KR20110038339A - Protective film composition for laser dicing - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A protective film composition for laser is provided to ensure excellent thermal stability, thereby avoiding the formation of a thermal crosslinking material by laser irradiation during a dicing process, and to secure excellent adhesion to a wafer. CONSTITUTION: A protective film composition for laser comprises (A) polyethyloxazoline, (B) at least one component selected from the group consisting of a water-soluble resin, a monomer of alcohols, and their mixture, (C) an antioxidant, (D) a water-soluble surfactant, and (E) a solvent. Polyethyloxazoline(A) and one kind of compound(B) selected from the group consisting of a water-soluble resin, a monomer of alcohols, and their mixture are included in a weight ratio of 1:9 - 7:3.

Description

레이저 다이싱용 보호막 조성물{Protective film composition for laser dicing}Protective film composition for laser dicing

본 발명은 레이저 다이싱용 보호막 조성물에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 소자 및 디스플레이 소자의 레이저 다이싱 공정에 사용되고 열안정성, 도포성 및 저장안정성 등이 우수한 레이저 다이싱용 보호막 조성물에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a protective film composition for laser dicing, and more particularly, to a laser dicing protective film composition which is used in a laser dicing process of semiconductor devices and display devices, and which is excellent in thermal stability, coating property, storage stability, and the like.

반도체 소자의 제조공정 중 웨이퍼의 다이싱 공정은 반도체 적층공정이 완료된 이후에, 각각의 나열된 디바이스를 스트리트라고 불리는 경계면을 절삭하여 분리하는 공정이다. 상기 웨이퍼의 다이싱 공정이 완료되면 반도체 소자가 완성된다. The wafer dicing step in the semiconductor device manufacturing step is a step of separating each of the listed devices by cutting a boundary surface called a street after the semiconductor lamination step is completed. When the dicing process of the wafer is completed, the semiconductor device is completed.

현재 반도체 소자는 집적화되고 있으며, 이에 따라 스트리트의 간격이 좁아지고 적층물들의 기계적 물성이 취약해진다. 예를 들면, 집적화된 반도체 소자 내 적층물의 가장 상부에 있는 절연막이 다이싱 공정 중에 깨지거나 손상을 입을 수 있다. 따라서, 다이싱 공정도 기존에 블레이드에 의해 웨이퍼를 절단하던 공정에서 레이저를 이용하여 웨이퍼 스트리트에 홈을 형성한 이후에 블레이드를 이용하는 공정으로 바뀌어 가고 있다. 또한 레이저만 이용하여 웨이퍼를 절단하는 공정도 도입되고 있다. 그러나 레이저를 이용하는 레이저 다이싱 공정에서는 레이저의 열에 의해, 흄(fume)이 발생하여 비산하게 되는데 이로 인하여 웨이퍼 상부표면이 오염되는 문제가 발생한다.At present, semiconductor devices are being integrated, thereby narrowing the distance between the streets and weakening the mechanical properties of the stacks. For example, the insulating film at the top of the stack in the integrated semiconductor device may be broken or damaged during the dicing process. Therefore, the dicing process is also changing from a process of cutting a wafer by a blade to a process using a blade after forming a groove in a wafer street using a laser. Moreover, the process of cutting a wafer using only a laser is also introduced. However, in a laser dicing process using a laser, fumes are generated and scattered by the heat of the laser, which causes a problem of contamination of the upper surface of the wafer.

이러한 문제를 해결하기 위한 공지기술로는, 웨이퍼의 상부면에 폴리비닐알코올(Poly Vinyl Alcohol), 폴리에틸렌글리콜(Poly Ethylene Glycol), 셀룰로오스(Cellulose) 계통의 수용성 레진을 도포하여 보호막을 형성하고 레이저 광을 조사하는 가공방법이 개시되어 있다.In order to solve the problem, a known technique is applied to a water-soluble resin of polyvinyl alcohol, polyethylene glycol, and cellulose based on an upper surface of a wafer to form a protective film and to generate laser light. A processing method for investigating is disclosed.

그러나 상기 가공방법은 레이저 광의 열에 의해 웨이퍼 절단면에서 실리콘 가스가 발생하면 웨이퍼 스트리트 주위를 따라서 디브리스(debris)가 발생하게 되는 단점이 있다. 또한 실리콘 가스와 함께 흄(fume)이 발생하여 웨이퍼 상부에 쌓이게 되는데 이것은 이후에 웨이퍼 보호막을 물로 세척하여도 씻겨 나가지 않아서 결점으로 작용한다. 또한, 폴리비날알코올 등과 같은 수용성 레진들은 열 안정성이 떨어지는 단점이 있다. 보다 상세하게 설명하면, 레이저 다이싱 공정시 레이저의 조사를 받게 되면 내부에서 열이 발생하게 되고 이 열에 의해 수용성 레진의 열분해가 발생하게 되어 열 안정성이 떨어진다. 그리고 열분해 도중에 가교가 발생하고 이러한 열 가교물질은 레이저 다이싱 공정 후에 물에 의한 세척으로 제거되지 않고 웨이퍼 상부 표면에 남아 있게 되어 다른 문제를 야기시킬 수 있다.However, the processing method has a disadvantage in that debris occurs along the wafer street when silicon gas is generated at the wafer cutting surface by the laser light. In addition, fume is generated along with silicon gas and accumulates on the wafer, which is a defect since the wafer protective film is not washed out after washing with water. In addition, water-soluble resins such as polyvinal alcohol have a disadvantage of poor thermal stability. In more detail, when the laser is irradiated during the laser dicing process, heat is generated internally, and thermal decomposition of the water-soluble resin occurs by the heat, thereby deteriorating thermal stability. In addition, crosslinking occurs during pyrolysis, and the thermal crosslinking material may remain on the upper surface of the wafer without being washed off with water after the laser dicing process, causing other problems.

한편 웨이퍼 다이싱용 보호막은 일반적으로 보호막 조성물을 스핀 코팅하여 막이 형성된다. 이 때 웨이퍼의 상부는 표면이 고르지 못하고 요철이 많아서, 보호막 조성물의 도포성이 나쁘면 보호막의 안정성이 저하되어 공정마진이 줄어든 다.On the other hand, a protective film for wafer dicing is generally formed by spin coating a protective film composition. At this time, the upper surface of the wafer is uneven and there are many irregularities. If the coating property of the protective film composition is bad, the stability of the protective film is lowered and the process margin is reduced.

상기 반도체 소자의 제조공정 뿐만 아니라, 글래스 기판을 이용하는 디스플레이 소자의 제조공정에서도, 반도체 소자의 제조공정에서와 동일한 이유로 문제점이 발생한다.Not only the manufacturing process of the semiconductor element but also the manufacturing process of the display element using the glass substrate has problems for the same reason as in the manufacturing process of the semiconductor element.

본 발명의 목적은 열 안정성이 우수하여 다이싱 공정 중에 레이저의 조사에 의한 열 가교 물질이 생성되지 않는 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a protective film composition for laser dicing in which thermal crosslinking material is not produced by laser irradiation during the dicing process due to excellent thermal stability.

또한, 본 발명의 목적은 웨이퍼와 접착력이 우수하고, 적절한 경도를 갖는 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 제공하는 것이다.Moreover, the objective of this invention is providing the protective film composition for laser dicing which is excellent in adhesive force with a wafer, and has suitable hardness.

또한, 본 발명의 목적은 레이저에 의한 그루빙 공정 이후에 보호막을 물로 세정한 이후 웨이퍼 표면에 흠이 발생하지 않는 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 제공하는 것이다.It is also an object of the present invention to provide a protective film composition for laser dicing in which a flaw does not occur on a wafer surface after washing the protective film with water after a grooving process by a laser.

또한, 본 발명의 목적은 도포성 및 저장안정성이 우수한 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 제공하는 것이다. In addition, an object of the present invention is to provide a protective film composition for laser dicing excellent in coating properties and storage stability.

본 발명은 (A) 폴리에틸옥사졸린; (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분; (C) 산화방지제; (D) 수용성 계면활성제; 및 (E) 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 제공한다.The present invention (A) polyethyloxazoline; (B) one component selected from the group consisting of water-soluble resins, monomolecules of alcohols and mixtures thereof; (C) antioxidants; (D) water soluble surfactants; And (E) it provides a protective film composition for laser dicing comprising a solvent.

본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물은 열 안정성이 우수하여 다이싱 공정 중 레이저의 조사에 의한 열 가교 물질이 발생하지 않는다. 또한, 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물은 웨이퍼와 접착력이 우수하여 레이저 다이싱 공정 중에 발생하는 디브리스가 웨이퍼 표면에 부착하는 것을 방지한다. 또한, 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물은 적절한 경도를 갖는 보호막을 형성함으로써 그루빙 공정 이후 보호막을 물로 세정한 이후 웨이퍼 표면에 디펙이 발생하지 않는다. 또한, 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물은 웨이퍼에 대한 도포성능 및 저장안정성도 우수하기 때문에 집적도가 높아지고 있는 반도체 소자 및 디스플레이 소자의 제조공정 중 다이싱 공정에서 광범위 하게 사용될 수 있다.The protective film composition for laser dicing of the present invention is excellent in thermal stability and does not generate a thermal crosslinking material due to laser irradiation during the dicing process. In addition, the protective film composition for laser dicing of the present invention has excellent adhesion with the wafer to prevent debris generated during the laser dicing process from adhering to the wafer surface. In addition, the protective film composition for laser dicing of the present invention by forming a protective film having an appropriate hardness, after the cleaning of the protective film with water after the grooving process does not cause defects on the wafer surface. In addition, the protective film composition for laser dicing of the present invention can be widely used in the dicing process of the manufacturing process of semiconductor devices and display devices having high integration because of excellent coating performance and storage stability for the wafer.

이하, 본 발명에 대하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated.

본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물에 포함되는 (A) 폴리에틸옥사졸린은 열안정성 및 물에 대한 용해성이 우수하다.(A) Polyethyloxazoline contained in the protective film composition for laser dicing of the present invention is excellent in thermal stability and solubility in water.

상기 (A) 폴리에틸옥사졸린의 예로는 폴리(2-에틸-2-옥사졸린)을 들 수 있고, 시중에서 구입 가능한 제품으로는 아쿠아졸(상품명)이 있다. Examples of the (A) polyethyloxazoline include poly (2-ethyl-2-oxazoline), and a commercially available product includes aquasol (trade name).

상기 (A) 폴리에틸옥사졸린는 질소 분위기 하에서 온도 상승속도를 10℃/min로 하여 열중량분석기(TGA)에서 중량감소를 측정하면 350℃ 이상에서 중량감소가 나타나기 시작하며 380℃ 부근에서 급격하게 분해가 일어난다. 그러나 분해도중에 가교 부수물을 만들지 않아서 물에 용해되지 않는 디펙트(defect)가 생성되지 않는다. The (A) polyethyloxazoline is a temperature rising rate of 10 ℃ / min under a nitrogen atmosphere when the weight loss is measured on a thermogravimetric analyzer (TGA) begins to appear weight loss at 350 ℃ or more and rapidly decomposed around 380 ℃ Happens. However, no crosslinking accompaniment is made during decomposition, so that no defects are produced that do not dissolve in water.

본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물에 포함되는 (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분은 보호막과 기판의 접착성을 향상시키고, 보호막의 경도 조절을 한다.One component selected from the group consisting of (B) a water-soluble resin, a single molecule of alcohols, and a mixture thereof contained in the protective film composition for laser dicing of the present invention improves the adhesion between the protective film and the substrate, and the hardness of the protective film. Adjust.

상기 (A) 폴리에틸옥사졸린과 상기 (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분은 1:9 내지 7:3의 중량비로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위로 포함되면, 보호막의 열안정성이 우수해지고, 보호막과 웨이퍼의 접착성이 향상되고, 보호막이 적절한 경도를 갖는다. The one component selected from the group consisting of (A) polyethyloxazoline, (B) water-soluble resin, monomolecules of alcohols and mixtures thereof is preferably included in a weight ratio of 1: 9 to 7: 3. Do. When it is contained in the above-mentioned range, the thermal stability of the protective film is excellent, the adhesion between the protective film and the wafer is improved, and the protective film has an appropriate hardness.

상기 수용성 레진은 폴리비닐알코올(PVA), 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리에틸렌글리콜(PEG), 셀룰로오스 및 폴리아크릴릭에시드(PAA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.The water-soluble resin is preferably one or two or more selected from the group consisting of polyvinyl alcohol (PVA), polyvinylpyrrolidone (PVP), polyethylene glycol (PEG), cellulose and polyacrylic acid (PAA).

상기 수용성 레진이 만약에 단독으로 레이저 다이싱용 보호막 조성물 내에 포함되면, 수용성 레진 중에 포함된 히드록시기 또는 카르복실산기에 의해 열안정성이 약하고 열 분해 시 가교 부산물이 생성된다. 이 때문에, 열안정성이 우수한 상기 (A) 폴리에틸옥사졸린과 혼합하여 사용하는 것이다.If the water-soluble resin is included alone in the protective film composition for laser dicing, the thermal stability is weak due to the hydroxyl group or the carboxylic acid group contained in the water-soluble resin and cross-linking by-products are generated upon thermal decomposition. For this reason, it mixes with said (A) polyethyl oxazoline excellent in thermal stability, and is used.

상기 수용성 레진 중에서 폴리비닐알코올(Poly vinyl alcohol)은 물에 대한 용해성이 좋으며 웨이퍼와의 접착력이 아주 우수하다. 따라서 상기 (A) 폴리에틸옥사졸린과 폴리비닐알코올을 혼합하여 사용하면 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 접착력을 향상시킬 수 있다. 이로 인하여 레이저 조사 시에 보호막의 들뜸 현상을 방지할 수 있다.Among the water-soluble resins, polyvinyl alcohol has good solubility in water and excellent adhesion to wafers. Therefore, when the (A) polyethyl oxazoline and polyvinyl alcohol are mixed and used, the adhesive force of the protective film composition for laser dicing can be improved. For this reason, the lifting phenomenon of a protective film can be prevented at the time of laser irradiation.

상기 폴리비닐알코올은 검화도와 분자량에 따라 물에 대한 용해도, 용해된 이후에 저장안정성 및 시간에 따른 안정성이 다르므로, 검화도가 87 내지 90%이고, 중합도가 500 내지 2,000인 폴리비닐알코올을 사용하는 것이 바람직하다. 검화도와 중합도가 상술한 범위를 만족하면, 시간에 따른 점도 변화가 없다. 상술한 범위를 초과하면, 물에 대한 용해도가 좋지 못하며 물에 용해된 이후에 겔화가 진행하기 때문에 시간에 따라서 점도가 상승하게 된다. The polyvinyl alcohol has a solubility in water according to the saponification degree and the molecular weight, and thus the storage stability and the stability with time after dissolution are different, so that the saponification degree is 87 to 90% and the polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 500 to 2,000 is used. It is desirable to. If saponification degree and polymerization degree satisfy | fill the above-mentioned range, there will be no viscosity change with time. If the above-mentioned range is exceeded, the solubility in water is not good and the viscosity increases with time because gelation proceeds after being dissolved in water.

상기 폴리비닐알코올은 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 pH가 5.5 내지 7.0 가 되도록 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위 미만이면, 250℃ 이하에서 물에 의해 용해되지 않는 가교 부산물이 pH가 5.5 이상일 때 보다 많이 발생하는 단점이 있다.The polyvinyl alcohol is preferably included so that the pH of the protective film composition for laser dicing of the present invention is 5.5 to 7.0. If it is less than the above-mentioned range, there is a disadvantage that more crosslinking by-products which are not dissolved by water at 250 ° C. or lower occur when the pH is 5.5 or more.

상기 수용성 레진 중에서 폴리비닐피롤리돈(PVP)은 물에 대한 용해성이 좋고 열안정성이 우수하다. 상기 폴리비닐피롤리돈(PVP)을 질소 분위기 하에서 온도 상승 속도를 10℃/min로 하여 열중량분석기(TGA)에서 중량감소를 측정하면 300℃ 부근에서 중량감소가 나타나기 시작하며 400℃ 부근에서 급격하게 분해가 일어난다. 그러나 분해도중에 가교 부산물을 만들지 않아서 물에 용해되지 않는 디펙트(defect)가 생성되지 않는다.Among the water-soluble resins, polyvinylpyrrolidone (PVP) has good solubility in water and excellent thermal stability. When the weight loss of the polyvinylpyrrolidone (PVP) was measured in a thermogravimetric analyzer (TGA) at a temperature rising rate of 10 ° C./min under a nitrogen atmosphere, a weight loss began to appear at around 300 ° C. and suddenly at 400 ° C. Decomposition occurs. However, no cross-linking by-products are produced during decomposition, resulting in no defects that do not dissolve in water.

상기 알코올류의 단분자는 모노에틸렌글리콜, 트리스에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 펜타에리스리톨 및 트리스메틸프로판올로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.The single molecule of the alcohols is preferably one or two or more selected from the group consisting of monoethylene glycol, trisethylene glycol, tetraethylene glycol, pentaerythritol, and trismethylpropanol.

상기 알코올류 단분자들은 보호막의 세정성을 향상시킨다.The alcoholic single molecules improve the cleaning property of the protective film.

본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물에 포함되는 (C) 산화방지제는 조성물의 저장안정성을 높이고, 가교 부산물의 생성을 억제한다.(C) Antioxidant contained in the protective film composition for laser dicing of this invention raises the storage stability of a composition, and suppresses formation of a crosslinking by-product.

보다 상세하게 설명하면, 상기 (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분에 의해 공정 중에 발생하는 가교 부산물의 발생을 억제한다. 또한, 상기 (C) 산화방지제는 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물에서 레이저 다이싱 공정에서 빛이나 열에 의해 발생하는 라디칼이나 전자를 안정화시켜 물에 의해 용해되지 않는 가교 부산물의 생성을 억제한다. 또한, 상기 (C) 산화방지제는 상기 수용성 레진 중 폴리비닐알코올이 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물에 포함될 경우, 실온이상의 온도에서 장기간 보관하면 물에 용해되지 않는 가교부산물이 생성되어 겔화가 발생하는 것을 방지한다.In more detail, generation | occurrence | production of the bridge | crosslinking by-product which arises in a process is suppressed by the 1 type component chosen from the group which consists of said (B) water-soluble resin, the monomolecule of alcohol, and a mixture thereof. In addition, the (C) antioxidant stabilizes radicals or electrons generated by light or heat in the laser dicing process in the protective film composition for laser dicing of the present invention to suppress the formation of crosslinking byproducts that are not dissolved by water. In addition, when the (C) antioxidant is included in the protective film composition for laser dicing of the present invention, polyvinyl alcohol in the water-soluble resin, when stored for a long time at a temperature higher than room temperature to form a crosslinking by-product that does not dissolve in water and gelation occurs To prevent them.

상기 (C) 산화방지제는 상기 (A) 폴리에틸옥사졸린과 상기 (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분의 고형분의 합인 100 중량부에 대하여, 0.1 내지 3.0 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위를 만족하면 저장안정성, 열안정성 및 공정안전성이 우수한 이점이 있다. The (C) antioxidant is 100 parts by weight, which is the sum of the solid content of the one component selected from the group consisting of the above-mentioned (A) polyethyloxazoline, (B) water-soluble resin, alcohols, monomolecules and mixtures thereof. It is preferably included in 0.1 to 3.0 parts by weight. If the above range is satisfied, there is an advantage of excellent storage stability, thermal stability and process safety.

상기 (C) 산화방지제는 수용성인 것이 바람직하고, 트리아진계 유도체 산화방지제인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that the said (C) antioxidant is water-soluble, and it is more preferable that it is a triazine derivative antioxidant.

본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물에 포함되는 (D) 수용성 계면활 성제는 조성물의 도포성을 향상시키고, 조성물의 겔화를 방지하여 저장안정성을 높인다. The water-soluble surfactant (D) contained in the protective film composition for laser dicing of the present invention improves the coating property of the composition, prevents gelation of the composition, and improves storage stability.

일반적으로 레이저 다이싱 공정에서 사용하는 보호막 필름의 두께는 0.5㎛ 이상을 사용하고 웨이퍼의 표면은 굴곡이 많기 때문에 보호막 조성물의 도포성이 좋지 않을 경우, 웨이퍼의 중앙과 가장자리의 막두께 차이가 발생하여 공정마진이 줄어들게 된다. 따라서, 본 발명의 보호막 조성물은 수용성의 계면활성제를 첨가함으로써 조성물의 도포성을 향상시키는 것을 특징으로 한다. In general, since the protective film used in the laser dicing process has a thickness of 0.5 μm or more and the surface of the wafer has a large curvature, when the coating property of the protective film composition is not good, a difference in the film thickness between the center and the edge of the wafer occurs. Process margins will be reduced. Therefore, the protective film composition of this invention improves the coating property of a composition by adding water-soluble surfactant.

상기 (D) 수용성 계면활성제는 상기 (A) 폴리에틸옥사졸린과 상기 (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분의 고형분의 합인 100 중량부에 대하여, 0.001 중량부 내지 0.008 중량부로 포함되는 것이 바람직하다. 상술한 범위를 만족하면, 도포성, 저장안정성, 열안정성이 우수하고, 보호막의 경도가 적절한 이점이 있다. The said (D) water-soluble surfactant is 100 weight part of the sum total of solid content of the 1 component chosen from the group which consists of said (A) polyethyloxazoline, said (B) water-soluble resin, a single molecule of alcohol, and mixtures thereof. With respect to, it is preferably included in 0.001 parts by weight to 0.008 parts by weight. If the above-mentioned range is satisfied, it is excellent in applicability | paintability, storage stability, and thermal stability, and there exists an advantage that the hardness of a protective film is suitable.

상기 (D) 수용성 계면활성제는 폴리에테르 변성 알킬실록산, 폴리에테르 변성 폴리알킬실록산, 폴리에테르 변성 하이드록시 관능기의 폴리디메틸 실록산, 폴리에테르-폴리에스테르 변성 하이드록시 폴리알킬실록산, 비인온성 폴리아크릴계 수용성 계면활성제, 알코올 알콕시레이트 및 폴리머릭 플루오르계 수용성 계면활성제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.The (D) water-soluble surfactants include polyether-modified alkylsiloxanes, polyether-modified polyalkylsiloxanes, polydimethyl siloxanes of polyether-modified hydroxy functional groups, polyether-polyester-modified hydroxy polyalkylsiloxanes, and non-ionic polyacrylic-based water-soluble surfactants. It is preferable that it is 1 type, or 2 or more types chosen from the group which consists of an active agent, an alcohol alkoxylate, and a polymeric fluorine-type water-soluble surfactant.

본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물에 포함되는 (E) 용매는 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 점도가 10 내지 100cP가 되도록 조절하여 포 함된다. 상술한 점도 범위를 만족하면, 도포성, 저장안정성, 보호막과 웨이퍼 접착성이 우수하고, 보호막의 경도가 적절한 이점이 있다.The solvent (E) contained in the protective film composition for laser dicing of the present invention is included by adjusting the viscosity of the protective film composition for laser dicing of the present invention to 10 to 100 cP. When the viscosity range described above is satisfied, coating properties, storage stability, protective film and wafer adhesion are excellent, and the hardness of the protective film is appropriate.

상기 (E) 용매는 물, 유기용매 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종인 것이 바람직하다. 상기 (E) 용매는 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 막두께 조절, 도포성, 저장안정성을 위해서 물과 유기용매의 혼합물인 것이 바람직하다. The solvent (E) is preferably one kind selected from the group consisting of water, an organic solvent and a mixture thereof. It is preferable that the said (E) solvent is a mixture of water and an organic solvent for film thickness control, coating property, and storage stability of the protective film composition for laser dicing of this invention.

상기 유기용매는 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(PGME), 부틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 글리세린카보네이트 및 에틸렌카보네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다.The organic solvent is one or two selected from the group consisting of isopropyl alcohol, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol monomethyl ether (PGME), butylene carbonate, propylene carbonate, glycerin carbonate and ethylene carbonate It is preferable that it is above.

상기 유기용매 중에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르는 물에 대한 혼용성이 우수하여 물과 어떠한 혼합비로도 서로 용해가 되지만 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트는 물 100g에 대해서 16g 이하만 용해되므로 이 범위 내에서 사용하여야 한다. 또한, 상기 극성이 높은 알킬카보네이트 계열의 부틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 글리세린카보네이트, 에틸렌카보네이트 등의 유기용매를 혼합하여 사용하는 경우에는 저장안정성과 도포성 향상 면에서 유리한 효과를 나타낸다. 상기 에틸렌카보네이트는 상온에서 고체이나 물에 잘 녹으며, 글리세린카보네이트는 물에 어떠한 혼합비로도 용해가 가능하다. 그러나 부틸렌카보네이트와 프로필렌카보네이트는 물에 대한 용해도가 상온에서 각각 10%, 25% 이하이므로 이 범위 내에서 사용하여야 한다.Of the organic solvents, propylene glycol monomethyl ether has excellent compatibility with water, so that it can be dissolved with water at any mixing ratio, but propylene glycol monomethyl ether acetate is dissolved in only 16 g or less with respect to 100 g of water. do. In addition, when a mixture of organic solvents such as butylene carbonate, propylene carbonate, glycerin carbonate, and ethylene carbonate having a high polarity is used in combination, it has an advantageous effect in terms of storage stability and coating property. The ethylene carbonate is well soluble in solid or water at room temperature, glycerin carbonate can be dissolved in water at any mixing ratio. However, butylene carbonate and propylene carbonate should be used within this range because the solubility in water is less than 10% and 25% at room temperature, respectively.

본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 pH가 5.5 내지 7.0인 것이 바람직하다.It is preferable that pHs of the protective film composition for laser dicing of this invention are 5.5-7.0.

본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물은 성능을 향상시키기 위하여 당업계에 공지되어 있는 하나 이상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 특히, 본 발명의 레이저 다이싱용 보호막 조성물은 용액제의 기포생성을 억제하기 위하여 첨가제로서 소포제를 더 포함할 수 있으며, 이러한 소포제로는 폴리실록산, 폴리알킬실록산, 플루오르 실리콘 중합체 등을 들 수 있다. The protective film composition for laser dicing of the present invention may further include one or more additives known in the art to improve performance. In particular, the protective film composition for laser dicing of the present invention may further include an antifoaming agent as an additive in order to suppress the foaming of the solution, such antifoaming agents include polysiloxane, polyalkylsiloxane, fluorosilicone polymer and the like.

본 발명은 또한, 상기의 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 사용하여 제조되는 반도체 소자 및 디스플레이 소자에 관한 것이다. 본 발명에 의한 반도체 소자는 레이저, 블레이드 등을 사용하여 웨이퍼를 다이싱하는 경우에도 본 발명에 의한 웨이퍼 다이싱용 보호막에 의하여 완벽하게 보호되며, 상기 보호막의 세척도 용이하므로 디펙(defect)이 없는 상태로 제조되는 것을 특징으로 한다. The present invention also relates to a semiconductor device and a display device produced using the above protective film composition for laser dicing. The semiconductor device according to the present invention is completely protected by the wafer dicing protective film according to the present invention even when dicing a wafer using a laser, a blade, etc., and the cleaning of the protective film is also easy, so that there is no defect. Characterized in that manufactured.

이하에서, 본 발명을 실시예를 이용하여 더욱 상세하게 설명한다. 그러나 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 본 발명은 하기 실시예에 의해 한정되지 않고 다양하게 수정 및 변경될 수 있다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail using examples. However, the following examples are provided to illustrate the present invention, and the present invention is not limited to the following examples and may be variously modified and changed.

실시예1 내지 6 및 비교예 1 내지 3: 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 제조Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3: Preparation of protective film composition for laser dicing

교반기가 설치되어있는 혼합조에 표 1에 기재된 구성성분들을 기재된 함량대로 투입하고, 용매로 물을 투입하면서 용액의 점도가 60cP가 되도록 하였다. 이를 상온에서 1시간 동안 500rpm의 속도로 교반하여 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 제조하였다. 이 때, 폴리에틸올사졸린, 폴리비닐알코올 및 폴리비닐피롤리돈은 고형분으로 환산된 것이었다.The ingredients shown in Table 1 were added to the mixing tank equipped with the stirrer as described in the contents, and the solution had a viscosity of 60 cP while introducing water into the solvent. This was stirred at a speed of 500 rpm for 1 hour at room temperature to prepare a protective film composition for laser dicing. At this time, polyethylol sazoline, polyvinyl alcohol, and polyvinylpyrrolidone were converted into solid content.

(A) 성분
(g)
(A) component
(g)
(B) 성분
(g)
(B) component
(g)
(C) 성분
(g)
(C) component
(g)
(D) 성분
(g)
(D) component
(g)
첨가제
(g)
additive
(g)
실시예1Example 1 A-1A-1 55 B-1B-1 55 C-1C-1 0.050.05 D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003 실시예2Example 2 A-1A-1 55 B-1B-1 55 C-2C-2 0.050.05 D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003 실시예3Example 3 A-1A-1 55 B-1B-1 55 C-3C-3 0.050.05 D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003 실시예4Example 4 A-1A-1 55 B-1B-1 55 C-4C-4 0.050.05 D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003 실시예5Example 5 A-1A-1 22 B-2/B-3B-2 / B-3 6/2=86/2 = 8 C-1C-1 0.050.05 D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003 실시예7Example 7 A-1A-1 33 B-2/B-4/B-5B-2 / B-4 / B-5 7/1/0.3=8.37/1 / 0.3 = 8.3 C-1C-1 0.050.05 D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003 비교예1Comparative Example 1 A-1A-1 55 B-1B-1 55 -- -- D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003 비교예2Comparative Example 2 A-1A-1 22 B-2/B-3B-2 / B-3 6/2=86/2 = 8 -- -- D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003 비교예4Comparative Example 4 A-1A-1 33 B-2/B-4/B-5B-2 / B-4 / B-5 7/1/0.3=8.37/1 / 0.3 = 8.3 -- -- D-1D-1 0.00030.0003 F-1F-1 0.00030.0003

A-1: 폴리에틸옥사졸린(상품명: 아쿠아졸, 제조사: ICP, 중합도: 50)A-1: Polyethyl oxazoline (Brand name: Aquasol, Manufacturer: ICP, Degree of polymerization: 50)

B-1: 폴리비닐알코올(중합도: 500, 검화도: 87~90%)B-1: polyvinyl alcohol (polymerization degree: 500, saponification degree: 87 to 90%)

B-2: 폴리비닐알코올(중합도: 1700, 검화도: 87~90%)B-2: polyvinyl alcohol (polymerization degree: 1700, saponification degree: 87 to 90%)

B-3: 폴리비닐피롤리돈(중합도: 1200)B-3: polyvinylpyrrolidone (polymerization degree: 1200)

B-4: 트리에틸렌글리콜B-4: triethylene glycol

B-5: 부틸렌카보네이트B-5: Butylene Carbonate

C-1: 산화방지제(상품명: TINUVIN99DW, 제조사: Ciba)C-1: antioxidant (trade name: TINUVIN99DW, manufacturer: Ciba)

C-2: 산화방지제(상품명: TINUVIN123DW, 제조사: Ciba)C-2: Antioxidant (trade name: TINUVIN123DW, manufacturer: Ciba)

C-3: 산화방지제(상품명: TINUVIN400DW, 제조사: Ciba)C-3: antioxidant (trade name: TINUVIN400DW, manufacturer: Ciba)

C-4: 산화방지제(상품명: TINUVIN477DW, 제조사: Ciba)C-4: antioxidant (trade name: TINUVIN477DW, manufacturer: Ciba)

D-1: 계면활성제(상품명: BYK-337, 제조사: BYK)D-1: Surfactant (brand name: BYK-337, manufacturer: BYK)

F-1: 소포제(상품명: BYK-025, 제조사: BYK)F-1: Defoamer (Brand name: BYK-025, Manufacturer: BYK)

시험예: 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 특성 평가Test Example: Evaluation of Properties of Protective Film Composition for Laser Dicing

<저장 안정성 테스트><Storage Stability Test>

실시예1 내지 6 및 비교예1 내지 3의 조성물들을 상온과 40℃에서 보관하면서 1주일마다 점도 측정과 도포성 측정을 실시하여 시간에 따른 물성의 변화가 발생하는지를 측정하였다. 시험 결과는 하기의 표 2에 나타내었다.The compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were stored at room temperature and 40 ° C. to measure viscosity and coatability every week to determine whether changes in physical properties over time occurred. The test results are shown in Table 2 below.

◎: 36주 이상 안정◎: stable for more than 36 weeks

○: 24주 이상 안정○: stable for more than 24 weeks

△: 12주 이상 안정△: stable for more than 12 weeks

×: 12주 미만에서 안정X: stable under 12 weeks

<밀착성 측정 테스트><Adhesive test>

4 인치(inch) 산화 실리콘 기판에 실시예1 내지 6 및 비교예1 내지 3의 조성물들을 스핀 코팅하고, 110℃에서 5분간 건조시켜 막두께가 1㎛가 되도록 스핀 속도(rpm)을 조절하여 샘플을 제조하였다. 이 후에 JIS K5600-5-6의 실험방법에 의거하여 크로스컷 테스트(테이핑 테스트)를 진행하였다. 시험 결과는 하기의 표 2에 나타내었다.Samples were prepared by spin coating the compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 on a 4 inch silicon oxide substrate and drying at 110 ° C. for 5 minutes to adjust the spin rate (rpm) so that the film thickness was 1 μm. Was prepared. Thereafter, a crosscut test (tapping test) was conducted according to the experimental method of JIS K5600-5-6. The test results are shown in Table 2 below.

◎: 떨어진 격자의 수(0개)◎: number of grids dropped (0)

○: 떨어진 격자의 수(1~5개)○: number of grids dropped (1-5)

△: 떨어진 격자의 수(5~10개)△: Number of fallen grids (5-10)

×: 떨어진 격자의 수(10개 이상)×: number of fallen grids (10 or more)

< 열안정성 테스트><Thermal Stability Test>

4 인치(inch) 산화 실리콘 기판에 실시예1 내지 6 및 비교예1 내지 3의 조성물들을 스핀 코팅한 후, 상온에서 5분간 건조 시킨 막두께가 1㎛가 되도록 스핀 속도(rpm)를 조절하여 샘플을 제조하였다. 이 후에 열풍건조기에 300℃에서 10분간 베이킹 한 이후, 물에 씻겨져 나가는지를 확인하였다. 이는 열에 의해 물에 녹지 않는 열분해 가교물질이 생성되는지를 확인하기 위한 테스트이다. 시험 결과는 하기의 표 2에 나타내었다.After spin coating the compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 on a 4 inch silicon oxide substrate, the spin rate (rpm) was adjusted so that the film thickness dried at room temperature for 5 minutes was 1 μm. Was prepared. After the baking for 10 minutes at 300 ℃ in a hot air dryer, it was confirmed whether washed out with water. This is a test to check whether pyrolytic crosslinking material that is insoluble in water is generated by heat. The test results are shown in Table 2 below.

◎: 깨끗하게 스트립 됨◎: stripped clean

○: 미세한 파티클 존재○: fine particles present

△: 스트립 되지 않은 부분이 많음△: many unstriped parts

×: 전혀 스트립 되지 않음×: not stripped at all

저장안정성Storage stability 밀착성Adhesion 열안정성Thermal stability 23℃23 ℃ 40℃40 ℃ 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 XX

Claims (13)

(A) 폴리에틸옥사졸린; (A) polyethyloxazoline; (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분; (B) one component selected from the group consisting of water-soluble resins, monomolecules of alcohols and mixtures thereof; (C) 산화방지제; (C) antioxidants; (D) 수용성 계면활성제; 및 (D) water soluble surfactants; And (E) 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.(E) A protective film composition for laser dicing comprising a solvent. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 (A) 폴리에틸옥사졸린과 상기 (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분은 1:9 내지 7:3의 중량비로 포함되는 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The one component selected from the group consisting of (A) polyethyloxazoline, (B) water-soluble resins, alcohols, monomolecules and mixtures thereof is contained in a weight ratio of 1: 9 to 7: 3. A protective film composition for laser dicing to be. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 (A) 폴리에틸옥사졸린과 상기 (B) 수용성 레진, 알코올류의 단분자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 성분의 고형분의 합인 100 중량부에 대하여, To 100 parts by weight that is the sum of solids of one component selected from the group consisting of (A) polyethyloxazoline, (B) water-soluble resin, alcohols, monomolecules and mixtures thereof, 상기 (C) 산화방지제가 0.1 내지 3.0 중량부; 및0.1 to 3.0 parts by weight of the (C) antioxidant; And 상기 (D) 수용성 계면활성제가 0.001 중량부 내지 0.008 중량부로 포함되 는 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The protective film composition for laser dicing, characterized in that the (D) water-soluble surfactant is contained in 0.001 parts by weight to 0.008 parts by weight. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 (E) 용매는 상기 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 점도가 10 내지 100cP가 되도록 포함되는 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The solvent (E) is a laser dicing protective film composition, characterized in that it comprises a viscosity of 10 to 100 cP of the protective film composition for laser dicing. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 레이저 다이싱용 보호막 조성물의 pH가 5.5 내지 7.0인 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The protective film composition for laser dicing, characterized in that the pH of the protective film composition for laser dicing is 5.5 to 7.0. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 수용성 레진은 폴리비닐알코올(PVA), 폴리비닐피롤리돈(PVP), 폴리에틸렌글리콜(PEG), 셀룰로오스 및 폴리아크릴릭에시드(PAA)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The water-soluble resin is one or two or more selected from the group consisting of polyvinyl alcohol (PVA), polyvinylpyrrolidone (PVP), polyethylene glycol (PEG), cellulose and polyacrylic acid (PAA) A protective film composition for laser dicing. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 알코올류의 단분자는 모노에틸렌글리콜, 트리스에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 펜타에리스리톨 및 트리스메틸프로판올로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The monomolecular molecules of the alcohols are one or two or more selected from the group consisting of monoethylene glycol, trisethylene glycol, tetraethylene glycol, pentaerythritol, and trismethylpropanol. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 (C) 산화방지제가 트리아진계 유도체 산화방지제인 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The protective film composition for laser dicing, wherein the (C) antioxidant is a triazine derivative antioxidant. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 (D) 수용성 계면활성제는 폴리에테르 변성 알킬실록산, 폴리에테르 변성 폴리알킬실록산, 폴리에테르 변성 하이드록시 관능기의 폴리디메틸 실록산, 폴리에테르-폴리에스테르 변성 하이드록시 폴리알킬실록산, 비인온성 폴리아크릴계 수용성 계면활성제, 알코올 알콕시레이트, 및 폴리머릭 플루오르계 수용성 계면활성제로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The (D) water-soluble surfactants include polyether-modified alkylsiloxanes, polyether-modified polyalkylsiloxanes, polydimethyl siloxanes of polyether-modified hydroxy functional groups, polyether-polyester-modified hydroxy polyalkylsiloxanes, and non-phosphorous polyacrylic-based water-soluble surfactants. A protective film composition for laser dicing, characterized in that one or two or more selected from the group consisting of an activator, an alcohol alkoxylate, and a polymeric fluorine-based water-soluble surfactant. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 (E) 용매는 물, 유기용매 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The solvent (E) is a laser dicing protective film composition, characterized in that one kind selected from the group consisting of water, organic solvents and mixtures thereof. 청구항 10에 있어서, The method according to claim 10, 상기 유기용매는 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA), 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(PGME), 부틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 글리세린카보네이트 및 에틸렌카보네이트로 이루어진 군으로부터 선택 되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 레이저 다이싱용 보호막 조성물.The organic solvent is one or two selected from the group consisting of isopropyl alcohol, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol monomethyl ether (PGME), butylene carbonate, propylene carbonate, glycerin carbonate and ethylene carbonate The protective film composition for laser dicing characterized by the above. 청구항 1 기재의 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 사용하여 제조되는 반도체 소자.The semiconductor device manufactured using the protective film composition for laser dicing of Claim 1. 청구항 1 기재의 레이저 다이싱용 보호막 조성물을 사용하여 제조되는 디스플레이 소자.The display element manufactured using the protective film composition for laser dicing of Claim 1.
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