KR20110075284A - Exposure apparatus and method of changing mask in the exposure apparatus - Google Patents

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KR20110075284A
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신영훈
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Abstract

PURPOSE: An exposure apparatus and a method for exchanging a mask of an exposure apparatus are provided to improve operating efficiency of equipment by largely shortening a time for exchanging a mask. CONSTITUTION: An exposure body comprises a light source unit(110), a buffer unit(130) arranged on a light irradiation path for transferring a pattern mask, and a buffer unit(130) for temporarily receiving the pattern mask transferred from the stage unit. The pattern mask to be exchanged is stored in a mask library unit(200). An exposure apparatus transfers the pattern mask to the stage unit. The exposure apparatus includes a robot unit for transferring the pattern mask to the mask library unit.

Description

노광 장치 및 노광 장치의 마스크 교체 방법{EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF CHANGING MASK IN THE EXPOSURE APPARATUS}Exposure apparatus and mask replacement method of exposure apparatus {EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF CHANGING MASK IN THE EXPOSURE APPARATUS}

본 발명은 노광 장치 및 노광 장치의 마스크 교체 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an exposure apparatus and a mask replacement method of the exposure apparatus.

최근 들어, 방대한 데이터를 저장 및 방대한 데이터를 단시간 내 처리하는 것이 가능한 반도체 칩이 개발되고 있다.Recently, semiconductor chips capable of storing massive data and processing massive data in a short time have been developed.

반도체 칩은 순수 실리콘 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 박막 형성 공정, 박막을 패터닝 하기 위해 박막 상에 포토레지스트 패턴을 형성하는 포토 공정 및 포토레지스트 패턴을 식각 마스크로 이용하여 박막을 패터닝 하는 식각 공정 및 웨이퍼에 불순물을 주입하여 전기적 특성을 변경시키는 이온 주입 공정과 같은 박막 처리 공정에 의하여 제조된다.The semiconductor chip includes a thin film forming process for forming a thin film on a pure silicon wafer, a photo process for forming a photoresist pattern on the thin film for patterning the thin film, and an etching process and a wafer for patterning the thin film using the photoresist pattern as an etching mask. It is manufactured by a thin film processing process such as an ion implantation process in which impurities are implanted into and change electrical characteristics.

이들 공정들 중 포토 공정은 노광 장치에 의하여 수행되며, 노광 장치는 광을 발생시키는 광원, 광이 조사되는 경로 상에 배치된 패턴 마스크를 포함하는 노광 장치 본체, 서로 다른 패턴 마스크들을 보관하는 마스크 라이브러리 유닛 및 패 턴 마스크들을 이송하는 로봇 유닛을 포함한다.Among these processes, a photo process is performed by an exposure apparatus, which includes a light source for generating light, an exposure apparatus body including a pattern mask disposed on a path to which light is irradiated, and a mask library for storing different pattern masks. And a robot unit for transferring the unit and the pattern masks.

로봇 유닛은 노광 장치 본체에 장착된 패턴 마스크를 마스크 라이브러리 유닛으로 이송 및 마스크 라이브러리 유닛으로부터 노광 장치 본체로 패턴 마스크를 이송한다.The robot unit transfers the pattern mask mounted on the exposure apparatus main body to the mask library unit and transfers the pattern mask from the mask library unit to the exposure apparatus main body.

웨이퍼에 새로운 포토레지스트 패턴을 형성하기 위해서는 노광 장치 본체에 장착된 패턴 마스크를 교체해야 한다.In order to form a new photoresist pattern on the wafer, the pattern mask mounted on the exposure apparatus body must be replaced.

종래 노광 장치에서 패턴 마스크를 교체하기 위해서는 로봇 유닛이 노광 장치 본체로부터 마스크를 언로딩하는 제1 단계, 로봇 유닛이 노광 장치 본체로부터 언로딩된 마스크를 마스크 라이브러리 유닛에 수납하는 제2 단계, 로봇 유닛이 교체될 마스크를 마스크 라이브러리 유닛으로부터 언로딩 하는 제3 단계 및 로봇 유닛은 교체될 마스크를 노광 장치 본체에 로딩하는 제4 단계를 포함한다.In order to replace the pattern mask in the conventional exposure apparatus, the robot unit unloads the mask from the exposure apparatus main body, the robot unit receives the unloaded mask from the exposure apparatus main body in the mask library unit, and the robot unit. The third step of unloading the mask to be replaced from the mask library unit and the robot unit include a fourth step of loading the mask to be replaced into the exposure apparatus main body.

종래 노광 장치는 상기 제1 단계 내지 제4 단계를 통해 마스크를 교체하기 때문에, 마스크 교체에 많은 시간이 소요된다. 특히 제1 단계에서 제4 단계를 수행하는 동안 노광 장치가 노광 공정을 수행하지 못하여 설비 가동 효율이 크게 감소 되는 문제점을 갖는다.Since the conventional exposure apparatus replaces the mask through the first to fourth steps, it takes a long time to replace the mask. In particular, the exposure apparatus does not perform the exposure process during the first step to the fourth step, and thus the facility operation efficiency is greatly reduced.

본 발명은 마스크를 교체하는데 소요되는 시간을 크게 단축시켜 설비 가동 효율을 향상시킨 노광 장치 및 노광 장치의 마스크 교체 방법을 제공한다.The present invention provides an exposure apparatus and a mask replacement method of the exposure apparatus, which greatly shorten the time required for replacing the mask, thereby improving equipment operation efficiency.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the technical problem mentioned above, and other technical problems not mentioned above may be clearly understood by those skilled in the art from the following description. will be.

일실시예로서, 노광 장치는 감광막에 광을 제공하는 광원 유닛, 상기 광의 조사 경로 상에 배치된 패턴 마스크를 이송하는 스테이지 유닛 및 상기 스테이지 유닛으로부터 이송된 상기 패턴 마스크를 임시적으로 수납하는 버퍼 유닛을 포함하는 노광 몸체; 교체용 패턴 마스크가 수납된 마스크 라이브러리 유닛; 및 상기 교체용 패턴 마스크를 상기 스테이지 유닛으로 이송 및 상기 버퍼 유닛에 수납된 상기 패턴 마스크를 상기 마스크 라이브러리 유닛으로 이송하는 로봇 유닛을 포함한다.In one embodiment, the exposure apparatus includes a light source unit for providing light to the photosensitive film, a stage unit for transferring a pattern mask disposed on the irradiation path of the light, and a buffer unit for temporarily receiving the pattern mask transferred from the stage unit. An exposure body comprising; A mask library unit in which a replacement pattern mask is housed; And a robot unit for transferring the replacement pattern mask to the stage unit and the pattern mask housed in the buffer unit to the mask library unit.

일실시예로서, 노광 장치의 마스크 교체 방법은 노광 몸체의 내부의 마스크 고정 위치에 고정된 패턴 마스크를 교체하기 위하여 상기 패턴 마스크를 버퍼 유닛에 임시적으로 로딩하는 단계; 상기 패턴 마스크가 상기 버퍼 유닛에 임시적으로 수납되기까지 소요되는 시간 내에 마스크 라이브러리 유닛으로부터 상기 교체용 패턴 마스크를 언로딩하여 상기 교체용 패턴 마스크를 상기 노광 몸체의 상기 마스크 고정 위치에 로딩하는 단계; 및 상기 버퍼 유닛에 임시적으로 수납된 상기 패턴 마스크를 언로딩하여 상기 마스크 라이브러리 유닛에 로딩하는 단계를 포함한다.In one embodiment, a method of replacing a mask of an exposure apparatus includes temporarily loading the pattern mask into a buffer unit to replace a pattern mask fixed at a mask fixed position inside an exposure body; Unloading the replacement pattern mask from the mask library unit within the time required for the pattern mask to be temporarily stored in the buffer unit to load the replacement pattern mask at the mask fixing position of the exposure body; And unloading the pattern mask temporarily stored in the buffer unit and loading the pattern mask into the mask library unit.

본 발명의 노광 장치 및 노광 장치의 마스크 교체 방법에 따르면, 교체될 마스크를 노광 몸체 내에서 임시적으로 수납하는 버퍼 유닛을 배치함으로써 마스크를 교체하는데 소요되는 시간을 크게 단축시켜 노광 장치의 가동 효율을 보다 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.According to the exposure apparatus and the mask replacement method of the exposure apparatus of the present invention, by arranging a buffer unit for temporarily storing the mask to be replaced in the exposure body, the time required for replacing the mask is greatly shortened to improve the operation efficiency of the exposure apparatus. It has an effect that can be improved.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시될 수 있다. 또한, 본 발명의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In this process, the size or shape of the components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description. In addition, terms that are specifically defined in consideration of the configuration and operation of the present invention may vary depending on the intention or custom of the user or operator. Definitions of these terms should be made based on the contents throughout the specification.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 노광 장치를 도시한 블록도이다. 도 2는 도 1의 노광 장치의 평면도이다. 도 3은 노광 장치들의 내부 구조를 개략적으로 도시한 단면도이다.1 is a block diagram illustrating an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view of the exposure apparatus of FIG. 1. 3 is a cross-sectional view schematically showing the internal structure of the exposure apparatus.

도 1 내지 도 3들을 참조하면, 노광 장치(500)는 노광 몸체(100), 마스크 라이브러리 유닛(200), 로봇 유닛(300) 및 노광 몸체(100)와 마스크 라이브러리 유닛(200)과 로봇 유닛(300)을 제어하는 제어 유닛(400)을 포함한다.1 to 3, the exposure apparatus 500 includes an exposure body 100, a mask library unit 200, a robot unit 300, an exposure body 100, a mask library unit 200, and a robot unit ( Control unit 400 for controlling 300.

제어 유닛(400)과 노광 몸체(100), 제어 유닛(400)과 마스크 라이브러리 유닛(200) 및 제어 유닛(400)과 로봇 유닛(300)은, 예를 들어, 반도체 장비 통신 프로토콜 등에 의하여 상호 통신한다.The control unit 400 and the exposure body 100, the control unit 400 and the mask library unit 200, and the control unit 400 and the robot unit 300 communicate with each other by, for example, a semiconductor equipment communication protocol or the like. do.

노광 몸체(100)는 광원 유닛(110), 스테이지 유닛(120) 및 버퍼 유닛(130)을 포함한다. 이에 더하여, 노광 몸체(100)는 도 3에 도시된 바와 같이 포토레지스트 필름이 형성된 웨이퍼(145)를 지지하는 웨이퍼 척(140)을 포함한다. 웨이퍼 척(140)은 광원 유닛(110)과 마주하는 위치에 배치될 수 있다.The exposure body 100 includes a light source unit 110, a stage unit 120, and a buffer unit 130. In addition, the exposure body 100 includes a wafer chuck 140 supporting the wafer 145 on which the photoresist film is formed, as shown in FIG. 3. The wafer chuck 140 may be disposed at a position facing the light source unit 110.

광원 유닛(110)은 광원(미도시) 및 광원으로부터 발생 된 광의 광학 특성을 향상시키기 위한 다수개의 렌즈들을 포함하는 조명 광학계(미도시) 등을 포함한다. 본 발명의 일실시예에서, 광원 유닛(110)은 다양한 종류의 광원 및 다양한 구조의 조명 광학계를 포함할 수 있으며, 본 발명에서 광원 유닛(110)은 특정 구조로 한정하지 않기로 하며, 광원 유닛(110)은 다양한 구조를 포함할 수 있다.The light source unit 110 includes a light source (not shown) and an illumination optical system (not shown) including a plurality of lenses for improving optical characteristics of light generated from the light source. In one embodiment of the present invention, the light source unit 110 may include various kinds of light sources and various kinds of illumination optical systems. In the present invention, the light source unit 110 is not limited to a specific structure, and the light source unit ( 110 may include various structures.

스테이지 유닛(120)은 광원 유닛(110)의 광원으로부터 발생 되어 조명 광학계를 통과한 광의 진행 경로 상에 배치된다. 스테이지 유닛(120)은 도 3에 도시된 바와 같이 회로 패턴과 같은 패턴(122)이 형성된 패턴 마스크(124)를 고정 및 패턴 마스크(124)를 이송한다.The stage unit 120 is disposed on a traveling path of light generated from the light source of the light source unit 110 and passed through the illumination optical system. As shown in FIG. 3, the stage unit 120 fixes the pattern mask 124 on which the pattern 122, such as a circuit pattern, is formed and transfers the pattern mask 124.

스테이지 유닛(120)은, 예를 들어, 노광 몸체(100) 내부에서 수직 방향 및/ 또는 수평 방향으로 패턴 마스크(124)를 이송 또는 웨이퍼 척(140) 상부에 패턴 마스크(124)를 고정한다.The stage unit 120 transfers the pattern mask 124 in the vertical direction and / or the horizontal direction, for example, inside the exposure body 100, or fixes the pattern mask 124 on the wafer chuck 140.

버퍼 유닛(130)은, 예를 들어, 노광 몸체(100)의 내부에 배치된다. 버퍼 유닛(130)은 스테이지 유닛(120)에 고정된 패턴 마스크(124)를 새로운 패턴 마스크로 교체할 때, 패턴 마스크(124)를 임시적으로 수납한다.The buffer unit 130 is disposed inside the exposure body 100, for example. The buffer unit 130 temporarily stores the pattern mask 124 when the pattern mask 124 fixed to the stage unit 120 is replaced with a new pattern mask.

버퍼 유닛(130)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 외부 이송 유닛(132)을 포함하며, 외부 이송 유닛(132)에 의하여 버퍼 유닛(130)은 교체될 패턴 마스크(124)와 함께 노광 몸체(100)의 내부에서 상하로 이송된다.The buffer unit 130 includes an external transfer unit 132, as shown in FIG. 3, by which the buffer unit 130 is exposed to the exposure body together with the pattern mask 124 to be replaced. It is conveyed up and down inside the 100.

본 발명의 일 실시예에서, 교체될 패턴 마스크(124)는 스테이지 유닛(120)의 이송에 의하여 버퍼 유닛(130)에 임시적으로 수납되고, 교체될 패턴 마스크(124)가 임시적으로 수납된 버퍼 유닛(130)은 외부 이송 유닛(132)에 의하여 상부로 이송된다.In an embodiment of the present invention, the pattern mask 124 to be replaced is temporarily stored in the buffer unit 130 by the transfer of the stage unit 120, and the buffer unit in which the pattern mask 124 to be replaced is temporarily stored. 130 is conveyed upward by the external transfer unit 132.

이와 다르게, 버퍼 유닛(130)은 지정된 위치에 고정된 상태에서 버퍼 유닛(130)의 내부에 내부 이송 유닛(134)을 배치하고, 내부 이송 유닛(134)을 이용하여 교체될 패턴 마스크(124)를 버퍼 유닛(130) 내부에서 상하로 이송할 수 있다.Alternatively, the buffer unit 130 arranges the internal transfer unit 134 inside the buffer unit 130 in a fixed state at a designated position, and the pattern mask 124 to be replaced using the internal transfer unit 134. May be transferred up and down inside the buffer unit 130.

본 발명의 일 실시예에서, 교체될 패턴 마스크(124)를 버퍼 유닛(130)에 임시적으로 수납하는 동안 비어 있는 스테이지 유닛(120)에 새로운 패턴 마스크를 배치할 수 있어, 노광 장치(500)의 설비 가동 효율을 크게 향상시킬 수 있다.In one embodiment of the present invention, a new pattern mask may be disposed in the empty stage unit 120 while temporarily storing the pattern mask 124 to be replaced in the buffer unit 130, thereby allowing the exposure of the exposure apparatus 500. It is possible to greatly improve the plant operation efficiency.

본 발명의 일 실시예에서, 버퍼 유닛(130)은, 예를 들어, 노광 몸체(100)의 내부에서 수직 방향으로 이송되는 것이 도시 및 설명되고 있지만 이와 다르게 버퍼 유닛(130)은 노광 몸체(100)의 내부에서 수평 방향으로 이송되어도 무방하다.In one embodiment of the invention, the buffer unit 130 is shown and described, for example, to be transferred in the vertical direction inside the exposure body 100, but alternatively the buffer unit 130 is an exposure body 100 It may be transported in the horizontal direction from the inside of).

마스크 라이브러리 유닛(200)은 교체용 패턴 마스크(210)가 복수매 수납되며, 교체용 패턴 마스크(210)는 마스크 라이브러리 유닛(200) 내에 층층히 적층 된다.The mask library unit 200 may include a plurality of replacement pattern masks 210, and the replacement pattern masks 210 may be stacked in the mask library unit 200.

로봇 유닛(300)은 노광 몸체(100) 및 마스크 라이브러리 유닛(200) 사이에 배치된다. 예를 들어, 로봇 유닛(300)은 노광 몸체(100) 및 마스크 라이브러리 유닛(200) 사이에 1 대가 설치된다.The robot unit 300 is disposed between the exposure body 100 and the mask library unit 200. For example, one robot unit 300 is installed between the exposure body 100 and the mask library unit 200.

로봇 유닛(300)은 로봇 암(310)을 포함하며, 로봇 유닛(300)은 로봇 암(310)을 이용하여 노광 몸체(100)의 버퍼 유닛(110)으로부터 교체될 패턴 마스크(124)를 언로딩하여 마스크 라이브러리 유닛(200)으로 이송 또는 마스크 라이브러리 유닛(200)으로부터 교체용 패턴 마스크(210)를 노광 몸체(100)의 스테이지 유닛(120)으로 이송한다. 이와 다르게, 로봇 유닛(300)은 마스크 라이브러리 유닛(200)으로부터 교체용 패턴 마스크(210)를 버퍼 유닛(130) 내로 이송할 수 있다.The robot unit 300 includes a robot arm 310, which uses the robot arm 310 to free the pattern mask 124 to be replaced from the buffer unit 110 of the exposure body 100. By loading and transferring to the mask library unit 200 or the replacement pattern mask 210 from the mask library unit 200 to the stage unit 120 of the exposure body 100. Alternatively, the robot unit 300 may transfer the replacement pattern mask 210 into the buffer unit 130 from the mask library unit 200.

도 4 내지 도 7들은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 마스크 교체 방법을 도시한 단면도들이다.4 to 7 are cross-sectional views illustrating a method of replacing a mask of an exposure apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1 및 도 4를 참조하면, 노광 장치(500)의 스테이지 유닛(110)에 배치된 패턴 마스크(124)를 교체하기 위하여 먼저, 오퍼레이터에 의하여 마스크 교체 명령이 제어 유닛(400)에 인가되면, 제어 유닛(400)은 교체될 패턴 마스크(124)가 고정된 스테이지 유닛(110)에 작동 신호를 인가하고, 이로 인해 스테이지 유닛(110)은 버퍼 유닛(130)을 향해 이송된다.1 and 4, when a mask replacement command is first applied to the control unit 400 by an operator to replace the pattern mask 124 disposed on the stage unit 110 of the exposure apparatus 500, The control unit 400 applies an operation signal to the stage unit 110 to which the pattern mask 124 to be replaced is fixed, whereby the stage unit 110 is transferred toward the buffer unit 130.

교체될 패턴 마스크(124)가 고정된 스테이지 유닛(110)은 버퍼 유닛(130)에 도달되고, 교체될 패턴 마스크(124)는 버퍼 유닛(130) 내에 임시적으로 수납된다.The stage unit 110 to which the pattern mask 124 to be replaced is fixed reaches the buffer unit 130, and the pattern mask 124 to be replaced is temporarily stored in the buffer unit 130.

교체될 패턴 마스크(124)가 버퍼 유닛(130)에 임시적으로 수납된 후, 스테이지 유닛(110)에 새로운 패턴 마스크 배치하기 위하여 버퍼 유닛(130)은 노광 몸체(100)의 상부로 이송될 수 있다. 이와 다르게, 버퍼 유닛(130)이 지정된 위치에 고정된 상태에서 교체될 패턴 마스크(124)가 버퍼 유닛(130)의 상부로 이송되어도 무방하다.After the pattern mask 124 to be replaced is temporarily stored in the buffer unit 130, the buffer unit 130 may be transferred to the upper portion of the exposure body 100 to place a new pattern mask in the stage unit 110. . Alternatively, the pattern mask 124 to be replaced may be transferred to the upper portion of the buffer unit 130 while the buffer unit 130 is fixed at the designated position.

한편, 스테이지 유닛(110)이 버퍼 유닛(130)을 향해 이송되기 시작 또는 스테이지 유닛(110)이 버퍼 유닛(130)을 향해 이송되는 도중 제어 유닛(400)은 마스크 라이브러리 유닛(200)에 패턴 마스크 선택 신호를 인가하고, 마스크 라이브러리 유닛(200)에서는 패턴 마스크 선택 신호에 대응하는 교체용 패턴 마스크(210)가 선택된다.On the other hand, the control unit 400 masks the pattern on the mask library unit 200 while the stage unit 110 starts to be transferred toward the buffer unit 130 or the stage unit 110 is transferred toward the buffer unit 130. The selection signal is applied and the replacement pattern mask 210 corresponding to the pattern mask selection signal is selected in the mask library unit 200.

마스크 라이브러리 유닛(200)에서 교체용 패턴 마스크(210)가 선택되면, 제어 유닛(400)은 로봇 유닛(300)에 구동 신호를 인가하고 로봇 유닛(300)은 마스크 라이브러리 유닛(200)으로부터 선택된 교체용 패턴 마스크(210)를 픽업한다.When the replacement pattern mask 210 is selected in the mask library unit 200, the control unit 400 applies a driving signal to the robot unit 300 and the robot unit 300 selects the replacement selected from the mask library unit 200. The dragon pattern mask 210 is picked up.

도 1 및 도 5를 참조하면, 제어 유닛(400)이 로봇 유닛(300)에 구동 신호를 인가하여 로봇 유닛(300)이 선택된 교체용 패턴 마스크(210)를 픽업한 후, 스테이지 유닛(120)이 버퍼 유닛(130)에 교체될 패턴 마스크(124)를 제공하고 원래 위치로 복귀하지 못하였을 경우, 제어 유닛(400)은 로봇 유닛(300)에 대기 신호를 인가하고, 로봇 유닛(300)은 노광 몸체(100)의 마스크 투입 위치에서 대기한다. 이때, 로봇 유닛(300)은 교체용 패턴 마스크(210)를 프리-얼라인 하는 공정을 더 수행할 수 있다.1 and 5, after the control unit 400 applies a driving signal to the robot unit 300, the robot unit 300 picks up the selected replacement pattern mask 210, and then the stage unit 120. When the pattern mask 124 to be replaced is provided to the buffer unit 130 and the control unit 400 fails to return to the original position, the control unit 400 applies a wait signal to the robot unit 300, and the robot unit 300 It waits at the mask input position of the exposure body 100. FIG. In this case, the robot unit 300 may further perform a process of pre-aligning the replacement pattern mask 210.

도 1 및 도 6을 참조하면, 스테이지 유닛(120)이 버퍼 유닛(130)에 교체될 패턴 마스크(124)를 제공하고 원래 위치로 복귀하여 교체용 패턴 마스크(210)의 로딩을 기다리고 있으면, 제어 유닛(400)은 로봇 유닛(300)에 작동 신호를 인가 하여 비어 있는 스테이지 유닛(120)에 교체용 패턴 마스크(210)를 제공한다.1 and 6, if the stage unit 120 provides the buffer unit 130 with the pattern mask 124 to be replaced and returns to the original position to wait for the loading of the replacement pattern mask 210, the control is performed. The unit 400 applies an operation signal to the robot unit 300 to provide the replacement pattern mask 210 to the empty stage unit 120.

스테이지 유닛(120)에 로봇 유닛(300)으로부터 교체될 패턴 마스크(124)가 제공된 후, 스테이지 유닛(120)에 제공된 교체용 패턴 마스크(210)는 웨이퍼(145)와 정렬되고 노광 공정을 수행하기 위한 노광 준비 작업이 개시 및 노광 공정이 수행된다.After the stage mask 120 is provided with the pattern mask 124 to be replaced from the robot unit 300, the replacement pattern mask 210 provided in the stage unit 120 is aligned with the wafer 145 and subjected to an exposure process. The exposure preparation operation is started and the exposure process is performed.

도 1 및 도 7을 참조하면, 로봇 유닛(300)이 교체용 패턴 마스크(210)를 스테이지 유닛(120)에 제공한 후, 노광 공정이 수행되면 제어 유닛(400)은 버퍼 유닛(130) 및 로봇 유닛(300)에 각각 마스크 배출 신호를 인가한다.1 and 7, after the robot unit 300 provides the replacement pattern mask 210 to the stage unit 120, when the exposure process is performed, the control unit 400 includes the buffer unit 130 and The mask discharge signal is applied to the robot unit 300, respectively.

제어 유닛(400)의 마스크 배출 신호에 의하여 버퍼 유닛(130)은 로봇 유닛(300)이 교체될 패턴 마스크(124)를 이송하기에 적합한 위치로 이송되고, 로봇 유닛(300)은 버퍼 유닛(130)에 임시적으로 수납된 교체될 패턴 마스크(124)를 노광 몸체(110)로부터 언로딩 한 후, 교체될 패턴 마스크(124)를 마스크 라이브러리 유닛(200)의 지정된 위치에 로딩함으로써 패턴 마스크가 교체된다.By the mask discharge signal of the control unit 400, the buffer unit 130 is moved to a position suitable for transferring the pattern mask 124 to be replaced by the robot unit 300, and the robot unit 300 moves to the buffer unit 130. After unloading the pattern mask 124 to be replaced temporarily from the exposure body 110, the pattern mask is replaced by loading the pattern mask 124 to be replaced at the designated position of the mask library unit 200. .

이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 교체될 마스크를 노광 몸체 내에서 임시적으로 수납하는 버퍼 유닛을 배치함으로써 마스크를 교체하는데 소요되는 시 간을 크게 단축시켜 노광 장치의 가동 효율을 보다 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.As described above in detail, by arranging a buffer unit that temporarily stores the mask to be replaced in the exposure body, the time required to replace the mask can be greatly shortened, thereby improving the operation efficiency of the exposure apparatus. Have

이상에서 본 발명에 따른 실시예들이 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 범위의 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 다음의 특허청구범위에 의해서 정해져야 할 것이다.Although embodiments according to the present invention have been described above, these are merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent embodiments of the present invention are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the following claims.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 노광 장치를 도시한 블록도이다.1 is a block diagram illustrating an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 노광 장치의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of the exposure apparatus of FIG. 1.

도 3은 노광 장치들의 내부 구조를 개략적으로 도시한 단면도이다.3 is a cross-sectional view schematically showing the internal structure of the exposure apparatus.

도 4 내지 도 7들은 본 발명의 일 실시예에 따른 노광 장치의 마스크 교체 방법을 도시한 단면도들이다.4 to 7 are cross-sectional views illustrating a method of replacing a mask of an exposure apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention.

Claims (8)

광을 발생하는 광원 유닛, 상기 광의 조사 경로 상에 배치된 패턴 마스크를 이송하는 스테이지 유닛 및 상기 스테이지 유닛으로부터 이송된 상기 패턴 마스크를 임시적으로 수납하는 버퍼 유닛을 포함하는 노광 몸체;An exposure body including a light source unit for generating light, a stage unit for transferring a pattern mask disposed on the irradiation path of light, and a buffer unit for temporarily storing the pattern mask transferred from the stage unit; 교체용 패턴 마스크가 수납된 마스크 라이브러리 유닛; 및A mask library unit in which a replacement pattern mask is housed; And 상기 교체용 패턴 마스크를 상기 스테이지 유닛으로 이송 및 상기 버퍼 유닛에 수납된 상기 패턴 마스크를 상기 마스크 라이브러리 유닛으로 이송하는 로봇 유닛을 포함하는 노광 장치.And a robot unit for transferring the replacement pattern mask to the stage unit and the pattern mask housed in the buffer unit to the mask library unit. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 버퍼 유닛은 상기 노광 몸체 내에 배치된 노광 장치.And the buffer unit is disposed in the exposure body. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 노광 몸체는 상기 버퍼 유닛을 상기 노광 몸체 내에서 이동시키는 이송 유닛을 포함하는 노광 장치.And the exposure body includes a transfer unit for moving the buffer unit within the exposure body. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 버퍼 유닛은 상기 패턴 마스크를 상기 버퍼 유닛 내부에서 이송하는 이송 유닛을 포함하는 노광 장치.And the buffer unit includes a transfer unit for transferring the pattern mask inside the buffer unit. 노광 몸체의 내부의 마스크 고정 위치에 고정된 패턴 마스크를 교체하기 위하여 상기 패턴 마스크를 버퍼 유닛에 임시적으로 로딩하는 단계;Temporarily loading the pattern mask into the buffer unit to replace the pattern mask fixed at the mask fixing position inside the exposure body; 상기 패턴 마스크가 상기 버퍼 유닛에 임시적으로 수납되기까지 소요되는 시간 내에 마스크 라이브러리 유닛으로부터 상기 교체용 패턴 마스크를 언로딩하여 상기 교체용 패턴 마스크를 상기 노광 몸체의 상기 마스크 고정 위치에 로딩하는 단계; 및Unloading the replacement pattern mask from the mask library unit within the time required for the pattern mask to be temporarily stored in the buffer unit to load the replacement pattern mask at the mask fixing position of the exposure body; And 상기 버퍼 유닛에 임시적으로 수납된 상기 패턴 마스크를 언로딩하여 상기 마스크 라이브러리 유닛에 로딩하는 단계를 포함하는 노광 장치의 마스크 교체 방법.And unloading the pattern mask temporarily stored in the buffer unit and loading the pattern mask in the mask library unit. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 패턴 마스크를 상기 버퍼 유닛에 임시적으로 로딩하는 단계는 상기 버퍼 유닛을 로딩한 후 상기 버퍼 유닛을 상기 노광 몸체의 상부로 상승시키는 단계를 더 포함하는 노광 장치의 마스크 교체 방법. And temporarily loading the pattern mask into the buffer unit further includes raising the buffer unit to the top of the exposure body after loading the buffer unit. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 패턴 마스크를 상기 버퍼 유닛에 임시적으로 로딩하는 단계는 상기 버퍼 유닛 내부에서 상기 패턴 마스크를 상승시키는 단계를 포함하는 노광 장치의 마스크 교체 방법.And temporarily loading the pattern mask into the buffer unit includes raising the pattern mask inside the buffer unit. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 대기중인 상기 교체용 패턴 마스크를 상기 노광 몸체의 상기 마스크 고정 위치에 로딩하는 단계는 상기 교체용 패턴 마스크를 상기 마스크 고정 위치에 프리-얼라인(pre-align)하는 단계를 포함하는 노광 장치의 마스크 교체 방법.Loading the standby replacement pattern mask at the mask fixation position of the exposure body includes pre-aligning the replacement pattern mask at the mask fixation position. Replacement method.
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