KR20110049200A - Laminated chip device - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 적층형 칩 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 방향성이 없는 적층형 칩 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a stacked chip device, and more particularly, to a stacked chip device having no orientation.
일반적으로, 저항(R)은 회로내에서 전류 흐름의 제어나 전압을 강하시키는 역할을 수행한다. 특히, 저항은 교류회로에 있어서 임피던스 정합 등의 역할을 수행한다. 저항은 다른 수동소자인 캐패시터(C) 또는 인덕터(L)와 결합하여 각종 필터를 구현하고 고주파 노이즈 제거 뿐만 아니라 주파수 선택의 기능을 수행하고 있다. In general, the resistor R serves to control the current flow or lower the voltage in the circuit. In particular, the resistor plays a role of impedance matching or the like in the AC circuit. The resistor is combined with other passive elements such as capacitor (C) or inductor (L) to implement various filters and performs the function of frequency selection as well as the removal of high frequency noise.
그리고, 캐패시터(C)는 기본적으로 직류를 차단하고 교류 신호를 통과시키는 역할을 하며, 시정수 회로, 시간 지연 회로, RC 및 LC 필터 회로를 구성하기도 한다. 캐패시터 자체로 노이즈를 제거하는 역할을 하기도 한다. In addition, the capacitor (C) basically serves to cut off the DC and to pass the AC signal, and also constitutes a time constant circuit, a time delay circuit, an RC, and an LC filter circuit. The capacitor itself also serves to remove noise.
또한, 바리스터(varistor)는 인가전압에 따라 저항이 변하기 때문에 과전압(서지 전압) 및 정전기로부터 중요 전자 부품과 회로를 보호하는 보호용 소자로 널리 사용되고 있다. 즉, 평소에는 회로내에 배치된 바리스터에는 전류가 흐르지 않는다. 그러나, 특정한 전압 이상의 과전압 등에 의하여 바리스터의 양단에 과전압 이 걸리면 바리스터의 저항이 급격히 감소하여 거의 모든 전류가 바리스터에 흐르게 되고, 다른 소자에는 전류가 흐르지 않게 되어 상기 바리스터가 배치된 회로는 과전압으로부터 보호된다. In addition, varistors are widely used as protection devices for protecting important electronic components and circuits from overvoltage (surge voltage) and static electricity because the resistance changes according to the applied voltage. In other words, no current flows through the varistors arranged in the circuit. However, if an overvoltage is applied to both ends of the varistor due to an overvoltage or the like exceeding a certain voltage, the resistance of the varistor decreases rapidly and almost all current flows to the varistor, and no current flows to other elements, so that the circuit in which the varistor is disposed is protected from overvoltage. .
바리스터는 과전압이 걸리지 않은 정상상태에서 캐패시터로 작용한다. 캐패시터는 캐패시턴스 값만을 갖는 것이 아니라 기생 인덕턴스 값을 갖고 있다. 인덕터는 도선에 전류가 흐를 때 그 전류의 변화를 막으려는 성질을 가지는 소자이다. 인덕터는 인덕턴스 값 외에도 기생 캐패시턴스 값을 갖는다. 이로 인하여 특정 고주파에서 소자의 기능이 바뀌게 되는데, 이러한 특정 주파수를 자기 공진 주파수라고 한다.The varistor acts as a capacitor in a steady state without overvoltage. Capacitors have parasitic inductance values, not just capacitance values. An inductor is a device that has a property of preventing a change in current when a current flows through the wire. Inductors have parasitic capacitance values in addition to inductance values. This changes the function of the device at a specific high frequency, which is called the self-resonant frequency.
단일 칩 내에 저항 성분과 바리스터 성분을 함께 결합하여 형성시킨 저항-바리스터 복합 칩은 과전압 및 정전기로부터의 보호와 동시에 고주파 선로에서 발생할 수 있는 노이즈를 제거한다. 상기와 같은 바리스터 소자와 저항 소자를 결합시킴으로써 과전압으로부터 중요한 전자부품이나 소형 모터 및 회로를 효율적으로 보호할 수 있을 뿐만 아니라 안정된 전원 전압의 확보 및 노이즈 성분의 제거를 통해 전자부품이나 회로의 안정된 동작을 보장할 수 있다. The resistive-varistor composite chip formed by combining a resistive component and a varistor component together in a single chip removes noise that may occur in a high frequency line simultaneously with protection from overvoltage and static electricity. By combining the varistor element and the resistance element as described above, it is possible not only to effectively protect important electronic components, small motors and circuits from overvoltage, but also to ensure stable operation of electronic components or circuits by securing a stable power supply voltage and removing noise components. I can guarantee it.
따라서, 인덕터- 바리스터의 결합은 고주파 노이즈 제거 특성이 양호한 인덕터-커패시터로 이루어지는 파이(π)형 필터를 구현하게 된다. Therefore, the combination of the inductor-varistor realizes a pi (π) type filter made of an inductor-capacitor having good high frequency noise rejection.
이러한 저항-바리스터 결합 소자 또는 인덕터-바리스터의 결합 소자는 회로내의 이상 과전압이 유입되면 즉시 바리스터의 기능이 발현되어 과전압으로부터 전자 부품 또는 회로를 보호하고 노이즈 성분을 제거하게 된다.Such a resistance-varistor coupling element or an inductor-varistor coupling element immediately exhibits the function of the varistor when an abnormal overvoltage in the circuit is introduced, thereby protecting the electronic component or circuit from the overvoltage and removing noise components.
특히, 최근에는 전자기기의 소형화에 대응하여 고집적 회로 칩 소자 등에 대한 요구도 늘어가고 있다. 그에 따라, RC필터, LV필터 또는 LC필터 등이 사용되고 있다.In particular, in recent years, in response to the miniaturization of electronic devices, demands for highly integrated circuit chip elements have increased. Accordingly, RC filters, LV filters, LC filters and the like are used.
종래의 RC필터와 LV필터를 비교하여 보면, LV필터가 RC필터에 비해 방사특성이 우수한 편이다. 그로 인해 보다 우수한 감쇄특성을 요구하는 곳에는 LV필터가 주로 채용된다. Compared with the conventional RC filter and LV filter, the LV filter tends to have better radiation characteristics than the RC filter. As a result, the LV filter is mainly employed where a better attenuation characteristic is required.
그런데, 종래의 RC필터 및 LV필터는 모두 방향성을 가진다. RC필터는 상하 방향성을 가지고, LV필터 또는 LC필터는 상하, 좌우의 방향성을 가진다.By the way, both the conventional RC filter and the LV filter have directivity. The RC filter has the vertical direction, and the LV filter or the LC filter has the vertical direction.
이와 같이 방향성을 가지는 소자의 문제점을 살펴보면, 제작시 방향 인식 마크를 삽입하는 추가 공정이 필요하여 작업 효율이 떨어진다. 그리고, 선별 또는 테이핑시 방향 인식을 위해 카메라 등과 같은 기기가 장착되어야 하므로 추가 비용이 발생한다. 또한, 표면실장(SMT) 작업시 실수로 오삽이 될 수 있다.Looking at the problem of the device having the directionality as described above, an additional process for inserting the direction recognition mark at the time of manufacturing is required, and the work efficiency is low. In addition, since a device such as a camera must be mounted in order to recognize the direction when screening or taping, an additional cost occurs. In addition, mistakes in surface mount (SMT) operation can be mistaken.
특히, 방향성을 가지는 소자를 설계 회로에 설치하는 경우 방향성을 고려하지 않고 잘못 설치하게 되면 제기능을 수행할 수 없을 뿐만 아니라 회로 배선이 꼬이게 된다.In particular, when the device having the directional element is installed in the design circuit, if it is incorrectly installed without considering the directionality, it may not be able to perform its function and the circuit wiring may be twisted.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 방향성을 없앤 적층형 칩 소자를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention has been proposed to solve the above-described problems, and an object thereof is to provide a stacked chip device with no directionality.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 바람직한 실시양태에 따른 적층형 칩 소자는, 소체의 내부에 형성되고, 스루 홀을 갖는 제 1도전 패턴부; 소체의 내부에서 제 1도전 패턴부와는 이격되어 제 1도전 패턴부의 상부에 형성된 제 2도전 패턴부; 및 소체의 내부에서 제 1도전 패턴부와는 이격되어 제 1도전 패턴부의 하부에 형성되되, 제 1도전 패턴부의 스루 홀을 통해 제 2도전 패턴부와 연결된 제 3도전 패턴부를 포함한다.In order to achieve the above object, a stacked chip device according to a preferred embodiment of the present invention includes: a first conductive pattern portion formed inside the body and having a through hole; A second conductive pattern portion formed on the first conductive pattern portion and spaced apart from the first conductive pattern portion in the body; And a third conductive pattern portion formed below the first conductive pattern portion spaced apart from the first conductive pattern portion in the body, and connected to the second conductive pattern portion through the through hole of the first conductive pattern portion.
본 발명의 다른 실시양태에 따른 적층형 칩 소자는, 소체의 내부에 형성되고, 스루 홀을 갖는 제 1도전 패턴부; 소체의 내부에서 제 1도전 패턴부와는 이격되어 제 1도전 패턴부의 상부에 형성된 제 2도전 패턴부; 소체의 내부에서 제 1도전 패턴부와는 이격되어 제 1도전 패턴부의 하부에 형성되되, 제 1도전 패턴부의 스루 홀을 통해 제 2도전 패턴부와 연결된 제 3도전 패턴부; 및 스루 홀에 형성되어 제 2도전 패턴부와 제 3도전 패턴부의 사이에 형성된 저항 패턴부를 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a stacked chip device including: a first conductive pattern part formed inside a body and having a through hole; A second conductive pattern portion formed on the first conductive pattern portion and spaced apart from the first conductive pattern portion in the body; A third conductive pattern portion formed below the first conductive pattern portion spaced apart from the first conductive pattern portion in the body, and connected to the second conductive pattern portion through a through hole of the first conductive pattern portion; And a resistance pattern portion formed in the through hole and formed between the second conductive pattern portion and the third conductive pattern portion.
본 발명의 또 다른 실시양태에 따른 적층형 칩 소자는, 소체의 내부에 형성되고, 제 1스루 홀을 갖는 제 1도전 패턴부; 소체의 내부에서 제 1도전 패턴부와는 이격되어 제 1도전 패턴부의 상부에 형성된 제 2도전 패턴부; 소체의 내부에서 제 1도전 패턴부와는 이격되어 제 1도전 패턴부의 하부에 형성되되, 제 1도전 패턴부의 제 1스루 홀을 통해 제 2도전 패턴부와 연결된 제 3도전 패턴부; 및 소체의 외측면에 형성되되, 일단이 소체의 내부에 형성된 제 2스루 홀을 통해 제 2도전 패턴부 및 제 3도전 패턴부중 하나 이상의 도전 패턴부에 연결된 저항 패턴부를 포함한다.According to still another aspect of the present invention, there is provided a stacked chip device, including: a first conductive pattern part formed inside the body and having a first through hole; A second conductive pattern portion formed on the first conductive pattern portion and spaced apart from the first conductive pattern portion in the body; A third conductive pattern part spaced apart from the first conductive pattern part in the body and formed under the first conductive pattern part, and connected to the second conductive pattern part through a first through hole of the first conductive pattern part; And a resistance pattern portion formed on an outer surface of the body, and one end of which is connected to at least one conductive pattern portion of the second conductive pattern portion and the third conductive pattern portion through a second through hole formed in the body.
바람직하게, 제 1도전 패턴부는 캐패시터 또는 바리스터의 패턴 구조를 포함하고, 제 2도전 패턴부는 인덕터의 패턴 구조를 포함하고, 제 3도전 패턴부는 인덕터의 패턴 구조를 포함한다.Preferably, the first conductive pattern portion includes a pattern structure of a capacitor or a varistor, the second conductive pattern portion includes a pattern structure of an inductor, and the third conductive pattern portion includes a pattern structure of an inductor.
바람직하게, 제 1도전 패턴부는, 소체의 제 1측면의 외부 단자에 연결되게 형성된 제 1내부 전극 패턴; 소체의 제 2측면의 외부 단자에 연결되게 형성된 제 2내부 전극 패턴; 소체의 제 3측면의 외부 단자에 연결되게 형성되고, 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 이격되게 형성되어 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 중첩되는 영역을 갖는 공통 접지 패턴: 및 소체의 외부 단자와의 접촉없이 소체의 내부에서 스루 홀과 연결되고, 공통 접지 패턴과 이격되게 형성되어 공통 접지 패턴과 중첩되는 영역을 갖는 제 3내부 전극 패턴을 포함한다.Preferably, the first conductive pattern portion includes: a first inner electrode pattern formed to be connected to an external terminal of the first side of the body; A second internal electrode pattern formed to be connected to an external terminal of a second side of the body; A common ground pattern formed to be connected to an external terminal of the third side of the body and spaced apart from the first and second internal electrode patterns to have an area overlapping the first and second internal electrode patterns: and an external terminal of the body The third internal electrode pattern may include a third internal electrode pattern that is connected to the through hole in the body without contact with and is formed to be spaced apart from the common ground pattern and overlaps the common ground pattern.
제 1내부 전극 패턴과 제 2내부 전극 패턴은 동일한 시트에 형성되고, 제 3내부 전극 패턴은 제 1내부 전극 패턴과 제 2내부 전극 패턴이 형성된 시트와는 상이한 시트에 형성된다. 다르게는, 제 1내부 전극 패턴과 제 2내부 전극 패턴 및 제 3내부 전극 패턴은 각기 상이한 시트에 형성된다. 또 다르게는, 제 1내부 전극 패턴과 제 2내부 전극 패턴 및 제 3내부 전극 패턴은 동일한 시트에 상호 이격되게 형성된다.The first inner electrode pattern and the second inner electrode pattern are formed on the same sheet, and the third inner electrode pattern is formed on a sheet different from the sheet on which the first inner electrode pattern and the second inner electrode pattern are formed. Alternatively, the first inner electrode pattern, the second inner electrode pattern and the third inner electrode pattern are formed in different sheets, respectively. Alternatively, the first inner electrode pattern, the second inner electrode pattern, and the third inner electrode pattern are formed to be spaced apart from each other on the same sheet.
제 1도전 패턴부는, 소체의 제 1측면의 외부 단자에 연결되게 형성된 제 1내부 전극 패턴; 소체의 제 2측면의 외부 단자에 연결되게 형성된 제 2내부 전극 패턴; 소체의 제 3측면의 외부 단자에 연결되게 형성되고, 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 이격되게 형성되어 제 1 및 제 2내부 전극 패턴과 중첩되는 영역을 갖는 공통 접지 패턴: 및 소체의 외부 단자와의 접촉없이 소체의 내부에서 제 1스루 홀과 연결되고, 공통 접지 패턴과 이격되게 형성되어 공통 접지 패턴과 중첩되는 영역을 갖는 제 3내부 전극 패턴을 포함한다.The first conductive pattern portion may include: a first inner electrode pattern formed to be connected to an external terminal on a first side of the body; A second internal electrode pattern formed to be connected to an external terminal of a second side of the body; A common ground pattern formed to be connected to an external terminal of the third side of the body and spaced apart from the first and second internal electrode patterns to have an area overlapping the first and second internal electrode patterns: and an external terminal of the body The third internal electrode pattern may include a third internal electrode pattern connected to the first through hole in the body without contact with and having a region overlapping with the common ground pattern to overlap the common ground pattern.
저항 패턴부는 스루 홀내에 저항 페이스트로 충진된다.The resistive pattern portion is filled with a resist paste in the through hole.
제 2도전 패턴부는, 소체의 외부 단자와의 접촉없이 소체의 내부에 형성되되, 일측 끝부가 제 2스루 홀에 접촉되고 타측 끝부가 저항 패턴부에 접촉된다.The second conductive pattern portion is formed inside the body without contact with an external terminal of the body, one end of which is in contact with the second through hole and the other end of which is in contact with the resistance pattern.
제 3도전 패턴부는, 소체의 외부 단자와의 접촉없이 소체의 내부에 형성되되, 일측 끝부가 제 2스루 홀에 접촉되고 타측 끝부가 저항 패턴부에 접촉된다.The third conductive pattern portion is formed inside the body without contacting the outer terminal of the body, one end of the contact portion is in contact with the second through hole and the other end is in contact with the resistance pattern portion.
저항 패턴부는 타단이 소체의 제 1측면의 외부 단자 및 제 2측면의 외부 단자중 어느 한 외부 단자에 연결된다.The other end of the resistance pattern portion is connected to either an external terminal on the first side of the body and an external terminal on the second side.
이러한 구성의 본 발명에 따르면, 중앙에 캐패시터 또는 바리스터를 두고 상하에 인덕터를 배치하는 구조이어서 상하, 좌우로의 방향성이 없을 뿐만 아니라 기존의 구성 대비 소자간 간섭이 줄어들게 된다. According to the present invention having such a configuration, since the capacitor or varistor is placed in the center and the inductor is arranged up and down, there is no directivity in the up, down, left and right directions, and the interference between the elements is reduced compared to the existing configuration.
한편, LC필터 또는 LV필터의 구조이어서 종래의 RC필터에 비해 방사특성이 우수한 효과를 갖게 된다.On the other hand, since the structure of the LC filter or LV filter has a superior radiation characteristics than the conventional RC filter.
방향성이 없으므로 방향인식 마크를 삽입하는 공정이 필요없어 작업 효율이 향상된다.Since there is no directionality, there is no need to insert a direction recognition mark, thereby improving work efficiency.
방향성이 없으므로 선별이나 테이핑시 방향 인식을 위한 카메라 등의 기기가 필요없게 되어 추가 비용이 발생되지 않게 된다.Since there is no directionality, there is no need for a device such as a camera for direction recognition when screening or taping, so no additional cost is incurred.
방향성이 없으므로 표면실장 작업시 오삽이 발생되지 않게 된다.Since there is no directionality, misalignment does not occur in surface mount work.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자에 대하여 설명하면 다음과 같다. 본 발명의 상세한 설명에 앞서, 이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니된다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, a multilayer chip device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Prior to the detailed description of the present invention, the terms or words used in the specification and claims described below should not be construed as being limited to the ordinary or dictionary meanings. Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only one of the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 내부 구성을 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 외관 사시도이다.1 is a view for explaining the internal configuration of a stacked chip device according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is an external perspective view of a stacked chip device according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는, 소체(1)의 내부의 중앙부에 형성되고 내부 중앙을 수직으로 관통하는 스루 홀을 갖는 제 1도전 패턴부(C); 소체(1)의 내부에서 제 1도전 패턴부(C)와는 이격되어 제 1도전 패턴부(C)의 상부에 형성된 제 2도전 패턴부(L1); 및 소체(1)의 내부에서 제 1도전 패턴부(C)와는 이격되어 제 1도전 패턴부(C)의 하부에 형성되되, 제 1도전 패턴부(C)의 스루 홀을 통해 제 2도전 패턴부(L1)와 연결된 제 3도전 패턴부(L2)를 포함한다.The stacked chip device according to an embodiment of the present invention, the first conductive pattern portion (C) is formed in the center portion of the inside of the body (1) having a through hole vertically penetrating the inner center; A second conductive pattern portion L1 spaced apart from the first conductive pattern portion C in the body 1 and formed on the first conductive pattern portion C; And a first conductive pattern portion C spaced apart from the first conductive pattern portion C, and formed below the first conductive pattern portion C. The second conductive pattern is formed through the through hole of the first conductive pattern portion C. The third conductive pattern part L2 connected to the part L1 is included.
제 1도전 패턴부(C)는 캐패시터 또는 바리스터의 패턴 구조를 포함하고, 제 2도전 패턴부(L1) 및 제 3도전 패턴부(L2)는 각각 인덕터의 패턴 구조를 포함한다. 그에 따라, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는 LV필터 또는 LC필터로 구성된다.The first conductive pattern portion C includes a pattern structure of a capacitor or a varistor, and the second conductive pattern portion L1 and the third conductive pattern portion L2 each include a pattern structure of an inductor. Accordingly, the stacked chip device according to the embodiment of the present invention is composed of an LV filter or an LC filter.
제 1도전 패턴부(C)는, 소체(1)의 제 1측면의 외부 단자(401, 402, 403, 404)에 연결되게 형성된 제 1내부 전극 패턴(81, 82, 83, 84; 121, 122, 123, 124); 소체(1)의 제 2측면의 외부 단자(405, 406, 407, 408)에 연결되게 형성된 제 2내부 전극 패턴(85, 86, 87, 88; 125, 126, 127, 128); 소체(1)의 제 3측면의 외부 단자(409 및 410중의 적어도 하나)에 연결되게 형성되고, 제 1 및 제 2내부 전극 패턴((81, 82, 83, 84; 121, 122, 123, 124), (85, 86, 87, 88; 125, 126, 127, 128))과 이격되게 형성되어 제 1 및 제 2내부 전극 패턴((81, 82, 83, 84; 121, 122, 123, 124), (85, 86, 87, 88; 125, 126, 127, 128))과 중첩되는 영역을 갖는 공통 접지 패턴(72, 92, 112, 132): 및 소체(1)의 외부 단자(401 ~ 410)와는 접촉없이 소체(1)의 내부에서 스루 홀과 연결되고, 공통 접지 패턴(92, 112)과 이격되게 형성되어 공통 접지 패턴(92, 112)과 중첩되는 영역을 갖는 제 3내부 전극 패턴(102, 104, 106, 108)을 포함한다.The first conductive pattern portion C may include the first
공통 접지 패턴(72)은 시트(70)의 상면의 중앙부에서 길이 방향으로 형성되되 양측 끝단(또는 어느 일측 끝단)이 노출된다. 상호 이격된 스루 홀(72a, 72b, 72c, 72d)이 해당 시트(70)의 상면에서 길이 방향의 중앙부에 형성된다. 시트(90, 110, 130)의 패턴 형태는 상술한 시트(70)의 패턴 형태와 동일하므로, 별도의 설명이 없어도 상술한 시트(70)의 패턴 형태 설명에 의해 충분히 이해가능하리라 본다.The
제 1내부 전극 패턴(81, 82, 83, 84)은 시트(80)의 상면에서 길이 방향의 일측부에 상호 이격되게 형성되고, 제 2내부 전극 패턴(85, 86, 87, 88)은 시트(80) 의 상면에서 길이 방향의 타측부에 상호 이격되게 형성된다. 상호 이격된 스루 홀(80a, 80b, 80c, 80d)이 해당 시트(80)의 상면에서 길이 방향의 중앙부에 형성된다. 즉, 시트(80)에서의 패턴 형태는 하나의 스루 홀을 중심으로 하나의 제 1내부 전극 패턴과 하나의 제 2내부 전극 패턴이 일대일로 대향되게 형성되는 형국이고, 각각의 제 1내부 전극 패턴과 제 2내부 전극 패턴의 일단은 해당하는 외부 단자와의 접촉을 위해 노출된다.The first
시트(120)의 패턴 형태는 상술한 시트(80)의 패턴 형태와 동일하므로, 별도의 설명이 없어도 상술한 시트(80)의 패턴 형태 설명에 의해 충분히 이해가능하리라 본다.Since the pattern form of the
제 3내부 전극 패턴(102, 104, 106, 108)은 시트(100)의 상면의 중앙부에 상호 이격되게 형성된다. 제 3내부 전극 패턴(102, 104, 106, 108)의 각각에는 해당하는 스루 홀(102a, 104a, 106a, 108a)이 형성된다. The third
상술한 제 1도전 패턴부(C)에 사용되는 복수의 시트에 형성된 전극 패턴들중에서 제 3내부 전극 패턴(102, 104, 106, 108)만이 스루 홀(102a, 104a, 106a, 108a)과 접촉한다.Of the electrode patterns formed on the plurality of sheets used for the first conductive pattern portion C described above, only the third
제 2도전 패턴부(L1)는, 시트(10)에 상호 이격되게 형성되되 소체(1)의 제 1측면의 외부 단자(401, 402, 403, 404)에 연결되게 형성되고 일측부에 비아 홀(12a, 14a, 16a, 18a)이 형성된 연결 패턴(12, 14, 16, 18); 시트(20)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(22a, 24a, 26a, 28a)이 형성된 내부 전극 패 턴(22, 24, 26, 28); 시트(30)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(32a, 34a, 36a, 38a)이 형성된 내부 전극 패턴(32, 34, 36, 38); 시트(40)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(42a, 44a, 46a, 48a)이 형성된 내부 전극 패턴(42, 44, 46, 48); 시트(50)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(52a, 54a, 56a, 58a)이 형성된 내부 전극 패턴(52, 54, 56, 58); 및 시트(60)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(62a, 64a, 66a, 68a)이 형성된 내부 전극 패턴(62, 64, 66, 68)을 포함한다. The second conductive pattern portion L1 is formed to be spaced apart from each other on the
제 2도전 패턴부(L1)의 내부 전극 패턴은 단위 소자별로 비아 홀을 통해 수직 방향으로 권선되는 형태를 취한다.The internal electrode pattern of the second conductive pattern portion L1 is wound in the vertical direction through the via hole for each unit element.
제 3도전 패턴부(L2)는, 시트(190)에 상호 이격되게 형성되되 소체(1)의 제 2측면의 외부 단자(405, 406, 407, 408)에 연결되게 형성된 연결 패턴(192, 194, 196, 198); 시트(180)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(182a, 184a, 186a, 188a)이 형성된 내부 전극 패턴(182, 184, 186, 188); 시트(170)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(172a, 174a, 176a, 178a)이 형성된 내부 전극 패턴(172, 174, 176, 178); 시트(160)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(162a, 164a, 166a, 168a)이 형성된 내부 전극 패턴(162, 164, 166, 168); 시트(150)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(152a, 154a, 156a, 158a)이 형성된 내부 전극 패턴(152, 154, 156, 158); 및 시트(140)에 상호 이격되게 형성되되 일측부에 비아 홀(142a, 144a, 146a, 148a)이 형성된 내부 전극 패턴(142, 144, 146, 148)을 포함한다. The third conductive pattern part L2 is formed to be spaced apart from each other on the
제 3도전 패턴부(L2)의 내부 전극 패턴은 단위 소자별로 비아 홀을 통해 수직 방향으로 권선되는 형태를 취한다.The internal electrode pattern of the third conductive pattern portion L2 is wound in the vertical direction through the via hole for each unit element.
상술한 제 1도전 패턴부(C)의 적층수는 단위 소자별로 필요로 하는 캐패시턴스에 따라 조정가능하고, 제 2도전 패턴부(L1) 및 제 3도전 패턴부(L2)의 적층수는 단위 소자별로 필요로 하는 인덕턴스에 따라 조정가능하다. The stacking number of the first conductive pattern portion C described above is adjustable according to the capacitance required for each unit element, and the stacking number of the second conductive pattern portion L1 and the third conductive pattern portion L2 is a unit element. It can be adjusted according to the inductance required.
도 1 및 도 2의 경우에는 4개의 단위 소자로 구획된다.1 and 2 are divided into four unit elements.
도 1에서, 미설명 부호 DM1 및 DM2는 더미층이다. 더미층(DM1)은 복수의 시트(210)가 적층되어 형성되고, 더미층(DM2)는 복수의 시트(310)가 적층되어 형성된다. 더미층(DM1, DM2)의 시트에는 상호 이격된 스루 홀이 형성된다. 각각의 더미층(DM1, DM2)을 구성하는 시트의 수를 복수개로 표현하였으나, 더미 역할을 충분히 해 낼 수 있을 정도의 두께를 지닌 하나의 시트로 구성시켜도 무방하다.In Fig. 1, reference numerals DM1 and DM2 are dummy layers. The dummy layer DM1 is formed by stacking a plurality of
도 1에서, 미설명 부호 200은 커버 시트이다.In FIG. 1,
상술한 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자를 수직으로 절단하여 보면, 각각의 단위 소자별로 도 3과 같은 단면을 지니게 된다. 도 3은 개략적으로 도시한 것으로서도 1에서와 같은 복잡한 참조부호 대신에 특징적인 부분을 중심으로 간단하게 표시하였다.When the stacked chip device according to the exemplary embodiment of the present invention is cut vertically, each unit device has a cross section as shown in FIG. 3. FIG. 3 is a schematic diagram and is simply shown centering on a characteristic part instead of the complicated reference numeral as in FIG. 1.
도 3에서, 참조부호 C는 도 1의 제 1도전 패턴부에 해당하고, 참조부호 L1은 도 1의 제 2도전 패턴부에 해당하고, 참조부호 L2는 도 1의 제 3도전 패턴부에 해당한다.In FIG. 3, reference numeral C corresponds to the first conductive pattern portion of FIG. 1, reference numeral L1 corresponds to the second conductive pattern portion of FIG. 1, and reference numeral L2 corresponds to the third conductive pattern portion of FIG. 1. do.
도 3에서, 참조부호 C1은 제 1도전 패턴부내의 제 1내부 전극 패턴에 해당하고, 참조부호 C2는 제 1도전 패턴부내의 제 2내부 전극 패턴에 해당하고, 참조부호 C3은 제 1도전 패턴부내의 제 3내부 전극 패턴에 해당한다. In FIG. 3, reference numeral C1 corresponds to the first internal electrode pattern in the first conductive pattern portion, reference C2 corresponds to the second internal electrode pattern in the first conductive pattern portion, and reference numeral C3 denotes the first conductive pattern. It corresponds to the 3rd internal electrode pattern in a part.
도 3에서, 참조부호 500은 스루 홀이다. 도 3의 스루 홀(500)은 도 1의 칩 소자의 단위 소자별 스루 홀의 집합체이다. 다시 말해서, 더미층(DM1, DM2)의 시트 및 시트(70, 80, 90, 100, 110, 120, 130)를 도 1에서와 같이 차례로 적층시켰을 경우 예를 들어 수직으로 관통되게 형성되는 스루 홀(72a, 80a, 92a, 102a, 112a, 120a, 132a) 및 그 스루 홀의 상부 및 하부에 수직으로 접촉된 더미층의 스루 홀이 도 3의 스루 홀(500)로 된다.In Fig. 3,
도 4는 도 3의 등가회로도로서, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는 중앙에 3개의 캐패시터(또는 바리스터)를 형성하여 5단의 파이(π)형 LC필터 또는 LV필터가 된다.FIG. 4 is an equivalent circuit diagram of FIG. 3. In the stacked chip device according to the exemplary embodiment of the present invention, three capacitors (or varistors) are formed at the center to form a pi (π) type LC filter or an LV filter of five stages.
이와 같이 5단 구성으로의 구현에 대해 기존의 여타 제품과 비교하여 보면 다음과 같다. A사의 기존 칩 소자는 상부에 인덕터를 배치하고 하부에 3층의 캐패시터를 배치하고 인덕터와 캐패시터가 개별적으로 입출력 단자에 연결된 구조가 될 수 있다. 그런데, 이 경우에는 구조상 인덕터 사이에 캐패시터의 배치가 불가능하 여 실질적인 5단 필터의 구현이 불가능하다.As described above, the implementation of the 5-stage configuration is as follows. A company's existing chip device may have a structure in which an inductor is disposed at an upper portion, a three-layer capacitor is disposed at a lower portion, and an inductor and a capacitor are individually connected to input / output terminals. In this case, however, capacitors cannot be disposed between the inductors due to the structure, so that a practical five-stage filter cannot be realized.
B사의 기존 칩 소자는 인덕터와 캐패시터가 교번되게(엇갈리게) 적층되고 인덕터와 캐패시터가 개별적으로 입출력 단자에 연결된 구조(총 5층)가 될 수 있다. 이 경우에는 상하에 연접되게 적층된 캐패시터층과 인덕터층간의 간섭이 발생하여 크로스토크(cross talk)의 문제가 발생된다. 그로 인해, 캐패시터층과 인덕터층 사이마다 더미층을 개재시켜야 되므로 칩 소자의 두께가 커지는 문제가 발생된다.The company's existing chip device may have a structure (five layers in total) in which inductors and capacitors are stacked alternately and inductors and capacitors are individually connected to input and output terminals. In this case, interference between the capacitor layer and the inductor layer stacked up and down is generated, thereby causing a cross talk problem. Therefore, since the dummy layer must be interposed between the capacitor layer and the inductor layer, a problem arises in that the thickness of the chip element is increased.
그러나, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는 중앙에 3개의 캐패시터(또는 바리스터)를 두고 상하에 인덕터를 배치함으로써 상하, 좌우로의 방향성이 없는 5단의 파이(π)형 LC필터 또는 LV필터가 되었을 뿐만 아니라 소자간 간섭이 발생되는 부분이 최소화되었다. 즉, B사의 기존 칩 소자는 인덕터와 캐패시터가 교번되게 적층됨에 따라 소자간 간섭이 4군데에서 발생되는데 반해, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는 2군데에서 소자간 간섭이 발생될 수 있다. 이와 같은 비교에 의하면, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는 기존에 비해 로우 프로파일(low profile)이 되고 제조공정상 공정수가 적게 될 뿐만 아니라 설계자유도가 향상된다.However, in the stacked chip device according to the exemplary embodiment of the present invention, a five-stage pi (π) LC filter or LV having no directivity in the up, down, left, and right directions by arranging inductors up and down with three capacitors (or varistors) in the center thereof. Not only was it a filter, but it also minimized the interference between devices. That is, in the existing chip device of Company B, the interference between the devices is generated at four places as the inductor and the capacitor are alternately stacked, whereas the stacked chip device according to the embodiment of the present invention may generate the interference between the devices at two places. . According to the comparison, the stacked chip device according to the exemplary embodiment of the present invention has a low profile and a low number of processes in the manufacturing process as well as an improved design freedom.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는 기존 양산의 LV필터에 비해 단수가 늘어나서 대략 3배 정도 우수한 감쇄특성을 보인다. 물론, 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자는 LC필터 또는 LV필터의 구조이어서 종래의 RC필터에 비해 방사특성이 우수한 효과를 갖게 된다. 상하, 좌우로의 방향성이 없는 이유로 인해 방향인식 마크를 삽입하는 공정이 필요없어 작업 효율이 향상된다. 상하, 좌우로의 방향성이 없으므로 선별이나 테이핑시 방향 인식을 위한 카메라 등의 기기가 필요없게 되어 추가 비용이 발생되지 않게 될 뿐만 아니라 표면실장 작업시 오삽이 발생되지 않게 된다.On the other hand, the stacked chip device according to the embodiment of the present invention shows an attenuation characteristic that is about three times better as the number of stages increases compared to the existing LV filter. Of course, the stacked chip device according to the embodiment of the present invention has the structure of the LC filter or the LV filter, so that the radiation characteristics are superior to the conventional RC filter. There is no need for a process of inserting the direction recognition mark due to the lack of directivity in the up, down, left and right directions, thereby improving work efficiency. Since there is no up and down direction, there is no need for a device such as a camera to recognize the direction when screening or taping, so that no additional cost is generated and no misunderstanding occurs during surface mounting.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제 1변형예이다.5 is a first modified example of the stacked chip device according to the embodiment of the present invention.
제 1변형예를 본 발명의 실시예와 비교하여 보면 제 1도전 패턴부(C)내의 내부 전극 패턴의 배치에서 차이난다. 즉, 본 발명의 실시예에서는 제 1내부 전극 패턴 및 제 2내부 전극 패턴을 동일한 시트에 형성시켰으나, 제 1변형예에서는 각기 다른 시트에 형성시켰다. 한편, 공통 접지 패턴의 배치에서도 약간의 차이가 있다.그에 따라, 제 1변형예에서의 전체 시트수가 본 발명의 실시예의 전체 시트수에 비해 보다 많을 수 있다.In comparison with the embodiment of the present invention, the first modification differs in the arrangement of the internal electrode patterns in the first conductive pattern portion C. That is, in the embodiment of the present invention, the first inner electrode pattern and the second inner electrode pattern are formed on the same sheet, but in the first modification, they are formed on different sheets. On the other hand, there is also a slight difference in the arrangement of the common ground pattern. Accordingly, the total number of sheets in the first modification may be larger than the total number of sheets in the embodiment of the present invention.
이러한 제 1변형예는 내부 전극 패턴의 배치에서 본 발명의 실시예와 차이날 뿐, 작용 및 효과면에서는 동일하다.This first modification differs only from the embodiment of the present invention in the arrangement of the internal electrode patterns, and is the same in terms of function and effect.
도 6 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제 2변형예이다.6 is a second modified example of the stacked chip device according to the embodiment of the present invention.
제 2변형예를 본 발명의 실시예와 비교하여 보면 제 1도전 패턴부(C)내의 내부 전극 패턴의 배치에서 차이난다. 즉, 본 발명의 실시예에서는 제 1내부 전극 패턴과 제 2내부 전극 패턴을 동일한 시트에 형성시키고 제 3내부 전극 패턴을 제 1내부 전극 패턴과 제 2내부 전극 패턴이 형성된 시트와는 다른 시트에 형성시켰으 나, 제 2변형예에서는 제 1 내지 제 3내부 전극 패턴을 동일한 시트에 상호 이격되게 형성시켰다.Compared with the embodiment of the present invention, the second modification differs in the arrangement of the internal electrode patterns in the first conductive pattern portion C. FIG. That is, in the embodiment of the present invention, the first inner electrode pattern and the second inner electrode pattern are formed on the same sheet, and the third inner electrode pattern is formed on a sheet different from the sheet on which the first inner electrode pattern and the second inner electrode pattern are formed. However, in the second modification, the first to third internal electrode patterns are formed to be spaced apart from each other on the same sheet.
그리고, 제 2변형예에서는 제 1도전 패턴부(C)를 대략 800 정도의 유전상수(K)를 갖는 시트로 구성시킨다.In the second modification, the first conductive pattern portion C is made of a sheet having a dielectric constant K of approximately 800.
그에 따라, 제 2변형예에서의 전체 시트수가 본 발명의 실시예의 전체 시트수에 비해 보다 적게 된다. Therefore, the total number of sheets in the second modification is smaller than the total number of sheets in the embodiment of the present invention.
이러한 제 2변형예는 내부 전극 패턴의 배치에서 본 발명의 실시예와 차이날 뿐, 작용 및 효과면에서는 거의 동일하다. 제 2변형예는 높은 캐패시턴스에 의해 캐패시터간의 커플링에 의한 감쇄 대역 노치(notch)를 쉽게 형성한다.This second variant differs only from the embodiment of the present invention in the arrangement of the internal electrode patterns, and is almost identical in function and effect. The second variant easily forms an attenuation band notch due to the coupling between the capacitors due to the high capacitance.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제 3변형예이다.7 is a third modified example of the stacked chip device according to the embodiment of the present invention.
제 3변형예는 본 발명의 실시예에 비해 저항 패턴부(600)를 더 갖추었음이 차이난다. 저항 패턴부(600)는 스루 홀(500)내에 저항 페이스트로 충진된 것을 의미한다. 제 3변형예에서 저항 패턴부(600)를 제외한 나머지 구성은 본 발명의 실시예와 동일하다. The third modified example is different from the embodiment of the present invention in that the
제 3변형예에 의해서는 상하, 좌우로의 방향성이 없는 RLV필터 또는 RLC필터의 구현이 가능함을 보여준다.According to the third modification, it is possible to implement an RLV filter or an RLC filter having no directionality of up, down, left and right.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제 4변형예이다.8 is a fourth modified example of the stacked chip device according to the embodiment of the present invention.
제 4변형예는 제 3변형예와는 다른 구조의 RLV필터 또는 RLC필터를 보여준 다.The fourth modified example shows an RLV filter or RLC filter having a structure different from that of the third modified example.
상술한 본 발명의 실시예 및 제 1 내지 제 3변형예에서는 스루 홀이 하나였으나, 제 4변형예에서는 제 1스루 홀(500) 및 제 2스루 홀(510, 520)을 포함한다. 즉, 제 4변형예의 제 1스루 홀(500)이 본 발명의 실시예 및 제 1 내지 제 3변형예의 스루 홀에 해당된다. 제 2스루 홀(510, 520)은 제 1스루 홀(500)의 수직 연장선상에 위치하게 된다. 제 2스루 홀(510)의 일측이 소체(1)의 상면 중앙부로 노출되고 제 2스루 홀(510)의 타측은 제 2도전 패턴부(L1)와 접촉된다. 제 2스루 홀(520)의 일측이 소체(1)의 저면 중앙부로 노출되고 제 2스루 홀(520)의 타측은 제 3도전 패턴부(L2)와 접촉된다.In the above-described embodiments of the present invention and the first to third modified examples, one through hole is provided, but the fourth modified example includes the first through
그리고, 제 4변형예에서 저항 패턴(600)이 소체(1)의 상면에 형성되는데, 저항 패턴(600)의 일단은 제 1측면의 외부 단자와 접촉하고 저항 패턴(600)의 타단은 제 2스루 홀(510)을 덮는다. 한편, 제 4변형예의 제 2스루 홀(520)은 Ag 페이스트로 패터닝된 패턴(530)에 의해 덮여진다. 물론, 상황에 따라서는 패턴(530)을 저항 페이스트를 이용하여 패터닝시킨 저항 패턴으로 하여도 무방하다. 즉, 저항 패턴(600)의 설치 위치가 소체(1)의 상면이어도 되고 저면이어도 된다. 한편으로는, 저항 패턴(600)이 소체(1)의 상면 및 저면에 모두 설치되어도 무방하다.In the fourth modified example, the
제 4변형예에서는 저항 패턴(600) 및 패턴(530)이 소체(1)의 외표면에 형성되어 있으므로, 저항 패턴(600) 및 패턴(530)을 보호하기 위한 커버층(700)이 별도로 갖추어진다.In the fourth modification, since the
상술한 제 4변형예는 저항 패턴(600)이 소체(1)의 외표면에 형성되었다는 점이 소체(1)의 내부에 저항 패턴이 형성된 다른 변형예들 및 실시예와 차이나지만, 제 3변형예에서와 같이 상하, 좌우로의 방향성이 없는 RLV필터 또는 RLC필터의 구현이 가능함을 보여준다.The fourth modification described above is different from the other modifications and examples in which the
도 9는 도 1에 도시된 적층형 칩 소자의 내부 전극 패턴의 형상을 다르게 구현한 예를 나타낸 도면이다.FIG. 9 is a diagram illustrating an example in which the internal electrode patterns of the stacked chip device illustrated in FIG. 1 are implemented differently.
동종업계에 종사하는 자라면 상술한 도 1 내지 도 4에 대한 설명 및 변형예들에 대한 설명에 의해 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 구성을 충분히 쉽게 이해할 수 있으므로, 도 9에 대한 별도의 설명이 없더라도 상술한 도 1 내지 도 4에 대한 설명 및 변형예들에 대한 설명에 의해 도 9의 구성을 쉽게 이해할 수 있으리라 본다.Those skilled in the art can easily understand the configuration of the stacked chip device according to the exemplary embodiment of the present invention by the description of the above-described description of FIGS. Even without the description of FIG. 1, the configuration of FIG. 9 may be easily understood by the description of the above-described FIGS. 1 to 4 and the description of the modifications.
도 9에서는 제 1도전 패턴부(C)와 제 2도전 패턴부(L1) 및 제 3도전 패턴부(L2)만을 도시하였고 더미층은 도시하지 않았다. In FIG. 9, only the first conductive pattern portion C, the second conductive pattern portion L1, and the third conductive pattern portion L2 are illustrated, and the dummy layer is not illustrated.
한편, 본 발명은 상술한 실시예로만 한정되는 것이 아니라 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위내에서 수정 및 변형하여 실시할 수 있고, 그러한 수정 및 변형이 가해진 기술사상 역시 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 한다.On the other hand, the present invention is not limited only to the above-described embodiments and can be carried out by modifications and variations within the scope not departing from the gist of the present invention, the technical idea that such modifications and variations are also within the scope of the claims Must see
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 내부 구성을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view for explaining the internal configuration of a stacked chip device according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 외관 사시도이다.2 is an external perspective view of a stacked chip device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 복수의 단위 소자중 어느 한 단위 소자의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of any one of a plurality of unit devices of a stacked chip device according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 4는 도 3의 등가회로도이다.4 is an equivalent circuit diagram of FIG. 3.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제 1변형예이다.5 is a first modified example of the stacked chip device according to the embodiment of the present invention.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제 2변형예이다.6 is a second modified example of the stacked chip device according to the embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제 3변형예이다.7 is a third modified example of the stacked chip device according to the embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 실시예에 따른 적층형 칩 소자의 제 4변형예이다. 8 is a fourth modified example of the stacked chip device according to the embodiment of the present invention.
도 9는 도 1에 도시된 적층형 칩 소자의 내부 전극 패턴의 형상을 다르게 구현한 예를 나타낸 도면이다.FIG. 9 is a diagram illustrating an example in which the internal electrode patterns of the stacked chip device illustrated in FIG. 1 are implemented differently.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 >Description of the Related Art
C : 제 1도전 패턴부 L1 : 제 2도전 패턴부C: first conductive pattern portion L1: second conductive pattern portion
L2 : 제 3도전 패턴부L2: 3rd conductive pattern part
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