 또는 종이 상에 얕은 부조/홀로그램 엠보싱을 만들기 위한 장치(10)를 도시한다. 엠보싱 원통 또는 롤러(12)와 후면 원통 또는 롤러(14)는 서로 인접하여 위치되고, 두 롤러(12, 14) 사이에 닙(16)이 형성된다. 필름(18)은 롤러(12, 14) 사이에서 닙(16)을 통해 압출되거나 인출된다. 엠보싱 심(20)은 엠보싱 롤러(12) 주위에 감겨진다. 필름(18)이 후면 롤러(14)와 엠보싱 심(20)을 향해 가압될 때, 엠보싱 영상(22)이 필름(18) 상에 형성된다. 위에서 설명된 장치(10)에 사용된 엠보싱 심(20)은 아래에서 설명되는 방법의 실시예를 사용하여 형성되는 개선된 회절 격자 패턴을 갖는다.
회절 격자와 같은 광 간섭 패턴은 가간섭성 광원으로부터의 광 빔의 간섭에 의해 생성된다. 아래의 표1은 두 개의 파 또는 두 개의 광 빔의 광 파 간섭에 대한 정현파 패턴의 예를 도시한다. 제 1 정현파는 광 빔(32)을 나타낸다. 제 2 정현파는 광 파(32)로부터 90도 위상 이동된 광 빔(34)을 나타낸다. 제 3 정현파(33)는 두 개의 광 빔(32, 34)의 간섭 패턴을 나타낸다. 도시된 바와 같이, 두 개의 확장된 광 빔(32, 34)은 교차점(A 및 B)에서 보강 간섭을 하여, 더 큰 강도의 광 파(33)을 생성한다. 회절 격자 패턴(30)은, 0, 90(π/2), 180(π) 및 270(3π/2)도 의 제 1 세트에 대한 유사한 세트의 회절 각도에 더하여, (파장 간섭에 대해) 45(π/4), 135(3π/4), 225(5π/4), 및 315(7π/4)도에서 수직에 대한 특정 각도에서 회절을 가질 수 있다.
유사하게, 아래의 표2는 가간섭성 광원로부터의 3개의 파 또는 3개의 광 빔의 광 파 간섭의 정현파 패턴의 예를 도시한다. 제 1 정현파는 빔(32)을 나타낸다. 제 2 정현파는 제 1 광 파(32)로부터 90도 위상 이동된 빔(34)을 나타내고, 제 3 정현파는 이전의 두 빔으로부터 위상 이동된 빔(36)을 나타낸다. 정현파(33)는 두 개의 빔(32, 34)의 간섭 패턴을 나타내고, 정현파(35)는 광 빔(34, 36)의 간섭 패턴을 나타낸다. 도시된 바와 같이, 두 개의 광 빔(32, 34)은 교차하는 곳(A 및 B)에서 더해져 더 큰 강도의 광 파(33)를 생성한다.
광 빔(34 및 36)은 간섭 패턴 파(35)를 형성하여, 두 빔이 C와 D에서 교차할 때 더 큰 강도의 광을 생성한다. 회절 격자 패턴(30)은, 0, 90(π/2), 180(π) 및 270(3π/2)도에 대한 다른 세트의 회절 각도에 더하여, (파장 간섭에 대해) 45(π/4), 135(3π/4), 225(5π/4), 및 315(7π/4)도에서 수직에 대한 특정 각도에서 회절을 가질 수 있다. 즉, 한 번의 3빔 노출로 모두 달성되는 더 넓은 시청 영역 또는 개선된 시야에 대한 다수의 회절 각도가 있을 수 있다.
Figure pct00001
Figure pct00002
본 발명의 실시예는 본 발명의 방법의 예로서 설명되고, 본 발명의 방법을 설명된 실시예에 국한하려는 것은 아니다. 3개 빔 방법의 실시예를 사용하는 회절 격자 패턴의 예는 도 4에 도시되었다. 도시된 회절 패턴과 같은 광 간섭 패턴은 세 개의 빔이 서로에 대해 특정 각도에서 간섭할 때 발생한다. 광 빔의 간섭은 회절 격자 패턴을 생성하고, 이 회절 격자 패턴은 백색 광을 원하는 각도에서 강하게 회절시키는 홀로그램을 생성하는 것에 도움이 되는 특성을 갖는 엠보싱 심으로 궁극적으로 맵핑된다.
두 개의 빔 기술을 사용하여 설명되고 도 3에 도시된 것과 유사한, 도 4의 교차-격자 패턴은 광으로 한정할 수 있는 표면의 최소한의 조정을 통해 세 개의 빔 기술을 사용하여 달성된다. 홀로그램의 다른 시각 효과를 생성하기 위하여, 빔은 입사 광의 회절을 제어하도록 조정될 수도 있다. 예컨대, 빔의 위상 각도는 변경되어 다른 회절 패턴을 달성할 수도 있다. 또한 위상 각도는 세 개 빔 중 두 개의 빔 사이에서 변경되어 비대칭 시각 효과를 달성할 수도 있다. 다른 실시예에 있어서, 광으로 한정할 수 있는 표면은 교차 격자의 세(3) 빔 방법을 사용하여 이중으로 노출될 수 있다.
도 4에 도시된 제 1 실시예는, 얇은 감광성 에멀전("포토레지스트")으로 도포된 대형 유리 플레이트(38) 상에 세 개(3)의 대형의 상대적으로 낮은 에너지 스폿을 생성하는 방식으로, 세 개 빔(432, 434, 436)을 조정한다. 세 개 빔(432, 434, 436)은 입사 각도에 따라 서로 간섭하여, 플레이트(438)의 감광성 에멀전 상에 다른 회절 격자 패턴(430)을 형성한다. 두 개의 빔 기술과 달리, 본 방법은 동일하거나 유사한 회절 격자 패턴을 달성하기 위하여 포토레지스트 플레이트(438)가 90도 회전하는 것을 필요로 하지 않는다.
맵핑된 최종 포토레지스트 플레이트(438)는 그후 금속화되고 전기도금되어 얕은 부조의 회절 격자 패턴을 갖는 엠보싱 심을 형성한다. 엠보싱 심은 필름 상에 홀로그램 또는 엠보싱된 영상을 형성하기 위하여 종래의 고속 홀로그램 엠보싱 장비에 사용된다. 엠보싱된 필름은 이후 금속화되고 기재 상에 적층되어, 백색 광에 노출되었을 때 다양한 시청 각도에서 반사하는 이동 패턴을 갖는 제품을 생성한다.
도 5에 도시된 대안적인 실시예에 있어서, 폴리이미드와 같은 플라스틱 필름은 포토레지스트 플레이트와는 달리, 플라스틱 안으로 직접 삭마된다. 이러한 실시예에 있어서, 광 빔은 플라스틱 필름 상에 직접 회절 격자 패턴을 맵핑하고, 플라스틱 필름은 이후 엠보싱 심으로 사용을 위해 니켈 도금된다.
광 빔(532, 534, 536) 각각을 25 미크론에서 125 미크론에 이르는 매우 작은 도트에 집중시키기 위하여 세 개의 빔이 조정 및/또는 구성된다. 중첩된 광 빔(532, 534, 536)은 플라스틱 필름의 표면을 직접 삭마하기에 충분한 에너지를 함유하여, 교차-격자(530)를 생성한다. 작은 교차-격자(530)의 배열이 생성되어 대형 영상을 형성한다. 더 좁은 빔(532, 534, 536)은 서로 간섭하여, 제 1 실시예에서와 꼭 같은 회절 격자(530)를 형성하지만, 이들은 플라스틱 필름(538) 표면(포토레지스트 플레이트가 아닌) 상에 만들어진 매우 작은 픽셀이다. 플라스틱 필름(538)은 엠보싱 심으로 추가 처리 없이 그 자체로 사용될 수 있지만, 플라스틱 필름(538)을 니켈 도금하여 엠보싱 심을 형성하는 것이 바람직하다.
최종 니켈 도금된 엠보싱 심은 회절 격자 패턴의 홀로그램 부조를 갖는다. 전통적인 고속의 홀로그램 엠보싱 장비에 사용하기 위하여 추가적인 심 복제물이 성장된다. 최종적인 엠보싱 심은 운동 재생 특성을 갖는 광학 영상을 함유한다.
당업자는 본 방법의 장점을 이해할 수 있을 것이다. 본 방법인 3 빔 기술은 광으로 한정할 수 있는 표면을 두 번 노출시킬 필요성을 제거하고, 노출 사이의 관련된 모든 조정을 제거한다. 3빔 기술은 빔 각도에서 비대칭을 고유하게 사용하여 특수 효과를 산출한다. 덧붙여, 3빔 기술은 또한, 시야에서 상당한 개선을 제공하는, 종래의 영상 안으로 조정될 수 있는 교차-격자 픽셀을 생성하는 능력을 허용한다.
본 명세서에서 언급되는 모든 특허는, 본 개시물의 본문 내에서 구체적으로 언급되었는 지에 관계 없이, 본 명세서에 참조로서 병합된다.
본 개시물에서 단수 표현된 단어는 단수와 복수 모두를 포함하는 것으로 의도된다. 역으로, 복수 항목에 대한 임의의 언급은 적절하다면 단수를 포함한다.
상술한 것으로부터, 본 발명의 새로운 개념의 실제 사상 및 범주를 벗어남이 없이도 다양한 변경 및 변형이 이루어질 수 있음을 알 수 있을 것이다. 도시된 특정 실시예에 대한 어떠한 제한도 의도되거나 유추되어서는 안된다는 것이 이해될 것이다. 본 개시물은 첨부된 청구범위를 통해 청구범위의 범주 내에 드는 그러한 모든 변형을 포함하려 한다.
10 : 홀로그램 엠보싱을 만들기 위한 장치
12 : 엠보싱 롤러 14 : 후면 롤러
16 : 닙 롤 18 : 필름
20 : 엠보싱 심 22 : 엠보싱 영상
432, 434, 436, 532, 534, 536 : 빔
430 : 회절 격자 패턴 530 : 교차-격자

Claims (19)

  1. 엠보싱 심(embossing shim)을 위한 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법으로서,
    가간섭성 광원으로부터의 적어도 세 개의 광 빔을 광으로 한정할 수 있는(photodefinable) 표면을 향하게 하는 단계와,
    상기 적어도 세 개의 광 빔의 간섭을 통해 광 간섭 패턴을 상기 광으로 한정할 수 있는 표면 상에 맵핑하는 단계와,
    상기 광으로 한정할 수 있는 표면으로부터 엠보싱 심을 제작하는 단계를
    포함하는 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 광 간섭 패턴은 상기 적어도 세 개의 빔에 한 번의 노출에 의해 생성된 회절 교차-격자인, 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 광으로 한정할 수 있는 표면은 플라스틱 필름인, 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 광으로 한정할 수 있는 표면은 포토레지스트 표면인, 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 적어도 세 개의 광 빔은 상기 광으로 한정할 수 있는 표면 상에 적어도 세 개의 낮은 에너지의 스폿을 생성하는, 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 광으로 한정할 수 있는 표면은 전기 도금되어 금속 마스터 심을 형성하는, 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 금속 마스터 심은 엠보싱 심으로의 사용을 위해 니켈 도금되는, 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  8. 제 1항에 있어서, 상기 적어도 세 개의 빔은 대략 25 미크론에서 대략 125 미크론에 이르는 영역에 집중되도록 구성되는, 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  9. 제 1항에 있어서, 복수의 교차-격자가 사용되어 대형의 교차-격자를 형성하는, 개선된 광 간섭 패턴을 만드는 방법.
  10. 확산 조명 조건 하에서 시청을 제공하기 위한 개선된 광 간섭 패턴을 갖는 홀로그램 엠보싱 심으로서,
    가간섭성 광원으로부터의 세 개 이상의 광 빔의 간섭에 광으로 한정할 수 있는 표면의 단일 노출을 통해 생성된 홀로그램 영상을 포함하는, 홀로그램 엠보싱 심.
  11. 제 10항에 있어서, 상기 광으로 한정할 수 있는 표면은 플라스틱 필름인, 홀로그램 엠보싱 심.
  12. 제 10항에 있어서, 상기 광으로 한정할 수 있는 표면은 포토레지스트 표면인, 홀로그램 엠보싱 심.
  13. 제 10항에 있어서, 상기 적어도 세 개의 광 빔에 대한 한 번의 노출은 광으로 한정할 수 있는 표면 상에 적어도 세 개의 낮은 에너지의 스폿을 생성하는, 홀로그램 엠보싱 심.
  14. 제 10항에 있어서, 상기 적어도 세 개의 광 빔은 서로 간섭하여 상기 광으로 한정할 수 있는 표면 상에 회절 교차-격자 패턴을 형성하는, 홀로그램 엠보싱 심.
  15. 제 14항에 있어서, 상기 교차-격자 패턴은 상기 광으로 한정할 수 있는 표면 상에서 상기 적어도 세 개의 광 빔에 한 번의 노출을 통해 형성되는, 홀로그램 엠보싱 심.
  16. 제 10항에 있어서, 상기 광으로 한정할 수 있는 표면은 전기 도금되어 금속 마스터 심을 형성하는, 홀로그램 엠보싱 심.
  17. 제 16항에 있어서, 상기 금속 마스터는 니켈 도금되어 엠보싱 심을 형성하는, 홀로그램 엠보싱 심.
  18. 제 10항에 있어서, 상기 세 개의 빔은 대략 25 미크론에서 대략 125 밑크론에 이르는 영역에 집중되도록 구성되는, 홀로그램 엠보싱 심.
  19. 제 10항에 있어서, 복수의 교차-격자가 사용되어 대형의 교차-격자를 형성하는, 홀로그램 엠보싱 심.
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