KR20110079994A - 광학패턴 필름 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 영상 디스플레이 장치에 사용되는 광학패턴 필름 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 광학패턴 필름은, 제1 수지층 표면에, 제1 수지층과 유동지수가 다른 제2 수지층이 형성되는 투명기재와, 투명 기재의 제1 수지층에 형성되는 제1 광학 필터용 패턴과, 투명 기재의 제2 수지층에 형성되는 제2 광학 필터용 패턴을 포함한다.

Description

광학패턴 필름 및 그 제조 방법{Optical pattern film and method for manufacturing the same}
본 발명은 영상 디스플레이 장치에 사용되는 광학패턴 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
영상 디스플레이 장치는 정보화 사회가 발전함에 따라 다양한 형태로 발달하고 있다. 예컨대 근래에는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), ELD(Electro Luminescent Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등 여러 가지 영상 디스플레이 장치가 개발되고, 일부는 여러 장비에서 표시장치로 활용되고 있다.
이러한 영상 디스플레이 장치에는 시인성 향상을 위해 다양한 광학패턴 필름들이 사용되고 있다. 기존에 사용되는 광학패턴 필름은 반사방지 필름, 전자파 차폐 필름, 근전외선 차폐 필름, 네온 광 및 외광 차폐 필름 등이 있다. 전자파 차폐 필름이나 외광 차폐 필름은 각각 메쉬 패턴 또는 물결 모양 패턴 등 다양한 형태의 패턴이 형성된다.
광학패턴 필름에 패턴을 형성하는 방법으로는 베이스 필름에 UV 수지를 코팅하여 금형으로 패턴을 만드는 방법, 열가소성 수지를 이용하여 압출 성형방법으로 제조하는 방법, 포토리소법 등이 사용되고 있다. 이 가운데 포토리소법은 공정이 복잡하고, 고가의 노광 설비를 이용하기 때문에 생산성과 원가 경쟁력에서 불리하다. 또한 UV 수지를 이용하는 방법은 베이스 필름을 사용해야 하기 때문에 재료비 상승의 원인이 되기도 한다. 반면에 압출 성형방법은 베이스 필름이 필요 없고, 한번의 공정으로 패턴이 가능하기 때문에 원가절감과 경제적인 측면에서 유리하다.
그런데, 압출성형방법을 이용하여 광학패턴 필름에 패턴을 형성할 때 사용되는 수지는 필름으로 만들었을 때의 광학적 성질, 물성, 그리고 패턴 성형의 용이성 등을 모두 고려해서 선택되어져야 한다. 보통 물성(내열성, 내화학성, 내습성 등)이 우수한 수지재료는 유리전이온도(Tg)가 높아서 고온에서 성형을 해야 하기 때문에 성형조건에서 급격한 점도변화로 정밀한 패턴을 형서아기 어려운 문제점이 있었다. 또한 유리전이온도(Tg)가 낮은 수지재료는 성형 시 점도 변화가 적어 패턴을 정밀하게 형성할 수 있지만 내열성과 같은 물성이 나빠서 필름의 변형이 생기기 쉬운 문제점이 있었다.
한편, 지금까지 반사방지 필름, 전자파 차폐 필름, 근전외선 차폐 필름, 네온 광 및 외광 차폐 필름은 각각 따로 따로 제작된 후, 광학패턴 필름 적층 순서에 따라 부착되어 하나의 디스플레이 필터를 구성하게 되었다. 이에 디스플레이 필터 완성품을 제조하기 위해서는 많은 광학패턴 필름을 제작하고, 일일이 부착해야 함으로 생산성과 원가 경쟁력에서 불리한 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 배경에서 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 물성(내열성, 내습성 등)이 우수하며, 양쪽면에 서로 다른 광학 필터용 패턴이 정밀하게 형성된 광학패턴 필름 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 부가적인 목적은 기능이 복합화 된 광학패턴 필름 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 양상에 따른 광학패턴 필름은, 제1 수지층 표면에, 제1 수지층과 유동지수가 다른 제2 수지층이 형성되는 투명기재와, 투명 기재의 제1 수지층에 형성되는 제1 광학 필터용 패턴과, 투명 기재의 제2 수지층에 형성되는 제2 광학 필터용 패턴을 포함한다.
본 발명의 다른 양상에 따른 광학패턴 필름 제조 방법은, 제1 수지층 표면에, 제1 수지층과 유동지수가 다른 제2 수지층을 형성하는 투명기재 형성 단계와, 제1 수지층 또는 제2 수지층 중 적어도 어느 하나의 수지층에 광학 필터용 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계를 포함한다.
본 발명의 부가적인 양상에 따른 광학패턴 필름 제조 방법은, 제1 수지층 및 제2 수지층이, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리스틸렌(PS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 변성 실란(MS) 고분자 수지 중 어느 하나로 구현되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 부가적인 양상에 따른 광학패턴 필름 제조 방법은, 제1 수지층이 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 근적외선을 흡수하는 근적외선 흡수 색소, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 가시광선 내 특정 파장을 흡수하는 색보정 색소, 외부 자외선 차단 첨가물, 또는 광확산용 비드(Beads) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광학패턴 필름 및 그 제조방법은 유동지수가 다른 제1, 제2 수지층으로 이루어진 투명기재를 사용하여 광학 필터용 필름을 형성하되, 깊이, 경사, 폭을 갖는 복잡한 패턴은 유동지수가 높은 수지층에, 비교적 간단한 패턴은 유동지수가 높은 수지층에 형성되도록 구현됨으로써, 제1, 제2 수지층으로 이루어진 투명기재의 양쪽면에 서로 다른 광학 필터용 패턴을 정밀하게 형성할 수 있는 유용한 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 광학패턴 필름 및 그 제조방법은 제1, 제2 수지층이 고분자 수지로 구현됨으로써, 투명기재의 물성(내열성, 내습성 등)이 우수한 유용한 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 광학패턴 필름 및 그 제조방법은 제1 수지층과 제2 수지층에는 근적외선 흡수 색소, 색보정 색소, 외부 자외선 차단 첨가물, 또는 광확산용 비드(Beads) 중 적어도 하나 이상을 포함하도록 구현됨으로써, 기존의 많은 광학패턴 필름들을 개별적으로 제조하던 것과 비교하여 광학패턴 필름 제조 공정 및 시간이 줄어드는 유용한 효과가 있다.
도 1 은 본 발명의 일실시예에 따른 광학패턴 필름 제조 과정을 도시한 순서도이다.
도 2 는 본 발명에 따른 광학패턴 필름에 패턴을 형성하는 과정을 설명하기 위한 예시도이다.
도 3 은 본 발명에 따른 광학패턴 필름 제조 방법에 의해 제조된 광학패턴 필름을 예시한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 전술한, 그리고 추가적인 양상을 기술되는 바람직한 실시예를 통하여 본 발명을 당업자가 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다.
본 명세서에서, 수지의 유리전이온도(Glass Transition Temperature, Tg)는 수지가 고체상태에서 유동성 액체 상태로 변화하는 온도로서, 결정부분의 유동이 시작되는 온도를 말한다. 또한, 수지의 유동지수(g/10min)는 유동성의 크기를 나타내며, 일정조건 하에서 10분(min) 동안 흘러내린 수지의 무게(g)로 표시한다.
도 1 은 본 발명의 일실시예에 따른 광학패턴 필름 제조 과정을 도시한 순서도이다.
도시한 바와 같이, 먼저 광학패턴 필름을 제조하기 위해 제1 수지층 표면에, 제1 수지층과 유동지수가 다른 제2 수지층을 형성한 투명기재를 제조한다(S11). 일 실시예에 있어서, 투명기재를 제조하는 단계 S11은 유리전이온도(Tg) 이상으로 가열한 제1, 제2 수지를 압출다이를 이용하여 제1 수지층과 제2 수지층을 접합시키는 방법으로 구현될 수 있다. 다른 예로, 제1 수지층을 형성한 후, 제1 수지층 위에 제2 수지층을 형성하는 방법으로 구현될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 제1 수지층과 제2 수지층은 서로 다른 고분자 수지를 주성분으로 함유하여 투명기재를 형성할 수 있다. 일례로 고분자 수지로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PolyEtylene Terephthalate, PET), 폴리카보네이트(Polycabonate, PC), 폴리스틸렌(PolyStylene, PS), 폴리메틸메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate, PMMA), 변성 실란(Modified Silane, MS) 등이 사용될 수 있다.
통상적으로 고분자 수지재료에 따라 유리전이온도(Tg)가 다르며 또한 유동지수도 다르다. 표 1은 고분자 수지재료에 따른 유리전이온도(Tg)를 나타낸다.
고분자 수지재료 유리전이온도(Tg)
폴리카보네이트(PC) 145
폴리스틸렌(PS) 95
변성 실란(MS) 101
폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 110
폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 75
표 1에서 일례로, 제1 수지층은 폴리카보네이트(PC)로 구현되고, 제2 수지층은 폴리스틸렌(PS) 또는 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA)로 구현될 수 있다. 이같은 실시예에 따르면, 깊이, 경사, 폭을 갖는 복잡한 패턴은 유리전이온도(Tg)가 낮은 제2 수지층에, 비교적 간단한 패턴은 유리전이온도(Tg)가 높은 제1 수지층에 형성되도록 구현될 수 있다.
다른 실시예에 있어서, 제1 수지층과 제2 수지층은 서로 동일한 고분자 수지를 주성분으로 함유하되 첨가물의 종류 및 양에 따라 유동지수가 서로 다른 수지층으로 구현될 수 있다. 고분자 수지를 주성분으로 하여 첨가물이 함유되게 되면, 고분자 수지의 유동지수가 달라질 뿐만 아니라 유리전이온도(Tg)도 조금씩 달라진다.
고분자 수지에 유동성을 부여할 수 있는 물질은 고분자 종류에 따라 다르게 선택할 수있다. 일례로 폴리카보네이트의 경우 지방족이나 방향족 코-폴리카보네이트 등이 사용될 수 있으며(한국공개특허번호 제2008-0083278호), 유기 암모늄 첨가 점토나 이산화 티탄을 사용한다. 또한 첨가제 외에도 수지의 고분자 평균 분자량을 조절함으로서 유동성을 조절할 수 있다(한국공개특허번호 제2004-0078148호).
표 2는 고분자 수지를 주성분으로 하여 첨가물이 함유된 수지층의 유동지수(g/10min)의 변화와 그에 따른 유리전이온도(Tg)를 나타낸다.
유동지수(g/10min) 유리전이온도(Tg)
폴리카보네이트(PC)이 주성분으로 함유된 수지층 10 145
80 143
폴리스틸렌(PS)이 주성분으로 함유된 수지층 10 95
80 93
표 2에서 일례로, 제1 수지층은 유동지수(g/10min)가 10인 폴리카보네이트(PC)로 구현되고, 제2 수지층은 유동지수(g/10min)가 80인 폴리카보네이트(PC)로 구현될 수 있다. 이같은 실시예에 따르면, 깊이, 경사, 폭을 갖는 복잡한 패턴은 유동지수(g/10min)가 80인 제2 수지층에, 비교적 간단한 패턴은 유동지수(g/10min)가 10인 제1 수지층에 형성되도록 구현될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 제1 수지층 또는 제2 수지층은 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 근적외선을 흡수하는 근적외선 흡수 색소를 포함할 수 있다. 근적외선 흡수 색소는 근적외선 영역의 파장광을 선택적으로 흡수하는 물질이다. 본 발명에서 사용 가능한 근적외선 흡수 물질은 특별히 제한되지 않으며, 니켈 착체계와 디암모늄계의 혼합색소, 구리 이온과 아연 이온을 함유하는 화합물 색소, 시아닌계 색소, 안트라퀴논계 색소, 스쿠아릴륨계，아조메틴계，오키소놀，아조계 또는 벤질리덴계 화합물로 구성되는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.
다른 실시예에 있어서, 제1 수지층 또는 제2 수지층은 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 가시광선 내 특정 파장을 흡수하는 색보정 색소를 포함할 수 있다. 색보정 색소는 디스플레이의 색재현 범위를 증가시키고, 화면의 선명도를 향상시킬 뿐만 아니라 반사방지 역할을 함께 수행할 수 있다. 색소의 종류는 시아닌계, 안트라퀴논계, 나프토퀴논계, 프탈로시아닌계, 디이모늄계, 니켈디티올계, 아조계, 스트릴계, 메틴계, 포르피린계, 아자포르피린계 등의 색소가 있다.
또다른 실시예에 있어서, 제1 수지층 또는 제2 수지층은 외부 자외선 차단 첨가물 또는 광확산용 비드(Beads)를 포함할 수 있다. 외부 자외선 차단 첨가물은 광학패턴 필름이 자외선에 노출되어 변색되는 것을 방지한다. 광확산용 비드(Beads)는 광학패턴 필름에 입사되는 광을 산란시킨다. 본 발명에서 사용될 수 있는 광확산용 비드(Beads)로는 멜라민계 비드(굴절율 : 1.57), 아크릴계 비드(굴절율:1.47), 아크릴-스티렌계 비드(굴절율 : 1.54), 폴리카보네이트계 비드, 폴리에틸렌계 비드, 염화비닐계 비드 등이 될 수 있다.
본 발명에 따른 광학패턴 필름 제조 방법은 S11 단계에서, 제1 수지층 표면에, 제2 수지층이 형성된 투명기재가 제조되면, 제1 수지층에 제1 광학 필터용 패턴을, 제2 수지층에 제2 광학 필터용 패턴을 형성한다(S12).
일례로, 패턴을 형성하는 단계 S12는 제1 광학 필터용 패턴이 가공된 제1 롤금형과 제2 광학 필터용 패턴이 가공된 제2 롤금형을 이용하여 패턴을 형성하는 방법으로 구현될 수 있다. 또한, 패턴을 형성하는 단계 S12는 제1 광학 필터용 패턴이 가공된 제1 롤금형을 제1 수지층의 유리전이온도(Tg)로, 제2 광학 필터용 패턴이 가공된 제2 롤금형을 제2 수지층의 유리전이온도(Tg)로 가열시키는 단계를 포함할 수 있다.
일례로, 본 발명의 패턴 형성 단계 S12에서 제1 광학 필터용 패턴은 외광차폐 패턴이고, 제2 광학 필터용 패턴은 전자파 차폐을 위한 메쉬 패턴으로 구현될 수 있다. 여기서, 외광차폐 패턴은 전방에서 보았을 때 전형적으로 스트라이프 패턴을 가지나, 이밖에도 예컨대, 물결 모양 패턴, 메쉬 패턴, 등 다양한 실시예를 가질 수 있다. 외광 차폐 패턴은 전형적으로는 쐐기형 스트라이프, 즉 복수 개의 음각의 3차원 삼각기둥, 사다리꼴 구조물로 이루어지나, 그 외에도, 직사각형, U자형 등 다양한 단면 형상을 가질 수 있다.
이 같은 실시예에 따라 본 발명의 광학패턴 필름 제조 방법은 외광차폐 패턴에 외부 환경광을 흡수하는 광흡수물질을 충진하는 단계를 더 포함한다. 예컨대, 광흡수물질은 빛을 흡수할 수 있는 검은색 무기물 및/또는 유기물로서, 카본 블랙을 포함하는 자외선 경화성 수지를 사용할 수 있다. 또한, 다른예로 광흡수물질은 금속과 같은 도전성물질일 수 있다. 나아가 표면이 검게 처리된 또는 검은색의 금속을 사용하는 경우 외광 차폐 기능 및 전자파 차폐 기능을 효율적으로 구현할 수 있다. 여기서, 금속은 전기 전도도가 크고, 즉 전기 저항이 낮기 때문에 금속 분말을 첨가하여 외광 차폐 패턴을 형성하는 경우 금속 분말의 농도에 따른 전기 저항의 조절이 가능하기 때문에 외광 차폐 패턴은 전자파 차폐 기능을 수행할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학패턴 필름 제조 방법은 메쉬 패턴에 전자파를 흡수하는 전도성 물질을 충진하는 단계를 더 포함한다. 메쉬 패턴을 구성하는 전도성 물질로는 예컨대, 구리, 크롬, 니켈, 은, 몰리브덴, 텅스텐, 알루미늄 등 전기전도성이 우수하고 가공성이 있는 금속이면 모두 사용 가능하다.
도 2 는 본 발명에 따른 광학패턴 필름에 패턴을 형성하는 과정을 설명하기 위한 예시도이다. 여기서, 참조부호 21은 제1 수지 공급부, 22는 제2 수지 공급부, 23은 제1 롤금형, 24는 제2 롤금형, 25는 제1 수지층, 26은 제2 수지층이다.
도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 광학패턴 필름 제조 방법은 제1, 제2 수지 공급부(21, 22)로부터 유리전이온도(Tg) 이상으로 가열된 제1, 제2 수지를 제공받아 압출다이(도시하지 않음.)를 이용하여 제1, 제2 수지층(25, 26)으로 구현된 투명 기재를 형성한 후, 서로 다른 광학 필터용 패턴(23a, 24a)이 가공된 제1, 2 롤금형(23, 24) 사이에 제1, 제2 수지층(25, 26)으로 구현된 투명 기재를 투입하여 패턴을 형성하는 것을 예시한 것이다. 여기서, 유리전이온도(Tg) 이상으로 가열된 제1, 제2 수지가 유리전이온도(Tg)와 유사한 온도 범위를 가지도록 하기 위해 강제 냉각을 시킬 수 있다.
제1, 제2 롤금형(23, 24)은 그 외주면에 제1, 제2 광학 필터용 패턴(23a, 24a)이 가공되어 있어, 제1, 제2 수지층(25, 26)의 각 면에 광학 필터용 패턴(25a, 26a)을 성형시킨다. 여기서, 제1 광학 필터용 패턴(23a)이 가공된 제1 롤금형(23)을 제1 수지층의 유리전이온도(Tg)로, 제2 광학 필터용 패턴(24a)이 가공된 제2 롤금형(24)을 제2 수지층의 유리전이온도(Tg)로 가열시켜 패턴을 형성시킬 수도 있다.
도 2 에서 도시한 바와 같이 일례로, 제1 광학 필터용 패턴(23a)은 외광차폐 패턴이고, 제2 광학 필터용 패턴(24a)은 전자파 차폐을 위한 메쉬 패턴으로 구현될 수 있다. 여기서, 제1 수지층(25)에 성형된 외광차폐 패턴(25a)은 전방에서 보았을 때 전형적으로 스트라이프 패턴을 가지나, 이밖에도 예컨대, 물결 모양 패턴 등 다양한 실시예를 가질 수 있다.
도 3 은 본 발명에 따른 광학패턴 필름 제조 방법에 의해 제조된 광학패턴 필름을 예시한다.
도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 광학패턴 필름(30)은 제1, 제2 수지층(31, 32)으로 구현된 투명 기재와, 제1 수지층(31)에 형성되는 제1 광학 필터용 패턴(311) 및 제2 수지층(32)에 형성되는 제2 광학 필터용 패턴(321)을 포함하여 구성된다.
도3에 도시한 바와 같이 외광차폐 패턴에 외부 환경광을 흡수하는 광흡수물질(311a)이 포함된다. 예컨대, 광흡수물질은 빛을 흡수할 수 있는 검은색 무기물 및/또는 유기물로서, 카본 블랙을 포함하는 자외선 경화성 수지를 사용할 수 있다.
또한, 다른예로 광흡수물질은 금속과 같은 도전성물질일 수 있다. 나아가 표면이 검게 처리된 또는 검은색의 금속을 사용하는 경우 외광 차폐 기능 및 전자파 차폐 기능을 효율적으로 구현할 수 있다. 여기서, 금속은 전기 전도도가 크고, 즉 전기 저항이 낮기 때문에 금속 분말을 첨가하여 외광 차폐 패턴을 형성하는 경우 금속 분말의 농도에 따른 전기 저항의 조절이 가능하기 때문에 외광 차폐 패턴은 전자파 차폐 기능을 수행할 수 있다.
메쉬 패턴을 구성하는 전도성 물질로는 예컨대, 구리, 크롬, 니켈, 은, 몰리브덴, 텅스텐, 알루미늄, 등 전기전도성이 우수하고 가공성이 있는 금속이면 모두 사용 가능하다.
지금까지, 본 명세서에는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 지닌 자가 본 발명을 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 도면에 도시한 실시예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에 통상의 지식을 지닌 자라면 본 발명의 실시예들로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 이에 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
30: 광학패턴 필름
31, 32: 제1, 제2 수지층
311: 제1 광학 필터용 패턴
321: 제2 광학 필터용 패턴

Claims (17)

  1. 제1 수지층 표면에, 상기 제1 수지층과 유동지수가 다른 제2 수지층이 형성되는 투명기재;?br/>상기 투명 기재의 제1 수지층에 형성되는 제1 광학 필터용 패턴; 및
    상기 투명 기재의 제2 수지층에 형성되는 제2 광학 필터용 패턴;
    을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2 수지층은,
    상기 제1 수지층에 함유된 수지가 주성분으로 함유된 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2 수지층은,
    상기 제1 수지층에 함유된 수지와 다른 수지가 주성분으로 함유된 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1, 제2 수지층이,
    폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리스틸렌(PS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 변성 실란(MS) 고분자 수지 중 어느 하나로 구현되는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 광학 필터용 패턴이, 외부 환경광을 흡수하는 광흡수물질이 충진되어 있는 외광차폐 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2 광학 필터용 패턴이 전자파 차폐을 위한 전도성 물질이 충진되어 있는 메쉬 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 수지층에, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 근적외선을 흡수하는 근적외선 흡수 색소, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 가시광선 내 특정 파장을 흡수하는 색보정 색소, 외부 자외선 차단 첨가물, 또는 광확산용 비드(Beads) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제2 수지층에, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 근적외선을 흡수하는 근적외선 흡수 색소, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 가시광선 내 특정 파장을 흡수하는 색보정 색소, 외부 자외선 차단 첨가물, 또는 광확산용 비드(Beads) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름.
  9. 제1 수지층 표면에, 상기 제1 수지층과 유동지수가 다른 제2 수지층을 형성하는 투명기재 형성 단계; 및
    상기 제1 수지층 또는 제2 수지층 중 적어도 어느 하나의 수지층에 광학 필터용 패턴을 형성하는 패턴 형성 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제2 수지층은,
    상기 제1 수지층에 함유된 수지가 주성분으로 함유되는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 제2 수지층은,
    상기 제1 수지층에 함유된 수지와 다른 수지가 주성분으로 함유되는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
  12. 제 9 항에 있어서,
    상기 제1 수지층 및 제2 수지층이,
    폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리스틸렌(PS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 변성 실란(MS) 고분자 수지 중 어느 하나로 구현되는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
  13. 제 9 항에 있어서,
    상기 패턴 형성 단계가:
    제1 광학 필터용 패턴이 가공된 제1 롤금형을 상기 제1 수지층의 유리전이온도(Tg)로, 제2 광학 필터용 패턴이 가공된 제2 롤금형을 상기 제2 수지층의 유리전이온도(Tg)로 가열시키는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
  14. 제 9 항에 있어서, 상기 패턴 형성 단계에서 형성되는 광학 필터용 패턴이 외광차폐 패턴이고,
    상기 광학패턴 필름 제조 방법이:
    상기 외광차폐 패턴에 외부 환경광을 흡수하는 광흡수물질을 충진하는 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
  15. 제 9 항에 있어서, 상기 패턴 형성 단계에서 형성되는 광학 필터용 패턴이 전자파 차폐을 위한 메쉬 패턴이고,
    상기 광학패턴 필름 제조 방법이:
    상기 메쉬 패턴에 전도성 물질을 충진하는 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
  16. 제 9 항에 있어서,
    상기 제1 수지층에, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 근적외선을 흡수하는 근적외선 흡수 색소, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 가시광선 내 특정 파장을 흡수하는 색보정 색소, 외부 자외선 차단 첨가물, 또는 광확산용 비드(Beads) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
  17. 제 9 항에 있어서,
    상기 제2 수지층에, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 근적외선을 흡수하는 근적외선 흡수 색소, 영상 디스플레이 장치에서 방출되는 가시광선 내 특정 파장을 흡수하는 색보정 색소, 외부 자외선 차단 첨가물, 또는 광확산용 비드(Beads) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학패턴 필름 제조 방법.
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