JP2009055344A - Laminated electronic component and adjusting method of frequency characteristic of laminated electronic component - Google Patents

Laminated electronic component and adjusting method of frequency characteristic of laminated electronic component Download PDF

Info

Publication number
JP2009055344A
JP2009055344A JP2007220091A JP2007220091A JP2009055344A JP 2009055344 A JP2009055344 A JP 2009055344A JP 2007220091 A JP2007220091 A JP 2007220091A JP 2007220091 A JP2007220091 A JP 2007220091A JP 2009055344 A JP2009055344 A JP 2009055344A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor pattern
insulating substrate
electronic component
multilayer electronic
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007220091A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keiji Takagi
桂二 高木
Shiyouji Ono
詔次 小野
Junichi Ichikawa
順一 市川
Tetsudai Suehiro
哲大 末廣
Manabu Sato
学 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP2007220091A priority Critical patent/JP2009055344A/en
Publication of JP2009055344A publication Critical patent/JP2009055344A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To change characteristics of an attenuation frequency band without affecting characteristics of a pass frequency band. <P>SOLUTION: This laminated electronic component 10 composed of a plurality of laminated insulating substrates (M1-M8) is provided with an external electrode 106, a first insulating substrate M2 with a first conductor pattern 121 formed thereon, a second insulating substrate M1 connected to the external electrode 106 and one part of which is superposed on the first conductor pattern 121 while a second conductor pattern 111 having a notched part in a part which is not superposed on the first conductor pattern 121 is formed thereon, and an inductor conductor 121t connected to the first conductor pattern 121. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、積層型電子部品に関し、特にバンドパスフィルタ、ダイプレクサ、マルチプレクサに関する。   The present invention relates to a multilayer electronic component, and more particularly to a band pass filter, a diplexer, and a multiplexer.

インダクタ導体とキャパシタを用いて形成される共振回路を有するバンドパスフィルタが知られている(特許文献1)。バンドパスフィルタの通過帯域周波数と減衰周波数帯域はインダクタ導体の値とキャパシタの値によって決まる。   A band-pass filter having a resonance circuit formed using an inductor conductor and a capacitor is known (Patent Document 1). The passband frequency and attenuation frequency band of the bandpass filter are determined by the value of the inductor conductor and the value of the capacitor.

特開2003−124769号公報JP 2003-124769 A

しかし、従来のバンドパスフィルタでは、通過周波数帯域の特性に影響を与えることなく減衰周波数帯域の特性を変えることが困難であるという問題があった。   However, the conventional bandpass filter has a problem that it is difficult to change the characteristics of the attenuation frequency band without affecting the characteristics of the pass frequency band.

本発明は上記課題を解決し、通過周波数帯域の特性に影響を与えることなく減衰周波数帯域の特性を変えることを目的とする。   An object of the present invention is to solve the above problems and to change the characteristics of the attenuation frequency band without affecting the characteristics of the pass frequency band.

上記課題を解決するために、本発明は以下の態様を備える。   In order to solve the above problems, the present invention comprises the following aspects.

本発明の第1の態様は、複数の絶縁基板が積層されてなる積層型電子部品であって、外部電極と、第1の導体パターンが形成されている第1の絶縁基板と、前記外部電極に接続され、前記第1の導体パターンと一部が重なり、前記第1の導体パターンと重ならない部分に切り欠き部を有する第2の導体パターンが形成されている第2の絶縁基板と、前記第1の導体パターンに接続されるインダクタ導体とを備える。この態様によれば、積層型電子部品は、切り欠き部を有することにより、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰周波数帯域の特性のみを変えることが容易にできる。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a multilayer electronic component in which a plurality of insulating substrates are stacked, wherein an external electrode, a first insulating substrate on which a first conductor pattern is formed, and the external electrode A second insulating substrate that is connected to the first conductor pattern and has a second conductor pattern that partially overlaps the first conductor pattern and has a notch in a portion that does not overlap the first conductor pattern; And an inductor conductor connected to the first conductor pattern. According to this aspect, the multilayer electronic component can easily change only the characteristics of the attenuation frequency band without affecting the characteristics of the passband frequency by having the notch.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品において、前記インダクタ導体として、一端が前記第1の導体パターンに接続されている第1のインダクタ導体と、一端が前記第1のインダクタ導体の他端に接続され、他端が前記外部電極に接続されている第2のインダクタ導体とを備えていてもよい。この態様によれば、切り欠き部を備えることにより、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰周波数帯域の特性のみを変えることが容易にできる。   In the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention, the inductor conductor includes a first inductor conductor having one end connected to the first conductor pattern, and one end other than the first inductor conductor. And a second inductor conductor connected to the end and connected to the external electrode at the other end. According to this aspect, by providing the notch part, it is possible to easily change only the characteristics of the attenuation frequency band without affecting the characteristics of the passband frequency.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品において、前記第1のインダクタ導体及び前記第2のインダクタ導体の少なくとも一方を分布定数素子として利用してもよい。この態様では、インダクタ導体を分布定数素子として利用する場合であっても、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰周波数帯域の特性のみを変えることが容易にできる。   In the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention, at least one of the first inductor conductor and the second inductor conductor may be used as a distributed constant element. In this aspect, even when the inductor conductor is used as a distributed constant element, it is possible to easily change only the characteristics of the attenuation frequency band without affecting the characteristics of the passband frequency.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品は、前記第1の導体パターン、前記第2の導体パターン、前記第1のインダクタ導体、及び前記第2のインダクタ導体を有するバンドパスフィルタ回路を備えていてもよい。この態様によれば、バンドパスフィルタ回路の通過帯域周波数に影響を与えることなく減衰周波数帯域のみを変えることが容易にできる。   A multilayer electronic component according to a first aspect of the present invention includes a band-pass filter circuit having the first conductor pattern, the second conductor pattern, the first inductor conductor, and the second inductor conductor. You may have. According to this aspect, it is possible to easily change only the attenuation frequency band without affecting the passband frequency of the bandpass filter circuit.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品は、所定の通過周波数帯域をそれぞれ有する複数のフィルタ回路を備えるマルチプレクサであって、前記複数のフィルタ回路のうち少なくとも1つは、前記バンドパスフィルタ回路であってもよい。この態様によれば、マルチプレクサの通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰周波数帯域の特性のみを変えることが容易にできる。   The multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention is a multiplexer including a plurality of filter circuits each having a predetermined pass frequency band, and at least one of the plurality of filter circuits includes the bandpass filter. It may be a circuit. According to this aspect, it is possible to easily change only the characteristics of the attenuation frequency band without affecting the characteristics of the passband frequency of the multiplexer.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品において、前記切り欠き部がカギ型をしていてもよい。この態様によれば、レイアウト的にまっすぐな切り欠き部を設けることが困難な時にでも、所望の減衰周波数帯域が得られるように切り欠き部を設けることができる。   In the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention, the cutout portion may have a key shape. According to this aspect, even when it is difficult to provide a straight notch portion in terms of layout, the notch portion can be provided so as to obtain a desired attenuation frequency band.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品において、前記切り欠き部は、前記第2の導体パターンに囲まれていてもよい。この態様によれば、切り欠き部を第2の導体パターンに囲まれるように配置することにより、通過帯域周波数に影響を与えることなく減衰周波数帯域のみを変えることができる。   In the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention, the notch may be surrounded by the second conductor pattern. According to this aspect, by arranging the notch so as to be surrounded by the second conductor pattern, only the attenuation frequency band can be changed without affecting the passband frequency.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品において、前記第2の導体パターンに前記切り欠き部が複数備えられていてもよい。この態様によれば、切り欠き部を分割して複数備えていても、通過帯域周波数に影響を与えることなく減衰周波数帯域のみを変えることができる。   In the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention, a plurality of the cutout portions may be provided in the second conductor pattern. According to this aspect, even if a plurality of cutout portions are provided, only the attenuation frequency band can be changed without affecting the passband frequency.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品において、さらに、前記第1の絶縁基板上に前記第2の導体パターンと重なる第3の導体パターンを有し、前記第2の導体パターン上の、前記第1の導体パターンと重なる部分、及び前記第3の導体パターンと重なる部分、の間に前記切り欠き部が設けられていてもよい。この態様によれば、切り欠き部を2つの導体パターンの間に設けることにより、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰周波数帯域の特性のみを変えることができる。   In the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention, the multilayer electronic component further includes a third conductor pattern overlapping the second conductor pattern on the first insulating substrate, and on the second conductor pattern. The notch portion may be provided between a portion overlapping the first conductor pattern and a portion overlapping the third conductor pattern. According to this aspect, by providing the notch portion between the two conductor patterns, only the attenuation frequency band characteristic can be changed without affecting the passband frequency characteristic.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品において、前記切り欠き部は、前記外部電極に接続される導体パターン以外の導体パターンのいずれとも重ならない位置に設けられていてもよい。この態様によれば、切り欠き部と、他の素子を形成する導体パターンとが重ならないため、切り欠き部と他の素子の間の相互作用を抑制できる。   In the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention, the notch may be provided at a position that does not overlap any of the conductor patterns other than the conductor pattern connected to the external electrode. According to this aspect, since the notch and the conductor pattern forming another element do not overlap, the interaction between the notch and the other element can be suppressed.

本発明の第1の態様に係る積層型電子部品において、前記外部電極と前記第2の導体パターンとの接続部の幅は、前記外部電極の幅と異なっていてもよい。この態様によれば、切り欠き部を設けることに加えて、さらに、外部電極と第2のパターンとの接続部の幅を異ならせることにより、通過帯域周波数に影響を与えることなく減衰帯域周波数を変えることができる。   In the multilayer electronic component according to the first aspect of the present invention, the width of the connection portion between the external electrode and the second conductor pattern may be different from the width of the external electrode. According to this aspect, in addition to providing the notch portion, the attenuation band frequency can be reduced without affecting the passband frequency by further varying the width of the connection portion between the external electrode and the second pattern. Can be changed.

本発明の第2の態様に係る発明は、複数の絶縁基板を積層してなる積層型電子部品の周波数特性の調整方法であって、前記積層型電子部品は外部電極と、第1の導体パターンが形成されている第1の絶縁基板と、前記外部電極に接続され、前記第1の導体パターンと一部が重なる第2の導体パターンが形成されている第2の絶縁基板と、前記第1の導体パターンに接続されるインダクタ導体とを備え、前記第2の導体パターン上であって、前記第1の導体パターンと重ならない部分に切り欠き部を設け、前記切り欠き部の位置、大きさ、形状を調整することにより、積層型電子部品の周波数特性を調整する。この態様によれば、通過帯域周波数に影響を与えることなく減衰周波数帯域のみを容易に調整できる。   The invention according to a second aspect of the present invention is a method of adjusting frequency characteristics of a multilayer electronic component formed by laminating a plurality of insulating substrates, the multilayer electronic component comprising an external electrode, a first conductor pattern A first insulating substrate on which is formed, a second insulating substrate connected to the external electrode and formed with a second conductive pattern that partially overlaps the first conductive pattern, and the first An inductor conductor connected to the conductor pattern, and a notch is provided on the second conductor pattern and does not overlap the first conductor pattern, and the position and size of the notch The frequency characteristics of the multilayer electronic component are adjusted by adjusting the shape. According to this aspect, it is possible to easily adjust only the attenuation frequency band without affecting the passband frequency.

1.第1の実施例
図1及び図2を用いて、第1の実施例に係るバンドパスフィルタの外観について説明する。図1は、第1の実施例に係るバンドパスフィルタの上面を上にした外観を模式的に示す説明図である。図2は、第1の実施例に係るバンドパスフィルタの下面を上にした外観を模式的に示す説明図である。
1. First Example An external appearance of a bandpass filter according to a first example will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is an explanatory view schematically showing the external appearance of the bandpass filter according to the first embodiment with the upper surface thereof facing up. FIG. 2 is an explanatory view schematically showing an external appearance of the bandpass filter according to the first embodiment with the lower surface thereof facing up.

バンドパスフィルタ10は、複数の絶縁基板M1から絶縁基板M8を積層してなる電子部品である。バンドパスフィルタ10の側面には側面電極102から側面電極106が形成されている。側面電極102は入力端子(IN)、側面電極104は出力端子(OUT)、側面電極106はグランド端子(GND)として機能する。なお、本実施例では、側面電極106は4本設けられている。   The bandpass filter 10 is an electronic component formed by laminating a plurality of insulating substrates M1 to M8. Side electrodes 106 to 106 are formed on the side surface of the bandpass filter 10. The side electrode 102 functions as an input terminal (IN), the side electrode 104 functions as an output terminal (OUT), and the side electrode 106 functions as a ground terminal (GND). In this embodiment, four side electrodes 106 are provided.

各絶縁基板の構成:
図3は、第1の実施例に係るバンドパスフィルタ10を構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図である。ここで、最上層の絶縁基板M8は、いわゆる蓋であり、内部に導体パターンが存在しない。したがって、絶縁基板M8については図3への記載を省略する。まず、各絶縁基板の導体パターンについて説明し、次に、各絶縁基板間の導体パターンを繋ぐスルーホール配線について説明する。
Configuration of each insulating substrate:
FIG. 3 is an exploded perspective view showing an expanded insulating substrate constituting the bandpass filter 10 according to the first embodiment. Here, the uppermost insulating substrate M8 is a so-called lid, and no conductor pattern exists inside. Therefore, description of the insulating substrate M8 is omitted in FIG. First, the conductor pattern of each insulating substrate will be described, and then the through-hole wiring connecting the conductor patterns between the insulating substrates will be described.

絶縁基板M1には、外周部を除いたほぼ全面に導体パターン111が形成されている。導体パターン111には、切り欠き部112が設けられている。導体パターン111は、側面電極106と接続されている。   On the insulating substrate M1, a conductor pattern 111 is formed on almost the entire surface excluding the outer periphery. The conductor pattern 111 is provided with a notch 112. The conductor pattern 111 is connected to the side electrode 106.

絶縁基板M2には、導体パターン121と導体パターン122とが形成されている。導体パターン121と導体パターン122は略長方形にスルーホール配線を接続するための凸部が付加された形状をしている。導体パターン121と導体パターン122は、絶縁基板を積層したときに絶縁基板M1の導体パターン111と重なる。   Conductive pattern 121 and conductive pattern 122 are formed on insulating substrate M2. The conductor pattern 121 and the conductor pattern 122 have a shape in which a convex portion for connecting the through-hole wiring is formed in a substantially rectangular shape. The conductor pattern 121 and the conductor pattern 122 overlap the conductor pattern 111 of the insulating substrate M1 when the insulating substrates are stacked.

絶縁基板M3には、導体パターン131から導体パターン134の4つの導体パターンが形成されている。導体パターン131は、略長方形の導体パターンと、略長方形の導体パターンを側面電極102に接続する細い導体パターンとからなる。導体パターン132は、略長方形の導体パターンと、略長方形の導体パターンを側面電極104に接続する細い導体パターンとからなる。絶縁基板を積層したときに、導体パターン133は、絶縁基板M2の導体パターン121の凸部と重なり、導体パターン133は、絶縁基板M2の導体パターン122の凸部と重なる。   Four conductor patterns of conductor patterns 131 to 134 are formed on the insulating substrate M3. The conductor pattern 131 includes a substantially rectangular conductor pattern and a thin conductor pattern that connects the substantially rectangular conductor pattern to the side electrode 102. The conductor pattern 132 includes a substantially rectangular conductor pattern and a thin conductor pattern that connects the substantially rectangular conductor pattern to the side electrode 104. When the insulating substrates are stacked, the conductor pattern 133 overlaps with the protrusions of the conductor pattern 121 of the insulating substrate M2, and the conductor pattern 133 overlaps with the protrusions of the conductor pattern 122 of the insulating substrate M2.

絶縁基板M4には、導体パターン141及び導体パターン142が形成されている。導体パターン141は、略長方形の導体パターンであり、絶縁基板を積層したときに絶縁基板M3の導体パターン131の略長方形の導体パターン及び導体パターン133と重なる。導体パターン142は、略長方形の導体パターンであり、絶縁基板を積層したときに絶縁基板M3の導体パターン132の略長方形の導体パターン及び導体パターン134と重なる。   A conductor pattern 141 and a conductor pattern 142 are formed on the insulating substrate M4. The conductor pattern 141 is a substantially rectangular conductor pattern, and overlaps the substantially rectangular conductor pattern 133 and the conductor pattern 133 of the conductor pattern 131 of the insulating substrate M3 when the insulating substrates are stacked. The conductor pattern 142 is a substantially rectangular conductor pattern, and overlaps the substantially rectangular conductor pattern and the conductor pattern 134 of the conductor pattern 132 of the insulating substrate M3 when the insulating substrates are stacked.

絶縁基板M5には、導体パターン151から導体パターン153の3つの導体パターンが形成されている。導体パターン151は、略長方形の導体パターンであり、絶縁基板を積層したときに絶縁基板M4の導体パターン141の一部及び導体パターン142の一部と重なる。導体パターン152は、絶縁基板を積層したときに絶縁基板M3の導体パターン133と重なる。導体パターン153は、絶縁基板を積層したときに絶縁基板M3の導体パターン134と重なる。   Three conductor patterns of conductor patterns 151 to 153 are formed on the insulating substrate M5. The conductor pattern 151 is a substantially rectangular conductor pattern, and overlaps a part of the conductor pattern 141 and a part of the conductor pattern 142 of the insulating substrate M4 when the insulating substrates are stacked. The conductor pattern 152 overlaps the conductor pattern 133 of the insulating substrate M3 when the insulating substrates are stacked. The conductor pattern 153 overlaps the conductor pattern 134 of the insulating substrate M3 when the insulating substrates are stacked.

絶縁基板M6には、導体パターン161及び導体パターン162が形成されている。導体パターン161は細長い棒状をしており、絶縁基板を積層したときに導体パターン161の一端は絶縁基板M5の導体パターン152と重なる。導体パターン162は細長い棒状をしており、絶縁基板を積層したときに導体パターン162の一端は絶縁基板M5の導体パターン153と重なる。   A conductor pattern 161 and a conductor pattern 162 are formed on the insulating substrate M6. The conductor pattern 161 has an elongated rod shape, and one end of the conductor pattern 161 overlaps the conductor pattern 152 of the insulating substrate M5 when the insulating substrates are stacked. The conductor pattern 162 has an elongated rod shape, and one end of the conductor pattern 162 overlaps the conductor pattern 153 of the insulating substrate M5 when the insulating substrates are stacked.

絶縁基板M7には、外周部を除いたほぼ全面に導体パターン171が形成されている。導体パターン171は、側面電極106と接続されている。   On the insulating substrate M7, a conductor pattern 171 is formed on almost the entire surface excluding the outer periphery. The conductor pattern 171 is connected to the side electrode 106.

バンドパスフィルタ10は、4本のスルーホール配線を有する。スルーホール配線とは、上層の絶縁基板上の導体パターンと下層の絶縁基板上の導体パターンとを繋ぐ配線である。スルーホール配線は、上層の絶縁基板上の導体パターンの下の部分に上層の絶縁基板を貫通する孔(スルーホールあるいはビアホールという。)が形成され、孔が導体で充填されることにより形成される。本実施例では、スルーホール配線には、***tというように最後の文字が「t」となるように符号を付けている。   The band pass filter 10 has four through-hole wirings. Through-hole wiring is wiring that connects a conductive pattern on an upper insulating substrate and a conductive pattern on a lower insulating substrate. The through-hole wiring is formed by forming a hole (through hole or via hole) penetrating the upper insulating substrate in a lower portion of the conductive pattern on the upper insulating substrate and filling the hole with a conductor. . In this embodiment, the through-hole wiring is labeled so that the last character is “t”, such as *** t.

スルーホール配線121tは、導体パターン121(絶縁基板M2)、導体パターン133(絶縁基板M3)、導体パターン141(絶縁基板M4)、導体パターン152(絶縁基板M5)、及び導体パターン161(絶縁基板M6)を繋いでいる。スルーホール配線122tは、導体パターン122(絶縁基板M2)、導体パターン134(絶縁基板M3)、導体パターン142(絶縁基板M4)、導体パターン153(絶縁基板M5)、及び導体パターン162(絶縁基板M6)を繋いでいる。   The through-hole wiring 121t includes a conductor pattern 121 (insulating substrate M2), a conductor pattern 133 (insulating substrate M3), a conductor pattern 141 (insulating substrate M4), a conductor pattern 152 (insulating substrate M5), and a conductor pattern 161 (insulating substrate M6). ). Through-hole wiring 122t includes conductor pattern 122 (insulating substrate M2), conductor pattern 134 (insulating substrate M3), conductor pattern 142 (insulating substrate M4), conductor pattern 153 (insulating substrate M5), and conductor pattern 162 (insulating substrate M6). ).

スルーホール配線161tは、導体パターン161(絶縁基板M6)と導体パターン171(絶縁基板M7)とを繋いでいる。スルーホール配線162tは、導体パターン162(絶縁基板M6)と導体パターン171(絶縁基板M7)とを繋いでいる。   The through-hole wiring 161t connects the conductor pattern 161 (insulating substrate M6) and the conductor pattern 171 (insulating substrate M7). The through-hole wiring 162t connects the conductor pattern 162 (insulating substrate M6) and the conductor pattern 171 (insulating substrate M7).

等価回路:
図4は、第1の実施例に係るバンドパスフィルタの等価回路である。
Equivalent circuit:
FIG. 4 is an equivalent circuit of the bandpass filter according to the first embodiment.

バンドパスフィルタ10の入力端子INにはキャパシタC11が接続されている。キャパシタC11の入力端子INと反対側には、インダクタL11の一端及びインダクタL12の一端が接続されている。インダクタL11の他端はグランドに接地され、インダクタL12の他端はキャパシタC12を介して、グランドに接地されている。   A capacitor C <b> 11 is connected to the input terminal IN of the band pass filter 10. One end of the inductor L11 and one end of the inductor L12 are connected to the opposite side of the input terminal IN of the capacitor C11. The other end of the inductor L11 is grounded, and the other end of the inductor L12 is grounded via the capacitor C12.

バンドパスフィルタ10の出力端子OUTにはキャパシタC21が接続されている。キャパシタC21の出力端子OUTと反対側には、インダクタL21の一端及びインダクタL22の一端が接続されている。インダクタL21の他端はグランドに接地され、インダクタL22の他端はキャパシタC22を介して、グランドに接地されている。   A capacitor C 21 is connected to the output terminal OUT of the band pass filter 10. One end of the inductor L21 and one end of the inductor L22 are connected to the opposite side of the output terminal OUT of the capacitor C21. The other end of the inductor L21 is grounded, and the other end of the inductor L22 is grounded via the capacitor C22.

キャパシタC11の入力端子INと反対側と、キャパシタC21の出力端子OUTと反対側と、の間には、キャパシタC31a及びキャパシタC31bが直列に接続されている。   A capacitor C31a and a capacitor C31b are connected in series between the side opposite to the input terminal IN of the capacitor C11 and the side opposite to the output terminal OUT of the capacitor C21.

等価回路と図3に示す導体パターンとの関係:
図5は、等価回路の素子と、素子を形成する導体パターン・配線との関係を示す説明図である。なお、図5においては、導体パターン、スルーホール配線の文字を省略し、符号のみ記載している。
Relationship between equivalent circuit and conductor pattern shown in FIG.
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a relationship between an element of an equivalent circuit and a conductor pattern / wiring forming the element. In FIG. 5, the characters of the conductor pattern and through-hole wiring are omitted, and only the reference numerals are shown.

キャパシタC11は導体パターン131(絶縁基板M3)と導体パターン141(絶縁基板M4)の重なりにより構成されている。同様に、キャパシタC12は導体パターン121(絶縁基板M2)と導体パターン111(絶縁基板M1)の重なりにより、キャパシタC31aは導体パターン141(絶縁基板M4)と導体パターン151(絶縁基板M5)の重なりにより、キャパシタC31bは導体パターン142(絶縁基板M4)と導体パターン151(絶縁基板M5)の重なりにより、キャパシタC21は導体パターン132(絶縁基板M3)と導体パターン142(絶縁基板M4)の重なりにより、キャパシタC22は導体パターン122(絶縁基板M2)と導体パターン111(絶縁基板M1)の重なりにより構成されている。   The capacitor C11 is configured by an overlap of the conductor pattern 131 (insulating substrate M3) and the conductor pattern 141 (insulating substrate M4). Similarly, the capacitor C12 is due to the overlapping of the conductor pattern 121 (insulating substrate M2) and the conductor pattern 111 (insulating substrate M1), and the capacitor C31a is due to the overlapping of the conductor pattern 141 (insulating substrate M4) and the conductor pattern 151 (insulating substrate M5). The capacitor C31b is formed by overlapping the conductive pattern 142 (insulating substrate M4) and the conductive pattern 151 (insulating substrate M5), and the capacitor C21 is formed by overlapping the conductive pattern 132 (insulating substrate M3) and the conductive pattern 142 (insulating substrate M4). C22 is constituted by the overlapping of the conductor pattern 122 (insulating substrate M2) and the conductor pattern 111 (insulating substrate M1).

インダクタL11は、スルーホール配線121tのうち絶縁基板M4の表面から絶縁基板M6表面の間の部分にあるスルーホール配線、導体パターン161、及びスルーホール配線161tの直列結合により構成されている。同様に、インダクタL12はスルーホール配線121tのうち絶縁基板M2の表面から絶縁基板M4の表面の間の部分にあるスルーホール配線を用いて構成されている。インダクタL21は、スルーホール配線122tのうち絶縁基板M4の表面から絶縁基板M6の表面の間の部分にあるスルーホール配線、導体パターン162、及びスルーホール配線162tの直列結合により構成されている。インダクタL22はスルーホール配線122tのうち絶縁基板M2の表面から絶縁基板M4の表面の間の部分にあるスルーホール配線を用いて構成されている。   The inductor L11 is configured by a serial combination of a through-hole wiring, a conductor pattern 161, and a through-hole wiring 161t in a portion between the surface of the insulating substrate M4 and the surface of the insulating substrate M6 in the through-hole wiring 121t. Similarly, the inductor L12 is configured using a through-hole wiring in a portion between the surface of the insulating substrate M2 and the surface of the insulating substrate M4 in the through-hole wiring 121t. The inductor L21 is configured by a serial combination of a through-hole wiring, a conductor pattern 162, and a through-hole wiring 162t that are located between the surface of the insulating substrate M4 and the surface of the insulating substrate M6 in the through-hole wiring 122t. The inductor L22 is configured using a through-hole wiring in a portion between the surface of the insulating substrate M2 and the surface of the insulating substrate M4 in the through-hole wiring 122t.

第1の実施例では、インダクタL11、L12、L21、及びL22は分布定数素子である。分布定数素子とは、集中定数素子に対するものであり、例えば、素子の物理的大きさが信号の波長に比較して小さくなく、素子の特性を考慮する際に素子の物理的大きさを考慮して取り扱わなければならないものをいう。すなわち、分布定数素子では、素子の物理的大きさと信号の波長との関係が素子の特性に大きな影響を与える。なお、同じ素子であっても、低周波(信号の波長が長い)の場合には、集中定数素子として扱えるが、高周波(信号の波長が短い)の場合では、集中定数素子としては扱えず、分布定数素子として扱わなければならない場合は、あり得る。   In the first embodiment, the inductors L11, L12, L21, and L22 are distributed constant elements. A distributed constant element is for a lumped constant element.For example, the physical size of the element is not small compared to the signal wavelength, and the physical size of the element is taken into account when considering the characteristics of the element. That must be handled. That is, in the distributed constant element, the relationship between the physical size of the element and the wavelength of the signal greatly affects the characteristics of the element. Even the same element can be treated as a lumped constant element when the frequency is low (the signal wavelength is long), but cannot be treated as a lumped element when the frequency is high (the signal wavelength is short). There are cases where it must be treated as a distributed constant element.

図6及び図7を用いて、第1の実施例に係るバンドパスフィルタ10の切り欠き部の構造と特性について説明する。図6は、切り欠き部の構成を模式的に示す説明図である。図7は、第1の実施例に係るバンドパスフィルタ10の透過特性(SパラメータのS21)を示すグラフである。   The structure and characteristics of the notch of the bandpass filter 10 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of the notch. FIG. 7 is a graph showing the transmission characteristics (S parameter S21) of the bandpass filter 10 according to the first embodiment.

図6では、切り欠き部112の構造をわかりやすくするため、導体パターン111、導体パターン121、及び導体パターン122のみを描き、他の導体パターンについては、記載を省略している。ここで長さLは、切り欠き部112の凹の深さを示している。切り欠き部112の凹の深さと透過特性との関係をみると、減衰帯域周波数(約10〜15GHz)において、減衰極の発生周波数は、切り欠き部112がある場合の方が、切り欠き部112が無い場合に比べて低周波数側に移動している。また、切り欠き部112の凹の深さが深い方が減衰極の発生周波数はより低周波数側に移動している。一方、通過帯域周波数(約5〜6GHz)では、切り欠き部112の有無、凹の深さによる透過特性の違いは生じていない。   In FIG. 6, only the conductor pattern 111, the conductor pattern 121, and the conductor pattern 122 are drawn for easy understanding of the structure of the notch 112, and the description of the other conductor patterns is omitted. Here, the length L indicates the depth of the recess of the notch 112. Looking at the relationship between the depth of the recess of the notch 112 and the transmission characteristics, at the attenuation band frequency (about 10 to 15 GHz), the frequency at which the attenuation pole is generated is higher when the notch 112 is present. Compared to the case without 112, it moves to the low frequency side. In addition, the generation frequency of the attenuation pole is shifted to the lower frequency side when the depth of the notch 112 is deeper. On the other hand, at the passband frequency (about 5 to 6 GHz), there is no difference in transmission characteristics depending on the presence or absence of the notch 112 and the depth of the recess.

図8及び図9を用いて、比較例について説明する。図8は比較例に係るバンドパスフィルタの構成を模式的に示す説明図である。図9は比較例に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。   A comparative example will be described with reference to FIGS. 8 and 9. FIG. 8 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of a bandpass filter according to a comparative example. FIG. 9 is a graph showing the transmission characteristics of the band-pass filter according to the comparative example.

比較例と第1の実施例構造は、導体パターン111の切り欠き部112の有無と導体パターン121、122の大きさとを除いて同じであるため、比較例の構造については説明を省略する。比較例では、長さLは、図8における導体パターン121の左辺の長さ及び導体パターン122の右辺の長さを示す。比較例では、導体パターン121、122の大きさを変えることにより、図4に示す等価回路のC12、C22のキャパシタのキャパシタンスを変えている。比較例では長さLを大きくするほど(C12、C22のキャパシタのキャパシタンスを大きくするほど)、減衰帯域周波数における、減衰極の発生周波数は、低周波数側に移動している。しかし、通過帯域周波数では、長さLを大きくするほど、通過帯域周波数が高周波側に移動している。すなわち、C12、C22のキャパシタのキャパシタンスを変えることでは、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数のみを変えることはできない。   Since the comparative example and the structure of the first example are the same except for the presence or absence of the notch 112 of the conductor pattern 111 and the size of the conductor patterns 121 and 122, the description of the structure of the comparative example is omitted. In the comparative example, the length L indicates the length of the left side of the conductor pattern 121 and the length of the right side of the conductor pattern 122 in FIG. In the comparative example, the capacitances of the capacitors C12 and C22 of the equivalent circuit shown in FIG. 4 are changed by changing the sizes of the conductor patterns 121 and 122. In the comparative example, as the length L is increased (the capacitance of the capacitors C12 and C22 is increased), the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency is shifted to the lower frequency side. However, as the length L increases, the passband frequency moves to the high frequency side. That is, by changing the capacitances of the capacitors C12 and C22, it is not possible to change only the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency.

以上のように、第1の実施例によれば、導体パターン121と導体パターン111とが重なり、導体パターン121にはインダクタL12が接続され、導体パターン111には切り欠き部112が設けられている。その結果、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数を変えることができる。   As described above, according to the first embodiment, the conductor pattern 121 and the conductor pattern 111 overlap, the inductor L12 is connected to the conductor pattern 121, and the notch 112 is provided in the conductor pattern 111. . As a result, the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency can be changed without affecting the characteristics of the pass band frequency.

インダクタL12の導体パターン121と接続される端と反対側の端には導体パターン141が接続され、導体パターン141にはインダクタL11が接続され、インダクタL11の他端は導体パターン171に接続されている。第1の実施例によれば、インダクタが、一端が導体パターン121に接続されているインダクタL12と、一端がインダクタL12の他端に接続され、他端が側面電極106に接続される導体パターン171に接続されているインダクタL11とからなる場合であっても、導体パターン111に切り欠き部112を設けることにより、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数を変えることができる。   A conductor pattern 141 is connected to the end of the inductor L12 opposite to the end connected to the conductor pattern 121, the inductor L11 is connected to the conductor pattern 141, and the other end of the inductor L11 is connected to the conductor pattern 171. . According to the first embodiment, the inductor includes an inductor L12 having one end connected to the conductor pattern 121, and a conductor pattern 171 having one end connected to the other end of the inductor L12 and the other end connected to the side electrode 106. Even if the inductor L11 is connected to the conductor pattern 111, the notch 112 is provided in the conductor pattern 111, so that the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency can be reduced without affecting the characteristics of the passband frequency. Can be changed.

また、インダクタL11、L12、L21,及びL22として分布常数素子を用いている場合には、インダクタを変えることは困難であり、上述したようにキャパシタを変えたのでは、通過帯域周波数に影響を与えてしまう。しかし、第1の実施例によれば、インダクタとして分布常数素子を用いている場合であっても、導体パターン111に切り欠き部112を設けることにより、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数を変えることができる。   Also, when distributed constant elements are used as the inductors L11, L12, L21, and L22, it is difficult to change the inductor, and changing the capacitor as described above will affect the passband frequency. End up. However, according to the first embodiment, even if a distributed constant element is used as the inductor, the cutout portion 112 is provided in the conductor pattern 111 without affecting the characteristics of the passband frequency. The generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency can be changed.

変形例1:
図10及び図11を用いて、第1の実施例の変形例1について説明する。図10は変形例1に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。図11は、変形例1に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。変形例1は、切り欠き部112の凹の幅Wを変化させたものである。
Modification 1:
A first modification of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 10 and 11. FIG. 10 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to the first modification. FIG. 11 is a graph illustrating the transmission characteristics of the bandpass filter according to the first modification. In the first modification, the width W of the notch 112 is changed.

切り欠き部112の凹の幅Wを広くすることにより、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は低くなる。一方、通過帯域周波数では、切り欠き部112の凹の幅Wによる違いは生じていない。すなわち、変形例1に示すように、切り欠き部112を設け。その凹の幅を変えてもよい。例えば、レイアウト的に切り欠き部112の凹の深さを深くすることができない場合に有効である。   By increasing the width W of the recess of the notch 112, the frequency of generation of the attenuation pole in the attenuation band frequency is lowered. On the other hand, at the passband frequency, there is no difference due to the concave width W of the notch 112. That is, as shown in the first modification, the notch 112 is provided. The width of the recess may be changed. For example, this is effective when the depth of the recess of the notch 112 cannot be increased in terms of layout.

変形例2:
図12及び図13を用いて、第1の実施例の変形例2について説明する。図12は変形例2に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。図13は、変形例2に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。変形例2は、切り欠き部112の形状をカギ型にしたものである。
Modification 2:
A second modification of the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to the second modification. FIG. 13 is a graph showing the transmission characteristics of the bandpass filter according to the second modification. In the second modification, the shape of the notch 112 is a key shape.

切り欠き部112の凹の深さLを一定にした場合には、カギ型にした方が、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は低くなる。また、切り欠き部の面積が同じ場合には、カギ型にした方が減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は高い。例えば、切り欠き部112を設けた後、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数をもう少し低くしたい場合には、切り欠き部112の形状をカギ型にするとよい。また、レイアウト的に切り欠き部112の凹の深さを深くすることができない場合に有効である。なお、切り欠き部112の形状をカギ型にしても、通過帯域周波数における透過特性に違いは生じていない。   When the depth L of the recess of the notch 112 is made constant, the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency becomes lower when the key shape is used. Further, when the area of the notch is the same, the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency is higher in the key type. For example, after providing the notch 112, when it is desired to lower the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency a little, the shape of the notch 112 may be a key shape. This is also effective when the depth of the recess of the notch 112 cannot be increased in terms of layout. Note that even if the shape of the notch 112 is a key shape, there is no difference in transmission characteristics at the passband frequency.

変形例3:
図14及び図15を用いて、第1の実施例の変形例3について説明する。図14は変形例3に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。図15は、変形例3に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。変形例3は、切り欠き部112を、導体パターン111の内部に設けたものである。
Modification 3:
A third modification of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 14 and 15. FIG. 14 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a bandpass filter according to the third modification. FIG. 15 is a graph illustrating the transmission characteristics of the bandpass filter according to the third modification. In the third modification, the notch 112 is provided inside the conductor pattern 111.

切り欠き部112の長さLを長くすることにより、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は低くなる。第1の実施例と比較すると、切り欠き部112の大きさを同じにした場合には、変形例3の方が第1の実施例よりも減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は高い。減衰極の発生周波数を変動させたいが、大きく変動させたくない場合に有効である。なお、通過帯域周波数では、切り欠き部112の凹の長さLによる違いは生じていない。   By increasing the length L of the notch 112, the frequency at which the attenuation pole is generated at the attenuation band frequency is lowered. As compared with the first embodiment, when the size of the notch 112 is the same, the third modification has a higher attenuation pole generation frequency in the attenuation band frequency than the first embodiment. This is effective when it is desired to change the frequency at which the attenuation pole is generated, but not to change it greatly. Note that there is no difference in the passband frequency due to the concave length L of the notch 112.

変形例4:
図16及び図17を用いて、第1の実施例の変形例4について説明する。図16は変形例4に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。図17は、変形例4に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。変形例4は、切り欠き部112を、複数設けたものである。
Modification 4:
A modification 4 of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 16 and 17. FIG. 16 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to the fourth modification. FIG. 17 is a graph showing the transmission characteristics of the bandpass filter according to the fourth modification. In the fourth modification, a plurality of cutout portions 112 are provided.

切り欠き部112の長さLを長くすることにより、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は低くなる。第1の実施例と比較すると、切り欠き部112の面積を同じにした場合には、変形例4の方が第1の実施例よりも減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は高い。しかし、変形例4では、切り欠き部112を対称形に設けることができ、例えば入力側回路と出力側回路とをレイアウトを含めて対称形にすることができるというメリットがある。なお、通過帯域周波数では、切り欠き部112の凹の長さLによる違いは生じていない。   By increasing the length L of the notch 112, the frequency at which the attenuation pole is generated at the attenuation band frequency is lowered. Compared to the first embodiment, when the area of the cutout portion 112 is the same, the variation 4 has a higher attenuation pole generation frequency in the attenuation band frequency than the first embodiment. However, in the fourth modification, the notch 112 can be provided symmetrically, and for example, there is an advantage that the input side circuit and the output side circuit can be made symmetrical including the layout. Note that there is no difference in the passband frequency due to the concave length L of the notch 112.

変形例5:
図18及び図19を用いて、第1の実施例の変形例5について説明する。図18は変形例5に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。図19は、変形例5に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。変形例5は、導体パターン111の導体パターン121と重なる部分と、導体パターン111の導体パターン122と重なる部分と、の間に切り欠き部112を設けたものである。
Modification 5:
Modification 5 of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 18 and 19. FIG. 18 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a bandpass filter according to the fifth modification. FIG. 19 is a graph showing the transmission characteristics of the bandpass filter according to Modification 5. In Modification 5, a notch 112 is provided between a portion of the conductor pattern 111 that overlaps the conductor pattern 121 and a portion of the conductor pattern 111 that overlaps the conductor pattern 122.

切り欠き部112の長さLを長くすることにより、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は、第1の実施例とは異なり、高周波数側に移動する。第1の実施例及び上記変形例はいずれも、切り欠きの凹の深さを深くする方、すなわち切り欠き部の大きさを大きくする方が、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は低くなったが、変形例5では逆に高くなる。変形例5は減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数を高周波数側に移動させたい場合に有効である。通過帯域周波数では、切り欠き部112の凹の深さLによる違いは生じていない。   By increasing the length L of the notch 112, the frequency at which the attenuation pole is generated in the attenuation band frequency moves to the high frequency side unlike the first embodiment. In both the first embodiment and the above-described modification, the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency is lower when the depth of the recess of the notch is increased, that is, when the size of the notch is increased. However, in the modification 5, it becomes high conversely. Modification 5 is effective when it is desired to move the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency to the high frequency side. At the passband frequency, there is no difference due to the concave depth L of the notch 112.

変形例6:
図20及び図21を用いて、第1の実施例の変形例6について説明する。図20は変形例6に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。図21は、変形例6に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。変形例6は、絶縁基板を積層した時に切り欠き部112が絶縁基板M3の導体パターン131と重なるように、切り欠き部112を設けたものである。
Modification 6:
A modification 6 of the first embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 20 is an explanatory diagram showing the configuration of a bandpass filter according to the sixth modification. FIG. 21 is a graph showing the transmission characteristics of the bandpass filter according to Modification 6. In the sixth modification, the notch 112 is provided so that the notch 112 overlaps the conductor pattern 131 of the insulating substrate M3 when the insulating substrates are stacked.

切り欠き部112を設けることにより、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数は低くなる。しかし、第1の実施例と比較して、切り欠き部112の凹の深さLがより深い方が、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数がより低くなっておらず、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数と凹の深さLとは必ずしも比例はしない。一方、切り欠き部112を、絶縁基板M3の導体パターン131と重なるように設けても、通過帯域周波数では透過特性の変化は発生していない。したがって、切り欠き部112を、他の導体パターンと重なるように設けることはかまわないが、他の導体パターンと重ならないように設ける方がより好ましい。   By providing the notch 112, the frequency at which the attenuation pole is generated in the attenuation band frequency is lowered. However, as compared with the first embodiment, when the depth L of the notch 112 is deeper, the generation frequency of the attenuation pole at the attenuation band frequency is not lower, and the attenuation at the attenuation band frequency is lower. The generation frequency of the pole and the depth L of the recess are not necessarily proportional. On the other hand, even if the notch 112 is provided so as to overlap the conductor pattern 131 of the insulating substrate M3, the transmission characteristic does not change at the passband frequency. Therefore, the notch 112 may be provided so as to overlap with another conductor pattern, but it is more preferable to provide the notch 112 so as not to overlap with another conductor pattern.

変形例7:
図22及び図23を用いて、第1の実施例の変形例7について説明する。図22は変形例7に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。図23は、変形例7に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。変形例7は、導体パターン111に切り欠き部112を設けるとともに、導体パターン111と側面電極106との接続部111aの接続幅を狭くしたものである。
Modification 7:
Modification 7 of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 22 and 23. FIG. 22 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to the modified example 7. FIG. 23 is a graph showing the transmission characteristics of the bandpass filter according to Modification 7. In the modified example 7, a cutout portion 112 is provided in the conductor pattern 111, and the connection width of the connection portion 111a between the conductor pattern 111 and the side electrode 106 is narrowed.

導体パターン111と側面電極106との接続部111aの接続幅を狭くすることにより、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数を低くできる。切り欠き部112を設けるだけでは、減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数がまだ高い場合には、変形例7のように導体パターン111と側面電極106との接続部111aの接続幅を狭くすることにより低くすることができる。なお、通過帯域周波数では透過特性の変化は発生していない。   By narrowing the connection width of the connection portion 111a between the conductor pattern 111 and the side electrode 106, the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency can be lowered. If the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency is still high only by providing the notch portion 112, the connection width of the connection portion 111a between the conductor pattern 111 and the side electrode 106 is reduced as in the seventh modification. Can be lowered. Note that no change in transmission characteristics occurs at the passband frequency.

変形例7では、切り欠き部112を設けたが、切り欠き部112を設けずに、導体パターン111と側面電極106との接続部111aの接続幅を狭くしてもよい。逆に導体パターン111と側面電極106との接続部111aの接続幅を太くしてもよい。減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数を高くすることができる。また、変形例5において、導体パターン111と側面電極106との接続部111aの接続幅を太くしてもよい。減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数をより高くすることができる。   In the modified example 7, the cutout portion 112 is provided, but the connection width of the connection portion 111a between the conductor pattern 111 and the side electrode 106 may be narrowed without providing the cutout portion 112. Conversely, the connection width of the connection portion 111a between the conductor pattern 111 and the side electrode 106 may be increased. The generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency can be increased. In Modification 5, the connection width of the connection portion 111a between the conductor pattern 111 and the side electrode 106 may be increased. The generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency can be further increased.

2.第2の実施例
図24を用いて、第2の実施例に係るバンドパスフィルタの各絶縁基板の構成について説明する。図24は、第2の実施例に係るバンドパスフィルタを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図である。第2の実施例に係るバンドパスフィルタは第1の実施例に係るバンドパスフィルタとほぼ同じなので、異なる点について説明する。第2の実施例については、第1の実施例と同じ機能のものについては第1の実施例の符号に100を足した符号を付している。
2. Second Embodiment A configuration of each insulating substrate of a bandpass filter according to a second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 24 is an exploded perspective view showing an expanded insulating substrate constituting the bandpass filter according to the second embodiment. Since the bandpass filter according to the second embodiment is substantially the same as the bandpass filter according to the first embodiment, the differences will be described. About the 2nd example, about the thing of the same function as the 1st example, the code which added 100 to the code of the 1st example is attached.

第2の実施例では、側面電極202から側面電極208が設けられているが、グランド端子となる側面電極206は3本である(以下、側面電極206を区別する場合には側面電極206a、側面電極206b、側面電極206cという)。第1の実施例と比較して少なくなった1本は、側面電極208としてNC端子となっている。NC端子のNCは、非接続(Non−Connection)を意味し、NC端子は、バンドパスフィルタ内部の導体パターンとは接続されていない。第1の実施例では、側面電極106は、側面電極102の両側及び、側面電極104の両側に配置されている。一方、第2の実施例では、2本の側面電極206(側面電極206a、206b)は、側面電極202の両側に配置されているが、残りの1本の側面電極206(206c)は側面電極204と側面電極208の間に配置されている。   In the second embodiment, the side electrode 208 is provided from the side electrode 202, but there are three side electrodes 206 serving as ground terminals (hereinafter, when the side electrodes 206 are distinguished, the side electrodes 206 a, Electrode 206b, side electrode 206c). One that is less than the first embodiment is an NC terminal as the side electrode 208. NC of the NC terminal means non-connection, and the NC terminal is not connected to the conductor pattern inside the band pass filter. In the first embodiment, the side electrode 106 is disposed on both sides of the side electrode 102 and on both sides of the side electrode 104. On the other hand, in the second embodiment, the two side electrodes 206 (side electrodes 206a and 206b) are arranged on both sides of the side electrode 202, but the remaining one side electrode 206 (206c) is a side electrode. It is arranged between 204 and the side electrode 208.

絶縁基板M1には、外周部を除いたほぼ全面に導体パターン211が形成されている。導体パターン211には、切り欠き部212が設けられている。切り欠き部212は、導体パターン211のほぼ中央部、側面電極206cの反対側から、側面電極206cに向かって凹むように形成されている。   A conductive pattern 211 is formed on the entire surface of the insulating substrate M1 except for the outer periphery. The conductor pattern 211 is provided with a notch 212. The notch 212 is formed so as to be recessed toward the side electrode 206c from the substantially central portion of the conductor pattern 211, the side opposite to the side electrode 206c.

絶縁基板M2から絶縁基板M7には、第1の実施例と同様に、導体パターンが設けられている。第2の実施例は、第1の実施例と比較して、導体パターンの形状が異なる点、及び導体パターンが図面上、切り欠き部212よりも左側に配置され切り欠き部212よりも右側には配置されていない点の2点が異なる。絶縁基板M7の導体パターン271は、側面電極206a、206cと接続され、側面電極206bとは接続されていない。   As in the first embodiment, conductor patterns are provided on the insulating substrates M2 to M7. The second embodiment is different from the first embodiment in that the shape of the conductor pattern is different, and the conductor pattern is arranged on the left side of the notch portion 212 and on the right side of the notch portion 212 in the drawing. Are different from each other in that they are not arranged. The conductor pattern 271 of the insulating substrate M7 is connected to the side electrodes 206a and 206c and is not connected to the side electrode 206b.

第2の実施例においては、等価回路、及び等価回路の素子と素子を形成する導体パターン・配線との関係は、第1の実施例と同じであるので説明を省略する。   In the second embodiment, the equivalent circuit and the relationship between the elements of the equivalent circuit and the conductor pattern / wiring forming the elements are the same as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted.

図25及び図26を用いて、第2の実施例に係るバンドパスフィルタの切り欠き部の構造と特性について説明する。図25は、切り欠き部の構成を模式的に示す説明図である。図26は、第2の実施例に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。   The structure and characteristics of the notch portion of the bandpass filter according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 25 is an explanatory view schematically showing the configuration of the notch. FIG. 26 is a graph showing the transmission characteristics of the bandpass filter according to the second embodiment.

第2の実施例では、切り欠き部212を設けないと、減衰帯域周波数において、減衰極が発生していないが、切り欠き部212を設けることにより、減衰極が発生する。また、切り欠き部212の大きさを大きくするほど減衰極の発生周波数は低くなる。切り欠き部212を設けても、通過帯域周波数では透過特性の変化は生じない。   In the second embodiment, if the notch 212 is not provided, an attenuation pole is not generated in the attenuation band frequency. However, by providing the notch 212, an attenuation pole is generated. Further, as the size of the notch 212 is increased, the frequency at which the attenuation pole is generated becomes lower. Even if the notch 212 is provided, the transmission characteristics do not change at the passband frequency.

以上、第2の実施例によれば、導体パターン221と導体パターン211とが重なり、導体パターン221にはインダクタL12が接続され、導体パターン211には切り欠き部212が設けられている。その結果、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰極を発生させ、さらに、切り欠き部212の大きさを大きくすることにより減衰極の発生周波数を低周波側に移動させることができる。   As described above, according to the second embodiment, the conductor pattern 221 and the conductor pattern 211 are overlapped, the inductor L12 is connected to the conductor pattern 221, and the notch 212 is provided in the conductor pattern 211. As a result, the attenuation pole can be generated without affecting the characteristics of the passband frequency, and further, the frequency of generation of the attenuation pole can be moved to the low frequency side by increasing the size of the notch 212.

3.第3の実施例
図27及び図28を用いて第3の実施例について説明する。図27は、第3の実施例に係るバンドパスフィルタを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その1)である。図28は、第3の実施例に係るバンドパスフィルタを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その2)である。第3の実施例については、第2の実施例と同じ機能のものについては第2の実施例の符号に100を足した符号を付している。
3. Third Embodiment A third embodiment will be described with reference to FIGS. 27 and 28. FIG. FIG. 27 is an exploded perspective view (No. 1) showing an expanded insulating substrate constituting the bandpass filter according to the third embodiment. FIG. 28 is an exploded perspective view (part 2) showing the insulating substrate constituting the band-pass filter according to the third embodiment in an exploded manner. In the third embodiment, those having the same functions as those in the second embodiment are denoted by reference numerals obtained by adding 100 to the reference numerals in the second embodiment.

絶縁基板M1からM6までの構成については第2の実施例と同じであるので、説明を省略する。   Since the configuration of the insulating substrates M1 to M6 is the same as that of the second embodiment, the description thereof is omitted.

絶縁基板M7には、導体パターン371から導体パターン374が形成されている。導体パターン371は、細長い導体パターンであり、その一方の端は、絶縁基板を積層したときに絶縁基板M2の導体パターン321と重なる。導体パターン372は、細長い導体パターンであり、その一方の端は、絶縁基板を積層したときに絶縁基板M2の導体パターン322と重なる。絶縁基板を積層したときに、導体パターン373は、絶縁基板M6の導体パターン361の他端(絶縁基板M5の導体パターン352と重ならない端)と重なり、導体パターン374は、絶縁基板M6の導体パターン362の他端(絶縁基板M5の導体パターン353と重ならない端)と重なる。   Conductive patterns 371 to 374 are formed on the insulating substrate M7. The conductor pattern 371 is an elongated conductor pattern, and one end thereof overlaps the conductor pattern 321 of the insulating substrate M2 when the insulating substrates are stacked. The conductor pattern 372 is an elongated conductor pattern, and one end thereof overlaps the conductor pattern 322 of the insulating substrate M2 when the insulating substrates are stacked. When the insulating substrates are stacked, the conductor pattern 373 overlaps the other end of the conductor pattern 361 of the insulating substrate M6 (the end that does not overlap the conductor pattern 352 of the insulating substrate M5), and the conductor pattern 374 is the conductor pattern of the insulating substrate M6. It overlaps with the other end of 362 (the end that does not overlap the conductor pattern 353 of the insulating substrate M5).

絶縁基板M8には、導体パターン381から導体パターン384が形成されている。導体パターン381は、細長い導体パターンであり、一端が側面電極302に接続され、絶縁基板を積層しときに他端は絶縁基板M7の導体パターン371の他端と重なる。導体パターン382は、細長い導体パターンであり、一端が側面電極304に接続され、絶縁基板を積層したときに他端は絶縁基板M7の導体パターン372の他端と重なる。絶縁基板を積層したときに、導体パターン383は、絶縁基板M7の導体パターン373と重なり、導体パターン384は、絶縁基板M7の導体パターン374と重なる。   Conductive patterns 381 to 384 are formed on the insulating substrate M8. The conductor pattern 381 is an elongated conductor pattern. One end of the conductor pattern 381 is connected to the side electrode 302, and the other end overlaps the other end of the conductor pattern 371 of the insulating substrate M7 when the insulating substrate is stacked. The conductor pattern 382 is an elongated conductor pattern. One end of the conductor pattern 382 is connected to the side electrode 304, and the other end overlaps the other end of the conductor pattern 372 of the insulating substrate M7 when the insulating substrate is stacked. When the insulating substrates are stacked, the conductor pattern 383 overlaps the conductor pattern 373 of the insulating substrate M7, and the conductor pattern 384 overlaps the conductor pattern 374 of the insulating substrate M7.

絶縁基板M9には導体パターン391が形成されている。導体パターン391は第2の実施例の絶縁基板M7の導体パターン371と同じ構成である。   A conductor pattern 391 is formed on the insulating substrate M9. The conductor pattern 391 has the same configuration as the conductor pattern 371 of the insulating substrate M7 of the second embodiment.

第3の実施例に係るバンドパスフィルタは、6本のスルーホール配線を有する。   The bandpass filter according to the third embodiment has six through-hole wirings.

スルーホール配線321tは、導体パターン321(絶縁基板M2)、導体パターン333(絶縁基板M3)、導体パターン341(絶縁基板M4)、導体パターン352(絶縁基板M5)、導体パターン361(絶縁基板M6)、及び導体パターン371(絶縁基板M)7を繋いでいる。スルーホール配線322tは、導体パターン322(絶縁基板M2)、導体パターン334(絶縁基板M3)、導体パターン342(絶縁基板M4)、導体パターン353(絶縁基板M5)、導体パターン362(絶縁基板M6)、及び導体パターン372(絶縁基板M7)を繋いでいる。   The through-hole wiring 321t includes a conductor pattern 321 (insulating substrate M2), a conductor pattern 333 (insulating substrate M3), a conductor pattern 341 (insulating substrate M4), a conductor pattern 352 (insulating substrate M5), and a conductor pattern 361 (insulating substrate M6). And the conductor pattern 371 (insulating substrate M) 7 are connected. The through-hole wiring 322t includes a conductor pattern 322 (insulating substrate M2), a conductor pattern 334 (insulating substrate M3), a conductor pattern 342 (insulating substrate M4), a conductor pattern 353 (insulating substrate M5), and a conductor pattern 362 (insulating substrate M6). And the conductor pattern 372 (insulating substrate M7).

スルーホール配線361tは、導体パターン361(絶縁基板M6)、導体パターン373(絶縁基板M7)、導体パターン383(絶縁基板M8)及び導体パターン391(絶縁基板M9)を繋いでいる。スルーホール配線362tは、導体パターン362(絶縁基板M6)、導体パターン374(絶縁基板M7)、導体パターン384(絶縁基板M8)、及び導体パターン391(絶縁基板M9)を繋いでいる。   The through-hole wiring 361t connects the conductor pattern 361 (insulating substrate M6), the conductor pattern 373 (insulating substrate M7), the conductor pattern 383 (insulating substrate M8), and the conductor pattern 391 (insulating substrate M9). The through-hole wiring 362t connects the conductor pattern 362 (insulating substrate M6), the conductor pattern 374 (insulating substrate M7), the conductor pattern 384 (insulating substrate M8), and the conductor pattern 391 (insulating substrate M9).

スルーホール配線371tは、導体パターン371(絶縁基板M7)と導体パターン381(絶縁基板M8)とを繋いでいる。スルーホール配線372tは、導体パターン372(絶縁基板M7)と導体パターン382(絶縁基板M8)とを繋いでいる。   The through-hole wiring 371t connects the conductor pattern 371 (insulating substrate M7) and the conductor pattern 381 (insulating substrate M8). The through-hole wiring 372t connects the conductor pattern 372 (insulating substrate M7) and the conductor pattern 382 (insulating substrate M8).

図29を用いて、第3の実施例に係るバンドパスフィルタの等価回路について説明する。図29は、第3の実施例に係るバンドパスフィルタの等価回路である。   An equivalent circuit of the bandpass filter according to the third embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 29 is an equivalent circuit of a bandpass filter according to the third embodiment.

バンドパスフィルタの入力端子INには、キャパシタC11と、インダクタL13及びインダクタL14とを直列に接続したものとが並列に接続されている。インダクタL13とインダクタL14との接続部にはインダクタL11の一端が接続され、インダクタL11の他端はグランドに接地されている。キャパシタC11の入力端子INと反対側には、インダクタL12の一端が接続されている。インダクタL12の他端はキャパシタC12を介して、グランドに接地されている。   A capacitor C11 and an inductor L13 and an inductor L14 connected in series are connected in parallel to the input terminal IN of the bandpass filter. One end of the inductor L11 is connected to the connecting portion between the inductor L13 and the inductor L14, and the other end of the inductor L11 is grounded. One end of an inductor L12 is connected to the opposite side of the input terminal IN of the capacitor C11. The other end of the inductor L12 is grounded via the capacitor C12.

バンドパスフィルタの出力端子OUTには、キャパシタC21と、インダクタL23及びインダクタL24とを直列に接続したものとが並列に接続されている。インダクタL23とインダクタL24の接続部にはインダクタL21の一端が接続され、インダクタL21の他端はグランドに接地されている。キャパシタC21の出力端子OUTと反対側には、インダクタL22の一端が接続されている。インダクタL22の他端はキャパシタC22を介して、グランドに接地されている。   A capacitor C21 and an inductor L23 and an inductor L24 connected in series are connected in parallel to the output terminal OUT of the bandpass filter. One end of the inductor L21 is connected to the connection portion between the inductor L23 and the inductor L24, and the other end of the inductor L21 is grounded. One end of an inductor L22 is connected to the opposite side of the output terminal OUT of the capacitor C21. The other end of the inductor L22 is grounded via the capacitor C22.

キャパシタC11の入力端子INと反対側と、キャパシタC21の出力端子OUTと反対側と、の間には、キャパシタC31a及びキャパシタC31bが直列に接続されている。   A capacitor C31a and a capacitor C31b are connected in series between the side opposite to the input terminal IN of the capacitor C11 and the side opposite to the output terminal OUT of the capacitor C21.

第3の実施例のバンドパスフィルタの等価回路を第1、第2の実施例のバンドパスフィルタの等価回路を比較すると、第1、第2の実施例のバンドパスフィルタでは、入力端子IN及び出力端子OUTにはキャパシタC11及びC21が接続されるだけであったが、第3の実施例のバンドパスフィルタでは、キャパシタC11及びC21と並列にインダクタL13及びL23が付加されている点が異なる。   When comparing the equivalent circuit of the bandpass filter of the third embodiment with the equivalent circuit of the bandpass filter of the first and second embodiments, the bandpass filter of the first and second embodiments has the input terminals IN and Only the capacitors C11 and C21 are connected to the output terminal OUT, but the bandpass filter of the third embodiment is different in that inductors L13 and L23 are added in parallel with the capacitors C11 and C21.

図30を用いて、等価回路と導体パターンとの関係を説明する。図30は、等価回路の素子と、素子を形成する導体パターン・配線との関係を示す説明図である。ここで、キャパシタの構成については第1の実施例と同じであるので、説明を省略する。   The relationship between the equivalent circuit and the conductor pattern will be described with reference to FIG. FIG. 30 is an explanatory diagram showing a relationship between an element of an equivalent circuit and a conductor pattern / wiring forming the element. Here, since the configuration of the capacitor is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted.

インダクタL11は、スルーホール配線361tと導体パターン361の直列結合により構成されている。インダクタL12はスルーホール配線321tのうち絶縁基板M2の表面から絶縁基板M4の表面の間の部分のスルーホール配線の直列結合により構成されている。インダクタL13は、導体パターン381、スルーホール配線371t、導体パターン371、スルーホール配線321tのうち絶縁基板M6の表面から絶縁基板M7の表面の間の部分のスルーホール配線の直列結合により構成されている。インダクタL14は、スルーホール配線321tのうち絶縁基板M4の表面から絶縁基板M6の表面の間の部分にあるスルーホール配線を用いて構成されている。   The inductor L11 is configured by a series combination of a through-hole wiring 361t and a conductor pattern 361. The inductor L12 is configured by series coupling of through-hole wirings in a portion between the surface of the insulating substrate M2 and the surface of the insulating substrate M4 in the through-hole wiring 321t. The inductor L13 is configured by serial coupling of through-hole wiring in a portion between the surface of the insulating substrate M6 and the surface of the insulating substrate M7 among the conductor pattern 381, the through-hole wiring 371t, the conductor pattern 371, and the through-hole wiring 321t. . The inductor L14 is configured using a through-hole wiring in a portion between the surface of the insulating substrate M4 and the surface of the insulating substrate M6 in the through-hole wiring 321t.

インダクタL21は、スルーホール配線362tと導体パターン362の直列結合により構成されている。インダクタL22はスルーホール配線322tのうち絶縁基板M2の表面から絶縁基板M4の表面の間の部分のスルーホール配線の直列結合により構成されている。インダクタL23は、導体パターン382、スルーホール配線372t、導体パターン372、スルーホール配線322tのうち絶縁基板M6の表面から絶縁基板M7の表面の間の部分のスルーホール配線の直列結合により構成されている。インダクタL24は、スルーホール配線322tのうち絶縁基板M4の表面から絶縁基板M6の表面の間の部分にあるスルーホール配線を用いて構成されている。   The inductor L21 is configured by a series combination of a through-hole wiring 362t and a conductor pattern 362. The inductor L22 is configured by series coupling of through-hole wirings in a portion between the surface of the insulating substrate M2 and the surface of the insulating substrate M4 in the through-hole wiring 322t. The inductor L23 is configured by series coupling of through-hole wiring in a portion between the surface of the insulating substrate M6 and the surface of the insulating substrate M7 among the conductor pattern 382, the through-hole wiring 372t, the conductor pattern 372, and the through-hole wiring 322t. . The inductor L24 is configured using a through-hole wiring in a portion between the surface of the insulating substrate M4 and the surface of the insulating substrate M6 in the through-hole wiring 322t.

図31及び図32を用いて、第3の実施例に係るバンドパスフィルタの切り欠き部の構造と特性について説明する。図31は、切り欠き部の構成を模式的に示す説明図である。図32は、第3の実施例に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。   The structure and characteristics of the notch portion of the bandpass filter according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 31 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of the notch. FIG. 32 is a graph showing the transmission characteristics of the bandpass filter according to the third example.

切り欠き部312の凹の深さと透過特性との関係をみると、切り欠き部312の凹の深さがより深い方が減衰帯域周波数において、減衰極の発生周波数は低周波数側に移動している。一方、通過帯域周波数では、切り欠き部312の凹の深さによる違いは生じていない。   Looking at the relationship between the depth of the recess in the notch 312 and the transmission characteristics, the greater the depth of the notch in the notch 312 is at the attenuation band frequency, the generation frequency of the attenuation pole is shifted to the lower frequency side. Yes. On the other hand, there is no difference in the passband frequency due to the depth of the recess of the notch 312.

第3の実施例によれば、キャパシタC11及びC21と並列にインダクタL13及びL23が設けられていても、切り欠き部312を設けることにより、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数を変えることができる。すなわち、入力部、出力部の構成にかかわらず、導体パターン311に切り欠き部を設けることにより、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰帯域周波数における減衰極の発生周波数を変えることができる。   According to the third embodiment, even if the inductors L13 and L23 are provided in parallel with the capacitors C11 and C21, by providing the notch portion 312, the attenuation band frequency is not affected without affecting the characteristics of the passband frequency. The generation frequency of the attenuation pole can be changed. That is, regardless of the configuration of the input part and the output part, by providing the notch part in the conductor pattern 311, the generation frequency of the attenuation pole in the attenuation band frequency can be changed without affecting the characteristics of the pass band frequency. .

第2、第3の実施例では、積層型電子部品の左半分しか導体パターンを設けていない。これは、これは、積層型電子部品の右半分には、導体パターンを配置しないという訳ではなく、積層型電子部品の右半分に他のフィルタ回路を構成し、ダイプレクサ、マルチプレクサを形成してもよい。これについては、第4の実施例で説明する。なお、ダイプレクサ(diplexer)のダイ(di)は「2」を意味する接頭語であり、マルチプレクサ(multiplexer)のマルチ(multi)は「多数の」を意味する接頭語であり、マルチプレクサという場合には、ダイプレクサも含む。   In the second and third embodiments, only the left half of the multilayer electronic component is provided with a conductor pattern. This is not to say that a conductor pattern is not arranged in the right half of the multilayer electronic component, but another filter circuit is formed in the right half of the multilayer electronic component to form a diplexer and a multiplexer. Good. This will be described in the fourth embodiment. In addition, the di (di) of the diplexer (diplexer) is a prefix meaning “2”, and the multi (multi) of the multiplexer (multiplex) is a prefix meaning “many”. Including diplexer.

4.第4の実施例
図33から図37を用いて第4の実施例に係るダイプレクサについて説明する。図33は、第4の実施例に係るダイプレクサを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その1)である。図34は、第4の実施例に係るダイプレクサを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その2)である。図35は、第4の実施例に係るダイプレクサを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その3)である。図36は、第4の実施例に係るダイプレクサの等価回路図である。図37は、等価回路の素子と、素子を形成する導体パターン・配線との関係を示す説明図である。
4). Fourth Embodiment A diplexer according to a fourth embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 33 is an exploded perspective view (part 1) showing an expanded insulating substrate constituting the diplexer according to the fourth embodiment. FIG. 34 is an exploded perspective view (No. 2) showing an expanded insulating substrate constituting the diplexer according to the fourth embodiment. FIG. 35 is an exploded perspective view (No. 3) showing an expanded insulating substrate constituting the diplexer according to the fourth embodiment. FIG. 36 is an equivalent circuit diagram of the diplexer according to the fourth embodiment. FIG. 37 is an explanatory diagram showing a relationship between an element of an equivalent circuit and a conductor pattern / wiring forming the element.

第4の実施例に係るダイプレクサは、2つのバンドパスフィルタ、すなわち、ハイバンドフィルタ40aとローバンドフィルタ40bを有する。第4の実施例では、第3の実施例と側面電極402から側面電極408の機能が異なり、側面電極402はANT端子、側面電極404はHB端子、側面電極408はLB端子となっている。ハイバンドフィルタ40aについては、第3の実施例で説明したバンドパスフィルタとほぼ同じである。したがって、第4の実施例については、第3の実施例と同じ機能のものについては第3の実施例の符号に100を足した符号を付している。   The diplexer according to the fourth embodiment has two band pass filters, that is, a high band filter 40a and a low band filter 40b. In the fourth embodiment, the functions of the side electrode 408 from the side electrode 402 are different from those in the third embodiment. The side electrode 402 is an ANT terminal, the side electrode 404 is an HB terminal, and the side electrode 408 is an LB terminal. The high band filter 40a is almost the same as the band pass filter described in the third embodiment. Therefore, in the fourth embodiment, those having the same functions as those in the third embodiment are denoted by reference numerals obtained by adding 100 to the reference numerals in the third embodiment.

図33から図35に示す分解斜視図において、ハイバンドフィルタ40aは、各絶縁基板の左半分に形成される導体パターンにより構成され、ローバンドフィルタ40bは、各絶縁基板の右半分に形成される導体パターンにより構成される。以下、ダイプレクサの構成について、ハイバンドフィルタ40aとローバンドフィルタ40bに分けて説明する。   In the exploded perspective views shown in FIGS. 33 to 35, the high band filter 40a is constituted by a conductor pattern formed on the left half of each insulating substrate, and the low band filter 40b is a conductor formed on the right half of each insulating substrate. Consists of patterns. Hereinafter, the configuration of the diplexer will be described separately for the high-band filter 40a and the low-band filter 40b.

ハイバンドフィルタ40aの構成:
ハイバンドフィルタ40aについて、絶縁基板M2から絶縁基板M8までの構成は、第3の実施例と同じである。したがって、絶縁基板M2から絶縁基板M8までの構成についての説明は省略し、絶縁基板M1及び絶縁基板M9から絶縁基板M12までについて説明する。
Configuration of the high band filter 40a:
The configuration of the high band filter 40a from the insulating substrate M2 to the insulating substrate M8 is the same as that of the third embodiment. Therefore, description of the configuration from the insulating substrate M2 to the insulating substrate M8 is omitted, and only the insulating substrate M1 and the insulating substrate M9 to the insulating substrate M12 will be described.

絶縁基板M1の構成は、第3の実施例の構成とほぼ同じである。第3の実施例と同様にほぼ全面に導体パターン411が形成されている。ただし、切り欠き部412は、図面右側(ローバンドフィルタ40b側)に折れたカギ型である点が異なる。絶縁基板M9には、導体パターン491と導体パターン492が形成されている。導体パターン491は、絶縁基板M8の導体パターン483と重なっており、導体パターン492は、絶縁基板M8の導体パターン484と重なっている。絶縁基板M10、M11は、絶縁基板M9と同じ構成であり、それぞれ導体パターン501、502と導体パターン511,512が形成されている。導体パターン501、511は絶縁基板M8の導体パターン483と重なっており、導体パターン502、512は絶縁基板M8の導体パターン484と重なっている。絶縁基板M12には、導体パターン521が形成されている。なお、絶縁基板M12の構成は、第3の実施例の絶縁基板M9と同じ構成である。   The configuration of the insulating substrate M1 is almost the same as the configuration of the third embodiment. Similar to the third embodiment, a conductor pattern 411 is formed on almost the entire surface. However, the notch portion 412 is different in that it is a key type that is folded to the right side of the drawing (low band filter 40b side). Conductive patterns 491 and 492 are formed on the insulating substrate M9. The conductor pattern 491 overlaps with the conductor pattern 483 of the insulating substrate M8, and the conductor pattern 492 overlaps with the conductor pattern 484 of the insulating substrate M8. The insulating substrates M10 and M11 have the same configuration as the insulating substrate M9, and conductor patterns 501 and 502 and conductor patterns 511 and 512 are formed, respectively. The conductor patterns 501 and 511 overlap with the conductor pattern 483 of the insulating substrate M8, and the conductor patterns 502 and 512 overlap with the conductor pattern 484 of the insulating substrate M8. A conductor pattern 521 is formed on the insulating substrate M12. The configuration of the insulating substrate M12 is the same as that of the insulating substrate M9 of the third embodiment.

第4の実施例に係るダイプレクサはハイバンドフィルタ40aに、6本のスルーホール配線を有する。   The diplexer according to the fourth embodiment has six through-hole wirings in the high band filter 40a.

スルーホール配線421t、422t、471t、472tの構成は、第3の実施例に係るバンドパスフィルタのスルーホール配線321t、322t、371t、372tの構成と同じなので説明を省略する。   Since the configuration of the through-hole wirings 421t, 422t, 471t, and 472t is the same as the configuration of the through-hole wirings 321t, 322t, 371t, and 372t of the bandpass filter according to the third embodiment, the description thereof is omitted.

スルーホール配線461tは、導体パターン461(絶縁基板M6)、導体パターン473(絶縁基板M7)、導体パターン483(絶縁基板M8)、導体パターン491(絶縁基板M9)、導体パターン501(絶縁基板M10)、導体パターン511(絶縁基板M11)、及び導体パターン521(絶縁基板M12)を繋いでいる。スルーホール配線462tは、導体パターン462(絶縁基板M6)、導体パターン474(絶縁基板M7)、導体パターン484(絶縁基板M8)、導体パターン492(絶縁基板M9)、導体パターン502(絶縁基板M10)、導体パターン512(絶縁基板M11)、及び導体パターン521(絶縁基板M12)を繋いでいる。   The through-hole wiring 461t includes a conductor pattern 461 (insulating substrate M6), a conductor pattern 473 (insulating substrate M7), a conductor pattern 483 (insulating substrate M8), a conductor pattern 491 (insulating substrate M9), and a conductor pattern 501 (insulating substrate M10). The conductor pattern 511 (insulating substrate M11) and the conductor pattern 521 (insulating substrate M12) are connected. The through-hole wiring 462t includes a conductor pattern 462 (insulating substrate M6), a conductor pattern 474 (insulating substrate M7), a conductor pattern 484 (insulating substrate M8), a conductor pattern 492 (insulating substrate M9), and a conductor pattern 502 (insulating substrate M10). The conductor pattern 512 (insulating substrate M11) and the conductor pattern 521 (insulating substrate M12) are connected.

第4の実施例に係るダイプレクサのハイバンドフィルタ40aの等価回路は第3の実施例に係るバンドパスフィルタの等価回路と同じなので説明を省略する。   Since the equivalent circuit of the high band filter 40a of the diplexer according to the fourth embodiment is the same as the equivalent circuit of the band pass filter according to the third embodiment, the description thereof is omitted.

第4の実施例に係るダイプレクサのハイバンドフィルタ40aについて、等価回路の素子と、素子を形成する導体パターン・配線との関係を説明する。キャパシタの構成及びインダクタL12,13、14、22,23,24の構成については第3の実施例と同じであるので、説明を省略する。   Regarding the high band filter 40a of the diplexer according to the fourth embodiment, the relationship between the elements of the equivalent circuit and the conductor pattern / wiring forming the elements will be described. Since the configuration of the capacitor and the configurations of the inductors L12, 13, 14, 22, 23, and 24 are the same as those in the third embodiment, the description thereof is omitted.

インダクタL11は、スルーホール配線461tと導体パターン461の直列結合により構成される点において、第3の実施例と同じである。ただし、第3の実施例ではスルーホール配線361tが絶縁基板M6の表面から絶縁基板のM9の表面までを繋ぐ配線であるのに対し、第4の実施例では、スルーホール配線461tは絶縁基板M6の表面から絶縁基板M12の表面までを繋ぐ配線である点が異なる。インダクタL21についても同様である。   The inductor L11 is the same as that of the third embodiment in that the inductor L11 is configured by a series connection of the through-hole wiring 461t and the conductor pattern 461. However, in the third embodiment, the through-hole wiring 361t is a wiring connecting the surface of the insulating substrate M6 to the surface of the insulating substrate M9, whereas in the fourth embodiment, the through-hole wiring 461t is the insulating substrate M6. The difference is that the wiring connects the surface of the insulating substrate M12 to the surface of the insulating substrate M12. The same applies to the inductor L21.

ローバンドフィルタ40bの構成:
ローバンドフィルタ40bについては、各絶縁基板に形成される導体パターンについては個々に説明せず、図36に示す等価回路の各素子が図33から図35に示す分解斜視図のどの導体パターン、どのスルーホール配線を用いて形成されているかを説明する。
Configuration of the low-band filter 40b:
For the low-band filter 40b, the conductor pattern formed on each insulating substrate will not be described individually, and each element of the equivalent circuit shown in FIG. Whether it is formed using hole wiring will be described.

キャパシタC41は導体パターン423(絶縁基板M2)と導体パターン411(絶縁基板M1)の重なりにより、キャパシタC42は導体パターン532(532a(絶縁基板M13))と導体パターン522(絶縁基板M12)の重なりにより、キャパシタC43は導体パターン532(532b(絶縁基板M13))と導体パターン523(絶縁基板M12)の重なりにより、キャパシタC44は導体パターン531(絶縁基板M13)と導体パターン523(絶縁基板M12)の重なりにより、キャパシタC45は導体パターン424(絶縁基板M2)と導体パターン411(絶縁基板M1)の重なりにより構成されている。   Capacitor C41 is due to the overlap of conductor pattern 423 (insulating substrate M1) and conductor pattern 411 (insulating substrate M1), and capacitor C42 is due to the overlapping of conductor pattern 532 (532a (insulating substrate M13)) and conductor pattern 522 (insulating substrate M12). The capacitor C43 overlaps the conductor pattern 532 (532b (insulating substrate M13)) and the conductor pattern 523 (insulating substrate M12), and the capacitor C44 overlaps the conductor pattern 531 (insulating substrate M13) and the conductor pattern 523 (insulating substrate M12). Thus, the capacitor C45 is configured by overlapping the conductor pattern 424 (insulating substrate M2) and the conductor pattern 411 (insulating substrate M1).

インダクタL41は、導体パターン513(絶縁基板M11)、スルーホール配線503t(絶縁基板M11〜絶縁基板M10)、導体パターン503(絶縁基板M10)、スルーホール配線493t(絶縁基板M10〜絶縁基板M9)、導体パターン493(絶縁基板M9)、スルーホール配線485t(絶縁基板M9〜絶縁基板M8)、導体パターン485(絶縁基板M8)、スルーホール配線474t(絶縁基板M8〜絶縁基板M7)、導体パターン474(絶縁基板M7)、スルーホール配線463t1(絶縁基板M7〜絶縁基板M6)、及び導体パターン463(絶縁基板M6)の直列接続により構成されている。図33から図35において上記導体パターン、スルーホール配線のつながりを追いかけると、インダクタL41は、絶縁基板M11上の導体パターン513から始まり、反時計回りにいわゆる螺旋を描きながら下層の絶縁基板につながるコイルである。なお、図33から図35では模式的に描いているため、スルーホール配線の長さは長いように見えるが、スルーホール配線の長さは絶縁基板の厚と同じであり、短い。本実施例では、スルーホール配線の長さよりも、各絶縁基板に形成される導体パターンの長さの方がかなり長いため、インダクタへの寄与は導体パターンが支配的である。よって、図37(b)では、導体パターンのみを記載している。   Inductor L41 includes conductor pattern 513 (insulating substrate M11), through-hole wiring 503t (insulating substrate M11 to insulating substrate M10), conductor pattern 503 (insulating substrate M10), through-hole wiring 493t (insulating substrate M10 to insulating substrate M9), Conductive pattern 493 (insulating substrate M9), through-hole wiring 485t (insulating substrate M9 to insulating substrate M8), conductive pattern 485 (insulating substrate M8), through-hole wiring 474t (insulating substrate M8 to insulating substrate M7), conductive pattern 474 ( Insulating substrate M7), through-hole wiring 463t1 (insulating substrate M7 to insulating substrate M6), and conductor pattern 463 (insulating substrate M6) are connected in series. 33 to 35, when the connection between the conductor pattern and the through-hole wiring is followed, the inductor L41 starts from the conductor pattern 513 on the insulating substrate M11 and is a coil connected to the lower insulating substrate while drawing a so-called spiral counterclockwise. It is. 33 to 35, since the length of the through-hole wiring looks long, the length of the through-hole wiring is the same as the thickness of the insulating substrate and is short. In this embodiment, since the length of the conductor pattern formed on each insulating substrate is considerably longer than the length of the through-hole wiring, the conductor pattern is dominant in the contribution to the inductor. Therefore, in FIG. 37 (b), only the conductor pattern is shown.

インダクタL42は、導体パターン494(絶縁基板M9)、スルーホール配線486t(絶縁基板M9〜絶縁基板M8)、導体パターン486(絶縁基板M8)、スルーホール配線475t(絶縁基板M8〜絶縁基板M7)、導体パターン475(絶縁基板M7)、スルーホール配線463t2(絶縁基板M7〜絶縁基板M6)、導体パターン463(絶縁基板M6)により構成されている。インダクタL42は、絶縁基板M9上の導体パターン494から始まり、時計回りにいわゆる螺旋を描きながら下層につながるコイルである。   Inductor L42 includes conductor pattern 494 (insulating substrate M9), through-hole wiring 486t (insulating substrate M9 to insulating substrate M8), conductor pattern 486 (insulating substrate M8), through-hole wiring 475t (insulating substrate M8 to insulating substrate M7), The conductor pattern 475 (insulating substrate M7), the through-hole wiring 463t2 (insulating substrate M7 to insulating substrate M6), and the conductor pattern 463 (insulating substrate M6) are included. The inductor L42 is a coil that starts from the conductor pattern 494 on the insulating substrate M9 and is connected to the lower layer while drawing a so-called spiral clockwise.

インダクタL43は、導体パターン515(絶縁基板M11)、スルーホール配線505t(絶縁基板M11〜絶縁基板M10)、導体パターン505(絶縁基板M10)、スルーホール配線495t(絶縁基板M10〜絶縁基板M9)、導体パターン495(絶縁基板M9)、スルーホール配線487t(絶縁基板M9〜絶縁基板M8)、導体パターン487(絶縁基板M8)、スルーホール配線476t(絶縁基板M8〜絶縁基板M7)、導体パターン476(絶縁基板M7)、スルーホール配線464t(絶縁基板M7〜絶縁基板M6)、導体パターン464(絶縁基板M6)により構成されている。インダクタL43は、絶縁基板M11上の導体パターン515から始まり、反時計回りにいわゆる螺旋を描きながら下層につながるコイルである。   The inductor L43 includes a conductor pattern 515 (insulating substrate M11), a through hole wiring 505t (insulating substrate M11 to insulating substrate M10), a conductor pattern 505 (insulating substrate M10), a through hole wiring 495t (insulating substrate M10 to insulating substrate M9), Conductive pattern 495 (insulating substrate M9), through-hole wiring 487t (insulating substrate M9 to insulating substrate M8), conductive pattern 487 (insulating substrate M8), through-hole wiring 476t (insulating substrate M8 to insulating substrate M7), conductive pattern 476 ( Insulating substrate M7), through-hole wiring 464t (insulating substrate M7 to insulating substrate M6), and conductive pattern 464 (insulating substrate M6) are included. The inductor L43 is a coil that starts from the conductor pattern 515 on the insulating substrate M11 and is connected to the lower layer while drawing a so-called spiral counterclockwise.

インダクタL44は、導体パターン516(絶縁基板M11)、スルーホール配線506t(絶縁基板M11〜絶縁基板M10)、導体パターン506(絶縁基板M10)、スルーホール配線496t(絶縁基板M10〜絶縁基板M9)、導体パターン496(絶縁基板M9)、スルーホール配線488t(絶縁基板M9〜絶縁基板M8)、導体パターン488(絶縁基板M8)、スルーホール配線477t(絶縁基板M8〜絶縁基板M7)、導体パターン477(絶縁基板M7)、スルーホール配線465t(絶縁基板M7〜絶縁基板M6)、導体パターン465(絶縁基板M6)により構成されている。インダクタL44は絶縁基板M11上の導体パターン516から始まり、反時計回りにいわゆる螺旋を描きながら下層につながるコイルである。   Inductor L44 includes conductor pattern 516 (insulating substrate M11), through-hole wiring 506t (insulating substrate M11 to insulating substrate M10), conductor pattern 506 (insulating substrate M10), through-hole wiring 496t (insulating substrate M10 to insulating substrate M9), Conductive pattern 496 (insulating substrate M9), through-hole wiring 488t (insulating substrate M9 to insulating substrate M8), conductive pattern 488 (insulating substrate M8), through-hole wiring 477t (insulating substrate M8 to insulating substrate M7), conductive pattern 477 ( Insulating substrate M7), through-hole wiring 465t (insulating substrate M7 to insulating substrate M6), and conductive pattern 465 (insulating substrate M6) are included. The inductor L44 is a coil that starts from the conductor pattern 516 on the insulating substrate M11 and is connected to the lower layer while drawing a so-called spiral counterclockwise.

図38及び図39を用いて、第4の実施例に係るダイプレクサの切り欠き部の構造と特性について説明する。図38は、切り欠き部の構成を模式的に示す説明図である。図39は、第4の実施例に係るダイプレクサのハイバンドフィルタ40aの透過特性を示すグラフである。     The structure and characteristics of the notch portion of the diplexer according to the fourth embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 38 is an explanatory view schematically showing the configuration of the notch. FIG. 39 is a graph showing the transmission characteristics of the high band filter 40a of the diplexer according to the fourth embodiment.

切り欠き部412の凹の大きさと透過特性との関係をみると、切り欠き部412が大きい方が減衰帯域周波数において、減衰極の発生周波数は低周波数側に移動している。一方、通過帯域周波数では、違いは生じていない。     Looking at the relationship between the size of the recess of the notch 412 and the transmission characteristics, the larger the notch 412 is at the attenuation band frequency, and the generation frequency of the attenuation pole is shifted to the lower frequency side. On the other hand, no difference occurs in the passband frequency.

第4の実施例によれば、切り欠き部412を設けることにより、バンドパスフィルタだけでなく、ダイプレクサであっても、通過帯域周波数の特性に影響を与えることなく減衰帯域周波数の特性を変えることができる。   According to the fourth embodiment, by providing the notch portion 412, not only the bandpass filter but also the diplexer can change the attenuation band frequency characteristic without affecting the passband frequency characteristic. Can do.

第1の実施例から第4の実施例では、切り欠き部の形状は、矩形あるいはカギ型であったが、形状は、これらには限定されず、他の形状、例えば、三角形、多角形、半円形、円形、楕円形等であってもよい。
なお、上記説明では、本発明の実施態様として積層型電子部品を例にとり説明したが、実施態様として、積層型電子部品の周波数特性の調整方法としての態様であってもよいのは、当然である。
In the first to fourth embodiments, the shape of the notch portion is a rectangle or a key shape, but the shape is not limited to these, and other shapes such as a triangle, a polygon, It may be semicircular, circular, elliptical or the like.
In the above description, the multilayer electronic component has been described as an example of the embodiment of the present invention. However, as an embodiment, it is a matter of course that the embodiment may be an aspect as a method of adjusting the frequency characteristics of the multilayer electronic component. is there.

以上、いくつかの実施例に基づいて本発明の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。   The embodiments of the present invention have been described above based on some examples. However, the above-described embodiments of the present invention are for facilitating the understanding of the present invention and limit the present invention. It is not a thing. The present invention can be changed and improved without departing from the spirit and scope of the claims, and it is needless to say that the present invention includes equivalents thereof.

第1の実施例に係るバンドパスフィルタの上面を上にした外観を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the external appearance which turned up the upper surface of the band pass filter which concerns on a 1st Example. 第1の実施例に係るバンドパスフィルタの下面を上にした外観を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the external appearance which turned up the lower surface of the band pass filter which concerns on a 1st Example. 第1の実施例に係るバンドパスフィルタ10を構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図である。It is an exploded perspective view which expands and shows the insulating substrate which constitutes bandpass filter 10 concerning the 1st example. 第1の実施例に係るバンドパスフィルタの等価回路である。It is the equivalent circuit of the band pass filter which concerns on a 1st Example. 等価回路の素子と素子を形成する導体パターン・配線との関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between the element of an equivalent circuit, and the conductor pattern and wiring which form an element. 切り欠き部の構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a notch part typically. 第1の実施例に係るバンドパスフィルタ10の透過特性(SパラメータのS21)を示すグラフである。It is a graph which shows the transmission characteristic (S parameter S21) of the band pass filter 10 which concerns on a 1st Example. 比較例に係るバンドパスフィルタの構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the structure of the band pass filter which concerns on a comparative example. 比較例に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。It is a graph which shows the transmission characteristic of the band pass filter which concerns on a comparative example. 変形例1に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the band pass filter which concerns on the modification 1. 変形例1に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。10 is a graph showing the transmission characteristics of a bandpass filter according to Modification 1. 変形例2に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。10 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to Modification 2. FIG. 変形例2に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。10 is a graph showing the transmission characteristics of a bandpass filter according to Modification 2. 変形例3に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。10 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to Modification 3. FIG. 変形例3に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。10 is a graph showing transmission characteristics of a bandpass filter according to Modification 3. 変形例4に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。10 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to Modification 4. FIG. 変形例4に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。14 is a graph showing the transmission characteristics of a bandpass filter according to Modification 4. 変形例5に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。10 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to Modification 5. FIG. 変形例5に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。10 is a graph showing the transmission characteristics of a bandpass filter according to Modification 5. 変形例6に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。10 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to Modification 6. FIG. 変形例6に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。12 is a graph showing the transmission characteristics of a bandpass filter according to Modification 6. 変形例7に係るバンドパスフィルタの構成を示す説明図である。10 is an explanatory diagram showing a configuration of a bandpass filter according to Modification 7. FIG. 変形例7に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。14 is a graph showing the transmission characteristics of a bandpass filter according to Modification 7. 第2の実施例に係るバンドパスフィルタを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which expand | deploys and shows the insulated substrate which comprises the band pass filter which concerns on a 2nd Example. 切り欠き部の構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a notch part typically. 第2の実施例に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。It is a graph which shows the transmission characteristic of the band pass filter which concerns on a 2nd Example. 第3の実施例に係るバンドパスフィルタを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その1)である。It is the disassembled perspective view (the 1) which expand | deploys and shows the insulated substrate which comprises the band pass filter which concerns on a 3rd Example. 第3の実施例に係るバンドパスフィルタを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その2)である。It is the disassembled perspective view (the 2) which expand | deployed and shows the insulated substrate which comprises the band pass filter which concerns on a 3rd Example. 第3の実施例に係るバンドパスフィルタの等価回路である。It is the equivalent circuit of the band pass filter which concerns on a 3rd Example. 等価回路の素子と素子を形成する導体パターン・配線との関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between the element of an equivalent circuit, and the conductor pattern and wiring which form an element. 切り欠き部の構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a notch part typically. 第3の実施例に係るバンドパスフィルタの透過特性を示すグラフである。It is a graph which shows the transmission characteristic of the band pass filter which concerns on a 3rd Example. 第4の実施例に係るダイプレクサを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その1)である。It is the disassembled perspective view (the 1) which expand | deploys and shows the insulated substrate which comprises the diplexer which concerns on a 4th Example. 第4の実施例に係るダイプレクサを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その2)である。It is the disassembled perspective view (the 2) which expand | deploys and shows the insulated substrate which comprises the diplexer which concerns on a 4th Example. 第4の実施例に係るダイプレクサを構成する絶縁基板を展開して示す分解斜視図(その3)である。It is the disassembled perspective view (the 3) which expand | deploys and shows the insulated substrate which comprises the diplexer which concerns on a 4th Example. 第4の実施例に係るダイプレクサの等価回路図である。It is the equivalent circuit schematic of the diplexer which concerns on a 4th Example. 等価回路の素子と素子を形成する導体パターン・配線との関係を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the relationship between the element of an equivalent circuit, and the conductor pattern and wiring which form an element. 切り欠き部の構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of a notch part typically. 第4の実施例に係るダイプレクサのハイバンドフィルタ側の透過特性を示すグラフである。It is a graph which shows the transmission characteristic by the side of the high band filter of the diplexer which concerns on a 4th Example.

符号の説明Explanation of symbols

10…バンドパスフィルタ
40a…ハイバンドフィルタ
40b…ローバンドフィルタ
102…側面電極
104…側面電極
106…側面電極
111…導体パターン
111a…接続部
112…切り欠き部
121…導体パターン
121t…スルーホール配線
122…導体パターン
122t…スルーホール配線
131…導体パターン
132…導体パターン
133…導体パターン
134…導体パターン
141…導体パターン
142…導体パターン
151…導体パターン
152…導体パターン
153…導体パターン
161…導体パターン
161t…スルーホール配線
162…導体パターン
162t…スルーホール配線
171…導体パターン
202…側面電極
204…側面電極
206…側面電極
206a…側面電極
206b…側面電極
206c…側面電極
208…側面電極
211…導体パターン
212…切り欠き部
221…導体パターン
271…導体パターン
302…側面電極
304…側面電極
311…導体パターン
312…切り欠き部
321…導体パターン
321t…スルーホール配線
322…導体パターン
322t…スルーホール配線
333…導体パターン
334…導体パターン
341…導体パターン
342…導体パターン
352…導体パターン
353…導体パターン
361…導体パターン
361t…スルーホール配線
362…導体パターン
362t…スルーホール配線
371…導体パターン
371…導体パターン
371t…スルーホール配線
372…導体パターン
372t…スルーホール配線
373…導体パターン
374…導体パターン
381…導体パターン
381…導体パターン
382…導体パターン
383…導体パターン
384…導体パターン
391…導体パターン
402…側面電極
404…側面電極
408…側面電極
411…導体パターン
412…切り欠き部
421t…スルーホール配線
422t…スルーホール配線
423…導体パターン
424…導体パターン
461…導体パターン
461t…スルーホール配線
462t…スルーホール配線
463…導体パターン
463t1…スルーホール配線
463t2…スルーホール配線
464…導体パターン
464t…スルーホール配線
465…導体パターン
465t…スルーホール配線
466…導体パターン
473…導体パターン
474…導体パターン
474t…スルーホール配線
475…導体パターン
475t…スルーホール配線
476…導体パターン
476t…スルーホール配線
477…導体パターン
477t…スルーホール配線
483…導体パターン
484…導体パターン
485…導体パターン
485t…スルーホール配線
486…導体パターン
486t…スルーホール配線
487…導体パターン
487t…スルーホール配線
488…導体パターン
488t…スルーホール配線
491…導体パターン
492…導体パターン
493…導体パターン
493t…スルーホール配線
494…導体パターン
494t…スルーホール配線
495…導体パターン
495t…スルーホール配線
496…導体パターン
496t…スルーホール配線
501…導体パターン
502…導体パターン
503…導体パターン
503t…スルーホール配線
505…導体パターン
505t…スルーホール配線
506…導体パターン
506t…スルーホール配線
511…導体パターン
512…導体パターン
513…導体パターン
515…導体パターン
516…導体パターン
521…導体パターン
522…導体パターン
523…導体パターン
531…導体パターン
532…導体パターン
532a…導体パターン
532b…導体パターン
M1…絶縁基板
M2…絶縁基板
M3…絶縁基板
M4…絶縁基板
M5…絶縁基板
M6…絶縁基板
M7…絶縁基板
M8…絶縁基板
M9…絶縁基板
M10…絶縁基板
M11…絶縁基板
M12…絶縁基板
M13…絶縁基板
IN…入力端子
OUT…出力端子
C11…キャパシタ
C12…キャパシタ
C21…キャパシタ
C22…キャパシタ
C31a…キャパシタ
C31b…キャパシタ
C41…キャパシタ
C42…キャパシタ
C43…キャパシタ
C44…キャパシタ
C45…キャパシタ
L11…インダクタ
L12…インダクタ
L13…インダクタ
L14…インダクタ
L21…インダクタ
L22…インダクタ
L23…インダクタ
L24…インダクタ
L41…インダクタ
L42…インダクタ
L43…インダクタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Band pass filter 40a ... High band filter 40b ... Low band filter 102 ... Side electrode 104 ... Side electrode 106 ... Side electrode 111 ... Conductor pattern 111a ... Connection part 112 ... Notch part 121 ... Conductor pattern 121t ... Through-hole wiring 122 ... Conductor pattern 122t ... through hole wiring 131 ... conductor pattern 132 ... conductor pattern 133 ... conductor pattern 134 ... conductor pattern 141 ... conductor pattern 142 ... conductor pattern 151 ... conductor pattern 152 ... conductor pattern 153 ... conductor pattern 161 ... conductor pattern 161t ... through Hole wiring 162 ... Conductor pattern 162t ... Through-hole wiring 171 ... Conductor pattern 202 ... Side electrode 204 ... Side electrode 206 ... Side electrode 206a ... Side electrode 206b ... Side electrode 206c ... Side electrode 208 ... Side electrode 211 ... Conductor pattern 212 ... Notch 221 ... Conductor pattern 271 ... Conductor pattern 302 ... Side electrode 304 ... Side electrode 311 ... Conductor pattern 312 ... Notch 321 ... Conductor pattern 321t ... Through hole Wiring 322 ... Conductor pattern 322t ... Through-hole wiring 333 ... Conductor pattern 334 ... Conductor pattern 341 ... Conductor pattern 342 ... Conductor pattern 352 ... Conductor pattern 353 ... Conductor pattern 361 ... Conductor pattern 361t ... Through hole wiring 362 ... Conductor pattern 362t ... Through Hole wiring 371 ... conductor pattern 371 ... conductor pattern 371t ... through hole wiring 372 ... conductor pattern 372t ... through hole wiring 373 ... conductor pattern 374 ... conductor pattern 381 Conductor pattern 381 ... Conductor pattern 382 ... Conductor pattern 383 ... Conductor pattern 384 ... Conductor pattern 391 ... Conductor pattern 402 ... Side electrode 404 ... Side electrode 408 ... Side electrode 411 ... Conductor pattern 412 ... Notch 421t ... Through-hole wiring 422t ... Through-hole wiring 423 ... Conductor pattern 424 ... Conductor pattern 461 ... Conductor pattern 461t ... Through-hole wiring 462t ... Through-hole wiring 463 ... Conductor pattern 463t1 ... Through-hole wiring 463t2 ... Through-hole wiring 464 ... Conductor pattern 464t ... Through-hole wiring 465 ... Conductor pattern 465t ... through hole wiring 466 ... conductor pattern 473 ... conductor pattern 474 ... conductor pattern 474t ... through hole wiring 475 ... conductor pattern 475t ... Through-hole wiring 476 ... Conductor pattern 476t ... Through-hole wiring 477 ... Conductor pattern 477t ... Through-hole wiring 483 ... Conductor pattern 484 ... Conductor pattern 485 ... Conductor pattern 485t ... Through-hole wiring 486 ... Conductor pattern 486t ... Through-hole wiring 487 ... Conductor Pattern 487t ... Through hole wiring 488 ... Conductor pattern 488t ... Through hole wiring 491 ... Conductor pattern 492 ... Conductor pattern 493t ... Conductor pattern 493t ... Through hole wiring 494 ... Conductor pattern 494t ... Through hole wiring 495 ... Conductor pattern 495t ... Through hole wiring 496 ... Conductor pattern 496t ... Through hole wiring 501 ... Conductor pattern 502 ... Conductor pattern 503 ... Conductor pattern 503t ... Through hole wiring 50 ... Conductor pattern 505t ... Through-hole wiring 506 ... Conductor pattern 506t ... Through-hole wiring 511 ... Conductor pattern 512 ... Conductor pattern 513 ... Conductor pattern 515 ... Conductor pattern 516 ... Conductor pattern 521 ... Conductor pattern 522 ... Conductor pattern 523 ... Conductor pattern 531 ... Conductor pattern 532 ... Conductor pattern 532a ... Conductor pattern 532b ... Conductor pattern M1 ... Insulating substrate M2 ... Insulating substrate M3 ... Insulating substrate M4 ... Insulating substrate M6 ... Insulating substrate M7 ... Insulating substrate M8 ... Insulating substrate M9 ... Insulating substrate Substrate M10 ... Insulating substrate M11 ... Insulating substrate M12 ... Insulating substrate M13 ... Insulating substrate IN ... Input terminal OUT ... Output terminal C11 ... Capacitor C12 ... Capacitor C21 ... Capacitor C22 ... Capacitor C31a ... Capacitor C31b ... Capacitor C41 ... Capacitor C42 ... Capacitor C43 ... Capacitor C45 ... Capacitor C45 ... Capacitor L11 ... Inductor L13 ... Inductor L14 ... Inductor L21 ... Inductor L22 ... Inductor L23 ... Inductor L24 ... Inductor L41 ... Inductor L42 ... Inductor L43 ... Inductor

Claims (12)

複数の絶縁基板が積層されてなる積層型電子部品であって、
外部電極と、
第1の導体パターンが形成されている第1の絶縁基板と、
前記外部電極に接続され、前記第1の導体パターンと一部が重なり、前記第1の導体パターンと重ならない部分に切り欠き部を有する第2の導体パターンが形成されている第2の絶縁基板と、
前記第1の導体パターンに接続されるインダクタ導体と、
を備える、積層型電子部品。
A laminated electronic component in which a plurality of insulating substrates are laminated,
An external electrode;
A first insulating substrate on which a first conductor pattern is formed;
A second insulating substrate connected to the external electrode and formed with a second conductor pattern that partially overlaps the first conductor pattern and has a notch in a portion that does not overlap the first conductor pattern When,
An inductor conductor connected to the first conductor pattern;
A multilayer electronic component comprising:
請求項1に記載の積層型電子部品において、前記インダクタ導体として、
一端が前記第1の導体パターンに接続されている第1のインダクタ導体と、
一端が前記第1のインダクタ導体の他端に接続され、他端が前記外部電極に接続されている第2のインダクタ導体と、
を備える、積層型電子部品。
In the multilayer electronic component according to claim 1, as the inductor conductor,
A first inductor conductor having one end connected to the first conductor pattern;
A second inductor conductor having one end connected to the other end of the first inductor conductor and the other end connected to the external electrode;
A multilayer electronic component comprising:
請求項2に記載の積層型電子部品において、
前記第1のインダクタ導体及び前記第2のインダクタ導体の少なくとも一方を分布定数素子として利用する、積層型電子部品。
The multilayer electronic component according to claim 2,
A multilayer electronic component using at least one of the first inductor conductor and the second inductor conductor as a distributed constant element.
前記積層型電子部品は、請求項2または請求項3に記載の第1の導体パターン、第2の導体パターン、第1のインダクタ導体、及び第2のインダクタ導体を有するバンドパスフィルタ回路を備える、
積層型電子部品。
The multilayer electronic component includes a band-pass filter circuit having the first conductor pattern, the second conductor pattern, the first inductor conductor, and the second inductor conductor according to claim 2 or claim 3.
Multilayer electronic components.
請求項4に記載の積層型電子部品において、
前記積層型電子部品は所定の通過周波数帯域をそれぞれ有する複数のフィルタ回路を備えるマルチプレクサであって、
前記複数のフィルタ回路のうち少なくとも1つは、前記バンドパスフィルタ回路である、積層型電子部品。
The multilayer electronic component according to claim 4,
The multilayer electronic component is a multiplexer including a plurality of filter circuits each having a predetermined pass frequency band,
The multilayer electronic component, wherein at least one of the plurality of filter circuits is the bandpass filter circuit.
請求項1から請求項6のいずれかに記載の積層型電子部品において、
前記切り欠き部がカギ型をしている、積層型電子部品。
In the multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 6,
A multilayer electronic component in which the notch has a key shape.
請求項1から請求項6のいずれかに記載の積層型電子部品において、
前記切り欠き部は、前記第2の導体パターンに囲まれている、積層型電子部品。
In the multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 6,
The cutout portion is a multilayer electronic component surrounded by the second conductor pattern.
請求項1から請求項7のいずれかに記載の積層型電子部品において、
前記第2の導体パターンに前記切り欠き部が複数備えられている、積層型電子部品。
In the multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 7,
A multilayer electronic component, wherein the second conductor pattern includes a plurality of the notches.
請求項1から請求項8のいずれかに記載の積層型電子部品において、さらに、
前記第1の絶縁基板上に前記第2の導体パターンと重なる第3の導体パターンを有し、
前記第2の導体パターン上の、前記第1の導体パターンと重なる部分、及び前記第3の導体パターンと重なる部分、の間に前記切り欠き部が設けられている、積層型電子部品。
The multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 8, further comprising:
Having a third conductor pattern overlapping the second conductor pattern on the first insulating substrate;
A multilayer electronic component, wherein the notch is provided between a portion overlapping the first conductor pattern and a portion overlapping the third conductor pattern on the second conductor pattern.
請求項1から請求項9のいずれかに記載の積層型電子部品において、
前記切り欠き部は、前記外部電極に接続される導体パターン以外の導体パターンのいずれとも重ならない位置に設けられている、積層型電子部品。
In the multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 9,
The multilayer electronic component, wherein the cutout portion is provided at a position where it does not overlap with any conductor pattern other than the conductor pattern connected to the external electrode.
請求項1から請求項10のいずれかに記載の積層型電子部品において、
前記外部電極と前記第2の導体パターンとの接続部の幅は、前記外部電極の幅と異なっている、積層型電子部品。
In the multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 10,
A multilayer electronic component, wherein a width of a connection portion between the external electrode and the second conductor pattern is different from a width of the external electrode.
複数の絶縁基板を積層してなる積層型電子部品の周波数特性の調整方法であって、
前記積層型電子部品は
外部電極と、
第1の導体パターンが形成されている第1の絶縁基板と、
前記外部電極に接続され、前記第1の導体パターンと一部が重なる第2の導体パターンが形成されている第2の絶縁基板と、
前記第1の導体パターンに接続されるインダクタ導体と、
を備え、
前記第2の導体パターン上であって、前記第1の導体パターンと重ならない部分に切り欠き部を設け、前記切り欠き部の位置、大きさ、形状を調整することにより、積層型電子部品の周波数特性を調整する積層型電子部品の周波数特性の調整方法。
A method for adjusting frequency characteristics of a multilayer electronic component formed by laminating a plurality of insulating substrates,
The multilayer electronic component includes an external electrode,
A first insulating substrate on which a first conductor pattern is formed;
A second insulating substrate connected to the external electrode and formed with a second conductor pattern that partially overlaps the first conductor pattern;
An inductor conductor connected to the first conductor pattern;
With
By providing a notch on the second conductor pattern and not overlapping the first conductor pattern, and adjusting the position, size, and shape of the notch, the multilayer electronic component A method of adjusting frequency characteristics of a multilayer electronic component that adjusts frequency characteristics.
JP2007220091A 2007-08-27 2007-08-27 Laminated electronic component and adjusting method of frequency characteristic of laminated electronic component Pending JP2009055344A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007220091A JP2009055344A (en) 2007-08-27 2007-08-27 Laminated electronic component and adjusting method of frequency characteristic of laminated electronic component

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007220091A JP2009055344A (en) 2007-08-27 2007-08-27 Laminated electronic component and adjusting method of frequency characteristic of laminated electronic component

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009055344A true JP2009055344A (en) 2009-03-12

Family

ID=40506002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007220091A Pending JP2009055344A (en) 2007-08-27 2007-08-27 Laminated electronic component and adjusting method of frequency characteristic of laminated electronic component

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009055344A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011071921A (en) * 2009-09-28 2011-04-07 Murata Mfg Co Ltd Multilayer band pass filter
KR101197393B1 (en) 2009-11-04 2012-11-05 주식회사 아모텍 Laminated chip device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06296102A (en) * 1993-02-10 1994-10-21 Tdk Corp Band control method for laminated component and laminated band pass filter
JPH0935998A (en) * 1995-07-21 1997-02-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laminated feedthrough capacitor
JPH09186050A (en) * 1995-12-28 1997-07-15 Murata Mfg Co Ltd Lc resonance component
JPH11251856A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Tdk Corp Laminated filter
JP2000277382A (en) * 1999-03-29 2000-10-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Multi-laminated ceramic capacitor and manufacturing method of the same
JP2001168669A (en) * 1999-12-09 2001-06-22 Murata Mfg Co Ltd Multilayer duplexer

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06296102A (en) * 1993-02-10 1994-10-21 Tdk Corp Band control method for laminated component and laminated band pass filter
JPH0935998A (en) * 1995-07-21 1997-02-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Laminated feedthrough capacitor
JPH09186050A (en) * 1995-12-28 1997-07-15 Murata Mfg Co Ltd Lc resonance component
JPH11251856A (en) * 1998-02-27 1999-09-17 Tdk Corp Laminated filter
JP2000277382A (en) * 1999-03-29 2000-10-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd Multi-laminated ceramic capacitor and manufacturing method of the same
JP2001168669A (en) * 1999-12-09 2001-06-22 Murata Mfg Co Ltd Multilayer duplexer

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011071921A (en) * 2009-09-28 2011-04-07 Murata Mfg Co Ltd Multilayer band pass filter
KR101197393B1 (en) 2009-11-04 2012-11-05 주식회사 아모텍 Laminated chip device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4569571B2 (en) LC composite parts
US9722567B2 (en) Variable-frequency resonance circuit and variable-frequency filter
JP2006351642A (en) Multilayer capacitor
JP2006261584A (en) Laminated capacitor
WO2018100918A1 (en) Laminated lc filter
JP2009218756A (en) Laminated type band-pass filter
JP5861693B2 (en) Multilayer bandpass filter
JP2009055344A (en) Laminated electronic component and adjusting method of frequency characteristic of laminated electronic component
JP2009111284A (en) Electronic component and passive component
US9148108B2 (en) Band pass filter
JP2009147921A (en) Lc composite electronic part
JP2006246123A (en) Laminated noise filter
JP2006222607A (en) Filter element and electronic module
TWI738428B (en) Diplexer
JP2016106445A (en) Lc filter elemental body and lc filter
JP2011147090A (en) Stacked multiplexer, stacked triplexer and filter circuit
JPH04284606A (en) Filter element
JP2018186417A (en) Lowpass filter
KR101444555B1 (en) Band pass filter
KR100550843B1 (en) Miniaturized laminated balance filter
JP5285951B2 (en) Bandpass filter and multilayer bandpass filter.
WO2020031838A1 (en) Band pass filter
JP2008141426A (en) Electronic component
JP2006101556A (en) Passive component
JP2006041632A (en) Lc composite filter component

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100118

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120423

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20120619

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20120809

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Effective date: 20130319

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02