KR20110044141A - Priming method and priming apparatus - Google Patents

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KR20110044141A KR1020100094884A KR20100094884A KR20110044141A KR 20110044141 A KR20110044141 A KR 20110044141A KR 1020100094884 A KR1020100094884 A KR 1020100094884A KR 20100094884 A KR20100094884 A KR 20100094884A KR 20110044141 A KR20110044141 A KR 20110044141A
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Abstract

PURPOSE: A priming method and a priming apparatus are provided to improve the reliability of a priming process by preventing the sagging phenomenon a coating liquid film on a priming roller. CONSTITUTION: Coating liquid(R) is discharged to a lit nozzle(72). A priming roller(14) is stopped and is maintained. The priming roller is rotated to wind a part of the coating liquid on the priming roller as a first coating liquid film. The first coating liquid film is reached to a first stand-by rotation angle, and the rotation of the priming roller is stopped. The first coating liquid film is naturally dried. The first coating liquid film is eliminated by a cleaning process.

Description

프라이밍 처리 방법 및 프라이밍 처리 장치{PRIMING METHOD AND PRIMING APPARATUS}Priming processing method and priming processing apparatus {PRIMING METHOD AND PRIMING APPARATUS}

본 발명은 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 처리액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 방법 및 프라이밍 처리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a priming processing method and a priming processing apparatus for forming a liquid film of a processing liquid as a preliminary preparation of a coating treatment in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for a spinless coating process.

LCD 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)의 제조 프로세스에 있어서의 포토리소그래피 공정에는, 슬릿 형상의 토출구를 갖는 장척형의 슬릿 노즐을 주사하여 피처리 기판(예를 들어, 글래스 기판) 상에 레지스트액을 도포하는 스핀리스법이 많이 사용되고 있다.In the photolithography process in the manufacturing process of a flat panel display (FPD) such as an LCD, a long liquid slit nozzle having a slit-shaped discharge port is scanned to apply a resist liquid onto a substrate to be processed (for example, a glass substrate). The spinless method to apply | coat is used a lot.

이와 같은 스핀리스법에 있어서는, 레지스트 건조막의 막 두께의 불균일성이나 도포 불균일을 방지하기 위해, 도포 주사 중에 기판 상에 토출된 레지스트액이 주사 방향에 있어서 슬릿 노즐의 배면측으로 돌아서 형성되는 메니스커스가 노즐 길이 방향으로 수평 일직선으로 정렬되는 것이 바람직하고, 그것을 위해서는 도포 주사의 개시 직전에 슬릿 노즐의 토출구와 기판 사이의 도포 갭이 간극 없이 적당량의 레지스트액으로 막히는 것이 필요 조건으로 되어 있다. 이 요건을 만족시키기 위해, 도포 주사의 사전 준비로서 슬릿 노즐의 토출구로부터 배면 하단부에 걸쳐서 레지스트액의 액막을 형성하는 프라이밍 처리가 행해지고 있다.In such a spinless method, in order to prevent nonuniformity and unevenness of the film thickness of the resist dry film, the meniscus formed by turning the resist liquid discharged onto the substrate during the scanning scan turns to the back side of the slit nozzle in the scanning direction. It is preferable to align in a horizontal straight line in the nozzle length direction, and for that purpose, it is a necessary condition that the coating gap between the discharge port of the slit nozzle and the substrate is clogged with an appropriate amount of resist liquid without a gap immediately before the start of coating scanning. In order to satisfy this requirement, the priming process which forms the liquid film of a resist liquid from the discharge port of a slit nozzle to the back lower end part as a preparatory preparation of application | coating scan is performed.

대표적인 프라이밍 처리법은 슬릿 노즐과 동등하거나 또는 그 이상의 길이를 갖는 원통 형상의 프라이밍 롤러를 도포 처리부의 근처에서 수평으로 설치하여, 미소한 갭을 통해 프라이밍 롤러의 정상부와 대향하는 위치까지 슬릿 노즐을 근접시켜 레지스트액을 토출시키고, 그 직후에 프라이밍 롤러를 소정 방향으로 회전시킨다. 그렇게 하면, 프라이밍 롤러의 정상부 부근에 토출된 레지스트액이 슬릿 노즐의 배면 하부로 돌아 들어가 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취되어, 슬릿 노즐측과 프라이밍 롤러측으로 나뉘는 형태로 레지스트액의 액막이 분리된다. 슬릿 노즐에는 노즐 토출구로부터 배면 하단부에 걸쳐서 레지스트액의 액막이 남는다.A typical priming treatment method is to install a cylindrical priming roller horizontally near the coating treatment portion having a length equal to or greater than that of the slit nozzle, and close the slit nozzle to a position facing the top of the priming roller through a small gap. The resist liquid is discharged, and immediately after that, the priming roller is rotated in a predetermined direction. In this case, the resist liquid discharged near the top of the priming roller is returned to the lower rear surface of the slit nozzle and wound on the outer circumferential surface of the priming roller, so that the liquid film of the resist liquid is separated into a slit nozzle side and a priming roller side. The liquid film of the resist liquid remains in the slit nozzle from the nozzle discharge port to the lower end of the back surface.

종래 일반적인 프라이밍 처리 장치는 프라이밍 롤러를 회전 구동하는 회전 기구뿐만 아니라, 프라이밍 롤러를 클리닝하기 위한 스크레이퍼나 세정 노즐 및 건조 노즐 등을 구비하고 있고, 1회의 프라이밍 처리가 종료되면, 그 후처리로서, 회전 기구에 의해 프라이밍 롤러를 연속 회전시켜, 스크레이퍼로 프라이밍 롤러의 외주면으로부터 레지스트액을 깎아내어 떨어뜨려, 세정 노즐 및 건조 노즐로부터 세정액 및 건조 가스를 각각 프라이밍 롤러의 외주면으로 분출하도록 하고 있다.Conventionally, the priming apparatus generally includes not only a rotating mechanism for rotating the priming roller but also a scraper for cleaning the priming roller, a cleaning nozzle, a drying nozzle, and the like. By the mechanism, the priming roller is continuously rotated, the resist liquid is scraped off from the outer peripheral surface of the priming roller with a scraper, and the cleaning liquid and the dry gas are ejected from the cleaning nozzle and the drying nozzle to the outer peripheral surface of the priming roller, respectively.

그러나, 1회의 프라이밍 처리에서 슬릿 노즐로부터 토출되는 레지스트액을 받아서 권취하기 위해 사용되는 프라이밍 롤러 상의 영역은, 슬릿 노즐이나 프라이밍 롤러의 사이즈에 따라서 다르지만, 프라이밍 롤러의 전체 둘레(360°)를 필요로 하는 것은 아니고, 통상은 반주(180°) 이하이고, 1/4주(90°) 이하 혹은 1/5주(72°) 이하로 되는 것도 가능하다. 그런데, 종래 일반적인 프라이밍 처리 장치는 프라이밍 처리를 실행할 때마다 후처리로서 상기와 같이 프라이밍 롤러를 연속 회전시켜 프라이밍 롤러의 외주면 전체(전체 둘레)에 세정액을 분출하므로, 세정액(통상 시너)을 다량으로 사용한다고 하는 문제가 있었다.However, the area on the priming roller used to receive and wind the resist liquid discharged from the slit nozzle in one priming process requires the entire circumference (360 °) of the priming roller, depending on the size of the slit nozzle or priming roller. It is usually possible to be the accompaniment (180 degrees) or less, and to be 1/4 or less (90 degrees) or 1/5 weeks (72 degrees) or less. By the way, the conventional priming processing apparatus conventionally rotates a priming roller as a post-processing every time a priming process is performed, and sprays a washing | cleaning liquid to the whole outer peripheral surface (circumference | surroundings) of a priming roller, and therefore uses a large amount of cleaning liquid (usually thinner). There was problem to say.

본 출원인은 이 문제를 해결하기 위해, 특허 문헌 1에 있어서, 1회의 프라이밍 처리를 위해, 슬릿 노즐의 토출구와 프라이밍 롤러의 상단부를 소정의 갭을 이격하여 대향시켜, 슬릿 노즐로부터 일정량의 처리액 또는 도포액(예를 들어, 레지스트액)을 토출시키는 동시에 프라이밍 롤러를 소정의 회전각만큼 회전시켜, 프라이밍 롤러의 반주 이하의 부분적 표면 영역을 당해 프라이밍 처리에 사용하여, 연속한 소정 횟수의 프라이밍 처리가 종료된 후에 프라이밍 롤러의 외주면을 전체 둘레에 걸쳐서 일괄하여 세정하는 프라이밍 처리법을 개시하고 있다.In order to solve this problem, the present applicant, in Patent Document 1, for one priming treatment, the discharge port of the slit nozzle and the upper end of the priming roller are opposed to each other by a predetermined gap, and a predetermined amount of the processing liquid or While discharging the coating liquid (for example, resist liquid), the priming roller is rotated by a predetermined rotational angle, and the partial surface area of the accompaniment of the priming roller is used for the priming treatment. The priming process method which wash | cleans the outer peripheral surface of a priming roller collectively over the perimeter after completion | finish is disclosed.

이 프라이밍 처리법은 프라이밍 롤러의 외주면을 그 둘레 방향으로 복수로 분할하여 그들 분할 영역(부분적 표면 영역)을 연속하는 소정 횟수의 프라이밍 처리에 순차적으로 할당하여 사용하고, 그 후에 프라이밍 롤러의 외주면을 전체 둘레에 걸쳐서 일괄 세정한다. 이 일괄 세정 처리는 회전 기구에 의해 프라이밍 롤러를 연속 회전시키면서 세정 기구와 건조부를 작동시켜 프라이밍 롤러의 외주면을 전체 둘레에 걸쳐서 일괄하여 세정하는 것으로, 각 프라이밍 처리 시에 프라이밍 롤러의 표면에 권취된 도포액의 액막을 깎아내어 떨어뜨리기 위한 스크레이퍼는 불필요해, 프라이밍 처리 후의 세정 처리에서 소비하는 세정액을 절감시킬 수 있는 동시에, 세정 처리 시에 파티클의 발생을 방지할 수도 있다.This priming method divides the outer circumferential surface of the priming roller into a plurality of circumferential directions thereof, and sequentially allocates the divided regions (partial surface regions) to a predetermined number of consecutive priming treatments, and then uses the outer circumferential surface of the priming roller as a whole circumference. Batch washing over. In this batch cleaning process, the cleaning mechanism and the drying unit are operated while the priming roller is continuously rotated by a rotating mechanism to collectively clean the outer circumferential surface of the priming roller over its entire circumference, and the coating wound on the surface of the priming roller during each priming process A scraper for scraping and dropping the liquid film of the liquid is unnecessary, which can reduce the cleaning liquid consumed in the cleaning treatment after the priming treatment, and can also prevent the generation of particles during the cleaning treatment.

일본 특허 출원 공개 제2007-237046호Japanese Patent Application Publication No. 2007-237046

본 발명은 본 출원인이 상기 특허 문헌 1에서 개시한 프라이밍 처리법의 개량판인 동시에, 독자적인 관점으로부터, 프라이밍 처리의 수율 또는 신뢰성도 배려하면서 프라이밍 처리에서 사용하는 세정액의 가일층의 절감을 실현하는 것이다.The present invention is an improved version of the priming treatment method disclosed in Patent Document 1, and at the same time, the inventors realize further reduction of the cleaning liquid used in the priming treatment while also considering the yield or reliability of the priming treatment.

즉, 본 발명은 프라이밍 처리의 신뢰성을 보장하면서 세정액의 사용량을 한층 삭감할 수 있는 프라이밍 처리 방법 및 프라이밍 처리 장치를 제공한다.That is, the present invention provides a priming processing method and a priming processing apparatus which can further reduce the amount of cleaning liquid used while ensuring the reliability of the priming processing.

본 발명의 제1 관점에 있어서의 프라이밍 처리 방법은, 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 도포액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 방법이며, 1회분의 제1 프라이밍 처리를 위해, 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키는 제1 공정과, 상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러를 정지시킨 상태로 소정 시간 그대로 방치하는 제2 공정과, 상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제1 도포 액막으로서 권취하는 제3 공정과, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제1 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제1 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키는 제4 공정과, 상기 제1 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 자연 건조시키는 제5 공정과, 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 세정에 의해 제거하는 제6 공정을 갖는다.The priming treatment method according to the first aspect of the present invention is a priming treatment method for forming a liquid film of a coating liquid as preliminary preparation of a coating treatment in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for a spinless coating treatment. For the first priming treatment of the slit nozzle, a predetermined amount of the coating liquid is applied to the slit nozzle so as to face the discharge port of the slit nozzle in parallel with a predetermined gap spaced apart from a top of the cylindrical or cylindrical priming roller arranged horizontally. A first step of discharging, a second step of leaving the priming roller stopped for a predetermined time immediately after discharging the coating liquid, and the coating discharged on an outer circumferential surface of the priming roller by rotating the priming roller A third step of winding a portion of the liquid as the first coating liquid film; and the wound around the outer circumferential surface of the priming roller A fourth step of stopping the rotation of the priming roller by bringing the first coating liquid film to the first atmospheric rotation angle position for waiting until the next priming treatment is performed; and at the first atmospheric rotation angle position, And a fifth step of naturally drying the first coating liquid film on the priming roller, and a sixth step of removing the first coating liquid film on the priming roller by washing.

또한, 본 발명의 제1 관점에 있어서의 프라이밍 처리 장치는, 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 처리액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 장치이며, 소정 위치에 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러와, 상기 프라이밍 롤러를 그 중심축의 주위로 회전시키는 회전 기구와, 상기 프라이밍 롤러의 외주면을 세정하기 위해 세정액을 분출하는 세정 기구와, 상기 프라이밍 롤러의 주위를 강제적으로 배기하기 위한 배기 기구와, 상기 회전 기구, 상기 세정부 및 상기 배기부의 각 동작을 제어하는 제어부를 갖고, 1회분의 제1 프라이밍 처리를 위해, 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키고, 상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러를 정지시킨 상태로 소정 시간 그대로 방치하고, 상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제1 도포 액막으로서 권취하고, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제1 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제1 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키고, 상기 제1 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 제1 도포 액막을 자연 건조시키고, 상기 세정 기구와 상기 배기 기구를 작동시켜 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 세정에 의해 제거한다.Moreover, the priming processing apparatus in 1st viewpoint of this invention is a priming processing apparatus for forming the liquid film of a processing liquid as a preliminary preparation of a coating process in the vicinity of the discharge port of the slit nozzle used for the spinless coating process, A cylindrical or cylindrical priming roller arranged horizontally at a predetermined position, a rotating mechanism for rotating the priming roller around its central axis, a cleaning mechanism for ejecting a cleaning liquid for cleaning the outer peripheral surface of the priming roller, and A cylindrical shape arranged horizontally for a first priming treatment, having an exhaust mechanism for forcibly evacuating the surroundings of the priming roller, and a control unit for controlling the respective operations of the rotary mechanism, the cleaning unit, and the exhaust unit; Alternatively, the toe of the slit nozzle is spaced apart from a predetermined gap with respect to the top of the cylindrical priming roller. The outlets are faced in parallel, and a predetermined amount of coating liquid is discharged to the slit nozzle, and the priming roller is left as it is for a predetermined time immediately after discharging the coating liquid, and the priming roller is rotated by the rotating mechanism. A portion of the coating liquid discharged on the outer circumferential surface of the priming roller is wound as a first coating liquid film, and the first coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller is waited until the next priming treatment is performed. The rotation of the priming roller is stopped at a first atmospheric rotation angle position for positioning, and the first coating liquid film on the priming roller is naturally dried at the first atmospheric rotation angle position, and the cleaning mechanism and the exhaust air are exhausted. The mechanism is operated to remove the first coating liquid film on the priming roller by washing.

상기 제1 관점의 프라이밍 처리 방법 또는 프라이밍 처리 장치에 있어서는, 프라이밍 롤러의 외주면을 그 둘레 방향으로 복수로 분할하여 그들 분할 영역을 연속하는 소정 횟수의 프라이밍 처리에 각각 할당하여 사용한다. 그리고, 마지막회의 프라이밍 처리를 제외한 각 프라이밍 처리에 있어서는, 각 레지스트 액막을 권취한 직후에 소정의 각 대기용 회전각 위치로 이동시키고, 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 그 대기용 회전각 위치에서 대기시킴으로써 각 도포 액막(특히, 액막의 일단부의 액저류부)으로부터의 액늘어짐을 방지하여 자연 건조의 덜 마른 상태로 할 수 있다.In the priming processing method or the priming processing apparatus of the first aspect, the outer peripheral surface of the priming roller is divided into a plurality in the circumferential direction thereof, and the divided areas are allocated to each successive predetermined number of priming treatments. And in each priming process except the last priming process, it moves to each predetermined | prescribed waiting rotation angle position immediately after winding up each resist liquid film, and waits at the waiting rotation angle position until the next priming process is performed. By doing so, it is possible to prevent a drooping from each coating liquid film (particularly, the liquid reservoir part of one end of the liquid film) and to make it dry less dry.

이와 같이, 프라이밍 롤러 상에서, 도포 액막의 액늘어짐을 방지할 수 있으므로, 이웃하는 미사용 분할 영역을 오염시킬 우려는 없고, 따라서 후속의 프라이밍 처리가 이전의 프라이밍 처리에 의해 영향을 받는 경우가 없어, 프라이밍 처리의 재현성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In this way, on the priming roller, it is possible to prevent the spreading of the coating liquid film, so that there is no fear of contaminating the neighboring unused divided regions, so that subsequent priming treatments are not affected by the previous priming treatments. The reproducibility and reliability of the process can be improved.

또한, 프라이밍 롤러 상에 부착된 도포 액막은 자연 건조에 의한 반건조 상태의 도포 액막으로서, 혹은 완전한 액상의 상태로 세정되므로, 씻어내기가 용이해, 세정 기구의 부담을 경감시켜, 세정액의 사용량을 적게 할 수 있다.In addition, since the coating liquid film adhered on the priming roller is cleaned as a semi-drying coating liquid film by natural drying or in a completely liquid state, it is easy to wash off, thereby reducing the burden on the cleaning mechanism and reducing the amount of the cleaning liquid used. You can do less.

또한, 일괄 세정에서는 프라이밍 롤러의 외주면 중 도포 액막이 부착되어 있는 영역에만 적당량의 세정액을 분출함으로써, 세정액의 사용량을 한층 삭감할 수 있다.In the batch cleaning, the amount of the cleaning liquid can be further reduced by spraying an appropriate amount of the cleaning liquid only on the region where the coating liquid film is attached to the outer peripheral surface of the priming roller.

본 발명의 제2 관점에 있어서의 프라이밍 처리 방법은, 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 도포액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 방법이며, 1회분의 제1 프라이밍 처리를 위해, 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키는 제1 공정과, 상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러에 소정의 회전각으로 왕복의 회전 운동을 행하게 하는 제2 공정과, 상기 프라이밍 롤러를 정방향으로 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제1 도포 액막으로서 권취하는 제3 공정과, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제1 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제1 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키는 제4 공정과, 상기 제1 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 자연 건조시키는 제5 공정과, 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 세정에 의해 제거하는 제6 공정을 갖는다.The priming treatment method according to the second aspect of the present invention is a priming treatment method for forming a liquid film of a coating liquid as a preliminary preparation of a coating treatment in the vicinity of a discharge port of a slit nozzle used for a spinless coating treatment. For the first priming treatment of the slit nozzle, a predetermined amount of the coating liquid is applied to the slit nozzle so as to face the discharge port of the slit nozzle in parallel with a predetermined gap spaced apart from a top of the cylindrical or cylindrical priming roller arranged horizontally. A first step of discharging, a second step of causing the priming roller to perform a reciprocating rotational motion at a predetermined rotational angle immediately after the discharging of the coating liquid, and the priming roller is rotated in a forward direction, on the outer peripheral surface of the priming roller. A third step of winding a portion of the coating liquid discharged into the first coating liquid film, and an outer peripheral surface of the priming roller A fourth step of stopping the rotation of the priming roller by bringing the first coating liquid film wound on the image to a first waiting rotation angle position for waiting until the next priming treatment is performed; and the first atmosphere And a fifth step of naturally drying the first coating liquid film on the priming roller at a rotation angle position, and a sixth step of removing the first coating liquid film on the priming roller by washing.

또한, 본 발명의 제2 관점에 있어서의 프라이밍 처리 장치는, 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 처리액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 장치이며, 소정 위치에 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러와, 상기 프라이밍 롤러를 그 중심축의 주위로 회전시키는 회전 기구와, 상기 프라이밍 롤러의 외주면을 세정하기 위해 세정액을 분출하는 세정 기구와, 상기 프라이밍 롤러의 주위를 강제적으로 배기하기 위한 배기 기구와, 상기 회전 기구, 상기 세정부 및 상기 배기부의 각 동작을 제어하는 제어부를 갖고, 1회분의 제1 프라이밍 처리를 위해, 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키고, 상기 도포액의 토출 직후에 상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러에 소정의 회전각으로 왕복의 회전 운동을 행하게 하고, 상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제1 도포 액막으로서 권취하고, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제1 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제1 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키고, 상기 제1 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 자연 건조시키고, 상기 세정 기구와 상기 배기 기구를 작동시켜 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 세정에 의해 제거한다.Moreover, the priming processing apparatus in 2nd viewpoint of this invention is a priming processing apparatus for forming the liquid film of a process liquid as a preliminary preparation of a coating process in the vicinity of the discharge port of the slit nozzle used for the spinless coating process, A cylindrical or cylindrical priming roller arranged horizontally at a predetermined position, a rotating mechanism for rotating the priming roller around its central axis, a cleaning mechanism for ejecting a cleaning liquid for cleaning the outer peripheral surface of the priming roller, and A cylindrical shape arranged horizontally for a first priming treatment, having an exhaust mechanism for forcibly evacuating the surroundings of the priming roller, and a control unit for controlling the respective operations of the rotary mechanism, the cleaning unit, and the exhaust unit; Alternatively, the toe of the slit nozzle is spaced apart from a predetermined gap with respect to the top of the cylindrical priming roller. The outlets are faced in parallel so as to discharge a predetermined amount of the coating liquid to the slit nozzle, and to cause the priming roller to reciprocate in a predetermined rotational angle by the rotating mechanism immediately after the coating liquid is discharged. By rotating the priming roller by a mechanism, a part of the coating liquid discharged on the outer circumferential surface of the priming roller is wound as a first coating liquid film, and the first coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller is subjected to the next meeting. The rotation of the priming roller is stopped, and the first coating liquid film on the priming roller is spontaneously brought to the first atmospheric rotation angle position for waiting until the priming treatment is performed. Dry and operate the cleaning mechanism and the exhaust mechanism to apply the first coating on the priming roller. The liquid film is removed by washing.

상기 제2 관점의 프라이밍 처리 방법 또는 프라이밍 처리 장치에 있어서는, 도포액의 토출 직후에, 프라이밍 롤러에 바람직하게는 저속의 왕복 회전 운동을 행하게 함으로써, 슬릿 노즐로부터 프라이밍 롤러 상에 토출된지 얼마 지나지 않은 도포액이 슬릿 노즐의 토출부(하단부면)에 의해 롤러 둘레 방향으로 균일해져, 액막 단부에 액이 고이기 어려워진다. 이에 의해, 프라이밍 롤러 상에 형성되는 도포 액막은 소정의 대기용 회전 위치로 이동하는 도중에 액늘어짐을 일으키지 않는 것은 물론, 액저류부가 없으므로, 대기용 회전 위치에서 정지했을 때 내지 정지한 상태에서도 액늘어짐을 한층 일으키기 어려워진다. 이에 의해, 상기 제1 관점의 프라이밍 처리 방법 또는 프라이밍 처리 장치의 작용 효과를 발휘할 뿐만 아니라, 대기용 회전 위치의 설정 범위를 확장할 수 있는 효과가 얻어진다.In the priming processing method or the priming processing apparatus of the second aspect, immediately after the coating liquid is discharged, the coating is discharged from the slit nozzle onto the priming roller by preferably performing a low-speed reciprocating rotational motion. The liquid becomes uniform in the roller circumferential direction by the discharge portion (lower end surface) of the slit nozzle, and the liquid hardly accumulates at the liquid film end. As a result, the coating liquid film formed on the priming roller does not cause a sagging while moving to a predetermined atmospheric rotation position, and there is no liquid reservoir, so that the coating liquid film sags even when stopped at the atmospheric rotation position or in a stopped state. It becomes more difficult to produce. Thereby, not only the effect of the priming processing method or the priming processing apparatus of the said 1st viewpoint is exhibited, but the effect which can expand the setting range of a waiting rotation position is acquired.

또한, 본 발명의 프라이밍 처리 방법 또는 프라이밍 처리 장치에 있어서는, 프라이밍 롤러 상에 도포 액막을 권취하여 분리한 직후에, 프라이밍 롤러의 회전 동작을 그대로 소정 시간 계속시키는 동작을 행한 후, 마지막에 소정의 대기용 회전 위치에 오게 하는 동작을 적절하게 채용할 수 있다. 이에 의해, 프라이밍 롤러 상에 형성되는 도포 액막은 계속 회전 동작 사이에 액늘어짐을 일으키지 않는 것은 물론, 회전 운동 중에 막 두께가 어느 정도 균일해짐으로써, 대기용 회전 위치에서 정지했을 때 내지 정지한 상태에서도 액늘어짐을 한층 일으키기 어려워진다. 이에 의해, 대기용 회전 위치의 설정 범위를 확장 또는 가일층 확장할 수 있는 효과가 얻어진다.In addition, in the priming processing method or priming processing apparatus of the present invention, immediately after winding and separating the coating liquid film on the priming roller, an operation of continuing the rotation operation of the priming roller for a predetermined time is performed, and then a predetermined waiting time at the end. The operation | movement which comes to the dragon rotation position can be employ | adopted suitably. As a result, the coating liquid film formed on the priming roller does not cause a bulge between continuous rotation operations, and the film thickness becomes uniform to some extent during the rotational movement, so that even when it stops at the standby rotational position or stops It becomes more difficult to cause the sagging. Thereby, the effect which can expand or further expand the setting range of an atmospheric rotation position is acquired.

본 발명의 프라이밍 처리 방법 또는 프라이밍 처리 장치에 따르면, 상기와 같은 구성 및 작용에 의해, 프라이밍 처리의 신뢰성을 보장하면서 세정액의 사용량을 한층 삭감할 수 있다.According to the priming processing method or the priming processing apparatus of the present invention, the amount of the washing liquid can be further reduced by ensuring the reliability of the priming treatment by the above-described configuration and operation.

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 프라이밍 처리 장치의 구성을 도시하는 도면.
도 2는 제1 실시예에 있어서 1회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 3은 제1 실시예에 있어서 1회분의 프라이밍 처리 동작에 있어서의 프라이밍 롤러의 회전 속도 특성을 시간축 상의 파형으로 나타내는 도면.
도 4는 제1 실시예에 있어서 2회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 5는 제1 실시예에 있어서 프라이밍 롤러의 일주 내에서 마지막(4회째)의 프라이밍 처리 및 직후의 일괄 세정 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 6은 도 5의 프라이밍 처리 동작 및 일괄 세정 처리에 있어서의 프라이밍 롤러의 회전 속도 특성을 시간축 상의 파형으로 나타내는 도면.
도 7은 세정 공정에 있어서의 프라이밍 처리 장치의 작용을 설명하기 위한 도면.
도 8은 제1 실시예의 일 변형예에 있어서 1회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 9는 상기 변형예에 있어서 2회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 10은 제1 실시예의 다른 변형예에 있어서 1회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 11은 상기 변형예에 있어서 2회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 12는 제2 실시예에 있어서 1회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 13은 제2 실시예에 있어서 1회분의 프라이밍 처리 동작에 있어서의 프라이밍 롤러의 회전 속도 특성을 시간축 상의 파형으로 나타내는 도면.
도 14는 제3 실시예에 있어서 1회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 15는 제3 실시예에 있어서 1회분의 프라이밍 처리 동작에 있어서의 프라이밍 롤러의 회전 속도 특성을 시간축 상의 파형으로 나타내는 도면.
도 16은 제4 실시예에 있어서 2회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 도포 위치를 도시하는 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The figure which shows the structure of the priming processing apparatus in one Embodiment of this invention.
Fig. 2 is a diagram schematically showing each step when the first priming process is performed in the first embodiment.
FIG. 3 is a diagram showing the rotational speed characteristics of the priming roller in the one-time priming processing operation in a waveform on the time axis; FIG.
FIG. 4 is a diagram schematically showing each step when a second priming process is performed in the first embodiment. FIG.
FIG. 5 is a diagram schematically showing each step when the last (fourth) priming treatment and the immediately after batch cleaning treatment are performed within one week of the priming roller in the first embodiment.
FIG. 6 is a diagram showing the rotational speed characteristics of the priming roller in the priming processing operation and the batch cleaning process in FIG. 5 as waveforms on the time axis; FIG.
7 is a view for explaining the operation of the priming processing device in the washing step;
FIG. 8 is a diagram schematically showing each step when a first priming process is performed in one modification of the first embodiment. FIG.
9 is a diagram schematically showing each step when a second priming process is performed in the modification.
FIG. 10 is a diagram schematically showing each step when a first priming process is performed in another modification of the first embodiment. FIG.
FIG. 11 is a diagram schematically showing each step when a second priming process is performed in the modification. FIG.
FIG. 12 is a diagram schematically showing each step when a first priming process is performed in the second embodiment. FIG.
FIG. 13 is a diagram showing the rotational speed characteristics of the priming roller in a one-time priming processing operation in a waveform on a time axis;
Fig. 14 is a diagram schematically showing each step when the first priming process is performed in the third embodiment.
Fig. 15 is a diagram showing the rotational speed characteristics of the priming roller in the one-time priming processing operation in the third embodiment as waveforms on the time axis;
16 is a diagram showing an application position when a second priming treatment is performed in the fourth embodiment.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 적합한 실시 형태를 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described with reference to an accompanying drawing.

[프라이밍 처리 장치의 구성][Configuration of Priming Processing Unit]

도 1에 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 프라이밍 처리 장치의 구성을 도시한다. 이 프라이밍 처리 장치는, 예를 들어 LCD 제조 프로세스용 포토리소그래피 공정에 있어서 스핀리스법의 레지스트 도포 처리를 행하는 레지스트 도포 장치(도시하지 않음)에 세트되고, 레지스트 도포 처리를 위해 피처리 기판을 적재 혹은 부상 반송하는 도포 스테이지(도시하지 않음)의 근처에 배치된다.The structure of the priming processing apparatus in one Embodiment of this invention is shown in FIG. This priming processing apparatus is set in the resist coating apparatus (not shown) which performs the spin coating resist coating process in the photolithography process for LCD manufacturing processes, for example, and loads a to-be-processed substrate for a resist coating process, or It is arrange | positioned near the application | coating stage (not shown) which carries out floating conveyance.

도시한 프라이밍 처리 장치에 있어서, 하우징(10)은 상면에 슬릿 형상의 개구부(12)를 갖는 장척형의 하우징으로 이루어지고, 수용하는 프라이밍 롤러(14)를 그 정상부가 개구부(12)를 통해 상방으로 노출되도록 베어링(도시하지 않음)으로 수평하게 또한 회전 가능하게 지지하고 있다.In the illustrated priming processing apparatus, the housing 10 is made of a long housing having a slit-shaped opening 12 on the upper surface thereof, and its top portion is upwardly opened through the opening 12 for receiving the priming roller 14. It is supported horizontally and rotatably by a bearing (not shown) so as to be exposed.

프라이밍 롤러(14)는, 예를 들어 스테인리스강으로 이루어지는 원통 형상 또는 원기둥 형상의 롤러로, 일정한 외경(예를 들어, 100 내지 150㎜)이라고 후술하는 슬릿 노즐(72)의 전체 길이를 커버하는 길이를 갖고 있다. 하우징(10)도, 예를 들어 스테인리스강으로 제작되어도 좋다.The priming roller 14 is a cylindrical or cylindrical roller made of stainless steel, for example, and has a length covering the entire length of the slit nozzle 72 described later as a constant outer diameter (for example, 100 to 150 mm). Have The housing 10 may also be made of stainless steel, for example.

하우징(10) 내에는, 프라이밍 롤러(14)의 정상부 또는 최상부를 기준 위치(P0)(0°)로 하여, 정회전(도 1에서는 반시계 방향)의 둘레 방향에서 바람직하게는 회전각 위치 90° 내지 180°의 구간 내에, 세정 기구(16)의 세정 노즐(18)이 설치되어 있다. 이 세정 노즐(18)은, 바람직하게는 장척형의 2유체 제트 노즐(18)로 이루어지고, 프라이밍 롤러(14)의 전체 길이를 커버하는 길이로 그것과 평행하게 배치되어, 배관(20, 22)을 통해 세정액 공급부(24) 및 가스 공급부(26)에 접속되어 있다. 배관(24, 26)의 도중에는 개폐 밸브(28, 30)가 각각 설치되어 있다.In the housing 10, the top or top of the priming roller 14 is set to the reference position P 0 (0 °), and preferably the rotation angle position in the circumferential direction of the forward rotation (counterclockwise in FIG. 1). The cleaning nozzle 18 of the washing | cleaning mechanism 16 is provided in the range of 90 degrees-180 degrees. This cleaning nozzle 18 preferably consists of a long two-fluid jet nozzle 18 and is arranged in parallel with it in a length that covers the entire length of the priming roller 14, and the pipes 20, 22 It is connected to the cleaning liquid supply part 24 and the gas supply part 26 through (circle). On and off valves 28 and 30 are provided in the middle of the pipes 24 and 26, respectively.

프라이밍 롤러(14)를 세정할 때에는, 개폐 밸브(28, 30)가 개방되어, 2유체 제트 노즐(18)은, 세정액 공급부(24) 및 가스 공급부(26)로부터 각각 세정액(예를 들어, 시너) 및 가스(예를 들어, 에어 또는 질소 가스)를 원하는 유량으로 수취하여, 노즐 내에서 세정액과 가스를 혼합하여 슬릿 또는 다공형의 토출구로부터 제트류로 프라이밍 롤러(14)의 외주면으로 분출하도록 구성되어 있다. 세정 제어부(25)는 세정액 공급부(24), 가스 공급부(26) 및 개폐 밸브(28, 30)를 제어하여, 특히 후술하는 주제어부(70)로부터의 지시 하에서 세정액 및 가스의 유량을 개별적으로 또한 임의로 제어할 수 있도록 되어 있다.When the priming roller 14 is cleaned, the opening / closing valves 28 and 30 are opened, and the two-fluid jet nozzles 18 are each a cleaning liquid (for example, thinner) from the cleaning liquid supply part 24 and the gas supply part 26. ) And a gas (for example, air or nitrogen gas) at a desired flow rate, and mix the cleaning liquid and gas in the nozzle to eject the slit or porous discharge port from the slit or porous discharge port to the outer circumferential surface of the priming roller 14. have. The cleaning control unit 25 controls the cleaning liquid supply unit 24, the gas supply unit 26, and the opening / closing valves 28 and 30 so that the flow rate of the cleaning liquid and gas can be individually and specifically under the instruction from the main control unit 70 to be described later. It can be controlled arbitrarily.

개구부(12)와 세정 기구(16) 사이의 구간은 하우징(10)의 내벽이 프라이밍 롤러(14)의 외주면과 접촉하지 않을 정도의 약간의 간극을 남기고 근접하여, 미스트 차폐부(32)로 되어 있다. 프라이밍 롤러(14)를 세정할 때에 2유체 제트 노즐(18)의 주위에서 발생하는 미스트는 미스트 차폐부(32)의 간극을 통해 개구부(12)측으로 나오는 경우는 없고, 그곳에서 차단되도록 되어 있다.The section between the opening 12 and the cleaning mechanism 16 is close to the mist shielding portion 32, leaving a slight gap such that the inner wall of the housing 10 does not come into contact with the outer circumferential surface of the priming roller 14. have. Mist generated around the two-fluid jet nozzle 18 when cleaning the priming roller 14 does not come out to the opening 12 side through the gap of the mist shielding portion 32, and is blocked there.

하우징(10) 내에는 프라이밍 롤러(14)를 중심으로 하여 미스트 차폐부(32) 및 세정 기구(16)의 반대측에, 미스트 도입부(34), 흡인구(36) 및 강제 건조부(38)가 설치되어 있다.In the housing 10, a mist inlet 34, a suction port 36 and a forced drying unit 38 are provided on the opposite side of the mist shielding portion 32 and the cleaning mechanism 16 with the priming roller 14 as the center. It is installed.

미스트 도입부(34)는, 바람직하게는 프라이밍 롤러(14)의 정상부를 기준 위치(P0)(0°)로 하여 정회전의 둘레 방향에서 회전각 위치 180° 내지 270°의 구간 내에 설치된다. 도시한 구성예의 미스트 도입부(34)는 상기 구간 내에서 하우징(10)의 내벽과 프라이밍 롤러(14)의 외주면 사이에 형성된 미스트 도입용 간극(40)을 갖고 있다.Mist introducing portion 34 is preferably installed to the top of the priming roller 14 in a reference position (P 0) (0 °) to the angular position rotated in the circumferential direction of the normal rotation 180 ° to intervals of 270 °. The mist introduction part 34 of the structural example shown has the mist introduction clearance gap 40 formed between the inner wall of the housing 10 and the outer peripheral surface of the priming roller 14 in the said section.

강제 건조부(38)는, 바람직하게는 미스트 도입부(34)보다도 하류측에서 회전각 위치 270° 내지 360°의 구간 내에 설치된다. 도시한 구성예의 강제 건조부(38)는 상기 구간 내에서 하우징(10)의 내벽과 프라이밍 롤러(14)의 외주면 사이에 형성된 액제거용의 간극(42)을 갖고 있다.The forced drying unit 38 is preferably provided within the section of the rotation angle position 270 ° to 360 ° on the downstream side of the mist introduction unit 34. The forced drying part 38 of the structural example shown in figure has the clearance 42 for liquid removal formed between the inner wall of the housing 10 and the outer peripheral surface of the priming roller 14 in the said section.

흡인구(36)는 배큐엄(Vacuum) 통로(44) 및 배큐엄관(46)을 통해, 예를 들어 진공 펌프 또는 흡기 팬(도시하지 않음) 및 미스트 트랩 또는 필터 등을 갖는 배큐엄 장치(48)에 통하고 있다. 배큐엄 통로(44)의 종단부 부근에는 배기 밸브 제어부(50)에 의해 개폐 제어되는 배기 댐퍼(52)가 설치되어 있다. 배큐엄 장치(48)를 온으로 하여, 배기 댐퍼(52)를 개방 상태로 하면, 미스트 도입부(34) 및 강제 건조부(38)가 작동하여, 미스트 도입용 간극(40) 및 액제거용 간극(42)에 외부로부터 흡기구(36)를 향해 미스트 도입용 기류 및 액제거용의 기류가 각각 흐르도록 되어 있다. 배기 댐퍼(52)를 폐쇄하면, 배큐엄 장치(48)가 온으로 되어 있어도, 흡기구(36)에는 배큐엄이 미치지 못해, 미스트 도입부(34) 및 강제 건조부(38)는 오프 상태로 된다.The suction port 36 is, for example, a vacuum pump or an intake fan (not shown), a mist trap or a filter, or the like through the vacuum passage 44 and the vacuum tube 46. ) The exhaust damper 52 which opens and closes and is controlled by the exhaust valve control part 50 is provided in the vicinity of the terminal part of the vaccum passage 44. When the vacuum device 48 is turned on and the exhaust damper 52 is opened, the mist introduction part 34 and the forced drying part 38 operate to operate the mist introduction gap 40 and the liquid removal gap. The air flow for mist introduction and the air flow for liquid removal flow in the 42 to the inlet port 36 from the outside, respectively. When the exhaust damper 52 is closed, even if the vaccum device 48 is turned on, the vaccum does not reach the intake port 36, and the mist introduction part 34 and the forced drying part 38 are turned off.

이 프라이밍 처리 장치에 있어서, 프라이밍 롤러(14)의 주위를 강제적으로 배기하기 위한 배기 기구(45)는 상기와 같이 미스트 도입부(34), 흡인구(36), 강제 건조부(38), 배큐엄 장치(48), 배기 밸브 제어부(50) 및 배기 댐퍼(52)를 구비하고 있다.In this priming apparatus, the exhaust mechanism 45 for forcibly evacuating the surroundings of the priming roller 14 includes the mist introduction portion 34, the suction port 36, the forced drying portion 38, and the baumum. The apparatus 48, the exhaust valve control part 50, and the exhaust damper 52 are provided.

하우징(10)의 바닥에는 프라이밍 롤러(14)의 바로 아래의 위치에 배출구(54)가 형성되어 있다. 이 배출구(54)는 액 배출관(56)을 통해 배출 탱크(58)에 통하고 있다.The outlet 54 is formed at the bottom of the housing 10 at a position just below the priming roller 14. This discharge port 54 communicates with the discharge tank 58 through the liquid discharge pipe 56.

이 프라이밍 처리 장치에 있어서, 프라이밍 롤러(14)를 회전시키기 위한 회전 기구(65)는 모터(60), 회전 제어부(62) 및 인코더(64)를 구비하고 있다. 모터(60)는, 바람직하게는 서보 모터로 이루어지고, 그 회전 구동축은, 예를 들어 풀리나 전동 벨트 등의 전동 기구(도시하지 않음)를 통해 프라이밍 롤러(14)의 회전축에 접속되어 있다. 회전 제어부(62)는 모터(60)의 기본 동작(회전, 정지, 속도 제어 등)뿐만 아니라, 인코더(64)를 통해 모터(60)의 회전량 및 회전 각도 위치를 임의로 제어할 수 있도록 되어 있다.In this priming processing apparatus, the rotating mechanism 65 for rotating the priming roller 14 is provided with the motor 60, the rotation control part 62, and the encoder 64. As shown in FIG. The motor 60 is preferably made of a servo motor, and the rotation drive shaft thereof is connected to the rotation shaft of the priming roller 14 through a transmission mechanism (not shown) such as a pulley or an electric belt, for example. The rotation controller 62 is capable of arbitrarily controlling the rotation amount and rotation angle position of the motor 60 through the encoder 64 as well as the basic operation (rotation, stop, speed control, etc.) of the motor 60. .

이 프라이밍 처리 장치에는 프라이밍 롤러(14) 상의 레지스트막의 막 두께를 측정하기 위한 막 두께 측정부(67)가 설치되어 있다. 막 두께 측정부(67)는 막 두께 센서(66) 및 막 두께 연산부(68)를 갖고 있다.In this priming apparatus, the film thickness measuring part 67 for measuring the film thickness of the resist film on the priming roller 14 is provided. The film thickness measuring section 67 has a film thickness sensor 66 and a film thickness calculating section 68.

막 두께 센서(66)는 슬릿 노즐(72)과 간섭을 일으키지 않도록 개구부(12)의 근방에 설치 또는 배치되고, 그 위치로부터 바로 맞은편의 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상에 부착되어 있는 레지스트 액막의 막 두께를 비접촉식, 즉 광학식으로 측정한다. 다른 구성예로서, 막 두께 센서(66)를, 예를 들어 지지 아암 등으로 이동 가능하게 지지하여, 슬릿 노즐(72)이 하우징(10)의 개구부(12)로부터 떨어져 있을 때에, 막 두께 센서(66)를 개구부(12) 상에 위치 정렬시켜도 좋다.The film thickness sensor 66 is installed or disposed in the vicinity of the opening 12 so as not to interfere with the slit nozzle 72, and is formed on the outer circumferential surface of the priming roller 14 directly opposite from that position. The film thickness is measured non-contact, ie optically. As another configuration example, when the slit nozzle 72 is separated from the opening 12 of the housing 10 by movably supporting the film thickness sensor 66 with, for example, a support arm or the like, the film thickness sensor ( 66 may be aligned on the opening 12.

막 두께 연산부(68)는 막 두께 센서(66)의 출력 신호를 입력하여, 프라이밍 롤러(14) 상의 레지스트 액막의 막 두께 측정치를 연산한다. 바람직하게는, 프라이밍 롤러(14)의 축방향에 일정 간격으로 복수개의 막 두께 센서(66)가 일렬로 배치되어, 프라이밍 롤러(14)의 둘레 방향뿐만 아니라 축방향에 있어서도 레지스트 액막의 막 두께 분포 특성을 측정할 수 있도록 되어 있다. 막 두께 측정부(67)에서 얻어지는 막 두께 측정치 내지 막 두께 분포 특성 측정치는 주제어부(70)로 보내진다.The film thickness calculation unit 68 inputs an output signal of the film thickness sensor 66 to calculate a film thickness measurement value of the resist liquid film on the priming roller 14. Preferably, the plurality of film thickness sensors 66 are arranged in a row at regular intervals in the axial direction of the priming roller 14, so that the film thickness distribution of the resist liquid film not only in the circumferential direction but also in the axial direction of the priming roller 14. It is possible to measure the characteristics. The film thickness measurement value and the film thickness distribution characteristic measurement value obtained by the film thickness measurement part 67 are sent to the main control part 70.

주제어부(70)는 소정의 소프트웨어에 따라서 동작하는 마이크로 컴퓨터를 포함하고, 이 프라이밍 처리 장치 내의 세정 기구(16), 배기 기구(45), 회전 기구(65) 및 막 두께 측정부(67)의 동작을 통괄하여 제어한다. 도시한 구성예에서는 주제어부(70)가, 배큐엄 장치(48), 막 두께 센서(66) 및 막 두께 연산부(68)의 각 동작을 직접 제어하는 동시에, 세정 제어부(25), 배기 밸브 제어부(50) 및 회전 제어부(62)를 통해 2유체 제트 노즐(18), 배기 댐퍼(52) 및 모터(60)의 각 동작을 제어한다. 또한, 주제어부(70)는 회전 기구(65)의 회전 제어부(62)를 통해 프라이밍 롤러(14)의 회전량 및 회전각 위치를 파악 내지 제어할 수 있도록 되어 있다.The main controller 70 includes a microcomputer operating according to predetermined software, and includes the cleaning mechanism 16, the exhaust mechanism 45, the rotation mechanism 65, and the film thickness measuring unit 67 in the priming processing apparatus. Control the operation as a whole. In the example shown in figure, the main control part 70 directly controls each operation of the vaccum device 48, the film thickness sensor 66, and the film thickness calculating part 68, and the washing | cleaning control part 25 and the exhaust valve control part Each operation of the two-fluid jet nozzle 18, the exhaust damper 52, and the motor 60 is controlled through the 50 and the rotation controller 62. Moreover, the main control part 70 is able to grasp | control or control the rotation amount and rotation angle position of the priming roller 14 through the rotation control part 62 of the rotation mechanism 65. FIG.

또한, 주제어부(70)는 이 프라이밍 처리 장치 내의 전체의 시퀀스를 통괄하여 제어하는 동시에, 적어도 프라이밍 처리에 관해서는, 당해 레지스트 도포 장치에 구비되어 있는 레지스트 도포 처리용 슬릿 노즐(72)의 일체의 동작을 제어하도록 되어 있다.In addition, the main control part 70 controls the whole sequence in this priming processing apparatus, and it is integral with the slit nozzle 72 for resist coating processes with which the said resist coating apparatus was equipped at least about a priming process. To control the operation.

즉, 당해 레지스트 도포 장치에 있어서, 슬릿 노즐(72)은 노즐 이동 기구(74)에 의해 지지되고, 또한 미리 설정된 스페이스 내에서 임의의 위치로 반송되어, 임의의 위치에 위치 결정되도록 되어 있다. 또한, 슬릿 노즐(72)에는 레지스트 공급부(76)로부터 레지스트 공급관(78)을 통해 레지스트액이 공급된다. 여기서, 레지스트 공급관(78)에는 개폐 밸브(80)가 설치되어 있다. 프라이밍 처리에 관해서는, 주제어부(70)가, 노즐 이동 기구(74), 레지스트 공급부(76), 개폐 밸브(80)를 통해, 슬릿 노즐(72)의 이동이나 위치 결정 및 레지스트액 토출 동작을 제어하도록 되어 있다.That is, in the said resist coating apparatus, the slit nozzle 72 is supported by the nozzle movement mechanism 74, is conveyed to arbitrary positions within the preset space, and is positioned at arbitrary positions. In addition, the resist liquid is supplied to the slit nozzle 72 from the resist supply part 76 through the resist supply pipe 78. Here, the opening / closing valve 80 is provided in the resist supply pipe 78. As for the priming process, the main control unit 70 performs the movement and positioning of the slit nozzle 72 and the operation of discharging the resist liquid through the nozzle moving mechanism 74, the resist supply unit 76, and the opening / closing valve 80. It is supposed to be controlled.

[프라이밍 처리 방법의 제1 실시예][First Embodiment of Priming Processing Method]

다음에, 도 2 내지 도 11에 대해, 이 프라이밍 처리 장치에서 실시 가능한 프라이밍 처리 방법의 제1 실시예를 설명한다.Next, with reference to FIGS. 2-11, the 1st Example of the priming process method which can be implemented by this priming process apparatus is demonstrated.

이 프라이밍 처리 장치가 세트되는 당해 레지스트 도포 장치에 있어서는, 도포 스테이지 상에서 기판 1매분의 도포 처리가 종료될 때마다 다음의 도포 처리의 사전 준비로서 이 프라이밍 처리 장치에서 1회분의 프라이밍 처리가 행해진다.In the resist coating apparatus in which the priming processing apparatus is set, each time a coating treatment for one substrate is finished on the coating stage, one priming treatment is performed in this priming processing apparatus as preparation for the next coating treatment.

도 2에, 프라이밍 롤러(14)의 외주면이 전체 둘레에 걸쳐서 청정한 상태로 리셋된 후 최초(1회째)의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 도시한다. 도 3에, 1회분의 프라이밍 처리 동작에 있어서의 프라이밍 롤러(14)의 회전 속도 특성을 시간축 상의 파형으로 나타낸다.FIG. 2 shows each step when the first (first) priming process is performed after the outer circumferential surface of the priming roller 14 is reset to a clean state over its entire circumference. In FIG. 3, the rotational speed characteristic of the priming roller 14 in one priming process operation is shown by the waveform on a time axis.

이 프라이밍 처리에서는, 우선, 도 1에 도시한 바와 같이 슬릿 노즐(72)의 토출구가 프라이밍 롤러(14)의 정상부와 소정의 갭(예를 들어, 수십 내지 수백㎛)을 이격하여 평행하게 대향하도록, 노즐 이동 기구(74)를 통해 슬릿 노즐(72)을 위치 결정한다. 이 장면에서는, 세정 기구(16)는 물론, 배기 기구(45)도 멈춘 상태로 해 둔다.In this priming process, first, as shown in FIG. 1, the discharge port of the slit nozzle 72 opposes the top part of the priming roller 14 and a predetermined gap (for example, several tens to several hundred micrometers) so that it may face in parallel. The slit nozzle 72 is positioned via the nozzle movement mechanism 74. In this scene, not only the cleaning mechanism 16 but also the exhaust mechanism 45 is stopped.

다음에, 도 2의 I(토출ㆍ방치)에 도시한 바와 같이, 프라이밍 롤러(14)를 정지시킨 채, 레지스트 공급부(76)를 통해 슬릿 노즐(72)에 소정 시간(t0 내지 t1 : 예를 들어, 1초간)을 들여 일정량의 레지스트액(R)을 토출시키고, 그 직후에 소정 시간(t1 내지 t2 : 예를 들어, 3초간) 그대로 방치한다. 슬릿 노즐(72)로부터 토출된 레지스트액(R)은 방치 시간(t1 내지 t2) 중에 슬릿 노즐(72)의 토출구 부근 및 프라이밍 롤러(14)의 정상부 부근에서 노즐 길이 방향 및 롤러 둘레 방향에서 주위로 퍼진다.Next, as shown in I (discharge and leaving) of FIG. 2, the slit nozzle 72 passes through the resist supply part 76 to the slit nozzle 72 for a predetermined time (t 0 to t 1 :) with the priming roller 14 stopped. For example, a certain amount of resist liquid R is discharged for 1 second, and left for a predetermined time (t 1 to t 2 : for example, 3 seconds) immediately after that. The resist liquid R discharged from the slit nozzle 72 is in the nozzle length direction and the roller circumferential direction near the discharge port of the slit nozzle 72 and near the top of the priming roller 14 during the leaving time t 1 to t 2 . Spread around

계속해서, 회전 기구(65)에 의해 소정의 타이밍(도 3의 시점 t2)에 프라이밍 롤러(14)에 정방향의 회전 동작을 개시시켜, 도 2의 Ⅱ(권취)에 도시한 바와 같이, 레지스트액(R)을 슬릿 노즐(72)의 배면 하부(72a)로 돌아 들어가게 하여, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상에 설정된 제1 분할 영역[14(1)]에 레지스트액(R)을 권취한다. 여기서, 레지스트액(R)을 권취할 때의 롤러 회전 속도(Va)는, 레지스트액(R)의 액막을 빠르게 제거되어 버리지 않는 비교적 낮은 속도가 바람직하고, 예를 들어 주속도로 수십㎜/초로 선택된다.Subsequently, the rotation mechanism 65 starts the rotation operation in the forward direction on the priming roller 14 at a predetermined timing (time point t 2 in FIG. 3), and as shown in II (winding) in FIG. The liquid R is returned to the lower back 72a of the slit nozzle 72 to wind the resist liquid R into the first divided region 14 (1) set on the outer circumferential surface of the priming roller 14. . Here, the roller rotation speed to take-up a resist solution (R) (V a) is a relatively low speed the liquid film of the resist solution (R) does not discard is removed quickly preferred, for example, several tens ㎜ to velocity / Selected in seconds.

계속해서, 소정의 타이밍(도 3의 시점 t3)에 프라이밍 롤러(14)의 회전 속도를 한번에 올린다. 이에 의해, 도 2의 Ⅲ(분리)에 도시한 바와 같이, 레지스트액(R)의 액막이 분리되어, 슬릿 노즐(72)측과 프라이밍 롤러(14)측으로 나뉜다. 이때, 슬릿 노즐(72)을 상승시키면, 레지스트 액막의 분리를 소정의 부위에서 보다 원활하고 또한 확실하게 행할 수 있다. 이렇게 하여, 슬릿 노즐(72)에는 노즐 토출구로부터 배면 하단부(72a)에 걸쳐서 레지스트액의 액막(RF)이 남는다.Subsequently, at a predetermined timing (time t 3 in FIG. 3), the rotational speed of the priming roller 14 is raised at once. Thereby, as shown to III (separation) of FIG. 2, the liquid film of the resist liquid R is isolate | separated and divided into the slit nozzle 72 side and the priming roller 14 side. At this time, when the slit nozzle 72 is raised, separation of the resist liquid film can be performed more smoothly and reliably at a predetermined site. In this way, the liquid film RF of the resist liquid remains in the slit nozzle 72 from the nozzle discharge port to the rear lower end 72a.

한편, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상에는 상기와 같이 하여 권취된 레지스트액의 액막(RM1)이 제1 레지스트 액막(도포 액막)으로서 남는다. 여기서, 프라이밍 롤러(14)의 정회전 방향에 있어서 제1 레지스트 액막(RM1)의 전단부에 단면 혹형상의 액저류부(m1)가 발생하는 경향이 있다.On the other hand, on the outer circumferential surface of the priming roller 14, the liquid film RM 1 of the resist liquid wound as described above remains as a first resist liquid film (coating liquid film). Here, there is a tendency that the liquid storage portion on the end face at the front end portion of the first resist hokhyeong liquid film (RM 1) (m 1) occurring in the normal rotation direction of the priming roller 14.

예를 들어, 프라이밍 롤러(14)의 외주면을 둘레 방향에서 4등분에 분할하여 각 분할 영역[14(n)](n ＝ 1 내지 4)을 1회분의 프라이밍 처리에 할당하는 경우, 각 분할 영역[14(n)]에 형성되는 각 레지스트 액막(RMn)의 둘레 방향 권취 사이즈는, 회전 각도 범위에서, 예를 들어 75° 내지 85°의 사이즈로 설정할 수 있다.For example, when dividing the outer peripheral surface of the priming roller 14 into 4 equal parts in the circumferential direction, and assigning each division area | region 14 (n)] (n = 1-4) to one priming process, each division area | region The circumferential winding size of each resist liquid film RM n formed in [14 (n)] can be set to a size of, for example, 75 ° to 85 ° in the rotation angle range.

이렇게 하여 슬릿 노즐(72)로부터 제1 레지스트 액막(RM1)을 분리한 후에는, 프라이밍 롤러(14)의 회전을 멈추지 않고, 제1 레지스트 액막(RM1)을 도 2의 Ⅳ(정지ㆍ대기)에 도시한 바와 같은 제1 대기용 회전각 위치<P1>까지 회전 이동시키고, 그곳에서 프라이밍 롤러(14)의 회전을 정지시킨다.After the first resist liquid film RM 1 is separated from the slit nozzle 72 in this manner, the rotation of the priming roller 14 is not stopped, and the first resist liquid film RM 1 is stopped (IV, stand-by) in FIG. 2. ) Rotates to the first atmospheric rotation angle position <P 1 >, and the rotation of the priming roller 14 is stopped there.

이 경우, 레지스트 액막(RM1)을 분리한 후 정지할 때까지(t4 내지 t5)의 프라이밍 롤러(14)의 회전 속도 특성은 임의로 설정 가능하지만, 도 3에 도시한 바와 같이 분리 속도(Vb)보다도 한층 높은 속도(Vc)로 올린 후 일정한 비율(부의 가속도)로 감속시키는 특성으로 정형화하는 것이 바람직하다.In this case, although the rotational speed characteristic of the priming roller 14 until it stops after removing the resist liquid film RM 1 (t 4 to t 5 ) can be set arbitrarily, as shown in FIG. It is preferable to shape | mold with the characteristic which raises at a higher speed (V c ) higher than V b ) and decelerates by a fixed ratio (negative acceleration).

이렇게 하여, 회전 운동 중의 프라이밍 롤러(14) 상에서 제1 레지스트 액막(RM1)[특히, 액저류부(m1)]으로부터 레지스트액이 중력에 의해 늘어지는 일 없이, 즉 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상의 다른 분할 영역(미사용 영역)을 오염시키는 일 없이, 제1 레지스트 액막(RM1)을 제1 대기용 회전각 위치<P1>까지 안정적으로 이동시킬 수 있다.In this way, the resist liquid is not stretched by the gravity from the first resist liquid film RM 1 (particularly, the liquid reservoir m 1 ) on the priming roller 14 during the rotational movement, that is, the priming roller 14 The first resist liquid film RM 1 can be stably moved to the first atmospheric rotation angle position <P 1 > without contaminating other divided regions (unused regions) on the outer circumferential surface.

즉, 레지스트 액막(RMn)을 분리한 직후에, 프라이밍 롤러(14)의 회전을 멈추면, 레지스트 액막(RMn)에는 중력에 의해 둘레 방향 하향의 힘이 지속적으로 작용하여, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상에서 레지스트 액막(RMn)이 하방 또는 전방으로 늘어진다. 슬릿 노즐을 사용하는 스핀리스 도포법에서는, 통상 20cp 이하의 저점도 레지스트액이 사용되므로, 프라이밍 롤러 상에서 상기와 같은 레지스트 액막의 액늘어짐이 발생하기 쉽다. 그런데, 본 실시예에서는, 프라이밍 롤러(14)의 회전을 멈추지 않고 그대로 계속시킴으로써 레지스트 액막(RMn)에 작용하는 중력의 작용(액늘어짐을 유인하는 힘)을 실질적으로 캔슬하여, 프라이밍 롤러(14) 상에 권취한 레지스트 액막(RMn)을 액늘어짐에 의해 퍼지는 일 없이 표면 장력으로 소정의 영역(분할 영역) 내에 멈추게 해둘 수 있다.That is, chumyeon the rotation is stopped, the resist liquid film (RM n), the circumferential direction downstream of the force constantly acting by gravity, the priming roller (14, immediately after the separation, a resist liquid film (RM n), the priming roller 14 The resist liquid film RM n stretches downward or forward on the outer circumferential surface of the? In the spinless coating method using a slit nozzle, since the low viscosity resist liquid of 20 cps or less is normally used, the above-mentioned thinning of the resist liquid film is likely to occur on the priming roller. By the way, in this embodiment, by continuing as it is without stopping the rotation of the priming roller 14, the action of the gravity (force which attracts enlargement) acting on the resist liquid film RM n is substantially canceled, and the priming roller 14 ), The resist liquid film RM n wound on the wafer can be stopped in a predetermined region (divided region) by surface tension without spreading by expanding.

제1 대기용 회전각 위치<P1>로서, 바람직하게는 도 2의 Ⅳ(정지ㆍ대기)에 도시한 바와 같이, 제1 레지스트 액막(RM1)의 중심이 롤러 최하부(180°)에 오게 하는 위치를 선정할 수 있다. 이 경우, 프라이밍 롤러(14)의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 제1 레지스트 액막(RM1)의 전단부는 225°의 회전각 위치보다도 상류측으로 들어가고, 제1 레지스트 액막(RM1)의 후단부는 135°의 회전각 위치보다도 하류측으로 들어간다.As the first atmospheric rotation angle position <P 1 >, preferably, the center of the first resist liquid film RM 1 is at the lowermost part of the roller (180 °), as shown in IV (stopping / waiting) in FIG. We can choose position to do. In this case, in the circumferential direction of the normal rotation of the priming roller 14, the first resist liquid film (RM 1) a front end portion into the upstream side than the rotation angle position of 225 °, the first resist liquid film rear end of the (RM 1) of It enters downstream rather than the rotation angle position of 135 degrees.

이 제1 대기용 회전각 위치<P1>에서 제1 레지스트 액막(RM1)을 정지시켜 둠으로써, 가령 제1 레지스트 액막(RM1) 중에서 액의 이동이 있어도, 특히 액저류부(m1)로부터 저위의 부위로 레지스트액의 이동이 있어도, 제1 레지스트 액막(RM1)의 막 두께가 균일해지는 방향으로 작용할 뿐이고, 이웃하는 분할 영역(미사용 영역)으로 밀려나오는 경우는 없다.By stopping the first resist liquid film RM 1 at the first atmospheric rotation angle position <P 1 >, in particular, even if there is a movement of the liquid in the first resist liquid film RM 1 , in particular, the liquid reservoir portion m 1. Even if there is a movement of the resist liquid from the lower portion to the lower portion, it only acts in the direction in which the film thickness of the first resist liquid film RM 1 is uniform, and it does not push out to the adjacent divided regions (unused regions).

이렇게 하여, 제1 레지스트 액막(RM1)은 다음 회(2회째)의 프라이밍 처리가 행해질 때까지, 프라이밍 롤러(14) 상의 제1 대기용 회전각 위치<P1>에서 정지한 상태로 소정 시간(t4 내지 t5 : 예를 들어, 40 내지 50초간) 주위의 공기 또는 자연 건조에 노출된다.In this manner, the first resist liquid film RM 1 is stopped for a predetermined time in the state where it is stopped at the first waiting rotation angle position <P 1 > on the priming roller 14 until the next priming process is performed. (t 4 to t 5 : for example 40 to 50 seconds) is exposed to ambient air or natural drying.

이 사이에, 슬릿 노즐(72)은 노즐 이동 기구(74)에 의해 도포 스테이지로 보내져, 그곳에서 기판 1매분의 레지스트 도포 처리에 제공된다. 그리고, 레지스트 도포 처리를 종료하면, 슬릿 노즐(72)은 다시 이 프라이밍 처리 장치로 복귀되어, 도 1에 도시한 바와 같이 그 토출구가 프라이밍 롤러(14)의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 평행하게 대향하도록 위치 결정된다.In the meantime, the slit nozzle 72 is sent to the application | coating stage by the nozzle movement mechanism 74, and is provided therein for the resist application | coating process of a board | substrate. When the resist coating process is completed, the slit nozzle 72 is returned to the priming processing apparatus again, and as shown in FIG. 1, the discharge port is parallel to the top of the priming roller 14 at a predetermined gap. Are positioned to face each other.

도 4에, 2회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 도시한다. 바람직하게는, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상에서 제1 레지스트 액막(RM1)의 하류측 옆의 분할 영역[14(2)]이 2회째의 프라이밍 처리에 할당된다. 이로 인해, 2회째의 프라이밍 처리를 개시하기 직전에, 프라이밍 롤러(14)를 소정의 회전각만큼 정방향으로 회전시켜 둔다.Fig. 4 shows each step when the second priming process is performed. Preferably, on the outer circumferential surface of the priming roller 14, the divided region 14 (2) next to the downstream side of the first resist liquid film RM 1 is assigned to the second priming process. For this reason, just before starting the 2nd priming process, the priming roller 14 is rotated by a predetermined rotation angle in the forward direction.

이 2회째의 프라이밍 처리에서는, 도 4의 I(토출ㆍ방치)에 도시한 바와 같이, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상의 분할 영역[14(2)](보다 정확하게는, 이 분할 영역의 전단부)을 프라이밍 롤러(14)의 정상부에 위치시켜, 1회째의 프라이밍 처리 시와 완전히 동일한 동작 및 타이밍으로, 슬릿 노즐(72)에 일정량의 레지스트액(R)을 토출시키고, 직후에 소정 시간 그대로 방치한다.In the second priming process, as shown in I (discharge and leaving) in FIG. 4, the divided region 14 (2) on the outer circumferential surface of the priming roller 14 (more precisely, the front end of the divided region). ) Is placed on the top of the priming roller 14 to discharge a certain amount of the resist liquid R into the slit nozzle 72 at the same operation and timing as in the first priming process, and then left for a predetermined time immediately thereafter. do.

계속해서, 도 4에 도시한 바와 같이, 마찬가지로 1회째의 프라이밍 처리 시와 동일한 동작 및 타이밍으로, 레지스트액(R)의 권취(Ⅱ), 분리(Ⅲ), 정지ㆍ대기(Ⅳ)의 각 공정이 순차적으로 행해진다.Subsequently, as shown in FIG. 4, the steps of winding (II), separating (III), and stopping / waiting (IV) of the resist liquid R are performed in the same operation and timing as in the first priming process. This is done sequentially.

이 경우에도, 1회째의 프라이밍 처리 시와 마찬가지로, 권취(Ⅱ) 및 분리(Ⅲ)의 공정에 의해, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상에 소정의 둘레 방향 사이즈(회전 각도 범위에서 75° 내지 85°)로 레지스트액(R)이 권취되어 제2 레지스트 액막(RM2)이 형성된다. 그리고, 프라이밍 롤러(14)의 회전을 그대로 계속하여 분리(Ⅲ)의 위치로부터 제2 대기용 회전각 위치<P2>까지 제2 레지스트 액막(RM2)을 이동시킨다.In this case as well, at the time of the first priming treatment, a predetermined circumferential size (75 ° to 85 in the rotation angle range) is formed on the outer circumferential surface of the priming roller 14 by the steps of winding (II) and separation (III). The resist liquid R is wound up to form a second resist liquid film RM 2 . Then, the rotation of the priming roller 14 is continued as it is, and the second resist liquid film RM 2 is moved from the position of separation (III) to the second atmospheric rotation angle position <P 2 >.

이렇게 하여, 회전 운동 중의 프라이밍 롤러(14) 상에서 제2 레지스트 액막(RM2)[특히, 액저류부(m2)]으로부터 레지스트액이 중력에 의해 늘어지는 일 없이, 제2 레지스트 액막(RM2)을 제2 대기용 회전각 위치<P2>까지 안정적으로 이동시킬 수 있다.In this way, the resist liquid does not drop from the second resist liquid film RM 2 (particularly, the liquid reservoir m 2 ) on the priming roller 14 during the rotational movement by gravity, and thus the second resist liquid film RM 2. ) Can be stably moved to the second atmospheric rotation angle position <P 2 >.

제2 대기용 회전각 위치<P2>도, 바람직하게는 도 4의 Ⅳ(정지ㆍ대기)에 도시한 바와 같이, 제2 레지스트 액막(RM2)의 중심이 롤러 최하부(180°)로 오는 위치를 선정할 수 있다. 이 경우, 프라이밍 롤러(14)의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 제2 레지스트 액막(RM2)의 전단부는 회전각 225°의 위치보다도 하류측으로 들어가고, 제2 레지스트 액막(RM2)의 후단부는 135°의 회전각 위치보다도 상류측으로 들어간다. 이 제2 대기용 회전각 위치<P2>에서 제2 레지스트 액막(RM2)을 정지시켜 둠으로써, 가령 제2 레지스트 액막(RM2) 중에서 액의 이동이 있어도, 이웃하는 분할 영역(미사용 영역)으로 밀려나오는 경우는 없다.As shown in IV (stopping / waiting) of the second atmospheric rotation angle position <P 2 >, preferably, the center of the second resist liquid film RM 2 comes to the lowermost part of the roller (180 °). You can select a location. In this case, in the circumferential direction of the normal rotation of the priming roller 14, the second resist liquid film (RM 2) of the front end rotated into the side than a position downstream of each of 225 °, the second rear end portion of the resist liquid film (RM 2) It enters an upstream rather than a rotation angle position of 135 degrees. By stopping the second resist liquid film RM 2 at the second atmospheric rotation angle position <P 2 >, even if liquid is moved in the second resist liquid film RM 2 , the adjacent divided regions (unused regions). It is not pushed by).

또한, 제1 레지스트 액막(RM1)은 프라이밍 롤러(14)의 정회전의 둘레 방향에 있어서 제2 레지스트 액막(RM2)의 상류측 옆, 즉 회전각 위치 45° 내지 135°의 범위 내에서 대기하게 된다. 여기서, 제1 레지스트 액막(RM1)은 1회째의 프라이밍 처리가 종료되었을 때부터 2회째의 프라이밍 처리가 개시될 때까지의 사이에, 제1 대기용 회전각 위치<P1>에서 자연 건조를 받고 있었으므로, 그 액막 표면이 어느 정도 건조되어 있어, 제1 대기용 회전각 위치<P1>로부터 벗어난 위치(45° 내지 135°의 범위 내)에서 정지해도 액늘어짐을 일으키기 어렵게 되어 있다. 또한, 가령, 프라이밍 롤러(14) 상에서, 제1 레지스트 액막(RM1)의 전단부[액저류부(m1)]로부터 저위의 장소[제2 레지스트 액막(RM2)의 후단부측]로 레지스트액의 이동(액늘어짐)이 있다고 해도, 그 장소는 사용 종료된 분할 영역[14(1) 내지 14(2)] 내이므로, 어떠한 지장도 발생하지 않는다(미사용 영역을 오염시키는 일은 없음).Further, the first resist liquid film RM 1 is next to the upstream side of the second resist liquid film RM 2 in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller 14, that is, within the range of the rotation angle positions 45 ° to 135 °. I will wait. Here, the first resist liquid film RM 1 is naturally dried at the first atmospheric rotation angle position <P 1 > between the completion of the first priming treatment and the start of the second priming treatment. Since the liquid film surface was dried to some extent, even if it stopped at the position (in the range of 45 degrees-135 degrees) deviating from the 1st atmospheric rotation angle position <P 1 >, it becomes difficult to produce a sagging. Further, for example, on the priming roller 14, the front end portion (liquid storage portion m 1 ) of the first resist liquid film RM 1 is located at a lower position (the rear end side of the second resist liquid film RM 2 ). Even if there is a movement (stretching) of the resist liquid, since the place is in the used divided regions 14 (1) to 14 (2), no trouble occurs (they do not contaminate unused regions).

3회째의 프라이밍 처리도, 도시 생략하지만, 상술한 1회째 및 2회째의 프라이밍 처리와 완전히 동일한 수순 및 동작으로 행해진다. 결과적으로, 프라이밍 롤러(14) 상에서, 제1 및 제2 레지스트 액막(RM1, RM2)과는 다른 영역에, 통상은 정회전의 둘레 방향에 있어서 제2 레지스트 액막(RM2)의 하류측 옆의 분할 영역[14(3)]에, 3회째의 프라이밍 처리에 부수된 잔존물로서 제3 레지스트 액막(RM3)이 소정의 둘레 방향 사이즈(75° 내지 85°)로 형성된다. 이 제3 레지스트 액막(RM3)은 프라이밍 롤러(14)가 권취된 직후에 롤러 최하부(180°) 부근에 설정된 제3 대기용 회전각 위치<P3>로 이동하여, 그곳에서 자연 건조를 받는다.Although the 3rd priming process is not shown in figure, it is performed by the procedure and operation | movement which are exactly the same as the priming process of the 1st and 2nd time mentioned above. As a result, on the priming roller 14, the downstream side of the second resist liquid film RM 2 in a region different from the first and second resist liquid films RM 1 and RM 2 , usually in the circumferential direction of the forward rotation. In the next divided region 14 (3), the third resist liquid film RM 3 is formed in a predetermined circumferential size (75 ° to 85 °) as a residue accompanying the third priming process. Immediately after the priming roller 14 is wound, the third resist liquid film RM 3 moves to the third atmospheric rotation angle position <P 3 > set near the lowermost part of the roller 180 °, whereby it is naturally dried. .

도시는 생략하지만, 프라이밍 롤러(14) 상에서, 제3 레지스트 액막(RM3)이 롤러 최하부(180°)의 제3 대기용 회전각 위치<P3>에서 대기하는 동안, 제2 레지스트 액막(RM2)은 제3 레지스트 액막(RM3)의 상류측 옆, 즉 회전각 위치 45° 내지 135°의 영역 내에서 대기하고, 제1 레지스트 액막(RM1)은 제2 레지스트 액막(RM2)의 상류측 옆, 즉 회전각 위치 -45° 내지 45°의 영역 내에서 대기하게 된다.Although not shown, on the priming roller 14, a third resist liquid film (RM 3) while the air in the third air rotational angle position <P 3> for the roller bottom (180 °), the second resist liquid film (RM 2 ) stands by the upstream side of the third resist liquid film RM 3 , that is, in the region of the rotation angle positions 45 ° to 135 °, and the first resist liquid film RM 1 is formed of the second resist liquid film RM 2 . Stand by the upstream side, ie in the region of the rotation angle position -45 ° to 45 °.

이 경우, 제2 레지스트 액막(RM2)에 대해서는, 상술한 바와 같은 2회째의 프라이밍 처리 후의 제1 레지스트 액막(RM1)과 동일하게, 액늘어짐의 문제는 없다. 또한, 제1 레지스트 액막(RM1)은 그 중심부가 롤러 최상부에 위치하고, 그 후단부가 이웃하는 미사용 영역, 즉 제4 분할 영역[14(4)]보다도 높은 위치로 된다. 그러나, 제1 레지스트 액막(RM1)은 상당히 장시간(통상, 100초 이상)의 자연 건조에 노출되어 왔으므로, 제1 레지스트 액막(RM1)의 후단부로부터 이웃하는 미사용 영역{제4 분할 영역[14(4)]}으로 액이 늘어지는 경우는 없다.In this case, with respect to the second resist liquid film RM 2 , there is no problem of enlargement as in the first resist liquid film RM 1 after the second priming treatment as described above. In addition, the center portion of the first resist liquid film RM 1 is positioned at the top of the roller, and the rear end portion is positioned higher than the unused region, that is, the fourth divided region 14 (4). However, since the first resist liquid film RM 1 has been exposed to natural drying for quite a long time (usually 100 seconds or more), an unused region neighboring from the rear end of the first resist liquid film RM 1 (fourth divided region). [14 (4)]}, the liquid is not drooping.

이 제1 실시예에서는, 프라이밍 롤러(14)의 외주면이 전체 둘레에 걸쳐서 청정한 상태로 리셋된 후 소정 횟수, 예를 들어 4회의 프라이밍 처리를 계속해서 행한 후에, 프라이밍 롤러(14)의 일괄 세정(외주면 전체 둘레의 청정화)을 행하도록 하고 있다.In this first embodiment, after the outer circumferential surface of the priming roller 14 is reset to a clean state over its entire circumference, after the predetermined number of times, for example, four consecutive priming treatments have been performed, the batch cleaning of the priming roller 14 ( Cleaning of the entire circumference of the outer circumferential surface).

도 5에 프라이밍 롤러(14)의 일주 내에서 마지막(4회째)의 프라이밍 처리 및 직후의 일괄 세정 처리가 행해질 때의 각 단계를 도시한다. 도 6에 도 5의 프라이밍 처리 동작 및 일괄 세정 처리 동작에 있어서의 프라이밍 롤러(14)의 회전 속도 특성을 시간축 상의 파형으로 나타낸다.FIG. 5 shows each step when the last (fourth) priming process and the immediately after batch cleaning process are performed within one week of the priming roller 14. 6, the rotational speed characteristic of the priming roller 14 in the priming process operation | movement and batch washing process operation of FIG. 5 is shown by the waveform on a time axis.

마지막회(4회째)의 프라이밍 처리에서도, 도 5에 도시한 바와 같이, 레지스트액(R)의 토출ㆍ방치(I), 레지스트 액막(RM4)의 권취(Ⅱ) 및 분리(Ⅲ)의 각 공정은 1회째 내지 3회째의 각 프라이밍 처리 시와 동일하고, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상에는 제3 레지스트 액막(RM3)의 하류측 옆의 제4 분할 영역[14(4)]에 제4 레지스트 액막(RM4)이 권취된다.Also in the last (fourth) priming process, as shown in FIG. 5, each of the discharge and leaving (I) of the resist liquid R, the winding (II) and the separation (III) of the resist liquid film RM 4 is shown. process is the downstream side next to the fourth divided area 14 (4) of the same as when each of the priming process of the first time to the third time, and the priming roller 14, a third resist liquid film (RM 3) formed on the outer circumferential surface of 4 The resist liquid film RM 4 is wound up.

그러나, 분리(Ⅲ) 후에는, 정지ㆍ대기(Ⅳ)의 공정을 건너 뛰어, 프라이밍 롤러(14)의 회전을 계속한 채, 세정(V)의 공정으로 이행한다. 이 세정(V)의 공정에서는 세정 기구(16) 및 배기 기구(45)를 작동시킨다.However, after separation (III), the process shifts to the process of cleaning (V) while skipping the process of stopping and waiting (IV) and continuing the rotation of the priming roller 14. In this process of washing (V), the washing | cleaning mechanism 16 and the exhaust mechanism 45 are operated.

또한, 세정(V)의 공정을 개시하기 전에, 주제어부(70)는 회전 기구(65) 및 막 두께 측정부(67)를 통해, 프라이밍 롤러(14) 상에 부착되어 있는 레지스트 액막(RM1, RM2, RM3, RM4)의 범위(면적) 및 막 두께를 측정하고, 그 측정 결과에 기초하여 세정(V)의 공정에 있어서의 세정액의 사용량을 연산에 의해 결정한다. 예를 들어, 프라이밍 롤러(14) 상에 부착되어 있는 모든 레지스트 액막의 총 레지스트량(범위 × 막 두께)을 기준치로 하여, 세정액 사용량을 그 기준치(총 레지스트량)에 동등한 값으로 결정해도 좋다.Further, prior to the start of the process of cleaning (V), the main control section 70 is the resist liquid film that is attached to the rotating mechanism 65 and the film with the thickness measuring unit 67, the priming roller (14) (RM 1 , RM 2 , RM 3 , and RM 4 ), and the film thickness are measured, and the amount of the washing solution used in the washing (V) process is determined by calculation based on the measurement result. For example, using the total resist amount (range x film thickness) of all the resist liquid films adhering on the priming roller 14, the amount of cleaning liquid used may be determined to be equal to the reference value (total resist amount).

또한, 레지스트 액막 측정에 관해서는, 통상은 프라이밍 롤러(14) 상에서 동일한 프라이밍 처리가 반복되므로, 각 분할 영역[14(n)]에 부착되어 있는 레지스트 액막(RMn)의 범위 및 막 두께는 동일하다고 간주하고, 그 중 하나, 예를 들어 제1 레지스트 액막(RM1)의 범위(면적) 및 막 두께만의 측정으로만 해도 좋다.In addition, regarding the resist liquid film measurement, since the same priming process is repeated on the priming roller 14, the range and film thickness of the resist liquid film RM n adhering to each division area 14 (n) are the same. In this case, only one of them, for example, measurement of the range (area) and film thickness of the first resist liquid film RM 1 may be performed.

세정(V)의 공정에 있어서의 적합한 일 형태로서, 주제어부(70)는 2유체 제트 노즐(18)이 프라이밍 롤러(14)의 외주면 중에서 레지스트 액막(RM1 내지 RM4)이 부착되어 있는 영역 또는 부위에만 세정액 및 에어의 2유체 제트류를 분출하도록, 회전 기구(65)와 세정 기구(16)를 연동(연계)시켜 제어한다. 여기서, 세정액의 유량 내지 사용량은 상기와 같은 레지스트막 측정에 기초하여 결정된 것이다.As a suitable form in the process of washing | cleaning (V), the main control part 70 is the area | region in which the two liquid jet nozzles 18 adhere the resist liquid films RM 1 to RM 4 on the outer circumferential surface of the priming roller 14. Alternatively, the rotary mechanism 65 and the cleaning mechanism 16 are interlocked (connected) so as to eject two fluid jet streams of the cleaning liquid and air only at the site. Here, the flow rate to the usage amount of the cleaning liquid is determined based on the resist film measurement as described above.

이렇게 하여, 2유체 제트 노즐(18)로부터 분사되는 2유체 제트류의 강한 충격력에 의해, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 상에 부착된지 얼마 지나지 않은 제4 레지스트 액막(RM4)은 물론 자연 건조에 의해 덜 마르거나 또는 반건조 상태로 되어 있는 다른 모든 레지스트 액막(RM1, RM2, RM3)도 용이하게 씻겨져, 그 대부분은 세정액에 섞여 바로 아래의 배출구(54)로 낙하하고, 나머지는 미스트(ma)로 바뀌어 부근으로 비산된다. 이렇게 하여 일괄 세정 중에 2유체 제트 노즐(18)의 주위에서 발생하는 미스트(ma) 중 상방으로 날아 올라간 것은, 미스트 차폐부(32)에 차단되어, 하우징(10)의 개구부(12)측으로 나오는 경우는 거의 없다.In this way, due to the strong impact force of the two-fluid jets injected from the two-fluid jet nozzle 18, the fourth resist liquid film RM 4 just attached to the outer circumferential surface of the priming roller 14, as well as by natural drying. All other resist liquid films (RM 1 , RM 2 , RM 3 ) that are less dry or semi-dry are also easily washed away, most of which are mixed with the cleaning liquid and fall into the outlet 54 directly below, and the rest is mist ( ma) and scattered around. In this way, when the mist ma generated around the two-fluid jet nozzle 18 flies upward during the batch cleaning, is blocked by the mist shielding part 32 and exits to the opening 12 side of the housing 10. There is little.

한편, 배기 기구(45)에서는, 배기 댐퍼(52)가 개방되어, 배큐엄 장치(48)로부터의 배큐엄이 배큐엄관(46), 배큐엄 통로(44) 및 흡인구(36)를 통해 미스트 도입부(34) 및 강제 건조부(38)에 공급된다.On the other hand, in the exhaust mechanism 45, the exhaust damper 52 is opened, and the mist from the vaccum device 48 passes through the vaccum tube 46, the vaccum passage 44, and the suction port 36. It is supplied to the introduction part 34 and the forced drying part 38.

도 7에 도시한 바와 같이, 미스트 도입부(34)는 2유체 제트 노즐(18)의 주위에서 발생하는 미스트(ma)를 간극(40)의 하단부로부터 속으로 흡입하여, 간극(40) 중에서 미스트(ma)를 프라이밍 롤러(14)의 외주면을 따라서 회전 방향으로 흘리고, 간극(40)의 상단부로부터 흡인구(36)로 나온 미스트(ma)를 배큐엄 장치(48)로 보낸다. 강제 건조부(38)는 개구부(12)를 통해 상방의 대기 공간으로부터 에어를 간극(42) 중으로 흡입하여, 간극(42) 중에서 에어를 프라이밍 롤러(14)의 외주를 따라서 회전 방향과 역방향으로 흘리고, 프라이밍 롤러(14)의 외주면에 남아 있는 액을 에어의 압력으로 깎아 떨어뜨려 액적화하고, 간극(42)의 하단부로부터 흡인구(36)로 나온 미스트(mb)를 배큐엄 장치(48)로 보낸다. 이와 같이, 배큐엄을 이용하여 프라이밍 롤러(14)의 외주면에 대해 회전 방향과 역방향의 에어류를 쐬어 액을 제거하고, 그 액 제거에 의해 발생한 미스트(mb)를 그대로 배큐엄으로 회수하므로, 건조 효율이 높고 또한 미스트의 비산을 방지할 수 있다.As shown in FIG. 7, the mist introduction portion 34 sucks mist generated around the two-fluid jet nozzle 18 from the lower end of the gap 40 into the mist 40. ma is flowed along the outer circumferential surface of the priming roller 14 in the rotational direction, and the mist ma which emerges from the suction port 36 from the upper end of the gap 40 is sent to the vacuum device 48. The forced drying unit 38 sucks air into the gap 42 from the upper air space through the opening 12, and flows the air in the gap 42 in the opposite direction to the rotation direction along the outer circumference of the priming roller 14. The liquid remaining on the outer circumferential surface of the priming roller 14 is squeezed off by dropping in air pressure to form droplets, and the mist mb, which emerges from the suction port 36 from the lower end of the gap 42, is transferred to the vacuum device 48. send. In this way, the liquid is removed by pouring air in the direction of rotation and reverse with respect to the outer circumferential surface of the priming roller 14 using the baumum, and the mist (mb) generated by the liquid removal is recovered as it is, thus drying. High efficiency and can prevent mist scattering.

상기와 같은 세정(V)의 공정을 개시한 후 소정 시간이 경과했을 때(도 6의 시점 tG)에 세정 기구(16)를 오프하여, 2유체 제트 세정을 멈춘다. 그 후에는, 프라이밍 롤러(14)를 연속 회전시킨 채 배기 기구(45)[미스트 도입부(34) 및 강제 건조부(38)]의 동작만을 계속시켜, 프라이밍 롤러(14)의 외주면을 전체 둘레에 걸쳐서 배큐엄의 힘으로 건조시키는 강제 건조(Ⅵ)의 공정으로 전환한다. 그리고, 소정 시간의 경과 후에 배기 댐퍼(52)를 폐쇄하고 배기 기구(45)를 오프로 하여 건조 처리를 정지하고, 이것으로 일괄 세정 처리의 전체 공정을 종료한다.After the start of the process of the washing (V) as described above to turn off the washing mechanism 16 to (time t G in Fig. 6) when a predetermined time has elapsed, to stop the two-fluid jet cleaning. Thereafter, only the operation of the exhaust mechanism 45 (mist introduction section 34 and forced drying section 38) is continued while the priming roller 14 is continuously rotated, and the outer circumferential surface of the priming roller 14 is rotated around the entire circumference. The process is converted to forced drying (VI), which is dried over the force of the barium. After the lapse of a predetermined time, the exhaust damper 52 is closed and the exhaust mechanism 45 is turned off to stop the drying process, thereby completing the entire process of the batch cleaning process.

또한, 택트를 정렬시키는 관점으로부터, 일괄 세정 처리에 있어서 세정(V) 및 강제 건조(Ⅵ)를 합한 전체 처리 시간(도 6의 t4 내지 tH)이, 이동ㆍ대기(Ⅳ)의 소요 시간(도 3의 t4 내지 t6)과 동일한 길이(예를 들어, 60초)로 설정되는 것이 바람직하다. 이 경우, 세정(V)의 처리 시간(도 6의 t4 내지 tG)이, 예를 들어 20초로 설정되고, 강제 건조(Ⅵ)의 처리 시간(도 6의 tG 내지 tH)이, 예를 들어 40초로 설정되어도 좋다.In addition, from the viewpoint of aligning the tact, the total processing time (t 4 to t H in FIG. 6) in which the cleaning (V) and the forced drying (VI) are combined in the batch cleaning process is required for movement and waiting (IV). It is preferably set to the same length (for example, 60 seconds) (t 4 to t 6 in FIG. 3). In this case, the treatment time (t 4 to t G in FIG. 6) of the washing (V) is set to, for example, 20 seconds, and the treatment time (t G to t H in FIG. 6) of the forced drying (VI), For example, it may be set to 40 seconds.

상술한 바와 같이, 이 제1 실시예에 따르면, 프라이밍 롤러(14)의 외주면을 그 둘레 방향으로 복수(예를 들어, 4개)로 분할하여 그들의 분할 영역[14(1) 내지 14(4)]을 연속하는 소정 횟수(4회)의 프라이밍 처리에 각각 할당하여 사용한다. 그리고, 마지막회(4회째)의 프라이밍 처리를 제외한 각 프라이밍 처리에 있어서는, 각 레지스트 액막(RMn)을 프라이밍 롤러(14) 상에 권취한 직후에 특별한 대기용 회전각 위치<Pn>로 오게 하여, 다음의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 그 대기용 회전각 위치<Pn>에서 대기시킴으로써, 각 레지스트 액막(RMn)[특히, 액저류부(mn)]으로부터의 액늘어짐을 방지하여 자연 건조의 덜 마르거나 또는 반건조 상태로 할 수 있다.As described above, according to this first embodiment, the outer circumferential surface of the priming roller 14 is divided into a plurality (for example, four) in the circumferential direction thereof and their divided regions 14 (1) to 14 (4). ] Is assigned to each successive predetermined number of times (four times) and used. And in each priming process except the priming process of the last time (fourth time), after returning each resist liquid film RM n on the priming roller 14, it will come to a special atmospheric rotation angle position <P n >. By waiting at the waiting rotation angle position <P n > until the next priming process is performed, the liquid from the resist liquid film RM n (especially the liquid reservoir m n ) is prevented from being spontaneous. It may be made less dry or semi-dry.

이와 같이, 프라이밍 롤러(14) 상에서, 레지스트 액막(RMn)의 액늘어짐을 방지할 수 있으므로, 이웃하는 미사용 분할 영역을 오염시킬 우려는 없고, 따라서 후속의 프라이밍 처리가 이전의 프라이밍 처리에 의해 영향을 받는 일 없이, 프라이밍 처리의 재현성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In this way, since it is possible to prevent the expansion of the resist liquid film RM n on the priming roller 14, there is no fear of contaminating the neighboring unused divided regions, so that subsequent priming treatment is affected by the previous priming treatment. It is possible to improve the reproducibility and reliability of the priming process without receiving.

또한, 프라이밍 롤러(14) 상에 부착된 레지스트 액막(RMn)은 자연 건조에 의한 덜 마른 상태의 레지스트 액막으로서, 혹은 완전한 액상 상태로 세정되므로, 씻어내기가 용이해, 세정 기구(16)의 부담을 경감시켜, 세정액의 사용량을 적게 할 수 있다.In addition, since the resist liquid film RM n attached on the priming roller 14 is washed as a resist liquid film in a less dry state by natural drying, or in a completely liquid state, it is easy to wash away, The burden can be reduced and the amount of the washing liquid used can be reduced.

또한, 일괄 세정에서는, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 중 레지스트 액막(RM1, RM2, RM3, RM4)이 부착되어 있는 영역에만 적량의 세정액을 분출하므로, 세정액의 사용량을 한층 삭감할 수 있다.In the batch cleaning, a proper amount of the cleaning liquid is ejected only to the region where the resist liquid films RM 1 , RM 2 , RM 3 , and RM 4 are attached to the outer peripheral surface of the priming roller 14, so that the amount of the cleaning liquid used can be further reduced. have.

또한, 도시한 예에서는, 프라이밍 롤러(14)의 외주면을 둘레 방향에서 4등분으로 분할하여, 1회의 프라이밍 처리에 있어서의 둘레 방향의 레지스트액 권취 사이즈를 75° 내지 85°로 하였다. 그러나, 임의의 분할 수 및 권취 사이즈가 가능해, 예를 들어 1회당의 둘레 방향 권취 사이즈를 72° 이하로 하고, 프라이밍 롤러(14)의 외주면을 5분할하여 5회 연속 사용하는 것도 가능하다.In the illustrated example, the outer peripheral surface of the priming roller 14 was divided into four equal parts in the circumferential direction, and the resist liquid winding size in the circumferential direction in one priming treatment was set to 75 ° to 85 °. However, any number of divisions and winding sizes are possible. For example, the circumferential winding size per stroke may be 72 ° or less, and the outer circumferential surface of the priming roller 14 may be divided into five and used five times in succession.

또한, 대기용 회전각 위치<Pn>에 관한 다른 적합한 예로서, 예를 들어 도 8(1회째의 프라이밍 처리) 및 도 9(2회째의 프라이밍 처리)에 도시한 바와 같이, 프라이밍 롤러(14)의 외주면에 권취되어 잘라내어진 직후의 레지스트 액막(RMn)의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치를 설정하는 것도 가능하다. 도시한 바와 같은 대기용 회전각 위치<Pn>에서 레지스트 액막(RMn)을 대기(정지)시켜 둠으로써, 가령 당해 레지스트 액막(RM1) 중에서 액의 이동이 있어도, 최하위의 액저류부(mn)에 모여(멈춰), 하류측 옆의 분할 영역(미사용 영역)으로 밀려나오는 경우는 없다.Moreover, as another suitable example regarding the atmospheric rotation angle position <P n >, for example, as shown to FIG. 8 (1st priming process) and FIG. 9 (2nd priming process), the priming roller 14 It is also possible to set the rotation angle position at which the front end portion of the resist liquid film RM n immediately after being wound and cut out on the outer circumferential surface of the &quot; By holding (resisting) the resist liquid film RM n at the atmospheric rotation angle position <P n > as shown, even if there is a liquid movement in the resist liquid film RM 1 , the lowest liquid reservoir portion ( m n ) is not pushed out to the downstream divided region (unused area).

결국, 기본적으로, 대기용 회전각 위치<Pn>는 레지스트 액막(RMn)의 중심이 롤러 최하부에 오는 회전각 위치(도 2, 도 4)와, 레지스트 액막(RMn)의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치(도 8, 도 9)의 범위 내로 설정되는 것이 바람직하다.As a result, basically, the atmospheric rotation angle position <P n > is the rotation angle position (Figs. 2 and 4) in which the center of the resist liquid film RM n comes to the bottom of the roller, and the front end of the resist liquid film RM n is roller. It is preferable to set in the range of the rotation angle position (FIG. 8, FIG. 9) which comes to the lowest part.

대기용 회전각 위치<Pn>에 관한 또 다른 적합한 예로서, 예를 들어 도 10(1회째의 프라이밍 처리) 및 도 11(2회째의 프라이밍 처리)에 도시한 바와 같이, 프라이밍 롤러(14)의 외주면에 권취되어 잘라내어진 직후의 레지스트 액막(RMn)의 전단부가 롤러 최상부에 오는 회전각 위치를 설정하는 것도 가능하다. 도시한 바와 같은 대기용 회전각 위치<Pn>에서 레지스트 액막(RMn)을 대기(정지)시켜 둠으로써, 가장 액늘어짐을 일으키기 쉬운 액저류부(mn)가 대략 수평한 롤러 정상면에 적재되어 있으므로, 그곳으로부터 하류측 옆의 분할 영역(미사용 영역)으로 밀려나오는 경우는 없다.As another suitable example regarding the atmospheric rotation angle position <P n >, for example, as shown in Fig. 10 (first priming process) and 11 (second priming process), the priming roller 14 It is also possible to set the rotation angle position at which the front end portion of the resist liquid film RM n immediately after being wound and cut out on the outer circumferential surface of the top surface comes to the top of the roller. By holding (resisting) the resist liquid film RM n at the atmospheric rotation angle position <P n > as shown in the drawing, the liquid reservoir portion m n , which tends to cause the most flattening, is placed on the roughly horizontal top surface of the roller. Therefore, it does not push out from the downstream side to the divided area | region (unused area) from there.

[프라이밍 처리 방법의 제2 실시예]Second Embodiment of Priming Processing Method

다음에, 도 12 및 도 13에 대해, 이 프라이밍 처리 장치에서 실시 가능한 프라이밍 처리 방법의 제2 실시예를 설명한다.Next, with reference to FIG. 12 and FIG. 13, the 2nd Example of the priming process method which can be implemented by this priming process apparatus is demonstrated.

도 12에, 제2 실시예에 있어서, 프라이밍 롤러(14) 상에서 1회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 도시한다. 도 13에, 1회분의 프라이밍 처리 동작에 있어서의 프라이밍 롤러(14)의 회전 속도 특성을 시간축 상의 파형으로 나타낸다.FIG. 12 shows each step when the first priming process is performed on the priming roller 14 in the second embodiment. 13, the rotational speed characteristic of the priming roller 14 in one priming process operation is shown by the waveform on a time axis.

이 제2 실시예는, 프라이밍 롤러(14)의 외주면에 권취되는 레지스트 액막(RMn)의 전단부에 액저류부(mn)를 발생시키지 않는 것을 특징으로 한다. 그것을 위한 방법으로서, 레지스트 토출 공정(I) 직후에, 잠시 동안 그대로 방치하는 것이 아니라, 도 12의 ⅡA에 도시한 바와 같이, 우선 프라이밍 롤러(14)를 권취 속도(Va)보다도 낮은 속도(예를 들어, 주속도로 10㎜/초 이하)(Ve)로 소정의 회전각(예를 들어, 30° 내지 50°) 또는 소정 시간(도 13의 t1 내지 tN : 예를 들어, 약 1.5초)만큼 정방향으로 회전시킨다. 다음에, 즉 프라이밍 롤러(14)의 저속 정회전을 정지시킨 후, 도 12의 ⅡB에 도시한 바와 같이, 프라이밍 롤러(14)를 이번에는 동일 또는 동일한 정도의 저속도(Vf)로 대략 동일한 회전각 또는 소정 시간(도 13의 tN 내지 t2 : 예를 들어, 약 1.5초)만큼 역방향으로 회전시킨다.This second embodiment is characterized in that the liquid reservoir (m n ) is not generated at the front end of the resist liquid film RM n wound on the outer circumferential surface of the priming roller 14. As a method therefor, instead of leaving it alone for a while immediately after the resist ejecting step (I), as shown in IIA of FIG. 12, first, the priming roller 14 has a speed lower than the winding speed Va (for example). For example, a predetermined rotation angle (eg, 30 ° to 50 °) or a predetermined time (t 1 to t N in FIG. 13) at a main speed of 10 mm / sec or less (V e ), for example, about 1.5 seconds) in the forward direction. Next, that is, after stopping the low speed forward rotation of the priming roller 14, as shown in IIB of FIG. 12, the priming roller 14 is rotated about the same time at the same or the same low speed V f as this time. It is rotated in the reverse direction by each or a predetermined time (t N to t 2 in FIG. 13: for example, about 1.5 seconds).

이와 같은 프라이밍 롤러(14)의 바람직하게는 저속의 왕복 회전 운동에 의해, 레지스트 노즐(72)로부터 프라이밍 롤러(14) 상으로 토출된 레지스트액(R)이 레지스트 노즐(72)의 토출부(하단부면)에 의해 롤러 둘레 방향에서 균등해져, 액막 단부에 액저류부(mn)가 발생하기 어려워진다. 또한, 부수적 효과로서, 레지스트 노즐(72)에 있어서, 그 토출구 부근에 형성되는 레지스트액의 비드의 균일성이 향상된다.The resist liquid R discharged from the resist nozzle 72 onto the priming roller 14 by the low-speed reciprocating rotation of the priming roller 14 is preferably discharged from the resist nozzle 72 (lower end). becomes by side) evenly in the circumferential direction of the roller, it is difficult to have a liquid film-end fluid reservoir (m n) occurs. In addition, as a side effect, in the resist nozzle 72, the uniformity of the beads of the resist liquid formed in the vicinity of the discharge port is improved.

이렇게 하여, 레지스트 노즐(72)의 토출구 주위에서 레지스트액(R)을 롤러 둘레 방향에 있어서(또는 노즐 길이 방향에 있어서도) 충분히 균등하게 한 후, 상술한 제1 실시예와 동일한 동작 및 타이밍으로, 권취 동작(Ⅲ), 분리(Ⅳ) 및 대기용 회전각 위치<Pn>로의 이동ㆍ정지(V)의 각 공정을 실행한다. 그 결과, 프라이밍 롤러(14) 상에는 액저류부(mn)가 없는 평탄한 레지스트 액막(RMn)이 권취되고, 이 평탄한 레지스트 액막(RMn)이 대기용 회전각 위치<Pn>에서 자연 건조에 노출된다.In this way, the resist liquid R is sufficiently equalized in the roller circumferential direction (or in the nozzle longitudinal direction) around the discharge port of the resist nozzle 72, and then, at the same operation and timing as in the above-described first embodiment, Each process of winding operation (III), separation (IV), and movement and stop (V) to the waiting rotation angle position <P n > is executed. As a result, on the priming roller 14, the flat resist liquid film RM n without the liquid reservoir part m n is wound, and this flat resist liquid film RM n is naturally dried at the atmospheric rotation angle position <P n >. Is exposed to.

이 실시예에 있어서, 프라이밍 롤러(14) 상에 형성되는 레지스트 액막(RMn)은 대기용 회전각 위치<Pn>로 이동하는 도중에 액늘어짐을 일으키지 않는 것은 물론, 액저류부(mn)가 없으므로, 대기용 회전각 위치<Pn>에서 정지했을 때 내지 정지한 상태에서도 액늘어짐을 한층 일으키기 어렵게 되어 있다. 즉, 대기용 회전각 위치<Pn>의 설정 범위를 확장할 수 있는 효과가 얻어진다. 예를 들어, 도 12에 도시한 바와 같이, 레지스트 액막(RMn)의 전단부가 롤러 최하부에 오게 하는 위치<APn>는 물론, 한계 위치로서 레지스트 액막(RMn)의 전단부가 270°인 회전각 위치에 오게 하는 위치<BPn>에서도 액늘어짐을 일으키지 않도록 하는 것이 가능하다.In this embodiment, the resist liquid film RM n formed on the priming roller 14 does not cause a drooping while moving to the atmospheric rotation angle position <P n >, as well as the liquid reservoir m n . Therefore, even when stopped at the atmospheric rotation angle position <P n > or even in the stopped state, it is difficult to cause the expansion even more. In other words, the effect of extending the setting range of the atmospheric rotation angle position <P n > is obtained. For example, as shown in FIG. 12, the rotation where the front end of the resist liquid film RM n is 270 ° as a limit position, as well as the position <AP n > where the front end of the resist liquid film RM n is located at the bottom of the roller. It is possible not to cause a flaky even in the position <BP n > which comes to each position.

이 제2 실시예의 변형예로서, 특히 프라이밍 롤러(14)의 왕복 회전 동작(ⅡA, ⅡB)에 관한 변형예로서, 왕복 횟수를 2회 이상으로 하는 것, 역회전을 먼저 행하는 것, 정회전 동작과 역회전 동작의 조건(속도, 시간, 이동 거리 등)을 독립적으로 설정하는 것 등이 가능하다.As a modification of this second embodiment, particularly as a modification of the reciprocating rotation operation IIA, IIB of the priming roller 14, the number of reciprocating times is two or more times, the reverse rotation is performed first, and the forward rotation operation. And conditions for reverse rotation operation (speed, time, travel distance, etc.) can be set independently.

[프라이밍 처리 방법의 제3 실시예][Third Embodiment of Priming Processing Method]

다음에, 도 14 및 도 15에 대해, 이 프라이밍 처리 장치에서 실시 가능한 프라이밍 처리 방법의 제3 실시예를 설명한다.Next, with reference to FIG. 14 and FIG. 15, the 3rd Example of the priming process method which can be implemented by this priming process apparatus is demonstrated.

도 14에 제3 실시예에 있어서, 프라이밍 롤러(14) 상에서 1회째의 프라이밍 처리가 행해질 때의 각 단계를 도시한다. 도 15에 1회분의 프라이밍 처리 동작에 있어서의 프라이밍 롤러(14)의 회전 속도 특성을 시간축 상의 파형으로 나타낸다.In FIG. 14, each step at the time of performing a 1st priming process on the priming roller 14 is shown in FIG. 15, the rotational speed characteristic of the priming roller 14 in one priming process operation is shown by the waveform on a time axis.

이 제3 실시예는 프라이밍 롤러(14) 상에 레지스트 액막(RMn)을 권취하여 분리한 직후에, 프라이밍 롤러(14)의 회전 운동을 그대로 일정 속도[예를 들어, 분리 속도(Va)와 동일한 속도]로 소정 시간(도 15의 t4 내지 tJ : 바람직하게는 10초 이상) 계속시키는 계속 회전의 동작(Q)을 행한 후, 마지막에(도 15의 tJ 내지 tK에서) 소정의 대기용 회전각 위치<Pn>로 오게 하는 동작(Ⅳ)을 행한다.In the third embodiment, immediately after winding and separating the resist liquid film RM n on the priming roller 14, the rotational movement of the priming roller 14 is kept at a constant speed (for example, the separation speed Va ). At the same speed as in Fig. 15], after the continuous rotation operation Q is continued for a predetermined time (t 4 to t J in Fig. 15: preferably 10 seconds or more), and finally (at t J to t K in Fig. 15). Operation (IV) is performed to come to the predetermined waiting rotation angle position <P n >.

계속 회전 동작(Q) 동안에는, 배기 기구(45)는 멈춰 둔다. 즉, 배기 기구(45)를 온으로 하여 프라이밍 롤러(14)를 회전시키면, 프라이밍 롤러(14) 상의 레지스트 액막(RM1)이 강제 건조부(38)의 간극(42) 중에서 역풍에 의한 큰 스트레스를 받아, 막 두께 균일성을 저하시키기 쉽다. 특히, 강제 건조부(38)의 간극(42) 내에서 레지스트 액막(RMn)에 가해지는 역풍의 압력에 축방향에서 편차가 있으면, 레지스트 액막(RMn)의 표면에 둘레 방향으로 연장되는 줄무늬 형상의 요철이 생기기 쉽다. 배기 기구(45)를 멈춰 두면, 프라이밍 롤러(14)의 회전 중에 그 외주면 상의 레지스트 액막(RMn)은 간극(42)을 통과할 때라도 역풍의 압력을 받는 경우는 없고, 대기 중에 정지 상태로 방치되어 있던 경우와 동등한 자연 건조를 보다 효과적으로 받을 수 있다.During the continuous rotation operation Q, the exhaust mechanism 45 is stopped. That is, when the priming roller 14 is rotated with the exhaust mechanism 45 turned on, the resist liquid film RM 1 on the priming roller 14 causes a large stress due to a reverse wind in the gap 42 of the forced drying part 38. It is easy to reduce film thickness uniformity. In particular, if there is a deviation in the axial direction from the pressure of the reverse wind applied to the resist liquid film RM n in the gap 42 of the forced drying part 38, the stripes extending in the circumferential direction on the surface of the resist liquid film RM n . Shape irregularities tend to occur. When the exhaust mechanism 45 is stopped, the resist liquid film RM n on its outer circumferential surface is not subjected to a reverse wind pressure even when passing through the gap 42 during the rotation of the priming roller 14, and is left in a stopped state in the atmosphere. It is possible to receive natural drying equivalent to that of the case more effectively.

이 제3 실시예에 있어서도, 프라이밍 롤러(14) 상에 형성되는 레지스트 액막(RMn)은 계속 회전 동작(Q) 동안에 액늘어짐을 일으키지 않는 것은 물론, 회전 운동 중에 전단부의 액저류부(mn)가 어느 정도 균등해짐으로써, 대기용 회전각 위치<Pn>에서 정지했을 때 내지 정지한 상태에서도 액늘어짐을 한층 일으키기 어렵게 되어 있다. 즉, 제2 실시예와 마찬가지로, 대기용 회전각 위치<Pn>의 설정 범위를 확장할 수 있는 효과가 얻어진다. 예를 들어, 도 14에 도시한 바와 같이, 레지스트 액막(RMn)의 전단부가 롤러 최하부에 오게 하는 위치<APn>는 물론, 한계 위치로서 레지스트 액막(RMn)의 전단부가 270°의 회전각 위치에 오게 하는 위치<BPn>에서도 액늘어짐을 일으키지 않도록 하는 것이 가능하다.Also in this third embodiment, the resist liquid film RM n formed on the priming roller 14 does not cause a bulging during the continuous rotation operation Q, as well as the liquid reservoir portion m n of the front end portion during the rotational movement. ) Becomes uniform to some extent, and it becomes difficult to produce a flattening even when it stops at the atmospheric rotation angle position <P n >, or even in the stopped state. That is, similarly to the second embodiment, the effect of extending the setting range of the atmospheric rotation angle position <P n > is obtained. For example, as shown in FIG. 14, the front end of the resist liquid film RM n is rotated by 270 ° as a limit position, as well as the position <AP n > where the front end of the resist liquid film RM n is located at the bottom of the roller. It is possible not to cause a flaky even in the position <BP n > which comes to each position.

[다른 실시예][Other Embodiments]

이 제3 실시예를 상기 제2 실시예와 조합하는 것도 가능하고, 그 경우에는 상승 작용에 의해 액늘어짐 방지 효과를 한층 향상시킬 수 있다.It is also possible to combine this 3rd Example with the said 2nd Example, and in that case, the effect of anti-slipping can be improved further by synergism.

일괄 세정 처리에 있어서는, 세정액의 사용량은 증가하지만, 프라이밍 롤러(14)의 외주면 전체 둘레에 세정액을 분출하는 것도 가능하다.In the batch washing process, the amount of the washing liquid used increases, but it is also possible to spray the washing liquid around the entire outer circumferential surface of the priming roller 14.

프라이밍 처리 장치 내의 각 부의 구성 또는 기능도 상술한 실시 형태의 것으로 한정되지 않는다. 예를 들어, 세정 기구(16)에 있어서 2유체 제트 노즐 이외의 세정 툴, 예를 들어 스크레이퍼도 사용 또는 병용 가능해, 배기 기구(45)의 각 부, 특히 강제 건조부(38)의 구성을 다양하게 변형할 수 있다.The structure or function of each part in the priming processing apparatus is not limited to the thing of the above-mentioned embodiment, either. For example, in the cleaning mechanism 16, a cleaning tool other than a two-fluid jet nozzle, for example, a scraper can also be used or used together, and the structure of each part of the exhaust mechanism 45, especially the forced drying part 38, is varied. Can be modified.

다음에, 제4 실시예를 설명한다. 제1 실시예에서는 도 4에 도시하는 위치에 2회째의 프라이밍 처리를 행하였지만, 2회째의 도포를 도 16에 도시한 바와 같이, 프라이밍 롤러(14) 상에서, 또한 1회째의 프라이밍 처리에서 도포한 위치와 대향하는 위치에 도포해도 좋다. 이 위치에 2회째의 프라이밍 처리를 행함으로써, 도 2의 Ⅳ의 위치로부터 2회째의 프라이밍 처리까지 프라이밍 롤러가 회전하는 각도를 작게 할 수 있다.Next, a fourth embodiment will be described. In the first embodiment, the second priming treatment was performed at the position shown in FIG. 4, but as shown in FIG. 16, the second coating was applied on the priming roller 14 in the first priming treatment. You may apply in the position which opposes a position. By performing a 2nd priming process to this position, the angle which a priming roller rotates can be made small from the position of IV of FIG. 2 to a 2nd priming process.

다음에, 제5 실시예를 설명한다. 제5 실시예는 제1 실시예에 있어서의, 도 5의 Ⅵ의 동작까지는 동일하다. 도 5의 Ⅵ의 동작이 종료되고, 새롭게 1회째의 프라이밍 처리를 행하는데, 그때, 도 4의 I의 위치에서 프라이밍 롤러(14) 상에 행한다. 즉, 전회의 2회째의 프라이밍 처리의 위치에 새로운 1회째의 프라이밍 처리를 행한다. 기본적으로, 도 5의 Ⅵ의 상태에서, 프라이밍 롤러(14)의 전체 둘레가 세정되어 있을 것이지만, 세정액의 가일층의 삭감이나, 세정 시간의 가일층의 단축을 행하면, 프라이밍 롤러(14)의 일부에 레지스트가 미소하게 남아 있는 경우도 생각된다. 레지스트가 미소하게 남을 가능성으로서는, 1회째의 프라이밍 처리에서 도포한 레지스트일 가능성이 가장 높고, 4회째의 프라이밍 처리에서 도포한 레지스트일 가능성이 가장 낮다. 이는, 프라이밍 롤러(14)에 레지스트를 도포한 후, 프라이밍 롤러(14)를 세정할 때까지의 시간이 요인으로 되기 때문이다. 그러나, 프라이밍 롤러(14) 상에 있어서, 새로운 1회째의 프라이밍 처리의 위치를, 전회의 1회째의 프라이밍 처리의 위치와 다른 위치에 행함으로써, 프라이밍 롤러(14)의 2회째의 세정 후에 미소하게 남은 레지스트의 범위는 넓어지지만, 남은 레지스트의 막 두께가 퇴적되어 두꺼워지는 경우가 없어, 프라이밍 처리에서 문제가 일어날 가능성을 저감시킬 수 있다. 이에 대해, 새로운 1회째의 프라이밍 처리를 전회의 1회째의 프라이밍 처리와 동일한 위치에서 행하면, 프라이밍 롤러(14)의 2회째의 세정 후에, 미소하게 남은 레지스트의 막 두께가, 적층에 의해 점점 두꺼워져, 다음 회의 프라이밍 처리 시의 문제점의 원인이 되거나, 혹은 세정액량을 증대시키거나, 세정 시간을 길게 해야만 한다. 그리고, 4회의 프라이밍 처리를 행하여, 프라이밍 롤러(14)의 세정이 종료되고, 새로운 1회째의 프라이밍 처리를 행할 때에는, 도 5에 있어서의 3회째의 프라이밍 처리의 위치에 행한다. 그것으로부터 프라이밍 처리를 4회 행하여, 프라이밍 롤러(14)의 세정이 종료되고, 새로운 1회째의 프라이밍 처리를 행할 때에는, 도 5에 있어서의 4회째의 프라이밍 처리의 위치에 행한다. 이와 같이 동작시켜, 프라이밍 롤러(14)를 4회 세정한 후의, 새로운 1회째의 프라이밍 처리를 행할 때에는, 도 2의 1회째의 프라이밍 처리의 위치로 돌아온다. 또한, 4회째의 세정 동작 시에는, 1 내지 3회째의 세정 동작에서 제거하지 못한 미소한 레지스트가, 프라이밍 롤러(14)의 전체 둘레에 분포되어 있을 가능성이 있으므로, 예를 들어 4회째의 세정 동작 시에만, 다른 세정 동작에 비해, 세정액량을 증대시키거나, 또는 세정 시간을 길게 하여 세정을 행해도 좋다. 이와 같이 함으로써, 프라이밍 롤러(14)에 부착된 미소한 레지스트를 완전히 제거하면서, 세정액의 처리량을 전체적으로 삭감할 수 있다.Next, a fifth embodiment will be described. The fifth embodiment is the same until the operation of VI in Fig. 5 in the first embodiment. The operation of VI in Fig. 5 is terminated, and a new first priming process is performed on the priming roller 14 at the position I in Fig. 4. That is, a new first priming process is performed at the position of the previous second priming process. Basically, in the state of VI of FIG. 5, although the entire circumference of the priming roller 14 will be cleaned, if a further reduction of the cleaning liquid and a further reduction of the cleaning time are performed, a part of the priming roller 14 is resisted. It is also considered to be smiling. As a possibility that a resist remains minutely, it is most likely that it is the resist apply | coated in the 1st priming process, and it is the least likely that it is a resist apply | coated in the 4th priming process. This is because the time from applying the resist to the priming roller 14 and then washing the priming roller 14 becomes a factor. However, on the priming roller 14, the position of a new 1st priming process is performed in a position different from the position of the previous 1st priming process, and it is minutely performed after the 2nd washing of the priming roller 14. FIG. Although the range of the remaining resists becomes wider, the film thickness of the remaining resists is not deposited and thickened, thereby reducing the possibility of problems in the priming process. On the other hand, if the new first priming treatment is performed at the same position as the first priming treatment, after the second washing of the priming roller 14, the film thickness of the minutely remaining resist becomes thicker by lamination. In this case, it is necessary to cause a problem during the next priming treatment, to increase the amount of cleaning liquid, or to increase the cleaning time. And the priming process is performed 4 times, the washing | cleaning of the priming roller 14 is complete | finished, and when it performs a new 1st priming process, it performs in the position of the 3rd priming process in FIG. From this, the priming process is performed four times, and the washing of the priming roller 14 is completed, and when performing a new first priming process, the priming process is performed at the position of the fourth priming process in FIG. 5. In this way, when performing the new 1st priming process after washing the priming roller 14 four times, it returns to the position of the 1st priming process of FIG. In addition, at the time of the 4th washing | cleaning operation, since the fine resist which cannot be removed by the 1st-3rd washing | cleaning operation may be distributed around the whole circumference of the priming roller 14, for example, 4th washing operation | movement Only at the time of cleaning, compared with other washing | cleaning operation | movement, washing | cleaning may be performed by increasing the amount of washing | cleaning liquid, or lengthening washing time. By doing in this way, the throughput of a washing | cleaning liquid can be reduced as a whole, removing the micro resist adhered to the priming roller 14 completely.

또한, 하우징(10) 내의 프라이밍 롤러(14) 근방의 분위기는, 프라이밍 롤러에 도포한 레지스트가 지나치게 건조되지 않도록, 유기용제의 분위기를 유지하는 것이 좋다. 이와 같이 하면, 프라이밍 롤러(14)의 세정 동작 시에, 레지스트가 남을 가능성이 저감되고, 또한 1회째의 프라이밍 처리에서 도포한 레지스트 액막도 미소하게 남는 일 없이 제거할 수 있다.In addition, the atmosphere near the priming roller 14 in the housing 10 may maintain the atmosphere of an organic solvent so that the resist apply | coated to the priming roller does not dry too much. In this way, the possibility that a resist remains in the washing | cleaning operation of the priming roller 14 is reduced, and the resist liquid film apply | coated by the 1st priming process can also be removed, without leaving small.

또한, 막 두께 측정부(67)를 설치하는 대신에, 실험 등에서 레지스트 액막의 범위나 막 두께의 데이터를 미리 수집하여 기억시켜 두고, 이 데이터에 기초하여, 프라이밍 롤러(14)를 세정시켜도 좋다. 이와 같은 구성으로 함으로써, 막 두께 측정부를 항상 설치해 둘 필요가 없어지므로, 장치의 구성을 단순화할 수 있어, 장치의 신뢰성이 더욱 향상된다.In addition, instead of providing the film thickness measuring section 67, data of the range and film thickness of the resist liquid film may be collected and stored in advance in an experiment or the like, and the priming roller 14 may be cleaned based on this data. With such a configuration, it is not necessary to always provide a film thickness measuring unit, so that the configuration of the device can be simplified, and the reliability of the device is further improved.

여기서, 제1 실시예 내지 제5 실시예의 요점을 정리한다. 프라이밍 롤러(14) 상에 1회째의 프라이밍 처리(레지스트 액막의 도포)를 행하여, 도포한 레지스트 액막이 늘어져 퍼지는 위치까지 프라이밍 롤러(14)를 회전시켜 정지하고, 그 위치에서 레지스트 액막을 어느 정도 건조시키고, 그 후, 2회째의 프라이밍 처리는 1회째의 프라이밍 처리의 위치보다도 프라이밍 롤러(14)의 회전 방향측의 위치에 행한다. 이 동작을 복수회 행하여, 프라이밍 롤러(14)의 전체 둘레에 프라이밍 처리를 행한 후, 프라이밍 롤러(14)를 일괄하여 세정하는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 함으로써, 프라이밍 처리에서 도포한 레지스트 액막이, 다음의 프라이밍 처리를 행하는 영역으로 늘어져 퍼지는 것을 방지할 수 있어, 프라이밍 처리를 정밀도 좋게 행할 수 있다. 또한, 복수회의 프라이밍 처리를 행한 후에, 프아이밍 롤러(14)를 일괄 세정하므로, 세정 횟수를 종래보다 삭감할 수 있어, 세정액의 사용량의 삭감이나, 세정 시간의 단축 등이 가능해진다.Here, the points of the first to fifth embodiments are summarized. The first priming treatment (application of a resist liquid film) is performed on the priming roller 14, and the priming roller 14 is stopped to a position where the applied resist liquid film is stretched and stopped, and the resist liquid film is dried to some extent at that position. After that, the second priming treatment is performed at the position on the rotational direction side of the priming roller 14 rather than the position of the first priming treatment. This operation is performed a plurality of times, and after priming the entire circumference of the priming roller 14, the priming roller 14 is collectively washed. By doing in this way, the resist liquid film apply | coated by the priming process can be prevented from spreading to the area | region which performs the next priming process, and priming process can be performed precisely. In addition, since the priming roller 14 is collectively cleaned after performing a plurality of priming treatments, the number of cleaning cycles can be reduced more than before, so that the amount of the cleaning liquid used can be reduced, the cleaning time can be shortened, and the like.

본 발명에 있어서의 도포액으로서는, 레지스트액 이외에도, 예를 들어 층간 절연 재료, 유전체 재료, 배선 재료 등의 도포액도 가능하고, 각종 약액, 현상액이나 린스액 등도 가능하다. 본 발명에 있어서의 피처리 기판은 LCD 기판으로 한정되지 않고, 다른 플랫 패널 디스플레이용 기판, 반도체 웨이퍼, CD 기판, 포토마스크, 프린트 기판 등도 가능하다.As the coating liquid in the present invention, in addition to the resist liquid, for example, coating liquids such as an interlayer insulating material, a dielectric material, and a wiring material can be used. The to-be-processed board | substrate in this invention is not limited to an LCD board | substrate, Another flat panel display board | substrate, a semiconductor wafer, a CD board | substrate, a photomask, a printed board, etc. are also possible.

Claims (34)

스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 도포액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 방법이며,
1회분의 제1 프라이밍 처리를 위해, 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키는 제1 공정과,
상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러를 정지시킨 상태로 소정 시간 그대로 방치하는 제2 공정과,
상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제1 도포 액막으로서 권취하는 제3 공정과,
상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제1 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제1 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키는 제4 공정과,
상기 제1 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 자연 건조시키는 제5 공정과,
상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 세정에 의해 제거하는 제6 공정을 갖는, 프라이밍 처리 방법.It is a priming processing method for forming the liquid film of a coating liquid as a preliminary preparation of a coating process in the vicinity of the discharge port of the slit nozzle used for the coating process of a spinless method,
For the first priming treatment, a predetermined gap is spaced apart from the top of the horizontally arranged cylindrical or cylindrical priming roller so as to face the discharge port of the slit nozzle in parallel to apply a predetermined amount to the slit nozzle. A first step of discharging the liquid,
A second step of leaving the priming roller still as it is for a predetermined time immediately after discharging the coating liquid;
A third step of rotating the priming roller to wind a portion of the coating liquid discharged on the outer circumferential surface of the priming roller as a first coating liquid film;
A fourth step of stopping the rotation of the priming roller by bringing the first coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller to a first waiting rotation angle position for waiting until the next priming treatment is performed; ,
A fifth step of naturally drying the first coating liquid film on the priming roller at the first atmospheric rotation angle position;
And a sixth step of removing the first coating liquid film on the priming roller by washing. 제1항에 있어서, 상기 제3 공정과 상기 제4 공정 사이에서, 상기 제1 도포 액막의 자연 건조를 촉진시키기 위해, 상기 제3 공정에서 개시한 상기 프라이밍 롤러의 회전을 그대로 소정 시간 계속시키는 제7 공정을 갖는, 프라이밍 처리 방법.The method according to claim 1, wherein, between the third step and the fourth step, in order to promote natural drying of the first coating liquid film, rotation of the priming roller started in the third step is continued for a predetermined time. A priming treatment method having seven steps. 제1항에 있어서, 상기 제1 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제1 도포 액막의 후단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치와, 상기 제1 도포 액막의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치의 범위 내에 있는, 프라이밍 처리 방법.The said 1st atmospheric rotation angle position is a rotation angle position in which the rear end of the said 1st coating liquid film | membrane comes to a roller lower part in the circumferential direction of the forward rotation of the said priming roller, and the said 1st coating liquid film | membrane. The priming treatment method in which the front end of the pressure control is within the range of the rotation angle position coming to the lowermost part of the roller. 제1항에 있어서, 상기 제1 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제1 도포 액막의 중심이 롤러 최하부에 오는 회전각 위치와, 상기 제1 도포 액막의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치의 범위 내에 있는, 프라이밍 처리 방법.The said 1st atmospheric rotation angle position is a rotation angle position in which the center of the said 1st coating liquid film | membrane comes in a roller lower part in the circumferential direction of the forward rotation of the said priming roller, and the said 1st coating liquid film | membrane. The priming treatment method in which the front end of the pressure control is within the range of the rotation angle position coming to the lowermost part of the roller. 제1항에 있어서, 상기 제1 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제1 도포 액막의 전단부가 롤러 최상부에 오는 위치인, 프라이밍 처리 방법.The priming treatment method according to claim 1, wherein the first atmospheric rotation angle position is a position where the front end of the first coating liquid film comes to the top of the roller in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 별도의 1회분의 제2 프라이밍 처리를 위해, 상기 제1 도포 액막을 제거하고 상기 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키는 제8 공정과,
상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러를 정지시킨 상태로 소정 시간 그대로 방치하는 제9 공정과,
상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제2 도포 액막으로서 권취하는 제10 공정과,
상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제2 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제2 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키는 제11 공정과,
상기 제2 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제2 도포 액막을 자연 건조시키는 제12 공정을 갖고,
상기 제6 공정에 있어서, 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 및 제2 도포 액막을 세정에 의해 일괄 제거하는, 프라이밍 처리 방법.The slit nozzle according to any one of claims 1 to 5, wherein the first coating liquid film is removed and a predetermined gap is spaced apart from a top of the priming roller for a second batch of priming treatment. An eighth step of discharging the coating liquid in a predetermined amount to the slit nozzle so as to face the discharge ports in parallel;
A ninth step of leaving the priming roller stationary as it is for a predetermined time immediately after discharging the coating liquid;
A tenth step of rotating the priming roller to wind a portion of the coating liquid discharged on the outer peripheral surface of the priming roller as a second coating liquid film;
An eleventh step of stopping the rotation of the priming roller by bringing the second coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller to a second waiting rotation angle position for waiting until the next priming treatment is performed; ,
And a twelfth step of naturally drying the second coating liquid film on the priming roller at the second atmospheric rotation angle position,
The priming treatment method according to the sixth step, wherein the first and second coating liquid films on the priming roller are collectively removed by washing. 제6항에 있어서, 상기 제10 공정과 상기 제11 공정 사이에서, 상기 제2 도포 액막의 자연 건조를 촉진시키기 위해, 상기 제10 공정에서 개시한 상기 프라이밍 롤러의 회전을 그대로 소정 시간 계속시키는 제13 공정을 갖는, 프라이밍 처리 방법.The agent according to claim 6, wherein the rotation of the priming roller initiated in the tenth step is continued for a predetermined time between the tenth step and the eleventh step in order to promote natural drying of the second coating liquid film. A priming treatment method having 13 steps. 제6항에 있어서, 상기 제2 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제2 도포 액막의 후단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치와, 상기 제2 도포 액막의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치의 범위 내에 있는, 프라이밍 처리 방법.The rotation angle position for the second atmospheric rotation angle is a rotation angle position at which a rear end of the second coating liquid film comes to the lowermost part of the roller in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller, and the second coating liquid film. The priming treatment method in which the front end of the pressure control is within the range of the rotation angle position coming to the lowermost part of the roller. 제6항에 있어서, 상기 제2 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제2 도포 액막의 중심이 롤러 최하부에 오는 회전각 위치와, 상기 제2 도포 액막의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치의 범위 내에 있는, 프라이밍 처리 방법.The said 2nd atmospheric rotation angle position is a rotation angle position in which the center of the said 2nd coating liquid film | membrane comes in a roller lower part in the circumferential direction of the forward rotation of the said priming roller, and the said 2nd coating liquid film | membrane. The priming treatment method in which the front end of the pressure control is within the range of the rotation angle position coming to the lowermost part of the roller. 제6항에 있어서, 상기 제2 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제2 도포 액막의 전단부가 롤러 최상부에 오는 위치인, 프라이밍 처리 방법.The priming processing method according to claim 6, wherein the second atmospheric rotation angle position is a position where the front end of the second coating liquid film comes to the top of the roller in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2 프라이밍 처리가 상기 제1 프라이밍 처리의 다음에 행해지는 프라이밍 처리일 때에는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서 상기 제2 도포 액막이 상기 제1 도포 액막의 하류측 옆에 형성되도록, 상기 제2 프라이밍 처리를 위해 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상의 소정의 영역이 할당되는, 프라이밍 처리 방법.The said 2nd application | coating in the circumferential direction of the forward rotation of the said priming roller, when the said 2nd priming process is a priming process performed after the said 1st priming process. And a predetermined area on the outer circumferential surface of the priming roller is allocated for the second priming process so that the liquid film is formed next to the downstream side of the first coating liquid film. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제6 공정에 있어서, 상기 프라이밍 롤러를 회전시키면서, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 중 도포 액막이 부착되어 있는 영역에만 세정액을 분출하는, 프라이밍 처리 방법.The priming processing method according to any one of claims 1 to 5, wherein, in the sixth step, the cleaning liquid is jetted only to a region of the outer peripheral surface of the priming roller to which a coating liquid film is attached while the priming roller is rotated. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제6 공정에 앞서, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 부착되어 있는 도포 액막의 범위 및 막 두께를 측정하여, 그 측정 결과에 기초하여 상기 제6 공정에 있어서의 세정액의 사용량을 결정하는, 프라이밍 처리 방법.The method according to any one of claims 1 to 5, wherein, prior to the sixth step, the range and the film thickness of the coating liquid film adhered on the outer circumferential surface of the priming roller are measured, and based on the measurement result, The priming treatment method which determines the usage-amount of the washing | cleaning liquid in the 6th process. 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 도포액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 방법이며,
1회분의 제1 프라이밍 처리를 위해, 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키는 제1 공정과,
상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러에 소정의 회전각으로 왕복의 회전 운동을 행하게 하는 제2 공정과,
상기 프라이밍 롤러를 정방향으로 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제1 도포 액막으로서 권취하는 제3 공정과,
상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제1 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제1 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키는 제4 공정과,
상기 제1 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 자연 건조시키는 제5 공정과,
상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 세정에 의해 제거하는 제6 공정을 갖는, 프라이밍 처리 방법.It is a priming processing method for forming the liquid film of a coating liquid as a preliminary preparation of a coating process in the vicinity of the discharge port of the slit nozzle used for the coating process of a spinless method,
For the first priming treatment, a predetermined gap is spaced apart from the top of the horizontally arranged cylindrical or cylindrical priming roller so as to face the discharge port of the slit nozzle in parallel to apply a predetermined amount to the slit nozzle. A first step of discharging the liquid,
A second step of causing the priming roller to reciprocate at a predetermined rotational angle immediately after discharging the coating liquid;
A third step of rotating the priming roller in a forward direction to wind a portion of the coating liquid discharged on an outer circumferential surface of the priming roller as a first coating liquid film;
A fourth step of stopping the rotation of the priming roller by bringing the first coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller to a first waiting rotation angle position for waiting until the next priming treatment is performed; ,
A fifth step of naturally drying the first coating liquid film on the priming roller at the first atmospheric rotation angle position;
And a sixth step of removing the first coating liquid film on the priming roller by washing. 제14항에 있어서, 상기 제3 공정과 상기 제4 공정 사이에서, 상기 제1 도포 액막의 자연 건조를 촉진시키기 위해, 상기 제3 공정에서 개시한 상기 프라이밍 롤러의 회전을 그대로 소정 시간 계속시키는 제7 공정을 갖는, 프라이밍 처리 방법.15. The method according to claim 14, wherein the rotation of the priming roller initiated in the third process is continued for a predetermined time between the third process and the fourth process to promote natural drying of the first coating liquid film. A priming treatment method having seven steps. 제14항에 있어서, 상기 제1 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제1 도포 액막의 후단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치와, 상기 제1 도포 액막의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치의 범위 내에 있는, 프라이밍 처리 방법.The rotation angle position according to claim 14, wherein the first atmospheric rotation angle position is a rotation angle position at which a rear end of the first coating liquid film comes to the lowermost part of the roller in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller, and the first coating liquid film. The priming treatment method in which the front end of the pressure control is within the range of the rotation angle position coming to the lowermost part of the roller. 제14항에 있어서, 상기 제1 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제1 도포 액막의 중심이 롤러 최하부에 오는 회전각 위치와, 상기 제1 도포 액막의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치의 범위 내에 있는, 프라이밍 처리 방법.The said 1st atmospheric rotation angle position is a rotation angle position in which the center of the said 1st coating liquid film | membrane comes in a roller lower part in the circumferential direction of the forward rotation of the said priming roller, and the said 1st coating liquid film | membrane. The priming treatment method in which the front end of the pressure control is within the range of the rotation angle position coming to the lowermost part of the roller. 제14항에 있어서, 상기 제1 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제1 도포 액막의 전단부가 롤러 최상부에 오는 위치인, 프라이밍 처리 방법.The priming treatment method according to claim 14, wherein the first atmospheric rotation angle position is a position where the front end of the first coating liquid film comes to the top of the roller in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller. 제14항에 있어서, 별도의 1회분의 제2 프라이밍 처리를 위해, 상기 제1 도포 액막을 제거하고 상기 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키는 제8 공정과,
상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러에 소정의 회전각으로 왕복의 회전 운동을 행하게 하는 제9 공정과,
상기 프라이밍 롤러를 정방향으로 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제2 도포 액막으로서 권취하는 제10 공정과,
상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제2 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제2 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키는 제11 공정과,
상기 제2 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제2 도포 액막을 자연 건조시키는 제12 공정을 갖고,
상기 제6 공정에 있어서, 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 및 제2 도포 액막을 세정에 의해 일괄 제거하는, 프라이밍 처리 방법.The discharge port of the slit nozzle of claim 14, wherein the first coating liquid film is removed and a predetermined gap is spaced apart from the top of the priming roller for a separate second priming treatment. An eighth step of discharging a predetermined amount of the coating liquid to the slit nozzle,
A ninth step of causing the priming roller to perform a reciprocating rotational motion at a predetermined rotational angle immediately after discharging the coating liquid;
A tenth step of rotating the priming roller in a forward direction to wind a portion of the coating liquid discharged on an outer circumferential surface of the priming roller as a second coating liquid film;
An eleventh step of stopping the rotation of the priming roller by bringing the second coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller to a second waiting rotation angle position for waiting until the next priming treatment is performed; ,
And a twelfth step of naturally drying the second coating liquid film on the priming roller at the second atmospheric rotation angle position,
The priming treatment method according to the sixth step, wherein the first and second coating liquid films on the priming roller are collectively removed by washing. 제19항에 있어서, 상기 제10 공정과 상기 제11 공정 사이에서, 상기 제2 도포 액막의 자연 건조를 촉진시키기 위해, 상기 제10 공정에서 개시한 상기 프라이밍 롤러의 회전을 그대로 소정 시간 계속시키는 제13 공정을 갖는, 프라이밍 처리 방법.The agent according to claim 19, wherein the rotation of the priming roller started in the tenth step is continued for a predetermined time between the tenth step and the eleventh step to promote natural drying of the second coating liquid film. A priming treatment method having 13 steps. 제19항에 있어서, 상기 제2 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제2 도포 액막의 후단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치와, 상기 제2 도포 액막의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치의 범위 내에 있는, 프라이밍 처리 방법.The rotation angle position according to claim 19, wherein the second atmospheric rotation angle position is a rotation angle position at which a rear end of the second coating liquid film comes to the lowermost part of the roller in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller, and the second coating liquid film. The priming treatment method in which the front end of the pressure control is within the range of the rotation angle position coming to the lowermost part of the roller. 제19항에 있어서, 상기 제2 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제2 도포 액막의 중심이 롤러 최하부에 오는 회전각 위치와, 상기 제2 도포 액막의 전단부가 롤러 최하부에 오는 회전각 위치의 범위 내에 있는, 프라이밍 처리 방법.The rotation angle position for the second atmospheric rotation angle is a rotation angle position at which the center of the second coating liquid film comes to the lowermost part of the roller in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller, and the second coating liquid film. The priming treatment method in which the front end of the pressure control is within the range of the rotation angle position coming to the lowermost part of the roller. 제19항에 있어서, 상기 제2 대기용 회전각 위치는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서, 상기 제2 도포 액막의 전단부가 롤러 최상부에 오는 위치인, 프라이밍 처리 방법.The priming processing method according to claim 19, wherein the second atmospheric rotation angle position is a position where the front end of the second coating liquid film comes to the top of the roller in the circumferential direction of the forward rotation of the priming roller. 제14항에 있어서, 상기 제2 프라이밍 처리가 상기 제1 프라이밍 처리의 다음에 행해지는 프라이밍 처리일 때에는, 상기 프라이밍 롤러의 정회전의 둘레 방향에 있어서 상기 제2 도포 액막이 상기 제1 도포 액막의 하류측 옆에 형성되도록, 상기 제2 프라이밍 처리를 위해 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상의 소정의 영역이 할당되는, 프라이밍 처리 방법.The said 2nd coating liquid film | membrane is a downstream of the said 1st coating liquid film | membrane in the circumferential direction of the forward rotation of the said priming roller, when the said 2nd priming process is a priming process performed after the said 1st priming process. A priming processing method, wherein a predetermined area on an outer circumferential surface of the priming roller is allocated for the second priming processing to be formed next to the side. 제14항에 있어서, 상기 제6 공정에 있어서, 상기 프라이밍 롤러를 회전시키면서, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 중 도포 액막이 부착되어 있는 영역에만 세정액을 분출하는, 프라이밍 처리 방법.The priming treatment method according to claim 14, wherein, in the sixth step, the cleaning liquid is jetted only to an area of the outer peripheral surface of the priming roller to which a coating liquid film is attached while rotating the priming roller. 제14항에 있어서, 상기 제6 공정에 앞서, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 부착되어 있는 도포 액막의 범위 및 막 두께를 측정하여, 그 측정 결과에 기초하여 상기 제6 공정에 있어서의 세정액의 사용량을 결정하는, 프라이밍 처리 방법.15. The use amount of the cleaning liquid in the sixth step according to claim 14, wherein the range and the film thickness of the coating liquid film adhered on the outer circumferential surface of the priming roller are measured prior to the sixth step. To determine the priming treatment method. 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 처리액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 장치이며,
소정 위치에 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러와,
상기 프라이밍 롤러를 그 중심축의 주위로 회전시키는 회전 기구와,
상기 프라이밍 롤러의 외주면을 세정하기 위해 세정액을 분출하는 세정 기구와,
상기 프라이밍 롤러의 주위를 강제적으로 배기하기 위한 배기 기구와,
상기 회전 기구, 상기 세정부 및 상기 배기부의 각 동작을 제어하는 제어부를 갖고,
1회분의 제1 프라이밍 처리를 위해, 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키고,
상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러를 정지시킨 상태로 소정 시간 그대로 방치하고,
상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제1 도포 액막으로서 권취하고,
상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제1 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제1 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키고,
상기 제1 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 제1 도포 액막을 자연 건조시키고,
상기 세정 기구와 상기 배기 기구를 작동시켜 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 세정에 의해 제거하는, 프라이밍 처리 장치.It is a priming processing apparatus for forming the liquid film of a process liquid as a preliminary preparation of a coating process in the vicinity of the discharge port of the slit nozzle used for the coating process of a spinless method,
A cylindrical or cylindrical priming roller disposed horizontally at a predetermined position;
A rotating mechanism for rotating the priming roller about its central axis;
A cleaning mechanism for ejecting a cleaning liquid for cleaning the outer circumferential surface of the priming roller;
An exhaust mechanism for forcibly evacuating the circumference of the priming roller;
And a control unit for controlling the respective operations of the rotating mechanism, the washing unit, and the exhaust unit,
For the first priming treatment, a predetermined gap is spaced apart from the top of the horizontally arranged cylindrical or cylindrical priming roller so as to face the discharge port of the slit nozzle in parallel to apply a predetermined amount to the slit nozzle. Discharge the liquid,
Immediately after the discharge of the coating liquid, the priming roller was stopped and left as it is for a predetermined time.
By rotating the priming roller by the rotating mechanism, a part of the coating liquid discharged on the outer peripheral surface of the priming roller is wound as a first coating liquid film,
The rotation of the priming roller is stopped by bringing the first coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller to a first waiting rotation angle position for waiting until the next priming process is performed,
Naturally drying the first coating liquid film on the priming roller at the first atmospheric rotation angle position,
A priming processing apparatus which operates the cleaning mechanism and the exhaust mechanism to remove the first coating liquid film on the priming roller by washing. 제27항에 있어서, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 상기 제1 도포 액막을 권취한 후 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시킬 때까지의 동안에, 상기 제1 도포 액막의 자연 건조를 촉진시키기 위해, 상기 회전 기구에 의한 상기 프라이밍 롤러의 회전을 그대로 소정 시간 계속시키는, 프라이밍 처리 장치.The rotation according to claim 27, wherein the rotation is carried out to promote natural drying of the first coating liquid film while winding the first coating liquid film on the outer circumferential surface of the priming roller until the rotation of the priming roller is stopped. The priming processing apparatus which rotates the said priming roller by a mechanism for a predetermined time as it is. 제28항에 있어서, 별도의 1회분의 제2 프라이밍 처리를 위해, 상기 제1 도포 액막을 제거하고 상기 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키고, 상기 도포액의 토출 직후에 상기 프라이밍 롤러를 정지시킨 상태로 소정 시간 그대로 방치하고,
상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 상기 토출된 도포액의 일부를 제2 도포 액막으로서 권취하고,
상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제2 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제2 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키고,
상기 제2 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제2 도포 액막을 자연 건조시키고,
상기 세정 기구와 상기 배기 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상의 상기 제1 및 제2 도포 액막을 세정에 의해 일괄 제거하는, 프라이밍 처리 장치.The discharge port of the slit nozzle of claim 28, wherein the first coating liquid film is removed and a predetermined gap is spaced apart from a top of the priming roller for a separate second priming treatment. A predetermined amount of the coating liquid is discharged to the slit nozzle, and left as it is for a predetermined time while the priming roller is stopped immediately after discharging the coating liquid.
By rotating the priming roller by the rotating mechanism, a part of the coating liquid discharged on the outer peripheral surface of the priming roller is wound as a second coating liquid film,
The rotation of the priming roller is stopped by bringing the second coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller to a second waiting rotation angle position for waiting until the next priming process is performed,
Naturally drying the second coating liquid film on the priming roller at the second atmospheric rotation angle position;
The priming processing apparatus which removes the said 1st and 2nd coating liquid film on the outer peripheral surface of the said priming roller collectively by the said washing | cleaning mechanism and the said exhaust mechanism by washing | cleaning. 스핀리스법의 도포 처리에 사용하는 슬릿 노즐의 토출구 부근에 도포 처리의 사전 준비로서 처리액의 액막을 형성하기 위한 프라이밍 처리 장치이며,
소정 위치에 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러와,
상기 프라이밍 롤러를 그 중심축의 주위로 회전시키는 회전 기구와,
상기 프라이밍 롤러의 외주면을 세정하기 위해 세정액을 분출하는 세정 기구와,
상기 프라이밍 롤러의 주위를 강제적으로 배기하기 위한 배기 기구와,
상기 회전 기구, 상기 세정부 및 상기 배기부의 각 동작을 제어하는 제어부를 갖고,
1회분의 제1 프라이밍 처리를 위해, 수평으로 배치된 원통 형상 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키고,
상기 도포액의 토출 직후에 상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러에 소정의 회전각으로 왕복의 회전 운동을 행하게 하고,
상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제1 도포 액막으로서 권취하고,
상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제1 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제1 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키고,
상기 제1 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 자연 건조시키고,
상기 세정 기구와 상기 배기 기구를 작동시켜 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 도포 액막을 세정에 의해 제거하는, 프라이밍 처리 장치.It is a priming processing apparatus for forming the liquid film of a process liquid as a preliminary preparation of a coating process in the vicinity of the discharge port of the slit nozzle used for the coating process of a spinless method,
A cylindrical or cylindrical priming roller disposed horizontally at a predetermined position;
A rotating mechanism for rotating the priming roller about its central axis;
A cleaning mechanism for ejecting a cleaning liquid for cleaning the outer circumferential surface of the priming roller;
An exhaust mechanism for forcibly evacuating the circumference of the priming roller;
And a control unit for controlling the respective operations of the rotating mechanism, the washing unit, and the exhaust unit,
For the first priming treatment, a predetermined gap is spaced apart from the top of the horizontally arranged cylindrical or cylindrical priming roller so as to face the discharge port of the slit nozzle in parallel to apply a predetermined amount to the slit nozzle. Discharge the liquid,
Immediately after discharging the coating liquid, the rotating mechanism causes the priming roller to reciprocate in a predetermined rotational angle,
By rotating the priming roller by the rotating mechanism, a part of the coating liquid discharged on the outer peripheral surface of the priming roller is wound as a first coating liquid film,
The rotation of the priming roller is stopped by bringing the first coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller to a first waiting rotation angle position for waiting until the next priming process is performed,
Naturally drying the first coating liquid film on the priming roller at the first atmospheric rotation angle position,
A priming processing apparatus which operates the cleaning mechanism and the exhaust mechanism to remove the first coating liquid film on the priming roller by washing. 제30항에 있어서, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 상기 제1 도포 액막을 권취한 후 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시킬 때까지의 동안, 상기 제2 도포 액막의 자연 건조를 촉진시키기 위해, 상기 회전 기구에 의한 상기 프라이밍 롤러의 회전을 그대로 소정 시간 계속시키는, 프라이밍 처리 장치.The rotation according to claim 30, wherein the rotation is performed to promote natural drying of the second coating liquid film while winding the first coating liquid film on the outer circumferential surface of the priming roller until the rotation of the priming roller is stopped. The priming processing apparatus which rotates the said priming roller by a mechanism for a predetermined time as it is. 제31항에 있어서, 별도의 1회분의 제2 프라이밍 처리를 위해, 상기 제1 도포막을 제거하고 상기 프라이밍 롤러의 정상부에 대해 소정의 갭을 이격하여 상기 슬릿 노즐의 토출구를 평행하게 대향시켜, 상기 슬릿 노즐에 일정량의 도포액을 토출시키고,
상기 도포액의 토출 직후에 상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러에 소정의 회전각으로 왕복의 회전 운동을 행하게 하고,
상기 회전 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러를 회전시켜, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 토출된 상기 도포액의 일부를 제2 도포 액막으로서 권취하고,
상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 권취된 상기 제2 도포 액막을 다음 회의 프라이밍 처리가 행해질 때까지 대기시켜 두기 위한 제2 대기용 회전각 위치에 오게 하여, 상기 프라이밍 롤러의 회전을 정지시키고,
상기 제2 대기용 회전각 위치에서 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제2 도포 액막을 자연 건조시키고,
상기 세정 기구와 상기 배기 기구에 의해 상기 프라이밍 롤러 상의 상기 제1 및 제2 도포 액막을 세정에 의해 일괄 제거하는, 프라이밍 처리 장치.32. The method according to claim 31, wherein the first coating film is removed and a predetermined gap is spaced apart from the top of the priming roller so as to face the discharge port of the slit nozzle in parallel so as to separate the second priming treatment. Discharge a certain amount of coating liquid to the slit nozzle,
Immediately after discharging the coating liquid, the rotating mechanism causes the priming roller to reciprocate in a predetermined rotational angle,
By rotating the priming roller by the rotating mechanism, a part of the coating liquid discharged on the outer peripheral surface of the priming roller is wound as a second coating liquid film,
The rotation of the priming roller is stopped by bringing the second coating liquid film wound on the outer circumferential surface of the priming roller to a second waiting rotation angle position for waiting until the next priming process is performed,
Naturally drying the second coating liquid film on the priming roller at the second atmospheric rotation angle position;
The priming processing apparatus which removes the said 1st and 2nd coating liquid film on the said priming roller collectively by a washing | cleaning by the said washing | cleaning mechanism and the said exhaust mechanism. 제27항 또는 제30항에 있어서, 상기 프라이밍 롤러의 외주면 상에 부착되어 있는 도포 액막의 범위 및 막 두께를 측정하기 위한 액막 측정부와,
상기 일괄 세정 전에, 상기 액막 측정부에서 얻어지는 측정 결과에 기초하여 상기 도포 액막의 일괄 제거에서 사용하는 세정액의 양을 결정하는 세정액 사용량 결정부를 갖는, 프라이밍 처리 장치.The liquid film measuring unit according to claim 27 or 30, further comprising: a liquid film measuring unit for measuring a range and a film thickness of the coating liquid film adhered on an outer circumferential surface of the priming roller;
A priming processing apparatus having a washing liquid amount determining portion that determines the amount of the washing liquid to be used for batch removal of the coating liquid film based on the measurement result obtained by the liquid film measuring unit before the batch washing. 제27항 또는 제30항에 있어서, 상기 세정 기구는 상기 프라이밍 롤러의 외주면 중 도포 액막이 부착되어 있는 영역에만 세정액을 분출하는, 프라이밍 처리 장치.The priming processing apparatus according to claim 27 or 30, wherein the cleaning mechanism jets the cleaning liquid only to an area of the outer peripheral surface of the priming roller to which a coating liquid film is attached.
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