KR20110050985A - Organic electro-luminescence device - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An organic electroluminescent device is provided to maximize heat dissipation by effectively discharging heat from an OLED to the outside through a heat radiation member comprised of a heat radiation pad and a cover film on the rear of the OLED. CONSTITUTION: A heat radiation member(200) is comprised of a heat radiation pad(210) and a cover film(220) for protecting the heat radiation pad. Each edge of the heat radiation pad has a cut structure. The heat radiation pad is attached to the rear of an OLED through a conductive adhesive tape. A cover film surrounds the heat radiation pad and is attached to the adhesive materials.

Description

유기전계발광소자{Organic electro-luminescence device}Organic electroluminescent device

본 발명은 유기전계발광소자에 관한 것으로, 유기전계발광소자를 방열하기 위한 방열부재가 구비된 유기전계발광소자에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to an organic light emitting display device having a heat dissipation member for dissipating an organic light emitting display device.

최근까지, CRT(cathode ray tube)가 표시장치로서 주로 사용되었다. 그러나, 최근에 CRT를 대신할 수 있는, 플라즈마표시장치(plasma display panel : PDP), 액정표시장치(liquid crystal display device : LCD), 유기전계발광소자(organic electro-luminescence device : OLED)와 같은 평판표시장치가 널리 연구되며 사용되고 있는 추세이다.Until recently, cathode ray tubes (CRT) have been mainly used as display devices. However, in recent years, flat panel such as plasma display panel (PDP), liquid crystal display device (LCD), organic electro-luminescence device (OLED), which can replace CRT Display devices are widely researched and used.

위와 같은 평판표시장치 중에서, 유기전계발광소자(이하, OLED라 함)는 자발광소자로서, 비발광소자인 액정표시장치에 사용되는 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량 박형이 가능하다. Among the flat panel display devices as described above, the organic light emitting display device (hereinafter referred to as OLED) is a self-light emitting device, and since the backlight used in the liquid crystal display device which is a non-light emitting device is not necessary, a light weight can be achieved.

그리고, 액정표시장치에 비해 시야각 및 대비비가 우수하며, 소비전력 측면에서도 유리하며, 직류 저전압 구동이 가능하고, 응답속도가 빠르며, 내부 구성요소가 고체이기 때문에 외부충격에 강하고, 사용 온도범위도 넓은 장점을 가지고 있 다. In addition, the viewing angle and contrast ratio are superior to the liquid crystal display device, and it is advantageous in terms of power consumption. It is also possible to drive DC low voltage, has a fast response speed, and the internal components are solid, so it is strong against external shock and has a wide temperature range. It has advantages.

특히, 제조공정이 단순하기 때문에 생산원가를 기존의 액정표시장치 보다 많이 절감할 수 있는 장점이 있다. In particular, since the manufacturing process is simple, there is an advantage that can reduce the production cost more than the conventional liquid crystal display device.

이러한 특성을 갖는 OLED는 크게 패시브 매트릭스 타입(passive matrix type)과 액티브 매트릭스 타입(active matrix type)으로 나뉘어 지는데, 패시브 매트릭스 타입은 신호선을 교차하면서 매트릭스 형태로 소자를 구성하는 반면, 액티브 매트릭스 타입은 화소를 온/오프(on/off)하는 스위칭 소자인 박막트랜지스터와 전류를 흘려보내주는 구동 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터에 한 프레임 동안 전압을 유지해 주는 캐패시터가 화소 별로 위치하도록 한다. OLEDs having these characteristics are largely divided into a passive matrix type and an active matrix type. The passive matrix type constitutes a device in a matrix form while crossing signal lines, whereas an active matrix type is a pixel. The thin film transistor, which is a switching element that turns on / off, and the driving thin film transistor which transmits current and the capacitor which maintains voltage for one frame are positioned per pixel.

최근, 패시브 매트릭스 타입은 해상도나 소비전력, 수명 등에 많은 제한적인 요소를 가지고 있어, 고해상도나 대화면을 구현할 수 있는 액티브 매트릭스 타입 OLED의 연구가 활발히 진행되고 있다. In recent years, the passive matrix type has many limited elements such as resolution, power consumption, and lifespan. Accordingly, active matrix type OLEDs capable of realizing high resolution and large screens have been actively studied.

도 1은 일반적인 액티브 매트릭스 타입 OLED의 단면을 개략적으로 도시한 도면이며, OLED는 하부 발광방식이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a general active matrix OLED, and the OLED is a bottom emission method.

도시한 바와 같이, OLED(10)는 통상적으로 유리로 이루어지는 제 1 기판(1)과, 제 1 기판(1)과 마주하는 제 2 기판(2)으로 구성되며, 제 1 및 제 2 기판(1, 2)은 서로 이격되어 있고, 이의 가장자리부는 실패턴(seal pattern : 20)을 통해 봉지되어 합착된다. As shown, the OLED 10 is usually composed of a first substrate 1 made of glass, and a second substrate 2 facing the first substrate 1, and the first and second substrates 1. , 2) are spaced apart from each other, and the edges thereof are encapsulated and bonded through a seal pattern 20.

이를 좀더 자세히 살펴보면, 제 1 기판(1)의 상부에는 각 화소영역(P) 별로 구동 박막트랜지스터(DTr)가 형성되어 있고, 유기전계발광 다이오드(E)를 구성하는 제 1 전극(11)과, 유기발광층(13)과, 제 2 전극(15)이 순차적으로 형성되어 있다. 제 1 전극(11)은 구동 박막트랜지스터(DTr)와 전기적으로 연결된다. In detail, the driving thin film transistor DTr is formed in each pixel region P on the first substrate 1, and the first electrode 11 constituting the organic light emitting diode E, The organic light emitting layer 13 and the second electrode 15 are sequentially formed. The first electrode 11 is electrically connected to the driving thin film transistor DTr.

이와 같은 경우에, 제 1 전극(11)은 투명한 도전성물질로 이루어지며, 제 2 전극(15)은 불투명한 도전성물질로 이루어 질 수 있다. 이에 따라, 유기발광층(13)에서 발광된 빛은 제 1 전극(11) 방향으로 방출되게 된다.In this case, the first electrode 11 may be made of a transparent conductive material, and the second electrode 15 may be made of an opaque conductive material. Accordingly, the light emitted from the organic light emitting layer 13 is emitted toward the first electrode 11.

그리고, 제 2 기판(2)의 내부면에는 외부로부터 침투된 수분을 제거하는 흡습제(17)가 형성된다. In addition, a moisture absorbent 17 is formed on the inner surface of the second substrate 2 to remove moisture penetrated from the outside.

한편, OLED(10)는 구동시 발생하는 열과 구동 박막트랜지스터(DTr)의 열화에 의해 수명이 급격히 감소되는 단점이 있다. On the other hand, the OLED 10 has a disadvantage in that the life is drastically reduced by heat generated during driving and deterioration of the driving thin film transistor DTr.

이에 최근에는 이러한 단점을 해소하기 위하여 OLED(10)를 모듈화화는 기구물에 팬(fan : 미도시)이나 히트파이프(heat pipe : 미도시)를 구성하는 것이 제안되었으나, 이와 같은 방열기구는 어느 정도의 효과는 있으나 가격대비 효과가 미미하며, 방열구조 및 그 설치가 복잡한 문제점을 갖는다.Recently, in order to solve such disadvantages, it has been proposed to configure a fan (not shown) or a heat pipe (not shown) in the apparatus for modularizing the OLED 10, but such a heat dissipation mechanism has been proposed to some extent. Although the effect of the price ratio is insignificant, the heat dissipation structure and its installation has a complex problem.

또한, 이와 같은 방열구조는 OLED(10)의 경량 및 박형화 추세를 거스르는 문제점을 야기하게 되며, 특히 플렉서블 OLED(10)의 경우 이와 같은 문제점은 더욱 두드러지게 된다. In addition, such a heat dissipation structure causes a problem that goes against the trend of light weight and thickness of the OLED 10, in particular in the case of the flexible OLED (10) such a problem becomes more prominent.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, OLED를 효과적으로 방열하고자 하는 것을 제 1 목적으로 한다. The present invention is to solve the above problems, the first object is to effectively radiate the OLED.

또한, 경량 및 박형의 OLED를 제공하고자 하는 것을 제 2 목적으로 한다. It is also a second object to provide a lightweight and thin OLED.

전술한 바와 같은 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 영상을 표시하는 표시면과 상기 표시면에 반대되는 배면을 포함하는 유기전계발광소자에 있어서, 상기 유기전계발광소자의 배면에 접착성물질을 통해 부착되며, 각 모서리부가 커팅(cutting)된 구조인 방열패드와; 상기 방열패드를 감싸며, 가장자리가 상기 접착성물질과 접착되는 커버필름을 포함하는 유기전계발광소자를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides an organic electroluminescent device comprising a display surface for displaying an image and a rear surface opposite to the display surface, the adhesive material on the back of the organic electroluminescent device A heat dissipation pad attached thereto, wherein the heat dissipation pad has a structure in which each corner portion is cut; The organic light emitting device includes a cover film surrounding the heat dissipation pad and having an edge bonded to the adhesive material.

이때, 상기 커버필름은 상기 방열패드의 사이즈와 상기 방열패드의 두께 그리고, 상기 접착성물질과 접착되는 접착폭을 포함하며, 상기 커버필름의 각 모서리부는 상기 접착성물질과 접착되는 접착폭이 적어도 2 ~ 3mm이다. In this case, the cover film may include a size of the heat radiation pad, a thickness of the heat radiation pad, and an adhesive width bonded to the adhesive material, and each corner portion of the cover film has at least an adhesive width bonded to the adhesive material. 2 to 3 mm.

그리고, 상기 커버필름의 가장자리는 상기 접착성물질과 접착되는 접착폭이 적어도 2 ~ 3mm이며, 상기 커팅된 구조는 이등변삼각형 구조이다. The edge of the cover film has an adhesive width of at least 2 to 3 mm to be bonded to the adhesive material, and the cut structure is an isosceles triangle structure.

여기서, 상기 방열패드는 에폭시 등의 수지 조성물에 열전달 필러가 함유된 구조이며, 상기 열전달 필러는 흑연(graphite), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 은(Ag) 등의 금속입자 중 선택된 하나이며, 상기 커버필름은 PTFE(poly tetra fluoroethylene)계열 필름, 난연성 PVC(poly vinyl chloride)필름, 난연성 폴리에스테르(poly ether)필름, PEI(poly cthylene imide)필름, 실리콘필름, 실리콘러버필름, 불소수지 필름, 절연재용 필름, 테프론필름 PVC(poly vinyl chloride) 재질의 보호필름, PE(polyethylene)재질의 필름, PO(poly olefin)재질의 필름 중 선택된 하나이다. The heat dissipation pad may include a heat transfer filler in a resin composition such as epoxy, and the heat transfer filler may be graphite, aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), silver (Ag), or the like. One of the metal particles, the cover film is PTFE (poly tetra fluoroethylene) film, flame retardant PVC (poly vinyl chloride) film, flame retardant polyester (poly ether) film, PEI (poly cthylene imide) film, silicon film, silicone Rubber film, fluorine resin film, insulation film, Teflon film PVC (poly vinyl chloride) protective film, PE (polyethylene) film, PO (poly olefin) film is one of the selected.

또한, 상기 접착성물질은 금속 에폭시를 포함하는 전도성 접착테이프이며, 상기 유기전계발광소자는, 서로 마주보는 제 1 및 2 기판을 포함하고, 상기 제 1 기판 내면에는 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와 유기전계발광 다이오드가 형성되고, 상기 제 2 기판을 통해 인캡슐레이션된다. The adhesive material may be a conductive adhesive tape including a metal epoxy, and the organic light emitting diode may include first and second substrates facing each other, and an inner surface of the first substrate may include a switching thin film transistor and a driving thin film transistor. An organic electroluminescent diode is formed and encapsulated through the second substrate.

위에 상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 화상이 구현되지 않는 OLED의 배면에 방열패드와 커버필름으로 이루어진 방열부재를 부착함으로써, OLED로부터 발생된 고온의 열을 외부로 효과적을 방출시켜 방열효과를 극대화시킬 수 있는 효과가 있다. As described above, by attaching a heat dissipation member consisting of a heat dissipation pad and a cover film on the back of the OLED is not implemented according to the present invention, by releasing the high temperature heat generated from the OLED to the outside to maximize the heat dissipation effect It can be effected.

특히, 방열패드의 각 모서리부를 커팅된 구조로 형성하여, 커버필름과 OLED 배면과의 접착면적을 향상시키게 됨으로써, 방열패드와 OLED 배면과의 접착력을 더욱 향상시키게 되는 효과가 있다. In particular, by forming each corner portion of the heat dissipation pad to be cut structure, thereby improving the adhesion area between the cover film and the OLED back, there is an effect to further improve the adhesive force between the heat dissipation pad and the OLED back.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 OLED를 개략적으로 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view schematically showing an OLED according to an embodiment of the present invention.

한편, OLED(100)는 발광된 빛의 투과방향에 따라 상부 발광방식(top emission type)과 하부 발광방식(bottom emission type)으로 나뉘게 되는데, 이하 본 발명에서는 하부 발광방식을 일예로 설명하도록 하겠다. Meanwhile, the OLED 100 is divided into a top emission type and a bottom emission type according to the transmitted direction of emitted light. Hereinafter, the bottom emission method will be described as an example.

도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 하부발광 방식 OLED(100)는 구동 및 스위칭 박막트랜지스터(DTr, 미도시)와 유기전계발광 다이오드(E)가 형성된 제 1 기판(101)과, 제 1 기판(101)과 마주하며 인캡슐레이션을 위한 제 2 기판(102)으로 구성되며, 제 1 및 제 2 기판(101, 102)은 서로 이격되어 있고, 이의 가장자리부는 실패턴(seal pattern : 120)을 통해 봉지되어 합착된다. As shown, the bottom emission type OLED 100 according to the present invention includes a first substrate 101 having a driving and switching thin film transistor DTr (not shown), an organic light emitting diode E, and a first substrate ( Comprising a second substrate 102 for encapsulation facing the 101, the first and second substrates 101, 102 are spaced apart from each other, the edge portion thereof through a seal pattern (120) Encapsulated and cemented.

그리고, 제 2 기판(102)의 내부면에는 외부로부터 침투된 수분을 제거하는 흡습제(118)가 형성된다. In addition, a moisture absorbent 118 is formed on the inner surface of the second substrate 102 to remove moisture penetrated from the outside.

여기서, 제 1 기판(101) 상에는 반도체층(103)이 형성되는데, 반도체층(103)은 실리콘으로 이루어지며 그 중앙부는 채널을 이루는 액티브영역(103a) 그리고 액티브영역(103a) 양측면으로 고농도의 불순물이 도핑된 소스 및 드레인영역(103b, 103c)으로 구성된다. Here, the semiconductor layer 103 is formed on the first substrate 101. The semiconductor layer 103 is made of silicon, and a central portion thereof has a high concentration of impurities on both sides of the active region 103a and the active region 103a. The doped source and drain regions 103b and 103c are formed.

이러한 반도체층(103) 상부로는 게이트절연막(105)이 형성되어 있다.The gate insulating layer 105 is formed on the semiconductor layer 103.

게이트절연막(105) 상부로는 반도체층(103)의 액티브영역(103a)에 대응하여 게이트전극(107)과 도면에 나타내지 않았지만 일방향으로 연장하는 게이트배선이 형성되어 있다. A gate electrode 107 and a gate wiring extending in one direction are formed on the gate insulating layer 105 in correspondence with the active region 103a of the semiconductor layer 103.

또한, 게이트전극(107)과 게이트배선(미도시) 상부 전면에 제 1 층간절연막(109a)이 형성되어 있으며, 이때 제 1 층간절연막(109a)과 그 하부의 게이트절연막(105)은 액티브영역(103a) 양측면에 위치한 소스 및 드레인영역(103b, 103c)을 각각 노출시키는 제 1, 2 반도체층 콘택홀(116)을 구비한다. In addition, a first interlayer insulating film 109a is formed on the entire surface of the gate electrode 107 and the gate wiring (not shown). At this time, the first interlayer insulating film 109a and the gate insulating film 105 below are formed in an active region ( 103a) first and second semiconductor layer contact holes 116 exposing the source and drain regions 103b and 103c located on both sides thereof, respectively.

다음으로, 제 1, 2 반도체층 콘택홀(116)을 포함하는 제 1 층간절연막(109a) 상부로는 서로 이격하며 제 1, 2 반도체층 콘택홀(116)을 통해 노출된 소스 및 드레인영역(103b, 103c)과 각각 접촉하는 소스 및 드레인 전극(110a, 110b)이 형성되어 있다. Next, an upper portion of the first interlayer insulating layer 109a including the first and second semiconductor layer contact holes 116 is spaced apart from each other and exposed through the first and second semiconductor layer contact holes 116. Source and drain electrodes 110a and 110b are formed in contact with 103b and 103c, respectively.

이때, 소스 및 드레인 전극(110a, 110b)과 이들 전극(110a, 110b)과 접촉하는 소스 및 드레인영역(103b, 103c)을 포함하는 반도체층(103)과 반도체층(103) 상부에 형성된 게이트절연막(105) 및 게이트전극(107)은 구동 박막트랜지스터(DTr)를 이루게 된다.At this time, the semiconductor layer 103 including the source and drain electrodes 110a and 110b and the source and drain regions 103b and 103c in contact with the electrodes 110a and 110b and the gate insulating layer formed on the semiconductor layer 103. The 105 and the gate electrode 107 form a driving thin film transistor DTr.

이때 도면에 나타나지 않았지만, 게이트배선(미도시)과 교차하여 화소영역(P)을 정의하는 데이터배선(미도시)이 형성되어 있다. 그리고, 스위칭 박막트랜지스터(미도시)는 구동 박막트랜지스터(DTr)와 동일한 구조로, 구동 박막트랜지스터(DTr)와 연결된다. Although not shown in the drawing, a data line (not shown) defining the pixel area P is formed to cross the gate line (not shown). The switching thin film transistor (not shown) has the same structure as the driving thin film transistor DTr and is connected to the driving thin film transistor DTr.

그리고, 스위칭 및 구동 박막트랜지스터(미도시, DTr)는 도면에서는 반도체층(103)이 폴리실리콘 반도체층으로 이루어진 탑 게이트(top gate) 타입을 예로써 보이고 있으며, 이의 변형예로써 순수 및 불순물의 비정질질실리콘으로 이루어진 보텀 케이트(bottom gate) 타입으로 형성될 수도 있다. In addition, the switching and driving thin film transistor (DTr) shows, as an example, a top gate type in which the semiconductor layer 103 is formed of a polysilicon semiconductor layer. As a variation thereof, amorphous and pure impurities are used. It may be formed of a bottom gate type made of silicon.

그리고, 소스 및 드레인전극(110a, 110b) 상부로 드레인전극(110b)을 노출시키는 드레인콘택홀(117)을 갖는 제 2 층간절연막(109b)이 형성되어 있다. A second interlayer insulating film 109b having a drain contact hole 117 exposing the drain electrode 110b is formed over the source and drain electrodes 110a and 110b.

또한, 제 2 층간절연막(109b) 상부의 실질적으로 화상을 표시하는 영역에는 유기전계발광 다이오드(E)를 구성하는 제 1 전극(111)과 유기발광층(113) 그리고 제 2 전극(115)이 순차적으로 형성되어 있다. In addition, the first electrode 111 constituting the organic light emitting diode E, the organic light emitting layer 113, and the second electrode 115 are sequentially disposed in an area that substantially displays an image on the second interlayer insulating film 109b. It is formed.

제 1, 2 전극(111, 115)과 그 사이에 형성된 유기발광층(113)은 유기전계발광 다이오드(E)를 이루게 된다.The first and second electrodes 111 and 115 and the organic light emitting layer 113 formed therebetween form an organic light emitting diode (E).

제 1 전극(111)은 구동 박막트랜지스터(DTr)의 드레인전극(110b)과 연결되며, 제 1 전극(111)은 각 화소영역(P)별로 형성되는데, 각 화소영역(P) 별로 형성된 제 1 전극(111) 사이의 비화소영역(NA)에는 뱅크(bank : 119)가 위치한다. The first electrode 111 is connected to the drain electrode 110b of the driving thin film transistor DTr, and the first electrode 111 is formed for each pixel region P, and the first electrode for each pixel region P is formed. A bank 119 is positioned in the non-pixel region NA between the electrodes 111.

즉, 뱅크(119)는 기판(101) 전체적으로 격자 구조의 매트릭스 타입으로 형성되어, 뱅크(119)를 각 화소영역(P) 별 경계부로 하여 제 1 전극(111)이 화소영역(P) 별로 분리된 구조로 형성되어 있다. That is, the bank 119 is formed in a matrix type having a lattice structure as a whole, and the first electrode 111 is separated by pixel region P with the bank 119 as a boundary portion for each pixel region P. FIG. It is formed into a structure.

이와 같은 경우에, 제 1 전극(111)은 애노드(anode) 전극의 역할을 하도록 일함수 값이 비교적 높은 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO)로 형성하는 것이 바람직하다.In this case, the first electrode 111 may be formed of indium tin oxide (ITO), which is a material having a relatively high work function value to serve as an anode electrode.

그리고, 제 2 전극(115)은 캐소드(cathode)의 역할을 하기 위해 비교적 일함수 값이 낮은 금속물질인 알루미늄(Al) 또는 알루미늄합금(AlNd)으로 이루어진다.In addition, the second electrode 115 is made of aluminum (Al) or aluminum alloy (AlNd), which is a metal material having a relatively low work function in order to serve as a cathode.

따라서, 유기발광층(113)에서 발광된 빛은 제 1 전극(111)을 향해 방출되는 하부 발광방식으로 구동된다. Therefore, the light emitted from the organic light emitting layer 113 is driven by the bottom emission method emitted toward the first electrode 111.

그리고, 유기발광층(113)은 발광물질로 이루어진 단일층으로 구성될 수도 있으며, 발광 효율을 높이기 위해 정공주입층(hole injection layer), 정공수송층( hole transporting layer), 발광층(emitting material layer), 전자수송 층(electron transporting layer) 및 전자주입층(electron injection layer)의 다중층으로 구성될 수도 있다.In addition, the organic light emitting layer 113 may be formed of a single layer made of a light emitting material, and in order to increase the light emitting efficiency, a hole injection layer, a hole transporting layer, an emitting material layer, an electron It may also consist of multiple layers of an electron transporting layer and an electron injection layer.

이러한 OLED(100)는 선택된 색 신호에 따라 제 1 전극(111)과 제 2 전극(115)으로 소정의 전압이 인가되면, 제 1 전극(111)으로부터 주입된 정공과 제 2 전극(115)으로부터 인가된 전자가 유기발광층(113)으로 수송되어 엑시톤(exciton)을 이루고, 이러한 엑시톤이 여기상태에서 기저상태로 천이 될 때 빛이 발생되어 가시광선의 형태로 방출된다.When a predetermined voltage is applied to the first electrode 111 and the second electrode 115 according to the selected color signal, the OLED 100 may be formed from holes and second electrodes 115 injected from the first electrode 111. The applied electrons are transported to the organic light emitting layer 113 to form excitons, and when these excitons transition from the excited state to the ground state, light is generated and emitted in the form of visible light.

이때, 발광된 빛은 투명한 제 1 전극(111)을 통과하여 외부로 나가게 되므로, OLED(100)는 임의의 화상을 구현하게 된다. At this time, since the emitted light passes through the transparent first electrode 111 to the outside, the OLED 100 implements an arbitrary image.

이와 같은 경우에, 제 1 기판(101)의 외면이 표시면이 된다. 이에 따라 제 2 기판(102)의 외면에는 방열부재(200)가 부착되어 OLED(100)에서 발생되는 열을 방열하는 역할을 하게 된다. In such a case, the outer surface of the first substrate 101 becomes the display surface. Accordingly, the heat dissipation member 200 is attached to the outer surface of the second substrate 102 to serve to dissipate heat generated from the OLED 100.

즉, OLED(100)는 구동 시 구동 박막트랜지스터(DTr)의 열화와 함께 발생하는 열에 의해 약 80 ~ 90℃정도 까지 온도가 상승하게 된다. 이와 같은 고열에 의해 OLED(100)의 수명이 급격히 감소하게 된다. That is, the temperature of the OLED 100 is increased to about 80 to 90 ° C. by the heat generated with the deterioration of the driving thin film transistor DTr during driving. Due to such a high temperature, the lifetime of the OLED 100 is drastically reduced.

따라서, OLED(100)의 화상이 구현되지 않는 일면(이하, OLED의 배면이라 함)에 방열부재(200)를 구비함으로써, OLED(100)에서 발생되는 열을 방열하여 OLED(100)의 수명이 급격히 감소되는 문제점을 방지하는 것이다. Therefore, by providing the heat dissipation member 200 on one surface (hereinafter referred to as the rear surface of the OLED) in which the image of the OLED 100 is not implemented, heat dissipation generated from the OLED 100 is radiated so that the lifetime of the OLED 100 is extended. This is to prevent the problem of rapidly decreasing.

여기서, 방열부재(200)는 방열패드(210)와 방열패드(210)를 보호하기 위한 커버필름(220)으로 구성되는데, 이러한 방열부재(200)는 전도성 접착테이프(130)를 통해 OLED(100)의 배면에 부착된다. Here, the heat dissipation member 200 is composed of a heat dissipation pad 210 and a cover film 220 to protect the heat dissipation pad 210, the heat dissipation member 200 is the OLED (100) through the conductive adhesive tape 130 It is attached to the back of).

이로 인하여 OLED(100)에서 발생한 고온의 열은 방열부재(200)를 통해 외부로 효과적으로 방열하게 되는 효과를 갖게 된다. 이에 대해 도 3을 참조하여 좀더 자세히 살펴보도록 하겠다. As a result, the high temperature heat generated by the OLED 100 is effectively radiated to the outside through the heat radiating member 200. This will be described in more detail with reference to FIG. 3.

도 3은 OLED 방열설계에 따른 OLED로부터 발생된 열의 이동경로를 개략적으로 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view schematically showing a movement path of heat generated from an OLED according to an OLED heat dissipation design.

도시한 바와 같이, OLED(100)의 화상이 구현되지 않는 배면에는 전도성 접착테이프(130)를 통해 방열부재(200)가 부착되어 있는데, 이에 대해 좀더 자세히 살펴보면, OLED(100)의 배면에는 방열부재(200)의 방열패드(210)가 전도성 접착테이프(130)를 통해 부착되며, 이러한 방열패드(200)가 오염되는 것을 방지하기 위하여 방열패드(210)의 외측에는 커버필름(220)이 방열패드(210)를 완전히 덮도록 방열패드(210)와 부착된다. As shown, the heat dissipation member 200 is attached to the rear surface where the image of the OLED 100 is not implemented through the conductive adhesive tape 130. Looking at this in more detail, the heat dissipation member on the rear surface of the OLED 100 is shown. The heat dissipation pad 210 of the 200 is attached through the conductive adhesive tape 130, and the cover film 220 is disposed on the outside of the heat dissipation pad 210 to prevent the heat dissipation pad 200 from being contaminated. It is attached to the heat radiation pad 210 so as to completely cover the (210).

여기서, 방열패드(210)는 에폭시 등의 수지 조성물에 열전달 필러가 함유된 형태로 구비될 수도 있는데, 일예로 흑연(graphite)을 진공증착 또는 스퍼터링 공정에 의해 고진공하에서 수지 조성물 상에 증착함으로써 형성하는 것이 바람직하다. Here, the heat dissipation pad 210 may be provided in a form in which a heat transfer filler is contained in a resin composition such as epoxy, for example, formed by depositing graphite on the resin composition under high vacuum by vacuum deposition or sputtering. It is preferable.

이때, 열전달 필러가 흑연 재질로 형성할 경우, 방열패드(210)는 겹겹이 흑연층이 적층된 구조를 갖는 것이 바람직하고, 적층된 흑연층은 편상구조의 흑연을 발포하고 고압으로 압연함으로써 방열패드(210)를 형성하게 된다. At this time, when the heat transfer filler is formed of a graphite material, the heat radiation pad 210 preferably has a structure in which a layer of graphite layers are laminated, and the layered graphite layer is formed by foaming graphite having a flake structure and rolling at high pressure. 210 is formed.

이때, 흑연 재질의 방열패드(210)는 검은색을 띠게 되므로, 열흡수율이 증가 하게 되고, 이에 따라 방열패드(210)는 높은 열전도특성을 갖게 된다. At this time, since the heat dissipation pad 210 made of graphite becomes black, the heat absorption rate is increased, and thus the heat dissipation pad 210 has high thermal conductivity.

따라서, 방열패드(210)로 전달된 열은 방열패드(210) 전체로 효과적으로 확산되게 된다. Therefore, the heat transferred to the heat radiation pad 210 is effectively spread to the heat radiation pad 210 as a whole.

또는 흑연 외에도 열전도성이 우수한 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 은(Ag) 등의 금속입자 또는 고무 계열 또는 아크릴 계열 등의 재질로도 형성할 수도 있다.Alternatively, in addition to graphite, it may be formed of metal particles such as aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), silver (Ag), or a rubber-based or acrylic-based material.

이때, 알루미늄(Al)으로 방열패드(210)를 형성할 경우, 알루미늄은 순도 99.5%를 갖는 것이 바람직하며, 애노다이징(anodizing)처리를 통해, 검은색의 산화피막이 표면에 형성되는 것이 바람직하다. In this case, when the heat radiation pad 210 is formed of aluminum (Al), it is preferable that the aluminum has a purity of 99.5%, and through an anodizing treatment, a black oxide film is preferably formed on the surface. .

그리고, 커버필름(220)은 PTFE(poly tetra fluoroethylene)계열의 다양한 종류로 구비될 수 있으며, 난연성 PVC(poly vinyl chloride)필름, 난연성 폴리에스테르(poly ether)필름, PEI(poly cthylene imide)필름, 실리콘필름, 실리콘러버필름, 불소수지 필름, 절연재용 필름, 테프론필름 PVC(poly vinyl chloride)재질의 보호필름, PE(polyethylene)재질의 필름, PO(poly olefin)재질의 필름 등이 사용된다. In addition, the cover film 220 may be provided with various kinds of PTFE (poly tetra fluoroethylene) series, flame retardant PVC (poly vinyl chloride) film, flame retardant polyester (poly ether) film, PEI (poly cthylene imide) film, Silicone film, silicone rubber film, fluororesin film, insulation film, Teflon film PVC (poly vinyl chloride) protective film, PE (polyethylene) film, PO (poly olefin) film and the like are used.

그리고, 전도성 접착테이프(130)는 금속 에폭시, 일예로 은(Ag) 에폭시를 포함할 수 있으며, 전도성 접착테이프(130)는 접착제이면서도 높은 열 전도성을 갖는 것이 바람직하다. In addition, the conductive adhesive tape 130 may include a metal epoxy, for example, silver (Ag) epoxy, and the conductive adhesive tape 130 may be adhesive and have high thermal conductivity.

따라서, OLED(100)가 구동하면서 발생되는 많은 열은 전도성 특성을 갖는 접착테이프(130)를 통해 방열패드(210)로 전달되고, 방열패드(210)는 열전도율이 뛰어나기 때문에 방열패드(210)로 전달된 고온의 열은 방열패드(210)의 전체로 효과 적으로 확산되게 된다. Therefore, a large amount of heat generated while the OLED 100 is driven is transferred to the heat radiation pad 210 through the adhesive tape 130 having the conductive property, and the heat radiation pad 210 has excellent thermal conductivity, so the heat radiation pad 210 is excellent. The high temperature heat transmitted to the heat dissipation pad is effectively diffused to the entire heat dissipation pad 210.

이렇게 방열패드(210) 전체로 확산된 고온의 열은 외부 공기와 접촉하는 면적이 늘어나게 되고, 이를 통해 OLED(100)로부터 발생되는 고온의 열을 외부로 신속하고 효율적으로 방출시키게 된다. The high temperature heat diffused throughout the heat dissipation pad 210 is increased in contact with the outside air, thereby quickly and efficiently dissipating the high temperature heat generated from the OLED 100 to the outside.

이로 인하여, 기존에는 OLED(100)에 발생하는 열이 80 ~ 90℃ 이상 이였으나, 본 발명의 방열패드(210)를 통해 OLED(100)는 55 ~ 60℃로 온도가 낮아지게 된다.Due to this, in the past, the heat generated in the OLED 100 was 80 ~ 90 ℃ or more, the temperature of the OLED 100 is lowered to 55 ~ 60 ℃ through the heat radiation pad 210 of the present invention.

따라서, OLED(100)의 수명이 급격히 감소되는 문제점을 방지하게 된다. Therefore, it is possible to prevent the problem that the life of the OLED 100 is drastically reduced.

한편, 커버필름(220)은 방열패드(210)와 OLED(100) 배면과의 접착력을 더욱 향상시키는 역할을 하게 되는데, 즉, 커버필름(220)은 방열패드(210)의 사이즈보다 크게 형성되어, 방열패드(210)를 완전히 덮는 동시에 커버필름(220)의 가장자리는 전도성 접착테이프(130)와 접착됨으로써, 방열패드(210)와 OLED(100) 배면과의 접착력을 더욱 향상시키게 된다. On the other hand, the cover film 220 serves to further improve the adhesive force between the heat radiation pad 210 and the back of the OLED 100, that is, the cover film 220 is formed larger than the size of the heat radiation pad 210 At the same time, the edge of the cover film 220 is completely covered with the conductive adhesive tape 130, thereby further improving the adhesion between the heat radiation pad 210 and the back surface of the OLED 100.

즉, 방열패드(210)는 OLED(100) 배면과 전도성 접착테이프(130)를 통해 1차 고정되며, 커버필름(220)을 통해 2차 고정되는 것이다. That is, the heat dissipation pad 210 is first fixed through the OLED 100 rear surface and the conductive adhesive tape 130 and secondly fixed by the cover film 220.

도 4a ~ 4b는 커버필름과 방열패드의 사이즈를 개략적으로 도시한 단면도와 평면도이다. 4A to 4B are cross-sectional views and plan views schematically illustrating sizes of a cover film and a heat radiation pad.

도시한 바와 같이, 커버필름(220)은 방열패드(210)의 측면을 포함하여 방열패드(210)를 완전히 감싸도록 구비되며, 커버필름(220)의 가장자리는 OLED(100) 배면의 도전성 접착테이프(130)와 접착된다. As shown, the cover film 220 is provided to completely surround the heat radiation pad 210, including the side of the heat radiation pad 210, the edge of the cover film 220 is a conductive adhesive tape on the back of the OLED (100) And 130.

따라서, 방열패드(210)는 전도성 접착테이프(130)를 통해 OLED(100) 배면과 1차 고정되는 동시에 방열패드(210)를 감싸는 커버필름(220)과 전도성 접착테이프(130)의 접착을 통해 OLED(100) 배면과 2차 고정되어, OLED(100) 배면과 방열패드(210)의 접착력이 보다 향상되게 된다. Therefore, the heat dissipation pad 210 is first fixed to the back of the OLED 100 through the conductive adhesive tape 130 and at the same time through the adhesion of the cover film 220 and the conductive adhesive tape 130 surrounding the heat dissipation pad 210. The OLED 100 is fixed to the rear side of the OLED, and the adhesion between the OLED 100 rear surface and the heat dissipation pad 210 is further improved.

이때, 커버필름(220)은 방열패드(210)를 완전히 감싸기 위하여, 방열패드(210)에 비해 각 가장자리가 d2 만큼 더 큰 사이즈를 갖도록 형성한다. In this case, the cover film 220 is formed so as to have a larger size as much as each edge d2 than the heat radiation pad 210, in order to completely surround the heat radiation pad 210.

여기서, d2는 방열패드(210)의 두께(w1)에 대응되는데, 이는 커버필름(220)이 방열패드(210)의 두께(w1)에 의해 형성되는 측면까지 완전히 덮은 후, 커버필름(220)의 가장자리가 OLED(100) 배면의 전도성 접착테이프(130)와 접착되기 위함이다. Here, d2 corresponds to the thickness w1 of the heat dissipation pad 210, which is completely covered by the cover film 220 to the side surface formed by the thickness w1 of the heat dissipation pad 210, and then the cover film 220. The edge of is to be bonded to the conductive adhesive tape 130 on the back of the OLED (100).

이에, 커버필름(220)의 사이즈는 방열패드(210)의 측면까지 완전히 덮는 사이즈에 커버필름(220)의 가장자리 일부가 전도성 접착테이프(130)와 접착될 수 있는 사이즈를 갖도록 형성하는 것이다. Thus, the size of the cover film 220 is formed so as to have a size that can be adhered to the conductive adhesive tape 130 in a portion of the cover film 220 in a size that completely covers the side of the heat radiation pad 210.

이때, 커버필름(220)과 전도성 접착테이프(130)는 적어도 2 ~ 3mm의 접착폭(s1)을 갖도록 접착되도록 하는 것이 바람직한데, 이는 접착폭(s1)이 2 ~ 3mm 이하일 경우 커버필름(220)과 전도성 접착테이프(130)와의 접착력 저하로 인하여, 커버필름(220)이 들뜨는 문제점이 발생할 수 있기 때문이다. At this time, the cover film 220 and the conductive adhesive tape 130 is preferably bonded to have an adhesive width (s1) of at least 2 to 3mm, which is the cover film 220 when the adhesive width (s1) is 2 to 3mm or less. This is because the cover film 220 may be lifted due to a decrease in adhesive strength between the sheet and the conductive adhesive tape 130.

따라서, 방열패드(210)의 사이즈가 d1이며, w1의 두께로 구비될 경우, 커버필름(220)의 사이즈는 방열패드(210)의 사이즈인 d1에 방열패드(210)의 네 가장자리 측면을 덮기 위하여 (4 × w1)의 사이즈를 더하며, 커버필름(220)과 전도성 접 착테이프(130)와의 최소한의 접착폭(s1)인 2 ~ 3mm를 더한 사이즈를 갖도록 하는 것이다.Therefore, when the size of the heat dissipation pad 210 is d1 and is provided with a thickness of w1, the size of the cover film 220 covers four edge sides of the heat dissipation pad 210 on d1 which is the size of the heat dissipation pad 210. In order to add a size of (4 × w1), the cover film 220 and the conductive adhesive tape 130 to have a size of 2 ~ 3mm plus the minimum adhesive width (s1).

(커버필름(220)의 사이즈(d2) = 방열패드(210) 사이즈(d1) + 방열패드(210)의 네 가장자리 측면두께(4 × w1) + 커버필름(220)과 전도성 접착테이프(130)의 접착폭(s1 = 2 ~ 3mm))(Size (d2) of the cover film 220 = heat radiation pad 210 size (d1) + four edge side thicknesses (4 x w1) of the heat radiation pad 210 + cover film 220 and the conductive adhesive tape 130) Adhesive width (s1 = 2 to 3 mm)

일예로, 방열패드(210)의 가로 × 세로 사이즈가 347 × 201mm이며, 방열패드(210)의 두께(w1)가 0.2mm 일 경우, 커버필름(220)의 가로 × 세로 사이즈는 351.2 × 203.2mm의 사이즈로 형성함으로써, 커버필름(220)이 방열패드(210)의 측면까지 완전히 덮으며, 커버필름(220)의 가장자리가 도전성 접찹테이프(130)와 접착됨으로써, 방열패드(210)를 커버필름(220)을 통해 OLED(도 3의 100) 배면에 2차 고정하게 된다. For example, when the width × length of the heat radiation pad 210 is 347 × 201 mm, and the thickness w1 of the heat radiation pad 210 is 0.2 mm, the width × length of the cover film 220 is 351.2 × 203.2 mm. By forming the size of the cover film 220 completely covers the side of the heat dissipation pad 210, the edge of the cover film 220 is bonded with the conductive adhesive tape 130, thereby covering the heat dissipation pad 210 The second fixing is performed on the rear surface of the OLED (100 of FIG. 3) through 220.

한편, 본 발명의 실시예에 따른 방열패드(210)는 각 모서리부가 커팅(cutting)된 구조로 형성하는 것을 특징으로 한다. On the other hand, the heat radiation pad 210 according to the embodiment of the present invention is characterized in that each corner portion is formed in a cut (cutting) structure.

커버필름(220)을 방열패드(210)의 측면을 포함하여 완전히 덮을 수 있는 사이즈로 구성한다 해도, 커버필름(220)을 통해 일정 두께를 갖는 방열패드(210)의 각 모서리부까지 완전히 덮을 수 없다. Even if the cover film 220 is configured in such a size as to completely cover the side surface of the heat dissipation pad 210, the cover film 220 may be completely covered up to each corner of the heat dissipation pad 210 having a predetermined thickness through the cover film 220. none.

특히, 방열패드(210)의 모서리부에 대응하는 커버필름(220)의 각 모서리부는 OLED(도 3의 100) 배면의 전도성 접착테이프(130)와 접착되지 않거나, 접착된다 하여도 최소 접착폭(s1)을 확보하지 못하여, 커버필름(220)의 모서리부가 들뜨는 현상을 발생시키게 된다. Particularly, each corner portion of the cover film 220 corresponding to the edge portion of the heat radiation pad 210 is not bonded to the conductive adhesive tape 130 on the back surface of the OLED (100 of FIG. 3), or even if the minimum adhesion width ( s1) may not be secured, causing the edge portion of the cover film 220 to be lifted.

이로 인하여, 방열패드(210)의 모서리부가 오염되거나, 방열패드(210)의 모서리부가 OLED(도 3의 100)로부터 들뜨게 됨으로써, OLED(도 3의 100)로부터 발생되는 고온의 열이 OLED(도 3의 100)의 모서리부에서는 외부로 방출되지 않게 되는 문제점을 야기하게 된다. Due to this, the edge portion of the heat radiation pad 210 is contaminated, or the edge portion of the heat radiation pad 210 is lifted up from the OLED (100 in FIG. 3), whereby high temperature heat generated from the OLED (100 in FIG. 3) is emitted from the OLED (FIG. In the corner portion of 100 of 3 will cause a problem that is not emitted to the outside.

이에, 본 발명은 방열패드(210)의 모서리부를 커팅(cutting)된 구조로 형성함에 따라, 커버필름(220)의 각 모서리부가 전도성 접착테이프(130)와 적어도 최소 접착폭(s1) 이상으로 접착되도록 함으로써, 이와 같은 문제점을 방지하는 것이다. Thus, according to the present invention, as the edge portion of the heat dissipation pad 210 is formed in a cut (cutting) structure, each edge portion of the cover film 220 is bonded to the conductive adhesive tape 130 and at least the minimum adhesive width (s1) or more. By doing so, this problem is prevented.

즉, 본 발명은 방열패드(210)의 각 모서리부를 커팅된 구조로 형성하는데, 이때, 방열패드(210)의 각 모서리부의 커팅(cutting)구조의 커팅되는 크기는 커버필름(220)과 전도성 접착테이프(130)와의 접착되는 접착폭이 최소 접착폭(s1) 이상을 갖는 범위 내에서 커팅된 구조를 갖도록 하는 것이 바람직하다. That is, the present invention forms a cut structure of each corner of the heat dissipation pad 210, in which the cut size of the cutting structure of each edge of the heat dissipation pad 210 is the cover film 220 and the conductive adhesive. It is preferable to have a structure in which the adhesive width bonded to the tape 130 is cut within a range having a minimum adhesive width s1 or more.

따라서, 방열패드(210)의 각 모서리부에 대응되는 커버필름(220)의 모서리부는 전도성 접착테이프(130)와 도면상에 정의한 s2 만큼 접착폭(s2)을 갖게 된다. Therefore, the edge portion of the cover film 220 corresponding to each edge portion of the heat dissipation pad 210 will have an adhesive width s2 by the conductive adhesive tape 130 and s2 defined in the drawing.

이때, 커버필름(220)의 전도성 접착테이프(210)와 접착되는 모서리부의 접착폭(s2)은 커버필름(220)의 네 가장자리가 전도성 접착테이프(130)와 접착되는 접착폭(s1) 보다 크게 형성된다. In this case, the adhesive width s2 of the corner portion of the cover film 220 that is bonded to the conductive adhesive tape 210 is greater than the four edges of the cover film 220 that are bonded to the conductive adhesive tape 130. Is formed.

따라서, 커버필름(220)의 전도성 접착테이프(130)와 접착되는 모서리부는 접착력 저하가 발생되지 않는 최소 접착폭(s1) 이상을 갖게 되는 것을 알 수 있다. Therefore, it can be seen that the corner portion bonded to the conductive adhesive tape 130 of the cover film 220 has a minimum adhesive width (s1) or more in which adhesion deterioration does not occur.

또한, s2의 접착폭은 방열패드(210)의 커팅된 모서리 만큼에 대응되는 사이즈이다. In addition, the adhesive width of s2 is a size corresponding to the cut edge of the heat radiation pad 210.

이때, 방열패드(210)의 모서리는 두 변의 길이(a)가 동일한 이등변삼격형 구조로 커팅하는 것이 바람직하며, 이와 같이, 이등변삼격형 구조로 방열패드(210)의 모서리를 커팅할 경우, 커버필름(220)과 전도성 접착테이프(130)는 커버필름(220)의 가장자리와 전도성 접착테이프(130)가 접착되는 s1의 접착폭에 비해 약 2.5배 정도 접착폭을 넓히게 된다.At this time, the edge of the heat radiation pad 210 is preferably cut in two sides (a) of the same isosceles triangular structure, as described above, when cutting the edge of the heat radiation pad 210 in an isosceles triangular structure, the cover The film 220 and the conductive adhesive tape 130 are about 2.5 times wider than the adhesive width of s1 to which the edge of the cover film 220 and the conductive adhesive tape 130 are bonded.

일예로, 커버필름(220)의 가장자리와 전도성 접착테이프(130)가 접착되는 접착폭(s1)이 3mm일 경우, 방열패드의 모서리를 커팅된 구조로 형성할 경우, 커버필름(220)의 모서리부는 전도성 접착테이프(130)와 접착되는 접착폭(s2)이 7.5mm가 되는 것이다. For example, when the edge of the cover film 220 and the adhesive width (s1) to which the conductive adhesive tape 130 is bonded is 3mm, when the edge of the heat radiation pad is formed in a cut structure, the edge of the cover film 220 The part is that the adhesive width (s2) to be bonded to the conductive adhesive tape 130 is 7.5mm.

따라서, 방열패드(210)의 모서리부를 커버필름(220)이 완전히 감싸지 못해, 커버필름(220)의 모서리가 전도성 접착테이프(130)와 접착되지 않아, 방열패드(210)의 모서리부가 오염되거나, OLED(도 3의 100)로부터 들뜨게 되는 문제점을 방지할 수 있게 된다.Therefore, the cover film 220 is not completely wrapped around the edge of the heat radiation pad 210, the edge of the cover film 220 is not adhered to the conductive adhesive tape 130, the edge of the heat radiation pad 210 is contaminated, It is possible to prevent the problems caused by the OLED (100 in FIG. 3).

전술한 바와 같이, 본 발명의 OLED(도 3의 100)는 화상이 구현되지 않는 OLED(도 3의 100)의 배면에 방열패드(210)와 커버필름(220)으로 이루어진 방열부재(200)를 부착함으로써, OLED(도 3의 100)로부터 발생된 고온의 열을 외부로 효과적을 방출시켜 방열효과를 극대화시킬 수 있게 된다.As described above, the OLED (100 of FIG. 3) of the present invention has a heat radiating member (200) consisting of a heat dissipation pad 210 and a cover film 220 on the back of the OLED (100 of FIG. By attaching, it is possible to effectively release the high temperature heat generated from the OLED (100 in Figure 3) to the outside to maximize the heat radiation effect.

또한, 본발명에 따른 OLED(도 3의 100)에서는, 간단한 구조의 방열부재(200)를 사용함에 따라, 방열구조 및 설치가 간단하고, 기존의 팬(fan)이나 히트파이프(heat pipe)를 구성하는 것에 비해 방열효과가 뛰어나며 경량 및 박형의 모습을 유지할 수 있다.In addition, in the OLED (100 of FIG. 3) according to the present invention, the heat dissipation structure and the installation are simple by using the heat dissipation member 200 having a simple structure, and an existing fan or heat pipe is used. It is excellent in heat dissipation effect compared to constructing, and it can maintain light weight and thin shape.

특히, 방열패드(210)의 각 모서리부를 커팅된 구조로 형성하여, 커버필름(220)과 OLED(도 3의 100) 배면과의 접착면적을 향상시키게 됨으로써, 방열패드(210)와 OLED(도 3의 100) 배면과의 접착력을 더욱 향상시키게 된다. In particular, by forming each corner portion of the heat dissipation pad 210 in a cut structure, thereby improving the adhesion area between the cover film 220 and the back of the OLED (100 in FIG. 3), the heat dissipation pad 210 and the OLED (FIG. 3, 100) further improves the adhesion to the back.

본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다. The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

도 1은 일반적인 액티브 매트릭스 타입 OLED의 단면을 개략적으로 도시한 도면.1 is a schematic cross-sectional view of a typical active matrix type OLED.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 OLED를 개략적으로 도시한 단면도.2 is a cross-sectional view schematically showing an OLED according to an embodiment of the present invention.

도 3은 OLED 방열설계에 따른 OLED로부터 발생된 열의 이동경로를 개략적으로 도시한 단면도.3 is a cross-sectional view schematically showing a movement path of heat generated from an OLED according to an OLED heat dissipation design.

도 4a ~ 4b는 커버필름과 방열패드의 사이즈를 개략적으로 도시한 단면도와 평면도.Figures 4a to 4b is a cross-sectional view and a plan view schematically showing the size of the cover film and the heat radiation pad.

Claims (10)

영상을 표시하는 표시면과 상기 표시면에 반대되는 배면을 포함하는 유기전계발광소자에 있어서, In the organic light emitting device comprising a display surface for displaying an image and a back surface opposite to the display surface, 상기 유기전계발광소자의 배면에 접착성물질을 통해 부착되며, 각 모서리부가 커팅(cutting)된 구조인 방열패드와;A heat dissipation pad attached to a rear surface of the organic light emitting diode through an adhesive material, the heat dissipation pad having a cut structure at each corner thereof; 상기 방열패드를 감싸며, 가장자리가 상기 접착성물질과 접착되는 커버필름A cover film surrounding the heat dissipation pad and having an edge bonded to the adhesive material 을 포함하는 유기전계발광소자. Organic electroluminescent device comprising a. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 커버필름은 상기 방열패드의 사이즈와 상기 방열패드의 두께 그리고, 상기 접착성물질과 접착되는 접착폭을 포함하는 사이즈인 유기전계발광소자. The cover film is an organic light emitting device having a size including the size of the heat radiation pad, the thickness of the heat radiation pad, and the adhesive width bonded to the adhesive material. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 커버필름의 각 모서리부는 상기 접착성물질과 접착되는 접착폭이 적어도 2 ~ 3mm인 유기전계발광소자. Each corner portion of the cover film is an organic light emitting device having an adhesive width of at least 2 ~ 3mm to be bonded to the adhesive material. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 커버필름의 가장자리는 상기 접착성물질과 접착되는 접착폭이 적어도 2 ~ 3mm인 유기전계발광소자. The edge of the cover film is an organic light emitting display device having an adhesive width of at least 2 to 3mm to be bonded to the adhesive material. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 커팅된 구조는 이등변삼각형 구조인 유기전계발광소자.The cut structure is an organic light emitting device having an isosceles triangle structure. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 방열패드는 에폭시 등의 수지 조성물에 열전달 필러가 함유된 구조인 유기전계발광소자. The heat dissipation pad is an organic light emitting device having a structure containing a heat transfer filler in a resin composition such as epoxy. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 열전달 필러는 흑연(graphite), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 은(Ag) 등의 금속입자 중 선택된 하나인 유기전계발광소자.The heat transfer filler is an organic electroluminescent device selected from metal particles such as graphite, aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), silver (Ag) and the like. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 커버필름은 PTFE(poly tetra fluoroethylene)계열 필름, 난연성 PVC(poly vinyl chloride)필름, 난연성 폴리에스테르(poly ether)필름, PEI(poly cthylene imide)필름, 실리콘필름, 실리콘러버필름, 불소수지 필름, 절연재용 필름, 테프론필름 PVC(poly vinyl chloride)재질의 보호필름, PE(polyethylene)재질의 필름, PO(poly olefin)재질의 필름 중 선택된 하나인 유기전계발광소자. The cover film is PTFE (poly tetra fluoroethylene) film, flame retardant PVC (poly vinyl chloride) film, flame retardant polyester (poly ether) film, PEI (poly cthylene imide) film, silicon film, silicon rubber film, fluororesin film, Insulating film, Teflon film PVC (poly vinyl chloride) protective film, PE (polyethylene) film, PO (poly olefin) film selected organic light emitting device is one of the film. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 접착성물질은 금속 에폭시를 포함하는 전도성 접착테이프인 유기전계발광소자.The adhesive material is an organic light emitting device that is a conductive adhesive tape containing a metal epoxy. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 유기전계발광소자는, 서로 마주보는 제 1 및 2 기판을 포함하고,The organic light emitting device includes a first and a second substrate facing each other, 상기 제 1 기판 내면에는 스위칭 박막트랜지스터 및 구동 박막트랜지스터와 유기전계발광 다이오드가 형성되고,A switching thin film transistor, a driving thin film transistor, and an organic light emitting diode are formed on an inner surface of the first substrate. 상기 제 2 기판을 통해 인캡슐레이션되는 유기전계발광소자.An organic light emitting display device encapsulated through the second substrate.
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