KR20110045489A - Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly ? Coating apparatus for solid powder using the same - Google Patents

Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly ? Coating apparatus for solid powder using the same Download PDF

Info

Publication number
KR20110045489A
KR20110045489A KR1020090102094A KR20090102094A KR20110045489A KR 20110045489 A KR20110045489 A KR 20110045489A KR 1020090102094 A KR1020090102094 A KR 1020090102094A KR 20090102094 A KR20090102094 A KR 20090102094A KR 20110045489 A KR20110045489 A KR 20110045489A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
vacuum chamber
vacuum
injection nozzle
exhaust pipe
nozzle
Prior art date
Application number
KR1020090102094A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR101123634B1 (en
Inventor
김옥률
김옥민
이근식
정승채
Original Assignee
주식회사 펨빅스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 펨빅스 filed Critical 주식회사 펨빅스
Priority to KR1020090102094A priority Critical patent/KR101123634B1/en
Publication of KR20110045489A publication Critical patent/KR20110045489A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101123634B1 publication Critical patent/KR101123634B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/02Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
    • B05B1/04Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape in flat form, e.g. fan-like, sheet-like
    • B05B1/044Slits, i.e. narrow openings defined by two straight and parallel lips; Elongated outlets for producing very wide discharges, e.g. fluid curtains
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B1/00Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means
    • B05B1/02Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape
    • B05B1/06Nozzles, spray heads or other outlets, with or without auxiliary devices such as valves, heating means designed to produce a jet, spray, or other discharge of particular shape or nature, e.g. in single drops, or having an outlet of particular shape in annular, tubular or hollow conical form
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE: An apparatus controlling ambient pressure of a spray nozzle uniformly is provided to uniformly form the ambient pressure of a spray nozzle and the flow field inside a vacuum chamber by consecutively exhausting aerosol flowing into the vacuum chamber. CONSTITUTION: An apparatus controlling ambient pressure of a spray nozzle uniformly comprises: a vacuum chamber(23); a spray nozzle(15) which is connected to a transport pipe(14) and has a discharge hole inside the vacuum chamber; vacuum exhaust pipes(25,28) which are connected to one side of the vacuum chamber and form symmetric structure; and an exhaust pump(24) mounted on the vacuum exhaust pipes.

Description

분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치 및 이를 이용한 고상파우더 코팅장치{Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly & Coating apparatus for solid powder using the same}Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly & Coating apparatus for solid powder using the same}

본 발명은 진공챔버 내부에 위치한 노즐로부터 분사되는 수송기체의 임의 코팅속도가 일정하게 연속적으로 발현되어 진공챔버 내부에 위치한 기재에 임의 고상파우더가 균일하게 코팅될 수 있도록 분사노즐 주위압력을 일정하게 유지 제어할 수 있는 장치에 관한 것이다.The present invention maintains the constant pressure around the injection nozzle so that any coating speed of the transporting gas injected from the nozzle located inside the vacuum chamber is continuously and continuously expressed so that any solid powder can be uniformly coated on the substrate located inside the vacuum chamber. It relates to a device that can be controlled.

진공챔버 내부에 있는 기재에 분사 노즐을 통하여 파우더를 분사 코팅할 때, 파우더를 연속적으로 균일한 분사속도로 기재에 코팅하기 위해서는, 진공챔버 내부로 유입되는 수송기체 및 코팅 후 잔여 파우더를 연속적으로 진공배기하여, 진공챔버 내부에 위치한 분사노즐 주위의 압력을 임의의 일정한 값으로, 연속적으로 유지하여야 한다. When spray coating powder on the substrate inside the vacuum chamber through the spray nozzle, in order to continuously coat the powder on the substrate at a uniform spray speed, the transport gas flowing into the vacuum chamber and the remaining powder after coating are continuously vacuumed. The exhaust air must be continuously maintained at any constant value around the injection nozzle located inside the vacuum chamber.

따라서, 파우더 분사 코팅 방법에 있어서, 진공챔버 내부에 위치한 분사노즐 주위의 유동장 및 압력을 일정하게 유지하기 위해서는 진공배기장치의 위치, 진공배기관과 진공챔버 사이의 연결부 및 진공챔버 내부의 기재위치 등이 적절하게 설정되어야 상기 목적을 달성할 수 있다. Therefore, in the powder spray coating method, in order to maintain a constant flow field and pressure around the injection nozzle located inside the vacuum chamber, the position of the vacuum exhaust device, the connection portion between the vacuum exhaust pipe and the vacuum chamber, the substrate position in the vacuum chamber, etc. Appropriately set, the above object can be achieved.

종래의 진공챔버 내에 위치한 분사노즐을 통하여 파우더를 기재에 코팅하기 위한 진공챔버 내부 압력 조절 방법은 다음과 같다.Pressure control method inside the vacuum chamber for coating the powder on the substrate through the injection nozzle located in the conventional vacuum chamber is as follows.

(1) 파우더 분사방향에 대하여 좌측 또는 우측 한쪽 방향으로 진공배기하여 진공챔버 내부 압력을 조절하는 방법(1) How to adjust the pressure inside the vacuum chamber by evacuating in the left or right direction with respect to the powder injection direction

1) 미합중국 특허등록 US 6,759,085("Method and apparatus for low pressure cold spraying"; PCT/US03/18758)는 진공챔버 내부에 콜드스프레이 건(라발노즐; 초음속 노즐)을 위치시키고, 상기 노즐방향에 대하여 우측방향에 진공배기 장치를 연결하고, 상기 노즐을 통하여 비활성 수송기체로 파우더를 수송하여 분사 코팅하고, 이와 더불어 코팅 후 남은 파우더를 다시 회수할 수 있는 기술로 기재되어 있다. 상기 특허 명세서 Fig. 1에 보이는 바와 같이 파우더를 회수하고, 비활성 수송기체를 배기하는 배기 위치가 파우더 분사 방향에 대하여 우측방향 한 쪽에 위치하므로, 상기 노즐 주위와 기재 하부 및 진공챔버 내부 임의 위치에서의 압력이 서로 상이할 수 밖에 없다. 즉, 진공배기펌프가 연결되어 있는 연결부에 가까울수록 진공압력이 낮고, 멀수록 진공압력이 높기 때문이다. 만약, 연속적으로 진공챔버 내부로 비활성 수송기체가 유입되지 않는 챔버의 기체를 배기한다면 시간이 경 과됨에 따라, 진공챔버의 임의 위치에서 압력차가 거의 없고, 종국에는 진공챔버 내부의 압력이 일정하게 형성될 것이나, 상기 파우더 분사 코팅 시스템에서는 연속적으로 파우더를 코팅하기 위해서 수송기체를 진공챔버 내부로 유입하여야 하기 때문에 수송기체 유입으로 인한 진공챔버 내부의 유동장 및 압력 분포가 상기 진공배기펌프의 연결 위치에 기인하여 압력분포가 상이할 수밖에 없다. 또한, 상기 라발노즐을 사용하는 시스템에서는 초음속 발현을 위하여 분사노즐 전단부의 압력과 상기 노즐 주위의 압력비로 수송기체의 분사속도가 결정(라발노즐의 노즐목과 출구 단면적비가 이미 결정된 상태)되므로, 연속적으로 임의의 일정한 분사 코팅속도를 발현하기 위해서는 노즐 주위 임의의 압력을 일정하게 제어하여야, 연속적으로 유입되는 수송기체의 흐름을 일정하게 할 수 있다. 따라서, 파우더를 연속적으로 일정하게 코팅하기 위하여 상기와 같은 문제점을 반드시 해결하여야 한다.1) US 6,759,085 ("Method and apparatus for low pressure cold spraying"; PCT / US03 / 18758) places a cold spray gun (labal nozzle; supersonic nozzle) inside a vacuum chamber, and to the right with respect to the nozzle direction. It is described as a technique for connecting the vacuum exhaust device in the direction, spray coating the powder to the inert transport gas through the nozzle, and also recover the powder remaining after the coating. The patent specification As shown in Fig. 1, since the exhaust position for recovering the powder and exhausting the inert transport gas is located on the right side with respect to the powder ejection direction, the pressures around the nozzle and under the substrate and at any position inside the vacuum chamber may be different from each other. There is no choice but to. That is, the closer to the connection to which the vacuum exhaust pump is connected, the lower the vacuum pressure, and the farther the higher the vacuum pressure. If the gas is continuously exhausted from the chamber in which the inert transport gas is not introduced into the vacuum chamber, as time passes, there is almost no pressure difference at any position of the vacuum chamber, and eventually the pressure inside the vacuum chamber is uniformly formed. However, in the powder spray coating system, since the transport gas must be introduced into the vacuum chamber to continuously coat the powder, the flow field and the pressure distribution inside the vacuum chamber due to the transport gas inflow are attributable to the connection position of the vacuum exhaust pump. Inevitably, the pressure distribution is different. In addition, in the system using the Laval nozzle, the injection speed of the transport gas is determined by the ratio of the pressure at the front end of the injection nozzle to the pressure around the nozzle for the supersonic expression (the state of the nozzle neck and the outlet cross-sectional area of the Laval nozzle is already determined). In order to express any constant spray coating rate, it is necessary to constantly control any pressure around the nozzle, so that the flow of transport gas continuously introduced can be made constant. Therefore, the above problems must be solved in order to continuously and consistently coat the powder.

2) 대한민국 특허등록 10-0724070("복합구조물 및 그의 제조방법과 제조장치"; PCT/JP2000/007076), 대한민국 특허등록 10-0767395("복합구조물"; PCT/JP2000/007076), 대한민국 특허등록 10-0695046("초미립자 취성재료의 저온성형 방법"; PCT/JP2003/006640), 대한민국 특허등록 10-0499613("전자방출소자와 전자원자 발광장치 및 화상 형성장치의 제조방법"), 대한민국 특허등록 10-0531165("기판위에 고정된 카본파이버를 위한 방법 및 장치") 및 미합중국 특허등록 US 7,306,503("Method and apparatus of fixing carbon fibers on a substrate using an aerosol deposition process")은 에어로졸 증착법을 이용한 파우더 분사 코팅 방법을 제시하였다. 상기와 마찬가지로, 진공챔버 내부에 위치한 분사노즐의 파우더 분사방향에 대하여 진공배기펌프를 우측 한쪽 방향에 설치하여, 에어로졸 챔버와 진공챔버의 압력차이로 파우더가 분사되어 진공챔버 내부에 위치한 기재에 파우더가 코팅되도록 한 기술이다. 다만, 진공챔버 내부에 분사노즐을 라발노즐(초음속 노즐)로 사용하지 않고, 아음속 노즐을 사용하는 특징이 있다. 따라서, 공기를 수송기체로 사용할 경우, 상기 시스템에서는 340m/s 이하로 수송기체의 분사속도를 발현할 수 있고, 이와 더불어 수송기체의 분사속도를 340m/s 이상 발현하기 위해서 헬륨 기체를 사용하는 것이 특징이다. 즉, 상기 분사속도를 구현하기 위해서는 상기 분사노즐 전단면의 압력과 진공챔버 내부의 압력(분사노즐 주위의 압력)비로 속도가 결정된다. 예를 들면, 상기 시스템에서 수송기체를 공기로 사용할 경우 상기 분사노즐 전단부의 압력(Po)과 진공챔버 내부압력(분사노즐 주위의 압력;P) 비(P/Po)가 0.528 이하이면 약 340m/s로 수송기체의 분사속도(상온)가 발현된다. 따라서, 진공챔버로 유입되는 수송기체를 진공배기하여 진공챔버 내부 분사노즐 주위의 압력을 일정하게 유지하여, 일정한 임의의 분사속도를 발현하여야 코팅 목적을 달성할 수 있다.2) Republic of Korea Patent Registration 10-0724070 ("Composite Structure and Manufacturing Method and Manufacturing Device"; PCT / JP2000 / 007076), Republic of Korea Patent Registration 10-0767395 ("Composite Structure"; PCT / JP2000 / 007076), Republic of Korea Patent Registration 10-0695046 ("Low Temperature Molding Method of Ultrafine Particles Brittle Material"; PCT / JP2003 / 006640), Republic of Korea Patent Registration 10-0499613 ("Method of Manufacturing Electron Emission Device, Electron Atomic Light Emitting Device and Image Forming Device"), Republic of Korea Patent Registration 10-0531165 ("Method and apparatus for fixing carbon fibers on substrate") and US Patent No. 7,306,503 ("Method and apparatus of fixing carbon fibers on a substrate using an aerosol deposition process") are sprayed by aerosol deposition. The coating method is presented. In the same manner as above, the vacuum exhaust pump is installed on the right side with respect to the powder ejection direction of the ejection nozzle located inside the vacuum chamber, so that the powder is ejected by the pressure difference between the aerosol chamber and the vacuum chamber so that the powder is placed on the substrate located inside the vacuum chamber. It is a technique to be coated. However, there is a feature that a subsonic nozzle is used instead of a spray nozzle as a laval nozzle (supersonic nozzle) inside the vacuum chamber. Accordingly, when air is used as the transport gas, the system can express the injection speed of the transport gas at 340 m / s or less, and in addition, helium gas is used to express the injection speed of the transport gas at 340 m / s or more. to be. That is, in order to implement the injection speed, the speed is determined by the ratio of the pressure on the front face of the injection nozzle and the pressure (pressure around the injection nozzle) inside the vacuum chamber. For example, when the carrier gas is used as air in the system, when the ratio of the pressure Po at the front end of the injection nozzle to the internal pressure of the vacuum chamber (pressure around the injection nozzle; P) is less than 0.528, it is about 340 m /. s expresses the injection rate (room temperature) of the transport gas. Accordingly, the coating object may be achieved only by evacuating the transport gas flowing into the vacuum chamber to maintain a constant pressure around the injection nozzle inside the vacuum chamber, and expressing a certain arbitrary injection speed.

한편, 상기 대한민국 특허등록 10-0724070("복합구조물 및 그의 제조방법과 제조장치"; PCT/JP2000/007076)의 명세서 도 1에 보이는 바와 같이, 파우더 분사방향에 대하여 우측에 배기펌프가 위치하고 있으므로, 분사노즐 우측 및 좌측 쪽의 압력이 일정하지 않고, 기판 상부와 기판 하부 사이의 압력이 상이하다. 만약, 이러한 압력차 없이 진공챔버 내부의 압력을 일정하게 유지하기 위해서는 진공챔버 내부로 유입되는 수송기체의 질량유량보다 훨씬 많은 질량유량을 연속적으로 배기할 수 있는 진공펌프가 더 필요할 뿐만 아니라, 분사되는 수송기체 및 코팅 후 잔여 파우더가 좌측에 있는 배기펌프에 연결되어 있는 연결관에 연속적으로 배기되지 못하고 배기관 단면을 제외한 우측벽에 부딪혀 새로운 유동장(와류)이 발생하게 됨으로써, 진공챔버 내부 좌측벽 우측벽, 바닥, 천정에 분포하는 압력이 다르게 분포되어 일정한 압력이 유지되지 못하고, 분사속도 또한 일정하게 유지될 수 없으므로, 코팅효율, 코팅두께 등을 제어하기가 어려운 문제점이 있다.On the other hand, the specification of the Republic of Korea Patent Registration 10-0724070 ("Composite structure and its manufacturing method and manufacturing apparatus"; PCT / JP2000 / 007076) as shown in Figure 1, since the exhaust pump is located on the right side with respect to the powder injection direction, The pressures on the right and left sides of the injection nozzle are not constant, and the pressure between the upper part of the substrate and the lower part of the substrate is different. In order to maintain a constant pressure inside the vacuum chamber without such a pressure difference, a vacuum pump capable of continuously exhausting a mass flow rate much larger than the mass flow rate of the transport gas flowing into the vacuum chamber is needed, and also After the transport gas and the coating, the remaining powder is not continuously exhausted to the connecting pipe connected to the exhaust pump on the left side, and a new flow field (vortex) is generated by hitting the right side wall except the exhaust pipe cross section. , The pressure is distributed differently on the floor, the ceiling is not maintained a constant pressure, the injection speed also can not be kept constant, there is a problem that it is difficult to control the coating efficiency, coating thickness and the like.

(2) 파우더 분사방향에 대하여 상측 또는 하측 한쪽 방향으로 진공배기하여 진공챔버 내부 압력을 조절하는 방법(2) A method of adjusting the pressure inside the vacuum chamber by evacuating the upper or lower direction with respect to the powder spraying direction

1) 대한민국 특허등록 10-0846148("고상파우더를 이용한 증착박막 형성방법 및 장치"), 대한민국 특허등록 10-0490112("파이버의 제조방법 및 그 파이버를 이용한 전자방출소자와 전자원 및 화상표시 장치 각각의 제조방법")는 에어로졸 증착법을 응용한 것으로서, 파우더 분사방향에 대하여 진공배기장치를 하향으로 설치하여 진공챔버 내부의 압력을 조절하여 파우더를 기재에 코팅하는 것을 개시하였다. 상기 특허등록 10-0846148의 명세서 도 3 및 상기 특허등록 10-0490112의 명세서 도 2에 보이는 바와 같이, 분사되는 수송기체 및 코팅 후 잔여 파우더를 파우더 분사방향에 대하여 하향으로 진공배기하기 때문에 하향에 있는 배기펌프에 연결된 연결관에 연속적으로 배기되지 못하고 연결부 배기관 단면을 제외한 벽에 부딪혀 새 로운 유동장(와류)이 발생하게 됨으로써, 진공챔버 내부 임의의 위치에 압력이 다르게 분포되고, 또한 분사노즐 주위 압력도 일정하게 유지되지 못하여 일정한 분사속도가 유지될 수 없으므로, 코팅효율, 코팅두께 등을 제어하기가 어려운 문제점이 있다.1) Republic of Korea Patent Registration 10-0846148 ("Method and Apparatus for Forming Evaporation Thin Film Using Solid Powder"), Republic of Korea Patent Registration 10-0490112 ("Manufacturing Method of Fiber and Electron Emitting Device, Electron Source and Image Display Device Using the Fiber Each manufacturing method ") applies an aerosol deposition method and discloses coating a powder on a substrate by adjusting a pressure inside the vacuum chamber by installing a vacuum exhaust device downward with respect to the powder injection direction. As shown in FIG. 3 of the Patent Registration 10-0846148 and FIG. 2 of the Patent Registration 10-0490112, the sprayed transport gas and the remaining powder after coating are evacuated downward with respect to the powder spraying direction. As a new flow field (vortex) is generated by continuously hitting a wall excluding the end face of the connection exhaust pipe without continuously exhausting the connection pipe connected to the exhaust pump, pressure is differently distributed at any position in the vacuum chamber, and the pressure around the injection nozzle is also reduced. Since it cannot be kept constant and a constant spray speed cannot be maintained, there is a problem that it is difficult to control the coating efficiency, coating thickness and the like.

전술한 바와 같이 종래의 파우더 분사 코팅 시스템에 있어서, 진공챔버 내부의 압력 조절방법은 파우더 분사 방향에 대하여(도면 기준으로) 좌측 한쪽 방향([도 1a]), 우측 한쪽 방향([도 1b]), 하향 한쪽 방향([도 1c]), 상향 한쪽방향([도 1d])에 진공배기장치를 설치하여 진공챔버 내부로 유입되는 에어로졸을 분사하여 파우더를 코팅한 후 연속적으로 수송기체 및 코팅 후 잔여 파우더를 배기할 수 있도록 한 것이다. 다만, 종래의 진공챔버 내부의 압력조절 방법에서는 진공배기펌프의 위치, 진공배기 연결관의 단면적, 기재의 위치가 적절하지 않아서, 전술한 바와 같이 진공챔버 내부에 위치한 노즐 주위의 압력을 일정하게 유지하기 어렵고, 진공챔버 내부에 와류를 동반한 유동장이 형성되는 문제점이 있는 것이 주지의 사실이다.As described above, in the conventional powder spray coating system, the pressure control method inside the vacuum chamber is one of the left direction ([FIG. 1A]) and the right one direction ([FIG. 1B]) with respect to the powder spraying direction (based on the drawing). After installing a vacuum exhaust device in one downward direction ([FIG. 1c]) and one upward direction ([FIG. 1d]), the aerosol flowing into the vacuum chamber is sprayed to coat the powder, and then continuously transport gas and remain after the coating. The powder can be exhausted. However, in the conventional pressure control method inside the vacuum chamber, the position of the vacuum exhaust pump, the cross-sectional area of the vacuum exhaust connection pipe, and the position of the substrate are not appropriate, and as described above, the pressure around the nozzle located inside the vacuum chamber is kept constant. It is a well known fact that there is a problem in that a flow field accompanied with vortices is formed inside the vacuum chamber.

따라서, 임의의 파우더를 임계 코팅속도 이상으로 연속적으로 코팅하기 위해서는 진공챔버 내부 노즐주위의 압력을 일정하게 유지하여 진공챔버 내 일정한 유동장을 형성하여, 파우더를 분사 코팅할 수 있는 방법 및 장치가 필요하다.Accordingly, in order to continuously coat any powder at a critical coating speed or more, a method and apparatus for forming a constant flow field in the vacuum chamber by maintaining a constant pressure around the nozzle inside the vacuum chamber and spray coating the powder are required. .

본 발명은 진공챔버 내부로 유입되는 에어로졸을 연속적으로 배기하여 진공챔버 내부에 위치한 분사노즐 주위의 압력 및 진공챔버 내부의 유동장을 일정하게 형성할 수 있는 방법 및 장치를 제공하는데 그 목적이 있다. It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for continuously forming a flow field inside a vacuum chamber and a pressure around an injection nozzle located inside the vacuum chamber by continuously exhausting aerosols introduced into the vacuum chamber.

본 발명에서는 상기한 과제 해결을 위해 다음과 같은 수단을 적용한다.In the present invention, the following means are applied to solve the above problems.

첫째, 진공챔버에 진공배기 위치를 설정하되, 진공챔버 내부로 유입되는 수송기체 및 코팅 후 잔여 파우더는 기재표면을 따라 흐르므로, 진공챔버 연결부에 진공배기관을 양측면 또는 방사(radial) 방향으로 대칭적으로 연결하여, 상기 각 진공배기연결관을 통하여 일정한 양을 연속적으로 배기하여, 상기 진공챔버 내부에 일정한 유동장이 형성되도록 함으로써 진공챔버 내부에 위치한 노즐주위의 압력을 일정하게 유지시킨다. First, the vacuum exhaust position is set in the vacuum chamber, but the transport gas flowing into the vacuum chamber and the remaining powder after coating flow along the substrate surface, so that the vacuum exhaust pipe is symmetrically in both sides or the radial direction at the connection to the vacuum chamber. By connecting to each of the vacuum exhaust through the exhaust pipe in a predetermined amount continuously, a constant flow field is formed inside the vacuum chamber to maintain a constant pressure around the nozzle located inside the vacuum chamber.

둘째, 파우더 분사 코팅에 필요한 진공챔버 내부에 위치한 노즐주위를 임의 압력으로 일정하게 유지하되, 임의의 파우더가 진공챔버 내부에 위치한 기재에 코팅이 균일하게 될 수 있도록 노즐 주위의 압력게이지를 상기 진공배기펌프에 설치되어 있는 배기질량유량조절장치와 연동시켜 임의의 압력으로 제어한다.Second, while maintaining a constant pressure around the nozzle located inside the vacuum chamber required for powder spray coating at a certain pressure, the pressure gauge around the nozzle so that the coating is uniform on any substrate is located inside the vacuum chamber the vacuum exhaust Controlled by arbitrary pressure in conjunction with the exhaust mass flow regulator installed in the pump.

셋째, 진공챔버 내부에 위치한 기재거치대(이송장치 등)가 차지하는 공간에서 와류가 발생하지 않도록 기재거치대(이송장치 등)를 진공챔버 외부에 설치하고 기재가 진공챔버 바닥에 밀착되는 구조를 형성하여 일정한 유동장이 형성될 수 있도록 한다.Third, in order to prevent vortices from occurring in the space occupied by the substrate holder (transfer device, etc.) located inside the vacuum chamber, the substrate holder (transfer device, etc.) is installed outside the vacuum chamber, and the substrate is formed in close contact with the bottom of the vacuum chamber. Allow the flow field to form.

본 발명에 따르면 진공챔버 내부 분사노즐 주위의 압력을 일정하게 조절할 수 있어, 기존 압력조절 방법에서 제기된 여러 문제점들을 해결할 수 있다.According to the present invention, it is possible to constantly adjust the pressure around the injection nozzle inside the vacuum chamber, thereby solving various problems raised in the conventional pressure control method.

구체적으로는, Specifically,

첫째, 진공챔버 내부로 유입되는 수송기체 및 코팅 후 잔여 파우더를 진공챔버 연결부에 각각 대칭적으로 연결되어 있는 진공배기관을 통하여, 양측면 또는 방사(radial) 방향으로 진공배기하여 분사노즐 주위의 임의 압력을 일정하게 제어할 수 있다.First, through the vacuum exhaust pipe symmetrically connected to the transport gas flowing into the vacuum chamber and the remaining powder after coating, respectively, the vacuum exhaust in both sides or the radial direction to evacuate any pressure around the injection nozzle It can be controlled constantly.

둘째, 기재를 진공챔버 내부 바닥에 밀착하여 위치시킴으로써 기재 주위에 발생하는 와류를 최소화하여 파우더 분사 코팅에 의한 일정한 유동장을 형성하고, 진공챔버 내부 및 분사노즐 주위의 압력을 일정하게 제어할 수 있다.Second, by placing the substrate in close contact with the bottom of the vacuum chamber to minimize the vortices generated around the substrate to form a constant flow field by the powder spray coating, it is possible to control the pressure inside the vacuum chamber and the injection nozzle uniformly.

셋째, 진공챔버 내부에 위치한 노즐 주위의 일정한 압력 발현으로, 분사되는 파우더(금속, 세라믹, 폴리머, 특수재료 등)의 코팅속도를 일정하게 구현하기가 매우 용이하다.Third, it is very easy to realize a constant coating speed of the powder (metal, ceramic, polymer, special material, etc.) to be sprayed with a constant pressure around the nozzle located inside the vacuum chamber.

넷째, 진공챔버 내부에 위치한 노즐 주위의 일정한 압력 발현으로, 일정한 코팅속도가 유지되므로, 파우더의 코팅효율을 향상시킬 수 있기 때문에 낭비되는 (코팅이 되지 않고 남은) 파우더의 양을 획기적으로 줄일 수 있다.Fourth, the constant coating speed is maintained by the constant pressure around the nozzle located inside the vacuum chamber, so that the coating efficiency of the powder can be improved, which can drastically reduce the amount of wasted powder (uncoated left). .

결과적으로, 본 발명에 의하면 진공챔버 내부 분사노즐 주위의 압력이 일정하게 제어하여 분사속도가 일정하게 연속적으로 발휘되므로 파우더 분사 코팅효율이 높아지는 효과가 있다.As a result, according to the present invention, since the pressure around the injection nozzle inside the vacuum chamber is constantly controlled, the spraying speed is continuously exhibited, thereby increasing the powder spray coating efficiency.

Ⅰ. 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치Ⅰ. A device that constantly controls the pressure around the injection nozzle

본 발명은 진공챔버; 수송관에 연결되어 상기 진공챔버 내부에 토출구를 갖는 분사노즐; 상기 진공챔버에 측면에 연결되어 좌우대칭을 이루는 진공배기관; 및 상기 진공배기관에 장착된 배기펌프; 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치를 제공한다.The present invention vacuum chamber; An injection nozzle connected to a transport pipe and having a discharge port inside the vacuum chamber; A vacuum exhaust pipe connected to a side of the vacuum chamber to form left and right symmetry; And an exhaust pump mounted to the vacuum exhaust pipe. It provides a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle characterized in that it comprises a.

또한, 본 발명에서는 상기 분사노즐은 전후방향으로 긴 토출구를 갖는 슬릿형 분사노즐이고, 상기 진공배기관은 진공챔버의 좌우 양 측면에 연결된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치를 함께 제공한다.In the present invention, the injection nozzle is a slit-type injection nozzle having a discharge port long in the front and rear direction, the vacuum exhaust pipe is a device for controlling the constant pressure around the injection nozzle, characterized in that connected to the left and right sides of the vacuum chamber together to provide.

또한, 본 발명에서는 상기 분사노즐은 전후방향으로 긴 토출구를 갖는 슬릿형 분사노즐이고, 상기 진공배기관은 진공챔버의 전후좌우 4측면에 연결된 것을 특 징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치를 함께 제공한다.In addition, in the present invention, the injection nozzle is a slit-type injection nozzle having a discharge port long in the front and rear direction, the vacuum exhaust pipe is a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that connected to the front, rear, left and right sides of the vacuum chamber Comes with.

또한, 본 발명에서는 상기 분사노즐은 원형의 토출구를 갖는 원형 분사노즐이고, 상기 진공배기관은 진공챔버의 전후좌우 4측면에 연결된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치를 함께 제공한다.In addition, in the present invention, the injection nozzle is a circular injection nozzle having a circular discharge port, the vacuum exhaust pipe is provided with a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that connected to the four sides front, rear, left and right of the vacuum chamber. .

또한, 본 발명에서는 상기 진공챔버와 진공배기관이 접하는 진공챔버 연결부와 진공배기관 연결부가 상호 동일한 형태와 단면적으로 구성된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치를 함께 제공한다.In addition, the present invention provides a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that the vacuum chamber connection portion and the vacuum exhaust pipe connection portion in contact with the vacuum chamber and the vacuum exhaust pipe is configured in the same shape and cross-sectional area.

또한, 본 발명은 상기 진공펌프에 구비되어 배기량을 조절하는 배기질량유량조절장치; 및 상기 분사노즐 주변에 설치된 압력게이지; 를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치를 함께 제공한다.In addition, the present invention is provided in the vacuum pump exhaust mass flow rate adjusting device for adjusting the exhaust amount; And a pressure gauge installed around the injection nozzle; It further provides a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that the configuration further comprises.

또한, 본 발명에서 상기 진공배기관은 배기펌프와 함께 좌우대칭을 유지한 채 일체(一體)를 이루도록 연결된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치를 함께 제공한다.In addition, in the present invention, the vacuum exhaust pipe is provided with an apparatus for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that the exhaust pump and connected to form an integral (main body) while maintaining the left and right symmetry.

또한, 본 발명에서는 상기 진공챔버 하면의 전부 또는 일부에 개방부가 형성 되어 있고, 상기 진공챔버 하부에는 기재이송장치; 가 장착되어 있으며, 상기 개방부는 상기 기재이송장치의 상면에 의해 밀폐되도록 구성된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치를 함께 제공한다.In addition, in the present invention, the opening portion is formed in all or part of the lower surface of the vacuum chamber, the lower portion of the vacuum chamber substrate transfer device; Is provided, the opening is provided with a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that configured to be closed by the upper surface of the substrate transfer device.

이하에서는 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면과 함께 자세히 설명하기로 한다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with the accompanying drawings.

전술한 바와 같이, 종래에는 진공배기관과 배기펌프의 위치 및 연결방법이 적절하지 않았기 때문에 진공챔버로 유입되는 에어로졸로 인한 분사노즐 주위의 유동장 및 압력을 일정하게 유지하는 것이 어려웠다. 즉, 종래에는 배기펌프가 에어로졸 분사방향에 대하여 좌측([도 1a]), 우측([도 1b]), 하측([도 1c]), 상측([도 1d]) 중 어느 한쪽에 설치하여, 진공챔버 내부로 유입되는 에어로졸을 연속적으로 배기토록 하였다. 그러나, 상기 종래 시스템에서는 배기펌프의 위치에 따라, 분사노즐 주위의 압력을 일정하게 유지하기 어려웠고, 계속해서 유입되는 수송기체 및 코팅 후 잔류 파우더로 인하여 진공챔버 내부 벽체에 와류 유동장이 형성되어 연속적인 코팅 공정을 수행할 때 파우더의 손실뿐만 아니라 코팅효율 및 임의 파우더의 임의 코팅속도를 일정하게 유지하기 어려운 문제점이 있었다.As described above, it is difficult to maintain a constant flow field and pressure around the injection nozzle due to the aerosol flowing into the vacuum chamber because the conventional method and location of the vacuum exhaust pipe and the exhaust pump is not appropriate. That is, conventionally, the exhaust pump is installed on one of the left side ([FIG. 1A]), the right side ([FIG. 1B]), the lower side ([FIG. 1C]), and the upper side ([FIG. 1D]) with respect to the aerosol injection direction. The aerosol flowing into the vacuum chamber was continuously exhausted. However, in the conventional system, it is difficult to maintain a constant pressure around the injection nozzle, depending on the position of the exhaust pump, and a vortex flow field is formed on the inner wall of the vacuum chamber due to the transport gas continuously introduced and the residual powder after coating. When performing the coating process, there was a problem in that it is difficult to maintain constant coating efficiency and arbitrary coating speed of powder as well as loss of powder.

일반적으로, 파우더 분사코팅은 진공챔버 내부에 있는 분사노즐부터 수송기체 및 파우더가 분사되어 코팅되고, [도 2]의 (a)에 도시된 바와 같이 에어로졸(수 송기체와 코팅 후 잔여 파우더)이 기재 상부 표면을 따라 흐르는 메카니즘을 따른다. 특히, 분사노즐의 형상에 따라, 에어로졸이 기재 상부 표면에서 흐르는 유동장이 상이하게 나타나는데 [도 2]의 (b)에 도시된 바와 같이, 슬릿형 분사노즐(장방형의 아음속 또는 초음속 노즐)을 사용하는 경우는 분사노즐의 폭이 큰 양방향으로 주흐름(main stream)이 발생하고, 분사노즐의 폭이 작은 방향으로는 흐름이 미미하다. 상기 슬릿형 분사노즐과 다르게, 원형 분사노즐(아음속 또는 초음속 노즐)을 사용할 경우에는 [도 2]의 (c)에 도시된 바와 같이, 방사(radial) 방향으로 에어로졸의 유동장이 발생한다.In general, the powder spray coating is coated by spraying the transport gas and powder from the spray nozzle inside the vacuum chamber, and as shown in (a) of FIG. 2, the aerosol (remaining powder after transport and coating) is Follow the mechanism flowing along the substrate upper surface. In particular, depending on the shape of the injection nozzle, the flow field flowing through the aerosol on the upper surface of the substrate appears different, as shown in (b) of Figure 2, using a slit-type injection nozzle (rectangular subsonic or supersonic nozzle) In this case, the main stream is generated in both directions in which the width of the injection nozzle is large, and the flow is minimal in the direction in which the width of the injection nozzle is small. Unlike the slit-type injection nozzle, when using a circular injection nozzle (subsonic or supersonic nozzle), as shown in (c) of FIG. 2, the flow field of the aerosol occurs in the radial direction.

따라서, 본 발명에서는 [도 3] 내지 [도 5]에 도시된 바와 같이, 에어로졸 분사방향에 영향을 최소화하고, 진공챔버에 좌우대칭적으로 진공배기관을 연결하여 각각 동일한 배기량으로 배기토록 함으로써 발명의 목적을 달성코자 하였다. 즉, 분사노즐의 형상에 따라, 슬릿형 분사노즐(초음속 또는 아음속 노즐)을 적용할 경우에는 진공배기관을 좌우 양 측면([도 3] 참조) 또는 전후좌우 4측면(방사(radial) 방향)에 연결시켜 진공배기하고, 원형 분사노즐(아음속 또는 초음속노즐)을 사용할 경우에는 전후좌우 4측면(방사(radial) 방향, [도 4] 참조)으로 연결시켜 대칭적으로 진공 배기하여 진공챔버 내부에 위치한 분사노즐 주위의 압력 및 진공챔버 내부의 유동장이 일정하게 형성되도록 하였다.Therefore, in the present invention, as shown in [3] to [5], the effect of the invention is minimized by minimizing the influence on the aerosol injection direction and connecting the vacuum exhaust pipes symmetrically to the vacuum chamber so as to exhaust them at the same displacement. To achieve the purpose. That is, depending on the shape of the injection nozzle, when applying a slit-type injection nozzle (supersonic or subsonic nozzle), the vacuum exhaust pipe is disposed on both the left and right sides (refer to [Fig. 3]) or on four sides (radial direction). Vacuum exhaust by connecting, and in the case of using a circular injection nozzle (subsonic or supersonic nozzle) connected to the four sides (radial direction, radial direction, see Fig. 4) front and rear and symmetrically evacuated and placed inside the vacuum chamber The pressure around the injection nozzle and the flow field inside the vacuum chamber were made constant.

상기 진공챔버를 기준으로 좌우 대칭형으로 진공배기관을 연결하고, 각 진공 배기관을 통하여 동일한 배기량으로 배기할 때, [도 7]에 보이는 바와 같이, 진공챔버와 진공배기관 연결부의 단면형상을 원형([도 7]의 (a) 참조), 사각형([도 7]의 (b) 참조) 등의 연결단면을 형성할 수 있다. 상기 진공챔버와 진공배기관이 접하는 부분인 진공챔버 연결부와 진공배기관 연결부의 단면형상과 단면적은, [도 8]의 (a)에 도시된 바와 같이 상기 진공챔버와 진공배기관이 접하는 부위인 진공챔버 연결부와 진공배기관 연결부를 상호 동일한 형태와 단면적으로 구성한 경우와, [도 8]의 (b)에 도시된 바와 같이 상기 진공챔버 연결부와 진공배기관 연결부의 단면적이 동일하지 않은 경우가 있을 수 있다. [도 8]의 (b)에 도시된 바와 같이 구성된 경우는 진공챔버로 유입된 에어로졸이 즉시 배기되지 않고 와류정체부가 발생하는 반면, [도 8]의 (a)에 도시된 바와 같이 구성된 경우는 진공배기관 연결부 단면 전체로 배기되어 수송기체 및 코팅 후 잔류 파우더가 와류되지 않고 즉시 배기 되어 연속적으로 노즐 주위의 압력이 일정하게 유지된다. 즉, 진공챔버 연결부와 진공배기관 연결부의 단면적이 같아질수록, 진공챔버 내부에 위치한 노즐주위의 압력을 일정하게 유지하는데 더 용이하게 되는 것이다.When the vacuum exhaust pipes are connected symmetrically with respect to the vacuum chamber and exhausted at the same displacement through the respective vacuum exhaust pipes, as shown in FIG. 7, the cross-sectional shape of the connection between the vacuum chamber and the vacuum exhaust pipe is circular ([FIG. (A) of FIG. 7), and a connection section such as a quadrangle (see (b) of FIG. 7) can be formed. The cross-sectional shape and cross-sectional area of the vacuum chamber connecting portion and the vacuum exhaust pipe connecting portion, which is a portion where the vacuum chamber and the vacuum exhaust pipe are in contact, are the vacuum chamber connecting portion, which is a portion where the vacuum chamber and the vacuum exhaust pipe are in contact with each other, as shown in FIG. And the vacuum exhaust pipe connection part may be configured to have the same shape and cross-sectional area, and the cross-sectional areas of the vacuum chamber connection part and the vacuum exhaust pipe connection part may not be the same as shown in (b) of FIG. 8. In the case of the configuration as shown in (b) of FIG. 8, the vortex stagnation occurs without the aerosol flowing into the vacuum chamber immediately, whereas in the case of the configuration as shown in (a) of FIG. The exhaust pipe is exhausted through the entire cross section, and the remaining gas is not vortexed after the transport gas and the coating is exhausted immediately so that the pressure around the nozzle is continuously maintained. That is, the more the cross-sectional area of the vacuum chamber connection portion and the vacuum exhaust pipe connection portion is the same, the easier it is to maintain a constant pressure around the nozzle located inside the vacuum chamber.

한편, 종래의 진공챔버는 기재의 위치로 인하여 진공챔버 내부 압력을 일정하게 조절하는 것이 용이하지 않았다. 즉, 종래의 파우더 분사 코팅 시스템에서는 [도 1a] 내지 [도 1d]에 도시된 바와 같이, 기재가 진공챔버 내부에 기재홀더 등과 같은 와류 유동장을 형성할 수 있는 구조물 상부에 거치되므로, 진공챔버 내부의 기재 상부 및 하부에서의 압력이 동일하지 않고, 진공배기펌프 가까이 있는 위치에 서 더 낮은 압력 분포를 보인다. 따라서, 본 발명에서는 진공챔버 내부에 위치할 기재의 위치를 챔버 바닥면쪽으로 재설정함으로써 진공챔버 내부(분사노즐 주위)의 압력을 일정하게 조절하고자 하였다. 즉, 기재를 1) 진공챔버의 바닥면에 배치하거나, 2) 진공챔버의 바닥면 위에 장착된 기재이송장치 위에 배치하거나, 3) 진공챔버 하부에 장착된 기재이송장치 위에 배치하여 진공챔버 내의 와류발생을 방지할 수 있는 것이다. 기재이송장치를 장착시킬 때, 와류방지효과 극대화를 위해서는 상기 2)의 구성보다는 상기 3)의 구성이 바람직하며, 상기 3)의 구성을 위해서는 진공챔버 하면의 전부 또는 일부에 개방부를 형성시키고, 상기 개방부는 상기 기재이송장치의 상면에 의해 밀폐되도록 구성되어야 한다.On the other hand, the conventional vacuum chamber is not easy to constantly adjust the pressure inside the vacuum chamber due to the position of the substrate. That is, in the conventional powder spray coating system, as shown in FIGS. 1A to 1D, since the substrate is mounted on the structure capable of forming a vortex flow field such as a substrate holder in the vacuum chamber, the inside of the vacuum chamber is The pressures at the top and the bottom of the substrate are not the same and show a lower pressure distribution at positions near the vacuum exhaust pump. Therefore, in the present invention, the pressure of the inside of the vacuum chamber (around the spray nozzle) is constantly adjusted by resetting the position of the substrate to be positioned inside the vacuum chamber toward the bottom of the chamber. That is, the substrate is placed on the bottom surface of the vacuum chamber, 2) on the substrate transfer apparatus mounted on the bottom of the vacuum chamber, or 3) on the substrate transfer apparatus mounted on the bottom of the vacuum chamber to vortex in the vacuum chamber. It can prevent the occurrence. When mounting the substrate transport apparatus, the configuration of the above 3) is preferable to the configuration of the 2) to maximize the vortex prevention effect, for the configuration of the 3) to form an opening in all or part of the lower surface of the vacuum chamber, The opening portion should be configured to be closed by the upper surface of the substrate transport apparatus.

이하에서는 여러가지 실시예를 들어 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to various embodiments.

[제1실시예][First Embodiment]

[도 3]는 본 발명의 제1실시예 장치의 단면을 모식적으로 도시한 것이다. 제1실시예는 진공챔버 중앙에 슬릿형 분사노즐이 수직으로 배치되어 있으며, 상기 슬릿형 분사노즐의 토출구는 전후방향으로 길게 형성되어 있다. 또한, 진공챔버의 좌우 양측면에는 진공배기관이 연결되어 있다. 이 경우 좌우 양측면의 진공배기관을 통하여 배기되는 질량유량을 동일하게 하여(Q1=Q2), 배기펌프로부터 같은 거리(a'=b') 및 동일 수평선상에 있는 a와 b 위치에 나타난 압력을 동일하게 하거나, 양측의 배기펌프 각각에 구비된 배기질량유량조절장치를 이용하여, 분사노즐 주변에 위치한 압력게이지의 압력이 동일한 범위가 되도록 조절할 수 있다.Fig. 3 schematically shows a cross section of the device of the first embodiment of the present invention. In the first embodiment, the slit-type injection nozzle is vertically arranged in the center of the vacuum chamber, and the discharge port of the slit-type injection nozzle is formed long in the front-rear direction. In addition, vacuum exhaust pipes are connected to both left and right sides of the vacuum chamber. In this case, the mass flow rates exhausted through the vacuum exhaust pipes on both the left and right sides are equal (Q 1 = Q 2 ), so that the pressures appear at the same distance (a '= b') from the exhaust pump and at positions a and b on the same horizontal line. By using the same, or by using the exhaust mass flow rate control device provided in each of the exhaust pumps on both sides, it is possible to adjust so that the pressure of the pressure gauge located around the injection nozzle is in the same range.

한편, [도 3]에서는 기재를 거치하고 이동할 수 있는 기재이송장치(기재를 흡착하여 고정하고 이동시킬 수 있는 장치 등 포함; 미도시)를 진공챔버 내부에 배치한 것을 도시하였는데, 이보다는 [도 5] 및 [도 6]에 도시된 바와 같이 기재이송장치를 진공챔버 하부에 배치하고, 상기 기재이송장치 상부에 위치하는 기재는 진공챔버 내부 바닥판에 위치하도록 하여 진공챔버 내부 및 분사노즐 주위의 압력을 일정하게 조절하는 것이 더욱 바람직하다.On the other hand, [FIG. 3] shows that the substrate transfer device (including a device that can absorb and fix the substrate, such as adsorption; such as not shown) that can be mounted and move the substrate inside the vacuum chamber, rather than [FIG. 5] and [FIG. 6], the substrate transfer apparatus is disposed under the vacuum chamber, and the substrate positioned above the substrate transfer apparatus is positioned on the bottom plate inside the vacuum chamber, so that the substrate transfer apparatus It is more desirable to constantly adjust the pressure.

[제2실시예][Second Embodiment]

[도 4]는 본 발명의 제2실시예 장치의 평면을 모식적으로 도시한 것이다. 제2실시예는 진공챔버 중앙에 원형 분사노즐이 수직으로 배치되어 있으며, 진공챔버의 전후좌우 4측면에 진공배기관이 연결되어 있다. 이 경우, [도 4]에 도시된 바와 같이, 방사방향으로 연결된 진공배기관을 통하여 배기되는 질량유량을 동일하게 하고(Q5=Q6=Q7=Q8), 배기펌프로부터 같은 거리(c'=d'=e'=f') 및 동일 수평선상에 있는 c, d, e, f 위치에 나타난 압력을 동일하게 하거나, 방사방향으로 배치된 배기펌프 각각에 구비된 배기질량유량조절장치를 이용하여, 분사노즐 주변에 위치한 압력게이지의 압력이 동일한 범위가 되도록 조절할 수 있다.Fig. 4 schematically shows the plane of the device of the second embodiment of the present invention. In the second embodiment, a circular injection nozzle is vertically disposed at the center of the vacuum chamber, and vacuum exhaust pipes are connected to four sides of the vacuum chamber. In this case, as shown in FIG. 4, the mass flow rates exhausted through the radially connected vacuum exhaust pipes are equalized (Q 5 = Q 6 = Q 7 = Q 8 ), and the same distance from the exhaust pump (c '= d' = e '= f') and the exhaust mass flow control device provided in each of the exhaust pumps arranged in the radial direction with the same pressure shown in the c, d, e, and f positions on the same horizontal line. By using, the pressure of the pressure gauge located around the injection nozzle can be adjusted to be the same range.

[제3실시예][Third Embodiment]

[도 5]는 본 발명의 제3실시예 장치의 단면을 모식적으로 도시한 것이다. 제3실시예에서 상기 진공배기관은 배기펌프와 함께 좌우대칭을 유지한 채 일체(一體)를 이루도록 연결된 것을 특징으로 한다. [도 5]에는 배기펌프를 일체를 이룬 진공배기관의 중앙에 설치하여, 이를 통해 분사노즐 주위 압력게이지의 압력이 동일한 범위가 되도록 할 수 있고(또는, 좌측 및 우측 진공배기관 수평선상의 g, h 위치에서의 압력이 동일하게 나타나는 것을 확인토록 할 수 있다), 상기 수송기체의 임의 분사속도가 발현되도록 배기질량유량조절장치로 배기질량유량을 조절하여 분사노즐 주위의 압력을 조절할 수 있다. 또한, [도 4]에 도시된 바와 같이 진공챔버에서 방사 방향으로 진공배기관을 대칭적으로 연결하여 배기할 경우, Q5, Q6, Q7, Q8의 질량유량을 동일하게 하기 위하여 각각의 진공배기펌프를 각각 사용하지 않고, [도 5]에 도시된 바와 마찬가지 방법으로, 진공배기 거리가 동일하게 하고, 각 진공연결관이 대칭적으로 한 지점으로 모아지도록 연결된 진공배기관(미도시)을 통하여 대칭적으로 진공배기하여 분사노즐 주위의 압력을 조절하도록 할 수 있다. Fig. 5 schematically shows a cross section of the device of a third example of the present invention. In the third embodiment, the vacuum exhaust pipe is connected to the exhaust pump so as to form a unity while maintaining the left and right symmetry. In FIG. 5, the exhaust pump is installed at the center of the integrated vacuum exhaust pipe so that the pressure of the pressure gauge around the injection nozzle can be in the same range (or g and h positions on the horizontal lines of the left and right vacuum exhaust pipes). It can be confirmed that the pressure in the same)), the exhaust mass flow rate control device to control the exhaust mass flow rate to control the pressure around the injection nozzle so that the arbitrary injection speed of the transport gas is expressed. In addition, as shown in FIG. 4, when the vacuum exhaust pipe is symmetrically connected and exhausted in the radial direction from the vacuum chamber, in order to equalize the mass flow rates of Q 5 , Q 6 , Q 7 and Q 8 , In the same manner as shown in FIG. 5, without using a vacuum exhaust pump, a vacuum exhaust pipe (not shown) connected so that the vacuum exhaust distances are the same and each vacuum connection tube is symmetrically collected at one point. It can be symmetrically evacuated through to adjust the pressure around the injection nozzle.

[제4실시예][Fourth Embodiment]

[도 6]은 본 발명의 제4실시예 장치의 단면을 모식적으로 도시한 것이다. 이는 배기펌프를 중앙에 위치시키지 않고, 2개의 배기펌프를 좌우측의 진공배기관에 대칭형으로 배치한 것이다. 한편, 2개의 배기펌프가 좌우측에서 대칭을 이루지 않 도록, 즉 좌측 및 우측의 배기 거리가 동일하지 않도록 배치한 경우(단, 진공배기관의 단면적은 동일)에는, 진공배기관 경로에 있는 동일 수평선상의 g와 h 위치의 압력을 확인하여 g와 h 위치의 압력이 동일하게 되도록 좌측에 있는 진공배기펌프의 질량유량 Q3와 우측 진공배기펌프의 질량유량 Q4를 조절하여 분사노즐 주위의 압력이 일정하게 조절할 수도 있다. 다만, 효율적인 측면을 고려하면, 2개의 배기펌프를 대칭형으로 설치하거나, [도 5]에 도시된 바와 같이 진공배기펌프를 중앙에 설치(좌측 및 우측의 배기 거리가 동일하고 진공배기관의 단면적이 동일)하는 것이 더 바람직하고 효율적이다. Fig. 6 schematically shows a cross section of the device of a fourth example of the present invention. This is to arrange two exhaust pumps symmetrically in the left and right vacuum exhaust pipes without centering the exhaust pump. On the other hand, when the two exhaust pumps are arranged so that they are not symmetrical from left to right, that is, the exhaust distances on the left and right sides are not equal (but the cross sectional area of the vacuum exhaust pipe is the same), g on the same horizontal line in the vacuum exhaust pipe path is used. and h where the mass flow rate Q 3 and the right vacuum exhaust mass flow rate pressure around the spray nozzle to adjust the Q 4 of the pump of the vacuum exhaust pump at the left side so as to be to make the pressure equal to the pressure of the g and h where constant of You can also adjust. However, in consideration of the efficient aspect, two exhaust pumps are installed symmetrically, or as shown in FIG. It is more preferable and efficient.

한편, [도 6]은 유연한 기재에 파우더를 코팅하기 위해 롤투롤(roll-to-roll) 장치를 기재이송장치로 적용한 예를 도시하고 있다. 상기 롤투롤 장치는 롤러를 감고 풀면서 유연한 기재를 이동시키는 장치로서, 기재를 흡착하여 고정시키는 장치(미도시)를 포함시켜 구성할 수 있다. 이에 따라 진공챔버 내부에는 와류가 발생하지 않고, 진공챔버 내부 및 분사노즐 주위의 압력을 일정하게 조절할 수 있다.Meanwhile, FIG. 6 illustrates an example in which a roll-to-roll apparatus is applied as a substrate transfer apparatus to coat powder on a flexible substrate. The roll-to-roll apparatus is a device for moving a flexible substrate while winding and unrolling a roller, and may include a device (not shown) for adsorbing and fixing the substrate. Accordingly, no vortex is generated inside the vacuum chamber, and the pressure around the vacuum chamber and the injection nozzle can be adjusted constantly.

Ⅱ. II. 고상파우더Solid powder 코팅장치 Coating device

본 발명은 진공챔버; 수송기체를 상기 진공챔버 내부로 수송하는 수송관; 상기 수송관에 고상파우더를 공급하는 고상파우더 공급부; 상기 수송관에 연결되어 상기 진공챔버 내부에 수송기체와 고상파우더가 혼입된 에어로졸을 분사하는 분사노즐; 상기 진공챔버에 측면에 연결되어 좌우대칭을 이루는 진공배기관; 및 상기 진공배기관에 장착된 배기펌프; 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고상파우더 코팅장치를 제공한다.The present invention vacuum chamber; A transport pipe for transporting a transport gas into the vacuum chamber; Solid powder supply unit for supplying a solid powder to the transport pipe; An injection nozzle connected to the transport pipe for injecting an aerosol in which a transport gas and a solid powder are mixed into the vacuum chamber; A vacuum exhaust pipe connected to a side of the vacuum chamber to form left and right symmetry; And an exhaust pump mounted to the vacuum exhaust pipe. It provides a solid-phase powder coating apparatus comprising a.

또한, 본 발명은 상기 진공챔버 하면의 전부 또는 일부에 개방부가 형성되어 있고, 상기 진공챔버 하부에는 기재이송장치; 가 장착되어 있으며, 상기 개방부는 상기 기재이송장치의 상면에 의해 밀폐되도록 구성된 것을 특징으로 하는 고상파우더 코팅장치를 함께 제공한다.In addition, the present invention is the opening portion is formed on all or part of the lower surface of the vacuum chamber, the lower portion of the vacuum chamber substrate transfer apparatus; Is mounted, the opening portion provides a solid powder coating apparatus, characterized in that configured to be closed by the upper surface of the substrate transfer device.

본 발명이 제공하는 고상파우더 코팅장치는 전술한 "분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치"를 이용하여 진공챔버 내에서 에어로졸(수송기체와 고상파우더의 혼합물)이 기재에 균일한 분사 코팅이 이루어지도록 구성한 장치이다. 따라서, 진공챔버, 분사노즐, 진공배기관 및 배기펌프의 구성에 관한 사항은 전술한 바와 같으며, 여기에는 특허등록 제0916944호 "고상파우더 연속 증착장치 및 고상파우더 연속 증착방법", 특허출원 제2008-0090115호 "고상파우더 연속 증착 롤투롤 장치", 특허출원 제2008-0109254호 "온도조절장치가 구비된 고상파우더 진공증착장치 및 그 증착방법", 특허출원 제2008-0111430호 "기재 열충격 제어수단을 구비한 고상파우더 분사 증착 장치 및 고상파우더 분사 증착 과정에서의 기재 열충격 제거를 위한 온도조절방법", 특허출원 제2009-0021959호 "고상파우더 공급장치 및 압력 관 내 고상파우더 공급방법", 특허출원 제2009-0032151호 "고상파우더 공급장치 및 압력관 내 고상파우더 공급방법", 특허출원 제2009-0038240호 "고상파우더 코팅장치"에 소개된 기술내용들을 함께 적용할 수 있다.In the solid powder coating apparatus provided by the present invention, aerosol (a mixture of a carrier gas and a solid powder) is uniformly spray coated on a substrate in a vacuum chamber by using the above-described "apparatus for controlling the pressure around the injection nozzle." It is a device configured to lose. Therefore, the matters relating to the configuration of the vacuum chamber, the injection nozzle, the vacuum exhaust pipe and the exhaust pump are as described above, and the patent registration No. 0916944 "A solid powder continuous deposition apparatus and a solid powder continuous deposition method", patent application 2008 -0090115 "Solid-Powder Continuous Deposition Roll-to-Roll Device", Patent Application No. 2008-0109254 "Solid-Powder Vacuum Evaporation Apparatus and Method for Evaporating It with Temperature Control Device", Patent Application No. 2008-0111430 "Base Thermal Shock Control Means Solid powder spray deposition apparatus equipped with a temperature control method and a temperature control method for removing the thermal shock of the substrate in the solid powder spray deposition process, Patent Application No. 2009-0021959 "Solid powder supply apparatus and solid powder supply method in the pressure tube", Patent application The technical contents introduced in 2009-0032151, "Solid powder supply device and solid powder supply method in pressure pipe", Patent application 2009-0038240, "Solid powder coating device" Available.

본 발명은 위에서 언급한 바와 같이 첨부된 도면과 관련하여 설명되었으나, 본 발명의 요지를 벗어남이 없는 범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능하며, 다양한 분야에서 사용 가능하다. 따라서 본 발명의 청구범위는 이건 발명의 진정한 범위 내에 속하는 수정 및 변형을 포함한다.Although the present invention has been described with reference to the accompanying drawings as mentioned above, various modifications and variations are possible within the scope without departing from the spirit of the present invention, and can be used in various fields. Therefore, the claims of the present invention include modifications and variations that fall within the true scope of the invention.

[도 1a]는 진공챔버 좌측 한쪽 방향에 배기펌프가 설치된 종래 장치의 모식도이다.FIG. 1A is a schematic diagram of a conventional apparatus in which an exhaust pump is installed on one side of a vacuum chamber.

[도 1b]는 진공챔버 우측 한쪽 방향에 배기펌프가 설치된 종래 장치의 모식도이다.1B is a schematic diagram of a conventional apparatus in which an exhaust pump is installed in one direction of the right side of the vacuum chamber.

[도 1c]는 진공챔버 하측 한쪽 방향에 배기펌프가 설치된 종래 장치의 모식도이다.1C is a schematic diagram of a conventional apparatus in which an exhaust pump is installed in one direction under the vacuum chamber.

[도 1d]는 진공챔버 상측 한쪽 방향에 배기펌프가 설치된 종래 장치의 모식도이다.FIG. 1D is a schematic diagram of a conventional apparatus in which an exhaust pump is installed in one direction above the vacuum chamber.

[도 2]는 파우더 분사 코팅에 따른 에어로졸의 유동장을 나타낸 모식도이다.2 is a schematic diagram showing the flow field of the aerosol according to the powder spray coating.

[도 3]은 본 발명의 제1실시예를 나타낸 장치의 측단면 모식도이다.3 is a side cross-sectional schematic diagram of the apparatus showing the first embodiment of the present invention.

[도 4]는 본 발명의 제2실시예를 나타낸 장치의 측단면 모식도이다.Fig. 4 is a side sectional schematic view of the apparatus showing the second embodiment of the present invention.

[도 5]는 본 발명의 제3실시예를 나타낸 장치의 평면 모식도이다.Fig. 5 is a schematic plan view of the apparatus showing the third embodiment of the present invention.

[도 6]은 본 발명의 제4실시예를 나타낸 장치의 측단면 모식도이다.Fig. 6 is a side cross-sectional schematic diagram of the apparatus showing the fourth embodiment of the present invention.

[도 7]은 본 발명의 진공챔버 연결부와 진공배기관 연결부를 나타낸 모식도이다.7 is a schematic view showing a vacuum chamber connecting portion and a vacuum exhaust pipe connecting portion of the present invention.

[도 8]는 진공챔버 연결부의 단면 형상을 와류 유동장이 발생하지 않는 경우와 와류 유동장이 발생할 수 있는 경우를 비교하여 나타낸 모식도이다. FIG. 8 is a schematic view showing the cross-sectional shape of the vacuum chamber connection in comparison with the case where the vortex flow field does not occur and the vortex flow field may occur.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10 : 에어로졸 11 : 수송기체10: aerosol 11: transport gas

12 : 파우더 입자 13 : 와류12 powder particle 13 vortex

14 : 수송관 14: transport pipe

15 : 분사노즐(초음속 노즐 또는 아음속 노즐)15: spray nozzle (supersonic nozzle or subsonic nozzle)

16 : 압력게이지 17 : 진공배기 연결관 16 pressure gauge 17 vacuum exhaust connector

18 : 진공챔버 내부 바닥판 19 : 코팅 지지판18: vacuum chamber inner bottom plate 19: coated support plate

20 : 기재 21 : 기재홀더20: substrate 21: substrate holder

22 : 기재이송장치 23 : 진공챔버22: substrate transfer device 23: vacuum chamber

24 : 진공배기펌프 25 : 좌측 진공배기관24: vacuum exhaust pump 25: left vacuum exhaust pipe

26 : 좌측 진공배기관 연결부 27 : 배기질량유량조절장치
28 : 우측 진공배기관 29 : 우측진공배기관 연결부
26: left vacuum exhaust pipe connecting portion 27: exhaust mass flow rate control device
28: right vacuum exhaust pipe 29: right vacuum exhaust pipe connection

30 : 중앙 진공배기관 31 : 와류정체부30: central vacuum exhaust pipe 31: vortex retention part

32 : 중공 33 : 진공챔버 좌측 연결부32: hollow 33: vacuum chamber left connection

34 : 롤러 35 : 롤투롤 장치34: roller 35: roll to roll device

36 : 유연한 기재 37 : 진공챔버 상부 외부판36: flexible base material 37: vacuum chamber upper outer plate

38 : 진공배기관 39 : 진공배기관 연결부38: vacuum exhaust pipe 39: vacuum exhaust pipe connection

40 : 분사노즐 연결부 41 : 기재 상부표면40: injection nozzle connection portion 41: the upper surface of the substrate

42 : 슬릿형 분사노즐(아음속 또는 초음속 노즐)42: slit jet nozzle (subsonic or supersonic nozzle)

43 : 원형 분사노즐(아음속 또는 초음속 노즐)43: circular jet nozzle (subsonic or supersonic nozzle)

Claims (10)

진공챔버;Vacuum chamber; 수송관에 연결되어 상기 진공챔버 내부에 토출구를 갖는 분사노즐;An injection nozzle connected to a transport pipe and having a discharge port inside the vacuum chamber; 상기 진공챔버에 측면에 연결되어 좌우대칭을 이루는 진공배기관; 및A vacuum exhaust pipe connected to a side of the vacuum chamber to form left and right symmetry; And 상기 진공배기관에 장착된 배기펌프; 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치.An exhaust pump mounted to the vacuum exhaust pipe; Apparatus for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that it comprises a. 제1항에서,In claim 1, 상기 분사노즐은 전후방향으로 긴 토출구를 갖는 슬릿형 분사노즐이고,The jet nozzle is a slit jet nozzle having a discharge port long in the front and rear directions, 상기 진공배기관은 진공챔버의 좌우 양 측면에 연결된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치.The vacuum exhaust pipe is a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that connected to the left and right sides of the vacuum chamber. 제1항에서,In claim 1, 상기 분사노즐은 전후방향으로 긴 토출구를 갖는 슬릿형 분사노즐이고,The jet nozzle is a slit jet nozzle having a discharge port long in the front and rear directions, 상기 진공배기관은 진공챔버의 전후좌우 4측면에 연결된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치.The vacuum exhaust pipe is a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that connected to the front, rear, left and right four sides of the vacuum chamber. 제1항에서,In claim 1, 상기 분사노즐은 원형의 토출구를 갖는 원형 분사노즐이고, The injection nozzle is a circular injection nozzle having a circular discharge port, 상기 진공배기관은 진공챔버의 전후좌우 4측면에 연결된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치The vacuum exhaust pipe is a device for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that connected to the front, rear, left and right four sides of the vacuum chamber 제1항에서,In claim 1, 상기 진공챔버와 진공배기관이 접하는 진공챔버 연결부와 진공배기관 연결부가 상호 동일한 형태와 단면적으로 구성된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치.And a vacuum chamber connecting portion and a vacuum exhaust pipe connecting portion in contact with the vacuum chamber and the vacuum exhaust pipe are configured to have the same shape and cross-sectional area. 제1항에서,In claim 1, 상기 진공펌프에 구비되어 배기량을 조절하는 배기질량유량조절장치; 및An exhaust mass flow rate adjusting device provided in the vacuum pump to adjust an exhaust amount; And 상기 분사노즐 주변에 설치된 압력게이지; 를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치.A pressure gauge installed around the injection nozzle; Apparatus for constantly controlling the pressure around the injection nozzle, characterized in that it further comprises. 제1항에서,In claim 1, 상기 진공배기관은 배기펌프와 함께 좌우대칭을 유지한 채 일체(一體)를 이루도록 연결된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치.And the vacuum exhaust pipe is connected to the exhaust pump so as to be integrally formed while maintaining left and right symmetry. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에서,The method according to any one of claims 1 to 7, 상기 진공챔버 하면의 전부 또는 일부에 개방부가 형성되어 있고,Opening portions are formed in all or part of the lower surface of the vacuum chamber, 상기 진공챔버 하부에는 기재이송장치; 가 장착되어 있으며,A substrate transfer device below the vacuum chamber; Is equipped with, 상기 개방부는 상기 기재이송장치의 상면에 의해 밀폐되도록 구성된 것을 특징으로 하는 분사노즐 주위 압력을 일정하게 제어하는 장치.And the opening part is configured to be closed by an upper surface of the substrate transfer device. 진공챔버;Vacuum chamber; 수송기체를 상기 진공챔버 내부로 수송하는 수송관;A transport pipe for transporting a transport gas into the vacuum chamber; 상기 수송관에 고상파우더를 공급하는 고상파우더 공급부;Solid powder supply unit for supplying a solid powder to the transport pipe; 상기 수송관에 연결되어 상기 진공챔버 내부에 수송기체와 고상파우더가 혼입된 에어로졸을 분사하는 분사노즐;An injection nozzle connected to the transport pipe for injecting an aerosol in which a transport gas and a solid powder are mixed into the vacuum chamber; 상기 진공챔버에 측면에 연결되어 좌우대칭을 이루는 진공배기관; 및A vacuum exhaust pipe connected to a side of the vacuum chamber to form left and right symmetry; And 상기 진공배기관에 장착된 배기펌프; 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 고상파우더 코팅장치.An exhaust pump mounted to the vacuum exhaust pipe; Solid-phase powder coating apparatus, characterized in that comprises a. 제9항에서,The method of claim 9, 상기 진공챔버 하면의 전부 또는 일부에 개방부가 형성되어 있고,Opening portions are formed in all or part of the lower surface of the vacuum chamber, 상기 진공챔버 하부에는 기재이송장치; 가 장착되어 있으며,A substrate transfer device below the vacuum chamber; Is equipped with, 상기 개방부는 상기 기재이송장치의 상면에 의해 밀폐되도록 구성된 것을 특징으로 하는 고상파우더 코팅장치.The opening portion solid powder coating apparatus, characterized in that configured to be closed by the upper surface of the substrate transfer device.
KR1020090102094A 2009-10-27 2009-10-27 Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly Coating apparatus for solid powder using the same KR101123634B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090102094A KR101123634B1 (en) 2009-10-27 2009-10-27 Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly Coating apparatus for solid powder using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090102094A KR101123634B1 (en) 2009-10-27 2009-10-27 Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly Coating apparatus for solid powder using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110045489A true KR20110045489A (en) 2011-05-04
KR101123634B1 KR101123634B1 (en) 2012-03-20

Family

ID=44240529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090102094A KR101123634B1 (en) 2009-10-27 2009-10-27 Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly Coating apparatus for solid powder using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101123634B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015005705A1 (en) * 2013-07-11 2015-01-15 (주)펨빅스 Apparatus and method for coating with solid-state powder
CN108554665A (en) * 2018-06-14 2018-09-21 深圳金皇尚热熔胶喷涂设备有限公司 Nozzle and glue-spraying device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2581056B1 (en) * 1985-04-24 1987-06-05 Saint Gobain Vitrage COATING OF THE GLASS MANUFACTURED IN A FLOATING PLANT WITH PYROLISABLE POWDER COMPOUNDS
KR100515687B1 (en) * 2003-05-31 2005-09-16 안영근 A coating Method and device of antibiotics on ceramic
KR20080049980A (en) * 2006-12-01 2008-06-05 엘지전자 주식회사 Electrostactic spray coating apparatus and method
KR100916944B1 (en) * 2008-07-24 2009-09-14 주식회사 펨빅스 Continuous desposition apparatus and method of fixing solid powder on diverse substrates

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015005705A1 (en) * 2013-07-11 2015-01-15 (주)펨빅스 Apparatus and method for coating with solid-state powder
US10053765B2 (en) 2013-07-11 2018-08-21 Femvix Corp. Apparatus and method for coating with solid-state powder
CN108554665A (en) * 2018-06-14 2018-09-21 深圳金皇尚热熔胶喷涂设备有限公司 Nozzle and glue-spraying device

Also Published As

Publication number Publication date
KR101123634B1 (en) 2012-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018501405A5 (en)
KR102137181B1 (en) Depositing arrangement, deposition apparatus and methods of operation thereof
US10053765B2 (en) Apparatus and method for coating with solid-state powder
KR101123634B1 (en) Apparatus controlling the ambient pressure of spray nozzle uniformly Coating apparatus for solid powder using the same
JP2017520112A (en) Particle removal device and method of operating a particle removal device
US10537909B2 (en) Powder coating apparatus
CN113166925B (en) Vapor source for depositing vaporized material, nozzle for vapor source, vacuum deposition system, and method for depositing vaporized material
US4466876A (en) Thin layer depositing apparatus
KR101083110B1 (en) Sputtering apparatus with gas injection nozzle assemblly
KR100954040B1 (en) Flooding chamber for coating installations
KR101568287B1 (en) Powder Coating Apparatus and Method
KR101230241B1 (en) Method of Aerosol Deposition for Ceramic Powder
KR101741806B1 (en) Linear evaporating source and deposition apparatus comprising the same
WO2020114580A1 (en) Evaporation apparatus for evaporating a material and method for evaporating a material with an evaporation apparatus
KR101042554B1 (en) Apparatus and method feeding powder into pressured gas fluid pipes
JP2019534938A (en) Material deposition apparatus, vacuum deposition system, and method for performing vacuum deposition
CN208791746U (en) Equipment for coated substrates
CN208791745U (en) Equipment for coated substrates
US20080223294A1 (en) Flooding Chamber For Coating Installations
US11345989B2 (en) Device for depositing nanometric sized particles onto a substrate
KR101986306B1 (en) Vacuum suspension plasma spray aparattus and vacuum suspension plasma spray method
KR101447890B1 (en) Powder Coating Apparatus and Method
JP2019071447A (en) Particle removal device and method of operating particle removal device
KR102069809B1 (en) Thin film depositing apparatus and the thin film depositing method using the same
JP2013129868A (en) Film forming apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141212

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160212

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170209

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190225

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200211

Year of fee payment: 9