KR20110083747A - 실리카 첨가제로 광택을 조절하는 방법 및 관련 제품 및 용도 - Google Patents

실리카 첨가제로 광택을 조절하는 방법 및 관련 제품 및 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은 자동차 산업에서, 예를 들어, 자동차 인테리어용 물품과 같은 성형 플라스틱 제품의 광택을 조절하는 방법과 이러한 목적을 위해 특정 첨가제를 사용하는 것 및 관련 발명 구현예에 관한 것이다.
상기 조절은 성형 물품의 중합체 기재로서 사용되는 중합체 조성물에 1 이상의 실리카 첨가제를 첨가하는 것을 포함한다.

Description

실리카 첨가제로 광택을 조절하는 방법 및 관련 제품 및 용도{METHOD OF MODIFYING GLOSS WITH SILICA ADDITIVES AND RELATED PRODUCTS AND USES}
본 발명은 중합체 성형 제품에서 광택 조절제로서 실리카를 사용하는 것과 해당 방법 및 공정 그리고 수득될 수 있는 제품에 관한 것이다.
간단히, 본 발명은 또한 중합체 조성물에 실리카를 첨가하는 것을 포함하는 중합체 조성물의 광택을 조절하는, 특히 감소시키는 방법, 해당 중합체 조성물 및 이의 제조 방법, 및 이들 중합체 조성물로부터 제조되는 성형 제품에 관한 것이다. 본 발명에 따라 형성된 저광택 중합체 조성물은 예컨대 자동차(인테리어) 분야와 같이 무광택 표면 피니시 처리된 중합체의 사용이 유리한 분야에 적합하다.
자동차 인테리어 부품과 같은 물품에서 중합체, 특히 PP (폴리(프로필렌)) 및 TPO (열가소성 폴리(올레핀))의 기술적 및 환경적 이점은 자동자 시장에서 오랫동안 인식되어 왔다. 이러한 분야에서 대부분의 시판되는 TPO 물질은 충분한 긁힘 내성을 제공하고 최종 부품의 균일한 (저)광택을 유지하기 위하여 래커 또는 페인트 또는 기타 코팅으로 코팅되어야 한다는 단점이 있다.
용어 "물품" (예를 들어, 성형 물품) 및 "제품" (예를 들어, 성형 제품)은 본 명세서에서 동의어로 사용된다.
PP를 베이스로 하는 진보된 물질은 저밀도, 편리한 가공성 및 양호한 비용/성능 밸런스와 같은 주요 이점으로 인하여 자동차 내장 및 외장 부품으로서 계속 인기가 있다. 최종 소비자(특히 차 구매자)의 품질에 대한 요구는 계속 증가하고 있다. (특히 차) 제조자는 긁힘 내성, 스타일 조화, 새로운 컬러와 고급스러운 외관 및 예컨대 교란 광 반사 회피와 같은 양호한 안전성 등의 개선된 표면 특성을 통하여 이들 요구에 부합하고자 노력한다.
인테리어 분야 및 성형 제품 및 물품에서 최고의 관심은 계기판 구조, 콘솔, 기타 인테리어 트림 부품 및 계기판 뿐만 아니라 시트 부품, 핸들, 트렁크 매트, 엔진 격실 부품 등에 집중된다. 또한, 성형 제품에 해당하는 다른 분야에서는, 예를 들어, 양호한 기계적 강도 저광택과 같은 유리한 광학 특성을 필요로 하는 기계 하우징, 기기, 소비자 또는 전자 디바이스, 옥외 차량 및 디바이스 또는 및 임의의 다른 성형 부품 또는 성형 물품이 주목된다.
저광택 및 개선된 긁힘 내성을 실현할 필요가 있는 주요 기재는 탈크-충전 PP 공중합체 또는 PP계 TPE와 같은 기재이다. 이들 물질의 조성은 광범위하게 달라질 수 있으므로, 저광택 및 긁힘 내성이 사용되는 수지, 탄성중합체와 탈크, 안정화제와 보조 첨가제 및 안료와 기타 충전제의 유형 및 함량에 따라 달라짐은 명백하다. 또한, 가공 조건 및 표면 텍스처(그레인)도 중요한 역할을 한다.
이들 신규 물질은 임의의 코팅 없이 성형 제품의 제조에 사용되도록 의도되며 특히 (성형 도구에 새겨지는) 네거티브 형성 공정에 사용될 수 있다.
저광택을 달성하기 위하여, 추가의 충전제 물질이 사용되어 왔다. 그러나, 많은 분야에서, 이들 유형의 충전제는 균일한 피니시를 지속적으로 제공하지 않으면서 생성되는 물품의 기계적 특성을 손상시키는 경향이 있다. 저광택은 또한 사출 성형 도구에서 적절한 표면 텍스처의 이용을 통해 달성될 수 있다. 그러나, 제조에서 경시적으로 매우 낮은 광택을 유지하는 것은 자본 및 노동 집약적일 수 있는 빈번한 표면 세정/리텍스처링을 필요로 한다.
해당 제품의 표면을 변성시키기 위하여 코팅을 사용하여 왔으나, 긁힘이 반드시 표면 외관의 열화를 의미하지 않고(동일한 물질이 여전히 표면에 있음) 더 적은 제조 단계(예를 들어, 예를 들어 접착제 등과 같은 하나 이상의 추가층을 더 필요로 할 수 있는 필름, 예를 들어 코팅 등을 위한 건조 단계의 추가 없이)를 사용할 수 있도록 성형 제품의 벌크 물질을 그대로 표면에 노출시키는 것이 원칙적으로 바람직하다.
따라서, 추가의 코팅 또는 표면 처리를 필요로 하지 않고 언급된 바와 같은 성형 제품의 제조가 가능한 추가의 중합체 조성물을 발견할 필요가 있다. 예를 들어, 인장 탄성률, 파단시 인장 응력, 파단시 인장 변형 및 충격 내성과 같은 기계적 특성 및 긁힘 내성과 같은 다른 중요한 특성을 유지하면서 저광택 특성을 갖는 조성물이 특히 바람직하다.
특히, 자동차 분야에서 사용되는 저광택의, 긁힘 내성이 개선된 중합체, 특히 TPO가 필요하다는 것은 잘 알려져 있다. 자동차 인테리어 분야에서의 최고의 관심은 계기판 구조, 콘솔, 기타 인테리어 트림 부품 및 계기판에 최고의 관심이 집중된다.
자동차 인테리어의 저광택 표면은 특히 하기 2가지 이유에서 필요하다:
1) 안전성, 예를 들어, 대시보드로부터 윈드실드로의 저반사.
2) 디자인 및 미관: 저광택 표면이 고품질 및 고가치 부품으로서 인지된다.
저광택 및 개선된 긁힘 내성을 실현할 필요가 있는 (물품을 위한 기본 재료를 의미하는) 주요 기재는 탈크-충전 PP 공중합체 또는 PP계 TPE (스킨)와 같은 기재이다. 이들 물질의 조성은 광범위하게 달라질 수 있으므로, 저광택 및 긁힘 내성이, 사용되는 수지, 탄성중합체와 탈크, 안정화제와 보조 첨가제 및 안료와 기타 충전제의 유형 및 함량에 따라 달라짐은 명백하다. 또한, 가공 조건 및 표면 텍스처(그레인)도 중요한 역할을 한다.
이들 신규 물질은 (적어도 바람직하게는) 임의의 코팅 없이 사용되도록 의도되며 특히 (성형 도구에 새겨지는) 네거티브 형성 공정에 사용될 수 있다.
놀랍게도, 중합체 조성물에 실리카, 특히 발열법 및/또는 침전법에 의하여 수득되는 실리카를 첨가하면 예를 들어 상기 언급된 것과 같은 다른 중요한 특성을 유지 또는 심지어 개선시키면서 성형 제품의 소정 광택 특성을 달성할 수 있음을 발견하였다.
따라서, 본 발명은 제1 측면에서 중합체 조성물의 광택을 조절, 특히 감소시키는 방법 및 특히 추가의 코팅 및/또는 필름을 사용하지 않는, 특히 또한 다른 표면 처리를 이용하지 않는 성형 제품의 제조에서의 그 용도를 제공한다. 본 발명에 따라 형성된 저광택 중합체 조성물은 예컨대 일부 성형 자동차 (인테리어) 분야와 같이 무광택 표면 피니시 처리된 중합체의 사용이 유리한 분야에 적합하다.
본 발명에 따라 형성된 중합체 조성물은 개선된 저광택 특성 및 양호하거나 또는 심지어 개선된 물리적 특성을 나타낸다.
일반적으로, 저광택 조성물은 폴리프로필렌 조성물을 본 발명에 따른 하나 이상의 실리카 첨가제와 용융 혼합함으로써 형성된다.
탈크 및 규회석과 같은 충전제 및 다른 가공 첨가제도 본 발명에 따른 조성물에 포함될 수 있다. 중합체 분야에서 다른 통상적인 첨가제도 존재할 수 있다.
따라서, 본 발명은 특히 벌크 개시 중합체 혼합물에 하나 이상의 실리카 첨가제를 (특히 용융혼합에 의하여) 첨가하여 (실리카 첨가제(들)를 첨가하지 않은 동일한 혼합물과 비교하여) 광택을 조절, 특히 감소(저하)시킨 다음 물품을 형성하는 것을 포함하는 중합체 성형 물품의 광택을 조절, 특히 감소(저하)시키기 위한 및/또는 저광택 중합체 성형 물품의 제조를 위한 방법 또는 공정, 또는 상기 중합체 성형 물품의 형성에 사용되는 혼합물에 첨가하여 중합체 성형 물품의 광택을 감소시키는 첨가제로서 하나 이상의 실리카 첨가제의 용도를 포함한다. 바람직하게는, 실리카 첨가제(들)가 없는 조성물(그러나, 다른 것은 동일함)에 비하여 광택을 저하시키는 데 효과적인 양의 하나 이상의 실리카 첨가제를 첨가한다.
용어 "성형 제품" 또는 "성형 물품"은 특히 두께가 약 2 mm 이상, 더 바람직하게는 약 5 mm 이상, 예컨대 약 1 cm 이상인 3차원 물품을 의미한다. 바람직하게는 이것은 코팅 및 필름 또는 섬유 형태의 물질 및 유리 섬유와 같은 보강 섬유가 중합체 기재에 포함된 물질을 배제한다.
바람직하게는, 또한 생성하고자 하는 중합체 성형 물품의 제조 조건은 실리카 첨가제(들) 첨가, 특히 실리카 첨가제(들)의 양 및/또는 유형이 선택된 공정 조건과 함께 실리카 첨가제(들)가 없는 동일한 조성의 물품에 비하여 광택의 저하를 유도하도록 선택된다.
본 명세서에 광택을 "조절"한다는 용어가 사용될 경우, 이것은 또한 광택이 소정 값으로 조정될 수 있음을, 즉, 원칙적으로 광택을 증가시킬 수도 있음을 의미하는 것으로 의도된다. 그러나, 본 명세서에 개시된 모든 발명 구체예의 한 특정 구체예에서, 상기 용어는 광택의 "감소"(저하)에 사용된다.
본 발명에 따른 열가소성 수지 조성물은 진공 성형, 프로파일 성형, 발포 성형, 사출 성형, 취입 성형, 압축 성형, 회전 성형 등과 같은 공지된 방법으로 다양한 성형 물품으로 형성될 수 있다. 성형 제품에 예를 들어 캐비티 등을 형성하기 위하여, 무형 (용융) 물질로부터 고체 (가요성 및/또는 탄성) 보디를 형성하기 위하여 각각 임의로 또는 필요할 경우 성형 후 제거 가능한 (예를 들어, 모래 및 결합제와 같은 물질로 제조된) 하나 이상의 코어를 사용하여 틀에서 성형하는 것이 바람직하다("Urformverfahren").
본 발명은 또한 광택 감소제로서 하나 이상의 실리카 첨가제를 사용하는 것에 관한 것으로, 1 이상의 실리카 첨가제는 중합체 성형 물품의 형성을 위해 사용되는 혼합물에 첨가된다.
일반적으로, 본 발명의 각 구체예에서 본 명세서 내의 모든 더 일반적인 용어의 1, 2 이상은 본 발명의 추가의 유리한 구체예를 제공하기 위하여 이상 또는 이하에 개시된 더 구체적인 정의로 대체될 수 있다.
단수형이 사용될 경우, 이것은 "1 이상", 예를 들어, "하나 이상"을 포함하는 것으로 의도된다.
본 발명에 따라 형성된 중합체 조성물은 개선된 (특히 낮은) 광택 특성 및 개선된 물리적 특성을 나타낸다.
일반적으로, 저광택 조성물은 편리하게는 폴리프로필렌 조성물과 같은 중합체 기재와 본 발명에서 커버되는 실리카 첨가제를 용융 혼합함으로써 형성된다.
본 발명은 특히 예를 들어, Degussa가 상표명 ACEMATT®로 시판하는 것들, 예컨대 발열성 표면 변성 실리카; 예컨대 레이저 회절법으로 측정된 입도 d50 값이 약 9 ㎛인 실리카, 예를 들어, Degussa의 ACEMATT® 3300, 평균 응집체 입도(중간 TEM)가 3 ㎛인 침전에 의하여 수득되는 미처리 실리카, 예를 들어, 각각 Degussa의 ACEMATT® HK 400 또는 ACEMATT® HK 450, 평균 응집체 입도(중간 TEM)가 2.5 ㎛인 침전, 열침전에 의하여 수득되는 미처리 실리카, 예컨대 Degussa의 ACEMATT® HK 460, 평균 응집체 입도(중간 TEM)가 3 ㎛이고 유기 표면 처리된 용이하게 분산가능한 침전 실리카 제제, 예컨대 Degussa의 ACEMATT® OK 412, 평균 응집체 입도(중간 TEM)가 3 ㎛이고 유기 표면 처리된 용이하게 분산가능한 침전 실리카, 예컨대 각각 Degussa의 ACEMATT® OK 500 또는 ACEMATT® OK 520, 평균 응집체 입도(중간 TEM)가 2 ㎛이고 유기 표면 처리된 용이하게 분산가능한 초미분 침전 실리카, 예컨대 Degussa의 ACEMATT® OK 607, 평균 응집체 입도(중간 TEM)가 4 ㎛인 열처리되지 않은 침전/열처리된 침전 실리카, 예컨대 Degussa의 ACEMATT® TS 100, 레이저 회절법에 의한 입도 d50 값이 약 9.5 ㎛인 발열성 실리카계 실리카 첨가제(ISO 13320-1과 유사) 또는 특히 침전에 의하여 수득되는 미처리 실리카, 예를 들어, Degussa의 ACEMATT® HK 440(CAS No.: 112926-00-8)에서 선택되는 화학적으로 제조된 및/또는 발열성 실리카 첨가제를 의미한다. "Degussa"는 독일 프랑크푸르트 소재 Evonik Degussa GmbH를 의미한다.
이들 제품은 본 발명에 따르면 유용한 것으로 개시되며 벌크 물질에 포함되는 표면 개질제로서, 특히 자동차 분야의 성형 제품 및 PP/TPO 중합체 조성물에서 저광택 첨가제로서 사용된다.
본 발명에 따른 물품의 형성에 사용되는 조성물은 바람직하게는 실리카 첨가제(들)를 0.2∼40 중량%, 더 바람직하게는 약 2 ∼ 약 30 중량% 또는 바람직하게는 약 25 중량%, 더욱 더 바람직하게는 약 2 ∼ 약 18 중량%, 예컨대 약 5 ∼ 약 15 중량%의 양으로 포함한다.
실리카 첨가제 입자의 크기는 예컨대 전자 현미경으로 또는 바람직하게는 레이저 회절로 측정하여 예컨대 약 0.1 ∼ 약 100 μm, 예를 들어 약 0.2 μm ∼ 약 50 μm, 예컨대 약 0.5 μm ∼ 약 30 μm 평균 크기 범위일 수 있으며 - 바람직하게는 크기 분포는 입자의 50 중량% 초과, 더 바람직하게는 75 중량% 초과가 평균값의 ±50% 내에 있는 크기 분포이다. 가장 바람직하게는 상기 언급된 수치는 ISO 13320-1에 따라 또는 이와 유사하게 얻은 d50 입도를 의미한다.
"약"이 사용될 경우, 이것은 "약" 이후에 주어지는 수치 값의 (기술적 실시에서 불가피한) 약간의 변동이 예를 들어, 주어진 값의 ± 10% 범위, 예컨대 ± 3% 범위에서 가능함을 의미하는 것으로 의도된다.
"광택 저하에 효과적인 실리카 유도체(들)의 양이 첨가된다"고 언급될 경우, 이것은 생성되는 물품의 광택이 특히 실리카 첨가제(들)를 첨가하지 않은 동일한 조성의 물품과 비교할 때 감소되는, 예를 들어, (실시예에 주어진 방법을 사용하여) 2% 이상, 예를 들어, 5% 이상, 예컨대 10∼99% 광택이 저하되는 양을 포함하는 것으로 의도된다.
또한, 본 발명에 따른 방법 또는 용도에서 공정 조건은 광택 감소가 불가능한 조건에 비하여 광택 감소가 가능하도록 변경될 수 있다. 예를 들어, 용융 온도, 소정 제품(예를 들어, 코어(들)를 사용 또는 사용하지 않는 성형를 위한 형태(틀))을 생성하는 장치로 물질을 이동시키는 속도, 성형를 위한 형태를 충전하는 온도(특히 도입 전 틀의 온도), 형성 장치의 온도, 고체 제품으로 가공하는 온도 등이 조절될 수 있는 파라미터이다. 실시예에서 입증된 것을 기초로 당업자라면 하나 또는 매우 제한된 수의 실험에 의하여 적절한 공정 조건을 편리하게 고안할 수 있을 것이다. 예컨대, 틀의 온도는 약 20℃ ∼ 약 60℃ 범위, 예를 들어, 20∼30℃ 범위에서 선택될 수 있고, 사출 온도는 바람직하게는 200∼280℃ 범위, 예를 들어, 200∼230℃ 범위에서 선택될 수 있으며, 실시예에 주어진 장비 조건 하에서 사출 속도는 추가 실험이 필요할지라도 적어도 개시 시점에서 바람직하게는 5 mm/sec ∼ 120 mm/sec 범위, 예를 들어, 약 10 ∼ 약 100 mm/sec 범위에서 선택될 수 있다.
본 발명에 따른 저광택 제품에 유용한 조성물의 기본 재료(중합체 기재)는 용융 혼합에 적절한 임의의 유형의 중합체 또는 중합체 혼합물로부터 선택될 수 있다. 가능한 중합체 중에서 이하가 전형적으로 언급될 수 있다: ABS (아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 중합체), SBS (스티렌-부타디엔-스티렌 삼블록 공중합체), SAN (스티렌-아크릴로니트릴 공중합체), ASA (아크릴로니트릴-아크릴레이트 탄성중합체-스티렌 공중합체, 또한 아크릴로니트릴-스티렌-아크릴레이트)와 같이 스티렌을 포함하는 중합체, 예컨대 디카르복실산 및 디알콜로부터 및/또는 히드록시카르복실산 또는 해당 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르, 예컨대 PBT (폴리(부틸렌 테레프탈레이트), PET (폴리(에틸렌 테레프탈레이트), 폴리-1,4-디메틸올시클로헥산 테레프탈레이트, 폴리히드록시벤조에이트, 코폴리에테르 에스테르 또는 UPES (불포화 폴리에스테르), PA (폴리아미드, 예를 들어, 디아민 및 디카르복실산으로부터 및/또는 아미노카르복실산 또는 해당 락탐에서 유도되는 폴리아미드, 예컨대 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 66/6, 6/66, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, 부분 방향족 (코)폴리아미드, 예컨대 방향족 디아민 및 아디프산을 베이스로 하는 폴리아미드, 알킬렌 디아민 및 이소- 및/또는 테레프탈산 및 이의 코폴리아미드로부터 제조되는 폴리아미드, 코폴리에테르 아미드, 코폴리에스테르 아미드 등), TPU (우레탄을 베이스로 하는 열가소성 탄성중합체), PS (폴리(스티렌)), HIPS (고충격 폴리(스티렌)), 예를 들어, 공단량체로서 비스페놀 A 및 "카본산" 단위 또는 다른 비스페놀 및/또는 디카본산 단위를 베이스로 하는 폴리(방향족 카르보네이트) 또는 폴리(지방족 카르보네이트)와 같은 PC (폴리카르보네이트), PC/ABS (폴리카르보네이트/아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 블렌드), ABS/PBT (아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌/폴리(부틸렌 테레프탈레이트) 블렌드), PVC (폴리(염화비닐)); PVC/ABS (폴리(염화비닐)/아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 중합체), PVC/ASA (폴리(염화비닐)/아크릴로니트릴-스티렌-아크릴레이트), PVC/아크릴레이트 (아크릴레이트-변성된 PVC) 및 이오노머((적어도 부분적으로) 이온화된 및 전기적으로 중성인 단량체의 공중합체).
바람직한 일 실시예에서, 중합체 기재는 폴리올레핀(예컨대, 고 결정질 PP), PC/ABS, ABS, PA-6와 같은 폴리아미드, 또는 폴리올레핀 고무 또는 TPE, 또는 예컨대 예에서 구체적으로 언급되는 바와 같은 중합체이다.
폴리올레핀의 예는 다음과 같다: 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체, 예를 들어, 폴리프로필렌, 예를 들어, 고 결정질 폴리프로필렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔, 및 시클로올레핀의 중합체, 예를 들어, 시클로펜텐 또는 노르보넨, 폴리에틸렌 (임의로 가교결합됨), 예를 들어, 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 고밀도 및 고분자량 폴리에틸렌(HDPE-HMW), 고밀도 및 초고분자량 폴리에틸렌(HDPE-UHMW), 중밀도 폴리에틸렌(MDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), VLDPE 및 ULDPE, 또는 언급된 중합체 2종 이상의 혼합물, 예를 들어, 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물(예컨대 PP/HDPE 또는 PP/LDPE) 또는 상이한 유형의 폴리에틸렌의 혼합물(예를 들어, LDPE/HDPE), 모노올레핀 및 디올레핀 상호간 또는 이들과 다른 비닐 단량체의 공중합체, 예컨대 에틸렌/프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 이들과 저밀도 폴리에틸렌 (LDPE)의 혼합물, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥산 공중합체, 에틸렌/메틸펜텐 공중합체, 에틸렌/헵텐 공중합체, 에틸렌/옥텐 공중합체, 프로필렌/부타디엔 공중합체, 이소부틸렌/이소프렌 공중합체, 에틸렌/알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체 및 일산화탄소와 이들의 공중합체, 및 에틸렌과 프로필렌 및 디엔, 예컨대 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보넨의 삼원중합체; 및 이러한 공중합체 상호간 또는 이들과 상기 언급된 다른 중합체의 혼합물, 예컨대 폴리(프로필렌/에틸렌-프로필렌) 공중합체, LDPE/에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체(EVA), LLDPE/EVA) 등.
예컨대, 적절한 폴리올레핀은 WO 2006/003127호(Ciba)에 개시된 바와 같다.
열가소성 탄성중합체(TPE) 예를 들어 열가소성 폴리올레핀(TPO)으로서도 공지된 고무 변성된 폴리올레핀을 포함한다. 이들은 기본적으로 폴리올레핀으로서 상기 언급된 중합체와 충격 보강제의 블렌드로서, 예컨대 에틸렌-프로필렌-디엔 단량체 공중합체(EPDM), 에틸렌과 고급 알파-올레핀의 공중합체(예컨대, 에틸렌-옥텐 공중합체), 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 스티렌-부타디엔 공중합체, 수소화 스티렌-부타디엔 공중합체, 스티렌-이소프렌 공중합체, 수소화 스티렌-이소프렌 공중합체 등이다. 이들 블렌드는 통상 TPO(열가소성 폴리올레핀)라 불린다. 예컨대, 적절한 TPO는 약 10 ∼ 약 90 중량%의 프로필렌 단독중합체, 공중합체 또는 삼원중합체, 및 약 90 ∼ 약 10 중량%의 에틸렌 및 C3-C8-알파-올레핀의 탄성 공중합체를 가진다.
예컨대, 적절한 TPO는 US 6 048 942호(Montell)에 개시된다.
폴리올레핀 및 고무 변성된 폴리올레핀은 본 발명 조성물의 유일한 중합체 기재가 아닐 수 있다. 중합체 기재로서 상기 개시된 바와 같은 폴리올레핀과 다른 중합체의 공중합체 또는 폴리올레핀과 다른 중합체의 블렌드가 배제되지 않는다.
다른 첨가제가 본 발명 중합체 조성물 중에 존재할 수 있다.
따라서, 본 발명의 중합체 조성물(중합체 기재)는 임의로 아래 열거되는 화합물과 같은 약 0.01 ∼ 약 5%, 바람직하게는 약 0.025 ∼ 약 2%, 특히 약 0.1 ∼ 약 1 중량%의 다양한 추가의 첨가제, 및 임의로 또한 40% 이하, 예를 들어, 0∼35, 예컨대 10∼25%의 기핵제 또는 충전제(예컨대, 활석), 또는 이들의 혼합물을 함유한다:
1. 항산화제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예컨대 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2-tert-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(oc-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시메틸페놀, 측쇄에서 선형 또는 분지형인 노닐페놀, 예컨대, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1-메틸운덱-1-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1-메틸헵타덱-1-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1-메틸트리덱-1-일)페놀 또는 이들 2종 이상의 혼합물.
1.2. 알킬티오메틸페놀, 예컨대 2,4-디옥틸티오메틸-6-tert-부틸페놀]-2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예컨대 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시-페놀, 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐) 아디페이트.
1.4. 토코페롤.
1.5. 히드록실화 티오디페닐 에테르.
1.6. 알킬리덴비스페놀, 예컨대 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)-페놀], 2,21-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸-페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-tert-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸-페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3-tert-부틸-4-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'tert-부틸-2-히드록시-5-메틸벤질)-6-tert-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트], 1,1-비스-(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(5-tert-부틸-4-히드록시2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄, 1,1,5,5-테트라-(5-tert-부틸-4-히드락시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. 벤질 화합물, 예컨대 3,5,3',5,-테트라-tert-부틸-4-4'-디히드록시디벤질 에테르.
1.8. 히드록시벤질화 말로네이트.
1.10. 다른 트리아진 화합물, 예컨대 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)이소시안우레이트, 1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시안우레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시안우레이트.
1.11. 벤질포스페이트, 예컨대 디메틸-2,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질 포스페이트, 디옥타데실-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스페이트, 디옥타데실-δ-tert-부틸-히드록시-S-메틸벤질포스페이트, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 칼슘염.
1.12. 아실아미노페놀.
1.13. β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알콜의 에스테르.
1.14. β-(5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산과 1가 알콜 또는 다가 알콜의 에스테르.
1.15. β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산과 1가 알콜 또는 다가 알콜의 에스테르.
1.16. 3.5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐 아세트산과 1가 알콜 또는 다가 알콜의 에스테르.
1.17. β-(3.5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드.
1.18. 아스코르브산(비타민 C).
1.19. 아민계 항상화제.
2. UV흡수제 및 광안정화제
2.1. 2-(2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 예컨대 미국 특허 3,004,896; 3,055,896; 3,072,585; 3,074,910; 3,189,615; 3,218,332; 3,230,194; 4,127,586; 4,226,763; 4,275,004; 4,278,589; 4,315,848; 4,347,180; 4,383,863; 4,675,352; 4,681,905, 4,853,471; 5,268,450; 5,278,314; 5,280,124; 5,319,091; 5,410,071; 5,436,349; 5,516,914; 5,554,760; 5,563,242; 5,574,166; 5,607,987, 5,977,219 및 6,166,218에 개시된 바와 같은 공지된 시판 히드록시페닐-2H-벤조트리아졸 및 벤조트리아졸, 예컨대 2-(2-히드록시-5-메틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3,5-디-t-부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-5-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-클로로-2-(3,5-디-t-부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-클로로-2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3-sec-부틸-5-t-부틸-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3,5-디-t-아밀-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3,5-비스-α-쿠밀-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-(2-(ω-히드록시-옥타-(에틸렌옥시)카르보닐-에틸)-, 페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3-도데실-2-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-(2-옥틸옥시카르보닐)에틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 도데실화 2-(2-히드록시-5-메틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸, 2-(3-tert-부틸-5-(2-(2-에틸헥실옥시)-카르보닐에틸)-2-히드록시페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸, 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-5-(2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸)-2-히드록시페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐-2H-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌-비스(4-t-옥틸-(6-2H-벤조트리아졸-2-일)페놀), 2-(2-히드록시-3-oc-쿠밀-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(2-히드록시-3-t-옥틸-5-α-쿠밀 페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-플루오로-2-(2-히드록시-3,5-디-α-쿠밀페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-클로로-2-(2-히드록시-3,5-디-α-쿠밀페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-클로로-2-(2-히드록시-3-α-쿠밀-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-2H-벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-히드록시-3-α-쿠밀-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-히드록시-5-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-히드록시-3,5-디-t-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 메틸3-(5-트리플루오로메틸-2H-벤조트리아졸-2-일)-5-t-부틸-4-히드록시히드로신나메이트, 5-부틸설포닐-2-(2-히드록시-3-α-쿠밀-5-t-옥틸-페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-히드록시-3-α-쿠밀-5-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-히드록시-3,5-디-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-트리플루오로메틸-2-(2-히드록시-3,5-디-a-쿠밀페닐)-2H-벤조트리아졸, 5-부틸설포닐-2-(2-히드록시-3,5-디-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸 및 5-페닐설포닐-2-(2-히드록시-3,5-디-t-부틸페닐)-2H-벤조트리아졸.
2.2. 2-히드록시벤조페논, 예컨대 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2'J41-트리히드록시 및 2l-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 치환 및 비치환 벤조산의 에스테르, 예컨대 4-tert-부틸 페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸 페닐 살리실레이트, 디벤조일 레소르시놀, 비스(4-tert-부틸벤조일)레소르시놀, 벤조일 레소르시놀, 2,4-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 헥사데실-S.S-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트 및 말로네이트, 예컨대, α-시아노-β,β-디페닐아크릴산 에틸 에스테르 또는 이소옥틸 에스테르, α-카르보메톡시-신남산 메틸에스테르, α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신남산 메틸에스테르 또는 부틸 에스테르, α-카르보메톡시-p-메톡시-신남산 메틸에스테르, N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸-인돌린, Sanduvor® PR25, 디메틸 p-메톡시벤질리덴말로네이트(CAS# 7443-25-6), 및 Sanduvor® PR31, 메틸피페리딘-4-일) p-메톡시벤질리덴말로네이트(CAS #147783-69-5).
2.5. 추가의 리간드를 포함 또는 불포함하는 니켈 화합물, 예컨대 2,2'-티오-비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물, 니켈 디부틸디티오카르바메이트, 모노알킬 에스테르의 니켈염, 케톡심의 니켈 착물, 또는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애 아민 안정화제, 예컨대 4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1-알릴-4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1-벤질-4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리딘, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) 세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘 및 숙신산의 축합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민 및 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 고리형 축합물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카르복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질) 말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜) 세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜) 숙시네이트, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-헥사메틸렌디아민 및 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 고리형 축합물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진 및 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진 및 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4,5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민 및 4-시클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄 및 2,4,6-트리클로로-1,3,5- 트리아진의 축합 생성물 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘(CAS Reg. No. [136504-96-6]); N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소-스피로[4,5]데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-시클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4,5]데칸 및 에피클로로히드린의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜-옥시카르보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스-포르밀-N,N1-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시-메틸렌-말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 말레산 무수물-α-올레핀-공중합체와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물.
입체 장애 아민은 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 미국 특허 5,980,783호 해당 부분에 개시된 화합물 중 하나일 수 있으며, 이것은 성분 I-a), I-b), I-c), I-d), I-e), I-f), I-g), I-h), I-i), I-j), I-k) 또는 I-l)의 화합물, 특히 상기 미국 특허 5,980,783호의 칼럼 64-72에 열거된 광안정하제 1-a-1, 1-a-2, 1-b-1, 1-c-1, 1-C-2, 1-d-1, 1-d-2, 1-d-3, 1-e-1, l-f-1, 1-g-1, 1-g-2 또는 1-k-1이다.
입체 장애 아민은 또한 본 명세서에 참고문헌으로 포함된 미국 특허 6,046,304호 및 6,297,299호에 개시된 화합물 중 하나, 예컨대 상기 문헌의 청구항 10 또는 38 또는 실시예 1-12 또는 D-1 내지 D-5에 개시된 바와 같은 화합물일 수 있다.
2.7. N-원자에서 히드록시-치환 알콕시기로 치환된 입체 장애 아민, 예컨대 1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-4-옥타데카노일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-4-헥사데카노일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1-옥실-4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘과 t-아밀알콜에서 유래하는 탄소 라디칼의 반응 생성물, 1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-4-옥소-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 세바케이트, 비스(1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 아디페이트, 비스(1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트, 비스(1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일) 글루타레이트 및 2,4-비스{N-[1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일]-N-부틸아미노}-6-(2-히드록시에틸아미노)-s-트리아진과 같은 화합물.
2.8. 옥사미드.
2.9. 트리스-아릴-o-히드록시페닐-s-트리아진. 예컨대 미국 특허 3,843,371; 4,619,956; 4,740,542; 5,096,489; 5,106,891; 5,298,067; 5,300,414; 5,354,794; 5,461,151; 5,476,937; 5,489,503; 5,543,518; 5,556,973; 5,597,854; 5,681,955; 5,726,309; 5,736,597; 5,942,626; 5,959,008; 5,998,116; 6,013,704; 6,060,543; 6,242,598 및 6,255,483에 개시된 바와 같은 공지된 시판 트리스-아릴-o-히드록시-페닐-s-트리아진 및 트리아진, 예컨대 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-s-트리아진, Cyasorb® 1164, Cytec Corp, 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2,4-디히드록시페닐)-s-트리아진, 2,4-비스(2,4-디히드록시페닐)-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진, 2,4-비스[2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)페닐]-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진, 2,4-비스[2-히드록시-4-(2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)페닐]-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 2,4-비스[2-히드록시-4-(2-히드록시에톡시)페닐]-6-(4-브로모페닐)-s-트리아진, 2,4-비스[2-히드록시-4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-6-(4-클로로페닐)-s-트리아진, 2,4-비스(2,4-디히드록시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-s-트리아진, 2,4-비스(4-비페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시카르보닐에틸리덴옥시페닐)-s-트리아진, 2-페닐-4-[2-히드록시-4-(3-sec-부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-6-[2-히드록시-4-(3-sec-아밀옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진, 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-벤질옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-n-부틸옥시페닐)-6-(2,4-디-n-부틸옥시페닐)-s-트리아진, 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-노닐옥시*-2-히드록시프로필옥시)-5-α-쿠밀페닐]-s-트리아진 (*는 옥틸옥시, 노닐옥시 및 데실옥시 기의 혼합을 의미함), 메틸렌비스-{2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-[2-히드록시-4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로폭시)페닐]-s-트리아진}, 5:4:1의 비로 3:5', 5:5' 및 3:3' 위치에서 가교된 메틸렌 가교 이량체 혼합물, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-이소옥틸옥시카르보닐이소프로필리덴옥시페닐)-s-트리아진, 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-헥실옥시-5-α-쿠밀페닐)-s-트리아진, 2-(2,4,6-트리메틸페닐)-4,6-비스[2-히드록시-4-(3-부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진, 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-sec-부틸옥시-2-히드록시프로필옥시)페닐]-s-트리아진, 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-히드록시-4-(3-도데실옥시-2-히드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진 및 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-히드록시-4-(3-트리데실옥시-2-히드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진의 혼합물, Tinuvin® 400, Ciba Specialty Chemicals Corp., 4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-2-(2-히드록시-4-(3-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시프로폭시)-페닐)-s-트리아진 및 4,6-디페닐-2-(4-헥실옥시-2-히드록시페닐)-s-트리아진.
3. 금속 탈활성화제.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예컨대 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐 페닐) 포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)-펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(tert-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐) 4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-디벤조[d,f][[1,3,2]디옥사포스페핀, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12-메틸-디벤조[d,g][1,3,2]디옥사포스포신, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐) 메틸포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐) 에틸 포스파이트, 2,2',2"-니트릴로[트리에틸트리스(3,3,5,5'-테트라-tert-부틸-1,1"-비페닐'-2,2'-디일)포스파이트], 2-에틸헥실(3,3',5,5-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일')포스파이트.
5. 히드록실아민.
6. 니트론.
7. 아민 옥시드.
8. 벤조푸라논 및 인돌리논.
9. 티오시너지스트.
10. 퍼옥시드 스캐빈저.
11. 폴리아미드 안정화제.
12. 염기성 보조 안정화제, 예컨대 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시안우레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리 금속염 및 알칼리 토금속염, 예컨대, 스테아르산칼슘, 스테아르산아연, 베헨산마그네슘, 스테아르산마그네슘, 리시놀레산나트륨 및 팔미트산칼륨, 피로카테콜산안티몬 또는 피로카테콜산아연.
13. 기핵제, 예컨대 활석과 같은 무기 물질, 이산화티탄, 산화마그네슘과 같은 금속 산화물, 바람직하게는, 알칼리 토금속의 인산염, 탄산염 또는 황산염; 모노카르복실산 또는 폴리카르복실산 및 이의 염과 같은 유기 화합물, 예를 들어, 4-tert-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산, 숙신산나트륨 또는 벤조산나트륨; 이온 공중합체(이오노머)와 같은 중합체 화합물.
14. 충전제 및 보강제, 예컨대 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 유리 벌브, 석면, 탈크, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연, 목분 또는 다른 천연 생성물의 가루 또는 섬유, 합성 섬유.
15. 폴리에틸렌 옥시드 왁스 또는 광유와 같은 분산제.
16. 다른 첨가제, 예컨대 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 염료, 형광 발광제, 레올로지 첨가제, 촉매, 흐름 제어제, 슬립제, 가교결합제, 가교결합 촉진제, 할로겐 스캐빈저, 연기 억제제, 방염제, 정전기 방지제, 치환 및 비치환 비스벤질리덴 소르비톨과 같은 청징제, 2,2'-p-페닐렌-비스(3,1-벤족사진-4-온), Cyasorb® 3638 (CAS# 18600-59-4)과 같은 벤즈옥사지논 UV 흡수제 및/또는 발포제.
추가의 바람직한 첨가제는 힌더드 아민 광 (특히 UV) 안정화제, 힌더드 페놀, 포스파이트, 벤조푸라논 안정화제 및 히드록시페닐벤조트리아졸, 히드록시페닐-S-트리아진 또는 벤조페논 자외광 흡수제, 활성 및 카본 블랙과 같은 충전제 또는 기핵제, 및 스테아르산칼슘과 같은 염기성 보조 안정화제, 또는 이들 2종 이상의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상이다.
물론, 본 발명에 따른 실리카 첨가제(들) 외에 탈크, 불소 함유 중합체, 하나 이상의 에폭시드 기를 포함하는 중합체, 탈크 또는 특히 그래프트 중합체 또는 에스테르화 중합체 또는 멜라민 포스페이트 및/또는 멜라민 시안우레이트와 같은 멜라민 유도체와 같은 추가의 소광제(matting agent)를 더 첨가하는 것도 가능하다. 이것은 항상 본 발명의 구체예에 포함된다.
중합체 성형 물품은 일반적으로 화이버글라스를 포함하지 않는다.
본 발명의 다른 구체예는 본 명세서에 개시된 바와 같은 중합체 조성물 성형틀 제품에서 긁힘 내성 개선제(들)로서 하나 이상의 실리카 첨가제를 사용하는 것이다.
본 발명에 따른 조성물은 또한 (바람직할지라도) 이미 언급된 자동차 분야 외에 다른 잠재적인 시장에 유용하다.
이하의 실시예는 본 발명 범위를 한정하지 않고 본 발명을 예시한다. 퍼센트(%)가 기재되는 경우, 이것은 달리 명백되지 않는다면 (완전한 중합체 조성물을 기준으로 한) 중량%를 의미한다.
이하의 방법 및 기술은 제조된 테스트 샘플의 도포 특성의 테스트 및 특성화에 이용된다.
광택은 Zehntner ZGM 1120 trigloss 광택계(스위스 지사흐 소재 Zehntner GmbH Testing Instruments사)를 이용하여 ISO 2813에 따라 60°, 추가로 또한 20°또는 85°에서 측정된다.
긁힘 내성은 스펙트럼 광량계 Spectraflash SF 600 플러스(스위스 디틀리콘 소재 Datacolor AG사)에 의하여 색차(ΔL 값)를 측정함으로써 평가된다. 이러한 측정은 긁힌 중합체 표면 대 긁히지 않은 중합체 표면의 밝기 차이에 해당한다. 긁힘은 GME 60280 (GM 유럽 공업 표준 GME 60280에 따른 긁힘 내성 테스트, Issue 2, July 2004)과 유사하게 1 mm 직경의 금속 선단(볼형 단부를 갖는 원통형 경금속 펜)을 갖는 긁힘 긁힘 경도 시험기 430 P(독일 헤머 소재 Erichsen GmbH & Co. KG사) 및 실온에서 10N의 하중을 이용하여 생성한다.
크로스헤드 속도가 100 mm/분인 Zwick Z010 만능 재료 시험기(독일 울름 소재 Zwick GmbH & Co. KG)를 이용하여 ISO 527에 따라 인장 특성을 측정한다. 각 제제에 대하여 5 이상의 샘플을 테스트하고 평균값을 계산한다. 인장 탄성률[MPa], 파단시 인장 응력[MPa] 및 파단시 인장 변형[%]을 보고한다.
굽힘 특성은 다시 Zwick Z010 만능 재료 시험기를 사용한 ISO 178에 따른 측정이다. 각 제제에 대하여 5 이상의 샘플을 테스트하고 평균값을 계산한다. 굴곡 탄성률[MPa] 및 굽힘 강도[MPa]를 보고한다.
샤피 충격 에너지 측정은 Zwick 5113 추 충격 시험기(독일 울름 소재 Zwick GmbH & Co. KG사)를 이용하여 ISO 179/1eA에 따라 수행한다. 해머의 일은 4J이다. 충격 시험 전에 반경 0.25 mm의 노치로 샘플에 노치를 생성한다.
언급된 실리카 첨가제에 관한 상세 사항은 상기 기재되어 있다.
실시예 1: 소광제(Evonik Degussa사의 ACEMATT)를 함유하는 TPO( Borealis Daplen ED 012 AE )로 사출 성형 플라크의 가공
표면 특성 및 기계적 특성을 평가하기 위하여 이하의 절차에 따라 TPO 사출 성형 플라크에 소광제를 포함시킨다:
분말 형태의 TPO Daplen ED012AE(오스트리아 비엔나 소재 Borealis AG사에서 입수)를 20%의 탈크(Luzenac A-20; Rio Tinto, 프랑스 툴루즈 소재 Luzenac Europe)와 함께 혼합하고, 2.5%의 카본 블랙 매스터배치, 0.05% 칼슘-스테아레이트, 0.05% IRGANOX B215(포스파이트 (트리스(2,4-디-(tert)-부틸-페닐)포스페이트) 및 힌더드 페놀 (테트라키스-(메틸렌-(3,5-디-(tert)-부틸-4-히드로신나메이트))메탄의 상승적 항산화제 혼합물, 스위스 바젤 소재 Ciba사)를 표 1에 나타낸 바와 같이 조합한다. 제제를 고속 혼합기 Mixaco Lab CM 12 (Mixaco, 독일 노이엔라데 소재 Dr. Herfeld GmbH & Co. KG Maschinenfabrik)에서 혼합하고 220℃에서 트윈-스크류 압출기, 예를 들어, Berstorff ZE 25x33D(독일 하노버 소재 KraussMaffei Berstorff GmbH)에서 펠릿으로 만든다. 상기 펠릿은 다시 표준 사출 성형기를 이용하여 두께 2 mm의 플라크로 사출성형된다. 가공 온도는 약 240℃이다.
표면 특성 및 기계적 특성은 표 1에 요약된다.
광택
60°
긁힘 내성
ΔL(10N)
굴곡
탄성율
(MPa)
굽힘
강도
(MPa)
샤피
충격
(kJ/m2)
블랭크 12.2 4.1 1463 28 50.3
5% ACEMATT HK 125 8.0 4.4 1729 27 39.0
5% ACEMATT HK 440 6.8 4.2 1615 27 34.7
5% ACEMATT OK 412 9.2 5.0 1447 27 44.5
5% ACEMATT OP 278 11.9 4.0 1524 28 28.1
5% ACEMATT TS 100 7.9 4.6 2136 27 41.3
5% ACEMATT 3200 8.8 4.5 1492 27 42.7
5% ACEMATT 3300 8.3 4.5 1678 27 43.2
ACEMATT® 278은 유기 소광제(메틸메타크릴레이트 및 스티렌을 베이스로 하는 공중합체)(독일 프랑크푸르트 소재 Evonik Degussa GmbH사)이다.
광택은 첨가제를 첨가함으로써 긁힘 내성 및 기계적 특성의 실질적인 변화 없이 감소된다.
실시예 2: Acematt HK 440을 단독으로 또는 다른 첨가제와 함께 함유하는 TPO (Borealis Daplen ED 012AE)로 사출 성형 플라크의 가공
제제는 실시예 1에 개시된 바와 같이 제조된다. 표 2는 결과를 나타낸다.
광택 60° 광택 85° 긁힘 내성
ΔL(10N)
블랭크 14 81 3.7
1% Acematt HK 440 13 77 4.0
3% Acematt HK 440 11 66 4.0
5% Acematt HK 440 10 54 3.9
7% Acematt HK 440 9 38 4.4
2.5% Acematt HK 440
2.5% Scripset 550
9 46 4.1
2.5% Acematt HK 440
2.5% IRGASURF SR 100
12 53 3.8
2.5% Acematt HK 440
2.5% Ceramer 67
12 66 2.9
이것은 광택이 실리카 단독(ACEMATT® HK 440)에 의하여 또는 Scripset® 550; IRGASURF® SR 100 또는 Ceramer® 67과 같은 다른 첨가제와의 조합에 의하여 감소될 수 있음을 나타낸다.
IRGASURF SR 100(스위스 바젤 소재 Ciba사)은 긁힘 내성 첨가제이다.
Scripset® 550은 이하의 표 2a로부터 추론할 수 있는 일반 특성을 갖는 저분자량 sec-부틸 에스테르(Scripset 550, 미국 델라웨어주 윌밍턴 소재 Hercules Incorporated사)로 에스테르화된 스티렌/말레산 무수물 공중합체이며 추가의 소광제로서 사용될 수 있는 그래프트 중합체 또는 에스테르화 중합체의 예이다:
표 2a: Scripset 550의 일반 특성:
Figure pct00001

에틸렌 중합체에 말레산 무수물 유도체를 그래피팅함으로써 Ceramer® 중합체를 형성한다. 이것 (및 특히 CERAMER® 67)은 미국 텍사스 휴스톤 소재 Baker Hughes사 산하 Baker Petrolite사로부터 입수할 수 있다. CERAMER 67은 이하의 특성을 가진다: 산도, mg KOH/g 샘플: 125 (BWM 3.01A에 따름); 비누화도, mg KOH/g 샘플: 156 (BWM 3.02A에 따름); 융점(℃): 78 (ASTM; D-127에 따름); 침투, 25℃에서 0.1 mm: 3 (ASTM D-1321에 따름).
이것은 실리카 첨가제의 첨가로 적어도 필적하는, 일부 경우 심지어 더 우수한 긁힘 내성이 발견될 수 있음을 나타낸다. 또한, 이것은 광택이 실리카 단독(ACEMATT® HK 440)에 의하여 또는 Scripset® 550; IRGASURF® SR 100 또는 Ceramer® 67과 같은 다른 첨가제와의 조합에 의하여 감소될 수 있음을 나타낸다.
실시예 3: 상이한 탈크 농축물 및 추가의 첨가제를 함유하는 TPO (Borealis Daplen ED 012AE)로 사출 성형 플라크의 가공
제제는 실시예 1에 개시된 바와 같이 제조하나, 탈크 농축물을 표 3에 나타낸 바와 같이 변화시킨다. Finntalc M05는 입자의 97%가 10 ㎛ 미만의 평균 직경을 갖는 탈크(핀란드 소재 Finnminerals Oy사 Finntalc M03)이다.
광택 20° 광택 60° 긁힘 내성
ΔL(10N)
탈크 불포함 23 91 0.4
7% Luzenac A-20
3% Acematt HK 440
16 83 1.7
15% Luzenac A-20
5% Acematt HK 440
15 58 3.3
7% Luzenac A-20
3% Acematt HK 440
3% IRGASURF SR 100
3% Finntalc MO5
16 60 1.8
이것은 추가의 소광제로서 탈크 첨가제를 변경할 수 있음을 나타낸다.
실시예 4: HCPP (Sabic PP CX02-81)로 사출 성형 플라크의 가공
(폴리프로필렌 공중합체 플라스틱, 독일 뒤셀도르프 소재 SABIC Deutschland GmbH & Co. KG사)
제제를 실시예 1에 개시된 바와 같이 제조하나, Borealis Daplen ED 012AE 대신, 고결정질 PP, Sabic PP CX02-81을 사용하고 탈크는 제제에 첨가하지 않는다.
광택
60°
긁힘 내성
ΔL(10N)
블랭크, 탈크 불포함 52 23.5
5% ACEMATT 3200 30 24.4
5% ACEMATT 3300 35 23.8
5% ACEMATT HK 125 26 25.4
5% ACEMATT HK 440 19 25.5
5% ACEMATT OK 412 24 25.6
5% ACEMATT OP 278 46 23.9
5% ACEMATT TS 100 33 25.0
이것은 모든 첨가된 실리카, 특히 다시 ACEMATT® HK 440이 긁힘 내성을 유지하면서 매우 양호한 광택 감소를 나타냄을 나타낸다.
실시예 5: PC/ABS (Dow Pulse A35-105)로 사출 성형 플라크의 가공
제제를 실시예 4에 개시된 바와 같이 제조하나, Borealis Daplen ED 012AE 대신, PC/ABS, Dow Pulse A35-105 (미국 미시건주 어번 힐즈 소재 Dow Automotive사)를 사용한다.
결과는 표 5에 나타낸다.
광택
60°
긁힘 내성
ΔL(10N)
인장
탄성률
(MPa)
파단시
인장 변형
(MPa)
굴곡
탄성율
(MPa)
굽힘
강도
(MPa)
샤피
충격
(kJ/m2)
블랭크 51 0.3 2258 44 2206 71.7 38
5% Aeroxide TiO2 P25 48 0.0 2179 42.9 2331 80.4 20
5% ACEMATT 3200 30 0.0 2103 42.4 2298 77.5 15
5% ACEMATT 3300 35 0.1 2142 42.9 2350 78.7 16
5% ACEMATT HK 125 34 0.0 2200 41.7 2363 78.9 9
5% ACEMATT HK 440 22 -0.4 2195 42.6 2395 79.6 7
5% ACEMATT OK 412 35 -0.1 2180 42.7 2326 77.8 16
5% ACEMATT OP 278 53 0.0 2026 47.4 2164 77.5 44
5% ACEMATT TS 100 35 -0.1 2164 42.2 2391 79.4 14
5% Aeroxide TiO2 P25는 발연 실리카와 같이 제조된 고도로 분산된 이산화티탄이다(AEROSIL® - 공정)(독일 프랑크푸르트 소재 Evonik Degussa GmbH사).
결과는 모든 실리카 첨가제, 특히 ACEMATT® 440이 양호한 무광택성을 나타냄을 나타낸다.
실시예 6: ABS (Dow Magnum 3504)로 사출 성형 플라크의 가공
제제를 실시예 4에 개시된 바와 같이 제조하나, Borealis Daplen ED 012AE 대신, ABS, Dow Magnum 3504 (미국 미시건주 어번 힐즈 소재 Dow Automotive사)를 사용한다.
결과는 표 6에 나타낸다.
광택
60°
긁힘 내성
ΔL(10N)
인장
탄성률
(MPa)
파단시
인장 변형
(MPa)
굴곡
탄성율
(MPa)
굽힘
강도
(MPa)
샤피
충격
(kJ/m2)
블랭크 46 0.0 1763.0 32.8 1927.3 60.7 13.2
5% Aeroxide TiO2 P25 39 0.2 1830.2 34.0 2027.8 60.6 8.5
5% ACEMATT 3200 32 0.1 1693.1 33.4 2105.7 61.2 6.4
5% ACEMATT 3300 38 0.1 1888.1 33.2 2124.6 61.0 6.3
5% ACEMATT HK 125 34 0.1 1930.7 33.8 2113.9 61.5 6.6
5% ACEMATT HK 440 34 0.1 1905.7 33.9 2101.2 60.9 6.6
5% ACEMATT OK 412 42 0.0 1904.6 33.0 2073.2 60.5 6.7
5% ACEMATT OP 278 42 0.0 1782.0 33.2 1912.6 59.5 10.5
5% ACEMATT TS 100 36 0.0 1937.6 33.6 2113.6 61.0 6.4
이것은 모든 실리카 첨가제, 특히 다시 ACEMATT® HK 440이 매우 양호한 광택 감소를 허용하면서 기계적 특성이 실질적으로 유지됨을 나타낸다.
실시예 7: TPE (Kraiburg STP 9363 / 33 B 102)로 사출 성형 플라크의 가공
제제를 실시예 4에 개시된 바와 같이 제조하나, Borealis Daplen ED 012AE 대신, TPE, Kraiburg STP 9363 / 33 B 102 (독일 발트크라이부르크 소재 Kraiburg TPE GmbH & Co. KG사)를 사용한다(열가소성 탄성중합체).
광택 20° 광택 60° 긁힘 내성
ΔL(10N)
블랭크 48 78 -0.7
5% Acematt HK 440 29 66 -0.4
요약하면, 실시예로부터 실리카 첨가제가 성형 물품에서 각종 상이한 유형의 중합체 및 플라스틱 재료의 광택을 저하시키는 유용한 대체물이라는 것이 추론될 수 있다.

Claims (15)

  1. 벌크 개시 중합체 혼합물에 1 이상의 실리카 첨가제를 첨가하여 광택을 감소시킨 후 물품을 형성하는 것을 포함하는 중합체 성형 물품의 광택 조절 및/또는 저광택 중합체 성형 물품의 제조를 위한 방법.
  2. 제1항에 있어서, 1 이상의 실리카 첨가제의 첨가는 용융 혼합에 의한 것인 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 광택 조절은 광택 감소를 의미하는 것인 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 1 이상의 실리카 첨가제는 침전 및/또는 열분해에 의하여 수득되는 실리카인 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 1 이상의 실리카 첨가제는 전체 중합체 혼합물의 0.2∼40 중량%의 양으로 존재하는 것인 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 중합체 혼합물의 중합체 기재는 스티렌을 포함하는 중합체, 폴리에스테르, 폴리아미드, 우레탄을 베이스로 하는 열가소성 탄성중합체, 폴리(스티렌), 고충격 폴리(스티렌), 폴리카르보네이트, 폴리카르보네이트/아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 블렌드, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌/폴리(부틸렌 테레프탈레이트) 블렌드, 폴리(염화비닐), 폴리(염화비닐)/아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 중합체, 폴리(염화비닐)/아크릴로니트릴-스티렌-아크릴레이트, 아크릴레이트-변성된 폴리(염화비닐), 이오노머, 폴리올레핀 및 폴리올레핀 고무 또는 TPE, 또는 이들 중합체 2종 이상의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 것인 방법.
  7. 제6항에 있어서, 중합체 기재는 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 중합체, 스티렌-부타디엔-스티렌 삼블록 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 아크릴로니트릴-아크릴레이트 탄성중합체-스티렌 공중합체, 폴리(부틸렌 테레프탈레이트), 폴리(에틸렌 테레프탈레이트), 폴리-1,4-디메틸올시클로헥산 테레프탈레이트, 폴리히드록시벤조에이트, 코폴리에테르 에스테르, 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 폴리아미드 6/10, 폴리아미드 6/9, 폴리아미드 6/12, 폴리아미드 4/6, 폴리아미드 66/6, 폴리아미드 6/66, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, 방향족 디아민 및 아디프산을 베이스로 하는 폴리아미드, 알킬렌 디아민 및 이소- 및/또는 테레프탈산으로부터 제조된 폴리아미드 및 이의 코폴리아미드, 코폴리에테르 아미드, 코폴리에스테르 아미드, 우레탄을 베이스로 하는 열가소성 탄성중합체, 폴리(스티렌), 고충격 폴리(스티렌), 공단량체로서 비스페놀 A 및 "카본산" 단위 또는 다른 비스페놀 및/또는 디카본산 단위를 베이스로 하는 폴리카르보네이트, 폴리카르보네이트/아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 블렌드, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌/폴리(부틸렌 테레프탈레이트) 블렌드, 폴리(염화비닐); 폴리(염화비닐)/아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 중합체, 폴리(염화비닐)/아크릴로니트릴-스티렌-아크릴레이트, 아크릴레이트-변성된 PVC 및 이오노머 또는 이들 중합체 기재 2종 이상의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 것인 방법.
  8. 제6항에 있어서, 중합체 기재는 PC/ABS, ABS, PA-6와 같은 폴리아미드, 또는 폴리올레핀 고무 또는 TPE, 또는 특히 폴리올레핀인 방법.
  9. 제8항에 있어서, 폴리올레핀은 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체, 예를 들어, 폴리프로필렌, 예를 들어, 고결정질 폴리프로필렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔, 시클로올레핀의 중합체, 예를 들어, 시클로펜텐 또는 노르보넨, 임의로 가교결합된 폴리에틸렌, 예를 들어, 고밀도 폴리에틸렌, 고밀도 및 고분자량 폴리에틸렌, 고밀도 및 초고분자량 폴리에틸렌, 중밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌, 선형 저밀도 폴리에틸렌, VLDPE 및 ULDPE, 또는 상기 언급된 중합체 2종 이상의 혼합물, 예를 들어, 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물 또는 상이한 유형의 폴리에틸렌의 혼합물, 모노올레핀 및 디올레핀 상호간 또는 이들과 다른 비닐 단량체의 공중합체, 예컨대 에틸렌/프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌 및 이의 저밀도 폴리에틸렌과의 혼합물, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥산 공중합체, 에틸렌/메틸펜텐 공중합체, 에틸렌/헵텐 공중합체, 에틸렌/옥텐 공중합체, 프로필렌/부타디엔 공중합체, 이소부틸렌/이소프렌 공중합체, 에틸렌/알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체 및 이의 일산화탄소와의 공중합체, 에틸렌과 프로필렌 및 디엔, 예컨대 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르넨의 공중합체; 및 이러한 공중합체 상호간 또는 이것과 상기 언급된 다른 중합체의 혼합물인 방법.
  10. 제8항에 있어서, TPE는 기본적으로 폴리올레핀으로서 제9항에 언급된 중합체와 충격 보강제의 블렌드인 고무 개질 폴리올레핀, 예컨대 에틸렌-프로필렌-디엔 단량체 공중합체, 에틸렌과 고급 알파-올레핀의 공중합체, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 스티렌-부타디엔 공중합체, 수소화 스티렌-부타디엔 공중합체, 스티렌-이소프렌 공중합체, 수소화 스티렌-이소프렌 공중합체, 바람직하게는 약 10 내지 약 90 중량%의 프로필렌 단독중합체, 공중합체 또는 삼원중합체를 갖는 TPO, 및 약 90 내지 약 10 중량%의 에틸렌 및 C3-C8-알파-올레핀의 탄성 공중합체를 포함하는 것인 방법.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 추가 소광제의 첨가 또는 첨가 없이, 중합체 조성물에 하나 이상의 추가 첨가제가 더 첨가되며, 상기 첨가제 또는 첨가제들은 항산화제, UV 흡수제, 광안정화제, 금속 탈활성화제, 포스페이트, 포스포나이트, 히드록실아민, 니트론, 아민 옥시드, 벤조푸라논, 인돌리논, 티오시너지스트, 퍼옥시드 스캐빈저, 폴리아미드 안정화제, 염기성 보조 안정화제, 기핵제, 분산제, 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 염료, 형광 발광제, 유동성 조정 첨가제, 촉매, 흐름 제어제, 슬립제, 가교결합제, 가교결합 촉진제, 할로겐 스캐빈저, 연기 억제제, 방염제, 정전기 방지제, 청징제 및 발포제로 이루어지는 군에서 선택되고, 조성물 중 상기 기핵제를 제외한 언급된 첨가제의 상대량의 합은 전체 중합체 조성물의 약 0.01 ∼ 약 5 중량%에 달하고 기핵제의 양은 전체 중합체 조성물의 40%까지일 수 있는 것인 방법.
  12. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 성형 제품의 제조를 위한 공정 조건 및 1 이상의 실리카 첨가제의 양 및/또는 유형은 이것이 조합해서 동일한 조성이나 실리카 첨가제(들)를 포함하지 않는 물품에 비하여 광택 감소를 유도하도록 선택되는 것인 방법.
  13. 제12항에 있어서, 선택되는 공정 조건은 용융 온도, 소정 물품 형성 장치로 물질이 이동하는 속도, 성형 틀을 충전하는 온도, 형성 장치의 온도 및 고체 제품의 가공 온도를 포함하는 것인 방법.
  14. 성형 중합체 물품의 형성에 사용되는 혼합물에 1 이상의 실리카 첨가제를 첨가함으로써, 바람직하게는 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 방법을 이용하여, 바람직하게는, 상기 실리카 첨가제(들)를 포함하지 않는 조성물에 비하여 광택을 감소시키는 데 효과적인 실리카 첨가제(들)의 양을 첨가하여, 또는 광택 감소제로서 멜라민 유도체를 사용하되 여기서 성형 중합체 물품의 형성에 사용되는 혼합물에 1 이상의 실리카 첨가제를 첨가하여 성형 중합체 물품의 광택을 감소시키기 위한 1 이상의 실리카 첨가제의 용도.
  15. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조된 중합체 성형 물품.
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